JP2005213168A - Isoxazolin-3-yl derivative and herbicide containing the same as active ingredient - Google Patents

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Daisuke Yamawaki
大輔 山脇
Masahisa Nakatani
昌央 中谷
Mikio Yamaguchi
幹夫 山口
Shu Fujinami
藤波  周
Ryohei Ueno
良平 上野
Satoshi Takahashi
智 高橋
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Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an isoxazolin-3-yl derivative having an excellent herbicidal effect and excellent selectivity between crops and weeds or its pharmacologically acceptable salt. <P>SOLUTION: This herbicide contains an isoxazolin-3-yl derivative represented by general formula [I] [R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are each independently H, a halogen atom, a 1 to 10C alkyl, or a 3 to 8C cycloalkyl; Q is formula Q<SP>1</SP>or formula Q<SP>2</SP>; R<SP>3</SP>is H, a halogen atom, a 1 to 10C alkyl, a 3 to 8C cycloalkyl; R<SP>4</SP>and R<SP>5</SP>are each independently H, a 1 to 10C alkyl, a 2 to 6C alkenyl or a 2 to 6C alkynyl which may be substituted; (n) is an integer of 0 to 2] or its pharmacologically acceptable salt as an active ingredient. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は新規なイソオキサゾリン−3−イル誘導体及びそれを有効成分として含有する除草剤に関するものである。 The present invention relates to a novel isoxazolin-3-yl derivative and a herbicide containing it as an active ingredient.

イソオキサゾリン−3−イル誘導体が除草活性を有することは、例えば、特許文献1〜7等に報告されている。しかしながら本発明化合物はこれらの文献に記載されていない。
特開平8−225548号公報 特開平9−328477号公報 特開平9−328483号公報 WO01/012613号公報 WO02/062770号公報 WO03/000686号公報 WO03/010165号公報
For example, Patent Documents 1 to 7 report that isoxazolin-3-yl derivatives have herbicidal activity. However, the compounds of the present invention are not described in these documents.
JP-A-8-225548 JP-A-9-328477 Japanese Patent Laid-Open No. 9-328483 WO01 / 012613 WO02 / 062770 WO03 / 000686 Publication WO03 / 010165 publication

有用作物に対して使用される除草剤は、土壌又は茎葉に施用し、低薬量で十分な除草効果を示し、しかも作物・雑草間に高い選択性を発揮する薬剤であることが望まれる。 It is desired that the herbicide used for useful crops is an agent that is applied to soil or foliage, exhibits a sufficient herbicidal effect at a low dose, and exhibits high selectivity between crops and weeds.

本発明者らはこの様な状況に鑑み、除草効果と作物・雑草間の選択性を検討した結果、新規なイソオキサゾリン−3−イル誘導体が、優れた除草効果と作物・雑草間の選択性を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。 In view of such circumstances, the present inventors have examined the herbicidal effect and the selectivity between crops and weeds. As a result, the novel isoxazolin-3-yl derivative has an excellent herbicidal effect and selectivity between crops and weeds. As a result, the present invention has been completed.

即ち、本発明は、
(1)一般式[I]を有するイソオキサゾリン−3−イル誘導体又はその薬理上許容される塩:
That is, the present invention
(1) An isoxazolin-3-yl derivative having the general formula [I] or a pharmacologically acceptable salt thereof:

Figure 2005213168
Figure 2005213168

式中、R及びRは、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、C〜C10アルキル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルキニル基、C〜C10ハロアルキル基、C〜C10アルコキシ基、置換基群αで置換されていてもよいフェニル基、−C(=O)−Z−R基、シアノ基、C〜C10アルキルチオ基、C〜C10アルキルスルフィニル基又はC〜C10アルキルスルホニル基を表し、さらにR及びRはこれらの結合した炭素原子と共にC〜Cの炭素環を形成してもよく、Qは、式Q又は式Qを表し、 In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, a C 3 -C 8 cycloalkyl group, a C 2 -C 6 alkenyl group, or a C 2 -C. 6 alkynyl group, C 1 -C 10 haloalkyl group, C 1 -C 10 alkoxy group, phenyl group optionally substituted by substituent group α, —C (═O) —Z—R 6 group, cyano group, C 1 -C 10 alkylthio group, C 1 -C 10 alkylsulfinyl group or C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, and R 1 and R 2 together with these bonded carbon atoms are C 3 -C 7 carbocycles may form a, Q is represents a formula Q 1 or formula Q 2,

Figure 2005213168
Figure 2005213168

は、水素原子、ハロゲン原子、C〜C10アルキル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルキニル基、C〜C10ハロアルキル基、置換基群αで置換されていてもよいフェニル基、置換基群αで置換されていてもよいヘテロ環基、−C(=O)−Z−R基、又は−ZR基を表し、R及びRは、互いに独立して、水素原子、置換基群βで置換されていてもよいC〜C10アルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルキニル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜C10アルコキシカルボニル基、−C(=O)−Z−R基、C〜C10アルキルチオカルボニル基、カルボキシル基又は置換されていてもよいフェニル基を表し、
さらにR及びRはこれらの結合した炭素原子と共にC〜Cの炭素環を形成してもよく、
Zは、O、S又はNRを表し、
及びRは、互いに独立して、
水素原子、C〜C10アルキル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルキニル基、C〜C10ハロアルキル基、C〜C10アルコキシ基又は置換基群αで置換されていてもよいフェニル基を表し、
nは、0〜2の整数を示す。
「置換基群α」
水酸基、ハロゲン原子、C〜C10アルキル基、置換基群γでモノ置換されたC〜C10アルキル基、C〜Cハロアルキル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜C10アルコキシ基、置換基群δでモノ置換されたC〜C10アルコキシ基、C〜Cハロアルコキシ基、C〜Cシクロアルキルオキシ基、C〜CシクロアルキルC〜Cアルキルオキシ基、C〜C10アルキルチオ基、置換基群δでモノ置換されたC〜C10アルキルチオ基、C〜Cハロアルキルチオ基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルケニルオキシ基、C〜Cアルキニル基、C〜Cアルキニルオキシ基、C〜C10アルキルスルフィニル基、C〜C10アルキルスルホニル基、置換基群δでモノ置換されたC〜C10アルキルスルホニル基、C〜Cハロアルキルスルホニル基、C〜C10アルキルスルホニルオキシ基、C〜Cハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、C〜Cアシル基、C〜Cハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、C〜C10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基(該基の窒素原子は同一又は異なって、C〜C10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい)、C〜Cアシオキシ基、C〜Cハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基(該基の窒素原子は同一又は異なって、C〜C10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、C〜Cアシル基、C〜Cハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、C〜C10アルキルスルホニル基、C〜Cハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい)
「置換基群β」
同一若しくは相異なる1〜3個のハロゲン原子、水酸基、C〜Cシクロアルキル基、C〜C10アルコキシ基、C〜C10アルキルカルボニル基、C〜C10アルキルチオ基、C〜C10アルキルスルフィニル基、C〜C10アルキルスルホニル基、C〜C10アルキルアミノ基、ジ(C〜C10アルキル)アミノ基、シアノ基、C〜C10アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ(C〜C10アルキル)カルバモイル基、ジ(C〜C10アルキル)カルバモイル基、C〜C10アルキルチオカルボニル基、カルボキシル基、置換されていてもよいベンジルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基又は置換されていてもよいフェニル基
「置換基群γ」
水酸基、C〜Cシクロアルキル基(該基はハロゲン原子又はC〜Cアルキル基で置換されてもよい)、C〜C10アルコキシ基、C〜C10アルキルチオ基、C〜C10アルキルスルホニル基、C〜C10アルコキシカルボニル基、C〜Cハロアルケニル基、アミノ基(該基の窒素原子は同一又は異なって、C〜C10アルキル基、C〜Cアシル基、C〜Cハロアルキルカルボニル基、C〜C10アルキルスルホニル基、C〜Cハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい)、モノ(C〜C10アルキル)カルバモイル基、ジ(C〜C10アルキル)カルバモイル基、カルバモイル基、C〜Cアシル基、C〜Cハロアルキルカルボニル基、C〜C10アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基
「置換基群δ」
〜C10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基
(2)(1)に記載のイソオキサゾリン−3−イル誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する除草剤。
R 3 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 to C 10 alkyl group, a C 3 to C 8 cycloalkyl group, a C 2 to C 6 alkenyl group, a C 2 to C 6 alkynyl group, or a C 1 to C 10 haloalkyl group. Represents a phenyl group which may be substituted with a substituent group α, a heterocyclic group which may be substituted with a substituent group α, a —C (═O) —Z—R 6 group or a —ZR 6 group. , R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group optionally substituted with a substituent group β, a C 2 -C 6 alkenyl group, a C 2 -C 6 alkynyl group. , C 3 -C 8 cycloalkyl group, C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, -C (= O) -Z- R 6 group, C 1 -C 10 alkyl thio group may be a carboxyl group or a substituted Represents a phenyl group,
R 4 and R 5 together with these bonded carbon atoms may form a C 3 to C 7 carbocycle,
Z represents O, S or NR 7 ;
R 6 and R 7 are independently of each other
Hydrogen atom, C 1 -C 10 alkyl group, C 3 -C 8 cycloalkyl group, C 2 -C 6 alkenyl group, C 2 -C 6 alkynyl group, C 1 -C 10 haloalkyl group, C 1 -C 10 alkoxy Represents a phenyl group which may be substituted with a group or substituent group α,
n shows the integer of 0-2.
`` Substituent group α ''
A hydroxyl group, a halogen atom, C 1 -C 10 alkyl groups, mono-substituted with a substituent group γ the C 1 -C 10 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl groups, C 3 -C 8 cycloalkyl group, C 1 ~ C 10 alkoxy group, C 1 -C 10 alkoxy group monosubstituted by substituent group δ, C 1 -C 4 haloalkoxy group, C 3 -C 8 cycloalkyloxy group, C 3 -C 8 cycloalkyl C 1 -C 3 alkyloxy groups, C 1 -C 10 alkylthio group, mono-substituted with a substituent group δ a C 1 -C 10 alkylthio groups, C 1 -C 4 haloalkylthio groups, C 2 -C 6 alkenyl groups, C 2 -C 6 alkenyloxy group, C 2 -C 6 alkynyl group, C 2 -C 6 alkynyloxy group, C 1 -C 10 alkylsulfinyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group Mono-substituted with a substituent group δ a C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyloxy group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group, optionally substituted An optionally substituted phenyl group, an optionally substituted phenoxy group, an optionally substituted phenylthio group, an optionally substituted aromatic heterocyclic group, an optionally substituted aromatic heterocyclic oxy group, a substituted Aromatic heterocyclic thio group which may be substituted, phenylsulfonyl group which may be substituted, aromatic heterocyclic sulfonyl group which may be substituted, phenylsulfonyloxy group which may be substituted, C 1 -C 6 acyl group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, an optionally substituted benzylcarbonyl group, optionally substituted Which may benzoyl group, carboxyl group, C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, an optionally substituted benzyloxycarbonyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, a cyano group, a nitrogen atom of the carbamoyl group (said group identical or different, C 1 -C 10 alkyl group or may be substituted in a phenyl group optionally substituted), C 1 -C 6 Ashiokishi group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, optionally substituted Optionally substituted benzylcarbonyloxy group, optionally substituted benzoyloxy group, nitro group, amino group (nitrogen atoms of the group are the same or different, C 1 -C 10 alkyl group, optionally substituted) phenyl group, C 1 -C 6 acyl group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, an optionally substituted benzylidene Carbonyl group, an optionally substituted benzoyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group, with an optionally substituted benzylsulfonyl group or an optionally substituted phenylsulfonyl group May be substituted)
"Substituent group β"
1 to 3 halogen atoms that are the same or different, a hydroxyl group, a C 3 to C 8 cycloalkyl group, a C 1 to C 10 alkoxy group, a C 1 to C 10 alkylcarbonyl group, a C 1 to C 10 alkylthio group, C 1 -C 10 alkylsulfinyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, C 1 -C 10 alkylamino group, di (C 1 -C 10 alkyl) amino group, a cyano group, C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, a carbamoyl Group, mono (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group, di (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group, C 1 -C 10 alkylthiocarbonyl group, carboxyl group, optionally substituted benzyloxy group, substituted Optionally substituted phenoxy group or optionally substituted phenyl group "substituent group γ"
Hydroxyl, C 3 -C 8 cycloalkyl group (which may be substituted with a halogen atom or a C 1 -C 3 alkyl group), C 1 ~C 10 alkoxy group, C 1 -C 10 alkylthio group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, C 2 -C 6 haloalkenyl group, the nitrogen atom of the amino group (in which the same or different, C 1 -C 10 alkyl group, C 1 ~ C 6 acyl group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, optionally substituted with C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group), mono (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group, di (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group, a carbamoyl group, C 1 -C 6 acyl group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, C 1 C 10 alkoxyimino group, a cyano group, a phenyl group which may be substituted, an optionally substituted phenoxy group "substituent group δ"
C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted aromatic heterocyclic group (2) The isoxazolin-3-yl derivative according to (1) or a pharmacologically acceptable salt thereof A herbicide containing a salt as an active ingredient.

尚、本明細書において、用いられる用語の定義を以下に示す。   In this specification, terms used are defined below.

ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。   A halogen atom shows a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

〜C10アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、1−エチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、n−へキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1,1,2−トリメチルプロピル基、1,2,2−トリメチルプロピル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、1,1−ジメチルペンチル基、2,2−ジメチルペンチル基、4,4−ジメチルペンチル基、1−エチルペンチル基、2−エチルペンチル基、1,1,3−トリメチルブチル基、1,2,2−トリメチルブチル基、1,3,3−トリメチルブチル基、2,2,3−トリメチルブチル基、2,3,3−トリメチルブチル基、1−プロピルブチル基、1,1,2,2−テトラメチルプロピル基、オクチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、6−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、5,5−ジメチルヘキシル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、1−エチル−1−メチルペンチル基、ノニル基、1−メチルオクチル基、2−メチルオクチル基、3−メチルオクチル基、7−メチルオクチル基、1−エチルヘプチル基、1,1−ジメチルヘプチル基、6,6−ジメチルヘプチル基、デシル基、1−メチルノニル基、2−メチルノニル基、6−メチルノニル基、1−エチルオクチル基、1−プロピルヘプチル基等を挙げることができる。 The C 1 to C 10 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms unless otherwise specified, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an i-propyl group. N-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1-ethylpropyl group, 1,1 -Dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, neopentyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, 1-ethylbutyl group 2-ethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3,3 Dimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group, 1,2,2-trimethylpropyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, heptyl group, 1-methyl Hexyl group, 5-methylhexyl group, 1,1-dimethylpentyl group, 2,2-dimethylpentyl group, 4,4-dimethylpentyl group, 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 1,1,3 -Trimethylbutyl group, 1,2,2-trimethylbutyl group, 1,3,3-trimethylbutyl group, 2,2,3-trimethylbutyl group, 2,3,3-trimethylbutyl group, 1-propylbutyl group 1,1,2,2-tetramethylpropyl group, octyl group, 1-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 6-methylheptyl group, 2-ethylhexyl group, 5, -Dimethylhexyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, 1-ethyl-1-methylpentyl group, nonyl group, 1-methyloctyl group, 2-methyloctyl group, 3-methyloctyl group, 7-methyloctyl Group, 1-ethylheptyl group, 1,1-dimethylheptyl group, 6,6-dimethylheptyl group, decyl group, 1-methylnonyl group, 2-methylnonyl group, 6-methylnonyl group, 1-ethyloctyl group, 1-ethyloctyl group, A propylheptyl group etc. can be mentioned.

