JP2005238347A - Channel member and channel device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To impart a flow rate adjusting function which quickly and accurately adjust a flow rate, to a channel member. <P>SOLUTION: The channel member comprises an insulating substrate 1, a channel 11 built in the insulating substrate 1, and an actuator 3 for increasing/decreasing a flow rate by changing the shape of the channel 11. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、アクチュエータによって流量を増減可能な流路部材及び流路装置に関するものである。   The present invention relates to a flow channel member and a flow channel device that can increase and decrease a flow rate by an actuator.

近年、半導体産業における微細加工技術の発展により、シリコンやガラス基板、樹脂基板上に微細な配線を作製する技術が広く用いられるようになり、小型の電気化学センサーが作製され、環境、医療分野に応用されてきている。   In recent years, with the development of microfabrication technology in the semiconductor industry, technology for producing fine wiring on silicon, glass substrates, and resin substrates has come to be widely used, and small electrochemical sensors have been produced in the environment and medical fields. Has been applied.

また、近年、DNAの解析技術が大きく発展し、ガラス基板上に微細な流路を形成した装置を利用して、電気泳動法を応用した解析が行なわれており、このような微細加工技術を用いた小型の分析手法μTAS(Total Analysis Sytem)が話題となっている。また、化学装置においても、マイクロリアクタの考え方が出てきており、反応装置を小型することで、資源の節約や、実験の手軽さを実現することが期待され、それに伴う実験数の増加が期待される。また、医療分野においては、その場で、血液の分析等が可能となり、迅速な医療処置がおこなわれる可能性がある。   In recent years, DNA analysis technology has been greatly developed, and analysis using an electrophoresis method has been performed using an apparatus in which fine flow paths are formed on a glass substrate. The small analysis method μTAS (Total Analysis System) used is a hot topic. In chemical equipment, the concept of microreactors has emerged, and it is expected that by reducing the size of the reaction equipment, it will be possible to conserve resources and facilitate experiments, and the number of experiments will be expected to increase accordingly. The In the medical field, blood analysis and the like can be performed on the spot, and a rapid medical treatment may be performed.

マイクロリアクタの流路形成方法は比較的簡単ではあるが、流路内の流体の流量調整は試行錯誤で流路を設計して行われ、そのたびに試作する必要がある。さらに、流体の粘度等が変化した場合、微調整が困難であった。   Although the flow path forming method of the microreactor is relatively simple, the flow rate adjustment of the fluid in the flow path is performed by designing the flow path by trial and error, and it is necessary to make a prototype each time. Furthermore, when the viscosity of the fluid changes, fine adjustment is difficult.

このような課題に対し、流路内の流体の流量を調整するために、例えば、流路の途中に微小バルブを設けることで流路の流れを調整する方法(特許文献1参照)や、微小流路を流れる流体に、刺激によりゾルーゲル転移する物質を添加し、微小流路上の所望の箇所に刺激を与え、流体をゲル化させて流れを制御する方法(特許文献2参照)が提案されている。
特開2002−282682号公報 特開2002−163022号公報
In order to adjust the flow rate of the fluid in the flow path, for example, a method of adjusting the flow of the flow path by providing a micro valve in the middle of the flow path (see Patent Document 1), A method has been proposed in which a substance that undergoes sol-gel transition by stimulation is added to a fluid flowing through a flow path, the flow is controlled by applying a stimulus to a desired location on a micro flow path, and gelling the fluid (see Patent Document 2). Yes.
JP 2002-282682 A Japanese Patent Laid-Open No. 2002-163022

しかしながら特許文献1の方法では、バルブでは開閉が行えるのみであるため流量を調整することはできない。また、特許文献2の方法では、精密な調整を行うためには、刺激量と流量との相関を予め測定する必要があり、また、応答速度、再現性において信頼性が高いとは考えられず、精密な流量調整ができるとは言い難い。   However, in the method of Patent Document 1, the flow rate cannot be adjusted because the valve can only be opened and closed. Further, in the method of Patent Document 2, it is necessary to measure the correlation between the stimulation amount and the flow rate in advance in order to perform precise adjustment, and it is not considered that the response speed and reproducibility are highly reliable. It is hard to say that precise flow rate adjustment is possible.

本発明は、流量調整精度に優れた、流路部材およびその製造方法ならびに流路装置を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the flow-path member, its manufacturing method, and flow-path apparatus which were excellent in the flow volume adjustment precision.

本発明の流路部材は、絶縁基板と、該絶縁基板に内蔵された流路と、該流路の形状を変化させて流量を増減するアクチュエータと、を具備してなることを特徴とする。   The flow path member of the present invention includes an insulating substrate, a flow path built in the insulating substrate, and an actuator that increases or decreases the flow rate by changing the shape of the flow path.

また、本発明の流路部材は、流路の壁面にアクチュエータが配置されていることが望ましい。   In the channel member of the present invention, it is desirable that an actuator be disposed on the wall surface of the channel.

また、本発明の流路部材は、流路と圧電素子との間に圧電素子保護層が設けられていることが望ましい。   In the flow path member of the present invention, it is desirable that a piezoelectric element protective layer is provided between the flow path and the piezoelectric element.

また、本発明の流路部材は、異なる流体を流通させる複数の流路を備えるとともに、前記複数の流路が合流し、前記の異なる流体を混合させる混合場を具備してなることが望ましい。   In addition, the flow path member of the present invention preferably includes a plurality of flow paths through which different fluids circulate, and includes a mixing field in which the plurality of flow paths merge to mix the different fluids.

また、本発明の流路部材は、複数の流路のそれぞれに、該流路の形状を変化させて流量を増減するアクチュエータが設けることが望ましい。   In the channel member of the present invention, it is desirable that each of the plurality of channels is provided with an actuator that increases or decreases the flow rate by changing the shape of the channel.

また、本発明の流路部材は、流路を挟持するように、複数のアクチュエータが配置されてなることが望ましい。   Moreover, it is desirable that the flow path member of the present invention has a plurality of actuators arranged so as to sandwich the flow path.

また、本発明の流路部材は、絶縁基板が少なくとも樹脂を含有してなることが望ましい。   In the flow path member of the present invention, it is desirable that the insulating substrate contains at least a resin.

また、本発明の流路部材は、絶縁基板を構成する樹脂が熱可塑性樹脂であることが望ましい。   In the flow path member of the present invention, it is desirable that the resin constituting the insulating substrate is a thermoplastic resin.

また、本発明の流路部材は、絶縁基板がセラミックスを主成分とすることが望ましい。   In the flow path member of the present invention, it is desirable that the insulating substrate is mainly composed of ceramics.

また、本発明の流路部材は、配線回路が金、銀、銅、アルミニウムの少なくとも1種を含む低抵抗金属からなることが望ましい。   In the flow path member of the present invention, the wiring circuit is preferably made of a low resistance metal containing at least one of gold, silver, copper, and aluminum.

また、本発明の流路装置は、以上説明した流路部材に連結部材を介してポンプが接続されてなることを特徴とする。   The flow channel device of the present invention is characterized in that a pump is connected to the flow channel member described above via a connecting member.

また、本発明の流路装置は、以上説明した流路部材に連結部材を介して流量測定器が接続されてなることを特徴とする。   The flow channel device of the present invention is characterized in that a flow rate measuring device is connected to the flow channel member described above via a connecting member.

本発明の流路部材では、絶縁基板に内蔵された流路の断面積をアクチュエータを用いて変化させ、流体の流量を迅速に精密に制御することが可能となった。   With the flow path member of the present invention, the flow area of the flow path built in the insulating substrate can be changed using an actuator, and the flow rate of the fluid can be controlled quickly and accurately.

また、流路の壁面にアクチュエータを配置することで、より、簡単な構造で流路の制御を行うことができ、流路部材のコストダウンを可能とし、また、信頼性を向上させることができる。   Further, by arranging the actuator on the wall surface of the flow path, the flow path can be controlled with a simpler structure, the cost of the flow path member can be reduced, and the reliability can be improved. .

また、圧電素子を圧電素子保護層で保護することにより、流体による圧電素子の劣化を防止し、流路部材の寿命を延ばすことができる。   Further, by protecting the piezoelectric element with the piezoelectric element protective layer, deterioration of the piezoelectric element due to the fluid can be prevented, and the life of the flow path member can be extended.

また、異なる流体を流通させる複数の流路を備えるマイクロリアクタとして異なる流体が混合反応する場を設けることで、いろいろな反応を行うことが可能となる。   Further, by providing a place where different fluids are mixed and reacted as a microreactor having a plurality of flow paths for circulating different fluids, various reactions can be performed.

また、複数の流路のそれぞれに、該流路の形状を変化させて流量を増減するアクチュエータを設けることにより、反応の場へ供給する各流路の流量を制御でき、反応の微調整がさらに可能となる。   In addition, by providing an actuator for changing the shape of the flow path to increase or decrease the flow rate in each of the plurality of flow paths, the flow rate of each flow path supplied to the reaction field can be controlled, and further fine adjustment of the reaction can be performed. It becomes possible.

また、アクチュエータ1個の変位量で流量制御困難な場合は2個以上のアクチュエータを流路を挟持するように、配置組み合わせることにより大きく流量を制御できる。   In addition, when it is difficult to control the flow rate with the displacement amount of one actuator, the flow rate can be largely controlled by combining two or more actuators so as to sandwich the flow path.

また、絶縁基板として加工性に優れた樹脂を用いることにより、微細な流路であっても、容易に形成することができる。また、透明の樹脂を用いた場合には、流体の流れている様子を可視化でき、分光学的測定が可能となる。   In addition, by using a resin with excellent processability as the insulating substrate, even a fine flow path can be easily formed. In addition, when a transparent resin is used, it is possible to visualize the flow of fluid and to perform spectroscopic measurement.

