JP2005164283A - Surface shape detector, optical apparatus, and manufacturing method for optical apparatus - Google Patents

Surface shape detector, optical apparatus, and manufacturing method for optical apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface shape detector of a small size and simple constitution, an optical apparatus, and a manufacturing method for the optical apparatus, in the surface shape detector for detecting a surface shape of a detected face by irradiating the detected face arranged opposedly to a detecting face with light, and by detecting reflected light from the detected face, the optical apparatus, and the manufacturing method for the optical apparatus. <P>SOLUTION: This surface shape detector 100 having an irradiation means 11 for irradiating the detected face arranged opposedly to the detecting face with the light, and a detecting means 13 for receiving the reflected light from the detected face to be detected has an optical element 12 layered with a plurality of light guide arrays 41 formed with a plurality of first light guides 31. In the optical element 12, one-end faces 12a in the plurality of first light guides 31 are formed and arranged to be opposed to the detected face, and the other-end faces 12b in the plurality of first light guides 31 are formed and arranged to be opposed to the detecting face of the detecting means 13. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は表面形状検出装置及び光学装置並び光学装置の製造方法に係り、特に、検出面に対向して配置された被検出面に光を照射し、被検出面からの反射光を検出することにより被検出面の表面形状を検出する表面形状検出装置及び光学装置並び光学装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a surface shape detection device, an optical device, and a method for manufacturing an optical device, and in particular, irradiates light to a detection surface arranged opposite to the detection surface and detects reflected light from the detection surface. The present invention relates to a surface shape detection device that detects a surface shape of a surface to be detected, an optical device, and a method for manufacturing an optical device.

指紋センサは、指紋のパターンを検出するために、指紋の凹凸を検出するものである。指紋センサとしては、半導体式、圧力式、光学式などがある。 The fingerprint sensor detects unevenness of a fingerprint in order to detect a fingerprint pattern. As the fingerprint sensor, there are a semiconductor type, a pressure type, an optical type, and the like.

半導体式の指紋センサは、マトリクス状表面電極の電荷量から凹凸を判定している。また、圧力式の指紋センサは、マトリクス電極と小さな間隔を隔てて配置された導電性物質が検知面から押圧されて接触することにより、圧力分布に対応した凹凸情報を電気信号として取得するものである。光学式指紋センサは、指紋の凸部との接触よって生じる表面反射率を、又は、拡散反射率の変化を光信号として検出するものである。   The semiconductor fingerprint sensor determines unevenness from the charge amount of the matrix-like surface electrode. In addition, the pressure type fingerprint sensor obtains unevenness information corresponding to the pressure distribution as an electrical signal when a conductive substance arranged at a small interval with the matrix electrode is pressed from the detection surface and brought into contact with the matrix electrode. is there. The optical fingerprint sensor detects a surface reflectance generated by contact with a convex portion of a fingerprint or a change in diffuse reflectance as an optical signal.

なお、光学式凹凸入力装置としては、光ファイバ束を用いた装置が提案されている。この装置は、光ファイバ束の一端を検出対象が接触する検出面に対向して配置し、他端を光電変換手段の受光面に対向して配置し、光ファイバ束の側面から検出面に光を入射し、光ファイバ束の一端で反射した光を、光ファイバ束により光電変換手段の受光面に導いて、光電変換手段により検出面の接触凸部のパターンを識別する構成とされている。(特許文献1)。   In addition, as an optical uneven | corrugated input device, the apparatus using an optical fiber bundle is proposed. In this apparatus, one end of the optical fiber bundle is arranged to face the detection surface with which the detection target comes into contact, the other end is arranged to face the light receiving surface of the photoelectric conversion means, and light is applied from the side surface of the optical fiber bundle to the detection surface. The light reflected by one end of the optical fiber bundle is guided to the light receiving surface of the photoelectric conversion means by the optical fiber bundle, and the pattern of the contact convex portion on the detection surface is identified by the photoelectric conversion means. (Patent Document 1).

特開平6−300930号公報JP-A-6-300930

しかるに、従来の検出装置は、複数の光ファイバを束ねた光ファイバ束により光学装置が形成されていたため、製造が容易でなく、また、小型化が困難である。さらに、検出対象が接触する端面を平坦にできないなどの問題点があった。   However, since the optical device is formed by the optical fiber bundle which bundled a plurality of optical fibers, the conventional detection device is not easy to manufacture and is difficult to reduce in size. In addition, there is a problem that the end surface with which the detection target contacts cannot be flattened.

本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、小型で、簡単に構成できる表面形状検出装置及び光学装置並び光学装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a surface shape detecting device and an optical device as well as a manufacturing method of an optical device that are small and can be easily configured.

本発明は、検出面に対向して配置された被検出面に光を照射する照射手段(11)と、被検出面からの反射光を受光面で受光して、検出する検出手段(13)とを有する表面形状検出装置(1)において、複数の第1導光路(31)が形成された導光路アレイ(41)を複数、積層して成形された光学素子(12)を有し、光学素子(12)は複数の第1導光路(31)の一端面(12a)が検出面(S)に対向するように成形、配置され、かつ、複数の第1導光路(31)の他端面(12b)が検出手段(13)の受光面に対向するように成形、配置されたことを特徴とする。   The present invention provides an irradiating means (11) for irradiating light to a detected surface arranged opposite to the detecting surface, and a detecting means (13) for detecting reflected light from the detected surface by receiving it on the light receiving surface. The surface shape detection device (1) having the optical element (12) formed by stacking a plurality of light guide array (41) in which a plurality of first light guides (31) are formed, and optical The element (12) is shaped and arranged so that one end faces (12a) of the plurality of first light guide paths (31) face the detection surface (S), and the other end face of the plurality of first light guide paths (31). (12b) is shaped and arranged so as to face the light receiving surface of the detection means (13).