〜Cシクロアルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が3〜8の環状アルキル基を示し、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基又はシクロオクチル基を挙げることができる。 The C 3 to C 8 cycloalkyl group means a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms unless otherwise specified, and examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. The group can be mentioned.

〜Cハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子1〜9で置換されている炭素数が1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、1−クロロエチル基、2−クロロエチル基、1−ブロモエチル基、2−ブロモエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、1,2−ジクロロエチル基、2,2−ジクロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2−ブロモ−2−クロロエチル基、2−クロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、1−クロロ−1,2,2,2−テトラフルオロエチル基、1−クロロプロピル基、2−クロロプロピル基、3−クロロプロピル基、2−ブロモプロピル基、3−ブロモプロピル基、2−ブロモ−1−メチルエチル基、3−ヨードプロピル基、2,3−ジクロロプロピル基、2,3−ジブロモプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリクロロプロピル基、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基、3,3−ジクロロ−3−フルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、1−ブロモ−3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、1,2,2,2−テトラフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル基、2,3−ジクロロ−1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2−クロロブチル基、3−クロロブチル基、4−クロロブチル基、2−クロロ−1,1−ジメチルエチル基、4−ブロモブチル基、3−ブロモ−2−メチルプロピル基、2−ブロモ−1,1−ジメチルエチル基、2,2−ジクロロ−1,1−ジメチルエチル基、2−クロロ−1−クロロメチル−2−メチルエチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、3,3,3−トリフルオロ−1−メチルプロピル基、3,3,3−トリフルオロ−2−メチルプロピル基、2,3,4−トリクロロブチル基、2,2,2−トリクロロ−1,1−ジメチルエチル基、4−クロロ−4,4−ジフルオロブチル基、4,4−ジクロロ−4−フルオロブチル基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロブチル基、2,4−ジブロモ−4,4−ジフルオロブチル基、3,4−ジクロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基、3,3−ジクロロ−4,4,4−トリフルオロブチル基、4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブチル基、4−ブロモ−3−クロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4−ヘキサフルオロブチル基、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチル基、2,2,2−トリフルオロ−1−メチル−1−トリフルオロメチルエチル基、3,3,3−トリフルオロ−2−トリフルオロメチルプロピル基、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基、2,3,3,3−テトラフルオロ−2−トリフルオロメチルプロピル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、4−クロロ−1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基等を挙げることができる。 The C 1 -C 4 haloalkyl group is the same or different and represents a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms that is substituted with a halogen atom 1 to 9 unless otherwise specified, for example, Fluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, difluoromethyl group, dichloromethyl group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, chlorodifluoromethyl group, bromodifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 1-chloroethyl group, 2 -Chloroethyl group, 1-bromoethyl group, 2-bromoethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 1,2-dichloroethyl group, 2,2-dichloroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2 , 2,2-trichloroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 2-bromo 2-chloroethyl group, 2-chloro-1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, 1-chloro-1,2,2,2-tetrafluoroethyl group, 1-chloropropyl group, 2-chloropropyl group 3-chloropropyl group, 2-bromopropyl group, 3-bromopropyl group, 2-bromo-1-methylethyl group, 3-iodopropyl group, 2,3-dichloropropyl group, 2,3-dibromopropyl group 3,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,3-trichloropropyl group, 3-bromo-3,3-difluoropropyl group, 3,3-dichloro-3-fluoropropyl group, 2,2, 3,3-tetrafluoropropyl group, 1-bromo-3,3,3-trifluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,2-trifluoro-1- Lifluoromethylethyl group, heptafluoropropyl group, 1,2,2,2-tetrafluoro-1-trifluoromethylethyl group, 2,3-dichloro-1,1,2,3,3-pentafluoropropyl group 2-chlorobutyl group, 3-chlorobutyl group, 4-chlorobutyl group, 2-chloro-1,1-dimethylethyl group, 4-bromobutyl group, 3-bromo-2-methylpropyl group, 2-bromo-1,1 -Dimethylethyl group, 2,2-dichloro-1,1-dimethylethyl group, 2-chloro-1-chloromethyl-2-methylethyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, 3,3,3 -Trifluoro-1-methylpropyl group, 3,3,3-trifluoro-2-methylpropyl group, 2,3,4-trichlorobutyl group, 2,2,2-trichloro-1,1-dimethyl Ethyl group, 4-chloro-4,4-difluorobutyl group, 4,4-dichloro-4-fluorobutyl group, 4-bromo-4,4-difluorobutyl group, 2,4-dibromo-4,4-difluoro Butyl group, 3,4-dichloro-3,4,4-trifluorobutyl group, 3,3-dichloro-4,4,4-trifluorobutyl group, 4-bromo-3,3,4,4-tetra Fluorobutyl group, 4-bromo-3-chloro-3,4,4-trifluorobutyl group, 2,2,3,3,4,4-hexafluorobutyl group, 2,2,3,4,4, 4-hexafluorobutyl group, 2,2,2-trifluoro-1-methyl-1-trifluoromethylethyl group, 3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethylpropyl group, 2,2,3 , 3,4,4,4-heptafluorobutyl group 2,3,3,3-tetrafluoro-2-trifluoromethylpropyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, nonafluorobutyl group, 4-chloro-1 , 1, 2, 2, 3, 3, 4, 4-octafluorobutyl group and the like.

〜Cアルケニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が2〜6の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、i−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、1−メチル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1,3−ブタジエニル基、1−ペンテニル基、1−エチル−2−プロペニル基、2−ペンテニル基、1−メチル−1−ブテニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、4−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、1,2−ジメチル−2−プロペニル基、1,1−ジメチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1,2−ジメチル−1−プロペニル基、2−メチル−3−ブテニル基、3−メチル−3−ブテニル基、1,3−ペンタジエニル基、1−ビニル−2−プロペニル基、1−ヘキセニル基、1−プロピル−2−プロペニル基、2−へキセニル基、1−メチル−1−ペンテニル基、1−エチル−2−ブテニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、1−メチル−4−ペンテニル基、1−エチル−3−ブテニル基、1−(i−ブチル)ビニル基、1−エチル−1−メチル−2−プロペニル基、1−エチル−2−メチル−2−プロペニル基、1−(i−プロピル)−2−プロペニル基、2−メチル−2−ペンテニル基、3−メチル−3−ペンテニル基、4−メチル−3−ペンテニル基、1,3−ジメチル−2−ブテニル基、1,1−ジメチル−3−ブテニル基、3−メチル−4−ペンテニル基、4−メチル−4−ペンテニル基、1,2−ジメチル−3−ブテニル基、1,3−ジメチル−3−ブテニル基、1,1,2−トリメチル−2−プロペニル基、1,5−ヘキサジエニル基、1−ビニル−3−ブテニル基又は2,4−ヘキサジエニル基等を挙げることができる。 The C 2 to C 6 alkenyl group means a straight or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms unless otherwise specified, and examples thereof include a vinyl group, 1-propenyl group, i-propenyl group, 2- Propenyl group, 1-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-2 -Propenyl group, 1,3-butadienyl group, 1-pentenyl group, 1-ethyl-2-propenyl group, 2-pentenyl group, 1-methyl-1-butenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-2- Butenyl group, 4-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 1,2-dimethyl-2-propenyl group, 1,1-dimethyl-2-propenyl group, 2- Methyl-2 Butenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 1,2-dimethyl-1-propenyl group, 2-methyl-3-butenyl group, 3-methyl-3-butenyl group, 1,3-pentadienyl group, 1- Vinyl-2-propenyl group, 1-hexenyl group, 1-propyl-2-propenyl group, 2-hexenyl group, 1-methyl-1-pentenyl group, 1-ethyl-2-butenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, 1-methyl-4-pentenyl group, 1-ethyl-3-butenyl group, 1- (i-butyl) vinyl group, 1-ethyl-1-methyl-2-propenyl group 1-ethyl-2-methyl-2-propenyl group, 1- (i-propyl) -2-propenyl group, 2-methyl-2-pentenyl group, 3-methyl-3-pentenyl group, 4-methyl-3 -Pentenyl group, 1 3-dimethyl-2-butenyl group, 1,1-dimethyl-3-butenyl group, 3-methyl-4-pentenyl group, 4-methyl-4-pentenyl group, 1,2-dimethyl-3-butenyl group, 1 , 3-dimethyl-3-butenyl group, 1,1,2-trimethyl-2-propenyl group, 1,5-hexadienyl group, 1-vinyl-3-butenyl group, 2,4-hexadienyl group, etc. it can.

〜Cアルキニル基とは、特に限定しない限り、炭素数が2〜6の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、1−メチル−2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−ペンチニル基、1−エチル−2−プロピニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、1−メチル−2−ブチニル基、4−ペンチニル基、1−メチル−3−ブチニル基、2−メチル−3−ブチニル基、1−ヘキシニル基、1−(n−プロピル)−2−プロピニル基、2−ヘキシニル基、1−エチル−2−ブチニル基、3−ヘキシニル基、1−メチル−2−ペンチニル基、1−メチル−3−ペンチニル基、4−メチル−1−ペンチニル基、3−メチル−1−ペンチニル基、5−ヘキシニル基、1−エチル−3−ブチニル基、1−エチル−1−メチル−2−プロピニル基、1−(i−プロピル)−2−プロピニル基、1,1−ジメチル−2−ブチニル基又は2,2−ジメチル−3−ブチニル基等を挙げることができる。 The C 2 -C 6 alkynyl group means a straight-chain or branched alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms unless otherwise specified, and examples thereof include an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 2-propynyl group, and a 1-butynyl group. Group, 1-methyl-2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-pentynyl group, 1-ethyl-2-propynyl group, 2-pentynyl group, 3-pentynyl group, 1-methyl-2 -Butynyl group, 4-pentynyl group, 1-methyl-3-butynyl group, 2-methyl-3-butynyl group, 1-hexynyl group, 1- (n-propyl) -2-propynyl group, 2-hexynyl group, 1-ethyl-2-butynyl group, 3-hexynyl group, 1-methyl-2-pentynyl group, 1-methyl-3-pentynyl group, 4-methyl-1-pentynyl group, 3-methyl-1-pentynyl group, 5-he Sinyl group, 1-ethyl-3-butynyl group, 1-ethyl-1-methyl-2-propynyl group, 1- (i-propyl) -2-propynyl group, 1,1-dimethyl-2-butynyl group or 2 , 2-dimethyl-3-butynyl group and the like.

〜Cハロアルケニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子1〜4で置換されている炭素数が2〜6の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば2−クロロビニル基、2−ブロモビニル基、2−ヨードビニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、3−ブロモ−2−プロペニル基、1−クロロメチルビニル基、2−ブロモ−1−メチルビニル基、1−トリフルオロメチルビニル基、3,3,3−トリクロロ−1−プロペニル基、3−ブロモ−3,3−ジフルオロ−1−プロペニル基、2,3,3,3−テトラクロロ−1−プロペニル基、1−トリフルオロメチル−2,2−ジフルオロビニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、2,3,3−トリクロロ−2−プロペニル基、4−ブロモ−3−クロロ−3,4,4−トリフルオロ−1−ブテニル基、1−ブロモメチル−2−プロペニル基、3−クロロ−2−ブテニル基、4,4,4−トリフルオロ−2−ブテニル基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロ−2−ブテニル基、3−ブロモ−3−ブテニル基、3,4,4−トリフルオロ−3−ブテニル基、3,4,4−トリブロモ−3−ブテニル基、3−ブロモ−2−メチル−2−プロペニル基、3,3−ジフルオロ−2−メチル−2−プロペニル基、3,3,3−トリフルオロ−2−メチルプロペニル基、3−クロロ−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテニル基、3,3,3−トリフルオロ−1−メチル−1−プロペニル基、3,4,4−トリフルオロ−1,3−ブタジエニル基、3,4−ジブロモ−1−ペンテニル基、4,4−ジフルオロ−3−メチル−3−ブテニル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−1−ペンテニル基、5,5−ジフルオロ−4−ペンテニル基、4,5,5−トリフルオロ−4−ペンテニル基、3,4,4,4−テトラフルオロ−3−トリフルオロメチル−1−ブテニル基、4,4,4−トリフルオロメチル−3−メチル−2−ブテニル基、3,5,5−トリフルオロ−2,4−ペンタジエニル基、4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−2−ヘキセニル基、3,4,4,5,5,5−ヘキサフルオロ−3−トリフルオロメチル−1−ペンテニル基、4,5,5,5−テトラフルオロ−4−トリフルオロメチル−2−ペンテニル基又は5−ブロモ−4,5,5−トリフルオロ−4−トリフルオロメチル−2−ペンテニル基等を挙げることができる。 The C 2 -C 6 haloalkenyl group is the same or different and represents a linear or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms substituted with a halogen atom 1 to 4 unless otherwise specified, for example, 2-chlorovinyl group, 2-bromovinyl group, 2-iodovinyl group, 3-chloro-2-propenyl group, 3-bromo-2-propenyl group, 1-chloromethylvinyl group, 2-bromo-1-methylvinyl group 1-trifluoromethylvinyl group, 3,3,3-trichloro-1-propenyl group, 3-bromo-3,3-difluoro-1-propenyl group, 2,3,3,3-tetrachloro-1- Propenyl group, 1-trifluoromethyl-2,2-difluorovinyl group, 2-chloro-2-propenyl group, 3,3-difluoro-2-propenyl group, 2,3,3-trichloro-2-pro Nyl group, 4-bromo-3-chloro-3,4,4-trifluoro-1-butenyl group, 1-bromomethyl-2-propenyl group, 3-chloro-2-butenyl group, 4,4,4-tri Fluoro-2-butenyl group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butenyl group, 3-bromo-3-butenyl group, 3,4,4-trifluoro-3-butenyl group, 3,4,4 -Tribromo-3-butenyl group, 3-bromo-2-methyl-2-propenyl group, 3,3-difluoro-2-methyl-2-propenyl group, 3,3,3-trifluoro-2-methylpropenyl group 3-chloro-4,4,4-trifluoro-2-butenyl group, 3,3,3-trifluoro-1-methyl-1-propenyl group, 3,4,4-trifluoro-1,3- Butadienyl group, 3,4-dibromo-1-pe Tenenyl group, 4,4-difluoro-3-methyl-3-butenyl group, 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-1-pentenyl group, 5,5-difluoro-4-pentenyl group 4,5,5-trifluoro-4-pentenyl group, 3,4,4,4-tetrafluoro-3-trifluoromethyl-1-butenyl group, 4,4,4-trifluoromethyl-3-methyl -2-butenyl group, 3,5,5-trifluoro-2,4-pentadienyl group, 4,4,5,5,6,6,6-heptafluoro-2-hexenyl group, 3,4,4, 5,5,5-hexafluoro-3-trifluoromethyl-1-pentenyl group, 4,5,5,5-tetrafluoro-4-trifluoromethyl-2-pentenyl group or 5-bromo-4,5 5-trifluoro-4-trifluoromethyl A 2-pentenyl group can be exemplified.

