JP2005254094A - Method for manufacturing substrate with fine particles arranged on its surface, substrate manufactured by the method and article to which its surface structure is transferred - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表面に微粒子が配列された基板の製造法、その方法により製造された表面に微粒子が配列された基板及びその基板の表面構造が転写された物品に関する。 The present invention relates to a method for producing a substrate having fine particles arranged on the surface, a substrate having fine particles arranged on the surface produced by the method, and an article to which the surface structure of the substrate is transferred.
従来より、微粒子を基板上に整列させる方法は、干渉膜、反射膜、反射防止膜、2次元マルチレンズ、調光膜等の各種光学材料、電導膜、電磁遮蔽膜、LSI用基板、半導体レーザー固体素子、光記録媒体、磁気記憶媒体等の各種電子材料、高感度感光紙等の写真材料、高機能触媒などの各種分野において有用な微粒子薄膜又は微粒子結晶化膜の大量連続製造方法に利用が期待できる技術である。
微粒子を基板上に整列させる方法としては、エマルジョンやサスペンション等の微粒子分散系から微粒子の薄膜を乾燥固化により得る分散系の方法として、スピンコート法、塗布法、ディピング法などが知られており、実用的にも一般的に用いられている。
Conventionally, methods for aligning fine particles on a substrate include various optical materials such as interference films, reflection films, antireflection films, two-dimensional multi-lenses, and light control films, conductive films, electromagnetic shielding films, LSI substrates, and semiconductor lasers. It can be used in large-scale continuous manufacturing methods of fine particle thin films or fine particle crystallized films useful in various fields such as various electronic materials such as solid elements, optical recording media, magnetic storage media, photographic materials such as high-sensitivity photosensitive paper, and high-performance catalysts. This is a promising technology.
As a method of aligning the fine particles on the substrate, a spin coating method, a coating method, a dipping method, etc. are known as a dispersion method for obtaining a thin film of fine particles by drying and solidifying from a fine particle dispersion system such as an emulsion or a suspension. It is generally used practically.
しかしながら、実情においては、このスピンコート法、塗布法およびディピング法等の微粒子分散系の薄膜作成方法の場合には、微粒子薄膜の厚さ、層数、微粒子密度を精度よく、かつ、同時に制御することは困難であった。
たとえば、スピンコート法は非常に薄い微粒子膜を作成することが可能ではあるが、その微粒子密度は非常に制御しにくいという欠点がある。
また塗布法は微粒子密度を高くすることは可能ではあるが、通常は、10μm以上の非常に厚い膜しか作成することができないという欠点がある。
However, in reality, in the case of the fine particle dispersion type thin film forming method such as the spin coating method, the coating method, and the dipping method, the thickness, the number of layers, and the fine particle density of the fine particle thin film are accurately and simultaneously controlled. It was difficult.
For example, the spin coating method can produce a very thin fine particle film, but has a drawback that the fine particle density is very difficult to control.
In addition, the coating method can increase the fine particle density, but usually has a drawback that only a very thick film of 10 μm or more can be formed.
このような欠点を解決する方法として、微粒子分散系の薄膜形成を制御する方法が提案されている(特許文献1参照)。
本発明は、従来の分散薄膜系に薄膜作成方法の問題点を解決するものとして、まったく異なる原理で、表面に微粒子が配列された基板の製造法であって、微粒子を基板上に規則的に配列させることも可能な方法、その方法により製造される特定の表面構造を有する基板及びその表面構造が転写された物品を提供するものである。 The present invention is a method of manufacturing a substrate in which fine particles are arrayed on the surface by a completely different principle as a solution to the problem of the thin film preparation method in the conventional dispersed thin film system, and the fine particles are regularly arranged on the substrate. The present invention provides a method that can be arranged, a substrate having a specific surface structure manufactured by the method, and an article to which the surface structure is transferred.
