JP2005223893A - Frequency adjusting method for piezoelectric vibrator - Google Patents
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Description
本発明は、圧電振動子の周波数調整方法に係り、特にイオンビームによって圧電振動片(電極)の表面を削り、前記圧電振動子の周波数を高める周波数調整を行う周波数調整方法に関する。 The present invention relates to a frequency adjustment method for a piezoelectric vibrator, and more particularly, to a frequency adjustment method for performing frequency adjustment to increase the frequency of the piezoelectric vibrator by scraping the surface of a piezoelectric vibrating piece (electrode) with an ion beam.
圧電振動子の周波数をイオンビーム(イオンエッチング)によって調整する方法は、数十年前から知られている。しかしながら、それらの方法が実用化されてきたのは近年に到ってからである。イオンビームによる圧電振動子の周波数調整方法としては、例えば、図8に示すものが知られている。図8に示す装置は、イオンビームの照射源であるイオンガン1と、圧電振動子5を保持して、トレイ可動手段9によって規定の方向へスライド移動を可能とされたトレイ4と前記イオンガン1とトレイ4との間に配置され、照射されたイオンビームを圧電振動子5の電極(圧電振動片)7に照射するための絞り込みを行うスリットを有するマスク3とを備え、前記イオンガン1と前記マスク3との間には、圧電振動子5が周波数調整された後、さらにイオンビームに晒されることを防止するシャッタ2が備えられる。
A method for adjusting the frequency of a piezoelectric vibrator by an ion beam (ion etching) has been known for several decades. However, these methods have been put into practical use only in recent years. As a method of adjusting the frequency of the piezoelectric vibrator by the ion beam, for example, the one shown in FIG. 8 is known. The apparatus shown in FIG. 8 includes an ion gun 1 that is an ion beam irradiation source, a tray 4 that holds a
前記トレイ4は、圧電振動片7を内包したパッケージ6が嵌合可能な凹部を備え、当該凹部の底部には、前記圧電振動片7に相当する大きさの開口が設けられており、前記パッケージを前記凹部へ嵌合させることにより、前記圧電振動片7が前記開口より外部へ覗くこととなる。 The tray 4 includes a recess into which the package 6 including the piezoelectric vibrating piece 7 can be fitted, and an opening having a size corresponding to the piezoelectric vibrating piece 7 is provided at the bottom of the recess. Is fitted into the recess, the piezoelectric vibrating reed 7 is viewed through the opening to the outside.
このような装置では、イオンガン1から照射されたイオンビームが、マスク3のスリットを通過して圧電振動子5の所定箇所(圧電振動片7)に照射され、照射された圧電振動子5は周波数を規定値に調整される。しかし、このような装置による周波数調整方法では、一つの圧電振動子の周波数調整にかかる時間が長く(約9秒)、スループットの向上は望めなかった。図9に周波数調整による圧電振動子の周波数変化と、周波数毎の圧電振動子の分布とを示す。図9において縦軸は圧電振動子の周波数を示し、横軸は圧電振動子の個数(分布)を示す。このようなグラフにおいて、縦軸におけるf0は調整後の目的周波数を示し、実線で示すグラフは周波数調整前の圧電振動子の周波数分布を示し、一点鎖線で示すグラフは周波数調整後の圧電振動子の周波数分布を示す。なお、上記のような圧電振動子の周波数調整は、図示しない真空チャンバ内で行われる。
In such an apparatus, the ion beam irradiated from the ion gun 1 passes through the slit of the
そこで近年では特許文献1に記載されているような方法が提案されている。特許文献1によれば、トラック形状の開口部を有するイオンガンの円弧部分を閉塞し、直線平行部分(2箇所)からイオンビームが照射されるようにしたものを備え、前記直線部分に沿って複数の圧電振動子を並べるというものである。この装置によれば、トラック形状の一方の直線部分に備えられたイオンビーム照射口から照射されるイオンビームによって周波数の予備調整を行う。その後、前記圧電振動子を規定方向に送り、他方の直線部分に備えられたイオンビーム照射口から照射されるイオンビームによって周波数の本調整を行うというものである。
特許文献1に挙げられる方法によれば、各イオンビーム照射口で成される圧電振動子の周波数調整時間が短くなるため、圧電振動子の周波数調整におけるスループットは向上する。しかしながら、この方法は、円弧部分から照射されるイオンビームを意図的にカットしていることからエネルギの使用に無駄が多い。また、実質的にイオンビームの照射源を増やすことでスループットの向上を図っているため、前記エネルギの無駄を無くそうとした場合、高価なイオンビーム発生源(イオンガン)を複数備える必要が出てくるため、設備投資費がかさんでしまう。 According to the method described in Patent Document 1, since the frequency adjustment time of the piezoelectric vibrator formed at each ion beam irradiation port is shortened, the throughput in frequency adjustment of the piezoelectric vibrator is improved. However, this method is wasteful in the use of energy because the ion beam irradiated from the arc portion is intentionally cut. Further, since the throughput is improved by substantially increasing the number of ion beam irradiation sources, it is necessary to provide a plurality of expensive ion beam generation sources (ion guns) in order to eliminate the waste of energy. Therefore, the capital investment cost is increased.
