JP2005239513A - Indium compound spintronics material - Google Patents

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Yuusuke Murakawa
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an indium compound spintronics material capable of simultaneously controlling magnetism and electric conductivity. <P>SOLUTION: This indium compound spintronics material is produced by doping at least one element selected from Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu and Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm and Yb into indium oxide, and is composed such that the point symmetry of unit cells has the lattice translation structure of scandium oxide type crystal structure. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、遷移金属元素M(Sc,Ti,V、Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu)、もしくは希土類元素R(Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb)等の磁性元素がインジウム酸化物にドープされ、単位胞の点対称性が酸化スカンジウム型結晶構造の格子並進構造を有するインジウム化合物スピントロニクス材料に関する。
本発明のインジウム化合物スピントロニクス材料は、透明電極として実用化されているInの透光性、導電性、安定性に加え、更に磁性をも具備するので、これらの特性が共に要求されるデバイスに用いて好適なものである。
The present invention provides transition metal elements M (Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu) or rare earth elements R (Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy). , Ho, Er, Tm, Yb) and the like are related to an indium compound spintronic material in which indium oxide is doped with indium oxide and the point symmetry of a unit cell has a lattice translation structure of a scandium oxide type crystal structure.
The indium compound spintronic material of the present invention is required to have both of these characteristics because it has magnetism in addition to the translucency, conductivity, and stability of In 2 O 3 that has been put to practical use as a transparent electrode. It is suitable for use in a device.

従来、エレクトロニクスの主要部分を構成している半導体の分野では、電子の電荷とスピンが独立の存在として認識され、電荷移動をその機能発現に利用してきた。   Conventionally, in the field of semiconductors constituting the main part of electronics, charge and spin of electrons have been recognized as being independent, and charge transfer has been used for function development.

これに対して、近年、電子の電荷とスピンの機能とを相乗的に利用したデバイス、即ちスピントロニクスデバイスが提案されている。   On the other hand, in recent years, a device that synergistically uses an electron charge and a spin function, that is, a spintronic device has been proposed.

そして、新規のスピントロニクスデバイスの開発を目指して、GaAsMn等の比較的バンドギャップの小さい化合物半導体を中心とした、有色のスピントロニクス材料の研究が盛んとなってきている(例えば非特許文献1〜非特許文献3参照。)。
また、可視光透過性に優れたワイドギャップをベースとしたスピントロニクス材料の研究例としては、TiO(例えば非特許文献4参照)、ZnO(例えば非特許文献5及び非特許文献6参照)、GaN(例えば非特許文献7及び非特許文献8参照)の報告がある。
With the aim of developing new spintronic devices, research on colored spintronic materials centering on compound semiconductors with a relatively small band gap, such as GaAsMn, has become active (for example, Non-patent Documents 1 to Non-Patent Documents). Reference 3).
Examples of research on spintronic materials based on wide gaps with excellent visible light transmission include TiO 2 (see, for example, Non-Patent Document 4), ZnO (see, for example, Non-Patent Document 5 and Non-Patent Document 6), GaN (For example, see Non-Patent Document 7 and Non-Patent Document 8).

T.Hayashi,M.tanaka,and T.Nishunaga,journal of Applied Physics 81,(1997),p.4865T. Hayashi, M. tanaka, and T. Nishunaga, journal of Applied Physics 81, (1997), p. 4865 H.Ohno,H.Munekata,T.Penney,S.von Molnar,and L.L.Chang,Physical Review Letter 68,(1992),p.2664H. Ohno, H. Munekata, T. Penney, S. von Molnar, and L. L. Chang, Physical Review Letter 68, (1992), p. 2664 F.matukura,H.Ohno,A.Shen,and Y.sugawara,Physical Review B 57,(1998),p.2037F. matukura, H. Ohno, A. Shen, and Y. sugawara, Physical Review B 57, (1998), p. 2037 Y,matumoto,M.Murakami,T.shono,T.Hasegawa,T.Fukumura,M.Kawasaki,P.Ahmet,T.Chikyow,S.Koshihara,and h.koinuma,Science 291,(2001),p.854Y, matumoto, M. Murakami, T. shono, T. Hasegawa, T. Fukumura, M. Kawasaki, P. Ahmet, T. Chikyow, S. Koshihara, and h.koinuma, Science 291, (2001), p. 854 K.Sato and H.katayama-Yosida,Japan Journal of Applied Physics 39,(2000),p.555K. Sato and H. katayama-Yosida, Japan Journal of Applied Physics 39, (2000), p.555 Y.M.Cho,W.K.Choo,H.Kim,D.Kim and Y.Ihm,Applied Physics Letter 80,(2002),p.3358Y.M.Cho, W.K.Choo, H.Kim, D.Kim and Y.Ihm, Applied Physics Letter 80, (2002), p.3358 K.Sato, H.katayama-Yosida,Japan Journal of Applied Physics 40,(2001),p.485K. Sato, H. katayama-Yosida, Japan Journal of Applied Physics 40, (2001), p.485 M.Sato, H.Tanida,K.Kato,T.Sasaki,Y.Yamamoto,S.Shimizu and H.Hori, Japan Journal of Applied Physics 41,(2002),p.4513M. Sato, H. Tanida, K. Kato, T. Sasaki, Y. Yamamoto, S. Shimizu and H. Hori, Japan Journal of Applied Physics 41, (2002), p. 4513

しかしながら、上述したTiO系、ZnO系等の材料は、比較的電気伝導性の制御が困難なワイドギャップ酸化物であるため、これらをベースとしたスピントロニクス材料を開発することができたとしても、磁性と電気伝導性とを同時に制御することが必ずしも容易ではない、という問題がある。
このため、これらワイドギャップ酸化物では、電子の電荷とスピンの相乗的機能を最大限利用することは困難であると考えられる。
However, since the above-described materials such as TiO 2 and ZnO are wide gap oxides whose electrical conductivity is relatively difficult to control, even if spintronic materials based on them can be developed, There is a problem that it is not always easy to simultaneously control magnetism and electrical conductivity.
For this reason, it is considered difficult to make maximum use of the synergistic function of electron charge and spin in these wide gap oxides.

