JP2005247710A - Method for producing optically active citalopram, intermediate thereof and method for producing the same - Google Patents

Method for producing optically active citalopram, intermediate thereof and method for producing the same Download PDF

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JP2005247710A
JP2005247710A JP2004056917A JP2004056917A JP2005247710A JP 2005247710 A JP2005247710 A JP 2005247710A JP 2004056917 A JP2004056917 A JP 2004056917A JP 2004056917 A JP2004056917 A JP 2004056917A JP 2005247710 A JP2005247710 A JP 2005247710A
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Tetsuya Ikemoto
哲哉 池本
Yosuke Watanabe
要介 渡邉
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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    • C07D319/061,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes not condensed with other rings

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an optically active citalopram in higher atom economy than ever. <P>SOLUTION: The method comprises reacting an organometallic reagent(V) on a compound(IV) to form a compound(VI) stereoselectively, which is then derived into the objective optically active citalopram. In the formulas, X is cyano or the like; Y<SP>1</SP>is dimethylamino or the like; R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are each a (substituted) lower alkyl or the like; M is MgX<SP>1</SP>( X<SP>1</SP>is a halogen atom ) or the like; * denotes an asymmetric carbon atom; and n is an integer of 0 or 1-3. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、抗うつ剤として有用である光学活性シタロプラムの製造方法、その合成中間体およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing optically active citalopram useful as an antidepressant, a synthetic intermediate thereof, and a method for producing the same.

一般式(X’):   Formula (X ′):

Figure 2005247710
Figure 2005247710

で表される光学活性シタロプラムは抗うつ剤として有用であり、様々な製造方法が報告されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、従来、光学分割法により得られる光学活性な中間体を経由する方法が知られているのみであり、不要なエナンチオマーを半分捨てることになり、アトムエコノミーが低いため、環境およびコスト上の問題があり、有利な製造方法とは言えなかった。
特開平2−36177号公報
Is useful as an antidepressant, and various production methods have been reported (for example, see Patent Document 1).
However, conventionally, only a method via an optically active intermediate obtained by the optical resolution method is known, and half of the unnecessary enantiomer is discarded, and the atom economy is low, so environmental and cost problems. Therefore, it was not an advantageous production method.
JP-A-2-36177

本発明の目的は、新規な立体選択的反応を開発してアトムエコノミーの向上を図ることにより、光学活性シタロプラムを効率的に製造できる方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method capable of efficiently producing optically active citalopram by developing a novel stereoselective reaction to improve the atom economy.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究した結果、後掲の一般式(II)で表される新規中間体のホルミル基を後掲の一般式(III)で表される光学活性ジオールで保護することにより後掲の一般式(IV)で表される光学活性中間体を得、これを用いて有機金属法などで側鎖部を導入すると、光学活性シタロプラムの不斉中心を選択的かつ効率的に誘起できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]一般式(II):
As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have found that the formyl group of a novel intermediate represented by the following general formula (II) is converted into an optical activity represented by the following general formula (III). By protecting with a diol, an optically active intermediate represented by the following general formula (IV) is obtained, and when this is used to introduce a side chain moiety by an organometallic method, the asymmetric center of the optically active citalopram is selected. As a result, the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
[1] General formula (II):

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示す。)で表される化合物(以下、化合物(II)ともいう。)。
[2]一般式(I):
(Wherein X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group) (hereinafter also referred to as compound (II)).
[2] General formula (I):

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、Xは前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(I)ともいう。)を酸化する工程を含むことを特徴とする、化合物(II)の製造方法。
[3]一般式(IV):
(In the formula, X is as defined above.) A method for producing compound (II), comprising a step of oxidizing a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (I)).
[3] General formula (IV):

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、Xは前記と同義を示し、RおよびRは、同一または異なって、それぞれ独立して置換基を有していてもよい低級アルキル基を示し、nは0または1〜3の整数を示し、*は不斉炭素を示す。)で表される化合物(以下、化合物(IV)ともいう。)。
[4]化合物(II)を、酸の存在下、一般式(III):
Wherein X is as defined above, R 1 and R 2 are the same or different and each independently represents a lower alkyl group which may have a substituent, and n is 0 or 1-3. A compound represented by the following formula: * represents an asymmetric carbon) (hereinafter also referred to as compound (IV)).
[4] Compound (II) in the presence of an acid is represented by the general formula (III):

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される光学活性ジオール化合物(以下、光学活性ジオール化合物(III)ともいう。)と反応させる工程を含むことを特徴とする、化合物(IV)の製造方法。
[5]上記[2]記載の方法により得られる化合物(II)を用いる、上記[4]記載の製造方法。
[6]一般式(VI):
(Wherein each symbol has the same meaning as described above) and a step of reacting with an optically active diol compound (hereinafter also referred to as optically active diol compound (III)) IV) Production method.
[5] The production method of the above-mentioned [4], wherein the compound (II) obtained by the method of the above-mentioned [2] is used.
[6] General formula (VI):

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、Yはジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、他の各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VI)ともいう。)またはその塩。
[7]化合物(IV)を、一般式(V):
(Wherein Y 1 represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and other symbols are as defined above) (hereinafter also referred to as compound (VI)). Or its salt.
[7] Compound (IV) is converted to general formula (V):

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、Yは前記と同義を示し、MはLiまたはMgX(ここで、Xはハロゲン原子を示す。)を示す。)で表される有機金属試薬(以下、有機金属試薬(V)ともいう。)と反応させる工程を含むことを特徴とする、化合物(VI)またはその塩の製造方法。
[8]上記[4]または[5]記載の方法により得られる化合物(IV)を用いる、上記[7]記載の製造方法。
[9]一般式(VII):
(Wherein Y 1 has the same meaning as described above, M represents Li or MgX 1 (where X 1 represents a halogen atom)) (hereinafter referred to as organometallic reagent ( V).) A method for producing compound (VI) or a salt thereof, comprising a step of reacting with V).
[8] The production method of the above-mentioned [7], wherein the compound (IV) obtained by the method of the above-mentioned [4] or [5] is used.
[9] General formula (VII):

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、Yは、Yと同一または異なって、ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、Xおよび*は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VII)ともいう。)またはその塩。
[10]化合物(VI)またはその塩を脱保護する工程を含むことを特徴とする、化合物(VII)またはその塩の製造方法。
[11]上記[7]または[8]記載の方法により得られる化合物(VI)を用いる、上記[10]記載の製造方法。
[12]化合物(VII)またはその塩を還元する工程を含むことを特徴とする、一般式(VIII):
(Wherein Y 2 is the same as or different from Y 1 and represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and X and * have the same meanings as described above). Compound (VII)) or a salt thereof.
[10] A process for producing compound (VII) or a salt thereof, comprising a step of deprotecting compound (VI) or a salt thereof.
[11] The production method of the above-mentioned [10], wherein the compound (VI) obtained by the method of the above-mentioned [7] or [8] is used.
[12] General formula (VIII), which comprises a step of reducing compound (VII) or a salt thereof:

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、Yは、YおよびYと同一または異なって、ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、Xおよび*は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VIII)ともいう。)またはその塩の製造方法。
[13]上記[10]または[11]記載の方法により得られる化合物(VII)を用いる、上記[12]記載の製造方法。
[14]化合物(VII)またはその塩を環化還元する工程を含むことを特徴とする、一般式(IX):
(Wherein Y 3 is the same as or different from Y 1 and Y 2 and represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and X and * are as defined above). (Hereinafter also referred to as compound (VIII)) or a salt thereof.
[13] The production method of the above-mentioned [12], wherein the compound (VII) obtained by the method of the above-mentioned [10] or [11] is used.
[14] A compound represented by the general formula (IX), which comprises a step of cyclizing and reducing the compound (VII) or a salt thereof:

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、Yは、YおよびYと同一または異なって、ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、X及び*は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(IX)ともいう。)またはその塩の製造方法。
[15]上記[10]または[11]記載の方法により得られる化合物(VII)を用いる、上記[14]記載の製造方法。
[16]上記[12]または[13]記載の方法により得られる化合物(VIII)またはその塩を、(i)環化反応に付して、フタラン環を形成する工程、(ii)Xがシアノ基でない場合は、シアノ基に変換する工程、および(iii)Yがジメチルアミノ基でない場合は、ジメチルアミノ基に変換する工程を含むことを特徴とする、式(X):
(Wherein Y 4 is the same as or different from Y 1 and Y 2 and represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and X and * are as defined above). (Hereinafter also referred to as compound (IX)) or a method for producing a salt thereof.
[15] The production method of the above-mentioned [14], wherein the compound (VII) obtained by the method of the above-mentioned [10] or [11] is used.
[16] (i) A step of subjecting compound (VIII) or a salt thereof obtained by the method described in [12] or [13] above to a cyclization reaction to form a phthalane ring, (ii) X is cyano Formula (X), which comprises a step of converting to a cyano group if not a group, and (iii) a step of converting to a dimethylamino group if Y 3 is not a dimethylamino group:

Figure 2005247710
Figure 2005247710

で表される化合物(以下、化合物(X)ともいう。)のフリー塩基(光学活性シタロプラム)またはその酸付加塩の製造方法。
[17]上記[14]または[15]記載の方法により得られる化合物(IX)またはその塩を、(i)Xがシアノ基でない場合はシアノ基に変換する工程および(ii)Yがジメチルアミノ基でない場合はジメチルアミノ基に変換する工程を含むことを特徴とする、化合物(X)のフリー塩基(光学活性シタロプラム)またはその酸付加塩の製造方法。
[18]上記[2]、[4]、[7]、[10]、[12]および[14]記載の製造方法から選ばれる少なくとも一つの方法を含むことを特徴とする、化合物(X)のフリー塩基(光学活性シタロプラム)またはその酸付加塩の製造方法。
A free base (optically active citalopram) of a compound represented by the formula (hereinafter also referred to as compound (X)) or an acid addition salt thereof.
[17] Compound (IX) or a salt thereof obtained by the method described in [14] or [15] above, (i) when X is not a cyano group, and (ii) Y 4 is dimethyl A method for producing a free base (optically active citalopram) of compound (X) or an acid addition salt thereof, comprising a step of converting to a dimethylamino group when it is not an amino group.
[18] Compound (X) comprising at least one method selected from the production methods described in [2], [4], [7], [10], [12] and [14] above Of a free base (optically active citalopram) or an acid addition salt thereof.

本発明の製造方法によれば、光学活性シタロプラムの不斉中心を高選択的かつ効率的に誘導することができ、光学分割法のように不要なエナンチオマーを捨てる必要がないため、従来法より高いアトムエコノミーで、光学活性シタロプラムを製造することができる。   According to the production method of the present invention, the asymmetric center of optically active citalopram can be induced with high selectivity and efficiency, and it is not necessary to discard unnecessary enantiomers as in the optical resolution method. An optically active citalopram can be produced in the atom economy.

以下、本発明について詳細に説明する。
まず、本発明で用いられている記号の定義を説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
First, the definition of symbols used in the present invention will be described.

Xで示される「シアノ基に変換可能な基」とは、1または2以上の工程を経てシアノ基に変換できるものであれば特に限定はなく、例えばハロゲン原子(例、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、保護された水酸基、保護されたヒドロキシメチル基、保護されたアミノ基、保護されたホルミル基、保護されたカルボキシル基等が挙げられ、有機金属試薬(V)との反応を回避する必要がある点、およびシアノ基への変換しやすさの点から、ハロゲン原子、保護された水酸基、保護されたカルボキシル基が好ましい。   The “group that can be converted into a cyano group” represented by X is not particularly limited as long as it can be converted into a cyano group through one or more steps. For example, a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, Iodine atom, etc.), protected hydroxyl group, protected hydroxymethyl group, protected amino group, protected formyl group, protected carboxyl group, etc., and avoid reaction with organometallic reagent (V) From the point of needing to be converted and the ease of conversion to a cyano group, a halogen atom, a protected hydroxyl group, and a protected carboxyl group are preferred.

「保護された水酸基」および「保護されたヒドロキシメチル基」の保護基としては特に限定はなく、例えば、2−テトラヒドロピラニル基、2−テトラヒドロフラニル基、1−エトキシエチル基、ベンジル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、tert−ブチルジメチルシリル基等が挙げられ、有機金属試薬(V)と反応の反応を回避するためには、2−テトラヒドロピラニル基、1−エトキシエチル基が好ましい。   There are no particular limitations on the protecting group of the “protected hydroxyl group” and “protected hydroxymethyl group”, and examples thereof include 2-tetrahydropyranyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, 1-ethoxyethyl group, benzyl group, methoxy group. Examples thereof include a methyl group, a benzyloxymethyl group, a tert-butyldimethylsilyl group and the like, and a 2-tetrahydropyranyl group and a 1-ethoxyethyl group are preferable in order to avoid reaction of the reaction with the organometallic reagent (V). .

「保護されたアミノ基」は特に限定はなく、例えば、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基等が挙げられ、有機金属試薬(V)と反応の反応を回避するためには、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基が好ましい。   The “protected amino group” is not particularly limited, and examples thereof include a benzyloxycarbonylamino group, a tert-butoxycarbonylamino group, an ethoxycarbonylamino group, a methoxycarbonylamino group, and the like, which react with the organometallic reagent (V). In order to avoid this reaction, a benzyloxycarbonylamino group and a tert-butoxycarbonylamino group are preferred.

