JP2005277011A - Multilayer board and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce variations in thickness occurring when laminating a plurality of boards, and prevent the separation of a coating layer provided on the boards. <P>SOLUTION: A multilayer board comprises a first conductor circuit, a first board having a coating layer that covers part of the first conductor circuit, a second board adjacent to the part which is not coated with the coating layer of the first board, and a third board adjacent to the second board. The end of the third board projects beyond a boundary section between the coating layer and the second board towards the coating layer. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、多層基板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a multilayer substrate and a manufacturing method thereof.

近年の電子機器の高密度化に伴い、これに用いられるプリント配線板の多層化が進んでいる。この様な多層のプリント配線板は、フレキシブルプリント配線板が積層された多層フレキシブルプリント配線板と、フレキシブルプリント配線板とリジッドプリント配線板との複合基板であるリジッドフレックスプリント配線板とに大別される。   With the recent increase in the density of electronic devices, the multilayered printed wiring board used for this has progressed. Such multilayer printed wiring boards are roughly classified into multilayer flexible printed wiring boards in which flexible printed wiring boards are laminated, and rigid flex printed wiring boards that are composite boards of flexible printed wiring boards and rigid printed wiring boards. The

これらの中でも可とう性を有するフレキシブル部とリジッド部とを有する多層フレキシブル配線板および前述のリジッドフレックスプリント配線板は、フレキシブル部(フレキシブルプリント配線板)がリジッド部(リジッドプリント配線板)より突出して露出している部分を有する(例えば、特許文献1参照)。   Among these, in the multilayer flexible wiring board having the flexible part having flexibility and the rigid part and the above-mentioned rigid flex printed wiring board, the flexible part (flexible printed wiring board) protrudes from the rigid part (rigid printed wiring board). It has an exposed part (see, for example, Patent Document 1).

このような露出部分には、形成されている導体回路を保護するための被覆層が設けられている。
しかし、この被覆層が設けられた多層プリント配線板ではフレキシブル部(フレキシブルプリント配線板)と、リジッド部(リジッドプリント配線板)とが重なる部分ができ、リジッド部(リジッドプリント配線板)が部分的に厚くなり、層の厚さが安定しない場合があった。
さらに、この状態でフレキシブル部(フレキシブルプリント配線板)を曲げたりすると、リジッド部(リジッドプリント配線板)とフレキシブル部との境界部の厚さの違いから境界部に応力が集中し、層間が剥がれ易くなったり、表面被覆層が剥離する等の問題が予想される。
Such an exposed portion is provided with a coating layer for protecting the formed conductor circuit.
However, in a multilayer printed wiring board provided with this coating layer, a flexible part (flexible printed wiring board) and a rigid part (rigid printed wiring board) are overlapped, and the rigid part (rigid printed wiring board) is partially In some cases, the thickness of the layer was not stable.
Furthermore, if the flexible part (flexible printed wiring board) is bent in this state, stress concentrates on the boundary part due to the difference in thickness between the rigid part (rigid printed wiring board) and the flexible part, and the layers are peeled off. Problems such as being easy and peeling of the surface coating layer are expected.

特開2003−258426号公報JP 2003-258426 A

本発明の目的は、複数の基板を積層することにより生じる厚さのバラツキを低減し、かつ基板の表面に設けられた被覆層の剥離を防止することにある。   An object of the present invention is to reduce thickness variations caused by stacking a plurality of substrates and to prevent peeling of a coating layer provided on the surface of the substrate.

このような目的は、以下(1)〜(6)に記載の本発明により達成される。
(1)第1の導体回路と、該第1の導体回路の一部を覆っている被覆層とを有する第1の基板と、前記第1の基板の前記被覆層で覆われていない部分に隣接する第2の基板と、前記第2の基板に隣接する第3の基板とを有する多層基板であって、前記第3の基板の端部は、前記被覆層と前記第2の基板との境界部を超えて前記被覆層側に突出していることを特徴とする多層基板。
(2)前記突出している部分の長さは、前記境界部から前記被覆層側に0.3mm以上である上記(1)に記載の多層基板。
(3)前記被覆層の厚さは、15〜60μmである上記(1)または(2)に記載の多層基板。
(4)前記被覆層は、樹脂フィルムと、接着層とを有するものである上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の多層基板。
(5)前記第1の基板は、可とう性を有するものである上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の多層基板。
(6)第1の導体回路を有する第1の基板の前記第1の導体回路の一部を被覆層で覆う第1の工程と、前記第1の基板の前記被覆層で覆われていない部分に第2の基板を隣接して積層する第2の工程と、さらに前記第2の基板に隣接して第3の基板を積層する第3の工程とを有する多層基板の製造方法であって、前記第3の工程で、前記第3の基板の端部を、前記被覆層と前記第2の基板との境界部を超えて前記被覆層側に突出して積層することを特徴とする多層基板の製造方法。
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to (6).
(1) A first substrate having a first conductor circuit and a coating layer covering a part of the first conductor circuit, and a portion of the first substrate not covered with the coating layer A multilayer substrate having a second substrate adjacent to the second substrate and a third substrate adjacent to the second substrate, wherein an end of the third substrate is formed between the coating layer and the second substrate. A multilayer substrate characterized by protruding beyond the boundary portion toward the coating layer.
(2) The multilayer substrate according to (1), wherein a length of the protruding portion is 0.3 mm or more from the boundary portion to the coating layer side.
(3) The multilayer substrate according to (1) or (2), wherein the coating layer has a thickness of 15 to 60 μm.
(4) The multilayer substrate according to any one of (1) to (3), wherein the coating layer includes a resin film and an adhesive layer.
(5) The multilayer substrate according to any one of (1) to (4), wherein the first substrate has flexibility.
(6) A first step of covering a part of the first conductor circuit of the first substrate having the first conductor circuit with a coating layer, and a portion not covered with the coating layer of the first substrate. And a second step of laminating a second substrate adjacent to the second substrate, and a third step of laminating a third substrate adjacent to the second substrate. In the third step, the end portion of the third substrate protrudes toward the coating layer beyond the boundary between the coating layer and the second substrate and is laminated. Production method.

本発明によれば、複数の基板を積層することにより生じる厚さのバラツキを低減し、かつ基板の表面に設けられた被覆層の剥離を防止することができる。
また、前記突起している部分を特定の長さとする場合、特にフレキシブル部と、リジッド部とが重なる部分の段差が改善できる。
また、第1の基板として可とう性を有する基板を用いた場合、特にフレキシブル性に優れた多層基板を得ることができる。
According to the present invention, it is possible to reduce variations in thickness caused by stacking a plurality of substrates and to prevent peeling of the coating layer provided on the surface of the substrate.
In addition, when the protruding portion has a specific length, it is possible to improve the level difference at the portion where the flexible portion and the rigid portion overlap.
In addition, when a flexible substrate is used as the first substrate, a multilayer substrate having particularly excellent flexibility can be obtained.

