JP2005154430A - Method for producing pyrimidine derivative, intermediate for the same, and method for producing the intermediate - Google Patents

Method for producing pyrimidine derivative, intermediate for the same, and method for producing the intermediate Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for advantageously producing a pyrimidine derivative useful as an enzyme inhibitor and intermediates for synthesizing the same. <P>SOLUTION: This method comprises hydrolyzing a compound (I) (P is an alkyl or the like; R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are each an alkyl or the like) to obtain a compound (II) (M is Na or the like), reacting the compound (II) with a reagent (III) (R<SP>3</SP>is an alkyl which may be substituted or the like; and X is a halogen or the like) to obtain a compound (IV), reacting the compound (IV) with a compound (V) (R<SP>5</SP>is an alkyl which may be substituted or the like; and R<SP>6</SP>is H or the like) to obtain a compound (VI), condensing the compound (VI) with a compound (XII) (R<SP>7</SP>is an aralkyl which may be substituted or the like; and Y is a heteroaryl which may be substituted or the like) to obtain a compound (XI), and subjecting the compound (XI) to deprotection, preferably, by enzyme reaction to obtain a compound (XV). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、エラスターゼ阻害剤、キマーゼ阻害剤などの酵素阻害剤として有用なピリミジン誘導体の新規な製造方法に関する。さらに本発明は、当該製造方法における新規中間体およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a novel method for producing pyrimidine derivatives useful as enzyme inhibitors such as elastase inhibitors and chymase inhibitors. Furthermore, this invention relates to the novel intermediate body in the said manufacturing method, and its manufacturing method.

一般式(XVI):   General formula (XVI):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、R11は水素原子、アシル基、ホルミル基等を示し、R12は置換基を有していてもよいフェニル基、アルキル基等を示し、R13は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基等を示し、R14は置換基を有していてもよいヘテロ環基、アシル基、ハロアルキル基等を示す。)で表される化合物群は、医薬品、特にエラスターゼ阻害剤、キマーゼ阻害剤などの酵素阻害剤としてリウマチ、慢性閉塞性肺疾患等の治療・予防に有用であることが報告されている(特許文献1および2参照)。 (Wherein R 11 represents a hydrogen atom, an acyl group, a formyl group, etc., R 12 represents an optionally substituted phenyl group, an alkyl group, etc., and R 13 represents a substituent. An alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, etc., and R 14 may be a heterocyclic group which may have a substituent, an acyl group The compound group represented by haloalkyl group, etc.) is useful for the treatment and prevention of rheumatism, chronic obstructive pulmonary disease and the like as an enzyme inhibitor such as pharmaceuticals, particularly elastase inhibitors and chymase inhibitors. Have been reported (see Patent Documents 1 and 2).

一般式(XVI)で表される化合物の一つである一般式(6)で表される化合物の製造方法として、下記反応スキームに示される方法が報告されている(特許文献3参照)。   As a method for producing the compound represented by the general formula (6), which is one of the compounds represented by the general formula (XVI), a method shown in the following reaction scheme has been reported (see Patent Document 3).

Figure 2005154430
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(式中、R’は、(1)C1〜4アルキル基、(2)Cyclまたは(3)Cyclによって置換されたC1〜4アルキル基(基中、Cyclは、C3〜10の単環または二環式炭素環、1〜4個の窒素原子、1〜2個の酸素原子および/または1〜2個の硫黄原子を含む3〜10員の単環または二環式複素環等を示す。)を表す。) (Wherein R 3 ′ is (1) a C1-4 alkyl group, (2) Cycl or (3) a C1-4 alkyl group substituted by Cycl (in which the Cycl is a C3-10 monocycle or A bicyclic carbocycle, a 3 to 10-membered monocyclic or bicyclic heterocyclic ring containing 1 to 4 nitrogen atoms, 1 to 2 oxygen atoms and / or 1 to 2 sulfur atoms is shown. )

この方法においては、一般式(4)で表される化合物と式(5)で表される化合物をアミド化反応に付する際に、一般式(4)で表される化合物のピリミジン環の5位にアミノ基が存在するために、自らとのアミド化反応による一般式(4)で表される化合物の二量体を生じる副反応が起こり、目的とする一般式(6)で表される化合物の収率・品質が低下するという問題がある。   In this method, when the compound represented by the general formula (4) and the compound represented by the formula (5) are subjected to an amidation reaction, 5 of the pyrimidine ring of the compound represented by the general formula (4) is obtained. Since an amino group is present at the position, a side reaction that generates a dimer of the compound represented by the general formula (4) by an amidation reaction with itself occurs, and is represented by the target general formula (6). There exists a problem that the yield and quality of a compound fall.

上記の方法において、一般式(3)で表される化合物のベンゾイル基を脱保護しないまま、一般式(3)で表される化合物と式(5)で表される化合物とのアミド化反応を行い、その後、ベンゾイル基の脱保護を行うことができれば、二量体の生成を回避することができる。しかしながら、当該アミド化反応後のベンゾイル基の脱保護においては、強塩基、還流、長時間という過酷な条件が必要である(特許文献3の実施例4等参照)。このような条件では一般式(6)で表される化合物中の1,3,4−オキサジアゾール環が分解されるため、一般式(6)で表されるピリミジン化合物の取得は困難となる。このため、上記方法において二量化反応を回避するためには、一般式(4)で表される化合物のアミノ基を予め緩和な条件で脱保護できる保護基で保護することが考えられるが、保護、脱保護の工程がさらに必要となるため好ましくない。   In the above method, the amidation reaction between the compound represented by the general formula (3) and the compound represented by the formula (5) is carried out without deprotecting the benzoyl group of the compound represented by the general formula (3). If followed by deprotection of the benzoyl group, dimer formation can be avoided. However, deprotection of the benzoyl group after the amidation reaction requires harsh conditions such as strong base, reflux, and long time (see Example 4 of Patent Document 3). Under such conditions, since the 1,3,4-oxadiazole ring in the compound represented by the general formula (6) is decomposed, it is difficult to obtain the pyrimidine compound represented by the general formula (6). . Therefore, in order to avoid the dimerization reaction in the above method, it may be possible to protect the amino group of the compound represented by the general formula (4) with a protecting group that can be deprotected under mild conditions. This is not preferable because a deprotection step is further required.

一般的に、アミノ基のアシル化による保護においては、ベンゾイルのような芳香族アシルよりもアセチルのような脂肪族アシルの方が緩和な条件で加水分解ができることが知られている(非特許文献1参照)。したがって、原料に翻って、式(1)で表される化合物においてアズラクトン環の2位が脂肪族基である化合物が入手できれば、一般式(3)で表される化合物において5位アミノ基が脂肪族アシル基で保護された化合物が得られるため、該脂肪族アシル基を脱保護することなく、式(5)で表される化合物とアミド化した後、分解を伴わないより緩和な条件で脱保護することも可能であるかにも考えられる。
しかしながら、アズラクトン環の2位が脂肪族基である式(1)で表される化合物の効率的な製造方法は、未だ報告されていない。
In general, in the protection by acylation of an amino group, it is known that an aliphatic acyl such as acetyl can be hydrolyzed under milder conditions than an aromatic acyl such as benzoyl (Non-Patent Document). 1). Accordingly, if a compound in which the 2-position of the azlactone ring is an aliphatic group in the compound represented by the formula (1) is available instead of the raw material, the 5-position amino group is a fatty acid in the compound represented by the general formula (3). Since a compound protected with an aliphatic acyl group is obtained, the aliphatic acyl group is deprotected without deprotection after deamidation with a compound represented by formula (5) under milder conditions without decomposition. It may be possible to protect it.
However, an efficient method for producing a compound represented by the formula (1) in which the 2-position of the azlactone ring is an aliphatic group has not yet been reported.

本発明者等は、アズラクトン化合物の一般的製造方法として知られている、下記反応スキームに示されるErlenmeyer法を用い、アズラクトン環の2位がメチル基である、式(8)で表される化合物の合成を試みた。   The present inventors use the Erlenmeyer method shown in the following reaction scheme, which is known as a general method for producing an azlactone compound, and is a compound represented by the formula (8) in which the 2-position of the azlactone ring is a methyl group I tried to synthesize.

Figure 2005154430
Figure 2005154430

しかし、この方法では副生成物が多く生成し、式(8)で表されるアズラクトン化合物は、極めて低収率でしか得られなかった。
国際公開第98/24806号パンフレット 国際公開第98/09949号パンフレット 国際公開第02/051815号パンフレット セオドア W.グリーン(Theodora W. Grrene),ピーター G.M.ワッツ(Peter G. M. Wuts)著,「プロテクティブグループスインオルガニックシンセシス(Protective Groups in Organic Synthesis)」,(米国),第2版,ウィリーインターサイエンスパブリケーション(A Wiley Interscience Publication),1991年,p.349.
However, in this method, a lot of by-products were generated, and the azlactone compound represented by the formula (8) was obtained only in a very low yield.
International Publication No. 98/24806 Pamphlet International Publication No. 98/09949 Pamphlet International Publication No. 02/051815 Pamphlet Theodore W. Green (Theodora W. Grrene), Peter G. M.M. Peter GM Wuts, “Protective Groups in Organic Synthesis” (USA), 2nd edition, A Wiley Interscience Publication, 1991, p. 349.

本発明が解決しようとする課題は、酵素阻害剤として有用な後掲の一般式(XV)で表されるピリミジン誘導体またはそのN−保護体(例えば、N−ホルミル体、特許文献2参照)の有利な製造方法を提供することである。さらには、当該製造方法に必要な新規合成中間体とその製造方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is that of a pyrimidine derivative represented by the following general formula (XV) useful as an enzyme inhibitor or an N-protected form thereof (for example, N-formyl form, see Patent Document 2). It is to provide an advantageous manufacturing method. Furthermore, it is providing the novel synthetic intermediate required for the said manufacturing method, and its manufacturing method.

本発明者等は、上記課題を解決するため鋭意研究した結果、後掲の一般式(IV)で表される新規な化合物を有利に製造する方法を見出し、該化合物を原料ないし中間化合物として経由することにより、一般式(XV)で表されるピリミジン誘導体またはそのN−保護体の新規で有利な製造方法を提供し得たものである。   As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have found a method for advantageously producing a novel compound represented by the following general formula (IV), and the compound is used as a raw material or an intermediate compound. Thus, a novel and advantageous production method of the pyrimidine derivative represented by the general formula (XV) or an N-protected product thereof can be provided.

すなわち、本発明は以下のとおりである。
(1)一般式(I):
That is, the present invention is as follows.
(1) General formula (I):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、RおよびRは同一または異なって、アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって脂肪族複素環を形成してもよく、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物(以下、化合物(I)ともいう。)またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、一般式(II): (Wherein P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group, or A compound represented by a compound (hereinafter referred to as Compound (I)), which may form an aliphatic heterocyclic ring together with the adjacent nitrogen atom, and the wavy line indicates that it is a cis isomer, a trans isomer or a mixture thereof. Or a salt thereof is hydrolyzed in the presence of an alkali metal hydroxide to give a compound of the general formula (II):

Figure 2005154430
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(式中、Mは水素原子、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを示し、Pおよび波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(II)ともいう。)を得;
得られた化合物(II)を一般式:R−X(III)〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4bを示し、Xはハロゲン原子、−OSOまたは−OCOR4a(ここでR、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。〕で表される試薬(以下、試薬(III)ともいう。)と反応させることを特徴とする、一般式(IV):
(Wherein, M represents a hydrogen atom, sodium, potassium, or lithium, and P and wavy lines are as defined above) (hereinafter, also referred to as compound (II));
The obtained compound (II) is represented by the general formula: R 3 -X (III) [wherein R 3 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, An aralkyl group, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b which may have a group, and X is a halogen atom, —OSO 3 R 4 or —OCOR 4a (where R 4 , R 4a And R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. And a reagent represented by the following general formula (IV):

Figure 2005154430
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(式中、各記号および波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(IV)ともいう。)の製造方法。 (In the formula, each symbol and wavy line have the same meanings as described above.) A method for producing a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (IV)).

(2)下記工程(a)、(b)および(c)を含むことを特徴とする、一般式(VI): (2) General formula (VI) characterized by comprising the following steps (a), (b) and (c):

Figure 2005154430
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(式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示し、Pは前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VI)ともいう。)またはその塩の製造方法;
工程(a):化合物(I)またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、化合物(II)を得;
工程(b):得られた化合物(II)を試薬(III)と反応させて、化合物(IV)を得;
工程(c):得られた化合物(IV)を一般式(V):
(In the formula, R 5 represents an alkyl group which may have a substituent or a phenyl group which may have a substituent, R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aralkyl group; A compound represented by the following formula (hereinafter also referred to as compound (VI)) or a salt thereof;
Step (a): Compound (II) or a salt thereof is hydrolyzed in the presence of an alkali metal hydroxide to obtain Compound (II);
Step (b): The compound (II) obtained is reacted with the reagent (III) to obtain the compound (IV);
Step (c): The obtained compound (IV) is converted into the general formula (V):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(V)ともいう。)またはその塩と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得る。 (Wherein each symbol is as defined above) and a compound (VI) or a salt thereof is obtained by reacting with a compound (hereinafter also referred to as compound (V)) or a salt thereof.

(3)下記工程(a)、(b)、(c)および(d)を含むことを特徴とする、一般式(VII): (3) General formula (VII) characterized by comprising the following steps (a), (b), (c) and (d):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VII)ともいう。)の製造方法;
工程(a):化合物(I)またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、化合物(II)を得;
工程(b):得られた化合物(II)を試薬(III)と反応させて、化合物(IV)を得;
工程(c):得られた化合物(IV)を化合物(V)またはその塩と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得;
工程(d):得られた化合物(VI)またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させて、化合物(VII)を得る。
(Wherein each symbol is as defined above), a method for producing the compound (hereinafter also referred to as compound (VII));
Step (a): Compound (II) or a salt thereof is hydrolyzed in the presence of an alkali metal hydroxide to obtain Compound (II);
Step (b): The compound (II) obtained is reacted with the reagent (III) to obtain the compound (IV);
Step (c): The obtained compound (IV) is reacted with compound (V) or a salt thereof to obtain compound (VI) or a salt thereof;
Step (d): The obtained compound (VI) or a salt thereof is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, and then condensed with N-hydroxysuccinimide to obtain a compound (VII).

(4)Pがメチル基、エチル基またはベンジル基である、上記(1)〜(3)のいずれか一に記載の製造方法。
(5)Rがメチル基、エチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基またはトリメチルシリル基である、上記(1)〜(3)のいずれか一に記載の製造方法。
(4) The production method according to any one of (1) to (3), wherein P is a methyl group, an ethyl group, or a benzyl group.
(5) The production method according to any one of (1) to (3), wherein R 3 is a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a methanesulfonyl group, or a trimethylsilyl group.

(6)下記工程(a)、(b)、(c)、(d)および(e)を含むことを特徴とする、一般式(IX): (6) General formula (IX) characterized by comprising the following steps (a), (b), (c), (d) and (e):

Figure 2005154430
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〔式中、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または−N(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示し、他の各記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合物(以下化合物(IX)ともいう。)またはその塩の製造方法;
工程(a):化合物(I)またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、化合物(II)を得;
工程(b):得られた化合物(II)を試薬(III)と反応させて、化合物(IV)を得;
工程(c):得られた化合物(IV)を化合物(V)またはその塩と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得;
工程(d):得られた化合物(VI)またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させて、化合物(VII)を得;
工程(e):得られた化合物(VII)と一般式(VIII):
Wherein, R 7 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, which may have an optionally substituted aralkyl group or a substituted aryl group, R 8 Represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group or —N (R 9 ) —OR 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or different and each independently represents an alkyl group). The other symbols are as defined above. A compound represented by the following formula (hereinafter also referred to as compound (IX)) or a salt thereof;
Step (a): Compound (II) or a salt thereof is hydrolyzed in the presence of an alkali metal hydroxide to obtain Compound (II);
Step (b): The compound (II) obtained is reacted with the reagent (III) to obtain the compound (IV);
Step (c): The obtained compound (IV) is reacted with compound (V) or a salt thereof to obtain compound (VI) or a salt thereof;
Step (d): The compound (VI) or a salt thereof obtained is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, and then condensed with N-hydroxysuccinimide to obtain a compound (VII);
Step (e): Compound (VII) obtained and general formula (VIII):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VIII)ともいう。)またはその塩とを反応させて、化合物(IX)またはその塩を得る。 (Wherein each symbol has the same meaning as described above) (hereinafter also referred to as compound (VIII)) or a salt thereof is reacted to obtain compound (IX) or a salt thereof.

(7)下記工程(a)、(b)、(c)および(f)を含むことを特徴とする、化合物(IX)またはその塩の製造方法;
工程(a):化合物(I)またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、化合物(II)を得;
工程(b):得られた化合物(II)を試薬(III)と反応させて、化合物(IV)を得;
工程(c):得られた化合物(IV)を化合物(V)またはその塩と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得;
工程(f):得られた化合物(VI)またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、化合物(VIII)またはその塩と縮合させて、化合物(IX)またはその塩を得る。
(7) A process for producing compound (IX) or a salt thereof, comprising the following steps (a), (b), (c) and (f):
Step (a): Compound (II) or a salt thereof is hydrolyzed in the presence of an alkali metal hydroxide to obtain Compound (II);
Step (b): The compound (II) obtained is reacted with the reagent (III) to obtain the compound (IV);
Step (c): The obtained compound (IV) is reacted with compound (V) or a salt thereof to obtain compound (VI) or a salt thereof;
Step (f): The obtained compound (VI) or a salt thereof is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, and then condensed with the compound (VIII) or a salt thereof to give a compound (IX) or a salt thereof. Obtain its salt.

(8)Pがメチル基、エチル基またはベンジル基である、上記(6)または(7)記載の製造方法。
(9)Rがメチル基、エチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基またはトリメチルシリル基である、上記(6)または(7)記載の製造方法。
(8) The production method according to the above (6) or (7), wherein P is a methyl group, an ethyl group or a benzyl group.
(9) The production method according to the above (6) or (7), wherein R 3 is a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a methanesulfonyl group or a trimethylsilyl group.

