JP2005304619A - Dishwasher - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dishwasher in which heating time is shortened by saving heating energy required for generating steam. <P>SOLUTION: A control circuit drives a heater and a pump motor alternately after opening a water valve and supplying water in a washing tub to a water level for generating steam. Then, water injected from an injection nozzle is guided to the heater and comes in contact therewith. The water in contact with the heater instantly evaporates since a surface temperature of the heater is high. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、蒸気発生機能を有する食器洗浄機に関する。   The present invention relates to a dishwasher having a steam generating function.

家庭用の食器洗浄機は、洗浄槽内に貯留された洗浄水を洗浄ポンプで汲み上げ、噴射ノズルから噴射させることにより食器の汚れを洗い落とすようになっている。また、食器にこびりついた汚れでも噴射ノズルから噴射された洗浄水によって洗い落とすことができるように、スチーム工程と称する予洗工程を洗浄工程の前に実行する食器洗浄機が提案されている。   Household dishwashers use a washing pump to pump up washing water stored in a washing tank and spray it from an injection nozzle to wash away stains on tableware. In addition, a dishwasher has been proposed in which a pre-washing process called a steam process is executed before the washing process so that dirt stuck to the tableware can be washed away by washing water jetted from the jet nozzle.

スチーム工程では、洗浄槽や洗浄槽に設けられた貯水容器に貯留された水をヒータで加熱することにより蒸気を生成させ、前記食器にこびりついた汚れを膨潤するようになっている。
特開平2−82930号公報 特開平5−76472号公報 特開平5−84216号公報
In the steam process, steam stored in a washing tank or a water storage container provided in the washing tank is heated by a heater to generate steam, and the dirt stuck to the tableware is swollen.
JP-A-2-82930 JP-A-5-76472 JP-A-5-84216

ところが、従来の食器洗浄機では、ヒータを水没させた状態で前記ヒータに通電するように構成されている。従って、蒸気を生成させるためには、洗浄槽や貯水容器に貯留された水の全体が100℃近くになるまでヒータを通電しなければならない。このため、蒸気生成量に比べて多量の水を加熱する必要があり、その分、加熱エネルギーが無駄になったり加熱時間が長くなったりするという問題があった。   However, the conventional dishwasher is configured to energize the heater while the heater is submerged. Therefore, in order to generate steam, the heater must be energized until the total amount of water stored in the washing tank or the water storage container is close to 100 ° C. For this reason, it is necessary to heat a large amount of water compared to the amount of steam generated, and there is a problem that the heating energy is wasted and the heating time is lengthened accordingly.

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、蒸気生成に必要な加熱エネルギーを小さく抑えて加熱時間の短縮化を図ることができる食器洗浄機を提供することである。   This invention is made | formed in view of the said situation, The objective is to provide the dishwasher which can aim at shortening of heating time, suppressing the heating energy required for vapor | steam production | generation small.

本発明の食器洗浄機は、食器を収容する洗浄槽、前記洗浄槽内に配置された熱源、前記洗浄槽内に給水する給水装置を有し前記給水装置によって前記洗浄槽内に供給される水を前記熱源に誘導して接触させる水誘導手段を備えており、蒸気生成手段は、前記給水装置、前記熱源及び前記水誘導手段を制御することにより蒸気を生成するように構成されている。   The dishwasher according to the present invention has a washing tank for storing tableware, a heat source disposed in the washing tank, a water supply device for supplying water into the washing tank, and water supplied into the washing tank by the water supply device. Is provided with water guiding means that guides and contacts the heat source, and the steam generating means is configured to generate steam by controlling the water supply device, the heat source, and the water guiding means.

この場合、熱源と水とを接触させる方法としては、食器に洗浄槽を吹き付けるためのポンプ手段及び噴射ノズルを利用し、前記噴射ノズルから噴射される水を熱源に誘導して接触させる方法、給水口から洗浄槽内に流出する水を熱源まで誘導して前記熱源と接触させる方法などが考えられる。   In this case, as a method of bringing the heat source into contact with water, a pump means and spray nozzles for spraying the washing tub on the tableware, and a method of inducing and contacting water sprayed from the spray nozzle to the heat source, water supply A method of inducing water flowing out of the mouth into the washing tank to a heat source and bringing it into contact with the heat source is conceivable.

本発明では、洗浄槽内に供給される水を熱源に接触させて前記水を加熱する。つまり、蒸気を生成するときに熱源を水中に浸漬させずに、蒸気生成に必要な水を熱源に接触させ、その水を熱源によって加熱するようにしている。このため、熱源によって加熱される水の量を極力少なくすることができ、水を蒸発させるために必要な加熱時間の短縮化を図ることができる。   In this invention, the water supplied in a washing tank is made to contact a heat source, and the said water is heated. That is, when the steam is generated, the heat source is not immersed in the water, but the water necessary for generating the steam is brought into contact with the heat source, and the water is heated by the heat source. For this reason, the amount of water heated by the heat source can be reduced as much as possible, and the heating time necessary for evaporating the water can be shortened.

以下、本発明を家庭用の食器洗浄機に適用したいくつかの実施例について説明する。
図1ないし図6は本発明の第1の実施例を示している。図1ないし図3において、食器洗浄機1は内部に洗浄槽2を有する洗浄機本体3、前記洗浄機本体3の前面に設けられ前記洗浄槽2の前部開口を開閉するための下部扉4及び上部扉5、前記下部扉4の下部に設けられた操作パネル6を備えて構成されている。前記操作パネル6には、各種のスイッチや表示部等が設けられている。
Several embodiments in which the present invention is applied to a household dishwasher will be described below.
1 to 6 show a first embodiment of the present invention. 1 to 3, a dishwasher 1 includes a washing machine body 3 having a washing tank 2 therein, and a lower door 4 provided on the front surface of the washing machine body 3 for opening and closing a front opening of the washing tank 2. And an upper door 5 and an operation panel 6 provided below the lower door 4. The operation panel 6 is provided with various switches and a display unit.

前記扉4,5は、それぞれ上端部及び下端部において洗浄機本体3に軸支されており、図示しないリンク機構を介して連動して回動するように構成されている。前記下部扉4の前面には扉4,5を開放させるための押ボタン7が設けられている。両扉4,5は、前記押ボタン7を押圧操作し、前記下部扉4を手前に引き下げることにより開放されるようになっている。また、前記上部扉5には、前記洗浄槽2内の水蒸気を排出するための排気口8が設けられている。   The doors 4 and 5 are pivotally supported by the washing machine body 3 at the upper end and the lower end, respectively, and are configured to rotate in conjunction with each other via a link mechanism (not shown). A push button 7 for opening the doors 4 and 5 is provided on the front surface of the lower door 4. Both doors 4 and 5 are opened by pressing the push button 7 and pulling the lower door 4 forward. The upper door 5 is provided with an exhaust port 8 for discharging water vapor in the cleaning tank 2.

