JP2005158110A - Optical recording disk - Google Patents

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Tatsuhiro Kobayashi
龍弘 小林
Takashi Kikukawa
隆 菊川
Shigetoshi Fukuzawa
成敏 福澤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording disk wherein data constituted of recording mark columns containing recording marks and blank regions between the recording marks adjacent to each other is recorded and reproduced even when the length of the recording mark and the length of the blank region are shorter than that of the resolution limit, recording capacity is increased and reproducing durability is enhanced. <P>SOLUTION: The optical recording disk comprises a laminated body wherein a decomposition reaction layer 8 containing a noble metal oxide as a main component, a dielectric layer 7 consisting essentially of a dielectric material containing sulfur, an intermediate layer 6 consisting essentially of a dielectric material containing an element other than sulfur as a main component or containing sulfur whose content is lower than the content of sulfur contained in the dielectric layer 7, and a light absorption layer 5 are successively laminated. The disk is so constituted that data are recorded and reproduced by irradiation with a laser beam L. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光記録ディスクに関するものであり、さらに詳細には、記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満である場合にも、これらの記録マークおよびブランク領域を含む記録マーク列により構成されたデータを記録し、再生することができ、記録容量を大幅に増大させることが可能になるとともに、再生耐久性を向上させることができる光記録ディスクに関するものである。   The present invention relates to an optical recording disk, and more specifically, even when the length of a recording mark or the length of a blank area between adjacent recording marks is less than the resolution limit. Further, the present invention relates to an optical recording disk that can record and reproduce data composed of a recording mark string including a blank area, can greatly increase recording capacity, and can improve reproduction durability. Is.

従来より、デジタルデータを記録するための記録媒体として、CDやDVDに代表される光記録ディスクが広く利用されているが、近年においては、より大容量で、かつ、高いデータ転送レートを有する光記録ディスクの開発が盛んに行われている。   Conventionally, optical recording disks represented by CDs and DVDs have been widely used as recording media for recording digital data. In recent years, optical disks having a larger capacity and a higher data transfer rate have been used. Recording discs are being actively developed.

こうした光記録ディスクにおいては、データの記録・再生に用いるレーザビームの波長λを小さくするとともに、対物レンズの開口数NAを大きくして、レーザビームのビームスポット径を小さく絞ることにより、光記録ディスクの記録容量の増大が図られている。   In such an optical recording disk, the wavelength λ of the laser beam used for data recording / reproduction is reduced, the numerical aperture NA of the objective lens is increased, and the beam spot diameter of the laser beam is reduced, thereby reducing the optical recording disk. The recording capacity is increased.

光記録ディスクにおいては、光記録ディスクに記録された記録マークの長さ、および、隣り合う記録マーク間の長さ、すなわち、記録マークが形成されていない領域(以下、「ブランク領域」という。)の長さが解像限界未満になると、光記録ディスクからデータを再生することが不可能になる。   In an optical recording disk, the length of a recording mark recorded on the optical recording disk and the length between adjacent recording marks, that is, an area where no recording mark is formed (hereinafter referred to as “blank area”). If the length becomes less than the resolution limit, it becomes impossible to reproduce data from the optical recording disk.

解像限界は、レーザビームの波長λと、レーザビームを集束するための対物レンズの開口数NAによって決定され、記録マークとブランク領域との繰り返しの周波数、すなわち、空間周波数が2NA/λ以上の場合に、記録マークおよびブランク領域に記録されたデータの読み取りが不可能になる。   The resolution limit is determined by the wavelength λ of the laser beam and the numerical aperture NA of the objective lens for focusing the laser beam. The repetitive frequency between the recording mark and the blank area, that is, the spatial frequency is 2 NA / λ or more. In this case, it becomes impossible to read the data recorded in the recording mark and the blank area.

したがって、読み取り可能な空間周波数に対応する記録マークおよびブランクの長さは、それぞれ、λ/4NA以上となり、波長λのレーザビームを、開口数NAの対物レンズによって、光記録ディスクの表面に集光させるときは、λ/4NAの長さの記録マークおよびブランク領域が、読み取ることができる最短の記録マークおよびブランク領域となる。   Therefore, the lengths of the recording marks and blanks corresponding to the readable spatial frequency are each λ / 4NA or more, and the laser beam having the wavelength λ is focused on the surface of the optical recording disk by the objective lens having the numerical aperture NA. In this case, the recording mark and blank area having a length of λ / 4NA become the shortest recording mark and blank area that can be read.

このように、データを再生する場合には、データの再生が可能な解像限界が存在し、再生することができる記録マークの長さおよびブランク領域の長さに制限がある。したがって、解像限界未満の長さの記録マークおよびブランク領域を形成して、データを記録しても、記録されたデータを再生することができないので、光記録ディスクに、データを記録するときに形成可能な記録マークの長さおよびブランク領域の長さが必然的に制限されるから、通常は、解像限界未満になるような長さの記録マークおよびブランク領域を形成して、光記録ディスクにデータを記録することがない。   As described above, when data is reproduced, there is a resolution limit at which data can be reproduced, and there is a limit to the length of a record mark and the length of a blank area that can be reproduced. Therefore, even if recording marks and blank areas having a length less than the resolution limit are formed and data is recorded, the recorded data cannot be reproduced, so when recording data on an optical recording disk Since the length of the record mark that can be formed and the length of the blank area are inevitably limited, the record mark and the blank area are usually formed so as to be less than the resolution limit, and the optical recording disk There is no data recording.

したがって、光記録ディスクの記録容量を増大させるためには、データの再生に用いるレーザビームの波長λを短くし、あるいは、対物レンズの開口数NAを大きくすることによって、解像限界を小さくし、より短い記録マークとブランク領域よりなるデータを再生することができるようにすることが要求される。   Therefore, in order to increase the recording capacity of the optical recording disk, the resolution limit is reduced by shortening the wavelength λ of the laser beam used for data reproduction or by increasing the numerical aperture NA of the objective lens, It is required to be able to reproduce data consisting of shorter recording marks and blank areas.

しかしながら、データの再生に用いるレーザビームの波長λを短くし、あるいは、対物レンズの開口数NAを大きくすることには限界があり、したがって、解像限界を小さくすることによって、光記録ディスクの記録容量を増大させることには限界があった。   However, there is a limit to shortening the wavelength λ of the laser beam used for data reproduction or increasing the numerical aperture NA of the objective lens. Therefore, by reducing the resolution limit, recording on an optical recording disk is possible. There was a limit to increasing the capacity.

また、何らかの方法で、光記録ディスクの記録容量を増大させることができたとしても、それだけでは十分ではなく、光記録ディスクに記録されたデータを繰り返し再生したときにも、記録されたデータが劣化し、再生信号の信号特性が悪化することがないように、十分な再生耐久性を有することが必要である。   Also, even if the recording capacity of the optical recording disk can be increased by some method, it is not enough, and the recorded data deteriorates when the data recorded on the optical recording disk is repeatedly reproduced. However, it is necessary to have sufficient reproduction durability so that the signal characteristics of the reproduction signal do not deteriorate.

したがって、本発明の目的は、記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満である場合にも、これらの記録マークおよびブランク領域を含む記録マーク列により構成されたデータを記録し、再生することができ、記録容量を大幅に増大させることが可能になるとともに、再生耐久性を向上させることができる光記録ディスクを提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a recording mark string including these recording marks and blank areas even when the length of the recording marks and the length of the blank area between adjacent recording marks are less than the resolution limit. An object of the present invention is to provide an optical recording disk capable of recording and reproducing structured data, greatly increasing the recording capacity, and improving the reproduction durability.

本発明のかかる目的は、レーザビームが照射されて、データが記録され、再生されるように構成された光記録ディスクであって、貴金属酸化物を主成分として含む分解反応層と、硫黄を含む誘電体材料を主成分とする誘電体層と、硫黄を除く元素を主成分として含む誘電体材料、または前記誘電体層に含まれる硫黄の含有量に比して少ない含有量の硫黄を含む誘電体材料を主成分とする中間層と、光吸収層とが、順に積層された積層体を含んでいることを特徴とする光記録ディスクによって達成される。   An object of the present invention is an optical recording disk configured to be irradiated with a laser beam to record and reproduce data, and includes a decomposition reaction layer containing a noble metal oxide as a main component and sulfur. A dielectric layer containing a dielectric material as a main component and a dielectric material containing an element other than sulfur as a main component, or a dielectric containing a small amount of sulfur compared to the sulfur content contained in the dielectric layer This is achieved by an optical recording disk comprising a laminate in which an intermediate layer mainly composed of a body material and a light absorption layer are sequentially laminated.

本発明において、光記録ディスクは、貴金属酸化物を主成分として含む分解反応層を備えている。   In the present invention, the optical recording disk includes a decomposition reaction layer containing a noble metal oxide as a main component.

本発明者の研究によれば、貴金属酸化物を主成分として含む分解反応層を備えた光記録ディスクに、レーザビームが照射され、分解反応層に記録マーク列が形成されて、データが記録された場合には、記録マーク列を構成する記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満であるときにも、データが再生可能であることが見出されている。   According to the inventor's research, a laser beam is irradiated onto an optical recording disk having a decomposition reaction layer containing a precious metal oxide as a main component, a recording mark row is formed in the decomposition reaction layer, and data is recorded. In this case, it is found that the data can be reproduced even when the length of the recording mark constituting the recording mark row and the length of the blank area between the adjacent recording marks are less than the resolution limit. Has been.

したがって、本発明によれば、光記録ディスクの記録容量を大幅に増大させることが可能になる。   Therefore, according to the present invention, the recording capacity of the optical recording disk can be greatly increased.

また、本発明においては、光吸収層と誘電体層との間に、硫黄を除く元素を主成分として含む誘電体材料、または前記誘電体層に含まれる硫黄の含有量に比して少ない含有量の硫黄を含む誘電体材料を主成分とする中間層が形成されている。   Further, in the present invention, between the light absorption layer and the dielectric layer, a dielectric material containing an element excluding sulfur as a main component, or a content smaller than the content of sulfur contained in the dielectric layer An intermediate layer mainly composed of a dielectric material containing an amount of sulfur is formed.

本発明者の研究によれば、光記録ディスクに、かかる中間層を形成した場合には、高いパワーの再生用レーザビームが繰り返し照射されて、複数回にわたって、データが再生される場合にも、光記録ディスクに記録されたデータを再生したときの再生信号の信号特性が悪化するのを効果的に抑制できることが見出されている。   According to the inventor's research, when such an intermediate layer is formed on an optical recording disk, a high-power reproduction laser beam is repeatedly irradiated to reproduce data multiple times. It has been found that it is possible to effectively suppress deterioration of signal characteristics of a reproduction signal when data recorded on an optical recording disk is reproduced.

硫黄を除く元素を主成分として含む誘電体材料、または前記誘電体層に含まれる硫黄の含有量に比して少ない含有量の硫黄を含む誘電体材料を主成分とする中間層を、光吸収層と誘電体層との間に形成した場合に、光記録ディスクに記録されたデータを再生したときの再生信号の信号特性が悪化するのを抑制することができる理由は、必ずしも明らかではないが、かかる構成を有する中間層を、光吸収層と誘電体層との間に形成することにより、高いパワーの再生用レーザビームが照射されて、光吸収層が加熱されたときにも、誘電体層に含まれる硫黄が、光吸収層に含まれる元素と混合することがなく、その結果、光吸収層の状態の変化が光記録ディスクの光学的特性に与える悪影響を排除することができたためではないかと推測される。   Light absorption of a dielectric material containing as a main component an element excluding sulfur, or an intermediate layer containing as a main component a dielectric material containing a small amount of sulfur compared to the content of sulfur contained in the dielectric layer The reason why it is possible to suppress the deterioration of the signal characteristics of the reproduction signal when reproducing the data recorded on the optical recording disk when it is formed between the layer and the dielectric layer is not necessarily clear. By forming the intermediate layer having such a structure between the light absorption layer and the dielectric layer, the dielectric layer can be used even when the light absorption layer is heated by irradiation with a high-power reproducing laser beam. The sulfur contained in the layer was not mixed with the elements contained in the light absorption layer, and as a result, the adverse effect of the change in the state of the light absorption layer on the optical characteristics of the optical recording disk could be eliminated. I guess it is not.

したがって、本実施態様によれば、光記録ディスクの再生耐久性を向上させることも可能となる。   Therefore, according to this embodiment, it is possible to improve the reproduction durability of the optical recording disk.

本発明の好ましい実施態様においては、前記レーザビームが照射されたときに、前記分解反応層に主成分として含まれている前記貴金属酸化物が貴金属と酸素に分解され、生成された酸素ガスによって、空洞が形成されるとともに、前記貴金属の微粒子が前記空洞内に析出することによって、前記分解反応層に記録マークが形成されるように構成されている。   In a preferred embodiment of the present invention, when the laser beam is irradiated, the noble metal oxide contained as a main component in the decomposition reaction layer is decomposed into noble metal and oxygen, and the generated oxygen gas A cavity is formed, and the noble metal fine particles are precipitated in the cavity, so that a recording mark is formed in the decomposition reaction layer.

本発明者の研究によれば、貴金属酸化物を主成分として含む分解反応層を備えた光記録ディスクに、レーザビームを照射すると、分解反応層に主成分として含まれている貴金属酸化物が貴金属と酸素に分解され、生成された酸素ガスによって、分解反応層内に空洞が形成されるとともに、貴金属の微粒子が空洞内に析出し、分解反応層に記録マークが形成されて、データが記録され、こうして、データが光記録ディスクに記録された場合には、記録マーク列を構成する記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満であるときにも、データが再生可能であることが見出されている。   According to the inventor's research, when an optical recording disk having a decomposition reaction layer containing a noble metal oxide as a main component is irradiated with a laser beam, the noble metal oxide contained as a main component in the decomposition reaction layer is converted into a noble metal. The oxygen gas is decomposed into oxygen and the generated oxygen gas forms cavities in the decomposition reaction layer. Precious metal fine particles are deposited in the cavities, recording marks are formed in the decomposition reaction layer, and data is recorded. Thus, when data is recorded on the optical recording disk, the length of the recording marks constituting the recording mark row and the length of the blank area between adjacent recording marks are less than the resolution limit. It has been found that the data is reproducible.