(10)上記(6)〜(9)のいずれか一の製造方法により得られる化合物(IX)またはその塩を脱保護することを特徴とする、一般式(X): (10) The compound (IX) obtained by the production method according to any one of (6) to (9) above or a salt thereof is deprotected, represented by the general formula (X):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(X)ともいう。)またはその塩の製造方法。
(11)酵素反応により脱保護することを特徴とする、上記(10)記載の製造方法。
(12)酸性条件により脱保護することを特徴とする、上記(10)記載の製造方法。
(Wherein each symbol is as defined above), or a method for producing a salt thereof (hereinafter also referred to as compound (X)).
(11) The production method according to the above (10), wherein the deprotection is performed by an enzymatic reaction.
(12) The production method according to the above (10), wherein the deprotection is performed under acidic conditions.

(13)下記工程(j)、(k)および(l)を含むことを特徴とする、一般式(XV): (13) General formula (XV) characterized by comprising the following steps (j), (k) and (l):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、Y は置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいアシル基またはハロアルキル基を示し、他の各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XV)ともいう。)またはその塩の製造方法;
工程(j):上記(10)〜(12)のいずれか一に記載の方法によって得られる化合物(X)またはその塩のアミノ基を保護して、一般式(XIII):
(Wherein Y represents a heterocyclic group which may have a substituent, an acyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and other symbols are as defined above). A method for producing a compound represented by the formula (hereinafter also referred to as compound (XV)) or a salt thereof;
Step (j): The compound (X) obtained by the method according to any one of the above (10) to (12) or an amino group of a salt thereof is protected to give a general formula (XIII):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、Qはアシル基以外のアミノ基の保護基を示し、他の各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XIII)ともいう。)またはその塩を得;
工程(k):得られた化合物(XIII)またはその塩のRで表される基をYで表される基に変換して、一般式(XIV):
(Wherein Q represents a protecting group for an amino group other than an acyl group, and other symbols are as defined above) (hereinafter also referred to as compound (XIII)) or a salt thereof Obtain;
Step (k): A group represented by R 8 of the obtained compound (XIII) or a salt thereof is converted into a group represented by Y, and the compound represented by the general formula (XIV):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XIV)ともいう。)またはその塩を得;
工程(l):得られた化合物(XIV)またはその塩を脱保護して、化合物(XV)またはその塩を得る。
(14)下記工程(a)、(b)、(c)、(d)、(e)および(g)を含むことを特徴とする、一般式(XI):
Wherein each symbol is as defined above (hereinafter also referred to as compound (XIV)) or a salt thereof;
Step (l): The obtained compound (XIV) or a salt thereof is deprotected to obtain a compound (XV) or a salt thereof.
(14) General formula (XI) characterized by comprising the following steps (a), (b), (c), (d), (e) and (g):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XI)ともいう。)またはその塩の製造方法;
工程(a):化合物(I)またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、化合物(II)を得;
工程(b):得られた化合物(II)を試薬(III)と反応させて、化合物(IV)を得;
工程(c):得られた化合物(IV)を化合物(V)またはその塩と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得;
工程(d):得られた化合物(VI)またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させて、化合物(VII)を得;
工程(e):得られた化合物(VII)と化合物(VIII)またはその塩とを反応させて、化合物(IX)またはその塩を得;
工程(g):得られた化合物(IX)またはその塩のRで表される基をYで表される基に変換して、化合物(XI)またはその塩を得る。
(15)下記工程(a)、(b)、(c)、(f)および(g)を含むことを特徴とする、化合物(XI)またはその塩の製造方法;
工程(a):化合物(I)またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、化合物(II)を得;
工程(b):得られた化合物(II)を試薬(III)と反応させて、化合物(IV)を得;
工程(c):得られた化合物(IV)を化合物(V)またはその塩と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得;
工程(f):得られた化合物(VI)またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、化合物(VIII)またはその塩と縮合させて、化合物(IX)またはその塩を得;
工程(g):得られた化合物(IX)またはその塩のRで表される基をYで表される基に変換して、化合物(XI)またはその塩を得る。
(16)下記工程(a)、(b)、(c)および(h)を含むことを特徴とする、化合物(XI)またはその塩の製造方法;
工程(a):化合物(I)またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、化合物(II)を得;
工程(b):得られた化合物(II)を試薬(III)と反応させて、化合物(IV)を得;
工程(c):得られた化合物(IV)を化合物(V)またはその塩と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得;
工程(h):得られた化合物(VI)またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、一般式(XII):
(Wherein each symbol is as defined above) or a method for producing a salt thereof (hereinafter also referred to as compound (XI));
Step (a): Compound (II) or a salt thereof is hydrolyzed in the presence of an alkali metal hydroxide to obtain Compound (II);
Step (b): The compound (II) obtained is reacted with the reagent (III) to obtain the compound (IV);
Step (c): The obtained compound (IV) is reacted with compound (V) or a salt thereof to obtain compound (VI) or a salt thereof;
Step (d): The compound (VI) or a salt thereof obtained is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, and then condensed with N-hydroxysuccinimide to obtain a compound (VII);
Step (e): Compound (IX) or a salt thereof is obtained by reacting the obtained compound (VII) with compound (VIII) or a salt thereof;
Step (g): The group represented by R 8 of the obtained compound (IX) or a salt thereof is converted to a group represented by Y to obtain a compound (XI) or a salt thereof.
(15) A method for producing compound (XI) or a salt thereof, comprising the following steps (a), (b), (c), (f) and (g):
Step (a): Compound (II) or a salt thereof is hydrolyzed in the presence of an alkali metal hydroxide to obtain Compound (II);
Step (b): The compound (II) obtained is reacted with the reagent (III) to obtain the compound (IV);
Step (c): The obtained compound (IV) is reacted with compound (V) or a salt thereof to obtain compound (VI) or a salt thereof;
Step (f): The obtained compound (VI) or a salt thereof is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, and then condensed with the compound (VIII) or a salt thereof to give a compound (IX) or a salt thereof. Obtaining its salt;
Step (g): The group represented by R 8 of the obtained compound (IX) or a salt thereof is converted to a group represented by Y to obtain a compound (XI) or a salt thereof.
(16) A method for producing compound (XI) or a salt thereof, comprising the following steps (a), (b), (c) and (h):
Step (a): Compound (II) or a salt thereof is hydrolyzed in the presence of an alkali metal hydroxide to obtain Compound (II);
Step (b): The compound (II) obtained is reacted with the reagent (III) to obtain the compound (IV);
Step (c): The obtained compound (IV) is reacted with compound (V) or a salt thereof to obtain compound (VI) or a salt thereof;
Step (h): The obtained compound (VI) or a salt thereof is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, and then the general formula (XII):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(XII)ともいう。)またはその塩と縮合させて、化合物(XI)またはその塩を得る。 (Wherein each symbol is as defined above) and condensed with a compound (hereinafter also referred to as compound (XII)) or a salt thereof to give compound (XI) or a salt thereof.

(17)Pがメチル基、エチル基またはベンジル基である、上記(14)〜(16)のいずれか一に記載の製造方法。
(18)Rがメチル基、エチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基またはトリメチルシリル基である、上記(14)〜(16)のいずれか一に記載の製造方法。
(17) The production method according to any one of (14) to (16), wherein P is a methyl group, an ethyl group, or a benzyl group.
(18) The production method according to any one of (14) to (16), wherein R 3 is a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a methanesulfonyl group, or a trimethylsilyl group.

(19)上記(14)〜(18)のいずれか一の製造方法により得られる化合物(XI)またはその塩を脱保護することを特徴とする、化合物(XV)またはその塩の製造方法。
(20)酵素反応により脱保護することを特徴とする、上記(19)記載の製造方法。
(21)酸性条件により脱保護することを特徴とする、上記(19)記載の製造方法。
(22)一般式(IV’):
(19) A method for producing compound (XV) or a salt thereof, which comprises deprotecting compound (XI) or a salt thereof obtained by the production method of any one of (14) to (18) above.
(20) The production method according to the above (19), wherein the deprotection is performed by an enzymatic reaction.
(21) The production method according to the above (19), wherein the deprotection is performed under acidic conditions.
(22) General formula (IV ′):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、Pおよび波線は前記と同意義を示し、R3aは置換基を有していてもよいアルキル基(但し、Pがアルキル基またはベンジル基の場合は除く)、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4b(ここで、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。)で表される化合物(以下、化合物(IV’)ともいう。)。(23)Pがメチル基、エチル基またはベンジル基であり、R3aがメチル基、エチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基またはトリメチルシリル基である上記(22)記載の化合物。 (In the formula, P and wavy lines are as defined above, and R 3a has an optionally substituted alkyl group (except when P is an alkyl group or a benzyl group), and has a substituent. An aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b (wherein R 4a and R 4b are the same or different and are each independently And an aryl group which may have a substituent.) (Hereinafter also referred to as compound (IV ′)). ). (23) The compound described in (22) above, wherein P is a methyl group, an ethyl group or a benzyl group, and R 3a is a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a methanesulfonyl group or a trimethylsilyl group.

(24)一般式(VII): (24) General formula (VII):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物。
(25)Pがメチル基、エチル基またはベンジル基であり、Rがメチル基または置換基を有していてもよいフェニル基である上記(24)記載の化合物。
(Wherein each symbol is as defined above).
(25) The compound described in (24) above, wherein P is a methyl group, an ethyl group or a benzyl group, and R 5 is a methyl group or a phenyl group which may have a substituent.

(26)一般式(IX): (26) General formula (IX):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩。
(27)Pがメチル基、エチル基またはベンジル基であり、Rがメチル基または置換基を有していてもよいフェニル基であり、Rがメチル基、イソプロピル基またはベンジル基であり、Rが水素原子、水酸基、メトキシ基、エトキシ基または−N(Me)−OMeである上記(26)記載の化合物またはその塩。
(28)一般式(X):
(Wherein each symbol is as defined above) or a salt thereof.
(27) P is a methyl group, an ethyl group or a benzyl group, R 5 is a methyl group or an optionally substituted phenyl group, R 7 is a methyl group, an isopropyl group or a benzyl group, The compound or a salt thereof according to the above (26), wherein R 8 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or —N (Me) —OMe.
(28) General formula (X):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩。
(29)Rがメチル基または置換基を有していてもよいフェニル基であり、Rがメチル基、イソプロピル基またはベンジル基であり、Rが水素原子、水酸基、メトキシ基、エトキシ基または−N(Me)−OMeである上記(28)記載の化合物またはその塩。
(Wherein each symbol is as defined above) or a salt thereof.
(29) R 5 is a methyl group or an optionally substituted phenyl group, R 7 is a methyl group, an isopropyl group or a benzyl group, and R 8 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group Or the compound or its salt of the said (28) description which is -N (Me) -OMe.

(30)化合物(IX)またはその塩を、酵素反応により脱保護することを特徴とする、化合物(X)またはその塩の製造方法。
(31)化合物(XI)またはその塩を、酵素反応により脱保護することを特徴とする、化合物(XV)またはその塩の製造方法。
(32)Pが置換基を有していてもよいベンジル基である、上記(30)または(31)記載の製造方法。
(33)酵素がペニシリンアミダーゼである、上記(30)または(31)記載の製造方法。
(30) A method for producing compound (X) or a salt thereof, which comprises deprotecting compound (IX) or a salt thereof by an enzymatic reaction.
(31) A method for producing compound (XV) or a salt thereof, which comprises deprotecting compound (XI) or a salt thereof by an enzymatic reaction.
(32) The production method according to the above (30) or (31), wherein P is a benzyl group which may have a substituent.
(33) The production method according to (30) or (31) above, wherein the enzyme is penicillin amidase.

本発明は、一般式(IV)で表される新規化合物およびその効率的製造方法を提供し、該化合物を原料化合物あるいは中間化合物として経由することにより、酵素阻害剤として有用な最終目的化合物である化合物(XV)またはそのN−保護体を有利に製造する方法を提供する。   The present invention provides a novel compound represented by the general formula (IV) and an efficient production method thereof, and is a final target compound useful as an enzyme inhibitor by passing the compound as a raw material compound or an intermediate compound. Provided is a method for advantageously producing Compound (XV) or an N-protected form thereof.

本発明の新規化合物(IV)を経て製造される化合物(VI)は、ピリミジン環の5位のアミノ基が緩和な条件で脱保護できる保護基で保護されているため、化合物(XV)またはそのN−保護体に至る最終段階で生成物の分解などを惹起することなく容易に脱保護することができる。
したがって、本発明の製造方法は、ピリミジン環の5位がベンゾイル基で保護された中間化合物を使用する従来法におけるように、アミド化反応に先立って保護基の脱保護を行う必要がなく、その結果、ピリミジン環の5位のアミノ基が遊離状態のままでアミド化反応を行うことによる二量化などの副反応を抑制し、高品質の目的化合物を高収率で得ることができる。
In the compound (VI) produced through the novel compound (IV) of the present invention, since the amino group at the 5-position of the pyrimidine ring is protected with a protecting group that can be deprotected under mild conditions, the compound (XV) or its compound (XV) It can be easily deprotected without causing decomposition of the product at the final stage leading to the N-protected body.
Therefore, the production method of the present invention does not require deprotection of the protecting group prior to the amidation reaction as in the conventional method using an intermediate compound in which the 5-position of the pyrimidine ring is protected with a benzoyl group. As a result, side reactions such as dimerization by carrying out an amidation reaction while the amino group at the 5-position of the pyrimidine ring is in a free state can be suppressed, and a high-quality target compound can be obtained in high yield.

以下に、本発明について詳細に説明する。
本発明に使用される記号の定義は、以下のとおりである。
The present invention is described in detail below.
Definitions of symbols used in the present invention are as follows.

P、R、R、R、RおよびR10における「アルキル基」とは、炭素数が好ましくは1〜20、より好ましくは1〜7である、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ラウリル基などが挙げられる。中でも、メチル基、エチル基が好ましい。
、R、R4a、R4b、RおよびRにおける「置換基を有していてもよいアルキル基」とは、下記置換基で1またはそれ以上置換されていてもよい上記アルキル基をいい、ここでいう置換基としては、例えば、ニトロ基、直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基(炭素数:1〜6、例:メトキシ基)、ハロゲン原子(例:塩素原子、フッ素原子など)、水酸基などが挙げられる。
The “alkyl group” in P, R 1 , R 2 , R 6 , R 9 and R 10 is a linear or branched chain having preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 7 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and a lauryl group. Of these, a methyl group and an ethyl group are preferable.
The “optionally substituted alkyl group” in R 3 , R 4 , R 4a , R 4b , R 5 and R 7 is the above alkyl optionally substituted with one or more of the following substituents Examples of the substituent herein include, for example, a nitro group, a linear or branched alkoxy group (carbon number: 1 to 6, example: methoxy group), a halogen atom (example: chlorine atom, fluorine) Atoms), hydroxyl groups and the like.

Pにおける「アルケニル基」とは、炭素数が好ましくは2〜20、より好ましくは2〜7である、直鎖状または分岐鎖状のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、ホモアリル基、オレイル基などが挙げられ、中でもビニル基、アリル基が好ましい。   The “alkenyl group” in P is a linear or branched alkenyl group having preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 7 carbon atoms, for example, vinyl group, allyl group, homoallyl group. And an oleyl group, among which a vinyl group and an allyl group are preferable.

、R、R4a、R4bおよびRにおける「置換基を有していてもよいアリール基」とは、好ましくは6〜20、より好ましくは6〜8の炭素数を有するアリール基であり、当該アリール基は下記置換基で1またはそれ以上置換されていてもよい。ここでいう置換基としては、例えば、ニトロ基、直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基(炭素数:1〜6、例:メトキシ基)、ハロゲン原子(例:塩素原子、フッ素原子など)、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基(好ましい炭素数:1〜4、例:メチル基、エチル基、プロピル基など)、水酸基などが挙げられ、Rの「置換基を有していてもよいフェニル基」における置換基も同様なものが挙げられる。置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいフェニル基の具体例としては、フェニル基、o−、m−又はp−ニトロフェニル基、o−、m−又はp−メトキシフェニル基、o−、m−又はp−クロロフェニル基、o−、m−又はp−フルオロフェニル基、o−、m−又はp−トリル基などが挙げられ、中でもフェニル基、p−フルオロフェニル基、p−トリル基が好ましい。
また、Rの「置換基を有していてもよいアリール基」としては、4−ニトロフェニル基、2−ニトロフェニル基、2,4−ジニトロフェニル基等が好ましい。
The “aryl group optionally having substituent (s)” in R 3 , R 4 , R 4a , R 4b and R 7 is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 8 carbon atoms. And the aryl group may be substituted with one or more of the following substituents. Examples of the substituent here include a nitro group, a linear or branched alkoxy group (carbon number: 1 to 6, eg, methoxy group), a halogen atom (eg, chlorine atom, fluorine atom, etc.), linear or branched alkyl group (preferably a carbon number: 1-4, such as methyl group, ethyl group, propyl group and the like), a hydroxyl group and the like, have a "substituent R 5 Examples of the substituent in the “good phenyl group” include the same. Specific examples of the aryl group which may have a substituent or the phenyl group which may have a substituent include a phenyl group, o-, m- or p-nitrophenyl group, o-, m- or Examples include p-methoxyphenyl group, o-, m- or p-chlorophenyl group, o-, m- or p-fluorophenyl group, o-, m- or p-tolyl group. Among them, phenyl group, p- A fluorophenyl group and a p-tolyl group are preferred.
The “optionally substituted aryl group” for R 3 is preferably a 4-nitrophenyl group, a 2-nitrophenyl group, a 2,4-dinitrophenyl group, or the like.

における「アラルキル基」とは、アリール部が好ましくは6〜12、より好ましくは6〜8の炭素数を有するアリール基であり、アルキル部が好ましくは1〜6、より好ましくは1〜3の炭素数を有する、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であるアラルキル基を示す。アラルキル基の具体例としては、ベンジル基が好ましい。 The “aralkyl group” in R 6 is an aryl group having an aryl part of preferably 6 to 12, more preferably 6 to 8, and an alkyl part of preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3. An aralkyl group which is a linear or branched alkyl group having the number of carbon atoms. As a specific example of the aralkyl group, a benzyl group is preferable.

