JP2005220079A - Synthesis of pyrrolidine compound and crystal therefor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、cPLA2阻害活性を有するピロリジン化合物の製造方法、およびその中間体の製造方法ならびにその結晶に関する。 The present invention relates to a method for producing a pyrrolidine compound having cPLA 2 inhibitory activity, a method for producing an intermediate thereof, and a crystal thereof.
ホスホリパーゼA2(PLA2)は、リン脂質の2位のエステル結合を加水分解する酵素の総称で、生体膜リン脂質の新生と代謝に関わるとともに、プロスタノイドなどの脂質メディエーター産生にいたるアラキドン酸カスケードの開始酵素として機能する。現在、哺乳動物では多様なPLA2の存在が明らかにされており、その局在性、分子量、基質特異性等に基づいて、分泌型PLA2(sPLA2)、Ca2+非依存型PLA2(iPLA2)、細胞質型PLA2(cPLA2)などのファミリーに分類されている。
これらのPLA2の中で、cPLA2に選択的に阻害活性を有する、2位側鎖にチアゾリジンジオンを有するピロリジン化合物が、特許文献1、2、および3、ならびに非特許文献1に記載されている。さらに、非特許文献1に関連するWebページにはSupporting Informationとして、該化合物の製造方法が次のように記載されている(非特許文献2)。
Among these PLA 2 , pyrrolidine compounds having thiazolidinedione at the 2-position side chain, which selectively inhibits cPLA 2 , are described in Patent Documents 1, 2, and 3, and Non-Patent Document 1. Yes. Furthermore, the production method of the compound is described as Supporting Information on the Web page related to Non-Patent Document 1 as follows (Non-Patent Document 2).
cPLA2阻害活性を有するピロリジン化合物を医薬品として提供するために、該化合物の効率的な工業的製造方法が望まれていた。 In order to provide a pyrrolidine compound having cPLA 2 inhibitory activity as a pharmaceutical product, an efficient industrial production method of the compound has been desired.
本発明者らは以上の点に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、ニトリル基を有するピロリジン化合物を、触媒存在下水素添加反応によりアミノ基への還元することを特徴とする以下の発明を完成した。 In view of the above points, the present inventors have conducted extensive studies, and as a result, completed the following invention characterized in that a pyrrolidine compound having a nitrile group is reduced to an amino group by a hydrogenation reaction in the presence of a catalyst. .
すなわち、本発明は、1)一般式(I):
R2は水素原子またはC1−C6アルキル;および
Proは保護基)
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、ニッケル、パラジウム、白金から選ばれる少なくとも一つの触媒存在下で水素添加反応に付することを特徴とする、一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩の製造方法、に関する。
That is, the present invention relates to 1) general formula (I):
R 2 is a hydrogen atom or C1-C6 alkyl; and Pro is a protecting group)
Or a solvate thereof, or a salt thereof is subjected to a hydrogenation reaction in the presence of at least one catalyst selected from nickel, palladium, and platinum, represented by the general formula (II):
Or a solvate thereof, or a method for producing a salt thereof.
さらに詳しくは、以下の2)〜24)に関する。
2)以下の工程:
(a)一般式(III):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、脱水剤存在下で脱水反応に付し、一般式(I):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(b)一般式(I):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、ニッケル、パラジウム、白金から選ばれる少なくとも一つの触媒存在下で水素添加反応に付する工程
を包含することを特徴とする、一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩の製造方法。
More specifically, it relates to the following 2) to 24).
2) The following steps:
(A) General formula (III):
Or a solvate thereof, or a salt thereof is subjected to a dehydration reaction in the presence of a dehydrating agent, and is represented by the general formula (I):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(B) General formula (I):
And a solvate thereof, or a salt thereof, which is subjected to a hydrogenation reaction in the presence of at least one catalyst selected from nickel, palladium and platinum. II):
Or a solvate thereof, or a salt thereof.
3)以下の工程:
(a)一般式(III):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、脱水剤存在下で脱水反応に付し、一般式(I):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(b)一般式(I):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、ニッケル、パラジウム、白金から選ばれる少なくとも一つの触媒存在下で水素添加反応に付し、一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(c)一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩と、一般式(IV):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩をアミド結合生成反応に付し、一般式(V):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(d)一般式(V):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を脱保護反応に付し、一般式(VI):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(e)一般式(VI):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩と一般式(VII):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩をアミド結合生成反応に付する工程を包含することを特徴とする、一般式(VIII):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩の製造方法。
3) The following steps:
(A) General formula (III):
Or a solvate thereof, or a salt thereof is subjected to a dehydration reaction in the presence of a dehydrating agent, and is represented by the general formula (I):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(B) General formula (I):
Or a solvate thereof, or a salt thereof is subjected to a hydrogenation reaction in the presence of at least one catalyst selected from nickel, palladium, and platinum, and is represented by the general formula (II):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(C) General formula (II):
And a solvate thereof, or a salt thereof, and a general formula (IV):
Or a solvate thereof, or a salt thereof, is subjected to an amide bond formation reaction, and is represented by the general formula (V):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(D) General formula (V):
Or a solvate thereof, or a salt thereof, is subjected to a deprotection reaction to give a general formula (VI):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(E) General formula (VI):
Or a solvate thereof, or a salt thereof and the general formula (VII):
The compound represented by general formula (VIII) characterized by including the process of attaching | subjecting the compound represented by these, its solvate, or those salts to amide bond production | generation reaction:
Or a solvate thereof, or a salt thereof.
4)R1がフェニルC1−C6アルキル、ビフェニルC1−C6アルキル、ジフェニルC1−C6アルキル、またはトリフェニルC1−C6アルキルである1)〜3)のいずれかに記載の製造方法。
5)R1がビフェニルメチル、またはジフェニルメチルである4)記載の製造方法。
6)R2がC4アルキルである1)〜5)のいずれかに記載の製造方法。
7)R1が2−ビフェニルメチル、R2がイソブチルである1)〜6)のいずれかに記載の製造方法。
8)触媒がラネーニッケル、または塩化ニッケルである1)〜7)のいずれかに記載の製造方法。
9)触媒がラネーニッケルである8)記載の製造方法。
10)保護基がt−ブチルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、またはp−ニトロベンジルオキシカルボニル基、である1)〜9)のいずれかに記載の製造方法。
11)保護基がt−ブチルオキシカルボニル基である10)記載の製造方法。
12)脱水剤が塩化トリクロロアセチル、オキシ塩化リン、塩化オキザリル、トリフルオロ酢酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、または塩化チオニルである2)〜11)のいずれかに記載の製造方法。
13)脱水剤が塩化トリクロロアセチル、またはオキシ塩化リンである12)記載の製造方法。
14)R1が2−ビフェニルメチル、R2がイソブチルである一般式(VIII)で表わされる化合物、その溶媒和物、そのp−トルエンスルホン酸塩、その硫酸塩、またはその塩酸塩得るための3)〜13)のいずれかに記載の製造方法。
4) The production method according to any one of 1) to 3), wherein R 1 is phenyl C1-C6 alkyl, biphenyl C1-C6 alkyl, diphenyl C1-C6 alkyl, or triphenyl C1-C6 alkyl.
5) The production method according to 4), wherein R 1 is biphenylmethyl or diphenylmethyl.
6) The production method according to any one of 1) to 5), wherein R 2 is C4 alkyl.
7) The production method according to any one of 1) to 6), wherein R 1 is 2-biphenylmethyl and R 2 is isobutyl.
8) The production method according to any one of 1) to 7), wherein the catalyst is Raney nickel or nickel chloride.
9) The production method according to 8), wherein the catalyst is Raney nickel.
10) The protecting group is a t-butyloxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a p-methoxybenzyloxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group, or a p-nitrobenzyloxycarbonyl group. The production method according to any one of 1) to 9).
11) The production method according to 10), wherein the protecting group is a t-butyloxycarbonyl group.
12) The production method according to any one of 2) to 11), wherein the dehydrating agent is trichloroacetyl chloride, phosphorus oxychloride, oxalyl chloride, trifluoroacetic anhydride, trifluoromethanesulfonic anhydride, or thionyl chloride.
13) The production method according to 12), wherein the dehydrating agent is trichloroacetyl chloride or phosphorus oxychloride.
14) To obtain a compound represented by the general formula (VIII) wherein R 1 is 2-biphenylmethyl and R 2 is isobutyl, a solvate thereof, a p-toluenesulfonate, a sulfate thereof, or a hydrochloride thereof The production method according to any one of 3) to 13).
15)式(IX):
で表わされる化合物のベンゼンスルホン酸塩、またはその溶媒和物。
16)式(IX):
で表わされる化合物のベンゼンスルホン酸塩、またはその溶媒和物の、結晶。
17)粉末X線回折パターンにおいて、回折角(2θ)が19.3、20.2、20.7、および27.0(単位:°)に主なるピークを示す、16)記載の結晶。
18)式(X):
19)粉末X線回折パターンにおいて、回折角(2θ)が5.8、13.0、18.5、および26.4(単位:°)に主なるピークを示す、18)記載の結晶。
20)式(XI):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩。
21)一般式(III):
R2は水素原子またはC1−C6アルキル;および
Proは保護基)
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム、およびジボランから選ばれる少なくとも一つの試薬と反応させることを特徴とする、一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩の製造方法。
22)水素化ホウ素ナトリウムと反応させることを特徴とする21)記載の製造方法。
23)酢酸の存在下で反応させることを特徴とする22)記載の製造方法。
24)R1が2−ビフェニルメチル、R2がイソブチル、および保護基がt−ブチルオキシカルボニルである21)〜23)のいずれかに記載の製造方法。
15) Formula (IX):
Or a solvate thereof.
