JP2005179276A - Method for production of bis(vinylphenyl) compound - Google Patents
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Description
本発明は、ビス（ビニルフェニル）化合物（２つのビニルフェニル基を含む化合物）の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a bis (vinylphenyl) compound (compound containing two vinylphenyl groups).
従来から、コンデンサなどに用いられる誘電体膜には、樹脂膜が用いられている。このような誘電体膜は、基板に蒸着した樹脂モノマーに電子線や紫外線を照射し、前記樹脂モノマーを硬化させることによって形成されている（たとえば、特許文献１、特許文献２、特許文献３などを参照）。 Conventionally, a resin film has been used as a dielectric film used for a capacitor or the like. Such a dielectric film is formed by irradiating a resin monomer deposited on a substrate with an electron beam or an ultraviolet ray and curing the resin monomer (for example, Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3 and the like). See).
上記誘電体膜を形成するための樹脂モノマーとしては、たとえば、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートなどの重合性ビニルモノマーが用いられてきた。
しかしながら、上記樹脂モノマーによって形成された誘電体膜を用いた電子部品は、特性が十分でないという問題があった。特に、上記樹脂モノマーによって形成された誘電体膜を用いた電子部品は、高湿度下や高温度下での特性が十分でないという問題があった。この問題は、上記モノマーが極性の大きなエステル基を有することに由来する。そこで本発明者らは、鋭意検討した結果、極性の小さなビニル基を重合基とする、後述する一般式（１）で表される樹脂モノマーを見出した。しかし、上記樹脂モノマーを容易かつ効率的に製造する方法が見出されていなかった。 However, an electronic component using a dielectric film formed of the resin monomer has a problem that its characteristics are not sufficient. In particular, an electronic component using a dielectric film formed of the resin monomer has a problem that the characteristics under high humidity and high temperature are not sufficient. This problem stems from the fact that the monomer has a highly polar ester group. Thus, as a result of intensive studies, the present inventors have found a resin monomer represented by the general formula (1) described later, in which a vinyl group having a small polarity is used as a polymerization group. However, no method for easily and efficiently producing the resin monomer has been found.
このような状況に鑑み、本発明は、電子部品に好適な誘電体膜を形成できる樹脂モノマーである、後述する一般式（１）で表される化合物の新規な製造方法を提供することを目的とする。 In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide a novel method for producing a compound represented by the following general formula (1), which is a resin monomer capable of forming a dielectric film suitable for an electronic component. And
上記目的を達成するため鋭意検討した結果、本発明者らは、本発明の製造方法を見出した。この製造方法は、以下の一般式（１）で表されるビス（ビニルフェニル）化合物の製造方法であって、以下の一般式（２）で表される化合物を、アセチル化反応させることによって、以下の一般式（３）で表される化合物を製造する第１の工程と、金属水素化物と、前記一般式（３）で表される化合物とを反応させることによって、以下の一般式（４）で表される化合物を製造する第２の工程と、ハロゲン化剤と、前記一般式（４）で表される化合物とを反応させることによって、以下の一般式（５）で表される化合物を製造する第３の工程と、強塩基と、前記一般式（５）で表される化合物とを反応させることによって、前記一般式（１）で表されるビス（ビニルフェニル）化合物を製造する第４の工程とを含むことを特徴とする。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found the production method of the present invention. This production method is a production method of a bis (vinylphenyl) compound represented by the following general formula (1), and the compound represented by the following general formula (2) is subjected to an acetylation reaction, By reacting the first step for producing the compound represented by the following general formula (3), the metal hydride and the compound represented by the general formula (3), the following general formula (4) The compound represented by the following general formula (5) is produced by reacting the halogenating agent with the compound represented by the general formula (4). A bis (vinylphenyl) compound represented by the general formula (1) is produced by reacting the strong base with the compound represented by the general formula (5). And a fourth step.
