JP2005216221A - Touch panel - Google Patents

Touch panel Download PDF

Info

Publication number
JP2005216221A
JP2005216221A JP2004025352A JP2004025352A JP2005216221A JP 2005216221 A JP2005216221 A JP 2005216221A JP 2004025352 A JP2004025352 A JP 2004025352A JP 2004025352 A JP2004025352 A JP 2004025352A JP 2005216221 A JP2005216221 A JP 2005216221A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent electrode
touch panel
refractive index
layer
panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004025352A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Nakano
実 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2004025352A priority Critical patent/JP2005216221A/en
Publication of JP2005216221A publication Critical patent/JP2005216221A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel having reduced light reflection inside the touch panel so as to increase light transmittance from a liquid crystal panel, etc., thereby improving the visibility of a display screen. <P>SOLUTION: The touch panel is structured of two substrates having transparent electrodes on the opposed surfaces with an air layer formed therebetween. On the transparent electrode of at least one substrate, there is provided a low reflection layer that has a refractive index greater than the refractive index of the air layer, and no greater than the refractive index of the transparent electrode, and is formed of such a pattern as to expose the transparent electrode. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、タッチパネルに関するものである。詳細は、タッチパネルの内部における光反射を低減し、表示画面の光透過率を向上するようにしたタッチパネルに関するものである。   The present invention relates to a touch panel. The details relate to a touch panel that reduces light reflection inside the touch panel and improves the light transmittance of the display screen.

近年、携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistance)、デジタルカメラ等の携帯情報端末機器では、操作性向上のため、タッチパネルが多用されるようになってきた。タッチパネルには、抵抗膜式、赤外線式、超音波式、電磁誘導式、静電容量式、表面弾性波方式など様々な方式が存在しているが、その中で最も一般的で、且つ、低価格なのが抵抗膜式タッチパネルである。   2. Description of the Related Art In recent years, touch panels have been frequently used in portable information terminal devices such as mobile phones, PDAs (Personal Digital Assistance), and digital cameras in order to improve operability. There are various types of touch panels such as resistive film type, infrared type, ultrasonic type, electromagnetic induction type, electrostatic capacitance type, and surface acoustic wave type. The price is a resistive touch panel.

図7に示すように、抵抗膜式タッチパネルは、上部パネル10Aと下部パネル10Bから構成され、上部パネル10Aと下部パネル10Bの間に非常に小さなスペーサ20を挟み、上部パネル10A及び下部パネル10Bの対面する表面には、縦及び横の直交するITO(Indium Tin Oxide)の抵抗膜による上部透明電極13a、下部透明電極13bがそれぞれ設けられている。   As shown in FIG. 7, the resistive touch panel is composed of an upper panel 10A and a lower panel 10B. A very small spacer 20 is sandwiched between the upper panel 10A and the lower panel 10B, and the upper panel 10A and the lower panel 10B. An upper transparent electrode 13a and a lower transparent electrode 13b made of an ITO (Indium Tin Oxide) resistance film orthogonal to each other are provided on the facing surfaces.

通常状態ではスペーサ20によって上部透明電極13aと下部透明電極13bが分離されているため電気は流れておらず、図7に示すように、ペン先などで上部パネル10Aを押下すると、その圧力で上部透明電極13aと下部透明電極13bが接触して通電し、このとき、接触点を境に上部透明電極13a及び下部透明電極13b上で生じる各抵抗値に基づく電圧比を測定することでタッチパネル上の位置を検出している。   In the normal state, since the upper transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b are separated by the spacer 20, electricity does not flow. As shown in FIG. 7, when the upper panel 10A is pressed with a pen tip or the like, The transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b are brought into contact with each other and energized. At this time, the voltage ratio based on each resistance value generated on the upper transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b is measured at the contact point. The position is detected.

図8は、抵抗膜式タッチパネルの構造及び動作回路を簡略化して例示した図であり、上部透明電極13aの抵抗膜によってX方向、下部透明電極13bの抵抗膜によってY方向の分圧比を測定しており、上部パネル10Aのある位置、点A(入力点)が押下されると、その圧力で上部透明電極13aと下部透明電極13bが接触して通電する。   FIG. 8 is a diagram exemplifying the structure and operation circuit of a resistive touch panel, in which the voltage dividing ratio in the X direction is measured by the resistive film of the upper transparent electrode 13a and in the Y direction by the resistive film of the lower transparent electrode 13b. When a position on the upper panel 10A, the point A (input point) is pressed, the upper transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b are brought into contact with each other by the pressure to energize.

