JP2005225944A - Inkjet ink and inkjet recording method - Google Patents
Inkjet ink and inkjet recording method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005225944A JP2005225944A JP2004034772A JP2004034772A JP2005225944A JP 2005225944 A JP2005225944 A JP 2005225944A JP 2004034772 A JP2004034772 A JP 2004034772A JP 2004034772 A JP2004034772 A JP 2004034772A JP 2005225944 A JP2005225944 A JP 2005225944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- integer
- substituent
- hydrogen atom
- ink
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 *N(c(cccc1C(c2c3cccc2)=O)c1C3=N1)C1=O Chemical compound *N(c(cccc1C(c2c3cccc2)=O)c1C3=N1)C1=O 0.000 description 14
- YCVOKXRVHBRAHP-UHFFFAOYSA-N CCC(C)(C)c(cc1)ccc1Oc(cc(c(C(c1c2ccnc1)=O)c1C2=C2c3ccccc3)Nc3ccccc3)c1NC2=O Chemical compound CCC(C)(C)c(cc1)ccc1Oc(cc(c(C(c1c2ccnc1)=O)c1C2=C2c3ccccc3)Nc3ccccc3)c1NC2=O YCVOKXRVHBRAHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCAAKZJVISOARR-UHFFFAOYSA-N CN(c(c(C(c1c2nccc1)=C1c3ccccc3)c3C2=O)ccc3Nc2ccccc2)C1=O Chemical compound CN(c(c(C(c1c2nccc1)=C1c3ccccc3)c3C2=O)ccc3Nc2ccccc2)C1=O OCAAKZJVISOARR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFHZHRKRCATAPC-UHFFFAOYSA-N Cc(c(N1)c2C(c3c4c(Nc5ccccc5)ccc3)=NC1=O)ccc2C4=O Chemical compound Cc(c(N1)c2C(c3c4c(Nc5ccccc5)ccc3)=NC1=O)ccc2C4=O NFHZHRKRCATAPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJOLJBVTLZHJKC-UHFFFAOYSA-N Cc(cc(c(C(c1c2cccc1)=O)c1C2=N2)Oc3ccccc3)c1NC2=O Chemical compound Cc(cc(c(C(c1c2cccc1)=O)c1C2=N2)Oc3ccccc3)c1NC2=O ZJOLJBVTLZHJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMVADEUMXHOYRL-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1)ccc1Nc(c(C(c1c2cccc1)=O)c1C2=N2)cc(C)c1N(c1ccccc1)C2=O Chemical compound Cc(cc1)ccc1Nc(c(C(c1c2cccc1)=O)c1C2=N2)cc(C)c1N(c1ccccc1)C2=O RMVADEUMXHOYRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPZDBNVECJYAAJ-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1C)cc(C)c1Nc1cccc(C(c(c2ccc3)c3N3)=NC3=O)c1C2=O Chemical compound Cc(cc1C)cc(C)c1Nc1cccc(C(c(c2ccc3)c3N3)=NC3=O)c1C2=O ZPZDBNVECJYAAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Ink Jet (AREA)
- Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
Description
本発明は、インクジェットインク及びインクジェット記録方法に関する。 The present invention relates to an inkjet ink and an inkjet recording method.
近年、インクジェット技術の進歩は目覚ましく、プリンター技術、インク技術、専用記録媒体技術の向上と相まって写真画質と呼ばれるようになっている。画質向上に伴い、インクジェット画像の保存性が従来の銀塩写真と比較されるようになり、特に染料インクプリントにおいて耐光性や耐酸化性ガス性といった褪色性の弱さが指摘されている。 In recent years, the progress of ink jet technology has been remarkable, and it has come to be called photo image quality in combination with improvements in printer technology, ink technology, and dedicated recording medium technology. With the improvement in image quality, the storability of inkjet images has been compared with conventional silver salt photographs, and in particular, weakness in fading such as light resistance and oxidation resistance gas resistance has been pointed out in dye ink printing.
これまで褪色性改良への多くの検討がなされているが銀塩プリントとの比較において未だ不十分である。褪色性改良を目的に染料そのものの堅牢性を向上する多くの取り組みがなされているが未だ不十分なレベルである。なかでもマゼンタ染料の褪色性が相対的に弱いのが現状である。 Many studies have been made to improve fading, but it is still insufficient in comparison with silver salt prints. Many efforts have been made to improve the fastness of the dye itself for the purpose of improving fading, but it is still insufficient. In particular, the magenta dye has a relatively weak fading property.
これまで、主にH酸を利用したアゾ染料が広く使用されてきたが、耐光性、耐酸化性ガス性(オゾンガス耐性等)が非常に弱くプリントサンプルを壁に貼る等して鑑賞、保存することには堪えられないレベルであった。 Up to now, azo dyes mainly using H acid have been widely used, but light resistance and oxidation resistance gas resistance (ozone gas resistance etc.) are very weak, and it can be viewed and stored by sticking a print sample on the wall. It was a level that I could not bear.
特許文献1、特開平11−29714号、特開2000−109464号、同2000−191660号、同2000−256587号、同2001−72884号、同2001−139836号、同2001−288091号、同2002−332418号、同2002−332419号、同2003−55589号、同2003−192930号等に記載されているアントラピリドン染料のなかには耐光性及び耐オゾンガス性を向上させた染料もあるが、未だ満足いくレベルではない。 Patent Document 1, JP-A-11-29714, JP-A-2000-109464, 2000-191660, 2000-256687, 2001-72884, 2001-139636, 2001-288091, 2002 -332418, 2002-332419, 2003-55589, 2003-192930, etc. Some of the anthrapyridone dyes have improved light resistance and ozone gas resistance, but they are still satisfactory. Not a level.
特許文献2、特開2002−309116号、同2002−371079号にはヘテロ環−ヘテロ環アゾ染料が開示されているが、これらも満足いくレベルではない。特に耐光性が弱い。 Patent Document 2, JP-A Nos. 2002-309116 and 2002-371079 disclose heterocyclic-heterocyclic azo dyes, which are not satisfactory. Especially light resistance is weak.
特許文献3、特開2003−335990号、同2003−342504号、同2003−335989号には新規なピリドン系等の染料が開示されているが、耐光性及び耐オゾンガス性ともまだ満足いくレベルではない。 Patent Document 3, JP-A Nos. 2003-335990, 2003-342504, and 2003-335899 disclose novel dyes such as pyridone-based dyes, but at levels that are still satisfactory in both light resistance and ozone gas resistance. Absent.
特許文献4、特開2002−285049号、同2003−55586号にはインクにポリマーラテックスあるいは、樹脂微粒子を添加することでオゾン耐性を向上する技術が開示されている。しかし、プリントの光沢低下を招いたり、インク吸収速度が大きく低下したり、さらにオゾン褪色ムラが発生する等し不十分なレベルである。 Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2002-285049 and 2003-55586 disclose a technique for improving ozone resistance by adding polymer latex or resin fine particles to ink. However, the level is insufficient because it causes a decrease in gloss of the print, greatly reduces the ink absorption rate, and further causes ozone fading unevenness.
従って、銀塩プリントと比べても遜色ない充分な耐光性及び耐酸化性ガス性を有し、光沢が高く、オゾン褪色ムラ発生の改善されたインクジェットプリント及びそれを実現するインク、記録方法が望まれている。
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、耐光性、耐酸化性ガス性ともに優れ、とりわけオゾン耐性が強く、褪色ムラの発生が少ないインクジェットプリントを得るためのインクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and provides an ink-jet ink and an ink-jet recording method for obtaining an ink-jet print excellent in both light resistance and oxidation-resistant gas resistance, particularly strong in ozone resistance, and with little occurrence of fading unevenness. There is to do.
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(請求項1)
下記一般式(1)〜(14)で表される少なくとも1種の染料及び樹脂成分を含有することを特徴とするインクジェットインク。
(Claim 1)
An ink-jet ink comprising at least one dye represented by the following general formulas (1) to (14) and a resin component.
(式中、R11は分岐アルキル基、シクロアルキル基、ヘテロ環基またはアミノ基を表し、R12、R13及びR14は各々、水素原子または置換基を表し、n11は1〜3の整数、n12は1〜4の整数を表す。) (Wherein R 11 represents a branched alkyl group, a cycloalkyl group, a heterocyclic group or an amino group, R 12 , R 13 and R 14 each represent a hydrogen atom or a substituent, and n11 represents an integer of 1 to 3. N12 represents an integer of 1 to 4.)
(式中、R21は複素環基を表し、R22、R23及びR24は各々、水素原子または置換基を表し、n21は1〜3の整数、n22は1〜4の整数を表す。) (In the formula, R 21 represents a heterocyclic group, R 22 , R 23 and R 24 each represent a hydrogen atom or a substituent, n 21 represents an integer of 1 to 3, and n 22 represents an integer of 1 to 4. )
(式中、R31、R32、R33、R34及びR35は各々、水素原子または置換基を表し、n31は1〜3の整数を表す。) (Wherein R 31 , R 32 , R 33 , R 34 and R 35 each represent a hydrogen atom or a substituent, and n 31 represents an integer of 1 to 3)
(式中、R41、R42及びR43は各々、水素原子または置換基を表し、n41は1〜3の整数を表し、Zは炭素原子と共に5〜7員環の複素環基を形成するに必要な非金属原子群を表す。) Wherein R 41 , R 42 and R 43 each represent a hydrogen atom or a substituent, n41 represents an integer of 1 to 3, and Z forms a 5- to 7-membered heterocyclic group together with the carbon atom. Represents a group of non-metallic atoms necessary for
(式中、R51,R52,及びR53は各々、水素原子または置換基を表し、n51は1〜3の整数を表し、n52は1〜4の整数を表す。) (In the formula, R 51 , R 52 , and R 53 each represent a hydrogen atom or a substituent, n51 represents an integer of 1 to 3, and n52 represents an integer of 1 to 4.)