P、RおよびRにおける「置換基を有していてもよいアラルキル基」とは、下記置換基で1またはそれ以上置換されていてもよい上記アラルキル基をいい、ここでいう置換基としては、例えば、ニトロ基、直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基(炭素数:1〜6、例:メトキシ基)、ハロゲン原子(例:塩素原子、フッ素原子など)、水酸基などが挙げられる。 The “aralkyl group optionally having substituent (s)” in P, R 3 and R 7 refers to the above aralkyl group optionally substituted with one or more of the following substituents. Examples thereof include a nitro group, a linear or branched alkoxy group (carbon number: 1 to 6, eg methoxy group), a halogen atom (eg chlorine atom, fluorine atom etc.), a hydroxyl group and the like.

PおよびYにおける「ハロアルキル基」とは、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)が1または2以上置換した、炭素数が好ましくは1〜5、より好ましくは1〜3の直鎖または分岐鎖状アルキル基であり、例えばトリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、クロロメチル基などが挙げられ、好ましくはトリフルオロメチル基である。   The “haloalkyl group” in P and Y is preferably substituted with 1 or 2 or more of halogen atoms (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), preferably having 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms. It is a linear or branched alkyl group, and examples thereof include a trifluoromethyl group, a trichloromethyl group, and a chloromethyl group, and a trifluoromethyl group is preferable.

Xにおける「ハロゲン原子」とは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子、臭素原子が挙げられる。   The “halogen atom” in X is a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom.

およびRが隣接する窒素原子と一緒になって形成してもよい「脂肪族複素環」とは、炭素原子と少なくとも1個の窒素原子を含み、それ以外に酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1〜3個含んでもよい、5〜6員の脂肪族複素環、例えばピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン等が挙げられる。 The “aliphatic heterocycle” in which R 1 and R 2 may be formed together with the adjacent nitrogen atom includes a carbon atom and at least one nitrogen atom, and in addition, an oxygen atom, a sulfur atom, and Examples include 5 to 6-membered aliphatic heterocycles which may contain 1 to 3 heteroatoms selected from nitrogen atoms, such as pyrrolidine, piperidine, morpholine, thiomorpholine, piperazine and the like.

における「トリアルキルシリル基」とは、上記で定義された、同一または異なるアルキル基で置換されたシリル基であり、例えばトリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基等が挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基である。 The “trialkylsilyl group” in R 3 is a silyl group substituted with the same or different alkyl group as defined above. Examples thereof include a trimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, and a triisopropylsilyl group. Preferably, it is a trimethylsilyl group.

における「アルコキシ基」とは、炭素数が好ましくは1〜20、より好ましくは1〜7である、直鎖状または分岐鎖状のアルコキシであり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ラウリルオキシ基などが挙げられる。中でも、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。 The “alkoxy group” in R 8 is linear or branched alkoxy having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 7 carbon atoms, such as methoxy group, ethoxy group, n- Examples thereof include a propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, and a lauryloxy group. Of these, a methoxy group and an ethoxy group are preferable.

における「アラルキルオキシ基」とは、上記で定義されたアラルキル部を有するアラルキルオキシ基が挙げられ、例えば、ベンジルオキシ基、p−ニトロベンジルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the “aralkyloxy group” in R 8 include an aralkyloxy group having an aralkyl moiety defined above, and examples thereof include a benzyloxy group and a p-nitrobenzyloxy group.

Yにおける「置換基を有していてもよいヘテロ環基」の「ヘテロ環基」とは、炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を1〜5個含む5〜6員の複素環基、及びその縮合ヘテロ環基等であり、例えばピロリル基(1−、2−又は3−ピロリル基)、フリル基(2−又は3−フリル基)、チエニル基(2−又は3−チエニル基)、イミダゾリル基(1−、2−、4−又は5−イミダゾリル基)、オキサゾリル基(2−、4−又は5−オキサゾリル基)、チアゾリル基(2−、4−又は5−チアゾリル基)、ピラゾリル基(1−、3−、4−又は5−ピラゾリル基)、イソキサゾリル基(3−、4−又は5−イソオキサゾリル基)、イソチアゾリル基(3−、4−又は5−イソチアゾリル基)、オキサジアゾリル基(1,2,4−オキサジアゾール−3又は5−イル基、1,3,4−オキサジアゾール−2−イル基、1,2,5−オキサジアゾール−3−イル基)、チアジアゾリル基、(1,2,4−チアジアゾール−3又は5−イル基、1,3,4−チアジアゾール−2−イル基、1,2,5−チアジアゾール−3−イル基)、トリアゾリル基(1,2,4−トリアゾール−1、3、4又は5−イル基、1,2,3−トリアゾール−1、2又は4−イル基)、インドリル基(1−、2−、3−、4−、5−、6−又は7−インドリル基)、ベンゾフリル基(2−、3−、4−、5−、6−又は7−ベンゾフリル基)、ベンゾチエニル基(2−、3−、4−、5−、6−又は7−ベンゾチエニル基)、ベンズイミダゾリル基(1−、2−、4−、5−、6−又は7−ベンズイミダゾリル基)、ベンゾオキサゾリル基(2−、4−、5−、6−又は7−ベンゾオキサゾリル基)、ベンゾチアゾリル基(2−、4−、5−、6−又は7−ベンゾチアゾリル基)、ピリジル基(2−、3−又は4−ピリジル基)、ピリジン−1−オキシド基(2−、3−又は4−ピリジン−1−オキシド基)、ピリミジニル基(2−、4−又は5−ピリミジニル基)、テトラゾリル基(1H−テトラゾール−1又は5−イル基、2H−テトラゾール−2又は5−イル基)、キノリル基(2−、3−、4−、5−、6−、7−又は8−キノリル基)又はイソキノリル基(1−、3−、4−、5−、6−、7−又は8−イソキノリル基)、ピロリジニル基(1−、2−又は3−ピロリジニル基)、ピラゾリジニル基(1−、3−又は4−ピラゾリジニル基)、イミダゾリジニル基(1−、2−又は4−イミダゾリジニル基)、ピロリニル基(1−、2−又は3−ピロリニル基)、ピラゾリニル基(1−、3−又は4−ピラゾリニル基)、イミダゾリニル基(1−、2−、4−又は5−イミダゾリニル基)、テトラヒドロフリル基(2−又は3−テトラヒドロフリル基)、テトラヒドロチエニル基(2−又は3−テトラヒドロチエニル基)、チアゾリジニル基(2−、3−、4−又は5−チアゾリジニル基)、ピペリジニル基(1−、2−、3−又は4−ピペリジニル基)、ピペラジニル基(1−又は2−ピペラジニル基)、テトラヒドロピラニル基(2−、3−又は4−テトラヒドロピラニル基)、モルホリニル基(2−、3−又は4−モルホリニル基)、チオモルホリニル基(2−、3−又は4−チオモルホリニル基)、ジオキソラニル基(2−又は4−ジオキソラニル基)、ホモピペリジニル基(1−、2−、3−又は4−ホモピペリジニル基)、ホモピペラジニル基(1−、2−、5−又は6−ホモピペラジニル基)、インドリニル基(1−、2−、3−、4−、5−、6−又は7−インドリニル基)、クロマニル基(2−、3−、4−、5−、6−、7−又は8−クロマニル基)等が挙げられ、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基が好ましく、1,3,4−オキサジアゾール−2−イル基、2−チアゾリル基、2−ベンゾオキサゾリル基がより好ましい。
当該ヘテロ環基は下記置換基で1またはそれ以上置換されていてもよい。ここでいう置換基としては、例えば、ニトロ基、直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基(好ましい炭素数:1〜6、例:メトキシ基)、ハロゲン原子(例:塩素原子、フッ素原子など)、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基(好ましい炭素数:1〜4、例:メチル基、エチル基、プロピル基など)、アルコキシカルボニル基(例:メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など)などが挙げられる。
置換基を有していてもよいヘテロ環基の具体例としては、5−tert−ブチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル基、2−チアゾリル基、5−メトキシカルボニルベンゾオキサゾール−2−イル基などが挙げられ、中でも5−tert−ブチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル基が好ましい。
The “heterocyclic group” of the “heterocyclic group optionally having a substituent” in Y includes 5 to 5 hetero atoms selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom in addition to the carbon atom. A 6-membered heterocyclic group, and a condensed heterocyclic group thereof, such as a pyrrolyl group (1-, 2- or 3-pyrrolyl group), a furyl group (2- or 3-furyl group), a thienyl group (2- Or 3-thienyl group), imidazolyl group (1-, 2-, 4- or 5-imidazolyl group), oxazolyl group (2-, 4- or 5-oxazolyl group), thiazolyl group (2-, 4- or 5) -Thiazolyl group), pyrazolyl group (1-, 3-, 4- or 5-pyrazolyl group), isoxazolyl group (3-, 4- or 5-isoxazolyl group), isothiazolyl group (3-, 4- or 5-isothiazolyl group) Group), oxadiazolyl (1,2,4-oxadiazol-3 or 5-yl group, 1,3,4-oxadiazol-2-yl group, 1,2,5-oxadiazol-3-yl group), thiadiazolyl Group, (1,2,4-thiadiazol-3 or 5-yl group, 1,3,4-thiadiazol-2-yl group, 1,2,5-thiadiazol-3-yl group), triazolyl group (1, 2,4-triazol-1,3,4,5-yl group, 1,2,3-triazol-1,2, or 4-yl group), indolyl group (1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-indolyl group), benzofuryl group (2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-benzofuryl group), benzothienyl group (2-, 3-, 4-, 5) -, 6- or 7-benzothienyl group), benzimidazolyl group (1-, 2-, 4-, 5-, -Or 7-benzimidazolyl group), benzoxazolyl group (2-, 4-, 5-, 6- or 7-benzoxazolyl group), benzothiazolyl group (2-, 4-, 5-, 6- Or 7-benzothiazolyl group), pyridyl group (2-, 3- or 4-pyridyl group), pyridine-1-oxide group (2-, 3- or 4-pyridine-1-oxide group), pyrimidinyl group (2- , 4- or 5-pyrimidinyl group), tetrazolyl group (1H-tetrazol-1 or 5-yl group, 2H-tetrazol-2 or 5-yl group), quinolyl group (2-, 3-, 4-, 5- , 6-, 7- or 8-quinolyl group) or isoquinolyl group (1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- or 8-isoquinolyl group), pyrrolidinyl group (1-, 2- or 3). -Pyrrolidinyl group), pyrazolidinyl group (1-, 3- or 4-pyrazolidinyl group), imidazolidinyl group (1-, 2- or 4-imidazolidinyl group), pyrrolinyl group (1-, 2- or 3-pyrrolinyl group), pyrazolinyl group (1-, 3- or 4- Pyrazolinyl group), imidazolinyl group (1-, 2-, 4- or 5-imidazolinyl group), tetrahydrofuryl group (2- or 3-tetrahydrofuryl group), tetrahydrothienyl group (2- or 3-tetrahydrothienyl group), Thiazolidinyl group (2-, 3-, 4- or 5-thiazolidinyl group), piperidinyl group (1-, 2-, 3- or 4-piperidinyl group), piperazinyl group (1- or 2-piperazinyl group), tetrahydropyrani Group (2-, 3- or 4-tetrahydropyranyl group), morpholinyl group (2-, 3- or 4-morpholinyl group), thiomo Folinyl group (2-, 3- or 4-thiomorpholinyl group), dioxolanyl group (2- or 4-dioxolanyl group), homopiperidinyl group (1-, 2-, 3- or 4-homopiperidinyl group), homopiperazinyl group (1- 2-, 5- or 6-homopiperazinyl group), indolinyl group (1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- or 7-indolinyl group), chromanyl group (2-, 3-, 4) -, 5-, 6-, 7- or 8-chromanyl group) and the like, and an oxadiazolyl group, a thiazolyl group, and a benzoxazolyl group are preferable, and a 1,3,4-oxadiazol-2-yl group, 2-thiazolyl group and 2-benzoxazolyl group are more preferable.
The heterocyclic group may be substituted with one or more of the following substituents. Examples of the substituent herein include a nitro group, a linear or branched alkoxy group (preferable carbon number: 1 to 6, example: methoxy group), a halogen atom (example: chlorine atom, fluorine atom, etc.). A linear or branched alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 4, eg, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), an alkoxycarbonyl group (eg: methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), etc. Can be mentioned.
Specific examples of the heterocyclic group which may have a substituent include 5-tert-butyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl group, 2-thiazolyl group, and 5-methoxycarbonylbenzoxazole. -2-yl group and the like can be mentioned, among which 5-tert-butyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl group is preferable.

Yにおける「置換基を有していてもよいアシル基」の「アシル基」とは、炭素数が好ましくは1〜20である、直鎖状または分岐鎖状のアシル基であり、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基などが挙げられる。当該アシル基は下記置換基で1またはそれ以上置換されていてもよい。ここでいう置換基としては、例えば、ニトロ基、直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基(好ましい炭素数:1〜6、例:メトキシ基)、ハロゲン原子(例:塩素原子、フッ素原子など)、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基(好ましい炭素数:1〜4、例:メチル基、エチル基、プロピル基など)、2−ピリジルオキシ基などが挙げられる。「置換基を有していてもよいアシル基」の好適な具体例としては、4−(2−ピリジルオキシ)ブチリル基が挙げられる。   The “acyl group” of the “optionally substituted acyl group” in Y is a linear or branched acyl group having preferably 1 to 20 carbon atoms, such as acetyl Group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group and the like. The acyl group may be substituted with one or more of the following substituents. Examples of the substituent herein include a nitro group, a linear or branched alkoxy group (preferable carbon number: 1 to 6, example: methoxy group), a halogen atom (example: chlorine atom, fluorine atom, etc.). A linear or branched alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group), a 2-pyridyloxy group, and the like. Specific examples of the “acyl group optionally having a substituent” include a 4- (2-pyridyloxy) butyryl group.

Qにおける「アシル基以外のアミノ基の保護基」とは、アシル基以外であれば特に制限はなく、例えばベンジルオキシカルボニル基(Cbz基)、tert−ブトキシカルボニル基(Boc基)、メトキシカルボニル基(Moc基)、9−フルオレニルメトキシカルボニル基(Fmoc基)等が挙げられる。なかでも、緩和な条件で脱保護できるCbz基、Boc基等が好ましい。   The “protecting group for an amino group other than an acyl group” in Q is not particularly limited as long as it is other than an acyl group. For example, benzyloxycarbonyl group (Cbz group), tert-butoxycarbonyl group (Boc group), methoxycarbonyl group (Moc group), 9-fluorenylmethoxycarbonyl group (Fmoc group) and the like. Of these, a Cbz group, a Boc group, and the like that can be deprotected under mild conditions are preferable.

次に、各記号の好ましい態様について説明する。
Pはアルキル基または置換基を有していてもよいアラルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ベンジル基がより好ましい。
Next, a preferred embodiment of each symbol will be described.
P is preferably an alkyl group or an aralkyl group which may have a substituent, and more preferably a methyl group, an ethyl group or a benzyl group.

の置換基を有していてもよいアルキル基としてはメチル基またはエチル基が好ましく、置換基を有していてもよいアリール基としてはニトロフェニル基が好ましく、置換基を有していてもよいアラルキル基としてはベンジル基またはクロロベンジル基が好ましく、トリアルキルシリル基としてはトリメチルシリル基が好ましく、−COR4aとしてはアセチル基またはプロピオニル基が好ましく、−SO4bとしてはメタンスルホニル基またはp−トルエンスルホニル基が好ましい。 The alkyl group which may have a substituent for R 3 is preferably a methyl group or an ethyl group, and the aryl group which may have a substituent is preferably a nitrophenyl group, which has a substituent. preferably a benzyl group or a chlorobenzyl group as aralkyl group, preferably a trimethylsilyl group as a trialkylsilyl group, preferably an acetyl group or a propionyl group as -COR 4a, as the -SO 2 R 4b, or methanesulfonyl group A p-toluenesulfonyl group is preferred.

Mは、ナトリウムまたはカリウムが好ましい。   M is preferably sodium or potassium.

はフェニル基、p−フルオロフェニル基、メチル基が好ましい。 R 5 is preferably a phenyl group, a p-fluorophenyl group, or a methyl group.

は水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基またはtert−ブチル基がより好ましい。 R 6 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or a tert-butyl group.

は置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアラルキル基が好ましく、メチル基、イソプロピル基またはベンジル基がより好ましい。 R 7 is preferably an alkyl group which may have a substituent or an aralkyl group which may have a substituent, and more preferably a methyl group, an isopropyl group or a benzyl group.

は水素原子、水酸基、メトキシ基、tert−ブトキシ基、ベンジルオキシ基または−N(R)−OR10(各記号は前記と同意義を示す)が好ましく、水素原子、メトキシ基、ベンジルオキシ基または−N(Me)−OMeがより好ましい。 R 8 is preferably a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, a tert-butoxy group, a benzyloxy group or —N (R 9 ) —OR 10 (where each symbol is as defined above), and a hydrogen atom, a methoxy group, a benzyl group An oxy group or -N (Me) -OMe is more preferable.

Yは、5−tert−ブチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル基、2−チアゾリル基、トリフルオロメチル基、4−(2−ピリジルオキシ)ブチリル基または5−メトキシカルボニルベンゾオキサゾール−2−イル基が好ましい。   Y represents 5-tert-butyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl group, 2-thiazolyl group, trifluoromethyl group, 4- (2-pyridyloxy) butyryl group or 5-methoxycarbonylbenzo An oxazol-2-yl group is preferred.

