JP2005171306A - Method of producing metal fine particulate layer - Google Patents

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    • G01N21/554Attenuated total reflection and using surface plasmons detecting the surface plasmon resonance of nanostructured metals, e.g. localised surface plasmon resonance

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a metal particulate layer having uniform thickness used, e.g., for a sensor with localized plasmon resonance applied. <P>SOLUTION: A substrate 1 composed of porous alumina in which a plurality of micropores 12a are formed by anodization, is used to fill a plurality of metal colloid particles 13 into each micropore 12a in the substrate 12 by coating, and thereafter, the metal colloid particles 13 are heated, thus organic molecules 13b are volatilized, and, further, the metal particulates 13a are dissolved. Subsequently, the temperature is reduced to a room temperature to resolidify the metal, thus metal particulates 16 in which the diameter h in the depth direction of each micropore 12a is uniform are produced. In this way, a uniform metal particulate layer 17 having thickness h is obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は金属微粒子層の作製方法に関し、特に、厚みの均一な金属微粒子層を作製する方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a metal fine particle layer, and more particularly to a method for producing a metal fine particle layer having a uniform thickness.

200nm以下の大きさの金や銀などの金属微粒子は、局在プラズモン共鳴現象により、特定波長の光を吸収することが知られている。その吸収波長は、微粒子の大きさや微粒子の周囲の屈折率により変化することが知られており、この局在プラズモン共鳴現象のバイオセンサへの応用が考えられている。   It is known that metal fine particles such as gold and silver having a size of 200 nm or less absorb light of a specific wavelength due to a localized plasmon resonance phenomenon. The absorption wavelength is known to change depending on the size of the fine particles and the refractive index around the fine particles, and application of this localized plasmon resonance phenomenon to a biosensor is considered.

例えば、特許文献1に開示されているように、誘電体や半導体当の表面に金属微粒子が層状に固定されてなる微細構造体をセンサユニットとして用い、局在プラズモン共鳴を応用して試料の屈折率等を測定するセンサが知られている。   For example, as disclosed in Patent Document 1, a fine structure in which metal fine particles are fixed in layers on a surface of a dielectric or semiconductor is used as a sensor unit, and localized plasmon resonance is applied to refract the sample. Sensors that measure rates and the like are known.

このセンサは基本的に、上記微細構造体の金属微粒子の部分に測定光を照射する手段と、この層状の金属微粒子を経た(つまりそこを透過、あるいはそこで反射した)測定光の強度を検出する光検出手段とを備えてなるものである。   This sensor basically detects the intensity of the measurement light that has passed through (that is, transmitted through or reflected through) the layered metal fine particles, and means for irradiating the fine metal particles of the fine structure with measurement light. And a light detection means.

上記のセンサにおいて、層状の金属微粒子の部分に測定光を照射すると、ある特定の波長において局在プラズモン共鳴が生じ、それによって測定光の散乱や吸収が著しく増大する。そこで、層状の金属微粒子を経た測定光の強度を検出するようにしておけば、その検出光強度が急激に減衰することを観察して、局在プラズモン共鳴の発生を確認することができる。   In the above-described sensor, when the measurement light is irradiated to the layered metal fine particle portion, localized plasmon resonance occurs at a specific wavelength, thereby significantly increasing scattering and absorption of the measurement light. Therefore, if the intensity of the measurement light that has passed through the layered metal fine particles is detected, it is possible to confirm the occurrence of localized plasmon resonance by observing that the intensity of the detection light rapidly decreases.

このとき局在プラズモン共鳴が生じる光波長、ならびに測定光の散乱や吸収の程度は、金属微粒子の周囲に存在する媒質の屈折率に依存する。つまり、この屈折率が大であるほど共鳴ピーク波長は長波長側にシフトし、また測定光の散乱や吸収は増大する。したがって、層状の金属微粒子の周囲に試料を配した状態で該金属微粒子の部分に測定光を照射し、そのときこの部分を経た測定光の強度を検出することにより、試料の屈折率や、それに対応する試料の物性等を測定することができる。   At this time, the wavelength of light at which localized plasmon resonance occurs and the degree of scattering and absorption of measurement light depend on the refractive index of the medium existing around the metal fine particles. That is, as the refractive index increases, the resonance peak wavelength shifts to the longer wavelength side, and the scattering and absorption of measurement light increase. Therefore, with the sample arranged around the layered metal fine particles, the portion of the metal fine particles is irradiated with the measurement light, and then the intensity of the measurement light passing through this portion is detected, so that the refractive index of the sample, The physical properties of the corresponding sample can be measured.