また、樹脂を熱可塑性樹脂にすることにより、インプリント等の加工技術を用いることが可能となり、量産化が容易となりさらに、低コスト化が可能となる。   Further, by using a thermoplastic resin as the resin, it is possible to use a processing technique such as imprinting, which facilitates mass production and further reduces costs.

また、流体としては、水系、溶剤系が考えられるが、溶剤系の場合、絶縁基板として樹脂を用いることが困難となる。また、流体が強酸、強アルカリ等の場合も、樹脂が分解される可能性があるため、樹脂を用いることができない場合がある。このような場合であっても耐溶剤性、耐薬品性に優れたセラミック材料で絶縁基板を形成することにより、流体として有機溶剤や強酸、強アルカリ等を流体として使用できる。また、温度を制御する場合はセラミックであれば高温にすることも可能となる。   In addition, the fluid may be water-based or solvent-based, but in the case of the solvent-based fluid, it is difficult to use a resin as the insulating substrate. Also, when the fluid is a strong acid, strong alkali, or the like, the resin may not be used because the resin may be decomposed. Even in such a case, an organic solvent, strong acid, strong alkali, or the like can be used as the fluid by forming the insulating substrate with a ceramic material having excellent solvent resistance and chemical resistance. In addition, when controlling the temperature, it is possible to increase the temperature if it is ceramic.

また、配線回路に金、銀、銅、アルミニウムの少なくとも1種を含む低抵抗金属を用いることで、高電圧の電流を流しても発熱しないので、精密な温度制御が必要な場合には、特に望ましい。   In addition, by using a low-resistance metal containing at least one of gold, silver, copper, and aluminum for the wiring circuit, it does not generate heat even when a high-voltage current is passed, especially when precise temperature control is required. desirable.

また、本発明の流路装置を用いることで、流体抵抗を発生させることができ、微小流量発生のポンプを用いて原料流体を流した場合に発生する脈動並びに脈流を整流化することができる。   Further, by using the flow path device of the present invention, fluid resistance can be generated, and pulsation and pulsation generated when a raw material fluid is flowed using a pump that generates a minute flow rate can be rectified. .

また、流路部材に連結部材を介して流量測定器を接続することにより、実際の流量が実測可能となり、より精密な測定が可能となる。   Further, by connecting the flow rate measuring device to the flow path member via the connecting member, the actual flow rate can be measured, and more accurate measurement can be performed.

本発明の流路部材は、例えば、図1に示すように、絶縁基板1である配線側基板1aと、流路側基板1bとの積層体であり、配線側基板1aにはアクチュエータ3が埋め込まれており、アクチュエータ3の+側外部電極5a、―側外部電極5bには、アクチュエータ3に電流を供給する貫通導体15および導体配線層17が接続されている。なお、アクチュエータ3は配線側基板1aに接着シート7により固定されている。また、アクチュエータ3である圧電素子3は樹脂などからなる圧電素子保護層9により保護することが望ましい。また、流路11は流路側基板1bの配線側基板1aと接する側の面に設けられた溝と、この溝を塞ぐ配線側基板1aとで構成されている。   For example, as shown in FIG. 1, the flow path member of the present invention is a laminate of a wiring side substrate 1a that is an insulating substrate 1 and a flow path side substrate 1b, and an actuator 3 is embedded in the wiring side substrate 1a. A through conductor 15 and a conductor wiring layer 17 for supplying current to the actuator 3 are connected to the + external electrode 5a and the negative external electrode 5b of the actuator 3. The actuator 3 is fixed to the wiring side substrate 1a by an adhesive sheet 7. The piezoelectric element 3 as the actuator 3 is preferably protected by a piezoelectric element protective layer 9 made of resin or the like. The flow path 11 includes a groove provided on a surface of the flow path side substrate 1b on the side in contact with the wiring side substrate 1a and a wiring side substrate 1a that closes the groove.

そして、流路部材に内蔵され、流路11の近傍に配置されたアクチュエータ3に、導体配線層17、貫通導体15、外部電極5を介して電圧を印加することで、アクチュエータ3の寸法が増減し、流路11の断面積を増減させて流路11に流れる流体の流量を変化させることができるのである。   The size of the actuator 3 is increased or decreased by applying a voltage to the actuator 3 built in the flow path member and disposed in the vicinity of the flow path 11 via the conductor wiring layer 17, the through conductor 15, and the external electrode 5. In addition, the flow rate of the fluid flowing through the flow path 11 can be changed by increasing or decreasing the cross-sectional area of the flow path 11.

図2(a)、(b)、(c)にアクチュエータ3である圧電素子3の詳細な構造を示す。図2(a)に示すように、圧電素子3は、薄膜の圧電絶縁層19と薄膜の内部電極層21とを交互に積層して構成される。さらに内部電極層21には+側内部電極層21aと−側内部電極層21bがあり、圧電絶縁層19を挟んで交互に積層されている。この+側内部電極層21aは全て+側外部電極5aに接続され、一方、−側内部電極層21bは全て−側外部電極5bに接続されている。   2A, 2B, and 2C show the detailed structure of the piezoelectric element 3 that is the actuator 3. FIG. As shown in FIG. 2A, the piezoelectric element 3 is configured by alternately laminating thin piezoelectric insulating layers 19 and thin internal electrode layers 21. Further, the internal electrode layer 21 includes a positive side internal electrode layer 21 a and a negative side internal electrode layer 21 b, which are alternately stacked with the piezoelectric insulating layer 19 interposed therebetween. All the + side internal electrode layers 21a are connected to the + side external electrode 5a, while all the − side internal electrode layers 21b are connected to the − side external electrode 5b.

図2(b)は内部電極層21の形状を示す平面図である。例えば、圧電絶縁層19の主面に形成された+側内部電極層21aは、圧電素子3の一端部に形成された+側外部電極5aと電気的に接続されるため、図2(b)の例では、右側の端部には延びており、それ以外の3辺とは電気的に絶縁する必要があるため、それぞれの辺に対して+側内部電極層21aを設けていない絶縁部が形成されている。そして、圧電絶縁層19の主面のうち、+側内部電極層21aが形成された主面とは逆の主面には、−側内部電極層21bが形成されており、+側内部電極層21aとは逆の形状となっている。即ち、+側外部電極5aとは逆に、左側の辺に−側内部電極層21bが延びた構造となっている。   FIG. 2B is a plan view showing the shape of the internal electrode layer 21. For example, since the + side internal electrode layer 21a formed on the main surface of the piezoelectric insulating layer 19 is electrically connected to the + side external electrode 5a formed on one end of the piezoelectric element 3, FIG. In this example, since it extends to the right end and needs to be electrically insulated from the other three sides, there is an insulating portion not provided with the + side internal electrode layer 21a for each side. Is formed. A negative side internal electrode layer 21b is formed on the main surface of the piezoelectric insulating layer 19 opposite to the main surface on which the positive side internal electrode layer 21a is formed. The shape is the reverse of 21a. That is, contrary to the + side external electrode 5a, the −side internal electrode layer 21b extends on the left side.

また、図2(c)は圧電素子3が電圧を制御することにより、垂直方法に変位することを示している。   FIG. 2C shows that the piezoelectric element 3 is displaced in the vertical direction by controlling the voltage.

即ち、本発明の流路部材は、電圧を制御することにより垂直方向に変位するアクチュエータ3を流路11に隣接するように内蔵することで、流路部材の流路11の断面積を精密に制御することができ、流路11が極端に微細なものであったとしても、流路11を流れる流体の流量を迅速に、精密に制御することができるのである。   That is, the flow path member of the present invention incorporates the actuator 3 that is displaced in the vertical direction by controlling the voltage so as to be adjacent to the flow path 11, thereby accurately determining the cross-sectional area of the flow path 11 of the flow path member. Even if the flow path 11 is extremely fine, the flow rate of the fluid flowing through the flow path 11 can be controlled quickly and precisely.

図3に本発明の流路部材内に形成された流路11の構成例を示す。まず、ポンプを用いて流体A〜Dが流路11a〜11dに導入される。これらの流体のうち流路11bに導入された流体Bは、流路bから分岐した流路11eと流路11fとに分かれて流れる。そして、流路11a〜11dに導入された流体はアクチュエータ3(図示せず)が設けられた流量調整部4A〜4Eで、それぞれ、流量を調整され、流路11g〜11kへと流れていく。   FIG. 3 shows a configuration example of the flow path 11 formed in the flow path member of the present invention. First, fluids A to D are introduced into the flow paths 11a to 11d using a pump. Of these fluids, the fluid B introduced into the flow path 11b flows separately into a flow path 11e and a flow path 11f branched from the flow path b. Then, the flow rate of the fluid introduced into the flow paths 11a to 11d is adjusted by the flow rate adjusting units 4A to 4E provided with the actuator 3 (not shown), and flows to the flow paths 11g to 11k.

例えば、流路11a、流量調整部4Aを経て、流路11gを通過した流体Aと、流路11b、流路11e、流量調整部4Bを経て、流路11hを通過した流体Bとは、流路11gと流路11hとが合流して形成された流路11mで混合される。例えば、流体AとBとが、反応しうる物質である場合には、流路11mは、流体Aと流体Bとの反応場となる。   For example, the fluid A that has passed through the flow path 11g via the flow path 11a and the flow rate adjustment unit 4A, and the fluid B that has passed through the flow path 11h via the flow path 11b, the flow path 11e, and the flow rate adjustment unit 4B are: The channel 11g and the channel 11h are mixed in the channel 11m formed by joining. For example, when the fluids A and B are substances that can react, the flow path 11m becomes a reaction field between the fluid A and the fluid B.