また、光学素子(12)は、複数の第1導光路(31)の一端面(12a)と第1複数の導光路(31)の他端面(12b)とは、互いに傾斜して成形されたことを特徴とする。   The optical element (12) is formed such that one end face (12a) of the plurality of first light guide paths (31) and the other end face (12b) of the first plurality of light guide paths (31) are inclined with respect to each other. It is characterized by that.

さらに、光学素子(12)は、一端面(12a)が照射手段(11)に対向するように成形配置され、他端面(12b)が検出面(S)に対向するように成形、配置され、複数の第1導光路(31)と交差して成形された複数の第2導光路(431)を有することを特徴とする。   Further, the optical element (12) is shaped and arranged so that one end surface (12a) faces the irradiation means (11), and the other end surface (12b) faces the detection surface (S). It has a plurality of 2nd light guides (431) formed intersecting with a plurality of 1st light guides (31).

また、その光学素子の製造方法は、複数の導光路(31)を平面状に形成された導光路アレイ(41)を成形する導光路アレイ成形工程と、導光路アレイ成形手順で成形された導光路アレイ(41)を複数積層した導光路ブロックを成形する導光路ブロック成形工程と、導光路ブロック成形手順で成形された導光路ブロックを導光路(31)の延在方向に対して斜めに切断する導光路ブロック切断工程とを有することを特徴とする。   Further, the optical element manufacturing method includes a light guide path array forming step for forming a light guide path array (41) in which a plurality of light guide paths (31) are formed in a planar shape, and a light guide path formed by a light guide path array forming procedure. A light guide block forming step for forming a light guide block formed by laminating a plurality of optical path arrays (41) and a light guide block formed by the light guide block forming procedure are cut obliquely with respect to the extending direction of the light guide (31). And a light guide path block cutting step.

導光路アレイ成形工程は、基板(111)上に複数の導光路(112、113、114)を形成する導光路形成過程と、基板(111)から導光路(112、113、114)を分離させる導光路分離過程とを有することを特徴とする。   The light guide path array forming step separates the light guide paths (112, 113, 114) from the substrate (111) and the light guide path formation process of forming a plurality of light guide paths (112, 113, 114) on the substrate (111). And a light guide path separation process.

なお、上記参照符号はあくまでも参考であり、これによって、特許請求の範囲が限定されるものではない。   In addition, the said reference code is a reference to the last, This does not limit a claim.

上述の如く、本発明によれば、光学素子(12)を複数の第1導光路(31)の一端面(12a)が検出面(S)に対向するように成形、配置し、かつ、複数の第1導光路(31)の他端面(12b)が検出手段(13)の受光面に対向するように成形、配置した構成とすることにより、簡単な構成で、かつ、精度よく、また、高密度の検出を可能に光学素子(12)を構成できる。また、導光路(31)のパターンは容易に変更、設定できるので、設計の自由度が向上する。   As described above, according to the present invention, the optical element (12) is formed and arranged such that the one end faces (12a) of the plurality of first light guides (31) face the detection surface (S), and the plurality of optical elements (12) are arranged. By adopting a configuration in which the other end surface (12b) of the first light guide path (31) is shaped and arranged so as to face the light receiving surface of the detection means (13), the configuration is simple and accurate, and The optical element (12) can be configured to enable high-density detection. Further, since the pattern of the light guide path (31) can be easily changed and set, the degree of freedom in design is improved.

〔第1実施例〕
図1は本発明の第1実施例のシステム構成図を示す。
[First embodiment]
FIG. 1 shows a system configuration diagram of a first embodiment of the present invention.

本実施例の表面形状検出装置1は、発光部11、光学装置12、受光部13、処理部14から構成される。   The surface shape detection apparatus 1 according to the present embodiment includes a light emitting unit 11, an optical device 12, a light receiving unit 13, and a processing unit 14.

発光部11は、発光ダイオードなどから構成され、処理部14からの信号に応じて発光する。発光部11で発光された光は、光学装置12を透過して検出面Sに供給される。   The light emitting unit 11 includes a light emitting diode and the like, and emits light in response to a signal from the processing unit 14. The light emitted from the light emitting unit 11 passes through the optical device 12 and is supplied to the detection surface S.

検出面Sには、人間の指などの被検出物が接触する。検出面Sでは、指紋の凹凸により発光部11からの光が反射又は吸収される。例えば、検出面Sに密着した部分では、光が大部分透過し、離間した部分では、光が全反射される。   An object to be detected such as a human finger contacts the detection surface S. On the detection surface S, the light from the light emitting unit 11 is reflected or absorbed by the unevenness of the fingerprint. For example, most of the light is transmitted through the portion in close contact with the detection surface S, and the light is totally reflected at the separated portion.

検出面Sで反射した光は、光学装置12の入射面から入射され、光学装置12を通って出射面から出射され、受光部13に供給される。受光部13は、例えば、CCD(charge coupled device)から構成され、光学装置12を通過した光を電気信号に変換する。受光部13で変換された電気信号は、処理部14に供給される。   The light reflected by the detection surface S enters from the incident surface of the optical device 12, passes through the optical device 12, exits from the exit surface, and is supplied to the light receiving unit 13. The light receiving unit 13 is composed of, for example, a charge coupled device (CCD), and converts light that has passed through the optical device 12 into an electrical signal. The electrical signal converted by the light receiving unit 13 is supplied to the processing unit 14.