このとき、上部透明電極13aにおいて、点A(入力点)を境に生じる抵抗値Rx1とRx2に応じた直流電圧Vx1及びVx2を測定し、下部透明電極13bにおいて、点A(入力点)を境に生じる抵抗値Ry1とRy2に応じた直流電圧Vy1及びVy2を測定する。   At this time, in the upper transparent electrode 13a, the DC voltages Vx1 and Vx2 corresponding to the resistance values Rx1 and Rx2 generated at the point A (input point) are measured, and in the lower transparent electrode 13b, the point A (input point) is the boundary. The DC voltages Vy1 and Vy2 corresponding to the resistance values Ry1 and Ry2 generated in the above are measured.

そして、測定した上部透明電極13a(X方向)の電圧比Vx1/Vx2、下部透明電極13b(Y方向)の電圧比Vy1/Vy2によって、タッチパネル上の点A(入力点)の位置を検出することができる。   Then, the position of the point A (input point) on the touch panel is detected by the measured voltage ratio Vx1 / Vx2 of the upper transparent electrode 13a (X direction) and the voltage ratio Vy1 / Vy2 of the lower transparent electrode 13b (Y direction). Can do.

ところで、このようなタッチパネルと液晶パネル(ディスプレイ)などを組み合わせた表示装置では、様々な材料で作られた部材を積層して構成しているため、各部材間の界面で屋外太陽光や室内蛍光灯からの光(入射光)が反射し、表示画面の視認性を悪化させてしまうという問題がある。   By the way, in a display device combining such a touch panel and a liquid crystal panel (display), members made of various materials are laminated, so that outdoor sunlight or indoor fluorescent light is formed at the interface between the members. There is a problem that the light (incident light) from the lamp is reflected and the visibility of the display screen is deteriorated.

そこで、液晶パネルとタッチパネルの間、あるいは、タッチパネルとパネル状補助照明装置の導光板の間、補助照明装置の導光体と光学フィルムの間等、液晶パネルに積層した各種部材間に当該部材とほぼ近似した屈折率をもつ物質を充填することによって外部からの入射光による反射を抑制する液晶表示装置などが考案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2000−275621号公報(第3−4頁、図1)
Therefore, between the liquid crystal panel and the touch panel, between the touch panel and the light guide plate of the panel-shaped auxiliary lighting device, between the light guide body of the auxiliary lighting device and the optical film, between the various members laminated on the liquid crystal panel, the member is almost the same. A liquid crystal display device or the like that suppresses reflection by incident light from the outside by filling a substance having an approximate refractive index has been devised (see, for example, Patent Document 1).
JP 2000-275621 A (page 3-4, FIG. 1)

ところが、抵抗膜式タッチパネルは、透明電極に屈折率の高い材料を用いるため、屋外太陽光や室内蛍光灯からの光(入射光)がタッチパネルの内部で反射してしまい、表示画面の視認性を悪化させてしまうという問題がある。   However, since the resistive touch panel uses a material with a high refractive index for the transparent electrode, outdoor sunlight or light from the indoor fluorescent lamp (incident light) is reflected inside the touch panel, and the visibility of the display screen is reduced. There is a problem of making it worse.

具体的には、図9に示すように、上部基板11aと下部基板11bの間の空隙(以下、空気層)と上部透明電極13a/下部透明電極13bとの界面Sa/Sbにおける反射光ra/rbや、上部基板11aと透明電極13aとの界面S13a及び下部基板11bと透明電極13bと界面S13bにおける反射光r13が大きいため、液晶パネルなどの視認性を悪化させてしまう。   Specifically, as shown in FIG. 9, the reflected light ra / Sb at the interface Sa / Sb between the gap (hereinafter referred to as air layer) between the upper substrate 11a and the lower substrate 11b and the upper transparent electrode 13a / lower transparent electrode 13b. Since rb and the reflected light r13 at the interface S13a between the upper substrate 11a and the transparent electrode 13a and the lower substrate 11b, the transparent electrode 13b and the interface S13b are large, the visibility of the liquid crystal panel and the like is deteriorated.