また、流路11fを通過した流体Bは流量調整部4Cで、流量を調整されて、流路11iへと流れ出す。また、流路11cに導入された流体Cは流量調整部4Dを経て、流路11jへ流れ出し、流路11iと合流し、流路11nで流路11iからの流体Bと混合される。そして、流体Bと流体Cとが反応する場合には、この流路11nは流体Bと流体Cとの反応場となる。さらに、流体Bと流体Cとの混合流体あるいは反応流体は、流路11d、流量調整部4E、流路11kを経て、流路11nと合流した流体Dと流路11pで混合、あるいは反応することになる。   Further, the fluid B that has passed through the flow path 11f is adjusted in flow rate by the flow rate adjusting unit 4C and flows out to the flow path 11i. Further, the fluid C introduced into the flow path 11c flows out to the flow path 11j through the flow rate adjusting unit 4D, merges with the flow path 11i, and is mixed with the fluid B from the flow path 11i in the flow path 11n. And when the fluid B and the fluid C react, this flow path 11n becomes a reaction field of the fluid B and the fluid C. Further, the mixed fluid or the reaction fluid of the fluid B and the fluid C is mixed or reacted in the fluid D and the fluid channel 11p joined to the fluid channel 11n via the fluid channel 11d, the flow rate adjusting unit 4E, and the fluid channel 11k. become.

図3に示すように、本発明の流路部材によれば、複数の流体を高精度に混合、反応させることができ、また、非常に少量の流体であっても混合、反応を行うことができる。また、連続して異なる組成の流体を混合、反応させることも可能である。   As shown in FIG. 3, according to the flow path member of the present invention, a plurality of fluids can be mixed and reacted with high accuracy, and even a very small amount of fluid can be mixed and reacted. it can. It is also possible to continuously mix and react fluids having different compositions.

このような流路部材において、流量調整部4A〜4Eにはアクチュエータ3が配置されているが、流量調整部4A〜4Eはアクチュエータ3の体積の増減方向に対して、幅広く、浅く形成することが望ましい。このような構造にすることで断面構造変化による抵抗発生のため、ポンプで発生した脈流を整流することができる。さらに、アクチュエータの変位が微量でも流量を大きく変化させることができる。   In such a flow path member, the actuator 3 is disposed in the flow rate adjusting units 4A to 4E. However, the flow rate adjusting units 4A to 4E may be formed to be wide and shallow with respect to the direction in which the volume of the actuator 3 increases or decreases. desirable. With such a structure, the pulsating flow generated by the pump can be rectified due to the generation of resistance due to the change in the cross-sectional structure. Furthermore, the flow rate can be changed greatly even if the displacement of the actuator is very small.

また、流量調整部4A〜4Eにおいて、流路11を挟み込むように、アクチュエータ3を配置した場合には、アクチュエータ3の変位による流路11の体積の増減量、並びに増減速度を2倍にすることができるため、より迅速に、流量を大きく変化させることができる。   In addition, when the actuator 3 is arranged so as to sandwich the flow path 11 in the flow rate adjustment units 4A to 4E, the volume increase / decrease amount and the speed of increase / decrease by the displacement of the actuator 3 are doubled. Therefore, the flow rate can be greatly changed more rapidly.

なお、それぞれのアクチュエータ3は必要に応じて、それぞれが独立して制御できることは言うまでもない。   Needless to say, each actuator 3 can be independently controlled as necessary.

本発明の流路部材に形成された流路11は、以上説明したように種々の気体、液体、および混層流体を流通させるもので、その目的に合わせて形状を適宜設計、変更することが望ましい。例えば、大気中の成分分析、液体のpHを測定するなど、流体に他の成分を混合するなどの処理を行う必要が無い場合には、流路11の断面構造は流体と壁の抵抗が小さくなるような構造が望ましく、例えば、図4(a)に示すように略半円とすることが望ましい。   As described above, the flow path 11 formed in the flow path member of the present invention circulates various gases, liquids, and mixed fluids, and it is desirable to appropriately design and change the shape according to the purpose. . For example, when there is no need to perform processing such as mixing other components in the fluid, such as component analysis in the atmosphere or measuring the pH of the liquid, the cross-sectional structure of the channel 11 has a low resistance between the fluid and the wall. For example, as shown in FIG. 4A, it is desirable that the structure be a substantially semicircle.

また、流体を薬品と混合するなどして、処理した流体を検査する場合には流体と薬品とを混合する必要があるため、流体抵抗が大きい流路断面として、流体の混合を促進することが望ましく、例えば、図4(b)に示すように流路断面を矩形とすることが望ましい。また、より短い距離で混合、反応を終わらせるためには、流路11の壁面に流体の流れ方向に略垂直な方向に溝を形成するなどして流体が乱流を起こすような形態とすることが望ましい。   In addition, when inspecting a processed fluid by mixing the fluid with a chemical, etc., it is necessary to mix the fluid and the chemical. Desirably, for example, as shown in FIG. In addition, in order to finish the mixing and reaction at a shorter distance, the fluid is turbulent by forming a groove on the wall surface of the flow path 11 in a direction substantially perpendicular to the fluid flow direction. It is desirable.

このように、流路11の断面形状はその目的に合わせて、断面構造を最適化することが望ましい。いうまでもなく、流路11の最適な断面形状は流体の特性によっても変化する。例えば、粘度の低い流体は流路11の幅が狭くても流体は充分に流れるが、流体の粘度が高くなると流路11の断面積を広くする必要がある。このような観点から、流路11の幅は、100〜700μm程度が適当である。また、流路11の深さについても同様であり、粘度が低いと浅く、粘度が高いと深くすることが望ましく、100〜500μmが適当である。   Thus, it is desirable that the cross-sectional shape of the flow path 11 is optimized in accordance with the purpose. Needless to say, the optimum cross-sectional shape of the flow path 11 also varies depending on the characteristics of the fluid. For example, a fluid with low viscosity flows sufficiently even if the width of the flow path 11 is narrow, but the cross-sectional area of the flow path 11 needs to be increased when the viscosity of the fluid increases. From such a viewpoint, the width of the flow path 11 is suitably about 100 to 700 μm. The same applies to the depth of the flow path 11. When the viscosity is low, the depth is shallow, and when the viscosity is high, the depth is desirably deep, and 100 to 500 μm is appropriate.

また、本発明の流路部材に用いられる配線側基板1a、流路側基板1bの材料は熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、セラミック材料が用いられ、実験の目的に合して選択できる。配線側基板1a、流路側基板1bの材料は、材料の加工性を考慮すると熱可塑性樹脂を用いることが望ましく、スチロール系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、および熱可塑性弗素系樹脂などが好適に用いられる。とくに、分光学的測定における検出器として用いる場合には、透明性が重要となるので、透明な樹脂基板が得られるような加工条件を選択したり、透明度の高い樹脂基板を選択することが好ましい。また、熱可塑性樹脂はインプリントやナノインプリントの加工方法を用いることが可能であり、同じ形状を多量に作製する場合に適している。また、熱硬化性樹脂は耐溶剤性に優れており、特に、有機溶剤を流体として用いて分光学的測定を行う用途に適している。このような熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、熱硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリイミド樹脂等が用いられる。セラミック材料としては、アルミナ、ムライト、窒化アルミニウム等が用いられる。セラミック材料は耐溶剤性と耐薬品性が優れており、特に樹脂が用いることのできない場合に適している。また、絶縁基板1をセラミック材料により形成した場合には、耐熱性に優れていることから、発熱反応を伴う場合であっても何ら問題なく長時間の使用が可能である。   Moreover, the material of the wiring side board | substrate 1a used for the flow path member of this invention and the flow path side board | substrate 1b uses a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and a ceramic material, and can be selected according to the objective of experiment. The material of the wiring side substrate 1a and the flow path side substrate 1b is preferably a thermoplastic resin in consideration of the workability of the material, and is a styrenic resin, acrylic resin, methacrylic resin, polyester resin, silicone resin, and A thermoplastic fluorine-based resin or the like is preferably used. In particular, when used as a detector in spectroscopic measurement, since transparency is important, it is preferable to select a processing condition that provides a transparent resin substrate or a resin substrate with high transparency. . The thermoplastic resin can be processed by imprinting or nanoimprinting, and is suitable for manufacturing a large amount of the same shape. Further, the thermosetting resin is excellent in solvent resistance, and is particularly suitable for applications in which spectroscopic measurement is performed using an organic solvent as a fluid. As such a thermosetting resin, an epoxy resin, a phenol resin, a urethane resin, a thermosetting polyphenylene ether resin, a polyimide resin, or the like is used. As the ceramic material, alumina, mullite, aluminum nitride or the like is used. Ceramic materials have excellent solvent resistance and chemical resistance, and are particularly suitable when a resin cannot be used. In addition, when the insulating substrate 1 is formed of a ceramic material, it is excellent in heat resistance, so that it can be used for a long time without any problem even if it involves an exothermic reaction.

また、絶縁基板1をセラミック材料により形成した場合には、外部ヒーターにより加熱することもできる。また、ヒータ電極を内蔵させることも可能であり、その場合には装置全体の小型化が可能となる。   In addition, when the insulating substrate 1 is formed of a ceramic material, it can be heated by an external heater. Further, it is possible to incorporate a heater electrode, in which case the entire apparatus can be miniaturized.