16) Formula (IX):
A crystal of a benzenesulfonate salt of a compound represented by the formula:
17) The crystal according to 16), wherein in the powder X-ray diffraction pattern, diffraction angles (2θ) show main peaks at 19.3, 20.2, 20.7, and 27.0 (unit: °).
18) Formula (X):
19) The crystal according to 18), wherein in the powder X-ray diffraction pattern, diffraction angles (2θ) show main peaks at 5.8, 13.0, 18.5, and 26.4 (unit: °).
20) Formula (XI):
Or a solvate thereof, or a salt thereof.
21) General formula (III):
R 2 is a hydrogen atom or C1-C6 alkyl; and Pro is a protecting group)
Or a solvate thereof, or a salt thereof, is reacted with at least one reagent selected from sodium borohydride, lithium aluminum hydride, and diborane, represented by the general formula (II):
Or a solvate thereof, or a salt thereof.
22) The production method according to 21), which is reacted with sodium borohydride.
23) The production method according to 22), wherein the reaction is carried out in the presence of acetic acid.
24) The production method according to any one of 21) to 23), wherein R 1 is 2-biphenylmethyl, R 2 is isobutyl, and the protecting group is t-butyloxycarbonyl.
式(IX)、式(X)、および式(XI)で表わされる化合物は、可能なすべての光学異性体およびラセミ体を含む光学異性体の混合物を包含するものである。
本明細書中、「溶媒和物」とは、例えば有機溶媒との溶媒和物、水和物等を包含する。水和物を形成する時は、任意の数の水分子と配位していてもよい。
本明細書で使用する化合物の塩としては、無機酸(塩酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸、硝酸等)、および有機酸(酢酸、シュウ酸、クエン酸、マレイン酸、フマル酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ギ酸等)との塩、またはアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム等)、アンモニウム、有機塩基およびアミノ酸との塩、が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
The compounds of formula (IX), formula (X) and formula (XI) are intended to encompass all possible optical isomers and mixtures of optical isomers including racemates.
In the present specification, the “solvate” includes, for example, solvates with organic solvents, hydrates and the like. When forming a hydrate, it may be coordinated with any number of water molecules.
As salts of the compounds used in this specification, inorganic acids (hydrochloric acid, hydrobromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, nitric acid, etc.) and organic acids (acetic acid, oxalic acid, citric acid, maleic acid, fumaric acid, benzene) A salt with sulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, formic acid, or the like, or an alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.), an alkaline earth metal (magnesium, calcium, etc.), ammonium, an organic base, and an amino acid. Of the salt. These salts can be formed by a commonly performed method.
本明細書中、「水素添加反応」とは、有機化合物の多重結合の位置に水素を付加する反応を意味する。特に、シアノ基(−C≡N)をアミノメチル基(−CH2NH2)に還元する反応が好ましい。
本明細書中、「脱水反応」とは、有機化合物から水素と酸素とを水として脱離させる反応を意味する。特に、アミド基(−CONH2)をシアノ基(−C≡N)に変換する反応が好ましい。
本明細書中、「脱保護反応」とは、反応性の高い官能基や反応しては困る官能基を保護するために導入された保護基を除去し、もとの官能基に戻す反応を意味する。保護基によって反応条件は異なるが、Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd ed.,(Theodora W. Greene and Peter G. M. Wuts, New York, John Wiley, 1999年)等に記載の方法が挙げられる。例えば、酸加水分解反応、アルカリ加水分解反応、酸化反応、水素添加反応、水素化物による還元反応、電極反応、光反応等の反応が挙げられる。
保護基がt−ブチルオキシカルボニル基の場合は、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、硝酸、ぎ酸、またはこれらの酸の混合物、並びにLewis酸(たとえばAlCl3, TiCl4, ZnCl2, BF3)とアニソールとの混合物による条件も挙げられる。
保護基がベンジルオキシカルボニル基の場合は、パラジウム−炭素触媒よる水素添加反応、塩化アルミニウムや三臭化ホウ素のルイス酸、臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の酸による脱保護反応が挙げられる。
保護基がp−メトキシベンジルオキシカルボニル基の場合は、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の酸による脱保護反応が挙げられる。
保護基がアリルオキシカルボニル基の場合は、パラジウム触媒−ギ酸の系よる脱保護反応が挙げられる。
保護基が9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基の場合は、ピペリジン等の塩基による脱保護が挙げられる。
保護基がp−ニトロベンジルオキシカルボニル基の場合は、パラジウム−炭素触媒よる水素添加反応、電極反応、臭化水素酸−酢酸等の酸による脱保護が挙げられる。脱保護が挙げられる。
本明細書中、「アミド結合生成反応」とは、カルボン酸(−COOH)、またはカルボン酸ハロゲン化物(−COHal;Halはハロゲン)とアミノ基(−NH2)とを反応させてアミド結合(−CONH−)を生成する反応を意味する。
In the present specification, the “hydrogenation reaction” means a reaction in which hydrogen is added to the position of multiple bonds in an organic compound. In particular, a reaction in which a cyano group (—C≡N) is reduced to an aminomethyl group (—CH 2 NH 2 ) is preferable.
In the present specification, “dehydration reaction” means a reaction in which hydrogen and oxygen are desorbed from an organic compound as water. In particular, a reaction for converting an amide group (—CONH 2 ) into a cyano group (—C≡N) is preferable.
In this specification, the term “deprotection reaction” refers to a reaction in which a protective group introduced to protect a highly reactive functional group or a functional group that is difficult to react is removed and returned to the original functional group. means. Although the reaction conditions differ depending on the protecting group, the method described in Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd ed., (Theodora W. Greene and Peter GM Wuts, New York, John Wiley, 1999) and the like can be mentioned. Examples of the reaction include acid hydrolysis reaction, alkali hydrolysis reaction, oxidation reaction, hydrogenation reaction, reduction reaction with hydride, electrode reaction, and photoreaction.
When the protecting group is a t-butyloxycarbonyl group, hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, nitric acid, formic acid, or a mixture of these acids, as well as Lewis acids (eg, AlCl 3 , TiCl 4 , ZnCl 2 , BF 3 ) And a condition of a mixture of aniline and anisole.
When the protecting group is a benzyloxycarbonyl group, a hydrogenation reaction with a palladium-carbon catalyst, a deprotection reaction with an acid such as Lewis acid of aluminum chloride or boron tribromide, hydrobromic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc. It is done.
When the protecting group is a p-methoxybenzyloxycarbonyl group, a deprotection reaction with an acid such as p-toluenesulfonic acid or trifluoroacetic acid can be mentioned.
When the protecting group is an allyloxycarbonyl group, a deprotection reaction by a palladium catalyst-formic acid system can be mentioned.
When the protecting group is a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group, deprotection with a base such as piperidine can be mentioned.
When the protecting group is a p-nitrobenzyloxycarbonyl group, a hydrogenation reaction using a palladium-carbon catalyst, an electrode reaction, and deprotection with an acid such as hydrobromic acid-acetic acid can be used. Deprotection is mentioned.
In the present specification, the “amide bond formation reaction” means a reaction between a carboxylic acid (—COOH) or a carboxylic acid halide (—COHal; Hal is halogen) and an amino group (—NH 2 ) to form an amide bond ( -CONH-).
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「アルキル」なる用語は、直鎖または分枝鎖の1価の炭化水素基を包含する。例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、neo−ペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル等が挙げられる。好ましくは、C1〜C6アルキルが挙げられる。さらに好ましくは、C1〜C4アルキルが挙げられる。
R2におけるアルキルとしては、C1〜C6アルキルが挙げられる。好ましくは、C1〜C4アルキルが挙げられる。さらに好ましくは、C4アルキルが挙げられる。特に、好ましくはイソブチル基(−CH2CH(CH3)2)が挙げられる。
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「アリール」とは、単環状、縮合環状芳香族炭化水素、もしくは2個ないし3個の芳香間が連続して結合している芳香族炭化水素を包含する。例えば、フェニル、ナフチル(1−ナフチル、2−ナフチル)、アントリル、ビフェニル(2−ビフェニル、3−ビフェニル、4−ビフェニル)等が挙げられる。
本明細書中、「アラルキル」とは、前記「アルキル」に前記「アリ−ル」が1またはそれ以上置換したもので、フェニルC1−C6アルキル、ビフェニルC1−C6アルキル、ジフェニルC1−C6アルキル、トリフェニルC1−C6アルキル、ナフチルC1−C6アルキル、アントリルC1−C6アルキル等が挙げられる。例えば、ベンジル、フェニルエチル(例えば、2−フェニルエチル等)、フェニルプロピル(例えば、3−フェニルプロピル等)、ビフェニルメチル(例えば、2−ビフェニルメチル、3−ビフェニルメチル、4−ビフェニルメチル等)、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、ナフチルメチル(例えば、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル、等)、アントリルメチル(例えば、9−アントリルメチル等)、等が挙げられる。
R1におけるアラルキルとしては、フェニルC1−C6アルキル、ビフェニルC1−C6アルキル、ジフェニルC1−C6アルキル、またはトリフェニルC1−C6アルキル等があげられる。好ましくは、ビフェニルメチル、ジフェニルメチルがあげられる。さらに、好ましくは、2−ビフェニルメチルが挙げられる。
As used herein, the term “alkyl” used alone or in combination with other terms includes straight or branched monovalent hydrocarbon groups. For example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neo-pentyl, n-hexyl, isohexyl, n-heptyl, n-octyl, etc. Is mentioned. Preferably, C1-C6 alkyl is mentioned. More preferably, C1-C4 alkyl is mentioned.