従来、この局在プラズモン共鳴を応用したセンサに使用される微細構造体としては、例えば、前記特許文献1に示されているように、基体の表面部分に金属コロイド単層膜を形成してなるものが知られている。また、非特許文献1および2に示されるように、一表面に複数の微細孔が形成された陽極酸化ポーラスアルミナの微細孔に金属微粒子を充填して金属微粒子層を形成してなるものが知られている。なお、このような複数の微細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナそのものについては、特許文献2および非特許文献3等にも記載されている。
特開2000−356587号公報 特開平11−200090号公報 ジャーナル オブ アプライド フィジックス(Journal of Applied Physics)、1978年、第49巻、第5号、p.2929 ジャーナル オブ アプライド フィジックス(Journal of Applied Physics)、1980年、第51巻、第1号、p.754 益田秀樹、「陽極酸化アルミナにもとづく高規則性メタルナノホールアレー」、固体物理、1996年、第31巻、第5号、p.493
Conventionally, as a fine structure used in a sensor to which this localized plasmon resonance is applied, for example, as shown in Patent Document 1, a metal colloid monolayer film is formed on a surface portion of a substrate. Things are known. In addition, as shown in Non-Patent Documents 1 and 2, there is known that a metal fine particle layer is formed by filling fine particles of anodized porous alumina having a plurality of fine holes formed on one surface with fine metal particles. It has been. Note that such anodized porous alumina itself having a plurality of fine holes is also described in Patent Document 2, Non-Patent Document 3, and the like.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-356587 Japanese Patent Laid-Open No. 11-200090 Journal of Applied Physics, 1978, Vol. 49, No. 5, p. 2929 Journal of Applied Physics, 1980, Vol. 51, No. 1, p.754 Hideki Masuda, “Highly Ordered Metal Nanohole Array Based on Anodized Alumina”, Solid State Physics, 1996, Vol. 31, No. 5, p.493

上述の局在表面プラズモンを利用したセンサにおける吸収波長は、金属粒子の粒径によって変化する。したがって、センシング時に入射光に照射される複数の微粒子が不均一な粒径であると、それぞれの粒径で吸収が生じるため全体としてはブロードな吸収スペクトルになってしまい、センシング時の吸収スペクトル移動量の検出能が低下する、すなわちセンシング精度が低下するという問題が生じる。そこで、局在表面プラズモンを利用したセンサにおいて、吸収波長の先鋭化を図り高感度な検出を行うために、金属粒子の粒径の均一化が求められている。   The absorption wavelength in the sensor using the above-described localized surface plasmon varies depending on the particle size of the metal particles. Therefore, if multiple particles irradiated to incident light at the time of sensing have a non-uniform particle size, absorption occurs at each particle size, resulting in a broad absorption spectrum as a whole, and absorption spectrum shift during sensing There arises a problem that the detection ability of the quantity is lowered, that is, the sensing accuracy is lowered. Therefore, in a sensor using a localized surface plasmon, in order to sharpen the absorption wavelength and perform highly sensitive detection, it is required to make the particle diameter of the metal particles uniform.

特許文献1に記載されている、基体の表面部分に金属コロイド単層膜を形成してなる微細構造体は、金属微粒子を凝縮せずに互いに隔離した状態の単層膜としては好適に形成できるが、金属コロイドの粒径ばらつきが10%程度あるために、サイズを均一に作製することが困難であった。   The fine structure formed by forming a metal colloid monolayer film on the surface portion of the substrate described in Patent Document 1 can be suitably formed as a monolayer film in a state where metal fine particles are isolated from each other without condensing. However, since the particle size variation of the metal colloid is about 10%, it is difficult to make the size uniform.

一方、陽極酸化ポーラスアルミナの微細孔は、孔径ばらつきを3%以下にすることができるため、金属コロイド粒径ばらつき10%に較べて小さく、均一な粒径を持つデバイスを作製するのに適している。   On the other hand, the fine pores of anodized porous alumina can make the pore size variation 3% or less, which is smaller than the metal colloid particle size variation 10%, and is suitable for manufacturing a device having a uniform particle size. Yes.

しかしながら、従来、ポーラスアルミナの微細孔に金属微粒子を充填する場合には、主にメッキ法や蒸着法が用いられているが、数cm角以上の大面積において各微細孔に均一な深さまで充填を行うことは非常に困難である。すなわち、均一な厚みの金属微粒子層を得ることが困難であった。   However, conventionally, when filling fine particles of porous alumina with metal fine particles, the plating method or vapor deposition method is mainly used, but filling each fine hole to a uniform depth in a large area of several cm square or more. It is very difficult to do. That is, it was difficult to obtain a metal fine particle layer having a uniform thickness.

本発明は上記事情に鑑みて、均一な厚みの金属微粒子層を容易に製造することができる金属微粒子層の製造方法を提供することを目的とするものである。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a method for producing a metal fine particle layer capable of easily producing a metal fine particle layer having a uniform thickness.

本発明の金属微粒子層の作製方法は、陽極酸化により作製された複数の微細孔を有するポーラスアルミナからなる基体の該複数の微細孔の各々に、金属微粒子に有機分子を被覆してなる前記微細孔の径より小さい径を有する金属コロイド粒子を複数個充填し、
前記金属コロイド粒子を加熱して、前記有機分子を揮発させると共に、前記複数個の金属コロイド粒子内の各金属微粒子を溶解させて前記微細孔の各々の底部に前記微細孔の径と同径の金属微粒子を生成することを特徴とするものである。
In the method for producing a metal fine particle layer of the present invention, the fine particle obtained by coating metal fine particles with organic molecules on each of the plural fine holes of a substrate made of porous alumina having a plurality of fine holes produced by anodization. Packing a plurality of metal colloidal particles having a diameter smaller than the diameter of the pores,
The metal colloidal particles are heated to volatilize the organic molecules, and the metal fine particles in the plurality of metal colloidal particles are dissolved to have the same diameter as the diameter of the micropores at the bottom of each of the micropores. It is characterized by producing fine metal particles.

