JP2005225793A - Phosphine oxide compound - Google Patents

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JP2005225793A JP2004035322A JP2004035322A JP2005225793A JP 2005225793 A JP2005225793 A JP 2005225793A JP 2004035322 A JP2004035322 A JP 2004035322A JP 2004035322 A JP2004035322 A JP 2004035322A JP 2005225793 A JP2005225793 A JP 2005225793A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new phosphine oxide compound useful as photopolymerization initiator useful in a visible light range. <P>SOLUTION: The phosphine oxide compound is represented by general formula (1) (R<SP>1</SP>is an alkyl, an alkenyl, an alkynyl, a cycloalkyl, a cycloalkenyl or the like; R<SP>2</SP>, R<SP>3</SP>, R<SP>4</SP>, R<SP>5</SP>, R<SP>6</SP>, R<SP>7</SP>, R<SP>8</SP>and R<SP>9</SP>are each the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl, an alkenyl, an alkynyl or the like; X is a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, a substituted or nonsubstituted vinylene or the like). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光重合開始剤として有用な新規なホスフィンオキシド化合物に関する。   The present invention relates to a novel phosphine oxide compound useful as a photopolymerization initiator.

光硬化技術は作業性、経済性、衛生的な点に優れ、熱硬化手法と比べて有機溶剤の使用が極めて少なく、揮発性有機化合物(VOC)規制に対応した環境対応型技術として注目されている。
光硬化は光重合開始剤の性能により大きく左右される。従来、その開始剤の1種として、ホスフィンオキシドはラジカル型の光重合開始剤として用いられている(例えば、特許文献1参照)。それらを光重合開始剤に用いる場合には照射光として紫外光(UV)が用いられているが、より可視光域の光線で硬化できるような光開始剤としてホスフィンオキシドが開発され、硬化速度や硬化深度も改良されている。(例えば、特許文献2および3参照)。従来、使用されているホスフィンオキシドは、開始剤由来の黄色が硬化物に残る着色性の問題を有している。
Photocuring technology is superior in terms of workability, economy, and hygiene, uses less organic solvents than thermal curing methods, and is attracting attention as an environmentally friendly technology that complies with volatile organic compound (VOC) regulations. Yes.
Photocuring is greatly influenced by the performance of the photopolymerization initiator. Conventionally, as one of the initiators, phosphine oxide has been used as a radical photopolymerization initiator (see, for example, Patent Document 1). When they are used as photopolymerization initiators, ultraviolet light (UV) is used as irradiation light, but phosphine oxide has been developed as a photoinitiator that can be cured with light in the visible light range, The depth of cure is also improved. (For example, refer to Patent Documents 2 and 3). Conventionally, the phosphine oxide used has a problem of colorability in which the yellow color derived from the initiator remains in the cured product.

ホスフィンオキシドは、歯科材料用途に使用されており(例えば、特許文献4参照)、記録媒体用途にも使用されている(例えば、特許文献5参照)。
しかしながら、紫外光の有害性の問題、紫外線吸収剤入りの樹脂の光硬化、可視光型発光ダイオード(LED)照射器や太陽光等の安価な光源の有効利用等の観点から、さらに可視光域側の光線で硬化できる光重合開始剤の開発が望まれている。
Phosphine oxide is used for dental material applications (see, for example, Patent Document 4), and is also used for recording medium applications (for example, see Patent Document 5).
However, from the viewpoints of the harmful effects of ultraviolet light, photocuring of resins containing ultraviolet absorbers, and effective use of visible light emitting diode (LED) irradiators and inexpensive light sources such as sunlight, the visible light range is further increased. The development of a photopolymerization initiator that can be cured with light on the side is desired.

また、歯科材料や生体材料の用途においては、照射光の無害性に加えて、審美的な要因として無着色性が望まれる。塗料、インキ、接着用途においても、優れた接着性や付着性の要求に加えて、硬化深度の大きく、太陽光等の無害で安価な光源の有効利用できる、有機溶媒の使用の少ない環境対応型の光重合開始剤が求められている。
欧州特許出願公開第7508号明細書 特開平3−101686号公報 特開平5−345790号公報 特開昭61−130296号公報 特開平1−102455号公報
Further, in applications of dental materials and biomaterials, in addition to harmlessness of irradiation light, non-coloring property is desired as an aesthetic factor. For paints, inks, and adhesives, in addition to demands for excellent adhesion and adhesion, it is environmentally friendly with a large depth of cure, which can effectively use harmless and inexpensive light sources such as sunlight, and uses less organic solvents. There is a need for photopolymerization initiators.
European Patent Application No. 7508 JP-A-3-101686 JP-A-5-345790 Japanese Patent Laid-Open No. 61-130296 JP-A-1-102455

本発明の目的は、可視光域で使用可能な光重合開始剤として有用な新規なホスフィンオキシド化合物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a novel phosphine oxide compound useful as a photopolymerization initiator usable in the visible light region.

本発明は、以下の[1]〜[25]を提供する。
[1] 一般式(1)
The present invention provides the following [1] to [25].
[1] General formula (1)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のアラルキルまたは置換もしくは非置換のアラルケニルを表し、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルキルオキシ、シクロアルキルオキシ、アルケニルオキシ、シクロアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルキルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のアラルキルまたは置換もしくは非置換のアラルケニルを表すが、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9の内の隣接する2つの基はそれぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になって炭化水素環を形成してもよく、Xは単結合、酸素原子、硫黄原子、置換もしくは非置換のビニレン、置換もしくは非置換の−NH、もしくは非置換のリン原子または置換もしくは非置換のケイ素原子を表す)で表されるホスフィンオキシド化合物。
[2] R1が置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールであり、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9が、それぞれ同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル、アルケニル、アルキニル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールであり、Xが単結合である[1]記載のホスフィンオキシド化合物。
[3] R1が置換もしくは非置換のアリールであり、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9が、それぞれ同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子またはアルキルであり、Xが単結合である[1]記載のホスフィンオキシド化合物。
[4] 一般式(2)
(Wherein R 1 represents alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted heteroaryl, substituted or unsubstituted aralkyl, or substituted or unsubstituted aralkenyl. , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, Alkyloxy, cycloalkyloxy, alkenyloxy, cycloalkenyloxy, alkynyloxy, aryloxy, heteroaryloxy, aralkyloxy, substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted heteroaryl, substituted or unsubstituted aralkyl or substituted Or an unsubstituted ara It represents a Kenyir, together with R 2, R 3, R 4 , R 5, R 6, R 7, adjacent two groups of two carbon atoms, each of which adjacent of R 8 and R 9 A hydrocarbon ring may be formed, and X is a single bond, oxygen atom, sulfur atom, substituted or unsubstituted vinylene, substituted or unsubstituted —NH, or unsubstituted phosphorus atom or substituted or unsubstituted silicon atom A phosphine oxide compound represented by:
[2] R 1 is substituted or unsubstituted aryl or substituted or unsubstituted heteroaryl, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are the same Or, differently, a hydrogen atom, a halogen atom, alkyl, alkenyl, alkynyl, substituted or unsubstituted aryl, or substituted or unsubstituted heteroaryl, wherein X is a single bond, [1].
[3] R 1 is substituted or unsubstituted aryl, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are the same or different and are each a hydrogen atom, halogen The phosphine oxide compound according to [1], which is an atom or alkyl, and X is a single bond.
[4] General formula (2)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義であり、Mはアルカリ金属を表す)で表されるホスフィド化合物と、一般式(3) Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, and M represents an alkali metal. And general formula (3)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1は、前記と同義であり、Zはハロゲン原子またはアシルオキシを表す)で表されるカルボン酸ハライドまたはカルボン酸無水物とを反応させることによって、一般式(4) (Wherein R 1 has the same meaning as described above, and Z represents a halogen atom or acyloxy), and is reacted with a carboxylic acid halide or carboxylic anhydride represented by the general formula (4)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィン化合物を得、次いで得られたホスフィン化合物を酸化することを特徴とする、一般式(1) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), The obtained phosphine compound is oxidized, and is represented by the general formula (1)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[5] 酸化が、酸素を含むガスと反応させることによる酸化である請求項4記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[6] 一般式(4)
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), .
[5] The method for producing a phosphine oxide compound according to claim 4, wherein the oxidation is an oxidation by reacting with a gas containing oxygen.
[6] General formula (4)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィン化合物。
[7]一般式(2)
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above).
[7] General formula (2)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、XおよびMは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィド化合物と、一般式(3) Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X and M are as defined above, and a general formula (3)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1およびZは、それぞれ前記と同義である)で表されるカルボン酸ハライドまたはカルボン酸無水物とを反応させることを特徴とする、一般式(4) (Wherein R 1 and Z have the same meanings as described above) and a carboxylic acid halide or a carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィン化合物の製造方法。
[8] 一般式(2)
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. .
[8] General formula (2)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、XおよびMは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィド化合物と、一般式(5) Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X and M are as defined above, and a general formula (5)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1は前記と同義である)で表されるアルデヒドを反応させることによって、一般式(6) (Wherein R 1 has the same meaning as described above) to react with the aldehyde represented by the general formula (6)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物を得、次いで得られたα−ヒドロキシホスフィン化合物を酸化することによって、一般式(7) Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. And then oxidizing the resulting α-hydroxyphosphine compound to give a general formula (7)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である。)で表されるα−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物を得、さらに該α−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物を酸化脱水素することを特徴とする一般式(1) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above) α-hydroxyphosphine An oxide compound is obtained, and the α-hydroxyphosphine oxide compound is further oxidatively dehydrogenated.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[9] 酸化脱水素が、過酸化物と反応させることによる酸化脱水素である[8]記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[10] 過酸化物が、過酸化水素または有機ヒドロペルオキシドである[9]記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[11] 酸化脱水素が、触媒の存在下で行う酸化脱水素である[8]〜[10]のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[12] 触媒が、ルテニウム触媒である[11]記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[13] 一般式(6)
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), .
[9] The method for producing a phosphine oxide compound according to [8], wherein the oxidative dehydrogenation is oxidative dehydrogenation by reacting with a peroxide.
[10] The method for producing a phosphine oxide compound according to [9], wherein the peroxide is hydrogen peroxide or an organic hydroperoxide.
[11] The method for producing a phosphine oxide compound according to any one of [8] to [10], wherein the oxidative dehydrogenation is oxidative dehydrogenation performed in the presence of a catalyst.
[12] The method for producing a phosphine oxide compound according to [11], wherein the catalyst is a ruthenium catalyst.
[13] General formula (6)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物。
[14] 一般式(7)
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. .
[14] General formula (7)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物。
[15] 一般式(2)
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above) α-hydroxyphosphine oxide Compound.
[15] General formula (2)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、XおよびMは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィド化合物と、一般式(5) Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X and M are as defined above, and a general formula (5)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1は、前記と同義である)で表されるアルデヒドを反応させることを特徴とする、一般式(6) (Wherein R 1 has the same meaning as described above), which is reacted with an aldehyde represented by the general formula (6)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物の製造方法。
[16] 一般式(6)
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. Manufacturing method.
[16] General formula (6)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物を酸化することを特徴とする、一般式(7) Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. General formula (7), characterized in that

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[17] 酸化が、酸素を含むガスで処理することによる酸化である[16]記載のヒドロキシホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[18] 一般式(4)
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above) α-hydroxyphosphine oxide Compound production method.
[17] The method for producing a hydroxyphosphine oxide compound according to [16], wherein the oxidation is an oxidation by treatment with a gas containing oxygen.
[18] General formula (4)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィン化合物を酸化脱水素することを特徴とする一般式(1) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively). General formula (1) characterized by

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[19] 一般式(7)
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), .
[19] General formula (7)

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物を酸化脱水素することを特徴とする一般式(1) (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above) α-hydroxyphosphine oxide General formula (1) characterized by oxidative dehydrogenation of a compound

Figure 2005225793
Figure 2005225793

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィンオキシド化合物の製造方法。
[20] [1]〜[3]のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物を含有する光重合開始剤。
[21] [1]〜[3]のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物と不飽和化合物を含有する光重合性組成物。
[22] [21]記載の光重合性組成物を硬化させて得られる硬化物。
[23] [1]〜[3]のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物と不飽和化合物を含有する塗料。
[24] [1]〜[3]のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物の存在下、光照射により不飽和化合物を硬化させて得られるフィルム。
[25] [1]〜[3]のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物の存在下、光照射により不飽和化合物を硬化させて得られるプラスチック。
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), .
[20] A photopolymerization initiator containing the phosphine oxide compound according to any one of [1] to [3].
[21] A photopolymerizable composition comprising the phosphine oxide compound according to any one of [1] to [3] and an unsaturated compound.
[22] A cured product obtained by curing the photopolymerizable composition according to [21].
[23] A paint containing the phosphine oxide compound according to any one of [1] to [3] and an unsaturated compound.
[24] A film obtained by curing an unsaturated compound by light irradiation in the presence of the phosphine oxide compound according to any one of [1] to [3].
[25] A plastic obtained by curing an unsaturated compound by light irradiation in the presence of the phosphine oxide compound according to any one of [1] to [3].

以下、一般式(1)で表されるホスフィンオキシド化合物を化合物(1)と表現することもある。一般式(2)で表されるホスフィド化合物を化合物(2)と表現することもある。一般式(3)で表されるカルボン酸ハライドを化合物(3)と表現することもある。一般式(4)で表されるホスフィン化合物を化合物(4)と表現することもある。一般式(5)で表されるアルデヒドを化合物(5)と表現することもある。一般式(6)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物を化合物(6)と表現することもある。一般式(7)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物を化合物(7)と表現することもある。   Hereinafter, the phosphine oxide compound represented by the general formula (1) may be expressed as the compound (1). The phosphide compound represented by the general formula (2) may be expressed as the compound (2). The carboxylic acid halide represented by the general formula (3) may be expressed as a compound (3). The phosphine compound represented by the general formula (4) may be expressed as a compound (4). The aldehyde represented by the general formula (5) may be expressed as the compound (5). The α-hydroxyphosphine compound represented by the general formula (6) may be expressed as a compound (6). The α-hydroxyphosphine compound represented by the general formula (7) may be expressed as a compound (7).

本発明により、可視光域で使用可能な光重合開始剤として有用な新規なホスフィンオキシド化合物が提供される。   The present invention provides a novel phosphine oxide compound useful as a photopolymerization initiator that can be used in the visible light region.