処理部14は、マイコンなどから構成され、受光部13で検出した電気信号から被検出物の凹凸に応じた2次元画像を再現する。   The processing unit 14 is configured by a microcomputer or the like, and reproduces a two-dimensional image corresponding to the unevenness of the detected object from the electric signal detected by the light receiving unit 13.

〔光学装置12〕
光学装置12について説明する。
[Optical device 12]
The optical device 12 will be described.

図3は光学装置12の斜視図を示す。   FIG. 3 shows a perspective view of the optical device 12.

光学装置12は、複数本の導光路31が形成された導光路アレイ41を複数枚、積層して固着した構成とされている。光学装置12は、導光路31の一端面である切断面12aと導光路31の他端面である出射面12bとが互いに45°の角度をもって成形されている。光学装置12の切断面12aは検出面Sとされ、出射面12bは受光部13の受光面に平行となるように配置される。このとき、導光路31は光学装置12の切断面12aから出射面12bまでの間に直線状に形成されている。   The optical device 12 has a configuration in which a plurality of light guide array 41 formed with a plurality of light guides 31 are stacked and fixed. In the optical device 12, the cut surface 12 a that is one end surface of the light guide path 31 and the emission surface 12 b that is the other end face of the light guide path 31 are formed at an angle of 45 °. The cut surface 12 a of the optical device 12 is a detection surface S, and the emission surface 12 b is disposed so as to be parallel to the light receiving surface of the light receiving unit 13. At this time, the light guide path 31 is linearly formed between the cut surface 12a and the emission surface 12b of the optical device 12.

〔光学装置12の製造方法〕
ここで、光学装置12の製造方法について説明する。
[Method of Manufacturing Optical Device 12]
Here, a method for manufacturing the optical device 12 will be described.

図4、図5は光学装置12の製造方法を説明するための図を示す。   4 and 5 are views for explaining a method of manufacturing the optical device 12.

まず、導光路アレイ41の形成方法について説明する。   First, a method for forming the light guide array 41 will be described.

図4(A)に示すようにシリコン基板111上に下部クラッド層112を形成する。下部クラッド層112は、例えば、アクリル系樹脂材料などの透明樹脂から構成されている。アクリル系樹脂の下部クラッド層112は、例えば、シリコン基板111上にスピンコート法などにより形成される。   As shown in FIG. 4A, a lower cladding layer 112 is formed on a silicon substrate 111. The lower cladding layer 112 is made of, for example, a transparent resin such as an acrylic resin material. The lower clad layer 112 made of acrylic resin is formed on the silicon substrate 111 by, for example, a spin coat method.

次に、下部クラッド層112上に図4(B)に示すようにフォトリソグラフィー処理により直線状にコア113を形成する。コア113は、導光路31を構成するものであり、クラッド層112と同じアクリル系樹脂材料などから構成される。   Next, as shown in FIG. 4B, a core 113 is formed linearly on the lower cladding layer 112 by photolithography. The core 113 constitutes the light guide path 31 and is made of the same acrylic resin material as that of the clad layer 112.

なお、コア113は、下部クラッド層112とは屈折率が異なるように樹脂が調整されている。例えば、下部クラッド層112の屈折率をn1、コア113の屈折率をn2としたとき、
n1<n2
となるように構成樹脂の成分調整が行われている。
Note that the resin is adjusted so that the core 113 has a refractive index different from that of the lower cladding layer 112. For example, when the refractive index of the lower cladding layer 112 is n1 and the refractive index of the core 113 is n2,
n1 <n2
The components of the constituent resin are adjusted so that

コア113の形成は、まず、クラッド層112上にスピンコート法などによりアクリル系樹脂の透明樹脂層を形成する。次に、コア113を形成する部分にフォトレジストをパターニングする。このとき、図4(B)に示すように矢印X方向に直線状にフォトレジストをパターニングする。   The core 113 is formed by first forming a transparent resin layer of acrylic resin on the clad layer 112 by spin coating or the like. Next, a photoresist is patterned on a portion where the core 113 is to be formed. At this time, as shown in FIG. 4B, the photoresist is patterned linearly in the arrow X direction.

次に、例えば、RIE(reactive ion etching)装置などによりドライエッチング処理が行われ、下部クラッド層112が露出する程度までエッチングする。このとき、フォトレジスト形成部分はエッチングされず、その下部の透明樹脂層が残ることになる。次に、残留したレジストを除去する。以上により、図4(B)に示すようにコア113が形成される。   Next, for example, a dry etching process is performed by an RIE (reactive ion etching) apparatus or the like, and etching is performed until the lower cladding layer 112 is exposed. At this time, the photoresist forming portion is not etched, and the transparent resin layer below it remains. Next, the remaining resist is removed. Thus, the core 113 is formed as shown in FIG.

次に、図4(C)に示すようにコア113の側面及び上面を覆うように上部クラッド層114を形成する。上部クラッド層114は、下部クラッド層112と同じアクリル系樹脂材料などから構成され、下部クラッド層112と同じ屈折率となるように調整されている。上部クラッド層114は、スピンコート法などにより形成される。   Next, as shown in FIG. 4C, an upper cladding layer 114 is formed so as to cover the side surface and the upper surface of the core 113. The upper cladding layer 114 is made of the same acrylic resin material as the lower cladding layer 112 and is adjusted to have the same refractive index as that of the lower cladding layer 112. The upper cladding layer 114 is formed by a spin coating method or the like.

