JP2005255630A - Ethyl trans-4-amino-1-cyclohexanecarboxylate salt and method for producing the same - Google Patents

Ethyl trans-4-amino-1-cyclohexanecarboxylate salt and method for producing the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ethyl trans-4-amino-1-cyclohexanecarboxylate salt, and to provide a method for producing the same. <P>SOLUTION: This method for producing the hydrochloride of a compound represented by formula (I) (Et is ethyl) is characterized by treating the compound represented by formula (I) in ethanol containing dissolved hydrogen chloride, concentrating the treated solution, adding toluene, and crystallizing the hydrogen chloride of the compound. Further, the methanesulfonate, p-toluenesulfonate, sulfate, acetate and formate of the compound (I) are provided. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明はトランス−4−アミノ−1−シクロヘキサンカルボン酸エチルエステル(以下、当該トランス体を化合物(I)とすることもある)の塩およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a salt of trans-4-amino-1-cyclohexanecarboxylic acid ethyl ester (hereinafter, the trans isomer may be referred to as compound (I)) and a method for producing the same.

トランス−4−アミノ−1−シクロヘキサンカルボン酸またはそのエステル体は医薬品合成原料または中間体として有用な化合物である。
特許文献1には、4−アミノ−1−シクロヘキサンカルボン酸(シス体およびトランス体の混合物)を原料とし、メチルエステル体(シス体およびトランス体の混合物)の塩酸塩を経由してNPYY5受容体拮抗活性を有する化合物を合成する方法が開示されている。
特許文献2には、シス−4−アミノ−1−シクロヘキサンカルボン酸を原料とし、シス−メチルエステル体の塩酸塩およびトランス−メチルエステル体のp−トルエンスルホン酸塩を経由してNPYY5受容体拮抗活性を有する化合物を合成する方法が開示されている。
これらの方法はいずれも原料としてシス体・トランス体の混合物またはシス体を用いているため、目的物がトランス体である場合にはトランス体への変換工程が必要であった。従って、工程数が長くなる、トランス体への変換工程を実施してもシス体を完全に除去することはできない、高温反応を必要とする、等の問題を有していた。
特許文献3および特許文献4には、ジペプチジルペプチダーゼIV阻害剤が開示されているが、その中間体として化合物(I)の塩酸塩が開示されている。
非特許文献1には、化合物(I)の塩酸塩およびその製造方法が開示されている。この方法ではベンゼンおよびジエチルエーテル等の有機溶媒が使用されているが、これらの溶媒は毒性面および安全面から医薬品の大量合成法として用いるには問題があった。
非特許文献2、非特許文献3、非特許文献4および非特許文献5にも同様に化合物(I)の塩酸塩が開示されている。
また、非特許文献6には、臭酸およびジメチルエーテルを用い、4−アミノ−1−シクロヘキサンカルボン酸エチルエステル体(シス体およびトランス体の混合物)からその臭酸塩を得る方法が開示されている。
国際公開第WO01/37826号パンフレット 国際公開第WO2003/076374号パンフレット 国際公開第WO2002/030890号パンフレット 国際公開第WO2002/030890号パンフレット Journal of Medicinal Chemistry、1971年、第14巻、第7号、第600−614頁 Chemija、1997年、第1巻、第74−82頁 Kangshengsu、1987年、第12巻、第3号、第195−205頁 Izvestiya Akademii Nauk SSSR, Seriya Khimicheskaya、1977年、第1巻、第195−7頁 Journal of Organic Chemistry、1964年、第29巻、第9号、第2585−2587頁 Ber.、1963年、第96巻、第9号、第2377−86頁
Trans-4-amino-1-cyclohexanecarboxylic acid or an ester thereof is a useful compound as a raw material for pharmaceutical synthesis or an intermediate.
Patent Document 1 discloses that an NPYY5 receptor is obtained from 4-amino-1-cyclohexanecarboxylic acid (a mixture of a cis isomer and a trans isomer) as a raw material and via a hydrochloride of a methyl ester isomer (a mixture of cis isomer and trans isomer). A method for synthesizing compounds having antagonistic activity is disclosed.
Patent Document 2 discloses NPYY5 receptor antagonism using cis-4-amino-1-cyclohexanecarboxylic acid as a raw material and via cis-methyl ester hydrochloride and trans-methyl ester p-toluenesulfonate. A method for synthesizing compounds having activity is disclosed.
Since all of these methods use a mixture of a cis isomer / trans isomer or a cis isomer as a raw material, a conversion step into a trans isomer is necessary when the target product is a trans isomer. Therefore, there are problems such as an increase in the number of steps, a cis isomer cannot be completely removed even if a step of converting to a trans isomer is performed, and a high temperature reaction is required.
Patent Document 3 and Patent Document 4 disclose dipeptidyl peptidase IV inhibitors, and the hydrochloride of compound (I) is disclosed as an intermediate.
Non-Patent Document 1 discloses a hydrochloride of compound (I) and a method for producing the hydrochloride. In this method, organic solvents such as benzene and diethyl ether are used. However, these solvents have a problem in use as a large-scale method for synthesizing pharmaceuticals in terms of toxicity and safety.
Non-patent document 2, Non-patent document 3, Non-patent document 4 and Non-patent document 5 similarly disclose the hydrochloride of compound (I).
Non-Patent Document 6 discloses a method of obtaining odorous acid salt from 4-amino-1-cyclohexanecarboxylic acid ethyl ester (mixture of cis and trans isomers) using odorous acid and dimethyl ether. .
International Publication No. WO01 / 37826 Pamphlet International Publication No. WO2003 / 076374 Pamphlet International Publication No. WO2002 / 030890 Pamphlet International Publication No. WO2002 / 030890 Pamphlet Journal of Medicinal Chemistry, 1971, Vol. 14, No. 7, pp. 600-614. Chemija, 1997, Volume 1, pp. 74-82. Kangshengsu, 1987, Vol. 12, No. 3, pp. 195-205 Izvestiya Akademii Nauk SSSR, Seriya Khimiceskaya, 1977, Vol. 1, pages 195-7 Journal of Organic Chemistry, 1964, Vol. 29, No. 9, pp. 2585-2587 Ber. 1963, Vol. 96, No. 9, pp. 2377-86

本発明の目的は、医薬品の合成原料または中間体として有用な化合物(I)の新規な塩、および工業的に利用可能な化合物(I)の塩の製造法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a novel salt of compound (I) useful as a synthetic raw material or intermediate for pharmaceuticals, and a process for producing a salt of compound (I) that can be used industrially.

本発明は、
(1)塩化水素を溶解させた有機溶媒中で式(I):

Figure 2005255630
(式中、Etはエチル)
で示される化合物を処理することを特徴とする、式(I)記載の化合物の塩酸塩の製造方法、
(2)塩化水素を溶解させたエタノール中で式(I):
Figure 2005255630
(式中、Etはエチル)
で示される化合物を処理し、濃縮した後にトルエンを添加することを特徴とする、式(I)記載の化合物の塩酸塩の製造方法、
(3)以下の工程
(工程1)式(I):
Figure 2005255630
(式中、Etはエチル)で示される化合物の塩および式(II):
Figure 2005255630
(式中、R1は低級アルキル)で示される化合物を反応させる工程、
(工程2)得られた化合物を酸化する工程、および
(工程3)得られた化合物を加水分解する工程
を含むことを特徴とする、式(V)
Figure 2005255630
(式中、R1は低級アルキル)で示される化合物の製造方法、
(4)式(I)で示される化合物の塩が塩酸塩である、上記(3)記載の製造方法、
および
(5)式(I):
Figure 2005255630
(式中、Etはエチル)で示される化合物のメタンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、硫酸塩、酢酸塩またはギ酸塩
を提供する。
また、
(6)上記方法により得られた化合物(V)に、式(VI):
R2NH−Z (VI)
(式中、R2は水素または低級アルキル;Zは置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよい炭化水素環式基または置換基を有していてもよいヘテロ環式基)
で示される化合物を反応させる工程を包含する、式(VII):
Figure 2005255630
(式中、各記号は前記と同意義)
で示される化合物の製造方法を提供する。 The present invention
(1) Formula (I) in an organic solvent in which hydrogen chloride is dissolved:
Figure 2005255630
(In the formula, Et is ethyl)
A process for producing a hydrochloride salt of the compound of formula (I), characterized in that the compound represented by formula (I) is treated:
(2) Formula (I) in ethanol in which hydrogen chloride is dissolved:
Figure 2005255630
(In the formula, Et is ethyl)
A method for producing a hydrochloride salt of a compound according to formula (I), wherein the compound represented by formula (I) is treated and concentrated, and then toluene is added.
(3) The following steps (Step 1) Formula (I):
Figure 2005255630
(Wherein Et is ethyl) and a salt of the compound represented by formula (II):
Figure 2005255630
A step of reacting a compound represented by the formula (wherein R 1 is lower alkyl):
(Step 2) comprising the step of oxidizing the obtained compound, and (Step 3) the step of hydrolyzing the obtained compound.
Figure 2005255630
(Wherein R 1 is lower alkyl),
(4) The production method according to the above (3), wherein the salt of the compound represented by the formula (I) is hydrochloride.
And (5) Formula (I):
Figure 2005255630
A methanesulfonate, p-toluenesulfonate, sulfate, acetate or formate salt of a compound represented by the formula (wherein Et is ethyl) is provided.
Also,
(6) To the compound (V) obtained by the above method, formula (VI):
R2NH-Z (VI)
(In the formula, R2 is hydrogen or lower alkyl; Z is lower alkyl which may have a substituent, lower alkenyl which may have a substituent, amino which may have a substituent, substituent A lower alkoxy optionally having a hydrocarbon, a hydrocarbon cyclic group optionally having a substituent or a heterocyclic group optionally having a substituent)
Comprising the step of reacting a compound of formula (VII):
Figure 2005255630
(Wherein each symbol is as defined above)
The manufacturing method of the compound shown by this is provided.