Examples of the alkyl in R 2 include C1-C6 alkyl. Preferably, C1-C4 alkyl is mentioned. More preferably, C4 alkyl is mentioned. Particularly preferred is an isobutyl group (—CH 2 CH (CH 3 ) 2 ).
In the present specification, “aryl” used alone or in combination with other terms means a monocyclic, condensed cyclic aromatic hydrocarbon, or a fragrance in which 2 to 3 fragrances are continuously connected. Including group hydrocarbons. For example, phenyl, naphthyl (1-naphthyl, 2-naphthyl), anthryl, biphenyl (2-biphenyl, 3-biphenyl, 4-biphenyl) and the like can be mentioned.
In the present specification, “aralkyl” is a compound in which the above “alkyl” is substituted with one or more of the above “aryl”, and includes phenyl C1-C6 alkyl, biphenyl C1-C6 alkyl, diphenyl C1-C6 alkyl, Examples include triphenyl C1-C6 alkyl, naphthyl C1-C6 alkyl, anthryl C1-C6 alkyl, and the like. For example, benzyl, phenylethyl (such as 2-phenylethyl), phenylpropyl (such as 3-phenylpropyl), biphenylmethyl (such as 2-biphenylmethyl, 3-biphenylmethyl, 4-biphenylmethyl), Examples include diphenylmethyl, triphenylmethyl, naphthylmethyl (for example, 1-naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl, and the like), anthrylmethyl (for example, 9-anthrylmethyl and the like), and the like.
Examples of aralkyl in R 1 include phenyl C1-C6 alkyl, biphenyl C1-C6 alkyl, diphenyl C1-C6 alkyl, and triphenyl C1-C6 alkyl. Preferred are biphenylmethyl and diphenylmethyl. Furthermore, Preferably, 2-biphenylmethyl is mentioned.
本明細書中、「触媒」とは、ニッケル、パラジウム、白金から選ばれる少なくとも一つの金属を含む化合物で、水素添加反応を触媒する化合物を意味する。ラネーニッケル、塩化ニッケル、酸化ニッケル、ニッケル(II)アセチルアセトネート、ニッケルシクロオクタジエン等のニッケル触媒、Pd−C、リンドラー触媒、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等のパラジウム触媒、塩化白金酸、酸化白金等の白金触媒などが挙げられる。水素添加反応を触媒的に進行させるニッケル化合物が好ましい。好ましくは、ラネーニッケルまたは塩化ニッケルが挙げられる。特に好ましくは、ラネーニッケルが挙げられる。
本明細書中、「保護基」とは、反応性の特性基を一時的に保護する目的で使われる原子団を意味する。ピロリジン環の窒素原子の保護基としては、t−ブチルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、または9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。特に、t−ブチルオキシカルボニル基が好ましい。
本明細書中、「脱水剤」とは、脱水反応を促進する試薬を意味する。塩化トリクロロアセチル、オキシ塩化リン、塩化オキザリル、トリフルオロ酢酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、塩化チオニル、トリクロロ酢酸無水物、p−トルエンスルホン酸、ホスゲン、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩、五酸化二リン、エトキシアセチレン、または塩化シアヌル等が挙げられる。好ましくは、塩化トリクロロアセチル、オキシ塩化リン、塩化オキザリル、トリフルオロ酢酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、または塩化チオニル等が挙げられる。特に好ましくは、トリクロロアセチル、オキシ塩化リン等が挙げられる。
In the present specification, the “catalyst” means a compound containing at least one metal selected from nickel, palladium and platinum and catalyzing a hydrogenation reaction. Raney nickel, nickel chloride, nickel oxide, nickel (II) acetylacetonate, nickel catalyst such as nickel cyclooctadiene, Pd-C, Lindlar catalyst, tetrakistriphenylphosphine palladium, palladium acetate, palladium chloride, dichlorobis (triphenylphosphine) Examples thereof include palladium catalysts such as palladium, platinum catalysts such as chloroplatinic acid and platinum oxide. Nickel compounds that catalyze the hydrogenation reaction are preferred. Preferably, Raney nickel or nickel chloride is used. Particularly preferred is Raney nickel.
In the present specification, the “protecting group” means an atomic group used for the purpose of temporarily protecting a reactive characteristic group. Examples of the protecting group for the nitrogen atom of the pyrrolidine ring include t-butyloxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, p-methoxybenzyloxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group, p-nitro. A benzyloxycarbonyl group etc. are mentioned. In particular, a t-butyloxycarbonyl group is preferable.
In the present specification, the “dehydrating agent” means a reagent that accelerates the dehydration reaction. Trichloroacetyl chloride, phosphorus oxychloride, oxalyl chloride, trifluoroacetic anhydride, trifluoromethanesulfonic anhydride, thionyl chloride, trichloroacetic anhydride, p-toluenesulfonic acid, phosgene, dicyclohexylcarbodiimide, 1- (3-dimethylamino Propyl) -3-ethylcarbodiimide hydrochloride, diphosphorus pentoxide, ethoxyacetylene, cyanuric chloride and the like. Preferable examples include trichloroacetyl chloride, phosphorus oxychloride, oxalyl chloride, trifluoroacetic anhydride, trifluoromethanesulfonic anhydride, thionyl chloride, and the like. Particularly preferred are trichloroacetyl, phosphorus oxychloride and the like.
参考例13に示す、シアノ基を有するピロリジン化合物(21)をラネーニッケル存在下、水素添加反応に付することにより、アミノ基に変換する反応においては、1分子の1位の置換基のフッ素原子が、もう1分子の2位のアミノ基と反応し、2量体を形成するという副反応の問題がある。特に、この副反応は、大量合成の場合に起こりやすく、また、生じた副生成物の除去は容易ではない。そのため、t−ブチルオキシカルボニル等の保護基で保護した化合物を用いることにより、この問題を回避することができた。
また、化合物6から化合物15を合成する場合、参考例6→7→8→11→12→13→14→15の方法と、本発明である実施例1→2→3→4→6→7→8の方法で収率を比較すると、前者が36%で、後者が48%である。多段階反応にもかかわらず、収率を12%も向上させることができ、本発明は化合物(15)の工業的製造方法に適していると言える。
In the reaction of converting the pyrrolidine compound (21) having a cyano group shown in Reference Example 13 to an amino group by subjecting it to a hydrogenation reaction in the presence of Raney nickel, the fluorine atom of the substituent at the 1-position of one molecule is Another problem is a side reaction of reacting with the amino group at the 2-position of one molecule to form a dimer. In particular, this side reaction tends to occur in the case of mass synthesis, and removal of the generated by-product is not easy. Therefore, this problem could be avoided by using a compound protected with a protecting group such as t-butyloxycarbonyl.
When compound 15 is synthesized from compound 6, the method of Reference Example 6 → 7 → 8 → 11 → 12 → 13 → 14 → 15 and Examples 1 → 2 → 3 → 4 → 6 → 7 of the present invention. When comparing yields by the method of → 8, the former is 36% and the latter is 48%. Despite the multistage reaction, the yield can be improved by as much as 12%, and it can be said that the present invention is suitable for the industrial production method of the compound (15).
ニトリル基を有するピロリジン化合物を、触媒存在下水素添加反応によりアミノ基への還元することにより、cPLA2阻害活性を有するピロリジン化合物を工業的に製造するための効率的な製造方法を見出した。 An efficient production method for industrially producing a pyrrolidine compound having cPLA 2 inhibitory activity was found by reducing a pyrrolidine compound having a nitrile group to an amino group by hydrogenation reaction in the presence of a catalyst.
第1工程
本工程は、4位側鎖をR2NH基に変換する工程である。
一般式(XII)で表される化合物をR2NH2と反応させて、一般式(XIII)で表される化合物を得ることができる。
R2NH2のR2としてはC1−C6アルキル、好ましくは、C1−C4アルキル、さらに好ましくは、C4アルキル、最も好ましくは、イソブチル基が挙げられる。
溶媒としては、水、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、アセトニトリル、メタノール、ジメチルホルムアミド等の溶媒が挙げられる。特に、水が好ましい。
反応温度としては、0℃〜150℃が、好ましくは30℃〜120℃が、さらに好ましくは50℃〜100℃が挙げられる。
反応時間としては、1.0時間〜24時間、好ましくは3.0時間〜18時間、さらに好ましく5.0時間〜15時間が挙げられる。
1st process
This step is a step of converting the 4-position side chain into an R 2 NH group.