一般式(I)、(V)、(VI)、(VIII)、(IX)、(X)、(XI)、(XII)、(XIII)、(XIV)および(XV)で表される化合物は、酸性の基を有する場合、アルカリ金属塩(たとえば、カリウム塩、ナトリウム塩、リチウム塩など)、有機アミン塩(たとえば、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩など)などの塩を形成でき、塩基性の基を有する場合、無機酸塩(たとえば、塩酸塩、硫酸塩など)、有機酸塩(たとえば、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、トシル酸塩、メシル酸塩など)などの塩を形成することができる。   Compounds represented by general formula (I), (V), (VI), (VIII), (IX), (X), (XI), (XII), (XIII), (XIV) and (XV) Can form salts such as alkali metal salts (for example, potassium salt, sodium salt, lithium salt), organic amine salts (for example, triethylamine salt, dicyclohexylamine salt), etc. When having a group, it may form a salt such as an inorganic acid salt (eg, hydrochloride, sulfate, etc.), an organic acid salt (eg, acetate, trifluoroacetate, tosylate, mesylate, etc.) it can.

本発明の製造方法は、次の反応スキームに表される。   The production method of the present invention is represented by the following reaction scheme.

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。) (In the formula, each symbol is as defined above.)

すなわち本発明は、上記反応スキームに示される工程(a)〜(m)の一部を含む、一般式(IV)、(VI)、(VII)、(IX)、(X)、(XI)または(XV)で表される化合物の製造方法であり、所望の化合物を製造するための好適なルートを適宜選択すればよい。   That is, the present invention includes general formulas (IV), (VI), (VII), (IX), (X), (XI) including a part of steps (a) to (m) shown in the above reaction scheme. Or it is the manufacturing method of the compound represented by (XV), and what is necessary is just to select the suitable route for manufacturing a desired compound suitably.

本発明の製造方法は、新規アズラクトン誘導体である化合物(IV)を製造するための新規合成ルート、工程(a)および工程(b)を含んでおり、当該工程により、化合物(IV)を高収率かつ効率的に製造することができる。   The production method of the present invention includes a novel synthesis route for producing compound (IV), which is a novel azlactone derivative, step (a) and step (b), and high yielding of compound (IV) is achieved by this step. Can be manufactured efficiently and efficiently.

当該化合物(IV)を酵素阻害剤またはその有用な中間体であるピリミジン化合物(XV)または(X)の原料とすることにより、ピリミジン環の5位のアミノ基が緩和な条件で脱保護できる脂肪族アシルで保護された合成中間体である化合物(VI)、(VII)、(IX)および(XI)を経由することができるため、工程(i)または(m)で分解等を伴うことなく脱保護できる。
このため、工程(d)、(e)、(f)、(g)および(h)に先立って脱保護する必要がなく、遊離のアミノ基のまま縮合反応を行うことによる二量化などの副反応を回避することができ、また、二量化を回避するための保護基の架け替えの必要がないので、より短い工程で、効率的に、高品質の化合物(X)または化合物(XV)を製造することができる。
Fat which can deprotect the amino group at the 5-position of the pyrimidine ring under mild conditions by using the compound (IV) as a raw material for the enzyme inhibitor or its useful intermediate, the pyrimidine compound (XV) or (X) Since it is possible to go through compounds (VI), (VII), (IX) and (XI) which are synthetic intermediates protected with a group acyl, there is no decomposition or the like in step (i) or (m) Can be deprotected.
For this reason, it is not necessary to deprotect prior to steps (d), (e), (f), (g) and (h), and a secondary reaction such as dimerization by carrying out a condensation reaction with a free amino group. Since the reaction can be avoided and there is no need to replace the protecting group to avoid dimerization, the high-quality compound (X) or compound (XV) can be efficiently produced in a shorter process. Can be manufactured.

また本発明では、化合物(IV)を原料とすることにより、脱保護工程である工程(i)または(m)において、酵素反応により脱保護できることが見出された。当該酵素反応は、中性付近で室温攪拌という緩和な条件で、高収率に進行するので、本発明に好適に適用できる。
さらには、弱酸性、室温付近という温和な条件で、分解等の副反応を伴うことなく、脱保護反応が高収率で進行することを併せて見出した。
Further, in the present invention, it has been found that by using compound (IV) as a raw material, deprotection can be performed by an enzymatic reaction in step (i) or (m) which is a deprotection step. Since the enzyme reaction proceeds in a high yield under a mild condition of stirring at room temperature in the vicinity of neutrality, it can be suitably applied to the present invention.
Furthermore, the present inventors also found that the deprotection reaction proceeds at a high yield under mild conditions such as weak acidity and near room temperature without accompanying side reactions such as decomposition.

以下に、工程(a)〜(m)について説明する。   Below, process (a)-(m) is demonstrated.

1.工程(a)
工程(a)は、化合物(I)を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、化合物(II)を得る方法である。詳細には、例えば溶媒中において、化合物(I)に水酸化アルカリ金属、好ましくはその水溶液を添加することにより行うことができるが、添加順序はこの逆または同時であってもよい。
1. Step (a)
Step (a) is a method of obtaining compound (II) by hydrolyzing compound (I) in the presence of an alkali metal hydroxide. Specifically, for example, an alkali metal hydroxide, preferably an aqueous solution thereof, may be added to compound (I) in a solvent, but the addition order may be reversed or simultaneous.

化合物(II)の製造方法としては、4−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−2−アルキル−2−オキサゾリン−5−オン類をエタノール溶媒中、ナトリウムエトキシドと反応させて、4−ヒドロキシメチレン−2−アルキル−2−オキサゾリン−5−オン類を製造する方法が知られているが(Ind. J. Chem., 39B, 688−693(2000))、開環体が副生したり、中和する際に分解物が生成するなどの問題があった。
工程(a)においては、水酸化アルカリ金属を使用することにより、緩和な条件で、高収率に化合物(II)が合成できるので有利である。
As a method for producing compound (II), 4- (N, N-dimethylaminomethylene) -2-alkyl-2-oxazolin-5-one is reacted with sodium ethoxide in an ethanol solvent to give 4-hydroxy A method for producing methylene-2-alkyl-2-oxazolin-5-ones is known (Ind. J. Chem., 39B, 688-693 (2000)). There were problems such as the generation of decomposition products during neutralization.
In step (a), the use of alkali metal hydroxide is advantageous because compound (II) can be synthesized in a high yield under mild conditions.

工程(a)で製造される化合物(II)としては塩の形態が安定であるため、Mがアルカリ金属であるナトリウム、カリウム、リチウムが好ましく、ナトリウムがより好ましい。   As the compound (II) produced in the step (a), since the salt form is stable, sodium, potassium, or lithium in which M is an alkali metal is preferable, and sodium is more preferable.

工程(a)に使用される水酸化アルカリ金属としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられ、好ましくは水酸化ナトリウムである。水酸化アルカリ金属は、固体状態で用いてもよいが、水溶液として用いるのが好ましく、その場合の濃度は0.1N〜12Nの範囲である。   Examples of the alkali metal hydroxide used in the step (a) include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like, preferably sodium hydroxide. The alkali metal hydroxide may be used in a solid state, but is preferably used as an aqueous solution, and the concentration in this case is in the range of 0.1N to 12N.

水酸化アルカリ金属の使用量は、化合物(I)に対して、通常0.9〜1.5当量、好ましくは1〜1.2当量である。   The amount of alkali metal hydroxide used is usually 0.9 to 1.5 equivalents, preferably 1 to 1.2 equivalents, relative to compound (I).

工程(a)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、水、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチルなど)、アセトニトリル、テトラヒドロフラン(THF)、N,N−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよく、水とアセトニトリル、アセトン等の水と混和する有機溶媒との混合溶媒がより好ましく、中でもアセトニトリルおよび水の混合溶媒が好ましい。溶媒の使用量は、化合物(I)に対して、通常3〜50倍重量であり、好ましくは10〜20倍重量である。なお、水酸化アルカリ金属水溶液を用いる場合は、当該水の量は、溶媒の使用量に含まれる。
なお、アルコール系溶媒(例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノールなど)を用いた場合、化合物(I)のアズラクトン環の開環などの副反応が起こる傾向があるため、アルコール系溶媒を用いることは好ましくない。
As the solvent that can be used in the step (a), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. For example, water, acetate esters (for example, ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, etc.), Acetonitrile, tetrahydrofuran (THF), N, N-dimethylformamide and the like may be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more, and a mixed solvent of water and an organic solvent miscible with water such as acetonitrile or acetone. Is more preferable, and among them, a mixed solvent of acetonitrile and water is preferable. The usage-amount of a solvent is 3-50 times weight normally with respect to compound (I), Preferably it is 10-20 times weight. In addition, when using alkali metal hydroxide aqueous solution, the quantity of the said water is contained in the usage-amount of a solvent.
In addition, when alcoholic solvents (for example, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, etc.) are used, side reactions such as the opening of the azlactone ring of compound (I) tend to occur, so use alcoholic solvents. Is not preferred.

工程(a)は、通常−10℃から用いる溶媒のリフラックス温度(好ましくは0〜20℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜一晩(好ましくは2時間〜20時間)で終了する。   Step (a) is usually performed within the range of the reflux temperature (preferably 0 to 20 ° C.) of the solvent used from −10 ° C. The reaction is usually completed within 30 minutes to overnight (preferably 2 hours to 20 hours) within the above temperature range.

工程(a)の反応終了後、化合物(II)は、アルカリ金属塩の形態(M=アルカリ金属)で存在している。したがって、化合物(II)のフリー体(M=水素原子)を単離する場合は、反応混合物に酸(例えば、塩酸、硫酸等)を加え、pHを3.5〜4.5にした後、通常の単離精製法、例えば、反応混合物を濃縮するかまたは晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(II)のフリー体を単離することができるが、これらに限定されない。
アルカリ金属塩の形態で単離する場合は、通常の単離精製法、例えば、反応混合物を濃縮するかまたは晶析させることにより、化合物(II)のアルカリ金属塩の形態を単離することができる。
After completion of the reaction in step (a), compound (II) is present in the form of an alkali metal salt (M = alkali metal). Therefore, when isolating the free form (M = hydrogen atom) of compound (II), an acid (for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) is added to the reaction mixture to adjust the pH to 3.5 to 4.5, The free form of compound (II) can be isolated by a usual isolation and purification method, for example, by concentrating or crystallizing the reaction mixture, or subjecting to a silica gel column chromatography, but is not limited thereto. Not.
In the case of isolation in the form of an alkali metal salt, it is possible to isolate the alkali metal salt form of the compound (II) by concentrating or crystallizing the reaction mixture, for example, by a conventional isolation and purification method. it can.

また、化合物(II)のアルカリ金属塩の形態は水和物を形成しやすく、水和物のまま工程(b)に供した場合、水の影響で分解等の悪影響が起こる虞があるため、有機溶媒中での高温スラリー洗浄や高温乾燥等で無水結晶とするのが好ましい。
工程(a)にて得られる化合物(II)のうち、アルカリ金属塩の形態のものは新規化合物である。
In addition, the form of the alkali metal salt of compound (II) tends to form a hydrate, and when subjected to the step (b) as a hydrate, there is a possibility that adverse effects such as decomposition may occur due to the influence of water. It is preferable to form anhydrous crystals by high temperature slurry washing or high temperature drying in an organic solvent.
Among the compounds (II) obtained in step (a), those in the form of alkali metal salts are novel compounds.

工程(a)の原料である化合物(I)は、公知の方法により製造することができる。
例えば、後掲の参考例1〜3のように、一般式:PC(=O)NHCHCOOH(式中、Pは前記と同意義を示す。)で表されるN−アシルグリシンと一般式:RNCHO(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表されるホルムアミドとオキシ塩化リンとを反応させることにより、化合物(I)を製造することができる(Ind. J. Chem., 39B, 688−693(2000)参照)。
また、後掲の参考例4のように、一般式:PC(=O)NHCHCOOH(式中、Pは前記と同意義を示す。)で表されるN−アシルグリシンを一般式:RNCH(OMe)(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表されるホルムアミドジメチルアセタールおよびN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドと反応させることにより、化合物(I)を製造することができる(J. Heterocyclic Chem., 34, 247(1997)参照)。
Compound (I) which is a raw material of the step (a) can be produced by a known method.
For example, as in Reference Examples 1 to 3 below, N-acylglycine represented by the general formula: PC (═O) NHCH 2 COOH (wherein P is as defined above) and the general formula : Compound (I) can be produced by reacting formamide represented by R 1 R 2 NCHO (wherein each symbol is as defined above) and phosphorus oxychloride (Ind. J. Chem., 39B, 688-693 (2000)).
Further, as in Reference Example 4 described later, an N-acylglycine represented by the general formula: PC (═O) NHCH 2 COOH (wherein P is as defined above) is represented by the general formula: R Compound (I) is produced by reacting with formamide dimethyl acetal represented by 1 R 2 NCH (OMe) 2 (wherein each symbol is as defined above) and N, N′-dicyclohexylcarbodiimide. (See J. Heterocyclic Chem., 34, 247 (1997)).

2.工程(b)
工程(b)は、化合物(II)を試薬(III)と反応させて、化合物(IV)を得る方法である。詳細には、例えば溶媒中において、化合物(II)に試薬(III)を添加することにより行うことができるが、添加順序はこの逆または同時であってもよい。
2. Step (b)
Step (b) is a method of obtaining compound (IV) by reacting compound (II) with reagent (III). In detail, it can carry out by adding reagent (III) to compound (II), for example in a solvent, However, The addition order may be reverse or simultaneous.

アズラクトン環2位が脂肪族基である化合物(IV)は、アズラクトン化合物の一般的製造方法であるErlenmeyer法では、副生成物が多く生成し、極めて収率が低く、単離も困難である。本発明の工程(a)および工程(b)により、化合物(IV)を、公知の化合物(I)から緩和な条件で、高収率に製造できるので有利である。   In the Erlenmeyer method, which is a general method for producing an azlactone compound, the compound (IV) in which the 2-position of the azlactone ring is an aliphatic group produces many by-products, has a very low yield, and is difficult to isolate. The step (a) and the step (b) of the present invention are advantageous because the compound (IV) can be produced from the known compound (I) under a mild condition in a high yield.

工程(b)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチルなど)、アセトニトリル、THF、N,N−ジメチルホルムアミド、ハロゲン系溶媒(例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等)、アセトンなどが挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよく、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、クロロホルムの単独または混合溶媒が好ましい。溶媒の使用量は、化合物(II)に対して、通常3〜50倍重量であり、好ましくは5〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (b), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. For example, acetates (for example, ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, etc.), acetonitrile, Examples include THF, N, N-dimethylformamide, halogenated solvents (for example, chloroform, dichloromethane, etc.), acetone and the like. These may be used alone or in combination of two or more, N, N-dimethylformamide, acetonitrile. , Chloroform alone or a mixed solvent is preferable. The usage-amount of a solvent is 3-50 times weight normally with respect to compound (II), Preferably it is 5-20 times weight.

工程(b)に使用される試薬(III)としては、一般式(III)におけるRおよびXにより定義され得るものであれば特に限定されず、具体的には、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、塩化ベンジル、臭化ベンジル、ヨウ化ベンジル、p−トルエンスルホニルクロリド、メタンスルホニルクロリド、トリメチルシリルクロリド、塩化アセチル、無水酢酸等が挙げられるが、これらに限定されるものでない。収率およびコスト面から、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、臭化ベンジル、トリメチルシリルクロリドが好ましい。 The reagent (III) used in the step (b) is not particularly limited as long as it can be defined by R 3 and X in the general formula (III), and specifically, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, iodine Examples thereof include, but are not limited to, methyl iodide, ethyl iodide, benzyl chloride, benzyl bromide, benzyl iodide, p-toluenesulfonyl chloride, methanesulfonyl chloride, trimethylsilyl chloride, acetyl chloride, and acetic anhydride. From the viewpoint of yield and cost, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, benzyl bromide, and trimethylsilyl chloride are preferable.

化合物(II)がフリー体(M=水素原子)である場合は、反応中に塩基を添加するのが好ましい。そのような塩基としては、無機塩基(例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等)または有機塩基(例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン等)が挙げられ、有機塩基、特にトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンが好ましい。
当該塩基の使用量は、化合物(II)に対して、通常0.5〜5当量、好ましくは1〜1.5当量である。
When compound (II) is a free form (M = hydrogen atom), it is preferable to add a base during the reaction. Such bases include inorganic bases (eg, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydride, potassium hydride, etc.) or organic bases (eg, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, N-methylmorpholine, etc.), Organic bases, particularly triethylamine and diisopropylethylamine are preferred.
The amount of the base to be used is generally 0.5 to 5 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to compound (II).

試薬(III)の使用量は使用する試薬の種類にもよるが、化合物(II)に対して、通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.5当量である。なお、無水酢酸を上記使用量を越えて使用した場合、当該部分は溶媒として機能していることになる。   The amount of reagent (III) used depends on the type of reagent used, but is usually 0.9 to 2 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to compound (II). When acetic anhydride is used in excess of the above amount, the part functions as a solvent.

工程(b)は、通常0℃から用いる溶媒のリフラックス温度(好ましくは0〜80℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜一晩(好ましくは1時間〜20時間)で終了する。   Step (b) is usually performed within the range of the reflux temperature (preferably 0 to 80 ° C.) of the solvent used from 0 ° C. The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-overnight (preferably 1 hour-20 hours) within the said temperature range.

化合物(IV)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(IV)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(IV)を精製することができるが、これらに限定されない。
また、化合物(IV)は単離することなく、化合物(IV)を含む反応混合物として、次工程に供することもできる。
Isolation and purification of compound (IV) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (IV) can be isolated. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) , Dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc.) are added for crystallization or subjected to silica gel column chromatography to purify compound (IV) However, it is not limited to these.
In addition, compound (IV) can be subjected to the next step as a reaction mixture containing compound (IV) without isolation.

なお、工程(b)にて得られる化合物(IV)の一部、すなわち化合物(IV’)は新規化合物であり、本発明の酵素阻害剤の中間体として有用であるほか、各種アミノ酸誘導体や複素環誘導体の合成中間体としても利用可能である(International Journal of Peptideb & protein Research, 45(3), 266-71(1995); J. C. S. Parkin. Transaction 1, (17), 2813-16(1998)等参照)。   A part of the compound (IV) obtained in the step (b), that is, the compound (IV ′) is a novel compound and is useful as an intermediate of the enzyme inhibitor of the present invention. It can also be used as an intermediate for the synthesis of ring derivatives (International Journal of Peptideb & protein Research, 45 (3), 266-71 (1995); JCS Parkin. Transaction 1, (17), 2813-16 (1998), etc. reference).