「保護されたホルミル基」は特に限定はなく、例えば、ジメトキシメチル基、1,3−ジオキソラン−2−イル基、1,3−ジオキサン−2−イル基、1,3−ジチオラン−2−イル基、1,3−ジチアン−2−イル基等が挙げられ、有機金属試薬(V)と反応の反応を回避するためには、ジメトキシメチル基、1,3−ジオキソラン−2−イル基が好ましい。   The “protected formyl group” is not particularly limited, and examples thereof include a dimethoxymethyl group, a 1,3-dioxolan-2-yl group, a 1,3-dioxane-2-yl group, and a 1,3-dithiolan-2-yl group. Group, 1,3-dithian-2-yl group and the like, and dimethoxymethyl group and 1,3-dioxolan-2-yl group are preferable in order to avoid reaction with organometallic reagent (V). .

「保護されたカルボキシル基」は特に限定はなく、例えば、カルバモイル基、置換基を有していてもよいオキサゾリン−2−イル基(例えば、オキサゾリン−2−イル基、4,4−ジメチル−オキサゾリン−2−イル基等)等が挙げられ、有機金属試薬(V)と反応の反応を回避するためには、4,4−ジメチル−オキサゾリン−2−イル基が好ましい。   The “protected carboxyl group” is not particularly limited, and examples thereof include a carbamoyl group and an optionally substituted oxazolin-2-yl group (for example, oxazolin-2-yl group, 4,4-dimethyl-oxazoline). -2-yl group, etc.) and the like, and a 4,4-dimethyl-oxazolin-2-yl group is preferred in order to avoid reaction with the organometallic reagent (V).

およびRで示される「置換基を有していてもよい低級アルキル基」の「低級アルキル基」としては、炭素数1〜12好ましくは炭素数1〜6の直鎖状または分枝状のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられ、好ましくはメチルまたはエチルである。 The “lower alkyl group” of the “lower alkyl group optionally having substituent (s)” represented by R 1 and R 2 is linear or branched having 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms. Alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, heptyl, octyl Group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group and the like, and methyl or ethyl is preferable.

当該低級アルキル基が有していてもよい置換基としては、炭素数1〜8の直鎖状または分枝状の低級アルコキシ基(例、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等)、炭素数2〜8の直鎖状または分枝状の低級アルケニルオキシ基(例、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、2−プロペニルオキシ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例、フェニル基、1または2−ナフチル基、2−、3−又は4−トルイル基等)、炭素数7〜14のアラルキルオキシ基(例、ベンジルオキシ基、1または2−ナフチルメチルオキシ基、4−メトキシベンジルオキシ基、4−ニトロベンジルオキシ基等)等が挙げられ、好ましくは低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、アラルキルオキシ基であり、さらに好ましくはベンジルオキシ基である。   Examples of the substituent that the lower alkyl group may have include a linear or branched lower alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group). Group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, isopentyloxy group, neopentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, etc.), straight chain having 2 to 8 carbon atoms or Branched lower alkenyloxy group (eg, vinyloxy group, allyloxy group, 2-propenyloxy group, etc.), aryl group having 6 to 14 carbon atoms (eg, phenyl group, 1 or 2-naphthyl group, 2-3, -Or 4-toluyl group), an aralkyloxy group having 7 to 14 carbon atoms (eg, benzyloxy group, 1 or 2-naphthylmethyloxy group, 4-methoate). Shi benzyloxy group, 4-nitrobenzyl group and the like) and the like, preferably a lower alkoxy group, a lower alkenyloxy group, aralkyloxy group, more preferably a benzyloxy group.

およびRで示される「置換基を有していてもよい低級アルキル基」としては、メチル基、低級アルコキシメチル基、低級アルケニルオキシメチル基またはアラルキルオキシ基が好ましく、さらに好ましくはメチル基、ベンジルオキシメチル基である。 The “lower alkyl group optionally having substituent (s)” represented by R 1 and R 2 is preferably a methyl group, a lower alkoxymethyl group, a lower alkenyloxymethyl group or an aralkyloxy group, more preferably a methyl group. , A benzyloxymethyl group.

で示される「ハロゲン原子」としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、塩素原子または臭素原子が好ましい。 Examples of the “halogen atom” represented by X 1 include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a chlorine atom or a bromine atom is preferable.

、Y、YおよびYは、同一または異なって、「ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基」を示し、当該「ジメチルアミノ基に変換可能な基」とは、1または2以上の工程を経てジメチルアミノ基に変換できるものであれば特に限定はなく、例えば、保護基を有していてもよい水酸基(例えば、水酸基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基、1−エトキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシメトキシ基、ベンジルオキシメトキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基等)、保護基を有してもよいアミノ基(例えば、アミノ基、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基等)等が挙げられる。Yで示される「ジメチルアミノ基に変換可能な基」は、有機金属試薬(V)を安定に調製する必要があるため、有機金属試薬と反応し得ない保護基を有する水酸基(例えば、2−テトラヒドロピラニルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基等)が好ましい。
、YおよびYは、Yと同一であってもよいが、上記に列挙されたジメチルアミノ基に変換し得る基である限り、化合物(VI)が化合物(VII)、化合物(VIII)および化合物(IX)に変換する反応条件によって、脱保護等を受けて水酸基またはアミノ基等に変換したものであってもよい。
Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are the same or different and each represents a “dimethylamino group or a group convertible to a dimethylamino group”. Alternatively, there is no particular limitation as long as it can be converted into a dimethylamino group through two or more steps. For example, a hydroxyl group (for example, a hydroxyl group, 2-tetrahydropyranyloxy group, 2-tetrahydrofuran which may have a protecting group) may be used. Nyloxy group, 1-ethoxyethoxy group, benzyloxy group, methoxymethoxy group, benzyloxymethoxy group, tert-butyldimethylsilyloxy group, etc.), amino group which may have a protecting group (for example, amino group, benzyl) Oxycarbonylamino group, tert-butoxycarbonylamino group, etc.). The “group that can be converted into a dimethylamino group” represented by Y 1 is a hydroxyl group having a protecting group that cannot react with the organometallic reagent (for example, 2) because it is necessary to prepare the organometallic reagent (V) stably. -Tetrahydropyranyloxy group, 2-tetrahydrofuranyloxy group, etc.) are preferred.
Y 2 , Y 3 and Y 4 may be the same as Y 1 , but as long as it is a group that can be converted to the dimethylamino group listed above, compound (VI) is compound (VII), compound ( Depending on the reaction conditions for conversion to VIII) and compound (IX), it may be converted to a hydroxyl group or an amino group by deprotection or the like.

化合物(VI)、(VII)、(VIII)および(IX)は塩基性のジメチルアミノ基を有する場合は塩を形成してもよい。そのような塩としては、例えば、無機酸塩(例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、臭化水素酸塩等)または有機酸塩(例えば酢酸塩、プロピオン酸塩、メタンスルホン酸塩、4−トルエンスルホン酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等)等が挙げられる。   Compounds (VI), (VII), (VIII) and (IX) may form a salt if they have a basic dimethylamino group. Such salts include, for example, inorganic acid salts (eg hydrochlorides, sulfates, nitrates, phosphates, hydrobromides, etc.) or organic acid salts (eg acetates, propionates, methanesulfonates). , 4-toluenesulfonate, oxalate, maleate, etc.).

化合物(X)すなわち光学活性シタロプラムの酸付加塩としては、薬理的に許容される非毒性酸付加塩が好ましく、例えば、マレイン酸塩、フマル酸塩、安息香酸塩、アスコルビン酸塩、パモイン酸塩、コハク酸塩、シュウ酸塩、サリチル酸塩、メタンスルホン酸塩、エタンジスルホン酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、グルコン酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、マンデリン酸塩、ケイ皮酸塩、シトラコン酸塩、アスパラギン酸塩、ステアリン酸塩、パルミチン酸塩、イタコン酸塩、グリコール酸塩、P−アミノ安息香酸塩、グルタミン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、テオフィリン酢酸塩、8−ハロテオフィリン(例えば8−ブロモテオフィリン等)等の有機酸との塩または塩酸、臭化水素酸、スルフィン酸、スルファミン酸、リン酸、硝酸等の無機酸との塩が挙げられる。   As the acid addition salt of compound (X), ie, optically active citalopram, a pharmacologically acceptable non-toxic acid addition salt is preferable. For example, maleate, fumarate, benzoate, ascorbate, pamoate , Succinate, oxalate, salicylate, methanesulfonate, ethanedisulfonate, acetate, propionate, tartrate, citrate, gluconate, lactate, malate, mandelate , Cinnamate, citrate, aspartate, stearate, palmitate, itaconate, glycolate, P-aminobenzoate, glutamate, benzenesulfonate, theophylline acetate, 8 -Salts with organic acids such as halotheophylline (eg 8-bromotheophylline) or hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfinic acid, sulfamine , Phosphoric acid, and salts with inorganic acids such as nitric acid.

光学活性ジオール化合物(III)、化合物(IV)、(VI)、(VII)、(VIII)、(IX)および(X)に構造式中に示される*は、付された炭素原子が光学活性な不斉炭素であることを示し、当該不斉炭素が二つ以上存在する化合物は、存在し得るあらゆるジアステレオマーまたはその混合物をも包含する。
本発明において光学活性とは、不斉炭素においてその立体配置が異なる異性体の等量混合物(例えば、ラセミ体)でないことを意味し、一方の立体異性体が過剰に存在する場合(例えば、6:4の混合物)であれば、光学活性と定義される。
本発明の製造方法は、下記反応スキームに示される。
The optically active diol compound (III), compounds (IV), (VI), (VII), (VIII), (IX) and (X) shown in the structural formula are those in which the attached carbon atom is optically active. A compound having two or more such asymmetric carbons includes any diastereomer or mixture thereof that may be present.
In the present invention, optical activity means that it is not an equimolar mixture (for example, racemate) of isomers having different steric configurations in asymmetric carbon, and one stereoisomer is present in excess (for example, 6 : 4) is defined as optical activity.
The production method of the present invention is shown in the following reaction scheme.

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、各記号は前記と同義を示す。)
すなわち、本発明は以下の工程(a)〜(h)の少なくとも一の工程を含む、化合物(II)、(IV)、(VI)、(VII)、(VIII)および(IX)、並びに化合物(X)すなわち光学活性シタロプラムのフリー塩基またはその酸付加塩の製造方法である。
工程(a):化合物(I)を酸化して、化合物(II)を得る;
工程(b):化合物(II)を、酸の存在下、光学活性ジオール化合物(III)と反応させて、化合物(IV)を得る;
工程(c):化合物(IV)を、有機金属試薬(V)と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得る;
工程(d):化合物(VI)またはその塩を脱保護し、化合物(VII)またはその塩を得る;
工程(e):化合物(VII)またはその塩を還元して、化合物(VIII)またはその塩を得る;
工程(f):化合物(VII)またはその塩を環化還元して、化合物(IX)またはその塩を得る;
工程(g):化合物(VIII)またはその塩を、以下の工程(i)〜(iii)に付して、化合物(X)のフリー塩基またはその酸付加塩を得る;
(i)環化反応に付して、フタラン環を形成する;
(ii)Xがシアノ基でない場合は、シアノ基に変換する;
(iii)Yがジメチルアミノ基でない場合は、ジメチルアミノ基に変換する;
工程(h):化合物(IX)またはその塩を、(i)Xがシアノ基でない場合はシアノ基に変換し、(ii)Yがジメチルアミノ基でない場合はジメチルアミノ基に変換して、化合物(X)のフリー塩基またはその酸付加塩を得る。
以下、工程(a)〜(h)について詳細に説明する。
なお、水酸基、アミノ基、ホルミル基、カルボキシル基等への保護基の導入または脱保護は、「Protective Groups in Organic Synthesis 3rd edition」、1999年、セオドア グリーン(Theodora Greene)等著、ジョンウィリー&サンズ社(John Wiley & Sons Inc)に記載の方法により行うことができる。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
That is, the present invention includes at least one of the following steps (a) to (h): Compound (II), (IV), (VI), (VII), (VIII) and (IX), and compound (X) A method for producing a free base of optically active citalopram or an acid addition salt thereof.
Step (a): Compound (I) is oxidized to obtain Compound (II);
Step (b): Compound (II) is reacted with optically active diol compound (III) in the presence of an acid to obtain compound (IV);
Step (c): Compound (IV) is reacted with organometallic reagent (V) to obtain compound (VI) or a salt thereof;
Step (d): Compound (VI) or a salt thereof is deprotected to obtain compound (VII) or a salt thereof;
Step (e): Compound (VII) or a salt thereof is reduced to obtain Compound (VIII) or a salt thereof;
Step (f): Compound (VII) or a salt thereof is cyclized and reduced to obtain Compound (IX) or a salt thereof;
Step (g): Compound (VIII) or a salt thereof is subjected to the following steps (i) to (iii) to obtain a free base of compound (X) or an acid addition salt thereof;
(I) subject to a cyclization reaction to form a phthalane ring;
(Ii) when X is not a cyano group, it is converted to a cyano group;
(Iii) when Y 3 is not a dimethylamino group, it is converted to a dimethylamino group;
Step (h): Compound (IX) or a salt thereof is converted into a cyano group when (i) X is not a cyano group, and (ii) when Y 4 is not a dimethylamino group, converted into a dimethylamino group. A free base of compound (X) or an acid addition salt thereof is obtained.
Hereinafter, steps (a) to (h) will be described in detail.
The introduction or deprotection of protecting groups to hydroxyl groups, amino groups, formyl groups, carboxyl groups, etc. is described in “Protective Groups in Organic Synthesis 3rd edition”, 1999, Theodora Greene et al., John Willy & Sons. (John Wiley & Sons Inc).