(式中、R61,R62,R63,及びR64は各々、水素原子または置換基を表し、n61は1〜3の整数を表す。) (In the formula, R 61 , R 62 , R 63 , and R 64 each represent a hydrogen atom or a substituent, and n 61 represents an integer of 1 to 3)
(式中、R71,R72,R73,及びR74は各々水素原子または置換基を表し、n71は1〜3の整数を表す。) (Wherein R 71 , R 72 , R 73 and R 74 each represents a hydrogen atom or a substituent, and n71 represents an integer of 1 to 3)
(式中、R81、R82、R83は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、n81は1〜3の整数を表し、n82は1または2の整数を表す。) (In the formula, R 81 , R 82 and R 83 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, n81 represents an integer of 1 to 3, and n82 represents an integer of 1 or 2.)
(式中、R91、R92、R93、R94は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、n91は1〜3の整数を表し、n92は1または2の整数を表す。) (In the formula, R 91 , R 92 , R 93 and R 94 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, n91 represents an integer of 1 to 3, and n92 represents an integer of 1 or 2.)
(式中、R101、R102、R103、R104は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、n101は1〜3の整数を表す。) (Wherein R 101 , R 102 , R 103 and R 104 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and n 101 represents an integer of 1 to 3)
(式中、R111、R112、R113は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、n111は1〜3の整数を表す。) (In the formula, R 111 , R 112 and R 113 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and n 111 represents an integer of 1 to 3.)
(式中、R121、R122、R123、R124、R125は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、n121は1〜3の整数を表す。) (Wherein R 121 , R 122 , R 123 , R 124 and R 125 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and n121 represents an integer of 1 to 3)
(式中、R131、R132、R133、R134は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、n131は1〜3の整数を表し、n132は1または2の整数を表す。) (In the formula, R 131 , R 132 , R 133 , and R 134 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, n131 represents an integer of 1 to 3, and n132 represents an integer of 1 or 2.)
(式中、R141、R142、R143、R144は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、n141は1〜3の整数を表し、n142は1〜4の整数を表す。)
(請求項2)
前記樹脂成分が樹脂微粒子であることを特徴とする請求項1に記載のインクジェットインク。
(In the formula, R 141 , R 142 , R 143 and R 144 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, n141 represents an integer of 1 to 3, and n142 represents an integer of 1 to 4).
(Claim 2)
The inkjet ink according to claim 1, wherein the resin component is resin fine particles.
(請求項3)
請求項1または2に記載のインクジェットインクを用いて、空隙型インクジェット記録媒体に記録することを特徴とするインクジェット記録方法。
(Claim 3)
3. An ink jet recording method comprising: recording on a void type ink jet recording medium using the ink jet ink according to claim 1.
(請求項4)
前記空隙型インクジェット記録媒体の60°鏡面光沢度が40%以上であることを特徴とする請求項3に記載のインクジェット記録方法。
(Claim 4)
The inkjet recording method according to claim 3, wherein the 60 ° specular gloss of the void-type inkjet recording medium is 40% or more.
本発明により、耐光性、耐酸化性ガス性ともに優れ、とりわけオゾン耐性が強く、褪色ムラの発生が少ないインクジェットプリントを得るためのインクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an ink jet ink and an ink jet recording method for obtaining an ink jet print which is excellent in both light resistance and oxidation resistance gas resistance, particularly strong in ozone resistance, and causes less discoloration unevenness.
本発明者は鋭意研究の結果、前記一般式(1)〜(14)で表される少なくとも1種の染料及び樹脂成分を含有するインクジェットインクにより、耐光性、耐酸化性ガス性ともに優れ、とりわけオゾン耐性が強く、褪色ムラの発生が少ないインクジェットプリントを得るためのインクジェットインクが得られることを見出した。 As a result of diligent research, the inventor of the present invention is excellent in both light resistance and oxidation resistance gas resistance due to the inkjet ink containing at least one dye represented by the general formulas (1) to (14) and a resin component. It has been found that an ink-jet ink for obtaining an ink-jet print having strong ozone resistance and less discoloration unevenness can be obtained.
以下本発明を詳細に説明する。 The present invention will be described in detail below.
次に本発明のインクジェットインク(以下、単にインクともいう)について説明する。
本発明のインクは、一般式(1)〜(14)で表される少なくとも1種の染料及び樹脂成分を含有するものである。
Next, the inkjet ink of the present invention (hereinafter also simply referred to as ink) will be described.
The ink of the present invention contains at least one dye represented by the general formulas (1) to (14) and a resin component.
(一般式(1)〜(4)で表される染料)
まず、一般式(1)で表される化合物について説明する。
(Dyes represented by general formulas (1) to (4))
First, the compound represented by the general formula (1) will be described.
前記一般式(1)において、R11は分岐アルキル基(例えばイソプロピル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル基等)、ヘテロ環基(例えば2−ピリジル基、4−ピリジル基、2−ピロール基等)、アミノ基(例えばブチルアミノ基、アニリノ基、モルホリノ基等)を表す。 In the general formula (1), R 11 represents a branched alkyl group (for example, isopropyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, etc.), a cycloalkyl group (for example, cyclopropyl group, cyclohexyl group, etc.), a heterocyclic group (for example, 2-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-pyrrole group and the like) and amino group (for example, butylamino group, anilino group, morpholino group and the like).
R11は置換基を有してもよく、これらの置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられるが、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。 R 11 may have a substituent, and these substituents are not particularly limited, but typically, alkyl, aryl, anilino, acylamino, sulfonamido, alkylthio, arylthio, alkenyl, cycloalkyl, etc. In addition to these, halogen atoms and cycloalkenyl, alkynyl, heterocycle, sulfonyl, sulfinyl, phosphonyl, acyl, carbamoyl, sulfamoyl, cyano, alkoxy, aryloxy, heterocyclicoxy, siloxy, acyloxy, sulfonyloxy Carbamoyloxy, amino, alkylamino, imide, ureido, sulfamoylamino, alkoxycarbonylamino, aryloxycarbonylamino, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, heterocyclic thio, thioureido, Rubokishi, hydroxy, mercapto, nitro, each group such as sulfo, and a spiro compound residue, bridged hydrocarbon compound residue and the like are also mentioned.
R11は、好ましくは分岐アルキル基、アミノ基であり、さらに好ましくは、分岐アルキル基であり、t−ブチル基が殊に好ましい。 R 11 is preferably a branched alkyl group or an amino group, more preferably a branched alkyl group, and particularly preferably a t-butyl group.
R12は水素原子もしくは置換基を表し、該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられるが、シクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル等の各基も挙げられる。 R 12 represents a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is not particularly limited, and representative examples thereof include alkyl, aryl, alkenyl, cycloalkyl and the like, but cycloalkenyl, alkynyl, Examples thereof include a ring, sulfonyl, sulfinyl, phosphonyl, acyl, carbamoyl, sulfamoyl, alkoxy, aryloxy, heterocyclic oxy, siloxy, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl and the like.
R13及びR14は各々、水素原子または置換基を表す。該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられるが、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。 R 13 and R 14 each represent a hydrogen atom or a substituent. The substituent is not particularly limited, but representative examples thereof include alkyl, aryl, anilino, acylamino, sulfonamido, alkylthio, arylthio, alkenyl, cycloalkyl, and the like. Cycloalkenyl, alkynyl, heterocyclic, sulfonyl, sulfinyl, phosphonyl, acyl, carbamoyl, sulfamoyl, cyano, alkoxy, aryloxy, heterocyclic oxy, siloxy, acyloxy, sulfonyloxy, carbamoyloxy, amino, alkylamino, imide, ureido, Sulfamoylamino, alkoxycarbonylamino, aryloxycarbonylamino, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, heterocyclic thio, thioureido, carboxy, hydroxy, mercapto Nitro, each group such as sulfo, and a spiro compound residue, bridged hydrocarbon compound residue and the like are also mentioned.
一般式(1)においてn11は1〜3の整数、n12は1〜4の整数を表し、n11及びn12が2以上の時、R13及びR14は同じであっても異なっていてもよい。 In the general formula (1), n11 represents an integer of 1 to 3, n12 represents an integer of 1 to 4, and when n11 and n12 are 2 or more, R 13 and R 14 may be the same or different.
次に、一般式(2)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by the general formula (2) will be described.
前記一般式(2)において、R21は、複素環基を表し、例えば2−ピリジル基、4−ピリジル基、2−フリル基、2−チエニル基等を挙げることができる。 In the general formula (2), R 21 represents a heterocyclic group, and examples thereof include a 2-pyridyl group, a 4-pyridyl group, a 2-furyl group, and a 2-thienyl group.
R22、R23、R24は各々、水素原子または置換基を表し、R22の表す置換基の例としては、一般式(1)におけるR12と同様の置換基を挙げることができる。また、R23、R24の表す置換基の例としては、一般式(1)におけるR13、R14と同様の置換基を挙げることができる。 R 22 , R 23 and R 24 each represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent represented by R 22 include the same substituents as R 12 in the general formula (1). Further, examples of the substituents represented by R 23, R 24 may include the same substituent as R 13, R 14 in the general formula (1).
n21は1〜3の整数、n22は1〜4の整数を表し、n21及びn22が2以上の時、R23及びR24は同じであっても異なっていてもよい。 n21 represents an integer of 1 to 3, n22 represents an integer of 1 to 4, and when n21 and n22 are 2 or more, R 23 and R 24 may be the same or different.