上述した問題の解決のために、本発明においては、磁性と電気伝導性とを同時に制御することが可能である、インジウム化合物スピントロニクス材料を提供するものである。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an indium compound spintronic material capable of simultaneously controlling magnetism and electrical conductivity.

上述した問題に対応して、本発明者らは、電子の電荷とスピンの機能を相乗的に、且つ自由に制御可能である新規のスピントロニクス材料として、透明電極材料として実用化されているインジウム酸化物(In)をベースに用い、さらに、Sc,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu即ち3d遷移金属元素M、もしくはCe,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb即ち希土類元素Rから選ばれる1つ以上の元素をドープすることを考えた。
これらの3d遷移金属元素M及び希土類元素Rは、その元素がイオンとなったときに磁性を有する。そこで、説明を簡単にするために、以下、これらの元素を「磁性元素」と称して説明する。
In response to the problems described above, the present inventors have developed indium oxide, which has been put into practical use as a transparent electrode material, as a novel spintronic material that can control the charge and spin functions of electrons synergistically and freely. (In 2 O 3 ) as a base, and Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, that is, 3d transition metal element M, or Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu , Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, that is, doping with one or more elements selected from the rare earth elements R was considered.
These 3d transition metal element M and rare earth element R have magnetism when the element becomes an ion. Therefore, in order to simplify the explanation, these elements will be hereinafter referred to as “magnetic elements”.

インジウム酸化物にドープする磁性元素は、1種でも2種以上でもよく、3d遷移金属元素M又は希土類元素Rのいずれでもよく、また3d遷移金属元素Mと希土類元素Rとを共にドープしてもよい。   The indium oxide may be doped with one or more kinds of magnetic elements, and may be either the 3d transition metal element M or the rare earth element R, or may be doped with both the 3d transition metal element M and the rare earth element R. Good.

本発明では、インジウム酸化物に磁性元素をドープしたことにより、インジウム酸化物(In)の透光性、導電性、安定性に加えて、さらに、磁性をも付与することができる。
そして、磁性元素のドープ量を制御することにより、磁性と電気伝導性とを制御することが可能であり、また光学的性質も制御することが可能である。
これにより、磁性と電気伝導性とを同時に制御することが可能なスピントロニクス材料を構成することができる。
そして、光照射や磁場印加等により、スピントロニクス材料の特性を切り替えたり、変調したりすることが可能となるものと期待される。
In the present invention, indium oxide is doped with a magnetic element, whereby in addition to translucency, conductivity, and stability of indium oxide (In 2 O 3 ), it is possible to impart magnetism.
By controlling the doping amount of the magnetic element, it is possible to control magnetism and electric conductivity, and it is also possible to control optical properties.
Thereby, a spintronic material capable of simultaneously controlling magnetism and electrical conductivity can be configured.
It is expected that the characteristics of the spintronic material can be switched or modulated by light irradiation or magnetic field application.

また、インジウム酸化物にドープした磁性元素が、原子%で全体(インジウムと磁性元素との合計)の30%以上、即ちドープした磁性元素とインジウムとの組成比が3:7以上であるときには、遷移金属元素Mの3d軌道間、もしくは希土類元素Rの4f軌道間の相互作用が、インジウム化合物全体につながり、長距離相互作用を生じるようになる。これにより、インジウム化合物が強磁性を示すことになる。   Further, when the magnetic element doped in indium oxide is 30% or more of the whole (total of indium and magnetic element) in atomic%, that is, the composition ratio of the doped magnetic element and indium is 3: 7 or more, The interaction between the 3d orbitals of the transition metal element M or the 4f orbit of the rare earth element R is connected to the entire indium compound, and a long-range interaction is generated. As a result, the indium compound exhibits ferromagnetism.

一方、インジウム酸化物にドープした磁性元素が、原子%で全体(インジウムと磁性元素との合計)の30%未満、即ちドープした磁性元素とインジウムとの組成比が3:7未満であるときには、上述の相互作用がインジウム化合物全体にはつながらず、一部分即ちクラスター毎に独立した挙動を示す。これにより、ドープした元素のイオンによって形成されるスピンクラスターによるクラスターグラス現象が発現することになる。
このクラスターグラス現象を利用して、スピントロニクスデバイスの特性に活用することも考えられる。
On the other hand, when the magnetic element doped in indium oxide is less than 30% of the total (total of indium and magnetic element) in atomic%, that is, when the composition ratio of the doped magnetic element and indium is less than 3: 7, The above-mentioned interaction does not lead to the entire indium compound, but shows an independent behavior for a part, that is, for each cluster. Thereby, the cluster glass phenomenon by the spin cluster formed with the ion of the doped element will express.
Utilizing this cluster glass phenomenon for the characteristics of spintronic devices is also conceivable.