〜C10アルコキシ基とは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の直鎖又は分岐鎖の(アルキル)−O−基を示し、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基又はイソブトキシ基等を挙げることができる。 The C 1 to C 10 alkoxy group means a linear or branched (alkyl) -O— group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl part has the above meaning, unless specifically limited, and includes, for example, a methoxy group, Examples thereof include an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, a tert-butoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, and an isobutoxy group.

〜Cハロアルコキシ基とは、特に限定しない限り、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜4の直鎖又は分岐鎖の(ハロアルキル)−O−基を示し、例えばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基又は2,2,2−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。 The C 1 -C 4 haloalkoxy group means a linear or branched (haloalkyl) -O— group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl moiety has the above-mentioned meaning, unless specifically limited. For example, difluoromethoxy Group, trifluoromethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group and the like.

〜Cシクロアルキルオキシ基とは、特に限定しない限り、シクロアルキル部分が上記の意味である炭素数が3〜8の(シクロアルキル)−O−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基又はシクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。 The C 3 to C 8 cycloalkyloxy group means a (cycloalkyl) -O— group having 3 to 8 carbon atoms in which the cycloalkyl part has the above-mentioned meaning, unless specifically limited. For example, a cyclopropyloxy group, A cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, etc. can be mentioned.

〜CシクロアルキルC〜Cアルキルオキシ基とは、特に限定しない限り、シクロアルキルアルキル部分及びアルキル部分が上記の意味である(シクロアルキルアルキル)−O−基を示し、例えばシクロプロピルメトキシ基、1−シクロプロピルエトキシ基、2−シクロプロピルエトキシ基、1−シクロプロピルプロポキシ基、2−シクロプロピルプロポキシ基、3−シクロプロピルプロポキシ基、シクロブチルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基又はシクロヘキシルメトキシ基等を挙げることができる。 The C 3 -C 8 cycloalkyl C 1 -C 3 alkyloxy group means a (cycloalkylalkyl) -O— group in which the cycloalkylalkyl moiety and the alkyl moiety have the above-mentioned meanings, unless otherwise specified. Propylmethoxy group, 1-cyclopropylethoxy group, 2-cyclopropylethoxy group, 1-cyclopropylpropoxy group, 2-cyclopropylpropoxy group, 3-cyclopropylpropoxy group, cyclobutylmethoxy group, cyclopentylmethoxy group or cyclohexylmethoxy Groups and the like.

〜Cアルケニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルケニル部分が上記の意味である炭素数が2〜6の(アルケニル)−O−基を示し、例えば2−プロペニルオキシ基等を挙げることができる。 The C 2 to C 6 alkenyloxy group means an (alkenyl) -O— group having 2 to 6 carbon atoms in which the alkenyl part has the above meaning, unless specifically limited, and examples thereof include a 2-propenyloxy group. be able to.

〜Cアルキニルオキシ基とは、特に限定しない限り、アルキニル部分が上記の意味である炭素数が2〜6の(アルキニル)−O−基を示し、例えば2−プロピニルオキシ基等を挙げることができる。 The C 2 to C 6 alkynyloxy group means a (alkynyl) -O— group having 2 to 6 carbon atoms in which the alkynyl moiety has the above meaning, unless specifically limited, and examples thereof include 2-propynyloxy group and the like. be able to.

〜C10アルコキシイミノ基とは、特に限定しない限り、アルコキシ部分が上記の意味である炭素数が2〜6の(アルコキシ)−N=基を示し、例えばメトキシイミノ基又はエトキシイミノ基等を挙げることができる。 The C 1 -C 10 alkoxyimino group means an (alkoxy) -N = group having 2 to 6 carbon atoms, in which the alkoxy moiety has the above-mentioned meaning, unless specifically limited. For example, a methoxyimino group or an ethoxyimino group Can be mentioned.

〜C10アルキルチオ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の(アルキル)−S−基を示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基等を挙げることができる。 The C 1 -C 10 alkylthio group, the alkyl moiety having a carbon number of means described above indicates a 1 to 10 (alkyl) -S- group, such as methylthio, ethylthio group, n- propylthio group, isopropylthio group Etc.

〜C10アルキルスルフィニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の(アルキル)−SO−基を示し、例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、n−プロピルスルフィニル基又はイソプロピルスルフィニル基等を挙げることができる。 The C 1 -C 10 alkylsulfinyl group, the alkyl moiety having a carbon number of means described above indicates a 1 to 10 (alkyl) -SO- group, for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, n- propyl sulfinyl group Or an isopropyl sulfinyl group etc. can be mentioned.

〜C10アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の(アルキル)−SO2−基を示し、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピルスルホニル基又はイソプロピルスルホニル基等を挙げることができる。 The C 1 -C 10 alkylsulfonyl group means an (alkyl) -SO 2 — group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, n-propylsulfonyl. Group or isopropylsulfonyl group.

〜C10アルキルスルホニルオキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の(アルキル)SO−O−基を示し、例えばメチルスルホニルオキシ基又はエチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。 The C 1 -C 10 alkylsulfonyloxy group means an (alkyl) SO 2 —O— group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, such as a methylsulfonyloxy group or an ethylsulfonyloxy group. Can be mentioned.

〜C10アルキルカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の(アルキル)−C(=O)−基を示し、例えばアセチル基又はメチルカルボニル基等を挙げることができる。 The C 1 -C 10 alkylcarbonyl group means an (alkyl) -C (═O) — group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, and examples thereof include an acetyl group or a methylcarbonyl group. be able to.

〜C10アルキルアミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の(アルキル)−NH−基を示し、例えばメチルアミノ基又はエチルアミノ基等を挙げる事ができる。 The C 1 -C 10 alkylamino group means an (alkyl) -NH— group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, and examples thereof include a methylamino group and an ethylamino group. .

ジ(C〜C10アルキル)アミノ基とは、アルキル部分が上記の意味である(アルキル)N−基を示し、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基又はジブチルアミノ基等を挙げることができる。 The di (C 1 -C 10 alkyl) amino group means an (alkyl) 2 N-group in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning, for example, a dimethylamino group, a diethylamino group, a methylethylamino group, a dipropylamino group or A dibutylamino group etc. can be mentioned.

〜C10アルコキシカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の(アルキル)−O(C=O)−基を示し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基又はイソプロポキシカルボニル基等を挙げることができる。 The C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group refers to an (alkyl) -O (C═O) — group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, Examples thereof include an n-propoxycarbonyl group and an isopropoxycarbonyl group.

〜Cアシル基とは、炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アシル基を示し、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチリル基又はピバロイル基等を挙げることができる。 The C 1 -C 6 acyl group, a linear or branched aliphatic acyl group having from 1 to 6 carbon atoms, such as formyl group, acetyl group, propionyl group, isopropionyl group, butyryl group, or pivaloyl group Can be mentioned.

〜Cアシルオキシ基とは、アシル部分が上記の意味である炭素数が1〜6の(アシル)−O−基を示し、例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基又はピバロイルオキシ基等を挙げることができる。 C 1 -C 6 acyloxy group means an (acyl) -O— group having 1 to 6 carbon atoms in which the acyl moiety has the above meaning, for example, an acetoxy group, a propionyloxy group, an isopropionyloxy group or a pivaloyloxy group. Etc.

〜C10アルキルチオカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の(アルキル)−S(C=O)−基を示し、例えばメチルチオ基又はエチルチオ基等を挙げる事ができる。 The C 1 -C 10 alkylthiocarbonyl group means an (alkyl) -S (C═O) — group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above meaning, and examples thereof include a methylthio group or an ethylthio group. I can do things.

〜Cハロアルキルカルボニル基、とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜4の(ハロアルキル)−(C=O)−基、を示し、例えばクロルアセチル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、ジフルオロメチルチオ基等を挙げることができる。 C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group means a (haloalkyl)-(C═O) — group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl moiety has the above-mentioned meaning, for example, chloroacetyl group, trifluoroacetyl group Group, pentafluoropropionyl group, difluoromethylthio group and the like.

〜Cハロアルキルチオ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜4の(ハロアルキル)−S−基を示し、例えば、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、等を挙げることができる。 The C 1 -C 4 haloalkylthio group means a (haloalkyl) -S— group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl portion has the above meaning, and examples thereof include a difluoromethylthio group and a trifluoromethylthio group. be able to.

〜Cハロアルキルスルホニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜4の(ハロアルキル)−SO2−基を示し、例えばクロルメチルスルホニル基、ジフルオロメチルスルホニル基又はトリフルオロメチルスルホニル基等を挙げることができる。 The C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group means a (haloalkyl) -SO 2 — group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl portion has the above-mentioned meaning, for example, a chloromethylsulfonyl group, a difluoromethylsulfonyl group or trifluoro A methylsulfonyl group etc. can be mentioned.

〜Cハロアルキルカルボニルオキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜4の(ハロアルキル)C(=O)−O−基を示し、例えばクロルアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基等を挙げることができる。 The C 1 -C 4 haloalkylcarbonyloxy group means a (haloalkyl) C (═O) —O— group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl portion has the above-mentioned meaning, for example, a chloroacetyloxy group, trifluoro An acetyloxy group etc. can be mentioned.

〜Cハロアルキルスルホニルオキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜4の(ハロアルキル)SO−O−基を示し、例えばクロルメチルスルホニルオキシ基又はトリフルオロメチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。 The C 1 -C 4 haloalkylsulfonyloxy group means a (haloalkyl) SO 2 —O— group having 1 to 4 carbon atoms in which the haloalkyl moiety has the above meaning, for example, a chloromethylsulfonyloxy group or a trifluoromethylsulfonyl group. An oxy group etc. can be mentioned.

モノ(C〜C10アルキル)カルバモイル基とはアルキル部分が上記の意味である炭素数が1〜10の(アルキル)NH−C(=O)−基を示し、例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基又はプロピルカルバモイル基等を挙げることができる。 The mono (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group means an (alkyl) NH—C (═O) — group having 1 to 10 carbon atoms in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning, for example, methylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group Group or propylcarbamoyl group.

ジ(C〜C10アルキル)カルバモイル基とはアルキル部分が上記の意味である(アルキル)N−C(=O)−基を示し、例えばジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基又はエチルメチルカルバモイル基等を挙げることができる。 The di (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group means an (alkyl) 2 N—C (═O) — group in which the alkyl portion has the above-mentioned meaning, for example, a dimethylcarbamoyl group, a diethylcarbamoyl group or an ethylmethylcarbamoyl group Etc.

置換されていてもよいフェニル基、置換されてもよいベンジルオキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基又は置換されていてもよいフェノキシカルボニル基における「置換されていてもよい基」とは、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基(該基の窒素原子は同一又は異なって、アルキル基で置換されていてもよい)、ニトロ基又はアミノ基(該基の窒素原子は同一又は異なって、アルキル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基又はハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい)等の置換基を挙げることができる。   Phenyl group which may be substituted, benzyloxy group which may be substituted, aromatic heterocyclic group which may be substituted, phenoxy group which may be substituted, aromatic heterocyclic oxy which may be substituted Group, optionally substituted phenylthio group, optionally substituted aromatic heterocyclic thio group, optionally substituted phenylsulfonyl group, optionally substituted phenylsulfonyloxy group, optionally substituted Good aromatic heterocyclic sulfonyl group, optionally substituted benzylcarbonyl group, optionally substituted benzylcarbonyloxy group, optionally substituted benzylsulfonyl group, optionally substituted benzoyl group, substituted Benzoyloxy group which may be substituted, benzyloxycarbonyl group which may be substituted or substituted The “optionally substituted group” in the phenoxycarbonyl group may be a halogen atom, alkyl group, haloalkyl group, alkoxyalkyl group, alkoxy group, alkylthio group, alkylsulfonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, cyano group A carbamoyl group (the nitrogen atom of the group may be the same or different and may be substituted with an alkyl group), a nitro group or an amino group (the nitrogen atom of the group is the same or different, an alkyl group, an acyl group, a haloalkyl group) And a substituent such as a carbonyl group, an alkylsulfonyl group or a haloalkylsulfonyl group, which may be substituted.

置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基又は置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基の芳香族ヘテロ環とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を1〜3個有する5〜6員の基を示し、例えばフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基を挙げることができる。   An optionally substituted aromatic heterocyclic group, an optionally substituted aromatic heterocyclic oxy group, an optionally substituted aromatic heterocyclic thio group, or an optionally substituted aromatic heterocyclic sulfonyl group The aromatic heterocycle of 5-5-membered group having 1 to 3 heteroatoms arbitrarily selected from a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, for example, a furyl group, a thienyl group, a pyrrolyl group, a pyrazolyl A group, isoxazolyl group, isothiazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, imidazolyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, triazinyl group, triazolyl group, oxadiazolyl group or thiadiazolyl group.

薬理上許容される塩とは、一般式[I]を有する化合物において、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等がその構造中に存在する場合に、これらの基と金属もしくは有機塩基との塩又は鉱酸もしくは有機酸との塩である。ここで、金属としてはナトリウム又はカリウム等のアルカリ金属或いはマグネシウム又はカルシウム等のアルカリ土類金属を挙げることができ、有機塩基としてはトリエチルアミン又はジイソプロピルアミン等を挙げることができ、鉱酸としては塩酸又は硫酸等を挙げることができ、有機酸としては酢酸、メタンスルホン酸又はパラ−トルエンスルホン酸等を挙げることができる。   The pharmacologically acceptable salt is a salt or mineral of these groups and a metal or an organic base when a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group or the like is present in the structure of the compound having the general formula [I]. It is a salt with an acid or an organic acid. Here, the metal can include an alkali metal such as sodium or potassium, or an alkaline earth metal such as magnesium or calcium, the organic base can include triethylamine or diisopropylamine, and the mineral acid can be hydrochloric acid or Examples of the organic acid include acetic acid, methanesulfonic acid, and para-toluenesulfonic acid.

次に、一般式[I]で表される本発明化合物の代表的な化合物例を表1〜表13に記載する。しかしながら、本発明化合物はこれらに限定されるものではない。   Next, typical compound examples of the compound of the present invention represented by the general formula [I] are shown in Tables 1 to 13. However, the compound of the present invention is not limited to these.