後述の試験結果から明らかなとおり、本発明の化合物(I)の塩は医薬品等の合成原料または中間体として有用な化合物である。また、化合物(I)の塩酸塩の新規製造方法は高収率かつ安全な方法として工業的製造に利用可能である。さらに、化合物(I)の塩を原料とする化合物(V)の製造法は副生成物の生成率が低く、非常に有用な方法である。   As is clear from the test results described below, the salt of the compound (I) of the present invention is a useful compound as a synthetic raw material or an intermediate for pharmaceuticals and the like. Moreover, the new manufacturing method of hydrochloride of compound (I) can be utilized for industrial manufacture as a high yield and safe method. Furthermore, the production method of the compound (V) using the salt of the compound (I) as a raw material is a very useful method because the production rate of by-products is low.

本明細書中において「低級アルキル」とは、炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜6、さらに好ましくは炭素数1〜3の直鎖または分枝状のアルキルを包含し、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、n−へプチル、イソヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、n−ノニルおよびn−デシル等が挙げられる。R1としては好ましくはイソプロピルまたはt−ブチルである。
Zにおける「置換基を有していてもよい低級アルキル」の置換基としては、例えば、(1)ハロゲン;(2)シアノ;(3)それぞれ下記に定義する置換基群βから選択される1以上の置換可能な基で置換されていてもよい(i)ヒドロキシ、(ii)低級アルコキシ、(iii)メルカプト、(iv)低級アルキルチオ、(v)アシル、(vi)アシルオキシ、(vii)カルボキシ、(viii)低級アルコキシカルボニル、(ix)イミノ、(x)カルバモイル、(xi)チオカルバモイル、(xii)低級アルキルカルバモイル、(xiii)低級アルキルチオカルバモイル、(xiv)アミノ、(xv)低級アルキルアミノもしくは(xvi)ヘテロ環カルボニルで示される基等が挙げられる。
置換基群αとは(1)ハロゲン;(2)オキソ;(3)シアノ;(4)ニトロ;(5)低級アルキルもしくはヒドロキシで置換されていてもよいイミノ;(6)それぞれ置換基群βから選択される1以上の置換可能な基で置換されていてもよい(i)ヒドロキシ、(ii)低級アルキル、(iii)低級アルケニル、(iv)低級アルコキシ、(v)カルボキシ、(vi)低級アルコキシカルボニル、(vii)アシル、(viii)アシルオキシ、(ix)イミノ、(x)メルカプト、(xi)低級アルキルチオ、(xii)カルバモイル、(xiii)低級アルキルカルバモイル、(xiv)シクロアルキルカルバモイル、(xv)チオカルバモイル、(xvi)低級アルキルチオカルバモイル、(xvii)低級アルキルスルフィニル、(xviii)低級アルキルスルホニル、(xix)スルファモイル、(xx)低級アルキルスルファモイルおよび(xxi)シクロアルキルスルファモイル;(7)それぞれ置換基群β、低級アルキル、低級アルコキシ低級アルキル、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル、ハロゲノ低級アルキル、低級アルキルスルホニルおよび/またはアリールスルホニルで置換されていてもよい、(i)シクロアルキル、(ii)シクロアルケニル、(iii)シクロアルキルオキシ、(iv)アミノおよび(v)アルキレンジオキシ;並びに(8)それぞれ置換基群β、低級アルキル、ハロゲノ低級アルキルおよび/またはオキソで置換されていてもよい(i)フェニル、(ii)ナフチル、(iii)フェノキシ、(iv)フェニル低級アルコキシ、(v)フェニルチオ、(vi)フェニル低級アルキルチオ、(vii)フェニルアゾ、(viii)ヘテロ環式基、(ix)ヘテロ環オキシ、(x)ヘテロ環チオ、(xi)ヘテロ環カルボニルおよび(xii)ヘテロ環スルホニルからなる群である。
置換基群βとはハロゲン、保護されていてもよいヒドロキシ、メルカプト、低級アルコキシ、低級アルケニル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルチオ、アシル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、シアノ、シクロアルキル、フェニル、フェノキシ、低級アルキルフェニル、低級アルコキシフェニル、ハロゲノフェニル、ナフチルおよびヘテロ環式基からなる群である。
In the present specification, “lower alkyl” includes linear or branched alkyl having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, such as methyl, Ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, isohexyl, n-heptyl, isoheptyl, n-octyl, isooctyl, n-nonyl And n-decyl and the like. R 1 is preferably isopropyl or t-butyl.
Examples of the substituent of “lower alkyl optionally having substituent (s)” in Z include, for example, (1) halogen; (2) cyano; (3) each selected from the substituent group β defined below. (I) hydroxy, (ii) lower alkoxy, (iii) mercapto, (iv) lower alkylthio, (v) acyl, (vi) acyloxy, (vii) carboxy, optionally substituted with the above substitutable groups (Viii) lower alkoxycarbonyl, (ix) imino, (x) carbamoyl, (xi) thiocarbamoyl, (xii) lower alkyl carbamoyl, (xiii) lower alkyl thiocarbamoyl, (xiv) amino, (xv) lower alkyl amino or ( xvi) a group represented by heterocyclic carbonyl and the like.
Substituent group α is (1) halogen; (2) oxo; (3) cyano; (4) nitro; (5) imino optionally substituted with lower alkyl or hydroxy; (6) each substituent group β Optionally substituted with one or more substitutable groups selected from (i) hydroxy, (ii) lower alkyl, (iii) lower alkenyl, (iv) lower alkoxy, (v) carboxy, (vi) lower Alkoxycarbonyl, (vii) acyl, (viii) acyloxy, (ix) imino, (x) mercapto, (xi) lower alkylthio, (xii) carbamoyl, (xiii) lower alkylcarbamoyl, (xiv) cycloalkylcarbamoyl, (xv) ) Thiocarbamoyl, (xvi) lower alkylthiocarbamoyl, (xvii) lower alkylsulfinyl, (Xviii) lower alkylsulfonyl, (xix) sulfamoyl, (xx) lower alkylsulfamoyl and (xxi) cycloalkylsulfamoyl; (7) substituent group β, lower alkyl, lower alkoxy lower alkyl, protected, respectively Optionally substituted with hydroxy lower alkyl, halogeno lower alkyl, lower alkylsulfonyl and / or arylsulfonyl, (i) cycloalkyl, (ii) cycloalkenyl, (iii) cycloalkyloxy, (iv) amino And (v) alkylenedioxy; and (8) (i) phenyl, (ii) naphthyl, (iii) phenoxy, each optionally substituted with substituent group β, lower alkyl, halogeno lower alkyl and / or oxo, (Iv) Phenyl lower a Lucoxy, (v) phenylthio, (vi) phenyl lower alkylthio, (vii) phenylazo, (viii) heterocyclic group, (ix) heterocyclic oxy, (x) heterocyclic thio, (xi) heterocyclic carbonyl and (xii) ) A group consisting of heterocyclic sulfonyl.
Substituent group β is halogen, optionally protected hydroxy, mercapto, lower alkoxy, lower alkenyl, amino, lower alkylamino, lower alkoxycarbonylamino, lower alkylthio, acyl, carboxy, lower alkoxycarbonyl, carbamoyl, cyano, A group consisting of cycloalkyl, phenyl, phenoxy, lower alkylphenyl, lower alkoxyphenyl, halogenophenyl, naphthyl and heterocyclic groups.

「低級アルケニル」とは、任意の位置に1以上の二重結合を有する炭素数2〜10、好ましくは炭素数2〜8、さらに好ましくは炭素数3〜6の直鎖または分枝状のアルケニルを包含する。具体的にはビニル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニルおよびデセニル等を包含する。
「置換基を有していてもよい低級アルケニル」の置換基としては、ハロゲン、低級アルコキシ、低級アルケニル、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルチオ、アシル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、シアノ、シクロアルキル、フェニル、低級アルキルフェニル、低級アルコキシフェニル、ナフチルおよび/またはヘテロ環式基等が挙げられる。
“Lower alkenyl” is a straight or branched alkenyl having 2 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, more preferably 3 to 6 carbon atoms, having one or more double bonds at any position. Is included. Specific examples include vinyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, isobutenyl, prenyl, butadienyl, pentenyl, isopentenyl, pentadienyl, hexenyl, isohexenyl, hexadienyl, heptenyl, octenyl, nonenyl and decenyl.
The substituent of “optionally substituted lower alkenyl” includes halogen, lower alkoxy, lower alkenyl, amino, lower alkylamino, lower alkoxycarbonylamino, lower alkylthio, acyl, carboxy, lower alkoxycarbonyl, carbamoyl. , Cyano, cycloalkyl, phenyl, lower alkylphenyl, lower alkoxyphenyl, naphthyl and / or heterocyclic group.

「置換基を有していてもよいアミノ」の置換基としては、上記置換基群β、置換基を有していてもよいベンゾイルおよび/または置換基を有していてもよいヘテロ環カルボニル(ここで置換基とはヒドロキシ、低級アルキル、低級アルコキシおよび/または低級アルキルチオ)が挙げられる。   As the substituent of “optionally substituted amino”, the substituent group β, the optionally substituted benzoyl and / or the optionally substituted heterocyclic carbonyl ( Examples of the substituent include hydroxy, lower alkyl, lower alkoxy and / or lower alkylthio).