1.工程(a)
工程(a)は、化合物(I)を酸化して、化合物(II)を得る方法である。
当該酸化反応は、化合物(I)のヒドロキシメチル基をホルミル基に酸化し得る方法であれば特に限定はなく、従来公知の酸化反応を制限なく適用できる。そのような酸化反応としては、例えばTEMPO酸化(Org. Synth., 69, 212(1990)参照)、スワン酸化(J. Org. Chem., 43, 2480(1978)参照)、デスマーティン試薬を用いる方法(J.Org. Chem., 48, 4156(1983)参照)、二酸化マンガン酸化(Synthesis, 1976, 65参照)、TRAP酸化(Chem. Soc. Rev., 21, 179(1992)参照)等が挙げられるが、収率および選択性の観点からは、TEMPO酸化、二酸化マンガン酸化、TRAP酸化等が好ましい。以下に好ましい態様であるTEMPO酸化について説明するが、工程(a)は当該態様に限定されるものではない。
1. Step (a)
Step (a) is a method of obtaining compound (II) by oxidizing compound (I).
The oxidation reaction is not particularly limited as long as it is a method capable of oxidizing the hydroxymethyl group of compound (I) to a formyl group, and conventionally known oxidation reactions can be applied without limitation. As such an oxidation reaction, for example, TEMPO oxidation (see Org. Synth., 69, 212 (1990)), swan oxidation (see J. Org. Chem., 43, 2480 (1978)), and a desmartin reagent are used. Methods (see J. Org. Chem., 48, 4156 (1983)), manganese dioxide oxidation (see Synthesis, 1976, 65), TRAP oxidation (see Chem. Soc. Rev., 21, 179 (1992)), etc. From the viewpoint of yield and selectivity, TEMPO oxidation, manganese dioxide oxidation, TRAP oxidation and the like are preferable. Although the TEMPO oxidation which is a preferable aspect is demonstrated below, a process (a) is not limited to the said aspect.

工程(a)におけるTEMPO酸化では、例えば溶媒中、化合物(I)を、TEMPO類の存在下、次亜ハロゲン酸塩で酸化することにより、化合物(II)が得られる。
ここでTEMPO類とは、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ(TEMPOともいう)およびその誘導体を意味する。具体的には、TEMPO、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル(4−ヒドロキシ−TEMPOともいう)、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル(4−オキソ−TEMPOともいう)、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルのエステル(例えば、4−(ベンゾイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、4−(メタクリロイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル(4−(メタクリロイルオキシ)−TEMPOともいう)、4−(メタンスルホニルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル等)、4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルのアミドもしくはイミド(例えば、4−アセトアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、4−マレイミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル等)等が挙げられ、好ましくはTEMPO、4−ヒドロキシ−TEMPO等である。
In the TEMPO oxidation in step (a), for example, compound (II) is obtained by oxidizing compound (I) with hypohalite in the presence of TEMPOs in a solvent.
Here, TEMPO means 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy (also referred to as TEMPO) and its derivatives. Specifically, TEMPO, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (also called 4-hydroxy-TEMPO), 4-oxo-2,2,6,6-tetramethyl Piperidine-1-oxyl (also referred to as 4-oxo-TEMPO), ester of 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (for example, 4- (benzoyloxy) -2,2, 6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4- (methacryloyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (also referred to as 4- (methacryloyloxy) -TEMPO), 4- ( Methanesulfonyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, etc.), 4-amino-2,2,6,6-tetramethyl Amides or imides of peridine-1-oxyl (eg 4-acetamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-maleimido-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1- Oxyl etc.) etc. are mentioned, Preferably it is TEMPO, 4-hydroxy-TEMPO, etc.

TEMPO酸化において試薬の添加順序は特に限定はなく、化合物(I)および各試薬を同時または順次添加すればよいが、操作性がよいため、予め溶媒中に仕込んだ化合物(I)およびTEMPO類に、次亜ハロゲン酸塩溶液を添加(好ましくは滴下)するのが好ましい。   In the TEMPO oxidation, the order of addition of the reagent is not particularly limited, and it is sufficient to add the compound (I) and each reagent simultaneously or sequentially. However, since the operability is good, the compound (I) and the TEMPOs previously charged in the solvent It is preferable to add (preferably drop) a hypohalite solution.

TEMPO類の使用量は触媒量でよく、化合物(I)1モルに対し、通常0.005モル〜0.2モルであるが、好ましくは0.02モル〜0.1モルである。TEMPO類の使用量がこの範囲より少ないと酸化が遅くなる傾向があり、またこの範囲を越えて使用しても使用量に対する効果が少なくなり経済的に不利になる傾向がある。   The amount of TEMPOs used may be a catalytic amount, and is usually 0.005 mol to 0.2 mol, preferably 0.02 mol to 0.1 mol, relative to 1 mol of compound (I). If the amount of TEMPO used is less than this range, the oxidation tends to be slow, and even if it is used beyond this range, the effect on the amount used tends to be small and economically disadvantageous.

TEMPO酸化に使用する次亜ハロゲン酸塩としては、次亜塩素酸塩、次亜臭素酸塩、次亜ヨウ素酸塩が挙げられる。次亜塩素酸塩としては、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸カルシウムなどが例示される。次亜臭素酸塩としては、次亜臭素酸ナトリウム、次亜臭素酸カリウム、次亜臭素酸カルシウムなどが例示される。次亜ヨウ素酸塩としては、次亜ヨウ素酸ナトリウム、次亜ヨウ素酸カリウム、次亜ヨウ素酸カルシウムなどが例示される。次亜ハロゲン酸塩は、市販のものを適宜使用してもよいし、苛性アルカリとハロゲンとから調製してもよい。経済的な観点より、中でも次亜塩素酸ナトリウムが好ましい。   Examples of hypohalite used for TEMPO oxidation include hypochlorite, hypobromite, and hypoiodite. Examples of hypochlorite include sodium hypochlorite, potassium hypochlorite, calcium hypochlorite and the like. Examples of hypobromite include sodium hypobromite, potassium hypobromite, and calcium hypobromite. Examples of hypoiodite include sodium hypoiodite, potassium hypoiodite, calcium hypoiodite and the like. As the hypohalite, a commercially available one may be used as appropriate, or it may be prepared from caustic and halogen. From an economical viewpoint, sodium hypochlorite is particularly preferable.

次亜ハロゲン酸塩の使用量は、化合物(I)1モルに対し、通常0.8モル〜1.5モルであるが、好ましくは1.0モル〜1.2モルである。次亜ハロゲン酸塩の使用量がこの範囲より少ないと酸化が完結しにくくなり、またこの範囲を越えて使用した場合、カルボキシル基まで酸化が進行する虞がある。   The amount of hypohalite used is usually 0.8 mol to 1.5 mol, preferably 1.0 mol to 1.2 mol, per 1 mol of compound (I). If the amount of hypohalite used is less than this range, it becomes difficult to complete the oxidation, and if it is used beyond this range, the oxidation may proceed to the carboxyl group.

TEMPO酸化においては、金属臭素化物(例えば臭化カリウム、臭化ナトリウム等)等を添加してもよい。当該金属臭素化物の使用量は、化合物(I)1モルに対し、通常0.01モル〜0.2モルであるが、好ましくは0.02モル〜0.1モルである。   In TEMPO oxidation, a metal bromide (for example, potassium bromide, sodium bromide, etc.) or the like may be added. The amount of the metal bromide to be used is generally 0.01 mol to 0.2 mol, preferably 0.02 mol to 0.1 mol, per 1 mol of compound (I).

またTEMPO酸化においては、反応促進のため、反応中のpHをpH3〜13に調整するのが好ましく、pH7〜11に調整するのがより好ましい。反応中のpHを調整するためには、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基をpHが上記範囲になるように添加すればよいが、通常は、化合物(I)1モルに対し、0.1モル〜3モルの範囲で使用される。   In TEMPO oxidation, it is preferable to adjust the pH during the reaction to pH 3 to 13, and more preferably to pH 7 to 11 in order to promote the reaction. In order to adjust the pH during the reaction, a base such as sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like may be added so that the pH falls within the above range. I) It is used in the range of 0.1 mol to 3 mol with respect to 1 mol.

TEMPO酸化に用いられる溶媒としては、水および水と混和しない溶媒(例えば、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、トルエン等が挙げられ、これらは2種以上を混合して用いてもよい。)との二相系溶媒が挙げられ、好ましくは水と酢酸エチルの二相系溶媒である。二相系溶媒とする場合、水と水と混和しない溶媒の混合比(v/v)は特に制限はないが、好ましくは5:1〜1:5(v/v)の範囲である。
溶媒の使用量は、化合物(I)1kgに対して通常1L〜20Lである。
As a solvent used for TEMPO oxidation, water and a solvent immiscible with water (for example, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, toluene and the like may be used, and these may be used in combination of two or more). A phase solvent may be mentioned, and a two-phase solvent of water and ethyl acetate is preferable. When a two-phase solvent is used, the mixing ratio (v / v) of water and a solvent immiscible with water is not particularly limited, but is preferably in the range of 5: 1 to 1: 5 (v / v).
The usage-amount of a solvent is 1L-20L normally with respect to 1 kg of compounds (I).

TEMPO酸化の反応温度は、通常は−20℃〜50℃であるが、−10℃〜20℃が好ましい。反応時間は、通常2〜24時間である。   The reaction temperature for TEMPO oxidation is usually from -20 ° C to 50 ° C, but preferably from -10 ° C to 20 ° C. The reaction time is usually 2 to 24 hours.

得られる化合物(II)は、酸化終了後、必要に応じ、残存する亜ハロゲン酸塩を分解するため、還元剤(例えば、重亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、ピロ亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイトナトリウム、硫化ナトリウム等)で処理したのち、常法により単離、精製することができる。例えば、有機層を分離し、水洗、乾燥後、濃縮することにより単離し、さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製することができるが、これに限定されるものではない。また、精製することなく、次工程に供することもできる。   The resulting compound (II) decomposes the remaining halite after the oxidation, if necessary, so that a reducing agent (for example, sodium bisulfite, sodium thiosulfate, sodium pyrosulfite, sodium hydrosulfite, sulfide) After treatment with sodium or the like, it can be isolated and purified by a conventional method. For example, the organic layer can be separated, washed with water, dried and then concentrated by concentration, and further purified by silica gel column chromatography, but is not limited thereto. Moreover, it can also use for the next process, without refine | purifying.

工程(a)で得られる化合物(II)は新規化合物であり、光学活性シタロプラムの有用な合成中間体である。   Compound (II) obtained in step (a) is a novel compound and is a useful synthetic intermediate for optically active citalopram.

工程(a)の原料である化合物(I)は公知化合物であり、例えば、後掲の参考例1のように5−シアノフタリドに4−フルオロフェニルマグネシウムブロミドを反応させることにより調製することができる。   Compound (I), which is a raw material of step (a), is a known compound, and can be prepared, for example, by reacting 5-cyanophthalide with 4-fluorophenylmagnesium bromide as in Reference Example 1 described later.

2.工程(b)
工程(b)は、例えば溶媒中、化合物(II)を酸の存在下、光学活性ジオール化合物(III)と反応させて化合物(IV)を得る方法である。工程(b)において試薬の添加順序は特に限定はなく、化合物(II)および各試薬を同時または順次添加すればよい。
2. Step (b)
Step (b) is a method of obtaining compound (IV) by reacting compound (II) with optically active diol compound (III) in the presence of an acid in a solvent, for example. In the step (b), the addition order of the reagent is not particularly limited, and the compound (II) and each reagent may be added simultaneously or sequentially.

工程(b)に使用される光学活性ジオール化合物(III)のRおよびRは同一であっても異なっていてもよいが、同一である場合はメソ体とならないように、二つの不斉炭素の絶対配置が同一、すなわちR体とR体またはS体とS体である必要がある。
光学活性ジオール化合物(III)の二つの不斉炭素の立体配置は、所望の立体配置の化合物(IV)を得るために必要とする立体配置を適宜選択すればよく、具体的には、1,4−ジ−O−ベンジル−D−スレイトール、1,4−ジ−O−ベンジル−L−スレイトール、(2R,4R)−(−)−2,4−ペンタンジオール、(2S,4S)−(+)−2,4−ペンタンジオール等が好ましく用いられる。
In the optically active diol compound (III) used in the step (b), R 1 and R 2 may be the same or different. The absolute configuration of carbon must be the same, that is, R-form and R-form or S-form and S-form.
The configuration of the two asymmetric carbons of the optically active diol compound (III) may be selected as appropriate from the configuration required for obtaining the compound (IV) having the desired configuration. 4-di-O-benzyl-D-threitol, 1,4-di-O-benzyl-L-threitol, (2R, 4R)-(-)-2,4-pentanediol, (2S, 4S)-( +)-2,4-pentanediol and the like are preferably used.