また、アクチュエータ3の圧電絶縁層19の材料としては、ペロブスカイト構造を有するジルコン酸チタン酸鉛Pb(Zr、Ti)O(PZT)や、その他マグネシウムニオブ酸鉛Pb(Mg1/3Nb2/3)O(PZN)等が用いられる。また、外部電極5には金属粉末と樹脂との混合物である導電性ペーストが用いられる。内部電極層21は電気抵抗等を考慮して、銀あるいは銀パラジウム合金ペーストあるいはニッケルペースト等が用いられる。 As a material of the piezoelectric insulating layer 19 of the actuator 3, lead zirconate titanate Pb (Zr, Ti) O 3 (PZT) having a perovskite structure, and other magnesium niobate lead Pb (Mg 1/3 Nb 2 / 3 ) O 3 (PZN) or the like is used. The external electrode 5 is made of a conductive paste that is a mixture of metal powder and resin. The internal electrode layer 21 is made of silver, silver palladium alloy paste, nickel paste or the like in consideration of electric resistance and the like.

また、アクチュエータ3を配線側基板1aに搭載する場合には、アクチュエータ3と配線側基板1aとの間に粘着力あるいは接着力を有するアクチュエータ接着層7を設けることが望ましい。アクチュエータ接着層7としては、半導体素子などをマウントする際に用いられるエポキシシートを好適に用いることができる。なお、粘着性あるいは接着性があれば、特に材料を限定する必要はない。また、アクチュエータ接着層7を用いずにアクチュエータ3を貫通導体15に半田実装するなどしてもよい。   When the actuator 3 is mounted on the wiring side substrate 1a, it is desirable to provide an actuator adhesive layer 7 having an adhesive force or adhesive force between the actuator 3 and the wiring side substrate 1a. As the actuator adhesive layer 7, an epoxy sheet used when mounting a semiconductor element or the like can be suitably used. Note that the material is not particularly limited as long as it is sticky or adhesive. Alternatively, the actuator 3 may be solder mounted on the through conductor 15 without using the actuator adhesive layer 7.

また、配線側基板1aを貫通して設けられた貫通導体15は、例えば、炭酸レーザ等を用いて加工された貫通孔15aに導電性の金属と熱硬化性樹脂から構成される導電性ペーストを充填して形成される。金属成分としては、銅あるいは銀コート銅、はんだコート銅等の単独または低融点金属との混合物が好適に用いられる。樹脂は熱硬化性樹脂であれば良く、汎用のエポキシ樹脂を用いても良い。エポキシ樹脂としては、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、他官能型エポキシ樹脂などが好適に用いられ、さらに硬化剤として酸無水物系、アミン系、イミダゾール系を混合して貫通導体15となる導電性ペーストとする。また、樹脂としてフェノール樹脂を用いても良い。   Further, the through conductor 15 provided through the wiring side substrate 1a is made of, for example, a conductive paste made of a conductive metal and a thermosetting resin in a through hole 15a processed using a carbonic acid laser or the like. Filled and formed. As the metal component, copper, silver-coated copper, solder-coated copper or the like alone or a mixture with a low melting point metal is preferably used. The resin may be a thermosetting resin, and a general-purpose epoxy resin may be used. As the epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, other functional type epoxy resin, etc. are suitably used, and acid anhydride type, amine type and imidazole type are mixed as a curing agent. Thus, a conductive paste that becomes the through conductor 15 is obtained. Moreover, you may use a phenol resin as resin.

導体配線層17は、従来の配線基板として導体配線層を形成するに好適な金属より形成され、例えば、金、銀、銅、アルミニウムの少なくとも1種を含む低抵抗金属の金属箔が好適に使用される。導体配線層17の厚みは1〜50μmが良く、望ましくは5〜20μmが良い。導体配線17の厚みを5〜20μmにすることにより、良好に電気信号を伝えることができる。導体配線層17の厚みが1μmより小さいと導体配線層17の抵抗が大きくなり、また、50μmより大きいと、積層時に配線側基板1aの変形が大きくなったり、配線側基板1aへの導体配線層17の埋め込み量が多くなり、配線側基板1aの歪みが大きくなり、全製造工程後に配線側基板1aが変形を起こしやすいなどの問題がある。また、導体配線層17が厚くなることにより、導体配線層17のパターンをエッチングして形成する場合には、エッチングしにくくなるため精度のよい微細な回路が得られないという問題もある。なお、導体配線層17の表面にNiやAuなどのメッキを施してもよい。   The conductor wiring layer 17 is formed of a metal suitable for forming a conductor wiring layer as a conventional wiring board, and for example, a low resistance metal foil containing at least one of gold, silver, copper, and aluminum is preferably used. Is done. The thickness of the conductor wiring layer 17 is preferably 1 to 50 μm, and preferably 5 to 20 μm. By setting the thickness of the conductor wiring 17 to 5 to 20 μm, an electrical signal can be transmitted satisfactorily. If the thickness of the conductor wiring layer 17 is smaller than 1 μm, the resistance of the conductor wiring layer 17 is increased. If it is larger than 50 μm, the deformation of the wiring side substrate 1a is increased during lamination, or the conductor wiring layer to the wiring side substrate 1a is increased. 17 is increased, the wiring side substrate 1a is distorted, and the wiring side substrate 1a is likely to be deformed after the entire manufacturing process. In addition, since the conductor wiring layer 17 is thick, when the pattern of the conductor wiring layer 17 is formed by etching, it is difficult to perform etching, so that there is a problem that a fine circuit with high accuracy cannot be obtained. The surface of the conductor wiring layer 17 may be plated with Ni or Au.

次に、本発明の流路部材の製造方法について図5〜13を用いて説明する。   Next, the manufacturing method of the flow-path member of this invention is demonstrated using FIGS.

まず、アクチュエータ3の製造方法を示す。アクチュエータ3は、その製造方法が広く公開されている。図5に薄膜技術を応用した積層型圧電素子3の製造プロセスを示す。焼成までの前工程は、積層セラミックコンデンサと類似の方法で製造される。各種セラミック原料粉末を所定の組成で秤量、混合後、予焼し、得られた圧電セラミックス粉末に、適量の有機バインダ、溶剤、可塑剤及び分散剤を添加混練し、スラリーを作製する。バインダとしては、ポリビニルブチラールやアクリレート系バインダが使用される。また、溶剤としては、トルエンなどの有機溶剤が好適に用いられる。また、可塑剤としては、DOP(ジオクチルフタレート)のような高沸点系の有機溶剤が用いられる。また、分散剤は市販のものであれば特に規定されない。これらの成分は必要に応じて適宜、配合比を調整することができる。このようにして作製したスラリーを成膜装置により15〜100μmの厚みのグリーンシートとし、適当な寸法に切断した後、その片面上に内部電極用金属ペーストを印刷し、これを所要枚数積層し、熱圧着により生積層体をつくる。次に生積層体の内部に含まれる有機成分を熱分解するために300〜400℃、10〜80hで脱バインダ処理を行う。なお、この脱バインダ処理においては、バインダ成分を完全に除去せずに、保形性を維持している。次に、脱バインダした生積層体を所要の寸法に切断後、800〜1500℃の温度で焼成することでセラミック積層体が得られる。次に、この焼結体から余分なバリなどを取り除き、寸法精度を高め、さらにC面加工し、さらに、この積層体の各内部電極層21が露出した側面に外部電極ペーストを塗布し、熱処理することで内部電極層21と外部電極5が接続され、アクチュエータ3となる。なお、内部電極層21や外部電極5となる金属ペーストは、従来、周知のAg−Pd系金属ペーストが好適に用いられる。   First, a method for manufacturing the actuator 3 will be described. The manufacturing method of the actuator 3 is widely disclosed. FIG. 5 shows a manufacturing process of the multilayer piezoelectric element 3 to which the thin film technology is applied. The pre-process until firing is manufactured by a method similar to that for a multilayer ceramic capacitor. Various ceramic raw material powders are weighed and mixed with a predetermined composition, pre-fired, and an appropriate amount of an organic binder, a solvent, a plasticizer and a dispersant are added and kneaded to the obtained piezoelectric ceramic powder to prepare a slurry. As the binder, polyvinyl butyral or an acrylate binder is used. Moreover, as a solvent, organic solvents, such as toluene, are used suitably. As the plasticizer, a high-boiling organic solvent such as DOP (dioctyl phthalate) is used. Further, the dispersant is not particularly defined as long as it is commercially available. The mixing ratio of these components can be adjusted as necessary. The slurry thus produced is made into a green sheet having a thickness of 15 to 100 μm by a film forming apparatus, cut to an appropriate size, and then a metal paste for internal electrodes is printed on one side thereof, and a required number of layers are laminated, A green laminate is made by thermocompression bonding. Next, a binder removal treatment is performed at 300 to 400 ° C. for 10 to 80 hours in order to thermally decompose the organic components contained in the raw laminate. In this binder removal process, the shape retention is maintained without completely removing the binder component. Next, the ceramic laminated body is obtained by cutting the debindered raw laminated body into required dimensions and then firing at a temperature of 800 to 1500 ° C. Next, excess burrs and the like are removed from the sintered body, the dimensional accuracy is increased, the C surface is further processed, and an external electrode paste is applied to the side surface where each internal electrode layer 21 of the laminated body is exposed. As a result, the internal electrode layer 21 and the external electrode 5 are connected to form the actuator 3. In addition, conventionally well-known Ag-Pd type metal paste is used suitably for the metal paste used as the internal electrode layer 21 or the external electrode 5. FIG.