「低級アルコキシ」、「低級アルキルチオ」、「低級アルキルカルバモイル」、「低級アルキルチオカルバモイル」、「低級アルキルアミノ」、「低級アルキルスルフィニル」、「低級アルキルスルホニル」、「低級アルキルスルファモイル」、「低級アルコキシカルボニル」、「低級アルコキシ低級アルキル」、「ヒドロキシ低級アルキル」、「低級アルコキシカルボニルアミノ」、「低級アルキルフェニル」、「低級アルコキシフェニル」、「ハロゲノ低級アルキル」、「フェニル低級アルコキシ」、「フェニル低級アルキルチオ」の低級アルキル部分は上記「低級アルキル」と同様である。   “Lower alkoxy”, “lower alkylthio”, “lower alkylcarbamoyl”, “lower alkylthiocarbamoyl”, “lower alkylamino”, “lower alkylsulfinyl”, “lower alkylsulfonyl”, “lower alkylsulfamoyl”, “lower” “Alkoxycarbonyl”, “lower alkoxy lower alkyl”, “hydroxy lower alkyl”, “lower alkoxycarbonylamino”, “lower alkylphenyl”, “lower alkoxyphenyl”, “halogenolower alkyl”, “phenyllower alkoxy”, “phenyl” The lower alkyl part of “lower alkylthio” is the same as the above “lower alkyl”.

「置換基を有していてもよい低級アルコキシ」の置換基としては上記置換基群βから選択される1以上の基が挙げられ、好ましくはフェニル、低級アルキルフェニル、低級アルコキシフェニル、ナフチルまたはヘテロ環式基である。
「アシル」とは(1)炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜6、最も好ましくは炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状のアルキルカルボニルもしくはアルケニルカルボニル、(2)炭素数4〜9、好ましくは炭素数4〜7のシクロアルキルカルボニルおよび(3)炭素数7〜11のアリールカルボニルを包含する。具体的には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、アクリロイル、プロピオロイル、メタクリロイル、クロトノイル、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロオクチルカルボニルおよびベンゾイル等を包含する。
「アシルオキシ」のアシル部分も上記と同様である。
「保護されていてもよいヒドロキシ」、「保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル」の保護基としては、通常用いられるヒドロキシ保護基すべてを包含する。例えばアシル(アセチル、トリクロロアセチル、ベンゾイル等)、低級アルコキシカルボニル(t−ブトキシカルボニル等)、低級アルキルスルホニル(メタンスルホニル等)、低級アルコキシ低級アルキル(メトキシメチル等)、トリアルキルシリル(t−ブチルジメチルシリル等)等が挙げられる。
「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を包含する。特にフッ素および塩素が好ましい。
「ハロゲノフェニル」、「ハロゲノ低級アルキル」のハロゲン部分は上記「ハロゲン」と同様である。
「低級アルキレン」とは、メチレンが1〜6個、好ましくは2個〜6個、さらに好ましくは3〜6個連続した2価の基を包含し、具体的にはメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレンおよびヘキサメチレン等が挙げられる。特に好ましくはテトラメチレンである。
「アルキレンジオキシ」の低級アルキレン部分は上記「低級アルキレン」と同様であり、好ましくはメチレンジオキシまたはエチレンジオキシである。
Examples of the substituent of “lower alkoxy optionally having substituent (s)” include one or more groups selected from the above substituent group β, preferably phenyl, lower alkylphenyl, lower alkoxyphenyl, naphthyl or hetero It is a cyclic group.
“Acyl” means (1) straight or branched alkylcarbonyl or alkenylcarbonyl having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, most preferably 1 to 4 carbon atoms, and (2) carbon number. It includes 4 to 9, preferably 4 to 7 carbon cycloalkylcarbonyl and (3) aryl carbonyl having 7 to 11 carbon atoms. Specific examples include formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, pivaloyl, hexanoyl, acryloyl, propioyl, methacryloyl, crotonoyl, cyclopropylcarbonyl, cyclohexylcarbonyl, cyclooctylcarbonyl and benzoyl.
The acyl part of “acyloxy” is the same as above.
Protecting groups for “optionally protected hydroxy” and “optionally protected hydroxy lower alkyl” include all commonly used hydroxy protecting groups. For example, acyl (acetyl, trichloroacetyl, benzoyl etc.), lower alkoxycarbonyl (t-butoxycarbonyl etc.), lower alkylsulfonyl (methanesulfonyl etc.), lower alkoxy lower alkyl (methoxymethyl etc.), trialkylsilyl (t-butyldimethyl) Silyl etc.).
“Halogen” includes fluorine, chlorine, bromine and iodine. In particular, fluorine and chlorine are preferable.
The halogen part of “halogenophenyl” and “halogeno lower alkyl” is the same as the above “halogen”.
“Lower alkylene” includes a divalent group in which 1 to 6, preferably 2 to 6, and more preferably 3 to 6 methylenes are continuous. Specifically, methylene, ethylene, trimethylene, tetra Examples include methylene, pentamethylene and hexamethylene. Particularly preferred is tetramethylene.
The lower alkylene part of “alkylenedioxy” is the same as the above “lower alkylene”, preferably methylenedioxy or ethylenedioxy.

「炭化水素環式基」とは、「シクロアルキル」、「シクロアルケニル」、「ビシクロアルキル」および「アリール」を包含する。
「シクロアルキル」とは、炭素数3〜8、好ましくは5または6の環状のアルキルを包含する。具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへプチルおよびシクロオクチル等が挙げられる。
「シクロアルケニル」とは、上記シクロアルキルの環中の任意の位置に1以上の二重結合を有しているものを包含し、具体的にはシクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルおよびシクロヘキサジエニル等が挙げられる。
「ビシクロアルキル」とは、2つの環が2個またはそれ以上の原子を共有している炭素数5〜8の脂肪族環から水素を1つ除いてできる基を包含する。具体的にはビシクロ[2.1.0]ペンチル、ビシクロ[2.2.1]ヘプチル、ビシクロ[2.2.2]オクチルおよびビシクロ[3.2.1]オクチル等が挙げられる。
「アリール」とは、単環または多環の芳香族炭素環式基であり、フェニル、ナフチル、アントリルおよびフェナントリル等を包含する。また、他の非芳香族炭化水素環式基と縮合しているアリールも包含し、具体的にはインダニル、インデニル、ビフェニリル、アセナフチル、テトラヒドロナフチルおよびフルオレニル等が挙げられる。特にフェニルが好ましい。
「置換基を有していてもよい炭化水素環式基」の置換基としては、上記置換基群αやβから選択される1以上の基等が挙げられ、任意の位置が置換されていてもよい。
“Hydrocarbon cyclic group” includes “cycloalkyl”, “cycloalkenyl”, “bicycloalkyl” and “aryl”.
“Cycloalkyl” includes cyclic alkyl having 3 to 8 carbon atoms, preferably 5 or 6 carbon atoms. Specific examples include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl.
“Cycloalkenyl” includes those having one or more double bonds at any position in the ring of the cycloalkyl, specifically, cyclopropenyl, cyclobutenyl, cyclopentenyl, cyclohexenyl and cyclohexenyl. Sadienyl and the like can be mentioned.
“Bicycloalkyl” includes a group formed by removing one hydrogen from an aliphatic ring having 5 to 8 carbon atoms in which two rings share two or more atoms. Specific examples include bicyclo [2.1.0] pentyl, bicyclo [2.2.1] heptyl, bicyclo [2.2.2] octyl and bicyclo [3.2.1] octyl.
“Aryl” is a monocyclic or polycyclic aromatic carbocyclic group, and includes phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl and the like. Also included are aryls fused with other non-aromatic hydrocarbon cyclic groups, and specific examples include indanyl, indenyl, biphenylyl, acenaphthyl, tetrahydronaphthyl and fluorenyl. Particularly preferred is phenyl.
Examples of the substituent of the “hydrocarbon cyclic group which may have a substituent” include one or more groups selected from the above substituent group α and β, and any position is substituted. Also good.

「シクロアルキルカルバモイル」、「シクロアルキルスルファモイル」および「シクロアルキルオキシ」のシクロアルキル部分は上記「シクロアルキル」と同様である。
「アリールスルホニル」のアリール部分は上記「アリール」と同様である。
The cycloalkyl part of “cycloalkylcarbamoyl”, “cycloalkylsulfamoyl” and “cycloalkyloxy” is the same as the above “cycloalkyl”.
The aryl part of “arylsulfonyl” is the same as the above “aryl”.