本発明では、圧電振動子の周波数調整に関するスループットの向上を図りつつ、装置への設備投資費をも抑えることを可能とする圧電振動子の周波数調整方法を提供することを目的とする。 It is an object of the present invention to provide a method for adjusting the frequency of a piezoelectric vibrator that can reduce the capital investment cost for the apparatus while improving the throughput related to the frequency adjustment of the piezoelectric vibrator.
上記目的を達成するために、本発明に係る圧電振動子の周波数調整方法は、荷電粒子のビームを圧電振動片に照射して圧電振動子の周波数を調整する圧電振動子の周波数調整方法において、最終的な周波数調整である本調整を行っている前記ビームを、本調整中の圧電振動子以外の他の圧電振動子に照射し、前記他の圧電振動子の周波数の予備調整を行った後、前記他の圧電振動子の周波数の本調整を行うことを特徴とする。 In order to achieve the above object, a frequency adjustment method for a piezoelectric vibrator according to the present invention is a frequency adjustment method for a piezoelectric vibrator that adjusts the frequency of the piezoelectric vibrator by irradiating a piezoelectric vibrating piece with a beam of charged particles. After irradiating the other piezoelectric vibrator other than the piezoelectric vibrator being subjected to the final adjustment, which is the final frequency adjustment, and performing a preliminary adjustment of the frequency of the other piezoelectric vibrator The main adjustment of the frequency of the other piezoelectric vibrator is performed.
このような方法により、今まではマスク等によってカットしてしまっていた放射角度の広い領域のビームを有効に利用することができる。また、予備調整、本調整という順に周波数調整を行っていくことで、各工程に費やされるイオンビーム照射時間を短縮することができ、圧電振動子の周波数調整のスループットを向上させることができる。また、設備投資も抑えることができる。 By such a method, a beam having a wide radiation angle that has been cut with a mask or the like can be used effectively. Further, by performing frequency adjustment in the order of preliminary adjustment and main adjustment, the ion beam irradiation time spent in each process can be shortened, and the frequency adjustment throughput of the piezoelectric vibrator can be improved. In addition, capital investment can be reduced.
また、上記圧電振動子の周波数調整方法において、前記周波数調整は、最終的な周波数調整である本調整と、その前段の予備調整とを有し、前記予備調整は、本調整位置に配置された圧電振動子に対して固定位置から照射されるビームと同一のビームを本調整位置の一つ手前に位置する他の圧電振動子に照射して行うようにすると良い。 Further, in the frequency adjustment method of the piezoelectric vibrator, the frequency adjustment includes a final adjustment that is a final frequency adjustment and a preliminary adjustment in the preceding stage, and the preliminary adjustment is arranged at the final adjustment position. It is preferable to perform the irradiation by irradiating the other piezoelectric vibrator located just before the main adjustment position with the same beam as that emitted from the fixed position to the piezoelectric vibrator.
これにより、上述の効果の他、ビームは固定位置から照射するようにし、周波数調整を必要とする圧電振動子のみを規定の方向へ移動させるようにすることができる。また、予備調整は本調整を行う圧電振動子のみを対象とするようにしたことより、複数の圧電振動子の予備調整を同時に行う場合に比べて制御が容易になる。 Accordingly, in addition to the above-described effects, the beam can be irradiated from a fixed position, and only the piezoelectric vibrator that requires frequency adjustment can be moved in a specified direction. In addition, since the preliminary adjustment is performed only on the piezoelectric vibrator that performs the main adjustment, the control becomes easier as compared with the case where the preliminary adjustment of a plurality of piezoelectric vibrators is performed simultaneously.