アクチュエータ3を構成する圧電絶縁層19のシート厚みはアクチュエータ3全体の厚みを薄くできるので薄いほど良い。しかしながら、セラミック粗大粒子のために絶縁性劣化が考えられるため、圧電絶縁層19のシート厚みは10μm以上が好ましい。圧電絶縁層19を複数層、積層してアクチュエータ3を作製するのであるが、必要な圧電絶縁層19の積層数は必要な変位量から計算して求められる。具体的には、アクチュエータ3の変位量は圧電絶縁層19の圧電歪係数D33と圧電絶縁層19の厚み、圧電絶縁層19の総層数から理論的に求めることができる。   The sheet thickness of the piezoelectric insulating layer 19 constituting the actuator 3 is preferably as thin as possible because the thickness of the entire actuator 3 can be reduced. However, since the insulating deterioration can be considered due to the coarse ceramic particles, the sheet thickness of the piezoelectric insulating layer 19 is preferably 10 μm or more. The actuator 3 is manufactured by laminating a plurality of piezoelectric insulating layers 19. The required number of laminated piezoelectric insulating layers 19 is obtained by calculating from the required displacement amount. Specifically, the displacement amount of the actuator 3 can be theoretically obtained from the piezoelectric strain coefficient D33 of the piezoelectric insulating layer 19, the thickness of the piezoelectric insulating layer 19, and the total number of layers of the piezoelectric insulating layer 19.

次に、配線側基板1aに形成される導体配線層17の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the conductor wiring layer 17 formed on the wiring side substrate 1a will be described.

図6(a)に示す転写シートAは、樹脂フィルム23に接着層27を介して金属箔17が接着されて形成されてなるものである。樹脂フィルム23は、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド、塩化ビニル、ポリプロピレン等公知のものが使用できる。樹脂フィルム23の厚みは、10〜500μmが適当であり、望ましくは20〜300μmが良い。樹脂フィルム23の厚みは、10〜500μmの範囲であれば十分に柔軟であり、後の工程で銅箔17の転写を問題なく行うことができる。これは、樹脂フィルム23の厚みが10μmより小さいと樹脂フィルム23の変形や折れ曲がりにより形成した導体配線層17が断線を引き起こし易くなり、厚みが500μmより大きいと樹脂フィルム23の柔軟性がなくなるため、樹脂フィルム23並びに接着層27の剥離が難しくなるためである。接着層27としては、アクリル系、ゴム系、シリコーン系、エポキシ系等公知の接着剤が好適に用いることができる。また、接着層27の厚みは、接着力とも関係するが、1〜20μmが適当である。   The transfer sheet A shown in FIG. 6A is formed by bonding a metal foil 17 to a resin film 23 via an adhesive layer 27. As the resin film 23, known ones such as polyester, polyethylene terephthalate, polyimide, polyphenylene sulfide, vinyl chloride, and polypropylene can be used. The thickness of the resin film 23 is suitably 10 to 500 μm, preferably 20 to 300 μm. The thickness of the resin film 23 is sufficiently flexible as long as it is in the range of 10 to 500 μm, and the transfer of the copper foil 17 can be performed without problems in the subsequent process. This is because when the thickness of the resin film 23 is smaller than 10 μm, the conductor wiring layer 17 formed by deformation or bending of the resin film 23 is likely to cause disconnection, and when the thickness is larger than 500 μm, the flexibility of the resin film 23 is lost. This is because peeling of the resin film 23 and the adhesive layer 27 becomes difficult. As the adhesive layer 27, known adhesives such as acrylic, rubber, silicone, and epoxy can be suitably used. Further, the thickness of the adhesive layer 27 is related to the adhesive force, but 1 to 20 μm is appropriate.

この導体配線層17は銅をメッキ成長させた銅箔17を用いることが望ましく、メッキ成長させた銅箔17は通常マット面(荒れた面)とシャニー面(スムーズ面)からなるが、シャニー面もエッチング液(例えばメック社のCZ液)にて処理すると荒れた面とすることができ、樹脂を含有する配線側基板1aや流路側基板1bに高温で押し付けることで、界面に物理的な接続力であるアンカー効果が発現する。   The conductor wiring layer 17 is preferably made of copper foil 17 grown by plating copper, and the copper foil 17 grown by plating usually has a matte surface (rough surface) and a sanny surface (smooth surface). Can also be roughened by processing with an etching solution (for example, CZ solution from MEC Co., Ltd.), and can be physically connected to the interface by being pressed against the wiring side substrate 1a or the flow path side substrate 1b containing the resin at a high temperature. An anchor effect, which is a force, appears.

そして、このような転写シートAにおいて、樹脂フィルム23と接着層27の粘着力は、50〜700g/20mmが良く、望ましくは100〜500g/20mmが良い。樹脂フィルム23と接着層27の粘着力が50〜700g/20mmあれば銅箔が配線側基板に充分に密着し、問題なく電気信号を伝えることが可能となる。上記の粘着力が50g/20mmより弱いと、回路形成するためのエッチング処理の際、導体配線層25が樹脂フィルム23より剥離し、導体配線層17の断線を引き起こす。また、700g/20mmより大きいと、回路形成後、配線側基板1aに転写し、樹脂フィルム23並びに接着層27を剥離する際、配線側基板1aの変形、導体配線層17の断線等を引き起こす。なお、この粘着力は、図16に示すように、接着層27を介して導体配線層17が接着された樹脂フィルム23から樹脂フィルム23を導体配線層17から180°の方向に引き剥がす時の応力を表したものである。   In such a transfer sheet A, the adhesive force between the resin film 23 and the adhesive layer 27 is preferably 50 to 700 g / 20 mm, and more preferably 100 to 500 g / 20 mm. If the adhesive force between the resin film 23 and the adhesive layer 27 is 50 to 700 g / 20 mm, the copper foil is sufficiently adhered to the wiring side substrate, and an electric signal can be transmitted without any problem. If the above adhesive strength is weaker than 50 g / 20 mm, the conductor wiring layer 25 is peeled off from the resin film 23 during the etching process for forming a circuit, and the conductor wiring layer 17 is disconnected. On the other hand, if it is larger than 700 g / 20 mm, after the circuit is formed, it is transferred to the wiring-side substrate 1a, and when the resin film 23 and the adhesive layer 27 are peeled off, the wiring-side substrate 1a is deformed, the conductor wiring layer 17 is disconnected. As shown in FIG. 16, this adhesive strength is obtained when the resin film 23 is peeled from the conductor wiring layer 17 in the direction of 180 ° from the resin film 23 to which the conductor wiring layer 17 is bonded via the adhesive layer 27. It represents the stress.

次に、樹脂フィルム23に接着された導体配線層17からエッチング法により不要部分を除去して導体回路を形成する。先ず、図6(a)の転写シートAに、図6(b)に示すように導体配線層17上にフォトレジスト、スクリーン印刷等の方法で導体回路状にレジスト29を形成した後、不要な部分をエッチング除去して、図6(c)に示すような樹脂フィルム23上に所望の回路パターンを有する導体配線層17を形成することができる。   Next, unnecessary portions are removed from the conductor wiring layer 17 bonded to the resin film 23 by an etching method to form a conductor circuit. First, in the transfer sheet A of FIG. 6A, a resist 29 is formed in a conductor circuit shape on the conductor wiring layer 17 by a method such as photoresist or screen printing as shown in FIG. The conductor wiring layer 17 having a desired circuit pattern can be formed on the resin film 23 as shown in FIG.

なお、このエッチング工程において導体配線層17の断面形状が図6(c)に示すように樹脂フィルム23に対して台形になる。次に、図6(d)に示すように、導体配線層17の不要部分をエッチング除去した後に、レジスト29をレジスト除去液等により取り除き、洗浄して、配線付き転写フィルムBを得ることができる。   In this etching step, the cross-sectional shape of the conductor wiring layer 17 becomes trapezoidal with respect to the resin film 23 as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 6D, after unnecessary portions of the conductor wiring layer 17 are removed by etching, the resist 29 is removed with a resist removing solution and washed to obtain a transfer film B with wiring. .

次に、本発明の配線側基板1aの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the wiring side board | substrate 1a of this invention is demonstrated.

図7(a)に示すように、まず、アクチュエータ3を収納する配線側基板1aに形成されるくぼみと逆形状の凹凸をリソグラフィやエッチングにより施されたガラス基板33と、配線側基板1aを用意する。   As shown in FIG. 7A, first, a glass substrate 33 on which unevenness having a shape opposite to the depression formed on the wiring side substrate 1a for accommodating the actuator 3 is formed by lithography or etching, and a wiring side substrate 1a are prepared. To do.

次に、図7(b)に示すように、平行熱板35間に、ガラス基板33の凹凸が施された側の面と配線側基板1aとが対面するように配置して、配線側基板1aのガラス転移温度以上、融点以下の温度で加圧することにより、配線側基板1aにくぼみ12を転写、形成して、図7(c)に示すような主面にくぼみ12が形成された配線側基板1aを作製する。   Next, as shown in FIG. 7B, the wiring side substrate 1a is disposed between the parallel heat plates 35 so that the surface of the glass substrate 33 on which the unevenness is provided and the wiring side substrate 1a face each other. Wiring in which the depression 12 is transferred and formed on the wiring side substrate 1a by pressurizing at a temperature not lower than the glass transition temperature of 1a and not higher than the melting point, and the depression 12 is formed on the main surface as shown in FIG. The side substrate 1a is produced.

次に、図8(a)に示すように、マイクロドリルまたは炭酸レーザなどのレーザ光を用いて、くぼみ12と連通する貫通孔15aを形成する。さらに、図8(b)に示すように、くぼみ12の底面に、貫通孔15aを塞がぬようにBステージのエポキシ製のアクチュエータ接着シート7を貼り付ける。   Next, as shown in FIG. 8A, a through hole 15a communicating with the recess 12 is formed using a laser beam such as a micro drill or a carbonic acid laser. Further, as shown in FIG. 8B, an B-stage epoxy actuator adhesive sheet 7 is attached to the bottom surface of the recess 12 so as not to block the through hole 15a.