A compound represented by the general formula (XII) can be reacted with R 2 NH 2 to obtain a compound represented by the general formula (XIII).
C1-C6 alkyl as R 2 in R 2 NH 2, preferably, C1-C4 alkyl, more preferably, C4 alkyl, most preferably isobutyl group.
Examples of the solvent include water, dimethyl sulfoxide, chloroform, acetonitrile, methanol, dimethylformamide and the like. In particular, water is preferable.
The reaction temperature is 0 ° C to 150 ° C, preferably 30 ° C to 120 ° C, more preferably 50 ° C to 100 ° C.
The reaction time is 1.0 hour to 24 hours, preferably 3.0 hours to 18 hours, more preferably 5.0 hours to 15 hours.
第2工程
本工程は、4位側鎖にR1基を導入する工程である。
一般式(XIII)で表される化合物を溶媒中、R1−Hal(式中、Halはハロゲン)もしくはR1−O−SO2−Ra(式中、Raはハロゲンで置換されていてもよいメチル)、および塩基と反応させ、一般式(III)で表される化合物を得る。
溶媒としては、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、トルエン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が挙げられる。アセトニトリル、酢酸イソプロピル、ジメチルホルムアミド、酢酸イソプロピル−ジメチルホルムアミド、酢酸イソプロピル−アセトニトリル混合溶媒が好ましい。
R1−HalのHalとしては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。臭素原子が好ましい。
R1−O−SO2−RaのRaとしては、メチル、トリフルオロメチル等が挙げられる。メチルが好ましい。
R1−HalのR1としては、フェニルC1−C6アルキル、ビフェニルC1−C6アルキル、ジフェニルC1−C6アルキル、およびトリフェニルC1−C6アルキル等のアラルキルがあげられる。好ましくは、フェニルC1−C3アルキル、ビフェニルC1−C3アルキル、ジフェニルC1−C3アルキル等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンジル、ビフェニルメチル、ジフェニルメチル(ベンズヒドリル)等が挙げられる。特に好ましくは、2―ビフェニルメチルが挙げられる。
塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ジイソプロピルアミン等があげられる。炭酸ナトリウムが好ましい。
反応温度としては、20℃〜120℃、好ましくは40℃〜100℃、特に好ましくは60℃〜90℃が挙げられる。
反応時間としては、5.0時間〜24時間、好ましくは7.0時間〜12時間が挙げられる。
Second step
This step is a step of introducing an R 1 group into the 4-position side chain.
A compound represented by the general formula (XIII) in a solvent, R 1 -Hal (where Hal is a halogen) or R 1 -O—SO 2 -R a (wherein R a is substituted with a halogen) And a compound represented by the general formula (III).
Examples of the solvent include acetonitrile, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran, ethanol, propanol, isopropanol, toluene, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, dimethylformamide, dimethylacetamide and the like. Acetonitrile, isopropyl acetate, dimethylformamide, isopropyl acetate-dimethylformamide, and isopropyl acetate-acetonitrile mixed solvent are preferred.
As Hal of R < 1 > -Hal, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. are mentioned. A bromine atom is preferred.
Examples of R a in R 1 —O—SO 2 —R a include methyl and trifluoromethyl. Methyl is preferred.
The R 1 in R 1 -Hal, phenyl C1-C6 alkyl, biphenyl C1-C6 alkyl, diphenyl C1-C6 alkyl, and aralkyl such as triphenyl C1-C6 alkyl like. Preferably, phenyl C1-C3 alkyl, biphenyl C1-C3 alkyl, diphenyl C1-C3 alkyl, etc. are mentioned. More preferred are benzyl, biphenylmethyl, diphenylmethyl (benzhydryl) and the like. Particularly preferred is 2-biphenylmethyl.
Examples of the base include sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, diisopropylamine and the like. Sodium carbonate is preferred.
The reaction temperature is 20 ° C to 120 ° C, preferably 40 ° C to 100 ° C, particularly preferably 60 ° C to 90 ° C.
The reaction time is 5.0 hours to 24 hours, preferably 7.0 hours to 12 hours.
第3工程
本工程は、一般式(III)で表される化合物を塩とすることにより、精製する工程である。
一般式(III)で表される化合物を溶媒に溶解し、酸(HA)を加えることにより、一般式(XIV)で表される塩を得ることができる。
酸(HA)としては、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、硫酸、硝酸、ぎ酸、シュウ酸等が挙げられる。ベンゼンスルホン酸が好ましい。
酢酸エチル、酢酸イソプロピル、メタノール、アセトン、エタノール、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、メチルエチルケトン、塩化メチレン、エチルエーテル、水またはそれらの混合溶液等の溶媒が挙げられる。酢酸エチル、酢酸イソプロピル、水、酢酸エチル−水、酢酸イソプロピル−水の混合溶液が好ましい。特に、酢酸イソプロピルが好ましい。
反応温度としては、-20℃〜60℃、好ましくは-10℃〜40℃が挙げられる。
反応時間としては、5.0時間〜48時間、好ましくは7.0時間〜24時間が挙げられる。
Third step
This step is a step of purification by converting the compound represented by the general formula (III) into a salt.
A salt represented by the general formula (XIV) can be obtained by dissolving the compound represented by the general formula (III) in a solvent and adding an acid (HA).
Examples of the acid (HA) include benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, formic acid, oxalic acid and the like. Benzenesulfonic acid is preferred.
Examples thereof include solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, methanol, acetone, ethanol, tetrahydrofuran, acetonitrile, methyl ethyl ketone, methylene chloride, ethyl ether, water, or a mixed solution thereof. A mixed solution of ethyl acetate, isopropyl acetate, water, ethyl acetate-water, and isopropyl acetate-water is preferable. In particular, isopropyl acetate is preferred.
As reaction temperature, -20 degreeC-60 degreeC, Preferably -10 degreeC-40 degreeC is mentioned.
The reaction time is 5.0 hours to 48 hours, preferably 7.0 hours to 24 hours.
第4工程
本工程は一般式(XIV)で表される塩を脱塩反応に付し、一般式(III)で表される化合物を得る工程である。
一般式(XIV)で表される塩に溶媒を加えた後、アルカリ水溶液またはアルカリを加え、攪拌して、一般式(VIII)で表される化合物を得ることができる。
溶媒としては、酢酸エチル、メタノール、エタノール、アセトン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、水、またはその混合溶媒等の溶媒が挙げられる。酢酸エチル、水、酢酸エチル−水の混合溶媒が好ましい。特に、酢酸エチル−水の混合溶媒が好ましい。
アルカリ水溶液またはアルカリとしては、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等があげられる。炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウムが好ましい。特に、水酸化ナトリウム水溶液と炭酸水素ナトリウムが好ましい。
反応温度としては、0℃〜50℃が挙げられるが、0℃〜35℃が好ましい。
反応時間としては、5分〜3.0時間が挙げられるが、10分〜1.5時間が好ましい。
Fourth step
This step is a step of obtaining a compound represented by the general formula (III) by subjecting the salt represented by the general formula (XIV) to a desalting reaction.
After adding a solvent to the salt represented by the general formula (XIV), an aqueous alkali solution or an alkali is added and stirred to obtain the compound represented by the general formula (VIII).
Examples of the solvent include solvents such as ethyl acetate, methanol, ethanol, acetone, acetonitrile, dimethyl sulfoxide, water, or a mixed solvent thereof. A mixed solvent of ethyl acetate, water, and ethyl acetate-water is preferable. In particular, a mixed solvent of ethyl acetate and water is preferable.
Examples of the alkaline aqueous solution or alkali include sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like. Sodium bicarbonate and sodium hydroxide are preferred. In particular, an aqueous sodium hydroxide solution and sodium bicarbonate are preferable.
Examples of the reaction temperature include 0 ° C to 50 ° C, preferably 0 ° C to 35 ° C.
The reaction time includes 5 minutes to 3.0 hours, preferably 10 minutes to 1.5 hours.
第5工程
本工程は2位側鎖のアミド基をシアノ基に変換する工程である。
一般式(III)で表される化合物を溶媒に溶解し、塩基および脱水剤の溶液を加え、攪拌後、一般式(I)で表される化合物を得ることができる。
溶媒としては、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等が挙げられる。テトラヒドロフラン、酢酸エチルが好ましい。
塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン等が挙げられる。トリエチルアミンが好ましい。
脱水剤としては、塩化トリクロロアセチル、オキシ塩化リン、塩化オキザリル、トリフルオロ酢酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、および塩化チオニル等が挙げられる。塩化トリクロロアセチル、オキシ塩化リンが好ましい。
反応温度としては、-10℃〜50℃が挙げられる。-5℃〜35℃が好ましい。
反応時間としては、0.1時間〜5.0時間が挙げられる。0.2時間〜2.0時間が好ましい。
5th process
This step is a step of converting the amide group at the 2-position side chain into a cyano group.
The compound represented by general formula (III) can be obtained by dissolving the compound represented by general formula (III) in a solvent, adding a solution of a base and a dehydrating agent, and stirring.