金属微粒子としては、金または銀が特に好ましい。   As the metal fine particles, gold or silver is particularly preferable.

前記微細孔の径は、10〜200nmであることが望ましい。   The diameter of the micropores is preferably 10 to 200 nm.

また、前記微細孔の径が30〜200nmのとき、前記金属コロイド粒子の径が10〜30nmであることが望ましい。   In addition, when the diameter of the micropores is 30 to 200 nm, it is desirable that the diameter of the metal colloid particles is 10 to 30 nm.

さらに、前記金属コロイド粒子を加熱する際の温度は、120〜600℃であることが望ましい。   Furthermore, the temperature at which the metal colloid particles are heated is desirably 120 to 600 ° C.

なお、「陽極酸化により作製された複数の微細孔を有するポーラスアルミナ」は、アルミニウムを酸性電解液中で陽極酸化することにより、該アルミニウムの表面に多孔性酸化被膜として形成されるものである。このポーラスアルミナは、直径数nm〜数百nm程度の極めて微細な孔が、互いに独立してその表面に対して略垂直な方向に延びる状態に形成され、またそれらの微細孔は略等間隔に形成されるという特徴を有するものである。そしてその微細孔の径や深さや間隔は、陽極酸化の条件を制御することにより、比較的自由に設定可能となっている(前記非特許文献3参照)。   The “porous alumina having a plurality of fine pores produced by anodic oxidation” is formed as a porous oxide film on the surface of aluminum by anodizing aluminum in an acidic electrolytic solution. This porous alumina is formed with extremely fine pores having a diameter of about several nanometers to several hundred nanometers extending in a direction substantially perpendicular to the surface independently of each other, and the fine pores are arranged at substantially equal intervals. It is characterized by being formed. The diameter, depth, and interval of the fine holes can be set relatively freely by controlling the conditions of anodization (see Non-Patent Document 3).

本発明の金属微粒子層の製造方法によれば、ポーラスアルミナからなる基体の複数の微細孔の各々に金属コロイド粒子を充填し、金属コロイド粒子を加熱して、前記有機分子を揮発させると共に、前記複数個の金属コロイド粒子内の各金属微粒子を溶解させて前記微細孔の各々の底部に前記微細孔の径と同径の金属微粒子を生成するので、微細孔の径方向の粒径および微細孔の深さ方向の粒径が揃った複数の金属微粒子からなる、規則的な配列がなされかつ厚みの揃った金属微粒子層を容易に作製することができる。   According to the method for producing a metal fine particle layer of the present invention, each of a plurality of micropores of a substrate made of porous alumina is filled with metal colloid particles, the metal colloid particles are heated to volatilize the organic molecules, and The metal fine particles in the plurality of metal colloidal particles are dissolved to generate metal fine particles having the same diameter as the diameter of the fine holes at the bottom of each of the fine holes. It is possible to easily produce a metal fine particle layer having a regular arrangement and a uniform thickness composed of a plurality of metal fine particles having a uniform particle size in the depth direction.

なお、金属コロイド粒子を用いているため、120〜600℃程度の金属本来の融点よりも低い加熱温度で金属微粒子を溶解させることができるという効果がある。   In addition, since the metal colloidal particles are used, there is an effect that the metal fine particles can be dissolved at a heating temperature lower than the original melting point of the metal of about 120 to 600 ° C.

本発明の金属微粒子層の製造方法により作製された金属微粒子層は各金属粒子の粒径が均一であり、したがって金属微粒子層の厚みが均一であるため、局在プラズモンを利用したセンサ等に用いることにより、該センサにおいて従来より感度の高い測定を行うことができる。   The metal fine particle layer produced by the method for producing a metal fine particle layer of the present invention has a uniform particle size, and therefore the thickness of the metal fine particle layer is uniform. Therefore, the metal fine particle layer is used for a sensor using a localized plasmon. Thus, the sensor can perform measurement with higher sensitivity than before.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、本発明の一実施の形態による金属微粒子層の製造方法の工程を概略的に示すものである。まず同図(1)に示すように、陽極酸化により作製された複数の微細孔を有するポーラスアルミナ12(以下、陽極酸化アルミナ12という)の皮膜が表面に形成されたアルミニウム基板11を用意し、この陽極酸化アルミナ12に対して、微細孔12aが形成されている一表面側から塗布により、微細孔12aの径d(直径)より小さい径の金属コロイド粒子13を微細孔12a内に充填する。陽極酸化アルミナ12の径dは例えば10〜200nm程度である。金属コロイド粒子13は、金属微粒子13aを有機分子13bにより被覆してなるものであり、陽極酸化アルミナ12の径dが30〜200nm程度の場合、平均粒径が10〜30nm程度のものを用いればよい。金属コロイド粒子13の充填個数は、微細孔の口径、容積、金属コロイド粒子13の粒径等により定まるため各微細孔12aには略同量程度の金属コロイド粒子13が充填される。   FIG. 1 schematically shows the steps of a method for producing a metal fine particle layer according to an embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 1 (1), an aluminum substrate 11 having a surface of porous alumina 12 (hereinafter referred to as anodized alumina 12) having a plurality of micropores prepared by anodization is prepared. By coating the anodized alumina 12 from one surface side where the fine holes 12a are formed, the metal colloidal particles 13 having a diameter smaller than the diameter d (diameter) of the fine holes 12a are filled into the fine holes 12a. The diameter d of the anodized alumina 12 is, for example, about 10 to 200 nm. The metal colloidal particles 13 are formed by coating the metal fine particles 13a with the organic molecules 13b. When the diameter d of the anodized alumina 12 is about 30 to 200 nm, the average particle size of about 10 to 30 nm can be used. Good. Since the number of filled metal colloidal particles 13 is determined by the diameter and volume of the micropores, the particle size of the metal colloidal particles 13, etc., each micropore 12a is filled with approximately the same amount of metal colloidal particles 13.