洗浄槽2の内部には上下2個の食器かご18,19が出し入れ可能に収容されている。また、洗浄槽2内の奥部には噴射ノズル20が固定されている。前記噴射ノズル20は、洗浄槽2の内面に沿って左右に延びる帯状の中空部材20aとその前面に形成された複数の噴射孔20bから構成されている。中空部材20aの途中部には洗浄槽2の下部まで延びる筒状部21が一体的に設けられている。更に、洗浄槽2内の下部には2個の回転式の噴射ノズル22が左右に並んで設けられている。前記噴射ノズル22は、中空状のアーム部22aと、その上面に形成された複数の噴射孔22baとから構成されている。アーム部22aの基端部はアーム支え23に回転自在に接続されている。   Inside the washing tub 2, two upper and lower tableware baskets 18 and 19 are accommodated in a removable manner. In addition, an injection nozzle 20 is fixed at the back of the cleaning tank 2. The injection nozzle 20 is composed of a band-shaped hollow member 20 a extending left and right along the inner surface of the cleaning tank 2 and a plurality of injection holes 20 b formed on the front surface thereof. A cylindrical portion 21 extending to the lower portion of the cleaning tank 2 is integrally provided in the middle of the hollow member 20a. Further, two rotary spray nozzles 22 are provided side by side at the lower part in the cleaning tank 2. The injection nozzle 22 includes a hollow arm portion 22a and a plurality of injection holes 22ba formed on the upper surface thereof. The base end portion of the arm portion 22 a is rotatably connected to the arm support 23.

前記洗浄槽2の底部の左前部には貯水部24が一体的に設けられており、右前部には熱源としてのシーズヒータ25が配置されている。図4に示すように、前記シーズヒータ25は、断面が略矩形状に構成されており、その上面25aが略水平面となるように配置されている。また、図1ないし図3に示すように、前記貯水部24の上には取り外し可能な残滓フィルタ26が配置されている。また、前記シーズヒータ25の上部には多孔板からなる保護カバー27が被せられている。   A water reservoir 24 is integrally provided at the left front portion of the bottom of the cleaning tank 2, and a sheathed heater 25 as a heat source is disposed at the right front portion. As shown in FIG. 4, the sheathed heater 25 has a substantially rectangular cross section, and is arranged so that the upper surface 25a thereof is substantially horizontal. Further, as shown in FIGS. 1 to 3, a removable residual filter 26 is disposed on the water reservoir 24. Further, a protective cover 27 made of a perforated plate is put on the sheathed heater 25.

洗浄機本体3内のうち洗浄槽2の下部には洗浄ポンプ及び排水ポンプを兼用するポンプ28並びに送風機29が配設されている。詳しい説明は省略するが、前記ポンプ28は、洗浄用インペラ及び排水用インペラ(いずれも図示せず)を収容するケーシング28aと、前記洗浄用及び排水用インペラを回転駆動するポンプモータ30(図5にのみ示す)とを備えている。前記ポンプ28は、前記モータ30が一方向に回転するときは例えば洗浄用インペラが機能し、排水用インペラは機能しないようになっている。これに対してモータ30が他方向に回転するときは排水用インペラが機能し、洗浄用インペラは機能しないようになっている。つまり、前記ポンプ28は、モータ30の回転方向を切り替えることにより洗浄用ポンプとして機能する状態と排水用ポンプとして機能する状態とに切り替え可能に構成されている。   A pump 28 that also serves as a cleaning pump and a drainage pump and a blower 29 are disposed below the cleaning tank 2 in the cleaning machine main body 3. Although not described in detail, the pump 28 includes a casing 28a that houses a cleaning impeller and a drain impeller (both not shown), and a pump motor 30 that rotationally drives the cleaning and drain impeller (FIG. 5). Only shown). When the motor 30 rotates in one direction, for example, the pump 28 functions as a washing impeller and does not function as a drain impeller. On the other hand, when the motor 30 rotates in the other direction, the draining impeller functions, and the cleaning impeller does not function. That is, the pump 28 is configured to be switchable between a state that functions as a cleaning pump and a state that functions as a drainage pump by switching the rotation direction of the motor 30.

前記ケーシング28aの上部には洗浄用の吐出口(図示せず)が設けられており、前記吐出口は配水管31a,31bを介してアーム支え23及び筒状部21にそれぞれ接続されている。ケーシング28aの側部には排水用の吐出口(図示せず)が設けられており、前記吐出口には排水ホース32が接続されている。前記排水ホース32は、洗浄槽2内の最高水位よりも高い位置を経由させて洗浄機本体3の後部の下部から外部に引き出されている。   A cleaning discharge port (not shown) is provided in the upper portion of the casing 28a, and the discharge port is connected to the arm support 23 and the cylindrical portion 21 through water distribution pipes 31a and 31b, respectively. A discharge port (not shown) for drainage is provided on the side of the casing 28a, and a drain hose 32 is connected to the discharge port. The drain hose 32 is drawn out from the lower part of the rear part of the washing machine body 3 through a position higher than the highest water level in the washing tank 2.

前記ケーシング28aの下部には筒状部33が設けられている。前記筒状部33は、接続管34を介して貯水部24の下端部に接続されている。図示しないが、ケーシング28aの下部のうち前記筒状部33内に位置する部分には洗浄用及び排出用の吸入口が形成されている。一方、接続管34の内部は洗浄用水路と排水路とに区画されており、洗浄用水路の端部は前記洗浄用の吸入口に連通し、排水路の端部は前記排水用の吸入口に連通している。   A cylindrical portion 33 is provided at the lower portion of the casing 28a. The tubular portion 33 is connected to the lower end portion of the water storage portion 24 through a connecting pipe 34. Although not shown in the drawing, a suction port for cleaning and discharging is formed in a portion of the lower portion of the casing 28a located in the cylindrical portion 33. On the other hand, the inside of the connecting pipe 34 is divided into a cleaning water channel and a drainage channel, the end of the cleaning water channel communicates with the suction port for cleaning, and the end of the drainage channel communicates with the suction port for drainage. doing.

前記ポンプ28が排水ポンプとして機能するときは、貯水部24内の洗浄水は接続管34内の排水路を通り排水用の吸入口からポンプ28内に吸入された後、排水用の吐出口から排水ホース32を経て外部に排出される。一方、前記ポンプ28が洗浄ポンプとして機能するときは、貯水部24内の洗浄水は接続管34内の洗浄用水路を通り洗浄用の吸入口からポンプ28内に吸入される。その後、洗浄水は洗浄用の吐出口から配水管31a,31bに吐出され、噴射ノズル20,22から洗浄槽2内に噴射される。   When the pump 28 functions as a drainage pump, the wash water in the water storage section 24 passes through the drainage passage in the connection pipe 34 and is sucked into the pump 28 from the drainage suction port, and then from the drainage discharge port. It is discharged to the outside through the drainage hose 32. On the other hand, when the pump 28 functions as a cleaning pump, the cleaning water in the water reservoir 24 passes through the cleaning water channel in the connection pipe 34 and is sucked into the pump 28 from the cleaning inlet. Thereafter, the cleaning water is discharged from the cleaning discharge port to the water distribution pipes 31 a and 31 b and is injected into the cleaning tank 2 from the injection nozzles 20 and 22.