Examples of the solvent include tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, dioxane, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, acetonitrile and the like. Tetrahydrofuran and ethyl acetate are preferred.
Examples of the base include triethylamine, pyridine, N-methylmorpholine and the like. Triethylamine is preferred.
Examples of the dehydrating agent include trichloroacetyl chloride, phosphorus oxychloride, oxalyl chloride, trifluoroacetic anhydride, trifluoromethanesulfonic anhydride, and thionyl chloride. Trichloroacetyl chloride and phosphorus oxychloride are preferred.
Examples of the reaction temperature include -10 ° C to 50 ° C. -5 ° C to 35 ° C is preferred.
Examples of the reaction time include 0.1 hour to 5.0 hours. 0.2 hours to 2.0 hours are preferred.
第6工程
本工程は2位側鎖であるシアノ基を還元してアミノ基に変換する工程である。
一般式(I)で表される化合物を溶媒に溶解し、アンモニア溶液、および触媒を加え、水素添加した後、触媒をろ別し、一般式(II)で表される化合物を得ることができる。
一般式(II)で表される化合物を溶解する溶媒およびアンモニア溶液の溶媒としては、エタノール、メタノール、イソプロパノール、水、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等の溶液が挙げられる。エタノールが好ましい。
触媒としては、ラネーニッケル、塩化ニッケル等のニッケル触媒、Pd−C、リンドラー触媒等のパラジウム触媒、酸化白金等の白金触媒がが挙げられる。好ましくは、ラネーニッケル、塩化ニッケル等のニッケル触媒が挙げられる。特に、好ましくは、ラネーニッケル等が挙げられる。ニッケル触媒に代えて、パラジウム触媒や白金触媒を用いた場合では、R1−Nの部分のベンジル結合が切断されてしまい、目的物の収率が低下することがある。
反応温度としては、0℃〜50℃が挙げられる。5℃〜40℃が好ましい。
反応時間としては、1.0時間〜12時間が挙げられる。2.0時間〜8.0時間が好ましい。
6th process
This step is a step of reducing the cyano group that is the 2-position side chain to convert it to an amino group.
The compound represented by the general formula (I) can be obtained by dissolving the compound represented by the general formula (I) in a solvent, adding an ammonia solution and a catalyst, hydrogenating, and then filtering off the catalyst. .
Examples of the solvent for dissolving the compound represented by the general formula (II) and the solvent for the ammonia solution include ethanol, methanol, isopropanol, water, tetrahydrofuran, ethyl acetate and the like. Ethanol is preferred.
Examples of the catalyst include nickel catalysts such as Raney nickel and nickel chloride, palladium catalysts such as Pd-C and Lindlar catalyst, and platinum catalysts such as platinum oxide. Preferably, nickel catalysts such as Raney nickel and nickel chloride are used. In particular, Raney nickel and the like are preferable. When a palladium catalyst or a platinum catalyst is used in place of the nickel catalyst, the benzyl bond at the R 1 —N portion is cleaved, and the yield of the target product may be reduced.
As reaction temperature, 0 degreeC-50 degreeC is mentioned. 5 to 40 degreeC is preferable.
Examples of the reaction time include 1.0 hour to 12 hours. 2.0 to 8.0 hours are preferred.
第7工程
本工程は、一般式(II)で表される化合物またはその塩の2位に側鎖を導入する工程である。
一般式(II)で表される化合物またはその塩を溶媒に溶解し、2位側鎖の酸または一般式(IV)で表される化合物を加え、攪拌後、化合物(V)を得ることができる。
出発物質としては、一般式(II)で表される化合物が好ましい。
一般式(IV)で表される化合物としては、酸ハロゲン化物が好ましい。特に、酸クロリドが好ましい。
溶媒としては、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、ジグライム、酢酸エチル等が挙げられる。好ましくは、ジグライム、酢酸エチル、アセトニトリル、ジグライム−酢酸エチルの混合溶媒が挙げられる。特に好ましくは、ジグライム−酢酸エチルの混合溶媒が好ましい。
反応温度としては、-20℃〜30℃が挙げられる。-20℃〜15℃が好ましい。
反応時間としては、0.5時間〜5.0時間が挙げられる。1.0時間〜4.0時間が好ましい。
7th process
This step is a step of introducing a side chain at the 2-position of the compound represented by the general formula (II) or a salt thereof.
A compound represented by the general formula (II) or a salt thereof is dissolved in a solvent, a 2-position side chain acid or a compound represented by the general formula (IV) is added, and the compound (V) is obtained after stirring. it can.
As the starting material, a compound represented by the general formula (II) is preferable.
As the compound represented by the general formula (IV), an acid halide is preferable. In particular, acid chloride is preferred.
Examples of the solvent include acetonitrile, tetrahydrofuran, benzene, methylene chloride, chloroform, dioxane, diglyme, ethyl acetate and the like. Preferably, a mixed solvent of diglyme, ethyl acetate, acetonitrile, diglyme-ethyl acetate is used. Particularly preferred is a mixed solvent of diglyme-ethyl acetate.
Examples of the reaction temperature include -20 ° C to 30 ° C. -20 ° C to 15 ° C is preferred.
As reaction time, 0.5 hour-5.0 hours are mentioned. 1.0 to 4.0 hours are preferred.
第8工程
本工程は、一般式(V)で表される化合物の1位の保護基を脱保護する反応である。脱保護反応は、保護基によって変わるが、Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd ed.,(Theodora W. Greene and Peter G. M. Wuts, New York, John Wiley, 1999年)等に記載の方法による。
保護基がt−ブチルオキシカルボニルの場合は、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、硝酸、ぎ酸、またはこれらの酸の混合物、並びにLewis酸(たとえばAlCl3, TiCl4, ZnCl2, BF3)とアニソールとの混合物による条件による脱保護が好ましい。塩酸が特に好ましい。
溶媒としては、メタノール、エタノール、酢酸エチル、ジグライム等が好ましい。特に、メタノールが好ましい。
反応温度としては、0℃〜100℃が挙げられる。20℃〜80℃が好ましい。
反応時間としては、0.5時間〜48時間が挙げられる。3時間〜15時間が好ましい。
保護基がベンジルオキシカルボニル基の場合は、パラジウム−炭素触媒を用いた水素添加反応、塩化アルミニウムや三臭化ホウ素のルイス酸、臭化水素酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の酸による脱保護反応が挙げられる。
保護基がp−メトキシベンジルオキシカルボニル基の場合は、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の酸による脱保護反応が挙げられる。
保護基がアリルオキシカルボニル基の場合は、パラジウム触媒−ギ酸の系による脱保護反応が挙げられる。
保護基が9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基の場合は、ピペリジン等の塩基による脱保護が挙げられる。
保護基がp−ニトロベンジルオキシカルボニル基の場合は、パラジウム−炭素触媒よる水素添加反応、臭化水素酸−酢酸、電極反応等による脱保護が挙げられる。
8th step
This step is a reaction for deprotecting the protecting group at the 1-position of the compound represented by the general formula (V). The deprotection reaction varies depending on the protecting group, but is based on the method described in Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd ed., (Theodora W. Greene and Peter GM Wuts, New York, John Wiley, 1999).
When the protecting group is t-butyloxycarbonyl, hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid, nitric acid, formic acid, or a mixture of these acids, as well as Lewis acids (eg, AlCl 3 , TiCl 4 , ZnCl 2 , BF 3 ) Deprotection by conditions with a mixture with anisole is preferred. Hydrochloric acid is particularly preferred.
As the solvent, methanol, ethanol, ethyl acetate, diglyme and the like are preferable. In particular, methanol is preferable.
Examples of the reaction temperature include 0 ° C to 100 ° C. 20 ° C to 80 ° C is preferred.
As reaction time, 0.5 hour-48 hours are mentioned. 3 hours to 15 hours are preferred.
When the protecting group is a benzyloxycarbonyl group, a hydrogenation reaction using a palladium-carbon catalyst, a deprotection reaction with an acid such as Lewis acid of aluminum chloride or boron tribromide, hydrobromic acid, acetic acid or trifluoroacetic acid Is mentioned.
When the protecting group is a p-methoxybenzyloxycarbonyl group, a deprotection reaction with an acid such as p-toluenesulfonic acid or trifluoroacetic acid can be mentioned.
When the protecting group is an allyloxycarbonyl group, a deprotection reaction by a palladium catalyst-formic acid system can be mentioned.
When the protecting group is a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group, deprotection with a base such as piperidine can be mentioned.
When the protecting group is a p-nitrobenzyloxycarbonyl group, deprotection by a hydrogenation reaction with a palladium-carbon catalyst, hydrobromic acid-acetic acid, an electrode reaction or the like can be mentioned.