以下、本発明の多層基板の一つである6層のフレキシブル配線板およびその製造方法について好適な実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図1は、外層回路基板の製造工程を示す断面図である。図2は、内層回路基板の製造工程を示す断面図である。図3は、コアとなる回路基板の製造工程を示す断面図である。図4は、6層のフレキシブル配線板の製造工程を示す断面図である。
Hereinafter, a six-layer flexible wiring board which is one of the multilayer substrates of the present invention and a method for manufacturing the same will be described in detail based on preferred embodiments.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the outer layer circuit board. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the inner layer circuit board. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a circuit board serving as a core. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a six-layer flexible wiring board.

まず、外層回路基板100(第3の基板)について説明する。
例えばポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂を硬化させた絶縁材等からなる基材11の片面に銅箔12が付いた片面積層板110を準備する(図1(a))。外層回路基板100を加工する方法として、この際、基材11と銅箔12との間には、導体接続の妨げとなるスミアの発生を防ぐため、銅箔12と基材11とを貼り合わせるための接着剤層は存在しない方が好ましいが、接着剤を使い貼りあわせたものでもよい。この基材11の片面にある銅箔12をエッチングにより配線パターン121を形成する(図1(b))。
First, the outer circuit board 100 (third board) will be described.
For example, a single area layer plate 110 having a copper foil 12 attached to one surface of a base material 11 made of an insulating material obtained by curing a resin such as polyimide resin or epoxy resin is prepared (FIG. 1A). As a method for processing the outer layer circuit board 100, the copper foil 12 and the base material 11 are bonded together between the base material 11 and the copper foil 12 in order to prevent the occurrence of smear that hinders conductor connection. However, it is preferable that the adhesive layer does not exist for this purpose, but an adhesive layer may be used. A wiring pattern 121 is formed by etching the copper foil 12 on one side of the substrate 11 (FIG. 1B).

次に、配線パターン121に表面被覆層13を形成する(図1(c))。この表面被覆層13は、絶縁樹脂に接着剤を塗布したオーバーレイフィルムを貼付または、インクを直接基材に印刷する方法などがある。この表面被覆層13にはメッキなどの表面処理用に表面被覆層開口部131を設けてもよい。次いで、基材11側の面から、配線パターン121が露出するまで、基材開口部111を形成する (図1(d))。この際、レーザー法を用いると基材開口部111を容易に形成することができ、かつ小径もあけることができる。更に、過マンガン酸カリウム水溶液によるウェットデスミア又はプラズマによるドライデスミアなどの方法により、基材開口部111内に残存している樹脂を除去すると層間接続の信頼性が向上し好ましい。この基材開口部111内に導体ポスト14が基材11の面から突出するまで形成する(図1(f))。   Next, the surface coating layer 13 is formed on the wiring pattern 121 (FIG. 1C). The surface coating layer 13 includes a method of attaching an overlay film obtained by applying an adhesive to an insulating resin, or printing ink directly on a substrate. The surface coating layer 13 may be provided with a surface coating layer opening 131 for surface treatment such as plating. Next, the substrate opening 111 is formed from the surface on the substrate 11 side until the wiring pattern 121 is exposed (FIG. 1D). At this time, if the laser method is used, the substrate opening 111 can be easily formed, and a small diameter can be opened. Further, it is preferable to remove the resin remaining in the substrate opening 111 by a method such as wet desmearing with an aqueous potassium permanganate solution or dry desmearing with plasma, because the reliability of interlayer connection is improved. The conductor post 14 is formed in the base material opening 111 until it protrudes from the surface of the base material 11 (FIG. 1 (f)).

導体ポスト14の形成方法としては、ペースト又はメッキ法などで、銅ポスト141を形成後(図1(e))、金属又は合金にて被覆層142を形成する。銅ポスト141の高さは、特に限定されないが、基材11の表面から2〜30μmが好ましく、特に5〜20μmが好ましい。金属としては、錫からなることが好ましい。合金としては錫、鉛、銀、亜鉛、ビスマス、アンチモン、銅から選ばれた少なくとも2種類以上の金属で構成される半田であることが好ましい。例えば錫−鉛系、錫−銀系、錫−亜鉛系、錫−ビスマス系、錫−アンチモン、錫−銀−ビスマス系、錫−銅系等があるが、半田の金属組合せや組成に限定されず、最適なものを選択すればよい。厚みは、特に限定されないが、2μm以上が好ましく、特に5〜20μmが好ましい。この際、同時に表面被覆層開口部131の表面にも前記同様の半田又は金属や合金により表面処理層132を形成してもよい(図1(f))。   As a method for forming the conductor post 14, after forming the copper post 141 by a paste or plating method (FIG. 1E), the coating layer 142 is formed of a metal or an alloy. The height of the copper post 141 is not particularly limited, but is preferably 2 to 30 μm, particularly preferably 5 to 20 μm from the surface of the substrate 11. The metal is preferably made of tin. The alloy is preferably a solder composed of at least two kinds of metals selected from tin, lead, silver, zinc, bismuth, antimony, and copper. Examples include tin-lead, tin-silver, tin-zinc, tin-bismuth, tin-antimony, tin-silver-bismuth, and tin-copper, but are limited to solder metal combinations and compositions. What is necessary is just to select an optimal thing. Although thickness is not specifically limited, 2 micrometers or more are preferable and 5-20 micrometers is especially preferable. At this time, the surface treatment layer 132 may be simultaneously formed on the surface of the surface coating layer opening 131 with the same solder, metal, or alloy (FIG. 1 (f)).

さらに、多層積層部分にフラックス機能付き接着剤15(図1(g))層を形成する。このフラックス機能付き接着剤15層は、印刷法により基材11にフラックス機能付き接着剤15を塗布する方法等があるが、シート状になった接着剤を基材11にラミネートする方法により形成してもよい。最後に、多層部のサイズに応じて切断し、外層回路基板100を得る(図1(g))。   Further, an adhesive 15 with flux function (FIG. 1 (g)) layer is formed on the multilayer laminated portion. The adhesive layer 15 with a flux function includes a method of applying the adhesive agent 15 with a flux function to the substrate 11 by a printing method, and the like, and is formed by a method of laminating the sheet-like adhesive on the substrate 11. May be. Finally, the outer layer circuit board 100 is obtained by cutting according to the size of the multilayer portion (FIG. 1 (g)).