本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
Me :メチル基 Et :エチル基、
Pr :n−プロピル基 Pr−i :イソプロピル基
Pr−c :シクロプロピル基 (4−Cl)Ph:4−クロロフェニル基
尚、本発明化合物は置換基として水酸基を含む場合、ケト−エノール異性体を有する化合物がある。さらに、本発明化合物にある二重結合においてE又はZ異性体のどちらか一方を表わすことができ、両異性体の混合物を表わすこともできる。
The following notations in the tables in the present specification represent the corresponding groups as follows.
Me: methyl group Et: ethyl group,
Pr: n-propyl group Pr-i: isopropyl group Pr-c: cyclopropyl group (4-Cl) Ph: 4-chlorophenyl group When the compound of the present invention contains a hydroxyl group as a substituent, the keto-enol isomer is selected. There are compounds that have. Furthermore, in the double bond in the compound of the present invention, either E or Z isomer can be represented, and a mixture of both isomers can also be represented.

Figure 2005213168
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本願発明化合物である一般式[I]は、以下に示す製造法に従って製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。   General formula [I] which is this invention compound can be manufactured in accordance with the manufacturing method shown below, However, It is not limited to these methods.

<製造法1> 工程1〜工程5   <Production Method 1> Step 1 to Step 5

Figure 2005213168
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(式中、R、R、R、R、R及びQは前記と同じ意味を表し、Xはハロゲン原子を表し、RはC〜Cアルキル基、置換されていてもよいフェニル基又は置換されていてもよいベンジル基を表し、Lはハロゲン原子、C〜Cアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基又は置換されていてもよいベンジルスルホニル基等の脱離基を表し、Yはナトリウムカチオン、カリウムカチオン又は塩基由来のカチオンを表す。)
以下、上記製造方法を工程毎に詳説する。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and Q represent the same meaning as described above, X represents a halogen atom, R 6 represents a C 1 -C 4 alkyl group, represents also be a benzyl group optionally be also a phenyl group or a substituted, L is a halogen atom, C 1 -C 4 alkylsulfonyl group, an optionally substituted phenylsulfonyl group or an optionally substituted benzylsulfonyl group, etc. And Y + represents a sodium cation, a potassium cation or a base-derived cation.)
Hereinafter, the said manufacturing method is explained in full detail for every process.

(工程1)
一般式[5]で表されるスルフィド誘導体は、一般式[1]で表される化合物と、一般式[2]で示される水硫化ナトリウム又は水硫化カリウムとを、溶媒中又は溶媒の非存在下で、塩基の存在下又は非存在下で反応させることにより製造することができる一般式[3]で表される塩を反応系内で製造した後、一般式[3]で表される塩を単離することなく一般式[4]で表されるハロゲン誘導体と反応させることによって製造することができる。
(Process 1)
The sulfide derivative represented by the general formula [5] includes a compound represented by the general formula [1] and sodium hydrosulfide or potassium hydrosulfide represented by the general formula [2] in a solvent or in the absence of the solvent. A salt represented by the general formula [3] that can be produced by reacting in the presence or absence of a base under the reaction system in the reaction system, and then a salt represented by the general formula [3] Can be produced by reacting with a halogen derivative represented by the general formula [4] without isolation.

反応温度はいずれの反応も0℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは0℃〜100℃の温度範囲である。   The reaction temperature is any temperature from 0 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, and preferably in the temperature range of 0 ° C. to 100 ° C.

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常0.5時間〜24時間で終了する。   The reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually completed in 0.5 to 24 hours.

反応に供される試剤の量は一般式[1]で表される化合物1当量に対して、一般式[2]で表される化合物又は一般式[4]で表される化合物は1〜3当量、塩基を使用する場合は、塩基0.5〜3当量である。   The amount of the reagent provided for the reaction is 1 to 3 equivalents of the compound represented by the general formula [2] or the compound represented by the general formula [4] with respect to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [1]. When an equivalent and a base are used, the base is 0.5 to 3 equivalents.

溶媒としては、例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン(THF)等のエーテル類、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)又はN−メチル−2−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド(DMSO)又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は2−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水、或いはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the solvent include ethers such as dioxane or tetrahydrofuran (THF), halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene or dichlorobenzene, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide (DMF). Or amides such as N-methyl-2-pyrrolidinone, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide (DMSO) or sulfolane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol or tert- Examples thereof include alcohols such as butanol, ketones such as acetone or 2-butanone, nitriles such as acetonitrile, water, and a mixture thereof.

塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、トリエチルアミン又は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類或いはナトリウムメトキシド又はカリウムtert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類が挙げられる。   Examples of the base include metal hydrides such as sodium hydride, alkali metal amides such as sodium amide or lithium diisopropylamide, organic compounds such as pyridine, triethylamine or 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene. Bases, hydroxides of alkali metals such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, hydroxides of alkaline earth metals such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, carbonates of alkali metals such as sodium carbonate and potassium carbonate, Inorganic bases such as alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate, or metal salts of alcohol such as sodium methoxide or potassium tert-butoxide.

(工程2)
一般式[5]で示されるスルフィド誘導体は、一般式[6]で表される化合物に対し、一般式[7]で示されるメルカプタン誘導体を、溶媒中又は溶媒の非存在下で(好ましくは適当な溶媒中)、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
(Process 2)
In the sulfide derivative represented by the general formula [5], the mercaptan derivative represented by the general formula [7] is compared with the compound represented by the general formula [6] in a solvent or in the absence of a solvent (preferably suitable) In a simple solvent) in the presence of a base.

反応温度は0℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは0℃〜100℃の温度範囲である。   The reaction temperature is any temperature from 0 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably in the temperature range of 0 ° C. to 100 ° C.

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常0.5時間〜24時間で終了する。   The reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount, etc., but is usually completed in 0.5 to 24 hours.

反応に供される試剤の量は一般式[7]で表される化合物1当量に対して、一般式[6]で表される化合物は1〜3当量、塩基は0.5〜3当量である。   The amount of the reagent used for the reaction is 1 to 3 equivalents for the compound represented by the general formula [6] and 0.5 to 3 equivalents for the base with respect to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [7]. is there.

溶媒としては、例えばジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジオキサン又はテトラヒドロフラン(THF)等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)又はN−メチル−2−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド(DMSO)又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は2−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水、或いはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the solvent include ethers such as diethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, dioxane or tetrahydrofuran (THF), halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene or dichlorobenzene, N, Amides such as N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide (DMF) or N-methyl-2-pyrrolidinone, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide (DMSO) or sulfolane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol or tert-butanol, ketones such as acetone or 2-butanone, nitriles such as acetonitrile, water, or a mixture thereof And the like.

塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、トリエチルアミン又は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、或いはナトリウムメトキシド又はカリウムtert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類が挙げられる。   Examples of the base include metal hydrides such as sodium hydride, alkali metal amides such as sodium amide or lithium diisopropylamide, organic compounds such as pyridine, triethylamine or 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene. Bases, hydroxides of alkali metals such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, hydroxides of alkaline earth metals such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, carbonates of alkali metals such as sodium carbonate and potassium carbonate, Inorganic bases such as alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate, or metal salts of alcohol such as sodium methoxide or potassium tert-butoxide.

(工程3)
一般式[8]で表されるスルホキシド誘導体は、一般式[5]で表されるスルフィド誘導体と酸化剤を、触媒の存在下又は非存在下、溶媒中で反応させることにより製造することができる。
(Process 3)
The sulfoxide derivative represented by the general formula [8] can be produced by reacting the sulfide derivative represented by the general formula [5] and an oxidizing agent in a solvent in the presence or absence of a catalyst. .

反応温度は0℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは0℃〜100℃の温度範囲である。   The reaction temperature is any temperature from 0 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably in the temperature range of 0 ° C. to 100 ° C.

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常1時間〜72時間で終了する。   The reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount and the like, but is usually completed in 1 hour to 72 hours.

反応に供される試剤の量は一般式[5]で表される化合物1当量に対して酸化剤は0.5〜3当量、触媒は0.01〜0.5当量である。   The amount of the reagent used for the reaction is 0.5 to 3 equivalents for the oxidizing agent and 0.01 to 0.5 equivalents for the catalyst with respect to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [5].

溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメトキシエタン又はジエチルエーテル等のエーテル類、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)又はN−メチル−2−ピロリジノン等のアミド類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は2−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、酢酸、水、或いはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene and dichlorobenzene, ethers such as dioxane, tetrahydrofuran (THF), 1,2-dimethoxyethane and diethyl ether, N, Amides such as N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide (DMF) or N-methyl-2-pyrrolidinone, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol or tert-butanol, acetone or 2-butanone Ketones such as acetonitrile, nitriles such as acetonitrile, acetic acid, water, or a mixture thereof.

酸化剤としては、例えば、m−クロロ過安息香酸、過ギ酸又は過酢酸等の有機過酸化物、オキソン(OXONE、デュポン社商品名、2KHSO・KHSO・KSO)、過酸化水素、過マンガン酸カリウム又は過ヨウ素酸ナトリウム等の無機過酸化物が挙げられる。 Examples of the oxidizing agent include organic peroxides such as m-chloroperbenzoic acid, performic acid or peracetic acid, oxone (OXONE, trade name of DuPont, 2KHSO 5 · KHSO 4 · K 2 SO 4 ), hydrogen peroxide And inorganic peroxides such as potassium permanganate or sodium periodate.

触媒としては、例えば、タングステン酸ナトリウム等が挙げられる。   Examples of the catalyst include sodium tungstate.

(工程4)
一般式[9]で表されるスルホン誘導体は、一般式[8]で表されるスルホキシド誘導体と酸化剤を、触媒の存在下又は非存在下、溶媒中で反応させることにより製造することができる。
(Process 4)
The sulfone derivative represented by the general formula [9] can be produced by reacting the sulfoxide derivative represented by the general formula [8] and an oxidizing agent in a solvent in the presence or absence of a catalyst. .

反応温度は0℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは0℃〜100℃の温度範囲である。   The reaction temperature is any temperature from 0 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably in the temperature range of 0 ° C. to 100 ° C.

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常1時間〜72時間で終了する。   The reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount and the like, but is usually completed in 1 hour to 72 hours.

反応に供される試剤の量は、一般式[8]で表される化合物1当量に対して、QがQの場合、酸化剤は0.5〜3当量、触媒は0.01〜0.5当量であり、QがQの場合、酸化剤は0.5〜5当量、触媒は0.01〜0.5当量である。 The amount of the reagent used for the reaction is 0.5 to 3 equivalents of the oxidizing agent and 0.01 to 0 of the catalyst when Q is Q 1 with respect to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [8]. .5 is equivalent, when Q is Q 2, the oxidizing agent is 0.5 to 5 equivalents, the catalyst is 0.01 to 0.5 equivalents.

溶媒、酸化剤及び触媒としては、工程3と同様なものが挙げられる。   Examples of the solvent, the oxidizing agent, and the catalyst include the same ones as in step 3.

(工程5)
一般式[9]で表されるスルホン誘導体は、触媒の存在下又は非存在下、溶媒中で、一般式[5]で表されるスルフィド誘導体と好適な酸化剤の量により一般式[8]で表されるスルホキシド誘導体を単離することなく製造することができる。
(Process 5)
The sulfone derivative represented by the general formula [9] is represented by the general formula [8] depending on the amount of the sulfide derivative represented by the general formula [5] and a suitable oxidizing agent in the presence or absence of a catalyst in a solvent. It can manufacture without isolating the sulfoxide derivative represented by these.

反応温度は0℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは0℃〜100℃の温度範囲である。   The reaction temperature is any temperature from 0 ° C. to the reflux temperature in the reaction system, preferably in the temperature range of 0 ° C. to 100 ° C.

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常1時間〜72時間で終了する。   The reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount and the like, but is usually completed in 1 hour to 72 hours.

反応に供される試剤の量は、一般式[5]で表される化合物1当量に対して、QがQの場合、酸化剤は0.5〜3当量、触媒は0.01〜0.5当量であり、QがQの場合、酸化剤は0.5〜5当量、触媒は0.01〜0.5当量である。
である。
The amount of the reagent used for the reaction is 0.5 to 3 equivalents of the oxidizing agent and 0.01 to 0 of the catalyst when Q is Q 1 with respect to 1 equivalent of the compound represented by the general formula [5]. .5 is equivalent, when Q is Q 2, the oxidizing agent is 0.5 to 5 equivalents, the catalyst is 0.01 to 0.5 equivalents.
It is.

溶媒、酸化剤及び触媒としては、工程3と同様なものが挙げられる。   Examples of the solvent, the oxidizing agent, and the catalyst include the same ones as in step 3.

<製造法2> 工程6〜工程8
一般式[4]で表される化合物は、以下の方法により製造することができる。
<Production Method 2> Step 6 to Step 8
The compound represented by the general formula [4] can be produced by the following method.

Figure 2005213168
Figure 2005213168

(式中、R、R4、R及びXは前記と同じ意味を表し、Rはアルキル基を表す。)
(工程6)
一般式[11]で表される化合物は、化合物[10]を溶媒中、塩基存在下又は非存在下ウィティッヒ(Wittig)試薬と反応させることにより製造することができる。この反応は通常、反応温度−60〜150℃である。
(Wherein R 3 , R 4 , R 5 and X represent the same meaning as described above, and R 7 represents an alkyl group.)
(Step 6)
The compound represented by the general formula [11] can be produced by reacting the compound [10] with a Wittig reagent in the presence or absence of a base in a solvent. This reaction is usually at a reaction temperature of −60 to 150 ° C.

反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常10分〜24時間で終了する。   The reaction time varies depending on the reaction temperature, reaction substrate, reaction amount and the like, but is usually completed in 10 minutes to 24 hours.

反応に供される試剤の量は、化合物[10]1当量に対して、塩基0.5〜3当量、ウィティッヒ(Wittig)試薬0.5〜3当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。   The amount of the reagent used in the reaction is preferably 0.5 to 3 equivalents of base and 0.5 to 3 equivalents of Wittig reagent with respect to 1 equivalent of compound [10]. Can be changed.

塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、トリエチルアミン又は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、或いは炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、n−ブチルリチウム等のアルキル金属類、ナトリウムメトキシド又はカリウムtert−ブトキシド等のアルコールの金属塩類が挙げられる。   Examples of the base include metal hydrides such as sodium hydride, alkali metal amides such as sodium amide or lithium diisopropylamide, organic compounds such as pyridine, triethylamine or 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene. Bases, hydroxides of alkali metals such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, hydroxides of alkaline earth metals such as calcium hydroxide or magnesium hydroxide, carbonates of alkali metals such as sodium carbonate or potassium carbonate, Alternatively, inorganic bases such as alkali metal bicarbonates such as sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate, alkyl metals such as n-butyl lithium, and metal salts of alcohol such as sodium methoxide or potassium tert-butoxide.

溶媒としては、例えばジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジオキサン又はテトラヒドロフラン(THF)等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)又はN−メチル−2−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド(DMSO)又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトニトリル等のニトリル類、水、或いはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the solvent include ethers such as diethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, dioxane or tetrahydrofuran (THF), halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, chlorobenzene or dichlorobenzene, N, Amides such as N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide (DMF) or N-methyl-2-pyrrolidinone, sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide (DMSO) or sulfolane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene , Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol or tert-butanol, nitriles such as acetonitrile, water, or a mixture thereof.