3.工程(c)
工程(c)は、化合物(IV)を化合物(V)またはその塩と反応させて、化合物(VI)またはその塩を得る方法である。この反応は、溶媒中で行い、具体的には、例えば、化合物(V)またはその溶液に化合物(IV)またはその溶液を加え(溶液の場合には好ましくは滴下し)、加熱撹拌する。添加順序はこの逆または同時であってもよい。
3. Step (c)
Step (c) is a method in which compound (IV) or a salt thereof is obtained by reacting compound (IV) with compound (V) or a salt thereof. This reaction is carried out in a solvent. Specifically, for example, compound (IV) or a solution thereof is added to compound (V) or a solution thereof (preferably dropwise in the case of a solution), and the mixture is heated and stirred. The order of addition may be reversed or simultaneous.

化合物(V)は、Rがアルキル基またはアラルキル基の場合は、フリー体では分解する傾向にあり、固体としては通常、安定な塩の形態で単離される。化合物(V)の塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、トリフルオロ酢酸塩などの酸付加塩が挙げられる。尚、化合物(V)において、Rが水素原子の場合は、分子中のイミノ基と塩を形成して安定に存在し、またナトリウム塩、カリウム塩等の塩基付加塩としても安定に存在する。従って、フリー体である化合物(V)を化合物(IV)と反応させる場合、化合物(V)を塩基付加塩とするのに必要な量の塩基(例えば、ナトリウムエトキシド、カリウムブトキシド、ナトリウムメトキシドなどのアルコキシド化合物)を用いるのが好ましい。 Compound (V) tends to decompose in a free form when R 6 is an alkyl group or an aralkyl group, and is usually isolated in the form of a stable salt as a solid. Examples of the salt of compound (V) include acid addition salts such as hydrochloride, sulfate, and trifluoroacetate. In the compound (V), when R 6 is a hydrogen atom, it forms a salt with an imino group in the molecule and exists stably, and also exists as a base addition salt such as sodium salt or potassium salt. . Therefore, when the free compound (V) is reacted with the compound (IV), an amount of base (for example, sodium ethoxide, potassium butoxide, sodium methoxide) required to convert the compound (V) into a base addition salt is used. Etc.) are preferably used.

工程(c)において、これら化合物(V)の酸付加塩は、溶媒中で塩基を用いて中和し、一旦フリー体に変換した後に化合物(IV)と反応させるのが好ましい。反応前に一旦フリー体とせず、例えば溶媒中に化合物(V)の塩及び化合物(IV)を溶解し、塩基を添加して反応させることもできるが、この場合、目的物である化合物(VI)の収率が低下する。中和に用いる塩基としては、特に限定されず、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどを挙げることができる。これらの塩基は水溶液として用いてもよい。中和は通常溶媒中で行われ、溶媒としては、トルエン、酢酸エチル等を用いることができ、この場合、塩基を溶解させるための水を加えるのが好ましく、有機層に抽出された化合物(V)のフリー体を分液して用いることができる。塩基の使用量は化合物(V)の塩をフリー体に変換できる量であれば特に限定はないが、経済上の観点から化合物(V)に対して3当量以下とするのが好ましい。   In step (c), the acid addition salt of compound (V) is preferably neutralized with a base in a solvent, once converted to a free form, and then reacted with compound (IV). Prior to the reaction, it is possible to dissolve the compound (V) salt and the compound (IV) in a solvent and add a base, for example. ) Is reduced. The base used for neutralization is not particularly limited, and examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, triethylamine, sodium methoxide, sodium ethoxide and the like. These bases may be used as an aqueous solution. Neutralization is usually carried out in a solvent. As the solvent, toluene, ethyl acetate or the like can be used. In this case, it is preferable to add water for dissolving the base, and the compound (V ) Free form can be separated and used. The amount of the base used is not particularly limited as long as the salt of compound (V) can be converted into a free form, but it is preferably 3 equivalents or less with respect to compound (V) from the economical viewpoint.

工程(c)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチルなど)、炭化水素類(例えば、トルエン、ベンゼン、キシレンなど)、アセトニトリル、THF、アルコール類(例えば、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノールなど)、N,N−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよく、アセトニトリル、トルエン、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチルが好ましく、アセトニトリル、トルエンおよびイソプロピルアルコールの単独または混合溶媒がより好ましく、中でもアセトニトリルおよびトルエンの単独または混合溶媒が好ましい。溶媒の使用量は、化合物(IV)に対して、通常2〜50倍重量であり、好ましくは5〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (c), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. For example, acetates (for example, ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, etc.), hydrocarbons (For example, toluene, benzene, xylene, etc.), acetonitrile, THF, alcohols (for example, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, etc.), N, N-dimethylformamide, and the like. The above may be used in combination, and acetonitrile, toluene, ethanol, isopropyl alcohol, and ethyl acetate are preferable. Acetonitrile, toluene, and isopropyl alcohol alone or a mixed solvent are more preferable, and among them, acetonitrile and toluene alone or a mixed solvent are preferable. The usage-amount of a solvent is 2-50 times weight normally with respect to compound (IV), Preferably it is 5-20 times weight.

化合物(V)の使用量は、化合物(IV)に対して、通常0.9〜3当量、好ましくは1〜1.3当量である。   The amount of compound (V) to be used is generally 0.9 to 3 equivalents, preferably 1 to 1.3 equivalents, relative to compound (IV).

工程(b)の反応混合物を化合物(IV)として用いる場合、各試剤の使用量としては、工程(b)で使用した化合物(II)を基準にして上記範囲内で使用することができる。   When using the reaction mixture of the step (b) as the compound (IV), the amount of each reagent used can be within the above range based on the compound (II) used in the step (b).

化合物(IV)と化合物(V)との反応は、通常10℃から用いる溶媒のリフラックス温度の範囲内(好ましくは20〜80℃)で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常1時間〜20時間(好ましくは3時間〜15時間)で終了する。   The reaction between compound (IV) and compound (V) is usually carried out within the range of the reflux temperature of the solvent used from 10 ° C (preferably 20 to 80 ° C). The reaction is usually completed within 1 to 20 hours (preferably 3 to 15 hours) within the above temperature range.

化合物(VI)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(VI)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(VI)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of compound (VI) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (VI) can be isolated. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) , Dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or mixed solvents thereof, etc.) are added to crystallize or subject to silica gel column chromatography to purify compound (VI) However, it is not limited to these.

4.工程(d)
工程(d)は、化合物(VI)またはその塩を、化合物(VI)におけるRが水素原子以外の場合は加水分解等により、カルボン酸体に変換した後、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させて、化合物(VII)を得る方法である。
化合物(VII)は新規化合物であり、後の工程(e)のように各種アミン類とそのままアミド化することができるので、汎用性のある中間体として便利であり、また、アミノ酸のようなフリーのカルボキシル基を有するアミン類とカルボキシル基を保護することなく縮合することができるという利点がある。
4). Step (d)
In step (d), compound (VI) or a salt thereof is converted to a carboxylic acid form by hydrolysis or the like when R 6 in compound (VI) is other than a hydrogen atom, and then condensed with N-hydroxysuccinimide. This is a method for obtaining compound (VII).
Compound (VII) is a novel compound and can be amidated directly with various amines as in the following step (e), so it is convenient as a versatile intermediate and free of amino acids. There is an advantage that it can be condensed with an amine having a carboxyl group without protecting the carboxyl group.

化合物(VI)のRが水素原子以外、すなわち、アルキル基またはアラルキル基の場合は、加水分解、酸処理、水素添加等することにより、まずカルボン酸の形態(R=水素原子、以下、単にカルボン酸体ともいう。)にする。当該加水分解、酸処理、水素添加等は、当業者に公知の方法で行えばよい。例えば、加水分解は、メタノールまたはエタノールのようなアルコールあるいは水と混合溶媒中、塩基(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)または酸(例えば、塩酸、硫酸等)と反応させることにより行うことができるが、これに限定されない。 When R 6 of the compound (VI) is other than a hydrogen atom, that is, an alkyl group or an aralkyl group, first, the form of carboxylic acid (R 6 = hydrogen atom, hereinafter, by hydrolysis, acid treatment, hydrogenation, etc.) Simply referred to as carboxylic acid form). The hydrolysis, acid treatment, hydrogenation and the like may be performed by methods known to those skilled in the art. For example, hydrolysis is performed by reacting with a base (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) or an acid (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) in a mixed solvent with alcohol or water such as methanol or ethanol. However, it is not limited to this.

例えば、Rがtert−ブチル基等の場合は、酸処理を行うことによりカルボン酸体にすることができ、例えば有機溶媒中、トリフルオロ酢酸等の酸で処理することにより行うことができる。 For example, when R 6 is a tert-butyl group or the like, it can be converted into a carboxylic acid form by performing an acid treatment, for example, by treating with an acid such as trifluoroacetic acid in an organic solvent.

また、Rがベンジル等の場合は、水素化分解を行うことによりカルボン酸体にすることができ、例えばパラジウム炭素等の触媒の存在下、接触還元することにより行うことができる。 In addition, when R 6 is benzyl or the like, it can be converted into a carboxylic acid form by hydrogenolysis, for example, by catalytic reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon.

カルボン酸体とN−ヒドロキシスクシンイミドとを縮合させる方法としては、当業者に公知の方法で行えばよく、特に限定されない。例えば、カルボン酸体を塩化チオニル、五塩化リン等の塩素化剤と反応させて酸塩化物に導いた後、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させてもよいが、化合物(VI)の分子内に第1アミドが存在するため、縮合剤によりカルボン酸体を活性化した後に、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させる方法が好ましい。
以下に、好ましい態様を挙げて説明するが、工程(d)はこの態様に何ら限定されるものではない。
The method for condensing the carboxylic acid form with N-hydroxysuccinimide may be carried out by a method known to those skilled in the art and is not particularly limited. For example, a carboxylic acid form may be reacted with a chlorinating agent such as thionyl chloride or phosphorus pentachloride to be led to an acid chloride, and then condensed with N-hydroxysuccinimide. Since 1 amide exists, a method of activating the carboxylic acid form with a condensing agent and then condensing with N-hydroxysuccinimide is preferable.
The preferred embodiment will be described below, but the step (d) is not limited to this embodiment.

好ましい態様としては具体的には、溶媒中においてカルボン酸体を活性化剤で活性化した後、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させる。   Specifically, as a preferred embodiment, the carboxylic acid form is activated with an activator in a solvent and then condensed with N-hydroxysuccinimide.

活性化剤としては、例えばクロロギ酸エステル(例えば、クロロギ酸エチル、クロロギ酸イソブチル、クロロギ酸メチル等)、カルボジイミド類(例えば、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、N−(3−ジメチルアミノプロピル)−N’−エチルカルボジイミド(EDC)等)、カルボジイミダゾール(CDI)、ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)等が挙げられるが、これらに限定されない。このうち、クロロギ酸エステル、DCC、EDC等が好ましく、クロロギ酸エチル、クロロギ酸イソブチルが特に好ましい。   Examples of the activator include chloroformates (eg, ethyl chloroformate, isobutyl chloroformate, methyl chloroformate, etc.), carbodiimides (eg, N, N′-dicyclohexylcarbodiimide (DCC), N- (3-dimethylamino). Propyl) -N′-ethylcarbodiimide (EDC) and the like, carbodiimidazole (CDI), diphenylphosphoryl azide (DPPA) and the like, but are not limited thereto. Of these, chloroformate, DCC, EDC and the like are preferable, and ethyl chloroformate and isobutyl chloroformate are particularly preferable.

活性化剤の使用量は、カルボン酸体に対して、通常0.9〜1.5当量、好ましくは1〜1.3当量である。   The usage-amount of an activator is 0.9-1.5 equivalent normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 1-1.3 equivalent.

カルボン酸体を活性化する際に、必要に応じ塩基を添加してもよい。そのような塩基としては、無機塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)または有機塩基(例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、ピペリジン等)が挙げられ、有機塩基、特にN−メチルモルホリン、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
当該塩基の使用量は、カルボン酸体に対して、通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.5当量である。
When activating the carboxylic acid form, a base may be added as necessary. Such bases include inorganic bases (eg, sodium carbonate, potassium carbonate, etc.) or organic bases (eg, triethylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, pyridine, piperidine, etc.), and organic bases, particularly N- Methylmorpholine, triethylamine and pyridine are preferred.
The usage-amount of the said base is 0.9-2 equivalent normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 1-1.5 equivalent.

カルボン酸体の活性化に使用される溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチルなど)、炭化水素類(例えば、トルエン、ベンゼン、キシレンなど)、アセトニトリル、THF、ジクロロメタン、メチル−tert−ブチルエーテル等などが挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよく、アセトニトリル、THF、酢酸エチル等の単独または混合溶媒がより好ましい。溶媒の使用量は、カルボン酸体に対して、通常3〜50倍重量であり、好ましくは5〜20倍重量である。   The solvent used for the activation of the carboxylic acid form may be any solvent as long as it does not inhibit this reaction. For example, acetate esters (for example, ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, etc.) , Hydrocarbons (for example, toluene, benzene, xylene, etc.), acetonitrile, THF, dichloromethane, methyl-tert-butyl ether and the like. These may be used alone or in combination of two or more, acetonitrile, THF In addition, a single or mixed solvent such as ethyl acetate is more preferable. The usage-amount of a solvent is 3-50 times weight normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 5-20 times weight.

カルボン酸体の活性化は、通常−40℃から用いる溶媒のリフラックス温度の範囲内(好ましくは−10〜10℃)で行う。当該活性化は、上記温度範囲内で、通常5分〜3時間(好ましくは10分〜1時間)で終了する。   The activation of the carboxylic acid is usually performed within the range of the reflux temperature of the solvent used from -40 ° C (preferably -10 to 10 ° C). The activation is usually completed within 5 minutes to 3 hours (preferably 10 minutes to 1 hour) within the above temperature range.

カルボン酸体の活性化の後に、反応混合物にN−ヒドロキシスクシンイミドを添加する。添加順序はこの逆または同時であってもよい。
N−ヒドロキシスクシンイミドの使用量は、カルボン酸体に対して、通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.3当量である。
After activation of the carboxylic acid form, N-hydroxysuccinimide is added to the reaction mixture. The order of addition may be reversed or simultaneous.
The usage-amount of N-hydroxysuccinimide is 0.9-2 equivalent normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 1-1.3 equivalent.

N−ヒドロキシスクシンイミドとの縮合は、通常−50〜40℃の範囲内(好ましくは−20〜20℃)で行う。当該縮合は、上記温度範囲内で、通常1時間〜20時間(好ましくは2時間〜5時間)で終了する。   The condensation with N-hydroxysuccinimide is usually carried out within the range of -50 to 40 ° C (preferably -20 to 20 ° C). The condensation is usually completed within 1 to 20 hours (preferably 2 to 5 hours) within the above temperature range.

化合物(VII)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(VII)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(VII)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of compound (VII) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (VII) can be isolated. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) , Dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc.) are added for crystallization, or subjected to silica gel column chromatography to purify compound (VII) However, it is not limited to these.

5.工程(e)
工程(e)は、化合物(VII)と化合物(VIII)またはその塩とを反応させて、化合物(IX)またはその塩を得る方法である。詳細には、例えば溶媒中において、化合物(VIII)の溶液に、化合物(VII)またはその溶液を添加することにより行うことができるが、添加順序はこの逆または同時であってもよい。
5). Step (e)
Step (e) is a method in which compound (VII) and compound (VIII) or a salt thereof are reacted to obtain compound (IX) or a salt thereof. Specifically, for example, the compound (VII) or the solution thereof can be added to the solution of the compound (VIII) in a solvent, but the addition order may be reversed or simultaneous.

工程(e)は、化合物(VIII)においてRが水酸基である場合も、化合物(VIII)の自己重合等の副反応を伴うことなく行い得るという利点がある。
したがって、工程(e)における化合物(VIII)は、Rが水酸基である、すなわちフリーのアミノ酸を好適に適用することができる。
Step (e) is advantageous in that it can be carried out without side reactions such as self-polymerization of compound (VIII) even when R 8 is a hydroxyl group in compound (VIII).
Therefore, R 8 is a hydroxyl group, that is, a free amino acid can be suitably applied to compound (VIII) in step (e).

工程(e)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、水、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチルなど)、アセトニトリル、THF、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトンなどが挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよく、水、アセトニトリル、THF等の単独または混合溶媒がより好ましい。溶媒の使用量は、化合物(VII)に対して、通常2〜50倍重量であり、好ましくは5〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (e), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. For example, water, acetate esters (for example, ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, etc.), Acetonitrile, THF, N, N-dimethylformamide, acetone and the like can be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more, and water, acetonitrile, THF or the like alone or a mixed solvent is more preferable. The amount of the solvent to be used is generally 2 to 50 times weight, preferably 5 to 20 times weight, relative to compound (VII).

化合物(VIII)が、フリーのアミノ酸である場合は、予めアルカリ性水溶液(例えば、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等)でpH5〜10の水溶液として用いるのが好ましい。なお、当該水溶液の水の量は、溶媒の使用量に含まれる。   When the compound (VIII) is a free amino acid, it is preferably used in advance as an aqueous solution having a pH of 5 to 10 with an alkaline aqueous solution (for example, an aqueous sodium hydroxide solution or an aqueous potassium hydroxide solution). The amount of water in the aqueous solution is included in the amount of solvent used.

化合物(VIII)の使用量は、化合物(VII)に対して、通常0.8〜2当量、好ましくは1〜1.5当量である。   The amount of compound (VIII) to be used is generally 0.8 to 2 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to compound (VII).

工程(e)は、通常−20℃から用いる溶媒のリフラックス温度(好ましくは0〜30℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜一晩(好ましくは1時間〜10時間)で終了する。   Step (e) is usually performed within the range of the reflux temperature (preferably 0 to 30 ° C.) of the solvent used from −20 ° C. The reaction is usually completed within 30 minutes to overnight (preferably 1 hour to 10 hours) within the above temperature range.