光学活性ジオール化合物(III)の使用量は、化合物(II)1モルに対して、通常0.9モル〜2モルであり、好ましくは1モル〜1.5モルである。   The usage-amount of optically active diol compound (III) is 0.9 mol-2 mol normally with respect to 1 mol of compound (II), Preferably it is 1 mol-1.5 mol.

工程(b)で用いる酸としては、例えば、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、硫酸、トリフルオロメタンスルホン酸、塩化亜鉛、三フッ化ホウ素等が挙げられ、好ましくはメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸である。
酸の使用量は、化合物(II)1モルに対し、通常0.001モル〜0.2モルであるが、好ましくは0.01モル〜0.1モルである。酸の使用量がこの範囲より少ないと反応が遅くなる傾向があり、またこの範囲を越えて使用しても使用量に対する効果が少なくなり経済的に不利になる傾向がある。
Examples of the acid used in the step (b) include methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid, trifluoromethanesulfonic acid, zinc chloride, and boron trifluoride, and preferably methanesulfonic acid. P-toluenesulfonic acid.
The amount of the acid to be used is generally 0.001 mol to 0.2 mol, preferably 0.01 mol to 0.1 mol, per 1 mol of compound (II). If the amount of the acid used is less than this range, the reaction tends to be slow, and if it is used beyond this range, the effect on the amount used tends to be small and economically disadvantageous.

工程(b)に用いられる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、例えばトルエン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、モノクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム等の単独または混合溶媒が挙げられ、トルエンが好ましい。
溶媒の使用量は、化合物(II)1kgに対して通常0.1L〜10Lである。
The solvent used in the step (b) is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and examples thereof include single or mixed solvents such as toluene, xylene, tetrahydrofuran (THF), monochlorobenzene, dichloromethane, chloroform, and the like. Toluene is preferred.
The usage-amount of a solvent is 0.1L-10L normally with respect to 1 kg of compounds (II).

工程(b)の反応温度は、通常は0℃〜150℃であるが、20℃〜120℃が好ましく、ディーンスターク管を用いて共沸脱水しながら行うのがさらに好ましい。反応時間は、通常1〜24時間である。   The reaction temperature in the step (b) is usually 0 ° C. to 150 ° C., preferably 20 ° C. to 120 ° C., and more preferably carried out with azeotropic dehydration using a Dean-Stark tube. The reaction time is usually 1 to 24 hours.

得られる化合物(IV)は、常法により単離、精製することができる。例えば、反応混合物を水洗、乾燥後、濃縮することにより化合物(IV)を単離し、さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製することができるが、これに限定されるものではない。また、精製することなく、次工程に供することもできる。
工程(b)で得られる化合物(IV)は新規化合物であり、光学活性シタロプラムの有用な合成中間体である。
The resulting compound (IV) can be isolated and purified by a conventional method. For example, the reaction mixture can be washed with water, dried and then concentrated to isolate compound (IV), which can be further purified by silica gel column chromatography, but is not limited thereto. Moreover, it can also use for the next process, without refine | purifying.
Compound (IV) obtained in step (b) is a novel compound and is a useful synthetic intermediate for optically active citalopram.

3.工程(c)
工程(c)は、例えば溶媒中、化合物(IV)を、有機金属試薬(V)と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得る方法である。工程(c)において試薬の添加順序は特に限定はなく、化合物(IV)および有機金属試薬(V)を同時または順次添加すればよいが、操作性および反応の選択性を上げるために、溶媒中の化合物(IV)に、有機金属試薬(V)の溶液を滴下するのが好ましい。
3. Step (c)
Step (c) is a method in which compound (IV) or a salt thereof is obtained by reacting compound (IV) with organometallic reagent (V) in a solvent, for example. In the step (c), the order of addition of the reagent is not particularly limited, and the compound (IV) and the organometallic reagent (V) may be added simultaneously or sequentially, but in order to improve operability and reaction selectivity, Preferably, a solution of the organometallic reagent (V) is added dropwise to the compound (IV).

工程(c)に使用される有機金属試薬(V)は、一般式:X(CHで表される化合物を、金属リチウムとエーテル系溶媒(例えばTHF、ジエチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル(MTBE)等)中、−20〜60℃で反応させるか、あるいはマグネシウムと通常のグリニャール試薬を生成させる条件で反応させることにより調製することができる。 The organometallic reagent (V) used in the step (c) is obtained by converting a compound represented by the general formula: X 1 (CH 2 ) 3 Y 1 into metal lithium and an ether solvent (for example, THF, diethyl ether, methyl tert In butyl ether (MTBE), etc.) at −20 to 60 ° C., or by reacting magnesium with a normal Grignard reagent.

有機金属試薬(V)の使用量は、化合物(IV)1モルに対して、通常0.9モル〜50モルであり、好ましくは1.5モル〜35モルである。有機金属試薬(V)の使用量がこの範囲より少ないと反応が完結しにくくなり、またこの範囲を越えて使用した場合、副反応が進行する虞がある。   The amount of the organometallic reagent (V) to be used is generally 0.9 mol to 50 mol, preferably 1.5 mol to 35 mol, per 1 mol of compound (IV). If the amount of the organometallic reagent (V) used is less than this range, the reaction is difficult to complete, and if it is used outside this range, side reactions may proceed.

工程(c)に用いられる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に制限はなく、例えばTHF、メチルtert−ブチルエーテル(MTBE)、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ヘプタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類等の単独または混合溶媒が挙げられ、THF、MTBE、トルエンが好ましい。
溶媒の使用量は、化合物(IV)1kgに対して通常0.1L〜10Lである。
The solvent used in the step (c) is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, ether such as THF, methyl tert-butyl ether (MTBE), 1,4-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, etc. Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, etc .; Aliphatic hydrocarbons such as heptane, hexane, octane, etc., alone or in a mixed solvent, and THF, MTBE, and toluene are preferred.
The amount of the solvent to be used is generally 0.1 L to 10 L with respect to 1 kg of compound (IV).

工程(c)の反応温度は、通常は−20℃〜80℃であるが、0℃〜40℃が好ましい。反応時間は、通常1〜24時間である。   The reaction temperature in the step (c) is usually from -20 ° C to 80 ° C, but preferably from 0 ° C to 40 ° C. The reaction time is usually 1 to 24 hours.

得られる化合物(VI)は、常法により単離、精製することができる。例えば、反応混合物を希酸性水(例、塩化アンモニウム水溶液等)に注ぎ、有機層を水洗、乾燥後、濃縮することにより化合物(VI)を単離し、さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製することができるが、これに限定されるものではない。また、精製することなく、次工程に供することもできる。
さらに、化合物(VI)が結晶である場合は、必要により再結晶するか、または、常法により、酒石酸、ジ−o−トルオイル酒石酸、マンデル酸等の光学活性カルボン酸との塩にした後再結晶することにより、光学純度を上げることができる。
工程(c)で得られる化合物(VI)は新規化合物であり、光学活性シタロプラムの有用な合成中間体である。
The resulting compound (VI) can be isolated and purified by a conventional method. For example, the compound (VI) can be isolated by pouring the reaction mixture into dilute acidic water (eg, aqueous ammonium chloride solution, etc.), washing the organic layer with water, drying and concentrating, and further purifying by silica gel column chromatography. However, the present invention is not limited to this. Moreover, it can also use for the next process, without refine | purifying.
Further, when the compound (VI) is a crystal, it is recrystallized if necessary, or is recrystallized after being converted into a salt with an optically active carboxylic acid such as tartaric acid, di-o-toluoyltartaric acid, mandelic acid or the like by a conventional method. Crystallization can increase the optical purity.
Compound (VI) obtained in step (c) is a novel compound and is a useful synthetic intermediate for optically active citalopram.

4.工程(d)
工程(d)は、化合物(VI)またはその塩を脱保護して、化合物(VII)を得る方法であり、通常、溶媒中において、酸の存在下、加水分解することによって行うことができる。
4). Step (d)
Step (d) is a method of deprotecting compound (VI) or a salt thereof to obtain compound (VII), and can be usually carried out by hydrolysis in a solvent in the presence of an acid.

工程(d)で用いる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等が挙げられ、好ましくは塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸である。
酸の使用量は、化合物(VI)1モルに対し、通常0.01モル〜100モルである。酸の使用量がこの範囲より少ないと反応が遅くなる傾向があり、またこの範囲を越えて使用しても使用量に対する効果が少なくなるばかりか、ラセミ化が進行する虞がある。
Examples of the acid used in the step (d) include hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and the like, preferably hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, p-toluene. Sulfonic acid.
The amount of the acid to be used is generally 0.01 mol to 100 mol with respect to 1 mol of compound (VI). If the amount of the acid used is less than this range, the reaction tends to be slow, and if the amount exceeds this range, the effect on the amount used is reduced, and racemization may proceed.

工程(d)に用いられる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、例えばTHF、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、水、アセトン、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等を単独または混合して使用することができ、THFが好ましい。
溶媒の使用量は、化合物(VI)1kgに対して通常1L〜50Lである。
The solvent used in the step (d) is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, THF, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, water, acetone, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), dimethylsulfoxide (DMSO) and the like can be used alone or in combination, and THF is preferred.
The usage-amount of a solvent is 1L-50L normally with respect to 1 kg of compounds (VI).

工程(d)の反応温度は、通常は0℃〜100℃であるが、20℃〜60℃が好ましい。反応時間は、通常1〜20時間である。   The reaction temperature in the step (d) is usually 0 ° C to 100 ° C, but preferably 20 ° C to 60 ° C. The reaction time is usually 1 to 20 hours.

得られる化合物(VII)は、常法により単離、精製することができる。例えば、反応混合物を水洗、乾燥後、濃縮することにより化合物(VII)を単離し、さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製することができるが、これに限定されるものではない。また、精製することなく、次工程に供することもできる。さらに、化合物(VII)が結晶である場合は、必要により再結晶するか、または、常法により、酒石酸、ジ−o−トルオイル酒石酸、マンデル酸等の光学活性カルボン酸との塩にした後再結晶することにより、光学純度を上げることができる。   The resulting compound (VII) can be isolated and purified by a conventional method. For example, the reaction mixture can be washed with water, dried and then concentrated to isolate compound (VII), which can be further purified by silica gel column chromatography, but is not limited thereto. Moreover, it can also use for the next process, without refine | purifying. Further, when the compound (VII) is a crystal, it is recrystallized if necessary, or is recrystallized after being converted into a salt with an optically active carboxylic acid such as tartaric acid, di-o-toluoyl tartaric acid, mandelic acid or the like by a conventional method. Crystallization can increase the optical purity.

工程(d)で得られる化合物(VII)は新規化合物であり、光学活性シタロプラムの有用な合成中間体である。なお、化合物(VII)は、一般式(VII’):   Compound (VII) obtained in step (d) is a novel compound and is a useful synthetic intermediate for optically active citalopram. In addition, compound (VII) is represented by the general formula (VII ′):

Figure 2005247710
Figure 2005247710

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表されるラクトール体(以下、ラクトール(VII’)ともいう。)と平衡にあり、化合物(VII)はラクトール(VII’)を包含するものである。 (Wherein each symbol has the same meaning as described above) and is in equilibrium with a lactol body (hereinafter also referred to as lactol (VII ′)), and compound (VII) includes lactol (VII ′). Is.

5.工程(e)
工程(e)は、化合物(VII)またはその塩を還元して、化合物(VIII)またはその塩を得る方法であり、通常、溶媒中、還元剤と反応させることにより行うことができる。試薬の添加順序は特に限定はなく、化合物(VII)および還元剤を同時または順次添加すればよい。
5). Step (e)
Step (e) is a method of obtaining compound (VIII) or a salt thereof by reducing compound (VII) or a salt thereof, and can usually be carried out by reacting with a reducing agent in a solvent. The order of reagent addition is not particularly limited, and compound (VII) and the reducing agent may be added simultaneously or sequentially.

工程(e)で使用される還元剤としては、化合物(VII)のホルミル基をヒドロキシメチル基に還元し得るものであれば特に限定はなく、具体的には、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム等が挙げられ、好ましくは水素化ホウ素ナトリウムである。
還元剤の使用量は、化合物(VII)1モルに対し、通常0.25モル〜2モルであるが、好ましくは0.3モル〜1.6モルである。
The reducing agent used in step (e) is not particularly limited as long as it can reduce the formyl group of compound (VII) to a hydroxymethyl group. Specifically, sodium borohydride, borohydride Examples thereof include lithium, lithium aluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, sodium bis (2-methoxyethoxy) aluminum hydride, and sodium borohydride is preferred.
The amount of the reducing agent to be used is generally 0.25 mol to 2 mol, preferably 0.3 mol to 1.6 mol, per 1 mol of compound (VII).