一般式（１）〜（５）において、Ｒは、単結合、ＣＨ2、ＳおよびＳＣＨ2Ｓから選ばれる１つを表す。一般式（１）および（３）〜（５）において、２つのベンゼン環が置換されている位置はそれぞれ独立に、メタ位またはパラ位である。一般式（５）において、Ｘはハロゲン原子を表す。 In the general formulas (1) to (5), R represents one selected from a single bond, CH 2 , S, and SCH 2 S. In the general formulas (1) and (3) to (5), the positions at which the two benzene rings are substituted are each independently a meta position or a para position. In the general formula (5), X represents a halogen atom.
上記製造方法では、前記強塩基はアルコキシドであり、前記第４の工程において、前記アルコキシドと、前記一般式（５）で表される化合物とをエーテル系溶媒中において反応させてもよい。この場合、前記エーテル系溶媒がテトラヒドロフランであり、前記アルコキシドがカリウムｔ−ブトキシドであってもよい。 In the production method, the strong base is an alkoxide, and in the fourth step, the alkoxide and the compound represented by the general formula (5) may be reacted in an ether solvent. In this case, the ether solvent may be tetrahydrofuran and the alkoxide may be potassium t-butoxide.
本発明の製造方法によれば、上記一般式（１）で表されるビス（ビニルフェニル）化合物を容易かつ効率的に製造できる。 According to the production method of the present invention, the bis (vinylphenyl) compound represented by the general formula (1) can be produced easily and efficiently.
以下、本発明の製造方法について説明する。本発明の製造方法は、以下の一般式（１）で表されるビス（ビニルフェニル）化合物（２つのビニルフェニル基を備える化合物）の製造方法である。 Hereinafter, the production method of the present invention will be described. The production method of the present invention is a production method of a bis (vinylphenyl) compound (compound having two vinylphenyl groups) represented by the following general formula (1).
式（１）中、Ｒは、単結合、ＣＨ2、ＳおよびＳＣＨ2Ｓから選ばれる１つを表し、２つのベンゼン環が置換されている位置はそれぞれ独立に、メタ位またはパラ位である。 In the formula (1), R represents one selected from a single bond, CH 2 , S and SCH 2 S, and the positions where the two benzene rings are substituted are each independently the meta position or the para position. .
まず、以下の一般式（２）で表されるビフェニル化合物と、塩化アセチルとを、酸触媒の存在下において４０℃〜８０℃で、１〜４時間反応させることによって、以下の一般式（３）で表されるビス（アセチルフェニル）化合物を製造する（第１の工程）。 First, the following general formula (3) is obtained by reacting a biphenyl compound represented by the following general formula (2) with acetyl chloride at 40 ° C. to 80 ° C. for 1 to 4 hours in the presence of an acid catalyst. The bis (acetylphenyl) compound represented by this is manufactured (1st process).
式（２）中、Ｒは、単結合、ＣＨ2、ＳおよびＳＣＨ2Ｓから選ばれる１つを表す。 In formula (2), R represents one selected from a single bond, CH 2 , S and SCH 2 S.
式（３）中、Ｒは、単結合、ＣＨ2、ＳおよびＳＣＨ2Ｓから選ばれる１つを表し、２つのベンゼン環が置換されている位置はそれぞれ独立に、メタ位またはパラ位である。 In the formula (3), R represents one selected from a single bond, CH 2 , S and SCH 2 S, and the positions where the two benzene rings are substituted are each independently the meta position or the para position. .