また、この外層回路基板100の製法としては片面積層板110に基材開口部111を形成した後、導体ポスト14を形成し、次いで配線パターン121を形成し、配線パターンに表面被覆層13を施してもよい。   Further, as a manufacturing method of this outer layer circuit board 100, after forming the base material opening 111 in the single area layer board 110, the conductor post 14 is formed, then the wiring pattern 121 is formed, and the surface coating layer 13 is applied to the wiring pattern. May be.

本発明に用いるフラックス機能付き接着剤15は、金属表面の清浄化機能、例えば、金属表面に存在する酸化膜の除去機能や、酸化膜の還元機能を有した接着剤であり、第1の好ましいフラックス機能付き接着剤15の構成としては、フェノール性水酸基を有するフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、アルキルフェノールノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂等の(固形の)フェノール性水酸基を有する樹脂(A)と、前記樹脂の硬化剤(固形の硬化剤として作用する樹脂)(B)を含むものである。前記硬化剤としては、例えばビスフェノール系、フェノールノボラック系、アルキルフェノールノボラック系、ビフェノール系、ナフトール系、レゾルシノール系などのフェノールベースの化合物や、脂肪族、環状脂肪族や不飽和脂肪族などの骨格をベースとしてエポキシ化されたエポキシ樹脂やイソシアネート化合物が挙げられる。   The adhesive 15 with a flux function used in the present invention is an adhesive having a function of cleaning a metal surface, for example, a function of removing an oxide film existing on the metal surface and a function of reducing an oxide film, and is a first preferable. As the composition of the adhesive 15 with a flux function, a resin (A) having a (solid) phenolic hydroxyl group such as a phenol novolac resin having a phenolic hydroxyl group, a cresol novolac resin, an alkylphenol novolak resin, a resole resin, or a polyvinylphenol resin; And a curing agent (resin that acts as a solid curing agent) (B) of the resin. Examples of the curing agent include phenol-based compounds such as bisphenol-based, phenol novolak-based, alkylphenol novolak-based, biphenol-based, naphthol-based, resorcinol-based, and skeletons such as aliphatic, cycloaliphatic and unsaturated aliphatic. Examples thereof include epoxidized epoxy resins and isocyanate compounds.

フェノール性水酸基を有する樹脂の含有量は、特に限定されないが、全接着剤中20〜80重量%が好ましく、特に35〜60重量%が好ましい。含有量が前記下限値未満であると金属表面を清浄化する作用が低下する場合があり、前記上限値を超えると十分な硬化物を得られず、その結果として接合強度と信頼性が低下する場合がある。   Although content of resin which has a phenolic hydroxyl group is not specifically limited, 20 to 80 weight% is preferable in all the adhesive agents, and 35 to 60 weight% is especially preferable. If the content is less than the lower limit, the effect of cleaning the metal surface may be reduced, and if the content exceeds the upper limit, a sufficient cured product cannot be obtained, resulting in a decrease in bonding strength and reliability. There is a case.

また、硬化剤として作用する樹脂或いは化合物の含有量は、特に限定されないが、全接着剤中20〜80重量%が好ましく、特に35〜65重量%が好ましい。フラックス機能付き接着剤15には、必要に応じて着色剤、無機充填材、各種のカップリング剤、溶媒等を添加してもよい。   Further, the content of the resin or compound acting as a curing agent is not particularly limited, but is preferably 20 to 80% by weight, particularly preferably 35 to 65% by weight in the total adhesive. A colorant, an inorganic filler, various coupling agents, a solvent, and the like may be added to the adhesive with flux function 15 as necessary.

第2の好ましいフラックス機能付き接着剤15の構成としては、ビスフェノール系、フェノールノボラック系、アルキルフェノールノボラック系、ビフェノール系、ナフトール系、レゾルシノール系などのフェノールベースや、脂肪族、環状脂肪族や不飽和脂肪族などの骨格をベースとしてエポキシ化されたエポキシ樹脂(C)と、イミダゾール環を有する前記エポキシ樹脂の硬化剤(D)とを含むものである。
前記イミダゾール環を有する硬化剤としては、例えばイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、ビス(2−エチル−4−メチル−イミダゾール)等が挙げられる。
The composition of the second preferable adhesive 15 with a flux function includes phenol bases such as bisphenol, phenol novolac, alkylphenol novolac, biphenol, naphthol, resorcinol, aliphatic, cycloaliphatic and unsaturated fat. An epoxy resin (C) epoxidized based on a skeleton such as a family, and a curing agent (D) of the epoxy resin having an imidazole ring.
Examples of the curing agent having an imidazole ring include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, and 2-phenyl. Examples include -4-methylimidazole and bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole).

前記エポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、全接着剤中30〜99重量%が好ましく、特に40〜90重量%が好ましい。含有量が前記下限値未満であると十分な硬化物が得られない場合があり、前記上限値を超えると脆くなる場合がある。   Although content of the said epoxy resin is not specifically limited, 30 to 99 weight% is preferable in all the adhesive agents, and 40 to 90 weight% is especially preferable. When the content is less than the lower limit value, a sufficient cured product may not be obtained, and when the content exceeds the upper limit value, it may become brittle.

イミダゾール環を有する前記エポキシ樹脂の硬化剤の含有量としては、特に限定されないが、全接着剤中1〜10重量%が好ましく、特に2〜8重量%が好ましい。含有量が前記下限値未満であると金属表面を清浄化する作用が低下し、エポキシ樹脂を十分に硬化できない場合があり、前記上限値を超えると硬化反応が急激に進行し、フラックス機能付き接着剤15の流動性が低下する場合がある。   Although it does not specifically limit as content of the hardening | curing agent of the said epoxy resin which has an imidazole ring, 1 to 10 weight% is preferable in all the adhesive agents, and 2 to 8 weight% is especially preferable. If the content is less than the lower limit, the effect of cleaning the metal surface is reduced, and the epoxy resin may not be cured sufficiently. If the content exceeds the upper limit, the curing reaction proceeds rapidly, and adhesion with a flux function is performed. The fluidity of the agent 15 may decrease.

前記第2の好ましいフラックス機能付き接着剤15の構成は、上記2成分以外に、シアネート樹脂、アクリル酸樹脂、メタクリル酸樹脂、マレイミド樹脂等の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を含有してもよい。さらに、必要に応じて着色剤、無機充填材、各種のカップリング剤、溶媒等を添加してもよい。   The configuration of the second preferable adhesive 15 with a flux function may contain a thermosetting resin or a thermoplastic resin such as a cyanate resin, an acrylic acid resin, a methacrylic acid resin, or a maleimide resin in addition to the two components. . Furthermore, you may add a coloring agent, an inorganic filler, various coupling agents, a solvent, etc. as needed.