「ヘテロ環式基」とは、O、SおよびNから任意に選択されるヘテロ原子を環内に1以上有するヘテロ環を包含し、具体的にはピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、フリルおよびチエニル等の5〜6員のヘテロアリール;インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、インドリニル、イソインドリニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンゾピラニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、ジヒドロピリジル、テトラヒドロキノリル、テトラヒドロベンゾチエニル等の2環の縮合ヘテロ環式基;カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等の3環の縮合ヘテロ環式基;ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、モルホリノ、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル等の非芳香族ヘテロ環式基を包含する。
ヘテロ環以外の環と縮合している縮合ヘテロ環式基(例えばベンゾチアゾリル等)は、いずれの環に結合手を有していてもよい。
Zにおけるヘテロ環式基としてはイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、イソチアゾリル、ベンゾピラニル、モルホリノ、ピリジル、キノリルおよびピリミジル等が好ましい。
「置換基を有していてもよいヘテロ環式基」の置換基は上記「炭化水素環式基」が置換されている場合の置換基と同様のものが例示される。
「ヘテロ環オキシ」、「ヘテロ環チオ」、「ヘテロ環カルボニル」、「ヘテロ環スルホニル」のヘテロ環部分は上記「ヘテロ環式基」と同様である。
"Heterocyclic group" includes a heterocycle having one or more heteroatoms arbitrarily selected from O, S and N, specifically pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl 5- to 6-membered heteroaryl such as pyrazinyl, triazolyl, triazinyl, tetrazolyl, isoxazolyl, oxazolyl, oxadiazolyl, isothiazolyl, thiazolyl, thiadiazolyl, furyl and thienyl; indolyl, isoindolyl, indazolyl, indolizinyl, indolinyl, isoindolinyl, quinolyl, isoquinolyl, Cinnolinyl, phthalazinyl, quinazolinyl, naphthyridinyl, quinoxalinyl, purinyl, pteridinyl, benzopyranyl, benzimidazolyl, benzisoxazolyl, benzo Sazolyl, benzoxiadiazolyl, benzoisothiazolyl, benzothiazolyl, benzothiadiazolyl, benzofuryl, isobenzofuryl, benzothienyl, benzotriazolyl, imidazopyridyl, triazolopyridyl, imidazothiazolyl, pyrazinopyridazini Bicyclic fused heterocyclic groups such as quinazolinyl, naphthyridinyl, dihydropyridyl, tetrahydroquinolyl, tetrahydrobenzothienyl; tricyclic such as carbazolyl, acridinyl, xanthenyl, phenothiazinyl, phenoxathinyl, phenoxazinyl, dibenzofuryl Fused heterocyclic group; dioxanyl, thiylyl, oxiranyl, oxathiolanyl, azetidinyl, thianyl, pyrrolidinyl, pyrrolinyl, imidazolidinyl, imidazolinyl, pyrazolidinyl Encompasses pyrazolinyl, piperidyl, piperazinyl, morpholinyl, morpholino, thiomorpholinyl, thiomorpholino, dihydropyridyl, tetrahydrofuryl, tetrahydropyranyl, tetrahydro-thiazolyl, non-aromatic heterocyclic group such as tetrahydroisoquinolin thiazolyl.
A condensed heterocyclic group condensed with a ring other than a heterocyclic ring (for example, benzothiazolyl) may have a bond on any ring.
As the heterocyclic group for Z, imidazolyl, benzothiazolyl, isothiazolyl, benzopyranyl, morpholino, pyridyl, quinolyl, pyrimidyl and the like are preferable.
Examples of the substituent of the “heterocyclic group which may have a substituent” are the same as those in the case where the “hydrocarbon cyclic group” is substituted.
The heterocyclic moiety of “heterocyclic oxy”, “heterocyclic thio”, “heterocyclic carbonyl” and “heterocyclic sulfonyl” is the same as the above “heterocyclic group”.

化合物(I)の塩(例えばメタンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、硫酸塩、酢酸塩、ギ酸塩または塩酸塩)は例えば次の方法で合成する事が出来る。
まず、有機溶媒および目的の塩に対応する酸を混合し、氷冷下〜加熱下、好ましくは約10℃〜50℃、さらに好ましくは約20℃〜40℃付近で化合物(I)を添加する。化合物(I)を溶解させた有機溶媒に酸を添加して反応させてもよい。
酸の使用量は化合物(I)1モルに対して約1.0〜2.0モル当量、好ましくは約1モル当量である。
有機溶媒としては例えばトルエン、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ジメチルホルムアミドまたはアルコール等を使用すればよく、好ましくはトルエン、酢酸エチルまたはアセトンである。
溶媒の使用量は、反応が可能な溶液またはスラリーを形成し得る任意の量とすればよい。例えば、反応材料の総体積に対して1〜10倍の体積の溶媒が好ましく使用され得る。
添加後、必要であればさらに有機溶媒を適当量追加し、氷冷下〜室温下、好ましくは氷冷下で約5分〜10時間、好ましくは約1時間〜3時間程度反応させる。こうして得られた反応液を濾過し、得られた結晶を必要に応じて洗浄、乾燥すればよい。
化合物(I)の塩酸塩を製造する場合、塩酸を用いることも可能であるが、上記有機溶媒中に塩化水素ガスを吹き込み、塩化水素入り有機溶媒を調整して上記の通り反応させることが好ましい。化合物(I)を溶解させた有機溶媒に塩化水素ガスを吹き込んだ後、上記と同様にして反応させることも可能である。好ましい有機溶媒は酢酸エチルである。
本法は溶媒の濃縮操作が不要であり、非常に簡便な操作で高収率で目的とする塩を得ることができる。また、上記塩酸塩の製法は無水系で行うため、ロスが少なく効率良く目的とする塩が得られる。
A salt of compound (I) (for example, methanesulfonate, p-toluenesulfonate, sulfate, acetate, formate, or hydrochloride) can be synthesized, for example, by the following method.
First, an organic solvent and an acid corresponding to the target salt are mixed, and compound (I) is added under ice cooling to heating, preferably about 10 ° C. to 50 ° C., more preferably about 20 ° C. to 40 ° C. . You may make it react by adding an acid to the organic solvent in which compound (I) was dissolved.
The amount of the acid to be used is about 1.0 to 2.0 molar equivalents, preferably about 1 molar equivalent, relative to 1 mol of compound (I).
As the organic solvent, for example, toluene, ethyl acetate, acetone, acetonitrile, tetrahydrofuran, chloroform, dimethylformamide, alcohol or the like may be used, and toluene, ethyl acetate or acetone is preferable.
The amount of the solvent used may be any amount that can form a solution or slurry capable of reaction. For example, a solvent having a volume of 1 to 10 times the total volume of the reaction material can be preferably used.
After the addition, if necessary, an appropriate amount of an organic solvent is further added, and the reaction is carried out under ice cooling to room temperature, preferably under ice cooling for about 5 minutes to 10 hours, preferably about 1 hour to 3 hours. The reaction solution thus obtained may be filtered, and the resulting crystals may be washed and dried as necessary.
In the case of producing the hydrochloride of the compound (I), hydrochloric acid can be used, but it is preferable that hydrogen chloride gas is blown into the organic solvent to adjust the organic solvent containing hydrogen chloride and react as described above. . It is also possible to react in the same manner as described above after blowing hydrogen chloride gas into the organic solvent in which the compound (I) is dissolved. A preferred organic solvent is ethyl acetate.
This method does not require a solvent concentration operation, and the target salt can be obtained in a high yield by a very simple operation. Moreover, since the manufacturing method of the said hydrochloride is performed by an anhydrous system, the target salt can be obtained efficiently with little loss.

別法として下記方法により塩酸塩を製造することもできる。
まず、塩化水素ガスを溶解させた有機溶媒に化合物(I)を添加し、氷冷下〜加熱下、好ましくは室温付近で約10分〜20時間、好ましくは約1時間〜5時間程度反応させる。
塩化水素ガスの使用量は化合物(I)1モルに対して約1.0〜2.0モル当量、好ましくは約1モル当量である。
有機溶媒としてはアルコール、特にエタノールが好ましい。溶媒の使用量は、反応が可能な溶液またはスラリーを形成し得る任意の量とすればよい。例えば、反応材料の総体積に対して1〜10倍の体積の溶媒が好ましく使用され得る。
得られた反応液を減圧濃縮等により濃縮し、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリル、キシレン等の非水系溶媒を添加し、必要であれば再度濃縮する。氷冷下〜加熱下、好ましくは室温付近で約5分〜20時間、好ましくは約20分〜1時間程度反応させて得られた反応液を濾過する。こうして得られた結晶は洗浄後、乾燥すればよい。
Alternatively, the hydrochloride can be produced by the following method.
First, compound (I) is added to an organic solvent in which hydrogen chloride gas is dissolved, and the reaction is carried out under ice cooling to heating, preferably at about room temperature for about 10 minutes to 20 hours, preferably about 1 hour to 5 hours. .
The amount of hydrogen chloride gas to be used is about 1.0 to 2.0 molar equivalents, preferably about 1 molar equivalent, relative to 1 mol of compound (I).
As the organic solvent, alcohol, particularly ethanol is preferable. The amount of the solvent used may be any amount that can form a solution or slurry capable of reaction. For example, a solvent having a volume of 1 to 10 times the total volume of the reaction material can be preferably used.
The obtained reaction solution is concentrated by vacuum concentration or the like, a non-aqueous solvent such as toluene, ethyl acetate, acetonitrile, xylene or the like is added, and if necessary, concentrated again. The reaction solution obtained by reacting for about 5 minutes to 20 hours, preferably about 20 minutes to 1 hour under ice cooling to heating, preferably near room temperature, is filtered. The crystals thus obtained may be washed and then dried.