分解反応層に主成分として含まれている貴金属酸化物が貴金属と酸素に分解され、生成された酸素ガスによって、分解反応層内に空洞が形成されるとともに、貴金属の微粒子が空洞内に析出し、分解反応層に記録マークが形成されて、データが記録された場合に、記録マーク列を構成する記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満であるときでも、データを再生することができるという理由は必ずしも明らかではないが、空洞内に析出した貴金属の微粒子に、再生用のレーザビームが照射されることにより、近接場光が発生し、解像限界がなくなったためか、あるいは、空洞内に析出した貴金属の微粒子と照射されたレーザビームとの相互作用によって、解像限界が小さくなったためではないかと推測される。   The noble metal oxide contained as the main component in the decomposition reaction layer is decomposed into noble metal and oxygen, and the generated oxygen gas forms cavities in the decomposition reaction layer, and noble metal fine particles precipitate in the cavities. When the recording mark is formed in the decomposition reaction layer and the data is recorded, the length of the recording mark constituting the recording mark row and the length of the blank area between the adjacent recording marks are less than the resolution limit. The reason why the data can be reproduced at any time is not necessarily clear, but the noble metal fine particles deposited in the cavity are irradiated with a laser beam for reproduction, generating near-field light and solving the problem. This may be because the image limit has disappeared, or because the resolution limit has decreased due to the interaction between the precious metal fine particles deposited in the cavity and the irradiated laser beam. It is.

したがって、本発明によれば、光記録ディスクの記録容量を大幅に増大させることが可能になる。   Therefore, according to the present invention, the recording capacity of the optical recording disk can be greatly increased.

本発明において、光記録ディスクの分解反応層に主成分として含まれる貴金属酸化物は、とくに限定されるものではないが、酸化物の形成し易さ、近接場光の発生効率の観点から、銀、白金およびパラジウムよりなる群から選ばれる一種の貴金属を含む酸化物が好ましく、とくに、白金酸化物PtOxが、分解温度が高いため、好ましい。   In the present invention, the noble metal oxide contained as a main component in the decomposition reaction layer of the optical recording disk is not particularly limited. From the viewpoint of easy formation of the oxide and efficiency of generating near-field light, An oxide containing one kind of noble metal selected from the group consisting of platinum and palladium is preferable, and platinum oxide PtOx is particularly preferable because of its high decomposition temperature.

白金酸化物PtOxは、他の貴金属酸化物に比べて、分解温度が高く、したがって、記録用のパワーに設定されたレーザビームを照射して、記録マークを形成する際に、レーザビームが照射された領域から、周囲の分解反応層に、熱が拡散しても、レーザビームが照射された領域以外の領域で、白金酸化物PtOxの分解反応が生じることが防止されるから、分解反応層の所望の領域に、空洞を形成して、記録マークを形成することが可能になる。   Platinum oxide PtOx has a higher decomposition temperature than other noble metal oxides. Therefore, when a recording mark is formed by irradiating a laser beam set at a recording power, the platinum beam is irradiated with the laser beam. Even if heat diffuses from the exposed region to the surrounding decomposition reaction layer, the decomposition reaction of the platinum oxide PtOx is prevented from occurring in the region other than the region irradiated with the laser beam. It becomes possible to form a recording mark by forming a cavity in a desired region.

また、高いパワーの再生用レーザビームが照射されて、データが再生される場合においても、白金酸化物PtOxは、他の貴金属酸化物に比べて、分解温度が高いから、白金酸化物が白金と酸素に分解されるおそれがなく、したがって、繰り返し、光記録ディスクに記録されたデータを再生しても、記録マークの形状が変化することはなく、空洞が形成され、また、記録マークが形成された領域以外の領域に、新たに空洞が形成されることもないから、光記録ディスクの再生耐久性を向上させることが可能になる。   Even when data is reproduced by irradiation with a high-power reproducing laser beam, platinum oxide PtOx has a higher decomposition temperature than other noble metal oxides. There is no risk of being decomposed into oxygen. Therefore, even if data recorded on the optical recording disk is repeatedly reproduced, the shape of the recording mark does not change, a cavity is formed, and a recording mark is formed. Since no new cavity is formed in a region other than the above region, it becomes possible to improve the reproduction durability of the optical recording disk.

本発明において、記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満である場合にも、良好な信号特性を有する再生信号を得るためには、白金酸化物の一般式PtOxにおいて、xが0.5以上、4.0以下であることが好ましく、1.0以上、3未満であることがより好ましい。   In the present invention, in order to obtain a reproduction signal having good signal characteristics even when the length of a recording mark or the length of a blank area between adjacent recording marks is less than the resolution limit, platinum oxide is used. In the general formula PtOx, x is preferably 0.5 or more and 4.0 or less, and more preferably 1.0 or more and less than 3.

本発明において、貴金属酸化物として、酸化銀AgOyを用いる場合には、yが0.5以上、1.5以下であることが好ましく、0.5以上、1.0以下であることがより好ましい。   In the present invention, when silver oxide AgOy is used as the noble metal oxide, y is preferably 0.5 or more and 1.5 or less, more preferably 0.5 or more and 1.0 or less. .

本発明において、好ましくは、白金酸化物が分解して、形成される白金の微粒子は、分解反応層に形成すべき空洞の大きさよりも小さい粒径を有しており、白金酸化物が分解して、形成される白金の微粒子が、通常、形成される空洞の大きさに比べて十分に小さい場合には、空洞内に析出した白金の微粒子によって、空洞の形状が悪影響を受け、記録マークの形状に、望ましくない変化が生じることを効果的に防止することが可能になる。   In the present invention, preferably, the platinum fine particles formed by decomposition of the platinum oxide have a particle size smaller than the size of the cavity to be formed in the decomposition reaction layer, and the platinum oxide is decomposed. In general, when the platinum fine particles formed are sufficiently small compared to the size of the formed cavity, the shape of the cavity is adversely affected by the platinum fine particles deposited in the cavity, and the recording mark It becomes possible to effectively prevent an undesirable change in the shape.

本発明において、光吸収層は、レーザビームの光入射面を介して、レーザビームが照射されたときに、レーザビームを吸収して、発熱するように構成されている。   In the present invention, the light absorption layer is configured to absorb the laser beam and generate heat when irradiated with the laser beam through the light incident surface of the laser beam.

レーザビームが照射されたときに、光吸収層がレーザビームを吸収して、発熱するように構成されている場合には、レーザビームが照射されたときに、分解反応層自身が発熱し難くても、光吸収層から伝達される熱によって、分解反応層に主成分として含まれている貴金属酸化物を貴金属と酸素に分解させることができ、したがって、分解反応層が容易に変形しやすくなるように、分解反応層を薄層化しても、また、分解反応層が、レーザビームの透過性の高い貴金属酸化物を含んでいても、光記録ディスクに、レーザビームを照射することにより、所望のように、貴金属酸化物を分解させて、記録マークを形成することが可能になる。   When the light absorption layer is configured to absorb the laser beam and generate heat when irradiated with the laser beam, the decomposition reaction layer itself is difficult to generate heat when irradiated with the laser beam. However, the heat transferred from the light absorption layer can decompose the noble metal oxide contained as the main component in the decomposition reaction layer into the noble metal and oxygen, so that the decomposition reaction layer is easily deformed. In addition, even if the decomposition reaction layer is thinned or the decomposition reaction layer contains a noble metal oxide having a high laser beam transmission property, the optical recording disk can be irradiated with a laser beam to obtain a desired As described above, it is possible to decompose the noble metal oxide to form a recording mark.

本発明において、光吸収層は、レーザビームの吸収率が高く、熱伝導率の低い材料を含んでいることが好ましく、SbおよびTeの少なくとも一方を含んでいることが好ましい。   In the present invention, the light absorption layer preferably contains a material having high laser beam absorptivity and low thermal conductivity, and preferably contains at least one of Sb and Te.

本発明において、光吸収層に含まれるSbおよびTeの少なくとも一方を含む合金としては、(SbTe1ーa1ーb、または{(GeTe)(SbTe1−c1−dで表わされる組成を有するものがとくに好ましい。ここに、元素Mは、SbおよびTeを除く元素を表わし、元素Xは、Sb、TeおよびGeを除く元素を表す。 In the present invention, as an alloy containing at least one of Sb and Te contained in the light absorption layer, (Sb a Te 1-a ) 1-b M b , or {(GeTe) c (Sb 2 Te 3 ) 1- Those having a composition represented by c } dX1 -d are particularly preferred. Here, the element M represents an element excluding Sb and Te, and the element X represents an element excluding Sb, Te and Ge.

光吸収層に含まれるSbおよびTeの少なくとも一方を含む合金が、(SbTe1ーa1ーbで表される組成を有するもののときは、aおよびbは、0≦a≦1、かつ、0≦b≦0.25であることが好ましい。bが0.25を越えているときは、光の吸収係数が光吸収層に要求される値よりも低くなり、また、熱伝導性が光吸収層に要求される値よりも低くなり、好ましくない。 When the alloy containing at least one of Sb and Te contained in the light absorption layer has a composition represented by (Sb a Te 1-a ) 1-b M b , a and b are 0 ≦ a ≦ It is preferable that 1 and 0 ≦ b ≦ 0.25. When b exceeds 0.25, the light absorption coefficient is lower than the value required for the light absorption layer, and the thermal conductivity is lower than the value required for the light absorption layer. Absent.

元素Mは、とくに限定されるものではないが、In、Ag、Au、Bi、Se、Al、Ge、P、H、Si、C、V、W、Ta、Zn、Mn、Ti、Sn、Pb、Pd、N、Oおよび希土類元素(Sc、Yおよびランタノイド)よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を主成分として含むことが好ましい。   The element M is not particularly limited, but In, Ag, Au, Bi, Se, Al, Ge, P, H, Si, C, V, W, Ta, Zn, Mn, Ti, Sn, Pb It is preferable that at least one element selected from the group consisting of Pd, N, O and rare earth elements (Sc, Y and lanthanoid) is contained as a main component.

一方、光吸収層に含まれるSbおよびTeの少なくとも一方を含む合金が、{(GeTe)(SbTe1−c1−dで表される組成を有するもののときは、1/3≦c≦2/3、かつ、0.9≦dであることが好ましい。 On the other hand, when the alloy containing at least one of Sb and Te contained in the light absorption layer has a composition represented by {(GeTe) c (Sb 2 Te 3 ) 1-c } d X 1-d , It is preferable that 1/3 ≦ c ≦ 2/3 and 0.9 ≦ d.

元素Xは、とくに限定されるものではないが、In、Ag、Au、Bi、Se、Al、P、H、Si、C、V、W、Ta、Zn、Mn、Ti、Sn、Pb、Pd、N、Oおよび希土類元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を主成分として含むことが好ましい。   The element X is not particularly limited, but In, Ag, Au, Bi, Se, Al, P, H, Si, C, V, W, Ta, Zn, Mn, Ti, Sn, Pb, Pd It is preferable that at least one element selected from the group consisting of N, O, and rare earth elements is contained as a main component.

本発明においては、レーザビームが照射されて、分解反応層が、貴金属と酸素に分解し、空洞が形成される際に、誘電体層、中間層および光吸収層が変形することが好ましい。   In the present invention, it is preferable that the dielectric layer, the intermediate layer, and the light absorption layer are deformed when the laser beam is irradiated and the decomposition reaction layer is decomposed into noble metal and oxygen to form a cavity.

誘電体層、中間層および光吸収層が変形した領域は、誘電体層、中間層および光吸収層が変形しない領域と、光学特性が異なるので、より良好な信号特性を有する再生信号を得ることができる。   The region where the dielectric layer, the intermediate layer and the light absorption layer are deformed is different from the region where the dielectric layer, the intermediate layer and the light absorption layer are not deformed, so that a reproduced signal having better signal characteristics can be obtained. Can do.

本発明の前記目的はまた、レーザビームが照射されて、データが記録され、再生されるように構成された光記録ディスクであって、貴金属酸化物を主成分として含む分解反応層と、第二の誘電体層と、光吸収層と、中間層と、第三の誘電体層が、順に積層された積層体を含み、前記第三の誘電体層が硫黄を含む誘電体材料を主成分として含むとともに、前記中間層が硫黄を除く元素を主成分として含む誘電体材料、または前記第三の誘電体層に含まれる硫黄の含有量に比して少ない含有量の硫黄を含む誘電体材料を主成分として含んでいることを特徴とする光記録ディスクによって達成される。   The object of the present invention is also an optical recording disk configured such that data is recorded and reproduced by irradiation with a laser beam, the decomposition reaction layer containing a noble metal oxide as a main component, and a second A dielectric layer, a light absorption layer, an intermediate layer, and a third dielectric layer are sequentially laminated, and the third dielectric layer includes a dielectric material containing sulfur as a main component. A dielectric material containing an element other than sulfur as a main component, or a dielectric material containing a small amount of sulfur compared to the content of sulfur contained in the third dielectric layer. This is achieved by an optical recording disc characterized in that it is contained as a main component.

本発明によれば、記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満である場合にも、これらの記録マークおよびブランク領域を含む記録マーク列により構成されたデータを記録し、再生することができ、記録容量を大幅に増大させることが可能になるとともに、再生耐久性を向上させることができる光記録ディスクを提供することが可能となる。   According to the present invention, even when the length of a recording mark or the length of a blank area between adjacent recording marks is less than the resolution limit, the recording mark row including these recording marks and the blank area is formed. In addition, it is possible to provide an optical recording disc that can record and reproduce data, greatly increase the recording capacity, and improve the reproduction durability.

以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略斜視図であり、図2は、図1に示された光記録ディスクのトラックに沿った断面のうち、Aで示される部分の略拡大断面図である。   FIG. 1 is a schematic perspective view of an optical recording disk according to a preferred embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the track of the optical recording disk shown in FIG. It is a substantially expanded sectional view.