これは、図9における上部基板11a及び下部基板11bに設けられる上部透明電極13a/下部透明電極13bの屈折率が1.8〜2.0程度であるのに対し、上部基板11aや下部基板11bを形成するフィルム・プラスチック・ガラスなどの材料の屈折率が1.3〜1.6程度、また、空気層の屈折率が1.0であるため、上部透明電極13a/下部透明電極13bと空気層、上部透明電極13a/下部透明電極13bと上部基板11a/下部基板11bとの屈折率の差が大きく、上部透明電極13a/下部透明電極13bとの界面Sa/Sb及び界面S13a/S13bにおける反射率が大きくなってしまうからである。   This is because the refractive index of the upper transparent electrode 13a / lower transparent electrode 13b provided on the upper substrate 11a and the lower substrate 11b in FIG. 9 is about 1.8 to 2.0, whereas the upper substrate 11a and the lower substrate 11b. Since the refractive index of the film, plastic, glass, or the like forming the film is about 1.3 to 1.6 and the refractive index of the air layer is 1.0, the upper transparent electrode 13a / the lower transparent electrode 13b and the air The difference in refractive index between the upper transparent electrode 13a / lower transparent electrode 13b and the upper substrate 11a / lower substrate 11b is large, and reflection at the interface Sa / Sb and the interface S13a / S13b between the upper transparent electrode 13a / lower transparent electrode 13b. This is because the rate will increase.

そこで、タッチパネル内面における光反射を低減するため、上部及び下部基板と透明電極との間に、両者の中間程度の屈折率を有する低反射層を1層〜数層形成することで、入射光に対する反射を小さくし、タッチパネルの下部にある液晶画面などの視認性を改善することができる。   Therefore, in order to reduce light reflection on the inner surface of the touch panel, by forming one to several layers of a low reflection layer having an intermediate refractive index between the upper and lower substrates and the transparent electrode, The reflection can be reduced and the visibility of the liquid crystal screen or the like at the bottom of the touch panel can be improved.

例えば、図10のように、上部基板11aと上部透明電極13aの間、及び下部基板11bと下部透明電極13bの間に、両者の中間程度の屈折率を有する低反射層12a/12bを形成することで、上部基板11aと上部透明電極13a及び下部基板11bと下部透明電極13bとの間の屈折率の差が小さくなり、図11に示すように、低反射層を形成していない場合の反射光r13(図9参照)に比べ、入射光Lに対する反射光r23は抑制されることになる。   For example, as shown in FIG. 10, the low reflective layer 12a / 12b having a refractive index intermediate between the upper substrate 11a and the upper transparent electrode 13a and between the lower substrate 11b and the lower transparent electrode 13b is formed. Thus, the difference in refractive index between the upper substrate 11a and the upper transparent electrode 13a and the lower substrate 11b and the lower transparent electrode 13b is reduced, and the reflection when the low reflection layer is not formed as shown in FIG. Compared with the light r13 (see FIG. 9), the reflected light r23 with respect to the incident light L is suppressed.

しかしながら、図11に示すように、タッチパネル内部の上部透明電極13aと下部透明電極13bとの間は導通可能な状態としておかなければならないため、上部透明電極13a及び下部透明電極13bと空気層との界面における光反射を低減することができず、表示画面の視認性が十分でないという問題がある。   However, as shown in FIG. 11, since the upper transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b inside the touch panel must be in a conductive state, the upper transparent electrode 13a, the lower transparent electrode 13b, and the air layer There is a problem that the light reflection at the interface cannot be reduced and the visibility of the display screen is not sufficient.

従って、タッチパネル内部における光反射を低減し、液晶パネルなどからの光透過性を向上させて表示画面の視認性を改善することに解決しなければならない課題を有する。   Therefore, there is a problem to be solved by reducing the light reflection inside the touch panel and improving the visibility of the display screen by improving the light transmittance from the liquid crystal panel or the like.

前記課題を解決するため、本発明に係るタッチパネルは次のような構成にすることである。   In order to solve the above problems, the touch panel according to the present invention is configured as follows.