化合物(I)の塩をスルフィニル化した後、酸化、加水分解することにより、化合物(V)を得ることができる。さらに化合物(V)を化合物(VI)と反応させることにより、化合物(VII)を得ることができる。

Figure 2005255630
(式中、Etはエチルであり、R1は低級アルキルであり、R2は水素または低級アルキルであり、Zは置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルケニル、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよい炭化水素環式基、または置換基を有していてもよいヘテロ環式基である) Compound (V) can be obtained by sulfinylating the salt of compound (I), followed by oxidation and hydrolysis. Further, compound (VII) can be obtained by reacting compound (V) with compound (VI).
Figure 2005255630
(In the formula, Et is ethyl, R 1 is lower alkyl, R 2 is hydrogen or lower alkyl, Z is optionally substituted lower alkyl, and may be substituted. A lower alkenyl which may have a substituent, an amino which may have a substituent, a lower alkoxy which may have a substituent, a hydrocarbon cyclic group which may have a substituent, or a substituent. A good heterocyclic group)

(第1工程)
所望により塩基存在下で化合物(I)の塩に化合物(II)を反応させて化合物(III)を得る。
塩基としては、任意の塩基が使用可能である。アルキルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、ジメチルアニリン等が例示されるが、好ましくはトリエチルアミンである。塩基の使用量は化合物(I)1モルに対して、好ましくは、約2.0〜3.0モル当量である。
化合物(II)の使用量は、化合物(I)1モルに対して、好ましくは、約1.0〜1.5モル当量である。
反応溶媒としては、反応が可能な程度にまで反応材料を溶解もしくは懸濁することができ、反応が可能な溶液またはスラリーを形成し得る任意の溶媒が使用可能である。例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドおよびトルエン等が例示されるが、好ましくはトルエン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミドである。特に、トルエンを使用した場合には中間体を単離することなく反応を進めることが可能である。
溶媒の使用量は、反応が可能な溶液またはスラリーを形成し得る任意の量が使用可能である。例えば、反応材料の総体積に対して1〜10倍の体積の溶媒が好ましく使用され得る。より好ましくは、反応材料の重量をx(g)としたときに3x(ml)の溶媒である。
反応温度は、特に制限されないが通常約−10〜50℃、好ましくは約5〜10℃である。
反応時間は、特に制限されないが通常、約1時間〜5日間、好ましくは1時間〜2日間、さらに好ましくは約1〜3時間である。
得られた生成物は、単離もしくは精製してもよく、単離もしくは精製せずにそのまま後の工程に供してもよい。単離もしくは精製せずにそのまま次の工程に用いれば、次の工程まで連続して作業を行える点で有利である。
(First step)
If desired, compound (II) is reacted with a salt of compound (I) in the presence of a base to give compound (III).
Any base can be used as the base. Examples include alkylamine, pyridine, N-methylmorpholine, dimethylaniline and the like, with triethylamine being preferred. The amount of the base to be used is preferably about 2.0 to 3.0 molar equivalents relative to 1 mol of compound (I).
The amount of compound (II) to be used is preferably about 1.0 to 1.5 molar equivalents relative to 1 mol of compound (I).
As the reaction solvent, any solvent that can dissolve or suspend the reaction material to the extent that the reaction is possible and can form a solution or slurry capable of the reaction can be used. Examples thereof include ethyl acetate, tetrahydrofuran, dimethylformamide, toluene and the like, and preferred are toluene, ethyl acetate and dimethylformamide. In particular, when toluene is used, the reaction can proceed without isolating the intermediate.
The solvent can be used in any amount that can form a solution or slurry capable of reaction. For example, a solvent having a volume of 1 to 10 times the total volume of the reaction material can be preferably used. More preferably, the solvent is 3x (ml) when the weight of the reaction material is x (g).
The reaction temperature is not particularly limited, but is usually about −10 to 50 ° C., preferably about 5 to 10 ° C.
The reaction time is not particularly limited, but is usually about 1 hour to 5 days, preferably 1 hour to 2 days, and more preferably about 1 to 3 hours.
The obtained product may be isolated or purified, and may be used as it is in the subsequent step without isolation or purification. If it is used in the next step as it is without isolation or purification, it is advantageous in that the work can be continuously performed until the next step.

(第2工程)
化合物(III)を酸化して化合物(IV)を得る。
酸化剤は任意のものを使用することができるが、好ましくは過酸化水素水、過酢酸(触媒としてアニウムモリブデン酸アンモ4水和物((NH46Mo724 4H2O)、タングステン酸ナトリウムまたはその水和物)およびm−クロロ過安息香酸等が例示されるが、好ましくは過酸化水素(水触媒としてモリブデン酸アンモニウム4水和物((NH46Mo724 4H2O))である。
触媒の使用量は化合物(III)の1モルに対して、好ましくは、約0.01〜0.05モル当量である。過酸化物の使用量は、化合物(III)の1モルに対して、好ましくは、約1.0〜2.0モル当量である。
反応溶媒としては、反応が可能な程度にまで反応材料を溶解もしくは懸濁することができ、反応が可能な溶液またはスラリーを形成し得る任意の溶媒が使用可能である。トルエン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドおよび酢酸エチル等が例示されるが、好ましくはトルエン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミドである。
溶媒の使用量は、反応が可能な溶液またはスラリーを形成し得る任意の量が使用可能である。例えば、反応材料の総体積に対して1〜10倍の体積の溶媒が好ましく使用され得る。より好ましくは、反応材料の総重量(g)に対して3倍の体積(ml)の溶媒である。
反応温度は、特に制限されないが通常約0〜100℃、好ましくは約20〜80℃である。
反応時間は、特に制限されないが通常、約1時間〜5日間、好ましくは1時間〜2日間、好ましくは約2〜8時間である。
得られた生成物は、単離もしくは精製してもよく、単離もしくは精製せずにそのまま後の工程に供してもよい。単離もしくは精製せずにそのまま次の工程に用いれば、次の工程まで連続して作業を行える点で有利である。
(Second step)
Compound (III) is oxidized to give compound (IV).
Any oxidizing agent can be used, but preferably hydrogen peroxide, peracetic acid (ammonium molybdate ammonium tetrahydrate ((NH 4 ) 6 Mo 7 O 24 4H 2 O) as a catalyst, Examples thereof include sodium tungstate or a hydrate thereof, and m-chloroperbenzoic acid, but preferably hydrogen peroxide (ammonium molybdate tetrahydrate ((NH 4 ) 6 Mo 7 O 24 4H as a water catalyst). 2 O)).
The amount of the catalyst to be used is preferably about 0.01 to 0.05 molar equivalent per 1 mol of compound (III). The amount of the peroxide to be used is preferably about 1.0 to 2.0 molar equivalents relative to 1 mol of compound (III).
As the reaction solvent, any solvent that can dissolve or suspend the reaction material to the extent that the reaction is possible and can form a solution or slurry capable of the reaction can be used. Examples include toluene, dimethylformamide, tetrahydrofuran, dimethylformamide, and ethyl acetate. Preferred are toluene, ethyl acetate, and dimethylformamide.
The solvent can be used in any amount that can form a solution or slurry capable of reaction. For example, a solvent having a volume of 1 to 10 times the total volume of the reaction material can be preferably used. More preferably, the solvent has a volume (ml) of 3 times the total weight (g) of the reaction material.
The reaction temperature is not particularly limited, but is usually about 0 to 100 ° C, preferably about 20 to 80 ° C.
The reaction time is not particularly limited, but is usually about 1 hour to 5 days, preferably 1 hour to 2 days, preferably about 2 to 8 hours.
The obtained product may be isolated or purified, and may be used as it is in the subsequent step without isolation or purification. If it is used in the next step as it is without isolation or purification, it is advantageous in that the work can be continuously performed until the next step.

(第3工程)
化合物(IV)を加水分解して化合物(V)を得る。本工程は常法により行えばよいが、例えば化合物(IV)を水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド等の塩基および水と反応させればよい。塩基の使用量は、化合物(IV)1モルに対して、好ましくは約2.0〜3.0モル当量である。
反応溶媒としては、反応が可能な程度にまで反応材料を溶解もしくは懸濁することができ、反応が可能な溶液またはスラリーを形成し得る任意の溶媒が使用可能であり、好ましくは水である。
溶媒の使用量は、反応が可能な溶液またはスラリーを形成し得る任意の量が使用可能である。例えば、反応材料の総体積に対して1〜10倍の体積の溶媒が好ましく使用され得る。
反応温度は、好ましくは0〜40℃である。
反応時間は、好ましくは約1時間〜5日間であり、より好ましくは約2時間〜24時間である。
(Third step)
Compound (IV) is hydrolyzed to obtain compound (V). This step may be performed by a conventional method. For example, compound (IV) may be reacted with a base such as sodium hydroxide or sodium methoxide and water. The amount of the base to be used is preferably about 2.0 to 3.0 molar equivalents relative to 1 mol of compound (IV).
As the reaction solvent, any solvent capable of dissolving or suspending the reaction material to the extent that the reaction can be performed and forming a solution or slurry capable of reacting can be used, and preferably water.
The solvent can be used in any amount that can form a solution or slurry capable of reaction. For example, a solvent having a volume of 1 to 10 times the total volume of the reaction material can be preferably used.
The reaction temperature is preferably 0 to 40 ° C.
The reaction time is preferably about 1 hour to 5 days, more preferably about 2 hours to 24 hours.