以上により、コア113の周囲に屈折率が異なる下部クラッド層112、上部クラッド層114が形成される。これにより、コア113の一端面に入射した光がコア113と下部クラッド層112、上部クラッド層114との境界面で反射し、コア113の内部に閉じ込められる。これによって、コア113が導光路31として作用する。   As described above, the lower cladding layer 112 and the upper cladding layer 114 having different refractive indexes are formed around the core 113. As a result, the light incident on one end surface of the core 113 is reflected at the boundary surface between the core 113, the lower cladding layer 112, and the upper cladding layer 114 and is confined inside the core 113. As a result, the core 113 acts as the light guide path 31.

上記製造方法によって、導光路アレイ41が形成される。   The light guide array 41 is formed by the above manufacturing method.

次に、導光路アレイ41を図5に示すように積層して固着させた後、図5に示す一点破線に沿って切断する。複数の導光路アレイ41が積層された光学ブロックを一点鎖線に沿って切断することにより図3に示すような光学装置112が形成される。このときの切断面12aが検出面Sとなる。なお、このとき、切断面12aは、例えば、矢印X方向の端面に対して45°となるように形成される。   Next, after the light guide array 41 is stacked and fixed as shown in FIG. 5, it is cut along the one-dot broken line shown in FIG. An optical device 112 as shown in FIG. 3 is formed by cutting an optical block in which a plurality of light guide path arrays 41 are stacked along a dashed line. The cut surface 12a at this time becomes the detection surface S. At this time, the cut surface 12a is formed at, for example, 45 ° with respect to the end surface in the arrow X direction.

以上のような光学装置12の製造方法では、導光路31をピッチ、幅などを自由に設定でき、また、高精細に形成できる。よって、高精細な表面形状の検出が可能となる。   In the manufacturing method of the optical device 12 as described above, the light guide path 31 can be freely set in pitch, width, and the like, and can be formed with high definition. Therefore, it is possible to detect the surface shape with high definition.

〔動作〕
次に本実施例の表面形状検出装置1の動作を説明する。
[Operation]
Next, the operation of the surface shape detection apparatus 1 of the present embodiment will be described.

処理部14は、表面形状検出時に発光部11に駆動信号を供給する。発光部11は、処理部14からの駆動信号により発光する。発光部11から発光された光は、光学装置12に入射する。光学装置12に入射した光は、クラッド層112、113及びコア111の側面に略直交して入射する。このため、あまり屈折せずに光学装置12の切断面12aに到達する。   The processing unit 14 supplies a drive signal to the light emitting unit 11 when detecting the surface shape. The light emitting unit 11 emits light according to the drive signal from the processing unit 14. The light emitted from the light emitting unit 11 enters the optical device 12. The light incident on the optical device 12 enters the clad layers 112 and 113 and the side surfaces of the core 111 substantially orthogonally. For this reason, it reaches the cut surface 12a of the optical device 12 without being refracted much.

検出面Sである光学装置12の切断面12aには、検出対象である例えば、指2が接触している。このとき、検出面Sには、指2がその凸部分が接触し、凹部分は離間した状態で接触する。   For example, the finger 2 that is the detection target is in contact with the cut surface 12a of the optical device 12 that is the detection surface S. At this time, the convex portion of the finger 2 is in contact with the detection surface S, and the concave portion is in a separated state.

発光部11から検出面Sに入射した光は、検出面Sに接触していない部分、すなわち、指2の凹部分で導光路31の延在方向に反射する。検出面Sで反射した光は、導光路31を通って光学装置12の出射面12bから出射される。   The light incident on the detection surface S from the light emitting unit 11 is reflected in the extending direction of the light guide path 31 by the portion not in contact with the detection surface S, that is, the concave portion of the finger 2. The light reflected by the detection surface S is emitted from the emission surface 12 b of the optical device 12 through the light guide path 31.

光学装置12の出射面12bから出射された光は、出射面12bに対向して設けられた受光部13で受光される。   The light emitted from the emission surface 12b of the optical device 12 is received by the light receiving unit 13 provided facing the emission surface 12b.

したがって、受光部13の受光面上では、導光路31の一端面が指2の凹部分に対応する導光路31の他端面に対向する画素部分では光が入射し、導光路31の一端面が指2の凸部分に対応する導光路31の他端面に対向する画素部分では光が入射されない。   Therefore, on the light receiving surface of the light receiving unit 13, light is incident on a pixel portion where one end surface of the light guide 31 is opposed to the other end surface of the light guide 31 corresponding to the concave portion of the finger 2, and one end surface of the light guide 31 is Light is not incident on the pixel portion facing the other end surface of the light guide path 31 corresponding to the convex portion of the finger 2.

従って、受光部13により光学装置12の出射面12bからの出射光の検出することにより、指2の凹凸の状態を検出でき、指2の指紋などを検出できる。   Therefore, by detecting the light emitted from the light exit surface 12b of the optical device 12 by the light receiving unit 13, the uneven state of the finger 2 can be detected, and the fingerprint of the finger 2 can be detected.

〔効果〕
本実施例によれば、基板111上に複数の導光路31が形成された導光路アレイ41を複数枚積層した後、切断して、その切断面12aが検出面となる光学装置12を形成することができるため、高精細で、製造が容易な光学装置を提供できる。
〔effect〕
According to this embodiment, a plurality of light guide path arrays 41 each having a plurality of light guide paths 31 formed on a substrate 111 are stacked and then cut to form the optical device 12 whose cut surface 12a serves as a detection surface. Therefore, an optical device with high definition and easy manufacture can be provided.

