JP2005247628A - Diamond-like carbon baking handicraft and its production process - Google Patents

Diamond-like carbon baking handicraft and its production process Download PDF

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Hideki Nakamori
秀樹 中森
Takeshi Hayashi
剛 林
Hisaaki Nakamori
久明 中森
Hiroaki Nakamori
博明 中森
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a handicraft giving a fantastic spectacle to a viewer by creating prismatic color tones, while the surface of the handicraft can cope with shock or sliding force from outside. <P>SOLUTION: The diamond-like carbon baking handicraft has a diamond-like carbon (DLC) baked layer of 0.05-0.8 μm thickness on a part or the whole of the surface of a handicraft 2 of pottery, porcelain, or the like. The production process comprises arranging a handicraft made of pottery or porcelain in a chamber filled with hydrocarbon plasma and baking diamond-like carbon of 0.05-5 μm thickness on a part or the whole of the surface of the handicraft 2 by applying a high pulse voltage of 10 Hz to 10 kHz frequency. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は表面に硬くかつ美麗な色彩の薄膜層を焼き付けた陶磁器工芸品等の工芸品及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a craft such as a ceramic craft having a hard and beautiful thin film layer baked on its surface and a method for producing the craft.

従来、外部からの打撃により工芸品が損傷を受けないようにするため、工芸品の表面に保護膜を形成しておくことが実施されている。
例えば、陶磁器上絵の絵具の剥離防止及び酸やアルカリ溶液による鉛含有絵具の溶出防止、陶磁器表面保護のため、陶磁器表面にアルミナゾルを塗着した後、焼成して強固で緻密なアルミナ薄膜を陶磁器表面に形成させる方法が提案されている。
特許公開平８−２０８３６０号公報 特許公開２００１−２２６１７６号公報 Conventionally, a protective film is formed on the surface of a craft in order to prevent the craft from being damaged by an external blow.
For example, to prevent peeling of paint on ceramics, to prevent elution of lead-containing paints by acid or alkaline solutions, and to protect the ceramic surface, after applying alumina sol to the ceramic surface, it is fired to form a strong and dense alumina thin film. A method of forming on the surface has been proposed.
Japanese Patent Publication No. 8-208360 Japanese Patent Publication No. 2001-226176

しかし、そうした保護膜は単に陶磁器表面を保護するだけのものであって、他の効果、例えば装飾的効果は期待できなかった。   However, such a protective film merely protects the ceramic surface, and other effects such as a decorative effect cannot be expected.

本発明は上記課題を解決するものであって、下記構成発明のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品及びその製造方法である。
（１）工芸品面の一部又は全部にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）焼き付け層を備えてなることを特徴とするダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。
（２）ダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）焼き付け層の厚みが０．０５〜０．８μmであることを特徴とする前記（１）記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。
（３）ダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）焼き付け層の厚みが０．８〜５μmであることを特徴とする前記（１）記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。
（４）工芸品が陶磁器であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。
（５）工芸品が七宝焼であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。
（６）工芸品が漆器であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。
（７）工芸品が鍵であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。
（８）工芸品が銅器、銀器、白金器等の金属器であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。 This invention solves the said subject, Comprising: The diamond-like carbon baking crafts of the following structure invention, and its manufacturing method.
(1) A diamond-like carbon baked craft product comprising a diamond-like carbon (DLC) baked layer on a part or all of the craft surface.
(2) The diamond-like carbon baked craft according to (1) above, wherein the thickness of the baked layer of diamond-like carbon (DLC) is 0.05 to 0.8 μm.
(3) The diamond-like carbon baked craft according to (1) above, wherein the diamond-like carbon (DLC) baked layer has a thickness of 0.8 to 5 μm.
(4) The diamond-like carbon baked craft according to any one of (1) to (3), wherein the craft is a ceramic.
(5) The diamond-like carbon baked craft according to any one of (1) to (3), wherein the craft is cloisonne.
(6) The diamond-like carbon baked craft according to any one of (1) to (3), wherein the craft is a lacquer ware.
(7) The diamond-like carbon baked craft according to any one of (1) to (3), wherein the craft is a key.
(8) The diamond-like carbon baked craft according to any one of (1) to (3), wherein the craft is a metal device such as a copper ware, silverware, or platinum ware.