フラックス機能付き接着剤15の調整方法は、例えば固形のフェノール性水酸基を有する樹脂(A1)と、固形の硬化剤として作用する樹脂(B1)を溶媒に溶解して調整する方法、固形のフェノール性水酸基を有する樹脂(A1)を液状の硬化剤として作用する樹脂(B2)に溶解して調整する方法、固形の硬化剤として作用する樹脂(B1)を液状のフェノール性水酸基を有する樹脂(A2)に溶解して調整する方法、また固形のエポキシ樹脂(C)を溶媒に溶解した溶液に、イミダゾール環を有する前記エポキシ樹脂の硬化剤(D)を分散もしくは溶解する方法などが挙げられる。使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサン、トルエン、ブチルセロソブル、エチルセロソブル、N−メチルピロリドン、γ−ブチルラクトンなどが挙げられる。好ましくは沸点が200℃以下の溶媒である。   The adjustment method of the adhesive 15 with a flux function is, for example, a method in which a resin (A1) having a solid phenolic hydroxyl group and a resin (B1) acting as a solid curing agent are dissolved in a solvent and adjusted, a solid phenolic A method of dissolving and adjusting a resin (A1) having a hydroxyl group in a resin (B2) that acts as a liquid curing agent, a resin (B1) that acts as a solid curing agent and a resin (A2) having a liquid phenolic hydroxyl group And a method of dispersing or dissolving the curing agent (D) of the epoxy resin having an imidazole ring in a solution in which a solid epoxy resin (C) is dissolved in a solvent. Examples of the solvent to be used include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexane, toluene, butyl cello soble, ethyl cello soluble, N-methyl pyrrolidone, and γ-butyl lactone. A solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower is preferable.

次に、内層回路基板200(第2の基板)について説明する。
内層回路基板200を加工する方法としては、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂を硬化させた絶縁材からなる基材21の片面に銅箔22が付いた片面積層板210を準備する(図2(a))。この際、基材21と銅箔22との間には、導体接続の妨げとなるスミアの発生を防ぐため、銅箔22と基材21とを貼り合わせるための接着剤層は存在しない方が好ましいが、接着剤を使い貼りあわせたものでも問題はない。この基材21の片面にある銅箔22をエッチングにより配線パターン221および導体ポスト14を受けることができる導体パッド222を形成する(図2(b))。
Next, the inner layer circuit board 200 (second board) will be described.
As a method of processing the inner layer circuit board 200, a single area layer board 210 having a copper foil 22 attached to one side of a base material 21 made of an insulating material obtained by curing a resin such as polyimide resin or epoxy resin is prepared (FIG. 2 ( a)). At this time, there is no adhesive layer between the base material 21 and the copper foil 22 for bonding the copper foil 22 and the base material 21 in order to prevent the occurrence of smear that hinders conductor connection. Although it is preferable, there is no problem even if it is bonded using an adhesive. Conductive pads 222 that can receive the wiring pattern 221 and the conductive posts 14 are formed by etching the copper foil 22 on one side of the base material 21 (FIG. 2B).

次いで、基材21側の面から、配線パターン221が露出するまで、基材開口部211を形成する (図2(c))。
この際、レーザー法を用いると開口部を容易に形成することができ、かつ小径もあけることができる。更に、過マンガン酸カリウム水溶液によるウェットデスミア又はプラズマによるドライデスミアなどの方法により、基材開口部211内に残存している樹脂を除去すると、層間接続の信頼性が向上し好ましい。この基材開口部211内に導体ポスト24が基材21の面から突出するまで形成する(図2(e))。
Next, the substrate opening 211 is formed from the surface on the substrate 21 side until the wiring pattern 221 is exposed (FIG. 2C).
At this time, if a laser method is used, the opening can be easily formed and a small diameter can be opened. Furthermore, it is preferable to remove the resin remaining in the base material opening 211 by a method such as wet desmearing with an aqueous potassium permanganate solution or dry desmearing with plasma, because the reliability of interlayer connection is improved. The conductor post 24 is formed in the base material opening 211 until it protrudes from the surface of the base material 21 (FIG. 2E).

導体ポスト24の形成方法としては、ペースト又はメッキ法などで、銅ポスト241を形成(図2(d))し、金属又は合金にて被覆層242を形成する(図2(e))。銅ポスト241の高さとしては、特に限定されないが、基材21表面から高さ2〜30μmが好ましく、特に5〜20μmが好ましい。前記金属としては、錫からなることが好ましい。合金としては錫、鉛、銀、亜鉛、ビスマス、アンチモン、銅から選ばれた少なくとも2種類以上の金属で構成される半田であることが好ましい。例えば錫−鉛系、錫−銀系、錫−亜鉛系、錫−ビスマス系、錫−アンチモン、錫−銀−ビスマス系、錫−銅系等があるが、半田の金属組合せや組成に限定されず、最適なものを選択すればよい。厚さは、特に限定されないが、2μm以上が好ましく、特に5〜20μmが好ましい(図2(e))。厚さが前記下限値未満であると層間の接続の信頼性が低下する場合があり、前記上限値を超えると導体ポストの高さバラツキが大きくなり層間の接続信頼性が低下する場合がある。   As a method for forming the conductor post 24, a copper post 241 is formed by a paste or plating method (FIG. 2D), and a coating layer 242 is formed of a metal or an alloy (FIG. 2E). Although it does not specifically limit as a height of the copper post 241, 2-30 micrometers in height from the base material 21 surface is preferable, and 5-20 micrometers is especially preferable. The metal is preferably made of tin. The alloy is preferably a solder composed of at least two kinds of metals selected from tin, lead, silver, zinc, bismuth, antimony, and copper. Examples include tin-lead, tin-silver, tin-zinc, tin-bismuth, tin-antimony, tin-silver-bismuth, and tin-copper, but are limited to solder metal combinations and compositions. What is necessary is just to select an optimal thing. The thickness is not particularly limited, but is preferably 2 μm or more, and particularly preferably 5 to 20 μm (FIG. 2 (e)). If the thickness is less than the lower limit value, the connection reliability between the layers may be reduced, and if the thickness exceeds the upper limit value, the height of the conductor post may vary and the connection reliability between the layers may be reduced.

次いで、多層積層部分にフラックス機能付き接着剤25(図2(f))層を形成する。このフラックス機能付き接着剤25層は、印刷法により基材21にフラックス機能付き接着剤25を塗布する方法等があるが、シート状になったフラックス機能付き接着剤25を基材21にラミネートする方法により形成してもよい。これらの製法により内層回路基板200を得る(図2(f))。
フラックス機能付き接着剤25は、前述したフラックス機能付き接着剤15と同じものを用いることができる。
Next, an adhesive 25 with flux function (FIG. 2 (f)) layer is formed on the multilayer laminated portion. The adhesive layer 25 with the flux function includes a method of applying the adhesive agent 25 with the flux function to the base material 21 by a printing method, and the like. It may be formed by a method. The inner layer circuit board 200 is obtained by these manufacturing methods (FIG. 2 (f)).
As the adhesive 25 with a flux function, the same adhesive as the adhesive 15 with a flux function described above can be used.