第9工程
本工程は1位に、置換されたベンゾイル基を導入する工程である。
1位側鎖に対応する一般式(VII)で表される化合物を溶媒に溶解し、少量のジメチルホルムアミドとハロゲン化剤を加え、攪拌後、1位側鎖に対応する酸ハロゲン化物を得る。酸ハロゲン化物を合成する際の溶媒としては、アセトニトリル、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等が挙げられる。アセトニトリル、酢酸エチルが好ましい。
一般式(VI)で表される化合物の溶媒中、塩基および上記の酸ハロゲン化物の溶液を加え、攪拌後、一般式(VIII)で表される化合物を得ることができる。
酸ハロゲン化物と一般式(VI)で表される化合物との反応溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム、ジオキサン、酢酸エチル等が挙げられる。好ましくは、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、ジメチルアセトアミド−酢酸エチル混合溶媒が挙げられる。特に好ましくは、ジメチルアセトアミド−酢酸エチル混合溶媒が挙げられる。
塩基としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン等が挙げられる。トリエチルアミンが好ましい。
また、一般式(VI)で表される化合物の溶媒中、縮合剤および一般式(VII)で表される化合物を直接反応させることにより、一般式(VIII)で表される化合物を得ることもできる。
溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、ジメチルアセトアミド−酢酸エチル混合溶媒が挙げられる。特に好ましくは、ジメチルアセトアミド−酢酸エチル混合溶媒が挙げられる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、カルボニルイミダゾール(CDI)、1−エチル−3―(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(WSC)が挙げられる。
反応温度としては、0℃〜100℃が挙げられる。0℃〜70℃が好ましい。
反応時間としては、0.5時間〜24時間が挙げられる。0.5時間〜20時間が好ましい。
一般式(VIII)で表される化合物は、反応後単離した後、または粗生成物のまま、一般式(XV)で表される塩に誘導することができる。
一般式(VIII)で表される化合物を溶媒に溶かし、酸(HB)を加え、攪拌、ろ過後、一般式(XV)で表される塩を得ることができる。
酸(HB)としては、塩酸、硫酸、硝酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ぎ酸、シュウ酸が挙げられる。好ましくは、塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸が挙げられる。とくに、このましくは、p−トルエンスルホン酸が挙げられる。
塩の反応溶媒(結晶溶媒)としては、酢酸エチル、メタノール、アセトン、エタノール、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、メチルエチルケトン、塩化メチレン、エチルエーテル、またはそれらの混合溶液等の溶媒が挙げられる。酢酸エチルとメタノールの混合溶媒が好ましい。
反応温度としては、0℃〜50℃が挙げられる。5℃〜35℃が好ましい。
反応時間としては、0.5時間〜24時間が挙げられる。0.5時間〜12時間が好ましい。
9th process
This step is a step of introducing a substituted benzoyl group at the 1-position.
A compound represented by the general formula (VII) corresponding to the 1-position side chain is dissolved in a solvent, a small amount of dimethylformamide and a halogenating agent are added, and after stirring, an acid halide corresponding to the 1-position side chain is obtained. Examples of the solvent for synthesizing the acid halide include acetonitrile, methylene chloride, tetrahydrofuran, and ethyl acetate. Acetonitrile and ethyl acetate are preferred.
In a solvent of the compound represented by the general formula (VI), a base and a solution of the above acid halide are added, and after stirring, the compound represented by the general formula (VIII) can be obtained.
Examples of the reaction solvent for the acid halide and the compound represented by the general formula (VI) include dimethylformamide, dimethylacetamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, benzene, methylene chloride, chloroform, dioxane, ethyl acetate and the like. Preferably, tetrahydrofuran, dimethylacetamide, ethyl acetate, dimethylacetamide-ethyl acetate mixed solvent is used. Particularly preferred is a dimethylacetamide-ethyl acetate mixed solvent.
Examples of the base include triethylamine, tributylamine, pyridine, N-methylmorpholine and the like. Triethylamine is preferred.
Moreover, the compound represented by general formula (VIII) can be obtained by directly reacting the condensing agent and the compound represented by general formula (VII) in the solvent of the compound represented by general formula (VI). it can.
Examples of the solvent include tetrahydrofuran, dimethylacetamide, ethyl acetate, and a mixed solvent of dimethylacetamide-ethyl acetate. Particularly preferred is a dimethylacetamide-ethyl acetate mixed solvent.
Examples of the condensing agent include dicyclohexylcarbodiimide (DCC), carbonylimidazole (CDI), and 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (WSC).
Examples of the reaction temperature include 0 ° C to 100 ° C. 0 ° C to 70 ° C is preferred.
As reaction time, 0.5 hour-24 hours are mentioned. 0.5 hours to 20 hours are preferred.
The compound represented by the general formula (VIII) can be derived into a salt represented by the general formula (XV) after isolation after the reaction or as a crude product.
The compound represented by general formula (VIII) can be dissolved in a solvent, acid (HB) can be added, and the salt represented by general formula (XV) can be obtained after stirring and filtration.
Examples of the acid (HB) include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, formic acid, and oxalic acid. Preferably, hydrochloric acid, sulfuric acid, and p-toluenesulfonic acid are used. Particularly preferred is p-toluenesulfonic acid.
Examples of the salt reaction solvent (crystal solvent) include solvents such as ethyl acetate, methanol, acetone, ethanol, tetrahydrofuran, acetonitrile, methyl ethyl ketone, methylene chloride, ethyl ether, or a mixed solution thereof. A mixed solvent of ethyl acetate and methanol is preferred.
As reaction temperature, 0 degreeC-50 degreeC is mentioned. 5 to 35 degreeC is preferable.
As reaction time, 0.5 hour-24 hours are mentioned. 0.5 hours to 12 hours are preferred.
第10工程
本工程は、一般式(XV)で表される塩を脱塩反応に付し、一般式(VIII)で表される化合物を得る工程である。
一般式(XV)で表される化合物に溶媒を加えた後、アルカリ水溶液を加え、攪拌して、一般式(VIII)で表される化合物を得ることができる。
溶媒としては、酢酸エチル、メタノール、エタノール、アセトン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド等の溶媒が挙げられるが、酢酸エチルが好ましい。
アルカリ水溶液としては、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等があげられるが、炭酸水素ナトリウム水溶液が好ましい。
反応温度としては、0℃〜50℃が挙げられるが、0℃〜35℃が好ましい。
反応時間としては、5分〜3.0時間が挙げられるが、10分〜1.5時間が好ましい。
一般式(VIII)で表される化合物は、上記の方法にて固体にすることができる。
10th step
This step is a step of obtaining a compound represented by the general formula (VIII) by subjecting the salt represented by the general formula (XV) to a desalting reaction.
After adding a solvent to the compound represented by the general formula (XV), an alkaline aqueous solution is added and stirred to obtain the compound represented by the general formula (VIII).
Examples of the solvent include solvents such as ethyl acetate, methanol, ethanol, acetone, acetonitrile, and dimethyl sulfoxide, and ethyl acetate is preferable.
Examples of the alkaline aqueous solution include a sodium hydrogen carbonate aqueous solution, a sodium carbonate aqueous solution, a sodium hydroxide aqueous solution, and a potassium hydroxide aqueous solution, and a sodium hydrogen carbonate aqueous solution is preferable.
Examples of the reaction temperature include 0 ° C to 50 ° C, preferably 0 ° C to 35 ° C.
The reaction time includes 5 minutes to 3.0 hours, preferably 10 minutes to 1.5 hours.
The compound represented by the general formula (VIII) can be made solid by the above method.
第11工程
本工程は、一般式(III)で表される化合物を還元反応に付し、一般式(II)で表される化合物を得る工程である。
水素化ホウ素ナトリウムと酢酸を溶媒に溶かした後、一般式(III)で表される化合物の溶液を加えて、還元を行ない、一般式(II)を得ることができる。
水素化リチウムアルミニウム、およびボラン等を用いても同様に還元することができる。
溶媒としては、ジグライム、テトラヒロドフラン、エタノール、メタノール、水、エーテル等の溶媒が挙げられるが、ジグライムが好ましい。
反応温度としては、-20℃〜150℃が挙げられるが、-10℃〜100℃が好ましい。
反応時間としては、1時間〜24時間が挙げられるが、3時間〜10時間が好ましい。
11th step
This step is a step of obtaining a compound represented by the general formula (II) by subjecting the compound represented by the general formula (III) to a reduction reaction.
After dissolving sodium borohydride and acetic acid in a solvent, a solution of the compound represented by the general formula (III) is added and reduction is performed to obtain the general formula (II).
The same reduction can be achieved using lithium aluminum hydride and borane.
Examples of the solvent include solvents such as diglyme, tetrahydrofuran, ethanol, methanol, water, and ether, but diglyme is preferred.
Examples of the reaction temperature include -20 ° C to 150 ° C, but -10 ° C to 100 ° C is preferable.
Examples of the reaction time include 1 hour to 24 hours, but 3 hours to 10 hours are preferable.
以下に実施例をあげて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。参考例1〜20および実施例1〜10に各工程の詳細を記す。
実施例中、以下の略号を用いる。
Boc:t−ブチルオキシカルボニル
Ms:メタンスルホニル
Ph:フェニル
Ts:p−トルエンスルホニル
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. Details of each step will be described in Reference Examples 1 to 20 and Examples 1 to 10.
The following abbreviations are used in the examples.
Boc: t-butyloxycarbonyl Ms: methanesulfonyl Ph: phenyl Ts: p-toluenesulfonyl
参考例1
参考例2
参考例3
参考例4
Anal. Calcd for C10H18N2O4. C, 52.16; H, 7.88; N, 12.17. Found C, 52.13; H, 7.87; N, 12.31; H2O, 0.31.