また、その切断面12aは、固着された複数の導光路アレイ41を切断することにより形成されるため、平坦性が良好で、よって、検出精度を向上させることができる。   Further, since the cut surface 12a is formed by cutting a plurality of light guide path arrays 41 that are fixed, the flatness is good, and thus the detection accuracy can be improved.

〔変形例〕
図6は光学装置12の変形例の斜視図を示す。
[Modification]
FIG. 6 is a perspective view of a modification of the optical device 12.

本変形例の光学装置212は、各導光路アレイ221の構成が光学装置12とは相違する。本変形例の導光路アレイ221は、基板111上にクラッド層112、114、コア113を形成した後に、基板111から剥離した状態のものを積層した構成とされている。   The optical device 212 of this modification is different from the optical device 12 in the configuration of each light guide array 221. The light guide path array 221 of this modification is configured by laminating the layers peeled from the substrate 111 after the clad layers 112 and 114 and the core 113 are formed on the substrate 111.

本変形例によれば、基板111が存在しないので、導光路31の矢印Z方向のピッチp2を小さくできる。これによって、導光路31を検出面S上で正方配列しようとした場合に、矢印Y方向のピッチp1も小さくできる。よって、検出画素の高密度化が可能となる。   According to this modification, since the substrate 111 does not exist, the pitch p2 of the light guide path 31 in the arrow Z direction can be reduced. As a result, when the light guides 31 are arranged in a square on the detection surface S, the pitch p1 in the arrow Y direction can also be reduced. Therefore, it is possible to increase the density of detection pixels.

〔第2実施例〕
なお、本実施例では、光学装置12の切断面12aを検出面Sとしたが、光学装置12の切断面12aの上に保護部材を設け、検出面Sとしてもよい。
[Second Embodiment]
In the present embodiment, the cut surface 12a of the optical device 12 is the detection surface S. However, a protection member may be provided on the cut surface 12a of the optical device 12 to form the detection surface S.

図7は本発明の第2実施例のシステム構成図を示す。同図中、図1と同一構成部分には同一符号を付し、その説明は省略する。   FIG. 7 shows a system configuration diagram of the second embodiment of the present invention. In the figure, the same components as in FIG.

本実施例の表面形状検出装置300は、光学装置12の切断面12a上に保護部材311が設けられている。   In the surface shape detection device 300 of this embodiment, a protection member 311 is provided on the cut surface 12 a of the optical device 12.

保護部材311は、平板状の、例えば、透明樹脂材から構成され、光学装置12の切断面12aに密着して配置される。保護部材311により光学装置12が直接、検出対象である指2に接触することを防止でき、よって、光学装置12の皮脂などによる汚れや破損を防止できる。なお、保護部材311は、例えば、ガラスなどの無機材料で構成してもよい。   The protection member 311 is formed of a flat plate, for example, a transparent resin material, and is disposed in close contact with the cut surface 12 a of the optical device 12. The protective member 311 can prevent the optical device 12 from coming into direct contact with the finger 2 that is the detection target, thereby preventing the optical device 12 from being soiled or damaged by sebum. Note that the protective member 311 may be made of an inorganic material such as glass, for example.

〔第3実施例〕
図8は本発明の第3実施例のシステム構成図を示す。同図中、図1と同一構成部分には同一符号を付し、その説明は省略する。
[Third embodiment]
FIG. 8 shows a system configuration diagram of the third embodiment of the present invention. In the figure, the same components as in FIG.

本実施例の表面形状検出装置400は、光学装置412の構成が第1実施例とは相違する。   The surface shape detection device 400 of the present embodiment is different from the first embodiment in the configuration of the optical device 412.

図9は光学装置412の斜視図を示す。同図中、図3と同一構成部分には同一符号を付し、その説明は省略する。   FIG. 9 shows a perspective view of the optical device 412. In the figure, the same components as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

本実施例の光学装置412は、導光路アレイ441を複数積層した構成されている。導光路アレイ441は、導光路のパターンが第1実施例とは相違しており、光を検出面Sから受光部13に導く導光路31に加えて発光部11からの光を検出面Sに導く導光路431を有する構成とされている。   The optical device 412 of this embodiment is configured by laminating a plurality of light guide array 441. The light guide path array 441 is different from the first embodiment in the light guide path pattern. In addition to the light guide path 31 that guides light from the detection surface S to the light receiving portion 13, the light from the light emitting portion 11 is applied to the detection surface S. The light guide path 431 is configured to be guided.

〔光学装置412の製造方法〕
ここで、光学装置412の製造方法について説明する。
[Method of Manufacturing Optical Device 412]
Here, a method for manufacturing the optical device 412 will be described.

図10、図11は光学装置412の製造方法を説明するための図を示す。   10 and 11 are views for explaining a method for manufacturing the optical device 412. FIG.

まず、導光路アレイ441の形成方法について説明する。   First, a method for forming the light guide array 441 will be described.

図10(A)に示すようにシリコン基板111上に下部クラッド層112を形成する。下部クラッド層112は、例えば、アクリル系樹脂材料などの透明樹脂から構成されている。アクリル樹脂の下部クラッド層112は、シリコン基板111上にスピンコート法などにより形成される。   As shown in FIG. 10A, a lower cladding layer 112 is formed on a silicon substrate 111. The lower cladding layer 112 is made of, for example, a transparent resin such as an acrylic resin material. The lower clad layer 112 made of acrylic resin is formed on the silicon substrate 111 by spin coating or the like.