(第4工程)
化合物(V)に化合物(VI)を反応させることにより化合物(VII)を得ることができる。当該反応は、例えば上記特許文献1等に記載のアミド化反応に準じて行えばよい。
例えば、化合物(V)と化合物(VI)の酸ハロゲン化物(例えば塩化チオニル、オキサリルクロリドまたはオキシ塩化リン等を用いる)、酸無水物、活性化エステル等の活性化体を適当な溶媒中、約0℃〜100℃で約3分〜10時間程度反応させる。溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、トルエン、ベンゼン、キシレン、シクロヘキサン、へキサン、クロロホルム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ペンタン、ヘプタン、ジオキサン、アセトン、アセトニトリル、水およびそれらの混合溶媒等が使用可能であり、好ましくはトルエンまたはテトラヒドロフランである。また必要であれば塩基(好ましくはトリエチルアミンまたはピリジン等)、塩化チオニル、酸ハロゲン化物(例えば塩化チオニル、オキサリルクロリドまたはオキシ塩化リン等)、酸無水物、活性化エステル等の活性化剤を用いてもよい。
別法として、化合物(V)および化合物(VI)を適当な溶媒(例えばテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、トルエン、ベンゼン、キシレン、シクロヘキサン、へキサン、クロロホルム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ペンタン、ヘプタン、ジオキサン、アセトン、アセトニトリル、水およびそれらの混合溶媒等)中、縮合剤存在下、約0℃〜100℃で約3分〜10時間程度反応させても目的化合物を得ることができる。縮合剤としては例えば1,1−カルボニルジイミダゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミドまたは水溶性カルボジイミド(1−エチル−3−(3’−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド)等が使用できる。
(4th process)
Compound (VII) can be obtained by reacting compound (V) with compound (VI). The reaction may be performed in accordance with, for example, the amidation reaction described in Patent Document 1 above.
For example, an activated form such as an acid halide of compound (V) and compound (VI) (for example, using thionyl chloride, oxalyl chloride or phosphorus oxychloride), an acid anhydride, an activated ester, etc. in an appropriate solvent The reaction is carried out at 0 ° C. to 100 ° C. for about 3 minutes to 10 hours. Solvents include tetrahydrofuran, dimethylformamide, diethyl ether, dichloromethane, toluene, benzene, xylene, cyclohexane, hexane, chloroform, ethyl acetate, butyl acetate, pentane, heptane, dioxane, acetone, acetonitrile, water, and mixed solvents thereof. Can be used, preferably toluene or tetrahydrofuran. If necessary, an activator such as a base (preferably triethylamine or pyridine), thionyl chloride, acid halide (eg thionyl chloride, oxalyl chloride or phosphorus oxychloride), acid anhydride, activated ester or the like is used. Also good.
Alternatively, compound (V) and compound (VI) are combined with a suitable solvent (eg tetrahydrofuran, dimethylformamide, diethyl ether, dichloromethane, toluene, benzene, xylene, cyclohexane, hexane, chloroform, ethyl acetate, butyl acetate, pentane, (Heptane, dioxane, acetone, acetonitrile, water and mixed solvents thereof) in the presence of a condensing agent, the target compound can be obtained by reacting at about 0 ° C. to 100 ° C. for about 3 minutes to 10 hours. As the condensing agent, for example, 1,1-carbonyldiimidazole, dicyclohexylcarbodiimide or water-soluble carbodiimide (1-ethyl-3- (3′-dimethylaminopropyl) carbodiimide) can be used.

Zとして示される基としては、具体的には

Figure 2005255630
等が挙げられる。
こうして得られる化合物(VII)は、NPYY5拮抗薬等として有用である。 As the group shown as Z, specifically
Figure 2005255630
Etc.
The compound (VII) thus obtained is useful as an NPYY5 antagonist and the like.

化合物(I)の塩、特に塩酸塩を用いて化合物(III)を製造した場合には、化合物(I)を用いて製造した場合と比較して副生成物の生成が抑制される。化合物(VII)は医薬品として使用され得ることから、副生成物の生成を最小限に抑え、品質を向上させるという効果は大きな意義を持つものである。   When the compound (III) is produced using a salt of the compound (I), particularly the hydrochloride, the production of by-products is suppressed as compared with the case of producing the compound (I). Since compound (VII) can be used as a pharmaceutical product, the effect of minimizing the production of by-products and improving the quality has great significance.

以下に実施例を示し、本発明をさらに詳しく説明するが、これらは本発明を限定するものではない。   The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but these are not intended to limit the present invention.

化合物(I)塩酸塩の合成(塩化水素/エタノール、トルエン溶媒置換)
0.1M塩化水素/エタノール溶液(380ml、38mmol)に化合物(I)3.25g(19.0mmol)を加え、室温で約2時間攪拌後、反応溶液を17gまで減圧濃縮した。濃縮液にトルエン49mLを加え、濃縮液が24gとなるまで減圧濃縮した。室温下30分間攪拌後、ろ過し、結晶はトルエン49mLで洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、化合物(I)塩酸塩を3.85g(収率97.6%)得た。
Synthesis of Compound (I) hydrochloride (hydrogen chloride / ethanol, toluene solvent substitution)
To a 0.1 M hydrogen chloride / ethanol solution (380 ml, 38 mmol) was added 3.25 g (19.0 mmol) of compound (I), and the mixture was stirred at room temperature for about 2 hours, and then the reaction solution was concentrated under reduced pressure to 17 g. Toluene (49 mL) was added to the concentrate, and the mixture was concentrated under reduced pressure until the concentrate reached 24 g. After stirring at room temperature for 30 minutes, the mixture was filtered, and the crystals were washed with 49 mL of toluene. The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain 3.85 g (yield 97.6%) of Compound (I) hydrochloride.

化合物(I)塩酸塩の合成(4mol/L塩化水素入り酢酸エチル、酢酸エチル溶媒)
4mol/LでHClガスを吹き込んで溶解させた塩化水素入り酢酸エチル15.3mLと酢酸エチル15mLを混合した溶液に、化合物(I)10.00g(58.4mmol)を攪拌しながら23℃から39℃で9分かけて滴下し、酢酸エチルを20mL追加してさらに氷冷で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶を酢酸エチル20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)塩酸塩11.82g(収率97.4%)を得た。
Synthesis of Compound (I) hydrochloride (4 mol / L hydrogen chloride-containing ethyl acetate, ethyl acetate solvent)
To a solution obtained by mixing 15.3 mL of ethyl acetate containing hydrogen chloride and 15 mL of ethyl acetate dissolved by blowing HCl gas at 4 mol / L, 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) was stirred at 23 to 39 ° C. The mixture was added dropwise at 9 ° C. over 9 minutes, 20 mL of ethyl acetate was added, and the mixture was further stirred with ice cooling for 1 hour. The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of ethyl acetate and then dried by heating under reduced pressure to obtain 11.82 g (yield 97.4%) of Compound (I) hydrochloride.

参考例1 化合物(I)塩酸塩の合成(塩化水素/エタノール、アセトニトリル溶媒置換)
13% 塩化水素/エタノール溶液36.03gとエタノール150mLに化合物(I)20.00g(116.8mmol)を加え、室温で10分間攪拌後不溶物を除去し、反応溶液を86gまで減圧濃縮した。濃縮液にアセトニトリル350mLを加え室温下1.5時間攪拌後、ろ過し、結晶はアセトニトリル150mLで洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、化合物(I)塩酸塩を16.07g(収率66.2%)得た。
Reference Example 1 Synthesis of Compound (I) hydrochloride (hydrogen chloride / ethanol, acetonitrile solvent substitution)
To 36.03 g of a 13% hydrogen chloride / ethanol solution and 150 mL of ethanol were added 20.00 g (116.8 mmol) of Compound (I), and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes to remove insoluble matters. The reaction solution was concentrated under reduced pressure to 86 g. 350 mL of acetonitrile was added to the concentrate, and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours, filtered, and the crystals were washed with 150 mL of acetonitrile. The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain 16.07 g (yield 66.2%) of Compound (I) hydrochloride.

参考例2 化合物(I)塩酸塩の合成(35%塩酸、トルエン溶媒)
化合物(I)10.00g(58.4mmol)とトルエン30mLを混合した溶液に、35%塩酸6.39gを攪拌しながら22℃から35℃で11分かけて滴下し、さらに室温で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶をトルエン20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)塩酸塩7.20g(収率59.4%)を得た。
Reference Example 2 Synthesis of Compound (I) Hydrochloride (35% hydrochloric acid, toluene solvent)
To a solution obtained by mixing 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) and 30 mL of toluene, 6.39 g of 35% hydrochloric acid was added dropwise at 22 ° C. to 35 ° C. over 11 minutes with stirring, and further stirred at room temperature for 1 hour. did. The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of toluene and then dried under reduced pressure to obtain 7.20 g of Compound (I) hydrochloride (yield 59.4%).

参考例3 化合物(I)塩酸塩の合成(35%塩酸、アセトン溶媒)
化合物(I)10.00g(58.4mmol)とアセトン30mLを混合した溶液に、35%塩酸6.39gを攪拌しながら21℃から32℃で10分かけて滴下し、さらに室温で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶をアセトン20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)塩酸塩5.17g(収率42.6%)を得た。
Reference Example 3 Synthesis of Compound (I) Hydrochloride (35% hydrochloric acid, acetone solvent)
To a mixed solution of 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) and 30 mL of acetone, 6.39 g of 35% hydrochloric acid was added dropwise at 21 ° C. to 32 ° C. over 10 minutes with stirring, and further stirred at room temperature for 1 hour. did. The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of acetone and then dried under reduced pressure to obtain 5.17 g of Compound (I) hydrochloride (yield 42.6%).