一般式の各基の定義において、アルキルおよびアルコキシにおけるアルキル部分としては、例えば、直鎖もしくは分岐状の炭素数1〜20の、好ましくは炭素数1〜8のアルキル基または炭素数3〜8の環状アルキルがあげられ、具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチル、tert−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ウンデシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等があげられる。   In the definition of each group of the general formula, examples of the alkyl moiety in alkyl and alkoxy include, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 20, preferably 1 to 8 carbon atoms, or 3 to 8 carbon atoms. Specific examples include cyclic alkyl, specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, tert-pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl. Decyl, dodecyl, undecyl, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl and the like.

アルケニルおよびアルケニルオキシのアルケニル部分としては、炭素数2〜20、好ましくは炭素数2〜10の直鎖または分岐のアルケニルがあげられ、具体的には、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、2-メチルアリル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、1,3−ブタジエニル、1,3−ペンタジエニル、1,3,5−ヘキサトリエニル等があげられる。   Examples of the alkenyl part of alkenyl and alkenyloxy include linear or branched alkenyl having 2 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms. Specific examples include vinyl, allyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, Examples include 2-methylallyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, 1,3-butadienyl, 1,3-pentadienyl, 1,3,5-hexatrienyl and the like.

アルキニルおよびアルキニルオキシのアルキニル部分としては、炭素数2〜20、好ましくは炭素数2〜10の直鎖または分岐のアルキニルがあげられ、具体的には、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、1,3−ブタジイニル、1,3,5−ヘキサトリイニル等があげられる。
シクロアルケニルとして、炭素数3〜20、好ましくは炭素数3〜12のシクロアルケニルがあげられ、具体的には、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、シクロオクテニル、シクロドデセニル、シクロドデカトリエニル等があげられる。
Examples of the alkynyl part of alkynyl and alkynyloxy include straight-chain or branched alkynyl having 2 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, specifically, ethynyl, propynyl, butynyl, pentynyl, hexynyl, 1 , 3-butadiynyl, 1,3,5-hexatriynyl and the like.
Examples of cycloalkenyl include cycloalkenyl having 3 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 12 carbon atoms. Specific examples include cyclopropenyl, cyclobutenyl, cyclopentenyl, cyclopentadienyl, cyclohexenyl, cyclohexadienyl, cyclooctenyl. , Cyclododecenyl, cyclododecatrienyl and the like.

アリールおよびアリールオキシのアリール部分としては、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル等があげられる。
アラルキルおよびアラルキルオキシのアラルキル部分としては、例えば、炭素数7〜30、好ましくは炭素数7〜20のアラルキルがあげられ、具体的には、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、ナフチルメチル等があげられる。
Examples of the aryl moiety of aryl and aryloxy include phenyl, naphthyl, anthryl and the like.
Examples of the aralkyl moiety of aralkyl and aralkyloxy include aralkyl having 7 to 30 carbon atoms, preferably 7 to 20 carbon atoms, and specifically include benzyl, phenethyl, phenylpropyl, naphthylmethyl and the like.

アラルケニルとしては、炭素数8〜30、好ましくは炭素数8〜20のアラルケニルがあげられ、例えば、スチリル、シンナミル等があげられる。
ヘテロアリールおよびヘテロアリールオキシにおける芳香族複素環としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む5員または6員の単環性芳香族複素環、3〜8員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1個の原子を含む縮環性芳香族複素環等があげられ、より具体的にはピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ナフチリジン環、シンノリン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環、オキサゾール環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、プリン環、カルバゾール環等があげられる。
Examples of aralkenyl include aralkenyl having 8 to 30 carbon atoms, preferably 8 to 20 carbon atoms, and examples thereof include styryl and cinnamyl.
Examples of the aromatic heterocycle in heteroaryl and heteroaryloxy include, for example, a 5-membered or 6-membered monocyclic aromatic heterocycle containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, A bicyclic or tricyclic condensed 8-membered ring containing at least one atom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, and more specifically a pyridine aromatic ring Ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, phthalazine ring, quinazoline ring, quinoxaline ring, naphthyridine ring, cinnoline ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, thiophene ring, Furan ring, thiazole ring, oxazole ring, indole ring, isoindole ring, indazole , Benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, purine ring, carbazole ring and the like.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子があげられる。
R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9の内の隣接する2つの置換基がそれぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になって形成される炭化水素環としては、例えば、炭素数5〜10の不飽和の炭化水素環があげられ、具体的には、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環等があげられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Carbonization formed by two adjacent substituents of R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 , each together with two adjacent carbon atoms Examples of the hydrogen ring include unsaturated hydrocarbon rings having 5 to 10 carbon atoms, and specific examples include a cyclopentene ring, a cyclohexene ring, a cycloheptene ring, a cyclooctene ring, a benzene ring, and a naphthalene ring. .

アリール、ヘテロアリール、アラルキル、アラルケニル、ビニレン、窒素原子、リン原子、珪素原子の置換基としては、例えば、同一または異なって1〜5個の置換基、具体的には、ヒドロキシル、カルボキシル、ハロゲン原子、アルキル、アルコキシ、ニトロ、置換基を有していてもよいアミノ(アミノの置換基としては、例えば、後述するアミノの置換基の例示で記載するものがあげられる)等があげられる。ハロゲン原子、アルキルおよびアルコキシルのアルキル部分は、それぞれ前記と同義である。   Examples of the substituent of aryl, heteroaryl, aralkyl, aralkenyl, vinylene, nitrogen atom, phosphorus atom, and silicon atom include, for example, the same or different 1 to 5 substituents, specifically, hydroxyl, carboxyl, halogen atom , Alkyl, alkoxy, nitro, and optionally substituted amino (examples of amino substituents include those described below as examples of amino substituents). The halogen atom, alkyl and the alkyl part of alkoxyl have the same meanings as described above.

アミノの置換基としては、例えば、同一または異なって1または2個の置換基、具体的には、アルキル、アラルキル、アリール等があげられる。アルキル、アラルキルおよびアリールは、それぞれ前記と同義である。
アシルオキシのアシル部分としては、例えば、ホルミル、アセチル、マロニル、ベンゾイル、シンナモイル等があげられる。
Examples of the amino substituent include the same or different one or two substituents, specifically, alkyl, aralkyl, aryl and the like. Alkyl, aralkyl and aryl are as defined above.
Examples of the acyl moiety of acyloxy include formyl, acetyl, malonyl, benzoyl, cinnamoyl and the like.

アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウムがあげられ、中でもリチウムまたはナトリウムが好ましい。
化合物(2)は、トリアリールホスフィンまたはトリアリールホスフィンオキシドから公知の方法(Hoffmann,H.,Chem.Ber.,1962,Vol.95,p.2563−2566、Bull.Chem.Soc.Jpn.,1991,Vol.64、p.3182−3184等)に記載の方法に準じて製造することができる。
Examples of the alkali metal include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, and francium. Among them, lithium or sodium is preferable.
Compound (2) can be obtained from triarylphosphine or triarylphosphine oxide by a known method (Hoffmann, H., Chem. Ber., 1962, Vol. 95, p. 2563-2566, Bull. Chem. Soc. Jpn., 1991, Vol. 64, p. 3182-3184, etc.).

化合物(4)は、化合物(2)を好ましくは0.5〜10当量、より好ましくは0.8〜2当量の化合物(3)と反応させることにより合成できる。
この際、反応温度は、−78℃のような低温から開始し徐々に昇温するのが好ましく、反応を完結させるために、化合物(3)の添加後は昇温または加熱還流してもよい。
反応溶媒は、基質が溶解するものであれば特に限定はされないが、テトラヒドロフラン(THF)、ジアルキルエーテル、ジオキサン、エチレングリコールジアルキルエーテル、ジ(エチレングリコール)ジアルキルエーテル等のエーテル系溶媒が好ましい。その使用量は、化合物(3)に対して1〜大過剰量(重量比)である。
化合物(4)は、必要に応じて、有機合成化学で一般的に使用される精製法(再結晶、クロマトグラフィー等)により精製することができる。
化合物(1)は、化合物(4)を酸化することにより製造することができる。該酸化法としては、酸素ガスによる酸化、過酸化物酸化、電気的酸化、生物的酸化等の方法が利用でき、特に酸素ガスによる酸化または過酸化物による酸化が好ましい。化合物(1)を酸素ガスを用いて酸化する場合には、酸素ガスそのものを使用してもよいが、酸素を含むガス、例えば、空気または、酸素と窒素、アルゴン等の不活性ガスもしくは空気を混合したガス等を用いるのが好ましい。過酸化物による酸化においては、過酸化物として、例えば、過酸化水素水溶液、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸、アセトンオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、クミルヒドロペルオキシド等をあげることができるが、過酸化水素水溶液を使用するのが好ましい。
化合物(1)は、必要に応じて、有機合成化学で一般的に使用される精製法(再結晶、クロマトグラフィー等)により精製することができる。
Compound (4) can be synthesized by reacting compound (2) with compound (3), preferably 0.5 to 10 equivalents, more preferably 0.8 to 2 equivalents.
In this case, the reaction temperature is preferably started from a low temperature such as −78 ° C. and gradually raised. In order to complete the reaction, the temperature may be raised or heated to reflux after the addition of the compound (3). .
The reaction solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the substrate, but ether solvents such as tetrahydrofuran (THF), dialkyl ether, dioxane, ethylene glycol dialkyl ether, di (ethylene glycol) dialkyl ether are preferable. The amount used is 1 to a large excess (weight ratio) relative to the compound (3).
Compound (4) can be purified by a purification method (recrystallization, chromatography, etc.) generally used in organic synthetic chemistry, if necessary.
Compound (1) can be produced by oxidizing compound (4). As the oxidation method, oxidation with oxygen gas, peroxide oxidation, electrical oxidation, biological oxidation and the like can be used, and oxidation with oxygen gas or oxidation with peroxide is particularly preferable. When the compound (1) is oxidized using oxygen gas, the oxygen gas itself may be used. However, a gas containing oxygen, for example, air or an inert gas such as oxygen and nitrogen or argon or air is used. It is preferable to use a mixed gas or the like. In the oxidation by peroxide, examples of the peroxide include an aqueous hydrogen peroxide solution, perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, acetone oxide, t-butyl hydroperoxide, cumyl hydroperoxide, and the like. However, it is preferable to use an aqueous hydrogen peroxide solution.
Compound (1) can be purified by a purification method (recrystallization, chromatography, etc.) generally used in organic synthetic chemistry, if necessary.

化合物(6)は、化合物(2)と好ましくは0.5〜10当量、より好ましくは0.8〜2当量の化合物(5)を反応させることにより得られる。反応温度は、−80〜200℃の範囲から自由に選ぶことができるが、一般的には室温で行い、反応を完結させるために必要に応じて、化合物(5)添加後に昇温または加熱還流してもよい。
反応溶媒は、基質を溶解するものであれば特に限定はないが、THF、ジアルキルエーテル、ジオキサン、エチレングリコールジアルキルエーテル、ジ(エチレングリコール)ジアルキルエーテル等のエーテル系溶媒が好ましい。
こうして得られた反応液を加水分解することにより、化合物(6)が生成する。その分離精製は、抽出、蒸留、再結晶、クロマトグラフィー等の常用の手段で容易に行うことができる。
Compound (6) is obtained by reacting compound (2) with compound (5), preferably 0.5 to 10 equivalents, more preferably 0.8 to 2 equivalents. The reaction temperature can be freely selected from the range of −80 to 200 ° C., but is generally carried out at room temperature, and if necessary to complete the reaction, the temperature is raised or refluxed after addition of compound (5). May be.
The reaction solvent is not particularly limited as long as it dissolves the substrate, but ether solvents such as THF, dialkyl ether, dioxane, ethylene glycol dialkyl ether, and di (ethylene glycol) dialkyl ether are preferable.
The reaction solution thus obtained is hydrolyzed to produce compound (6). The separation and purification can be easily performed by conventional means such as extraction, distillation, recrystallization, chromatography and the like.

化合物(7)は、化合物(6)を酸化することにより合成できる。該酸化反応は、前記の化合物(2)の酸化方法と同様の方法によって実施することができる。
化合物(1)は、化合物(7)を酸化脱水素することで得ることができる。酸化脱水素の方法として、例えば、好ましくは0.5〜50当量、より好ましくは10〜20当量過酸化水素または好ましくは0.5〜10当量、より好ましくは0.8〜3当量の有機ヒドロペルオキシドを用いて行う方法が好ましい。酸化脱水素は好ましくは触媒の存在下に実施される。触媒としては、金属を含有する種々の触媒を用いることができ、例えば、担体担持もしくは非担持の金属白金もしくは金属パラジウム、白金、パラジウム、ルテニウム、バナジウム、レニウム等の酸化物や塩類、オレフィンやアレーン等の有機配位子やホスフィン配位子を有する白金、パラジウム、ルテニウム、バナジウム、レニウム等の金属の錯体等があげられ、中でもルテニウムの酸化物、塩類または金属錯体が好ましい。触媒の使用量として化合物(7)に対して、0.01〜2当量が好ましく、特に、0.1〜0.5当量が好ましい。
Compound (7) can be synthesized by oxidizing compound (6). The oxidation reaction can be carried out by a method similar to the method for oxidizing the compound (2).
Compound (1) can be obtained by oxidative dehydrogenation of compound (7). As a method of oxidative dehydrogenation, for example, preferably 0.5 to 50 equivalents, more preferably 10 to 20 equivalents hydrogen peroxide or preferably 0.5 to 10 equivalents, more preferably 0.8 to 3 equivalents of organic hydro A method using a peroxide is preferred. Oxidative dehydrogenation is preferably carried out in the presence of a catalyst. As the catalyst, various kinds of catalysts containing metals can be used, for example, supported or unsupported metal platinum or metal palladium, platinum, palladium, ruthenium, vanadium, rhenium and other oxides and salts, olefins and arenes. Examples thereof include complexes of metals such as platinum, palladium, ruthenium, vanadium, rhenium and the like having organic ligands such as phosphine ligands, and among them, ruthenium oxides, salts or metal complexes are preferred. The amount of the catalyst used is preferably from 0.01 to 2 equivalents, particularly preferably from 0.1 to 0.5 equivalents, relative to compound (7).