次に、下部クラッド層112上に図10(B)に示すように格子状にコア413を形成する。コア413は、導光路31、431を構成するものであり、下部クラッド層112と同じアクリル系樹脂などから構成される。   Next, cores 413 are formed on the lower cladding layer 112 in a lattice pattern as shown in FIG. The core 413 constitutes the light guide paths 31 and 431 and is made of the same acrylic resin as that of the lower clad layer 112.

なお、コア413は、下部クラッド層112とは屈折率が異なるように樹脂が調整されている。例えば、下部クラッド層112の屈折率をn1、コア413の屈折率をn2としたとき、
n1<n2
となるように構成樹脂が調整されている。
The core 413 is made of resin so that its refractive index is different from that of the lower cladding layer 112. For example, when the refractive index of the lower cladding layer 112 is n1 and the refractive index of the core 413 is n2,
n1 <n2
The constituent resin is adjusted so that

コア413の形成は、まず、下部クラッド層112上にスピンコート法などによりアクリル系樹脂の透明樹脂層を形成する。次に、コア113を形成する部分にフォトレジストをパターニングする。このとき、図10(B)に示すように格子状にフォトレジストをパターニングする。   The core 413 is formed by first forming an acrylic resin transparent resin layer on the lower clad layer 112 by spin coating or the like. Next, a photoresist is patterned on a portion where the core 113 is to be formed. At this time, the photoresist is patterned in a lattice pattern as shown in FIG.

次に、例えば、RIE(reactive ion etching)装置などにより、ドライエッチング処理が行われ、下部グラッド層112が露出する程度までエッチングする。このとき、フォトレジスト形成部分はエッチングされず、その下部の透明樹脂層が残ることになる。次に、残留したフォトレジストを除去する。以上により、図10(B)に示すような格子状のコア413が形成される。   Next, for example, a dry etching process is performed by an RIE (reactive ion etching) apparatus or the like, and etching is performed until the lower grad layer 112 is exposed. At this time, the photoresist forming portion is not etched, and the transparent resin layer below it remains. Next, the remaining photoresist is removed. Thus, a lattice-like core 413 as illustrated in FIG. 10B is formed.

次に、図10(C)に示すようにコア413の側面及び上面を覆うように上部クラッド層114を形成する。上部クラッド層114は、下部クラッド層112と同じアクリル系樹脂などから構成され、下部クラッド層112と同じ屈折率となるように調整されている。上部クラッド層114は、スピンコート法などにより形成される。   Next, as shown in FIG. 10C, an upper cladding layer 114 is formed so as to cover the side surface and the upper surface of the core 413. The upper cladding layer 114 is made of the same acrylic resin as the lower cladding layer 112 and is adjusted to have the same refractive index as that of the lower cladding layer 112. The upper cladding layer 114 is formed by a spin coating method or the like.

以上により、コア413の周囲に屈折率が異なる下部クラッド層112、上部クラッド層114が形成される。これにより、コア413に入射した光がコア413と下部クラッド層112、上部クラッド層114との境界面で反射し、コア413の内部に閉じ込められる。これによって、コア413が導光路31、431として作用する。   As described above, the lower clad layer 112 and the upper clad layer 114 having different refractive indexes are formed around the core 413. As a result, the light incident on the core 413 is reflected at the boundary surface between the core 413, the lower cladding layer 112, and the upper cladding layer 114 and is confined inside the core 413. As a result, the core 413 functions as the light guide paths 31 and 431.

このとき、コア413は、格子状に形成されおり、矢印X方向に延在するコアが導光路31、矢印Y方向に延在するコアが導光路431として作用する。   At this time, the core 413 is formed in a lattice shape, and the core extending in the arrow X direction functions as the light guide path 31 and the core extending in the arrow Y direction functions as the light guide path 431.

上記製造方法によって、導光路アレイ441が形成される。   The light guide array 441 is formed by the above manufacturing method.

次に、導光路アレイ441を図11に示すように積層して固着させた後、図11に示す一点破線に沿って切断する。複数の導光路アレイ441が積層された光学ブロックを一点鎖線に沿って切断することにより図9に示すような光学装置412が形成される。このとき、導光路31と導光路431との交差部分で切断され、この切断面412aが検出面Sとなる。なお、このとき、切断面412aは、例えば、矢印X1、Y1方向の端面に対して45°となるように形成される。   Next, after the light guide array 441 is laminated and fixed as shown in FIG. 11, it is cut along the one-dot broken line shown in FIG. An optical device 412 as shown in FIG. 9 is formed by cutting an optical block in which a plurality of light guide path arrays 441 are stacked along a dashed line. At this time, the light guide path 31 and the light guide path 431 are cut at the intersecting portion, and the cut surface 412a becomes the detection surface S. At this time, the cut surface 412a is formed, for example, at 45 ° with respect to the end surfaces in the directions of the arrows X1 and Y1.

光学装置412の矢印Y1方向の端面412bは、導光路431の一端面となり、発光部11に対向して配置される。また、光学装置412の矢印X1方向の端面412cは、導光路31の他端面となり、受光部13の受光面に対向して配置される。   An end surface 412 b in the direction of arrow Y <b> 1 of the optical device 412 serves as one end surface of the light guide path 431 and is disposed to face the light emitting unit 11. Further, the end surface 412 c of the optical device 412 in the direction of the arrow X <b> 1 is the other end surface of the light guide path 31 and is disposed to face the light receiving surface of the light receiving unit 13.

以上のような光学装置412の製造方法では、導光路31、431をピッチ、幅などを自由に設定でき、また、高精細に形成できる。よって、高精細な表面形状の検出が可能となる。   In the manufacturing method of the optical device 412 as described above, the light guide paths 31 and 431 can be freely set in pitch, width, and the like, and can be formed with high definition. Therefore, it is possible to detect the surface shape with high definition.