（９）工芸品を炭化水素プラズマで満たされたチャンバー内に配置し、その同工芸品の表面に高圧のパルス電圧を印加することにより、工芸品の表面の一部又は全部にダイアモンドライクカーボン層を焼き付けることを特徴とするダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品の製造方法。
（１０）陶磁器製工芸品を炭化水素プラズマで満たされたチャンバー内に配置し、その陶磁器工芸品の表面に１．０〜５ｋＶ、周波数１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚの高圧のパルス電圧を印加することにより、陶磁器工芸品の表面の一部又は全部に厚みが０．０５〜５μmのダイアモンドライクカーボン層を焼き付けることを特徴とするダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品の製造方法。 (9) The diamond-like carbon layer is placed on a part or all of the surface of the craft by placing the craft in a chamber filled with hydrocarbon plasma and applying a high-voltage pulse voltage to the surface of the craft. A method for producing a diamond-like carbon baked craft, characterized by baking baked iron.
(10) A ceramic craft is placed in a chamber filled with hydrocarbon plasma, and a high voltage pulse voltage of 1.0 to 5 kV and a frequency of 10 Hz to 10 kHz is applied to the surface of the ceramic craft. A method for producing a diamond-like carbon baked craft, characterized in that a diamond-like carbon layer having a thickness of 0.05 to 5 μm is baked on a part or all of the surface of the craft.

本発明のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品は、工芸品の表面が硬質で耐摩耗性のダイアモンドライクカーボンで保護されていて、外部からの衝撃、摺動力に対して対抗できるばかりでなく、薄いダイアモンドライクカーボン層が入射光を屈折して虹色の多彩な色調を現出し、観者に幻想的な美観を与える。   The diamond-like carbon baked craft of the present invention has a craft surface protected with a hard and wear-resistant diamond-like carbon, which can counteract external impacts and sliding forces, as well as a thin diamond-like The carbon layer refracts incident light to produce a variety of iridescent colors, giving the viewer a fantastic aesthetic.

本発明のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品は、図１に斜視図を示すごとく、工芸品（陶磁器工芸品）２の表面の一部又は全部に薄膜のダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）焼き付け層２ａを備えてなるものである。
そのダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）焼き付け層の厚みは耐衝撃性、耐摺動力対抗性の観点から０．０５〜５μmであることが好ましく、特に厚みが０．０５〜０．８μmであるものは虹色の光沢色調を呈するため、観者に幻想的な美観を看取させるものである。
膜厚が０．８〜５．０μmの場合は、黒みがかった光沢を有する色調に看取される。
特に表面に着色釉薬層や絵模様等を有するものに対して、本発明のＤＬＣ焼き付け層２ａを被着せしめると、下面の釉薬や絵模様とその上面のＤＬＣ焼き付け層２ａの光彩とが相俟って、従来に例を見ない独特の美麗な色調が現出できる。
工芸品としては、陶磁器、七宝焼、銅器、銀器、白金器等の金属器、鍵等の耐火性のものや漆器、木工品であってもよい。 As shown in the perspective view of FIG. 1, the diamond-like carbon baked craft of the present invention includes a thin-film diamond-like carbon (DLC) baked layer 2a on a part or all of the surface of the craft (ceramic craft) 2. It will be.
The thickness of the diamond-like carbon (DLC) baked layer is preferably 0.05 to 5 μm from the viewpoint of impact resistance and resistance to sliding force, and particularly those having a thickness of 0.05 to 0.8 μm In order to exhibit the glossy color of the color, the viewer is allowed to observe a fantastic aesthetic.
When the film thickness is 0.8 to 5.0 μm, the color tone has a blackish luster.
In particular, when the DLC baking layer 2a of the present invention is applied to a surface having a colored glaze layer or a picture pattern on the surface, the glaze or picture pattern on the lower surface and the glow of the DLC baking layer 2a on the upper surface are in conflict. Thus, a unique and beautiful color that has never been seen before can appear.
Crafts may be ceramics, cloisonne, copperware, silverware, platinumware and other metalware, fireproof things such as keys, lacquerware, and woodwork.