また、化合物(6)に過酸化水素を使用しても、直接、化合物(1)を得ることができる。
本発明の化合物(1)は、不飽和化合物の光重合開始剤として使用することができる。
本発明の光重合開始剤は、公知の開始剤と併用することも可能である。公知の光開始剤としては、例えばベンゾフェノン、アセトフェノン誘導体、ベンゾインエーテル、ベンジルケタール、モノアシルホスフィンオキシド、他のビスアシルホスフィンオキシド、パーエステルまたはチタノセン系光重合開始剤等があげられ、化合物(1)に対して、0.001〜20重量%使用してもよい。
Even when hydrogen peroxide is used as the compound (6), the compound (1) can be obtained directly.
The compound (1) of the present invention can be used as a photopolymerization initiator for unsaturated compounds.
The photopolymerization initiator of the present invention can be used in combination with a known initiator. Known photoinitiators include, for example, benzophenone, acetophenone derivatives, benzoin ethers, benzyl ketals, monoacylphosphine oxides, other bisacylphosphine oxides, peresters or titanocene-based photopolymerization initiators, and the like (1) You may use 0.001-20 weight% with respect to.

本発明の光重合性組成物は、化合物(1)と不飽和化合物を含む。
ここで用いる不飽和化合物は分子内に1個以上の炭素―炭素二重結合を有する。それらは低分子量〜中・高分子量の不飽和化合物である。
低分子量不飽和化合物の中で、分子内に1個の二重結合を有するモノマーの例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド、ビニルアセテート等のビニルエステル、イソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル、スチレン、アルキルスチレン、ハロスチレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等があげられる。ここで、(メタ)アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートを表す。以下も同様に表現する。
The photopolymerizable composition of the present invention contains compound (1) and an unsaturated compound.
The unsaturated compound used here has one or more carbon-carbon double bonds in the molecule. They are low molecular weight to medium / high molecular weight unsaturated compounds.
Among the low molecular weight unsaturated compounds, examples of monomers having one double bond in the molecule include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth). Acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, acrylonitrile, acrylamide, methacrylamide, N-substituted (meth) acrylamide, vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl ethers such as isobutyl vinyl ether, styrene, alkylstyrene, Examples thereof include halostyrene, N-vinylpyrrolidone, vinyl chloride, vinylidene chloride and the like. Here, (meth) acrylate represents acrylate and methacrylate. The following is expressed similarly.

低分子量不飽和化合物の中で、分子内に2個以上の二重結合を有する多官能モノマーの例としては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、4,4′−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートおよびテトラアクリレート、ペンタエリトリトールジビニルエーテル、ビニルアクリレート、ジビニルベンゼン、ジビニルサクシネート、ジアリルフタレート、トリアリルホスフェート、トリアリルイソシアヌレート、トリス(2−アクリロイルエチル)イソシアヌレート、ジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等があげられる。   Examples of polyfunctional monomers having two or more double bonds in the molecule among the low molecular weight unsaturated compounds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, and hexamethylene glycol diacrylate. Bisphenol A diacrylate, 4,4'-bis (2-acryloyloxyethoxy) diphenylpropane, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate and tetraacrylate, pentaerythritol divinyl ether, vinyl acrylate, divinylbenzene, divinyl succinate , Diallyl phthalate, triallyl phosphate, triallyl isocyanurate, tris (2-acryloylethyl) isocyanurate, divini Ether, triethylene glycol divinyl ether and the like.

中・高分子量の不飽和化合物の例としては、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ウレタンアクリレート、エステルアクリレートおよび不飽和ポリエステル樹脂等があげられる。これらの好ましい分子量は500〜10,000である。
これらの中・高分子不飽和化合物は、通常、高粘度であるため、好ましくは、低分子量不飽和化合物、または溶剤により希釈して本発明の光重合性組成物に含有させる。
Examples of the medium / high molecular weight unsaturated compound include epoxy acrylate, polyether acrylate, urethane acrylate, ester acrylate, and unsaturated polyester resin. Their preferred molecular weight is 500 to 10,000.
Since these medium / high molecular unsaturated compounds are usually highly viscous, they are preferably diluted with a low molecular weight unsaturated compound or a solvent and contained in the photopolymerizable composition of the present invention.

本発明の光重合性組成物には、光重合開始剤に加えて、他の添加剤を添加することができる。これらの添加剤としては、例えば、ヒドロキノン、または立体障害フェノール等の重合禁止剤があげられる。また、暗室中の保存寿命を長くするために、銅化合物、リン化合物、第四アンモニウム化合物またはヒドロキシルアミン誘導体等を添加することができる。他に、重合中の酸素による障害を低減するために、重合の開始に際して表面へ移動するパラフィンまたは同様なワックス類似物質を添加することができる。光安定剤としては、UV吸収剤、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、ヒドロキシフェニル−s−トリアジンまたはオキサルアニリドタイプのものを少量加えることができる。UV光を吸収しない光安定剤例えば立体障害アミン(HALS)を加えてもよい。例えば、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、エチルp−ジメチルアミノベンゾエートまたはミヒラーケトン(Michler's ketone)の等のアミン類を加えることにより光重合が促進される。この効果はベンゾフェノンタイプの芳香族ケトンを加えることにより、増加させることができる。感光剤の添加により光重合はさらに促進される。その効果は、スペクトル感光性を変化させるか、広げる。これらの例は、芳香族カルボニル化合物(例えば、ベンゾフェノン、チオキサントン、アントラキノンおよび3−アシルクマリン誘導体)ならびに3−(アロイルメチレン)チアゾリン類である。他には、用途に応じ、蛍光増白剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤または流れ調整剤等を添加することができる。その添加量は、本発明の光重合性組成物中0.01〜5重量%であるのが好ましい。   In addition to the photopolymerization initiator, other additives can be added to the photopolymerizable composition of the present invention. Examples of these additives include polymerization inhibitors such as hydroquinone and sterically hindered phenol. Moreover, in order to prolong the shelf life in a dark room, a copper compound, a phosphorus compound, a quaternary ammonium compound, a hydroxylamine derivative, etc. can be added. In addition, paraffin or similar wax analogs that migrate to the surface at the beginning of the polymerization can be added to reduce oxygen damage during the polymerization. As light stabilizers, small amounts of UV absorbers such as benzotriazole, benzophenone, hydroxyphenyl-s-triazine or oxalanilide type can be added. Light stabilizers that do not absorb UV light such as sterically hindered amines (HALS) may be added. For example, photopolymerization is accelerated by adding amines such as triethanolamine, N-methyldiethanolamine, ethyl p-dimethylaminobenzoate or Michler's ketone. This effect can be increased by adding benzophenone type aromatic ketones. Photopolymerization is further accelerated by the addition of a photosensitizer. The effect changes or broadens the spectral sensitivity. Examples of these are aromatic carbonyl compounds (eg benzophenone, thioxanthone, anthraquinone and 3-acylcoumarin derivatives) and 3- (aroylmethylene) thiazolines. In addition, an optical brightener, a filler, a pigment, a dye, a wetting agent, a flow control agent, or the like can be added depending on the application. The addition amount is preferably 0.01 to 5% by weight in the photopolymerizable composition of the present invention.

本発明の光重合開始剤は、充填剤等のような透明性を下げる物質を含有する重合性組成物の硬化を開始するのに特に適している。本発明の光重合開始剤を使用して、不飽和化合物を硬化して得られる硬化物は、透明性に優れている。
本発明の光重合性組成物において、化合物(1)は、好ましくは、全固形分に対して、好ましくは0.01〜15重量%、さらに好ましくは0.2〜5重量%含有される。
The photopolymerization initiator of the present invention is particularly suitable for initiating curing of a polymerizable composition containing a substance that lowers transparency, such as a filler. The cured product obtained by curing the unsaturated compound using the photopolymerization initiator of the present invention is excellent in transparency.
In the photopolymerizable composition of the present invention, the compound (1) is preferably contained in an amount of 0.01 to 15% by weight, more preferably 0.2 to 5% by weight, based on the total solid content.

本発明の光重合性組成物は、該組成物を構成する不飽和化合物の構造によっては水に溶解または分散したものであってもよい。ここで用いられる不飽和化合物の例としては、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ウレタンアクリレート、エステルアクリレート、および不飽和ポリエステル樹脂等の中・高分子量不飽和化合物を水溶化あるいは、水分散化した不飽和化合物、水溶性単官能・多官能性モノマーをあげることができる。水溶化、水分散化の手法としては、前記の不飽和化合物の分子内に、カルボン酸、スルホン酸のような酸性基を導入し、アルカリを用いて中和することで親水化する、または、分子内にポリエチレングリコール単位を導入して親水化する等の手法があげられるがこれらに限定するものではない。   The photopolymerizable composition of the present invention may be dissolved or dispersed in water depending on the structure of the unsaturated compound constituting the composition. Examples of unsaturated compounds used here include unsaturated compounds in which medium or high molecular weight unsaturated compounds such as epoxy acrylates, polyether acrylates, urethane acrylates, ester acrylates, and unsaturated polyester resins are dissolved or dispersed in water. Examples thereof include compounds and water-soluble monofunctional / polyfunctional monomers. As a method of water solubilization and water dispersion, an acidic group such as carboxylic acid or sulfonic acid is introduced into the molecule of the unsaturated compound and neutralized with an alkali to make it hydrophilic, or Although methods such as introducing a polyethylene glycol unit into the molecule to make it hydrophilic can be mentioned, the method is not limited to these.

また、親水化官能基を分子内に導入しなくても、該組成物を公知の乳化剤を用いて水分散化する手法もあげられる。乳化剤としては、アニオン性、カチオン性およびノニオン性のもの、あるいは高分子乳化剤があげられる。例えば、高級アルコール硫酸エステル類、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルサルフェート塩、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテルサルフェート塩等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、エチレンオキサイドプロピレンオキサイドブロックポリマー、ソルビタン誘導体等の非イオン性界面活性剤等があげられるが、これに限定されるものではない。   Further, there is a method of dispersing the composition in water using a known emulsifier without introducing a hydrophilic functional group into the molecule. Examples of the emulsifier include anionic, cationic and nonionic emulsifiers, and polymer emulsifiers. For example, anionic surfactants such as higher alcohol sulfates, alkylbenzene sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfate salts, polyoxyethylene alkyl phenol ether sulfate salts, polyoxyethylene alkyl phenol ethers, ethylene oxide propylene oxide block polymers, sorbitan derivatives Nonionic surfactants such as, for example, are not limited thereto.

本発明の光重合性組成物には、他の添加剤として、分散助剤、乳化剤、酸化防止剤、光安定剤、染料、顔料・充填剤(例えばタルク、石膏、シリカ、ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛及び酸化鉄)、増量剤、艶消し剤、消泡剤、蛍光剤、リン光剤、夜光剤、導電剤、金属粒(金粒、銀粒、銅粒等)、色素材、抗菌剤(酸化チタン、抗菌性有機化合物等)、表面塗装技術で慣用されている他の助剤等を添加することができる。分散助剤としては、極性基を含有する有機化合物、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロースエーテル等があげられる。   In the photopolymerizable composition of the present invention, as other additives, a dispersion aid, an emulsifier, an antioxidant, a light stabilizer, a dye, a pigment / filler (for example, talc, gypsum, silica, rutile, carbon black, Zinc oxide and iron oxide), extenders, matting agents, antifoaming agents, fluorescent agents, phosphorescent agents, luminescent agents, conductive agents, metal particles (gold particles, silver particles, copper particles, etc.), color materials, antibacterial agents (Titanium oxide, antibacterial organic compounds, etc.) and other auxiliary agents conventionally used in surface coating technology can be added. Examples of the dispersion aid include organic compounds containing a polar group, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and cellulose ether.

本発明の光重合性組成物は、太陽光、可視レーザー光、あるいはUV光を照射することで硬化する。好ましい光源の例は、低圧、中圧、および高圧水銀ランプ、金属ハロゲンランプまたはレーザー光で、その最大放射波長は250〜450nmの範囲内である。光増感剤との組み合わせが採用される場合、比較的長波長の光、または600nmまでのレーザー光線を使用することができる。その硬化物は、フィルム、プラスチック等として使用することができる。   The photopolymerizable composition of the present invention is cured by irradiation with sunlight, visible laser light, or UV light. Examples of preferred light sources are low, medium and high pressure mercury lamps, metal halogen lamps or laser light, whose maximum emission wavelength is in the range of 250-450 nm. When a combination with a photosensitizer is employed, relatively long wavelength light or laser light up to 600 nm can be used. The cured product can be used as a film, plastic or the like.

本発明の光重合性組成物は、印刷インキ、ワニス、木または金属用の白色塗料、紙、木、金属またはプラスチック用塗料組成物、顔料着色ペイント、建築仕上げ塗料、道路標識用塗料、可視光硬化性UV吸収剤入り塗料、透明または着色の水性分散体塗料、土木建築材、道路補修剤、重防食塗料、寒冷地用塗料、蛍光塗料、夜光塗料、ライニング材、シ−リング材、シール剤、プラスチック材料、蛍光プラスチック、夜光プラスチック、光造形材料、マイクロ部品材料、分子デバイス材料、光硬化性包装・容器材料、印刷用インク、印刷版の製造用、スクリーン印刷用マスクの製造用、印刷物、ラベル印刷、パッケージ印刷、飲料パック印刷、ビジネスフォーム印刷、カード印刷、写真再現プロセス、写真現像材料、画像記録プロセス、光記録材料、歯科用充填材料、歯科用接着剤、医学用接着剤、臓器複製用、ギブス材料、ネイル(爪)アート品、意匠設計用、デザイン設計用、小型機器のモデル作成用、シュミレーションモデル作成用、光マークキング剤、接着剤、生体材料、生物・生薬包装材料、プリント電子回路用のエッチング剤、レジスト材料、カラーフィルター材料、フィルム材料、導電性フィルム、反射防止膜、表面コート材料、液晶用シール剤、プリズムシート、半田ストップマスク、光成形材料、太陽電池材料、光スイッチ、光回路材料、光感知器、半導体封止剤、電子部品のコーティング又はカプセル封入、植物栽培材料、樹木補修材料、温室材料、光分解性プラスチック、抗菌性プラスチック、シート材料、複合材料(例えばガラス繊維と他の助剤との複合材料等)、光学接着剤、屈折率調整剤、ポッティング剤、眼鏡レンズ、レンズ・プリズムを含む光学材料、光通信用材料、光学繊維用塗料、スポーツ用品、玩具、自動車部品、自動車補修用パテ、船舶部品、航空機部品、または、宇宙材料等として使用することができる。   The photopolymerizable composition of the present invention comprises printing ink, varnish, white paint for wood or metal, paint composition for paper, wood, metal or plastic, pigmented paint, building finish paint, road sign paint, visible light Paints with curable UV absorbers, transparent or colored aqueous dispersion paints, civil engineering and building materials, road repair agents, heavy-duty anticorrosion paints, cold district paints, fluorescent paints, luminescent paints, lining materials, sealing materials, sealants , Plastic materials, fluorescent plastics, luminous plastics, stereolithography materials, micropart materials, molecular device materials, photo-curable packaging / container materials, printing inks, printing plate manufacturing, screen printing mask manufacturing, printed matter, Label printing, package printing, beverage pack printing, business form printing, card printing, photo reproduction process, photo developing material, image recording process, optical recording Materials, Dental Filling Materials, Dental Adhesives, Medical Adhesives, Organ Duplicates, Gibbs Materials, Nail Art Products, Design Design, Design Design, Small Equipment Model Creation, Simulation Model Creation , Optical markking agents, adhesives, biomaterials, biological / herbal medicine packaging materials, etching agents for printed electronic circuits, resist materials, color filter materials, film materials, conductive films, antireflection films, surface coating materials, for liquid crystals Sealant, prism sheet, solder stop mask, optical molding material, solar cell material, optical switch, optical circuit material, photodetector, semiconductor sealant, coating or encapsulation of electronic components, plant cultivation material, tree repair material, Greenhouse materials, photodegradable plastics, antibacterial plastics, sheet materials, composite materials (eg composites of glass fiber and other auxiliaries) Materials, etc.), optical adhesives, refractive index adjusting agents, potting agents, spectacle lenses, optical materials including lenses and prisms, optical communication materials, optical fiber paints, sports equipment, toys, automotive parts, automotive repair putty, It can be used as a ship part, an aircraft part, or a space material.