上記還元反応に用いられる溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、t−ブチルアルコール、THF、MTBE、ジメトキシエタン、ジグライム、1,4−ジオキサン等の単独または混合溶媒が挙げられ、メタノール、エタノール、メタノールとTHFの混合溶媒、エタノールとTHFの混合溶媒が好ましい。
溶媒の使用量は、化合物(VII)1kgに対して通常5L〜50Lである。
Examples of the solvent used in the reduction reaction include water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, t-butyl alcohol, THF, MTBE, dimethoxyethane, diglyme, and 1,4-dioxane. Methanol, ethanol, a mixed solvent of methanol and THF, and a mixed solvent of ethanol and THF are preferable.
The amount of the solvent to be used is generally 5 L to 50 L with respect to 1 kg of compound (VII).

工程(e)の反応温度は、通常は−20℃〜80℃であるが、0℃〜50℃が好ましい。反応時間は、通常1〜24時間である。   The reaction temperature in the step (e) is usually from -20 ° C to 80 ° C, but preferably from 0 ° C to 50 ° C. The reaction time is usually 1 to 24 hours.

得られる化合物(VIII)は、常法により単離、精製することができる。例えば、反応混合物を希酸性水(例、塩化アンモニウム水溶液等)に注ぎ、トルエン等の有機溶媒で抽出し、有機層を水洗、乾燥後、濃縮することにより化合物(VIII)を単離し、さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製することができるが、これに限定されるものではない。また、精製することなく、次工程に供することもできる。さらに、化合物(VIII)が結晶である場合は、必要により再結晶するか、または、常法により、酒石酸、ジ−o−トルオイル酒石酸、マンデル酸等の光学活性カルボン酸との塩にした後再結晶することにより、光学純度を上げることができる。   The resulting compound (VIII) can be isolated and purified by a conventional method. For example, the reaction mixture is poured into dilute acidic water (eg, aqueous ammonium chloride solution), extracted with an organic solvent such as toluene, the organic layer is washed with water, dried and concentrated to isolate compound (VIII), and further silica gel Although it can refine | purify by column chromatography, it is not limited to this. Moreover, it can also use for the next process, without refine | purifying. Further, when the compound (VIII) is a crystal, it is recrystallized if necessary, or recrystallized after being converted to a salt with an optically active carboxylic acid such as tartaric acid, di-o-toluoyltartaric acid, mandelic acid or the like by a conventional method. Crystallization can increase the optical purity.

6.工程(f)
工程(f)は、化合物(VII)またはその塩を環化還元して、化合物(IX)またはその塩を得る方法である。ここで、化合物(VII)の環化還元とは下記スキームに示されるように、化合物(VII)の環化体であるラクトール(VII’)のフタラン環の水酸基を水素原子に還元することを意味する。
6). Step (f)
Step (f) is a method in which compound (VII) or a salt thereof is cyclized and reduced to obtain compound (IX) or a salt thereof. Here, the cyclization reduction of compound (VII) means that the hydroxyl group of the phthalane ring of lactol (VII ′), which is a cyclized product of compound (VII), is reduced to a hydrogen atom as shown in the following scheme. To do.

Figure 2005247710
Figure 2005247710

当該環化還元反応は、例えば、溶媒中、化合物(VII)を還元剤と反応させることにより行うことができる。試薬の添加順序は特に限定はなく、化合物(VII)および還元剤を同時または順次添加すればよい。また、パラジウム炭素、水酸化パラジウム等を触媒として用いた水素添加反応で行うこともできる。   The cyclization reduction reaction can be performed, for example, by reacting compound (VII) with a reducing agent in a solvent. The order of reagent addition is not particularly limited, and compound (VII) and the reducing agent may be added simultaneously or sequentially. Moreover, it can also carry out by hydrogenation reaction using palladium carbon, palladium hydroxide, etc. as a catalyst.

環化還元反応に用いられる還元剤としては、トリアルキルシラン(例、トリエチルシラン、トリブチルシラン等)、トリクロロシラン、トリアルコキシシラン(例、トリエトキシシラン等)、ジボラン、ボラン・THF錯体、水素化ホウ素ナトリウムとルイス酸(特に、三フッ化ホウ素)との組み合わせ、水素化ホウ素ナトリウムとヨウ素の組み合わせ等が挙げられ、トリエチルシラン、水素化ホウ素ナトリウムと三フッ化ホウ素の組み合わせが好ましい。   Reducing agents used in the cyclization reduction reaction include trialkylsilane (eg, triethylsilane, tributylsilane, etc.), trichlorosilane, trialkoxysilane (eg, triethoxysilane, etc.), diborane, borane / THF complex, hydrogenation A combination of sodium borohydride and Lewis acid (especially boron trifluoride), a combination of sodium borohydride and iodine, and the like, and a combination of triethylsilane, sodium borohydride and boron trifluoride is preferable.

還元剤の使用量は、化合物(VII)1モルに対して、通常0.25モル〜2.0モルであるが、好ましくは0.3モル〜1.5モルである。   The amount of the reducing agent to be used is generally 0.25 mol to 2.0 mol, preferably 0.3 mol to 1.5 mol, per 1 mol of compound (VII).

トリアルキルシラン、トリアルコキシシランを用いる場合は、反応中にトリフルオロ酢酸等の酸を添加するのが好ましく、当該酸の使用量としては、トリアルキルシランに対して0.1当量〜10当量が好ましい。   When using a trialkylsilane or trialkoxysilane, it is preferable to add an acid such as trifluoroacetic acid during the reaction. The amount of the acid used is 0.1 equivalent to 10 equivalents relative to the trialkylsilane. preferable.

環化還元反応の反応温度は、通常は−20℃〜100℃であるが、0℃〜70℃が好ましい。反応時間は、通常1〜24時間である。   The reaction temperature of the cyclization reduction reaction is usually -20 ° C to 100 ° C, but preferably 0 ° C to 70 ° C. The reaction time is usually 1 to 24 hours.

環化還元反応を水素添加反応で行う場合は、化合物(VII)を溶媒(例、エタノール、酢酸、酢酸エチル等)中、0.001〜0.1当量の触媒の存在下、1〜30気圧の水素雰囲気下で、通常0〜80℃で、1〜24時間反応させる。   When the cyclization reduction reaction is performed by a hydrogenation reaction, the compound (VII) is added in a solvent (eg, ethanol, acetic acid, ethyl acetate, etc.) in the presence of 0.001 to 0.1 equivalent of a catalyst and 1 to 30 atm. In a hydrogen atmosphere, usually at 0 to 80 ° C. for 1 to 24 hours.

得られる化合物(IX)は常法により単離、精製することができる。例えば、有機層を分離し、水洗、乾燥後、濃縮することにより単離し、さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製することができるが、これに限定されるものではない。また、精製することなく、次工程に供することもできる。さらに、化合物(IX)が結晶である場合は、必要により再結晶するか、または、常法により、酒石酸、ジ−o−トルオイル酒石酸、マンデル酸等の光学活性カルボン酸との塩にした後再結晶することにより、光学純度を上げることができる。   The resulting compound (IX) can be isolated and purified by a conventional method. For example, the organic layer can be separated, washed with water, dried and then concentrated by concentration, and further purified by silica gel column chromatography, but is not limited thereto. Moreover, it can also use for the next process, without refine | purifying. Further, when the compound (IX) is a crystal, it is recrystallized if necessary, or is recrystallized after being converted into a salt with an optically active carboxylic acid such as tartaric acid, di-o-toluoyl tartaric acid, mandelic acid or the like by a conventional method. Crystallization can increase the optical purity.

7.工程(g)
工程(g)は、化合物(VIII)またはその塩を、以下の工程(i)〜(iii)に付して、化合物(X)のフリー塩基またはその酸付加塩を得る方法である。但し、Xがシアノ基の場合は下記工程(ii)に付する必要はなく、Yがジメチルアミノ基である場合は下記工程(iii)に付する必要はない。
(i)環化反応に付して、フタラン環を形成する(以下、工程(g−1)ともいう。);
(ii)Xがシアノ基でない場合は、シアノ基に変換する(以下、工程(g−2)ともいう。);
(iii)Yがジメチルアミノ基でない場合は、ジメチルアミノ基に変換する(以下、工程(g−3)ともいう。)。
7). Step (g)
Step (g) is a method in which compound (VIII) or a salt thereof is subjected to the following steps (i) to (iii) to obtain a free base of compound (X) or an acid addition salt thereof. However, when X is a cyano group need not subjected to the following step (ii), Y 3 is not necessary to subject the following step (iii) if a dimethylamino group.
(I) subjecting to a cyclization reaction to form a phthalane ring (hereinafter also referred to as step (g-1));
(Ii) When X is not a cyano group, it is converted to a cyano group (hereinafter also referred to as step (g-2));
(Iii) When Y 3 is not a dimethylamino group, it is converted to a dimethylamino group (hereinafter also referred to as step (g-3)).

工程(g)においては、化合物(VIII)を工程(g−1)〜(g−3)に付する順序は特に限定はなくが、副生成物を抑えるためには、工程(g−1)→(g−3)→(g−2)または工程(g−3)→(g−1)→(g−2)の順序が好ましい。   In the step (g), the order of attaching the compound (VIII) to the steps (g-1) to (g-3) is not particularly limited, but in order to suppress by-products, the step (g-1) The order of (g-3) → (g-2) or step (g-3) → (g-1) → (g-2) is preferable.

以下、工程(g−1)〜(g−3)について説明する。なお、工程(g−1)〜(g−3)の順番により、各工程に付される化合物(VIII)が異なることがあり得るが、便宜上化合物(VIII)として説明する。   Hereinafter, steps (g-1) to (g-3) will be described. In addition, although compound (VIII) attached | subjected to each process may differ with the order of process (g-1)-(g-3), it demonstrates as compound (VIII) for convenience.

7−1.工程(g−1)
工程(g−1)の環化反応は、例えば溶媒中において、化合物(VIII)を、塩基の存在下、酸ハライドと反応させることにより行うことができる。試薬の添加の順序は特に限定はなく、化合物(VIII)および各試薬を同時または順次添加すればよい。
7-1. Step (g-1)
The cyclization reaction in the step (g-1) can be performed, for example, by reacting the compound (VIII) with an acid halide in the presence of a base in a solvent. The order of reagent addition is not particularly limited, and compound (VIII) and each reagent may be added simultaneously or sequentially.

工程(g−1)に使用される塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等が挙げられ、トリエチルアミンが好ましい。
塩基の使用量は、化合物(VIII)1モルに対して、通常0.9モル〜2モルであり、好ましくは1モル〜1.5モルである。
Examples of the base used in the step (g-1) include triethylamine, dimethylaniline, pyridine and the like, and triethylamine is preferable.
The amount of the base to be used is generally 0.9 mol to 2 mol, preferably 1 mol to 1.5 mol, per 1 mol of compound (VIII).

工程(g−1)に使用される酸ハライドとしては化合物(VIII)のヒドロキシメチル基を脱離性のエステルに変換しうるものが好ましく、例えばメタンスルホニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリド、10−ショウノウスルホニルクロリド、トリフルオロアセチルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド等が挙げられ、メタンスルホニルクロリドが好ましい。
酸ハライドの使用量は、化合物(VIII)1モルに対して、通常0.9モル〜1.8モルであり、好ましくは1モル〜1.4モルである。
The acid halide used in the step (g-1) is preferably one capable of converting the hydroxymethyl group of the compound (VIII) into a detachable ester, such as methanesulfonyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride, 10-camphor. Examples include sulfonyl chloride, trifluoroacetyl chloride, trifluoromethanesulfonyl chloride and the like, and methanesulfonyl chloride is preferable.
The amount of the acid halide to be used is generally 0.9 mol to 1.8 mol, preferably 1 mol to 1.4 mol, per 1 mol of compound (VIII).

工程(g−1)に用いられる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、例えばトルエン、キシレン、THF、MTBE、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン等の単独または混合溶媒が挙げられ、トルエンまたはTHFが好ましい。
溶媒の使用量は、化合物(VIII)1kgに対して通常1L〜50Lである。
The solvent used in the step (g-1) is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and examples thereof include single or mixed solvents such as toluene, xylene, THF, MTBE, dichloromethane, monochlorobenzene and the like. Or THF is preferable.
The amount of the solvent to be used is generally 1 L to 50 L with respect to 1 kg of compound (VIII).

工程(g−1)の反応温度は、通常は−20℃〜50℃であるが、−10℃〜30℃が好ましい。反応時間は、通常1〜12時間である。   The reaction temperature in the step (g-1) is usually from -20 ° C to 50 ° C, but preferably from -10 ° C to 30 ° C. The reaction time is usually 1 to 12 hours.

7−2.工程(g−2)
工程(g−2)は、Xで示される「シアノ基に変換可能な基」の態様により、シアノ基に変換する方法が異なる。
例えば、Xがハロゲン原子である場合は、溶媒(例、DMF、DMSO等)中において、化合物(VIII)を0.9〜2.5当量のシアン化第一銅またはパラジウム触媒(例えば、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム)存在下、0.9〜2.5当量の金属シアン化物(例、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム等)と、30℃〜150℃で、1〜24時間反応させることにより行うことができる。
7-2. Step (g-2)
The process (g-2) differs in the method of converting into a cyano group by the aspect of "group which can be converted into a cyano group" shown by X.
For example, when X is a halogen atom, 0.9 to 2.5 equivalents of cuprous cyanide or palladium catalyst (for example, tetrakis ( (Triphenylphosphine) palladium) in the presence of 0.9 to 2.5 equivalents of metal cyanide (eg, sodium cyanide, potassium cyanide, etc.) at 30 ° C. to 150 ° C. for 1 to 24 hours. Can do.