[α]D −3.1±0.4°, [α]365 −19.8±0.6°(MeOH, c 1.004, 25℃)
Reference example 4
Anal. Calcd for C 10 H 18 N 2 O 4. C, 52.16; H, 7.88; N, 12.17. Found C, 52.13; H, 7.87; N, 12.31; H 2 O, 0.31.
[α] D −3.1 ± 0.4 °, [α] 365 −19.8 ± 0.6 ° (MeOH, c 1.004, 25 ° C)
参考例5
Anal. Calcd for C11H20N2O6S. C, 42.85; H, 6.54; N, 9.08; S, 10.40. Found C, 42.55; H, 6.45; N, 9.22; S, 10.34; H2O, 0.31.
[α]D −24.9±0.7°(MeOH, c 1.000, 25℃)
Reference Example 5
Anal. Calcd for C 11 H 20 N 2 O 6 S. C, 42.85; H, 6.54; N, 9.08; S, 10.40. Found C, 42.55; H, 6.45; N, 9.22; S, 10.34; H 2 O , 0.31.
[α] D −24.9 ± 0.7 ° (MeOH, c 1.000, 25 ° C)
実施例1
実施例2
分解点:109℃
Anal. Calcd for C33H45N3O7S・1.2 H2O・0.1AcOiPr: C,62.25; H, 7.24; N, 6.50; S, 4.96; H2O, 3.15. Found: C, 62.15; H, 7.18; N, 6.60; S, 5.05; H2O, 3.15.
Example 2
Decomposition point: 109 ° C
Anal.Calcd for C 33 H 45 N 3 O 7 S ・ 1.2 H 2 O ・ 0.1AcO i Pr: C, 62.25; H, 7.24; N, 6.50; S, 4.96; H 2 O, 3.15. Found: C, 62.15; H, 7.18; N, 6.60; S, 5.05; H 2 O, 3.15.
実施例3
1H NMR (CDCl3):δ 0.79 (d, 6H, J = 6.6 Hz), 1.44 (s, 9H), 1.62 (s, 2H), 2.12 (d, 2H, J = 6.9 Hz), 2.89-3.47 (m, 3H), 4.24 (br, 1H), 5.30 (br, 1H), 5.90 (br, 1H), 6.76 (br, 1H), 7.15-7.7 (m, 11H)
Example 3
1 H NMR (CDCl 3 ): δ 0.79 (d, 6H, J = 6.6 Hz), 1.44 (s, 9H), 1.62 (s, 2H), 2.12 (d, 2H, J = 6.9 Hz), 2.89-3.47 (m, 3H), 4.24 (br, 1H), 5.30 (br, 1H), 5.90 (br, 1H), 6.76 (br, 1H), 7.15-7.7 (m, 11H)
実施例4
実施例5
1H NMR (CDCl3):δ 0.80 (d, 6H, J = 6.3 Hz), 1.47 (s, 9H), 1.52-1.70 (m, 1H), 1.80-1.96 (m, 2H), 2.21 (d, 2H, J = 6.9 Hz), 2.86-3.63 (m, 3H), 4.28-4.52 (m, 1H), 7.17-7.63 (m, 11H)
Example 5
1 H NMR (CDCl 3 ): δ 0.80 (d, 6H, J = 6.3 Hz), 1.47 (s, 9H), 1.52-1.70 (m, 1H), 1.80-1.96 (m, 2H), 2.21 (d, 2H, J = 6.9 Hz), 2.86-3.63 (m, 3H), 4.28-4.52 (m, 1H), 7.17-7.63 (m, 11H)
実施例6
1H NMR (CDCl3):δ 0.80 (d, 6H, J = 6.6 Hz), 1.43 (s, 9H), 1.49-1.60 (m, 2H), 1.63-1.78 (m, 1H), 2.09 (d, 2H, J = 6.8 Hz), 2.42-2.51 (m, 1H), 2.65-2.77 (m, 1H), 2.95-3.07 (m, 1H), 3.11-3.32 (m, 2H), 3.53 (s, 2H), 3.60-3.73 (m, 1H), 7.17-7.63 (m, 11H)
Example 6
1 H NMR (CDCl 3 ): δ 0.80 (d, 6H, J = 6.6 Hz), 1.43 (s, 9H), 1.49-1.60 (m, 2H), 1.63-1.78 (m, 1H), 2.09 (d, 2H, J = 6.8 Hz), 2.42-2.51 (m, 1H), 2.65-2.77 (m, 1H), 2.95-3.07 (m, 1H), 3.11-3.32 (m, 2H), 3.53 (s, 2H) , 3.60-3.73 (m, 1H), 7.17-7.63 (m, 11H)
実施例7
Mp 205.7 ℃.
1H NMR (d6-DMSO, 300 MHz): 0.74 (6H, dd), 1.42-1.62 (2H, m), 1.74-1.86 (1H, m), 2.90 (2H, dd), 2.78 (ddd, 1H), 3.07 (ddd, 1H), 3.36 (m, 1H), 3.45 (m, 1H), 3.49 (s, 2H), 3.58-3.68 (m, 2H), 6.61 (d, 1H), 7.17 (1H, d), 7.24-7.60 (14H, m).
Anal. Calcd for C35H38N4O3S・0.6 H2O: C,69.42; H, 6.52; N, 9.25; S, 5.25; H2O, 1.78. Found: C, 69.52; H, 6.54; N, 9.32; S, 5.32; H2O, 1.48.
Example 7
Mp 205.7 ° C.
1 H NMR (d 6 -DMSO, 300 MHz): 0.74 (6H, dd), 1.42-1.62 (2H, m), 1.74-1.86 (1H, m), 2.90 (2H, dd), 2.78 (ddd, 1H ), 3.07 (ddd, 1H), 3.36 (m, 1H), 3.45 (m, 1H), 3.49 (s, 2H), 3.58-3.68 (m, 2H), 6.61 (d, 1H), 7.17 (1H, d), 7.24-7.60 (14H, m).
Anal.Calcd for C 35 H 38 N 4 O 3 S ・ 0.6 H 2 O: C, 69.42; H, 6.52; N, 9.25; S, 5.25; H 2 O, 1.78. Found: C, 69.52; H, 6.54 ; N, 9.32; S, 5.32; H 2 O, 1.48.
実施例8
Mp 118℃,
Anal. Calcd. for C56H52F2N4O8S2・1.6 H2O: C, 64.67; H, 5.35; F, 3.65; N, 5.39; S, 6.17, Found: C, 64.73; H, 5.43; F, 3.46; N, 5.34; S, 5.92; H2O, 1.95, Ash<0.1.
Example 8
Mp 118 ℃,
Anal.Calcd.for C 56 H 52 F 2 N 4 O 8 S 2・ 1.6 H 2 O: C, 64.67; H, 5.35; F, 3.65; N, 5.39; S, 6.17, Found: C, 64.73; H , 5.43; F, 3.46; N, 5.34; S, 5.92; H 2 O, 1.95, Ash <0.1.
実施例9
Anal. Calcd. for C49H44F2N4O5S・0.5 H2O.: C, 69.40; H, 6.53; F, 4.48; N, 6.61; S, 3.78; H2O, 0.26. Found: C, 69.45; H, 5.35; F, 4.47; N, 6.64; S, 3.85; H2O, 1.83, Na<0.1, Cl<0.1%.
1H NMR (CDCl3) δ 0.72 (d, 3H, J = 6.3 Hz), 0.78 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.47-1.56 (m, 1 H), 1.68-1.75 (m, 1 H), 1.94-2.17 (m, 4 H), 2.95-3.01 (m, 1 H), 3.13-3.19 (m, 1H), 3.39-3.71 (m, 5 H), 4.41-4.57 (m, 1 H), 6.52 (d, 1 H, J = 15.9 Hz), 6.84-7.00 (m, 2 H), 7.12-7.75 (m, 21 H).
Example 9
Anal.Calcd.for C 49 H 44 F 2 N 4 O 5 S ・ 0.5 H 2 O .: C, 69.40; H, 6.53; F, 4.48; N, 6.61; S, 3.78; H 2 O, 0.26. Found : C, 69.45; H, 5.35; F, 4.47; N, 6.64; S, 3.85; H 2 O, 1.83, Na <0.1, Cl <0.1%.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.72 (d, 3H, J = 6.3 Hz), 0.78 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.47-1.56 (m, 1 H), 1.68-1.75 (m, 1 H ), 1.94-2.17 (m, 4 H), 2.95-3.01 (m, 1 H), 3.13-3.19 (m, 1H), 3.39-3.71 (m, 5 H), 4.41-4.57 (m, 1 H) , 6.52 (d, 1 H, J = 15.9 Hz), 6.84-7.00 (m, 2 H), 7.12-7.75 (m, 21 H).