さらに、上述の磁性元素に加えて、錫Snをドープすることも可能である。
このように、インジウム酸化物に磁性元素に加えて錫Snをもドープしたときには、Sn4+イオンを電子を供給するためのドーパントとして作用させて、高い電気伝導性を持たせることができる。
このとき、電子を供給する為のドーパントであるSn4+イオンのドーパント量を制御すれば、電気伝導性を比較的容易に制御することが可能となる。
さらには、インジウム酸化物にドープしたSnによる高い電気導電性に基づく伝導電子(s電子)を媒介として、d電子もしくはf電子の局在モーメント間の磁気的相互作用(RKKY相互作用)が生じて、強磁性への転移が生じるものと期待される。
Further, in addition to the above magnetic elements, tin Sn can be doped.
Thus, when indium oxide is doped with tin Sn in addition to a magnetic element, Sn 4+ ions can act as a dopant for supplying electrons, and can have high electrical conductivity.
At this time, if the amount of Sn 4+ ion dopant, which is a dopant for supplying electrons, is controlled, the electrical conductivity can be controlled relatively easily.
Furthermore, a magnetic interaction (RKKY interaction) between localized moments of d electrons or f electrons occurs through conduction electrons (s electrons) based on high electrical conductivity of Sn doped in indium oxide. It is expected that a transition to ferromagnetism will occur.

なお、本発明において、酸化インジウムへの元素をドープする方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の様々な方法が可能である。
例えば、酸化インジウムにドープする元素をイオン注入する方法、インジウム原料とドープする元素の原料とを用いて同時に堆積成長させる方法、インジウム化合物とドープする元素の化合物とを混合して合成する方法、等々の方法が考えられる。
In the present invention, the method for doping an element into indium oxide is not particularly limited, and various conventionally known methods can be used.
For example, a method of ion-implanting an element to be doped into indium oxide, a method of simultaneously depositing and growing an indium raw material and a raw material of the element to be doped, a method of synthesizing a mixture of an indium compound and a compound of the element to be doped, etc. Can be considered.

上述の本発明によれば、光学的性質、電気的性質、磁気的性質を容易に制御でき、光照射や磁場印加等により、スピントロニクス材料の機能をスイッチングや変調できる可能性がより大きくなる。
そして、デバイスの必要性に応じて、電気伝導性と磁性とを選択できる。
従って、スピントロニクス材料を、MRAMや透明なスピンFET、スピン偏極点電子源等、幅広く応用することが期待される。
本発明により、以上のような優れた効果が期待される。
According to the present invention described above, the optical properties, electrical properties, and magnetic properties can be easily controlled, and the possibility that the function of the spintronic material can be switched or modulated by light irradiation, magnetic field application, or the like is further increased.
And according to the necessity of a device, electrical conductivity and magnetism can be selected.
Therefore, it is expected that spintronic materials are widely applied to MRAM, transparent spin FET, spin-polarized point electron source, and the like.
According to the present invention, excellent effects as described above are expected.

以下、本発明の特徴を、具体的な形態によって、より詳細に説明する。   Hereinafter, the features of the present invention will be described in more detail with specific embodiments.

(A.インジウム化合物の合成方法)
ここでは、前述した、インジウム化合物とドープする磁性元素の化合物とを混合して合成する方法について説明する。
そして、インジウム化合物と磁性元素の化合物として、それぞれ塩化物水溶液を用いた場合を説明する。
(A. Method for synthesizing indium compound)
Here, the method of mixing and synthesizing the indium compound and the compound of the magnetic element to be doped will be described.
A case where an aqueous chloride solution is used as the compound of the indium compound and the magnetic element will be described.

まず、インジウム塩化物水溶液と、磁性元素(遷移金属元素M又は希土類元素R)塩化物水溶液とを、組成式(In1−x又は(In1−x表したときの所望のx値(0<x<1.0)となるように混合する。
次に、混合物を室温で24時間攪拌し、さらに乾燥する。
その後、酸素中900℃で1時間焼成する。
これにより、磁性元素がドープされたインジウム化合物を合成することができる。
First, indium chloride aqueous solution, magnetic element (the transition metal element M or a rare earth element R) and aqueous chloride solution, composition formula (In 1-x M x) 2 O 3 or (In 1-x R x) 2 O 3. Mix so that the desired x value (0 <x <1.0) is obtained.
The mixture is then stirred at room temperature for 24 hours and further dried.
Thereafter, it is fired at 900 ° C. for 1 hour in oxygen.
Thereby, an indium compound doped with a magnetic element can be synthesized.