図2に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク1は、支持基板2を備え、支持基板2上に、反射層3と、第三の誘電体層4と、光吸収層5と、中間層6と、第二の誘電体層7と、分解反応層8と、第一の誘電体層9と、光透過層10が、この順に、積層されている。   As shown in FIG. 2, the optical recording disk 1 according to this embodiment includes a support substrate 2, and a reflective layer 3, a third dielectric layer 4, a light absorption layer 5, and The intermediate layer 6, the second dielectric layer 7, the decomposition reaction layer 8, the first dielectric layer 9, and the light transmission layer 10 are laminated in this order.

本実施態様においては、図1に示されるように、光記録ディスク1は、光透過層10側から、レーザビームLが照射されて、データが記録され、記録されたデータが再生されるように構成されている。レーザビームLは、390nmないし420nmの波長λを有し、開口数NAが0.7ないし0.9の対物レンズによって、光記録ディスク1に集光される。   In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the optical recording disk 1 is irradiated with a laser beam L from the light transmission layer 10 side, data is recorded, and recorded data is reproduced. It is configured. The laser beam L is focused on the optical recording disk 1 by an objective lens having a wavelength λ of 390 nm to 420 nm and a numerical aperture NA of 0.7 to 0.9.

支持基板2は、光記録ディスク1に求められる機械的強度を確保するための支持体として、機能する。   The support substrate 2 functions as a support for ensuring the mechanical strength required for the optical recording disk 1.

支持基板2を形成するための材料は、光記録ディスク1の支持体として機能することができれば、とくに限定されるものではない。支持基板2は、たとえば、ガラス、セラミックス、樹脂などによって、形成することができる。これらのうち、成形の容易性の観点から、樹脂が好ましく使用される。このような樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、加工性、光学特性などの点から、ポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂がとくに好ましい。   The material for forming the support substrate 2 is not particularly limited as long as it can function as a support for the optical recording disk 1. The support substrate 2 can be formed of glass, ceramics, resin, or the like, for example. Of these, a resin is preferably used from the viewpoint of ease of molding. Examples of such a resin include polycarbonate resin, olefin resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, polyethylene resin, polypropylene resin, silicone resin, fluorine resin, ABS resin, and urethane resin. Among these, polycarbonate resin and olefin resin are particularly preferable from the viewpoint of processability and optical characteristics.

支持基板2の厚さは、とくに限定されるものではないが、現行の光記録ディスクとの互換性の観点から、支持基板2は、1.0mmないし1.2mmの厚さを有するように形成されることが好ましく、約1.1mmの厚さを有するように形成されることがより好ましい。   The thickness of the support substrate 2 is not particularly limited, but from the viewpoint of compatibility with the current optical recording disk, the support substrate 2 is formed to have a thickness of 1.0 mm to 1.2 mm. More preferably, it is formed to have a thickness of about 1.1 mm.

図2に示されるように、支持基板2の表面には、反射層3が形成される。   As shown in FIG. 2, the reflective layer 3 is formed on the surface of the support substrate 2.

反射層3は、光透過層10を介して、入射したレーザビームLを反射し、再び、光透過層10から出射させる役割を果たす。   The reflection layer 3 plays a role of reflecting the incident laser beam L via the light transmission layer 10 and emitting it from the light transmission layer 10 again.

反射層3を形成するための材料は、レーザビームLを反射することができれば、とくに限定されるものではなく、反射層3は、Au、Ag、Cu、Pt、Al、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、Mg、Zn、Ge、Siからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素を用いて、形成することができる。   The material for forming the reflective layer 3 is not particularly limited as long as it can reflect the laser beam L. The reflective layer 3 can be made of Au, Ag, Cu, Pt, Al, Ti, Cr, Fe, It can be formed using at least one element selected from the group consisting of Co, Ni, Mg, Zn, Ge, and Si.

反射層3の厚さは、とくに限定されるものではないが、反射層3は、5nmないし200nmの厚さを有するように形成されることが好ましい。   The thickness of the reflective layer 3 is not particularly limited, but the reflective layer 3 is preferably formed to have a thickness of 5 nm to 200 nm.

図2に示されるように、光記録ディスク1の反射層3の表面上には、第三の誘電体層4が形成されている。   As shown in FIG. 2, a third dielectric layer 4 is formed on the surface of the reflective layer 3 of the optical recording disk 1.

本実施態様においては、第三の誘電体層4は、支持基板2および反射層3を保護するとともに、その上に形成される光吸収層5を、物理的、化学的に保護する機能を有している。   In the present embodiment, the third dielectric layer 4 has a function of protecting the support substrate 2 and the reflective layer 3 and physically and chemically protecting the light absorption layer 5 formed thereon. doing.

第三の誘電体層4を形成するための誘電体材料は、とくに限定されるものではなく、たとえば、酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの組み合わせを主成分とする誘電体材料によって、第三の誘電体層4を形成することができ、第三の誘電体層4は、好ましくは、Si、Zn、Al、Ta、Ti、Co、Zr、Pb、Ag、Sn、Ca、Ce、V、Cu、Fe、Mgよりなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物によって形成される。第三の誘電体層4を形成するための誘電体材料としては、ZnSとSiOの混合物がとくに好ましく、ZnSとSiOのモル比が80:20であることが、さらに好ましい。 The dielectric material for forming the third dielectric layer 4 is not particularly limited. For example, the dielectric material is mainly composed of oxide, nitride, sulfide, fluoride, or a combination thereof. Depending on the body material, the third dielectric layer 4 can be formed, and the third dielectric layer 4 is preferably Si, Zn, Al, Ta, Ti, Co, Zr, Pb, Ag, Sn, It is formed of an oxide, nitride, sulfide, fluoride, or a composite thereof containing at least one metal selected from the group consisting of Ca, Ce, V, Cu, Fe, and Mg. As a dielectric material for forming the third dielectric layer 4, a mixture of ZnS and SiO 2 is particularly preferable, and a molar ratio of ZnS and SiO 2 is more preferably 80:20.

第三の誘電体層4は、たとえば、第三の誘電体層4の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法によって、反射層3の表面上に形成することができる。気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられる。   The third dielectric layer 4 can be formed on the surface of the reflective layer 3 by, for example, a vapor phase growth method using a chemical species containing a constituent element of the third dielectric layer 4. Examples of the vapor deposition method include a vacuum deposition method and a sputtering method.

第三の誘電体層4の厚さは、とくに限定されるものではないが、10nmないし140nmが好ましい。   The thickness of the third dielectric layer 4 is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 140 nm.

図2に示されるように、光記録ディスク1の第三の誘電体層4の表面上には、光吸収層5が形成されている。   As shown in FIG. 2, a light absorption layer 5 is formed on the surface of the third dielectric layer 4 of the optical recording disk 1.

本実施態様において、光吸収層5は、光記録ディスク1に、記録パワーに設定されたレーザビームLが照射されたときに、レーザビームLを吸収して、発熱し、生成した熱を、後述する分解反応層8に伝達する機能を有している。   In the present embodiment, the light absorption layer 5 absorbs the laser beam L when the optical recording disk 1 is irradiated with the laser beam L set to the recording power, generates heat, and generates generated heat, which will be described later. It has a function of transmitting to the decomposition reaction layer 8.

本実施態様においては、光吸収層5は、光の吸収係数が高く、熱伝導率の低いSbおよびTeの少なくとも一方を含む合金によって形成されている。   In this embodiment, the light absorption layer 5 is formed of an alloy containing at least one of Sb and Te having a high light absorption coefficient and low thermal conductivity.

光吸収層5に含まれるSbおよびTeの少なくとも一方を含む合金としては、(SbTe1ーa1ーb、または{(GeTe)(SbTe1−c1−dで表わされる組成を有していることがとくに好ましい。ここに、元素Mは、SbおよびTeを除く元素を表わし、元素Xは、Sb、TeおよびGeを除く元素を表わす。 Examples of the alloy containing at least one of Sb and Te contained in the light absorption layer 5 include (Sb a Te 1-a ) 1-b M b , or {(GeTe) c (Sb 2 Te 3 ) 1-c } d It is particularly preferable to have a composition represented by X 1-d . Here, the element M represents an element excluding Sb and Te, and the element X represents an element excluding Sb, Te and Ge.

光吸収層5に含まれるSbおよびTeの少なくとも一方を含む合金が、(SbTe1ーa1ーbで表される組成を有しているときは、aおよびbは、0≦a≦1、かつ、0≦b≦0.25であることが好ましい。bが0.25を越えているときは、光の吸収係数が光吸収層5に要求される値よりも低くなり、また、熱伝導性が光吸収層5に要求される値よりも低くなり、好ましくない。 When the alloy containing at least one of Sb and Te contained in the light absorption layer 5 has a composition represented by (Sb a Te 1-a ) 1-b M b , a and b are 0 It is preferable that ≦ a ≦ 1 and 0 ≦ b ≦ 0.25. When b exceeds 0.25, the light absorption coefficient is lower than the value required for the light absorption layer 5, and the thermal conductivity is lower than the value required for the light absorption layer 5. It is not preferable.

元素Mは、とくに限定されるものではないが、In、Ag、Au、Bi、Se、Al、Ge、P、H、Si、C、V、W、Ta、Zn、Mn、Ti、Sn、Pb、Pd、N、Oおよび希土類元素(Sc、Yおよびランタノイド)よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を主成分として含むことが好ましい。   The element M is not particularly limited, but In, Ag, Au, Bi, Se, Al, Ge, P, H, Si, C, V, W, Ta, Zn, Mn, Ti, Sn, Pb It is preferable that at least one element selected from the group consisting of Pd, N, O and rare earth elements (Sc, Y and lanthanoid) is contained as a main component.

一方、光吸収層5に含まれるSbおよびTeの少なくとも一方を含む合金が、{(GeTe)(SbTe1−c1−dで表わされる組成を有しているときは、1/3≦c≦2/3、かつ、0.9≦dであることが好ましい。 On the other hand, when the alloy containing at least one of Sb and Te contained in the light absorption layer 5 has a composition represented by {(GeTe) c (Sb 2 Te 3 ) 1-c } d X 1-d Is preferably 1/3 ≦ c ≦ 2/3 and 0.9 ≦ d.

元素Xは、とくに限定されるものではないが、In、Ag、Au、Bi、Se、Al、P、H、Si、C、V、W、Ta、Zn、Mn、Ti、Sn、Pb、Pd、N、Oおよび希土類元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を主成分として含むことが好ましい。   The element X is not particularly limited, but In, Ag, Au, Bi, Se, Al, P, H, Si, C, V, W, Ta, Zn, Mn, Ti, Sn, Pb, Pd It is preferable that at least one element selected from the group consisting of N, O, and rare earth elements is contained as a main component.

390nmないし420nmの波長λを有するレーザビームLを用いる場合には、元素Mとしては、Ag、In、Geおよび希土類元素よりなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を主成分として含むことが、とくに好ましく、元素Xとしては、Ag、Inおよび希土類元素よりなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を主成分として含むことが、とくに好ましい。   In the case of using a laser beam L having a wavelength λ of 390 nm to 420 nm, it is particularly preferable that the element M contains at least one element selected from the group consisting of Ag, In, Ge and rare earth elements as a main component. It is particularly preferable that the element X contains at least one element selected from the group consisting of Ag, In and rare earth elements as a main component.

光吸収層5は、光吸収層5の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法によって、第三の誘電体層4の表面上に形成することができ、気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられる。   The light absorption layer 5 can be formed on the surface of the third dielectric layer 4 by a vapor phase growth method using a chemical species containing a constituent element of the light absorption layer 5. Examples include vacuum deposition and sputtering.

光吸収層5は、5nmないし100nmの厚さを有していることが好ましい。光吸収層5の厚さが、5nm未満である場合には、光吸収率が低すぎ、一方、光吸収層5の厚さが、100nmを越えると、後述のように、分解反応層8に空洞が形成される際に、光吸収層5が変形し難くなり、好ましくない。   The light absorption layer 5 preferably has a thickness of 5 nm to 100 nm. When the thickness of the light absorption layer 5 is less than 5 nm, the light absorption rate is too low. On the other hand, when the thickness of the light absorption layer 5 exceeds 100 nm, the decomposition reaction layer 8 is formed as described later. When the cavity is formed, the light absorption layer 5 becomes difficult to be deformed, which is not preferable.

図2に示されるように、光吸収層5の表面上には、中間層6が形成されている。   As shown in FIG. 2, an intermediate layer 6 is formed on the surface of the light absorption layer 5.

中間層6は、光記録ディスク1に、再生パワーに設定されたレーザビームLが照射されたときに、光記録ディスク1に記録されたデータが劣化するのを防止する役割を果たす。   The intermediate layer 6 plays a role of preventing the data recorded on the optical recording disk 1 from being deteriorated when the optical recording disk 1 is irradiated with the laser beam L set to the reproduction power.

中間層6は、酸化物、窒化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物を主成分として含む誘電体材料、または、硫化物、あるいは、硫化物を含む複合物を主成分として含む誘電体材料によって、形成することができる。   The intermediate layer 6 is a dielectric material containing an oxide, nitride, fluoride, or a composite thereof as a main component, or a dielectric material containing a sulfide or a composite containing sulfide as a main component. Can be formed.

本実施態様においては、中間層6が、硫化物を除く酸化物、窒化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物を主成分として含む誘電体材料によって形成される場合には、とくに規定はないが、中間層6が、硫化物、あるいは硫化物を含む複合物を主成分として含む誘電体材料によって形成される場合には、中間層6に含まれる硫黄の含有量が、第二の誘電体層7に含まれる硫黄の含有量に比べて、少なくなるように、形成される。   In the present embodiment, there is no particular limitation when the intermediate layer 6 is formed of a dielectric material containing oxide, nitride, fluoride, or a composite thereof excluding sulfide as a main component. However, when the intermediate layer 6 is formed of a dielectric material containing, as a main component, sulfide or a composite containing sulfide, the content of sulfur contained in the intermediate layer 6 is the second dielectric. It is formed so as to be smaller than the content of sulfur contained in the layer 7.