Xが保護された水酸基である場合は、脱保護した後、溶媒(例、ジクロロメタン、トルエン、THF等)中、塩基(例、トリエチルアミン、ピリジン等)の存在下、トリフルオロメタンスルホニルクロリドまたは無水トリフルオロメタンスルホニルと反応させることにより脱保護された水酸基をトリフルオロメタンスルホニルオキシ基に変換し、得られたトリフルオロメタンスルホネートをXがハロゲン原子である上記と同様の条件で反応させることにより行うことができる。   When X is a protected hydroxyl group, after deprotection, trifluoromethanesulfonyl chloride or anhydrous trifluoromethane in the presence of a base (eg, triethylamine, pyridine, etc.) in a solvent (eg, dichloromethane, toluene, THF, etc.) The reaction can be carried out by converting a deprotected hydroxyl group into a trifluoromethanesulfonyloxy group by reacting with sulfonyl, and reacting the resulting trifluoromethanesulfonate under the same conditions as described above wherein X is a halogen atom.

Xが保護されたアミノ基である場合は、脱保護した後、亜硝酸ナトリウムとハロゲン化第一銅によるいわゆるサンドマイヤー反応(Org. Syn., Coll. Vol. 3, 185参照)によって、脱保護されたアミノ基をハロゲン原子に変換し、さらにXがハロゲン原子である上記と同様の条件で反応させることにより行うことができる。
あるいは、亜硝酸ナトリウムとシアン化第一銅による改変サンドマイヤー反応(Org. Syn., Coll. Vol. 1, 514参照)により、脱保護されたアミノ基をシアノ基に変換することができる。
When X is a protected amino group, after deprotection, it is deprotected by the so-called Sandmeyer reaction with sodium nitrite and cuprous halide (see Org. Syn., Coll. Vol. 3, 185). The resulting amino group can be converted into a halogen atom and further reacted under the same conditions as described above in which X is a halogen atom.
Alternatively, the deprotected amino group can be converted to a cyano group by a modified Sandmeyer reaction with sodium nitrite and cuprous cyanide (see Org. Syn., Coll. Vol. 1, 514).

Xが保護されたホルミル基である場合は、脱保護した後、ヒドロキシルアミンと反応させて、ホルミル基を対応するオキシムに変換した後、脱水剤(例、塩化チオニル、オキシ塩化リン、無水酢酸等)と反応させることにより、ホルミル基をシアノ基に変換することができる(Org. Syn., Coll. Vol. 2, 622 参照)。   When X is a protected formyl group, it is deprotected and then reacted with hydroxylamine to convert the formyl group into the corresponding oxime, followed by a dehydrating agent (eg, thionyl chloride, phosphorus oxychloride, acetic anhydride, etc. ) To formyl groups can be converted to cyano groups (see Org. Syn., Coll. Vol. 2, 622).

Xが保護されたヒドロキシメチル基である場合は、脱保護した後、例えば、上記工程(a)と同様の方法によりヒドロキシメチル基をホルミル基に変換した後、Xが保護されたホルミル基である上記と同様の条件で反応させることにより行うことができる。   When X is a protected hydroxymethyl group, after deprotection, for example, after converting the hydroxymethyl group to a formyl group by the same method as in the above step (a), X is a protected formyl group It can carry out by making it react on the conditions similar to the above.

Xが保護されたカルボキシル基である場合は、脱保護した後、カルボキシル基を常法(保護基導入と同様の方法)により、カルバモイル基または1,3−オキサゾリン−2−イル基に変換し、さらに脱水剤(例、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五酸化リン等)と反応させることにより、ホルミル基をシアノ基に変換することができる(Org. Syn., Coll. Vol. 4, 436, 486参照)。特に保護されたカルボキシル基がカルバモイル基またはオキサゾリン−2−イル基である場合は、脱保護を要することなく行うことができる。   When X is a protected carboxyl group, after deprotection, the carboxyl group is converted into a carbamoyl group or a 1,3-oxazolin-2-yl group by a conventional method (the same method as that for introducing a protecting group), Further, by reacting with a dehydrating agent (eg, thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentoxide, etc.), the formyl group can be converted to a cyano group (Org. Syn., Coll. Vol. 4, 436, 486). reference). In particular, when the protected carboxyl group is a carbamoyl group or an oxazolin-2-yl group, the deprotection can be performed.

7−3.工程(g−3)
工程(g−3)は、Yで示される「ジメチルアミノ基に変換可能な基」の態様により、ジメチルアミノ基に変換する方法が異なる。
7-3. Step (g-3)
Step (g-3), due aspect of the "group convertible to a dimethylamino group" represented by Y 3, how to convert the dimethylamino group is different.

たとえば、Yが保護基を有していてもよい水酸基である場合は、必要により脱保護した後、当該水酸基を脱離性エステルに変換後、ジメチルアミンと反応させることにより行うことができる。 For example, when Y 3 is a hydroxyl group that may have a protecting group, the deprotection can be performed as necessary, and then the hydroxyl group is converted to a leaving ester and reacted with dimethylamine.

水酸基を脱離性エステルに変換する方法としては、溶媒(例、トルエン、キシレン、THF、MTBE等)中において、0.9〜1.5当量の酸ハライド(例、メタンスルホニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリド、10−ショウノウスルホニルクロリド、トリフルオロアセチルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド等)と、−20℃〜80℃で、1〜24時間反応させることにより行うことができる。   As a method for converting a hydroxyl group into a leaving ester, 0.9 to 1.5 equivalents of an acid halide (eg, methanesulfonyl chloride, p-toluene) in a solvent (eg, toluene, xylene, THF, MTBE, etc.) Sulfonyl chloride, 10-camphor sulfonyl chloride, trifluoroacetyl chloride, trifluoromethanesulfonyl chloride and the like) and -20 ° C to 80 ° C for 1 to 24 hours.

さらにジメチルアミンとの反応においては、溶媒(例、トルエン、キシレン、THF、MTBE、メタノール、エタノール、イソプロパノール等)中において、0.9〜5当量のジメチルアミン(好ましくは水溶液)と、0℃〜80℃で、1〜24時間反応させることにより行うことができる。   Further, in the reaction with dimethylamine, in a solvent (eg, toluene, xylene, THF, MTBE, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), 0.9 to 5 equivalents of dimethylamine (preferably an aqueous solution) and 0 ° C to It can carry out by making it react at 80 degreeC for 1 to 24 hours.

工程(g−3)の他の態様として、Yが保護基を有していてよいアミノ基である場合は、必要により脱保護した後、溶媒(例、トルエン、キシレン、THF、MTBE等)中において、2〜4当量のメチル化剤(例、ヨウ化メチル、硫酸ジメチル等)と、−20℃〜80℃で、0.5〜12時間反応させることにより行うことができる。 As another embodiment of the step (g-3), when Y 3 is an amino group which may have a protecting group, after deprotecting as necessary, a solvent (eg, toluene, xylene, THF, MTBE, etc.) It can be carried out by reacting with 2 to 4 equivalents of a methylating agent (eg, methyl iodide, dimethyl sulfate, etc.) at -20 ° C to 80 ° C for 0.5 to 12 hours.

工程(g)で得られる化合物(X)の単離、精製は常法により行うことができ、必要に応じて、工程(g−1)〜工程(g−3)の各工程において単離、精製してもよい。さらに、化合物(X)を必要により再結晶に付することにより、光学純度を上げることができる。   Isolation and purification of the compound (X) obtained in the step (g) can be performed by a conventional method, and if necessary, isolation in each step of the step (g-1) to the step (g-3), It may be purified. Furthermore, the optical purity can be increased by subjecting compound (X) to recrystallization as required.

8.工程(h)
工程(h)は、化合物(IX)またはその塩を、Xがシアノ基でない場合はシアノ基に変換し(以下、工程(h−1)ともいう。)、Yがジメチルアミノ基でない場合はジメチルアミノ基に変換して(以下、工程(h−2)ともいう。)、化合物(X)を得る方法である。但し、Xがシアノ基の場合は工程(h−1)に付する必要はなく、Yがジメチルアミノ基である場合は工程(h−2)に付する必要はない。
8). Step (h)
In step (h), compound (IX) or a salt thereof is converted to a cyano group when X is not a cyano group (hereinafter also referred to as step (h-1)), and when Y 4 is not a dimethylamino group. In this method, the compound (X) is obtained by converting it to a dimethylamino group (hereinafter also referred to as step (h-2)). However, X is not necessary to subject the step (h-1) in the case of a cyano group, Y 4 is not necessary to subject the step (h-2) If a dimethylamino group.

化合物(IX)を工程(h−1)および工程(h−2)に付する順番は特に限定はないが、副生成物を抑制するためには、工程(h−2)→(h−1)の順序が好ましい。   The order in which compound (IX) is subjected to step (h-1) and step (h-2) is not particularly limited, but in order to suppress by-products, step (h-2) → (h-1 ) Is preferred.

工程(h−1)は上記工程(g−2)と同様の条件で行うことができ、工程(h−2)は上記工程(g−3)と同様の条件で行うことができる。   The step (h-1) can be performed under the same conditions as the above step (g-2), and the step (h-2) can be performed under the same conditions as the above step (g-3).

工程(g)または(h)によって得られる化合物(X)のフリー塩基(光学活性シタロプラム)は、必要により酸付加塩にすることができる。
当該酸付加塩は、従来公知の方法により製造することができ、例えば、水と混和しうる溶媒中(例、アセトン、エタノール、メタノール、イソプロパノール等)、化合物(X)のフリー塩基を有機酸(例、マレイン酸、フマル酸、安息香酸、アスコルビン酸、パモ酸、コハク酸、シュウ酸、サリチル酸、メタンスルホン酸、エタンジスルホン酸、酢酸、プロピオン酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、乳酸、リンゴ酸、マンデリン酸、ケイ皮酸、シトラコン酸、アスパラギン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、イタコン酸、グリコール酸、p−アミノ安息香酸、グルタミン酸、ベンゼンスルホン酸、テオフイリン酢酸、8−ハロテオフイリン等)又は無機酸(例、塩酸、臭化水素酸、スルフィン酸、スルファミン酸、リン酸、硝酸等)と反応させ、濃縮または冷却によって析出した酸付加塩を濾過等により単離するか、あるいはエチルエーテル、酢酸エチル又はジクロロメタン等の貧溶媒中で反応させ、析出した酸付加塩を単離することにより行うことができる。得られた該酸付加塩は、必要により再結晶に付することにより、光学純度を上げることができる。
The free base (optically active citalopram) of compound (X) obtained by step (g) or (h) can be converted to an acid addition salt, if necessary.
The acid addition salt can be produced by a conventionally known method. For example, in a solvent miscible with water (eg, acetone, ethanol, methanol, isopropanol, etc.), the free base of compound (X) is converted to an organic acid ( Examples: maleic acid, fumaric acid, benzoic acid, ascorbic acid, pamoic acid, succinic acid, oxalic acid, salicylic acid, methanesulfonic acid, ethanedisulfonic acid, acetic acid, propionic acid, tartaric acid, citric acid, gluconic acid, lactic acid, malic acid , Mandelic acid, cinnamic acid, citraconic acid, aspartic acid, stearic acid, palmitic acid, itaconic acid, glycolic acid, p-aminobenzoic acid, glutamic acid, benzenesulfonic acid, theofiloline acetic acid, 8-halotheofylline, etc.) or inorganic acid ( Eg hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfinic acid, sulfamic acid, phosphoric acid, nitric acid etc.) The acid addition salt precipitated by concentration or cooling is isolated by filtration or the like, or reacted in a poor solvent such as ethyl ether, ethyl acetate or dichloromethane, and the acid addition salt precipitated is isolated. Can do. The obtained acid addition salt can be increased in optical purity by subjecting it to recrystallization if necessary.

以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited by these.

参考例1:4−(4’−フルオロベンゾイル)−3−ヒドロキシメチルベンゾニトリルの合成
窒素下、マグネシウム(2.8g,115mmol)をTHF(8mL)に分散させ、ヨウ素(0.01g)を添加した後、4−ブロモフルオロベンゼン(0.35g,2mmol)加え、温度上昇を確認後、THF(40mL)を流入した。その後、4−ブロモフルオロベンゼン(19g,109mmol)を45℃以下で滴下し、室温まで冷却した。この溶液を、5−シアノフタリド(16g,100mmol)をTHF(100mL)に分散させた溶液中に−10℃付近で滴下し、15時間同温度で攪拌した。反応液を20%塩化アンモニウム水溶液(150mL)に注ぎ、1Mクエン酸水溶液(25mL)を加えた後、有機相を分離し、水(100mL)で2回洗浄し、溶媒を留去することにより、表題化合物(25g)を得た。
Reference Example 1: Synthesis of 4- (4′-fluorobenzoyl) -3-hydroxymethylbenzonitrile Magnesium (2.8 g, 115 mmol) was dispersed in THF (8 mL) under nitrogen, and iodine (0.01 g) was added. Then, 4-bromofluorobenzene (0.35 g, 2 mmol) was added, and after confirming the temperature rise, THF (40 mL) was introduced. Thereafter, 4-bromofluorobenzene (19 g, 109 mmol) was added dropwise at 45 ° C. or lower and cooled to room temperature. This solution was added dropwise at around −10 ° C. to a solution in which 5-cyanophthalide (16 g, 100 mmol) was dispersed in THF (100 mL), and stirred at the same temperature for 15 hours. The reaction solution was poured into 20% aqueous ammonium chloride solution (150 mL), 1M aqueous citric acid solution (25 mL) was added, the organic phase was separated, washed twice with water (100 mL), and the solvent was distilled off. The title compound (25 g) was obtained.