次に、コアとなる回路基板300(第1の基板)について説明する。
コアとなる回路基板300を加工する方法としては、例えばポリイミド等のフレキシブル配線板に用いられる耐熱性の樹脂フィルム31の両面に銅箔32が形成されている両面板310を準備する(図3(a))。両面板310は、フレキシブル部の素材となる。すなわち、可とう性を有している。したがって、銅箔32と樹脂フィルム31との間には、屈曲性・折り曲げ性を高めるために接着剤層は存在しない方が好ましいが存在しても構わない。
Next, the circuit board 300 (first board) serving as a core will be described.
As a method of processing the circuit board 300 serving as a core, for example, a double-sided board 310 in which copper foils 32 are formed on both sides of a heat-resistant resin film 31 used for a flexible wiring board such as polyimide is prepared (FIG. 3 ( a)). The double-sided board 310 is a material for the flexible part. That is, it has flexibility. Therefore, it is preferable that an adhesive layer is not present between the copper foil 32 and the resin film 31 in order to improve the flexibility and bendability.

この両面板310にスルーホール33を形成した後、メッキにて表裏の電気的導通を形成した後(図3(b))、エッチングにより、配線パターン(第1の導体回路)321、および導体ポスト24を受けることができる導体パッド322を形成する(図3(c))。   After the through hole 33 is formed in the double-sided plate 310, the front and back electrical continuity is formed by plating (FIG. 3B), and then the wiring pattern (first conductor circuit) 321 and the conductor post are etched. 24 is formed (FIG. 3C).

次いで、配線パターン321の一部を覆うようにポリイミド等で構成される被覆層34を施し、コアとなる回路基板300を得る(図3(d))。これにより、被覆部35と、露出部36とが境界部50で分けることができる。この被覆部35は、多層基板のフレキシブル部を形成するものである。
被覆層34を形成する方法としては、例えば樹脂層と接着層との2層構成である接着剤付きのフィルムをプレスで貼り付ける、インクを印刷する等の方法を挙げることができる。
Next, a coating layer 34 made of polyimide or the like is applied so as to cover a part of the wiring pattern 321 to obtain a circuit board 300 serving as a core (FIG. 3D). Thereby, the covering portion 35 and the exposed portion 36 can be separated at the boundary portion 50. The covering portion 35 forms a flexible portion of the multilayer substrate.
Examples of the method for forming the coating layer 34 include a method of attaching a film with an adhesive having a two-layer structure of a resin layer and an adhesive layer by pressing, or printing an ink.

被覆層34は、特に限定されないが、樹脂層と、接着層との2層で構成されていることが好ましい。
前記樹脂層を構成する材料としては、例えばポリエステル系樹脂、ポリイミド、液晶ポリマー等が挙げられる。これらの中でもポリイミドが好ましい。これにより、耐熱性と屈曲性を向上することができる。
Although the coating layer 34 is not specifically limited, It is preferable to be comprised by two layers, the resin layer and the contact bonding layer.
Examples of the material constituting the resin layer include polyester resins, polyimides, and liquid crystal polymers. Among these, polyimide is preferable. Thereby, heat resistance and flexibility can be improved.

前記樹脂層の厚さは、特に限定されないが、5〜50μmであることが好ましく、特に10〜30μmが好ましい。厚さが前記下限値未満であると樹脂層の強度が低下する場合があり、前記上限値を超えると摺動性や屈曲性が低下する場合がある。   Although the thickness of the said resin layer is not specifically limited, It is preferable that it is 5-50 micrometers, and 10-30 micrometers is especially preferable. If the thickness is less than the lower limit value, the strength of the resin layer may be reduced, and if the thickness exceeds the upper limit value, slidability and flexibility may be reduced.

前記接着層を構成する材料としては、例えばアクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリイミド系接着剤等が挙げられる。これらの中でもエポキシ系接着剤が好ましい。これにより、耐熱性と屈曲性を向上することができる。   Examples of the material constituting the adhesive layer include an acrylic adhesive, an epoxy adhesive, and a polyimide adhesive. Among these, an epoxy adhesive is preferable. Thereby, heat resistance and flexibility can be improved.

前記接着層の厚さは、特に限定されないが、5〜40μmであることが好ましく、特に10〜30μmが好ましい。厚さが前記下限値未満であると回路の埋め込みが不十分となる場合があり、前記上限値を超えると接着剤シミ出し量が増加したり、多層プリント配線板では層間接続信頼性が低下したりする場合がある。   Although the thickness of the said adhesive layer is not specifically limited, It is preferable that it is 5-40 micrometers, and 10-30 micrometers is especially preferable. If the thickness is less than the lower limit value, circuit embedding may be insufficient, and if the thickness exceeds the upper limit value, the amount of adhesive stains increases, and the interlayer connection reliability decreases in the multilayer printed wiring board. Sometimes.

被覆層34の厚さ(前記樹脂層と前記接着層の合計)は、特に限定されないが、15〜60μmであることが好ましく、特に25〜50μmが好ましい。厚さが前記下限値未満であると密着性が低下する場合があり、前記上限値を超えると屈曲性が低下する場合がある。   The thickness of the coating layer 34 (the total of the resin layer and the adhesive layer) is not particularly limited, but is preferably 15 to 60 μm, and particularly preferably 25 to 50 μm. When the thickness is less than the lower limit value, the adhesion may be lowered, and when the thickness exceeds the upper limit value, the flexibility may be lowered.

コアとなる回路基板300(第1の基板)は、特に限定されないが、可とう性を有することが好ましい。これにより、多層基板のフレキシブル性を向上することができる。
前記コアとなる回路基板300(第1の基板)の弾性率は、特に限定されないが、1.0〜10MPaが好ましく、特に2.0〜9.0MPaが好ましい。弾性率が前記範囲内であると、特に屈曲性に優れる。
前記弾性率は、例えばASTM D882に準じて測定することができる。
The circuit board 300 (first board) serving as the core is not particularly limited, but preferably has flexibility. Thereby, the flexibility of a multilayer substrate can be improved.
The elastic modulus of the circuit board 300 (first substrate) serving as the core is not particularly limited, but is preferably 1.0 to 10 MPa, and particularly preferably 2.0 to 9.0 MPa. When the elastic modulus is within the above range, the flexibility is particularly excellent.
The elastic modulus can be measured, for example, according to ASTM D882.