中間層6は、好ましくは、Si、Zn、Al、Ta、Ti、Co、Zr、Pb、Sn、Ca、Ce、V、Cu、Fe、Mg、Yよりなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物によって形成され、光学定数、熱伝導性、機械的性質などの観点から、ZnSとSiOの混合物によって、中間層6が形成されるのが、とくに好ましい。 The intermediate layer 6 is preferably made of at least one metal selected from the group consisting of Si, Zn, Al, Ta, Ti, Co, Zr, Pb, Sn, Ca, Ce, V, Cu, Fe, Mg, and Y. The intermediate layer 6 is formed by a mixture of ZnS and SiO 2 from the viewpoint of optical constant, thermal conductivity, mechanical properties and the like, formed from an oxide, a nitride, a sulfide, a fluoride, or a composite thereof. It is particularly preferred that it be formed.

中間層6の厚さは、とくに限定されるものではないが、中間層6は、2nmないし15nmの厚さを有するように形成されることが好ましい。   The thickness of the intermediate layer 6 is not particularly limited, but the intermediate layer 6 is preferably formed to have a thickness of 2 nm to 15 nm.

中間層6の厚さが、2nm未満である場合には、厚さが薄すぎて、連続膜として形成することが困難となり、一方、中間層6の厚さが、15nmを越えると、光記録ディスク1に記録されたデータを再生するときの再生特性が低下するといった不具合があり、好ましくない。   If the thickness of the intermediate layer 6 is less than 2 nm, it is too thin to be formed as a continuous film. On the other hand, if the thickness of the intermediate layer 6 exceeds 15 nm, optical recording is performed. There is a problem that the reproduction characteristics when reproducing the data recorded on the disk 1 are deteriorated, which is not preferable.

中間層6は、中間層6の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法によって、光吸収層5の表面上に形成することができ、気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられる。   The intermediate layer 6 can be formed on the surface of the light absorption layer 5 by a vapor phase growth method using a chemical species containing the constituent element of the intermediate layer 6. Law.

図2に示されるように、中間層6の表面上には、第二の誘電体層7が形成されている。   As shown in FIG. 2, a second dielectric layer 7 is formed on the surface of the intermediate layer 6.

本実施態様において、第二の誘電体層7は、後述する第一の誘電体層9とともに、後述する分解反応層8を、物理的、化学的に保護する機能を有している。   In the present embodiment, the second dielectric layer 7 has a function of physically and chemically protecting the decomposition reaction layer 8 described later together with the first dielectric layer 9 described later.

第二の誘電体層7を形成するための材料は、たとえば、酸化物、硫化物、窒化物またはこれらの組み合わせを主成分とする誘電体材料によって、第二の誘電体層7を形成することができ、第二の誘電体層7は、好ましくは、Si、Zn、Al、Ta、Ti、Co、Zr、Pb、Ag、Sn、Ca、Ce、V、Cu、Fe、Mgよりなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む硫化物、あるいは、硫化物を主成分として含み、酸化物や窒化物、フッ化物を含む複合物によって形成される。   As a material for forming the second dielectric layer 7, for example, the second dielectric layer 7 is formed of a dielectric material mainly composed of oxide, sulfide, nitride, or a combination thereof. The second dielectric layer 7 is preferably made of Si, Zn, Al, Ta, Ti, Co, Zr, Pb, Ag, Sn, Ca, Ce, V, Cu, Fe, and Mg. It is formed by a sulfide containing at least one selected metal or a composite containing a sulfide as a main component and containing an oxide, a nitride, or a fluoride.

第二の誘電体層7は、第二の誘電体層7の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法によって、光吸収層5の表面上に形成することができ、気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられる。   The second dielectric layer 7 can be formed on the surface of the light absorption layer 5 by a vapor phase growth method using a chemical species containing a constituent element of the second dielectric layer 7. Examples thereof include a vacuum deposition method and a sputtering method.

第二の誘電体層7は、好ましくは、5nmないし100nmの厚さを有するように形成される。   The second dielectric layer 7 is preferably formed to have a thickness of 5 nm to 100 nm.

図2に示されるように、第二の誘電体層7の表面上には、分解反応層8が形成されている。   As shown in FIG. 2, a decomposition reaction layer 8 is formed on the surface of the second dielectric layer 7.

本実施態様においては、分解反応層8は、記録層の一部として用いられ、光記録ディスク1にデータが記録される際に、分解反応層8に、記録マークが形成される。   In this embodiment, the decomposition reaction layer 8 is used as a part of the recording layer, and a recording mark is formed in the decomposition reaction layer 8 when data is recorded on the optical recording disk 1.

本実施態様において、分解反応層8は、白金酸化物PtOxを主成分として含んでいる。   In this embodiment, the decomposition reaction layer 8 contains platinum oxide PtOx as a main component.

本実施態様において、記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満である場合にも、高いC/N比を有する再生信号を得るためには、1.0≦x<3.0であることがより好ましい。   In this embodiment, in order to obtain a reproduction signal having a high C / N ratio even when the length of a recording mark or the length of a blank area between adjacent recording marks is less than the resolution limit, 1 More preferably, 0 ≦ x <3.0.

分解反応層8は、分解反応層8に主成分として含まれる構成元素を含む化学種を用いた気相成長法によって、第二の誘電体層7の表面上に形成することができ、気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられる。   The decomposition reaction layer 8 can be formed on the surface of the second dielectric layer 7 by a vapor phase growth method using a chemical species containing a constituent element contained in the decomposition reaction layer 8 as a main component. Examples of the growth method include a vacuum deposition method and a sputtering method.

分解反応層8は、2nmないし20nmの厚さを有するように形成され、4nmないし20nmの厚さを有するように形成されるのが好ましく、この範囲内であれば、分解反応層8の厚さは格別限定されるものではない。   The decomposition reaction layer 8 is formed so as to have a thickness of 2 nm to 20 nm, and preferably formed so as to have a thickness of 4 nm to 20 nm. Is not particularly limited.

分解反応層8の厚さが薄すぎる場合には、分解反応層8を連続膜として形成できないことがあり、逆に、分解反応層8の厚さが厚すぎる場合には、分解反応層8が変形し難くなり、形成すべき記録マークの長さが短くなるほど、所望の形状の空洞が形成され難くなると考えられるので、これらを考慮すると、分解反応層の厚さは、2nmないし20nmの厚さを有するのが、好ましく、4nmないし20nmの厚さを有するのが、より好ましい。   If the decomposition reaction layer 8 is too thin, the decomposition reaction layer 8 may not be formed as a continuous film. Conversely, if the decomposition reaction layer 8 is too thick, the decomposition reaction layer 8 Since it becomes difficult to deform, and as the length of the recording mark to be formed becomes shorter, it is considered that a cavity having a desired shape is less likely to be formed. In consideration of these, the thickness of the decomposition reaction layer is 2 nm to 20 nm. It is preferable to have a thickness of 4 nm to 20 nm.

図2に示されるように、分解反応層8の表面上には、第一の誘電体層9が形成されている。   As shown in FIG. 2, a first dielectric layer 9 is formed on the surface of the decomposition reaction layer 8.

本実施態様において、第一の誘電体層9は、分解反応層8を物理的、化学的に保護する機能を有している。   In the present embodiment, the first dielectric layer 9 has a function of physically and chemically protecting the decomposition reaction layer 8.

第一の誘電体層9を形成するための材料はとくに限定されるものではないが、たとえば、第一の誘電体層9は、第三の誘電体層4と同様の材料を用いて形成することができる。また、第一の誘電体層9は、第三の誘電体層4と同様に、第一の誘電体層9の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法によって形成することができる。   The material for forming the first dielectric layer 9 is not particularly limited. For example, the first dielectric layer 9 is formed using the same material as that of the third dielectric layer 4. be able to. The first dielectric layer 9 can be formed by a vapor phase growth method using chemical species including the constituent elements of the first dielectric layer 9, similarly to the third dielectric layer 4.

図2に示されるように、第一の誘電体層9の表面上には、光透過層10が形成されている。   As shown in FIG. 2, a light transmission layer 10 is formed on the surface of the first dielectric layer 9.

光透過層10は、レーザビームLが透過する層であり、その表面は、レーザビームLの入射面を形成している。   The light transmission layer 10 is a layer through which the laser beam L is transmitted, and the surface of the light transmission layer 10 forms an incident surface of the laser beam L.

光透過層10は、10μmないし200μmの厚さを有していることが好ましく、より好ましくは、光透過層10は、50μmないし150μmの厚さを有している。   The light transmission layer 10 preferably has a thickness of 10 μm to 200 μm, and more preferably, the light transmission layer 10 has a thickness of 50 μm to 150 μm.

光透過層10を形成するための材料は、光学的に透明で、使用されるレーザビームLの波長領域である390nmないし420nmでの光学吸収および反射が少なく、複屈折が小さい材料であれば、とくに限定されるものではなく、スピンコーティング法などによって、光透過層10が形成される場合には、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂などが、光透過層10を形成するために用いられ、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などの活性エネルギー線硬化型樹脂が、光透過層10を形成するために、とくに好ましく使用される。   The material for forming the light transmission layer 10 is a material that is optically transparent, has little optical absorption and reflection in the wavelength region of 390 nm to 420 nm of the used laser beam L, and has low birefringence. There is no particular limitation, and when the light transmission layer 10 is formed by a spin coating method or the like, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, a thermosetting resin, or the like forms the light transmission layer 10. An active energy ray curable resin such as an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin is particularly preferably used for forming the light transmission layer 10.

光透過層10は、第一の誘電体層9の表面に、光透過性樹脂によって形成されたシートを、接着剤を用いて、接着することによって、形成されてもよい。   The light transmission layer 10 may be formed by adhering a sheet formed of a light transmission resin to the surface of the first dielectric layer 9 using an adhesive.

光透過層10の膜厚は、スピンコーティング法により、光透過層10を形成する場合には、10μmないし200μmが好ましく、光透過性樹脂によって形成されたシートを、接着剤を用いて、第一の誘電体層9の表面に接着して、光透過層10を形成する場合には50μmないし150μmが好ましい。   The thickness of the light transmissive layer 10 is preferably 10 μm to 200 μm when the light transmissive layer 10 is formed by spin coating, and a sheet formed of a light transmissive resin is first bonded using an adhesive. When the light transmitting layer 10 is formed by bonding to the surface of the dielectric layer 9, the thickness is preferably 50 μm to 150 μm.

以上のように構成された光記録ディスク1には、次のようにして、データが記録され、データが再生される。   On the optical recording disk 1 configured as described above, data is recorded and data is reproduced as follows.

図3(a)は、データが記録される前の光記録ディスク1の一部拡大略断面図であり、図3(b)は、データが記録された後の光記録ディスク1の一部拡大略断面図である。   3A is a partially enlarged schematic cross-sectional view of the optical recording disk 1 before data is recorded, and FIG. 3B is a partially enlarged view of the optical recording disk 1 after data is recorded. FIG.

光記録ディスク1にデータを記録するに際しては、光透過層10を介して、光記録ディスク1にレーザビームLが照射される。   When recording data on the optical recording disk 1, the optical recording disk 1 is irradiated with the laser beam L through the light transmission layer 10.

本実施態様においては、データを高い記録密度で記録するため、390nmないし420nmの波長λを有するレーザビームLを、0.7ないし0.9の開口数NAを有する対物レンズによって、光記録ディスク1に集光するように構成されている。   In this embodiment, in order to record data at a high recording density, a laser beam L having a wavelength λ of 390 nm to 420 nm is applied to an optical recording disk 1 by an objective lens having a numerical aperture NA of 0.7 to 0.9. It is comprised so that it may concentrate on.

また、レーザビームLのパワーは、4mWより高く、12mW以下に設定される。ここに、レーザビームLのパワーは、光記録ディスク1の表面におけるレーザビームLのパワーとして、定義される。   The power of the laser beam L is set to be higher than 4 mW and not higher than 12 mW. Here, the power of the laser beam L is defined as the power of the laser beam L on the surface of the optical recording disk 1.

記録用のパワーに設定されたレーザビームLが、光記録ディスク1に照射されると、光吸収層5が光の吸収係数が高いSbおよびTeの少なくとも一方を含む合金によって形成されているため、レーザビームLが照射された光吸収層5の領域が加熱される。   When the optical recording disk 1 is irradiated with the laser beam L set to the recording power, the light absorption layer 5 is formed of an alloy containing at least one of Sb and Te having a high light absorption coefficient. The region of the light absorption layer 5 irradiated with the laser beam L is heated.

光吸収層5で生成された熱は、分解反応層8に伝達され、分解反応層8の温度が上昇する。   The heat generated in the light absorption layer 5 is transferred to the decomposition reaction layer 8 and the temperature of the decomposition reaction layer 8 rises.

分解反応層8に主成分として含まれる白金酸化物は、レーザビームLに対する透過性が高いため、レーザビームLが照射されても、分解反応層8自体は発熱し難く、分解反応層8の温度を、白金酸化物の分解温度以上に上昇させることは困難であるが、本実施態様においては、光の吸収係数が高いSbおよびTeの少なくとも一方を含む合金によって形成された光吸収層5が設けられているから、光吸収層5が発熱し、光吸収層5で生成された熱が、分解反応層8に伝達され、分解反応層8の温度が上昇する。   Since platinum oxide contained as a main component in the decomposition reaction layer 8 has high permeability to the laser beam L, the decomposition reaction layer 8 itself hardly generates heat even when irradiated with the laser beam L, and the temperature of the decomposition reaction layer 8 is low. However, in this embodiment, the light absorption layer 5 formed of an alloy containing at least one of Sb and Te having a high light absorption coefficient is provided. Therefore, the light absorption layer 5 generates heat, the heat generated in the light absorption layer 5 is transmitted to the decomposition reaction layer 8, and the temperature of the decomposition reaction layer 8 rises.

こうして、分解反応層8が、白金酸化物の分解温度以上に加熱され、分解反応層8に主成分として含まれている白金酸化物が、白金と酸素に分解される。   In this way, the decomposition reaction layer 8 is heated to a temperature higher than the decomposition temperature of platinum oxide, and the platinum oxide contained as the main component in the decomposition reaction layer 8 is decomposed into platinum and oxygen.

その結果、図3(b)に示されるように、白金酸化物が分解して、生成された酸素ガスによって、分解反応層8中に、空洞8aが形成され、白金の微粒子8bが空洞8a内に析出する。   As a result, as shown in FIG. 3B, platinum oxide is decomposed, and the generated oxygen gas forms cavities 8a in the decomposition reaction layer 8, and platinum fine particles 8b are formed in the cavities 8a. It precipitates in.