前記送風機29は洗浄槽2の下部のうち前記ヒータ25の近傍に配置されている。前記送風機29は、ケーシング35内に収容されたファン(図示せず)及びファンモータ36(図5にのみ示す)から構成されている。ケーシング35は、送風管37を介して洗浄槽2内のヒータ25近傍に接続されている。
前記洗浄槽2の底部の後部中央には給水口38が設けられている。給水口38は、洗浄槽2の底部に突設され上端部に開口を有する筒状部38aと、前記筒状部38aの上部を覆うカバー38bとから構成されている。筒状部38aの下部には給水弁40を介して給水配管41が接続されている。給水配管41は洗浄機本体3の後下部を貫通して洗浄機本体3の外部まで延びており、その端部は給水ホース(図示せず)を介して水道等の給水源に接続されるようになっている。
The blower 29 is disposed in the vicinity of the heater 25 in the lower part of the cleaning tank 2. The blower 29 includes a fan (not shown) and a fan motor 36 (shown only in FIG. 5) housed in the casing 35. The casing 35 is connected to the vicinity of the heater 25 in the cleaning tank 2 through a blower pipe 37.
A water supply port 38 is provided at the center of the rear portion of the bottom of the cleaning tank 2. The water supply port 38 includes a cylindrical portion 38a that protrudes from the bottom of the cleaning tank 2 and has an opening at the upper end, and a cover 38b that covers the upper portion of the cylindrical portion 38a. A water supply pipe 41 is connected to the lower part of the tubular portion 38a through a water supply valve 40. The water supply pipe 41 extends through the rear lower part of the cleaning machine main body 3 to the outside of the cleaning machine main body 3, and its end is connected to a water supply source such as water supply via a water supply hose (not shown). It has become.

本実施例では、給水口38、給水弁40、給水配管41等から給水装置が構成される。また、前記給水装置、ポンプ28、ポンプモータ30、噴射ノズル22から水誘導手段が構成される。更に、前記給水装置、ポンプ28、ポンプモータ30、噴射ノズル22は洗浄手段としても機能する。
図5は食器洗浄機1の電気的構成をブロック図として示している。この図5において、制御回路42はマイクロコンピュータを主体に構成されており、記憶手段として揮発性メモリであるRAM42aと書き換え可能な不揮発性メモリであるフラッシュメモリ42bとを備えている。前記フラッシュメモリ42bには前記マイクロコンピュータが実行する制御プログラムが記憶されている。
In the present embodiment, a water supply apparatus is constituted by the water supply port 38, the water supply valve 40, the water supply pipe 41 and the like. The water supply unit, the pump 28, the pump motor 30, and the injection nozzle 22 constitute water guiding means. Further, the water supply device, the pump 28, the pump motor 30, and the injection nozzle 22 also function as cleaning means.
FIG. 5 shows the electrical configuration of the dishwasher 1 as a block diagram. In FIG. 5, the control circuit 42 is mainly composed of a microcomputer, and includes a RAM 42a as a volatile memory and a flash memory 42b as a rewritable nonvolatile memory as storage means. The flash memory 42b stores a control program executed by the microcomputer.

前記制御回路42には、操作パネル6の各種スイッチの操作に応動するスイッチ入力部43、下部扉4の開閉動作に応動する扉開放検知センサ44、洗浄槽2内の洗浄水の温度を検出する扉開放検知センサ45、洗浄槽2内の水位を検出する水位センサ46の各出力信号が与えられるようになっている。
また、制御回路42にはインバータ回路47を介してポンプモータ30が接続されている。更に、制御回路42には駆動回路48を介してファンモータ36、シーズヒータ25、表示回路49、報知装置50、給水弁40(給水装置に相当)が接続されている。
The control circuit 42 detects a switch input unit 43 that responds to the operation of various switches on the operation panel 6, a door opening detection sensor 44 that responds to the opening / closing operation of the lower door 4, and the temperature of the cleaning water in the cleaning tank 2. Output signals of the door opening detection sensor 45 and the water level sensor 46 for detecting the water level in the cleaning tank 2 are given.
The pump motor 30 is connected to the control circuit 42 via an inverter circuit 47. Further, a fan motor 36, a sheathed heater 25, a display circuit 49, a notification device 50, and a water supply valve 40 (corresponding to a water supply device) are connected to the control circuit 42 via a drive circuit 48.

前記水位センサ46は、例えば洗浄槽2に隣接して設けられた水タンク(図示せず)に設けられており、前記水タンク内の水位を検出することにより前記洗浄槽2内の水位を間接的に検出する。表示回路49には、操作パネル6に設けられた各種表示部が接続されている。報知装置50は洗浄運転の終了やエラー発生等をブザーを鳴動させることにより知らせるものである。   The water level sensor 46 is provided, for example, in a water tank (not shown) provided adjacent to the cleaning tank 2, and indirectly detects the water level in the cleaning tank 2 by detecting the water level in the water tank. Detect. Various display units provided on the operation panel 6 are connected to the display circuit 49. The notification device 50 notifies the end of the cleaning operation or the occurrence of an error by sounding a buzzer.

次に、本実施例の作用について説明する。ここでは、制御回路42が実行する標準的な洗浄運転コース(以下、「標準コース」とする)を例に挙げて説明する。操作パネル6のコース設定スイッチにて標準コースが設定された後、スタートスイッチにて洗浄運転の開始が指示されると、制御回路42は、スチーム工程、洗浄工程、すすぎ工程、加熱すすぎ工程、乾燥工程を順に実行する。つまり、制御回路42は、蒸気生成手段、洗浄手段として機能する。   Next, the operation of this embodiment will be described. Here, a standard cleaning operation course (hereinafter referred to as “standard course”) executed by the control circuit 42 will be described as an example. After the standard course is set with the course setting switch of the operation panel 6, when the start of the cleaning operation is instructed with the start switch, the control circuit 42 causes the steam process, the cleaning process, the rinsing process, the heating rinsing process, and the drying. The steps are executed in order. That is, the control circuit 42 functions as a steam generation unit and a cleaning unit.

スチーム工程では、制御回路42は給水弁40を開放して洗浄槽2内に給水する動作を実行した後、蒸気生成動作を実行する。スチーム工程における洗浄槽2内の水位を「蒸気生成水位」と称する。蒸気生成水位は、ヒータ25が水没しない低水位に設定されている。スチーム工程については後述する。
洗浄工程及び各すすぎ工程では、給水弁40を開放して洗浄槽2内に給水する動作、ポンプ28を動作させて貯水部24内の水を噴射ノズル20,22から噴出させる洗い動作或いはすすぎ動作、ポンプ28を動作させて貯水部24内の水を排出する動作が順に実行される。洗浄工程及び各すすぎ工程における水位を「洗浄水位」と称する。洗浄水位は、ヒータ25が完全に水没する水位であり、蒸気生成水位よりも高水位に設定されている。
In the steam process, the control circuit 42 performs the steam generation operation after performing the operation of opening the water supply valve 40 and supplying the cleaning tank 2 with water. The water level in the cleaning tank 2 in the steam process is referred to as “steam generation water level”. The steam generation water level is set to a low water level at which the heater 25 is not submerged. The steam process will be described later.
In the washing process and each rinsing process, the operation of supplying water into the washing tank 2 by opening the water supply valve 40, the washing operation or rinsing operation of operating the pump 28 and ejecting the water in the water storage section 24 from the injection nozzles 20 and 22. The operation of discharging the water in the water storage unit 24 by operating the pump 28 is sequentially executed. The water level in the washing step and each rinsing step is referred to as “washing water level”. The cleaning water level is a water level at which the heater 25 is completely submerged, and is set at a higher water level than the steam generation water level.