次に、6層のフレキシブル配線板400について説明する。
コアとなる回路基板300の露出部36と隣接するように、回路基板300の両面(図4(a)中上下)から内層回路基板200を積層する。
次に、内層回路基板200に隣接するように両面(図4(b)中上下)から外層回路基板100を積層する。
この際、外層回路基板100の端部は、被覆部35(被覆層34)と、内層回路基板200との境界部50を超えて被覆部35側に突出させる。これにより、複数の基板を積層することにより生じる厚さのバラツキを低減することができる。さらに基板の表面に設けられた被覆層34の剥離を防止することができる。
Next, the six-layer flexible wiring board 400 will be described.
The inner circuit board 200 is stacked from both surfaces (upper and lower in FIG. 4A) of the circuit board 300 so as to be adjacent to the exposed portion 36 of the circuit board 300 serving as a core.
Next, the outer circuit board 100 is laminated from both sides (upper and lower in FIG. 4B) so as to be adjacent to the inner circuit board 200.
At this time, the end portion of the outer layer circuit board 100 protrudes toward the covering portion 35 beyond the boundary portion 50 between the covering portion 35 (covering layer 34) and the inner layer circuit board 200. Thereby, variation in thickness caused by stacking a plurality of substrates can be reduced. Furthermore, peeling of the coating layer 34 provided on the surface of the substrate can be prevented.

前記突出している部分の長さは、特に限定されないが、境界部50から被覆層34(被覆部35)側に0.3mm以上であることが好ましく、特に0.5〜1.0mmが好ましい。長さが前記下限値未満であると被覆層34の剥離を防止する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えてもこれ以上の効果の向上を望めない。   The length of the protruding portion is not particularly limited, but is preferably 0.3 mm or more from the boundary portion 50 toward the coating layer 34 (covering portion 35), and particularly preferably 0.5 to 1.0 mm. If the length is less than the lower limit value, the effect of preventing peeling of the coating layer 34 may be reduced, and even if the length exceeds the upper limit value, further improvement in the effect cannot be expected.

そして、得られた積層体を加熱、加圧して6層のフレキシブル配線板400を得る。
6層のフレキシブル配線板400は、可とう性を有するフレキシブル部401と、剛直なリジッド部402とを有しているリジッドフレックスプリント配線板となる。
前記加熱条件は、特に限定されないが、220〜270℃、0.005〜0.1MPaで10〜120秒間が好ましく、特に230〜260℃、0.01〜0.05MPaで20〜40秒間が好ましい。前記範囲内であると、特に接着剤のしみ出し抑制に優れる。
And the obtained laminated body is heated and pressurized to obtain a six-layer flexible wiring board 400.
The six-layer flexible wiring board 400 is a rigid flex printed wiring board having a flexible portion 401 having flexibility and a rigid portion 402 that is rigid.
The heating condition is not particularly limited, but is preferably 220 to 270 ° C. and 0.005 to 0.1 MPa for 10 to 120 seconds, particularly preferably 230 to 260 ° C. and 0.01 to 0.05 MPa for 20 to 40 seconds. . When it is within the above range, it is particularly excellent in suppressing bleeding of the adhesive.

上述のような条件で得られた6層のフレキシブル配線板400は、導体ポストと、導体パッドとの接続部では半田フィレットを形成するので、信頼性に特に優れる。   The six-layer flexible wiring board 400 obtained under the above-described conditions is particularly excellent in reliability because a solder fillet is formed at the connection portion between the conductor post and the conductor pad.

以下、本発明を実施例および比較例に基づいて説明するが、本発明はこれに限定されない。
(実施例1)
1.第1の基板(コアとなる回路基板)の製造
銅箔(厚さ12μm)がポリイミドフィルム(厚さ25μm)の両面に設けられた両面板(三井化学製 NEX23FE(25T))を、ドリルによって穴開けした後、ダイレクトメッキし、電解銅メッキによりスルーホールを形成し、表裏の電気的導通を形成した。その後、エッチングにより、配線パターンおよび導体ポストを受けることができる導体パッドを形成した。
次に、フレキシブル部に相当する部分の配線パターンに、ポリイミド樹脂フィルム(鐘淵化学工業製 アピカルNPI、厚さ12.5μm)の片面に、厚さ25μmの熱硬化性接着剤(CZA0525 有沢製作所製)により表面被覆層を形成して、第1の基板を得た。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to this.
(Example 1)
1. Manufacture of the first substrate (circuit board as a core) A double-sided plate (Mitsui Chemical's NEX23FE (25T)) provided with copper foil (thickness 12 μm) on both sides of a polyimide film (thickness 25 μm) is drilled with a drill. After opening, direct plating was performed, and through holes were formed by electrolytic copper plating to form electrical conduction on the front and back sides. Thereafter, a conductor pad capable of receiving the wiring pattern and the conductor post was formed by etching.
Next, a thermosetting adhesive (CZA0525 manufactured by Arisawa Manufacturing Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm on one side of a polyimide resin film (Apical NPI, manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd., thickness: 12.5 μm) is formed on the wiring pattern corresponding to the flexible part. ) To form a surface coating layer to obtain a first substrate.

2.第2の基板(内層回路基板)の製造
シアネート樹脂を硬化させた絶縁材で構成される基材(厚さ55μm)の片面に銅箔(厚さ12μm)が設けられた片面積層板(住友ベークライト製 スミライト LαZ CLBu)の銅箔をエッチングし、配線パターンと外層回路基板の導体ポストを受ける導体パッドを形成した。
次に、基材側の面から、UVレーザーにより100μm径の基材開口部を形成し、過マンガン酸カリウム水溶液によるデスミアを施した。この基材開口部内に電解銅メッキを施し、銅箔のある反対面側の基材表面より高さ10μmの銅ポストを形成した後、半田メッキ(錫−2.5銀)を厚さ10μmで施し、導体ポストを形成した。
次に、熱硬化性のフラックス機能付き接着剤シート(住友ベークライト製 DBF、層間接着シート、厚さ30μm)を、導体ポストを覆うように真空ラミネートでラミネートして、第2の基板を得た。
2. Manufacture of second substrate (inner layer circuit board) Single area layer board (Sumitomo Bakelite) provided with copper foil (thickness 12 μm) on one side of base material (thickness 55 μm) made of an insulating material obtained by curing cyanate resin The copper foil of Sumilite LαZ CLBu) was etched to form a conductor pad for receiving the wiring pattern and the conductor post of the outer circuit board.
Next, a substrate opening having a diameter of 100 μm was formed from the surface on the substrate side by a UV laser, and desmearing with an aqueous potassium permanganate solution was performed. Electrolytic copper plating is applied to the opening of the base material to form a copper post having a height of 10 μm from the surface of the base material on the opposite side with the copper foil, and then solder plating (tin-2.5 silver) is formed at a thickness of 10 μm. To form a conductor post.
Next, a thermosetting adhesive sheet with a flux function (DBF manufactured by Sumitomo Bakelite, interlayer adhesive sheet, thickness 30 μm) was laminated by vacuum lamination so as to cover the conductor post, thereby obtaining a second substrate.