化合物(IX)でRが水酸基の場合は、カルボン酸塩の形態で存在しているため、反応混合物に酸(例えば、塩酸、硫酸等)を加え、pHを3以下にした後、例えば、反応混合物を濃縮するかまたは晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(IX)のフリー体を精製することができるが、これらに限定されない。 When R 8 is a hydroxyl group in compound (IX), it exists in the form of a carboxylate salt. Therefore, after adding an acid (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) to the reaction mixture to reduce the pH to 3 or less, for example, The reaction mixture is concentrated or a crystallization solvent (eg, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogenated solvents (eg, For example, dichloromethane (dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc. are added for crystallization or subjected to silica gel column chromatography to give compound (IX ) Free form can be purified, but is not limited thereto.

化合物(IX)でRが水酸基以外の場合は、常法により単離精製することができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(IX)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(IX)を精製することができるが、これらに限定されない。 When R 8 is other than a hydroxyl group in compound (IX), it can be isolated and purified by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (IX) can be isolated. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) Compound (IX) is purified by crystallization by adding an alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, or subjecting to silica gel column chromatography. However, it is not limited to these.

6.工程(f)
工程(f)は、化合物(VI)またはその塩を、化合物(VI)におけるRが水素原子以外の場合は、カルボン酸体に変換した後、化合物(VIII)と縮合させて、化合物(IX)またはその塩を得る方法である。
工程(e)および工程(f)で合成される化合物(IX)は新規化合物であり、後述の工程(g)において、化合物(VIII)のアミノ基が保護された状態でRで表される基をYで表される基に変換することができるので、酵素阻害剤である化合物(XV)を効率的に製造し得る合成中間体として有用である。
6). Step (f)
In step (f), compound (VI) or a salt thereof is converted to a carboxylic acid form when R 6 in compound (VI) is other than a hydrogen atom, and then condensed with compound (VIII) to give compound (IX Or a salt thereof.
Compound (IX) synthesized in Step (e) and Step (f) is a novel compound, and is represented by R 8 in the state where the amino group of Compound (VIII) is protected in Step (g) described later. Since the group can be converted into a group represented by Y, it is useful as a synthetic intermediate that can efficiently produce the compound (XV) that is an enzyme inhibitor.

工程(f)においては、化合物(VIII)のRが水酸基である場合は、自己重合等の副反応を起こし得るので好ましくない。
したがって、工程(f)は、化合物(VIII)のRが水酸基以外、すなわち、水素原子、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または−N(R)−OR10(式中、各記号は前記と同意義を示す。)である場合に好適に適用できる。
In step (f), it is not preferred that R 8 of compound (VIII) is a hydroxyl group because side reactions such as self-polymerization can occur.
Therefore, in step (f), R 8 of compound (VIII) is other than a hydroxyl group, that is, a hydrogen atom, an alkoxy group, an aralkyloxy group, or —N (R 9 ) —OR 10 (wherein each symbol is the same as described above). It shows the significance.

化合物(VI)のRが水素原子以外、すなわち、アルキル基またはアラルキル基の場合は、工程(d)の場合と同様の方法により、まずカルボン酸体にする。 When R 6 of compound (VI) is other than a hydrogen atom, that is, an alkyl group or an aralkyl group, it is first converted to a carboxylic acid form by the same method as in step (d).

カルボン酸体と化合物(VIII)を縮合させる方法としては、工程(d)のカルボン酸体とN−ヒドロキシスクシンイミドを縮合させる方法において、N−ヒドロキシスクシンイミドの代わりに化合物(VIII)またはその塩を用いて、同様の条件により行うことができる。   As a method for condensing the carboxylic acid compound and the compound (VIII), the compound (VIII) or a salt thereof is used in place of the N-hydroxysuccinimide in the method of condensing the carboxylic acid compound and N-hydroxysuccinimide in the step (d). The same conditions can be used.

すなわち、好ましい態様としては、溶媒中においてカルボン酸体を活性化剤で活性化した後、化合物(VIII)またはその塩と縮合させることによって、化合物(IX)を製造することができる。
以下に、当該態様について説明するが、工程(f)はこの態様に何ら限定されるものではない。
That is, in a preferred embodiment, compound (IX) can be produced by activating a carboxylic acid form with a activating agent in a solvent and then condensing with compound (VIII) or a salt thereof.
Although the said aspect is demonstrated below, a process (f) is not limited to this aspect at all.

活性化剤としては、工程(d)と同様のものが挙げられ、クロロギ酸エステル、特にクロロギ酸エチル、クロロギ酸メチル、クロロギ酸イソブチル等が好ましい。
活性化剤の使用量は、カルボン酸体に対して、通常0.9〜1.5当量、好ましくは1〜1.2当量である。
Examples of the activator include those similar to those in the step (d), and chloroformates, particularly ethyl chloroformate, methyl chloroformate, isobutyl chloroformate and the like are preferable.
The usage-amount of an activator is 0.9-1.5 equivalent normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 1-1.2 equivalent.

カルボン酸体を活性化する際に、必要に応じ塩基を添加してもよい。そのような塩基としては、工程(d)と同様の塩基が挙げられ、N−メチルモルホリン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジンが好ましい。
当該塩基の使用量は、カルボン酸体に対して、通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.2当量である。
When activating the carboxylic acid form, a base may be added as necessary. Examples of such a base include the same bases as in step (d), and N-methylmorpholine, triethylamine, pyridine and piperidine are preferable.
The usage-amount of the said base is 0.9-2 equivalent normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 1-1.2 equivalent.

カルボン酸体の活性化に使用される溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチルなど)、炭化水素類(例えば、トルエン、ベンゼン、キシレンなど)、アセトニトリル、THF、ハロゲン系溶媒(例えばジクロロメタン、クロロホルム等)、エーテル系溶媒(例えばジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル等)等などが挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよく、アセトニトリル、THF、酢酸エチル、メチル−tert−ブチルエーテル等の単独または混合溶媒がより好ましい。溶媒の使用量は、カルボン酸体に対して、通常3〜50倍重量であり、好ましくは5〜20倍重量である。   The solvent used for the activation of the carboxylic acid form may be any solvent as long as it does not inhibit this reaction. For example, acetate esters (for example, ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, etc.) Hydrocarbons (eg, toluene, benzene, xylene, etc.), acetonitrile, THF, halogen solvents (eg, dichloromethane, chloroform, etc.), ether solvents (eg, diethyl ether, methyl-tert-butyl ether, etc.), etc. These may be used alone or in combination of two or more, and are preferably single or mixed solvents such as acetonitrile, THF, ethyl acetate, methyl-tert-butyl ether and the like. The usage-amount of a solvent is 3-50 times weight normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 5-20 times weight.

カルボン酸体の活性化は、通常−50〜40℃の範囲内(好ましくは−20〜20℃)で行う。当該活性化は、上記温度範囲内で、通常5分〜5時間(好ましくは15分〜2時間)で終了する。   Activation of a carboxylic acid body is normally performed within the range of -50-40 degreeC (preferably -20-20 degreeC). The activation is usually completed within 5 minutes to 5 hours (preferably 15 minutes to 2 hours) within the above temperature range.

カルボン酸体の活性化の後に、反応混合物に化合物(VIII)を添加する。添加順序はこの逆または同時であってもよい。
化合物(VIII)の使用量は、カルボン酸体に対して、通常0.9〜3当量、好ましくは1〜1.5当量である。
After activation of the carboxylic acid compound, compound (VIII) is added to the reaction mixture. The order of addition may be reversed or simultaneous.
The amount of compound (VIII) to be used is generally 0.9 to 3 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to the carboxylic acid form.

化合物(VIII)が塩の形態のときは、中和のためにカルボン酸体を活性化する際に用いた塩基と同様の塩基を併せて添加するのが好ましい。
当該塩基の使用量は、化合物(VIII)に対して、通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.5当量である。
When compound (VIII) is in the form of a salt, it is preferable to add a base similar to the base used in activating the carboxylic acid form for neutralization.
The amount of the base to be used is generally 0.9 to 2 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to compound (VIII).

化合物(VIII)との縮合は、通常−50〜40℃の範囲内(好ましくは−20〜20℃)で行う。当該縮合は、上記温度範囲内で、通常0.5時間〜20時間(好ましくは1時間〜3時間)で終了する。   The condensation with compound (VIII) is usually performed within the range of -50 to 40 ° C (preferably -20 to 20 ° C). The condensation is usually completed within 0.5 to 20 hours (preferably 1 to 3 hours) within the above temperature range.

化合物(IX)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(IX)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)等を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(IX)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of compound (IX) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an alkaline aqueous solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the resulting organic layer is concentrated. Thus, compound (IX) can be isolated. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) , Dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc.) are added to crystallize or subject to silica gel column chromatography to give compound (IX). Although it can refine | purify, it is not limited to these.

工程(e)および工程(f)の原料である化合物(VIII)は、市販のアミノ酸類が用いられ、あるいはそれらを公知の方法によってエステル化するか、または、公知の方法によって、一般式:NH(R)−OR10(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表されるヒドロキシルアミン誘導体と縮合することによって製造することができる。 As the compound (VIII) which is a raw material of the step (e) and the step (f), commercially available amino acids are used, or they are esterified by a known method, or a general formula: NH It can manufacture by condensing with the hydroxylamine derivative represented by (R < 9 >)-OR < 10 > (In formula, each symbol shows the same meaning as the above.).

7.工程(g)
工程(g)は、化合物(IX)またはその塩のRで表される基をYで表される基に変換して、化合物(XI)またはその塩を得る方法である。
工程(g)は、上述したように、化合物(IX)から、アミノ基が保護された状態で、Rで表される基をYで表される基に変換して、化合物(XI)を製造し得るので、化合物(XV)を効率的に製造することができ、有利な反応ルートの一つとなり得る。
7). Step (g)
Step (g) is a method of converting the group represented by R 8 of compound (IX) or a salt thereof into a group represented by Y to obtain compound (XI) or a salt thereof.
Step (g), as described above, the compound (IX), in a state where the amino group is protected, by converting the group represented by R 8 in the group represented by Y, the compound (XI) Therefore, compound (XV) can be produced efficiently and can be one of advantageous reaction routes.

工程(g)は、Yの態様により、Rで表される基をYで表される基に変換する方法が異なるので、以下に場合分けして説明する。 The process (g) differs depending on the mode of Y, and the method for converting the group represented by R 8 into the group represented by Y will be described below.

7−1.Yが置換基を有していてもよいヘテロ環基である場合(以下、工程(g−1)ともいう。)
工程(g−1)では、以下の反応スキームに表すように、Rで表される基をヘテロ環基に変換する方法であり、具体的には、溶媒中において化合物(IX)を一般式(XVIIa):Y−M〔式中、Yは置換基を有していてもよいヘテロ環基を示し、MはリチウムまたはMgX(ここで、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す。)を示す。〕で表される試薬(以下、試薬(XVIIa)ともいう。)と反応させて、Yが置換基を有していてもよいヘテロ環基である一般式(XI)で表される化合物(以下、化合物(XIa)ともいう。)を得ることができる。
7-1. When Y is a heterocyclic group which may have a substituent (hereinafter also referred to as step (g-1)).
Step (g-1) is a method of converting a group represented by R 8 into a heterocyclic group as shown in the following reaction scheme. Specifically, compound (IX) is represented by the general formula in a solvent. (XVIIa): Y 1 -M 1 wherein, Y 1 represents a heterocyclic group which may have a substituent group, M 1 is lithium or MgX 1 (wherein, X 1 is a chlorine atom, a bromine atom Or an iodine atom). And a compound represented by the general formula (XI) wherein Y is a heterocyclic group which may have a substituent (hereinafter referred to as a reagent (XVIIa)). , Compound (XIa)).

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)
工程(g−1)における化合物(IX)のRは、化合物(XIa)にさらに試薬(XVIIa)が反応するのを防ぐために、−N(R)−OR10(式中,各記号は前記と同意義を示す。)で表される基であるのが好ましい。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
R 8 of compound (IX) in step (g-1) is —N (R 9 ) —OR 10 (wherein each symbol is a symbol for preventing further reaction of reagent (XVIIa) with compound (XIa)). It is preferably a group represented by the same meaning as described above.

試薬(XVIIa)は、一般式:Y−HまたはY−X(式中、各記号は前記と同意義を示す)で表される化合物をアルキルリチウム類(例えば、n−ブチルリチウム、メチルリチウム等)またはリチウムアミド類(例えばリチウムジイソプロピルアミド等)とエーテル系溶媒(例えばTHF、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル(MTBE)等)中、−90〜20℃で反応させるか、あるいは一般式:Y−X(式中、各記号は前記と同意義を示す)で表される化合物をマグネシウムと通常のグリニャール試薬を生成させる条件で反応させることにより、得ることができる。 Reagent (XVIIa) is a compound represented by the general formula: Y 1 -H or Y 1 -X 1 (wherein each symbol is as defined above) alkyllithiums (for example, n-butyllithium, Methyllithium, etc.) or lithium amides (eg, lithium diisopropylamide, etc.) and ether solvents (eg, THF, diethyl ether, methyl-tert-butyl ether (MTBE), etc.) at −90 to 20 ° C. or in general It can be obtained by reacting a compound represented by the formula: Y 1 -X 1 (wherein each symbol has the same meaning as described above) under conditions for producing magnesium and a normal Grignard reagent.

工程(g−1)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばエーテル系溶媒(例えばTHF、ジエチルエーテル、MTBE等)、炭化水素系溶媒(例えば、n−へキサン、トルエン等)等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(IX)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-1), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. For example, an ether solvent (for example, THF, diethyl ether, MTBE, etc.), a hydrocarbon solvent (for example, n- Hexane, toluene, and the like), and these may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, relative to compound (IX).

試薬(XVIIa)の使用量は、化合物(IX)に対して、通常1〜10当量、好ましくは1〜6当量である。   The amount of reagent (XVIIa) to be used is generally 1-10 equivalents, preferably 1-6 equivalents, relative to compound (IX).

工程(g−1)は、通常−90〜30℃(好ましくは−80〜−20℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常10分〜5時間(好ましくは30分〜2時間)で終了する。   Step (g-1) is usually performed within the range of -90 to 30 ° C (preferably -80 to -20 ° C). The said reaction is normally complete | finished in 10 minutes-5 hours (preferably 30 minutes-2 hours) within the said temperature range.

また、Rが水素原子の場合は、化合物(XIa)の還元体(アルコール体)が得られるので、公知の方法(例えば、デスマーティン試薬、スワン酸化、Pfitzner-Moffatt 酸化等)により酸化することにより化合物(XIa)へと導くことができる。 In addition, when R 8 is a hydrogen atom, a reduced form (alcohol form) of compound (XIa) can be obtained, so that it is oxidized by a known method (for example, Dess Martin reagent, Swan oxidation, Pfitzner-Moffatt oxidation, etc.) Can lead to compound (XIa).

7−2.Rが水素原子であり、Yが、一般式(XVIII): 7-2. R 8 is a hydrogen atom, and Y is the general formula (XVIII):

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、点線は二重結合または単結合を示し、Zは酸素原子または硫黄原子を示し、R15およびR16は同一または異なって、ヘテロ環基の置換基に相当する基を示すか、または隣接する炭素原子と一緒になって、置換基を有していてもよい同素環または複素環を形成してもよい。)で表されるヘテロ環基(以下、ヘテロ環基(XVIII)ともいう。)である場合(以下、工程(g−2)ともいう。) (In the formula, a dotted line represents a double bond or a single bond, Z represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 15 and R 16 are the same or different and represent a group corresponding to a substituent of a heterocyclic group, Or a heterocyclic group (hereinafter referred to as heterocyclic group (XVIII)) represented by a heterocycle or heterocycle which may have a substituent together with adjacent carbon atoms. (Hereinafter also referred to as step (g-2)).

が水素原子である場合は、Journal of Medicinal Chemistry, 44(8), 1286-1296(2001)に記載の方法に準じて、以下の工程(g−2a)〜(g−2e)により、化合物(IX)のR(水素原子)をヘテロ環基(XVIII)に変換することができる。 When R 8 is a hydrogen atom, according to the method described in Journal of Medicinal Chemistry, 44 (8), 1286-1296 (2001), the following steps (g-2a) to (g-2e) R 8 (hydrogen atom) of compound (IX) can be converted to a heterocyclic group (XVIII).

すなわち、下記反応スキームに示すように、
工程(g−2a):Rが水素原子である一般式(IXa)で表される化合物(以下、化合物(IXa)ともいう。)またはその塩を一般式(XIX)で表されるシアノヒドリン(以下、シアノヒドリン(XIX)ともいう。)に変換し;
工程(g−2b):得られたシアノヒドリン(XIX)またはその塩を一般式(XXI)で表されるイミデート(以下、イミデート(XXI)ともいう。)またはその塩に変換し;
工程(g−2c):得られたイミデート(XXI)またはその塩を、一般式(XVIIIa)で表される化合物(以下、化合物(XVIIIa)ともいう。)またはその塩と反応させて、一般式(XXII)で表される化合物(以下、化合物(XXII)ともいう。)またはその塩を得; あるいは、
工程(g−2d):化合物(IXa)またはその塩を一般式(XVIIIb)で表される化合物(以下、化合物(XVIIIb)ともいう。)と反応させて、化合物(XXII)またはその塩を得;
工程(g−2e):得られた化合物(XXII)またはその塩を酸化することにより、Yがヘテロ環基(XVIII)である一般式(XIb)で表される化合物(以下、化合物(XIb)ともいう。)を得ることができる。
That is, as shown in the reaction scheme below,
Step (g-2a): a compound represented by general formula (IXa) in which R 8 is a hydrogen atom (hereinafter also referred to as compound (IXa)) or a salt thereof is converted to a cyanohydrin represented by general formula (XIX) ( Hereinafter referred to as cyanohydrin (XIX));
Step (g-2b): The obtained cyanohydrin (XIX) or a salt thereof is converted to an imidate represented by the general formula (XXI) (hereinafter also referred to as imidate (XXI)) or a salt thereof;
Step (g-2c): The obtained imidate (XXI) or a salt thereof is reacted with a compound represented by the general formula (XVIIIa) (hereinafter, also referred to as compound (XVIIIa)) or a salt thereof to give a general formula A compound represented by (XXII) (hereinafter also referred to as compound (XXII)) or a salt thereof;
Step (g-2d): Compound (IXa) or a salt thereof is reacted with a compound represented by the general formula (XVIIIb) (hereinafter also referred to as Compound (XVIIIb)) to obtain Compound (XXII) or a salt thereof. ;
Step (g-2e): A compound represented by the general formula (XIb) in which Y is a heterocyclic group (XVIII) (hereinafter referred to as compound (XIb) by oxidizing the obtained compound (XXII) or a salt thereof. Can also be obtained.