本発明の光重合性組成物をコーティング形成用に使用する場合、例えば浸漬、刷毛塗り、スプレーまたはロール塗布等が適用できる。この際のコーティングの膜厚と基材は、適用分野に応じて選択される。例えば、写真情報記録用の適当な基材の例は、ポリエステル、酢酸セルロースのフィルム、または樹脂コーティング紙である。オフセット印刷版用の塗装基材は、特別に処理されたアルミニウムであり、またプリント回路を製造するための塗装基材は銅被覆ラミネートである。写真材料とオフセット印刷版の膜厚は、通常は0.5〜10μmである。   When the photopolymerizable composition of the present invention is used for coating formation, for example, dipping, brushing, spraying or roll coating can be applied. The film thickness of the coating and the substrate at this time are selected according to the application field. For example, examples of suitable substrates for recording photographic information are polyester, cellulose acetate films, or resin-coated paper. The painted substrate for offset printing plates is specially treated aluminum and the painted substrate for producing printed circuits is a copper clad laminate. The film thickness of the photographic material and the offset printing plate is usually 0.5 to 10 μm.

印刷インク分野では、バインダーの重合時間が、記録製品の生産速度を大きく左右するため、迅速に重合・硬化できる光重合性組成物が必要である。光硬化性印刷インクは、オフセット印刷において、硬化速度の速さは、特に重要である。本発明の光重合性組成物は、硬化速度が速く、硬化深度にも優れ、フレキソ印刷あるいは凸版印刷用の印刷版を製造するのにも適している。この分野では、溶解性の線状ポリアミドあるいはスチレンブタジエンゴムと、光重合性モノマー、例えば、アクリルアミドまたはアクリレートおよび光重合開始剤の混合物が使用される。これらの混合物を用いて作られたフィルムおよびプレートが、印刷原画のネガまたはポジを通して光照射され、その後、非露光部分が適当な溶媒で溶出される。次いで有機溶媒中、または水性アルカリ性媒質中で現像が行われ、印刷版が形成される。   In the printing ink field, since the polymerization time of the binder greatly affects the production rate of the recording product, a photopolymerizable composition that can be rapidly polymerized and cured is required. For the photocurable printing ink, the speed of curing is particularly important in offset printing. The photopolymerizable composition of the present invention has a high curing speed and an excellent curing depth, and is suitable for producing a printing plate for flexographic printing or letterpress printing. In this field, a mixture of soluble linear polyamide or styrene butadiene rubber and a photopolymerizable monomer such as acrylamide or acrylate and a photoinitiator is used. Films and plates made with these mixtures are irradiated through the negative or positive of the original print, after which the unexposed portions are eluted with a suitable solvent. Development is then carried out in an organic solvent or in an aqueous alkaline medium to form a printing plate.

本発明の光重合性組成物の他の用途分野は、例えばシート、チューブ、罐または瓶の蓋用の金属コーティング等があげられる。他には、例えばPVC製の床または壁のコーティングのための樹脂コーティング等があげられる。紙の分野では、例えば、ラベル、カード、レコードジャケット、CD・DVDジャケット、牛乳パック、飲料パック、紙コップ、カップめんの容器、カレンダー、ポスター、ビジネスフォーム、レコードジャケットまたは本のカバーへの無色コーティング等があげられる。   Other fields of application of the photopolymerizable composition of the present invention include, for example, metal coatings for sheet, tube, bottle or bottle lids. Other examples include resin coatings for coating PVC floors or walls. In the paper field, for example, labels, cards, record jackets, CD / DVD jackets, milk packs, beverage packs, paper cups, cup noodle containers, calendars, posters, business forms, colorless covers on record jackets or book covers. can give.

本発明の光重合性組成物は、画像または情報担体作製にも応用できる。該光重合性組成物を、通常、基材に塗布して、コーティング膜を形成した後、フォトマスクを通して光を照射し、非照射面を溶媒で処理して除去する(現像する)ことにより、画像または情報担体の作製ができる。
本発明の光重合性組成物は、金属への電着によってもコーティング膜を形成できる。コーティング膜の光に照射された部分は、架橋したポリマーになるため不溶性になり、基材上に残存する。この残存部分が適当に染色された場合、可視画像が形成される。基材が蒸着金属塗膜である場合、光照射および現像後に、エッチングすることにより非照射面からその金属を除去したり、亜鉛メッキにより膜厚を増加させたりすることができる。上記のようにしてプリント電子回路板を作製することができる。
The photopolymerizable composition of the present invention can also be applied to image or information carrier production. The photopolymerizable composition is usually applied to a substrate to form a coating film, and then irradiated with light through a photomask, and the non-irradiated surface is treated with a solvent and removed (developed). Images or information carriers can be made.
The photopolymerizable composition of the present invention can form a coating film also by electrodeposition on a metal. The portion irradiated with light of the coating film becomes insoluble because it becomes a crosslinked polymer, and remains on the substrate. When this remaining portion is appropriately stained, a visible image is formed. When the substrate is a vapor-deposited metal coating, the metal can be removed from the non-irradiated surface by etching after light irradiation and development, or the film thickness can be increased by galvanization. A printed electronic circuit board can be produced as described above.

本発明の光重合開始剤は高い反応性を有する。また、光重合後のコーティング表面は良好な光沢値を示す。本発明の光重合開始剤は、白色ペイントを硬化開始するのに特に適し、厚いコーティング膜を硬化できるため、それらを印刷版および複合材料の製造のために使用できる。
以下、実施例、比較例により、本発明をさらに具体的に説明する。
The photopolymerization initiator of the present invention has high reactivity. Moreover, the coating surface after photopolymerization shows a favorable gloss value. The photopolymerization initiators of the present invention are particularly suitable for initiating the curing of white paints and can cure thick coating films so that they can be used for the production of printing plates and composite materials.
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples.

9−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−1)の合成:
還流冷却管付きのフラスコに9−フェニル−9−ホスファフルオレン(650mg、2.5mmol)、テトラヒドロフラン(7.5mL)およびリチウム金属(45mg、15mg)を加え、アルゴン雰囲気、室温下で3時間攪拌した。反応溶液を還流冷却管付きのフラスコ(アルゴン雰囲気、室温下)に移し、tert-ブチルクロリド(0.27mL、2.5mmol)を加え、60℃で10分間加熱攪拌し、室温まで冷却した。その混合物を、−78℃に冷却した2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリド(460mg、2.5mmol)のテトラヒドロフラン(7.5mL)溶液を含むフラスコ中(アルゴン雰囲気)に滴下した。その後、その反応混合物を−78℃で15分間攪拌し、酸素ガス(1atm)を吹き込み、1時間攪拌した後、室温へ戻した。反応混合物を濃縮した後、残渣をジクロロメタン5mLで希釈しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン、引き続きエーテル)で分離精製した。エーテル溶出分を濃縮後し、残渣をジクロロメタン/n−ヘキサン溶媒から再結晶を行い、結晶をろ取した。得られた結晶を減圧乾燥し、化合物1−1を収率54%(430mg)で得た。
Synthesis of 9- (2,4,6-trimethylbenzoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-1):
To a flask equipped with a reflux condenser, 9-phenyl-9-phosphafluorene (650 mg, 2.5 mmol), tetrahydrofuran (7.5 mL) and lithium metal (45 mg, 15 mg) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours under an argon atmosphere. did. The reaction solution was transferred to a flask with a reflux condenser (argon atmosphere, at room temperature), tert-butyl chloride (0.27 mL, 2.5 mmol) was added, and the mixture was heated with stirring at 60 ° C. for 10 minutes, and cooled to room temperature. The mixture was added dropwise to a flask (argon atmosphere) containing a solution of 2,4,6-trimethylbenzoyl chloride (460 mg, 2.5 mmol) in tetrahydrofuran (7.5 mL) cooled to −78 ° C. Thereafter, the reaction mixture was stirred at −78 ° C. for 15 minutes, blown with oxygen gas (1 atm), stirred for 1 hour, and then returned to room temperature. After the reaction mixture was concentrated, the residue was diluted with 5 mL of dichloromethane and separated and purified by silica gel column chromatography (n-hexane, then ether). The ether eluate was concentrated, the residue was recrystallized from a dichloromethane / n-hexane solvent, and the crystals were collected by filtration. The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain Compound 1-1 in a yield of 54% (430 mg).

Figure 2005225793
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H NMR(CDCl):δ2.10(s,6H),2.24(s,3H),6.85(s,2H),7.23(dt,J=3.69,7.57Hz,2H),7.64(t, J=7.57Hz,2H),7.75(dd,J=7.57,8.01Hz,2H),7.88(dd,J=2.93,7.57Hz,2H)。
13C NMR(CDCl):δ21.65,25.56,121.19,130.02(d,J=10.94Hz),129.10,130.03(d,J=97.44Hz),131.09(d,J=9.32Hz),134.59,134.64(d, J=11.77Hz),137.15(d,J=43.00Hz),140.75,143.04(d,J=21.13Hz),216.22(d,J=73.06Hz)。
31P NMR(CDCl):δ+29.12。
IR(KBr,cm-1):n=2973.7,1608.3,1438.6,1176.4,717.4,570.8。
元素分析:C2219Pとしての計算値:C,76.29;H,5.33;O,9.24。実測値:C,76.12;H,5.64;O,9.09。
1 H NMR (CDCl 3 ): δ 2.10 (s, 6H), 2.24 (s, 3H), 6.85 (s, 2H), 7.23 (dt, J = 3.69, 7.57 Hz) , 2H), 7.64 (t, J = 7.57 Hz, 2H), 7.75 (dd, J = 7.57, 8.01 Hz, 2H), 7.88 (dd, J = 2.93, 7.57 Hz, 2H).
13 C NMR (CDCl 3 ): δ 21.65, 25.56, 121.19, 130.02 (d, J = 10.94 Hz), 129.10, 130.03 (d, J = 97.44 Hz), 131.09 (d, J = 9.32 Hz), 134.59, 134.64 (d, J = 11.77 Hz), 137.15 (d, J = 43.000 Hz), 140.75, 143.04 (D, J = 21.13 Hz), 216.22 (d, J = 73.06 Hz).
31 P NMR (CDCl 3 ): δ + 29.12.
IR (KBr, cm −1 ): n = 2973.7, 1608.3, 1438.6, 1176.4, 717.4, 570.8.
Elemental analysis: C 22 H 19 O 2 Calculated as P: C, 76.29; H, 5.33; O, 9.24. Found: C, 76.12; H, 5.64; O, 9.09.

9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)の合成:
2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリドに代えてp−トルオイルクロリドを用いる以外は、実施例1と同様に反応し、反応液を濃縮した。残渣をジクロロメタン5mLで希釈した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(エーテル/n−ヘキサン=5:1)で分離精製した。溶出液を濃縮した残渣をジクロロメタン/n−ヘキサン溶媒から再結晶を行い、結晶をろ取した。得られた結晶を減圧乾燥し、化合物1−2を収率52%(413mg)で得た。
Synthesis of 9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-2):
The reaction was concentrated in the same manner as in Example 1 except that p-toluoyl chloride was used in place of 2,4,6-trimethylbenzoyl chloride. The residue was diluted with 5 mL of dichloromethane, and then separated and purified by silica gel column chromatography (ether / n-hexane = 5: 1). The residue obtained by concentrating the eluate was recrystallized from a dichloromethane / n-hexane solvent, and the crystals were collected by filtration. The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain Compound 1-2 in a yield of 52% (413 mg).