ウィティッヒ(Wittig)試薬としては、市販の試薬をそのまま使用してもよいが、丸善株式会社発行,実験化学講座(第4版),19巻,有機合成I,57頁〜72頁記載の方法又は準じた方法等で製造することができる。   As the Wittig reagent, a commercially available reagent may be used as it is, but the method described in Maruzen Co., Ltd., Experimental Chemistry Course (4th edition), Vol. 19, Organic Synthesis I, pages 57-72 or It can be produced by a similar method.

一般式[10]で示される化合物は、市販の試薬をそのまま使用してもよいが、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J. Org. Chem.)第60巻(8),2461頁(1995年)、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Letters)375頁(1978年)、3539頁(1980年)及び、7303頁(1994年)、シンセティック・コミュニケーション(Synth. Commun.,)11巻(12),943頁(1981年)、シンセシス(Synthesis)9巻,1241頁(1998年)、テトラヘドロン(Tetrahedron)52巻(42),13513頁(1996年)及びジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(J. Med. Chem.,)24巻(4),399頁(1981年)記載の方法又はこれらに準じた方法等で製造することができる。   As the compound represented by the general formula [10], a commercially available reagent may be used as it is, but the Journal of Organic Chemistry (J. Org. Chem.) Volume 60 (8), page 2461 ( 1995), Tetrahedron Letters, 375 (1978), 3539 (1980), and 7303 (1994), Synth. Commun., 11 (12), 943 (1981), Synthesis 9, 241 (1998), Tetrahedron 52 (42), 13513 (1996) and Journal of Medicinal Chemistry (J. Med). Chem.,) 24 (4), 399 (1981), or a method analogous thereto.

(工程7)
一般式[12]で表される化合物は、化合物[11]を溶媒中、還元剤と反応することにより製造することができる。
(Step 7)
The compound represented by the general formula [12] can be produced by reacting the compound [11] with a reducing agent in a solvent.

この反応は通常、反応温度−60〜150℃で10分〜24時間反応させる。   This reaction is usually carried out at a reaction temperature of −60 to 150 ° C. for 10 minutes to 24 hours.

反応に供される試剤の量は、化合物[11]1当量に対して、還元剤0.5〜2当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。   The amount of the reagent used for the reaction is preferably 0.5 to 2 equivalents of the reducing agent with respect to 1 equivalent of the compound [11], but can be arbitrarily changed depending on the reaction conditions.

還元剤としては、[11]から[12]の製造では、例えば水素化ジイソブチルアルミニウム等の金属水素化物類、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物類、或いはジボランが挙げられる。   Examples of the reducing agent in the production of [11] to [12] include metal hydrides such as diisobutylaluminum hydride, metal hydride complex compounds such as sodium borohydride or lithium aluminum hydride, and diborane. .

溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ベンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類、或いはメタノール又はエタノール等のアルコール類が挙げられる。   Examples of the solvent include ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran or dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene or toluene, or alcohols such as methanol or ethanol.

(工程8)
一般式[4]で表される化合物は、化合物[12]を溶媒中、ハロゲン化剤と反応させるか、化合物[12]を溶媒中、四臭化炭素又は四塩化炭素とトリフェニルホスフィンとを反応させることにより製造することができる。
(Process 8)
In the compound represented by the general formula [4], the compound [12] is reacted with a halogenating agent in a solvent, or the compound [12] is reacted with carbon tetrabromide or carbon tetrachloride and triphenylphosphine in a solvent. It can be produced by reacting.

この反応は通常、反応温度−50〜100℃で10分〜24時間反応させる。   This reaction is usually carried out at a reaction temperature of −50 to 100 ° C. for 10 minutes to 24 hours.

反応に供される試剤の量は化合物[12]1当量に対して、ハロゲン化剤1〜3当量、四臭化炭素又は四塩化炭素1〜3当量、トリフェニルホスフィン1〜3当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができる。   The amount of the reagent used for the reaction is preferably 1 to 3 equivalents of the halogenating agent, 1 to 3 equivalents of carbon tetrabromide or carbon tetrachloride, and 1 to 3 equivalents of triphenylphosphine with respect to 1 equivalent of the compound [12]. , And can be arbitrarily changed according to the reaction situation.

ハロゲン化剤としては、例えば塩化水素、臭化水素、三塩化リン、三臭化リン又は塩化チオニル等が挙げられる。   Examples of the halogenating agent include hydrogen chloride, hydrogen bromide, phosphorus trichloride, phosphorus tribromide, thionyl chloride, and the like.

溶媒としては、例えばジクロロエタン又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸等の酸類、或いはテトラヒドロフラン等のエーテル類が挙げられる。
<製造法3> 工程9
一般式[4]で表される化合物は、以下の方法により製造するもできる。
Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloroethane and carbon tetrachloride, acids such as acetic acid, and ethers such as tetrahydrofuran.
<Production Method 3> Step 9
The compound represented by the general formula [4] can also be produced by the following method.

Figure 2005213168
Figure 2005213168

(式中、R、R、R及びXは前記と同じ意味を表す。)
一般式[4]で表される化合物は、化合物[13]を溶媒中、触媒の存在下又は非存在下でハロゲン化剤と反応させることにより製造することができる。
(In the formula, R 3 , R 4 , R 5 and X have the same meaning as described above.)
The compound represented by the general formula [4] can be produced by reacting the compound [13] with a halogenating agent in a solvent in the presence or absence of a catalyst.

この反応は通常、反応温度30〜150℃で10分〜24時間反応させる。   This reaction is usually carried out at a reaction temperature of 30 to 150 ° C. for 10 minutes to 24 hours.

反応に供される試剤の量は化合物[13]1当量に対して、ハロゲン化剤1〜10当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることができ、触媒は0.01〜0.5当量である。   The amount of the reagent provided for the reaction is preferably 1 to 10 equivalents of the halogenating agent with respect to 1 equivalent of the compound [13], but can be arbitrarily changed depending on the reaction conditions. 0.5 equivalent.

ハロゲン化剤としては、例えば臭素又は塩素等のハロゲン類、N−ブロモコハク酸イミド等のN−ハロコハク酸イミド類、過臭化ピリジニウム等のピリジン塩類、或いは、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン等が挙げられる。   Examples of the halogenating agent include halogens such as bromine or chlorine, N-halosuccinimides such as N-bromosuccinimide, pyridine salts such as pyridinium perbromide, or 1,3-dibromo-5,5- Examples thereof include dimethylhydantoin.

溶媒としては、例えばジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)又はN−メチル−2−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド(DMSO)又はスルホラン等の硫黄化合物、或いは、ギ酸又は酢酸等のカルボン酸類が挙げられる。   Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene and dichlorobenzene, amides such as N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide (DMF) and N-methyl-2-pyrrolidinone. And sulfur compounds such as dimethyl sulfoxide (DMSO) or sulfolane, or carboxylic acids such as formic acid or acetic acid.

触媒としては、例えば過酸化ベンゾイル等の過酸化物類、α,α−アゾビスイソブチロニトリル等のニトリル類又はこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the catalyst include peroxides such as benzoyl peroxide, nitriles such as α, α-azobisisobutyronitrile, and mixtures thereof.

一般式[13]で表される化合物は、市販の試薬をそのまま使用してもよいが、製造法2の工程6に記載のウィティッヒ(Wittig)反応を行うことにより、対応するケトン体から製造することができる。   The compound represented by the general formula [13] may be a commercially available reagent as it is, but is produced from the corresponding ketone body by carrying out the Wittig reaction described in Step 6 of Production Method 2. be able to.

本発明の除草剤は、一般式[I]で示されるイソオキサゾリン−3−イル誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成分としてなる。   The herbicide of the present invention comprises an isoxazolin-3-yl derivative represented by the general formula [I] or a pharmacologically acceptable salt thereof as an active ingredient.

本発明化合物を除草剤として使用するには本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤又は補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、フロアブル剤、微粒剤又は粒剤等に製剤して使用することもできる。   In order to use the compound of the present invention as a herbicide, the compound of the present invention may be used as it is, but a carrier, a surfactant, a dispersing agent or an auxiliary agent generally used for formulation is blended, and a powder, It can also be used in the form of a wettable powder, emulsion, flowable, fine granules or granules.

製剤化に際して用いられる担体としては、例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン又はメチルナフタレン等の液体担体等があげられる。   Examples of carriers used for formulation include talc, bentonite, clay, kaolin, diatomaceous earth, white carbon, vermiculite, calcium carbonate, slaked lime, silica sand, ammonium sulfate, urea and other solid carriers, isopropyl alcohol, xylene, cyclohexane or methylnaphthalene, etc. Liquid carriers and the like.

界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル又はポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール又はアラビアゴム等があげられる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するか又は直接施用する。   Surfactants and dispersants include, for example, alkylbenzene sulfonic acid metal salts, dinaphthylmethane disulfonic acid metal salts, alcohol sulfate esters, alkylaryl sulfonates, lignin sulfonates, polyoxyethylene glycol ethers, polyoxyethylene alkyls. Examples thereof include aryl ether and polyoxyethylene sorbitan monoalkylate. Examples of the auxiliary agent include carboxymethyl cellulose, polyethylene glycol, gum arabic and the like. In use, dilute to an appropriate concentration and spray or apply directly.

本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用又は水面施用等により使用することができる。有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤又は粒剤とする場合は0.01〜10%(重量)、好ましくは0.05〜5%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。乳剤及び水和剤とする場合は1〜50%(重量)、好ましくは5〜30%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。また、フロアブル剤とする場合は1〜40%(重量)、好ましくは5〜30%(重量)の範囲から適宜選ぶのがよい。   The herbicide of the present invention can be used by foliage application, soil application or water surface application. The blending ratio of the active ingredient is appropriately selected as necessary, but in the case of powder or granule, it is appropriately selected from the range of 0.01 to 10% (weight), preferably 0.05 to 5% (weight). It is good. In the case of using an emulsion and a wettable powder, it may be appropriately selected from the range of 1 to 50% (weight), preferably 5 to 30% (weight). Moreover, when setting it as a flowable agent, it is good to select suitably from the range of 1-40% (weight), Preferably 5-30% (weight).

本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、有効成分として1ヘクタール当り1g〜50kg、好ましくは10g〜10kgの範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤、水和剤及びフロアブル剤とする場合のように液状で使用する場合は、0.1〜50,000ppm、好ましくは10〜10,000ppmの範囲から適宜選ぶのがよい。   The application rate of the herbicide of the present invention varies depending on the type of compound used, the target weed, the tendency to occur, the environmental conditions and the dosage form to be used, but when used as it is like powders and granules, as an active ingredient It is appropriate to appropriately select from 1 g to 50 kg per hectare, preferably from 10 g to 10 kg. In addition, when used in a liquid state as in the case of emulsions, wettable powders and flowables, it may be appropriately selected from the range of 0.1 to 50,000 ppm, preferably 10 to 10,000 ppm.

また、本発明の除草剤には、上記の様々な製剤形態において有効成分である本願化合物以外に必要に応じて他の公知の活性化合物、例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、昆虫生育調整剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料及び土壌改良等と混用してもよい。   In addition, the herbicide of the present invention includes other known active compounds as required in addition to the compound of the present invention which is an active ingredient in the above various preparation forms, for example, insecticides, acaricides, insect growth regulators, You may mix with a nematicide, a fungicide, a herbicide, a plant growth regulator, a fertilizer, and soil improvement.

一般式[I]で表される本発明の化合物は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、アサガオ、オナモミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および1年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。また、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑草を防除することもできる。   The compound of the present invention represented by the general formula [I] is a variety of weeds that are problematic in the field, for example, broad-leaved weeds such as giant beetle, greenfish, shiroza, chickweed, tiger beetle, American stag beetle, American horned scorpion, morning glory, bat Perennial and annual perennial cyperaceae weeds such as japonica, yellowtail, cyper, and white-tailed crustaceae, flies from pre-emergence weeds of grasses such as Japanese maize, Japanese barnyardgrass, wild stag beetle, Johnsongrass, Japanese genus Teppo, wild oats, etc. Excellent herbicidal effect over a wide range. It is also possible to control annual weeds such as Tainubie, Tamagayatsuri, and Konagi that occur in paddy fields, and perennial weeds such as Urikawa, Omodaka, Mitsugayatsuri, Krogwei, Firefly, Heramodaka.

次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明するが本発明はこれらの実施例になんら制約されるものではない。尚、本発明化合物の製造中間体の製造法も併せて記載する。また、化合物番号は以後の記載において参照される。   Next, the production method, formulation method and use of the compound of the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the manufacturing method of the manufacturing intermediate of this invention compound is also described collectively. The compound number is referred to in the following description.

3−(3−メチル−2−フェニル−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリンの合成(本発明化合物番号001)
(1)3−メチル−2−フェニル−2−ブテン酸エチルの合成
臭化イソプロピルトリフェニルホスホニウム6.92g(17.9ミリモル)のテトラヒドロフラン40ml溶液に、0℃にてn−ブチルリチウム11.2ml(17.9ミリモル、1.60モル/L、n−ヘキサン溶液)を加え、同温度にて30分間攪拌した。さらに反応溶液中に2−オキソ−2−フェニル酢酸エチル3.20g(17.9ミリモル)を加え室温にて一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液中の溶媒を減圧下留去した。得られた残渣を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、3−メチル−2−フェニル−2−ブテン酸エチル1.32g(収率:36%)を得た。
Synthesis of 3- (3-methyl-2-phenyl-2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 001)
(1) Synthesis of ethyl 3-methyl-2-phenyl-2-butenoate 11.2 ml of n-butyllithium in a solution of 6.92 g (17.9 mmol) of isopropyltriphenylphosphonium bromide in 40 ml of tetrahydrofuran at 0 ° C. (17.9 mmol, 1.60 mol / L, n-hexane solution) was added and stirred at the same temperature for 30 minutes. Further, 3.20 g (17.9 mmol) of ethyl 2-oxo-2-phenylacetate was added to the reaction solution and stirred overnight at room temperature. After confirming the completion of the reaction, the solvent in the reaction solution was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was poured into ice water and extracted with diethyl ether. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 1.32 g (yield: 36%) of ethyl 3-methyl-2-phenyl-2-butenoate.

(2)3−メチル−2−フェニル−2−ブテン−1−オールの合成
3−メチル−2−フェニル−2−ブテン酸エチル1.32g(6.50ミリモル)のテトラヒドロフラン10ml溶液に、室温にて水素化リチウムアルミニウム0.24g(6.50ミリモル)を加え、同温度にて3時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液中に水及び水酸化ナトリウム水溶液を加え、不溶物を濾別した。濾液を分液し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、3−メチル−2−フェニル−2−ブテン−1−オール0.80g(収率:76%)を得た。
(2) Synthesis of 3-methyl-2-phenyl-2-buten-1-ol To a solution of ethyl 3-methyl-2-phenyl-2-butenoate (1.32 g, 6.50 mmol) in tetrahydrofuran (10 ml) at room temperature. Then, 0.24 g (6.50 mmol) of lithium aluminum hydride was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 3 hours. After confirming the completion of the reaction, water and an aqueous sodium hydroxide solution were added to the reaction solution, and insoluble matters were filtered off. The filtrate was separated, and the organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.80 g (yield: 76%) of 3-methyl-2-phenyl-2-buten-1-ol.