本発明は、次のものに関する。
1. 微粒子を含む懸濁液に基板を浸し、基板を懸濁液から所定角度で引き抜くことにより微粒子を基板上に集積することを特徴とする表面に微粒子が配列された基板の製造法。
2. 微粒子が単層で集積されることを特徴とする項1記載の表面に微粒子が配列された基板の製造法。
3. 基板が、親水部と疎水部で構成され、親水部のみに微粒子が集積されることを特徴とする項1又は項2記載の表面に微粒子が配列された基板の製造法。
4. 項1〜3のいずれかに記載の方法により製造された表面に微粒子が配列された基板。
5. 項4記載の表面に微粒子が配列された基板の表面微細構造が転写された表面を有する物品。
6. 微粒子を含む懸濁液に基板を浸し、基板を懸濁液から所定角度で引き抜くことにより微粒子を基板上に配列させることを特徴とする微粒子の配列方法。
The present invention relates to the following.
1. A method for producing a substrate in which fine particles are arranged on a surface, wherein the fine particles are accumulated on the substrate by immersing the substrate in a suspension containing the fine particles and pulling the substrate from the suspension at a predetermined angle.
2.
3.
4).
5). An article having a surface on which a surface microstructure of a substrate in which fine particles are arranged on the surface according to
6). A method for arranging fine particles, comprising immersing a substrate in a suspension containing fine particles, and arranging the fine particles on the substrate by pulling the substrate out of the suspension at a predetermined angle.
本発明に係る製造法によれば、基板上に微粒子を容易に配列されることができ、特に所望の位置や向きへ規則的に整列させることができ、また、微粒子薄膜を高精度で大量に連続生産することができる。これにより製造された基板は、表面に微粒子が配列されており、種々の機能性基板として有用である。また、この基板の表面構造を転写された物品も機能性表面を有するものとして有用である。たとえば、表面に規則的凹凸を持たせ、光の回折を利用した色材や、親水や超撥水などに機能化された製品に応用することができる。 According to the production method of the present invention, the fine particles can be easily arranged on the substrate, and can be regularly aligned particularly in a desired position and orientation, and the fine particle thin film can be produced in a large amount with high accuracy. Can be produced continuously. The substrate thus produced has fine particles arranged on the surface, and is useful as various functional substrates. Further, an article to which the surface structure of the substrate is transferred is also useful as having a functional surface. For example, it can be applied to a color material that has regular irregularities on the surface and uses light diffraction, or a product that is functionalized to hydrophilicity or super water-repellency.
まず、微粒子の基板上への整列方法を説明する。
図1は、表面に微粒子が配列された基板の製造法の概要を示す図である。図1において、右の図は、左の図の四角で囲った部分の拡大図である。
図1に示すように、微粒子1を含む懸濁液2に基板3を浸し、その後、基板3を懸濁液2から一定の角度θ(図1参照)で引き抜く。このとき、水面付近では毛細管力が働くため、懸濁液2が基板3に引き付けられ、結果として微粒子1が基板3上に集積される。引き付けられた液体の膜厚は次第に薄くなるため、微粒子1は単層で集積化される。角度θはこの集積化の状況に応じて適宜決定されるが、好ましくは30〜75度の範囲から適宜選択される。集積化された微粒子1間の液体を乾燥させる過程において、微粒子1間に働く液架橋力により、微粒子1はさらに高密度に整列する。
First, a method for aligning fine particles on a substrate will be described.
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a method for producing a substrate having fine particles arranged on the surface. In FIG. 1, the right figure is an enlarged view of a portion surrounded by a square in the left figure.
As shown in FIG. 1, the
本発明における微粒子1とは、平均粒径(直径)が0.3〜1.5μmのものが好ましく、より好ましくは平均粒径が0.992〜0.994μmである。材質は樹脂が一般的であり、特に大きさがそろい、水と比重が近いポリスチレン微粒子が好ましい。微粒子としては、ポリスチレン粒子以外に、ポリメチルメタクリレート等の熱可塑性樹脂の粒子等がある。
The
分散媒体としては、水又は水とアセトニトリル等の水溶性有機溶剤の混合物などの水性媒体が好ましい。しかし、これらに限られず、場合により有機溶媒その他の溶媒を用いてもよい。 The dispersion medium is preferably an aqueous medium such as water or a mixture of water and a water-soluble organic solvent such as acetonitrile. However, the present invention is not limited to these, and an organic solvent or other solvent may be used in some cases.