Figure 2005225793
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H NMR(CDCl,ppm):δ2.49(s,3H)7.34-7.37(m,2H),7.36(d,J=7.74Hz,2H),7.48(dt,J=0.98,7.47Hz,2H),7.74(dd,J=4.85,7.47Hz,2H), 7.92(d,J=7.74Hz,2H),8.01(dd,J=2.11,8.18Hz,2H)。
13C NMR(CDCl,ppm):δ23.82,121.78,128.07(d,J=7.77Hz),128.96(d,J=8.98Hz),129.31, 129.82,130.46(d,J=28.56Hz),131.58(d,J=19.62 Hz),135.99,137.51(d,J=36.3Hz),144.48(d,J=79.78Hz),210.35(d.J=71.53Hz)。
31P NMR(CDCl,ppm):δ+17.11。
IR(KBr,cm-1):n=2929.3,1641.3,1598.7,1174.4,746.3。
FAB−MS m/z (相対強度):519[8%,(M+C12PO)+],319[43%,(M+H)+],119(100%,C12PO)。
1 H NMR (CDCl 3 , ppm): δ 2.49 (s, 3H) 7.34-7.37 (m, 2H), 7.36 (d, J = 7.74 Hz, 2H), 7.48 ( dt, J = 0.98, 7.47 Hz, 2H), 7.74 (dd, J = 4.85, 7.47 Hz, 2H), 7.92 (d, J = 7.74 Hz, 2H), 8 .01 (dd, J = 2.11, 8.18 Hz, 2H).
13 C NMR (CDCl 3 , ppm): δ 23.82, 121.78, 128.07 (d, J = 7.77 Hz), 128.96 (d, J = 8.98 Hz), 129.31, 129. 82, 130.46 (d, J = 28.56 Hz), 131.58 (d, J = 19.62 Hz), 135.99, 137.51 (d, J = 36.3 Hz), 144.48 ( d, J = 79.78 Hz), 210.35 (d.J = 71.53 Hz).
31 P NMR (CDCl 3 , ppm): δ + 17.11.
IR (KBr, cm -1 ): n = 2929.3, 1641.3, 1598.7, 1174.4, 746.3.
FAB-MS m / z (relative intensity): 519 [8%, (M + C 12 H 9 PO) + ], 319 [43%, (M + H) + ], 119 (100%, C 12 H 9 PO + ).

9−(p-アニソイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−3)の合成:
2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリドに代えてp−アニソイルクロリドを用いる以外は実施例1と同様にして、化合物1−3を7%(0.60g)で得た。
Synthesis of 9- (p-anisoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-3):
Compound 1-3 was obtained at 7% (0.60 g) in the same manner as in Example 1 except that p-anisoyl chloride was used in place of 2,4,6-trimethylbenzoyl chloride.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

H NMR(CDCl,ppm):δ3.82(s,3H),7.01(d,J=8.67Hz,2H),7.33(ddt,J=1.07,3.17,7.43Hz,2H),7.44(dt,J=1.19,7.43Hz,2H),7.72(dd,J=4.71,7.43Hz,2H),7.89(d,J=7.43Hz,2H),8.07-8.17(m,2H)。
13C NMR(CDCl,ppm):δ56.12,114.35,121.71,128.31(d,J=7.77Hz),129.55,131.51(d,J=9.74Hz),131.78(d,J=19.70Hz),133.32(d,J=47.93Hz),136.54(d,J=1.43Hz),144.26(d,J=2.34Hz),164.39,208.73(d,J=37.59Hz)。
31P NMR(CDCl,ppm):δ+15.86。
IR(KBr,cm-1):n=3073.9,2838.7,1596.8,1504.2,1186.0。
1 H NMR (CDCl 3 , ppm): δ 3.82 (s, 3H), 7.01 (d, J = 8.67 Hz, 2H), 7.33 (ddt, J = 1.07, 3.17, 7.43 Hz, 2H), 7.44 (dt, J = 1.19, 7.43 Hz, 2H), 7.72 (dd, J = 4.71, 7.43 Hz, 2H), 7.89 (d , J = 7.43 Hz, 2H), 8.07-8.17 (m, 2H).
13 C NMR (CDCl 3 , ppm): δ 56.12, 114.35, 121.71, 128.31 (d, J = 7.77 Hz), 129.55, 131.51 (d, J = 9.74 Hz) ), 131.78 (d, J = 19.70 Hz), 133.32 (d, J = 47.93 Hz), 136.54 (d, J = 1.43 Hz), 144.26 (d, J = 2) .34 Hz), 164.39, 208.73 (d, J = 37.59 Hz).
31 P NMR (CDCl 3 , ppm): δ + 15.86.
IR (KBr, cm −1 ): n = 3073.9, 2838.7, 1596.8, 1504.2, 1186.0.

9−(2,6-ジメトキシベンゾイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−4)の合成:
2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリドに代えて2,6−ジメトキシベンゾイルクロリドを用いる以外は実施例1と同様にして、化合物1−4を46%(4.1g)で得た。
Synthesis of 9- (2,6-dimethoxybenzoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-4):
Compound 1-4 was obtained at 46% (4.1 g) in the same manner as in Example 1 except that 2,6-dimethoxybenzoyl chloride was used in place of 2,4,6-trimethylbenzoyl chloride.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

H NMR(CDCl,ppm):δ3.83(s,6H),6.53(d,J=8.40Hz,2H),7.31(t,J=8.40Hz,1H),7.28-7.44(m,2H),7.59(dt,J=1.23,8.22Hz,2H),7.76−7.80(m,2H),7.85(d,J=8.22Hz,2H)。
13C NMR(CDCl,ppm):δ56.71,104.72,117.26(d,J=9.89Hz),129.67(d,J=11.25Hz),131.15(d,J=10.03Hz),131.20(d,J=98.80Hz),133.79,134.30(d,J=2.05Hz),143.36(d,J=20.30Hz),158.48,209.42(d,J=84.53Hz)。
31P NMR(CDCl,ppm):δ+25.92。
1 H NMR (CDCl 3 , ppm): δ 3.83 (s, 6H), 6.53 (d, J = 8.40 Hz, 2H), 7.31 (t, J = 8.40 Hz, 1H), 7 .28-7.44 (m, 2H), 7.59 (dt, J = 1.23, 8.22 Hz, 2H), 7.76-7.80 (m, 2H), 7.85 (d, J = 8.22 Hz, 2H).
13 C NMR (CDCl 3 , ppm): δ 56.71, 104.72, 117.26 (d, J = 9.89 Hz), 129.67 (d, J = 11.25 Hz), 131.15 (d, J = 10.03 Hz), 131.20 (d, J = 98.80 Hz), 133.79, 134.30 (d, J = 2.05 Hz), 143.36 (d, J = 20.30 Hz), 158.48, 209.42 (d, J = 84.53 Hz).
31 P NMR (CDCl 3 , ppm): δ + 25.92.

IR(KBr,cm-1):n=3066.2,2834.8,1687.9,1592.9,1207.2。 IR (KBr, cm −1 ): n = 3066.2, 2834.8, 1687.9, 1592.9, 1207.2.

9−(1−ナフトイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−5)の合成:
2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリドに代えて1−ナフトイルクロリドを用いる以外は実施例1と同様にして、化合物1−5を得た。
Synthesis of 9- (1-naphthoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-5):
Compound 1-5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1-naphthoyl chloride was used in place of 2,4,6-trimethylbenzoyl chloride.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

H NMR(CDCl,ppm):δ7.23(d,J=3.12Hz,1H),7.27(d,J=1.25Hz,1H),7.31(d,J=1.08Hz,1H),7.34(dt,J=3.03,11.95Hz,2H),7.40-7.48(m,2H),7.56(dd,J=4.57,7.38Hz,2H),7.68(t,J=7.45Hz,1H),7.85(d,J=8.22Hz,2H),7.89(d,J=7.82Hz,1H),8.02(dd,J=5.96,8.28Hz,1H),8.45−8.49(m,2H)。 1 H NMR (CDCl 3 , ppm): δ 7.23 (d, J = 3.12 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 1.25 Hz, 1H), 7.31 (d, J = 1. 08 Hz, 1H), 7.34 (dt, J = 3.03, 11.95 Hz, 2H), 7.40-7.48 (m, 2H), 7.56 (dd, J = 4.57, 7 .38 Hz, 2H), 7.68 (t, J = 7.45 Hz, 1H), 7.85 (d, J = 8.22 Hz, 2H), 7.89 (d, J = 7.82 Hz, 1H) 8.02 (dd, J = 5.96, 8.28 Hz, 1H), 8.45-8.49 (m, 2H).

IR(KBr,cm-1):n=1641.1,1216.0。 IR (KBr, cm −1 ): n = 1641.1, 1216.0.

9−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−1)の合成:
フラスコに9−(ヒドロキシ−2,4,6−トリメチルベンジル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン349mg(1.0mmol)、アセトン(5mL)、三塩化ルテニウム2.1mg(0.01mmol)を加え、室温下でt-ブチルヒドロペルオキシド(2.0mmol)のt−ブチルアルコール溶液(0.23mL)を滴下した。反応混合物を室温下で45分間撹拌し、混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン、引き続きエーテル)で分離精製した。エーテル溶出分を濃縮後し、残渣をジクロロメタン/n−ヘキサン溶媒から再結晶化を行い、結晶をろ取した。得られた結晶を減圧乾燥し、化合物1−1を得た。
Synthesis of 9- (2,4,6-trimethylbenzoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-1):
Into the flask was added 349 mg (1.0 mmol) of 9- (hydroxy-2,4,6-trimethylbenzyl) -9-oxo-9-phosphafluorene, acetone (5 mL), 2.1 mg (0.01 mmol) of ruthenium trichloride. In addition, a t-butyl alcohol solution (0.23 mL) of t-butyl hydroperoxide (2.0 mmol) was added dropwise at room temperature. The reaction mixture was stirred at room temperature for 45 minutes, and the mixture was separated and purified by silica gel column chromatography (n-hexane followed by ether). The ether eluate was concentrated, the residue was recrystallized from a dichloromethane / n-hexane solvent, and the crystals were collected by filtration. The obtained crystal was dried under reduced pressure to obtain Compound 1-1.

9−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)-9−ホスファフルオレン(化合物4−1)の合成:
還流冷却管付きのフラスコに9−フェニル−9−ホスファフルオレン(650mg、2.5mmol)、テトラヒドロフラン(7.5mL)およびリチウム金属(45mg、15mg)を加え、アルゴン雰囲気、室温下で3時間攪拌した。反応溶液を還流冷却管付きのフラスコ(アルゴン雰囲気、室温下)に移し、tert-ブチルクロリド(0.27mL、2.5mmol)を加え、60℃で10分間加熱攪拌し、室温まで冷却した。その混合物を、−78℃に冷却した2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリド(460mg、2.5mmol)のテトラヒドロフラン(7.5mL)溶液を含むフラスコ中(アルゴン雰囲気)に滴下した。反応液を濃縮しエーテル50mLを加えて攪拌し、不溶物を濾別し、濾液を乾固することにより高粘度の液体として、化合物4−1を得た。
Synthesis of 9- (2,4,6-trimethylbenzoyl) -9-phosphafluorene (Compound 4-1):
To a flask equipped with a reflux condenser, 9-phenyl-9-phosphafluorene (650 mg, 2.5 mmol), tetrahydrofuran (7.5 mL) and lithium metal (45 mg, 15 mg) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours under an argon atmosphere. did. The reaction solution was transferred to a flask with a reflux condenser (argon atmosphere, at room temperature), tert-butyl chloride (0.27 mL, 2.5 mmol) was added, and the mixture was heated with stirring at 60 ° C. for 10 minutes, and cooled to room temperature. The mixture was added dropwise to a flask (argon atmosphere) containing a solution of 2,4,6-trimethylbenzoyl chloride (460 mg, 2.5 mmol) in tetrahydrofuran (7.5 mL) cooled to −78 ° C. The reaction solution was concentrated, 50 mL of ether was added and stirred, insoluble matter was filtered off, and the filtrate was dried to obtain a compound 4-1 as a highly viscous liquid.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

H NMR(CDCl,ppm):δ1.78(s,6H), 2.26(s,3H),6.71(s,2H),7.27(ddt,J=1.05,3.13,7.48Hz,2H),7.41−7.47(m,4H),7.86(dd,J=1.05,7.48Hz,2H)。
IR(KBr,cm-1):n=2917.8,1654.6,846.6,750.2。
1 H NMR (CDCl 3 , ppm): δ 1.78 (s, 6H), 2.26 (s, 3H), 6.71 (s, 2H), 7.27 (ddt, J = 1.05, 3 .13, 7.48 Hz, 2H), 7.41-7.47 (m, 4H), 7.86 (dd, J = 1.05, 7.48 Hz, 2H).
IR (KBr, cm −1 ): n = 2917.8, 1654.6, 846.6, 750.2.

9−[ヒドロキシ(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル]−9−ホスファフルオレン(化合物6−1)の合成:
還流冷却管付きのフラスコに9−フェニル−9−ホスファフルオレン(6.50g、25mmol)、テトラヒドロフラン(75mL)およびリチウム金属(0.45g、0.15g−atom)を加え、アルゴン雰囲気、室温下で3時間攪拌した。反応溶液を還流冷却管付きのフラスコ(アルゴン雰囲気、室温下)に移し、t-ブチルクロリド(2.7mL、25mmol)を加え、60℃で10分間加熱攪拌し、室温まで冷却した。その混合物に2,4,6−トリメチルベンズアルデヒド(3.70g、25mmol)を滴下した。その後、その反応混合物を室温で15分間攪拌し、反応液をその量が約15mLになるまで室温で濃縮し、飽和塩化アンモニウム水溶液(25mL)、及びエーテル200mLを加えた。エーテル層を分離し、水洗、乾燥し、濃縮乾固することにより高粘度の液体として、化合物6−1を得た。
Synthesis of 9- [hydroxy (2,4,6-trimethylphenyl) methyl] -9-phosphafluorene (Compound 6-1):
9-Phenyl-9-phosphafluorene (6.50 g, 25 mmol), tetrahydrofuran (75 mL) and lithium metal (0.45 g, 0.15 g-atom) were added to a flask equipped with a reflux condenser, and an argon atmosphere at room temperature. For 3 hours. The reaction solution was transferred to a flask with a reflux condenser (argon atmosphere, at room temperature), t-butyl chloride (2.7 mL, 25 mmol) was added, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 10 minutes, and cooled to room temperature. 2,4,6-Trimethylbenzaldehyde (3.70 g, 25 mmol) was added dropwise to the mixture. The reaction mixture was then stirred at room temperature for 15 minutes, the reaction was concentrated at room temperature until the amount was about 15 mL, and saturated aqueous ammonium chloride (25 mL) and 200 mL of ether were added. The ether layer was separated, washed with water, dried, and concentrated to dryness to obtain Compound 6-1 as a highly viscous liquid.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

H NMR(CDCl,ppm):δ2.26(s,6H),2.31(s,3H), 5.65(s,1H),6.36(d,J=3.65Hz,1H),7.08(s,2H),7.39(dt,J=7.41,2H), 7.52(t,J=7.41,2H), 7.85(dd,J=5.89,7.41Hz,2H),7.99(d,J=7.41,2H)。
IR(KBr,cm-1):n=3399.9,1417.4,740.5。
1 H NMR (CDCl 3 , ppm): δ 2.26 (s, 6H), 2.31 (s, 3H), 5.65 (s, 1H), 6.36 (d, J = 3.65 Hz, 1H ), 7.08 (s, 2H), 7.39 (dt, J = 7.41, 2H), 7.52 (t, J = 7.41, 2H), 7.85 (dd, J = 5) .89, 7.41 Hz, 2H), 7.9 (d, J = 7.41, 2H).
IR (KBr, cm −1 ): n = 3399.9, 1417.4, 740.5.