次に、ベーク炉などの加熱器にアルミニウム基板11ごと入れて120〜600℃に加熱することにより、金属コロイド粒子のうち金属微粒子を被覆する有機分子13bを揮発させるとともに、金属微粒子13aを溶解し、その後、室温に下げて凝固させる。なお、加熱方法として図1(2)においては、レーザ光15を照射することにより金属コロイド粒子13を加熱する例を挙げている。   Next, by putting the aluminum substrate 11 together in a heater such as a baking furnace and heating to 120 to 600 ° C., the organic molecules 13b covering the metal fine particles of the metal colloid particles are volatilized and the metal fine particles 13a are dissolved. Then, it is solidified by lowering to room temperature. As a heating method, FIG. 1B shows an example in which the metal colloidal particles 13 are heated by irradiating the laser beam 15.

これにより、図1(3)に示すように複数の金属コロイド粒子13から微細孔12aの口径と略同径の1つの金属微粒子16が形成される。この金属微粒子16の厚みhは各微細孔12aでほぼ同等のものなり、厚みhの揃った金属微粒子層17が形成される。   Thereby, as shown in FIG. 1 (3), one metal fine particle 16 having a diameter substantially the same as the diameter of the fine hole 12a is formed from the plurality of metal colloidal particles 13. The thickness h of the metal fine particles 16 is substantially equal in each fine hole 12a, and the metal fine particle layer 17 having the same thickness h is formed.

本発明の製造方法についてさらに具体的な実施例を説明する。作製工程は図1で示したものと同様であり、図1を参照して説明する。   More specific examples of the production method of the present invention will be described. The manufacturing process is the same as that shown in FIG. 1, and will be described with reference to FIG.

規則配列した微細孔をもつ陽極酸化アルミナ12上に金コロイド粒子13(日本ペイント(株)社製ファインスウェアゴールド)を滴下し、スピンナーで塗布した。これにより、微細孔12aへ金コロイド粒子13が充填された。   Gold colloidal particles 13 (Fine Swear Gold manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.) were dropped onto anodized alumina 12 having regularly arranged micropores and applied with a spinner. As a result, the colloidal gold particles 13 were filled into the fine holes 12a.

このときの微細孔12aの径dは50nm、深さは70nm、金コロイド微粒子13の径は10nm程度のものを用いた。このとき、平均して1つの微細孔12aには約125個の金コロイド微粒子13が充填された。   At this time, the diameter d of the fine holes 12a was 50 nm, the depth was 70 nm, and the diameter of the gold colloidal fine particles 13 was about 10 nm. At this time, about 125 gold colloidal fine particles 13 were filled in one fine hole 12a on average.

その後、アルミニウム基板11ごと加熱器に入れて500℃程度に加熱した。なお、金コロイド微粒子13に対してレーザ照射を行って金コロイド微粒子13を溶解してもよい。その場合には、500℃程度のエネルギーを金コロイド微粒子13に与えることができ、有機物を分解し、金を溶解できるレーザ照射条件とする。   Thereafter, the aluminum substrate 11 was placed in a heater and heated to about 500 ° C. The gold colloidal fine particles 13 may be dissolved by irradiating the gold colloidal fine particles 13 with a laser. In that case, energy of about 500 ° C. can be given to the colloidal gold fine particles 13, and the laser irradiation conditions are set so that the organic matter can be decomposed and gold can be dissolved.

加熱により金コロイド微粒子13の有機分子13bが揮発するとともに、金粒子13aは溶解した。その後、温度を下げることにより、複数個の金コロイド微粒子13から1つの微粒子16が生成された。金微粒子16の径は微細孔の口径と略同等であり、また、その厚み(微細孔深さ方向の径)hは、50nm程度で各微細孔中に生成された金微粒子の深さ方向の径はばらつき10%未満であった。このようにして、厚みhの均一な金微粒子層17を得ることができた。   The organic molecules 13b of the gold colloidal fine particles 13 were volatilized by heating, and the gold particles 13a were dissolved. Thereafter, one particle 16 was generated from the plurality of colloidal gold particles 13 by lowering the temperature. The diameter of the gold fine particles 16 is substantially the same as the diameter of the micropores, and the thickness (diameter in the micropore depth direction) h is about 50 nm in the depth direction of the gold microparticles generated in each micropore. The diameter varied less than 10%. In this way, a gold fine particle layer 17 having a uniform thickness h could be obtained.