同時に、図3(b)に示されるように、酸素ガスの圧力によって、第二の誘電体層7とともに、分解反応層8が変形する。   At the same time, as shown in FIG. 3B, the decomposition reaction layer 8 is deformed together with the second dielectric layer 7 by the pressure of the oxygen gas.

こうして、空洞8aが形成され、第二の誘電体層7および分解反応層8が変形した領域は、他の領域とは異なる光学特性を有するため、空洞8aが形成され、第二の誘電体層7および分解反応層8が変形した領域によって、記録マークが形成される。   Thus, the cavity 8a is formed, and the region where the second dielectric layer 7 and the decomposition reaction layer 8 are deformed has optical characteristics different from those of other regions. Therefore, the cavity 8a is formed, and the second dielectric layer A recording mark is formed by a region where the 7 and the decomposition reaction layer 8 are deformed.

本実施態様においては、こうして形成される記録マークおよび隣り合った記録マーク間のブランク領域の中には、λ/4NAよりも長さが短いものが含まれ、解像限界未満の記録マーク列が形成される。   In the present embodiment, the recording mark formed in this way and the blank area between adjacent recording marks include those having a length shorter than λ / 4NA, and there are recording mark rows less than the resolution limit. It is formed.

また、本実施態様においては、分解反応層8が、分解温度が高い白金酸化物を主成分として含んでいるから、記録用のパワーに設定されたレーザビームLを照射して、記録マークを形成する際に、レーザビームLが照射された領域から、熱が周囲の分解反応層8に拡散した場合にも、レーザビームが照射された領域以外の領域で、白金酸化物の分解反応が生じることが防止され、したがって、分解反応層8の所望の領域に、空洞8aを形成して、記録マークを形成することが可能になる。   In this embodiment, since the decomposition reaction layer 8 contains platinum oxide having a high decomposition temperature as a main component, the recording mark is formed by irradiating the laser beam L set at the recording power. In this case, even when heat diffuses from the region irradiated with the laser beam L to the surrounding decomposition reaction layer 8, the decomposition reaction of platinum oxide occurs in a region other than the region irradiated with the laser beam. Therefore, the cavity 8a can be formed in a desired region of the decomposition reaction layer 8 to form a recording mark.

さらに、本実施態様においては、白金酸化物が分解して、白金の微粒子8bが、空洞8a内に、析出して、記録マークが形成されるが、白金の微粒子8bの粒径は、分解反応層8に形成すべき空洞8aの大きさよりも小さいから、空洞8a内に析出した白金の微粒子8bによって、空洞8aの形状が悪影響を受け、記録マークの形状に、望ましくない変化が生じることを効果的に防止することが可能になる。   Further, in the present embodiment, platinum oxide is decomposed and platinum fine particles 8b are deposited in the cavities 8a to form recording marks. The particle diameter of the platinum fine particles 8b is determined by the decomposition reaction. Since the size of the cavity 8a to be formed in the layer 8 is smaller, the shape of the cavity 8a is adversely affected by the platinum fine particles 8b deposited in the cavity 8a, and an undesirable change occurs in the shape of the recording mark. Can be prevented.

こうして、光記録ディスク1にデータが記録され、光記録ディスク1に記録されたデータは、以下のようにして、再生される。   In this way, data is recorded on the optical recording disk 1, and the data recorded on the optical recording disk 1 is reproduced as follows.

光記録ディスク1に記録されたデータを再生するに際しては、まず、390nmないし420nmの波長λを有するレーザビームLを、0.7ないし0.9の開口数NAを有する対物レンズによって、光記録ディスク1に集光させる。   When reproducing data recorded on the optical recording disk 1, first, a laser beam L having a wavelength λ of 390 to 420 nm is applied to the optical recording disk by an objective lens having a numerical aperture NA of 0.7 to 0.9. 1 is condensed.

本実施態様においては、データを再生するために光記録ディスク1に照射されるレーザビームLのパワーは、通常よりも高く、1mWないし4mWに設定される。   In this embodiment, the power of the laser beam L applied to the optical recording disk 1 for reproducing data is higher than usual and is set to 1 mW to 4 mW.

本発明者の研究によれば、こうして、390nmないし420nmの波長λを有するレーザビームLを、0.7ないし0.9の開口数NAを有する対物レンズを用いて、光透過層10を介して、光記録ディスク1に集光することによって、記録マーク列を構成する記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満であるときにも、データが再生可能であることが見出されている。   According to the inventor's research, a laser beam L having a wavelength λ of 390 nm to 420 nm is thus passed through the light transmission layer 10 using an objective lens having a numerical aperture NA of 0.7 to 0.9. By collecting light on the optical recording disk 1, data can be reproduced even when the length of the recording mark constituting the recording mark row and the length of the blank area between adjacent recording marks are less than the resolution limit. It has been found possible.

分解反応層8に主成分として含まれている白金酸化物が白金と酸素に分解され、生成された酸素ガスによって、分解反応層8内に空洞8aが形成されるとともに、白金の微粒子8bが空洞8a内に析出し、分解反応層8に記録マークが形成されて、データが記録された場合に、記録マーク列を構成する記録マークの長さや、隣り合う記録マーク間のブランク領域の長さが、解像限界未満であるときでも、データを再生することができるという理由は必ずしも明らかではないが、空洞8a内に析出した白金の微粒子8bに、再生用のレーザビームLが照射されることにより、近接場光が発生し、解像限界がなくなったためか、あるいは、空洞8a内に析出した白金の微粒子8bと照射されたレーザビームLとの相互作用によって、解像限界が小さくなったためではないかと推測される。   Platinum oxide contained as a main component in the decomposition reaction layer 8 is decomposed into platinum and oxygen, and the generated oxygen gas forms cavities 8a in the decomposition reaction layer 8, and platinum fine particles 8b are cavities. 8a, when the recording mark is formed in the decomposition reaction layer 8 and the data is recorded, the length of the recording mark constituting the recording mark row and the length of the blank area between the adjacent recording marks are The reason why data can be reproduced even when the resolution is below the resolution limit is not necessarily clear, but by reproducing the laser beam L for reproduction onto the platinum fine particles 8b deposited in the cavity 8a. The resolution limit is small because the near-field light is generated and the resolution limit disappears, or due to the interaction between the platinum fine particles 8b deposited in the cavity 8a and the irradiated laser beam L. It is presumed that it is the order became clause.

本実施態様においては、分解反応層8は、分解温度が高い白金酸化物を主成分として含んでいるから、高いパワーの再生用レーザビームが照射されて、データが再生される場合にも、白金酸化物が白金と酸素に分解されるおそれがなく、したがって、繰り返し、光記録ディスク1に記録されたデータを再生しても、記録マークの形状が変化することはなく、空洞8aが形成され、また、記録マークが形成された領域以外の領域に、新たに空洞が形成されることもないから、光記録ディスク1の再生耐久性を向上させることが可能になる。   In the present embodiment, the decomposition reaction layer 8 contains platinum oxide having a high decomposition temperature as a main component, so that even when data is reproduced by irradiation with a high-power reproducing laser beam, platinum is also used. There is no possibility that the oxide is decomposed into platinum and oxygen. Therefore, even if data recorded on the optical recording disk 1 is reproduced repeatedly, the shape of the recording mark does not change, and the cavity 8a is formed. In addition, since no new cavity is formed in a region other than the region where the recording mark is formed, it is possible to improve the reproduction durability of the optical recording disk 1.

また、本実施形態においては、光吸収層5と第二の誘電体層7との間に、硫黄を除く元素を主成分として含む誘電体材料、または、第二の誘電体層7に含まれる硫黄の含有量に比して少ない含有量の硫黄を含む誘電体材料を主成分とする中間層6が形成されており、本発明者の研究によれば、かかる構成を有する場合には、高いパワーの再生用レーザビームが繰り返し照射されて、複数回にわたって、データが再生される場合においても、光記録ディスク1に記録されたデータを再生したときの再生信号の信号特性が悪化するのを効果的に抑制することができるのが見出されている。   Further, in the present embodiment, a dielectric material containing an element other than sulfur as a main component or a second dielectric layer 7 is included between the light absorption layer 5 and the second dielectric layer 7. The intermediate layer 6 mainly composed of a dielectric material containing sulfur with a small content compared to the content of sulfur is formed, and according to the study of the present inventor, the intermediate layer 6 is high when having such a configuration. Even when data is reproduced a plurality of times by repeatedly irradiating with a power reproducing laser beam, the signal characteristics of the reproduction signal when the data recorded on the optical recording disk 1 is reproduced are deteriorated. It has been found that it can be suppressed.

硫黄を除く元素を主成分として含む誘電体材料、または、第二の誘電体層7に含まれる硫黄の含有量に比して少ない含有量の硫黄を含む誘電体材料を主成分とする中間層6を、光吸収層5と第二の誘電体層7の間に形成したときに、光記録ディスク1に記録されたデータを再生したときの再生信号の信号特性が悪化するのを抑制することができる理由は、必ずしも明らかではないが、かかる構成を有する中間層6を、光吸収層5と第二の誘電体層7との間に形成することにより、高いパワーの再生用レーザビームが照射されて、光吸収層5が加熱されたときにも、第二の誘電体層7に含まれる硫黄が、光吸収層5に含まれる元素と混合することがなく、その結果、光吸収層5の状態の変化が光学的特性に与える悪影響を排除することができたためではないかと推測される。   Dielectric material containing as a main component an element excluding sulfur, or an intermediate layer containing as a main component a dielectric material containing a small amount of sulfur compared to the content of sulfur contained in the second dielectric layer 7 When 6 is formed between the light absorption layer 5 and the second dielectric layer 7, it is possible to suppress deterioration in the signal characteristics of the reproduction signal when the data recorded on the optical recording disk 1 is reproduced. The reason why the laser beam can be produced is not necessarily clear, but the intermediate layer 6 having such a configuration is formed between the light absorption layer 5 and the second dielectric layer 7 so that a high-power reproducing laser beam is irradiated. Even when the light absorption layer 5 is heated, the sulfur contained in the second dielectric layer 7 does not mix with the elements contained in the light absorption layer 5, and as a result, the light absorption layer 5. The adverse effect on the optical characteristics of the change of the state of the can was eliminated It is presumed that it is the fit.

したがって、本実施態様によれば、光記録ディスク1の再生耐久性をさらに向上させることが可能となる。   Therefore, according to this embodiment, the reproduction durability of the optical recording disk 1 can be further improved.

図4は、本発明の別の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略斜視図であり、図5は、図2に示された光記録ディスクのトラックに沿った断面のうち、Bで示される部分の略拡大断面図である。   4 is a schematic perspective view of an optical recording disk according to another preferred embodiment of the present invention, and FIG. 5 is indicated by B in the cross section along the track of the optical recording disk shown in FIG. It is a substantially expanded sectional view of a part.

図5に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク20は、支持基板2を備え、支持基板2上に、反射層3と、第三の誘電体層4と、中間層16と、光吸収層5と、第二の誘電体層7と、分解反応層8と、第一の誘電体層9と、光透過層10が、この順に、積層されており、図1および図2に示された光記録ディスク1とは異なり、第三の誘電体層4と光吸収層5との間に、中間層16が形成されている。   As shown in FIG. 5, the optical recording disk 20 according to this embodiment includes a support substrate 2, and on the support substrate 2, the reflective layer 3, the third dielectric layer 4, the intermediate layer 16, The light absorption layer 5, the second dielectric layer 7, the decomposition reaction layer 8, the first dielectric layer 9, and the light transmission layer 10 are laminated in this order. Unlike the optical recording disk 1 shown, an intermediate layer 16 is formed between the third dielectric layer 4 and the light absorption layer 5.

中間層16は、図2に示される中間層6と同様に、光記録ディスク20に、再生パワーに設定されたレーザビームLが照射されたときに、光記録ディスク20に記録されたデータが劣化するのを防止する役割を果たす。   Similar to the intermediate layer 6 shown in FIG. 2, the intermediate layer 16 deteriorates the data recorded on the optical recording disk 20 when the optical recording disk 20 is irradiated with the laser beam L set to the reproduction power. It plays a role to prevent it.

中間層16は、図2に示される中間層6と同様の誘電体材料によって、形成することができ、硫化物を除く酸化物、窒化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物を主成分として含む誘電体材料によって形成される場合には、とくに規定はないが、硫化物、あるいは硫化物を含む複合物を主成分として含む誘電体材料によって形成される場合には、中間層16に含まれる硫黄の含有量が、第三の誘電体層4に含まれる硫黄の含有量に比べて、少なくなるように、形成される。   The intermediate layer 16 can be formed of the same dielectric material as that of the intermediate layer 6 shown in FIG. 2, and is mainly composed of oxide, nitride, fluoride, or a composite thereof except sulfide. In the case of being formed of a dielectric material containing, there is no particular limitation, but in the case of being formed of a dielectric material containing a sulfide or a composite containing sulfide as a main component, it is included in the intermediate layer 16. The sulfur content is formed so as to be smaller than the sulfur content contained in the third dielectric layer 4.

中間層16の厚さは、とくに限定されるものではないが、中間層16は、2nm以上の厚さを有するように形成されることが好ましい。   The thickness of the intermediate layer 16 is not particularly limited, but the intermediate layer 16 is preferably formed to have a thickness of 2 nm or more.

中間層16の厚さが、2nm未満である場合には、厚さが薄すぎて、連続膜として形成することが困難となるため、好ましくない。   When the thickness of the intermediate layer 16 is less than 2 nm, it is not preferable because the thickness is too thin and it is difficult to form the continuous layer 16 as a continuous film.

中間層16は、中間層16の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法によって、第三の誘電体層4の表面上に形成することができ、気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法などが挙げられる。   The intermediate layer 16 can be formed on the surface of the third dielectric layer 4 by a vapor phase growth method using a chemical species containing a constituent element of the intermediate layer 16. Method, sputtering method and the like.