本発明のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品を製造するには、公知のＰＶＤ法（真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法等）やＣＶＤ法（化学蒸着法）が採用できるが、特に炭化水素プラズマで満たされたチャンバー内に配置された工芸品の表面に高圧のパルス電圧を印加する方式のイオンプレーティング法による焼き付け法が好ましい。
その際の作業条件としては、例えば陶磁器製工芸品を炭化水素プラズマで満たされたチャンバー内に配置し、その陶磁器工芸品の表面に１．０〜５ｋＶ、周波数１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚの高圧のパルス電圧を印加することにより、陶磁器工芸品の表面に厚みが０．０５〜５μmのダイアモンドライクカーボン層を焼き付けることである。
例えば、図２に示すパルス放電型ＤＬＣ成膜装置１を用いて、陶磁器工芸品２の表面にダイアモンドライクカーボン焼き付け層２ａを形成することができる。 In order to produce the diamond-like carbon baked craft of the present invention, a known PVD method (vacuum vapor deposition method, ion plating method, sputtering method, etc.) or CVD method (chemical vapor deposition method) can be employed. A baking method by an ion plating method in which a high voltage pulse voltage is applied to the surface of the craft placed in the chamber filled with is preferable.
As working conditions at that time, for example, a ceramic craft is placed in a chamber filled with hydrocarbon plasma, and a high voltage pulse voltage of 1.0 to 5 kV and a frequency of 10 Hz to 10 kHz is applied to the surface of the ceramic craft. By applying, a diamond-like carbon layer having a thickness of 0.05 to 5 μm is baked on the surface of the ceramic craft.
For example, the diamond-like carbon baking layer 2a can be formed on the surface of the ceramic craft 2 using the pulse discharge type DLC film forming apparatus 1 shown in FIG.

同図に示したパルス放電型ＤＬＣ成膜装置１は、被コーティング物の陶磁器工芸品２を保持するためのホルダー（回転テーブルを含む。）３が内部に配置されている真空チャンバー４と、この真空チャンバー４内に原料ガスを供給するための原料ガス供給手段５と、前記の真空チャンバー４内に供給された前記の原料ガスを直流放電によってプラズマ化するためのイオン源６と、このイオン源６によって生じたプラズマ中のプラスイオンが前記のホルダー３側へ電気的に吸引されるように前記のホルダー３もしくは当該ホルダー３によって保持された陶磁器工芸品２に直流パルス電圧を印加するためのパルス電源７とを備えている。
なお、同図中の符号８は、真空チャンバー４内を減圧するための真空ポンプを示しており、当該真空ポンプ８と真空チャンバー４とは所定の配管９によって接続されている。また、同図中の符号１０は、真空チャンバー４に設けられている窓１１を通してＤＬＣ薄膜の成膜状態を測定するための分光器を示しており、符号１２は前記の分光器１０用の集光レンズを示している。
そして、同図中の符号１３は質量分析器を、符号１４はプラズマモニターを、符号１５は真空ゲージを示している。分光器１０、質量分析器１３、プラズマモニター１４及び真空ゲージ１５それぞれによる測定結果は、電子計算機１６へ送られ、ここで処理されて表示装置１７に表示される。 The pulse discharge type DLC film forming apparatus 1 shown in the figure includes a vacuum chamber 4 in which a holder (including a rotary table) 3 for holding a ceramic craft 2 to be coated is disposed, A source gas supply means 5 for supplying source gas into the vacuum chamber 4, an ion source 6 for converting the source gas supplied into the vacuum chamber 4 into plasma by direct current discharge, and the ion source A pulse for applying a DC pulse voltage to the holder 3 or the ceramic craft 2 held by the holder 3 so that positive ions in the plasma generated by 6 are electrically attracted to the holder 3 side. And a power source 7.
In addition, the code | symbol 8 in the figure has shown the vacuum pump for decompressing the inside of the vacuum chamber 4, The said vacuum pump 8 and the vacuum chamber 4 are connected by the predetermined piping 9. FIG. Reference numeral 10 in the figure denotes a spectroscope for measuring the film formation state of the DLC thin film through a window 11 provided in the vacuum chamber 4, and reference numeral 12 denotes a collector for the spectroscope 10. The optical lens is shown.
In the figure, reference numeral 13 denotes a mass analyzer, reference numeral 14 denotes a plasma monitor, and reference numeral 15 denotes a vacuum gauge. The measurement results obtained by the spectroscope 10, the mass analyzer 13, the plasma monitor 14, and the vacuum gauge 15 are sent to the electronic computer 16 where they are processed and displayed on the display device 17.