また、上記目的を達成するために、本発明に係る圧電振動子の周波数調整方法は、荷電粒子のビームを圧電振動片に照射して圧電振動子の周波数を調整する圧電振動子の周波数調整方法において、周波数調整を行う圧電振動子の周波数を予め測定し、測定された周波数が予め定められた周波数より小さい場合には、最終的な周波数調整である本調整を行っている前記ビームを、本調整中の圧電振動子以外の他の圧電振動子に照射し、前記他の圧電振動子の周波数の予備調整を行った後、前記他の圧電振動子の周波数の本調整を行い、測定された周波数が予め定められた周波数以上である場合には前記予備調整を行わずに前記他の圧電振動子の周波数の本調整を行うことを特徴とするものであっても良い。 In order to achieve the above object, a frequency adjustment method for a piezoelectric vibrator according to the present invention is a frequency adjustment method for a piezoelectric vibrator that adjusts the frequency of the piezoelectric vibrator by irradiating a piezoelectric vibrating piece with a charged particle beam. If the frequency of the piezoelectric vibrator that performs frequency adjustment is measured in advance and the measured frequency is smaller than a predetermined frequency, the beam that is being subjected to the main adjustment as the final frequency adjustment is After irradiating other piezoelectric vibrators other than the piezoelectric vibrator being adjusted and preliminarily adjusting the frequency of the other piezoelectric vibrator, the main adjustment of the frequency of the other piezoelectric vibrator was performed and measured. If the frequency is equal to or higher than a predetermined frequency, the main adjustment of the frequency of the other piezoelectric vibrator may be performed without performing the preliminary adjustment.
このような方法によれば、今まではマスク等によってカットしてしまっていた放射角度の広い領域のビームを有効に利用することができる。また、予備調整、本調整という順に周波数調整を行っていくことで、各工程に費やされるイオンビーム照射時間を短縮することができ、圧電振動子の周波数調整のスループットを向上させることができる。また、予備調整前の圧電振動子の周波数は、個別的に大きく差が開いていることを考慮し、上記のように、予め圧電振動子の周波数を測定し、所定の周波数より以上の周波数を有する圧電振動子の予備調整は行わないようにすることで、予備調整によって最終的な(規定の)目標周波数の調整値を超えてしまうということが無くなる。 According to such a method, it is possible to effectively use a beam having a wide radiation angle that has been cut with a mask or the like until now. Further, by performing frequency adjustment in the order of preliminary adjustment and main adjustment, the ion beam irradiation time spent in each process can be shortened, and the frequency adjustment throughput of the piezoelectric vibrator can be improved. In addition, considering the fact that the frequency of the piezoelectric vibrator before the preliminary adjustment is largely different individually, as described above, the frequency of the piezoelectric vibrator is measured in advance and a frequency higher than a predetermined frequency is set. By not performing the preliminary adjustment of the piezoelectric vibrator having, it is not possible to exceed the final (specified) target frequency adjustment value due to the preliminary adjustment.
また、上記圧電振動子の周波数調整方法において、周波数調整を行う圧電振動子の周波数を予め測定し、測定された周波数を予備調整時に照射されるビームにより規定の周波数へ調整するためのビーム照射時間を定め、定められた前記ビーム照射時間だけ予備調整を行い、その後に本調整を行うようにすることも望ましい。 Further, in the frequency adjustment method of the piezoelectric vibrator, the beam irradiation time for measuring the frequency of the piezoelectric vibrator for frequency adjustment in advance and adjusting the measured frequency to a specified frequency by the beam irradiated at the time of preliminary adjustment. It is also desirable to perform preliminary adjustment only for the predetermined beam irradiation time, and then perform this adjustment.
このような方法で周波数を調整することにより、予備調整時に個々の圧電振動子の周波数分布を一定範囲に集束させることができる。このため、本調整時には、個々の圧電振動子の周波数を目的とする周波数へ高い割合で集束させることが可能となる。 By adjusting the frequency by such a method, the frequency distribution of the individual piezoelectric vibrators can be converged in a certain range at the time of preliminary adjustment. For this reason, at the time of this adjustment, the frequency of each piezoelectric vibrator can be focused at a high rate to the target frequency.