次に、アルミニウム基板11に層状の陽極酸化アルミナ12を形成する方法について説明する。そのような方法としてはいくつかの方法が挙げられるが、基本的には、アルミニウム基板11を酸性電解液中で陽極酸化処理する際に、酸化被膜の生成と、生成された酸化被膜の溶解とを同時に進行させる方法が適用される。この方法によれば、陽極酸化の開始初期にアルミニウム基板11の上に形成された酸化被膜の表面に、酸による溶解作用で、微小なピット(小孔)がランダムに発生する。そして、陽極酸化の進行とともに、この中のいくつかのピットが優先的に成長して、略等間隔に配列するようになる。酸化被膜において一旦ピットが形成された部分では、他の部分と比較してより高い電場が加わるので、その部分の溶解がより促進される。その結果、層状の陽極酸化アルミナ12においては、その成長とともに選択的に溶解されて微細孔12aが形成される一方、溶解されないで微細孔12aを取り囲むように残る部分が形成される。   Next, a method for forming the layered anodized alumina 12 on the aluminum substrate 11 will be described. There are several methods as such a method. Basically, when the aluminum substrate 11 is anodized in an acidic electrolytic solution, an oxide film is formed, and the generated oxide film is dissolved. The method of proceeding simultaneously is applied. According to this method, minute pits (small holes) are randomly generated on the surface of the oxide film formed on the aluminum substrate 11 at the beginning of the anodic oxidation by the dissolving action by the acid. As the anodic oxidation progresses, some of the pits grow preferentially and are arranged at substantially equal intervals. In the portion where the pits are once formed in the oxide film, a higher electric field is applied as compared with other portions, so that dissolution of the portion is further promoted. As a result, the layered anodized alumina 12 is selectively dissolved along with its growth to form the micropores 12a, while the portion that remains undissolved and surrounds the micropores 12a is formed.

以上のようにして得られる陽極酸化アルミナ12においては、多数の微細孔12aが規則的に配列して形成される。これらの微細孔12aは、陽極酸化アルミナ12の表面に対して略垂直方向に延び、そして互いに略同一の断面形状で、底部が閉じられた円柱状空間となる。   In the anodized alumina 12 obtained as described above, a large number of fine holes 12a are regularly arranged. These micropores 12a extend in a direction substantially perpendicular to the surface of the anodized alumina 12, and are cylindrical spaces having substantially the same cross-sectional shape and closed bottoms.

なお、特開2001−9800号公報並びに特開2001−138300号公報には、上記微細孔の形成位置を制御する方法が開示されている。これらの方法では、例えばアルミニウムに集束イオンビームを照射する等により、所望の位置に溶解開始点を形成する。この処理の後に前述のような陽極酸化処理を行うことにより、所望の位置に微細孔12aを形成することができる。また、上記集束イオンビームを照射する際に、その照射量、ビーム径、照射エネルギー等の条件を制御することにより、溶解開始点の凹み形状や組成を変えることができるので、最終的に形成される微細孔12aの直径も自在に制御可能となる。   Note that Japanese Patent Laid-Open Nos. 2001-9800 and 2001-138300 disclose methods for controlling the formation positions of the fine holes. In these methods, for example, a melting start point is formed at a desired position by irradiating aluminum with a focused ion beam. By performing the anodic oxidation treatment as described above after this treatment, the fine holes 12a can be formed at desired positions. In addition, when the focused ion beam is irradiated, by controlling the conditions such as the irradiation amount, beam diameter, irradiation energy, etc., the shape and composition of the dent at the melting start point can be changed. The diameter of the fine hole 12a can be freely controlled.

また、微細孔12aの配列を特に高密度化させる方法として、例えばシュウ酸を用いる方法がある。すなわち、陽極酸化用の電解液としてシュウ酸を用い、40V程度の定電圧下で陽極酸化処理を行うことにより、微細孔12aが規則的に配列して高密度に形成されるようになる。この微細孔12aの配列の規則化は、陽極酸化時間の経過に伴って進行するので、長時間陽極酸化処理することにより、高度に規則化して高密度に配置された微細孔12aを形成することができる。   Further, as a method for increasing the density of the micropores 12a in particular, for example, there is a method using oxalic acid. That is, by using oxalic acid as an electrolytic solution for anodization and performing anodization under a constant voltage of about 40 V, the fine holes 12a are regularly arranged and formed at a high density. Since the ordering of the arrangement of the micropores 12a proceeds as the anodizing time elapses, the micropores 12a that are highly ordered and arranged at a high density are formed by anodizing for a long time. Can do.