そして、ダイアモンドライクカーボン焼き付け層２ａの成膜時においては、原料ガス供給手段５によって炭化水素ガス（例えばベンゼン（Ｃ６Ｈ６）ガス）が真空チャンバー４内に供給され続け、この原料ガスは上述したイオン源によってプラズマ化される。成膜時の真空チャンバー４内の雰囲気圧は、真空ポンプ８を作動させることで１０-4〜１０-3Ｔｏｒｒ台に保たれる。
原料ガスをプラズマ化することによって生じたプラスイオンは、負電位にあるホルダー３もしくは当該ホルダー３によって保持されている陶磁器工芸品２に電気的に吸引され、ホルダー３及び陶磁器工芸品２に衝突付着してＤＬＣ薄膜を形成する。 When the diamond-like carbon baking layer 2a is formed, hydrocarbon gas (for example, benzene (C 6 H 6 ) gas) is continuously supplied into the vacuum chamber 4 by the source gas supply means 5, and this source gas is Plasma is generated by the ion source. The atmospheric pressure in the vacuum chamber 4 during film formation is maintained at a level of 10 −4 to 10 −3 Torr by operating the vacuum pump 8.
The positive ions generated by converting the raw material gas into plasma are electrically attracted to the negative-potential holder 3 or the ceramic craft 2 held by the holder 3, and collide and adhere to the holder 3 and the ceramic craft 2 Thus, a DLC thin film is formed.

このとき、ホルダー３もしくは当該ホルダー３によって保持されている陶磁器工芸品２にはパルス電源から負の直流パルス電圧が周期的に印加されているので、当該負の直流パルス電圧が印加されているときには陶磁器工芸品２の周囲にプラズマシースが形成される。また、負の直流パルス電圧が印加されると、プラズマシース中のプラスイオンが瞬間的に加速されて、陶磁器工芸品又はその表面の成長膜（成長途中のＤＬＣ薄膜）に注入される。   At this time, since the negative DC pulse voltage is periodically applied from the pulse power source to the holder 3 or the ceramic craft 2 held by the holder 3, when the negative DC pulse voltage is applied A plasma sheath is formed around the ceramic craft 2. Further, when a negative DC pulse voltage is applied, positive ions in the plasma sheath are instantaneously accelerated and injected into the ceramic craft or the growth film on the surface (DLC thin film during growth).

上記負の直流パルス電圧は、例えば１．０ｋＶ程度〜数十ｋＶの範囲で選択可能である。当該直流パルス電圧を例えば１．０ｋＶと低く設定しても、陶磁器工芸品２の表面に従来より遥かに高い密着力の下にＤＬＣ薄膜を成膜することが可能である。
本発明のパルス放電型ＤＬＣ成膜装置によってＤＬＣ薄膜を成膜した場合には、従来のＤＬＣ成膜装置を用いた場合に比べて、陶磁器工芸品２の表面により高い密着力の下にＤＬＣ薄膜を成膜することができる。 The negative DC pulse voltage can be selected, for example, in the range of about 1.0 kV to several tens of kV. Even if the DC pulse voltage is set to be as low as 1.0 kV, for example, it is possible to form a DLC thin film on the surface of the ceramic craft 2 with much higher adhesion than before.
When the DLC thin film is formed by the pulse discharge type DLC film forming apparatus according to the present invention, the DLC thin film has a higher adhesion to the surface of the ceramic craft 2 than when the conventional DLC film forming apparatus is used. Can be formed.