〔動作〕
次に本実施例の表面形状検出装置400の動作を説明する。
[Operation]
Next, the operation of the surface shape detection apparatus 400 of this embodiment will be described.

処理部14は、表面形状検出時に発光部11に駆動信号を供給する。発光部11は、処理部14からの駆動信号により発光する。発光部11から発光された光は、光学装置412の端面412bに入射する。光学装置12の端面412bに入射した光は、導光路431を導かれて、光学装置12の切断面412aに到達し、切断面412aに45°の角度で入射する。   The processing unit 14 supplies a drive signal to the light emitting unit 11 when detecting the surface shape. The light emitting unit 11 emits light according to the drive signal from the processing unit 14. The light emitted from the light emitting unit 11 is incident on the end surface 412 b of the optical device 412. The light incident on the end surface 412b of the optical device 12 is guided through the light guide 431, reaches the cut surface 412a of the optical device 12, and enters the cut surface 412a at an angle of 45 °.

検出面Sである光学装置12の切断面412aには、検出対象である例えば、指2が接触している。このとき、検出面Sには、指2がその凸部分が接触し、凹部分は離間した状態で接触する。   For example, a finger 2 that is a detection target is in contact with the cut surface 412a of the optical device 12 that is the detection surface S. At this time, the convex portion of the finger 2 is in contact with the detection surface S, and the concave portion is in a separated state.

発光部11から導光路431を通して検出面Sに到達した光は、検出面Sに接触していない部分、すなわち、指2の凹部分で導光路31の延在方向に反射する。検出面Sで反射した光は、導光路31を通って光学装置12の出射面412cから出射される。   The light that has reached the detection surface S from the light emitting unit 11 through the light guide path 431 is reflected in the extending direction of the light guide path 31 at a portion that is not in contact with the detection surface S, that is, the concave portion of the finger 2. The light reflected by the detection surface S is emitted from the emission surface 412 c of the optical device 12 through the light guide path 31.

なお、検出面Sに接触した部分、すなわち、指2の凸部分では、検出面Sから出射されて、導光路31の延在方向には反射しない。   It should be noted that the portion that is in contact with the detection surface S, that is, the convex portion of the finger 2 is emitted from the detection surface S and is not reflected in the extending direction of the light guide path 31.

光学装置400の出射面412cから出射された光は、出射面412cに対応して設けられた受光部13で受光される。   The light emitted from the emission surface 412c of the optical device 400 is received by the light receiving unit 13 provided corresponding to the emission surface 412c.

したがって、受光部13の受光面上では、導光路31の一端面が指2の凹部分に対応する導光路31の他端面に対向する画素部分では光が入射し、導光路31の一端面が指2の凸部分に対応する導光路31の他端面に対向する画素部分では光が入射されない。   Therefore, on the light receiving surface of the light receiving unit 13, light is incident on a pixel portion where one end surface of the light guide 31 is opposed to the other end surface of the light guide 31 corresponding to the concave portion of the finger 2, and one end surface of the light guide 31 is Light is not incident on the pixel portion facing the other end surface of the light guide path 31 corresponding to the convex portion of the finger 2.

従って、受光部13により光学装置412の端面412bからの出射光を検出することにより、指2の凹凸の状態を検出でき、指2の指紋などを検出できる。   Therefore, by detecting the light emitted from the end surface 412b of the optical device 412 by the light receiving unit 13, the uneven state of the finger 2 can be detected, and the fingerprint of the finger 2 can be detected.

〔効果〕
本実施例によれば、発光部11で発光された光を、導光路431を通して検出面Sである切断面412aに供給できるため、光を無駄なく、消費できる。また、検出面Sでの反射の精度を向上させることができ、正確な検出が可能となる。
〔effect〕
According to the present embodiment, the light emitted from the light emitting unit 11 can be supplied to the cut surface 412a, which is the detection surface S, through the light guide 431, so that the light can be consumed without waste. Further, the accuracy of reflection on the detection surface S can be improved, and accurate detection is possible.

〔その他〕
なお、本実施例では、導光路31と導光路431との交差角度を45°としたが、交差角度は、45°に限定されるものではなく、検出が良好に行える角度であればこれに限定されるものではない。
[Others]
In the present embodiment, the intersection angle between the light guide path 31 and the light guide path 431 is 45 °. However, the intersection angle is not limited to 45 °, and may be any angle that allows good detection. It is not limited.

本発明の第1実施例のシステム構成図である。It is a system configuration figure of the 1st example of the present invention. 本発明の第1実施例のシステム構成図である。It is a system configuration figure of the 1st example of the present invention. 光学装置12の斜視図である。3 is a perspective view of the optical device 12. FIG. 光学装置12の製造方法を説明するための図である。6 is a diagram for explaining a method of manufacturing the optical device 12. FIG. 光学装置12の製造方法を説明するための図である。6 is a diagram for explaining a method of manufacturing the optical device 12. FIG. 光学装置12の変形例の斜視図である。10 is a perspective view of a modification of the optical device 12. FIG. 本発明の第2実施例のシステム構成図である。It is a system configuration | structure figure of 2nd Example of this invention. 本発明の第3実施例のシステム構成図である。It is a system configuration | structure figure of 3rd Example of this invention. 光学装置412の斜視図である。4 is a perspective view of an optical device 412. FIG. 光学装置412の製造方法を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a manufacturing method of the optical device 412. 光学装置412の製造方法を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a manufacturing method of the optical device 412.