以上のようにして微細孔12aの直径、間隔、深さを比較的自由に制御できるので、金属微粒子16を任意の均一サイズに形成でき、またそれらを規則的に配置可能となる。その結果、陽極酸化アルミナ12に形成された金属微粒子層17を後述のセンサに適用した際には、その感度を高め、またその感度を安定化することができる。   As described above, since the diameter, interval, and depth of the fine holes 12a can be controlled relatively freely, the metal fine particles 16 can be formed in any uniform size and can be regularly arranged. As a result, when the metal fine particle layer 17 formed on the anodized alumina 12 is applied to a sensor to be described later, the sensitivity can be increased and the sensitivity can be stabilized.

次に、本発明による金属微粒子層の製造方法により製造された金属微粒子層17を用いたセンサの実施の形態について説明する。なお、本実施形態においては、図1(3)に示される、金属微粒子層17が形成された陽極酸化アルミナ12を表面に備えたアルミニウム基板11全体を微細構造体10と称する。なお、センサに用いる場合、金属微粒子層17を構成する金属としては、金、銀が特に好ましい。金は、耐食性が高いため後述するセンサとして利用する際に安定したセンサの特性を得られ、また、センサの製造時および使用時の取扱いが容易となり、また、銀を用いた場合には、センサチップをセンサに用いた場合の感度をより高めることができる。   Next, an embodiment of a sensor using the metal fine particle layer 17 produced by the method for producing a metal fine particle layer according to the present invention will be described. In the present embodiment, the entire aluminum substrate 11 provided with the anodized alumina 12 having the metal fine particle layer 17 formed thereon as shown in FIG. When used in a sensor, the metal constituting the metal fine particle layer 17 is particularly preferably gold or silver. Since gold has high corrosion resistance, stable sensor characteristics can be obtained when it is used as a sensor, which will be described later, and it is easy to handle the sensor when it is manufactured and used. The sensitivity when the chip is used as a sensor can be further increased.

図2は、微細構造体10を用いたセンサの一実施の形態を示す側面図である。図示の通りこのセンサは、微細構造体10を底部に固定して上面には透明窓22が形成された容器20と、この容器20内の微細構造体10に向けて測定光23を斜め照射する白色光源24と、微細構造体10で反射した測定光23を分光検出する分光検出器25とから構成されたものである。   FIG. 2 is a side view showing an embodiment of a sensor using the fine structure 10. As shown in the figure, the sensor irradiates the measurement light 23 obliquely toward the fine structure 10 in the container 20 with the fine structure 10 fixed to the bottom and a transparent window 22 formed on the upper surface. The light source 24 includes a white light source 24 and a spectroscopic detector 25 that spectroscopically detects the measurement light 23 reflected by the fine structure 10.

なお容器20内において微細構造体10は、金属微粒子16が充填された陽極酸化アルミナ12の部分が上側を向く状態に配置されている。またこの容器20内には、上記陽極酸化アルミナ12に接触するようにして、測定対象の液体試料21が供給される。   In the container 20, the fine structure 10 is arranged in a state in which the portion of the anodized alumina 12 filled with the metal fine particles 16 faces upward. In addition, a liquid sample 21 to be measured is supplied into the container 20 so as to be in contact with the anodized alumina 12.

微細構造体10に対して透明窓22越しに白色光である測定光23を照射すると、該測定光23は金属微粒子16(図1参照)において反射し、この反射した測定光23が、分光検出器25によって分光検出される。またこの場合、測定光23は金属微粒子16が存在する陽極酸化アルミナ12の部分を透過し、アルミニウム基板11において上向きに反射する。ここで反射した測定光23も、分光検出器25によって分光検出される。   When the fine structure 10 is irradiated with the measurement light 23 which is white light through the transparent window 22, the measurement light 23 is reflected by the metal fine particles 16 (see FIG. 1), and the reflected measurement light 23 is spectrally detected. The spectrum is detected by the detector 25. In this case, the measurement light 23 passes through the portion of the anodized alumina 12 where the metal fine particles 16 are present, and is reflected upward on the aluminum substrate 11. The measurement light 23 reflected here is also spectrally detected by the spectral detector 25.

こうして検出される反射光の分光強度特性は、基本的に図3に実線で示すようなものとなる。つまり、陽極酸化アルミナ12の金属微粒子16の部分に測定光23が照射されたとき、ある特定の波長λLPの光に関しては局在プラズモン共鳴によって測定光の散乱や吸収が特異的に増大する。そこで、この波長λLPの光については、反射光強度が著しく低くなる。 The spectral intensity characteristic of the reflected light detected in this way is basically as shown by the solid line in FIG. That is, when the measuring light 23 to the portion of the fine metal particles 16 of the anodized alumina 12 is irradiated, there respect to light of a particular wavelength lambda LP scattering and absorption of the measuring light by the localized plasmon resonance increases specifically. Therefore, the reflected light intensity is remarkably reduced for the light of this wavelength λ LP .