次に、一般式(3)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by the general formula (3) will be described.
前記一般式(3)において、R31、R32、R33、R34及びR35は各々、水素原子または置換基を表し、R32の表す置換基の例としては、一般式(1)におけるR12と同様の置換基を挙げることができる。また、R31、R33、R34、R35の表す置換基の例としては、一般式(1)におけるR13、R14と同様の置換基を挙げることができる。 In the general formula (3), R 31 , R 32 , R 33 , R 34 and R 35 each represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent represented by R 32 include those in the general formula (1). The same substituents as R 12 can be mentioned. Further, examples of the substituents represented by R 31, R 33, R 34 , R 35 may include the same substituent as R 13, R 14 in the general formula (1).
n31は1〜3の整数を表し、n31が2以上の時、R33は同じであっても異なっていてもよい。また、R34とR35は互いに結合して環を形成してもよい。 n31 represents an integer of 1 to 3, and when n31 is 2 or more, R 33 may be the same or different. R 34 and R 35 may be bonded to each other to form a ring.
次に、一般式(4)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by the general formula (4) will be described.
前記一般式(4)において、R41、R42及びR43は各々、水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式(1)におけるR13、R14と同様の置換基を挙げることができる。 In the general formula (4), R 41 , R 42 and R 43 each represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include the same substituents as R 13 and R 14 in the general formula (1) The group can be mentioned.
Zは、炭素原子と共に5〜7員環の複素環基を形成する非金属原子群を表し、該5〜7員環の複素環基はさらに置換基を有してもよい。 Z represents a nonmetallic atom group that forms a 5- to 7-membered heterocyclic group together with a carbon atom, and the 5- to 7-membered heterocyclic group may further have a substituent.
Zが炭素原子と共に形成する5〜7員環の複素環基としては、好ましくは5〜6員の含窒素複素環であり、特に好ましくは、ピリジン環である。 The 5- to 7-membered heterocyclic group formed by Z together with the carbon atom is preferably a 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring, and particularly preferably a pyridine ring.
以下に、本発明の一般式(1)、(2)、(3)または(4)で表される化合物の具体的化合物例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1), (2), (3) or (4) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
なお、下記構造式中のMは、ナトリウム塩、カリウム塩、1/2カルシウム塩、もしくは、アンモニウム塩等の、カチオンを表す。 In the following structural formula, M represents a cation such as sodium salt, potassium salt, ½ calcium salt, or ammonium salt.
以下に、本発明の一般式(1)で表される例示化合物1−4の合成例を示す。一般式(1)で表されるその他の化合物、一般式(2)、(3)または(4)で表される化合物も同様にして合成することができる。 Below, the synthesis example of the exemplary compound 1-4 represented by General formula (1) of this invention is shown. Other compounds represented by the general formula (1) and compounds represented by the general formula (2), (3) or (4) can be synthesized in the same manner.
例示化合物1−4は下記スキーム(1)に従って合成した。 Exemplified compound 1-4 was synthesized according to the following scheme (1).
(中間体1cの合成)
32.8g(0.1mol)の(1a)、19.0g(0.12mol)の(1b)及び1.06g(0.01mol)の炭酸ナトリウムをキシレン150ml中で約140℃に加熱し、生成するメタノール及び水を留去しながら10時間反応させた。反応終了後、冷却し、析出した結晶を濾取し、冷却した80%エタノール水で洗浄し、中間体(1c)が35.8g(収率82%)得られた。
(Synthesis of Intermediate 1c)
32.8 g (0.1 mol) of (1a), 19.0 g (0.12 mol) of (1b) and 1.06 g (0.01 mol) of sodium carbonate were heated to about 140 ° C. in 150 ml of xylene to form The reaction was carried out for 10 hours while distilling off methanol and water. After completion of the reaction, the mixture was cooled, and the precipitated crystals were collected by filtration and washed with cooled 80% ethanol water to obtain 35.8 g (82% yield) of intermediate (1c).
(例示化合物1−4の合成)
10質量%発煙硫酸61gに氷冷下、20℃以下にて8.73g(0.02mol)の中間体1cを加え、約50℃にて5時間スルホン化を行った。反応終了後、400mlの氷水に反応液を加え、さらに塩化ナトリウム30gを加えて塩析を行い、濾過、乾燥することによって、例示化合物1−4のナトリウム塩が10.9g(収率85%)得られた。
(Synthesis of Exemplified Compound 1-4)
To 73 g of 10% by mass fuming sulfuric acid, 8.73 g (0.02 mol) of intermediate 1c was added at 20 ° C. or lower under ice cooling, and sulfonation was performed at about 50 ° C. for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is added to 400 ml of ice water, and further 30 g of sodium chloride is added for salting out, followed by filtration and drying to obtain 10.9 g of sodium salt of Exemplary Compound 1-4 (yield 85%). Obtained.
1H−NMRスペクトルにより、得られた化合物が目的の例示化合物1−4であることを確認した。 From the 1 H-NMR spectrum, it was confirmed that the obtained compound was the target exemplified compound 1-4.
(一般式(5)〜(7)で表される染料)
次に、一般式(5)で表される化合物について説明する。
(Dyes represented by general formulas (5) to (7))
Next, the compound represented by the general formula (5) will be described.
前記一般式(5)において、R51は水素原子もしくは置換基を表し、該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル等の各基も挙げられる。 In the general formula (5), R 51 represents a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is not particularly limited, and representative examples thereof include alkyl, aryl, alkenyl, cycloalkyl, and the like. Further, each group such as cycloalkenyl, alkynyl, heterocyclic, sulfonyl, sulfinyl, phosphonyl, acyl, carbamoyl, sulfamoyl, alkoxy, aryloxy, heterocyclic oxy, siloxy, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl and the like can be mentioned.
R52及びR53は水素原子または置換基を表す。該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにこの他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。 R 52 and R 53 represent a hydrogen atom or a substituent. The substituent is not particularly limited, but representative examples include alkyl, aryl, anilino, acylamino, sulfonamido, alkylthio, arylthio, alkenyl, cycloalkyl, and the like. Cycloalkenyl, alkynyl, heterocyclic, sulfonyl, sulfinyl, phosphonyl, acyl, carbamoyl, sulfamoyl, cyano, alkoxy, aryloxy, heterocyclic oxy, siloxy, acyloxy, sulfonyloxy, carbamoyloxy, amino, alkylamino, imide, ureido, Sulfamoylamino, alkoxycarbonylamino, aryloxycarbonylamino, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, heterocyclic thio, thioureido, carboxy, hydroxy, mercap , Nitro, each group such as sulfo, and a spiro compound residue, bridged hydrocarbon compound residue and the like are also mentioned.
一般式(5)において、n51は1〜3の整数、n52は1〜4の整数を表す。n51及びn52が2以上の時、R52及びR53はそれぞれ同じであっても異なっていてもよく、またn51及びn52が2以上のとき、2つのR51あるいはR52が互いに結合して環を形成していてもよい。 In General formula (5), n51 represents the integer of 1-3, n52 represents the integer of 1-4. When n51 and n52 is 2 or more, or different, even R 52 and R 53 are respectively the same, and when n51 and n52 is 2 or more, the two R 51 or R 52 bond to each other ring May be formed.
次に、一般式(6)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by the general formula (6) will be described.
前記一般式(6)において、R61、R62、R63、R64は水素原子または置換基を表し、これらを表す置換基の例としては、一般式(5)におけるR52、R53と同様の置換基を挙げることができる。またR63とR64は互いに結合して環を形成していてもよい。 In the general formula (6), R 61 , R 62 , R 63 and R 64 each represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituents representing these include R 52 , R 53 in the general formula (5) and Similar substituents can be mentioned. R 63 and R 64 may be bonded to each other to form a ring.
R63、R64において、好ましくはR63、R64が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に好ましくは、R63、R64が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。 In R 63, R 64, preferably is preferably form an aromatic ring bonded R 63, R 64 to each other, more preferably, attached R 63, R 64 are each other substituted or unsubstituted benzene It is preferable to form a ring.
一般式(6)において、n61は1〜3の整数を表し、n61が2以上の時、R62は同じであっても異なっていてもよく、またn61が2以上のとき、2つのR62が互いに結合して環を形成していてもよい。 In the general formula (6), n61 represents an integer of 1 to 3, when n61 is 2 or more, when R 62 may be different even in the same, also n61 is 2 or more, two R 62 May be bonded to each other to form a ring.
次に、一般式(7)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by the general formula (7) will be described.
前記一般式(7)において、R71、R72、R73、R74は水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式(5)におけるR52、R53と同様の置換基を挙げることができる。またR73とR74は互いに結合して環を形成していてもよい。 In the general formula (7), R 71 , R 72 , R 73 and R 74 represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent are the same as those of R 52 and R 53 in the general formula (5). A substituent can be mentioned. R 73 and R 74 may be bonded to each other to form a ring.
R73、R74において、好ましくはR73、R74が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に好ましくは、R73、R74が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。 In R 73, R 74, preferably is preferably form an aromatic ring bonded R 73, R 74 to each other, more preferably, attached R 73, R 74 are each other substituted or unsubstituted benzene It is preferable to form a ring.