3.第3の基板(外層回路基板)の製造
シアネート樹脂を硬化させた絶縁材で構成される基材(厚さ55μm)の片面に銅箔(厚さ12μm)が設けられた片面積層板(住友ベークライト製 スミライト LαZ CLBu)の銅箔をエッチングし、配線パターンを形成し、液状レジスト(日立化成製 SR9000W)を印刷して表面被覆層を形成し、露光、現像することにより開口部を形成した。
次に、基材側の面から、UVレーザーにより100μm径の基材開口部を形成し、過マンガン酸カリウム水溶液によるデスミアを施した。この基材開口部内に電解銅メッキを施して、銅箔と反対面側の基材表面より高さ10μmの銅ポストを形成した。この銅ポストに半田メッキ(錫−2.5銀)を厚さ15μmで施し、導体ポストを形成した。そして、表面被覆層開口部に表面処理として金メッキを施した。
次に、熱硬化性のフラックス機能付き接着剤シート(住友ベークライト製 DBF、層間接着シート、厚さ25μm)を、導体ポストを覆うように真空ラミネートでラミネートして、第3の基板を得た。
3. Manufacture of third substrate (outer circuit board) Single area layer board (Sumitomo Bakelite) provided with copper foil (thickness 12 μm) on one side of base material (thickness 55 μm) made of insulating material obtained by curing cyanate resin A copper foil of Sumilite LαZ CLBu) was etched, a wiring pattern was formed, a liquid resist (SR9000W, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was printed to form a surface coating layer, and an opening was formed by exposure and development.
Next, a substrate opening having a diameter of 100 μm was formed from the surface on the substrate side by a UV laser, and desmearing with an aqueous potassium permanganate solution was performed. Electrolytic copper plating was performed in the opening of the base material to form a copper post having a height of 10 μm from the surface of the base material opposite to the copper foil. Solder plating (tin-2.5 silver) was applied to the copper post with a thickness of 15 μm to form a conductor post. And the gold plating was given as surface treatment to the surface coating layer opening part.
Next, a thermosetting adhesive sheet with a flux function (DBF manufactured by Sumitomo Bakelite, interlayer adhesive sheet, thickness 25 μm) was laminated by vacuum lamination so as to cover the conductor post, to obtain a third substrate.

4.6層のフレキシブル配線板の製造
第1の基板の上下面の露出部(被覆層が設けられていない部分)に、第2の基板を積層し、第1の基板と第2の基板との境界部を覆うように第2の回路基板に隣接して第3の基板を積層した。その後、スポットヒーター250℃にて部分的に位置決めのため仮接着した。ここで、第3の基板は、前記境界部から第1の基板の被覆層側に1.0mm突出していた。
次に、真空式プレスにて150℃、0.5MPa、60秒で加熱、加圧し、導体ポストを導体パッドに接するまで成形し、導体パッドがある第1の基板の回路を成形埋め込みした。そして、油圧式プレスで260℃、0.01MPaで60秒間プレスし、フラックス機能付き接着剤層を介して、導体ポストが、第2の基板の導体パッドと第1の基板の導体パッドと半田熔融接合し、半田接合および半田フィレットを形成させて、層間を接合した。さらに、フラックス機能付き接着剤を硬化させるため温度180℃、60分間加熱し、6層のフレキシブル配線板を得た。
4.6 Manufacture of Flexible Wiring Board with Six Layers A second substrate is laminated on exposed portions (portions where no coating layer is provided) on the upper and lower surfaces of the first substrate, and the first substrate, the second substrate, A third substrate was laminated adjacent to the second circuit board so as to cover the boundary. Thereafter, partial bonding was performed for partial positioning at a spot heater at 250 ° C. Here, the third substrate protruded 1.0 mm from the boundary portion toward the coating layer side of the first substrate.
Next, heating and pressing were performed at 150 ° C. and 0.5 MPa for 60 seconds with a vacuum press, and the conductor post was molded until it contacted the conductor pad, and the circuit of the first substrate with the conductor pad was molded and embedded. Then, it is pressed at 260 ° C. and 0.01 MPa for 60 seconds with a hydraulic press, and the conductor post is soldered between the conductor pad of the second substrate and the conductor pad of the first substrate via the adhesive layer with a flux function. The layers were joined to form a solder joint and a solder fillet to join the layers. Furthermore, in order to harden the adhesive agent with a flux function, it heated at 180 degreeC and 60 minutes, and obtained the flexible wiring board of 6 layers.

(実施例2)
第3の基板を、第1の基板の被覆層と第2の基板との境界部から0.3mm突出させた以外は実施例1と同様にした。
(Example 2)
Example 3 was the same as Example 1 except that the third substrate protruded 0.3 mm from the boundary between the coating layer of the first substrate and the second substrate.

(比較例1)
第3の基板を、第1の基板の被覆層と第2の基板との境界部から突出することなく積層した以外は、実施例1と同様にした。
(Comparative Example 1)
Example 3 was the same as Example 1 except that the third substrate was laminated without protruding from the boundary portion between the coating layer of the first substrate and the second substrate.

各実施例および比較例で得られた6層のフレキシブル配線板について、以下の評価を行なった。評価項目を内容と共に示す。得られた結果を表1に示す。
1.厚さのバラツキ
フレキシブル配線板の厚さのばらつきは、表面粗さ計にて評価した。各符号は、以下の通りである。
◎:厚さのバラツキ3μm未満
○:厚さのバラツキ3〜10μm未満
△:厚さのバラツキ10〜20μm未満
×:厚さのバラツキ20μm以上
The following evaluation was performed about the 6-layer flexible wiring board obtained by each Example and the comparative example. The evaluation items are shown together with the contents. The obtained results are shown in Table 1.
1. Thickness variation The variation in the thickness of the flexible wiring board was evaluated with a surface roughness meter. Each code is as follows.
◎: Thickness variation less than 3 μm ○: Thickness variation 3 to less than 10 μm Δ: Thickness variation 10 to less than 20 μm ×: Thickness variation 20 μm or more

2.層間の剥離
層間の剥離は、顕微鏡で該当部を観察し、剥離の有無を評価した。
2. Interlayer delamination Interlayer delamination was observed with a microscope to evaluate the presence or absence of delamination.