(B.合成した試料の特性測定及び測定機器)
合成した試料について、以下に示す各種の特性を測定した。合わせて、使用した測定機器も示す。
1.X線回折パターンの測定:リガク(株)製X線回折装置GeigerFlex2013を用いた。
2.光吸収スペクトルの測定:日本分光(株)製可視紫外分光光度計(JASCO V-550 )に積分球を併用・付設して拡散反射スペクトルを測定した。
3.DV−Xα法を用いたモデルクラスター電子構造計算:アンドープの酸化インジウムInに相当する(In134245−クラスターの電子状態密度(DOS)と、(In)の8bサイトと24dサイトのIn3+イオンをそれぞれX3+イオン(Xは磁性元素)で置換した(XIn124246−クラスターの電子状態密度(DOS)とを計算した。
4.磁気物性の測定:超伝導量子干渉素子帯磁率計Quantum Design MPMS 5s を用いた。
(B. Characteristic measurement and measurement equipment of synthesized sample)
Various characteristics shown below were measured for the synthesized samples. In addition, the measurement equipment used is also shown.
1. Measurement of X-ray diffraction pattern: An X-ray diffractometer GeigerFlex2013 manufactured by Rigaku Corporation was used.
2. Measurement of light absorption spectrum: A diffuse reflectance spectrum was measured by using an integrating sphere in combination with a visible ultraviolet spectrophotometer (JASCO V-550) manufactured by JASCO Corporation.
3. Model cluster electronic structure calculation using DV-Xα method: electronic state density (DOS) of (In 13 O 42 ) 45- cluster corresponding to undoped indium oxide In 2 O 3 and 8b of (In 2 O 3 ) The electronic density of states (DOS) of the (XIn 12 O 42 ) 46- cluster in which the In 3+ ions at the site and the 24d site were substituted with X 3+ ions (X is a magnetic element) was calculated.
4). Measurement of magnetic properties: Superconducting quantum interference element susceptibility meter Quantum Design MPMS 5s was used.

(C.合成した試料の特性測定結果)
上述した方法により合成した、インジウム化合物の試料について、上述した各種の特性を測定した結果、組成のx値即ち磁性元素のドープ量の異なる様々な試料において、共通して下記のような結果が得られた。
(C. Result of measurement of characteristics of synthesized sample)
As a result of measuring the above-mentioned various characteristics of the indium compound sample synthesized by the above-described method, the following results were obtained in common for various samples having different x values of the composition, that is, the doping amount of the magnetic element. It was.

まず、X線回折パターンでは、酸化インジウムInの結晶構造に帰属可能な回折ピークのみが観測され、異相は検出されなかった。
次に、光吸収スペクトルでは、磁性元素をドープした場合、ドープしていない(アンドープの)酸化インジウムInには存在しない、新たな光吸収が観測されることが確認された。
First, in the X-ray diffraction pattern, only a diffraction peak attributable to the crystal structure of indium oxide In 2 O 3 was observed, and no heterogeneous phase was detected.
Next, in the light absorption spectrum, it was confirmed that when the magnetic element was doped, new light absorption that was not present in undoped (undoped) indium oxide In 2 O 3 was observed.

また、DV−Xα法を用いたモデルクラスター電子構造計算では、アンドープのインジウム酸化物Inに相当する(In134245−クラスターの電子状態密度(DOS)を計算した結果から、(In)の価電子帯は酸素Oの2p軌道からなり、伝導帯はインジウムInの5s軌道からなることが確認された。
そして、(In)の8bサイトと24dサイトのIn3+イオンをそれぞれX3+イオン(Xは磁性元素;3d遷移金属元素M又は希土類元素R)で置換した(XIn124246−クラスターの電子状態密度(DOS)を計算した結果から、In3+イオンをX3+イオンで置換すると、遷移金属元素Mの3d軌道もしくは希土類元素Rの4f軌道起源のDOSが、バンドギャップ内に形成されることが確認された。
このDOSは、磁性元素をドープしたインジウム酸化物で観測された拡散反射スペクトルと良く対応することから、新たな光吸収は、In3+イオンを置換した遷移金属元素Mの3d軌道もしくは希土類元素Rの4f軌道に係わる電子の遷移によるものであることが確認された。さらに、この遷移金属元素Mの3d軌道もしくは希土類元素Rの4f軌道の電子スピンDOSは、非対称形となっており、具体的にはフェルミレベル以下では片方のスピンのみとなっており、強い磁気的相互作用の発現が期待できることが確認された。
In the model cluster electronic structure calculation using the DV-Xα method, from the result of calculating the electronic state density (DOS) of the (In 13 O 42 ) 45 -cluster corresponding to the undoped indium oxide In 2 O 3 , It was confirmed that the valence band of (In 2 O 3 ) consists of 2p orbits of oxygen O, and the conduction band consists of 5s orbitals of indium In.
Then, (In 2 O 3) 8b site and 24d respectively X 3+ ions In 3+ ions site (X is a magnetic element; 3d transition metal element M or a rare earth element R) was substituted with (XIn 12 O 42) 46- As a result of calculating the electronic density of states (DOS) of the cluster, when In 3+ ions are replaced with X 3+ ions, DOS originating from 3d orbitals of transition metal element M or 4f orbits of rare earth element R is formed in the band gap. It was confirmed that
Since this DOS corresponds well with the diffuse reflection spectrum observed in the indium oxide doped with the magnetic element, the new light absorption is due to the 3d orbital of the transition metal element M substituted with the In 3+ ion or the rare earth element R. It was confirmed that this was due to the transition of electrons related to the 4f orbit. Further, the electron spin DOS of the transition metal element M in the 3d orbital or the rare earth element R in the 4f orbit has an asymmetric shape, specifically, only one spin below the Fermi level, and has strong magnetic properties. It was confirmed that interaction could be expected.