原料であるビフェニル化合物は市販されており、たとえば、Ｒが単結合であるビフェニル、ＲがＣＨ2であるジフェニルメタン、およびＲがＳＣＨ2Ｓであるビス（フェニルチオ）メタンについては、東京化成工業株式会社より販売されている。また、ＲがＳであるジフェニルスルフィドについては、和光純薬工業株式会社より販売されている。 Biphenyl compounds as raw materials are commercially available. For example, with regard to biphenyl where R is a single bond, diphenylmethane where R is CH 2 , and bis (phenylthio) methane where R is SCH 2 S, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. More are sold. Further, diphenyl sulfide in which R is S is sold by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
上記第１の工程で用いられる酸触媒としては、ＨＦ、Ｈ2ＳＯ4、Ｈ3ＰＯ4などのプロトン酸や、ＡｌＢｒ3、ＡｌＣｌ3、ＺｎＣｌ2などのルイス酸、または、それらの組み合わせを用いることができる。また、溶媒としては、上記酸触媒と錯体を形成することで、種々の副反応の要因となる活性を抑え、かつ触媒の可溶化を助けるＣＨ3ＮＯ2、ＣＨ2ＣＮ、ＣＳ2、ＣＨ2Ｃｌ2などが適している。 As the acid catalyst used in the first step, a proton acid such as HF, H 2 SO 4 , H 3 PO 4 , a Lewis acid such as AlBr 3 , AlCl 3 , ZnCl 2 , or a combination thereof is used. be able to. Further, as the solvent, CH 3 NO 2 , CH 2 CN, CS 2 , CH 2 that suppresses the activity that causes various side reactions and helps solubilize the catalyst by forming a complex with the acid catalyst. For example, Cl 2 is suitable.
上記第１の工程ののち、上記一般式（３）で表されるビス（アセチルフェニル）化合物を、金属水素化物の存在下で１〜４時間反応させることによって、以下の一般式（４）で表されるビス（１−ヒドロキシエチルフェニル）化合物を製造する（第２の工程）。 After the first step, by reacting the bis (acetylphenyl) compound represented by the general formula (3) in the presence of a metal hydride for 1 to 4 hours, the following general formula (4) The bis (1-hydroxyethylphenyl) compound represented is produced (second step).
式（４）中、Ｒは、単結合、ＣＨ2、ＳおよびＳＣＨ2Ｓから選ばれる１つを表し、２つのベンゼン環が置換されている位置はそれぞれ独立に、メタ位またはパラ位である。 In formula (4), R represents one selected from a single bond, CH 2 , S and SCH 2 S, and the positions at which the two benzene rings are substituted are each independently the meta position or the para position. .
上記第２の工程において、金属水素化物としてはＬｉＡｌＨ4やＮａＢＨ4等を用いることができる。 In the second step, LiAlH 4 , NaBH 4 or the like can be used as the metal hydride.
上記第２の工程ののち、上記一般式（４）で表されるビス（１−ヒドロキシエチルフェニル）化合物を、ハロゲン化剤と１時間〜３時間反応させることによって、以下の一般式（５）で表されるビス（１−ハロゲノエチルフェニル）化合物を製造する（第３の工程）。 After the second step, by reacting the bis (1-hydroxyethylphenyl) compound represented by the general formula (4) with a halogenating agent for 1 to 3 hours, the following general formula (5) The bis (1-halogenoethyl phenyl) compound represented by these is manufactured (3rd process).
式（５）中、Ｒは、単結合、ＣＨ2、ＳおよびＳＣＨ2Ｓから選ばれる１つを表す。Ｘは、ハロゲン原子を表す。２つのベンゼン環が置換されている位置はそれぞれ独立に、メタ位またはパラ位である。 In formula (5), R represents one selected from a single bond, CH 2 , S and SCH 2 S. X represents a halogen atom. The positions at which the two benzene rings are substituted are each independently at the meta position or the para position.
上記第３の工程で用いられるハロゲン化剤としては、臭素化剤としての三臭化リンや臭化チオニル、または、塩素化剤としての三塩化リンや塩化チオニルなどが適しているが、この中でも、副生成物を抑制するためには、三臭化リンが好ましい。 As the halogenating agent used in the third step, phosphorus tribromide or thionyl bromide as a brominating agent, or phosphorus trichloride or thionyl chloride as a chlorinating agent is suitable. In order to suppress by-products, phosphorus tribromide is preferred.