9−[ヒドロキシ(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル]−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物7−1)の合成:
還流冷却管付きのフラスコに9−フェニル−9−ホスファフルオレン(6.50g、25mmol)、テトラヒドロフラン(75mL)およびリチウム金属(0.45g、0.15g)を加え、アルゴン雰囲気、室温下で3時間攪拌した。反応溶液を還流冷却管付きのフラスコ(アルゴン雰囲気、室温下)に移し、t-ブチルクロリド(2.7mL、25mmol)を加え、60℃で10分間加熱攪拌し、室温まで冷却した。その混合物に2,4,6−トリメチルベンズアルデヒド(3.70g、25mmol)を滴下した。その後、その反応混合物を室温で15分間攪拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液(25mL)を加えた。混合物を3重量%過酸化水素水溶液(300mL)中に注ぎ、得られた固体をろ過して集めた。固体をジクロロメタン/n−ヘキサン溶媒から再結晶を行い、結晶をろ取した。得られた結晶を減圧乾燥し、9−[ヒドロキシ(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル]−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物7−1)を収率83%(7.00g)で得た。
Synthesis of 9- [hydroxy (2,4,6-trimethylphenyl) methyl] -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 7-1):
9-Phenyl-9-phosphafluorene (6.50 g, 25 mmol), tetrahydrofuran (75 mL) and lithium metal (0.45 g, 0.15 g) were added to a flask equipped with a reflux condenser, and the mixture was added under argon atmosphere at room temperature. Stir for hours. The reaction solution was transferred to a flask with a reflux condenser (argon atmosphere, at room temperature), t-butyl chloride (2.7 mL, 25 mmol) was added, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 10 minutes, and cooled to room temperature. 2,4,6-Trimethylbenzaldehyde (3.70 g, 25 mmol) was added dropwise to the mixture. The reaction mixture was then stirred at room temperature for 15 minutes and saturated aqueous ammonium chloride (25 mL) was added. The mixture was poured into 3 wt% aqueous hydrogen peroxide (300 mL) and the resulting solid was collected by filtration. The solid was recrystallized from dichloromethane / n-hexane solvent, and the crystals were collected by filtration. The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain 9- [hydroxy (2,4,6-trimethylphenyl) methyl] -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 7-1) in a yield of 83% (7.00 g). ).

Figure 2005225793
Figure 2005225793

H NMR(CDCl):δ=1.60(br s,3H),2.32(s,3H),3.01(br s,3H),3.37−3.43(m,1H),5.22−5.26(m,1H),6.63(br s,1H),6.88(t, J=7.83Hz,1H),6.89(br s,1H),7.12−7.14(m,1H),7.45−7.46(m,1H),7.51(t, J=7.83Hz,1H),7.61(t, J=7.56Hz,1H),7.78(m,2H),7.98(t, J=7.56Hz,1H)。
31P NMR(CDCl):δ=+40.06。
IR(KBr,cm-1):n=3270.6,1191.7。
1 H NMR (CDCl 3 ): δ = 1.60 (br s, 3H), 2.32 (s, 3H), 3.01 (br s, 3H), 3.37-3.43 (m, 1H ), 5.22-5.26 (m, 1H), 6.63 (brs, 1H), 6.88 (t, J = 7.83 Hz, 1H), 6.89 (brs, 1H), 7.12-7.14 (m, 1H), 7.45-7.46 (m, 1H), 7.51 (t, J = 7.83 Hz, 1H), 7.61 (t, J = 7 .56 Hz, 1H), 7.78 (m, 2H), 7.98 (t, J = 7.56 Hz, 1H).
31 P NMR (CDCl 3 ): δ = + 40.06.
IR (KBr, cm −1 ): n = 3270.6, 1191.7.

9−[ヒドロキシ(p−トリル)メチル]−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物7−2)の合成:
還流冷却管付きのフラスコに9−フェニル−9−ホスファフルオレン(650mg、2.5mmol)、テトラヒドロフラン(75mL)およびリチウム金属(45mg、15mg)を加え、アルゴン雰囲気、室温下で3時間攪拌した。反応溶液を還流冷却管付きのフラスコ(アルゴン雰囲気、室温下)に移し、tert-ブチルクロリド(0.27mL、2.5mmol)を加え、60℃で10分間加熱攪拌し、室温まで冷却した。その混合物にp−トルアルデヒド(300mg、2.5mmol)を滴下した。その後、その反応混合物を室温で15分間攪拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液(2.5mL)を加えた。混合物を3重量%過酸化水素水溶液(30mL)中に注ぎ、得られた固体をろ過して集めた。固体をジクロロメタン/n-ヘキサン溶媒から再結晶を行い、結晶をろ取した。得られた結晶を減圧乾燥し、9−[ヒドロキシ(p−トリル)メチル]−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物7−2)を収率84%(672mg)で得た。
Synthesis of 9- [hydroxy (p-tolyl) methyl] -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 7-2):
9-Phenyl-9-phosphafluorene (650 mg, 2.5 mmol), tetrahydrofuran (75 mL) and lithium metal (45 mg, 15 mg) were added to a flask equipped with a reflux condenser, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours under an argon atmosphere. The reaction solution was transferred to a flask with a reflux condenser (argon atmosphere, at room temperature), tert-butyl chloride (0.27 mL, 2.5 mmol) was added, and the mixture was heated with stirring at 60 ° C. for 10 minutes, and cooled to room temperature. P-Tolualdehyde (300 mg, 2.5 mmol) was added dropwise to the mixture. The reaction mixture was then stirred at room temperature for 15 minutes and saturated aqueous ammonium chloride (2.5 mL) was added. The mixture was poured into 3 wt% aqueous hydrogen peroxide (30 mL) and the resulting solid was collected by filtration. The solid was recrystallized from a dichloromethane / n-hexane solvent, and the crystals were collected by filtration. The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain 9- [hydroxy (p-tolyl) methyl] -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 7-2) in a yield of 84% (672 mg).

Figure 2005225793
Figure 2005225793

H NMR(CDCl):δ=2.28(s,3H),4.28(br s,1H),5.23(d,J=3.49Hz,1H),6.97(d,J=8.15Hz,2H),7.03(dd, J=1.69,8.15Hz,2H),7.28−7.32(m,1H),7.33−7.41(m,1H),7.53−7.57(m,3H),7.58−7.70(m,2H),7.78(t,J=8.01Hz,1H)。
13C NMR(CDCl):δ=21.59,74.31(d,J=78.85Hz)121.38(d,J=9.82Hz),127.25(d,J=4.78Hz),128.98(d,J=99.84Hz),129.02(d,J=2.16Hz),129.19(d,J=22.60Hz),131.12(d,J=14.48Hz),133.93,138.20,142.24(d,J=12.10Hz),142.52(d,J=12.31Hz)。
31P NMR(CDCl):δ=+41.76。
IR(KBr,cm-1):n=2973.7,1608.3,1438.6,1176.4,717.4,570.8。
1 H NMR (CDCl 3 ): δ = 2.28 (s, 3H), 4.28 (br s, 1H), 5.23 (d, J = 3.49 Hz, 1H), 6.97 (d, J = 8.15 Hz, 2H), 7.03 (dd, J = 1.69, 8.15 Hz, 2H), 7.28-7.32 (m, 1H), 7.33-7.41 (m , 1H), 7.53-7.57 (m, 3H), 7.58-7.70 (m, 2H), 7.78 (t, J = 8.01 Hz, 1H).
13 C NMR (CDCl 3 ): δ = 21.59, 74.31 (d, J = 78.85 Hz) 121.38 (d, J = 9.82 Hz), 127.25 (d, J = 4.78 Hz) ), 128.98 (d, J = 99.84 Hz), 129.02 (d, J = 2.16 Hz), 129.19 (d, J = 22.60 Hz), 131.12 (d, J = 14) 48 Hz), 133.93, 138.20, 142.24 (d, J = 12.1 Hz), 142.52 (d, J = 12.31 Hz).
31 P NMR (CDCl 3 ): δ = + 41.76.
IR (KBr, cm −1 ): n = 2973.7, 1608.3, 1438.6, 1176.4, 717.4, 570.8.

元素分析:C2219Pとしての計算値:C,74.99;H,5.35;O, 10.04。実測値:C,75.23;H,5.46;O,9.80。 Elemental analysis: C 22 H 19 O 2 Calculated as P: C, 74.99; H, 5.35; O, 10.04. Found: C, 75.23; H, 5.46; O, 9.80.

紫外光硬化によるフィルムの調製例
エベクリル 600 (Ebecryl 600、ビスフェノールAタイプ基本エポキシアクリレート、ダイセルUCB製) 60部、TMPTA (トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルUCB製) 40部を混合して光重合組成物を製造した。この組成物に9−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−1)1部を塩化メチレン50部に溶解した溶液を加え、攪拌した。ガラス板上にその組成物を1mmバーコーターを用いて、塗布し、遮光下50℃で1時間減圧乾燥器中で乾燥した。次いで、その塗布したガラス板を紫外硬化用光源装置(アイグラフィクス製、メタルハライドおよび高圧水銀灯、400mJ、80W/cm、ベルト速度5m/分)を1回通過させて光暴露した。得られた塗膜について硬化度の指触確認および黄色度測定(YI)を行った。その結果を表1に示す。
Example of Film Preparation by Ultraviolet Light Curing Evecryl 600 (Ebecryl 600, bisphenol A type basic epoxy acrylate, manufactured by Daicel UCB) 60 parts, TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel UCB) 40 parts are mixed and photopolymerized composition Manufactured. A solution prepared by dissolving 1 part of 9- (2,4,6-trimethylbenzoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-1) in 50 parts of methylene chloride was added to this composition and stirred. The composition was applied onto a glass plate using a 1 mm bar coater and dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 1 hour under light shielding. Subsequently, the coated glass plate was exposed to light by passing it once through an ultraviolet curing light source device (manufactured by I-Graphics, metal halide and high-pressure mercury lamp, 400 mJ, 80 W / cm 2 , belt speed 5 m / min). The resulting coating film was checked for touch of the degree of cure and yellowness measurement (YI). The results are shown in Table 1.

紫外光硬化によるフィルムの調製例
エベクリル 600 (Ebecryl 600、ビスフェノールAタイプ基本エポキシアクリレート、ダイセルUCB製) 60部、TMPTA (トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルUCB製) 40部を混合して光重合組成物を製造した。この組成物に9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)1部を塩化メチレン50部に溶解した溶液を加え、攪拌した。ガラス板上にその組成物を1mmバーコーターを用いて、塗布し、遮光下50℃で1時間減圧乾燥器中で乾燥した。次いで、その塗布したガラス板を紫外硬化用光源装置(アイグラフィクス製、メタルハライドおよび高圧水銀灯、400mJ、80W/cm、ベルト速度5m/分)を1回通過させて光暴露した。得られた塗膜について硬化度の指触確認および黄色度(YI)測定を行った。その結果を表1に示す。
Example of Film Preparation by Ultraviolet Light Curing Evecryl 600 (Ebecryl 600, bisphenol A type basic epoxy acrylate, manufactured by Daicel UCB) 60 parts, TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel UCB) 40 parts are mixed and photopolymerized composition Manufactured. A solution prepared by dissolving 1 part of 9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-2) in 50 parts of methylene chloride was added to this composition and stirred. The composition was applied onto a glass plate using a 1 mm bar coater and dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 1 hour under light shielding. Subsequently, the coated glass plate was exposed to light by passing it once through an ultraviolet curing light source device (manufactured by I-Graphics, metal halide and high-pressure mercury lamp, 400 mJ, 80 W / cm 2 , belt speed 5 m / min). The obtained coating film was checked for finger touch and measured for yellowness (YI). The results are shown in Table 1.

紫外光硬化によるフィルムの調製例
エベクリル 600 (Ebecryl 600、ビスフェノールAタイプ基本エポキシアクリレート、ダイセルUCB製) 60部、TMPTA (トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルUCB製) 40部を混合して、光重合組成物を製造した。この組成物に9−(p-アニソイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−3)1部を塩化メチレン50部に溶解した溶液を加え、攪拌した。ガラス板上にその組成物を1mmバーコーターを用いて、塗布し、遮光下50℃で1時間減圧乾燥器中で乾燥した。次いで、その塗布したガラス板を紫外硬化用光源装置(アイグラフィクス製、メタルハライドおよび高圧水銀灯、400mJ、80W/cm、ベルト速度5m/分)を1回通過させて光暴露した。得られた塗膜について硬化度の指触確認および黄色度(YI)測定を行った。その結果を表1に示す。
Example of Film Preparation by Ultraviolet Light Curing Evecryl 600 (Ebecryl 600, bisphenol A type basic epoxy acrylate, manufactured by Daicel UCB) 60 parts, TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel UCB) 40 parts are mixed to form a photopolymerization composition. The thing was manufactured. To this composition was added a solution prepared by dissolving 1 part of 9- (p-anisoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-3) in 50 parts of methylene chloride and stirred. The composition was applied onto a glass plate using a 1 mm bar coater and dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 1 hour under light shielding. Subsequently, the coated glass plate was exposed to light by passing it once through an ultraviolet curing light source device (manufactured by I-Graphics, metal halide and high-pressure mercury lamp, 400 mJ, 80 W / cm 2 , belt speed 5 m / min). The obtained coating film was checked for finger touch and measured for yellowness (YI). The results are shown in Table 1.