一般式(7)において、n71は1〜3の整数を表し、n71が2以上の時、R72は同じであっても異なっていてもよく、またn71が2以上のとき、2つのR72が互いに結合して環を形成していてもよい。 In the general formula (7), n71 represents an integer of 1 to 3, when n71 is 2 or more, R 72 may be different even in the same, and when n71 is 2 or more, two R 72 May be bonded to each other to form a ring.
以下に、本発明の一般式(5)、(6)または(7)で表される化合物の具体的化合物例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (5), (6) or (7) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
なお、下記構造式中のMは、ナトリウム塩、カリウム塩、1/2カルシュウム塩、もしくは、アンモニウム塩等の、カチオンを表す。 In the following structural formula, M represents a cation such as sodium salt, potassium salt, 1/2 calcium salt, or ammonium salt.
以下に、本発明の一般式(5)で表される例示化合物5−1の合成例を示す。一般式(5)で表されるその他の化合物、一般式(6)または(7)で表される化合物も同様にして合成することができる。 Below, the synthesis example of exemplary compound 5-1 represented by General formula (5) of this invention is shown. Other compounds represented by the general formula (5) and compounds represented by the general formula (6) or (7) can be synthesized in the same manner.
例示化合物5−1は下記スキーム(5)に従って合成した。 Exemplary compound 5-1 was synthesized according to the following scheme (5).
(中間体5cの合成)
31.4g(0.1mol)の(5a)、12.1g(0.2mol)の(5b)をフェノール100ml中で約140℃に加熱し、6時間反応させた。反応終了後、冷却して析出した結晶を濾取し、結晶を冷却したエタノールで洗浄し、中間体(5c)が26.5g(収率78%)得られた。
(Synthesis of Intermediate 5c)
31.4 g (0.1 mol) of (5a) and 12.1 g (0.2 mol) of (5b) were heated to about 140 ° C. in 100 ml of phenol and reacted for 6 hours. After the completion of the reaction, the cooled crystals were collected by filtration and washed with cooled ethanol to obtain 26.5 g of intermediate (5c) (yield 78%).
(例示化合物5−1の合成)
濃硫酸120gに氷冷下、6.8g(0.02mol)の中間体(5c)を加え、10℃以下で1時間スルホン化を行った。反応終了後、400gの氷に反応液を加え、得られた結晶を濾過した。この結晶を少量の水酸化ナトリウムを加えた5%食塩水に加えて30分攪拌し、結晶を濾取することにより、例示化合物5−1のナトリウム塩が7.8g(収率72%)得られた。
(Synthesis of Exemplary Compound 5-1)
6.8 g (0.02 mol) of intermediate (5c) was added to 120 g of concentrated sulfuric acid under ice cooling, and sulfonation was performed at 10 ° C. or less for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was added to 400 g of ice, and the resulting crystals were filtered. The crystals were added to 5% brine containing a small amount of sodium hydroxide and stirred for 30 minutes, and the crystals were collected by filtration to obtain 7.8 g (yield 72%) of the sodium salt of Example Compound 5-1. It was.
1H−NMRスペクトルにより、得られた化合物が目的の例示化合物5−1であることを確認した。 From the 1 H-NMR spectrum, it was confirmed that the obtained compound was the target exemplified compound 5-1.
(一般式(8)〜(11)で表される染料)
次に、一般式(8)で表される化合物について説明する。
(Dyes represented by general formulas (8) to (11))
Next, the compound represented by the general formula (8) will be described.
前記一般式(8)において、R81、R82、R83は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにこの他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。 In the general formula (8), R 81 , R 82 and R 83 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. The substituent is not particularly limited, but representative examples include alkyl, aryl, anilino, acylamino, sulfonamido, alkylthio, arylthio, alkenyl, cycloalkyl, and the like. Cycloalkenyl, alkynyl, heterocyclic, sulfonyl, sulfinyl, phosphonyl, acyl, carbamoyl, sulfamoyl, cyano, alkoxy, aryloxy, heterocyclic oxy, siloxy, acyloxy, sulfonyloxy, carbamoyloxy, amino, alkylamino, imide, ureido, Sulfamoylamino, alkoxycarbonylamino, aryloxycarbonylamino, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, heterocyclic thio, thioureido, carboxy, hydroxy, mercap , Nitro, each group such as sulfo, and a spiro compound residue, bridged hydrocarbon compound residue and the like are also mentioned.
一般式(8)においてn81は1〜3の整数を表し、n82は1〜2の整数を表す。n81、n82が2以上の時、R82、R83は同じであっても異なっていてもよく、またn81及びn82が2以上のとき、2つのR82またはR83がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。 In General formula (8), n81 represents the integer of 1-3, n82 represents the integer of 1-2. When n81 and n82 are 2 or more, R 82 and R 83 may be the same or different. When n81 and n82 are 2 or more, two R 82 or R 83 are bonded to each other to form a ring. May be formed.
次に、一般式(9)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by the general formula (9) will be described.
前記一般式(9)においてR91、R92、R93、R94は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式(8)におけるR81、R82、R83と同様の置換基を挙げることができる。 In the general formula (9), R 91 , R 92 , R 93 and R 94 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include R 81 , R 82 in the general formula (8). , And the same substituents as R 83 can be exemplified.
一般式(9)においてn91は1〜3の整数を表し、n92は1〜2の整数を表す。n91、n92が2以上の時、R93、R94は同じであっても異なっていてもよく、またn91及びn92が2以上のとき、2つのR93またはR94がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。 In General formula (9), n91 represents the integer of 1-3, n92 represents the integer of 1-2. When n91 and n92 are 2 or more, R 93 and R 94 may be the same or different. When n91 and n92 are 2 or more, two R 93 or R 94 are bonded to each other to form a ring. May be formed.
次に、一般式(10)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by General formula (10) is demonstrated.
前記一般式(10)において、R101は水素原子または置換基を表し、該置換基として特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル等の各基も挙げられる。 In the general formula (10), R 101 represents a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is not particularly limited, but typically includes groups such as alkyl, aryl, alkenyl, cycloalkyl, and the like. Further examples include groups such as cycloalkenyl, alkynyl, heterocyclic, sulfonyl, sulfinyl, phosphonyl, acyl, carbamoyl, sulfamoyl, alkoxy, aryloxy, heterocyclic oxy, siloxy, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl and the like.
R102、R103、R104は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式(8)におけるR81、R82、R83と同様の置換基を挙げることができる。 R 102 , R 103 and R 104 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include the same substituents as R 81 , R 82 and R 83 in formula (8). be able to.
一般式(10)においてn101は1〜3の整数を表す。nが2以上の時、R102は同じであっても異なっていてもよく、またn101が2以上のとき、2つのR102がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。 In General formula (10), n101 represents the integer of 1-3. When n is 2 or more, R 102 may be the same or different, and when n101 is 2 or more, two R 102 may be bonded to each other to form a ring.
一般式(10)において、好ましくはR103、R104が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に、R103、R104が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。 In the general formula (10), R 103 and R 104 are preferably bonded to each other to form an aromatic ring, and R 103 and R 104 are bonded to each other to form a substituted or unsubstituted benzene ring. It is preferable to form.
次に、一般式(11)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by General formula (11) is demonstrated.
前記一般式(11)において、R111、R112、R113は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式(8)におけるR81、R82、R83と同様の置換基を挙げることができる。 In the general formula (11), R 111 , R 112 , and R 113 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include R 81 , R 82 , R in the general formula (8). The same substituents as 83 can be mentioned.
一般式(11)においてn111は1〜3の整数を表す。nが2以上の時、R111は同じであっても異なっていてもよく、またn111が2以上のとき、2つのR112がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。 In General formula (11), n111 represents the integer of 1-3. When n is 2 or more, R 111 may be the same or different, and when n 111 is 2 or more, two R 112s may be bonded to each other to form a ring.
一般式(11)において、好ましくはR112、R113が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に、R112、R113が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。 In general formula (11), R 112 and R 113 are preferably bonded to each other to form an aromatic ring, and R 112 and R 113 are preferably bonded to each other to form a substituted or unsubstituted benzene ring. It is preferable to form.
以下に、本発明の一般式(8)、(9)、(10)または(11)で表される化合物の具体的化合物例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、構造式中のMは、ナトリウム塩、カリウム塩、1/2カルシュウム塩、もしくは、アンモニウム塩等の、カチオンを表す。 Specific examples of the compound represented by the general formula (8), (9), (10) or (11) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. Note that M in the structural formula represents a cation such as sodium salt, potassium salt, 1/2 calcium salt, or ammonium salt.
以下に、本発明の一般式(10)で表される例示化合物10−13の合成例を示す。一般式(10)で表されるその他の化合物、一般式(8)、(9)または(11)で表される化合物も同様にして合成することができる。 Below, the synthesis example of exemplary compound 10-13 represented by General formula (10) of this invention is shown. Other compounds represented by the general formula (10) and compounds represented by the general formula (8), (9) or (11) can be synthesized in the same manner.
例示化合物10−13はスキーム(10)に従って合成した。 Exemplified compounds 10-13 were synthesized according to scheme (10).
(中間体10bの合成)
31.3g(0.1mol)の(10a)から、J.Chem.Soc,1894〜1901(1954)記載の方法に従い(10b)を合成し、カラムクロマトグラフィーにより(10b)を20.8g(収率64%)単離した。
(Synthesis of Intermediate 10b)
From 31.3 g (0.1 mol) of (10a) Chem. (10b) was synthesized according to the method described in Soc, 1894-1901 (1954), and 20.8 g (yield 64%) of (10b) was isolated by column chromatography.