実施例1:4−(4’−フルオロベンゾイル)−3−ホルミルベンゾニトリルの合成
4−(4’−フルオロベンゾイル)−3−ヒドロキシメチルベンゾニトリル(25g,98mmol)を酢酸エチル(100mL)に溶解させた溶液に、炭酸水素ナトリウム(4g,54mmol)、臭化カリウム(0.7g,6mmol)、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1―ピペリジン−1−イルオキシフリーラジカル(HO−TEMPO)(0.6g,3.5mmol)、水(50mL)を加え、0〜5℃で13%次亜塩素酸ナトリウム水溶液(31g,54mmol)を滴下、さらに同温度でHO−TEMPO(0.4g,2.3mmol)と13%次亜塩素酸ナトリウム水溶液(31g,54mmol)を滴下し、終夜攪拌した。反応混合物に2%亜硫酸曹達水(20mL)を加え攪拌した後、有機相を分離し、10%食塩水20mLで洗浄後、減圧濃縮、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することにより、表題化合物(7.2g)を得た。
Example 1: Synthesis of 4- (4'-fluorobenzoyl) -3-formylbenzonitrile 4- (4'-fluorobenzoyl) -3-hydroxymethylbenzonitrile (25 g, 98 mmol) was dissolved in ethyl acetate (100 mL). To the resulting solution was added sodium bicarbonate (4 g, 54 mmol), potassium bromide (0.7 g, 6 mmol), 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidin-1-yloxy free radical (HO-TEMPO) (0.6 g, 3.5 mmol) and water (50 mL) were added, and a 13% sodium hypochlorite aqueous solution (31 g, 54 mmol) was added dropwise at 0 to 5 ° C., and HO-TEMPO was further added at the same temperature. (0.4 g, 2.3 mmol) and 13% aqueous sodium hypochlorite solution (31 g, 54 mmol) were added dropwise and stirred overnight. To the reaction mixture was added 2% aqueous sodium sulfite (20 mL) and stirred, and then the organic phase was separated, washed with 20 mL of 10% brine, concentrated under reduced pressure, and purified by silica gel column chromatography to give the title compound (7. 2 g) was obtained.

1H-NMR(CDCl3, 400MHz) δ ppm 7.18(2H, t, J=9Hz), 7.62(1H,d, J=8Hz), 7.81(2H, dd, J=9Hz, J=6Hz), 7.98(1H, dd, J=8Hz, J=2Hz), 8.31(1H, d,J=2Hz), 10.00 (1H, s). 1 H-NMR (CDCl 3 , 400MHz) δ ppm 7.18 (2H, t, J = 9Hz), 7.62 (1H, d, J = 8Hz), 7.81 (2H, dd, J = 9Hz, J = 6Hz), 7.98 (1H, dd, J = 8Hz, J = 2Hz), 8.31 (1H, d, J = 2Hz), 10.00 (1H, s).

実施例2:3−[(4R,5R)−4,5−ビス(ベンジルオキシメチル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]−4−(4’−フルオロベンゾイル)ベンゾニトリルの合成
4−(4’−フルオロベンゾイル)−3−ホルミルベンゾニトリル(0.8g,3.2mmol)をトルエン(3mL)に溶解させ、メタンスルホン酸(0.01g,0.1mmol)を加え、さらに1,4−ジ−O−ベンジル−D−スレイトール(1.2g,4mmol)を加え、終夜反応させた。反応液にトリエチルアミン(0.1g)を加え、溶媒を減圧留去した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物(1.2g)を得た。
Example 2: Synthesis of 3-[(4R, 5R) -4,5-bis (benzyloxymethyl) -1,3-dioxolan-2-yl] -4- (4'-fluorobenzoyl) benzonitrile 4- (4′-Fluorobenzoyl) -3-formylbenzonitrile (0.8 g, 3.2 mmol) was dissolved in toluene (3 mL), methanesulfonic acid (0.01 g, 0.1 mmol) was added, and 1,4 -Di-O-benzyl-D-threitol (1.2 g, 4 mmol) was added and allowed to react overnight. Triethylamine (0.1 g) was added to the reaction solution, and the residue obtained by evaporating the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (1.2 g).

1H-NMR(CDCl3, 400MHz) δppm 3.45-3.57(4H, m), 3.98-4.03(1H,m), 4.13-4.18(1H, m), 4.46(4H, s), 7.08(2H, t, J=8Hz), 7.2-7.38(11H, m),7.70(1H, dd, J=8Hz, J=2Hz), 7.75(2H, dd, J=8Hz, J=4Hz), 8.06(1H, d, J=2Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δppm 3.45-3.57 (4H, m), 3.98-4.03 (1H, m), 4.13-4.18 (1H, m), 4.46 (4H, s), 7.08 (2H, t , J = 8Hz), 7.2-7.38 (11H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8Hz, J = 2Hz), 7.75 (2H, dd, J = 8Hz, J = 4Hz), 8.06 (1H, d , J = 2Hz).

実施例3:3−[(4R,5R)−4,5−ビス(ベンジルオキシメチル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]−4−[4−ジメチルアミノ−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−1−ブチル]ベンゾニトリルの光学活性体の合成
3−ジメチルアミノプロピルクロリド塩酸塩(20g,127mmol)を水酸化ナトリウム水溶液で中和して、トルエン(5mL)で抽出した溶液を無水炭酸カリウムで脱水後、濾過、THF(5mL)で洗浄し、あわせた溶液を、マグネシウム(2.2g,90mmol)をTHF(3mL)に分散させた溶液中に室温〜65℃で滴下し、3時間反応させ、3−ジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド溶液を調製する。3−[(4R,5R)−4,5−ビス(ベンジルオキシメチル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]−4−(4’−フルオロベンゾイル)ベンゾニトリル(0.2g,0.4mmol)をTHF(2mL)に溶解させた溶液中に、先に調製した3−ジメチルアミノプロピルマグネシウムクロリド溶液(4g,12mmol)を滴下し、室温で終夜攪拌する。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、有機相を分液した。有機相を20%酢酸水溶液で抽出、さらに20%水酸化ナトリウム水溶液でpH10以下に中和後、トルエンで抽出した有機相を減圧濃縮し、表題化合物を0.2g得る。なお、誘起された不斉中心の絶対配置は未決定である。光学純度は、本化合物を再結晶するか、または、酒石酸、ジ−o−トルオイル酒石酸、マンデル酸等の光学活性カルボン酸との塩にしたものを再結晶することにより向上させることができる。
Example 3: 3-[(4R, 5R) -4,5-bis (benzyloxymethyl) -1,3-dioxolan-2-yl] -4- [4-dimethylamino-1- (4′-fluoro Synthesis of optically active form of (phenyl) -1-hydroxy-1-butyl] benzonitrile 3-Dimethylaminopropyl chloride hydrochloride (20 g, 127 mmol) was neutralized with aqueous sodium hydroxide and extracted with toluene (5 mL). The solution was dehydrated with anhydrous potassium carbonate, filtered, washed with THF (5 mL), and the combined solution was added dropwise at room temperature to 65 ° C. in a solution in which magnesium (2.2 g, 90 mmol) was dispersed in THF (3 mL). And react for 3 hours to prepare a 3-dimethylaminopropylmagnesium chloride solution. 3-[(4R, 5R) -4,5-bis (benzyloxymethyl) -1,3-dioxolan-2-yl] -4- (4′-fluorobenzoyl) benzonitrile (0.2 g, 0.4 mmol) ) In THF (2 mL), 3-dimethylaminopropylmagnesium chloride solution (4 g, 12 mmol) prepared above is added dropwise and stirred overnight at room temperature. The reaction solution was poured into a saturated aqueous ammonium chloride solution, and the organic phase was separated. The organic phase is extracted with a 20% aqueous acetic acid solution, neutralized with a 20% aqueous sodium hydroxide solution to a pH of 10 or lower, and the organic phase extracted with toluene is concentrated under reduced pressure to obtain 0.2 g of the title compound. The absolute configuration of the induced asymmetric center has not been determined. The optical purity can be improved by recrystallizing the present compound or recrystallizing a salt with an optically active carboxylic acid such as tartaric acid, di-o-toluoyl tartaric acid or mandelic acid.

実施例4:4−[4−ジメチルアミノ−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−1−ブチル]−3−ホルミルベンゾニトリルの光学活性体の合成
3−[(4R,5R)−4,5−ビス(ベンジルオキシメチル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]−4−[4−ジメチルアミノ−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−1−ブチル]ベンゾニトリルの光学活性体(0.2g,0.3mmol)をTHF(2mL)に溶解させ、6N塩酸(2mL)を加え、室温〜50℃で3時間攪拌する。トルエン(2mL)を加え、抽出した有機相を良く水洗した後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物を0.1g得る。光学純度は、本化合物を再結晶するか、または、酒石酸、ジ−o−トルオイル酒石酸、マンデル酸等の光学活性カルボン酸との塩にしたものを再結晶することにより向上させることができる。
Example 4: Synthesis of optically active form of 4- [4-dimethylamino-1- (4′-fluorophenyl) -1-hydroxy-1-butyl] -3-formylbenzonitrile 3-[(4R, 5R) -4,5-bis (benzyloxymethyl) -1,3-dioxolan-2-yl] -4- [4-dimethylamino-1- (4'-fluorophenyl) -1-hydroxy-1-butyl] benzo The optically active substance of nitrile (0.2 g, 0.3 mmol) is dissolved in THF (2 mL), 6N hydrochloric acid (2 mL) is added, and the mixture is stirred at room temperature to 50 ° C. for 3 hours. Toluene (2 mL) is added, and the extracted organic phase is thoroughly washed with water. Then, the solvent is distilled off and the residue is purified by silica gel column chromatography to obtain 0.1 g of the title compound. The optical purity can be improved by recrystallizing the present compound or recrystallizing a salt with an optically active carboxylic acid such as tartaric acid, di-o-toluoyl tartaric acid or mandelic acid.

実施例5:4−[4−ジメチルアミノ−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−1−ブチル]−3−(ヒドロキシメチル)ベンゾニトリルの光学活性体の合成
4−[4−ジメチルアミノ−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−1−ブチル]−3−ホルミルベンゾニトリルの光学活性体(0.1g,0.3mmol)をTHF(2mL)およびメタノール(2mL)に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム(0.02g,0.53mmol)を加え、室温で終夜攪拌する。反応液は、水(5mL)に注ぎ、トルエン(3mL)で抽出し、水洗後、溶媒を減圧留去した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物を0.1g得る。光学純度は、本化合物を再結晶するか、または、酒石酸、ジ−o−トルオイル酒石酸、マンデル酸等の光学活性カルボン酸との塩にしたものを再結晶することにより向上させることができる。
Example 5: Synthesis of optically active 4- [4-dimethylamino-1- (4′-fluorophenyl) -1-hydroxy-1-butyl] -3- (hydroxymethyl) benzonitrile 4- [4- Dimethylamino-1- (4′-fluorophenyl) -1-hydroxy-1-butyl] -3-formylbenzonitrile optically active substance (0.1 g, 0.3 mmol) was dissolved in THF (2 mL) and methanol (2 mL). And sodium borohydride (0.02 g, 0.53 mmol) is added and stirred at room temperature overnight. The reaction solution is poured into water (5 mL), extracted with toluene (3 mL), washed with water, and the residue obtained by distilling off the solvent under reduced pressure is purified by silica gel column chromatography to obtain 0.1 g of the title compound. The optical purity can be improved by recrystallizing the present compound or recrystallizing a salt with an optically active carboxylic acid such as tartaric acid, di-o-toluoyl tartaric acid or mandelic acid.

実施例6:1−(3−ジメチルアミノプロピル)−1−(4’−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン−5−カルボニトリルの光学活性体(光学活性シタロプラム)およびそのシュウ酸塩の合成
実施例5で得られる4−[4−ジメチルアミノ−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ヒドロキシ−1−ブチル]−3−(ヒドロキシメチル)ベンゾニトリルの光学活性体を用い、特開平11−292867記載の方法と同様の方法で環化することにより光学活性シタロプラムのフリー塩基を得、さらに同文献記載の方法と同様の方法により、表題のシュウ酸塩を得る。光学純度は、該フリー塩基を再結晶するか、または、該シュウ酸塩を再結晶することにより向上させることができる。
Example 6 1- (3-Dimethylaminopropyl) -1- (4′-fluorophenyl) -1,3-dihydroisobenzofuran-5-carbonitrile optically active substance (optically active citalopram) and oxalate salt thereof Using the optically active form of 4- [4-dimethylamino-1- (4′-fluorophenyl) -1-hydroxy-1-butyl] -3- (hydroxymethyl) benzonitrile obtained in Example 5, The free base of optically active citalopram is obtained by cyclization in the same manner as described in JP-A No. 11-292867, and the title oxalate salt is obtained in the same manner as described in the literature. Optical purity can be improved by recrystallizing the free base or recrystallizing the oxalate.