本発明者の研究によれば、硫黄を除く元素を主成分として含む誘電体材料、または、第三の誘電体層4に含まれる硫黄の含有量に比して少ない含有量の硫黄を含む誘電体材料を主成分とする中間層16を、第三の誘電体層4と光吸収層5の間に形成した場合には、高いパワーの再生用レーザビームが繰り返し照射されて、複数回にわたって、データが再生される場合にも、光記録ディスク20に記録されたデータを再生したときの再生信号の信号特性が悪化するのを効果的に抑制できることが見出されており、したがって、本実施態様によれば、光記録ディスク20の再生耐久性を向上させることが可能となる。   According to the inventor's research, a dielectric material containing an element excluding sulfur as a main component, or a dielectric containing a small amount of sulfur compared to the content of sulfur contained in the third dielectric layer 4 When the intermediate layer 16 mainly composed of the body material is formed between the third dielectric layer 4 and the light absorption layer 5, the high-power reproducing laser beam is repeatedly irradiated, and a plurality of times, It has been found that even when data is reproduced, it is possible to effectively suppress the deterioration of the signal characteristics of the reproduced signal when the data recorded on the optical recording disk 20 is reproduced. According to this, it becomes possible to improve the reproduction durability of the optical recording disk 20.

以下、本発明の効果をより明瞭なものとするため、実施例を掲げる。   Examples are given below to clarify the effects of the present invention.

実施例1
1.1mmの厚さと120mmの直径を有するポリカーボネート基板をスパッタリング装置にセットし、ポリカーボネート基板上に、Ag、PdおよびCuを含み、20nmの厚さを有する反射層を、スパッタリング法により形成した。
Example 1
A polycarbonate substrate having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm was set in a sputtering apparatus, and a reflective layer containing Ag, Pd and Cu and having a thickness of 20 nm was formed on the polycarbonate substrate by a sputtering method.

次いで、反射層の表面に、ZnSとSiOの混合物をターゲットとして、スパッタリング法により、100nmの厚さを有する第三の誘電体層を形成した。ZnSとSiOの混合物ターゲットとしては、ZnSとSiOのモル比が80:20のターゲットを使用した。 Next, a third dielectric layer having a thickness of 100 nm was formed on the surface of the reflective layer by sputtering using a mixture of ZnS and SiO 2 as a target. As the mixture of ZnS and SiO 2, the molar ratio of ZnS and SiO 2 was used target 80:20.

次いで、第三の誘電体層の表面に、Sb、Teをターゲットとして、スパッタリング法により、20nmの厚さを有する光吸収層を形成した。光吸収層の組成は、原子比で、Sb74Te26とした。 Next, a light absorption layer having a thickness of 20 nm was formed on the surface of the third dielectric layer by sputtering using Sb and Te as targets. The composition of the light absorption layer was Sb 74 Te 26 in terms of atomic ratio.

次いで、光吸収層の表面に、ZnSとSiOの混合物よりなるターゲットを用いて、スパッタリング法により、5nmの厚さを有する中間層を形成した。ZnSとSiOの混合物ターゲットとしては、ZnSとSiOのモル比が50:50のターゲットを使用した。 Next, an intermediate layer having a thickness of 5 nm was formed on the surface of the light absorption layer by sputtering using a target made of a mixture of ZnS and SiO 2 . As the mixture of ZnS and SiO 2, the molar ratio of ZnS and SiO 2 was used target 50:50.

次いで、中間層の表面に、ZnSとSiOの混合物よりなるターゲットを用いて、スパッタリング法により、60nmの厚さを有する第二の誘電体層を形成した。ZnSとSiOの混合物ターゲットとしては、ZnSとSiOのモル比が80:20のターゲットを使用した。 Next, a second dielectric layer having a thickness of 60 nm was formed on the surface of the intermediate layer by sputtering using a target made of a mixture of ZnS and SiO 2 . As the mixture of ZnS and SiO 2, the molar ratio of ZnS and SiO 2 was used target 80:20.

次いで、第二の誘電体層の表面に、Arガスと酸素ガスとの混合ガスをスパッタリングガスとして用い、Ptターゲットを用いて、スパッタリング法により、白金酸化物を主成分として含み、4nmの厚さを有する分解反応層を形成した。   Next, on the surface of the second dielectric layer, a mixed gas of Ar gas and oxygen gas is used as a sputtering gas, and a Pt target is used to form platinum oxide as a main component by sputtering using a Pt target. A decomposition reaction layer having was formed.

最後に、分解反応層の表面に、ZnSとSiOの混合物よりなるターゲットを用いて、スパッタリング法により、95nmの厚さを有する第一の誘電体層を形成した。ZnSとSiOの混合物ターゲットとしては、ZnSとSiOのモル比が80:20のターゲットを使用した。 Finally, a first dielectric layer having a thickness of 95 nm was formed on the surface of the decomposition reaction layer by sputtering using a target made of a mixture of ZnS and SiO 2 . As the mixture of ZnS and SiO 2, the molar ratio of ZnS and SiO 2 was used target 80:20.

こうして、光記録ディスクサンプル#1を作製した。   Thus, an optical recording disk sample # 1 was produced.

次いで、中間層を形成せず、光吸収層の表面上に、第二の誘電体層を形成する点、および第一の誘電体層の厚さを75nmにする点を除き、光記録ディスクサンプル#1と同様にして、光記録ディスク比較サンプル#1を作製した。   Next, the optical recording disk sample is formed except that the second dielectric layer is formed on the surface of the light absorption layer without forming the intermediate layer and the thickness of the first dielectric layer is set to 75 nm. In the same manner as in # 1, an optical recording disk comparison sample # 1 was produced.

次いで、光記録ディスクサンプル#1を、パルステック工業株式会社製の光記録ディスク評価装置「DDU1000」(商品名)にセットし、波長が405nmの青色レーザビームを、記録用レーザビームとして用い、開口数NAが0.85の対物レンズを用いて、レーザビームを、第一の誘電体層を介して、集光し、解像限界である120nm未満の75nmの記録マークと、75nmのブランク領域との繰り返しからなる記録マーク列、および解像限界よりも長い300nmの記録マークと、300nmブランク領域との繰り返しからなる記録マーク列を、それぞれ、以下の条件で、光記録ディスクサンプル#1の分解反応層に、形成した。ここに、記録パワーは5.0mWに設定した。   Next, the optical recording disk sample # 1 was set in an optical recording disk evaluation apparatus “DDU1000” (trade name) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd., and a blue laser beam having a wavelength of 405 nm was used as a recording laser beam. Using an objective lens having a numerical NA of 0.85, the laser beam is condensed through the first dielectric layer, and a resolution mark of less than 120 nm of a 75 nm recording mark, a 75 nm blank area, Of the optical recording disk sample # 1 under the following conditions: a recording mark string consisting of repetition of the recording mark and a recording mark string consisting of repetition of the 300 nm recording mark longer than the resolution limit and the 300 nm blank area. Formed into layers. Here, the recording power was set to 5.0 mW.

記録線速度:4.9m/s
記録方式:オングルーブ記録
記録マーク列の形成後、同じ光記録ディスク評価装置を用いて、光記録ディスクサンプル#1に記録したデータを再生し、再生信号のC/N比を測定するととともに、再生パワーに設定されたレーザビームを記録マーク列に照射したときの反射率を測定した。ここに、レーザビームの再生パワーは2.0mWに設定し、再生線速度は4.9m/sに設定した。
Recording linear velocity: 4.9 m / s
Recording method: On-groove recording After the formation of the recording mark row, the same optical recording disk evaluation apparatus is used to reproduce the data recorded on the optical recording disk sample # 1, and to measure and reproduce the C / N ratio of the reproduction signal. The reflectance was measured when the recording mark array was irradiated with a laser beam set to power. Here, the reproduction power of the laser beam was set to 2.0 mW, and the reproduction linear velocity was set to 4.9 m / s.

75nmの記録マーク列を形成して記録したデータを再生したときの再生信号のC/N比の測定結果は、図6の曲線Aに示されており、300nmの記録マーク列を形成して記録したデータを再生したときの再生信号のC/N比の測定結果は、図7の曲線Aに示されている。   The measurement result of the C / N ratio of the reproduction signal when reproducing the data recorded by forming the record mark row of 75 nm is shown by the curve A in FIG. 6, and the record mark row of 300 nm is formed and recorded. The measurement result of the C / N ratio of the reproduced signal when the reproduced data is reproduced is shown by a curve A in FIG.

次いで、同じ光記録ディスク評価装置を用いて、光記録ディスクサンプル#1に記録したデータを、1000回まで繰り返し再生し、再生回数が1000回のときの再生信号のC/N比および反射率を測定するとともに、測定した反射率をもとに、反射率の変化を算出した。ここに、反射率の変化は、光記録ディスクサンプル#1に記録したデータを1回再生したときの反射率を1.0とした場合の記録したデータを1000回再生したときの反射率と、記録したデータを1回再生したときの反射率との比によって、規定した。   Next, using the same optical recording disk evaluation apparatus, the data recorded on the optical recording disk sample # 1 is repeatedly reproduced up to 1000 times, and the C / N ratio and reflectance of the reproduction signal when the number of reproductions is 1000 times are obtained. While measuring, the change in reflectance was calculated based on the measured reflectance. Here, the change in the reflectance is the reflectance when the recorded data is reproduced 1000 times when the reflectance when the data recorded on the optical recording disk sample # 1 is reproduced once is 1.0. It was defined by the ratio to the reflectance when the recorded data was reproduced once.

75nmの記録マーク列を形成して記録したデータを1000回再生したときの再生信号のC/N比の測定結果は、図6の曲線Aに示されており、300nmの記録マーク列を形成して記録したデータを1000回再生したときの再生信号のC/N比の測定結果は、図7の曲線Aに示されている。   The measurement result of the C / N ratio of the reproduction signal when the data recorded by forming the record mark row of 75 nm is reproduced 1000 times is shown by the curve A in FIG. 6, and the record mark row of 300 nm is formed. The measurement result of the C / N ratio of the reproduced signal when the recorded data is reproduced 1000 times is shown by a curve A in FIG.

また、75nmの記録マーク列を形成して記録したデータを1000回再生したときの反射率の変化は、図8の曲線Aに示されており、300nmの記録マーク列を形成して記録したデータを1000回再生したときの反射率の変化は、図9の曲線Aに示されている。   The change in reflectance when the data recorded with the 75 nm recording mark row is reproduced 1000 times is shown by the curve A in FIG. 8, and the data recorded with the 300 nm recording mark row recorded. The change in reflectance when 1000 is reproduced 1000 times is shown by curve A in FIG.

次いで、同じ光記録ディスク評価装置を用いて、光記録ディスクサンプル#1の分解反応層に75nmの記録マーク列を形成して記録したデータを、10000回まで繰り返し再生し、再生回数が、2000回、4000回、7000回および10000回のときの再生信号のC/N比および反射率を測定するとともに、反射率の変化を算出した。   Next, using the same optical recording disk evaluation apparatus, data recorded by forming a record mark string of 75 nm on the decomposition reaction layer of the optical recording disk sample # 1 was repeatedly reproduced up to 10,000 times, and the number of reproductions was 2000 times. The C / N ratio and the reflectance of the reproduction signal at 4000 times, 7000 times, and 10,000 times were measured, and the change in the reflectance was calculated.

測定結果および算出結果は、それぞれ、図6の曲線A、図7の曲線Aに示されている。   The measurement result and the calculation result are shown by a curve A in FIG. 6 and a curve A in FIG. 7, respectively.

次いで、光記録ディスクサンプル#1の分解反応層に300nmの記録マーク列を形成して記録したデータを、4000回まで繰り返し再生し、再生回数が、2000回および4000回のときの再生信号のC/N比および反射率を測定するとともに、反射率の変化を算出した。   Next, data recorded by forming a 300 nm recording mark row in the decomposition reaction layer of the optical recording disk sample # 1 is repeatedly reproduced up to 4000 times, and the reproduction signal C when the number of reproductions is 2000 times and 4000 times. The / N ratio and the reflectance were measured, and the change in reflectance was calculated.

測定結果および算出結果は、それぞれ、図8の曲線A、図9の曲線Aに示されている。
次いで、光記録ディスク比較サンプル#1を、同じ光記録ディスク評価装置にセットし、光記録ディスクサンプル#1と同様に、分解反応層に、75nmおよび300nmの記録マーク列を形成した。ここに、レーザビームの記録パワーは、5.0mWに設定した。
The measurement result and the calculation result are shown by a curve A in FIG. 8 and a curve A in FIG. 9, respectively.
Next, the optical recording disk comparison sample # 1 was set in the same optical recording disk evaluation apparatus, and recording mark rows of 75 nm and 300 nm were formed in the decomposition reaction layer in the same manner as the optical recording disk sample # 1. Here, the recording power of the laser beam was set to 5.0 mW.

次いで、同じ光記録ディスク評価装置を用いて、光記録ディスクサンプル#1の分解反応層に75nmの記録マーク列を形成して記録したデータを、10000回まで繰り返し再生し、再生回数が、2000回、4000回、7000回および10000回のときの再生信号のC/N比および反射率を測定するとともに、反射率の変化を算出した。ここに、レーザビームの再生パワーは2.0mWに設定し、再生線速度は4.9m/sに設定した。   Next, using the same optical recording disk evaluation apparatus, data recorded by forming a record mark string of 75 nm on the decomposition reaction layer of the optical recording disk sample # 1 was repeatedly reproduced up to 10,000 times, and the number of reproductions was 2000 times. The C / N ratio and the reflectance of the reproduction signal at 4000 times, 7000 times, and 10,000 times were measured, and the change in the reflectance was calculated. Here, the reproduction power of the laser beam was set to 2.0 mW, and the reproduction linear velocity was set to 4.9 m / s.

測定結果および算出結果は、それぞれ、図6の曲線B、図7の曲線Bに示されている。
次いで、光記録ディスク比較サンプル#1の分解反応層に300nmの記録マーク列を形成して記録したデータを、4000回まで繰り返し再生し、再生回数が、2000回および4000回のときの再生信号のC/N比および反射率を測定するとともに、反射率の変化を算出した。
The measurement result and the calculation result are shown by a curve B in FIG. 6 and a curve B in FIG. 7, respectively.
Next, data recorded by forming a 300 nm recording mark row in the decomposition reaction layer of the optical recording disk comparative sample # 1 is repeatedly reproduced up to 4000 times, and the reproduction signal when the number of reproductions is 2000 times and 4000 times is reproduced. While measuring the C / N ratio and the reflectance, the change in reflectance was calculated.