(例示化合物10−13の合成)
濃硫酸120gに氷冷下、6.4g(0.02mol)の中間体(10b)を加え、10℃以下で1時間スルホン化を行った。反応終了後、400gの氷に反応液を加え、得られた結晶を濾過した。この結晶を少量の水酸化ナトリウムを加えた5%食塩水に加えて30分攪拌し、結晶を濾取することにより、例示化合物10−13のナトリウム塩が7.8g(収率74%)得られた。
(Synthesis of Exemplified Compound 10-13)
6.4 g (0.02 mol) of intermediate (10b) was added to 120 g of concentrated sulfuric acid under ice cooling, and sulfonation was performed at 10 ° C. or less for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was added to 400 g of ice, and the resulting crystals were filtered. The crystals were added to 5% brine containing a small amount of sodium hydroxide and stirred for 30 minutes, and the crystals were collected by filtration to obtain 7.8 g (yield 74%) of the sodium salt of Exemplified Compound 10-13. It was.
1H NMRスペクトルにより、得られた化合物が目的の例示化合物10−13であることを確認した。 From the 1H NMR spectrum, it was confirmed that the obtained compound was the target Exemplified Compound 10-13.
(一般式(12)〜(14)で表される染料)
次に、一般式(12)で表される化合物について説明する。
(Dyes represented by general formulas (12) to (14))
Next, the compound represented by General formula (12) is demonstrated.
前記一般式(12)において、R121、R122、R123、R124、R125は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにこの他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。またR124とR125は互いに結合して環を形成していてもよい。 In the general formula (12), R 121 , R 122 , R 123 , R 124 , and R 125 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. The substituent is not particularly limited, but representative examples include alkyl, aryl, anilino, acylamino, sulfonamido, alkylthio, arylthio, alkenyl, cycloalkyl, and the like. Cycloalkenyl, alkynyl, heterocyclic, sulfonyl, sulfinyl, phosphonyl, acyl, carbamoyl, sulfamoyl, cyano, alkoxy, aryloxy, heterocyclic oxy, siloxy, acyloxy, sulfonyloxy, carbamoyloxy, amino, alkylamino, imide, ureido, Sulfamoylamino, alkoxycarbonylamino, aryloxycarbonylamino, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, heterocyclic thio, thioureido, carboxy, hydroxy, mercap , Nitro, each group such as sulfo, and a spiro compound residue, bridged hydrocarbon compound residue and the like are also mentioned. R 124 and R 125 may be bonded to each other to form a ring.
R124、R125において、好ましくはR124、R125が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に、R124、R125が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。 In R 124, R 125, preferably is preferably form an aromatic ring bonded R 124, R 125 to each other, further, R 124, R 125 are bonded to a substituted or unsubstituted with one another benzene ring It is preferable to form.
一般式(12)においてn121は1〜3の整数を表す。n121が2以上の時、R123は同じであっても異なっていてもよく、またn121が2以上のとき、2つのR123が互いに結合して環を形成していてもよい。 In General formula (12), n121 represents the integer of 1-3. n121 is 2 or more, R 123 may be different even in the same, also when n121 is 2 or more, two R 123 may be bonded to each other to form a ring.
次に、一般式(13)で表される化合物について説明する。一般式(13)においてR131、R132、R133、R134は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式(12)におけるR121〜R125と同様の置換基を挙げることができる。 Next, the compound represented by General formula (13) is demonstrated. In the general formula (13), R 131 , R 132 , R 133 , and R 134 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include R 121 to R 125 in the general formula (12) Similar substituents can be mentioned.
一般式(13)においてn131は1〜3の整数を表し、n132は1〜4の整数を表す。n131、n132が2以上の時、R133、R134は同じであっても異なっていてもよく、またn131及びn132が2以上のとき、2つのR133またはR134がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。 In General formula (13), n131 represents the integer of 1-3, n132 represents the integer of 1-4. n131, n132 is 2 or more, R 133, R 134 may be different even in the same, also when n131 and n132 is 2 or more, the ring two R 133 or R 134 are bonded to each other May be formed.
次に、一般式(14)で表される化合物について説明する。 Next, the compound represented by General formula (14) is demonstrated.
前記一般式(14)において、R141、R142、R143、R144は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式(12)におけるR121〜R125と同様の置換基を挙げることができる。 In the general formula (14), R 141 , R 142 , R 143 and R 144 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include R 121 to R in the general formula (12). The same substituents as 125 can be mentioned.
一般式(14)においてn141は1〜3の整数を表し、n142は1〜4の整数を表す。n141、n142が2以上の時、R143、R144は同じであっても異なっていてもよく、またn141及びn142が2以上のとき、2つのR143またはR144がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。 In General formula (14), n141 represents the integer of 1-3, n142 represents the integer of 1-4. When n141 and n142 are 2 or more, R 143 and R 144 may be the same or different. When n141 and n142 are 2 or more, two R 143 or R 144 are bonded to each other to form a ring. May be formed.
以下に、本発明の一般式(12)、(13)または(14)で表される化合物の具体的化合物例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、構造式中のMは、ナトリウム塩、カリウム塩、1/2カルシュウム塩、もしくは、アンモニウム塩等の、カチオンを表す。 Specific examples of the compound represented by the general formula (12), (13) or (14) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. Note that M in the structural formula represents a cation such as sodium salt, potassium salt, 1/2 calcium salt, or ammonium salt.
以下に、本発明の一般式(12)で表される例示化合物12−2の合成例を示す。一般式(12)で表されるその他の化合物、一般式(13)または(14)で表される化合物も同様にして合成することができる。 Below, the synthesis example of the exemplary compound 12-2 represented by General formula (12) of this invention is shown. Other compounds represented by the general formula (12) and the compounds represented by the general formula (13) or (14) can be synthesized in the same manner.
例示化合物12−2はスキーム(12)に従って合成した。 Exemplified Compound 12-2 was synthesized according to Scheme (12).
(中間体12bの合成)
27.6g(0.1mol)の(12a)(o−ニトロ安息香酸から、Synthesis,2,262〜266(2001)記載の方法に従い合成、トータル収率48%)を酢酸150mlに溶解し、鉄25.4g(0.46mol)を加えた後、75℃で4時間反応した。反応終了後、濾過し、濾液をトルエン/水で抽出し、溶媒を留去することにより中間体(12b)を得た。
(Synthesis of Intermediate 12b)
27.6 g (0.1 mol) of (12a) (synthesized from o-nitrobenzoic acid according to the method described in Synthesis, 2,262-266 (2001), total yield 48%) was dissolved in 150 ml of acetic acid, After adding 25.4g (0.46mol), it reacted at 75 degreeC for 4 hours. After completion of the reaction, the mixture was filtered, the filtrate was extracted with toluene / water, and the solvent was distilled off to obtain an intermediate (12b).
(中間体12cの合成)
上記反応で得られた(12b)、15.7g(0.1mol)のブロモベンゼン、24.6g(0.3mol)の酢酸ナトリウム及び3.4gの塩化第一銅をニトロベンゼン300ml中で約200℃に加熱し、14時間反応させた。反応終了後、冷却し、析出した結晶を濾取し、結晶をニトロベンゼン、希塩酸、エタノールで洗浄することにより(12c)が21.3g(収率66%)得られた。
(Synthesis of Intermediate 12c)
(12b) obtained from the above reaction, 15.7 g (0.1 mol) of bromobenzene, 24.6 g (0.3 mol) of sodium acetate and 3.4 g of cuprous chloride were added at about 200 ° C. in 300 ml of nitrobenzene. And reacted for 14 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled, and the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals were washed with nitrobenzene, dilute hydrochloric acid, and ethanol to obtain 21.3 g (yield 66%) of (12c).
(例示化合物12−2の合成)
濃硫酸120gに氷冷下、6.4g(0.02mol)の中間体(12c)を加え、10℃以下で1時間スルホン化を行った。反応終了後、400gの氷に反応液を加え、得られた結晶を濾過した。この結晶を少量の水酸化ナトリウムを加えた5%食塩水に加えて30分攪拌し、結晶を濾取することにより、例示化合物12−2のナトリウム塩が8.1g(収率78%)得られた。
(Synthesis of Exemplified Compound 12-2)
6.4 g (0.02 mol) of intermediate (12c) was added to 120 g of concentrated sulfuric acid under ice cooling, and sulfonation was performed at 10 ° C. or less for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was added to 400 g of ice, and the resulting crystals were filtered. The crystals were added to 5% brine containing a small amount of sodium hydroxide and stirred for 30 minutes, and the crystals were collected by filtration to obtain 8.1 g (yield 78%) of the sodium salt of Example Compound 12-2. It was.
1H NMRスペクトルにより、得られた化合物が目的の例示化合物12−2であることを確認した。 From the 1H NMR spectrum, it was confirmed that the obtained compound was the target exemplified compound 12-2.