さらに、周波数の前記予備調整と前記本調整との各工程では、圧電振動子を規定の周波数に調整するために、マスクによって工程毎にビームの照射時間を制御すると良い。
このような方法を採ることにより、周波数の予備調整中に圧電振動片の表面を削りすぎてしまう(圧電振動子の周波数を上げ過ぎてしまう)ということを防止することができる。
Further, in each step of the preliminary adjustment of the frequency and the main adjustment, in order to adjust the piezoelectric vibrator to a predetermined frequency, it is preferable to control the beam irradiation time for each step using a mask.
By adopting such a method, it is possible to prevent the surface of the piezoelectric vibrating piece from being scraped too much (adjusting the frequency of the piezoelectric vibrator) during the preliminary adjustment of the frequency.
以下、本発明に係る実施の形態を図面を参照しつつ説明する。なお、以下に示す形態は、本発明の実施形態における一部であり、本発明は発明の主要部を変えない限りにおける種々の形態を含むものとする。 Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the form shown below is a part in embodiment of this invention, and this invention shall include the various form, unless the principal part of invention is changed.
図1は本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第1の実施形態を示す図である。本実施形態では、圧電振動子17を保持可能なトレイ16と、前記トレイ16を規定方向へスライド移動可能とするトレイ可動手段26と、前記トレイに保持された圧電振動子17の圧電振動片20に荷電粒子のビーム(イオンビーム)を照射するイオンガン10とを基本構成とする装置を使用する。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment according to a frequency adjusting method of a piezoelectric vibrator of the present invention. In this embodiment, the
前記圧電振動子17において、圧電振動片20を包含したパッケージ18は、箱状体であり、内部に備えた圧電振動片20の電極端子に接続された外部電極端子19を、当該パッケージ18の底部外面に備えるようにしている。なお、前記パッケージ18の上部には蓋を設けないようにし、前記イオンビームが前記圧電振動片20に照射されるようにしておく。
In the
また、前記トレイ16は、前記パッケージ18を嵌合可能な凹部を設けており、当該凹部の底部には、前記圧電振動片20のイオンビームが照射される部分に対応した(例えば圧電振動片20の中央部分に楕円状の)開口を有する。
The
前記パッケージ18は、上記のように構成されたトレイ16の凹部へパッケージ18上部が凹部底面側を向くようにして嵌合される。これにより、前記凹部底部の開口から、前記圧電振動片20が外部へ覗くこととなる。
前記イオンガン10は、イオンビームを扇面状に放射するものであり、一般的にそのエネルギ特性は、放射中心部ほど高く、放射角度が広い領域ほど低くなる。
The
The
前記イオンガン10と、前記トレイ16との間には、イオンガン10から放射されたイオンビームが、目的の範囲に照射されるように調整するためのマスク14が備えられている。本実施形態のマスク14は、イオンビームが照射位置aと照射位置bとの位置に搬送された、圧電振動子17に照射されるように設定されている。なお、このようなマスク14を使用する場合、イオンビームの照射源の直上となる照射位置aが、周波数の本調整を行う位置であり、放射角度が付く照射位置bが、周波数の予備調整を行う位置となる。なお、本実施形態の場合、圧電振動子17の搬送方向は図中左側であり、前記マスク14は前記照射位置a以降の位置に搬送された圧電振動子17にはイオンビームが照射されないように構成されている。
A
前記マスク14と前記イオンガン10との間には、イオンビームを遮蔽し、イオンビームの照射時間を工程毎に調整するためのシャッタ(マスク)12が備えられる。
また、上記構成の圧電振動子の周波数調整装置では、照射位置aにおいて圧電振動子17の周波数の本調整を行う際には、接離可能な電極パッド22を介して、ネットワークアナライザ等の周波数測定器24によって、逐次周波数を計測しながら調整すると良い。
A shutter (mask) 12 is provided between the
Further, in the frequency adjustment device for a piezoelectric vibrator having the above-described configuration, when the main adjustment of the frequency of the