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、R17はトリアルキルシリル基を示し、R18はアルキル基を示し、他の各記号および点線は前記と同意義を示す。)
15およびR16における「ヘテロ環基の置換基に相当する基」とは、Yにおける「置換基を有していてもよいヘテロ環基」の置換基に相当するものであり、具体的には、例えば、ニトロ基、直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基(炭素数:1〜6、例:メトキシ基)、ハロゲン原子(例:塩素原子、フッ素原子など)、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基(好ましい炭素数:1〜4、例:メチル基、エチル基、プロピル基など)、アルコキシカルボニル基(例:メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など)などが挙げられる。
(In the formula, R 17 represents a trialkylsilyl group, R 18 represents an alkyl group, and other symbols and dotted lines are as defined above.)
The “group corresponding to the substituent of the heterocyclic group” in R 15 and R 16 corresponds to the substituent of the “heterocyclic group which may have a substituent” in Y, specifically Is, for example, a nitro group, a linear or branched alkoxy group (carbon number: 1 to 6, eg: methoxy group), a halogen atom (eg, chlorine atom, fluorine atom, etc.), linear or branched chain And alkyl groups (preferably having 1 to 4 carbon atoms, eg, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), alkoxycarbonyl groups (eg: methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.) and the like.

15およびR16が一緒になって形成してもよい同素環としては、例えばベンゼン、ナフタレン、シクロヘキサン等が挙げられる。
15およびR16が一緒になって形成してもよい複素環としては、例えばピリジン、ピペリジン等が挙げられる。
当該同素環および複素環が有してもよい置換基としては、上記「ヘテロ環基の置換基に相当する基」と同様のものが挙げられる。
Examples of the homocyclic ring that R 15 and R 16 may form together include benzene, naphthalene, cyclohexane and the like.
Examples of the heterocyclic ring that R 15 and R 16 may form together include pyridine and piperidine.
Examples of the substituent that the homocyclic ring and the heterocyclic ring may have include those similar to the above-mentioned “group corresponding to the substituent of the heterocyclic group”.

17における「トリアルキルシリル基」とは、同一または異なるアルキル基で置換されたシリル基であり、例えばトリメチルシリル基等が挙げられる。 The “trialkylsilyl group” in R 17 is a silyl group substituted with the same or different alkyl group, and examples thereof include a trimethylsilyl group.

18における「アルキル基」とは、炭素数が好ましくは1〜3である、直鎖状または分岐鎖状のアルキルであり、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基等が挙げられ、メチル基、エチル基が好ましい。 The “alkyl group” in R 18 is linear or branched alkyl having 1 to 3 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, and an n-propyl group. A methyl group and an ethyl group are preferred.

7−2−1.工程(g−2a)
工程(g−2a)は、例えば溶媒中において、化合物(IXa)をシアノヒドリン類および塩基と反応させることにより実現される。
7-2-1. Step (g-2a)
Step (g-2a) is realized, for example, by reacting compound (IXa) with cyanohydrins and a base in a solvent.

工程(g−2a)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばジクロロメタン、THF、ジエチルエーテル等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(IXa)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-2a), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include dichloromethane, THF, diethyl ether, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Also good. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (IXa).

シアノヒドリン類としては、例えばアセトンシアノヒドリン等が挙げられる。シアノヒドリン類の使用量は、化合物(IXa)に対して、通常0.8〜5当量、好ましくは1〜3当量である。   Examples of cyanohydrins include acetone cyanohydrin. The amount of cyanohydrins to be used is generally 0.8-5 equivalents, preferably 1-3 equivalents, relative to compound (IXa).

塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン等が挙げられ、トリエチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、化合物(IXa)に対して、通常0.5〜3当量、好ましくは0.6〜2当量である。   Examples of the base include triethylamine, pyridine, N-methylmorpholine and the like, and triethylamine is preferable. The amount of the base to be used is generally 0.5-3 equivalents, preferably 0.6-2 equivalents, relative to compound (IXa).

工程(g−2a)は、通常0〜50℃(好ましくは10〜30℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜8時間)で終了する。   A process (g-2a) is normally performed within 0-50 degreeC (preferably 10-30 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-8 hours) within the said temperature range.

工程(g−2a)で得られるシアノヒドリン(XIX)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を食塩水等で洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、シアノヒドリン(XIX)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、シアノヒドリン(XIX)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of cyanohydrin (XIX) obtained in the step (g-2a) can be performed by a conventional method. For example, cyanohydrin (XIX) can be isolated by washing the reaction solution with a saline solution after completion of the reaction and concentrating the organic layer obtained by liquid separation. Furthermore, cyanohydrin (XIX) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−2−2.工程(g−2b)
工程(g−2b)は、例えば溶媒の存在または非存在下、シアノヒドリン(XIX)を、一般式(XX):R18OH(式中、R18は前記と同意義を示す。)で表されるアルコール(以下、アルコール(XX)ともいう。)および塩酸と反応させることにより実現される。
7-2-2. Step (g-2b)
In the step (g-2b), for example, cyanohydrin (XIX) is represented by the general formula (XX): R 18 OH (wherein R 18 is as defined above) in the presence or absence of a solvent. It is realized by reacting with alcohol (hereinafter also referred to as alcohol (XX)) and hydrochloric acid.

工程(g−2b)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、THF等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒を使用する場合、その使用量は、シアノヒドリン(XIX)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-2b), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include chloroform, dichloromethane, THF, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Also good. When using a solvent, the amount of use is usually 5 to 50 times the weight, preferably 8 to 20 times the weight of cyanohydrin (XIX).

アルコール(XX)としては、具体的にはメタノール、エタノール、プロパノールが挙げられ、メタノールまたはエタノールが好ましい。アルコール(XX)の使用量は、シアノヒドリン(XIX)に対して、通常0.1〜50当量であり、好ましくは1〜20当量である。   Specific examples of the alcohol (XX) include methanol, ethanol, and propanol, and methanol or ethanol is preferable. The usage-amount of alcohol (XX) is 0.1-50 equivalent normally with respect to cyanohydrin (XIX), Preferably it is 1-20 equivalent.

塩酸は、ガスとして反応系に導入しても良いし、アルコール(XX)の溶液として添加してもよく、また、塩化アセチル、トリメチルシリルクロリド等を添加して系中で発生させてもよい。塩酸の使用量は、シアノヒドリン(XIX)に対して、通常2〜50当量、好ましくは5〜30当量である。   Hydrochloric acid may be introduced into the reaction system as a gas, may be added as a solution of alcohol (XX), or may be generated in the system by adding acetyl chloride, trimethylsilyl chloride or the like. The usage-amount of hydrochloric acid is 2-50 equivalent normally with respect to cyanohydrin (XIX), Preferably it is 5-30 equivalent.

工程(g−2b)は、通常−20〜30℃(好ましくは0〜20℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   A process (g-2b) is normally performed within the range of -20-30 degreeC (preferably 0-20 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

工程(g−2b)で得られるイミデート(XXI)は、常法により単離精製することができるが、特に精製することなく次工程に供することもできる。   The imidate (XXI) obtained in the step (g-2b) can be isolated and purified by a conventional method, but can also be subjected to the next step without particular purification.

7−2−3.工程(g−2c)
工程(g−2c)は、例えば溶媒中において、イミデート(XXI)を化合物(XVIIIa)と反応させることにより実現される。
7-2-3. Step (g-2c)
Step (g-2c) is realized, for example, by reacting imidate (XXI) with compound (XVIIIa) in a solvent.

工程(g−2c)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、エタノール、アセトニトリル、THF等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、イミデート(XXI)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As a solvent that can be used in the step (g-2c), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include ethanol, acetonitrile, THF, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Also good. The usage-amount of a solvent is 5-50 times weight normally with respect to imidate (XXI), Preferably it is 8-20 times weight.

化合物(XVIIIa)としては、具体的には、2−アミノフェノール、2−アミノチオフェノール、2−アミノ−3−ヒドロキシピリジン、3−アミノ−4−ヒドロキシ安息香酸メチル、アミノエタノール等が挙げられ、3−アミノ−4−ヒドロキシ安息香酸メチルが好ましい。化合物(XVIIIa)の使用量は、イミデート(XXI)に対して、通常0.8〜2当量、好ましくは1〜1.5当量である。   Specific examples of the compound (XVIIIa) include 2-aminophenol, 2-aminothiophenol, 2-amino-3-hydroxypyridine, methyl 3-amino-4-hydroxybenzoate, aminoethanol, and the like. Methyl 3-amino-4-hydroxybenzoate is preferred. The amount of compound (XVIIIa) to be used is generally 0.8 to 2 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to imidate (XXI).

工程(g−2c)において、反応を促進させるために塩基を添加してもよい。当該塩基としては例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン等が挙げられ、トリエチルアミンが好ましい。当該塩基の使用量は、イミデート(XXI)に対して、通常0.5〜5当量、好ましくは1〜3当量である。   In the step (g-2c), a base may be added to promote the reaction. Examples of the base include triethylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, and triethylamine is preferable. The usage-amount of the said base is 0.5-5 equivalent normally with respect to imidate (XXI), Preferably it is 1-3 equivalent.

工程(g−2c)は、通常0℃から用いる溶媒のリフラックス温度(好ましくは30℃〜リフラックス)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜8時間)で終了する。   The step (g-2c) is usually performed within the range of the reflux temperature of the solvent used from 0 ° C. (preferably 30 ° C. to reflux). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-8 hours) within the said temperature range.

7−2−4.工程(g−2d)
工程(g−2d)は、例えば下記スキームに示すように、溶媒中において、化合物(IXa)を化合物(XVIIIb)と反応させて、一般式(XXII’)で表される化合物(以下、化合物(XXII’)ともいう。)を得、得られた化合物(XXII’)のシリルエーテルを脱保護することにより実現される。
7-2-4. Step (g-2d)
In step (g-2d), for example, as shown in the following scheme, compound (IXa) is reacted with compound (XVIIIb) in a solvent to give a compound represented by general formula (XXII ′) (hereinafter referred to as compound ( This is also realized by deprotecting the silyl ether of the obtained compound (XXII ′).

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号および点線は前記と同意義を示す。) (In the formula, each symbol and dotted line are as defined above.)

工程(g−2d)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばジクロロメタン、クロロホルム、THF等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(IXa)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-2d), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include dichloromethane, chloroform, THF, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Good. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (IXa).

化合物(XVIIIb)としては、具体的には、2−トリメチルシリルチアゾール、2−トリメチルシリルオキサゾール等が挙げられ、2−トリメチルシリルチアゾールが好ましい。化合物(XVIIIb)の使用量は、化合物(IXa)に対して、通常0.8〜3当量、好ましくは1〜1.5当量である。
化合物(XVIIIb)は、J. Org. Chem. 58, 3196 (1993)記載の方法によって得ることができ、また、市販品を用いてもよい。
Specific examples of the compound (XVIIIb) include 2-trimethylsilylthiazole and 2-trimethylsilyloxazole, and 2-trimethylsilylthiazole is preferable. The amount of compound (XVIIIb) to be used is generally 0.8-3 equivalents, preferably 1-1.5 equivalents, relative to compound (IXa).
Compound (XVIIIb) can be obtained by the method described in J. Org. Chem. 58, 3196 (1993), or a commercially available product may be used.

工程(g−2d)は、通常0〜50℃(好ましくは10〜30℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜8時間)で終了する。   A process (g-2d) is normally performed within 0-50 degreeC (preferably 10-30 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-8 hours) within the said temperature range.

得られた化合物(XXII’)の脱保護は、上記反応溶液に酸(例えば、塩酸、メタンスルホン酸等)またはフッ化物塩(例えば、フッ化テトラ−n−ブチルアンモニウム等)を添加すればよい。
酸またはフッ化物塩の使用量は、化合物(IXa)に対して、通常1〜10当量、好ましくは1〜3当量である。
The obtained compound (XXII ′) can be deprotected by adding an acid (eg, hydrochloric acid, methanesulfonic acid, etc.) or a fluoride salt (eg, tetra-n-butylammonium fluoride, etc.) to the reaction solution. .
The amount of the acid or fluoride salt to be used is generally 1-10 equivalents, preferably 1-3 equivalents, relative to compound (IXa).

当該脱保護反応は、通常0〜50℃(好ましくは10〜30℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは30分〜8時間)で終了する。   The deprotection reaction is usually performed within a range of 0 to 50 ° C. (preferably 10 to 30 ° C.). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 30 minutes-8 hours) within the said temperature range.

工程(g−2c)または工程(g−2d)で得られる化合物(XXII)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XXII)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XXII)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of compound (XXII) obtained in step (g-2c) or step (g-2d) can be carried out by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (XXII) can be isolated. Further, the compound (XXII) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−2−5.工程(g−2e)
工程(g−2e)は、化合物(XXII)を公知の様々な方法(例えば、デスマーティン試薬、スワン酸化、Pfitzner-Moffatt 酸化等)により酸化することにより化合物(XIb)を得る方法である。
以下に、好ましい態様であるPfitzner-Moffatt 酸化(J. Med. Chem., 30, 1617-1622(1987)参照)について説明するが、工程(g−2e)は、これに限定されるものではない。
7-2-5. Step (g-2e)
Step (g-2e) is a method of obtaining compound (XIb) by oxidizing compound (XXII) by various known methods (for example, Dess Martin reagent, Swan oxidation, Pfitzner-Moffatt oxidation, etc.).
Hereinafter, Pfitzner-Moffatt oxidation (see J. Med. Chem., 30, 1617-1622 (1987)), which is a preferred embodiment, will be described, but the step (g-2e) is not limited thereto. .

工程(g−2e)におけるPfitzner-Moffatt 酸化は、例えばジメチルスルホキシドと他の溶媒中において、化合物(XXII)をカルボジイミド系縮合剤および酸と反応させることにより実現される。   The Pfitzner-Moffatt oxidation in the step (g-2e) is realized by reacting the compound (XXII) with a carbodiimide condensing agent and an acid in, for example, dimethyl sulfoxide and another solvent.

当該酸化反応で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばトルエン、クロロホルム、ジクロロメタン等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(XXII)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the oxidation reaction, any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include toluene, chloroform, dichloromethane, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (XXII).

ジメチルスルホキシドの使用量は、化合物(XXII)に対して、通常2〜100当量、好ましくは2〜80当量である。   The amount of dimethyl sulfoxide to be used is generally 2-100 equivalents, preferably 2-80 equivalents, relative to compound (XXII).

カルボジイミド系縮合剤としては、例えば、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、N−(3−ジメチルアミノプロピル)−N’−エチルカルボジイミド塩酸塩(EDC)等が挙げられ、EDCが好ましい。カルボジイミド系縮合剤の使用量は、化合物(XXII)に対して、通常1〜5当量、好ましくは1〜3当量である。   Examples of the carbodiimide condensing agent include N, N'-dicyclohexylcarbodiimide (DCC), N- (3-dimethylaminopropyl) -N'-ethylcarbodiimide hydrochloride (EDC), and EDC is preferable. The usage-amount of a carbodiimide type condensing agent is 1-5 equivalent normally with respect to compound (XXII), Preferably it is 1-3 equivalent.

酸としては、例えばジクロロ酢酸、クロロ酢酸等が挙げられ、ジクロロ酢酸が好ましい。酸の使用量は、化合物(XXII)に対して、通常0.8〜10当量、好ましくは1〜3当量である。   Examples of the acid include dichloroacetic acid and chloroacetic acid, and dichloroacetic acid is preferable. The amount of the acid to be used is generally 0.8 to 10 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents, relative to compound (XXII).

当該酸化反応は、通常0〜30℃(好ましくは0〜20℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜5時間)で終了する。   The said oxidation reaction is normally performed within 0-30 degreeC (preferably 0-20 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-5 hours) within the said temperature range.

7−3.Rが水素原子であり、Yが置換基を有していてもよいアシル基である場合(以下、工程(g−3)ともいう。)
が水素原子である場合は、特許文献2に記載の方法に準じて、以下の工程(g−3a)〜(g−3g)により、化合物(IX)のR(水素原子)を置換基を有していてもよいアシル基に変換することができる。
7-3. When R 8 is a hydrogen atom and Y is an optionally substituted acyl group (hereinafter also referred to as step (g-3)).
When R 8 is a hydrogen atom, R 8 (hydrogen atom) of compound (IX) is substituted by the following steps (g-3a) to (g-3g) according to the method described in Patent Document 2. It can convert into the acyl group which may have a group.