本発明における懸濁液2は、水中に微粒子1が分散されたものであり、微粒子1が体積で0.1〜10%の濃度で含まれることが好ましく、より好ましくは0.9〜1.1%である。微粒子の分散のために、必要なら、分散剤を添加してもよい。分散剤として、水溶性の高分子コロイド、難溶性リン酸塩、界面活性剤等の水性媒体に溶解又は分散するものが好ましい。水溶性高分子コロイドとしては、ポリビニルアルコール、アクリロニトリル、アルキルセルロース、カルボキシアルキルセルロース等のセルロース誘導体が挙げられる。また、難溶性リン酸塩としては、リン酸三カルシウム、リン酸マグネシウム等が挙げられる。分散剤は、樹脂粒子に対して0.1〜1重量%使用するのが好ましい。界面活性剤は、樹脂粒子に対して0.005〜0.5重量%使用することが好ましい。分散剤として難溶性リン酸塩を使用する場合は、同時に、ドデシルベンゼンスルフォン酸ソーダ等の陰イオン界面活性剤を使用することが好ましい。
The
図2は、懸濁液の媒体として、水性媒体を使用した場合、親水部4と疎水部5で構成された基板3の例である。親水部4と疎水部5が隣接して交互に配列されている。このような基板3を前記したように懸濁液2から引き抜くと、懸濁液2が親水部4にトラップされ、親水部4にのみ微粒子1が配列し、疎水部5には微粒子1が並ばない。
FIG. 2 shows an example of the
本発明において、基板としては、シリコン(例えば、シリコンウェハー等)、鉄(例えば鉄板等)などの金属その他の材質のものが使用でき、形状としては任意であるが、懸濁液に浸漬しやすい形状が好ましい。
図3は、表面が親水部4と疎水部5で構成された基板3の製法を示す説明図である。シリコン6上に感光性のレジスト7を一様に塗布する。レジスト7にUV光9を選択的に照射するために、ガラスマスク8を疎水部5に相当する箇所がUV光9を通すようにパターン形成し、UV光9をレジスト7に照射し、現像すると、疎水部5に相当する箇所のレジスト7が剥がれた状態になる。さらに、一様に疎水材料10を塗布し、レジスト7を除去し、さらに親水部4に相当する箇所に親水処理して親水性膜11を作製した。
In the present invention, as the substrate, a metal or other material such as silicon (for example, a silicon wafer) or iron (for example, an iron plate) can be used, and the shape is arbitrary, but it is easy to be immersed in the suspension. Shape is preferred.
FIG. 3 is an explanatory view showing a method of manufacturing the
本発明における疎水材料10とは、平らな表面に水を静かに滴下したときの接触角が90〜150度である材料であり、特に、ポリ(トテラフルオロエチレン)(PTFE)は104〜105度で好適に用いられる。
The
本発明における親水性膜11とは、シリコン表面上を酸化させ親水化し、接触角が20度以下にすることである。特にSPM処理と呼ばれる硫酸と水の比を適宜調整した溶液に所定時間浸漬させ、表面をSiO2化させる処理が好ましい。 In the present invention, the hydrophilic film 11 means that the silicon surface is oxidized and hydrophilized so that the contact angle is 20 degrees or less. In particular, a treatment called SPM treatment in which a ratio of sulfuric acid and water is appropriately adjusted is immersed for a predetermined time to convert the surface into SiO 2 .