(1)対向する表面に透明電極を設けた二枚の基板の間に空気層を形成して成るタッチパネルであって、少なくとも前記一方の基板の透明電極上に、前記空気層の屈折率以上で、且つ、前記透明電極の屈折率以下の屈折率を有し、該透明電極が露出するようなパターンによって形成した低反射層を設けたことを特徴とするタッチパネル。
(2)前記パターン化した低反射層は、前記露出する透明電極の面積が前記基板の全面積の50%以下であることを特徴とする(1)に記載のタッチパネル。
(3)前記パターン化した低反射層は、厚さが1.0μm以下であることを特徴とする(1)に記載のタッチパネル。
(4)前記パターン化した低反射層は、屈折率が1.1〜1.8の範囲内であることを特徴とする(1)に記載のタッチパネル。
(5)前記パターン化した低反射層は、前記二枚の基板両方に形成するときに、前記露出する透明電極の位置が同じ位置に形成してあることを特徴とする(1)に記載のタッチパネル。
(1) A touch panel in which an air layer is formed between two substrates provided with transparent electrodes on opposite surfaces, at least on the transparent electrode of the one substrate with a refractive index equal to or higher than the refractive index of the air layer. A touch panel comprising a low reflective layer having a refractive index equal to or lower than the refractive index of the transparent electrode and formed by a pattern exposing the transparent electrode.
(2) The touch panel according to (1), wherein the patterned low reflective layer has an area of the exposed transparent electrode of 50% or less of a total area of the substrate.
(3) The touch panel according to (1), wherein the patterned low reflective layer has a thickness of 1.0 μm or less.
(4) The touch panel according to (1), wherein the patterned low reflective layer has a refractive index in a range of 1.1 to 1.8.
(5) The patterned low-reflection layer is formed on both of the two substrates, and the exposed transparent electrode is formed at the same position. (1) Touch panel.

このように、少なくともどちらか一方の基板の透明電極上に空気層の屈折率以上で、且つ、透明電極の屈折率以下の屈折率を有し、透明電極が露出するようなパターンによって形成した低反射層を設けることで、透明電極と空気層との屈折率の差が小さくなり、空気層との界面における光反射が低減する。   Thus, on the transparent electrode of at least one of the substrates, the low refractive index is higher than the refractive index of the air layer and lower than the refractive index of the transparent electrode, and is formed by a pattern that exposes the transparent electrode. By providing the reflective layer, the difference in refractive index between the transparent electrode and the air layer is reduced, and light reflection at the interface with the air layer is reduced.

本発明のタッチパネルは、少なくともどちらか一方基板の透明電極上に、空気層の屈折率と透明電極の屈折率の中間程度の屈折率を有し、透明電極が露出するようにパターン化した低反射層を形成することにより、透明電極と空気層との屈折率の差が小さくなり、空気層との界面における光反射が低減することでタッチパネル内部の光反射が抑制され、タッチパネルの下部にある液晶パネルなどからの光透過率が向上し、画面の視認性が改善されるという優れた効果を奏するものである。   The touch panel of the present invention has low refractive index which is patterned so that the transparent electrode is exposed on at least one of the transparent electrodes of the substrate, having a refractive index which is about the middle of the refractive index of the air layer and the transparent electrode. By forming the layer, the difference in refractive index between the transparent electrode and the air layer is reduced, and the light reflection at the interface with the air layer is reduced, so that the light reflection inside the touch panel is suppressed, and the liquid crystal at the bottom of the touch panel The light transmittance from a panel etc. improves and there exists an outstanding effect that the visibility of a screen is improved.

次に、本発明のタッチパネルによる実施の形態について図面を参照して説明する。但し、図面は専ら解説のためのものであって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。   Next, embodiments of the touch panel according to the present invention will be described with reference to the drawings. However, the drawings are only for explanation, and do not limit the technical scope of the present invention.

図1は、本発明に係る抵抗膜式のタッチパネルの構造を例示したものであり、上部パネル10Aと下部パネル10Bから構成され、上部パネル10Aと下部パネル10Bの間に挟んだスペーサ20によって空気層が形成される。   FIG. 1 illustrates the structure of a resistive film type touch panel according to the present invention, which is composed of an upper panel 10A and a lower panel 10B, and an air layer is formed by a spacer 20 sandwiched between the upper panel 10A and the lower panel 10B. Is formed.

上部パネル10A及び下部パネル10Bを構成する上部基板11a/下部基板11bには、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PC(ポリカーボネート)、PVA(ポリビニールアルコール)などの材料からなるフィルムや、プラスチック、ガラスなどが用いられている。   The upper substrate 11a / lower substrate 11b constituting the upper panel 10A and the lower panel 10B include films made of materials such as PET (polyethylene terephthalate), PC (polycarbonate), PVA (polyvinyl alcohol), plastic, glass, and the like. It is used.