スチーム工程では、制御回路42は、給水弁40を所定時間(例えば5秒間)だけ開放動作させるようになっている。一方、洗浄工程及び各すすぎ工程では、制御回路42は水位センサ46からの入力信号に基づき洗浄槽2内の水位が「洗浄水位」に達したことを検知するまで給水弁40を開放動作させるようになっている。スチーム工程の蒸気生成動作が終了すると、制御回路42は排水動作を実行することなく洗浄工程に移行する。従って、洗浄工程の給水動作では、「洗浄水位」(図6中Aで示す水位)と「蒸気生成水位」(図6中Bで示す水位)との差に相当する水を洗浄槽2内に追加するだけで良く、スチーム工程で洗浄槽2内に貯留された水を洗浄工程で利用することができる。   In the steam process, the control circuit 42 opens the water supply valve 40 for a predetermined time (for example, 5 seconds). On the other hand, in the cleaning process and each rinsing process, the control circuit 42 opens the water supply valve 40 until it detects that the water level in the cleaning tank 2 has reached the “cleaning water level” based on the input signal from the water level sensor 46. It has become. When the steam generation operation in the steam process ends, the control circuit 42 proceeds to the cleaning process without executing the drain operation. Accordingly, in the water supply operation of the cleaning process, water corresponding to the difference between the “cleaning water level” (water level indicated by A in FIG. 6) and the “steam generation water level” (water level indicated by B in FIG. 6) is stored in the cleaning tank 2. It is only necessary to add the water, and the water stored in the cleaning tank 2 in the steam process can be used in the cleaning process.

また、洗浄工程及び加熱すすぎ工程では、制御回路42は扉開放検知センサ45からの入力信号に基づき洗浄槽2内の洗浄水の温度が所定温度となるように前記シーズヒータ25を間欠的に発熱させる。乾燥工程では、シーズヒータ25を間欠的に発熱させつつ送風機29を動作させることにより洗浄槽2内に温風を流通させる。
次に、スチーム工程について図6を参照しながら説明する。図6はスチーム工程及び洗浄工程時における給水弁40、ポンプ28、ヒータ25の動作タイミングを水位及び水温の変化と共に示している。
Further, in the cleaning process and the heating rinsing process, the control circuit 42 generates heat intermittently in the sheathed heater 25 based on the input signal from the door opening detection sensor 45 so that the temperature of the cleaning water in the cleaning tank 2 becomes a predetermined temperature. Let In the drying process, hot air is circulated in the cleaning tank 2 by operating the blower 29 while intermittently generating heat in the sheathed heater 25.
Next, the steam process will be described with reference to FIG. FIG. 6 shows the operation timings of the water supply valve 40, the pump 28, and the heater 25 in the steam process and the cleaning process together with changes in the water level and the water temperature.

図6に示すように、スチーム工程では、まず初めに制御回路42は給水弁40を開放して給水動作を実行する。この給水動作により蒸気生成水位まで洗浄槽2内に貯水される。
続いて、制御回路42はヒータ25及びポンプ28を交互に6回ずつ動作させることにより蒸気生成動作を実行する。この場合、1回目及び6回目のヒータ25の通電時間は12秒に設定されており、2〜5回目のヒータ25の通電時間は7秒に設定されている。これに対して、ポンプ28の動作時間は毎回12秒に設定されている。具体的には、制御回路42は、稼働時間のデューティ比が例えば1秒ON/2秒OFFとなるようにポンプモータ30を12秒間、一方向(正転方向)に低速で回転させる。
As shown in FIG. 6, in the steam process, first, the control circuit 42 opens the water supply valve 40 and executes the water supply operation. By this water supply operation, water is stored in the cleaning tank 2 up to the steam generation water level.
Subsequently, the control circuit 42 executes the steam generation operation by alternately operating the heater 25 and the pump 28 six times each. In this case, the energization time of the first and sixth heaters 25 is set to 12 seconds, and the energization time of the second to fifth heaters 25 is set to 7 seconds. On the other hand, the operation time of the pump 28 is set to 12 seconds each time. Specifically, the control circuit 42 rotates the pump motor 30 in one direction (forward rotation direction) at a low speed for 12 seconds so that the duty ratio of the operation time is, for example, 1 second ON / 2 seconds OFF.

この結果、ポンプ28は洗浄用ポンプとして機能し、洗浄槽2内の水がポンプ28によって汲み上げられ、噴射ノズル20,22の噴射孔20b,22bから洗浄槽2内に噴き出される。この場合、噴射孔22bから噴き出される水の勢いが弱く、噴射ノズル22がゆっくり回転するようにポンプモータ30の回転速度は、洗浄工程時におけるポンプモータ30の回転速度よりも低く設定されている。従って、噴射孔22bが保護カバー26の上方付近に位置するときに当該噴射孔22bから噴き出された水は遠くまで飛散することなく、保護カバー26を通してヒータ25の上に滴下される。このとき、ヒータ25の上面25aは略水平面となっているため、ヒータ25上に滴下された水はヒータ25上に保持され易い。このため、より多くの水をヒータ25に接触させることができる。   As a result, the pump 28 functions as a cleaning pump, and the water in the cleaning tank 2 is pumped up by the pump 28 and ejected into the cleaning tank 2 from the injection holes 20 b and 22 b of the injection nozzles 20 and 22. In this case, the rotational speed of the pump motor 30 is set lower than the rotational speed of the pump motor 30 during the cleaning step so that the momentum of the water ejected from the ejection hole 22b is weak and the ejection nozzle 22 rotates slowly. . Therefore, when the injection hole 22b is positioned in the vicinity of the upper portion of the protective cover 26, the water discharged from the injection hole 22b is dripped onto the heater 25 through the protective cover 26 without being scattered far away. At this time, since the upper surface 25a of the heater 25 is substantially horizontal, the water dripped onto the heater 25 is easily held on the heater 25. For this reason, more water can be brought into contact with the heater 25.

図7は、蒸気生成動作時のヒータ25の表面温度の変化を示している。図7に示すように、1回目の通電によりヒータ25の表面温度は100℃付近まで上昇する。従って、次にポンプ28が動作されてヒータ25の上に水が滴下されると、その水は瞬時に蒸発して洗浄槽2内を浮遊する。この結果、食器に付着している汚れは水を含み膨潤する。また、ヒータ25は水が滴下されることにより表面温度は40℃付近まで低下するが、再び通電されることにより100℃付近に戻る。従って、ポンプ動作時のヒータ25の表面温度は100℃付近となり、このようなヒータ25の上に水が滴下されることにより、効率良く蒸気が生成される。   FIG. 7 shows a change in the surface temperature of the heater 25 during the steam generation operation. As shown in FIG. 7, the surface temperature of the heater 25 rises to around 100 ° C. by the first energization. Therefore, when the pump 28 is operated next and water is dripped onto the heater 25, the water is instantly evaporated and floats in the cleaning tank 2. As a result, the dirt adhering to the tableware swells with water. Further, the surface temperature of the heater 25 drops to around 40 ° C. when water is dropped, but returns to around 100 ° C. when the power is turned on again. Therefore, the surface temperature of the heater 25 during the pump operation is about 100 ° C., and when water is dropped on the heater 25, steam is efficiently generated.