〔樹脂成分〕
樹脂成分は、プリント上で樹脂皮膜を形成するものであればよく、水溶性樹脂、樹脂微粒子が用いられる。褪色性改良及び画像光沢向上の観点から、一般式(1)〜(14)で表される染料と樹脂成分とはインク中で分離していることが好ましい。特開2003−342500号、同2003−335990号、同2003−342504号、同2003−335989号各公報記載のように、染料と油性ポリマーをともに微粒子分散したタイプは好ましくない。本発明の好ましい形態の一つは、
(1)前記一般式(1)〜(14)で表される少なくとも1種の水溶性染料及び水溶性樹脂成分を含有するインクである。
さらに、好ましい形態は、
(2)前記一般式(1)〜(14)で表される少なくとも1種の水溶性染料及び樹脂微粒子を含有するインクである。水溶性樹脂よりも樹脂微粒子の方が、光沢性、インク吸収性及びインク射出性の観点で好ましい。
(Resin component)
The resin component only needs to form a resin film on the print, and a water-soluble resin and resin fine particles are used. From the viewpoint of fading improvement and image gloss improvement, the dyes represented by the general formulas (1) to (14) and the resin component are preferably separated in the ink. As described in JP-A Nos. 2003-342500, 2003-335990, 2003-342504, and 2003-335899, a type in which both a dye and an oily polymer are finely dispersed is not preferable. One preferred form of the invention is:
(1) An ink containing at least one water-soluble dye represented by the general formulas (1) to (14) and a water-soluble resin component.
Furthermore, the preferred form is
(2) An ink containing at least one water-soluble dye represented by the general formulas (1) to (14) and resin fine particles. Resin fine particles are more preferable than water-soluble resins from the viewpoints of glossiness, ink absorbability, and ink ejection properties.
(水溶性樹脂)
水溶性樹脂としては、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール、ゼラチン、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリウレタン、デキストラン、デキストリン、カラーギーナン(κ、ι、λ等)、寒天、プルラン、水溶性ポリビニルブチラール、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が挙げられる。
(Water-soluble resin)
Water-soluble resins include polyethylene glycol, polyvinyl alcohol, gelatin, polyethylene oxide, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyurethane, dextran, dextrin, color ginan (κ, ι, λ, etc.), agar, pullulan, water-soluble polyvinyl Examples include butyral, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and the like.
(樹脂微粒子)
樹脂微粒子はポリマー微粒子あるいはラテックスとも呼ばれており、樹脂微粒子は、各種樹脂の水分散体の形態で用いることができる。具体的には、アクリル系、スチレン−アクリル系、アクリロニトリル−アクリル系、酢酸ビニル系、酢酸ビニル−アクリル系、酢酸ビニル−塩化ビニル系、ポリウレタン系、シリコン−アクリル系、アクリルシリコン系、ポリエステル系、エポキシ系の各樹脂を挙げることができる。
(Resin fine particles)
The resin fine particles are also called polymer fine particles or latex, and the resin fine particles can be used in the form of an aqueous dispersion of various resins. Specifically, acrylic, styrene-acrylic, acrylonitrile-acrylic, vinyl acetate, vinyl acetate-acrylic, vinyl acetate-vinyl chloride, polyurethane, silicon-acrylic, acrylic silicon, polyester, Epoxy resins can be mentioned.
通常、これらの樹脂微粒子は、乳化重合法によって得られる。そこで用いられる界面活性剤、重合開始剤等については、常法で用いられるものを用いればよい。樹脂微粒子の合成法に関しては、例えば、米国特許第2,852,368号、同2,853,457号、同3,411,911号、同3,411,912号、同4,197,127号、ベルギー特許第688,882号、同691,360号、同712,823号、特公昭45−5331号、特開昭60−18540号、同51−130217号、同58−137831号、同55−50240号等に詳しく記載されている。 Usually, these resin fine particles are obtained by an emulsion polymerization method. The surfactants, polymerization initiators, etc. used there may be those used in conventional methods. Regarding the method for synthesizing the resin fine particles, for example, U.S. Pat. Nos. 2,852,368, 2,853,457, 3,411,911, 3,411,912, 4,197,127. Belgian Patent Nos. 688,882, 691,360, 712,823, JP-B 45-5331, JP-A-60-18540, 51-130217, 58-137831, 55-50240 and the like.
本発明に用いられる樹脂微粒子は、平均粒径が10〜200nmであることが好ましく、より好ましくは10〜150nm、更に好ましくは10〜100nmである。樹脂微粒子の平均粒径が10nm以上であれば、樹脂微粒子が空隙型記録媒体の空隙層内部に浸透せず、空隙層表面に存在するため、光沢性の面で好ましい。また、樹脂微粒子の平均粒径が200nm以下であれば、樹脂微粒子がある程度小さいため、空隙層表面でのレベリング性の観点で有利となり、光沢性の面で好ましい。樹脂微粒子の平均粒径は、光散乱方式やレーザードップラー方式を用いた市販の粒径測定装置、例えば、ゼータサイザー1000(マルバーン社製)等を用いて、簡便に求めることができる。 The resin fine particles used in the present invention preferably have an average particle size of 10 to 200 nm, more preferably 10 to 150 nm, and still more preferably 10 to 100 nm. If the average particle diameter of the resin fine particles is 10 nm or more, the resin fine particles do not penetrate into the void layer of the void type recording medium and are present on the surface of the void layer, which is preferable in terms of gloss. If the average particle size of the resin fine particles is 200 nm or less, the resin fine particles are small to some extent, which is advantageous from the viewpoint of leveling properties on the surface of the void layer, and is preferable in terms of gloss. The average particle size of the resin fine particles can be easily obtained using a commercially available particle size measuring device using a light scattering method or a laser Doppler method, for example, Zetasizer 1000 (manufactured by Malvern).
本発明のインクでは、樹脂微粒子の記録インク中での含有量が、0.2〜10質量%であることが好ましく、さらに好ましくは0.5〜5質量%である。樹脂微粒子の添加量が0.2質量%以上であれば、褪色性に対しより十分な効果を発揮することができ、10質量%以下であれば、インク吐出性がより安定となり、更に保存中でのインク粘度の上昇を抑制することができより好ましい。 In the ink of the present invention, the content of the resin fine particles in the recording ink is preferably 0.2 to 10% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass. If the addition amount of the resin fine particles is 0.2% by mass or more, a sufficient effect on the color fading property can be exhibited. If the addition amount is 10% by mass or less, the ink ejection property becomes more stable, and further during storage. This is more preferable because it can suppress an increase in ink viscosity.
本発に係る樹脂微粒子においては、最低造膜温度(MFT)が、−60〜60℃であることが好ましい。本発明においては、樹脂微粒子の最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は、可塑剤ともよばれ樹脂ラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常有機溶媒)であり、例えば「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に記載されている。 In the resin fine particles according to the present invention, the minimum film-forming temperature (MFT) is preferably −60 to 60 ° C. In the present invention, a film-forming aid may be added to control the minimum film-forming temperature of the resin fine particles. The film-forming aid, also called a plasticizer, is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the resin latex. For example, “Synthetic Latex Chemistry (written by Soichi Muroi, published by Kobunshi Shuppankai (1970)” )"It is described in.
本発明のインクには、有機溶媒を含有することができる。有機溶媒は、特に制限はないが、水溶性の有機溶媒が好ましく、具体的にはアルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類、アミン類、アミド類、複素環類挙げることができ、その具体的化合物としては、例えば、特開2003−231832号公報に例示した水溶性有機溶剤を挙げることができる。 The ink of the present invention can contain an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited, but a water-soluble organic solvent is preferable, and specific examples include alcohols, polyhydric alcohols, polyhydric alcohol ethers, amines, amides, and heterocyclic rings. Specific examples of the compound include water-soluble organic solvents exemplified in JP-A No. 2003-231832.
本発明のインクにおいて、各種の界面活性剤を用いることができる。本発明で用いることのできる界面活性剤として、特に制限はないが、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。特にアニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤を好ましく用いることができる。 Various surfactants can be used in the ink of the present invention. The surfactant that can be used in the present invention is not particularly limited, but examples thereof include anionic surfactants such as dialkyl sulfosuccinates, alkyl naphthalene sulfonates, fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxy Nonionic surfactants such as ethylene alkylallyl ethers, acetylene glycols, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, and cationic surfactants such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts. In particular, an anionic surfactant and a nonionic surfactant can be preferably used.
本発明のインクでは、上記説明した以外に、必要に応じて、出射安定性、プリントヘッドやインクカートリッジ適合性、保存安定性、画像保存性、その他の諸性能向上の目的に応じて、公知の各種添加剤、例えば、粘度調整剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、退色防止剤、防ばい剤、防錆剤等を適宜選択して用いることができ、例えば、流動パラフィン、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート、シリコンオイル等の油滴微粒子、特開昭57−74193号、同57−87988号及び同62−261476号に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号、同57−87989号、同60−72785号、同61−146591号、特開平1−95091号及び同3−13376号等に記載されている退色防止剤、特開昭59−42993号、同59−52689号、同62−280069号、同61−242871号及び特開平4−219266号等に記載されている蛍光増白剤等を挙げることができる。 In the ink of the present invention, in addition to the above description, if necessary, the output stability, print head and ink cartridge compatibility, storage stability, image storage stability, and other various performance improvement objectives are known. Various additives such as a viscosity modifier, a specific resistance modifier, a film forming agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a fading inhibitor, an antifungal agent, a rust inhibitor, etc. can be appropriately selected and used. Oil droplets such as liquid paraffin, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, silicon oil, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A-62-261476, JP-A-57 -74192, 57-87989, 60-72785, 61-146591, JP-A-1-95091 and 3-13376, etc. Anti-fading agents, fluorescent whitening agents described in JP-A-59-42993, JP-A-59-52689, JP-A-62-2280069, JP-A-61-228771, JP-A-4-219266, and the like. be able to.