紫外光硬化によるフィルムの調製例
エベクリル 600 (Ebecryl 600、ビスフェノールAタイプ基本エポキシアクリレート、ダイセルUCB製) 60部、TMPTA (トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルUCB製) 40部を混合して、光重合組成物を製造した。この組成物に9−(2、6‐ジメトキシベンゾイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−4)1部を塩化メチレン50部に溶解した溶液を加え、攪拌した。ガラス板上にその組成物を1mmバーコーターを用いて、塗布し、遮光下50℃で1時間減圧乾燥器中で乾燥した。次いで、その塗布したガラス板を紫外硬化用光源装置(アイグラフィクス製、メタルハライドおよび高圧水銀灯、400mJ、80W/cm、ベルト速度5m/分)を1回通過させて光暴露した。得られた塗膜について硬化度の指触確認および黄色度(YI)測定を行った。その結果を表1に示す。
比較例1:紫外光硬化によるフィルムの調製例
エベクリル 600 (Ebecryl 600、ビスフェノールAタイプ基本エポキシアクリレート、ダイセルUCB製) 60部、TMPTA (トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルUCB製) 40部を混合して光重合組成物を製造した。この組成物にルシリンTPO(MAPO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、BASF製)1部を塩化メチレン50部に溶解した溶液を加え、攪拌した。ガラス板上にその組成物を1mmバーコーターを用いて、塗布し、遮光下50℃で1時間減圧乾燥器中で乾燥した。次いで、その塗布したガラス板を紫外硬化用光源装置(アイグラフィクス製、メタルハライドおよび高圧水銀灯、400mJ、80W/cm、ベルト速度5m/分)を1回通過させて光暴露した。得られた塗膜について硬化度の指触確認および黄色度測定を行った。その結果を表1に示す。
比較例2:紫外光硬化によるフィルムの調製例
エベクリル 600 (Ebecryl 600、ビスフェノールAタイプ基本エポキシアクリレート、ダイセルUCB製) 60部、TMPTA (トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルUCB製) 40部を混合して光重合組成物を製造した。この組成物にイルガキュア819(BAPO:ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、チバ スペシャル ケミカルズ製)1部を塩化メチレン50部に溶解した溶液を加え、攪拌した。ガラス板上にその組成物を1mmバーコーターを用いて、塗布し、遮光下50℃で1時間減圧乾燥器中で乾燥した。次いで、その塗布したガラス板を紫外硬化用光源装置(アイグラフィクス製、メタルハライドおよび高圧水銀灯、400mJ、80W/cm、ベルト速度5m/分)を1回通過させて光暴露した。得られた塗膜について硬化度の指触確認および黄色度測定を行った。その結果を表1に示す。
Example of Film Preparation by Ultraviolet Light Curing Evecryl 600 (Ebecryl 600, bisphenol A type basic epoxy acrylate, manufactured by Daicel UCB) 60 parts, TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel UCB) 40 parts are mixed to form a photopolymerization composition. The thing was manufactured. To this composition was added a solution prepared by dissolving 1 part of 9- (2,6-dimethoxybenzoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-4) in 50 parts of methylene chloride and stirred. The composition was applied onto a glass plate using a 1 mm bar coater and dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 1 hour under light shielding. The coated glass plate was then exposed to light by passing it once through an ultraviolet curing light source device (manufactured by I-Graphics, metal halide and high-pressure mercury lamp, 400 mJ, 80 W / cm 2 , belt speed 5 m / min). The obtained coating film was checked for finger touch and measured for yellowness (YI). The results are shown in Table 1.
Comparative Example 1: Preparation Example of Film by Ultraviolet Light Curing Evecryl 600 (Ebecryl 600, bisphenol A type basic epoxy acrylate, manufactured by Daicel UCB) 60 parts, TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel UCB) 40 parts were mixed. A photopolymerization composition was produced. A solution prepared by dissolving 1 part of lucillin TPO (MAPO: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, manufactured by BASF) in 50 parts of methylene chloride was added to this composition and stirred. The composition was applied onto a glass plate using a 1 mm bar coater, and dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 1 hour under light shielding. Subsequently, the coated glass plate was exposed to light by passing it once through an ultraviolet curing light source device (manufactured by I-Graphics, metal halide and high-pressure mercury lamp, 400 mJ, 80 W / cm 2 , belt speed 5 m / min). The obtained coating film was checked for finger touch of the degree of cure and measured for yellowness. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 2: Preparation Example of Film by UV Light Curing Evecryl 600 (Ebecryl 600, bisphenol A type basic epoxy acrylate, manufactured by Daicel UCB) 60 parts, TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel UCB) 40 parts were mixed. A photopolymerization composition was produced. A solution prepared by dissolving 1 part of Irgacure 819 (BAPO: bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, manufactured by Ciba Special Chemicals) in 50 parts of methylene chloride was added to this composition and stirred. The composition was applied onto a glass plate using a 1 mm bar coater, and dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 1 hour under light shielding. Subsequently, the coated glass plate was exposed to light by passing it once through an ultraviolet curing light source device (manufactured by I-Graphics, metal halide and high-pressure mercury lamp, 400 mJ, 80 W / cm 2 , belt speed 5 m / min). The obtained coating film was checked for finger touch of the degree of cure and measured for yellowness. The results are shown in Table 1.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

硬化度の指触確認は完全硬化を○、半硬化を△、未硬化を×で表す。
黄色度測定は色差計(SZ-シグマ80、日本電色工業)を用いて測定し、硬化物の平均膜厚0.31±0.02mm(透過行路内の任意の5点の平均膜厚)のサンプルを用いて、そのフィルムの黄色度(YI)を3回測定し、その平均値を記録した。
表中、樹脂組成、開始剤の添加量は重量部を表す。以下の表においても同様である。
Confirmation of the touch of the degree of cure is represented by ○ for complete cure, Δ for semi-cured, and × for uncured.
Yellowness is measured using a color difference meter (SZ-Sigma 80, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), and a sample with an average film thickness of 0.31 ± 0.02 mm (average film thickness at any 5 points in the transmission path) is obtained. Using, the yellowness (YI) of the film was measured three times and the average value was recorded.
In the table, the resin composition and the amount of initiator added represent parts by weight. The same applies to the following tables.

可視光硬化による硬化物調整例1
エベクリル 600 (Ebecryl 600、ビスフェノールAタイプ基本エポキシアクリレート、ダイセルUCB製) 60部、TMPTA (トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルUCB製) 40部を混合して光重合組成物を製造した。この組成物に9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)2部を塩化メチレン50部に溶解した溶液を加え、攪拌した。ガラス板上にその組成物を1mmバーコーターを用いて、塗布し、遮光下50℃で1時間減圧乾燥器中で乾燥した。次いで、その塗布したガラス板をアルミ箔で覆い、歯科用可視光照射器(エリパーフリーライト、3Mエスペ製、400mW/ cm2、440〜490nm)を高さ3mmに設置し、8分間(40秒×12回)光照射した。得られた塗膜について硬化度の指触確認を行った。その結果を表2に示す。
Cured product adjustment example 1 by visible light curing
A photopolymerization composition was prepared by mixing 60 parts of Evecril 600 (Ebecryl 600, bisphenol A type basic epoxy acrylate, manufactured by Daicel UCB) and 40 parts of TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel UCB). To this composition was added a solution prepared by dissolving 2 parts of 9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-2) in 50 parts of methylene chloride and stirred. The composition was applied onto a glass plate using a 1 mm bar coater and dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 1 hour under light shielding. Next, the coated glass plate is covered with aluminum foil, and a dental visible light irradiator (Eliper Free Light, 3M Espe, 400 mW / cm 2 , 440 to 490 nm) is placed at a height of 3 mm for 8 minutes (40 (Second × 12 times). The resulting coating film was checked for finger touch of the degree of cure. The results are shown in Table 2.

可視光硬化による硬化物調整例2
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)2部の代りに9−(p-アニソイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−3)2部を使用する以外は実施例15と同様に行い、フィルムを得た。得られたフィルムについて硬化度の指触確認を行った。その結果を表2に示す。
Cured product adjustment example 2 by visible light curing
9- (p-Toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-2) Instead of 2 parts, 9- (p-anisoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-3) ) A film was obtained in the same manner as in Example 15 except that 2 parts were used. The resulting film was checked for finger touch of the degree of cure. The results are shown in Table 2.

可視光硬化による硬化物調整例3
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)2部の代りに9−(2、6‐ジメトキシベンゾイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−4)2部を使用した以外は実施例15と同様に行い、フィルムを得た。得られたフィルムについて硬化度の指触確認を行った。その結果を表2に示す。
比較例3:可視光硬化による硬化物調整例4
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)2部の代りに2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(MAPO:ルシリンTPO、BASF製)2部を使用した以外は実施例15と同様に行った。得られたフィルムの硬化度の指触確認を行った。その結果を表2に示す。
比較例4:可視光硬化による硬化物調整例5
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)2部の代りにビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(BAPO:イルガキュア819、チバ スペシャル ケミカルズ製)2部を使用する以外は実施例15と同様に行った。得られたフィルムについて硬化度の指触確認を行った。その結果を表2に示す。
Cured product adjustment example 3 by visible light curing
9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-2) instead of 2 parts 9- (2,6-dimethoxybenzoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-4) A film was obtained in the same manner as in Example 15 except that 2 parts were used. The resulting film was checked for finger touch of the degree of cure. The results are shown in Table 2.
Comparative example 3: Cured material adjustment example 4 by visible light curing
9 parts of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (MAPO: Lucillin TPO, manufactured by BASF) instead of 2 parts of 9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-2) The same procedure as in Example 15 was carried out except that was used. Touch confirmation of the degree of cure of the obtained film was performed. The results are shown in Table 2.
Comparative example 4: Cured material adjustment example 5 by visible light curing
9- (p-Toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-2) Instead of 2 parts, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (BAPO: Irgacure 819, Ciba Special) The same procedure as in Example 15 was performed except that 2 parts of Chemicals) were used. The resulting film was checked for finger touch of the degree of cure. The results are shown in Table 2.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

硬化度の指触確認は完全硬化を○、半硬化を△、未硬化を×で表す。   Confirmation of the touch of the degree of cure is represented by ○ for complete cure, Δ for semi-cured, and × for uncured.

太陽光硬化によるフィルムの調製例1
エベクリル 600 (Ebecryl 600、ビスフェノールAタイプ基本エポキシアクリレート、ダイセルUCB製) 60部、TMPTA (トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルUCB製) 40部を混合して光重合組成物を製造した。この組成物に9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−3)2部を塩化メチレン50部に溶解した溶液を加え、攪拌した。ガラス板上にその組成物を1mmバーコーターを用いて、塗布し、遮光下50℃で1時間減圧乾燥器中で乾燥した。次いで、その塗布したガラス板を屋外の太陽光下(晴天、気温10℃、10時〜15時)で5時間放置した。得られたフィルムについて硬化度の指触確認および黄色度測定(YI)を行った。その結果を表3に示す。
Example 1 of film preparation by solar curing
A photopolymerization composition was prepared by mixing 60 parts of Evecril 600 (Ebecryl 600, bisphenol A type basic epoxy acrylate, manufactured by Daicel UCB) and 40 parts of TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel UCB). To this composition was added a solution prepared by dissolving 2 parts of 9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-3) in 50 parts of methylene chloride and stirred. The composition was applied onto a glass plate using a 1 mm bar coater and dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 1 hour under light shielding. Next, the coated glass plate was left for 5 hours under outdoor sunlight (sunny weather, temperature 10 ° C., 10:00 to 15:00). The resulting film was checked for finger touch of the degree of cure and measured for yellowness (YI). The results are shown in Table 3.

太陽光硬化によるフィルムの調製例2
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)2部の代りに9−(p-アニソイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−3)2部を使用した以外は実施例18と同様に行い、フィルムを得た。得られたフィルムについて硬化度の指触確認および黄色度測定(YI)を行った。その結果を表3に示す。
Example 2 of film preparation by solar curing
9- (p-Toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-2) Instead of 2 parts, 9- (p-anisoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-3) ) A film was obtained in the same manner as in Example 18 except that 2 parts were used. The resulting film was checked for finger touch of the degree of cure and measured for yellowness (YI). The results are shown in Table 3.

太陽光硬化によるフィルムの調製例3
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)2部の代りに9−(2、6‐ジメトキシベンゾイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−4)2部を使用した以外は実施例18と同様に行い、フィルムを得た。得られたフィルムについて硬化度の指触確認および黄色度測定(YI)を行った。その結果を表3に示す。
比較例5:太陽光硬化によるフィルムの調製例4
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)2部の代りに2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(MAPO:ルシリンTPO、BASF製)2部を使用した以外は実施例18と同様に行った。得られたフィルムの硬化度の指触確認を行った。その結果を表3に示す。
比較例6:太陽光硬化によるフィルムの調製例5
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)2部の代りにビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(BAPO:イルガキュア819、チバ スペシャル ケミカルズ製)2部を使用した以外は実施例18と同様に行った。得られたフィルムについて硬化度の指触確認および黄色度測定(YI)を行った。その結果を表3に示す。
Preparation Example 3 of Film by Solar Curing
9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-2) instead of 2 parts 9- (2,6-dimethoxybenzoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-4) A film was obtained in the same manner as in Example 18 except that 2 parts were used. The resulting film was checked for finger touch of the degree of cure and measured for yellowness (YI). The results are shown in Table 3.
Comparative Example 5: Film preparation example 4 by solar curing
9 parts of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (MAPO: Lucillin TPO, manufactured by BASF) instead of 2 parts of 9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-2) The same procedure as in Example 18 was carried out except that was used. Touch confirmation of the degree of cure of the obtained film was performed. The results are shown in Table 3.
Comparative Example 6: Film Preparation Example 5 by Solar Curing
9- (p-Toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-2) Instead of 2 parts, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (BAPO: Irgacure 819, Ciba Special) The same procedure as in Example 18 was carried out except that 2 parts of Chemicals) were used. The resulting film was checked for finger touch of the degree of cure and measured for yellowness (YI). The results are shown in Table 3.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

硬化度の指触確認は完全硬化を○、半硬化を△、未硬化を×で表す。
黄色度測定は色差計(SZ-シグマ80、日本電色工業)を用いて測定し、硬化物の平均膜厚0.31±0.02mm(透過行路内の任意の5点の平均膜厚)のサンプルを用いて、そのフィルムの黄色度(YI)を3回測定し、その平均値を記録した。
Confirmation of the touch of the degree of cure is represented by ○ for complete cure, Δ for semi-cured, and × for uncured.
Yellowness is measured using a color difference meter (SZ-Sigma 80, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), and a sample with an average film thickness of 0.31 ± 0.02 mm (average film thickness at any 5 points in the transmission path) is obtained. Using, the yellowness (YI) of the film was measured three times and the average value was recorded.