本発明における親水部4と疎水部5は隣接され交互に配列されているが、その形状や配列には特に制約がない。たとえば疎水部5を点在させ、その周囲に連続させて親水部4を配列させることもできる。
In the present invention, the
図4は、微粒子1が整列された基板3の表面構造を転写した物品の製造の概略説明図である。基板3上の微粒子1は、基板3と微粒子1の界面や微粒子1のわずかに存在する水分子が大きな付着力として作用するため、微粒子1は基板3をたたいたり振ったりしたぐらいでは落下することはなく、この状態で、放置したり加熱するなど何らかの方法により乾燥固化させることによって、微粒子を定着させることができる。このように、表面に微粒子が配列された基板をマスター品12として使用することができる。
FIG. 4 is a schematic explanatory view of the manufacture of an article to which the surface structure of the
マスター品12を型として表面状態を転写した物品を製造するには、ニッケルや銅を素材として電鋳法を用いて、マスター品12の表面を忠実に反転した電鋳型13を製作し、さらにこの電鋳型13で樹脂材料14を加熱しながら押し付け成形することで、電鋳型13の表面を樹脂材料14に転写し、マスター品12で得られていた通りの表面形状の製品を製造することができるのである。尚、樹脂材料14としてはポリメチルメタクリレート、ポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂や、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂などが用いられる。加熱する温度や加圧力などは製品によってことなる。
In order to manufacture an article in which the surface state is transferred using the master product 12 as a mold, an
はじめに、懸濁液2を基板3上に滴下し、親水性4と疎水性5の境界付近における微粒子1の振る舞いを調べた。図5は、その方法と結果を示す。
First, the
親水部4と疎水部5に二分された基板3は、シリコンからなる基板にPTFEをアルゴンイオンを用いたスパッタ法により蒸着して塗布することにより疎水部に10nm厚さのPTFE層(厚さは原始間顕微鏡により確認)を形成し、この後、PTFEで被覆されなかった面は、希硫酸で表面処理した。
The
親水部4と疎水部5に二分された基板3の境界部に懸濁液2を滴下したところ、懸濁液2は表面張力により疎水部5から親水部4に引き寄せられ、濡れ拡がり、その後、水分を自然乾燥させた(図5(a)参照)。ここでは、平均粒径(直径)が0.993±0.021μmのポリスチレン微粒子を含む懸濁液(濃度1%、Duke Scientific Corporation製粒子径標準ポリスチレン)を用いた。また、気温20℃、湿度50%の環境に保たれたクリーンルームで行った。
When the
その結果、境界に沿って、微粒子1が親水部4側に自己整列していることがわかり、微粒子列がほぼ直線性を有している(図5(b)の電子顕微鏡写真参照)。図5(b)において、右の写真は、左の写真の四角で囲った部分の拡大写真である。したがって、このように親水部4と疎水部5を配列することにより、微粒子1の自己整列位置と向きを制御できることがわかった。
As a result, it can be seen that the
図6は、本発明に係る一実施例の基板3上での微粒子1の整列状態を示す電子顕微鏡写真である。図6において、右の写真は、左の写真の四角で囲った部分の拡大写真である。
親水部4と疎水部5の配列は、ピッチ12μm、親水部4の幅4μmとした。引き上げ角度は60度とし、引き上げ速度は3.3μm/sとした。
微粒子1は、広範囲にわたって親水部4と疎水部5の境界線に沿って整列していることがわかる。
さらに、引き上げ角度や引き上げ速度を変化させることで、微粒子の整列を変化させることができるので、角度と速度を調整することで、微粒子の供給量が調整可能になり、整列精度を向上させることができる。
FIG. 6 is an electron micrograph showing the alignment state of the
The arrangement of the
It can be seen that the
Furthermore, since the alignment of the fine particles can be changed by changing the pulling angle and the pulling speed, the supply amount of the fine particles can be adjusted by adjusting the angle and the speed, and the alignment accuracy can be improved. it can.
1:微粒子
2:懸濁液
3:基板
4:親水部
5:疎水部
6:シリコン
7:レジスト
8:ガラスマスク
9:UV光
10:疎水材料
11:親水性膜
12:マスター品
13:電鋳型
14:樹脂材料
1: Fine particle 2: Suspension 3: Substrate 4: Hydrophilic part 5: Hydrophobic part 6: Silicon 7: Resist 8: Glass mask 9: UV light 10: Hydrophobic material 11: Hydrophilic film 12: Master product 13: Electromold 14: Resin material
Claims (6)
A method for arranging fine particles, comprising immersing a substrate in a suspension containing fine particles, and arranging the fine particles on the substrate by pulling the substrate out of the suspension at a predetermined angle.
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