尚、ヒータ25の上に滴下された水の一部は蒸発せずに洗浄槽2内に戻される。従って、スチーム工程の経過と共に洗浄槽2内の水は温度上昇する。
このように本実施例によれば、洗浄工程の前にスチーム工程を設け、食器に付着した汚れを膨潤させた。このため、洗浄工程で噴射ノズル20,22から噴射された水によって食器に付着した汚れを効率良く、且つ、確実に洗い落とすことができる。特に、本実施例では、シーズヒータ25は、スチーム工程における蒸気生成用熱源と洗浄工程及び加熱すすぎ工程における水加熱用熱源として機能する。このため、両熱源を別のヒータから構成する場合に比べて部品点数の削減を図ることができる。
A part of the water dropped on the heater 25 is returned to the cleaning tank 2 without evaporating. Accordingly, the temperature of the water in the cleaning tank 2 rises with the progress of the steam process.
Thus, according to the present Example, the steam process was provided before the washing | cleaning process, and the dirt adhering to tableware was swollen. For this reason, the stain | pollution | contamination adhering to tableware with the water sprayed from the injection nozzles 20 and 22 at the washing | cleaning process can be washed out efficiently and reliably. In particular, in the present embodiment, the sheathed heater 25 functions as a heat source for steam generation in the steam process and a heat source for water heating in the cleaning process and the heating rinse process. For this reason, the number of parts can be reduced as compared with the case where both heat sources are composed of separate heaters.

スチーム工程では、ヒータ25を間欠的に通電した。そして、スチーム工程開始時はヒータ25の表面温度が低いため、1回目のヒータ通電時間を2回目以降のヒータ通電時間よりも長くして、通電終了時にはヒータ25の表面温度が約100℃となるようにした。従って、ヒータ25に水を接触させると瞬時に蒸気を生成させることができる。このため、水を加熱して蒸気を発生させるときにヒータを水没させていた従来構成に比べて、蒸気を発生させるために必要な水の加熱時間を短く、且つ、熱エネルギーを少なくすることができる。   In the steam process, the heater 25 was energized intermittently. Since the surface temperature of the heater 25 is low at the start of the steam process, the first heater energization time is made longer than the second and subsequent heater energization times, and the surface temperature of the heater 25 becomes about 100 ° C. at the end of energization. I did it. Therefore, when water is brought into contact with the heater 25, steam can be instantaneously generated. For this reason, compared to the conventional configuration in which the heater is submerged when the water is heated to generate the steam, the heating time of the water necessary for generating the steam can be shortened and the heat energy can be reduced. it can.

また、ヒータ25に水を接触させながらヒータ25に通電しても、ヒータ25の表面温度は余り上昇しない。しかも、ヒータ25の熱エネルギーは、ヒータ25と接触し蒸発することなく洗浄槽2内に戻される水の加熱に寄与するだけである。これに対して、本実施例ではヒータ25に水を接触させるときはヒータ25を停止させた。従って、水を蒸発させるためにヒータ25の熱エネルギーを有効に利用することができる。   Even if the heater 25 is energized while water is in contact with the heater 25, the surface temperature of the heater 25 does not increase so much. In addition, the thermal energy of the heater 25 only contributes to heating the water returned to the cleaning tank 2 without contacting the heater 25 and evaporating. In contrast, in this embodiment, the heater 25 was stopped when water was brought into contact with the heater 25. Therefore, the heat energy of the heater 25 can be effectively used to evaporate water.

更に、ヒータ25を間欠的に通電したことにより、万一、洗浄槽2内に水が貯留されていない状態でスチーム工程が実行された場合のヒータ25の表面温度を低く抑えることができる。具体的には、洗浄槽2内に水が貯留されていない状態で、ヒータ25を上述のスチーム工程におけるタイミングで間欠通電したとき及び連続通電したときのヒータ25の表面温度の変化を図8及び図9に示す。
図8及び図9に示すように、洗浄槽2内に水が貯留されない状態でヒータ25を間欠的に通電したときの最終的なヒータ25の表面温度は約350℃であるのに対して、連続的に通電したときの最終的なヒータ25の表面温度は約600℃になる。
Furthermore, by energizing the heater 25 intermittently, the surface temperature of the heater 25 when the steam process is executed in a state where water is not stored in the cleaning tank 2 can be kept low. Specifically, FIG. 8 shows changes in the surface temperature of the heater 25 when the heater 25 is intermittently energized at the timing in the above-described steam process and continuously energized with no water stored in the cleaning tank 2. As shown in FIG.
As shown in FIGS. 8 and 9, the final surface temperature of the heater 25 when the heater 25 is energized intermittently with no water stored in the cleaning tank 2 is about 350 ° C., whereas The final surface temperature of the heater 25 when energized continuously is about 600 ° C.

図10は本発明の第2の実施例を示すものであり、第1の実施例と異なるところを説明する。尚、第1の実施例と同一部分には同一符号を付している。第2の実施例は、スチーム工程における蒸気生成動作が第1の実施例と異なっている。具体的には、図10に示すように、スチーム工程が開始されると、制御回路42は、給水弁40を所定時間開放して洗浄槽2内に給水する。本実施例の蒸気生成水位は、ヒータ25が水没する水位をやや上回る水位に設定されている。従って、ここでは、制御回路42は第1の実施例における給水弁40の開放時間(5秒)よりも長い時間(例えば8秒)、給水弁40を開放する。   FIG. 10 shows a second embodiment of the present invention, and different points from the first embodiment will be described. The same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. The second embodiment is different from the first embodiment in the steam generation operation in the steam process. Specifically, as shown in FIG. 10, when the steam process is started, the control circuit 42 opens the water supply valve 40 for a predetermined time and supplies water into the cleaning tank 2. The steam generation water level of the present embodiment is set to a level slightly higher than the water level at which the heater 25 is submerged. Therefore, here, the control circuit 42 opens the water supply valve 40 for a time (for example, 8 seconds) longer than the open time (5 seconds) of the water supply valve 40 in the first embodiment.

給水動作が終了すると、続いて、制御回路42はヒータ25を連続的に通電すると共にポンプ28を間欠的に4回動作させることにより蒸気生成動作を実行する。各回のポンプ28の動作時間は例えば12秒に、前記ポンプ28の停止時間は例えば8秒に設定されている。また、ポンプモータ30は、噴射ノズル20,22から水が殆ど噴射しない程度の低速で連続的に正転される。つまり、本実施例では、第1の実施例よりも蒸気生成動作時のポンプモータ30の回転速度が低く設定されている。   When the water supply operation is completed, subsequently, the control circuit 42 energizes the heater 25 continuously and executes the steam generation operation by intermittently operating the pump 28 four times. The operation time of each pump 28 is set to 12 seconds, for example, and the stop time of the pump 28 is set to 8 seconds, for example. Further, the pump motor 30 is continuously forward rotated at a low speed such that almost no water is jetted from the jet nozzles 20 and 22. That is, in this embodiment, the rotational speed of the pump motor 30 during the steam generation operation is set lower than in the first embodiment.