(3)1−(1−ブロモ−3−メチル−2−ブテン−2−イル)−ベンゼンの合成
3−メチル−2−フェニル−2−ブテン−1−オール0.80g(5.00ミリモル)のジエチルエーテル10mlに、室温にて三臭化りん0.45g(1.65ミリモル)を加え、同温度にて2時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し、1−(1−ブロモ−3−メチル−2−ブテン−2−イル)−ベンゼン1.02g(収率:91%)を得た。
(3) Synthesis of 1- (1-bromo-3-methyl-2-buten-2-yl) -benzene 3-methyl-2-phenyl-2-buten-1-ol 0.80 g (5.00 mmol) To 10 ml of diethyl ether was added 0.45 g (1.65 mmol) of phosphorus tribromide at room temperature, and the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with diethyl ether. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.02 g (yield: 91%) of 1- (1-bromo-3-methyl-2-buten-2-yl) -benzene.

(4)3−(3−メチル−2−フェニル−2−ブテニルチオ)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリンの合成
5,5−ジメチル−3−エタンスルホニル−2−イソオキサゾリン0.86g(4.50ミリモル)のN,N−ジメチルホルムアミド10ml溶液に、室温にて水硫化ナトリウム0.34g(純度70%、6.10ミリモル)及び無水炭酸カリウム0.81g(10.60ミリモル)を加え1時間攪拌した。さらに1−(1−ブロモ−3−メチル−2−ブテン−2−イル)−ベンゼン1.02g(4.50ミリモル)を室温にて加え、1時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、3−(3−メチル−2−フェニル−2−ブテニルチオ)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン0.67g(収率:54%)を得た。
(4) Synthesis of 3- (3-methyl-2-phenyl-2-butenylthio) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline 5,5-dimethyl-3-ethanesulfonyl-2-isoxazoline 0.86 g ( To a solution of 4.50 mmol) of N, N-dimethylformamide at room temperature was added 0.34 g of sodium hydrosulfide (purity 70%, 6.10 mmol) and 0.81 g (10.60 mmol) of anhydrous potassium carbonate. Stir for 1 hour. Further, 1.02 g (4.50 mmol) of 1- (1-bromo-3-methyl-2-buten-2-yl) -benzene was added at room temperature and stirred for 1 hour. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography, and 0.67 g (yield: 54%) of 3- (3-methyl-2-phenyl-2-butenylthio) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline. Got.

(5)3−(3−メチル−2−フェニル−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリンの合成
3−(3−メチル−2−フェニル−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン0.16g(0.58ミリモル)のメタノール5.0ml及び水5.0ml溶液に、室温にてオキソン0.53g(0.87ミリモル)を加え、一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶の3−(3−メチル−2−フェニル−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン0.08g(収率:45%)を得た。
(5) Synthesis of 3- (3-methyl-2-phenyl-2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline 3- (3-methyl-2-phenyl-2-butenylsulfonyl) To a solution of 0.16 g (0.58 mmol) of -5,5-dimethyl-2-isoxazoline in 5.0 ml of methanol and 5.0 ml of water was added 0.53 g (0.87 mmol) of oxone at room temperature. Stir. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography, and colorless crystals of 3- (3-methyl-2-phenyl-2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (0.08 g (yield) were obtained. Rate: 45%).

H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.40〜7.18(m,5H),4.50(s,2H),2.80(s,2H),2.03(s,3H),1.72(s,3H),1.34(s,6H)
融点:101〜103℃
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.40 to 7.18 (m, 5H), 4.50 (s, 2H), 2.80 (s, 2H), 2.03 (S, 3H), 1.72 (s, 3H), 1.34 (s, 6H)
Melting point: 101-103 ° C

3−((3,3−ジメチル−2−フェニルオキシラン−2−イル)メチルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリンの合成(本発明化合物番号002)
3−(3−メチル−2−フェニル−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン0.32g(1.16ミリモル)のメタノール5.0ml及び水5.0ml溶液に、室温にてオキソン1.83g(3.00ミリモル)を加え、3時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し、無色結晶の3−((3,3−ジメチル−2−フェニルオキシラン−2−イル)メチルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン0.28g(収率:75%)を得た。
Synthesis of 3-((3,3-dimethyl-2-phenyloxiran-2-yl) methylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (present compound number 002)
To a solution of 0.32 g (1.16 mmol) 3- (3-methyl-2-phenyl-2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline in 5.0 ml methanol and 5.0 ml water, 1.83 g (3.00 mmol) of oxone was added at room temperature and stirred for 3 hours. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. The insoluble material was filtered off, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give colorless crystals of 3-((3,3-dimethyl-2-phenyloxiran-2-yl) methylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-iso 0.28 g (yield: 75%) of oxazoline was obtained.

H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.37〜7.28(m,5H),4.15(d,1H),4.01(d,1H),3.06(d,1H),2.78(d,1H),1.56(s,3H),1.43(s,3H),1.39(s,3H),0.99(s,3H)
融点:126〜127℃
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.37 to 7.28 (m, 5H), 4.15 (d, 1H), 4.01 (d, 1H), 3.06 (D, 1H), 2.78 (d, 1H), 1.56 (s, 3H), 1.43 (s, 3H), 1.39 (s, 3H), 0.99 (s, 3H)
Melting point: 126-127 ° C

3−[3−メチル−2−(2−クロロフェニル)−2−ブテニルスルホニル]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリンの合成(本発明化合物番号003)
(1)2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテン酸エチルの合成
ヨウ化イソプロピルトリフェニルホスホニウム0.90g(2.1ミリモル)のテトラヒドロフラン4.0ml溶液に、−60℃にてn−ブチルリチウム1.3ml(2.1ミリモル、1.58モル/L、n−ヘキサン溶液)を加え、同温度にて1時間攪拌した。さらに反応溶液中に2−(2−クロロフェニル)−2−オキソ酢酸エチル0.37g(1.74ミリモル)を加え同温度にて1時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテン酸エチル0.27g(収率:65%)を得た。
Synthesis of 3- [3-methyl-2- (2-chlorophenyl) -2-butenylsulfonyl] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (present compound number 003)
(1) Synthesis of ethyl 2- (2-chlorophenyl) -3-methyl-2-butenoate To a solution of 0.90 g (2.1 mmol) of isopropyltriphenylphosphonium iodide in 4.0 ml of tetrahydrofuran at −60 ° C. 1.3 ml of n-butyllithium (2.1 mmol, 1.58 mol / L, n-hexane solution) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. Furthermore, 0.37 g (1.74 mmol) of ethyl 2- (2-chlorophenyl) -2-oxoacetate was added to the reaction solution, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with diethyl ether. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.27 g (yield: 65%) of ethyl 2- (2-chlorophenyl) -3-methyl-2-butenoate.

(2)2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテン−1−オールの合成
2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテン酸エチル0.27g(1.13ミリモル)のテトラヒドロフラン3.0ml溶液に、−50℃にて水素化イソブチルアルミニウム3.7ml(3.40ミリモル、0.93モル/L、トルエン溶液)を加え、同温度にて1時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、濃塩酸にて中和した後、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、そのまま次反応を行った。
(2) Synthesis of 2- (2-chlorophenyl) -3-methyl-2-buten-1-ol 0.27 g (1.13 mmol) of ethyl 2- (2-chlorophenyl) -3-methyl-2-butenoate To a 3.0 ml tetrahydrofuran solution was added 3.7 ml (3.40 mmol, 0.93 mol / L, toluene solution) of isobutylaluminum hydride at −50 ° C., and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water, neutralized with concentrated hydrochloric acid, and extracted with diethyl ether. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. The insoluble material was filtered off and the next reaction was carried out as it was.

(3)1−(1−ブロモ−3−メチル−2−ブテン−2−イル)−2−クロロベンゼンの合成
(2)で得られた粗製の2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテン−1−オールのジエチルエーテル溶液に、−20℃にて三臭化りん0.46g(1.70ミリモル)を加え、同温度にて1時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し、粗製の1−(1−ブロモ−3−メチル−2−ブテン−2−イル)−2−クロロベンゼンを得た。
(3) Synthesis of 1- (1-bromo-3-methyl-2-buten-2-yl) -2-chlorobenzene Crude 2- (2-chlorophenyl) -3-methyl-2 obtained in (2) -To a diethyl ether solution of buten-1-ol, 0.46 g (1.70 mmol) of phosphorus tribromide was added at -20 ° C, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with diethyl ether. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matters were filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain crude 1- (1-bromo-3-methyl-2-buten-2-yl) -2-chlorobenzene.

(4)3−[2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテニルチオ]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリンの合成
5,5−ジメチル−3−エタンスルホニル−2−イソオキサゾリン0.22g(1.13ミリモル)のN,N−ジメチルホルムアミド2.0ml溶液に、室温にて水硫化ナトリウム0.09g(純度70%、1.13ミリモル)、無水炭酸カリウム0.19g(1.36ミリモル)及びロンガリット(Rongalit,HOCHSONa・2HO)0.21g(1.36ミリモル)を加え1時間攪拌した。さらに3)で得られた粗製の1−(1−ブロモ−3−メチル−2−ブテン−2−イル)−2−クロロベンゼンを室温にて加え、30分間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、3−[2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテニルチオ]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン0.12g(収率:34%)を得た。
(4) Synthesis of 3- [2- (2-chlorophenyl) -3-methyl-2-butenylthio] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline 5,5-dimethyl-3-ethanesulfonyl-2-isoxazoline To a solution of 0.22 g (1.13 mmol) of N, N-dimethylformamide in 2.0 ml at room temperature, sodium hydrosulfide 0.09 g (purity 70%, 1.13 mmol) and anhydrous potassium carbonate 0.19 g (1 .36 mmol) and Rongalit (HOCH 2 SO 2 Na.2H 2 O) 0.21 g (1.36 mmol) were added and stirred for 1 hour. Furthermore, the crude 1- (1-bromo-3-methyl-2-buten-2-yl) -2-chlorobenzene obtained in 3) was added at room temperature and stirred for 30 minutes. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography, and 3- [2- (2-chlorophenyl) -3-methyl-2-butenylthio] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (0.12 g, yield) : 34%).

(5)3−[2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテニルスルホニル]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリンの合成
3−[2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテニルチオ]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン0.12g(0.39ミリモル)のメタノール5.0ml溶液に、室温にてタングステン酸ナトリウム2水和物触媒量及び過酸化水素水0.19g(純度35%、1.95ミリモル)を加え、一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジクロロメタンにて抽出した。さらに水層を酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を各々水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し無色結晶の3−[2−(2−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテニルスルホニル]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン0.11g(収率:83%)を得た。
(5) Synthesis of 3- [2- (2-chlorophenyl) -3-methyl-2-butenylsulfonyl] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline 3- [2- (2-chlorophenyl) -3- Methyl-2-butenylthio] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (0.12 g, 0.39 mmol) in methanol (5.0 ml) at room temperature with sodium tungstate dihydrate catalyst amount and hydrogen peroxide 0.19 g of water (purity 35%, 1.95 mmol) was added and stirred overnight. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with dichloromethane. Further, the aqueous layer was extracted with ethyl acetate. Each of the obtained organic layers was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. The insoluble material was filtered off, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give colorless crystals of 3- [2- (2-chlorophenyl) -3-methyl-2-butenylsulfonyl] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline 0 .11 g (yield: 83%) was obtained.

H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.41〜7.20(m,4H),4.63(d,1H),4.36(d,1H),2.95(d,2H),2.05(s,3H),1.63(s,3H),1.40(d,6H)
融点:82〜83℃
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.41 to 7.20 (m, 4H), 4.63 (d, 1H), 4.36 (d, 1H), 2.95 (D, 2H), 2.05 (s, 3H), 1.63 (s, 3H), 1.40 (d, 6H)
Melting point: 82-83 ° C

(2Z)−4−(5,5−ジメチルイソオキサゾリン−3−イルスルホニル)−3−フェニル−2−ブテン酸メチルの合成(本発明化合物番号004)
(1)(2Z)−3−フェニル−2−ブテン酸メチルの合成
アセトフェノン2.00g(16.7ミリモル)のトルエン25ml溶液に、室温にてトリフェニルホスホラニリデン酢酸メチル6.12g(18.3ミリモル)を加え、3日間還流下攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、(2Z)−3−フェニル−2−ブテン酸メチル0.44g(収率:14%)を得た。
Synthesis of methyl (2Z) -4- (5,5-dimethylisoxazolin-3-ylsulfonyl) -3-phenyl-2-butenoate (Compound No. 004 of the present invention)
(1) Synthesis of methyl (2Z) -3-phenyl-2-butenoate In a 25 ml toluene solution of 2.00 g (16.7 mmol) of acetophenone, 6.12 g (18. 3 mmol) was added and stirred under reflux for 3 days. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.44 g (yield: 14%) of methyl (2Z) -3-phenyl-2-butenoate.

(2)(2Z)−3−ブロモメチル−2−フェニル−2−ブテン酸メチルの合成
(2Z)−3−フェニル−2−ブテン酸メチル0.44g(2.32ミリモル)の四塩化炭素10ml溶液に、室温にてN−ブロモコハク酸イミド0.41g(2.32ミリモル)を加え、還流下5時間攪拌した。反応終了確認後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた粗製の(2Z)−3−ブロモメチル−2−フェニル−2−ブテン酸メチルをそのまま次反応へ使用した。
(2) Synthesis of methyl (2Z) -3-bromomethyl-2-phenyl-2-butenoate 0.42 g (2.32 mmol) of methyl (2Z) -3-phenyl-2-butenoate in 10 ml of carbon tetrachloride To this, 0.41 g (2.32 mmol) of N-bromosuccinimide was added at room temperature, and the mixture was stirred under reflux for 5 hours. After confirming the completion of the reaction, insoluble matters were filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained crude methyl (2Z) -3-bromomethyl-2-phenyl-2-butenoate was used as such for the next reaction.

(3)(2Z)−4−(5,5−ジメチルイソオキサゾリン−3−イルチオ)−3−フェニル−2−ブテン酸メチルの合成
5,5−ジメチル−3−エタンスルホニル−2−イソオキサゾリン0.44g(2.32ミリモル)のN,N−ジメチルホルムアミド5.0ml溶液に、室温にて水硫化ナトリウム0.19g(純度70%、2.32ミリモル)及び無水炭酸カリウム0.38g(2.72ミリモル)を加え1時間攪拌した。さらに2)で得られた粗製の3−ブロモメチル−2−フェニル−2−ブテン酸メチルを室温にて加え、30分間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、(2Z)−4−(5,5−ジメチルイソオキサゾリン−3−イルチオ)−3−フェニル−2−ブテン酸メチル0.31g(収率:44%)を得た。
(3) Synthesis of methyl (2Z) -4- (5,5-dimethylisoxazolin-3-ylthio) -3-phenyl-2-butenoate 5,5-dimethyl-3-ethanesulfonyl-2-isoxazoline 0 .44 g (2.32 mmol) of N, N-dimethylformamide in 5.0 ml solution at room temperature 0.19 g of sodium hydrosulfide (purity 70%, 2.32 mmol) and 0.38 g of anhydrous potassium carbonate (2. 72 mmol) was added and stirred for 1 hour. Further, the crude methyl 3-bromomethyl-2-phenyl-2-butenoate obtained in 2) was added at room temperature and stirred for 30 minutes. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography, and 0.31 g of methyl (2Z) -4- (5,5-dimethylisoxazolin-3-ylthio) -3-phenyl-2-butenoate (yield: 44%).