上記第３の工程ののち、上記一般式（５）で表されるビス（１−ハロゲノエチルフェニル）化合物に対し、強塩基を作用させ、ハロゲン化水素を脱離させることによって、上記一般式（１）で表されるビニル化合物を製造する（第４の工程）。このようにして製造されるビス（ビニルフェニル）化合物は、Ｒが単結合であるジビニルビフェニル、ＲがＣＨ2であるビス（ビニルフェニル）メタン、ＲがＳであるビス（ビニルフェニル）スルフィド、またはＲがＳＣＨ2Ｓであるビス（ビニルフェニルチオ）メタンのいずれかである。 After the third step, a strong base is allowed to act on the bis (1-halogenoethylphenyl) compound represented by the general formula (5) to desorb the hydrogen halide, whereby the general formula ( The vinyl compound represented by 1) is produced (fourth step). The bis (vinylphenyl) compound produced in this way is divinylbiphenyl where R is a single bond, bis (vinylphenyl) methane where R is CH 2 , bis (vinylphenyl) sulfide where R is S, or Any of bis (vinylphenylthio) methane, where R is SCH 2 S.
ハロゲン化アルキルの脱ハロゲン化水素反応には、エタノール等のアルコール系溶媒と、ＮａＯＨやＫＯＨ等の強塩基との組み合わせが一般的に用いられている。しかし、このような組み合わせを上記第４の工程に適用すると、副反応が起こって一般式（１）で表される化合物を製造することができないことが判明した。この問題に対し、本発明者らは、エーテル系溶媒を溶媒として用い、エーテル系溶媒に可溶なアルコキシドを強塩基として用いることによって、副生成物を一切伴うことなく、一般式（５）で表されるビス（１−ハロゲノエチルフェニル）化合物から一般式（１）で表されるビス（ビニルフェニル）化合物を製造できることを見出した。 In the dehydrohalogenation reaction of alkyl halides, a combination of an alcohol solvent such as ethanol and a strong base such as NaOH or KOH is generally used. However, it has been found that when such a combination is applied to the fourth step, a side reaction occurs and the compound represented by the general formula (1) cannot be produced. To solve this problem, the present inventors use an ether solvent as a solvent, and use an alkoxide soluble in an ether solvent as a strong base. It has been found that a bis (vinylphenyl) compound represented by the general formula (1) can be produced from the represented bis (1-halogenoethylphenyl) compound.
上記第４の工程で用いられるエーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、イソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等が適している。また、アルコキシドとしては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が適している。この中でも、テトラヒドロフランとカリウムｔ−ブトキシドとの組み合わせが好ましい。 As the ether solvent used in the fourth step, diethyl ether, tetrahydrofuran, isopropyl ether, dibutyl ether or the like is suitable. As the alkoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide, potassium t-butoxide and the like are suitable. Among these, the combination of tetrahydrofuran and potassium t-butoxide is preferable.
以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明する。本実施例では、一般式（１）で表される化合物のうち、ＲがＣＨ2である、以下の化学式（６）で表されるビス（ビニルフェニル）メタンを作製した一例について説明する。なお、以下の化学式（６）および（８）〜（１０）において、２つのベンゼン環が置換されている位置はそれぞれ独立に、メタ位またはパラ位である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In this example, an example of producing bis (vinylphenyl) methane represented by the following chemical formula (6) in which R is CH 2 among the compounds represented by the general formula (1) will be described. In the following chemical formulas (6) and (8) to (10), the positions where the two benzene rings are substituted are each independently the meta position or the para position.