実施例7:3−[(4R,6R)−4,6−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル]−4−(4’−フルオロベンゾイル)ベンゾニトリルの合成
4−(4’−フルオロベンゾイル)−3−ホルミルベンゾニトリル(4.05g,16mmol)をトルエン(12mL)に溶解させ、メタンスルホン酸(0.01g,0.1mmol)を加え、さらに(2R,4R)−(−)−2,4−ペンタンジオール(2.0g,19mmol)を加え、終夜反応させた。反応液にトリエチルアミン(0.1g)を加え、溶媒を減圧留去した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を4.5g得た。
Example 7: Synthesis of 3-[(4R, 6R) -4,6-dimethyl-1,3-dioxan-2-yl] -4- (4'-fluorobenzoyl) benzonitrile 4- (4'-fluoro Benzoyl) -3-formylbenzonitrile (4.05 g, 16 mmol) was dissolved in toluene (12 mL), methanesulfonic acid (0.01 g, 0.1 mmol) was added, and (2R, 4R)-(-)- 2,4-Pentanediol (2.0 g, 19 mmol) was added and allowed to react overnight. Triethylamine (0.1 g) was added to the reaction solution, and the residue obtained by evaporating the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography to obtain 4.5 g of the title compound.

1H-NMR(CDCl3, 400MHz) δppm 1.01(3H, d, J=6Hz), 1.24(3H, d,J=8Hz), 1.29-1.33 (1H, m), 1.74-1.82 (1H, m), 3.91-3.99 (1H, m), 4.23-4.30 (1H,m), 7.13(2H, t, J=9Hz), 7.34(1H, d, J=8Hz), 7.68(1H, dd, J=8Hz, J=2Hz),7.81(2H, dd, J=9Hz, J=5Hz), 8.09(1H, d, J=2Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 , 400 MHz) δppm 1.01 (3H, d, J = 6 Hz), 1.24 (3H, d, J = 8 Hz), 1.29-1.33 (1H, m), 1.74-1.82 (1H, m) , 3.91-3.99 (1H, m), 4.23-4.30 (1H, m), 7.13 (2H, t, J = 9Hz), 7.34 (1H, d, J = 8Hz), 7.68 (1H, dd, J = 8Hz , J = 2Hz), 7.81 (2H, dd, J = 9Hz, J = 5Hz), 8.09 (1H, d, J = 2Hz).

実施例8:1−(3−ジメチルアミノプロピル)−1−(4’−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロイソベンゾフラン−5−カルボニトリルの光学活性体(光学活性シタロプラム)およびそのシュウ酸塩の合成
3−[(4R,5R)−4,5−ビス(ベンジルオキシメチル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]−4−(4’−フルオロベンゾイル)ベンゾニトリルの代わりに3−[(4R,6R)−4,6−ジメチル−1,3−ジオキサン−2−イル]−4−(4’−フルオロベンゾイル)ベンゾニトリルを使用したこと以外は、実施例3〜6と同様に行い、光学活性シタロプラムのフリー塩基およびそのシュウ酸塩を得る。
Example 8: 1- (3-Dimethylaminopropyl) -1- (4′-fluorophenyl) -1,3-dihydroisobenzofuran-5-carbonitrile optically active substance (optically active citalopram) and oxalate salt thereof Synthesis of 3-[(4R, 5R) -4,5-bis (benzyloxymethyl) -1,3-dioxolan-2-yl] -4- (4′-fluorobenzoyl) benzonitrile instead of 3- [ Performed in the same manner as in Examples 3 to 6 except that (4R, 6R) -4,6-dimethyl-1,3-dioxan-2-yl] -4- (4′-fluorobenzoyl) benzonitrile was used. To obtain the optically active citalopram free base and its oxalate salt.

Claims (18)

一般式(II):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示す。)で表される化合物。
General formula (II):
Figure 2005247710

(Wherein X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group).
一般式(I):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示す。)で表される化合物を酸化する工程を含むことを特徴とする、一般式(II):
Figure 2005247710

(式中、Xは前記と同義を示す。)で表される化合物の製造方法。
Formula (I):
Figure 2005247710

(Wherein X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group.), Which comprises a step of oxidizing the compound represented by the general formula (II):
Figure 2005247710

(Wherein X is as defined above).
一般式(IV):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示し、RおよびRは、同一または異なって、それぞれ独立して置換基を有していてもよい低級アルキル基を示し、nは0または1〜3の整数を示し、*は不斉炭素を示す。)で表される化合物。
Formula (IV):
Figure 2005247710

(Wherein X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group, R 1 and R 2 are the same or different and each independently represents a lower alkyl group which may have a substituent, n represents an integer of 0 or 1 to 3, and * represents an asymmetric carbon.
一般式(II):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示す。)で表される化合物を、酸の存在下、一般式(III):
Figure 2005247710

(式中、RおよびRは、同一または異なって、それぞれ独立して置換基を有していてもよい低級アルキル基を示し、nは0または1〜3の整数を示し、*は不斉炭素を示す。)で表される光学活性ジオール化合物と反応させる工程を含むことを特徴とする、一般式(IV):
Figure 2005247710

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物の製造方法。
General formula (II):
Figure 2005247710

(Wherein X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group), in the presence of an acid, the compound represented by the general formula (III):
Figure 2005247710

(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each independently represents a lower alkyl group which may have a substituent, n represents an integer of 0 or 1 to 3, and * represents an A compound represented by the general formula (IV), characterized by comprising a step of reacting with an optically active diol compound represented by formula (IV):
Figure 2005247710

(Wherein each symbol has the same meaning as described above).
請求項2記載の方法により得られる一般式(II)で表される化合物を用いる、請求項4記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 4 using the compound represented by general formula (II) obtained by the method of Claim 2. 一般式(VI):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示し、Yはジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、RおよびRは、同一または異なって、それぞれ独立して置換基を有していてもよい低級アルキル基を示し、nは0または1〜3の整数を示し、*は不斉炭素を示す。)で表される化合物またはその塩。
General formula (VI):
Figure 2005247710

(Wherein X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group, Y 1 represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and R 1 and R 2 are the same or different, A lower alkyl group which may have a substituent independently, n represents an integer of 0 or 1 to 3, and * represents an asymmetric carbon) or a salt thereof.
一般式(IV):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示し、RおよびRは、同一または異なって、それぞれ独立して置換基を有していてもよい低級アルキル基を示し、nは0または1〜3の整数を示し、*は不斉炭素を示す。)で表される化合物を、一般式(V):
Figure 2005247710

(式中、Yはジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、MはLiまたはMgX(ここで、Xはハロゲン原子を示す。)を示す。)で表される有機金属試薬と反応させる工程を含むことを特徴とする、一般式(VI):
Figure 2005247710

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法。
Formula (IV):
Figure 2005247710

(Wherein X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group, R 1 and R 2 are the same or different and each independently represents a lower alkyl group which may have a substituent, n represents an integer of 0 or 1 to 3, and * represents an asymmetric carbon.) A compound represented by the general formula (V):
Figure 2005247710

(Wherein Y 1 represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, M represents Li or MgX 1 (where X 1 represents a halogen atom)). General formula (VI) characterized in that it comprises a step of reacting with a metal reagent:
Figure 2005247710

(Wherein each symbol is as defined above), or a method for producing a salt thereof.
請求項4または5記載の方法により得られる一般式(IV)で表される化合物を用いる、請求項7記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 7 using the compound represented by general formula (IV) obtained by the method of Claim 4 or 5. 一般式(VII):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示し、Yは、Yと同一または異なって、ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、*は不斉炭素を示す。)で表される化合物またはその塩。
General formula (VII):
Figure 2005247710

(In the formula, X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group, Y 2 is the same as or different from Y 1 and represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and * represents an asymmetric group. Or a salt thereof.
一般式(VI):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示し、Yはジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、RおよびRは、同一または異なって、それぞれ独立して置換基を有していてもよい低級アルキル基を示し、nは0または1〜3の整数を示し、*は不斉炭素を示す。)で表される化合物またはその塩を脱保護する工程を含むことを特徴とする、一般式(VII):
Figure 2005247710

(式中、Yは、Yと同一または異なって、ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、Xおよび*は前記と同義を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法。
General formula (VI):
Figure 2005247710

(Wherein X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group, Y 1 represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and R 1 and R 2 are the same or different, A lower alkyl group which may have a substituent independently, n represents 0 or an integer of 1 to 3, and * represents an asymmetric carbon.) Or a salt thereof General formula (VII) characterized in that it comprises a step of:
Figure 2005247710

(Wherein Y 2 is the same as or different from Y 1 and represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and X and * are as defined above) or a salt thereof Manufacturing method.
請求項7または8記載の方法により得られる一般式(VI)で表される化合物を用いる、請求項10記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 10 using the compound represented by general formula (VI) obtained by the method of Claim 7 or 8. 一般式(VII):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示し、Yは、Yと同一または異なって、ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、*は不斉炭素を示す。)で表される化合物またはその塩を還元する工程を含むことを特徴とする、一般式(VIII):
Figure 2005247710

(式中、Yは、YおよびYと同一または異なって、ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、Xおよび*は前記と同義を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法。
General formula (VII):
Figure 2005247710

(In the formula, X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group, Y 2 is the same as or different from Y 1 and represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and * represents an asymmetric group. A compound represented by formula (VIII): wherein the compound or a salt thereof is reduced.
Figure 2005247710

(Wherein Y 3 is the same as or different from Y 1 and Y 2 and represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and X and * are as defined above). Or the manufacturing method of the salt.
請求項10または11記載の方法により得られる一般式(VII)で表される化合物を用いる、請求項12記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 12 using the compound represented by general formula (VII) obtained by the method of Claim 10 or 11. 一般式(VII):
Figure 2005247710

(式中、Xはシアノ基またはシアノ基に変換可能な基を示し、Yは、Yと同一または異なって、ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、*は不斉炭素を示す。)で表される化合物またはその塩を環化還元する工程を含むことを特徴とする、一般式(IX):
Figure 2005247710

(式中、Yは、YおよびYと同一または異なって、ジメチルアミノ基またはジメチルアミノ基に変換可能な基を示し、X及び*は前記と同義を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法。
General formula (VII):
Figure 2005247710

(In the formula, X represents a cyano group or a group that can be converted to a cyano group, Y 2 is the same as or different from Y 1 and represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and * represents an asymmetric group. The compound represented by the general formula (IX):
Figure 2005247710

(Wherein Y 4 is the same as or different from Y 1 and Y 2 and represents a dimethylamino group or a group that can be converted to a dimethylamino group, and X and * are as defined above). Or the manufacturing method of the salt.
請求項10または11記載の方法により得られる一般式(VII)で表される化合物を用いる、請求項14記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 14 using the compound represented by general formula (VII) obtained by the method of Claim 10 or 11. 請求項12または13記載の方法により得られる一般式(VIII)で表される化合物またはその塩を、(i)環化反応に付して、フタラン環を形成する工程、(ii)Xがシアノ基でない場合は、シアノ基に変換する工程、および(iii)Yがジメチルアミノ基でない場合は、ジメチルアミノ基に変換する工程を含むことを特徴とする、式(X):
Figure 2005247710

で表される化合物のフリー塩基(光学活性シタロプラム)またはその酸付加塩の製造方法。
A compound represented by the general formula (VIII) or a salt thereof obtained by the method according to claim 12 or 13 is subjected to (i) a cyclization reaction to form a phthalane ring, and (ii) X is cyano. Formula (X), which comprises a step of converting to a cyano group if not a group, and (iii) a step of converting to a dimethylamino group if Y 3 is not a dimethylamino group:
Figure 2005247710

The manufacturing method of the free base (optically active citalopram) of the compound represented by these, or its acid addition salt.
請求項14または15記載の方法により得られる一般式(IX)で表される化合物またはその塩を、(i)Xがシアノ基でない場合はシアノ基に変換する工程および(ii)Yがジメチルアミノ基でない場合はジメチルアミノ基に変換する工程を含むことを特徴とする、式(X):
Figure 2005247710

で表される化合物のフリー塩基(光学活性シタロプラム)またはその酸付加塩の製造方法。
A compound represented by the general formula (IX) or a salt thereof obtained by the method according to claim 14 or 15, wherein (i) when X is not a cyano group, (ii) Y 4 is dimethyl In the case where it is not an amino group, it comprises a step of converting to a dimethylamino group, wherein the formula (X):
Figure 2005247710

The manufacturing method of the free base (optically active citalopram) of the compound represented by these, or its acid addition salt.
請求項2、4、7、10、12および14記載の製造方法から選ばれる少なくとも一つの方法を含むことを特徴とする、式(X):
Figure 2005247710

で表される化合物のフリー塩基(光学活性シタロプラム)またはその酸付加塩の製造方法。
Formula (X), characterized in that it comprises at least one method selected from the production methods according to claims 2, 4, 7, 10, 12, and 14.
Figure 2005247710

The manufacturing method of the free base (optically active citalopram) of the compound represented by these, or its acid addition salt.
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