このような構成の装置において、圧電振動子17の周波数調整を行う場合にはまず、複数の圧電振動子17をトレイ16へ配置する。トレイ16に配置された圧電振動子17は、トレイ可動手段26によって、圧電振動子17の配置幅間隔で図面右側から左側へと順次搬送される際に、内部に備える圧電振動子17の周波数調整が成される。
In the apparatus having such a configuration, when the frequency of the
圧電振動子17を搬送する際には、シャッタ12を破線で示す位置へスライドさせ、イオンビームが圧電振動子17に照射されないようにしておく。
始めに送り出された圧電振動子17が、照射位置bに到達した時点でシャッタ12を開き、イオンビームを規定時間(例えば3〜4秒)圧電振動子17の圧電振動片20へ照射し、周波数の予備調整を行う。イオンビームを規定時間照射した後、シャッタ12を閉じ、圧電振動子17の配置幅(以下工程幅という)分だけトレイ16を左側へ移動させる。この後に再びシャッタ12を開き、照射位置aへ搬送された圧電振動子17の圧電振動片20と、新たに照射位置bへ搬送された圧電振動子17の圧電振動片20とに、イオンビームを照射する。これにより、照射位置aに搬送された圧電振動子17は、周波数の本調整を施され、照射位置bに搬送された圧電振動子17は、周波数の予備調整を施される。その後、シャッタ12を閉じ、再び1工程幅分トレイ16を移動させる。このような工程で圧電振動子17の周波数調整を行うことにより、周波数調整が予備調整と本調整の2工程に分けて施されることとなり、1工程あたりのイオンビーム照射時間が短くなる。これにより、スループットの向上を図ることができる。また、イオンビームの照射源は一つであり、従来使用されていなかったエネルギ帯域(放射角度が広い帯域)を周波数の予備調整に利用することとしたので、エネルギの有効利用となり、装置への設備投資も抑えることができる。
When the
When the
なお、圧電振動子17の周波数の本調整は、周波数測定器24によって逐次周波数を測定しながら成される。周波数の予備調整を施される照射位置bに搬送された圧電振動子17の周波数調整は、本調整を行う圧電振動子へのイオンビーム照射時間に付随する。このため、照射位置bに搬送された圧電振動子17においては圧電振動片20が、規定時間以上イオンビームに晒されてしまう場合もある。よって、個体(圧電振動子)によっては周波数を本調整する前に規定の目標周波数に達してしまうというものが出てくる可能性もある。これを防止するために、照射位置bにおいて規定時間以上のイオンビームの照射が成されないように、シャッタ12を適宜閉じることを可能にしても良い。
The main adjustment of the frequency of the
図2に圧電振動子17の、工程毎の周波数変化と、周波数分布とを示す。図2において、縦軸は圧電振動子17の周波数を示し、横軸は周波数毎の圧電振動子の個数(周波数分布)を示している。また、当該グラフにおいて、f0は周波数調整後の目的周波数を示し、実線で示すグラフは周波数調整前の圧電振動子17の周波数と分布を示し、破線で示すグラフは予備調整後の圧電振動子17の周波数と分布を示し、一点鎖線で示すグラフは本調整後の圧電振動子17の周波数と分布を示す。図2より、圧電振動子17の周波数調整が、段階的に成されていることが解る。また、調整前の分布と周波数調整後の分布は従来技術の時と変わらないため、これらの間に予備調整を介在させることにより、1工程毎の処理時間が短縮されることが伺える。
FIG. 2 shows a frequency change and a frequency distribution for each process of the
次に本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第2の実施形態について図3を参照して説明する。本実施形態は、第1の実施形態で挙げた、照射位置bにおいて圧電振動子17の圧電振動片20に規定時間以上イオンビームが照射されてしまうことを防止するための具体的形態である。したがって、基本的には第1の実施形態と同じ形態を成す。
Next, a second embodiment according to the frequency adjustment method of the piezoelectric vibrator of the present invention will be described with reference to FIG. The present embodiment is a specific form for preventing the ion beam from being irradiated to the piezoelectric vibrating
詳細としては、照射位置bにおいて圧電振動子17の予備調整を行う際に、圧電振動子17の周波数分布を集束させるべき周波数を予め定めておく(例えばf1:図4参照)。そして、圧電振動子が照射位置bへ搬送される前段において周波数測定器(24以外のもの:不図示)を用いて照射位置bへ搬送される圧電振動子の周波数を予め測定する。ここで、前記照射位置bの前段で測定された周波数の値が、前記f1よりも大きい場合(例えばfaであった場合:図4参照)には、その圧電振動子17に対する周波数の予備調整は行わない。予備調整を行うことにより本調整後の目的周波数を越えてしまう可能性があり、予備調整を行わない場合であっても、本調整時に所定以上のイオンビーム照射時間を要することが無く、スループットに悪影響を及ぼす虞が無いからである。