また、磁気特性を測定した結果から、磁性元素Xをドープすると、非磁性体であるインジウム酸化物Inに、磁気的相互作用が発現することが確認された。
従って、磁性元素をインジウム酸化物にドープすることにより、磁性が付与されることがわかる。
Moreover, from the result of measuring the magnetic characteristics, it was confirmed that when magnetic element X is doped, a magnetic interaction appears in indium oxide In 2 O 3 which is a non-magnetic material.
Therefore, it can be seen that magnetism is imparted by doping indium oxide with a magnetic element.

ところで、磁性元素をインジウム酸化物にドープした、本発明のインジウム化合物スピントロニクス材料は、前述したように、MRAMや、スピンFET、スピン偏極点電子源等幅広い応用が期待される。   By the way, as described above, the indium compound spintronic material of the present invention in which a magnetic element is doped in indium oxide is expected to have a wide range of applications such as MRAM, spin FET, and spin-polarized point electron source.

MRAM(磁気メモリ)に用いる場合には、例えば、情報を記憶する記録層に本発明のインジウム化合物スピントロニクス材料を用いて、さらに、磁化の向きが固定された今日磁性層(磁化固定層)等を、記憶の基準となる参照層として設けて、MRAMを構成することが考えられる。   When used in an MRAM (magnetic memory), for example, an indium compound spintronic material of the present invention is used for a recording layer for storing information, and a magnetic layer (magnetization pinned layer) having a fixed magnetization direction is used. It is conceivable to configure the MRAM by providing it as a reference layer serving as a storage standard.

スピンFETに用いる場合には、チャネルとなる部分に本発明のインジウム化合物スピントロニクス材料を用いて構成することが考えられる。また、基板材料をインジウム酸化物として、FETのチャネルとなる部分に磁性元素をイオン注入することも考えられる。   When used in a spin FET, it is conceivable to use the indium compound spintronic material of the present invention for the channel portion. It is also conceivable that the substrate material is indium oxide, and a magnetic element is ion-implanted into a portion that becomes a channel of the FET.

次に、本発明の具体的な実施例を示す。   Next, specific examples of the present invention will be described.

(実施例1)
〔(In1−xFeの合成〕
まず、InCl水溶液とFeCl水溶液とを、組成式(In1−xFeにおいてx=0.075となるように混合した。
続いて、混合水溶液を、室温で24時間攪拌して、乾燥した。
その後、酸素中900℃で1時間焼成して粉末を得て、実施例1の試料とした。
(Example 1)
[Synthesis of (In 1-x Fe x ) 2 O 3 ]
First, an InCl 3 aqueous solution and an FeCl 3 aqueous solution were mixed so that x = 0.075 in the composition formula (In 1-x Fe x ) 2 O 3 .
Subsequently, the mixed aqueous solution was stirred at room temperature for 24 hours and dried.
Then, it baked at 900 degreeC in oxygen for 1 hour, the powder was obtained, and it was set as the sample of Example 1.

(比較例1)
また、比較対照として、上記組成式においてx=0の化合物即ちInを、実施例1と同様にして(InCl水溶液を室温で24時間攪拌して、乾燥した後に、酸素中900℃で1時間焼成して粉末を得る)、合成した。これを比較例1の試料とした。
(Comparative Example 1)
Further, as a comparative control, a compound in which x = 0 in the above composition formula, that is, In 2 O 3 , was used in the same manner as in Example 1 (an InCl 3 aqueous solution was stirred at room temperature for 24 hours and dried, then 900 ° C. in oxygen). To obtain a powder). This was used as a sample of Comparative Example 1.