参考例4 化合物(I)塩酸塩の合成(35%塩酸、酢酸エチル溶媒)
化合物(I)10.00g(58.4mmol)と酢酸エチル30mLを混合した溶液に、35%塩酸6.39gを攪拌しながら21℃から34℃で10分かけて滴下し、さらに室温で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶を酢酸エチル20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)塩酸塩6.69g(収率55.2%)を得た。
Reference Example 4 Synthesis of Compound (I) Hydrochloride (35% hydrochloric acid, ethyl acetate solvent)
To a mixed solution of 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) and 30 mL of ethyl acetate, 6.39 g of 35% hydrochloric acid was added dropwise at 21 ° C. to 34 ° C. over 10 minutes with stirring, and further at room temperature for 1 hour. Stir. The mixture was filtered, and the obtained crystals were washed with 20 mL of ethyl acetate and then dried under reduced pressure to obtain 6.69 g of Compound (I) hydrochloride (yield 55.2%).

参考例5 化合物(I)塩酸塩の合成(35%塩酸、酢酸エチル溶媒、脱水濃縮)
化合物(I)10.00g(58.4mmol)と酢酸エチル30mLを混合した溶液に、35%塩酸6.39gを攪拌しながら22℃から39℃で11分かけて滴下し、室温で1時間攪拌した。酢酸エチルを25mL追加した後、減圧濃縮を行った。酢酸エチルを40mL加えての減圧濃縮を3回実施した後、この混合物を濾過し、得られた結晶を酢酸エチル20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)塩酸塩11.59g(収率95.6%)を得た。
Reference Example 5 Synthesis of Compound (I) Hydrochloride (35% hydrochloric acid, ethyl acetate solvent, concentrated by dehydration)
To a solution obtained by mixing 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) and 30 mL of ethyl acetate, 6.39 g of 35% hydrochloric acid was added dropwise at 22 ° C. to 39 ° C. over 11 minutes with stirring, and stirred at room temperature for 1 hour. did. After adding 25 mL of ethyl acetate, it concentrated under reduced pressure. After concentration under reduced pressure by adding 40 mL of ethyl acetate three times, the mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of ethyl acetate and dried by heating under reduced pressure to obtain 11.59 g of compound (I) hydrochloride (yield). Rate 95.6%).

参考例6 化合物(I)塩酸塩の合成(35%塩酸、トルエン溶媒、脱水濃縮)
化合物(I)10.00g(58.4mmol)とトルエン30mLを混合した溶液に、35%塩酸6.39gを攪拌しながら23℃から36℃で5分かけて滴下し、室温で1時間攪拌した。減圧濃縮を行った後、トルエン40mLを加えて減圧濃縮をさらに3回実施した。この混合物を濾過し、得られた結晶をトルエン20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)塩酸塩9.85g(収率81.2%)を得た。
Reference Example 6 Synthesis of Compound (I) Hydrochloride (35% hydrochloric acid, toluene solvent, dehydration concentration)
To a mixed solution of 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) and 30 mL of toluene, 6.39 g of 35% hydrochloric acid was added dropwise over 5 minutes at 23 to 36 ° C. with stirring, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. . After concentration under reduced pressure, 40 mL of toluene was added and concentration under reduced pressure was further performed three times. The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of toluene and then dried under reduced pressure to obtain 9.85 g of Compound (I) hydrochloride (yield 81.2%).

化合物(I)メタンスルホン酸塩の合成
メタンスルホン酸5.89g(58.4mmol)とトルエン30mLを混合した溶液に、化合物(I)10.00gを攪拌しながら20℃から37℃で15分かけて滴下し、トルエンを20mL追加した後さらに氷冷で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶をトルエン20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)メタンスルホン酸塩15.34g(収率98.3%)を得た。
Synthesis of Compound (I) Methanesulfonate Salt A mixture of 5.89 g (58.4 mmol) of methanesulfonic acid and 30 mL of toluene was stirred at 20 ° C. to 37 ° C. over 15 minutes while stirring 10.00 g of Compound (I). After adding 20 mL of toluene, the mixture was further stirred with ice cooling for 1 hour. The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of toluene and dried under reduced pressure to obtain 15.34 g of Compound (I) methanesulfonate (yield 98.3%).

化合物(I)p−トルエンスルホン酸塩の合成
p−トルエンスルホン酸1水和物11.66gとトルエン30mLを混合した溶液に、化合物(I)10.00g(58.4mmol)を攪拌しながら21℃から38℃で12分かけて滴下し、トルエンを20mL追加した後さらに氷冷で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶をトルエン20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)p−トルエンスルホン酸塩20.01g(収率99.8%)を得た。
Synthesis of Compound (I) p-Toluenesulfonic Acid Salt A mixture of 11.66 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate and 30 mL of toluene was added while stirring 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) 21 The mixture was added dropwise at 12 to 38 ° C. over 12 minutes, 20 mL of toluene was added, and the mixture was further stirred with ice cooling for 1 hour. The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of toluene and then dried under reduced pressure to obtain 20.01 g of Compound (I) p-toluenesulfonate (yield 99.8%).

化合物(I)硫酸塩の合成
97%硫酸3.10gとトルエン30mLを混合した溶液に、化合物(I)10.00g(58.4mmol)を攪拌しながら22℃から38℃で11分かけて滴下し、トルエンを20mL追加した後さらに氷冷で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶をトルエン20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)硫酸塩12.85g(収率99.9%)を得た。
Synthesis of Compound (I) Sulfate To a solution obtained by mixing 3.10 g of 97% sulfuric acid and 30 mL of toluene, 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) was added dropwise at 22 to 38 ° C. over 11 minutes with stirring. After adding 20 mL of toluene, the mixture was further stirred with ice cooling for 1 hour. This mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of toluene and dried under reduced pressure to obtain 12.85 g of Compound (I) sulfate (yield 99.9%).

化合物(I)酢酸塩の合成 (トルエン溶媒)
酢酸3.68gとトルエン30mLを混合した溶液に、化合物(I)10.00g(58.4mmol)を攪拌しながら19℃から39℃で11分かけて滴下し、トルエンを20mL追加した後さらに氷冷で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶をトルエン20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)酢酸塩12.96g(収率95.9%)を得た。
Synthesis of Compound (I) Acetate (Toluene solvent)
To a mixed solution of 3.68 g of acetic acid and 30 mL of toluene, 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) was added dropwise at 19 ° C. to 39 ° C. over 11 minutes with stirring, and 20 mL of toluene was added and ice was added. Stir cold for 1 hour. The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of toluene and then dried under reduced pressure to obtain 12.96 g of Compound (I) acetate (yield 95.9%).

化合物(I)酢酸塩の合成 (酢酸エチル溶媒)
酢酸3.68gと酢酸エチル50mLを混合した溶液に、化合物(I)10.00g(58.4mmol)を攪拌しながら20℃から39℃で9分かけて滴下し、氷冷で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶を酢酸エチル20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)酢酸塩12.71g(収率94.1%)を得た。
Synthesis of Compound (I) Acetate (Ethyl acetate solvent)
To a mixed solution of 3.68 g of acetic acid and 50 mL of ethyl acetate, 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) was added dropwise at 20 ° C. to 39 ° C. over 9 minutes with stirring, and the mixture was stirred for 1 hour with ice cooling. . The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of ethyl acetate and then dried under reduced pressure to obtain 12.71 g of Compound (I) acetate (yield 94.1%).

化合物(I)酢酸塩の合成 (アセトン溶媒)
化合物(I)10.00g(58.4mmol)とアセトン30mLを混合した溶液に、酢酸3.68gを攪拌しながら20℃から37℃で5分かけて滴下し、氷冷で2.5時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶をアセトン20mLで洗浄後、減圧乾燥して化合物(I)酢酸塩12.57g(収率93.1%)を得た。
Synthesis of Compound (I) Acetate (Acetone Solvent)
To a solution obtained by mixing 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) and 30 mL of acetone, 3.68 g of acetic acid was added dropwise at 20 ° C. to 37 ° C. over 5 minutes with stirring, followed by stirring with ice cooling for 2.5 hours. did. The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of acetone and then dried under reduced pressure to obtain 12.57 g (yield 93.1%) of Compound (I) acetate.

化合物(I)ギ酸塩の合成 (トルエン溶媒)
98%ギ酸2.88gとトルエン30mLを混合した溶液に、化合物(I)10.00g(58.4mmol)を攪拌しながら19℃から36℃で7分かけて滴下し、トルエンを20mL追加した後さらに氷冷で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶をトルエン20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)ギ酸塩12.32g(収率97.1%)を得た。
Synthesis of Compound (I) Formate (Toluene solvent)
To a solution obtained by mixing 2.88 g of 98% formic acid and 30 mL of toluene, 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) was added dropwise at 19 to 36 ° C. over 7 minutes with stirring, and 20 mL of toluene was added. The mixture was further stirred with ice cooling for 1 hour. The mixture was filtered, and the resulting crystals were washed with 20 mL of toluene and dried under reduced pressure to obtain 12.32 g of Compound (I) formate (yield 97.1%).

化合物(I)ギ酸塩の合成 (アセトン溶媒)
化合物(I)10.00g(58.4mmol)とアセトン30mLを混合した溶液に、ギ酸3.68gを攪拌しながら21℃から39℃で8分かけて滴下し、氷冷で1時間攪拌した。この混合物を濾過し、得られた結晶をアセトン20mLで洗浄後、減圧加熱乾燥して化合物(I)ギ酸塩12.32g(収率97.1%)を得た。
Synthesis of Compound (I) Formate (Acetone Solvent)
To a solution obtained by mixing 10.00 g (58.4 mmol) of Compound (I) and 30 mL of acetone, 3.68 g of formic acid was added dropwise at 21 ° C. to 39 ° C. over 8 minutes with stirring, followed by stirring with ice cooling for 1 hour. The mixture was filtered, and the obtained crystals were washed with 20 mL of acetone and then dried under reduced pressure to obtain 12.32 g of Compound (I) formate (yield 97.1%).