More specifically, when the preliminary adjustment of the
また、照射位置bの前段において圧電振動子17の周波数を測定した場合には、通常、図4に示すようにfbやfcといった圧電振動子毎の周波数ズレがあるものである。このような場合には、fbやfcの周波数を持つ圧電振動子17の周波数を予備調整にて予め定めた周波数値へ集束させておくことで、本調整を行う際の周波数調整をより高精度なものとすることができる。このため、予備調整を行う場合には予め圧電振動子の周波数を集束させる目標周波数f1を定め、当該f1へ周波数を調整するためのイオンビーム照射時間を算出する。これは、イオンビーム照射時間対、周波数変化量との関係より、fbやfcの周波数値をf1へ変化させるために必要とされるイオンビームの照射時間を算出すれば良いのである。なお当然に、イオンビームのエネルギ特性としては、照射位置bにおいて照射されるものを考慮して計算を行う必要がある。
When the frequency of the
照射位置bにおいて、イオンビーム照射時間の調整行う場合、及び予備調整を行わないようにする場合には、図3に示すようにシャッタ12を半分閉じた状態に調整し、イオンガン10から照射されるイオンビームが照射位置aに配置された圧電振動子17のみに照射されるようにすれば良い。
When adjusting the ion beam irradiation time at the irradiation position b and when not performing preliminary adjustment, the
以下、照射位置bにおいてイオンビームの照射を行わない場合、及びイオンビームの照射時間を調整する場合の実施例を説明する。
トレイ16に保持された圧電振動子17は、照射位置bの前段において図示しない周波数調整器によって個々の周波数を予め測定される。この段階において、測定された周波数と、予備調整後の周波数の目標値とする周波数f1とを対比する。
Hereinafter, an embodiment in which the ion beam is not irradiated at the irradiation position b and the ion beam irradiation time is adjusted will be described.
The individual frequencies of the
対比した際に圧電振動子17の周波数(測定された周波数)がf1以上である場合には、該当する圧電振動子17に対する周波数の予備調整は行わないようにする。このため、該当する圧電振動子17が照射位置bへ搬送された場合には、シャッタ16を半閉じにし、その圧電振動子17にイオンビームが照射されないようにする。
If the frequency (measured frequency) of the
一方、対比した際に圧電振動子17の周波数が、f1よりも低いfbやfcであった場合には、当該周波数をf1へと変化させるために必要とするイオンビームの照射時間を個々に算出する。そして、照射位置bへ搬送された圧電振動子には、本調整を行う圧電振動子と同時にイオンビームが照射される。この後、前述のようにして算出した圧電振動子毎の予備調整時のイオンビーム照射時間が経過した場合には、シャッタ16が半閉じにされ、照射位置bに搬送された圧電振動子17にイオンビームが照射されないように制御される。
On the other hand, the frequency of the
以下、第1の実施形態と同様に、圧電振動子17を照射位置aに搬送し、最終的な目標周波数であるf0へ各圧電振動子17の周波数を調整するために本調整を行う。
上記のような周波数調整方法により、予備調整段階において規定周波数f1へ圧電振動子の周波数を集束させるように調整しているため、本調整を行う際には目標周波数に精度良く調整することが可能となる。このため、図4に示すように、圧電振動子の個数分布(周波数分布)が、第1の実施形態よりも目標周波数f0の周辺に集束することとなる。
Hereinafter, as in the first embodiment, the
Since the frequency adjustment method as described above is adjusted so that the frequency of the piezoelectric vibrator is converged to the specified frequency f 1 in the preliminary adjustment stage, it is possible to accurately adjust the target frequency when performing this adjustment. It becomes possible. For this reason, as shown in FIG. 4, the number distribution (frequency distribution) of the piezoelectric vibrators is converged around the target frequency f 0 as compared with the first embodiment.