〔各種特性の測定〕
得られた実施例1の試料について、前述した各種特性の測定を下記のように行った。また、比較例1の試料については、X線回折パターンの測定及び光吸収スペクトルの測定を行った。
1.X線回折パターンの測定:リガク(株)製X線回折装置GeigerFlex2013を用いて、X線回折パターンの測定を行った。
2.光吸収スペクトルの測定:日本分光(株)製可視紫外分光光度計(JASCO V-550 )に積分球を併用・付設して拡散反射スペクトルを測定した。
3.DV−Xα法を用いたモデルクラスター電子構造計算:アンドープのインジウム酸化物Inに相当する(In134245−クラスターの電子状態密度(DOS)と、(In)の8bサイトと24dサイトのIn3+イオンをそれぞれX3+イオン(Xは磁性元素)で置換した(XIn124246−クラスターの電子状態密度(DOS)とを計算した。
4.磁気物性の測定:超伝導量子干渉素子帯磁率計Quantum Design MPMS 5s を用いて、以下の各磁気物性を測定した。
(1)直流磁化率の温度依存性の測定:印加磁場を100Gとして、超伝導転移温度以上で磁場を印加しそのまま冷やして超伝導状態にするField-cooled(FC)と、磁場を印加しないままで超伝導転移温度以下に冷やして超伝導状態にした上で磁場を印加するZero-field-cooled (ZFC)との2つの方法により、それぞれ直流磁化率の温度依存性の測定を行った。
(2)交流磁化率の温度・周波数依存性の測定:周波数を3Hz,10Hz,30Hz,100Hz,300Hz,1000Hzと変えて、それぞれ交流磁化率の温度依存性の測定を行った。
(3)非線形磁化率の温度・周波数依存性の測定:周波数を3Hz,10Hz,30Hz,100Hz,300Hz,1000Hzと変えて、それぞれ非線形磁化率の温度依存性の測定を行った。
[Measurement of various characteristics]
About the obtained sample of Example 1, the various characteristics mentioned above were measured as follows. Moreover, about the sample of the comparative example 1, the measurement of the X-ray-diffraction pattern and the measurement of the light absorption spectrum were performed.
1. Measurement of X-ray diffraction pattern: The X-ray diffraction pattern was measured using an X-ray diffractometer GeigerFlex2013 manufactured by Rigaku Corporation.
2. Measurement of light absorption spectrum: A diffuse reflectance spectrum was measured by using an integrating sphere in combination with a visible ultraviolet spectrophotometer (JASCO V-550) manufactured by JASCO Corporation.
3. Model cluster electronic structure calculation using DV-Xα method: electronic state density (DOS) of (In 13 O 42 ) 45- cluster corresponding to undoped indium oxide In 2 O 3 , and (In 2 O 3 ) Electronic density of states (DOS) of (XIn 12 O 42 ) 46- cluster in which In 3+ ions at 8b site and 24d site were substituted with X 3+ ions (X is a magnetic element) was calculated.
4). Measurement of magnetic properties: The following magnetic properties were measured using a Quantum Design MPMS 5s superconducting quantum interference device susceptibility meter.
(1) Measurement of DC magnetic susceptibility temperature dependence: Field-cooled (FC) where the applied magnetic field is 100G, the magnetic field is applied above the superconducting transition temperature and cooled to the superconducting state, and the magnetic field is not applied Then, the temperature dependence of the DC magnetic susceptibility was measured by two methods of zero-field-cooled (ZFC) in which a magnetic field was applied after cooling to a superconducting transition temperature or lower.
(2) Measurement of temperature / frequency dependency of AC magnetic susceptibility: The temperature dependency of AC magnetic susceptibility was measured by changing the frequency to 3 Hz, 10 Hz, 30 Hz, 100 Hz, 300 Hz, and 1000 Hz.
(3) Measurement of temperature / frequency dependence of nonlinear magnetic susceptibility: The frequency dependence was changed to 3 Hz, 10 Hz, 30 Hz, 100 Hz, 300 Hz, and 1000 Hz, and the temperature dependence of the nonlinear magnetic susceptibility was measured.

まず、実施例1及び比較例1の各試料の粉末に対して、X線回折パターンの測定結果から、生成相の同定と格子定数の決定を行った。得られた各試料のX線回折パターンを並べて図1に示す。   First, with respect to the powders of the samples of Example 1 and Comparative Example 1, the generation phase was identified and the lattice constant was determined from the measurement result of the X-ray diffraction pattern. The X-ray diffraction patterns of the obtained samples are shown in FIG.

図1より、いずれの試料でも、インジウム酸化物Inの結晶構造に帰属可能な回折ピークのみが観測され、異相は検出されなかった。
Feをドープした実施例1の試料(x=0.075)では、格子定数は10.088Åであった。ドープしていない比較例1の試料(x=0)の格子定数は10.118Åであり、Feをドープすると格子定数が小さくなった。
つまり、格子点のIn3+(0.94Å)を、Fe3+(low spin:0.69Å、high spin :0.79Å)が置換していると考えられる。
From FIG. 1, in any sample, only a diffraction peak that can be attributed to the crystal structure of indium oxide In 2 O 3 was observed, and no heterogeneous phase was detected.
In the sample of Example 1 (x = 0.075) doped with Fe, the lattice constant was 10.088Å. The lattice constant of the undoped sample of Comparative Example 1 (x = 0) was 10.118 mm, and the lattice constant decreased when Fe was doped.
That is, it is considered that the lattice point In 3+ (0.94Å) is replaced with Fe 3+ (low spin: 0.69Å, high spin: 0.79Å).

次に、実施例1及び比較例1の各試料の光吸収スペクトルを図2に示す。
図2より、Feをドープした実施例1の試料(x=0.075)では、約2.3eVに光吸収が観測された。これは、比較例1の試料(x=0)では見られない光吸収である。
Next, the light absorption spectrum of each sample of Example 1 and Comparative Example 1 is shown in FIG.
From FIG. 2, light absorption was observed at about 2.3 eV in the sample of Example 1 doped with Fe (x = 0.075). This is light absorption that is not observed in the sample of Comparative Example 1 (x = 0).

前述したように、DV−Xα法を用いたモデルクラスター電子構造計算を行った結果から、アンドープのインジウム酸化物Inに相当する(In134245−クラスターの電子状態密度(DOS)より、インジウム酸化物Inの価電子帯は酸素Oの2p軌道からなり、伝導帯はインジウムInの5s軌道から形成されている。 As described above, from the results of the model cluster electronic structure calculation using the DV-Xα method, the electronic state density (DOS) of (In 13 O 42 ) 45- cluster corresponding to the undoped indium oxide In 2 O 3 ), The valence band of indium oxide In 2 O 3 is composed of 2p orbits of oxygen O, and the conduction band is formed of 5s orbitals of indium In.