アミド体8から水素化ホウ素ナトリウム−酢酸により、直接アミン体11を得る方法について示す。
実施例10
Example 10
参考までに、1位の保護基を先に脱保護して、2−(2,4−ジフルオロベンゾイル)ベンゾイル基を導入した後、2位のアミド基の脱水、還元を行い、必要な側鎖を導入するルートを下記に示す。
参考例6
1H NMR (CDCl3):δ 0.89 (d, 6H, J = 6.6 Hz), 1.47 (s, 9H), 1.62-1.75 (m, 2H), 2.35-2.41 (m, 2H), 2.56 (br, 1H), 3.12 (br, 1H), 3.39 (br, 1H), 3.58 (br, 1H), 4.39 (br, 1H), 5.45 (br, 1H), 6.01 (br, 1H), 6.90 (br, 1H)
Reference Example 6
1 H NMR (CDCl 3 ): δ 0.89 (d, 6H, J = 6.6 Hz), 1.47 (s, 9H), 1.62-1.75 (m, 2H), 2.35-2.41 (m, 2H), 2.56 (br, 1H), 3.12 (br, 1H), 3.39 (br, 1H), 3.58 (br, 1H), 4.39 (br, 1H), 5.45 (br, 1H), 6.01 (br, 1H), 6.90 (br, 1H )
参考例7
参考例8
参考例9
Anal. Calcd. for C22H29N3O・2.0 C2H2O4・0.1 H2O: C, 61.97; H, 6.53; N, 6.02; S, 9.19; H2O, 0.26. Found: C, 61.43; H, 6.49; N, 6.10; S, 9.38; H2O, 0.19
Reference Example 9
Anal.Calcd.for C 22 H 29 N 3 O ・ 2.0 C 2 H 2 O 4・ 0.1 H 2 O: C, 61.97; H, 6.53; N, 6.02; S, 9.19; H 2 O, 0.26. Found: C, 61.43; H, 6.49; N, 6.10; S, 9.38; H 2 O, 0.19
参考例10
参考例11
参考例12
参考例13
参考例14
Anal. Calcd. for C49H44F2N4O5S・0.5 H2O.: C, 69.40; H, 6.53; F, 4.48; N, 6.61; S, 3.78; H2O, 0.26. Found: C, 69.45; H, 5.35; F, 4.47; N, 6.64; S, 3.85; H2O, 1.83, Na<0.1, Cl<0.1%.
1H NMR (CDCl3) δ 0.72 (d, 3H, J = 6.3 Hz), 0.78 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.47-1.56 (m, 1 H), 1.68-1.75 (m, 1 H), 1.94-2.17 (m, 4 H), 2.95-3.01 (m, 1 H), 3.13-3.19 (m, 1H), 3.39-3.71 (m, 5 H), 4.41-4.57 (m, 1 H), 6.52 (d, 1 H, J = 15.9 Hz), 6.84-7.00 (m, 2 H), 7.12-7.75 (m, 21 H).
Reference Example 14
Anal.Calcd.for C 49 H 44 F 2 N 4 O 5 S ・ 0.5 H 2 O .: C, 69.40; H, 6.53; F, 4.48; N, 6.61; S, 3.78; H 2 O, 0.26. Found : C, 69.45; H, 5.35; F, 4.47; N, 6.64; S, 3.85; H 2 O, 1.83, Na <0.1, Cl <0.1%.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.72 (d, 3H, J = 6.3 Hz), 0.78 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.47-1.56 (m, 1 H), 1.68-1.75 (m, 1 H ), 1.94-2.17 (m, 4 H), 2.95-3.01 (m, 1 H), 3.13-3.19 (m, 1H), 3.39-3.71 (m, 5 H), 4.41-4.57 (m, 1 H) , 6.52 (d, 1 H, J = 15.9 Hz), 6.84-7.00 (m, 2 H), 7.12-7.75 (m, 21 H).
参考例15
Mp 118℃,
Anal. Calcd. for C56H52F2N4O8S2・1.6 H2O: C, 64.67; H, 5.35; F, 3.65; N, 5.39; S, 6.17, Found: C, 64.73; H, 5.43; F, 3.46; N, 5.34; S, 5.92; H2O, 1.95, Ash<0.1.
Reference Example 15
Mp 118 ℃,
Anal.Calcd.for C 56 H 52 F 2 N 4 O 8 S 2・ 1.6 H 2 O: C, 64.67; H, 5.35; F, 3.65; N, 5.39; S, 6.17, Found: C, 64.73; H , 5.43; F, 3.46; N, 5.34; S, 5.92; H 2 O, 1.95, Ash <0.1.
メシレート (24)を用いた化合物 (7) から化合物 (9) の別合成法を示す。
参考例16
を得た。
Another synthesis method of compound (9) from compound (7) using mesylate (24) is shown.
Reference Example 16
Got.
参考例17
2位側鎖17の合成法を以下に示す。
参考例18
Reference Example 18
参考例19
参考例20
cPLA2阻害活性を有するピロリジン化合物の工業的製造方法として有用な製造方法を提供する。 Provided is a production method useful as an industrial production method of a pyrrolidine compound having cPLA 2 inhibitory activity.
Claims (16)
R2は水素原子またはC1−C6アルキル;および
Proは保護基)
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、ニッケル、パラジウム、白金から選ばれる少なくとも一つの触媒存在下で水素添加反応に付することを特徴とする、一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩の製造方法。 Formula (I):
R 2 is a hydrogen atom or C1-C6 alkyl; and Pro is a protecting group)
Or a solvate thereof, or a salt thereof is subjected to a hydrogenation reaction in the presence of at least one catalyst selected from nickel, palladium, and platinum, represented by the general formula (II):
Or a solvate thereof, or a salt thereof.
(1)一般式(III):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、脱水剤存在下で脱水反応に付し、一般式(I):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(2)一般式(I):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、ニッケル、パラジウム、白金から選ばれる少なくとも一つの触媒存在下で水素添加反応に付する工程
を包含することを特徴とする、一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩の製造方法。 The following steps:
(1) General formula (III):
Or a solvate thereof, or a salt thereof is subjected to a dehydration reaction in the presence of a dehydrating agent, and is represented by the general formula (I):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(2) General formula (I):
And a solvate thereof, or a salt thereof, which is subjected to a hydrogenation reaction in the presence of at least one catalyst selected from nickel, palladium and platinum. II):
Or a solvate thereof, or a salt thereof.
(1)一般式(III):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、脱水剤存在下で脱水反応に付し、一般式(I):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(2)一般式(I):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、ニッケル、パラジウム、白金から選ばれる少なくとも一つ触媒存在下で水素添加反応に付し、一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(3)一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩と、一般式(IV):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩をアミド結合生成反応に付し、一般式(V):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(4)一般式(V):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を脱保護反応に付し、一般式(VI):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を得る工程、
(5)一般式(VI):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩と一般式(VII):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩をアミド結合生成反応に付する工程を包含することを特徴とする、一般式(VIII):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩の製造方法。 The following steps:
(1) General formula (III):
Or a solvate thereof, or a salt thereof is subjected to a dehydration reaction in the presence of a dehydrating agent, and is represented by the general formula (I):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(2) General formula (I):
Or a solvate thereof, or a salt thereof is subjected to a hydrogenation reaction in the presence of at least one catalyst selected from nickel, palladium, and platinum, and is represented by the general formula (II):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(3) General formula (II):
And a solvate thereof, or a salt thereof, and a general formula (IV):
Or a solvate thereof, or a salt thereof, is subjected to an amide bond formation reaction, and is represented by the general formula (V):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(4) General formula (V):
Or a solvate thereof, or a salt thereof, is subjected to a deprotection reaction to give a general formula (VI):
A compound represented by the formula: solvates thereof, or salts thereof;
(5) General formula (VI):
Or a solvate thereof, or a salt thereof and the general formula (VII):
A compound represented by the formula:
Or a solvate thereof, or a salt thereof.
で表わされる化合物のベンゼンスルホン酸塩、またはその溶媒和物。 Formula (IX):
Or a solvate thereof.
で表わされる化合物のベンゼンスルホン酸塩、またはその溶媒和物の、結晶。 Formula (IX):
A crystal of a benzenesulfonate salt of a compound represented by the formula:
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩。 Formula (XI):
Or a solvate thereof, or a salt thereof.
R2は水素原子またはC1−C6アルキル;および
Proは保護基)
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩を、水素化ホウ素ナトリウム、および酢酸と反応させることを特徴とする、一般式(II):
で表わされる化合物、その溶媒和物、またはそれらの塩の製造方法。 Formula (III):
R 2 is a hydrogen atom or C1-C6 alkyl; and Pro is a protecting group)
Or a solvate thereof, or a salt thereof, is reacted with sodium borohydride and acetic acid, represented by the general formula (II):
Or a solvate thereof, or a salt thereof.
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
CN1986548B (en) * | 2005-12-22 | 2010-05-26 | 上海药明康德新药开发有限公司 | Industrial continuous preparing process of N-tert-butoxy carbonyl-5-aza-2-oxa-3-one-dicyclo-[2,2,1] heptane |
CN1986547B (en) * | 2005-12-22 | 2010-05-26 | 上海药明康德新药开发有限公司 | Industrial preparing process of N-tert-butoxy carbonyl-5-aza-2-oxa-3-one-dicyclo-[2,2,1] heptance in one cauldron |
-
2004
- 2004-02-05 JP JP2004029899A patent/JP2005220079A/en not_active Withdrawn
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