この上部基板11a/下部基板11b上には、それぞれ上部低反射層12a/下部低反射層12bが形成され、上部低反射層12a/下部低反射層12bの表面にはITO(Indium Tin Oxide)などの抵抗膜による上部透明電極13a/下部透明電極13bが形成され、スペーサ20を挟んで上部透明電極13aと下部透明電極13bが対面するように配置される。   An upper low reflection layer 12a / lower low reflection layer 12b are formed on the upper substrate 11a / lower substrate 11b, respectively, and the surface of the upper low reflection layer 12a / lower low reflection layer 12b is ITO (Indium Tin Oxide) or the like. The upper transparent electrode 13a / the lower transparent electrode 13b are formed by the resistance film, and the upper transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b are arranged to face each other with the spacer 20 in between.

そして、上部透明電極13aと下部透明電極13bの両方、若しくは、どちらか一方の上層部には、所定のパターンによって形成した低反射層30(以下、パターン化低反射層30)を設ける。図1では、下部透明電極13bの上層部にパターン化低反射層30を形成している。   A low reflection layer 30 (hereinafter referred to as a patterned low reflection layer 30) formed in a predetermined pattern is provided on the upper layer portion of either or both of the upper transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b. In FIG. 1, the patterned low reflection layer 30 is formed in the upper layer part of the lower transparent electrode 13b.

パターン化低反射層30とは、上部パネル10Aと下部パネル10Bの間に挟むスペーサ20によって形成される空気層の屈折率n1と上部透明電極13a/下部透明電極13bの屈折率n2との中間の屈折率nを有する材料、例えば、屈折率nが1.1〜1.8程度の材料を用いて、下層となる上部透明電極13a/下部透明電極13bを露出するような形状のパターンで形成する低反射層であり、低反射パターン層の厚みは1.0[μm]以下とする。   The patterned low reflective layer 30 is an intermediate between the refractive index n1 of the air layer formed by the spacer 20 sandwiched between the upper panel 10A and the lower panel 10B and the refractive index n2 of the upper transparent electrode 13a / lower transparent electrode 13b. Using a material having a refractive index n, for example, a material having a refractive index n of about 1.1 to 1.8, a pattern having a shape that exposes the upper transparent electrode 13a / lower transparent electrode 13b as the lower layer is formed. It is a low reflection layer, and the thickness of the low reflection pattern layer is 1.0 [μm] or less.

なお、パターン化低反射層30は、上部透明電極13aと下部透明電極13bの両方、若しくは、どちらか一方の上層部に形成するものであるが、上下両方に形成する場合、上部透明電極13a及び下部透明電極13bが露出する部分の位置を合わせる。これにより、図1のようにペン先などで押下した場合であっても、上部透明電極13aや下部透明電極13bの露出している部分が上下で接触して導通状態が確保される。   The patterned low reflective layer 30 is formed on both the upper transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b, or on the upper layer of either one, but when formed on both the upper and lower sides, the upper transparent electrode 13a and The portion where the lower transparent electrode 13b is exposed is aligned. Thereby, even when it is pressed with a pen tip or the like as shown in FIG. 1, the exposed portions of the upper transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b come into contact with each other in the vertical direction to ensure a conductive state.

図2(a)は、上部又は下部基板の透明電極上にパターン化低反射層30を形成したときの斜視図、図2(b)は、その断面図であり、下から基板11、低反射層12、透明電極13、パターン化低反射層30の順に形成される。   2A is a perspective view when the patterned low-reflection layer 30 is formed on the transparent electrode of the upper or lower substrate, and FIG. 2B is a cross-sectional view of the substrate 11 from the bottom. The layer 12, the transparent electrode 13, and the patterned low reflection layer 30 are formed in this order.

例えば、円形パターンによりパターン化低反射層30を形成する場合、図3のように、水平方向、垂直方向共に1.0[mm]以下のピッチ間隔で等間隔にくり貫いた形状の円形パターンをフレキソ印刷やスクリーン印刷などによる印刷法やフォトリソ法などによって透明電極13上にパターニングする。   For example, when the patterned low reflective layer 30 is formed by a circular pattern, as shown in FIG. 3, a circular pattern having a shape that is cut at equal intervals of 1.0 [mm] or less in both the horizontal direction and the vertical direction is formed. Patterning is performed on the transparent electrode 13 by a printing method such as flexographic printing or screen printing or a photolithographic method.