実施例1〜10で得られた化合物(I)の塩の物理恒数を下記表に示す。表中、p−TsOHはパラトルエンスルホン酸、AcOHは酢酸を示す。

Figure 2005255630
The physical constants of the salts of the compound (I) obtained in Examples 1 to 10 are shown in the following table. In the table, p-TsOH represents paratoluenesulfonic acid, and AcOH represents acetic acid.
Figure 2005255630

化合物(I)塩酸塩を原料とする化合物(V)の合成

Figure 2005255630
(式中、Etはエチル)
化合物(I)の塩酸塩6.00gにトルエン15mL、化合物(II−1)4.47gを加え2℃に冷却した後、トリエチルアミン6.72gを2℃から10℃の間で14分かけて滴下した。この混合物を0℃から10℃で60分間攪拌し、水道水12mLを加えた。この混合物に0.5M 硫酸水14.68gを10℃から18℃で滴下し、pHを5.6とした。40℃まで昇温し、塩化ナトリウム1.2gを加えた後、分液することによって上層28.1gを得た(化合物(III−1)トルエン溶液)。七モリブデン酸六アンモニウム四水和物1.07gと35%過酸化水素水4.21gを混合した溶液に上記化合物(III−1)トルエン溶液を40℃から55℃で26分かけて滴下し、40℃付近で210分間攪拌した。この混合物に8%亜硫酸ナトリウム水48mLを34℃から49℃で9分かけて滴下し、残存過酸化物を除去した後トルエン24mLを追加し分液して上層49.41gを得た(化合物(IV−1)トルエン溶液)。この化合物(IV−1)トルエン溶液に水51mLを加えた後、48%水酸化ナトリウム水溶液6.02gを添加し、55℃付近で60分間攪拌した。この混合物を分液し、水層を40℃まで冷却した後、10%硫酸水36.67gを40℃から42℃で滴下することによってpHを2.5とし、中和晶析させた。この混合物を3℃付近で30分攪拌した後、反応混合物を濾過し、濾物を42mLの水道水で洗浄した。未乾晶を取り出し、減圧下加熱(50℃)乾燥し、6.01gの化合物(V−1)を得た(収率79.0% アミノエチルエステル塩酸塩基準)。得られた化合物(V−1)は特許文献2に記載の化合物13と同一物質であった。 Synthesis of Compound (V) Using Compound (I) Hydrochloride as a Raw Material
Figure 2005255630
(In the formula, Et is ethyl)
To 6.00 g of the hydrochloride of compound (I), 15 mL of toluene and 4.47 g of compound (II-1) were added and cooled to 2 ° C., then 6.72 g of triethylamine was added dropwise between 2 ° C. and 10 ° C. over 14 minutes. did. The mixture was stirred at 0 ° C. to 10 ° C. for 60 minutes, and 12 mL of tap water was added. To this mixture, 14.68 g of 0.5 M aqueous sulfuric acid was added dropwise at 10 ° C. to 18 ° C. to adjust the pH to 5.6. The temperature was raised to 40 ° C., and 1.2 g of sodium chloride was added, followed by liquid separation to obtain 28.1 g of an upper layer (compound (III-1) toluene solution). To a solution obtained by mixing 1.07 g of hexamolybdenum hexamolybdate tetrahydrate and 4.21 g of 35% hydrogen peroxide solution, the above compound (III-1) toluene solution was added dropwise at 40 to 55 ° C. over 26 minutes, The mixture was stirred at around 40 ° C for 210 minutes. To this mixture, 48 mL of 8% aqueous sodium sulfite was added dropwise at 34 ° C. to 49 ° C. over 9 minutes, and after removing residual peroxide, 24 mL of toluene was added and liquid-separated to obtain 49.41 g of the upper layer (compound ( IV-1) Toluene solution). After adding 51 mL of water to this compound (IV-1) toluene solution, 6.02 g of 48% aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was stirred at around 55 ° C. for 60 minutes. The mixture was separated and the aqueous layer was cooled to 40 ° C., and 36.67 g of 10% sulfuric acid aqueous solution was added dropwise at 40 ° C. to 42 ° C. to adjust the pH to 2.5 for crystallization. After the mixture was stirred at around 3 ° C. for 30 minutes, the reaction mixture was filtered, and the filtrate was washed with 42 mL of tap water. Undried crystals were taken out and dried under reduced pressure (50 ° C.) to obtain 6.01 g of compound (V-1) (yield 79.0% based on aminoethyl ester hydrochloride). The obtained compound (V-1) was the same substance as the compound 13 described in Patent Document 2.

化合物(I)または化合物(I)の塩酸塩から製造した化合物(V−1)を20%アセトニトリル水に溶かし、HPLC(検出器:UV 208nm)により分析し、面積百分率法により各副生成物の量を求めた.

Figure 2005255630
上記副生成物2はLC-MSより下記誘導体であると推定される。
Figure 2005255630
上記より明らかなとおり、塩酸塩を用いて化合物(V−1)を製造した場合には副生成物の生成がほとんど見られなかった。 Compound (I) or Compound (V-1) prepared from hydrochloride of Compound (I) is dissolved in 20% acetonitrile water, analyzed by HPLC (detector: UV 208 nm), and each by-product is analyzed by area percentage method. The amount was determined.
Figure 2005255630
By-product 2 is estimated to be the following derivative from LC-MS.
Figure 2005255630
As apparent from the above, when the compound (V-1) was produced using the hydrochloride, almost no by-product was observed.

試験例1 化合物(I)塩酸塩の安定性
化合物(I)その塩酸塩を50%アセトニトリルに溶解させた。これをHPLC(検出器:UV 215nm)により分析し、面積百分率法により各類縁物質の量を求めた。
下記に結果を示す。化合物(I)には二量体等の不純物が混入しており、経時的に不純物の増加が見られた。一方、化合物(I)の塩酸塩は保存後においても不純物は検出されず、安定であることがわかる。

Figure 2005255630
Test Example 1 Stability of Compound (I) Hydrochloride Compound (I) hydrochloride was dissolved in 50% acetonitrile. This was analyzed by HPLC (detector: UV 215 nm), and the amount of each related substance was determined by the area percentage method.
The results are shown below. Compound (I) was contaminated with impurities such as dimers, and an increase in impurities was observed over time. On the other hand, it can be seen that the hydrochloride of the compound (I) is stable with no impurities detected even after storage.
Figure 2005255630

本発明の化合物(I)の塩は医薬品等の合成原料または中間体として有用な化合物である。また、化合物(I)の塩酸塩の新規製造方法は高収率かつ安全な方法として工業的製造に利用可能である。さらに、化合物(I)の塩を原料とする化合物(V)の製造法は副生成物の生成率が低く、非常に有用な方法である。


The salt of the compound (I) of the present invention is a compound useful as a synthetic raw material or an intermediate for pharmaceuticals and the like. Moreover, the new manufacturing method of hydrochloride of compound (I) can be utilized for industrial manufacture as a high yield and safe method. Furthermore, the production method of the compound (V) using the salt of the compound (I) as a raw material is a very useful method with a low production rate of by-products.


Claims (5)

塩化水素を溶解させた有機溶媒中で式(I):
Figure 2005255630
(式中、Etはエチル)
で示される化合物を処理することを特徴とする、式(I)記載の化合物の塩酸塩の製造方法。
Formula (I) in an organic solvent in which hydrogen chloride is dissolved:
Figure 2005255630
(In the formula, Et is ethyl)
A process for producing a hydrochloride of a compound according to formula (I), characterized in that the compound represented by formula (I) is treated.
塩化水素を溶解させたエタノール中で式(I):
Figure 2005255630
(式中、Etはエチル)
で示される化合物を処理し、濃縮した後にトルエンを添加することを特徴とする、式(I)記載の化合物の塩酸塩の製造方法。
Formula (I) in ethanol in which hydrogen chloride is dissolved:
Figure 2005255630
(In the formula, Et is ethyl)
A method for producing a hydrochloride salt of a compound according to formula (I), wherein the compound represented by formula (I) is treated and concentrated, followed by addition of toluene.
以下の工程
(工程1)式(I):
Figure 2005255630
(式中、Etはエチル)で示される化合物の塩および式(II):
Figure 2005255630
(式中、R1は低級アルキル)で示される化合物を反応させる工程、
(工程2)得られた化合物を酸化する工程、および
(工程3)得られた化合物を加水分解する工程
を含むことを特徴とする、式(V)
Figure 2005255630
(式中、R1は低級アルキル)で示される化合物の製造方法。
The following steps (Step 1) Formula (I):
Figure 2005255630
(Wherein Et is ethyl) and a salt of the compound represented by formula (II):
Figure 2005255630
A step of reacting a compound represented by the formula (wherein R 1 is lower alkyl):
(Step 2) comprising the step of oxidizing the obtained compound, and (Step 3) the step of hydrolyzing the obtained compound.
Figure 2005255630
(Wherein R 1 is lower alkyl).
式(I)で示される化合物の塩が塩酸塩である、請求項3記載の製造方法。 The manufacturing method of Claim 3 whose salt of the compound shown by a formula (I) is hydrochloride. 式(I):
Figure 2005255630
(式中、Etはエチル)で示される化合物のメタンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、硫酸塩、酢酸塩またはギ酸塩。
Formula (I):
Figure 2005255630
A methanesulfonate, p-toluenesulfonate, sulfate, acetate or formate salt of the compound represented by the formula (Et is ethyl).
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