(4)(2Z)−4−(5,5−ジメチルイソオキサゾリン−3−イルスルホニル)−3−フェニル−2−ブテン酸メチルの合成
(2Z)−4−(5,5−ジメチルイソオキサゾリン−3−イルチオ)−3−フェニル−2−ブテン酸メチル0.31g(1.02ミリモル)のメタノール5.0ml溶液に、室温にてタングステン酸ナトリウム2水和物触媒量及び過酸化水素水0.51g(純度35%、5.10ミリモル)を加え、一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水中に注ぎ、ジクロロメタンにて抽出した。さらに水層を酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を各々水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去し無色結晶の(2Z)−4−(5,5−ジメチルイソオキサゾリン−3−イルスルホニル)−3−フェニル−2−ブテン酸メチル0.23g(収率:67%)を得た。
(4) Synthesis of methyl (2Z) -4- (5,5-dimethylisoxazolin-3-ylsulfonyl) -3-phenyl-2-butenoate (2Z) -4- (5,5-dimethylisoxazoline- To a solution of 0.31 g (1.02 mmol) of methyl 3-ylthio) -3-phenyl-2-butenoate in 5.0 ml of methanol, a sodium tungstate dihydrate catalyst amount and a hydrogen peroxide solution of 0. 51 g (purity 35%, 5.10 mmol) was added and stirred overnight. After confirming the completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water and extracted with dichloromethane. Further, the aqueous layer was extracted with ethyl acetate. Each of the obtained organic layers was washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Insoluble matter was filtered off, and the solvent was distilled off under reduced pressure to give 0.23 g of methyl (2Z) -4- (5,5-dimethylisoxazolin-3-ylsulfonyl) -3-phenyl-2-butenoate as colorless crystals. (Yield: 67%) was obtained.

H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.54〜7.42(m,5H),6.44(s,1H),5.36(s,2H),3.80(s,3H),2.99(s,3H),1.40(d,6H)
融点:107〜108℃
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.54 to 7.42 (m, 5H), 6.44 (s, 1H), 5.36 (s, 2H), 3.80 (S, 3H), 2.99 (s, 3H), 1.40 (d, 6H)
Melting point: 107-108 ° C

3−(アリルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリンの合成(本発明化合物番号005)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):5.92(m,1H),5.54(m,2H),4.09(d,2H),3.09(s,1H),1.49(s,6H)
融点:64〜65℃
Synthesis of 3- (allylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (present compound number 005)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 5.92 (m, 1H), 5.54 (m, 2H), 4.09 (d, 2H), 3.09 (s, 1H ), 1.49 (s, 6H)
Melting point: 64-65 ° C

3−((E)−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号006)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):6.07〜5.89(m,1H),5.59〜5.48(m,1H),4.14〜4.11(dd,2H),3.08(d,2H),1.80(dd,3H),1.49(s,6H)
3-((E) -2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 006)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 6.07 to 5.89 (m, 1H), 5.59 to 5.48 (m, 1H), 4.14 to 4.11 ( dd, 2H), 3.08 (d, 2H), 1.80 (dd, 3H), 1.49 (s, 6H)

3−(シンナミルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号007)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.43〜7.30(m,5H),6.76(d,1H),6.26〜6.18(m,1H),4.24(d,2H),3.07(s,2H),1.46(s,6H)
融点:145〜146℃
3- (cinnamylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 007)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.43 to 7.30 (m, 5H), 6.76 (d, 1H), 6.26 to 6.18 (m, 1H) , 4.24 (d, 2H), 3.07 (s, 2H), 1.46 (s, 6H)
Melting point: 145-146 ° C

3−((E)−4,4,4−トリフルオロ−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号008)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):6.43(m,1H),6.07(m,1H),4.20(d,2H),3.09(s,2H),1.50(s,6H)
融点:111〜112℃
3-((E) -4,4,4-trifluoro-2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 008)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 6.43 (m, 1H), 6.07 (m, 1H), 4.20 (d, 2H), 3.09 (s, 2H) ), 1.50 (s, 6H)
Melting point: 111-112 ° C

3−[2−(3−クロロフェニル)−アリルスルホニル]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号009)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.61(s,1H),7.46〜7.30(m,3H),5.84(s,1H),5.50(s,1H),4.51(s,2H),3.06(s,2H),1.43(s,6H)
屈折率(n 20):1.5641
3- [2- (3-Chlorophenyl) -allylsulfonyl] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 009)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.61 (s, 1H), 7.46 to 7.30 (m, 3H), 5.84 (s, 1H), 5.50 (S, 1H), 4.51 (s, 2H), 3.06 (s, 2H), 1.43 (s, 6H)
Refractive index (n D 20 ): 1.5641

3−[2−(4−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテニルスルホニル]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号010)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.31(d,2H),7.14(d,2H),4.48(s,2H),2.88(s,2H),2.02(s,3H),1.71(s,3H),1.38(s,6H)
屈折率(n 20):1.5420
3- [2- (4-Chlorophenyl) -3-methyl-2-butenylsulfonyl] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (present compound number 010)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.31 (d, 2H), 7.14 (d, 2H), 4.48 (s, 2H), 2.88 (s, 2H) ), 2.02 (s, 3H), 1.71 (s, 3H), 1.38 (s, 6H)
Refractive index (n D 20 ): 1.5420

3−[2−(2−フルオロフェニル)−3−メチル−2−ブテニルスルホニル]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号011)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.33〜7.03(m,4H),4.49(s,2H),2.92(s,2H),2.04(s,3H),1.71(s,3H),1.39(s,6H)
屈折率(n 20):1.5248
3- [2- (2-Fluorophenyl) -3-methyl-2-butenylsulfonyl] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (present compound number 011)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.33 to 7.03 (m, 4H), 4.49 (s, 2H), 2.92 (s, 2H), 2.04 (S, 3H), 1.71 (s, 3H), 1.39 (s, 6H)
Refractive index (n D 20 ): 1.5248

3−[2−(3−クロロフェニル)−3−メチル−2−ブテニルスルホニル]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号012)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.31〜7.19(m,3H),7.10(d,1H),4.48(s,2H),2.91(s,2H),2.02(s,3H),1.72(s,3H),1.39(s,6H)
3- [2- (3-Chlorophenyl) -3-methyl-2-butenylsulfonyl] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 012)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.31 to 7.19 (m, 3H), 7.10 (d, 1H), 4.48 (s, 2H), 2.91 (S, 2H), 2.02 (s, 3H), 1.72 (s, 3H), 1.39 (s, 6H)

3−[3−メチル−2−(2−トリフルオロメチルフェニル)−2−ブテニルスルホニル]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号013)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.67(d,1H),7.56〜7.38(m,2H),4.74(d,1H),4.17(d,1H),3.02(s,2H),2.04(s,3H),1.53(s,3H),1.42(d,6H)
融点:87〜88℃
3- [3-Methyl-2- (2-trifluoromethylphenyl) -2-butenylsulfonyl] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (present compound number 013)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.67 (d, 1H), 7.56 to 7.38 (m, 2H), 4.74 (d, 1H), 4.17 (D, 1H), 3.02 (s, 2H), 2.04 (s, 3H), 1.53 (s, 3H), 1.42 (d, 6H)
Melting point: 87-88 ° C

3−[2−(2−エトキシフェニル)−3−メチル−2−ブテニルスルホニル]−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号014)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.22(d,1H),7.12(d,1H),6.90(m,2H),4.57(d,2H),4.04(m,2H),2.74(s,2H),2.02(s,3H),1.70(s,3H),1.38(t,3H),1.32(d,6H)
融点:112〜113℃
3- [2- (2-Ethoxyphenyl) -3-methyl-2-butenylsulfonyl] -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (present compound number 014)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.22 (d, 1H), 7.12 (d, 1H), 6.90 (m, 2H), 4.57 (d, 2H) ), 4.04 (m, 2H), 2.74 (s, 2H), 2.02 (s, 3H), 1.70 (s, 3H), 1.38 (t, 3H), 1.32 (D, 6H)
Melting point: 112-113 ° C

3−{2−[2−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)フェニル]−3−メチル−2−ブテニルスルホニル}−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号015)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.28(m,1H),7.22(d,1H),7.05(t,1H),6.86(d,1H),4.51(q,2H),4.34(q,2H),2.84(s,2H),2.02(s,3H),1.67(s,3H),1.32(d,6H)
融点:84〜85℃
3- {2- [2- (2,2,2-trifluoroethoxy) phenyl] -3-methyl-2-butenylsulfonyl} -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (present compound number 015)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.28 (m, 1H), 7.22 (d, 1H), 7.05 (t, 1H), 6.86 (d, 1H ), 4.51 (q, 2H), 4.34 (q, 2H), 2.84 (s, 2H), 2.02 (s, 3H), 1.67 (s, 3H), 1.32 (D, 6H)
Melting point: 84-85 ° C

3−(2−シクロヘキシル−3−メチル−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号016)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):4.30(s,2H),3.12(s,2H),2.51(m,1H),1.84〜1.19(m,22H)
融点:52〜54℃
3- (2-cyclohexyl-3-methyl-2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 016)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 4.30 (s, 2H), 3.12 (s, 2H), 2.51 (m, 1H), 1.84 to 1.19 (M, 22H)
Melting point: 52-54 ° C

3−((Z)−2−フェニル−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号017)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.40〜7.24(m,5H),6.33(q,1H),4.61(s,2H),2.83(s,2H),2.00(d,3H),1.32(s,6H)
3-((Z) -2-phenyl-2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 017)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.40 to 7.24 (m, 5H), 6.33 (q, 1H), 4.61 (s, 2H), 2.83 (S, 2H), 2.00 (d, 3H), 1.32 (s, 6H)

3−((E)−2−フェニル−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号018)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.41〜7.24(m,5H),6.11(q,1H),4.38(s,2H),2.85(s,2H),1.75(d,3H),1.36(s,6H)
融点:80〜81℃
3-((E) -2-phenyl-2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 018)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.41 to 7.24 (m, 5H), 6.11 (q, 1H), 4.38 (s, 2H), 2.85 (S, 2H), 1.75 (d, 3H), 1.36 (s, 6H)
Melting point: 80-81 ° C

3−((EZ)−2−フェニル−2−ペンテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号019)
融点:54〜57℃
3-((EZ) -2-phenyl-2-pentenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 019)
Melting point: 54-57 ° C

3−(2−フェニル−2−ヘキセニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号020)
融点:37〜38℃
3- (2-Phenyl-2-hexenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 020)
Melting point: 37-38 ° C

3−((Z)−2,3−ジフェニルアリルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号021)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.52〜7.32(m,10H),7.16(s,1H),4.81(s,2H),2.67(s,2H),1.29(s,6H)
融点:123〜125℃
3-((Z) -2,3-diphenylallylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 021)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.52 to 7.32 (m, 10H), 7.16 (s, 1H), 4.81 (s, 2H), 2.67 (S, 2H), 1.29 (s, 6H)
Melting point: 123-125 ° C

3−((E)−2,3−ジフェニルアリルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号022)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):7.32〜6.99(m,10H),6.88(s,1H),4.53(s,2H),2.91(s,2H),1.38(s,6H)
融点:152〜154℃
3-((E) -2,3-diphenylallylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 022)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 7.32 to 6.99 (m, 10H), 6.88 (s, 1H), 4.53 (s, 2H), 2.91 (S, 2H), 1.38 (s, 6H)
Melting point: 152-154 ° C

3−(3−メチル−2−フェニル−2−ペンテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号023)
屈折率(n 20):1.5365
3- (3-Methyl-2-phenyl-2-pentenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 023)
Refractive index (n D 20 ): 1.5365

3−(2−メチル−3−フェニルアリルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号024)
屈折率(n 20):1.5441
3- (2-Methyl-3-phenylallylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 024)
Refractive index (n D 20 ): 1.5441

(2Z)−4−[(5,5−ジメチルイソオキサゾリン−3−イルスルホニル)メチル]−3−フェニルアクリル酸エチル(本発明化合物番号025)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):8.14(s,1H),7.63〜7.42(m,5H),4.62(s,2H),4.31(m,2H),3.14(s,2H),1.51(s,6H),1.37(t,3H)
融点:125〜127℃
(2Z) -4-[(5,5-Dimethylisoxazolin-3-ylsulfonyl) methyl] -3-phenylacrylate (present invention compound number 025)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 8.14 (s, 1H), 7.63 to 7.42 (m, 5H), 4.62 (s, 2H), 4.31 (M, 2H), 3.14 (s, 2H), 1.51 (s, 6H), 1.37 (t, 3H)
Melting point: 125-127 ° C

3−((2E,4E)−2,4−ヘキサジエニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号026)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):6.34(m,1H),6.10(m,1H),5.84(m,1H),5.54(m,1H),4.07(d,2H),3.06(s,1H),1.78(d,3H),1.47(s,6H)
融点:48〜51℃
3-((2E, 4E) -2,4-hexadienylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 026)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 6.34 (m, 1H), 6.10 (m, 1H), 5.84 (m, 1H), 5.54 (m, 1H) ), 4.07 (d, 2H), 3.06 (s, 1H), 1.78 (d, 3H), 1.47 (s, 6H)
Melting point: 48-51 ° C

3−(3−メチル−2−ブテニルスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(本発明化合物番号027)
H−NMR値(CDCl/TMS δ(ppm)):5.30(m,1H),4.08(d,2H),3.08(s,2H),1.84(s,3H),1.76(s,3H),1.49(s,6H)
融点:33〜35℃
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
3- (3-Methyl-2-butenylsulfonyl) -5,5-dimethyl-2-isoxazoline (the present compound number 027)
1 H-NMR value (CDCl 3 / TMS δ (ppm)): 5.30 (m, 1H), 4.08 (d, 2H), 3.08 (s, 2H), 1.84 (s, 3H) ), 1.76 (s, 3H), 1.49 (s, 6H)
Melting point: 33-35 ° C
Next, the preparation method will be specifically described with reference to typical preparation examples. The types and compounding ratios of the compounds and additives are not limited to these and can be changed in a wide range. In the following description, “parts” means parts by weight.

水和剤
本発明化合物番号1の10部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの0.5部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の0.5部、珪藻土の13部、クレーの69部を混合粉砕し、水和剤を得た。
Wettable agent 10 parts of Compound No. 1 of the present invention are 0.5 parts of polyoxyethylene octylphenyl ether, 0.5 parts of β-naphthalenesulfonic acid formalin condensate sodium salt, 13 parts of diatomaceous earth, and 69 parts of clay. The mixture was pulverized to obtain a wettable powder.