そして、局在プラズモン共鳴が生じる光波長(共鳴ピーク波長)λLP、並びに測定光23の散乱や吸収の程度は、金属微粒子16の周囲に存在する液体試料21の屈折率に依存する。つまり、この屈折率が大であるほど共鳴ピーク波長λLPは長波長側にシフトし、また測定光23の散乱や吸収は増大する。したがって、図2に示すように容器20内に液体試料21を貯えた状態で陽極酸化アルミナ12の部分に測定光23を照射し、そのときの例えば共鳴ピーク波長λLPを検出することにより、液体試料21の屈折率や、その屈折率に対応する液体試料21の物性等を測定することができる。 The light wavelength (resonance peak wavelength) λ LP at which localized plasmon resonance occurs and the degree of scattering and absorption of the measurement light 23 depend on the refractive index of the liquid sample 21 existing around the metal fine particles 16. That is, as the refractive index increases, the resonance peak wavelength λ LP shifts to the longer wavelength side, and the scattering and absorption of the measurement light 23 increase. Accordingly, as shown in FIG. 2, the liquid sample 21 is stored in the container 20, and the portion of the anodized alumina 12 is irradiated with the measurement light 23, and the resonance peak wavelength λ LP at that time is detected, for example. The refractive index of the sample 21 and the physical properties of the liquid sample 21 corresponding to the refractive index can be measured.

また、このセンサにおいて用いられている微細構造体10の金属微粒子層17は均一性が高いため、測定光23の吸収、散乱スペクトル特性が鋭敏に変化するようになる。これにより、このセンサを用いれば、液体試料21の屈折率や、その屈折率に対応する液体試料21の物性等を極めて精度良く測定可能となる。   Further, since the metal fine particle layer 17 of the microstructure 10 used in this sensor has high uniformity, the absorption and scattering spectral characteristics of the measurement light 23 change sharply. Accordingly, when this sensor is used, the refractive index of the liquid sample 21 and the physical properties of the liquid sample 21 corresponding to the refractive index can be measured with extremely high accuracy.

なお図3に示すような特性は、予め経験あるいは実験に基づいて求めておくことができる。   The characteristics shown in FIG. 3 can be obtained in advance based on experience or experiment.

ここで上記実施の形態では、反射した白色光である測定光23を分光検出して共鳴ピーク波長λLPを検出するようにしているが、測定光として単色光を用い、上記共鳴ピーク波長λLPのシフトや、測定光23の散乱、吸収の変化に伴う光強度の変化を検出しても、液体試料21の屈折率や物性等を測定可能である。 Here, in the above embodiment, the measurement light 23, which is reflected white light, is spectrally detected to detect the resonance peak wavelength λ LP , but monochromatic light is used as the measurement light, and the resonance peak wavelength λ LP is used. The refractive index, physical properties, and the like of the liquid sample 21 can be measured even by detecting a change in light intensity due to a shift in light, a scattering of the measurement light 23, and a change in absorption.

また、さらに金属微粒子層をバイオセンサに用いる場合について説明する。そのバイオセンサの概略構成図を図4に示す。   Further, a case where a metal fine particle layer is used for a biosensor will be described. A schematic configuration diagram of the biosensor is shown in FIG.

図4に示すバイオセンサは、図2に示したものと比べると、微細構造体10の金属微粒子16表面には、図5に示すように、例えば抗体31が付着されている点のみが異なり、その他の構成は基本的に同様である。このバイオセンサにおいて、容器20内には微細構造体10の陽極酸化アルミナ12に接触するようにして、測定対象の検体溶液32が供給される。このとき検体溶液32内に、上記抗体31と特異的に結合する特定の抗原33が含まれていると、図5に示すようにその抗原33が、微細構造体10の抗体31と結合する。   The biosensor shown in FIG. 4 differs from that shown in FIG. 2 only in that, for example, an antibody 31 is attached to the surface of the metal fine particle 16 of the microstructure 10 as shown in FIG. Other configurations are basically the same. In this biosensor, a specimen solution 32 to be measured is supplied into the container 20 so as to be in contact with the anodized alumina 12 of the microstructure 10. At this time, if the sample solution 32 contains a specific antigen 33 that specifically binds to the antibody 31, the antigen 33 binds to the antibody 31 of the microstructure 10 as shown in FIG.

こうして抗体31に抗原33が結合すると、微細構造体10の金属微粒子16の周囲部分の屈折率が変化するので、分光検出器25によって検出される測定光23の吸収、散乱スペクトル特性が変化する。例えばこの変化は、抗体31と抗原33との結合前は図6に破線で示すように共鳴ピーク波長がλLP1であったものが、結合後は同図に実線で示す通り共鳴ピーク波長がλLP2に変わるように、共鳴ピーク波長のシフトとして現れる。そこで、分光検出器25によって共鳴ピーク波長の変化を検出することにより、抗体31と抗原33との結合の有無、つまり検体溶液32の中に抗原33が存在するか否かを調べることができる。 When the antigen 33 is bound to the antibody 31 in this way, the refractive index of the peripheral portion of the fine metal particle 16 of the fine structure 10 is changed, so that the absorption and scattering spectral characteristics of the measurement light 23 detected by the spectroscopic detector 25 are changed. For example, this change is that the resonance peak wavelength was λ LP 1 as shown by the broken line in FIG. 6 before the binding of the antibody 31 and the antigen 33, but after the binding, the resonance peak wavelength was as shown by the solid line in the same figure. It appears as a shift of the resonance peak wavelength as changing to λ LP 2. Therefore, by detecting a change in the resonance peak wavelength with the spectroscopic detector 25, it is possible to check whether or not the antibody 31 and the antigen 33 are bound, that is, whether or not the antigen 33 is present in the sample solution 32.