次に、本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第3の実施形態について図5を参照して説明する。本実施形態の特徴は、第1、第2の実施形態と比べ、圧電振動子17へのイオンビームの照射範囲を広げたことにある。本実施形態では、周波数の本調整を行う圧電振動子17の他、搬送方向において、手前2個のロット(照射位置b、照射位置c)に対してもイオンビームを照射することとした(第1、第2の実施形態においては、本調整を行う圧電振動子の一つ手前のロットのみに対してイオンビームを照射していた)。このため、照射位置cは周波数の一次予備調整を行う場所であり、照射位置bは周波数の二次予備調整を行う場所となる。なお、イオンビームの照射範囲を広げる方法としては、イオンビームの照射源と圧電振動子17との距離を第1の実施形態よりも長く採るようにすれば良い。もちろんイオンビームの放射角度の広いイオンガンを用いることでも足りるが、設備投資を抑えるという面では、前者が有効である。他の構成は第1の実施形態と同一なため、同一符号を付して詳細な説明は省略する。
Next, a third embodiment according to the frequency adjustment method of the piezoelectric vibrator of the present invention will be described with reference to FIG. The feature of this embodiment is that the irradiation range of the ion beam to the
上記第3の実施形態のような圧電振動子の周波数調整方法では、イオンビームの照射範囲を広げ、同時に周波数調整を行うことができる圧電振動子17の数を増やし、一次予備調整、二次予備調整、本調整としたことにより、それぞれの工程でイオンビームを施す時間を短縮することができ、第1、第2の実施形態よりもさらにスループットの向上を図ることが可能となる。
In the frequency adjustment method of the piezoelectric vibrator as in the third embodiment, the number of
図6に本実施形態での周波数調整による圧電振動子17の周波数変化と、周波数毎の圧電振動子17の分布とを示す。当該グラフの構成は第1の実施形態と略同様であるが、二点鎖線で示す二次予備調整を行っている点が異なる。
FIG. 6 shows the frequency change of the
次に、本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第4の実施形態について図7を参照して説明する。本実施形態は、3つの圧電振動子17にイオンビームを照射可能とする点で第3の実施形態に類似している。第3の実施形態と、本実施形態との相違点は、マスク(第1のマスク)14に圧電振動子17の配置間隔でスリットを設け、そこからイオンビームが照射されるようにした点と、マスク14の近傍に、第2のマスク可動手段15によって可動する第2のマスク14aを備え、前記スリットを個々に塞ぐことを可能としてイオンビームの照射時間を調整できるようにした点にある。なお、他の構成は、第1の実施形態乃至第3の実施形態と同様なため、同一作用を奏するものに関しては、同一符号を付して詳細な説明は省略することとした。
Next, a fourth embodiment according to the frequency adjustment method of the piezoelectric vibrator of the present invention will be described with reference to FIG. The present embodiment is similar to the third embodiment in that an ion beam can be irradiated to the three
本実施形態において、図7に示す第2のマスク14aは一枚構造としているが、複数に分割し、第1のマスク14の個々のスリット毎に閉塞領域を指定する物であっても良い。また、本発明を実施するにあたっては、イオンビームの照射角度に応じて同時に予備調整を行う圧電振動子の数を、さらに増やしても良い。また、実施形態ではイオンガンを固定とし、圧電振動子を搬送する手段を採用していたが、本発明を実施する上では、イオンガンを移動させるようにしても良いし、両者を相対的に動かすようにしても良い。
In the present embodiment, the
10………イオンガン、12………シャッタ、14………マスク、16………トレイ、17………圧電振動子、18………パッケージ、19………外部電極端子、20………圧電振動片、22………電極パッド、24………周波数測定器、26………トレイ可動手段。 10 ......... Ion gun, 12 ......... Shutter, 14 ......... Mask, 16 ......... Tray, 17 ......... Piezoelectric vibrator, 18 ......... Package, 19 ......... External electrode terminal, 20 ......... Piezoelectric vibrating piece, 22... Electrode pad, 24... Frequency measuring device, 26.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004368973A JP2005223893A (en) | 2004-01-06 | 2004-12-21 | Frequency adjusting method for piezoelectric vibrator |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007057086A1 (en) * | 2005-11-17 | 2007-05-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for influencing the operating frequency of an oscillating crystal |
JP2010081225A (en) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Epson Toyocom Corp | Manufacturing method of piezoelectric vibrator and tray for manufacturing piezoelectric vibrator |
-
2004
- 2004-12-21 JP JP2004368973A patent/JP2005223893A/en active Pending
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WO2007057086A1 (en) * | 2005-11-17 | 2007-05-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method for influencing the operating frequency of an oscillating crystal |
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