なお、パターンの形状やそのサイズ(円の大きさなど)は任意であり、また、パターンのピッチ間隔は不均一であってもよい。例えば、図4(a)のように、円形にくり貫いた形状のパターンを形成したり、図4(b)のように円形部分のみを残した形状のパターンを形成することも可能であるが、透明電極13の露出部の面積を全面積(基板の全面積)の50[%]程度、好ましくは50[%]以下にすることで、上部透明電極13aや下部透明電極13bの露出している部分で導通状態を確保し、露出していない部分が光反射を低減する。   Note that the shape of the pattern and its size (circle size, etc.) are arbitrary, and the pitch interval of the pattern may be non-uniform. For example, as shown in FIG. 4 (a), it is possible to form a pattern with a circular shape, or as shown in FIG. 4 (b), a pattern with a shape that leaves only a circular portion can be formed. By setting the area of the exposed portion of the transparent electrode 13 to about 50% of the total area (total area of the substrate), preferably 50% or less, the upper transparent electrode 13a and the lower transparent electrode 13b are exposed. A conductive state is ensured in a portion where the light is present, and light reflection is reduced in a portion where the light is not exposed.

このように、空気層の屈折率n1と透明電極の屈折率n2との中間の屈折率n(n1<n<n2)を有するパターン化低反射層30を透明電極13上に1層以上形成することで、空気層と透明電極13との屈折率の差を小さくし、空気層との界面における光反射を低減させることができる。   Thus, one or more patterned low-reflection layers 30 having a refractive index n (n1 <n <n2) intermediate between the refractive index n1 of the air layer and the refractive index n2 of the transparent electrode are formed on the transparent electrode 13. Thus, the difference in refractive index between the air layer and the transparent electrode 13 can be reduced, and light reflection at the interface with the air layer can be reduced.

例えば、図5(a)に示すように、パターン化低反射層30を上部透明電極13a上に形成すると、空気層と上部透明電極13aとの屈折率の差が小さくなり、界面Saでの反射光ra’が低減される。また、図5(b)に示すように、上部パネル10A/下部パネル10Bの上部透明電極13a/下部透明電極13b上にそれぞれパターン化低反射層30a/30bを形成することで、空気層と上部透明電極13a/下部透明電極13bとの屈折率の差が小さくなり、それぞれの界面Sa/Sbにおける反射光ra’/rb’が共に低減されることになる。   For example, as shown in FIG. 5A, when the patterned low reflection layer 30 is formed on the upper transparent electrode 13a, the difference in refractive index between the air layer and the upper transparent electrode 13a is reduced, and reflection at the interface Sa is performed. The light ra ′ is reduced. Further, as shown in FIG. 5 (b), by forming patterned low reflective layers 30a / 30b on the upper transparent electrode 13a / lower transparent electrode 13b of the upper panel 10A / lower panel 10B, respectively, The difference in refractive index between the transparent electrode 13a / the lower transparent electrode 13b is reduced, and the reflected light ra '/ rb' at each interface Sa / Sb is reduced.

なお、パターン化低反射層30における分光反射特性グラフは、図6に示すように、透明電極13が露出している部分(以下、露出部)の反射率(二点鎖線)と、透明電極13が露出していない部分(以下、非露出部)の反射率(点線)が異なった状態であり、露出部の反射率は低減されていないが、実際に液晶パネルなどの表示画面を見た場合の反射率は、露出部の反射率と非露出部の反射率が混合され、平均化された反射率(実線)となって視認されることになる。   In addition, as shown in FIG. 6, the spectral reflection characteristic graph in the patterned low-reflection layer 30 includes the reflectance (two-dot chain line) of the portion where the transparent electrode 13 is exposed (hereinafter, the exposed portion) and the transparent electrode 13. When the reflectance (dotted line) of the part where is not exposed (hereinafter referred to as non-exposed part) is different and the reflectance of the exposed part is not reduced, but when the display screen such as a liquid crystal panel is actually viewed The reflectance of the exposed portion and the reflectance of the non-exposed portion are mixed, and the reflectance is averaged (solid line) and is visually recognized.