次に、図9(a)に示すように、くぼみ12にアクチュエータ3を挿入し、図9(b)に示すようにアクチュエータ3をアクチュエータ接着シート7を介して配線側基板1aに固定する。   Next, as shown in FIG. 9A, the actuator 3 is inserted into the recess 12, and the actuator 3 is fixed to the wiring side substrate 1a via the actuator adhesive sheet 7 as shown in FIG. 9B.

次に、図10(a)に示すようにマスクシート31をアクチュエータ3以外の部分全体に貼り付ける。次に、図10(b)に示すように弾性率の低い、シリコーンゴムやアクリロニトリルゴムなどの希釈溶液をアクチュエータ3を覆うように塗布し、乾燥して、薄膜の圧電素子保護層9を形成する。さらに図10(c)に示すようにマスクシート31を剥がすことにより不必要な圧電素子保護層9を除去する。   Next, as shown in FIG. 10A, the mask sheet 31 is attached to the entire portion other than the actuator 3. Next, as shown in FIG. 10B, a diluted solution such as silicone rubber or acrylonitrile rubber having a low elastic modulus is applied so as to cover the actuator 3 and dried to form a thin film piezoelectric element protective layer 9. . Further, as shown in FIG. 10C, the unnecessary piezoelectric element protective layer 9 is removed by peeling off the mask sheet 31.

次に図11に示すように貫通孔15aに導電性ペーストを埋め込み、貫通導体15とする。   Next, as shown in FIG. 11, a conductive paste is embedded in the through hole 15 a to form the through conductor 15.

次に、流路側基板1bの製造方法について説明する。   Next, a manufacturing method of the flow path side substrate 1b will be described.

例えば、図12(a)、(b)に示すように、流路側基板1bは、流路側基板1bの少なくとも一方の主面に流路11が形成されており、その一部は、幅広になり、流量調整部4となっている。この流量調整部4の大きさはアクチュエータ3を収納できる大きさとすることが望ましい。このような構造の流路側基板1bは、図7(a)〜(c)を用いて説明したように、インプリント法、ナノインプリント法を用いることで容易に作製することができる。また、流路側基板1bに直接マイクロドリルを用いて機械的に切削してもよく、レーザ光を用いて流路側基板1bを直接加工してもよい。   For example, as shown in FIGS. 12A and 12B, the flow path side substrate 1b has a flow path 11 formed on at least one main surface of the flow path side substrate 1b, and a part thereof is wide. The flow rate adjusting unit 4 is provided. It is desirable that the flow rate adjusting unit 4 be large enough to accommodate the actuator 3. As described with reference to FIGS. 7A to 7C, the flow path side substrate 1b having such a structure can be easily manufactured by using an imprint method or a nanoimprint method. Further, the flow path side substrate 1b may be mechanically cut directly using a micro drill, or the flow path side substrate 1b may be directly processed using a laser beam.

そして、以上説明した、流路側基板1bと配線側基板1aと配線付き転写フィルムBとを、図13(a)に示すように、順次位置あわせして積層し、プレス機にて熱圧着する。この工程ではアクチュエータ3を固定するアクチュエータ接着シート7の硬化機能と、導体配線層17を転写する機能と、配線側基板1aと流路側基板1bとを熱接着させる一括積層機能をもつ。3つの機能を成立させる条件としては、配線側基板1aと流路側基板1bのTg以上の温度で加熱することが重要である。他の条件は任意に制御できる。   Then, the flow path side substrate 1b, the wiring side substrate 1a, and the transfer film with wiring B described above are sequentially aligned and laminated as shown in FIG. This process has a function of hardening the actuator adhesive sheet 7 for fixing the actuator 3, a function of transferring the conductor wiring layer 17, and a function of collectively laminating the wiring side substrate 1a and the flow path side substrate 1b. As a condition for establishing the three functions, it is important to heat at a temperature equal to or higher than Tg of the wiring side substrate 1a and the flow path side substrate 1b. Other conditions can be controlled arbitrarily.

次に、図13(b)に示すように、樹脂フィルム23と、接着剤27を剥離することで、本発明の流路部材を作製することができる。なお、図13(b)で示した流路部材の断面は、流路11の流れ方向に対して垂直な方向の断面であり、図1で示した流路11の流れ方向に対して平行な方向の断面において、流路11が狭くなるアクチュエータ3が設けられた位置の断面である。   Next, as shown in FIG. 13B, the flow path member of the present invention can be manufactured by peeling the resin film 23 and the adhesive 27. The cross section of the flow path member shown in FIG. 13B is a cross section perpendicular to the flow direction of the flow path 11, and is parallel to the flow direction of the flow path 11 shown in FIG. In the cross section in the direction, it is a cross section at a position where the actuator 3 where the flow path 11 becomes narrow is provided.

そして、アクチュエータ3が設けられた流量調整部4の形状は、図12(a)に示すような形状であってもよいが、図14(a)に示すように、流量調整部4と流路11との連結部において流路11の幅が徐々に広がるように形成することで、流路11に流体が滞留しないようにすることができる。また、図14(b)に示すように、流路11に比べて流量調整部4の底面を高く形成することで、流量調整部4の底面とアクチュエータ3との距離を小さくすることができ、アクチュエータ3の変位量が小さい場合でも、流量調整の能力を大きくすることができる。   The shape of the flow rate adjusting unit 4 provided with the actuator 3 may be a shape as shown in FIG. 12A, but as shown in FIG. By forming the channel 11 so that the width of the channel 11 gradually increases at the connecting portion to the channel 11, the fluid can be prevented from staying in the channel 11. Further, as shown in FIG. 14B, the distance between the bottom surface of the flow rate adjusting unit 4 and the actuator 3 can be reduced by forming the bottom surface of the flow rate adjusting unit 4 higher than the flow path 11. Even when the amount of displacement of the actuator 3 is small, the ability to adjust the flow rate can be increased.

以上説明した例ではアクチュエータ3を一つ形成する工程を示したが、複数個のアクチュエータ3を搭載してもよく、また、流路11の構造、数も任意に設計可能である。   In the example described above, the process of forming one actuator 3 is shown. However, a plurality of actuators 3 may be mounted, and the structure and number of the flow paths 11 can be arbitrarily designed.

また、絶縁基板1をセラミックにより形成する場合には、流路側基板1bと配線側基板1aとをセラミック基板で作製し、流路11をレーザ光やマイクロドリルにより形成し、例えば、流路側基板1bと配線側基板1aとを低融点ガラスや、ロウ材、樹脂系接着剤などの接着剤により接合することで流路部材を作製することができる。   When the insulating substrate 1 is formed of ceramic, the flow path side substrate 1b and the wiring side substrate 1a are made of a ceramic substrate, and the flow path 11 is formed of a laser beam or a micro drill, for example, the flow path side substrate 1b. The flow path member can be produced by bonding the wiring side substrate 1a and the wiring side substrate 1a with an adhesive such as low melting point glass, brazing material, or resin adhesive.

なお、アクチュエータ3を収納するためのくぼみ12や貫通孔15aは、流路側基板1bや配線側基板1aの焼成前に成形体の段階で形成しておくことが望ましい。   The recess 12 and the through hole 15a for housing the actuator 3 are preferably formed at the stage of the molded body before firing the flow path side substrate 1b and the wiring side substrate 1a.

また、基板1の材料が熱硬化性樹脂もしくはセラミックの場合は配線側基板1aと流路側基板1bの基板同士の接着方法としては接着シートを基板間に挟み、硬化させる方法を取ることもできる。この場合には、例えば、図10で形成したアクチュエータ保護層9のアクチュエータ3を覆っていない部分を除去せずに、接着層として用いることができる。なお、導体配線層17は銅タングステンペーストを用いたメタライズもしくは電解、無電界めっき工法を用いることでも作製することが可能である。   Moreover, when the material of the board | substrate 1 is a thermosetting resin or a ceramic, as the adhesion method of the board | substrates of the wiring side board | substrate 1a and the flow path side board | substrate 1b, the method of putting an adhesive sheet between board | substrates and hardening can also be taken. In this case, for example, the portion of the actuator protective layer 9 formed in FIG. 10 that does not cover the actuator 3 can be used as an adhesive layer without being removed. The conductor wiring layer 17 can also be produced by using metallization using copper tungsten paste, electrolysis, or electroless plating.

また、本発明の流路部材に連結部材を介して、流量測定器を連結することで、流量をより正確に制御することができる。また、例えば、流路部材にマイクロコイルを内蔵させて、フレミングの左手の法則を利用した流量測定器を内蔵させることで、複雑に分岐、合流する流路11の場合であっても、精密な流量の制御が可能となる。   Further, the flow rate can be controlled more accurately by connecting the flow rate measuring device to the flow path member of the present invention via the connecting member. Also, for example, by incorporating a microcoil in the flow path member and incorporating a flow rate measuring device using Fleming's left-hand rule, even in the case of the flow path 11 that branches and merges in a complicated manner, it is possible to accurately The flow rate can be controlled.

厚み100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム23の表面にアクリル系樹脂からなる接着剤27を3μm塗布し、厚さ12μm、表面粗さ0.8μmの銅箔を接着剤27に接着し転写フィルムAとした。この転写フィルムAに対して所定の配線形成用マスク、DFR(ドライフィルムレジスト)を用いてフォト工程、エッチング工程を行い配線付き樹脂フィルムBとした。   3 μm of an adhesive 27 made of an acrylic resin is applied to the surface of a polyethylene terephthalate (PET) film 23 having a thickness of 100 μm, and a copper foil having a thickness of 12 μm and a surface roughness of 0.8 μm is adhered to the adhesive 27. did. The transfer film A was subjected to a photo process and an etching process using a predetermined wiring forming mask and DFR (dry film resist) to obtain a resin film B with wiring.