3.屈曲性
屈曲性は、ヒンジ評価用開閉試験機で評価した。各符号は、以下の通りである。
○:50,000回以上でも抵抗の上昇および断線無し
×:50,000回未満で抵抗の上昇および断線有り
3. Flexibility Flexibility was evaluated with an open / close testing machine for hinge evaluation. Each code is as follows.
○: No increase in resistance and disconnection even after 50,000 times or more ×: Increase in resistance and disconnection after less than 50,000 times

4.接続信頼性
接続信頼性は、温度サイクル試験(ホットオイル260℃、5秒浸漬と常温オイル20秒浸漬の繰り返し100回)を行った後に、テスターで導通チェックを実施し評価した。
4). Connection reliability Connection reliability was evaluated by conducting a continuity check with a tester after performing a temperature cycle test (hot oil 260 ° C., immersion for 5 seconds and immersion for 20 seconds at room temperature oil 100 times).

Figure 2005277011
Figure 2005277011

表1から明らかなように実施例1および2は、厚さのバラツキが小さく、層間の剥離も無かった。
また、実施例1および2は、屈曲性および接続信頼性にも優れていた。
また、実施例1および2で得られた6層のフレキシブル配線板は、層間接続部が確実に半田接合されており、かつ半田フィレットが形成されていた。
As is clear from Table 1, Examples 1 and 2 had small thickness variations and no delamination between layers.
In addition, Examples 1 and 2 were excellent in flexibility and connection reliability.
In addition, in the six-layer flexible wiring board obtained in Examples 1 and 2, the interlayer connection portion was securely soldered and a solder fillet was formed.

本発明は、プリント配線板、フレキシブルプリント配線板、多層フレキシブルプリント配線板等に用いることができ、特に電子機器の部品として用いられる多層フレキシブルプリント配線板および、それらを構成するプリント配線板ならび、それらの製造方法に好適に用いられる。   The present invention can be used for a printed wiring board, a flexible printed wiring board, a multilayer flexible printed wiring board, and the like, and in particular, a multilayer flexible printed wiring board used as a component of an electronic device, a printed wiring board constituting them, and those It is used suitably for the manufacturing method.

第3の基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of a 3rd board | substrate. 第2の基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of a 2nd board | substrate. 第1の基板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of a 1st board | substrate. 6層のフレキシブル配線板の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of a 6-layer flexible wiring board.

符号の説明Explanation of symbols

11 基材
110 片面積層板
111 基材開口部
12 銅箔
121 配線パターン
13 表面被覆層
131 表面被覆層開口部
132 表面処理層
14 導体ポスト
141 銅ポスト
142 被覆層
15 フラックス機能付き接着剤
100 外層回路基板
21 基材
210 片面積層板
211 基材開口部
22 銅箔
221 配線パターン
222 導体パッド
23 表面被覆層
231 表面被覆層開口部
232 表面処理
24 導体ポスト
241 銅ポスト
242 被覆層
25 フラックス機能付き接着剤
200 内層回路基板
31 樹脂フィルム
32 銅箔
310 両面板
321 配線パターン
322 導体パッド
33 スルーホール
34 被覆層
35 被覆部
36 露出部
300 回路基板
50 境界部
400 6層のフレキシブル配線板
401 フレキシブル部
402 リジッド部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Base material 110 Single area layer board 111 Base material opening part 12 Copper foil 121 Wiring pattern 13 Surface coating layer 131 Surface coating layer opening part 132 Surface treatment layer 14 Conductor post 141 Copper post 142 Covering layer 15 Adhesive with a flux function 100 Outer layer circuit Substrate 21 Base material 210 Single area layer plate 211 Base material opening 22 Copper foil 221 Wiring pattern 222 Conductor pad 23 Surface coating layer 231 Surface coating layer opening 232 Surface treatment 24 Conductor post 241 Copper post 242 Coating layer 25 Adhesive with flux function DESCRIPTION OF SYMBOLS 200 Inner layer circuit board 31 Resin film 32 Copper foil 310 Double-sided board 321 Wiring pattern 322 Conductor pad 33 Through hole 34 Covering layer 35 Covering part 36 Exposed part 300 Circuit board 50 Boundary part 400 Six-layer flexible wiring board 401 Flexible part 02 rigid portion

Claims (6)

第1の導体回路と、該第1の導体回路の一部を覆っている被覆層とを有する第1の基板と、
前記第1の基板の前記被覆層で覆われていない部分に隣接する第2の基板と、
前記第2の基板に隣接する第3の基板とを有する多層基板であって、
前記第3の基板の端部は、前記被覆層と前記第2の基板との境界部を超えて前記被覆層側に突出していることを特徴とする多層基板。
A first substrate having a first conductor circuit and a covering layer covering a part of the first conductor circuit;
A second substrate adjacent to a portion of the first substrate not covered by the coating layer;
A multilayer substrate having a third substrate adjacent to the second substrate,
An end portion of the third substrate protrudes beyond the boundary portion between the coating layer and the second substrate toward the coating layer side.
前記突出している部分の長さは、前記境界部から前記被覆層側に0.3mm以上である請求項1に記載の多層基板。   2. The multilayer substrate according to claim 1, wherein a length of the protruding portion is 0.3 mm or more from the boundary portion to the coating layer side. 前記被覆層の厚さは、15〜60μmである請求項1または2に記載の多層基板。   The multilayer substrate according to claim 1, wherein the coating layer has a thickness of 15 to 60 μm. 前記被覆層は、樹脂フィルムと、接着層とを有するものである請求項1ないし3のいずれかに記載の多層基板。   The multilayer substrate according to claim 1, wherein the coating layer has a resin film and an adhesive layer. 前記第1の基板は、可とう性を有するものである請求項1ないし4のいずれかに記載の多層基板。   The multilayer substrate according to claim 1, wherein the first substrate has flexibility. 第1の導体回路を有する第1の基板の前記第1の導体回路の一部を被覆層で覆う第1の工程と、
前記第1の基板の前記被覆層で覆われていない部分に第2の基板を隣接して積層する第2の工程と、
さらに前記第2の基板に隣接して第3の基板を積層する第3の工程とを有する多層基板の製造方法であって、
前記第3の工程で、前記第3の基板の端部を、前記被覆層と前記第2の基板との境界部を超えて前記被覆層側に突出して積層することを特徴とする多層基板の製造方法。
A first step of covering a part of the first conductor circuit of the first substrate having the first conductor circuit with a coating layer;
A second step of laminating a second substrate adjacent to a portion of the first substrate that is not covered with the covering layer;
And a third step of stacking a third substrate adjacent to the second substrate.
In the third step, the end portion of the third substrate protrudes toward the coating layer beyond the boundary between the coating layer and the second substrate and is laminated. Production method.
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