次に、インジウム酸化物Inの8bサイトと24dサイトのIn3+イオンとをそれぞれFe3+イオンで置換した(FeIn124246−クラスターの電子状態密度(DOS)を図3A及び図3Bに示す。図3Aはインジウム酸化物の8bサイトをFe3+イオンで置換した場合の電子状態密度(DOS)を示し、図3Bはインジウム酸化物の24dサイトをFe3+イオンで置換した場合の電子状態密度(DOS)を示している。
図3A及び図3Bより、いずれのサイトでも、In3+イオンをFe3+イオンで置換すると、Fe3d軌道起源のDOSがバンドギャップ内に形成されることが確認された。このDOSは、Feをドープしたインジウム酸化物で確認された拡散反射スペクトルとよく対応しており、前述した約2.3eVの光吸収は、In3+イオンを置換したFe3+イオンの3d軌道に係わる電子の遷移によるものであると考えられる。
Next, the electronic density of states (DOS) of the (FeIn 12 O 42 ) 46- cluster in which the In 3+ ions at the 8b site and the 24d site of the indium oxide In 2 O 3 are respectively replaced with Fe 3+ ions is shown in FIG. 3A and FIG. Shown in 3B. FIG. 3A shows the electronic state density (DOS) when the 8b site of indium oxide is replaced with Fe 3+ ions, and FIG. 3B shows the electronic state density (DOS) when the 24d site of indium oxide is replaced with Fe 3+ ions. ).
From FIG. 3A and FIG. 3B, it was confirmed that DOS originating from the Fe3d orbital was formed in the band gap when In 3+ ions were replaced with Fe 3+ ions at any site. This DOS corresponds well with the diffuse reflection spectrum confirmed with Fe-doped indium oxide, and the above-mentioned light absorption of about 2.3 eV is related to the 3d orbit of Fe 3+ ions substituting In 3+ ions. This is thought to be due to electron transition.

次に、インジウム酸化物Inの8bサイトと24dサイトのIn3+イオンとをそれぞれFe3+イオンで置換した場合における、Feの3d電子のスピンDOSを図4A及び図4Bに示す。図4Aはインジウム酸化物の8bサイトをFe3+イオンで置換した場合のスピンDOSを示し、図4Bはインジウム酸化物の24dサイトをFe3+イオンで置換した場合のスピンDOSを示している。
図4A及び図4Bより、Feの3d電子のスピンDOSは非対称形となり、フェルミレベル以下では片方のスピンのみ(図4Aではup spin、図4Bではdown spin)となることから、強い磁気的相互作用の発現が期待できることがわかる。
Next, FIG. 4A and FIG. 4B show the spin DOS of 3d electrons of Fe when the In 3+ ions at the 8b site and the 24d site of the indium oxide In 2 O 3 are respectively replaced with Fe 3+ ions. FIG. 4A shows spin DOS when the 8b site of indium oxide is substituted with Fe 3+ ions, and FIG. 4B shows spin DOS when the 24d site of indium oxide is substituted with Fe 3+ ions.
From FIG. 4A and FIG. 4B, the spin DOS of Fe 3d electrons is asymmetrical, and only one spin (up spin in FIG. 4A, down spin in FIG. 4B) is below Fermi level. It can be seen that the expression of can be expected.

次に、実施例1の試料について、直流磁化率の温度依存性の測定結果を図5に示す。図5においては、本図の265K〜280K付近の拡大図を挿入図で示している。
図5の挿入図より、約270KでField-cooled(FC)とZero-field-cooled(ZFC)の磁化率に差異が生じ始めることがわかる。
そして、図5の本図より、FCの直流磁化率は温度低下と共に増加し、ZFCの直流磁化率は、FCの直流磁化率とだんだん離れて低下していくことがわかる。
このFCとZFCの磁化率の挙動は、クラスターを形成することにより、クラスターグラスが発現しているためと考えられる。
また、FCとZFCの磁化率の両方において、30Kでカスプ(尖点)が観測された。
Next, the measurement result of the temperature dependence of the DC magnetic susceptibility for the sample of Example 1 is shown in FIG. In FIG. 5, an enlarged view of the vicinity of 265K to 280K in the figure is shown as an inset.
From the inset of FIG. 5, it can be seen that at about 270 K, a difference starts to occur in the magnetic susceptibility of Field-cooled (FC) and Zero-field-cooled (ZFC).
5 shows that the DC susceptibility of FC increases as the temperature decreases, and the DC susceptibility of ZFC decreases gradually away from the DC susceptibility of FC.
The behavior of the magnetic susceptibility of FC and ZFC is considered to be due to the appearance of cluster glass by forming clusters.
Also, cusps (points) were observed at 30K in both the magnetic susceptibility of FC and ZFC.

次に、実施例1の試料について、交流磁化率の温度・周波数依存性の測定結果を図6に示す。
図6より、約270Kと約30Kに磁化率の極大点が観測された。
そして、特に約270Kの極大点(温度)が、測定周波数の増大に伴って、高温側にシフトした。
このシフト量から見積もったδTpは約0.02となり、この値はスピン(クラスター)グラス現象の可能性を示唆している。
Next, the measurement result of the temperature / frequency dependence of the AC magnetic susceptibility for the sample of Example 1 is shown in FIG.
From FIG. 6, the maximum points of magnetic susceptibility were observed at about 270K and about 30K.
In particular, the maximum point (temperature) of about 270 K shifted to the high temperature side as the measurement frequency increased.
ΔTp estimated from this shift amount is about 0.02, and this value suggests the possibility of the spin (cluster) glass phenomenon.