配線側基板1aとして、厚み1mmのポリメチルメタクリレート(PMMA)を用いた。まず、くぼみ12をPMMAからなる配線側基板1aに形成するために、ガラス基板33に従来のリソグラフィ、およびエッチング技術を用いて凹凸構造を作製し、平坦な厚み1mmのPMMAからなる配線側基板1aに、ガラス基板33の凹凸構造を有する側の面を当接させ、ホットプレスを用い160℃、3MPa、5分間、配線側基板1aにガラス基板33を押し付けて処理することによりガラス基板33上の凹凸をPMMAからなる配線側基板1aに転写し、くぼみ12を形成した。このくぼみ12の大きさはアクチュエータ3の大きさおよび流量を考慮して設計されるもので、0.68mm角、深さ0.55mmとした。   As the wiring side substrate 1a, polymethyl methacrylate (PMMA) having a thickness of 1 mm was used. First, in order to form the recess 12 in the wiring side substrate 1a made of PMMA, a concavo-convex structure is formed on the glass substrate 33 using conventional lithography and etching techniques, and the wiring side substrate 1a made of PMMA having a flat thickness of 1 mm. Next, the surface of the glass substrate 33 having a concavo-convex structure is brought into contact with the glass substrate 33 by pressing the glass substrate 33 against the wiring side substrate 1a using a hot press at 160 ° C. and 3 MPa for 5 minutes. The depressions and projections were transferred to the wiring side substrate 1a made of PMMA to form the depressions 12. The size of the recess 12 is designed in consideration of the size and flow rate of the actuator 3, and is 0.68 mm square and the depth is 0.55 mm.

次に配線側基板1aに孔径200μmの貫通孔15aをマイクロドリルを用いて形成した。   Next, a through hole 15a having a hole diameter of 200 μm was formed in the wiring side substrate 1a using a micro drill.

次にくぼみ12の底面に100μmの厚みの京セラケミカル製のボンディングシートTFA―880Cをアクチュエータ接着シート7として貼り付けてアクチュエータ3を搭載した。なお、アクチュエータ3はマグネシウムニオブ酸鉛Pb(Mg1/3Nb2/3)O(PZN)を圧電絶縁層19として用い、15μmの圧電絶縁層19(電極層含)を32層積層した0.6mm角、厚み0.5mmの形状のものを用いた。このアクチュエータ3の圧電歪定数D33は2×10−9m/Vであった。 Next, a Kyocera Chemical bonding sheet TFA-880C having a thickness of 100 μm was attached to the bottom surface of the recess 12 as the actuator adhesive sheet 7 to mount the actuator 3. The actuator 3 uses lead magnesium niobate Pb (Mg 1/3 Nb 2/3 ) O 3 (PZN) as the piezoelectric insulating layer 19, and is formed by stacking 32 15 μm piezoelectric insulating layers 19 (including electrode layers). .6 mm square and 0.5 mm thickness were used. The piezoelectric strain constant D33 of this actuator 3 was 2 × 10 −9 m / V.

次に、積水化学社製の24μm厚みのPETフィルム23を図10のようにして、アクチュエータ3以外の部分に貼り付けた。   Next, a PET film 23 having a thickness of 24 μm manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. was attached to a portion other than the actuator 3 as shown in FIG.

次に、日本ゼオン社製のNBR(アクリロニトリルラバー)をトルエンに10質量%希釈し、配線側基板1aのアクチュエータ3を形成した側の全面に塗布し、乾燥させ、約5μの厚みのNBR膜を作製した。   Next, 10% by mass of NBR (acrylonitrile rubber) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. is diluted in toluene, applied to the entire surface of the wiring side substrate 1a where the actuator 3 is formed, and dried to form an NBR film having a thickness of about 5 μm. Produced.

次に、マスキング用接着PETフィルムをNBR膜と一緒に剥がして、アクチュエータ3の周りのみにNBR膜を残した。NBRは柔軟性があり、アクチュエータ3の変位に十分に追従でき、アクチュエータ3を保護する機能を十分に発揮できるものである。また、くぼみ12とアクチュエータ3との隙間にも圧電素子保護層9であるNBR膜が充填され、アクチュエータ3を完全に被覆保護していた。   Next, the masking adhesive PET film was peeled off together with the NBR film to leave the NBR film only around the actuator 3. NBR is flexible, can sufficiently follow the displacement of the actuator 3, and can sufficiently exhibit the function of protecting the actuator 3. In addition, the gap between the recess 12 and the actuator 3 was filled with the NBR film as the piezoelectric element protection layer 9 to completely cover and protect the actuator 3.

次にマイクロドリルで形成した貫通孔15aに導電性の金属と熱硬化性樹脂から構成される導電性ペーストを充填して貫通導体15を形成した。   Next, the through hole 15a formed by the micro drill was filled with a conductive paste composed of a conductive metal and a thermosetting resin, thereby forming the through conductor 15.

導電性ペーストは平均粒径5μmの銀コート胴粉100部に対してビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社製:エピコート828)10部、酸無水物(日本化薬製:カヤハードMCD)を3部、硬化促進剤としてイミダゾール(四国化成社製:キュアゾール2EMZ)を0.3部配合して作製した。   The conductive paste is 10 parts of bisphenol A type epoxy resin (Opika Shell Epoxy Co., Ltd .: Epicoat 828), 100 parts of silver coated body powder with an average particle size of 5 μm, and acid anhydride (Nippon Kayaku Co., Ltd .: Kayahard MCD). 3 parts were prepared by blending 0.3 part of imidazole (manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd .: Curesol 2EMZ) as a curing accelerator.

次に、流路側基板1bの作製方法について説明する。   Next, a manufacturing method of the flow path side substrate 1b will be described.

流路側基板1bとして、厚み500μmのポリメチルメタクリレート(PMMA)を用いた。まず、流路11をPMMAからなる流路側基板1bに形成するために、まずガラス基板33に従来のリソグラフィ、およびエッチング技術を用いて凹凸構造を作製し、平坦な厚み500μmのPMMAからなる流路側基板1bに、ガラス基板33の凹凸構造を有する側の面を当接させ、ホットプレスを用い160℃、3MPa、5分間、流路側基板1bにガラス基板33を押し付けて処理することによりガラス基板上の凹凸をPMMAからなる流路側基板1bに転写して流路11を形成した。   As the flow path side substrate 1b, polymethyl methacrylate (PMMA) having a thickness of 500 μm was used. First, in order to form the flow path 11 on the flow path side substrate 1b made of PMMA, first, a concavo-convex structure is formed on the glass substrate 33 using conventional lithography and etching techniques, and the flow path side made of PMMA having a flat thickness of 500 μm. The surface of the glass substrate 33 having the concavo-convex structure is brought into contact with the substrate 1b, and the glass substrate 33 is pressed onto the flow path side substrate 1b by using a hot press at 160 ° C., 3 MPa for 5 minutes for processing. Were transferred to the flow path side substrate 1b made of PMMA to form the flow path 11.

今回の流量調整する具体的形状を、図14(a)、(b)に示す。流路11は深さh1を100μm、幅W1を200μmとし、アクチュエータ3が変位していないときの流量調整部4の深さh2を33μm、幅W2を750μm、長さL1を750μmとした。なお、流量調整部4においては、底面を流路11よりも12μm高くなるようにした。   Specific shapes for adjusting the flow rate this time are shown in FIGS. The flow path 11 has a depth h1 of 100 μm, a width W1 of 200 μm, a depth h2 of the flow rate adjusting unit 4 when the actuator 3 is not displaced, 33 μm, a width W2 of 750 μm, and a length L1 of 750 μm. In the flow rate adjusting unit 4, the bottom surface was made 12 μm higher than the flow path 11.

次に配線付き樹脂フィルムBと配線側基板1aと流路側基板1bとを位置あわせし、ホットプレスにて170℃、3MPa、60分間、熱処理することにより、PMMAからなる配線側基板1aに導体配線層3を埋め込んだ。その後、PETからなる樹脂フィルム23と接着剤27を同時に剥ぎ取り、流路基板とした。   Next, the resin film B with wiring, the wiring side substrate 1a, and the flow path side substrate 1b are aligned, and subjected to heat treatment at 170 ° C. and 3 MPa for 60 minutes by hot pressing, so that the conductor wiring is applied to the wiring side substrate 1a made of PMMA. Layer 3 was embedded. Thereafter, the resin film 23 made of PET and the adhesive 27 were peeled off simultaneously to form a flow path substrate.

用いたアクチュエータ3の解放状態での変位量を図15(a)に、流体として25℃の純水を用いた場合の流量変化を図15(b)に示す。この図15(a)によれば、アクチュエータ3は200Vの印加で20μm変位して、アクチュエータ3と流量調整部4の底面との距離h2が、33μmから13μmへと変化し、図15(b)に示すように流量を約60%まで減少させることができた。   FIG. 15A shows the amount of displacement in the released state of the actuator 3 used, and FIG. 15B shows the flow rate change when pure water at 25 ° C. is used as the fluid. According to FIG. 15A, the actuator 3 is displaced 20 μm by applying 200 V, and the distance h2 between the actuator 3 and the bottom surface of the flow rate adjusting unit 4 is changed from 33 μm to 13 μm, and FIG. As shown in FIG. 5, the flow rate could be reduced to about 60%.