紫外光硬化による厚膜硬化物の調製例1
エベクリル 600 (Ebecryl 600、ビスフェノールAタイプ基本エポキシアクリレート、ダイセルUCB製) 60部 TMPTA (トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルUCB製) 40部から光重合組成物を製造した。この組成物に9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)0.5部を塩化メチレン50部に溶解した溶液を加え、攪拌した。底から液面の高さを2.7cmになるように、アルミカップにその混合物を注ぎ、遮光下50℃で1時間減圧乾燥器中で乾燥した。次いで、そのカップを紫外硬化用光源装置(アイグラフィクス製、メタルハライド及び高圧水銀灯、400mJ、80W/cm2、ベルト速度5m/分)を1回通過させて光暴露して、厚膜硬化物を得た。カップの中を開いて硬化度の目視確認し、硬化物の厚さを測定した。その結果を表4に示す。
Preparation example 1 of thick film cured product by UV light curing
Evecryl 600 (Ebecryl 600, bisphenol A type basic epoxy acrylate, manufactured by Daicel UCB) 60 parts TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel UCB) 40 parts A photopolymerization composition was produced. To this composition was added a solution prepared by dissolving 0.5 part of 9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (Compound 1-2) in 50 parts of methylene chloride and stirred. The mixture was poured into an aluminum cup so that the liquid level was 2.7 cm from the bottom, and dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 1 hour under light shielding. Next, the cup was exposed to light by passing it once through an ultraviolet curing light source device (manufactured by I-Graphics, metal halide and high pressure mercury lamp, 400 mJ, 80 W / cm 2, belt speed 5 m / min) to obtain a thick film cured product. . The cup was opened, the degree of cure was visually confirmed, and the thickness of the cured product was measured. The results are shown in Table 4.

紫外光硬化による厚膜硬化物の調製例2
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)0.5部の代りに9−(p-アニソイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−3)0.5部を使用する以外は実施例21と同様に行い、厚膜硬化物を得た。硬化度の確認し、硬化物の厚さを測定した。その結果を表4に示す。
Preparation example 2 of thick film cured product by ultraviolet light curing
9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-2) instead of 0.5 parts 9- (p-anisoyyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1) -3) A thick film cured product was obtained in the same manner as in Example 21 except that 0.5 part was used. The degree of cure was confirmed and the thickness of the cured product was measured. The results are shown in Table 4.

紫外光硬化による厚膜硬化物の調製例3
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)0.5部の代りに9−(2、6‐ジメトキシベンゾイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−4)0.5部を使用する以外は実施例21と同様に行い、厚膜硬化物を得た。硬化度の確認し、硬化物の厚さを測定した。その結果を表4に示す。
比較例7:紫外光硬化による厚膜硬化物の調製例4
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)0.5部の代りに2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(MAPO:ルシリンTPO、BASF製)0.5部を使用した以外は実施例21と同様に行い、厚膜硬化物を得た。硬化度の確認し、硬化物の厚さを測定した。その結果を表4に示す。
比較例8:紫外光硬化による厚膜硬化物の調製例5
9−(p-トルオイル)−9−オキソ-9−ホスファフルオレン(化合物1−2)0.5部の代りにビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(BAPO:イルガキュア819、チバ スペシャル ケミカルズ製)0.5部を使用した以外は実施例21と同様に行い、厚膜硬化物を得た。硬化度の確認し、硬化物の厚さを測定した。その結果を表4に示す。
Preparation example 3 of thick film cured product by ultraviolet light curing
9- (2,6-Dimethoxybenzoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene instead of 0.5 part of 9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-2) A thick film cured product was obtained in the same manner as in Example 21 except that 0.5 part of (Compound 1-4) was used. The degree of cure was confirmed and the thickness of the cured product was measured. The results are shown in Table 4.
Comparative example 7: Preparation example 4 of thick film cured product by ultraviolet light curing
9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-2) instead of 0.5 part 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (MAPO: Lucillin TPO, manufactured by BASF) A thick film cured product was obtained in the same manner as in Example 21 except that 0.5 part was used. The degree of cure was confirmed and the thickness of the cured product was measured. The results are shown in Table 4.
Comparative example 8: Preparation example 5 of thick film cured product by ultraviolet light curing
Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (BAPO: Irgacure 819) instead of 0.5 part of 9- (p-toluoyl) -9-oxo-9-phosphafluorene (compound 1-2) A thick film cured product was obtained in the same manner as in Example 21 except that 0.5 part of Ciba Special Chemicals was used. The degree of cure was confirmed and the thickness of the cured product was measured. The results are shown in Table 4.

Figure 2005225793
Figure 2005225793

硬化度の指触確認は完全硬化を○、半硬化を△、未硬化を×で表す。
膜厚測定は未硬化の樹脂をきれいにふき取り、表面からの硬化物の厚さをノギスを用いて、5点測定し、その平均値を記録した。
Confirmation of the touch of the degree of cure is represented by ○ for complete cure, Δ for semi-cured, and × for uncured.
For film thickness measurement, the uncured resin was wiped clean, the thickness of the cured product from the surface was measured at 5 points using calipers, and the average value was recorded.

本発明により、可視光域で使用可能な光重合開始剤として有用な新規なホスフィンオキシド化合物が提供される。

The present invention provides a novel phosphine oxide compound useful as a photopolymerization initiator that can be used in the visible light region.

Claims (25)

一般式(1)
Figure 2005225793
(式中、R1は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のアラルキルまたは置換もしくは非置換のアラルケニルを表し、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルキルオキシ、シクロアルキルオキシ、アルケニルオキシ、シクロアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルキルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のアラルキルまたは置換もしくは非置換のアラルケニルを表すが、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9の内の隣接する2つの基はそれぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になって炭化水素環を形成してもよく、Xは単結合、酸素原子、硫黄原子、置換もしくは非置換のビニレン、置換もしくは非置換の−NH、置換もしくは非置換のリン原子または置換もしくは非置換のケイ素原子を表す)で表されるホスフィンオキシド化合物。
General formula (1)
Figure 2005225793
(Wherein R 1 represents alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted heteroaryl, substituted or unsubstituted aralkyl, or substituted or unsubstituted aralkenyl. , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, Alkyloxy, cycloalkyloxy, alkenyloxy, cycloalkenyloxy, alkynyloxy, aryloxy, heteroaryloxy, aralkyloxy, substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted heteroaryl, substituted or unsubstituted aralkyl or substituted Or an unsubstituted ara It represents a Kenyir, together with R 2, R 3, R 4 , R 5, R 6, R 7, adjacent two groups of two carbon atoms, each of which adjacent of R 8 and R 9 May form a hydrocarbon ring, X is a single bond, oxygen atom, sulfur atom, substituted or unsubstituted vinylene, substituted or unsubstituted —NH, substituted or unsubstituted phosphorus atom or substituted or unsubstituted silicon A phosphine oxide compound represented by:
R1が置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールであり、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9が、それぞれ同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル、アルケニル、アルキニル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールであり、Xが単結合である請求項1記載のホスフィンオキシド化合物。 R 1 is substituted or unsubstituted aryl or substituted or unsubstituted heteroaryl, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are the same or different, respectively. The phosphine oxide compound according to claim 1, wherein X is a single bond, hydrogen atom, halogen atom, alkyl, alkenyl, alkynyl, substituted or unsubstituted aryl, or substituted or unsubstituted heteroaryl. R1が置換もしくは非置換のアリールであり、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9が、それぞれ同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子またはアルキルであり、Xが単結合である請求項1記載のホスフィンオキシド化合物。 R 1 is substituted or unsubstituted aryl, and R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl The phosphine oxide compound according to claim 1, wherein X is a single bond. 一般式(2)
Figure 2005225793
(式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義であり、Mはアルカリ金属を表す)で表されるホスフィド化合物と、一般式(3)
Figure 2005225793
(式中、R1は、前記と同義であり、Zはハロゲン原子またはアシルオキシを表す)で表されるカルボン酸ハライドまたはカルボン酸無水物とを反応させることによって、一般式(4)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィン化合物を得、次いで得られたホスフィン化合物を酸化することを特徴とする、一般式(1)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィンオキシド化合物の製造方法。
General formula (2)
Figure 2005225793
Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, and M represents an alkali metal. And general formula (3)
Figure 2005225793
(Wherein R 1 has the same meaning as described above, and Z represents a halogen atom or acyloxy), and is reacted with a carboxylic acid halide or carboxylic anhydride represented by the general formula (4)
Figure 2005225793
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), The obtained phosphine compound is oxidized, and is represented by the general formula (1)
Figure 2005225793
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), .
酸化が、酸素を含むガスで処理することによる酸化である請求項4記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。   The method for producing a phosphine oxide compound according to claim 4, wherein the oxidation is an oxidation by treating with a gas containing oxygen. 一般式(4)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィン化合物。
General formula (4)
Figure 2005225793
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above).
一般式(2)
Figure 2005225793
(式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、XおよびMは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィド化合物と、一般式(3)
Figure 2005225793
(式中、R1およびZはそれぞれ前記と同義である)で表されるカルボン酸ハライドまたはカルボン酸無水物とを反応させることを特徴とする、一般式(4)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィン化合物の製造方法。
General formula (2)
Figure 2005225793
Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X and M are as defined above, and a general formula (3)
Figure 2005225793
(Wherein R 1 and Z have the same meanings as described above) and a carboxylic acid halide or a carboxylic acid anhydride represented by the general formula (4)
Figure 2005225793
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. .
一般式(2)
Figure 2005225793
(式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、XおよびMは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィド化合物と、一般式(5)
Figure 2005225793
(式中、R1は前記と同義である)で表されるアルデヒドを反応させることによって、一般式(6)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物を得、次いで得られたα−ヒドロキシホスフィン化合物を酸化することによって、一般式(7)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である。)で表されるα−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物を得、さらに該α−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物を酸化脱水素することを特徴とする一般式(1)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィンオキシド化合物の製造方法。
General formula (2)
Figure 2005225793
Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X and M are as defined above, and a general formula (5)
Figure 2005225793
(Wherein R 1 has the same meaning as described above) to react with the aldehyde represented by the general formula (6)
Figure 2005225793
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. And then oxidizing the resulting α-hydroxyphosphine compound to give a general formula (7)
Figure 2005225793
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above) α-hydroxyphosphine An oxide compound is obtained, and the α-hydroxyphosphine oxide compound is further oxidatively dehydrogenated.
Figure 2005225793
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), .
酸化脱水素が、過酸化物と反応させることによる酸化脱水素である請求項8記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。   The method for producing a phosphine oxide compound according to claim 8, wherein the oxidative dehydrogenation is oxidative dehydrogenation by reacting with a peroxide. 過酸化物が、過酸化水素または有機ヒドロペルオキシドである請求項9記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。   The method for producing a phosphine oxide compound according to claim 9, wherein the peroxide is hydrogen peroxide or an organic hydroperoxide. 酸化脱水素が、触媒の存在下で行う酸化脱水素であることを特徴とする請求項8〜10のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。   The method for producing a phosphine oxide compound according to any one of claims 8 to 10, wherein the oxidative dehydrogenation is oxidative dehydrogenation performed in the presence of a catalyst. 触媒が、ルテニウム触媒である請求項11記載のホスフィンオキシド化合物の製造方法。   The method for producing a phosphine oxide compound according to claim 11, wherein the catalyst is a ruthenium catalyst. 一般式(6)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物。
General formula (6)
Figure 2005225793
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. .
一般式(7)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物。
General formula (7)
Figure 2005225793
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above) α-hydroxyphosphine oxide Compound.
一般式(2)
Figure 2005225793
(式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、XおよびMは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィド化合物と、一般式(5)
Figure 2005225793
(式中、R1は、前記と同義である)で表されるアルデヒドを反応させることを特徴とする、一般式(6)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物の製造方法。
General formula (2)
Figure 2005225793
Wherein R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , X and M are as defined above, and a general formula (5)
Figure 2005225793
(Wherein R 1 has the same meaning as described above), which is reacted with an aldehyde represented by the general formula (6)
Figure 2005225793
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. Manufacturing method.
一般式(6)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィン化合物を酸化することを特徴とする、一般式(7)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物の製造方法。
General formula (6)
Figure 2005225793
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively. General formula (7), characterized in that
Figure 2005225793
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above) α-hydroxyphosphine oxide Compound production method.
酸化が、酸素を含むガスと反応させることによる酸化である請求項16記載のα−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物の製造方法。   The method for producing an α-hydroxyphosphine oxide compound according to claim 16, wherein the oxidation is an oxidation by reacting with a gas containing oxygen. 一般式(4)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるホスフィン化合物を酸化脱水素することを特徴とする一般式(1)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィンオキシド化合物の製造方法。
General formula (4)
Figure 2005225793
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above, respectively). General formula (1) characterized by
Figure 2005225793
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), .
一般式(7)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXは、それぞれ前記と同義である)で表されるα−ヒドロキシホスフィンオキシド化合物を酸化脱水素することを特徴とする一般式(1)
Figure 2005225793
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびXはそれぞれ前記と同義である)で表されるホスフィンオキシド化合物の製造方法。
General formula (7)
Figure 2005225793
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above) α-hydroxyphosphine oxide General formula (1) characterized by oxidative dehydrogenation of a compound
Figure 2005225793
(Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and X are as defined above), .
請求項1〜3のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物を含有する光重合開始剤。   The photoinitiator containing the phosphine oxide compound in any one of Claims 1-3. 請求項1〜3のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物と不飽和化合物を含有する光重合性組成物。   The photopolymerizable composition containing the phosphine oxide compound and unsaturated compound in any one of Claims 1-3. 請求項21記載の光重合性組成物を硬化させて得られる硬化物。   A cured product obtained by curing the photopolymerizable composition according to claim 21. 請求項1〜3のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物と不飽和化合物を含有する塗料。   The coating material containing the phosphine oxide compound and unsaturated compound in any one of Claims 1-3. 請求項1〜3のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物の存在下、光照射により不飽和化合物を硬化させて得られるフィルム。   The film obtained by hardening an unsaturated compound by light irradiation in presence of the phosphine oxide compound in any one of Claims 1-3. 請求項1〜3のいずれかに記載のホスフィンオキシド化合物の存在下、光照射により不飽和化合物を硬化させて得られるプラスチック。
The plastic obtained by hardening an unsaturated compound by light irradiation in presence of the phosphine oxide compound in any one of Claims 1-3.
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