そのため、パターン化低反射層30を形成するときのパターンに応じて、透明電極の露出部と非露出部との割合を適当に選択することで、入射光に対する空気層と透明電極13の界面における光反射率が低減してタッチパネル内部の光反射が抑制され、それに伴ってタッチパネルの下部にある液晶ディスプレイなどの光透過性が向上し、表示画面の視認性が向上することになる。   Therefore, by appropriately selecting the ratio of the exposed portion and the non-exposed portion of the transparent electrode according to the pattern when the patterned low reflective layer 30 is formed, at the interface between the air layer and the transparent electrode 13 with respect to incident light. The light reflectance is reduced and the light reflection inside the touch panel is suppressed. Accordingly, the light transmittance of a liquid crystal display or the like under the touch panel is improved, and the visibility of the display screen is improved.

本願発明に係るタッチパネルの構造を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the touchscreen which concerns on this invention. 本願発明に係るタッチパネルの構成を簡略化して示した斜視図及び断面図である。It is the perspective view and sectional drawing which simplified and showed the structure of the touchscreen which concerns on this invention. 本願発明のタッチパネルを構成するパターン化低反射層を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the patterned low reflection layer which comprises the touchscreen of this invention. 本願発明のタッチパネルを構成するパターン化低反射層の一例を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed an example of the patterning low reflection layer which comprises the touchscreen of this invention. 本願発明のタッチパネルにおける入射光と反射光の状態を模式化して示した説明図である。It is explanatory drawing which showed typically the state of the incident light and reflected light in the touchscreen of this invention. 本願発明のタッチパネルを構成するパターン化低反射層の分光反射特性を示したグラフである。It is the graph which showed the spectral reflection characteristic of the patterned low reflection layer which comprises the touchscreen of this invention. 抵抗膜式タッチパネルの構造を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of a resistive touch panel. 抵抗膜式タッチパネルの動作原理を説明するための模式図及び回路図である。It is the schematic diagram and circuit diagram for demonstrating the principle of operation of a resistive film type touch panel. 図7に示したタッチパネルにおける入射光と反射光の状態を模式化して示した説明図である。It is explanatory drawing which showed typically the state of the incident light and reflected light in the touch panel shown in FIG. 低反射層を有する抵抗膜式タッチパネルの構造を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the resistive film type touch panel which has a low reflection layer. 図10に示したタッチパネルにおける入射光と反射光の状態を模式化して示した説明図である。It is explanatory drawing which showed typically the state of the incident light and reflected light in the touch panel shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10;パネル
11;基板
12;低反射層
13;透明電極
20;スペーサ
30;パターン化低反射層
10A;上部パネル
11a;上部基板
12a;上部低反射層
13a;上部透明電極
10B;下部パネル
11b;下部基板
12b;下部低反射層
13b;下部透明電極
30a,30b;パターン化低反射層
L;入射光
S13;基板と透明電極の界面
Sa,Sb;空気層との界面
r13;S13における反射光
r23;低反射層により反射率が低減された反射光
ra,rb;空気層との界面における反射光
ra’,rb’;パターン化低反射層により反射率が低減された反射光
10; Panel 11; Substrate 12; Low reflective layer 13; Transparent electrode 20; Spacer 30; Patterned low reflective layer 10A; Upper panel 11a; Upper substrate 12a; Upper low reflective layer 13a; Lower substrate 12b; lower low reflection layer 13b; lower transparent electrodes 30a, 30b; patterned low reflection layer L; incident light S13; interface Sa, Sb between substrate and transparent electrode; interface r13 with air layer; reflected light r23 at S13 Reflected light ra, rb whose reflectance is reduced by the low reflective layer; reflected light ra ′, rb ′ at the interface with the air layer; reflected light whose reflectance is reduced by the patterned low reflective layer

Claims (5)