本発明のインクは、安定吐出するためと、高光沢発現、オゾン耐性を高めるためには、インクの表面張力は40mN/m以下であることが好ましく、20〜40mN/mであることがより好ましい。同様の理由でインク粘度は、1.5〜10mPa・sが好ましく、3.0〜8mPa・sがより好ましい。 The ink of the present invention preferably has a surface tension of 40 mN / m or less, more preferably 20 to 40 mN / m, in order to stably discharge, to increase the appearance of high gloss and to improve ozone resistance. . For the same reason, the ink viscosity is preferably 1.5 to 10 mPa · s, more preferably 3.0 to 8 mPa · s.
(記録媒体)
次に本発明のインクを用いて記録するのに好ましいインクジェット記録媒体(以下単に、記録媒体ともいう)について説明する。
(recoding media)
Next, an ink jet recording medium (hereinafter also simply referred to as a recording medium) preferable for recording using the ink of the present invention will be described.
本発明のインクジェット記録方法で用いることのできる記録媒体は、普通紙、コート紙、専用光沢紙等種々の用紙を用いることができるが、好ましい記録媒体は、レジンコート紙、フィルム等の耐水性支持体上にフィラー、バインダーを主成分とした空隙型インク吸収層を設けた空隙型記録媒体で、特に高光沢なものを用いるとより一層本発明の効果が発現され好ましい。 As the recording medium that can be used in the ink jet recording method of the present invention, various papers such as plain paper, coated paper, and exclusive glossy paper can be used, but preferred recording media are water-resistant supports such as resin-coated paper and films. A void-type recording medium provided with a void-type ink absorbing layer mainly composed of a filler and a binder on the body, and particularly a high-gloss recording medium, is preferable because the effect of the present invention is further exhibited.
本発明の記録媒体の60°光沢は40%以上であることが好ましい。60°光沢が高いと、見た目の光沢感に優れるのはもとより、驚くべきことにオゾンガス耐性に優れているためである。特に、インク量の少ない部分でのオゾンガス耐性に優れる。また、オゾンガスによる褪色ムラも発生が少なくさらに有利である。上記効果をより高めるには、60°光沢は50%以上であることが好ましく、60%以上が更に好ましい。 The 60 ° gloss of the recording medium of the present invention is preferably 40% or more. This is because, when the 60 ° gloss is high, not only the glossiness of appearance is excellent but also the ozone gas resistance is surprisingly excellent. In particular, the ozone gas resistance is excellent in a portion where the ink amount is small. In addition, the occurrence of fading unevenness due to ozone gas is less advantageous and is further advantageous. In order to enhance the above effect, the 60 ° gloss is preferably 50% or more, more preferably 60% or more.
記録媒体の光沢とオゾンガス耐性、褪色ムラの関係についてはまだ、不明な点は多いが、記録媒体の光沢に反映される記録媒体の表面状態によるインク中の樹脂成分の拡散、成膜性に影響していると推定している。記録媒体の60°光沢は、記録媒体、特に表層のフィラー選択、バインダー選択、フィラー/バインダー比率により調整できる。 Although there are still many unclear points regarding the relationship between gloss, ozone gas resistance, and discoloration unevenness of the recording medium, it affects the diffusion of the resin component in the ink due to the surface condition of the recording medium reflected in the gloss of the recording medium, and film formability It is estimated that The 60 ° gloss of the recording medium can be adjusted by selecting the recording medium, particularly the surface layer filler, the binder, and the filler / binder ratio.
(インクジェット記録方法)
本発明のインクジェット記録方法で用いるプリンターは、市販されているプリンターのように、記録媒体収納部、搬送部、インクカートリッジ、インクジェットプリントヘッドを有するものである。更に必要に応じて、ロール状の記録媒体収納部、切断部、プリント仕分け装置、プリント収納部を備えたプリンタであると、インクジェット写真を商用利用する場合に有用である。
(Inkjet recording method)
The printer used in the ink jet recording method of the present invention has a recording medium storage unit, a transport unit, an ink cartridge, and an ink jet print head, like a commercially available printer. Further, if necessary, a printer provided with a roll-shaped recording medium storage unit, a cutting unit, a print sorting device, and a print storage unit is useful for commercial use of inkjet photographs.
記録ヘッドとしては、ピエゾ方式、サーマル方式、コンティニュアス方式のいずれでもよいが、インク吐出での安定性の観点からピエゾ方式が好ましい。 The recording head may be any of a piezo method, a thermal method, and a continuous method, but the piezo method is preferable from the viewpoint of stability in ink ejection.
本発明のインクジェット記録方法において、記録インク中に含まれているポリマー微粒子の成膜を促進する目的で、記録前、記録時に記録媒体を加熱したり、記録後にプリントを加熱、もしくは加圧の少なくとも1工程を施すことができる。 In the inkjet recording method of the present invention, for the purpose of accelerating the film formation of the polymer fine particles contained in the recording ink, the recording medium is heated before recording or at the time of recording, or the print is heated or pressurized after recording. One step can be applied.
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、特に断りない限り、実施例中の「%」は「質量%」を表す。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these. Unless otherwise specified, “%” in the examples represents “mass%”.
実施例1
(インク1〜15の調製)
以下の組成でインク1〜15を調製した。インク1〜15はそれぞれ濃色インク、淡色インクのセットで調製した。
Example 1
(Preparation of inks 1 to 15)
Inks 1 to 15 were prepared with the following compositions. Inks 1 to 15 were prepared as a set of dark ink and light ink, respectively.
ジエチレングリコール 10%
グリセリン 10%
トリエチレングリコールモノブチルエーテル 10%
サーフィノール465(Air Products社製) 0.5%
染料(種類は表1参照)
純水 総量100%に仕上げる
なお、染料の添加量は、淡色インクではインクとしての可視部最大吸収波長での吸光度が300となる量、濃色インクでは吸光度が900となる量を添加した。吸光度はインクを純水で希釈し、そのときの希釈倍率と希釈後の吸光度の積で求めた。
Diethylene glycol 10%
Glycerin 10%
Triethylene glycol monobutyl ether 10%
Surfinol 465 (manufactured by Air Products) 0.5%
Dye (see Table 1 for types)
The total amount of pure water is 100%. Note that the amount of dye added was such that the light absorbency at the maximum visible absorption wavelength of ink was 300 for light-colored inks, and that the light absorbency was 900 for dark-colored inks. Absorbance was determined by diluting the ink with pure water and multiplying the dilution ratio at that time by the absorbance after dilution.
比較染料1を下記に示す。 Comparative dye 1 is shown below.
(インク16〜30の調製)
インク1〜15に水溶性樹脂の1種であるポリエチレングリコール(数平均分子量=6000)を固形分で1.6%添加し、それぞれインク16〜30を調製した。
(Preparation of inks 16 to 30)
Polyethylene glycol (number average molecular weight = 6000), which is one type of water-soluble resin, was added to inks 1 to 15 at a solid content of 1.6% to prepare inks 16 to 30, respectively.
(インク31〜45の調製)
インク1〜15に樹脂微粒子の1種であるスーパーフレックス300(ウレタンラテックス、第一工業製薬社製)を固形分で1%添加し、それぞれインク31〜45を調製した。
(Preparation of inks 31 to 45)
Super Ink 300 (urethane latex, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), which is a kind of resin fine particles, was added to inks 1 to 15 at a solid content of 1% to prepare inks 31 to 45, respectively.
〔記録媒体の作製〕
(記録媒体1)
厚さ約220μmのレジンコート原紙上に、以下の成分を以下の付き量になるように塗布して記録媒体1を作製した。なお、適量の活性剤とホウ酸を添加して用いた。
[Production of recording medium]
(Recording medium 1)
The following components were coated on a resin-coated base paper having a thickness of about 220 μm so as to have the following amounts to produce a recording medium 1. An appropriate amount of activator and boric acid were added and used.
A−300(気相法シリカ、一次平均粒径7nm、日本エアロジル工業(株)製)
22.0g/m2
PVA235(ポリビニルアルコール、クラレ社製) 3.9g/m2
カチオン性ポリマーP−1 2.3g/m2
A-300 (gas phase method silica, primary average particle size 7 nm, manufactured by Nippon Aerosil Industry Co., Ltd.)
22.0 g / m 2
PVA235 (polyvinyl alcohol, manufactured by Kuraray Co.) 3.9 g / m 2
Cationic polymer P-1 2.3 g / m 2
(記録媒体2)
記録媒体1の上に、下記成分からなる表層を付与した。
(Recording medium 2)
On the recording medium 1, a surface layer comprising the following components was applied.
A300 1.0g/m2
PVA235 0.2g/m2
カチオン性ポリマーP−1 0.1g/m2
(記録媒体3)
記録媒体1の上に、下記成分からなる表層を付与した。
A300 1.0 g / m 2
PVA235 0.2 g / m 2
Cationic polymer P-1 0.1 g / m 2
(Recording medium 3)
On the recording medium 1, a surface layer comprising the following components was applied.
A300 1.0g/m2
PVA235 0.25g/m2
カチオン性ポリマーP−1 0.1g/m2
(記録媒体4)
記録媒体1の上に、下記成分からなる表層を付与した。
A300 1.0 g / m 2
PVA235 0.25 g / m 2
Cationic polymer P-1 0.1 g / m 2
(Recording medium 4)
On the recording medium 1, a surface layer comprising the following components was applied.