符号の説明Explanation of symbols

1、300、400 表面形状検出装置
2 指
11 発光部、12、212、412 光学装置、13 受光部、14 処理部
12a、212a、412a 切断面、12b、121b 出射面
412b、412c 端面
S 検出面
31、431 導光路
41 導光路アレイ
111 基板、112 下部クラッド層、114 上部クラッド層
113、413 コア
1, 300, 400 Surface shape detection device 2 Finger 11 Light emitting unit, 12, 212, 412 Optical device, 13 Light receiving unit, 14 Processing unit 12a, 212a, 412a Cut surface, 12b, 121b Emission surface 412b, 412c End surface S Detection surface 31, 431 Light guide 41 Light guide array 111 Substrate, 112 Lower clad layer, 114 Upper clad layer 113, 413 Core

Claims (8)

検出面に対向して配置された被検出面に光を照射する照射手段と、該被検出面からの反射光を受光面で受光して、検出する検出手段とを有する表面形状検出装置において、
複数の第1導光路が形成された導光路アレイを複数、積層して成形された光学素子を有し、
前記光学素子は、前記複数の第1導光路の一端面が前記検出面に対向するように成形、配置され、かつ、前記複数の第1導光路の他端面が前記検出手段の前記受光面に対向するように成形、配置されたことを特徴とする表面形状検出装置。
In a surface shape detection apparatus having an irradiating means for irradiating light to a detection surface arranged opposite to a detection surface, and a detection means for detecting and detecting reflected light from the detection surface by a light receiving surface,
A plurality of light guide array in which a plurality of first light guides are formed, and an optical element formed by stacking,
The optical element is shaped and arranged so that one end surfaces of the plurality of first light guide paths are opposed to the detection surface, and the other end surfaces of the plurality of first light guide paths are on the light receiving surface of the detection means. A surface shape detection device characterized by being shaped and arranged to face each other.
前記光学素子は、前記複数の第1導光路の一端面と前記第1複数の導光路の他端面とは、互いに傾斜した成形されたことを特徴とする請求項1記載の表面形状検出装置。 The surface shape detection device according to claim 1, wherein the optical element is formed such that one end surfaces of the plurality of first light guide paths and the other end surfaces of the first plurality of light guide paths are inclined with respect to each other. 前記光学素子は、一端面が前記照射手段に対向するように成形配置され、他端面が前記検出面に対向するように成形、配置され、前記複数の第1導光路と交差して成形された複数の第2導光路を有することを特徴とする請求項1又は2記載の表面形状検出装置。 The optical element is shaped and arranged so that one end surface thereof faces the irradiation means, and the other end surface is shaped and arranged so as to face the detection surface, and is formed so as to cross the plurality of first light guide paths. The surface shape detection apparatus according to claim 1, further comprising a plurality of second light guide paths. 一端面に入射した光を他端面に導き出射させる光学装置であって、
複数の第1導光路が形成された導光路アレイを複数、積層した構成とされており、
前記複数の第1導光路の一端面が光の入射面に平行に成形され、かつ、前記複数の第1導光路の他端面が光の出射面に平行となるように成形されたことを特徴とする光学装置。
An optical device for guiding and emitting light incident on one end surface to the other end surface,
A plurality of light guide path arrays in which a plurality of first light guide paths are formed are stacked,
One end surfaces of the plurality of first light guide paths are formed in parallel with a light incident surface, and the other end surfaces of the plurality of first light guide paths are formed in parallel with a light exit surface. An optical device.
前記複数の導光路の一端面と前記複数の導光路の他端面とは、互いに傾斜した成形されたことを特徴とする請求項4記載の光学装置。 The optical apparatus according to claim 4, wherein one end face of the plurality of light guide paths and the other end face of the plurality of light guide paths are formed to be inclined with respect to each other. 前記導光路アレイは、一端面が前記入射面とは異なる面であり、光を入射する他の入射面に平行に成形され、他端面が前記複数の第1導光路の一端面と一致するように成形され、かつ、前記複数の第1導光路と交差して成形された複数の第2導光路を有することを特徴とする請求項4又は5記載の光学装置。 The light guide array has a first end surface different from the incident surface, is formed in parallel with another incident surface on which light is incident, and the other end surface coincides with one end surface of the plurality of first light guide paths. 6. The optical device according to claim 4, further comprising a plurality of second light guides that are formed in a shape intersecting with the plurality of first light guides. 複数の導光路を平面状に形成された導光路アレイを成形する導光路アレイ成形工程と、
前記導光路アレイ成形手順で成形された前記導光路アレイを複数積層した導光路ブロックを成形する導光路ブロック成形工程と、
前記導光路ブロック成形手順で成形された前記導光路ブロックを前記導光路の延在方向に対して斜めに切断する導光路ブロック切断工程とを有することを特徴とする光学装置の製造方法。
A light guide array forming step for forming a light guide array in which a plurality of light guides are formed in a planar shape;
A light guide block forming step for forming a light guide block formed by laminating a plurality of the light guide arrays formed in the light guide array forming procedure;
A method of manufacturing an optical device, comprising: a light guide path block cutting step of cutting the light guide path block formed by the light guide path block forming procedure obliquely with respect to an extending direction of the light guide path.
前記導光路アレイ成形工程は、基板上に複数の導光路を形成する導光路形成過程と、
前記基板から導光路を分離させる導光路分離過程とを有することを特徴とする請求項5記載の光学装置の製造方法。
The light guide path array forming step includes forming a plurality of light guide paths on a substrate,
The optical device manufacturing method according to claim 5, further comprising: a light guide path separation process for separating the light guide path from the substrate.
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