対向する表面に透明電極を設けた二枚の基板の間に空気層を形成して成るタッチパネルであって、
少なくとも前記一方の基板の透明電極上に、前記空気層の屈折率以上で、且つ、前記透明電極の屈折率以下の屈折率を有し、該透明電極が露出するようなパターンによって形成した低反射層を設けたこと
を特徴とするタッチパネル。
A touch panel formed by forming an air layer between two substrates provided with transparent electrodes on opposite surfaces,
Low reflection formed on a transparent electrode of at least one of the substrates by a pattern that has a refractive index that is greater than or equal to the refractive index of the air layer and less than or equal to the refractive index of the transparent electrode and that exposes the transparent electrode. A touch panel characterized by providing a layer.
前記パターン化した低反射層は、前記露出する透明電極の面積が前記基板の全面積の50%以下であること
を特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
The touch panel as set forth in claim 1, wherein the patterned low reflective layer has an area of the exposed transparent electrode of 50% or less of the total area of the substrate.
前記パターン化した低反射層は、厚さが1.0μm以下であること
を特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
The touch panel as set forth in claim 1, wherein the patterned low reflective layer has a thickness of 1.0 μm or less.
前記パターン化した低反射層は、屈折率が1.1〜1.8の範囲内であること
を特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
The touch panel as set forth in claim 1, wherein the patterned low reflective layer has a refractive index in a range of 1.1 to 1.8.
前記パターン化した低反射層は、前記二枚の基板両方に形成するときに、前記露出する透明電極の位置が同じ位置に形成してあること
を特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。
The touch panel according to claim 1, wherein when the patterned low reflection layer is formed on both of the two substrates, the exposed transparent electrode is formed at the same position.
JP2004025352A 2004-02-02 2004-02-02 Touch panel Pending JP2005216221A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004025352A JP2005216221A (en) 2004-02-02 2004-02-02 Touch panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004025352A JP2005216221A (en) 2004-02-02 2004-02-02 Touch panel

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005216221A true JP2005216221A (en) 2005-08-11

Family

ID=34907759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004025352A Pending JP2005216221A (en) 2004-02-02 2004-02-02 Touch panel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005216221A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101968700A (en) * 2010-10-26 2011-02-09 广东威创视讯科技股份有限公司 Ultrasonic and infrared combined positioning device and positioning method thereof
CN101593063B (en) * 2009-04-29 2012-01-04 香港应用科技研究院有限公司 A sensing system of a touch sensitive device
JP2013097692A (en) * 2011-11-04 2013-05-20 Japan Display East Co Ltd Touch panel
JP2016154047A (en) * 2016-05-17 2016-08-25 株式会社ジャパンディスプレイ Display device
KR102057655B1 (en) 2013-03-07 2019-12-23 삼성디스플레이 주식회사 Touch Screen Panel

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101593063B (en) * 2009-04-29 2012-01-04 香港应用科技研究院有限公司 A sensing system of a touch sensitive device
CN101968700A (en) * 2010-10-26 2011-02-09 广东威创视讯科技股份有限公司 Ultrasonic and infrared combined positioning device and positioning method thereof
JP2013097692A (en) * 2011-11-04 2013-05-20 Japan Display East Co Ltd Touch panel
KR102057655B1 (en) 2013-03-07 2019-12-23 삼성디스플레이 주식회사 Touch Screen Panel
JP2016154047A (en) * 2016-05-17 2016-08-25 株式会社ジャパンディスプレイ Display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101668827B1 (en) Light-transmissive electrode
KR200476809Y1 (en) Touch electrode device
JP2010231783A (en) Touch screen module with protector window
JPWO2011033907A1 (en) Touch panel and display device including the same
TW200403498A (en) Light guide plate and liquid crystal display having the same
TW201327315A (en) Conductive sheet and touch panel
TW201211857A (en) Display device with touch detection function, touch detection device, and electronic unit
US20130213788A1 (en) Touch panel
US9036240B2 (en) Electronic paper display
TW201020654A (en) Liquid crystal display device and a method of manufacturing the same
US9921671B2 (en) Touch projection screen and manufacturing method thereof
CN105138191A (en) Touch display device and manufacturing method thereof
US11086160B2 (en) Light control device
JP2017068830A (en) Touch display device
TWI684118B (en) Display device with pressure sensing
KR101684392B1 (en) Touch Screen Panel
CN104297973B (en) Touch display screen
KR20130117100A (en) Touch panel
KR20120110885A (en) Touch sensor intergrated with a polarizer and display device comprising the same
JP2005216221A (en) Touch panel
JP2012138019A (en) Display device with touch panel
JP6465393B2 (en) Manufacturing method of conductive pattern sheet, conductive pattern sheet, touch panel sensor and conductive mask provided with conductive pattern sheet
JP2014186687A (en) Electrode substrate for touch panel, touch panel and image display device
CN110989863A (en) Touch panel and display device
JP3516848B2 (en) Touch panel

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060829

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090219

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090616