従って、ポンプ28の動作時は、洗浄槽2内の水はポンプ28によって汲み上げられるもののポンプ28内にとどまる。この結果、洗浄槽2内の水位が低下し、ヒータ25に水から露出する。このため、ヒータ25の表面温度が上昇し、ポンプモータの1回の動作が終了するころには約100℃付近になる。
ポンプモータ30の動作時間(12秒)が経過すると、ポンプモータ30は停止される。すると、ポンプ28内の水は逆流して洗浄槽2内に戻り、洗浄槽2内の水位が上昇する。この結果、ヒータ25が水没し、ヒータ25と水とが接触する。このとき、ヒータ25の表面温度は約100℃となっているため、ヒータ25と接触した水は急激に温度上昇し、蒸気が生成される。一方、水と接触することにより、ヒータ25の表面温度急激に低下する。
Therefore, when the pump 28 is operated, the water in the cleaning tank 2 is pumped up by the pump 28 but remains in the pump 28. As a result, the water level in the cleaning tank 2 is lowered and exposed to the heater 25 from the water. For this reason, when the surface temperature of the heater 25 rises and one operation of the pump motor is completed, the temperature becomes about 100 ° C.
When the operation time (12 seconds) of the pump motor 30 elapses, the pump motor 30 is stopped. Then, the water in the pump 28 flows backward and returns to the cleaning tank 2, and the water level in the cleaning tank 2 rises. As a result, the heater 25 is submerged and the heater 25 comes into contact with water. At this time, since the surface temperature of the heater 25 is about 100 ° C., the temperature of the water in contact with the heater 25 rapidly increases, and steam is generated. On the other hand, contact with water causes the surface temperature of the heater 25 to rapidly decrease.

上記したポンプモータ30の回転、停止が4回繰り返された後、上記生成動作は終了し、次の洗浄工程に移行する。
このように本実施例では、ポンプモータ30の駆動を制御して洗浄槽2内の水位を上下動させることにより、ヒータ25と水が接触しない状態、接触する状態が交互に現れるように構成した。従って、常時、ヒータ25を水没させる構成に比べて、ヒータの熱エネルギーを蒸気生成のために有効に利用することができる。
After the rotation and stop of the pump motor 30 described above are repeated four times, the generation operation is finished, and the process proceeds to the next cleaning step.
As described above, in this embodiment, by controlling the driving of the pump motor 30 and moving the water level in the cleaning tank 2 up and down, the heater 25 and the water do not contact each other, and the contact state appears alternately. . Therefore, compared to the configuration in which the heater 25 is always submerged, the heat energy of the heater can be effectively used for generating steam.

図11は本発明の第3の実施例を示すものであり、第2の実施例と異なるところを説明する。この第3の実施例では、ポンプモータの回転速度を変化させることにより洗浄槽2内の水位を上下させ、ヒータと水が接触しない状態、接触する状態が交互に現れるように構成した点が、第2の実施例と異なっている。
即ち、制御回路42は、ヒータ25を連続的に通電すると共にポンプモータ30を低速及び高速で交互に4回、正転させることにより蒸気生成動作を実行する。ポンプモータ30の低速回転時には噴射ノズル20,22から水が殆ど噴射せず、前記ポンプモータ30の高速回転時には噴射ノズル22から僅かに水が噴射するように、低速回転数及び高速回転数は設定されている。
FIG. 11 shows a third embodiment of the present invention, and the differences from the second embodiment will be described. In the third embodiment, the water level in the cleaning tank 2 is raised and lowered by changing the rotation speed of the pump motor, and the state where the heater and water do not contact each other and the state where they contact each other appear alternately. This is different from the second embodiment.
That is, the control circuit 42 performs the steam generation operation by continuously energizing the heater 25 and causing the pump motor 30 to rotate forward four times alternately at low speed and high speed. The low-speed rotation speed and the high-speed rotation speed are set so that almost no water is injected from the injection nozzles 20 and 22 when the pump motor 30 rotates at a low speed, and a little water is injected from the injection nozzle 22 when the pump motor 30 rotates at a high speed. Has been.

従って、本実施例では、噴射ノズル22の噴射孔22bから噴射される水がヒータ25に滴下することにより、ヒータ25と水とが接触する。
このような第3の実施例においても、第1及び第2の実施例と同様の作用、効果が得られる。
Therefore, in this embodiment, the water injected from the injection hole 22b of the injection nozzle 22 drops on the heater 25, so that the heater 25 and the water come into contact with each other.
In the third embodiment, the same operation and effect as in the first and second embodiments can be obtained.

図12は本発明の第4の実施例を示すものであり、第1の実施例と異なるところを説明する。この第4の実施例では、洗浄槽2内の底部のうち給水口38から保護カバー27までの部分に、給水口38から流出する水を前記保護カバー27に向かって誘導するための斜面61(誘導経路に相当)を設けている。また、保護カバー27の下面のうちヒータ25の上部に位置する部分にはリブ62を設けている。更に、本実施例では、給水弁40として流量制御弁が用いられている。   FIG. 12 shows a fourth embodiment of the present invention, and differences from the first embodiment will be described. In the fourth embodiment, a slope 61 (for guiding water flowing out from the water supply port 38 toward the protective cover 27 in a portion from the water supply port 38 to the protective cover 27 in the bottom portion in the cleaning tank 2. Equivalent to the guide route). Further, a rib 62 is provided on the lower surface of the protective cover 27 on the portion located above the heater 25. Furthermore, in this embodiment, a flow control valve is used as the water supply valve 40.

そして、制御回路42は次のように給水弁40及びヒータ25の通電を制御することによりスチーム工程を実行する。即ち、スチーム工程が開始されると、制御回路42はヒータ25を通電する。そして、ヒータ25の通電時間が所定の設定時間、具体的には、ヒータの表面温度が約100℃となる時間に達すると、制御回路42は給水弁40を開放して給水動作を開始する。このとき、制御回路42は、給水口38から水が少しずつ流出するように給水弁40の開弁量を調整するように構成されている。   And the control circuit 42 performs a steam process by controlling electricity supply of the water supply valve 40 and the heater 25 as follows. That is, when the steam process is started, the control circuit 42 energizes the heater 25. When the energization time of the heater 25 reaches a predetermined set time, specifically, when the heater surface temperature reaches about 100 ° C., the control circuit 42 opens the water supply valve 40 and starts the water supply operation. At this time, the control circuit 42 is configured to adjust the valve opening amount of the water supply valve 40 so that water flows out from the water supply port 38 little by little.