フロアブル剤
本発明化合物番号1の13部を水69部に分散させ、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩4部、エチレングリコール7部を加えるとともにシリコーンAF−111N(旭化成工業株式会社製)を製剤に対し130ppm加え、高速攪拌機にて30分間混合した後、湿式粉砕機にて粉砕しフロアブル剤を得た。
Flowable Agent 13 parts of Compound No. 1 of the present invention are dispersed in 69 parts of water, 4 parts of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate and 7 parts of ethylene glycol are added, and silicone AF-111N (Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) is formulated. 130 ppm was added to the mixture, mixed for 30 minutes with a high-speed stirrer, and then pulverized with a wet pulverizer to obtain a flowable agent.

乳剤
本発明化合物番号1の30部にキシレンとイソホロンの等量混合物60部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の10部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得た。
Emulsion 60 parts of an equivalent mixture of xylene and isophorone, 10 parts of a mixture of surfactant polyoxyethylene sorbitan alkylate, polyoxyethylene alkylaryl polymer and alkylaryl sulfonate were added to 30 parts of the compound No. 1 of the present invention. An emulsion was obtained by stirring well.

粒剤
本発明化合物番号1の10部、タルクとベントナイトを1:3の割合で混合した増量剤の80部、ホワイトカーボンの5部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の5部に水10部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径0.7mmのふるい穴から押し出して乾燥した後に0.5〜1mmの長さに切断し、粒剤を得た。
Granules 10 parts of Compound No. 1 of the present invention, 80 parts of extender in which talc and bentonite are mixed at a ratio of 1: 3, 5 parts of white carbon, surfactant polyoxyethylene sorbitan alkylate, polyoxyethylene alkylaryl 10 parts of water was added to 5 parts of the mixture of polymer and alkylaryl sulfonate, and the mixture was well kneaded into a paste to be extruded through a sieve hole with a diameter of 0.7 mm, dried, and then cut to a length of 0.5 to 1 mm. And obtained granules.

次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。   Next, effects of the compound of the present invention will be described with reference to test examples.

<試験例1> 水田土壌処理による除草効果試験
100cmプラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ、コナギの種子を播種し、水深3cmに湛水した。翌日、実施例28に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を、1ヘクタール当り1000gとした。その後、温室内で育成し、処理後21日目に表14の基準に従って除草効果を調査した。結果を表15に示す。
<Test example 1> Herbicidal effect test by paddy field soil treatment Paddy field soil was filled in a 100 cm 2 plastic pot, and after seeding, Tainubie and Konagi seeds were sown and submerged to a depth of 3 cm. The next day, the wettable powder prepared according to Example 28 was diluted with water and dropped on the surface of the water. The application rate was 1000 g per hectare of active ingredient. Then, it grew in the greenhouse and investigated the herbicidal effect according to the criteria of Table 14 on the 21st day after the treatment. The results are shown in Table 15.

Figure 2005213168
Figure 2005213168

Figure 2005213168
Figure 2005213168

<試験例2> 畑地土壌処理による除草効果試験
80cm2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌビエ、エノコログサの種子を播種して覆土した。実施例28に準じて調製した水和剤を水で希釈し、1ヘクタール当り有効成分が1000gになる様に、1ヘクタール当り1000lを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理21日目に表14の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表16に示す。
<Test Example 2> Herbicidal effect test by field soil treatment An 80 cm 2 plastic pot was filled with field soil, and seeds of Inobiae and Enokorogusa were sown and covered with soil. The wettable powder prepared according to Example 28 was diluted with water, and 1000 l per hectare was uniformly sprayed on the soil surface with a small sprayer so that the active ingredient was 1000 g per hectare. Then, it grew in the greenhouse and investigated the herbicidal effect according to the criteria of Table 14 on the 21st day of treatment. The results are shown in Table 16.

Figure 2005213168
Figure 2005213168

<試験例3> 畑地茎葉処理による除草効果試験
80cm2プラスチックポットに砂を充填し、イヌビエ、エノコログサの種子を播種し、温室内で2週間育成後、実施例28に準じて調製した水和剤を水に希釈し、1ヘクタール当り有効成分が1000gになる様に、1ヘクタール当り1000lを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理14日目に表14の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表17に示す。
<Test Example 3> Herbicidal effect test by upland foliage treatment 80 cm 2 plastic pot is filled with sand, seeds of Inobiae and Enokorogusa are sown, grown in a greenhouse for 2 weeks, and prepared in accordance with Example 28 Was diluted with water, and 1000 l per hectare was sprayed onto the whole plant from above with a small sprayer so that the active ingredient was 1000 g per hectare. Then, it grew in the greenhouse and investigated the herbicidal effect according to the standard of Table 14 on the 14th day of treatment. The results are shown in Table 17.

Figure 2005213168
Figure 2005213168

Claims (2)

一般式[I]を有するイソオキサゾリン−3−イル誘導体又はその薬理上許容される塩:
Figure 2005213168

式中、R及びRは、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、C〜C10アルキル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルキニル基、C〜C10ハロアルキル基、C〜C10アルコキシ基、置換基群αで置換されていてもよいフェニル基、−C(=O)−Z−R基、シアノ基、C〜C10アルキルチオ基、C〜C10アルキルスルフィニル基又はC〜C10アルキルスルホニル基を表し、さらにR及びRはこれらの結合した炭素原子と共にC〜Cの炭素環を形成してもよく、
Qは、式Q基又は式Q基を表し、
Figure 2005213168

は、水素原子、ハロゲン原子、C〜C10アルキル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルキニル基、C〜C10ハロアルキル基、置換基群αで置換されていてもよいフェニル基、置換基群αで置換されていてもよいヘテロ環基、−C(=O)−Z−R基、又は−ZR基を表し、
及びRは、互いに独立して、水素原子、置換基群βで置換されていてもよいC〜C10アルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルキニル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜C10アルコキシカルボニル基、−C(=O)−Z−R基、C〜C10アルキルチオカルボニル基、カルボキシル基又は置換されていてもよいフェニル基を表し、
さらにR及びRはこれらの結合した炭素原子と共にC〜Cの炭素環を形成してもよく、
Zは、O、S又はNRを表し、
及びRは、互いに独立して、水素原子、C〜C10アルキル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルキニル基、C〜C10ハロアルキル基、C〜C10アルコキシ基又は置換基群αで置換されていてもよいフェニル基を表し、
nは、0〜2の整数を示す。
「置換基群α」
水酸基、ハロゲン原子、C〜C10アルキル基、置換基群γでモノ置換されたC〜C10アルキル基、C〜Cハロアルキル基、C〜Cシクロアルキル基、C〜C10アルコキシ基、置換基群δでモノ置換されたC〜C10アルコキシ基、C〜Cハロアルコキシ基、C〜Cシクロアルキルオキシ基、C〜CシクロアルキルC〜Cアルキルオキシ基、C〜C10アルキルチオ基、置換基群δでモノ置換されたC〜C10アルキルチオ基、C〜Cハロアルキルチオ基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルケニルオキシ基、C〜Cアルキニル基、C〜Cアルキニルオキシ基、C〜C10アルキルスルフィニル基、C〜C10アルキルスルホニル基、置換基群δでモノ置換されたC〜C10アルキルスルホニル基、C〜Cハロアルキルスルホニル基、C〜C10アルキルスルホニルオキシ基、C〜Cハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、C〜Cアシル基、C〜Cハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、C〜C10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基(該基の窒素原子は同一又は異なって、C〜C10アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい)、C〜Cアシルオキシ基、C〜Cハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基(該基の窒素原子は同一又は異なって、C〜C10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、C〜Cアシル基、C〜Cハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、C〜C10アルキルスルホニル基、C〜Cハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい)
「置換基群β」
同一若しくは相異なる1〜3個のハロゲン原子、水酸基、C〜Cシクロアルキル基、C〜C10アルコキシ基、C〜C10アルキルカルボニル基、C〜C10アルキルチオ基、C〜C10アルキルスルフィニル基、C〜C10アルキルスルホニル基、C〜C10アルキルアミノ基、ジ(C〜C10アルキル)アミノ基、シアノ基、C〜C10アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ(C〜C10アルキル)カルバモイル基、ジ(C〜C10アルキル)カルバモイル基、C〜C10アルキルチオカルボニル基、カルボキシル基、置換されていてもよいベンジルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基又は置換されていてもよいフェニル基
「置換基群γ」
水酸基、C〜Cシクロアルキル基(該基はハロゲン原子又はC〜Cアルキル基で置換されてもよい)、C〜C10アルコキシ基、C〜C10アルキルチオ基、C〜C10アルキルスルホニル基、C〜C10アルコキシカルボニル基、C〜Cハロアルケニル基、アミノ基(該基の窒素原子は同一又は異なって、C〜C10アルキル基、C〜Cアシル基、C〜Cハロアルキルカルボニル基、C〜C10アルキルスルホニル基、C〜Cハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい)、モノ(C〜C10アルキル)カルバモイル基、ジ(C〜C10アルキル)カルバモイル基、カルバモイル基、C〜Cアシル基、C〜Cハロアルキルカルボニル基、C〜C10アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基
「置換基群δ」
〜C10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基
Isoxazolin-3-yl derivatives having the general formula [I] or pharmacologically acceptable salts thereof:
Figure 2005213168

In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, a C 3 -C 8 cycloalkyl group, a C 2 -C 6 alkenyl group, or a C 2 -C. 6 alkynyl group, C 1 -C 10 haloalkyl group, C 1 -C 10 alkoxy group, phenyl group optionally substituted by substituent group α, —C (═O) —Z—R 6 group, cyano group, C 1 -C 10 alkylthio group, C 1 -C 10 alkylsulfinyl group or C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, and R 1 and R 2 together with these bonded carbon atoms are C 3 -C 7 carbocycles May form,
Q represents a formula Q 1 group or wherein Q 2 group,
Figure 2005213168

R 3 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 to C 10 alkyl group, a C 3 to C 8 cycloalkyl group, a C 2 to C 6 alkenyl group, a C 2 to C 6 alkynyl group, or a C 1 to C 10 haloalkyl group. Represents a phenyl group which may be substituted with a substituent group α, a heterocyclic group which may be substituted with a substituent group α, a —C (═O) —Z—R 6 group or a —ZR 6 group. ,
R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group optionally substituted with a substituent group β, a C 2 -C 6 alkenyl group, a C 2 -C 6 alkynyl group, C 3 -C 8 cycloalkyl group, C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, -C (= O) -Z- R 6 group, C 1 -C 10 alkyl thio group, which may be a carboxyl group or a substituted phenyl Represents a group,
R 4 and R 5 together with these bonded carbon atoms may form a C 3 to C 7 carbocycle,
Z represents O, S or NR 7 ;
R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a C 1 to C 10 alkyl group, a C 3 to C 8 cycloalkyl group, a C 2 to C 6 alkenyl group, a C 2 to C 6 alkynyl group, or C 1. -C represents 10 haloalkyl group, C 1 -C 10 alkoxy group or substituted with a substituent group α which may be a phenyl group,
n shows the integer of 0-2.
`` Substituent group α ''
A hydroxyl group, a halogen atom, C 1 -C 10 alkyl groups, mono-substituted with a substituent group γ the C 1 -C 10 alkyl group, C 1 -C 4 haloalkyl groups, C 3 -C 8 cycloalkyl group, C 1 ~ C 10 alkoxy group, C 1 -C 10 alkoxy group monosubstituted by substituent group δ, C 1 -C 4 haloalkoxy group, C 3 -C 8 cycloalkyloxy group, C 3 -C 8 cycloalkyl C 1 -C 3 alkyloxy groups, C 1 -C 10 alkylthio group, mono-substituted with a substituent group δ a C 1 -C 10 alkylthio groups, C 1 -C 4 haloalkylthio groups, C 2 -C 6 alkenyl groups, C 2 -C 6 alkenyloxy group, C 2 -C 6 alkynyl group, C 2 -C 6 alkynyloxy group, C 1 -C 10 alkylsulfinyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group Mono-substituted with a substituent group δ a C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyloxy group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group, optionally substituted An optionally substituted phenyl group, an optionally substituted phenoxy group, an optionally substituted phenylthio group, an optionally substituted aromatic heterocyclic group, an optionally substituted aromatic heterocyclic oxy group, a substituted Aromatic heterocyclic thio group which may be substituted, phenylsulfonyl group which may be substituted, aromatic heterocyclic sulfonyl group which may be substituted, phenylsulfonyloxy group which may be substituted, C 1 -C 6 acyl group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, an optionally substituted benzylcarbonyl group, optionally substituted Which may benzoyl group, carboxyl group, C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, an optionally substituted benzyloxycarbonyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, a cyano group, a nitrogen atom of the carbamoyl group (said group identical or different, C 1 -C 10 alkyl group or may be substituted in a phenyl group optionally substituted), C 1 -C 6 acyloxy group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, optionally substituted Optionally substituted benzylcarbonyloxy group, optionally substituted benzoyloxy group, nitro group, amino group (nitrogen atoms of the group are the same or different, C 1 -C 10 alkyl group, optionally substituted) phenyl group, C 1 -C 6 acyl group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, optionally Ben substituted Le carbonyl group, an optionally substituted benzoyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl groups, optionally substituted benzylsulfonyl group or an optionally substituted phenylsulfonyl group May be substituted)
"Substituent group β"
1 to 3 halogen atoms that are the same or different, a hydroxyl group, a C 3 to C 8 cycloalkyl group, a C 1 to C 10 alkoxy group, a C 1 to C 10 alkylcarbonyl group, a C 1 to C 10 alkylthio group, C 1 -C 10 alkylsulfinyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, C 1 -C 10 alkylamino group, di (C 1 -C 10 alkyl) amino group, a cyano group, C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, a carbamoyl Group, mono (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group, di (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group, C 1 -C 10 alkylthiocarbonyl group, carboxyl group, optionally substituted benzyloxy group, substituted Optionally substituted phenoxy group or optionally substituted phenyl group "substituent group γ"
Hydroxyl, C 3 -C 8 cycloalkyl group (which may be substituted with a halogen atom or a C 1 -C 3 alkyl group), C 1 ~C 10 alkoxy group, C 1 -C 10 alkylthio group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, C 2 -C 6 haloalkenyl group, the nitrogen atom of the amino group (in which the same or different, C 1 -C 10 alkyl group, C 1 ~ C 6 acyl group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, C 1 -C 10 alkylsulfonyl group, optionally substituted with C 1 -C 4 haloalkylsulfonyl group), mono (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group, di (C 1 -C 10 alkyl) carbamoyl group, a carbamoyl group, C 1 -C 6 acyl group, C 1 -C 4 haloalkylcarbonyl group, C 1 C 10 alkoxyimino group, a cyano group, a phenyl group which may be substituted, an optionally substituted phenoxy group "substituent group δ"
C 1 -C 10 alkoxycarbonyl group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted aromatic heterocyclic group
請求項1に記載のイソオキサゾリン−3−イル誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する除草剤。   A herbicide containing the isoxazolin-3-yl derivative or pharmacologically acceptable salt thereof according to claim 1 as an active ingredient.
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