また、図２に示したパルス放電型ＤＬＣ成膜装置１では、原料ガス供給手段５によって真空チャンバー４内に原料ガスを供給する以外に、イオン源６が有している原料ガス供給管を介して真空チャンバー４内に原料ガスを供給することも可能である。
ホルダーもしくは該ホルダー３によって保持された陶磁器工芸品２に、パルス電圧１．５ｋＶ、パルス幅１５０ｎ秒の負の直流パルス電圧を周波数２ｋＨｚで印加することが好ましい。 Further, in the pulse discharge type DLC film forming apparatus 1 shown in FIG. 2, in addition to supplying the source gas into the vacuum chamber 4 by the source gas supply means 5, the source gas supply pipe 5 has a source gas supply pipe. It is also possible to supply the source gas into the vacuum chamber 4.
It is preferable to apply a negative DC pulse voltage with a pulse voltage of 1.5 kV and a pulse width of 150 nsec at a frequency of 2 kHz to the holder or the ceramic craft 2 held by the holder 3.

以下、本発明の実施例について説明する。
実施例１：
まず、被コーテイング物の工芸品として陶磁器工芸品２を用意し、また、原料ガスとしてベンゼン（Ｃ６Ｈ６）ガスをそれぞれ用意した。次いで、上記の陶磁器工芸品２を図２に示したパルス放電型ＤＬＣ成膜装置１におけるホルダー（回転テーブル）３上に装置し、当該陶磁器工芸品２の表面にＤＬＣ薄膜を成膜した。 Examples of the present invention will be described below.
Example 1:
First, ceramic craft 2 was prepared as a craft to be coated, and benzene (C 6 H 6 ) gas was prepared as a raw material gas. Next, the ceramic craft 2 was placed on the holder (rotary table) 3 in the pulse discharge type DLC film forming apparatus 1 shown in FIG. 2, and a DLC thin film was formed on the surface of the ceramic craft 2.

ＤＬＣ薄膜を成膜するにあたっては、成膜時の真空チャンバー４内の真空度（雰囲気圧）は２×１０-3Ｔｏｒｒに、原料ガス（ベンゼン（Ｃ６Ｈ６）ガスの流量は２０ｓｃｃｍに、板状陽極（アノード）の電圧は７０Ｖ（アノード電流は０．６Ａ）に、反射電極（リフレクター）の電圧は２０Ｖにそれぞれ設定した。
一方、パルス電源７による負の直流パルス電圧のパルス電圧は１．５ｋＶ（基板電流は４０ｍＡ）に、そのパルス幅は１５０ｎ秒に、当該負の直流パルス電圧の周波数は２ｋＨｚにそれぞれ設定した。また、成膜時間は３０分とした。
得られた陶磁器工芸品２のダイアモンドライクカーボン焼き付け層２ａの厚みは０．２〜０．４μmであり、観者には幻想的な虹色の色調が看取された。 In forming the DLC thin film, the degree of vacuum (atmospheric pressure) in the vacuum chamber 4 during film formation is 2 × 10 −3 Torr, the flow rate of the source gas (benzene (C 6 H 6 ) gas is 20 sccm, The voltage of the plate-like anode (anode) was set to 70V (the anode current was 0.6A), and the voltage of the reflective electrode (reflector) was set to 20V.
On the other hand, the pulse voltage of the negative DC pulse voltage by the pulse power supply 7 was set to 1.5 kV (substrate current was 40 mA), the pulse width was set to 150 nsec, and the frequency of the negative DC pulse voltage was set to 2 kHz. The film formation time was 30 minutes.
The thickness of the diamond-like carbon baking layer 2a of the obtained ceramic craft 2 was 0.2 to 0.4 μm, and the viewer observed a fantastic rainbow color tone.

被コーテイング物の工芸品として、陶磁器工芸品、金属工芸品等の耐火性工芸品に本発明を適用することが好ましいが、木製工芸品、竹製工芸品、プラスチック製工芸品に適用することもできる。いずれの場合においても、ダイアモンドライクカーボン焼き付け層の有する高硬度、耐摩耗性等を工芸品表面に付与することができるほか、虹色の幻想的な美観を付与することができる。   The present invention is preferably applied to fireproof crafts such as ceramic crafts and metal crafts as crafts to be coated, but may also be applied to wooden crafts, bamboo crafts, and plastic crafts. it can. In any case, the surface of the craft can be given the high hardness and wear resistance of the diamond-like carbon baking layer, and the rainbow-colored fantastic aesthetic can be given.