まず、塩化アセチル１１９．２ｇ（１．５５ｍｏｌ）と、塩化アルミ２０４．３ｇ（１．５５ｍｏｌ）と、無水ジクロロメタン４２０ｍｌとを容量が２リットルのフラスコに採取した。これに、無水ジクロロメタン１００ｍｌに溶解させた以下の化学式（７）で表されるジフェニルメタン１００．０ｇ（０．６０ｍｏｌ）を滴下し、その後、還流下で１時間攪拌を続けることによって反応させた。 First, 119.2 g (1.55 mol) of acetyl chloride, 204.3 g (1.55 mol) of aluminum chloride, and 420 ml of anhydrous dichloromethane were collected in a flask having a capacity of 2 liters. To this, 100.0 g (0.60 mol) of diphenylmethane represented by the following chemical formula (7) dissolved in 100 ml of anhydrous dichloromethane was added dropwise, and then reacted by continuing stirring for 1 hour under reflux.
反応終了後、上記フラスコを氷冷し、さらに氷水５００ｍｌを加えて洗浄した後、水層を除去した。得られた溶液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液３００ｍｌによって洗浄した後、溶液を、ｐＨが７になるまで蒸留水を用いて繰り返し洗浄した。次に、洗浄後の溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去して以下の化学式（８）で表されるビス（アセチルフェニル）メタン１３８．９ｇを得た。 After completion of the reaction, the flask was cooled with ice, and further washed with 500 ml of ice water, and then the aqueous layer was removed. The resulting solution was washed with 300 ml of 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and then the solution was repeatedly washed with distilled water until the pH reached 7. Next, after the washed solution was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off to obtain 138.9 g of bis (acetylphenyl) methane represented by the following chemical formula (8).
次に、水素化リチウムアルミニウム３１．４ｇ（０．８３ｍｏｌ）と、無水ジクロロメタン５４５ｍｌと、無水ジエチルエーテル５４５ｍｌとを、容量２リットルのフラスコに採取し、氷冷した。これに、無水ジクロロメタン２７０ｍｌに溶解させた化学式（８）で表されるビス（アセチルフェニル）メタン１３８．９ｇ（０．５５ｍｏｌ）を滴下し、その後還流下で１時間攪拌を続けることによって反応させた。反応終了後、得られた溶液を再び氷冷し、この溶液に２０％塩酸水６００ｍｌを攪拌しながら徐々に加えて洗浄した後、水層を除去した。次に、得られた溶液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液３００ｍｌによって洗浄した後、溶液を、ｐＨが７になるまで蒸留水にて洗浄した。この洗浄後の溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去して以下の化学式（９）で表されるビス（１−ヒドロキシエチルフェニル）メタン１３９．３ｇを得た。 Next, 31.4 g (0.83 mol) of lithium aluminum hydride, 545 ml of anhydrous dichloromethane, and 545 ml of anhydrous diethyl ether were collected in a 2 liter flask and ice-cooled. To this, 138.9 g (0.55 mol) of bis (acetylphenyl) methane represented by the chemical formula (8) dissolved in 270 ml of anhydrous dichloromethane was added dropwise, and then reacted by continuing stirring for 1 hour under reflux. . After completion of the reaction, the obtained solution was ice-cooled again, and 600 ml of 20% aqueous hydrochloric acid was gradually added to the solution with stirring and washed, and then the aqueous layer was removed. Next, the obtained solution was washed with 300 ml of 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and then the solution was washed with distilled water until the pH reached 7. After the washed solution was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off to obtain 139.3 g of bis (1-hydroxyethylphenyl) methane represented by the following chemical formula (9).