A300 1.0g/m2
PVA235 0.33g/m2
カチオン性ポリマーP−1 0.1g/m2
(記録媒体5)
記録媒体1の上に、下記成分からなる表層を付与した。
A300 1.0 g / m 2
PVA235 0.33 g / m 2
Cationic polymer P-1 0.1 g / m 2
(Recording medium 5)
On the recording medium 1, a surface layer comprising the following components was applied.
コロイダルシリカ(平均粒子径0.6μm) 1.2g/m2
PVA235 0.25g/m2
カチオン性ポリマーP−1 0.06g/m2
作製した記録媒体の60°光沢を測定し表1に示す。
Colloidal silica (average particle size 0.6 μm) 1.2 g / m 2
PVA235 0.25 g / m 2
Cationic polymer P-1 0.06 g / m 2
Table 1 shows the 60 ° gloss of the produced recording medium.
〔インクの評価〕
上記作製したインクセット(濃色、淡色)をPM−740DU(セイコーエプソン社製)のインクカートリッジの濃色マゼンタ、淡色マゼンタとして充填し、上記記録媒体に画像形成し純色の10段ウエッジを作成した。得られた記録プリントを24時間自然乾燥した後、以下の評価を行った。
[Evaluation of ink]
The prepared ink set (dark color, light color) was filled as dark magenta and light magenta of an ink cartridge of PM-740DU (manufactured by Seiko Epson), and an image was formed on the recording medium to produce a 10-color wedge of pure color. . The obtained recording prints were naturally dried for 24 hours, and then evaluated as follows.
(耐光性)
上記マゼンタウエッジをキセノンウエザーメータ(スガ試験機械社製)にて70000lxの照度で240時間照射した。ウエッジの3、5、7段の部分の照射前後の反射濃度を測定し、濃度残存率を測定し、平均値を求めた。
(Light resistance)
The magenta wedge was irradiated with a xenon weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) at an illuminance of 70000 lx for 240 hours. The reflection density before and after the irradiation of the 3, 5, and 7 steps of the wedge was measured, the residual density ratio was measured, and the average value was obtained.
(耐酸性ガス性)
オゾンガス試験機(スガ試験機械社製、オゾンウエザーメーターOMS−H)にて、オゾン濃度10ppmで30時間暴露した。ウエッジの3、5、7段の部分の暴露前後の反射濃度を測定し、濃度残存率を測定し、平均値を求めた。
(Acid gas resistance)
It was exposed for 30 hours at an ozone concentration of 10 ppm with an ozone gas tester (Suga Test Instruments Co., Ltd., ozone weather meter OMS-H). The reflection density before and after exposure of the 3, 5, and 7 steps of the wedge was measured, the residual density ratio was measured, and the average value was obtained.
(オゾン褪色ムラ)
上記オゾンガス試験機による評価ウエッジでのオゾン褪色ムラを下記基準で評価した。
(Ozone fading unevenness)
Evaluation by the ozone gas tester The ozone fading unevenness in the wedge was evaluated according to the following criteria.
6:全段数で褪色ムラはみられない
5:3段以下で極わずかにムラあるが目立たない
4:3段以下でムラが見られるが、濃度も低くあまり目立たない
3:4−5段でも極わずかにムラあるが目立たない
2:4−5段でもムラが見られる
1:7−6段でもムラが見られる
評価の結果を表1に示す。
6: No discoloration unevenness is observed in all stages. 5: Very slight unevenness at 3 steps or less, but not noticeable. 4: Unevenness is observed at 3 steps or less, but the density is low and not so noticeable. Slightly uneven, but inconspicuous 2: Unevenness is observed even at 4-5 stages. Unevenness is observed even at 1: 7-6 stages.
表1より明らかなように、本発明のインクは比較のインクに比べ、耐光性、耐酸性ガス性、オゾン褪色ムラの何れにおいても優れていることが分かる。 As is apparent from Table 1, it can be seen that the ink of the present invention is superior in light resistance, acid gas resistance, and ozone fading unevenness as compared with the comparative ink.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004034772A JP2005225944A (en) | 2004-02-12 | 2004-02-12 | Inkjet ink and inkjet recording method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004034772A JP2005225944A (en) | 2004-02-12 | 2004-02-12 | Inkjet ink and inkjet recording method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005225944A true JP2005225944A (en) | 2005-08-25 |
Family
ID=35000913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004034772A Pending JP2005225944A (en) | 2004-02-12 | 2004-02-12 | Inkjet ink and inkjet recording method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005225944A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007077256A (en) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Nippon Kayaku Co Ltd | Anthrapyridone compound and ink composition for inkjet recording |
JP2013237174A (en) * | 2012-05-14 | 2013-11-28 | Seiko Epson Corp | Inkjet recording method, inkjet recording device and recorded material |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1094754A (en) * | 1996-04-24 | 1998-04-14 | Asahi Glass Co Ltd | Recording medium and its production |
JP2000351267A (en) * | 1999-06-11 | 2000-12-19 | Asahi Glass Co Ltd | Recording medium for pigment ink and method for recording |
JP2001246837A (en) * | 2000-03-07 | 2001-09-11 | Nippon Paper Industries Co Ltd | Ink jet recording sheet and manufacturing method therefor |
JP2002240413A (en) * | 2000-12-20 | 2002-08-28 | Eastman Kodak Co | Ink jet printing method |
JP2003055586A (en) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Seiko Epson Corp | Ink set |
JP2003335990A (en) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | Konica Minolta Holdings Inc | Ink jet recording liquid |
JP2003335989A (en) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | Konica Minolta Holdings Inc | Ink jet recording liquid |
JP2003342500A (en) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Konica Minolta Holdings Inc | Ink jet recording liquid |
JP2003342504A (en) * | 2002-05-28 | 2003-12-03 | Konica Minolta Holdings Inc | Ink-jet recording liquid |
-
2004
- 2004-02-12 JP JP2004034772A patent/JP2005225944A/en active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1094754A (en) * | 1996-04-24 | 1998-04-14 | Asahi Glass Co Ltd | Recording medium and its production |
JP2000351267A (en) * | 1999-06-11 | 2000-12-19 | Asahi Glass Co Ltd | Recording medium for pigment ink and method for recording |
JP2001246837A (en) * | 2000-03-07 | 2001-09-11 | Nippon Paper Industries Co Ltd | Ink jet recording sheet and manufacturing method therefor |
JP2002240413A (en) * | 2000-12-20 | 2002-08-28 | Eastman Kodak Co | Ink jet printing method |
JP2003055586A (en) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Seiko Epson Corp | Ink set |
JP2003335990A (en) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | Konica Minolta Holdings Inc | Ink jet recording liquid |
JP2003335989A (en) * | 2002-05-22 | 2003-11-28 | Konica Minolta Holdings Inc | Ink jet recording liquid |
JP2003342500A (en) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Konica Minolta Holdings Inc | Ink jet recording liquid |
JP2003342504A (en) * | 2002-05-28 | 2003-12-03 | Konica Minolta Holdings Inc | Ink-jet recording liquid |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007077256A (en) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Nippon Kayaku Co Ltd | Anthrapyridone compound and ink composition for inkjet recording |
JP2013237174A (en) * | 2012-05-14 | 2013-11-28 | Seiko Epson Corp | Inkjet recording method, inkjet recording device and recorded material |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4186775B2 (en) | Ink set | |
JP5979728B2 (en) | Aqueous black ink composition, ink jet recording method using the same, and colored body | |
JP6128944B2 (en) | Ink, ink cartridge, and ink jet recording method | |
JP2001115066A (en) | Ink for ink-jet and method for ink-jet printing | |
KR20110018907A (en) | Ink composition, ink composition for inkjet recording, ink set, ink cartridge, inkjet recording method, and recorded matter | |
JP2013032469A (en) | Aqueous black ink composition, inkjet recording method using the same and colored body | |
WO2004029166A1 (en) | Inkjet recording black ink and method of inkjet recording | |
US7249834B2 (en) | Inkjet recording ink and inkjet recording method | |
WO2008056626A1 (en) | Azo compound, ink composition, recording method, and colored body | |
WO2003062329A1 (en) | Ink for ink-jet recording, ink producing method, and ink-jet recording method | |
JP2005344071A (en) | Black ink composition and inkjet recording method | |
TW201113334A (en) | Water-soluble azo compound or salt thereof, ink composition and colored body | |
KR20110019375A (en) | Ink composition, ink composition for inkjet recording, ink set, ink cartridge, inkjet recording method, and recorded matter | |
US20080072789A1 (en) | Ink-Jet Ink Set | |
TW200925159A (en) | Trisazo compound, ink composition, recording method and colored body | |
JP2005225944A (en) | Inkjet ink and inkjet recording method | |
JP2017171753A (en) | Ink set and inkjet recording method | |
JP2017110098A (en) | Ink composition, inkjet recording method and colored body | |
JP2011132275A (en) | Ink, ink cartridge, and inkjet recording method | |
WO2003066753A1 (en) | Ink-jet recording ink and method of ink-jet recording | |
WO2007032377A1 (en) | Azo compound, ink composition, recording method, and colored object | |
JP5264066B2 (en) | Dye, ink composition containing dye, inkjet ink composition, and inkjet recording method | |
JP2010159312A (en) | Ink for inkjet, method for inkjet recording, ink cartridge, recording unit, and inkjet recording apparatus | |
JP2005206751A (en) | Ink-jet printing ink and ink-jet recording method | |
JP2019167490A (en) | Ink composition, inkjet recording method and colored body |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100422 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100511 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100709 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110405 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111025 |