測定結果および算出結果は、それぞれ、図8の曲線B、図9の曲線Bに示されている。   The measurement result and the calculation result are shown by a curve B in FIG. 8 and a curve B in FIG. 9, respectively.

図6から明らかなように、解像限界未満の記録マーク列を形成してデータを記録し、記録したデータを複数回にわたって繰り返し再生したときには、中間層が形成されていない光記録ディスク比較サンプル#1が、再生回数が増加するのに伴って、再生信号のC/N比が低下していったのに対し、光吸収層と第二の誘電体層との間に、中間層を設けた光記録ディスクサンプル#1においては、再生回数を増加させても、再生信号のC/Nがほとんど変化しないことが認められた。   As is apparent from FIG. 6, when recording data is recorded by forming a recording mark string less than the resolution limit, and the recorded data is repeatedly reproduced a plurality of times, the optical recording disk comparison sample # in which no intermediate layer is formed In contrast, the C / N ratio of the reproduction signal decreased as the number of reproductions increased, whereas an intermediate layer was provided between the light absorption layer and the second dielectric layer. In the optical recording disk sample # 1, it was recognized that the C / N of the reproduction signal hardly changed even when the number of reproductions was increased.

また、図8から明らかなように、分解反応層に形成した解像限界未満の記録マーク列に、再生用のレーザビームを複数回にわたって繰り返し照射したときには、光記録ディスクサンプル#1においては、光記録ディスク比較サンプル#1に比べて、反射率が低下する勾配が緩やかであり、高い再生耐久性を有することが認められた。   As is clear from FIG. 8, when the reproducing laser beam is repeatedly irradiated a plurality of times to the recording mark row formed in the decomposition reaction layer and less than the resolution limit, the optical recording disc sample # 1 Compared to the recording disk comparative sample # 1, the gradient at which the reflectance decreases is gentle, and it was confirmed that the recording disk had high reproduction durability.

さらに、図7および図9から明らかなように、解像限界より長い記録マーク列を形成してデータを記録し、記録したデータを複数回にわたって繰り返し再生したときには、光記録ディスクサンプル#1においては、再生信号のC/N比が低下する勾配および反射率が低下する勾配がともに、光記録ディスク比較サンプル#1に比べて、緩やかであり、解像限界より長い記録マークを形成して記録したデータを、複数回にわたって繰り返し再生したときにも、高い再生耐久性を有することが認められた。   Further, as apparent from FIGS. 7 and 9, when data is recorded by forming a record mark string longer than the resolution limit, and the recorded data is reproduced repeatedly over a plurality of times, the optical recording disk sample # 1 Both the gradient at which the C / N ratio of the reproduced signal decreases and the gradient at which the reflectance decreases are lower than those of the optical recording disk comparison sample # 1, and recording was performed by forming recording marks longer than the resolution limit. It was confirmed that the data had high reproduction durability even when the data was repeatedly reproduced multiple times.

実施例2
1.1mmの厚さと120mmの直径を有するポリカーボネート基板をスパッタリング装置にセットし、ポリカーボネート基板上に、Ag、PdおよびCuを含み、40nmの厚さを有する反射層を、スパッタリング法により形成した。
Example 2
A polycarbonate substrate having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm was set in a sputtering apparatus, and a reflective layer containing Ag, Pd and Cu and having a thickness of 40 nm was formed on the polycarbonate substrate by a sputtering method.

次いで、反射層の表面上に、光記録ディスクサンプル#1と同様にして、第三の誘電体層および光吸収層を、順次、形成した。   Next, a third dielectric layer and a light absorbing layer were sequentially formed on the surface of the reflective layer in the same manner as in the optical recording disk sample # 1.

次いで、光吸収層の表面上に、Alターゲットを用いて、スパッタリング法により、5nmの厚さを有する中間層を形成した。 Next, an intermediate layer having a thickness of 5 nm was formed on the surface of the light absorption layer by sputtering using an Al 2 O 3 target.

次いで、中間層の表面上に、光記録ディスクサンプル#1と同様にして、第二の誘電体層および分解反応層を、順次、形成した。   Next, a second dielectric layer and a decomposition reaction layer were sequentially formed on the surface of the intermediate layer in the same manner as in the optical recording disk sample # 1.

最後に、分解反応層の表面に、ZnSとSiOの混合物よりなるターゲットを用いて、スパッタリング法により、90nmの厚さを有する第一の誘電体層を形成した。ZnSとSiOの混合物ターゲットとしては、ZnSとSiOのモル比が80:20のターゲットを使用した。 Finally, a first dielectric layer having a thickness of 90 nm was formed on the surface of the decomposition reaction layer by sputtering using a target made of a mixture of ZnS and SiO 2 . As the mixture of ZnS and SiO 2, the molar ratio of ZnS and SiO 2 was used target 80:20.

こうして、光記録ディスクサンプル#2を作製した。   Thus, an optical recording disk sample # 2 was produced.

次いで、以下のようにして、光記録ディスクサンプル#3を作製した。   Next, an optical recording disk sample # 3 was produced as follows.

光記録ディスクサンプル#2と同様にして、ポリカーボネート基板上に、反射層および第三の誘電体層を、順次、形成した。   In the same manner as in the optical recording disk sample # 2, a reflective layer and a third dielectric layer were sequentially formed on a polycarbonate substrate.

次いで、第三の誘電体層の表面に、Alターゲットを用いて、スパッタリング法により、5nmの厚さを有する中間層を形成した。 Next, an intermediate layer having a thickness of 5 nm was formed on the surface of the third dielectric layer by a sputtering method using an Al 2 O 3 target.

次いで、中間層の表面上に、光記録ディスクサンプル#1と同様にして、光吸収層、第二の誘電体層および分解反応層を、順次、形成し、最後に、光記録ディスクサンプル#2と同様にして、90nmの厚さを有する第一の誘電体層を形成した。   Next, a light absorption layer, a second dielectric layer, and a decomposition reaction layer are sequentially formed on the surface of the intermediate layer in the same manner as in the optical recording disk sample # 1, and finally, the optical recording disk sample # 2 In the same manner as described above, a first dielectric layer having a thickness of 90 nm was formed.

こうして、光記録ディスサンプル#3を作製した。   Thus, an optical recording disc sample # 3 was produced.

次いで、光吸収層の表面上に、中間層を形成せず、第二の誘電体層を形成する点、および第一の誘電体層の厚さを70nmにする点を除き、光記録ディスクサンプル#2と同様にして、光記録ディスク比較サンプル#2を作製した。   Next, an optical recording disk sample is formed except that the intermediate layer is not formed on the surface of the light absorption layer, the second dielectric layer is formed, and the thickness of the first dielectric layer is set to 70 nm. In the same manner as in # 2, an optical recording disk comparison sample # 2 was produced.

次いで、実施例1で用いた光記録ディスク評価装置と同じ光記録ディスク評価装置に、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2を、順次、セットし、実施例1と同様にして、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2の分解反応層に、75nmの記録マークと、75nmのブランク領域との繰り返しからなる記録マーク列、および300nmの記録マークと、300nmブランク領域との繰り返しからなる記録マーク列を、それぞれ、形成した。ここに、レーザビームの記録パワーは、7.0mWに設定し、記録線速度は、4.9m/sに設定した。   Next, optical recording disk samples # 2 and # 3 and optical recording disk comparison sample # 2 are sequentially set in the same optical recording disk evaluation apparatus as the optical recording disk evaluation apparatus used in the first embodiment. In the same manner as described above, in the decomposition reaction layers of the optical recording disk samples # 2 and # 3 and the optical recording disk comparison sample # 2, a recording mark string composed of a repetition of a 75 nm recording mark and a 75 nm blank area, and 300 nm Each of the recording mark rows formed by repeating the recording mark and the 300 nm blank region was formed. Here, the recording power of the laser beam was set to 7.0 mW, and the recording linear velocity was set to 4.9 m / s.

次いで、同じ光記録ディスク評価装置を用いて、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2に記録したデータを、10000回まで繰り返し再生し、再生回数が、1回、2000回、4000回、7000回および10000回のときの再生信号のC/N比および反射率を測定するとともに、反射率の変化を算出した。ここに、レーザビームの再生パワーは2.4mWに設定し、再生線速度は4.9m/sに設定した。   Next, using the same optical recording disk evaluation apparatus, the data recorded in the optical recording disk samples # 2 and # 3 and the optical recording disk comparison sample # 2 are repeatedly reproduced up to 10,000 times, and the number of times of reproduction is 1, The C / N ratio and reflectance of the reproduced signal at 2000 times, 4000 times, 7000 times, and 10,000 times were measured, and the change in reflectance was calculated. Here, the reproduction power of the laser beam was set to 2.4 mW, and the reproduction linear velocity was set to 4.9 m / s.

光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2の分解反応層に、75nmの記録マーク列を形成して記録したデータを10000回再生したときの再生信号のC/N比の測定結果は、それぞれ、図10の曲線C、曲線D、曲線Eに示されており、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2の分解反応層に、300nmの記録マーク列を形成して記録したデータを10000回再生したときの再生信号のC/N比の測定結果は、それぞれ、図11の曲線C、曲線D、曲線Eに示されている。   C / N ratio of reproduced signal when data recorded by forming a record mark row of 75 nm in the decomposition reaction layer of optical recording disk samples # 2 and # 3 and optical recording disk comparison sample # 2 is reproduced 10,000 times The measurement results are shown in curve C, curve D, and curve E in FIG. 10, respectively. In the decomposition reaction layers of optical recording disk samples # 2 and # 3 and optical recording disk comparison sample # 2, 300 nm The measurement results of the C / N ratio of the reproduction signal when the data recorded by forming the recording mark row is reproduced 10,000 times are shown by a curve C, a curve D, and a curve E in FIG.

また、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2の分解反応層に、75nmの記録マーク列を形成して記録したデータを10000回再生したときの反射率の変化は、それぞれ、図12の曲線C、曲線D、曲線Eに示されており、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2の分解反応層に、300nmの記録マーク列を形成して記録したデータを10000回再生したときの反射率の変化は、それぞれ、図13の曲線C、曲線D、曲線Eに示されている。   The change in reflectance when data recorded by forming a record mark row of 75 nm on the decomposition reaction layer of the optical recording disk samples # 2 and # 3 and the optical recording disk comparison sample # 2 is reproduced 10,000 times. 12 are shown in curve C, curve D and curve E in FIG. 12, respectively, and a 300 nm recording mark row is formed on the decomposition reaction layers of optical recording disk samples # 2 and # 3 and optical recording disk comparison sample # 2. The change in reflectance when the formed and recorded data is reproduced 10,000 times is shown by curve C, curve D, and curve E in FIG.

図10から明らかなように、解像限界未満の記録マーク列を形成してデータを記録し、記録したデータを複数回にわたって繰り返し再生したときには、中間層が形成されていない光記録ディスク比較サンプル#2が、再生回数が2000回を超えると、再生信号のC/N比が著しく低下したのに対し、光吸収層と第二の誘電体層との間に、中間層が形成された光記録ディスクサンプル#2、および第三の誘電体層と光吸収層との間に、中間層が形成された光記録ディスクサンプル#3においては、再生回数を増加させても、再生信号のC/Nがほとんど変化しないことが認められた。   As is clear from FIG. 10, when recording data is recorded by forming a record mark row less than the resolution limit, and the recorded data is repeatedly reproduced a plurality of times, the optical recording disc comparison sample # in which no intermediate layer is formed However, when the number of reproductions exceeds 2000, the C / N ratio of the reproduction signal is remarkably lowered, whereas the optical recording in which an intermediate layer is formed between the light absorption layer and the second dielectric layer. In the disk sample # 2 and the optical recording disk sample # 3 in which the intermediate layer is formed between the third dielectric layer and the light absorption layer, the C / N of the reproduction signal is increased even if the number of reproductions is increased. Was found to change little.

また、図12から明らかなように、分解反応層に形成した解像限界未満の記録マーク列に、再生用のレーザビームを複数回にわたって繰り返し照射したときには、光記録ディスクサンプル#2においては、反射率が低下する勾配が最も緩やかであり、最も高い再生耐久性を有することが認められ、また、光記録ディスクサンプル#3においても、光記録ディスクサンプル#2に次いで、反射率が低下する勾配が緩やかであり、高い再生耐久性を有することが認められた。   Further, as apparent from FIG. 12, when the recording mark row formed in the decomposition reaction layer and less than the resolution limit is repeatedly irradiated with the reproducing laser beam a plurality of times, the reflection is reflected in the optical recording disk sample # 2. It is recognized that the gradient in which the rate decreases is the gradual and has the highest reproduction durability. Also in the optical recording disc sample # 3, the gradient in which the reflectance decreases after the optical recording disc sample # 2. It was found to be gradual and have high reproduction durability.

また、図11から明らかなように、解像限界より長い記録マーク列を形成してデータを記録し、記録したデータを複数回にわたって繰り返し再生したときには、光記録ディスク比較サンプル#2が、再生回数が4000回を超えると、再生信号のC/N比が低下していったのに対し、光記録ディスクサンプル#2および#3においては、再生信号のC/Nがほとんど変化しないことが認められた。しかしながら、光記録ディスクサンプル#2および#3においては、再生回数が10000回未満のときには、光記録ディスク比較サンプル#2に比べて、再生信号のC/N比が低いことも認められたが、いずれも、再生回数が増加しても、40dB以上のC/N比を保持しているので、実際の使用環境で、光記録ディスクを繰り返し使用しても、問題となることはない。   Further, as apparent from FIG. 11, when data is recorded by forming a record mark string longer than the resolution limit, and the recorded data is repeatedly reproduced a plurality of times, the optical recording disk comparison sample # 2 is reproduced In the optical recording disk samples # 2 and # 3, it was recognized that the C / N of the reproduction signal hardly changed when the value of 4,000 exceeded 4000 times. It was. However, in the optical recording disk samples # 2 and # 3, it was recognized that the C / N ratio of the reproduction signal was lower when the number of reproductions was less than 10,000, compared to the optical recording disk comparison sample # 2. In any case, even if the number of reproductions is increased, the C / N ratio of 40 dB or more is maintained. Therefore, there is no problem even if the optical recording disk is repeatedly used in an actual use environment.