また本実施の形態においても、均一な厚みの金属微粒子層を用いているため、測定光23の吸収、散乱スペクトル特性が十分鋭敏に変化するようになり、抗体31と抗原33との微かな結合を精度良く検出可能となる。   Also in the present embodiment, since the metal fine particle layer having a uniform thickness is used, the absorption and scattering spectral characteristics of the measurement light 23 change sufficiently sharply, and the slight binding between the antibody 31 and the antigen 33. Can be detected with high accuracy.

なお、本発明の製造方法により作製した金属微粒子層17は、上述のセンサに用いられる他、層の厚みが均一であり、微粒子の大きさを変えることにより吸収波長を容易に制御することができることから、特定の波長を吸収するフィルタ等としても用いることができる。   The metal fine particle layer 17 produced by the production method of the present invention is not only used for the above-mentioned sensor, but also has a uniform layer thickness, and the absorption wavelength can be easily controlled by changing the size of the fine particles. Therefore, it can also be used as a filter that absorbs a specific wavelength.

金属微粒子層を作製する方法を説明する概略図Schematic explaining the method for producing a metal fine particle layer 本発明の実施の形態により作製された金属微粒子層を用いるセンサを示す概略側面図Schematic side view showing a sensor using a metal fine particle layer produced according to an embodiment of the present invention. 図2のセンサにおいて検出される測定光の分光強度特性を示すグラフGraph showing spectral intensity characteristics of measurement light detected by the sensor of FIG. 本発明の実施の形態により作製された金属微粒子層を用いる別のセンサを示す概略側面図The schematic side view which shows another sensor using the metal fine particle layer produced by embodiment of this invention 図4の微細構造体の試料分析時の状態を示す概略側面図Schematic side view showing the state of the microstructure of FIG. 4 during sample analysis 図4のセンサにおいて検出される測定光の分光強度特性の変化を説明するグラフFIG. 4 is a graph illustrating changes in spectral intensity characteristics of measurement light detected by the sensor of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10 微細構造体
11 アルミニウム基板
12 陽極酸化アルミナ
12a 陽極酸化アルミナの微細孔
13 金属コロイド粒子
13a 金属微粒子
13b 有機分子
16 金属微粒子
17 金属微粒子層
20 容器
21 液体試料
22 透明窓
23 測定光
24 白色光源
25 分光検出器
31 抗体
32 検体溶液
33 抗原
10 Microstructure
11 Aluminum substrate
12 Anodized alumina
12a Fine pores in anodized alumina
13 Metal colloidal particles
13a Metal fine particles
13b Organic molecules
16 Metal fine particles
17 Metal fine particle layer
20 containers
21 Liquid sample
22 Transparent window
23 Measuring light
24 White light source
25 Spectral detector
31 antibodies
32 Sample solution
33 antigen

Claims (5)

陽極酸化により作製された複数の微細孔を有するポーラスアルミナからなる基体の該複数の微細孔の各々に、金属微粒子に有機分子を被覆してなる前記微細孔の径より小さい径を有する金属コロイド粒子を複数個充填し、
前記金属コロイド粒子を加熱して、前記有機分子を揮発させると共に、前記複数個の金属コロイド粒子内の各金属微粒子を溶解させて前記微細孔の各々の底部に前記微細孔の径と同径の金属微粒子を生成することを特徴とする金属微粒子層の作製方法。
Metal colloidal particles having a diameter smaller than the diameter of the fine pores formed by coating organic fine particles on each of the fine pores of the substrate made of porous alumina having a plurality of fine pores produced by anodization A plurality of
The metal colloidal particles are heated to volatilize the organic molecules, and the metal fine particles in the plurality of metal colloidal particles are dissolved to have the same diameter as the diameter of the micropores at the bottom of each of the micropores. A method for producing a metal fine particle layer, characterized by producing metal fine particles.
前記金属微粒子が金または銀であることを特徴とする請求項1記載の金属微粒子層の作製方法。   The method for producing a metal fine particle layer according to claim 1, wherein the metal fine particles are gold or silver. 前記微細孔の径が10〜200nmであることを特徴とする請求項1または2記載の金属微粒子層の作製方法。   The method for producing a metal fine particle layer according to claim 1 or 2, wherein the diameter of the micropore is 10 to 200 nm. 前記微細孔の径が30〜200nmであり、
前記金属コロイド粒子の径が10〜30nmであることを特徴とする請求項3記載の金属微粒子層の作製方法。
The diameter of the micropore is 30 to 200 nm,
The method for producing a metal fine particle layer according to claim 3, wherein the diameter of the metal colloid particles is 10 to 30 nm.
前記加熱する際の温度が120〜600℃であることを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の金属微粒子層の作製方法。   The method for producing a metal fine particle layer according to any one of claims 1 to 4, wherein the heating temperature is 120 to 600 ° C.
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