なお、アクチュエータ3の変位量は、配線基板を作製するまえにアクチュエータ3単独で測定した値である。このようなアクチュエータ3の変位のトルクは非常に大きく、本発明の配線基板に組み込んだ場合でもほぼ、解放状態の場合と同じ変位となる。また、流量変化は、配線基板に連結部材を介して流量計を連結して流路装置として測定した。   The displacement amount of the actuator 3 is a value measured by the actuator 3 alone before manufacturing the wiring board. Such a displacement torque of the actuator 3 is very large, and even when incorporated in the wiring board of the present invention, the displacement is almost the same as in the released state. The flow rate change was measured as a flow channel device by connecting a flow meter to the wiring board via a connecting member.

また、測定に当たっては、流路部材に連結器を介してポンプを連結し、流路装置とした。この流路装置では、ポンプの脈動を流路部材が吸収し、脈動のないスムーズに流体を流通させることができた。   In the measurement, a pump was connected to the flow path member via a coupler to obtain a flow path device. In this flow path device, the flow path member absorbed the pulsation of the pump, and the fluid could flow smoothly without pulsation.

図17に本発明の流路部材31にチューブなどの連結部材33で連結されたポンプ35、流量測定器37によって構成される本発明の流路装置を示す。連結部材33は、例えば、両端に連結治具33aを設けたチューブ33bからなり、一方の連結治具33aは、ポンプの流体排出口に接続され、他方の連結治具33aは、流路部材31の流路11の流体流入側の端部に接続されている。そして、流体は、ポンプ35から連結部材31を経由して流路部材31の流体流入側の端部から流路11に導入され、流路11を通過して、流路部材31の流体排出側の端部から排出される。そして、流路部材31の流体排出側の端部には、他の連結部材33が連結され、流路部材31の流体排出側の端部から排出された流体は、他の連結部材33を経由して、他の連結部材33に連結された流量測定器37に導入される。そして、この流量測定器37によって流体の流量が測定される。   FIG. 17 shows a flow channel device of the present invention constituted by a pump 35 and a flow rate measuring device 37 connected to the flow channel member 31 of the present invention by a connecting member 33 such as a tube. The connecting member 33 includes, for example, a tube 33b provided with connecting jigs 33a at both ends. One connecting jig 33a is connected to a fluid discharge port of the pump, and the other connecting jig 33a is a flow path member 31. Is connected to the end of the fluid flow path 11 on the fluid inflow side. Then, the fluid is introduced from the pump 35 through the connecting member 31 into the flow path 11 from the end portion on the fluid inflow side of the flow path member 31, passes through the flow path 11, and is discharged from the fluid discharge side of the flow path member 31. It is discharged from the end. Then, another connecting member 33 is connected to the end of the flow path member 31 on the fluid discharge side, and the fluid discharged from the end of the flow path member 31 on the fluid discharge side passes through the other connecting member 33. Then, it is introduced into the flow rate measuring device 37 connected to the other connecting member 33. The flow rate of the fluid is measured by the flow rate measuring device 37.

この流量測定器37によって、測定された流量に基づき、流量部材31に内蔵されたアクチュエータ3を駆動して、流量を精密に、迅速に制御することができる。   The flow rate measuring device 37 can drive the actuator 3 built in the flow rate member 31 based on the measured flow rate, thereby controlling the flow rate precisely and quickly.

なお、ポンプ35としては、例えば、信頼性の高いダイアフラム式のポンプ35が好適に用いられる。また、流体がガスの場合にはポンプ35は、例えば、圧送式のガスタンクを用いてもよい。流量測定器37は、流量の経時的な変化を測定できるものが望ましい。   For example, a highly reliable diaphragm pump 35 is preferably used as the pump 35. When the fluid is gas, the pump 35 may use, for example, a pressure-feed type gas tank. The flow rate measuring device 37 is preferably capable of measuring a change in flow rate over time.

本発明の流路部材並びに流路装置は、小型流量調整器、血液検査器、小型反応装置、小型混合装置として、特に微量の流体の、混合、反応、検査等に好適に用いられる。また、携帯用装置に組み込むなどの利用方法が挙げられる。   The flow channel member and flow channel device of the present invention are suitably used as a small flow rate regulator, blood test device, small reaction device, and small mixing device, particularly for mixing, reaction, testing, etc. of a small amount of fluid. Moreover, the utilization method of incorporating in a portable apparatus is mentioned.

本発明の流路部材を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the flow-path member of this invention. (a)は、アクチュエータの断面図、(b)は、アクチュエータの配線構造を説明する平面図、(c)は、アクチュエータの変位方向を示す斜視図である。(A) is sectional drawing of an actuator, (b) is a top view explaining the wiring structure of an actuator, (c) is a perspective view which shows the displacement direction of an actuator. 本発明の流路部材に形成された流路の模式図である。It is a schematic diagram of the flow path formed in the flow path member of the present invention. 本発明の流路の形状を説明する透過斜視図である。It is a permeation | transmission perspective view explaining the shape of the flow path of this invention. 本発明の作製工程を示す工程フローである。It is a process flow which shows the preparation process of this invention. 本発明の流路部材の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the flow-path member of this invention. 本発明の流路部材の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the flow-path member of this invention. 本発明の流路部材の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the flow-path member of this invention. 本発明の流路部材の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the flow-path member of this invention. 本発明の流路部材の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the flow-path member of this invention. 本発明の流路部材の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the flow-path member of this invention. 本発明の流路部材の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the flow-path member of this invention. 本発明の流路部材の製造方法を説明する工程図である。It is process drawing explaining the manufacturing method of the flow-path member of this invention. 本発明の流路部材の流量調整部を説明する要部拡大図である。It is a principal part enlarged view explaining the flow volume adjustment part of the flow-path member of this invention. (a)は、本発明の流路部材に用いたアクチュエータの印加電圧と変位量の関係図、(b)は、本発明の流路部材のアクチュエータに印加した電圧と流量変化率の関係図である。(A) is the relationship figure of the applied voltage and displacement amount of the actuator used for the flow path member of the present invention, (b) is the relational diagram of the voltage applied to the actuator of the flow path member of the present invention and the flow rate change rate. is there. 転写シートにおける樹脂フィルムと接着層の粘着力の測定方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the measuring method of the adhesive force of the resin film and adhesive layer in a transfer sheet. 本発明の流路装置を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the flow-path apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・絶縁基板
1a・・・配線側基板
1b・・・流路側基板
3・・・アクチュエータ
9・・・圧電素子保護層
11・・・流路
31・・・流路装置
33・・・連結部材
35・・・ポンプ
37・・・流量測定器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulation board | substrate 1a ... Wiring side board | substrate 1b ... Flow path side board | substrate 3 ... Actuator 9 ... Piezoelectric element protective layer 11 ... Flow path 31 ... Flow path apparatus 33 ... Connecting member 35 ... pump 37 ... flow rate measuring device

Claims (12)

絶縁基板と、該絶縁基板に内蔵された流路と、圧電素子の電歪作用によって該流路の形状を変化させて流量を増減するアクチュエータと、を具備してなることを特徴とする流路部材。 A flow path comprising: an insulating substrate; a flow path built in the insulating substrate; and an actuator that increases or decreases a flow rate by changing the shape of the flow path by an electrostrictive action of a piezoelectric element. Element. 流路の壁面にアクチュエータが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の流路部材。 The flow path member according to claim 1, wherein an actuator is disposed on a wall surface of the flow path. 流路と圧電素子との間に圧電素子保護層が設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の流路部材。 The flow path member according to claim 1, wherein a piezoelectric element protective layer is provided between the flow path and the piezoelectric element. 異なる流体を流通させる複数の流路を備えるとともに、前記複数の流路が合流し、前記の異なる流体を混合させる混合場を具備してなることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれかに記載の流路部材。 4. The apparatus according to claim 1, further comprising: a plurality of flow paths through which different fluids are circulated, and a mixing field in which the plurality of flow paths merge to mix the different fluids. The flow path member according to 1. 複数の流路のそれぞれに、該流路の形状を変化させて流量を増減するアクチュエータが設けられたことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれかに記載の流路部材。 5. The flow path member according to claim 1, wherein each of the plurality of flow paths is provided with an actuator that increases or decreases a flow rate by changing a shape of the flow path. 流路を挟持するように、複数のアクチュエータが配置されてなることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれかに記載の流路部材。 The flow path member according to claim 1, wherein a plurality of actuators are arranged so as to sandwich the flow path. 絶縁基板が、少なくとも樹脂を含有してなることを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれかに記載の流路部材。 The flow path member according to any one of claims 1 to 6, wherein the insulating substrate contains at least a resin. 絶縁基板を構成する樹脂が熱可塑性樹脂であることを特徴とする請求項7に記載の流路部材。 The flow path member according to claim 7, wherein the resin constituting the insulating substrate is a thermoplastic resin. 絶縁基板がセラミックスを主成分とすることを請求項1乃至6のうちいずれかに記載の流路部材。 The flow path member according to any one of claims 1 to 6, wherein the insulating substrate is mainly composed of ceramics. 配線回路が金、銀、銅、アルミニウムの少なくとも1種を含む低抵抗金属からなることを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれかに記載の流路部材。 The flow path member according to any one of claims 1 to 9, wherein the wiring circuit is made of a low-resistance metal containing at least one of gold, silver, copper, and aluminum. 請求項1乃至10のうちいずれかに記載の流路部材に連結部材を介してポンプが接続されてなることを特徴とする流路装置。 11. A flow path device comprising a flow path member according to claim 1 and a pump connected to the flow path member via a connecting member. 請求項1乃至10のうちいずれかに記載の流路部材に連結部材を介して流量測定器が接続されてなることを特徴とする流路装置。 A flow channel device comprising a flow rate measuring device connected to the flow channel member according to claim 1 via a connecting member.
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