さらに、図13から明らかなように、分解反応層に形成した解像限界よりも長い記録マーク列に、再生用のレーザビームを複数回にわたって繰り返し照射したときには、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに、光記録ディスク比較サンプル#2のいずれにおいても、再生回数が増加するのに伴って低下したが、再生回数が4000回以上になったときには、光記録ディスクサンプル#2および#3においては、光記録ディスク比較サンプル#2に比べて、反射率の変化が小さくなり、高い再生耐久性を有することが認められた。   Further, as is apparent from FIG. 13, when a recording laser beam longer than the resolution limit formed in the decomposition reaction layer is repeatedly irradiated with a reproducing laser beam a plurality of times, optical recording disk samples # 2 and # 3 In both of the optical recording disk comparison samples # 2, the number of reproduction decreased as the number of reproductions increased. However, when the number of reproductions reached 4000 or more, in the optical recording disk samples # 2 and # 3, As compared with the optical recording disk comparative sample # 2, it was confirmed that the change in reflectance was small and that the reproduction durability was high.

本発明は、以上の実施態様および実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。   The present invention is not limited to the above embodiments and examples, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims, and these are also included in the scope of the present invention. It goes without saying that it is a thing.

たとえば、図1および図2に示される実施態様にかかる光記録ディスク1においては、光吸収層5と第二の誘電体層7との間に、中間層16が形成され、図3よび図4に示される実施態様にかかる光記録ディスク20においては、第三の誘電体層4と光吸収層5との間に、中間層16が形成されているが、中間層は、光吸収層5と第2の誘電体層7との間、および第三の誘電体層4と光吸収層5との間の双方に、形成されてもよい。   For example, in the optical recording disk 1 according to the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, an intermediate layer 16 is formed between the light absorbing layer 5 and the second dielectric layer 7, and FIGS. 3 and 4 are used. In the optical recording disk 20 according to the embodiment shown in FIG. 1, an intermediate layer 16 is formed between the third dielectric layer 4 and the light absorption layer 5. It may be formed both between the second dielectric layer 7 and between the third dielectric layer 4 and the light absorption layer 5.

また、図1および図2に示される実施態様にかかる光記録ディスク1は、支持基板2を備え、支持基板2上に、反射層3と、第三の誘電体層4と、光吸収層5と、中間層6と、第二の誘電体層7と、分解反応層8と、第一の誘電体層9と、光透過層10とが、この順に、積層され、光透過層10の側から、レーザビームLが照射されるように構成されているが、本発明は、これに限られるものではなく、たとえば、約0.6mmの厚さを有する光透過性基板を備え、光透過性基板上に、第一の誘電体層9と、分解反応層8と、第二の誘電体層7と、中間層6と、光吸収層5と、第三の誘電体層4とが順に積層され、光透過性基板の側からレーザビームLが照射されるように構成されたDVD型の光記録ディスクにも、適用することができる。   An optical recording disk 1 according to the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 includes a support substrate 2, and a reflective layer 3, a third dielectric layer 4, and a light absorption layer 5 are provided on the support substrate 2. The intermediate layer 6, the second dielectric layer 7, the decomposition reaction layer 8, the first dielectric layer 9, and the light transmission layer 10 are laminated in this order, and the light transmission layer 10 side However, the present invention is not limited to this. For example, the present invention includes a light transmissive substrate having a thickness of about 0.6 mm and is light transmissive. A first dielectric layer 9, a decomposition reaction layer 8, a second dielectric layer 7, an intermediate layer 6, a light absorption layer 5, and a third dielectric layer 4 are sequentially stacked on the substrate. The present invention can also be applied to a DVD-type optical recording disk configured to be irradiated with the laser beam L from the light transmissive substrate side.

また、図1および図2、ならびに図4および図5に示される実施態様にかかる光記録ディスク1、20においては、レーザビームLの光入射面から、分解反応層8と、第二の誘電体層7と、光吸収層5とが順に積層されているが、本発明は、これに限られるものではく、たとえば、レーザビームLの光入射面の反対側から、分解反応層8と、第二の誘電体層7と、光吸収層5とが順に積層されてもよく、あるいは、レーザビームLの光入射面から、光吸収層と、誘電体層と、分解反応層と、誘電体層と、光吸収層とが順に積層されてもよい。すなわち、本発明においては、光記録ディスクが、分解反応層と、光吸収層とが、少なくとも誘電体層を挟んで形成された積層体を有していればよい。   Further, in the optical recording disks 1 and 20 according to the embodiments shown in FIGS. 1 and 2 and FIGS. 4 and 5, the decomposition reaction layer 8 and the second dielectric are formed from the light incident surface of the laser beam L. The layer 7 and the light absorption layer 5 are laminated in this order, but the present invention is not limited to this. For example, from the opposite side of the light incident surface of the laser beam L, the decomposition reaction layer 8 and the first layer The second dielectric layer 7 and the light absorption layer 5 may be laminated in order, or from the light incident surface of the laser beam L, the light absorption layer, the dielectric layer, the decomposition reaction layer, and the dielectric layer And a light absorption layer may be laminated in order. That is, in the present invention, the optical recording disk only needs to have a laminate in which the decomposition reaction layer and the light absorption layer are formed with at least the dielectric layer interposed therebetween.

図1は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical recording disk according to a preferred embodiment of the present invention. 図2は、図1のAで示された部分の略拡大断面図である。FIG. 2 is a schematic enlarged cross-sectional view of a portion indicated by A in FIG. 図3(a)は、データが記録される前の光記録ディスクの一部拡大略断面図であり、図3(b)は、データが記録された後の光記録ディスクの一部拡大略断面図である。3A is a partially enlarged schematic sectional view of the optical recording disk before data is recorded, and FIG. 3B is a partially enlarged schematic sectional view of the optical recording disk after data is recorded. FIG. 図4は、本発明の別の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of an optical recording disk according to another preferred embodiment of the present invention. 図5は、図4のBで示された部分の拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by B in FIG. 図6は、光記録ディスクサンプル#1および光記録ディスク比較サンプル#1につき、解像限界未満の記録マークを形成して記録したデータを再生したときの再生回数と再生信号のC/N比との関係を示すグラフである。FIG. 6 shows the number of reproductions and the C / N ratio of the reproduction signal when reproducing data recorded with recording marks less than the resolution limit for the optical recording disk sample # 1 and the optical recording disk comparison sample # 1. It is a graph which shows the relationship. 図7は、光記録ディスクサンプル#1および光記録ディスク比較サンプル#1につき、解像限界より長い記録マークを形成して記録したデータを再生したときの再生回数と再生信号のC/N比との関係を示すグラフである。FIG. 7 shows the number of reproductions and the C / N ratio of the reproduction signal when reproducing data recorded with recording marks longer than the resolution limit for the optical recording disk sample # 1 and the optical recording disk comparison sample # 1. It is a graph which shows the relationship. 図8は、光記録ディスクサンプル#1および光記録ディスク比較サンプル#1につき、解像限界未満の記録マークを形成して記録したデータを再生したときの再生回数と反射率の変化との関係を示すグラフである。FIG. 8 shows the relationship between the number of reproductions and the change in reflectance when reproducing data recorded with recording marks less than the resolution limit for optical recording disk sample # 1 and optical recording disk comparison sample # 1. It is a graph to show. 図9は、光記録ディスクサンプル#1および光記録ディスク比較サンプル#1につき、解像限界より長い記録マークを形成して記録したデータを再生したときの再生回数と反射率の変化との関係を示すグラフである。FIG. 9 shows the relationship between the number of reproductions and the change in reflectance when reproducing data recorded with recording marks longer than the resolution limit for the optical recording disk sample # 1 and the optical recording disk comparison sample # 1. It is a graph to show. 図10は、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2につき、解像限界未満の記録マークを形成して記録したデータを再生したときの再生回数と再生信号のC/N比との関係を示すグラフである。FIG. 10 shows the number of times of reproduction and the C of the reproduction signal when reproducing the data recorded with the recording mark less than the resolution limit for the optical recording disk samples # 2 and # 3 and the optical recording disk comparison sample # 2. It is a graph which shows the relationship with / N ratio. 図11は、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2につき、解像限界より長い記録マークを形成して記録したデータを再生したときの再生回数と再生信号のC/N比との関係を示すグラフである。FIG. 11 shows the number of reproductions and C of the reproduction signal when reproducing data recorded by forming recording marks longer than the resolution limit for the optical recording disk samples # 2 and # 3 and the optical recording disk comparison sample # 2. It is a graph which shows the relationship with / N ratio. 図12は、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2につき、解像限界未満の記録マークを形成して記録したデータを再生したときの再生回数と反射率の変化との関係を示すグラフである。FIG. 12 shows changes in the number of reproductions and reflectance when data recorded with recording marks less than the resolution limit is reproduced for optical recording disk samples # 2 and # 3 and optical recording disk comparison sample # 2. It is a graph which shows the relationship. 図13は、光記録ディスクサンプル#2および#3、ならびに光記録ディスク比較サンプル#2につき、解像限界より長い記録マークを形成して記録したデータを再生したときの再生回数と反射率の変化との関係を示すグラフである。FIG. 13 shows changes in the number of reproductions and reflectance when data recorded with recording marks longer than the resolution limit is reproduced for optical recording disk samples # 2 and # 3 and optical recording disk comparison sample # 2. It is a graph which shows the relationship.

符号の説明Explanation of symbols

1 光記録ディスク
2 支持基板
3 反射層
4 第三の誘電体層
5 光吸収層
6 中間層
7 第二の誘電体層
8 分解反応層
9 第一の誘電体層
10 光透過層
16 中間層
20 光記録ディスク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical recording disk 2 Support substrate 3 Reflective layer 4 Third dielectric layer 5 Light absorption layer 6 Intermediate layer 7 Second dielectric layer 8 Decomposition reaction layer 9 First dielectric layer 10 Light transmission layer 16 Intermediate layer 20 Optical recording disc

Claims (7)

レーザビームが照射されて、データが記録され、再生されるように構成された光記録ディスクであって、貴金属酸化物を主成分として含む分解反応層と、硫黄を含む誘電体材料を主成分とする誘電体層と、硫黄を除く元素を主成分として含む誘電体材料、または前記誘電体層に含まれる硫黄の含有量に比して少ない含有量の硫黄を含む誘電体材料を主成分とする中間層と、光吸収層とが、順に積層された積層体を含んでいることを特徴とする光記録ディスク。 An optical recording disk configured such that data is recorded and reproduced by irradiation with a laser beam, the decomposition reaction layer including a noble metal oxide as a main component, and a dielectric material including sulfur as a main component. And a dielectric material containing as a main component an element excluding sulfur, or a dielectric material containing a small amount of sulfur as compared with the content of sulfur contained in the dielectric layer. An optical recording disk comprising a laminate in which an intermediate layer and a light absorption layer are sequentially laminated. レーザビームが照射されて、データが記録され、再生されるように構成された光記録ディスクであって、貴金属酸化物を主成分として含む分解反応層と、第二の誘電体層と、光吸収層と、中間層と、第三の誘電体層が、順に積層された積層体を含み、前記第三の誘電体層が硫黄を含む誘電体材料を主成分として含むとともに、前記中間層が硫黄を除く元素を主成分として含む誘電体材料、または前記第三の誘電体層に含まれる硫黄の含有量に比して少ない含有量の硫黄を含む誘電体材料を主成分として含んでいることを特徴とする光記録ディスク。 An optical recording disk configured to be irradiated with a laser beam to record and reproduce data, a decomposition reaction layer containing a precious metal oxide as a main component, a second dielectric layer, and light absorption A layer, an intermediate layer, and a third dielectric layer stacked in order, the third dielectric layer including a dielectric material containing sulfur as a main component, and the intermediate layer including sulfur A dielectric material containing as a main component an element other than the above, or a dielectric material containing a small amount of sulfur as compared with the content of sulfur contained in the third dielectric layer as a main component. A featured optical recording disc. 前記レーザビームが照射されたときに、前記分解反応層に主成分として含まれている前記貴金属酸化物が貴金属と酸素に分解され、生成された酸素ガスによって、空洞が形成されるとともに、前記貴金属の微粒子が前記空洞内に析出することによって、前記分解反応層に記録マークが形成されるように構成されたことを特徴とする請求項1または2に記載の光記録ディスク。 When the laser beam is irradiated, the noble metal oxide contained as a main component in the decomposition reaction layer is decomposed into noble metal and oxygen, and the generated oxygen gas forms a cavity, and the noble metal The optical recording disk according to claim 1, wherein a recording mark is formed in the decomposition reaction layer by depositing the fine particles in the cavity. 前記貴金属酸化物が、白金酸化物によって構成され、前記レーザビームの光入射面を介して、前記レーザビームが照射されたときに、白金と酸素に分解されることを特徴とする請求項3に記載の光記録ディスク。 The noble metal oxide is composed of platinum oxide, and is decomposed into platinum and oxygen when irradiated with the laser beam through a light incident surface of the laser beam. The optical recording disk described. 前記白金の微粒子が、前記分解反応層に形成すべき空洞の大きさより小さい粒径(前記白金の微粒子の粒径は、前記白金の微粒子が球形であるときの直径として定義される)を有することを特徴とする請求項4に記載の光記録ディスク。 The platinum fine particles have a particle size smaller than the size of the cavity to be formed in the decomposition reaction layer (the particle size of the platinum fine particles is defined as a diameter when the platinum fine particles are spherical). The optical recording disk according to claim 4. 前記光吸収層が、SbおよびTeの少なくとも一方を含んでいることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光記録ディスク。 The optical recording disk according to claim 1, wherein the light absorption layer includes at least one of Sb and Te. 前記誘電体層、前記中間層および前記光吸収層が、前記分解反応層に前記空洞が形成されるのに伴って、変形するように構成されたことを特徴とする請求項1に記載の光記録ディスク。 The light according to claim 1, wherein the dielectric layer, the intermediate layer, and the light absorption layer are configured to be deformed as the cavity is formed in the decomposition reaction layer. Recording disc.
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