次に、実施例1の試料について、非線形磁化率の温度・周波数依存性を図7に示す。
図7より、約270Kにカスプ(尖点)が観測され、発散的挙動を示すことが観測された。
このことから、インジウム酸化物Inの格子中のInを置換したFeによって形成されるスピンクラスター間にフラストレーションが存在し、クラスターグラス現象が発現しているものと考えられる。
よって、インジウム酸化物ベースのスピントロニクス材料の合成に成功したといえる。
なお、非線形磁化率では、測定周波数を変化させても、カスプの温度はほとんどシフトしないことがわかる。
Next, the temperature / frequency dependence of the nonlinear magnetic susceptibility for the sample of Example 1 is shown in FIG.
From FIG. 7, a cusp (point) was observed at about 270 K, and it was observed to show a divergent behavior.
From this, it is considered that frustration exists between the spin clusters formed by Fe substituted with In in the lattice of indium oxide In 2 O 3 , and the cluster glass phenomenon appears.
Therefore, it can be said that the indium oxide-based spintronic material was successfully synthesized.
It can be seen that with the nonlinear magnetic susceptibility, the cusp temperature hardly shifts even when the measurement frequency is changed.

本発明は、上述した実施の形態や実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。   The present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and various other configurations can be taken without departing from the gist of the present invention.

本発明のインジウム化合物スピントロニクス材料は、光学的、電気的、磁気的性質を同時に制御して、光照射や磁場印加等によって材料の機能をスイッチングや変調することができる可能性が、従来提案されているスピントロニクス材料よりも大である。
従って、本発明のインジウム化合物スピントロニクス材料は、MRAMや、透明なスピンFET材料、スピン偏極点電子源等幅広い応用が期待される。
The indium compound spintronic material of the present invention has been proposed in the past as a possibility of simultaneously controlling optical, electrical, and magnetic properties and switching or modulating the function of the material by light irradiation or magnetic field application. It is bigger than the spintronics material.
Therefore, the indium compound spintronic material of the present invention is expected to have a wide range of applications such as MRAM, transparent spin FET material, and spin-polarized point electron source.

本発明の実施例1及び比較例1の各試料のX線回折パターンを並べて示す図である。It is a figure which puts in order and shows the X-ray-diffraction pattern of each sample of Example 1 and Comparative Example 1 of this invention. 本発明の実施例1及び比較例1の各試料の光吸収スペクトルを並べて示す図である。It is a figure which puts in order and shows the light absorption spectrum of each sample of Example 1 and Comparative Example 1 of the present invention. A、B インジウム酸化物の8bサイトと24dサイトのインジウムイオンをそれぞれFe3+イオンで置換したクラスターの電子状態密度(DOS)を示す図である。It is a figure which shows the electronic state density (DOS) of the cluster which substituted the indium ion of 8b site and 24d site of A and B indium oxide with Fe3 + ion, respectively. A、B インジウム酸化物の8bサイトと24dサイトのインジウムイオンをそれぞれFe3+イオンで置換した場合におけるFeの3d電子のスピンDOSを示す図である。A, B It is a figure which shows the spin DOS of the 3d electron of Fe when the indium ion of 8b site and 24d site of indium oxide is each substituted by Fe3 + ion. 本発明の実施例1の試料の直流磁化率の温度依存性の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the temperature dependence of the direct current magnetic susceptibility of the sample of Example 1 of this invention. 本発明の実施例1の試料の交流磁化率の周波数・温度依存性の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the frequency and temperature dependence of the alternating current magnetic susceptibility of the sample of Example 1 of this invention. 本発明の実施例1の試料の非線形磁化率の周波数・温度依存性の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the frequency and temperature dependence of the nonlinear magnetic susceptibility of the sample of Example 1 of this invention.

Claims (4)

インジウム酸化物に、
Sc,Ti,V、Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu、並びにCe,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Ybから選ばれる1つ以上の元素がドープされて成り、
単位胞の点対称性が、酸化スカンジウム型結晶構造の格子並進構造を有する
ことを特徴とするインジウム化合物スピントロニクス材料。
Indium oxide
One or more selected from Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, and Yb The element is doped,
An indium compound spintronic material characterized in that the point symmetry of the unit cell has a lattice translational structure of a scandium oxide type crystal structure.
前記ドープされた元素とインジウムとの組成比が3:7未満であり、スピングラス転移を生じる性質を有すると共に、前記スピングラス転移の転移温度以下において、ドープされた元素のイオンが形成するスピンクラスターによりクラスターグラス現象が発現する特性を有することを特徴とする請求項1に記載のインジウム化合物スピントロニクス材料。   A spin cluster formed by ions of a doped element having a composition ratio of the doped element and indium of less than 3: 7, having a property of causing a spin glass transition, and below the transition temperature of the spin glass transition. The indium compound spintronic material according to claim 1, wherein the indium compound spintronic material has a property of causing a cluster glass phenomenon. 前記ドープされた元素とインジウムとの組成比が3:7以上であり、ドープされた元素間に働く長距離的相互作用により、強磁性を示すことを特徴とする請求項1に記載のインジウム化合物スピントロニクス材料。   2. The indium compound according to claim 1, wherein the composition ratio of the doped element and indium is 3: 7 or more and exhibits ferromagnetism due to a long-range interaction between the doped elements. Spintronic materials. 前記ドープされた元素に加えて、Snがドープされていることを特徴とする請求項1に記載のインジウム化合物スピントロニクス材料。   The indium compound spintronic material according to claim 1, wherein Sn is doped in addition to the doped element.
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