次に、化学式（９）で表されるビス（１−ヒドロキシエチルフェニル）メタン１３９．３ｇ（０．５４ｍｏｌ）を無水ジクロロメタン５５０ｍｌに溶解させ、これに２５０ｍｌの無水ジクロロメタンに溶解させた三臭化りん１１７．９ｇ（０．６５ｍｏｌ）を加え、還流下で３０分間攪拌することにより反応させた。反応終了後、得られた溶液に蒸留水５００ｍｌを加えて洗浄した後、水層を除去した。次に、得られた溶液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液３００ｍｌによって洗浄した後、溶液を、ｐＨが７になるまで蒸留水を用いて洗浄した。この洗浄後の溶液を硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去して以下の化学式（１０）で表されるビス（１−ブロモエチルフェニル）メタン２００．３ｇを得た。 Next, 139.3 g (0.54 mol) of bis (1-hydroxyethylphenyl) methane represented by the chemical formula (9) was dissolved in 550 ml of anhydrous dichloromethane, and phosphorus tribromide dissolved in 250 ml of anhydrous dichloromethane. 117.9 g (0.65 mol) was added and reacted by stirring for 30 minutes under reflux. After completion of the reaction, 500 ml of distilled water was added to the obtained solution for washing, and then the aqueous layer was removed. Next, the obtained solution was washed with 300 ml of 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and then the solution was washed with distilled water until the pH reached 7. The washed solution was dried over sodium sulfate, and then the solvent was distilled off to obtain 200.3 g of bis (1-bromoethylphenyl) methane represented by the following chemical formula (10).
次に、化学式（１０）で表されるビス（１−ブロモエチルフェニル）メタン２００．３ｇ（０．５２ｍｏｌ）に、カリウムｔ−ブトキシド１１７．５ｇ（１．０５ｍｏｌ）と、テトラヒドロフラン１０００ｍｌとを加え、還流下で１２時間攪拌することによって反応させた。反応終了後、テトラヒドロフランを留去し、ジクロロメタン１０００ｍｌを加え、更に水槽が無色透明になるまで５％塩酸水で洗浄したのち、水層を除去した。次に、得られた溶液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液３００ｍｌによって洗浄した後、溶液を、ｐＨが７になるまで蒸留水を用いて繰り返し洗浄した。この洗浄後の溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去することによって、淡黄色透明の液体１１２．０ｇを得た。 Next, 117.5 g (1.05 mol) of potassium t-butoxide and 1000 ml of tetrahydrofuran were added to 200.3 g (0.52 mol) of bis (1-bromoethylphenyl) methane represented by the chemical formula (10). The reaction was carried out by stirring for 12 hours under reflux. After completion of the reaction, the tetrahydrofuran was distilled off, 1000 ml of dichloromethane was added, and the mixture was further washed with 5% aqueous hydrochloric acid until the water tank became colorless and transparent, and then the aqueous layer was removed. Next, after the obtained solution was washed with 300 ml of 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, the solution was repeatedly washed with distilled water until the pH reached 7. The washed solution was dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain 112.0 g of a pale yellow transparent liquid.
この液体について、ガスクロマトグラフィー・質量分析（ＧＣ−ＭＳ）を行なった結果、ビス（ビニルフェニル）メタンの質量数、Ｍ／ｅ＝２２０を示す３種類の生成物が検出された。また、原料、中間体、および１パーセント以上の副生成物は検出されなかった。また、検出された３種類の生成物の含有率は、それぞれ９０％、７％、３％であった。 As a result of performing gas chromatography and mass spectrometry (GC-MS) on this liquid, three types of products having a mass number of bis (vinylphenyl) methane, M / e = 220 were detected. In addition, raw materials, intermediates, and 1% or more by-products were not detected. Moreover, the content rates of the three types of detected products were 90%, 7%, and 3%, respectively.