本発明実施例の工芸品（陶磁器工芸品）の斜視図。The perspective view of the crafts (ceramic crafts) of the Example of this invention. 本発明実施例で用いられるパルス放電型ＤＬＣ成膜装置の構成説明図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a configuration explanatory diagram of a pulse discharge type DLC film forming apparatus used in an embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

１：パルス放電型ＤＬＣ成膜装置
２：工芸品
２ａ：ダイアモンドライクカーボン焼き付け層
３：ホルダー（回転テーブル）
４：真空チャンバー
５：原料ガス供給手段
６：原料ガスを直流放電によってプラズマ化するためのイオン源
７：直流パルス電圧を印加するためのパルス電源
８：真空ポンプ
９：配管
１０：分光器
１１：窓
１２：集光レンズ
１３：質量分析器
１４：プラズマモニター
１５：真空ゲージ
１６：電子計算機
１７：表示装置
1: Pulse discharge type DLC film forming apparatus 2: Craft 2a: Diamond-like carbon baking layer 3: Holder (rotary table)
4: Vacuum chamber 5: Source gas supply means 6: Ion source 7 for converting source gas into plasma by DC discharge 7: Pulse power supply 8 for applying DC pulse voltage 8: Vacuum pump 9: Pipe 10: Spectrometer 11: Window 12: Condensing lens 13: Mass analyzer 14: Plasma monitor 15: Vacuum gauge 16: Computer 17: Display device

Claims (10)

工芸品面の一部又は全部にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）焼き付け層を備えてなることを特徴とするダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。   A diamond-like carbon baked craft product comprising a diamond-like carbon (DLC) baked layer on a part or all of the craft surface. ダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）焼き付け層の厚みが０．０５〜０．８μmであることを特徴とする請求項１記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。   The diamond-like carbon baked craft according to claim 1, wherein the thickness of the diamond-like carbon (DLC) baked layer is 0.05 to 0.8 µm. ダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）焼き付け層の厚みが０．８〜５μmであることを特徴とする請求項１記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。   The diamond-like carbon baked craft according to claim 1, wherein the thickness of the diamond-like carbon (DLC) baked layer is 0.8 to 5 µm. 工芸品が陶磁器であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。   The diamond-like carbon baked craft according to any one of claims 1 to 3, wherein the craft is a ceramic. 工芸品が七宝焼であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。   The diamond-like carbon baked craft according to any one of claims 1 to 3, wherein the craft is cloisonne. 工芸品が漆器であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。   The diamond-like carbon baked craft according to any one of claims 1 to 3, wherein the craft is a lacquer ware. 工芸品が鍵であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。   The diamond-like carbon baked craft according to any one of claims 1 to 3, wherein the craft is a key. 工芸品が銅器、銀器、白金器等の金属器であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品。   The diamond-like carbon baked craft according to any one of claims 1 to 3, wherein the craft is a metalware such as a copperware, a silverware, or a platinumware. 工芸品を炭化水素プラズマで満たされたチャンバー内に配置し、その同工芸品の表面に高圧のパルス電圧を印加することにより、工芸品の表面の一部又は全部にダイアモンドライクカーボン層を焼き付けることを特徴とするダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品の製造方法。   Placing a diamond-like carbon layer on part or all of the surface of the craft by placing the craft in a chamber filled with hydrocarbon plasma and applying a high voltage pulse voltage to the surface of the craft. A method for producing a diamond-like carbon baked craft characterized by: 陶磁器製工芸品を炭化水素プラズマで満たされたチャンバー内に配置し、その陶磁器工芸品の表面に１．０〜５ｋＶ、周波数１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚの高圧のパルス電圧を印加することにより、陶磁器工芸品の表面の一部又は全部に厚みが０．０５〜５μmのダイアモンドライクカーボン層を焼き付けることを特徴とするダイアモンドライクカーボン焼き付け工芸品の製造方法。
The ceramic craft is placed in a chamber filled with hydrocarbon plasma, and a high voltage pulse voltage of 1.0 to 5 kV and a frequency of 10 Hz to 10 kHz is applied to the surface of the ceramic craft. A method for producing a diamond-like carbon baked craft, characterized in that a diamond-like carbon layer having a thickness of 0.05 to 5 μm is baked on part or all of the surface.
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