この結果、給水口38から流出する水は傾斜61に沿って保護カバー27に至る。そして、保護カバー27の上に至った水は当該カバー27の孔27aを通過した後,リブ62を伝ってヒータ25の上面に滴下する。ヒータ25の上面に滴下された水は瞬時に蒸発して洗浄槽2内を浮遊する。
スチーム工程中、少量ずつ給水口38から流出させる給水動作は継続される。スチーム工程の終了時、洗浄槽内の水位はヒータが水没しない水位となっており、洗浄工程に移行した制御回路42は、洗浄槽2内の水位が洗浄水位に達するまで通常の給水動作を実行して洗浄槽2内の水を追加する。
As a result, the water flowing out from the water supply port 38 reaches the protective cover 27 along the slope 61. Then, the water that has reached the top of the protective cover 27 passes through the hole 27 a of the cover 27 and then drops along the rib 62 onto the upper surface of the heater 25. The water dripped onto the upper surface of the heater 25 instantly evaporates and floats in the cleaning tank 2.
During the steam process, the water supply operation for causing the water to flow out from the water supply port 38 little by little is continued. At the end of the steam process, the water level in the cleaning tank is a level at which the heater is not submerged, and the control circuit 42 that has shifted to the cleaning process performs a normal water supply operation until the water level in the cleaning tank 2 reaches the cleaning water level. Then, the water in the washing tank 2 is added.

このような本実施例によれば、給水口38から流出する水をヒータ25まで誘導する手段(斜面61、リブ62)を洗浄槽2内に設けたので、ポンプ28を動作させなくてもヒータ25と水とを効率良く接触させることができる。   According to this embodiment, since the means (slope 61, rib 62) for guiding the water flowing out from the water supply port 38 to the heater 25 is provided in the cleaning tank 2, the heater can be operated without operating the pump 28. 25 and water can be contacted efficiently.

尚、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、例えば次のような変形が可能である。
蒸気生成水位を検出する水位センサを設けてもよい。そして、スチーム工程では、制御回路は、前記水位センサの出力信号に基づき洗浄槽2内の水位が蒸気生成水位に達するまで給水弁を開放させるように構成しても良い。
シーズヒータの表面のうち少なくとも上面に微細な凹凸を設けたり、珪酸ナトリウムを用いて親水性にしたりすることによりシーズヒータに接触した水の保持力を向上させるようにしても良い。このような構成により、シーズヒータと接触する水の量を増加させることができ、ひいては蒸気生成量を増加させることができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and for example, the following modifications are possible.
You may provide the water level sensor which detects a steam production | generation water level. In the steam process, the control circuit may be configured to open the water supply valve until the water level in the cleaning tank 2 reaches the steam generation water level based on the output signal of the water level sensor.
You may make it improve the holding | maintenance power of the water which contacted the sheathed heater by providing a fine unevenness | corrugation at least in the upper surface among the surfaces of a sheathed heater, or making it hydrophilic using sodium silicate. With such a configuration, the amount of water in contact with the sheathed heater can be increased, and consequently the amount of steam generated can be increased.

加熱要素はシーズヒータに限らず、絶縁性を有するヒータであれば良い。
蒸気生成用のヒータと、洗浄工程及び加熱すすぎ工程時における洗浄水加熱用のヒータとを別に設けても良い。この場合、蒸気生成用のヒータを、洗浄槽内の底部とは異なる部位であって、噴射ノズルから噴射される水が当たる部位に配置すると良い。
第2の実施例において、ポンプモータを停止させて洗浄槽内の水位を上昇させ、ヒータと水を接触させるときは、ヒータの通電を停止するようにしても良い。
The heating element is not limited to a sheathed heater, but may be any heater having an insulating property.
A heater for generating steam and a heater for heating cleaning water in the cleaning process and the heating rinse process may be provided separately. In this case, the heater for generating steam may be disposed at a site that is different from the bottom in the cleaning tank and that receives water sprayed from the spray nozzle.
In the second embodiment, when the pump motor is stopped to raise the water level in the cleaning tank and the heater and water are brought into contact with each other, the energization of the heater may be stopped.

制御回路42は、水温センサ45の検知結果に基づき洗浄槽内に給水されているか否かを判断するように構成しても良い。そして、洗浄槽内に給水されていないと判断したときには、スチーム工程を実行しないように構成しても良い。このような構成によれば、ヒータ25の温度が過度に上昇することを防止でき安全性が向上する。この場合は、水温センサ45及び制御回路42が給水検知手段として機能する。   The control circuit 42 may be configured to determine whether water is being supplied into the cleaning tank based on the detection result of the water temperature sensor 45. And when it is judged that the water is not supplied into the cleaning tank, the steam process may not be executed. According to such a configuration, the temperature of the heater 25 can be prevented from rising excessively, and safety is improved. In this case, the water temperature sensor 45 and the control circuit 42 function as water supply detection means.

制御回路42は、蒸気生成動作時にファンモータを駆動して送風機を動作させるように構成しても良い。このような構成により、発生した蒸気を洗浄槽2内の全体に分散させることができる。   The control circuit 42 may be configured to operate the blower by driving the fan motor during the steam generation operation. With such a configuration, the generated steam can be dispersed throughout the cleaning tank 2.

本発明の第1の実施例を示すものであり、食器洗浄機の全体構成を示す外観斜視図The external appearance perspective view which shows the 1st Example of this invention and shows the whole structure of a dishwasher 扉を開放した状態で示す食器洗浄機の外観斜視図External perspective view of dishwasher with door open 食器洗浄機の縦断側面図Vertical side view of a dishwasher シーズヒータの形状を説明するための図Diagram for explaining the shape of a sheathed heater 電気的構成を示すブロック図Block diagram showing electrical configuration スチーム工程及び洗い工程における給水弁、排水ポンプ、循環ポンプ、ヒータの動作タイミングを水位及び水温の変化と共に示す図The figure which shows the operation timing of a water supply valve, a drainage pump, a circulation pump, and a heater in a steam process and a washing process with change of a water level and water temperature スチーム工程時におけるヒータ温度を示す図Diagram showing heater temperature during steam process ヒータを間欠通電したときの空焚き時におけるヒータ温度を示す図The figure which shows the heater temperature at the time of idling when the heater is intermittently energized ヒータを連続通電したときの空焚き時におけるヒータ温度を示す図The figure which shows the heater temperature at the time of idling when the heater is energized continuously 本発明の第2の実施例を示す図5相当図FIG. 5 equivalent view showing a second embodiment of the present invention 本発明の第3の実施例を示す図5相当図FIG. 5 equivalent view showing a third embodiment of the present invention. 本発明の第4の実施例を示すものであり、給水口からシーズヒータまでの構成を概略的に示す縦断面図The longitudinal cross-sectional view which shows the 4th Example of this invention and shows roughly the structure from a water supply opening to a sheathed heater

符号の説明Explanation of symbols

図面中、1は食器洗浄機、2は洗浄槽、22は噴射ノズル(水誘導手段)、25はシーズヒータ(熱源)、28はポンプ(ポンプ手段、水誘導手段)、29は送風機、30はポンプモータ(ポンプ手段、水誘導手段)、36がファンモータ、38は給水口、40は給水弁(給水装置)、42は制御回路(蒸気生成手段、洗浄手段)、62は斜面(誘導経路)を示す。

In the drawings, 1 is a dishwasher, 2 is a washing tub, 22 is an injection nozzle (water induction means), 25 is a sheathed heater (heat source), 28 is a pump (pump means, water induction means), 29 is a blower, 30 is Pump motor (pump means, water guiding means), 36 is a fan motor, 38 is a water supply port, 40 is a water supply valve (water supply device), 42 is a control circuit (steam generating means, washing means), 62 is a slope (guidance path) Indicates.