次に、この液体に対し、カラムクロマト法を行なうことによって上記３種類の生成物を分離し、それぞれについてプロトン核磁気共鳴法（1ＨＮＭＲ）による分析を行なった。その結果、いずれの生成物からも、ビニル基に基づく５．１〜５．２ｐｐｍ辺りの２本の吸収ピーク、５．６〜５．７ｐｐｍ辺りの２本の吸収ピーク、６．６〜６．７ｐｐｍ辺りの４本の吸収ピークが検出された。一例として、図１に、パラ−パラジビニル体（４，４’−ビス（ビニルフェニル）メタン）に対して得られた1ＨＮＭＲの結果を示す。分析結果から、３種類の生成物は、含有率９０％のものがパラ，パラジビニル体、含有率７％のものがメタ，メタジビニル体、含有率３％のものがメタ，パラジビニル体であることが判明した。以上のことから、最終的に得られた淡黄色透明の液体は、上述の化学式（６）で表されるビス（ビニルフェニル）メタンであることが判明した。 Next, this liquid was subjected to column chromatography to separate the above three types of products, and each was analyzed by proton nuclear magnetic resonance ( 1 HNMR). As a result, from any product, two absorption peaks around 5.1-5.2 ppm based on vinyl groups, two absorption peaks around 5.6-5.7 ppm, 6.6-6. Four absorption peaks around 7 ppm were detected. As an example, FIG. 1 shows the results of 1 HNMR obtained for a para-paradivinyl compound (4,4′-bis (vinylphenyl) methane). From the analysis results, the three types of products are para and paradivinyl bodies having a content of 90%, meta and metadivinyl bodies having a content of 7%, and meta and paradivinyl bodies having a content of 3%. found. From the above, it was found that the light yellow transparent liquid finally obtained was bis (vinylphenyl) methane represented by the above chemical formula (6).
なお、上記一般式（１）において、Ｒが、単結合、Ｓ、ＳＣＨ2Ｓで表されるジビニルビフェニル、ビス（ビニルフェニル）スルフィド、ビス（ビニルフェニルチオ）メタンについても、同様に、上記第１〜第４の工程を行なうことによって容易に製造できる。この場合には、製造する化合物に応じて出発原料を変えればよい。 In the general formula (1), R is a single bond, S, and divinylbiphenyl, bis (vinylphenyl) sulfide, and bis (vinylphenylthio) methane represented by SCH 2 S. It can manufacture easily by performing the 1st-4th process. In this case, what is necessary is just to change a starting material according to the compound to manufacture.
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず本発明の技術的思想に基づき他の実施形態に適用することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above by way of examples, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be applied to other embodiments based on the technical idea of the present invention.
本発明の製造方法によれば、上記一般式（１）で表されるビス（ビニルフェニル）化合物を容易かつ効率的に製造できる。 According to the production method of the present invention, the bis (vinylphenyl) compound represented by the general formula (1) can be produced easily and efficiently.
Claims (3)
以下の一般式（２）で表される化合物を、アセチル化反応させることによって、以下の一般式（３）で表される化合物を製造する第１の工程と、
金属水素化物と、前記一般式（３）で表される化合物とを反応させることによって、以下の一般式（４）で表される化合物を製造する第２の工程と、
ハロゲン化剤と、前記一般式（４）で表される化合物とを反応させることによって、以下の一般式（５）で表される化合物を製造する第３の工程と、
強塩基と、前記一般式（５）で表される化合物とを反応させることによって、前記一般式（１）で表されるビス（ビニルフェニル）化合物を製造する第４の工程とを含むことを特徴とするビス（ビニルフェニル）化合物の製造方法。
A first step of producing a compound represented by the following general formula (3) by subjecting a compound represented by the following general formula (2) to an acetylation reaction;
A second step of producing a compound represented by the following general formula (4) by reacting a metal hydride with the compound represented by the general formula (3);
A third step of producing a compound represented by the following general formula (5) by reacting a halogenating agent with the compound represented by the general formula (4);
And a fourth step of producing a bis (vinylphenyl) compound represented by the general formula (1) by reacting a strong base with the compound represented by the general formula (5). A method for producing a characteristic bis (vinylphenyl) compound.
前記第４の工程において、前記アルコキシドと、前記一般式（５）で表される化合物とをエーテル系溶媒中において反応させる請求項１に記載のビス（ビニルフェニル）化合物の製造方法。 The strong base is an alkoxide;
The method for producing a bis (vinylphenyl) compound according to claim 1, wherein, in the fourth step, the alkoxide and the compound represented by the general formula (5) are reacted in an ether solvent.
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| JP2003423256A JP2005179276A (en) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | Method for production of bis(vinylphenyl) compound |
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|---|---|---|---|---|
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-
2003
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