Claims (13)

食器を収容する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に配置された熱源と、
前記洗浄槽内に給水する給水装置を有し前記給水装置によって前記洗浄槽内に供給される水を前記熱源に誘導して接触させる水誘導手段と、
前記熱源及び前記水誘導手段を制御することにより蒸気を生成させる蒸気生成手段とを備えた食器洗浄機。
A washing tank for storing tableware;
A heat source disposed in the cleaning tank;
A water guiding means having a water supply device for supplying water into the cleaning tank, and for inducing and contacting water supplied into the cleaning tank by the water supply device to the heat source;
A dishwasher comprising steam generating means for generating steam by controlling the heat source and the water guiding means.
蒸気生成手段は、熱源に通電して前記熱源の表面温度を上昇させた後、水誘導手段を駆動して水を誘導させるように構成されていることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。   2. The dishwashing apparatus according to claim 1, wherein the steam generating means is configured to drive the water guiding means to induce water after energizing the heat source to increase the surface temperature of the heat source. Machine. 給水装置と、前記給水装置によって洗浄槽内に給水され貯留された水を汲み上げるポンプ手段と、前記ポンプ手段により汲み上げられた水を食器に吹き付ける噴射ノズルとを有する洗浄手段を備え、
水誘導手段は、前記ポンプ手段及び前記噴射ノズルから構成され、
蒸気生成手段は、前記噴射ノズルから噴射される水が熱源に接触するように前記ポンプ手段を制御するように構成されていることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。
A cleaning unit comprising: a water supply device; a pump unit that pumps up water stored and stored in the cleaning tank by the water supply device; and a spray nozzle that blows water pumped up by the pump unit onto the tableware,
The water guiding means is composed of the pump means and the injection nozzle,
2. The dishwasher according to claim 1, wherein the steam generating means is configured to control the pump means so that water sprayed from the spray nozzle contacts a heat source.
熱源は洗浄槽内の底部に配置され、
洗浄手段は、ポンプ手段を駆動して噴射ノズルから噴射される水を食器に吹き付けるときは、前記洗浄槽内の水位が前記熱源よりも上方に位置するまで給水装置に給水させると共に前記熱源に通電して前記洗浄槽内の水を加熱するように構成されていることを特徴とする請求項3記載の食器洗浄機。
The heat source is located at the bottom of the washing tank,
When the cleaning means drives the pump means to spray the water sprayed from the spray nozzle onto the tableware, the cleaning means supplies water to the water supply device until the water level in the cleaning tank is located above the heat source and energizes the heat source. The dish washer according to claim 3, wherein the dish washer is configured to heat water in the washing tank.
蒸気生成手段は、熱源を間欠的に通電するように構成されていることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。   2. The dishwasher according to claim 1, wherein the steam generating means is configured to energize the heat source intermittently. 熱源の1回目の通電時間は、その他の通電時間よりも長く設定されていることを特徴とする請求項5記載の食器洗浄機。   6. The dishwasher according to claim 5, wherein the first energization time of the heat source is set longer than other energization times. 蒸気生成手段は、熱源の通電を停止しているときに水誘導手段に水を誘導させるように構成されていることを特徴とする請求項5または6記載の食器洗浄機。   The dish washer according to claim 5 or 6, wherein the steam generating means is configured to guide water to the water guiding means when energization of the heat source is stopped. 熱源は前記洗浄槽内の底部に配置されていると共に、給水装置と、前記給水装置によって洗浄槽内に給水され貯留された水を汲み上げるポンプ手段と、前記ポンプ手段により汲み上げられた水を食器に吹き付ける噴射ノズルとを有する洗浄手段を備え、
蒸気生成手段は、前記洗浄槽内の水位が前記熱源よりも上方に位置するまで給水装置に給水させた後、前記ポンプ手段を制御して前記洗浄槽内の水位を前記熱源よりも下方に位置させる第1の動作と前記洗浄槽内の水位を前記熱源よりも上方に位置させる第2の動作を交互に繰り返すと共に、前記第1の動作時に前記熱源を通電するように構成されていることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。
A heat source is disposed at the bottom of the cleaning tank, and includes a water supply device, pump means for pumping up water stored in the cleaning tank by the water supply device, and water pumped up by the pump means to the tableware. A cleaning means having a spray nozzle for spraying,
The steam generating means supplies water to the water supply device until the water level in the cleaning tank is located above the heat source, and then controls the pump means to position the water level in the cleaning tank below the heat source. The first operation to be performed and the second operation to position the water level in the cleaning tank above the heat source are alternately repeated, and the heat source is energized during the first operation. The dishwasher according to claim 1, wherein
給水装置と、前記給水装置によって洗浄槽内に給水され貯留された水を汲み上げるポンプ手段と、前記ポンプ手段により汲み上げられた水を食器に吹き付ける噴射ノズルとを有する洗浄手段を備え、
蒸気生成手段による蒸気生成動作時に前記給水装置によって前記洗浄槽内に供給された水の水位は、前記洗浄手段による食器洗浄動作時に前記給水装置によって前記洗浄槽内に供給された水の水位よりも低く設定され、
洗浄手段は、蒸気生成手段が蒸気を生成する動作を実行した後、前記給水装置を駆動して前記洗浄槽内に水を追加させるように構成されていることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。
A cleaning unit comprising: a water supply device; a pump unit that pumps up water stored and stored in the cleaning tank by the water supply device; and a spray nozzle that blows water pumped up by the pump unit onto the tableware,
The water level supplied into the washing tank by the water supply device during the steam generation operation by the steam generation means is higher than the water level supplied into the washing tank by the water supply device during the dish washing operation by the cleaning means. Set low,
The cleaning means is configured to drive the water supply device to add water to the cleaning tank after the steam generating means performs an operation of generating steam. Dishwasher.
洗浄槽内に設けられ給水装置からの水を前記洗浄槽内に流出させる給水口を備え、
水誘導手段は、前記給水口から流出する水を熱源まで誘導する誘導経路を備えて構成されていることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。
Provided with a water supply port that is provided in the cleaning tank and allows water from the water supply device to flow into the cleaning tank,
2. The dishwasher according to claim 1, wherein the water guiding means includes a guiding path for guiding water flowing out from the water supply port to a heat source.
洗浄槽内の空気を循環させる送風機を備え、
蒸気生成手段は、熱源及び水誘導手段を制御して蒸気を生成させるときに前記送風機を駆動するように構成されていることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。
Equipped with a blower to circulate the air in the washing tank,
2. The dishwasher according to claim 1, wherein the steam generating means is configured to drive the blower when the heat source and the water guiding means are controlled to generate steam.
熱源は、水滴保持機能を有するシーズヒータから構成されていることを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。   2. The dishwasher according to claim 1, wherein the heat source comprises a sheathed heater having a water droplet holding function. 洗浄槽内に給水されたことを検知する給水検知手段を備え、
蒸気生成手段は、前記給水検知手段により前記洗浄槽内に給水されたことが検知されたときに熱源に通電することを特徴とする請求項1記載の食器洗浄機。

Provided with water supply detection means for detecting that water has been supplied into the washing tank,
2. The dishwasher according to claim 1, wherein the steam generating means energizes the heat source when it is detected by the water supply detecting means that water has been supplied into the washing tank.

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