すなわち、下記反応スキームに示すように、
工程(g−3a):化合物(IXa)またはその塩を、工程(g−2a)と同様の方法により、シアノヒドリン(XIX)またはその塩に変換し;
工程(g−3b):得られたシアノヒドリン(XIX)またはその塩を加水分解することにより、一般式(XXIII)で表される化合物(以下、化合物(XXIII)ともいう。)またはその塩を得;
工程(g−3c):得られた化合物(XXIII)またはその塩を、N,O−ジメチルヒドロキシルアミンまたはその塩と反応させて、一般式(XXIV)で表される化合物(以下、化合物(XXIV)ともいう。)またはその塩を得;
工程(g−3d):得られた化合物(XXIV)またはその塩にオキサゾリジン環を形成させることにより、一般式(XXV)で表される化合物(以下、化合物(XXV)ともいう。)またはその塩を得;
工程(g−3e):得られた化合物(XXV)またはその塩を一般式(XVIIb)で表される試薬(以下、試薬(XVIIb)ともいう。)と反応させて、一般式(XXVI)で表される化合物(以下、化合物(XXVI)ともいう。)またはその塩を得;
工程(g−3f):得られた化合物(XXVI)またはその塩のオキサゾリジン環を開環することにより、一般式(XXVII)で表される化合物(以下、化合物(XXVII)ともいう。)またはその塩を得;
工程(g−3g):得られた化合物(XXVII)またはその塩を酸化することにより、Yが置換基を有していてもよいアシル基である一般式(XIc)で表される化合物(以下、化合物(XIc)ともいう。)を得ることができる。
That is, as shown in the reaction scheme below,
Step (g-3a): Compound (IXa) or a salt thereof is converted to cyanohydrin (XIX) or a salt thereof by the same method as in Step (g-2a);
Step (g-3b): By hydrolyzing the obtained cyanohydrin (XIX) or a salt thereof, a compound represented by the general formula (XXIII) (hereinafter also referred to as compound (XXIII)) or a salt thereof is obtained. ;
Step (g-3c): The obtained compound (XXIII) or a salt thereof is reacted with N, O-dimethylhydroxylamine or a salt thereof to give a compound represented by the general formula (XXIV) (hereinafter referred to as compound (XXIV) Or a salt thereof;
Step (g-3d): A compound represented by the general formula (XXV) (hereinafter also referred to as compound (XXV)) or a salt thereof by forming an oxazolidine ring in the obtained compound (XXIV) or a salt thereof. Obtain;
Step (g-3e): The obtained compound (XXV) or a salt thereof is reacted with a reagent represented by the general formula (XVIIb) (hereinafter also referred to as a reagent (XVIIb)) to give a compound represented by the general formula (XXVI) A compound represented by the formula (hereinafter also referred to as compound (XXVI)) or a salt thereof;
Step (g-3f): A compound represented by the general formula (XXVII) (hereinafter also referred to as compound (XXVII)) or a compound thereof by opening the oxazolidine ring of the obtained compound (XXVI) or a salt thereof. Obtaining salt;
Step (g-3g): By oxidizing the obtained compound (XXVII) or a salt thereof, a compound represented by the general formula (XIc) in which Y is an acyl group optionally having substituent (s) , Compound (XIc)).

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、R19はYで示される置換基を有していてもよいアシル基からカルボニル基を除いて形成される基を示し、他の各記号は前記と同意義を示す。)
19における「置換基を有していてもよいアシル基からカルボニル基を除いて形成される基」とは、例えば3−(2−ピリジルオキシ)プロピル基等が挙げられる。
(Wherein R 19 represents a group formed by removing a carbonyl group from an acyl group which may have a substituent represented by Y, and other symbols are as defined above.)
Examples of the “group formed by removing a carbonyl group from an optionally substituted acyl group” in R 19 include a 3- (2-pyridyloxy) propyl group.

7−3−1.工程(g−3a)
工程(g−3a)においては、工程(g−2a)と同様の方法により、化合物(IXa)から、シアノヒドリン(XIX)が得られる。
7-3-1. Step (g-3a)
In step (g-3a), cyanohydrin (XIX) is obtained from compound (IXa) by the same method as in step (g-2a).

7−3−2.工程(g−3b)
工程(g−3b)は、例えば溶媒中において、シアノヒドリン(XIX)を酸で加水分解することにより実現される。
7-3-2. Step (g-3b)
Step (g-3b) is realized, for example, by hydrolyzing cyanohydrin (XIX) with an acid in a solvent.

工程(g−3b)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば1,4−ジオキサン、THF、MTBE等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、シアノヒドリン(XIX)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-3b), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include 1,4-dioxane, THF, MTBE, and the like. You may use together. The usage-amount of a solvent is 5-50 times weight normally with respect to cyanohydrin (XIX), Preferably it is 8-20 times weight.

酸としては、例えば塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸等が挙げられ、塩酸が好ましい。酸の使用量は、シアノヒドリン(XIX)に対して、通常3〜100当量、好ましくは5〜30当量である。   Examples of the acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid and the like, and hydrochloric acid is preferable. The usage-amount of an acid is 3-100 equivalent normally with respect to cyanohydrin (XIX), Preferably it is 5-30 equivalent.

工程(g−3b)は、通常0℃から用いる溶媒のリフラックス温度(好ましくは5〜60℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   The step (g-3b) is usually performed within the range of the reflux temperature of the solvent used from 0 ° C (preferably 5 to 60 ° C). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

工程(g−3c)で得られる化合物(XXIII)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)で洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XXIII)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XXIII)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of the compound (XXIII) obtained in the step (g-3c) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the compound (XXIII) can be isolated by washing the reaction solution with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and concentrating the organic layer obtained by liquid separation. Further, the compound (XXIII) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−3−3.工程(g−3c)
工程(g−3c)は、例えば溶媒中において、化合物(XXIII)とN,O−ジメチルヒドロキシルアミンを縮合剤で縮合させることにより、実現される。
7-3-3. Step (g-3c)
Step (g-3c) is realized by, for example, condensing compound (XXIII) and N, O-dimethylhydroxylamine with a condensing agent in a solvent.

工程(g−3c)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばジクロロメタン、THF、ジエチルエーテル等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(XXIII)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-3c), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include dichloromethane, THF, diethyl ether, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Also good. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (XXIII).

縮合剤としては、例えばカルボジイミド系縮合剤(例えばDCC、EDC等)、クロロギ酸エステル(例えばクロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸イソブチル等)等が挙げられる。   Examples of the condensing agent include carbodiimide condensing agents (for example, DCC, EDC, etc.), chloroformates (for example, methyl chloroformate, ethyl chloroformate, isobutyl chloroformate, etc.) and the like.

当該縮合反応は、通常−20〜20℃(好ましくは0〜10℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常15分〜16時間(好ましくは0.5時間〜2時間)で終了する。   The said condensation reaction is normally performed within the range of -20-20 degreeC (preferably 0-10 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 15 minutes-16 hours (preferably 0.5 hour-2 hours) within the said temperature range.

工程(g−3c)で得られる化合物(XXIV)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XXIV)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XXIV)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of compound (XXIV) obtained in step (g-3c) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (XXIV) can be isolated. Further, the compound (XXIV) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−3−4.工程(g−3d)
工程(g−3d)は、例えば溶媒中または無溶媒において、化合物(XXIV)とアセトンジメチルアセタールを酸の存在下反応させることにより実現される。
7-3-4. Step (g-3d)
Step (g-3d) is realized, for example, by reacting compound (XXIV) with acetone dimethyl acetal in the presence of an acid in a solvent or without a solvent.

工程(g−3d)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばアセトン、酢酸エチル、THF等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(XXIV)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   The solvent that can be used in the step (g-3d) may be any solvent as long as it does not inhibit this reaction. Examples thereof include acetone, ethyl acetate, THF, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Also good. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (XXIV).

アセトンジメチルアセタールの使用量は、化合物(XXIV)に対して、通常1〜5当量、好ましくは1〜3当量である。   The amount of acetone dimethyl acetal to be used is generally 1 to 5 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents, relative to compound (XXIV).

酸としては、例えばp−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸等が挙げられ、p−トルエンスルホン酸が好ましい。酸の使用量は、化合物(XXIV)に対して、通常0.1〜3当量、好ましくは0.3〜2当量である。   Examples of the acid include p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, sulfuric acid and the like, and p-toluenesulfonic acid is preferable. The amount of the acid to be used is generally 0.1-3 equivalents, preferably 0.3-2 equivalents, relative to compound (XXIV).

工程(g−3d)は、通常−20〜40℃(好ましくは0〜20℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   The step (g-3d) is usually performed within a range of −20 to 40 ° C. (preferably 0 to 20 ° C.). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

工程(g−3d)で得られる化合物(XXV)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XXV)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XXV)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of the compound (XXV) obtained in the step (g-3d) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an alkaline aqueous solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the resulting organic layer is concentrated. Thus, compound (XXV) can be isolated. Further, the compound (XXV) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−3−5.工程(g−3e)
工程(g−3e)は、例えば溶媒中において、化合物(XXV)を試薬(XVIIb)と反応させることにより、実現される。
7-3-5. Step (g-3e)
Step (g-3e) is realized, for example, by reacting compound (XXV) with reagent (XVIIb) in a solvent.

工程(g−3e)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばエーテル系溶媒(例えばTHF、ジエチルエーテル、MTBE等)、ハロゲン系溶媒(例えばクロロホルム、ジクロロメタン等)等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(XXV)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-3e), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. For example, an ether solvent (eg, THF, diethyl ether, MTBE, etc.), a halogen solvent (eg, chloroform, dichloromethane, etc.) These may be used alone or in combination of two or more. The usage-amount of a solvent is 5-50 times weight normally with respect to compound (XXV), Preferably it is 8-20 times weight.

試薬(XVIIb)は、一般式R19−X(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物から、上述の工程(g−1)における試薬(XVIIa)と同様の方法により調製することができ、例えば、3−(2−ピリジルオキシ)プロピルマグネシウムブロミド、3−(2−ピリジルオキシ)プロピルリチウム等が好ましい。試薬(XVIIb)の使用量は、化合物(XXV)に対して、通常1〜5当量、好ましくは1〜3当量である。 Reagent (XVIIb) is the same as reagent (XVIIa) in the above-mentioned step (g-1) from a compound represented by general formula R 19 -X (wherein each symbol is as defined above). For example, 3- (2-pyridyloxy) propylmagnesium bromide, 3- (2-pyridyloxy) propyllithium and the like are preferable. The amount of reagent (XVIIb) to be used is generally 1-5 equivalents, preferably 1-3 equivalents, relative to compound (XXV).

工程(g−3e)は、通常−80〜40℃(好ましくは−78〜20℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常15分〜24時間(好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   The step (g-3e) is usually performed within a range of −80 to 40 ° C. (preferably −78 to 20 ° C.). The said reaction is normally complete | finished in 15 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

工程(g−3e)で得られる化合物(XXVI)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XXVI)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XXVI)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of the compound (XXVI) obtained in the step (g-3e) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (XXVI) can be isolated. Further, the compound (XXVI) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−3−6.工程(g−3f)
工程(g−3f)は、例えば溶媒中において、化合物(XXVI)を酸と反応させることにより、実現される。
7-3-6. Step (g-3f)
Step (g-3f) is realized, for example, by reacting compound (XXVI) with an acid in a solvent.

工程(g−3f)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば水、メタノール、エタノール等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(XXVI)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-3f), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include water, methanol, ethanol, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. Good. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (XXVI).

酸としては、例えば塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等が挙げられ、p−トルエンスルホン酸、硫酸が好ましい。酸の使用量は、化合物(XXVI)に対して、通常0.2〜30当量、好ましくは1〜20当量である。   Examples of the acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid and the like, and p-toluenesulfonic acid and sulfuric acid are preferable. The amount of the acid to be used is generally 0.2-30 equivalents, preferably 1-20 equivalents, relative to compound (XXVI).

工程(g−3f)は、通常20℃から用いる溶媒のリフラックス温度の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは3時間〜16時間)で終了する。   Step (g-3f) is usually performed within the range of the reflux temperature of the solvent used from 20 ° C. The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 3 hours-16 hours) within the said temperature range.

工程(g−3f)で得られる化合物(XXVII)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XXVII)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XXVII)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of compound (XXVII) obtained in step (g-3f) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (XXVII) can be isolated. Further, the compound (XXVII) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−3−7.工程(g−3g)
工程(g−3g)において、工程(g−2e)と同様の方法(例えば、デスマーティン試薬、スワン酸化、Pfitzner-Moffatt 酸化等)により、化合物(XXVII)を化合物(XIc)へと導くことができる。
7-3-7. Step (g-3g)
In step (g-3g), compound (XXVII) can be converted to compound (XIc) by the same method as in step (g-2e) (for example, Dess Martin reagent, Swan oxidation, Pfitzner-Moffatt oxidation, etc.) it can.

7−4.Rが水酸基であり、Yがトリフルオロメチル基である場合(以下、工程(g−4)ともいう。)
が水酸基である場合は、Tetrahedron Lett., 36(42), 7761-7764(1995)に記載の方法に準じて、下記の工程(g−4a)〜(g−4d)により、化合物(IX)のR(水酸基)をトリフルオロメチル基に変換することができる。
7-4. When R 8 is a hydroxyl group and Y is a trifluoromethyl group (hereinafter also referred to as step (g-4)).
When R 8 is a hydroxyl group, according to the method described in Tetrahedron Lett., 36 (42), 7761-7764 (1995), the following steps (g-4a) to (g-4d) R 8 (hydroxyl group) of IX) can be converted into a trifluoromethyl group.

すなわち、下記スキームに示すように、
工程(g−4a):Rが水酸基である一般式(IXb)で表される化合物(以下、化合物(IXb)ともいう。)またはその塩と一般式(XXVIII):R20CHO(式中、R20は水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基等)、置換基を有していてもよいアリール基(例えば、p−メトキシフェニル基等)等を示す。)で表されるアルデヒド(以下、アルデヒド(XXVIII)ともいう。)とを反応させて、一般式(XXIX)で表される化合物(以下、化合物(XXIX)ともいう。)またはその塩を得;
工程(g−4b):得られた化合物(XXIX)またはその塩をトリメチル(トリフルオロメチル)シランと反応させて、一般式(XXX)で表される化合物(以下、化合物(XXX)ともいう。)またはその塩を得;
工程(g−4c):得られた化合物(XXX)またはその塩のトリメチルシリル基を脱保護して、一般式(XXXI)で表される化合物(以下、化合物(XXXI)ともいう。)またはその塩を得;
工程(g−4d):得られた化合物(XXXI)またはその塩のオキサゾリジン環を開環することにより、Yがトリフルオロメチル基である一般式(XId)で表される化合物(以下、化合物(XId)ともいう。)を得ることができる。
That is, as shown in the following scheme:
Step (g-4a): a compound represented by general formula (IXb) wherein R 8 is a hydroxyl group (hereinafter also referred to as compound (IXb)) or a salt thereof and general formula (XXVIII): R 20 CHO (wherein , R 20 represents a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.), an aryl group (for example, a p-methoxyphenyl group, etc.) which may have a substituent. An aldehyde (hereinafter also referred to as aldehyde (XXVIII)) is reacted to obtain a compound represented by the general formula (XXIX) (hereinafter also referred to as compound (XXIX)) or a salt thereof;
Step (g-4b): The compound (XXIX) or a salt thereof obtained is reacted with trimethyl (trifluoromethyl) silane to give a compound represented by the general formula (XXX) (hereinafter also referred to as compound (XXX)). ) Or a salt thereof;
Step (g-4c): A compound represented by general formula (XXXI) (hereinafter also referred to as compound (XXXI)) or a salt thereof by deprotecting the trimethylsilyl group of the obtained compound (XXX) or a salt thereof. Obtain;
Step (g-4d): The compound represented by the general formula (XId) in which Y is a trifluoromethyl group by opening the oxazolidine ring of the obtained compound (XXXI) or a salt thereof (hereinafter referred to as the compound ( XId))) can be obtained.

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。) (In the formula, each symbol is as defined above.)

7−4−1.工程(g−4a)
工程(g−4a)は、例えば溶媒中において、酸の存在下、化合物(IXb)とアルデヒド(XXVIII)とを脱水反応することにより実現される。脱水反応は、例えばディーンスターク管を用いて、系内から水と溶媒とを共沸させ、溶媒のみを系内に戻すことにより行うことができる。
7-4-1. Step (g-4a)
Step (g-4a) is realized, for example, by subjecting compound (IXb) and aldehyde (XXVIII) to a dehydration reaction in a solvent in the presence of an acid. The dehydration reaction can be performed, for example, by using a Dean-Stark tube to azeotrope water and solvent from the system and return only the solvent to the system.

工程(g−4a)で用いうる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、クロロホルム、ジエチルエーテル、アセトニトリル等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(IXb)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   Examples of the solvent that can be used in the step (g-4a) include benzene, toluene, chloroform, diethyl ether, acetonitrile, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (IXb).

酸としては、例えばp−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等が挙げられ、p−トルエンスルホン酸が好ましい。酸の使用量は、化合物(IXb)に対して、通常0.01〜5当量、好ましくは0.03〜1当量である。   Examples of the acid include p-toluenesulfonic acid and methanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid is preferable. The amount of the acid to be used is generally 0.01-5 equivalents, preferably 0.03-1 equivalents, relative to compound (IXb).

アルデヒド(XXVIII)としては、例えばパラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド等が挙げられ、パラホルムアルデヒドが好ましい。アルデヒド(XXVIII)の使用量は、化合物(IXb)に対して、通常1〜5当量、好ましくは1〜3当量である。   Examples of the aldehyde (XXVIII) include paraformaldehyde and acetaldehyde, and paraformaldehyde is preferable. The amount of aldehyde (XXVIII) to be used is generally 1-5 equivalents, preferably 1-3 equivalents, relative to compound (IXb).

工程(g−4a)は、通常、用いる溶媒のリフラックス温度で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   Step (g-4a) is usually performed at the reflux temperature of the solvent used. The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

工程(g−4a)で得られる化合物(XXIX)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)で洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XXIX)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XXIX)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of compound (XXIX) obtained in step (g-4a) can be carried out by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the compound (XXIX) can be isolated by washing the reaction solution with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and concentrating the organic layer obtained by liquid separation. Further, the compound (XXIX) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−4−2.工程(g−4b)
工程(g−4b)は、例えば溶媒中において、フッ化物塩の存在下、化合物(XXIX)をトリメチル(トリフルオロメチル)シランと反応させることにより実現される。この場合、反応促進のために反応系を超音波にかけるのが好ましい。
7-4-2. Step (g-4b)
Step (g-4b) is realized, for example, by reacting compound (XXIX) with trimethyl (trifluoromethyl) silane in the presence of a fluoride salt in a solvent. In this case, it is preferable to apply ultrasonic waves to the reaction system in order to promote the reaction.

工程(g−4b)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばTHF、MTBE等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(XXIX)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   The solvent that can be used in the step (g-4b) may be any solvent that does not inhibit this reaction, and examples thereof include THF, MTBE, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (XXIX).

フッ化物塩としては、例えばフッ化セシウム、フッ化テトラ−n−ブチルアンモニウム等が挙げられ、フッ化セシウムが好ましい。フッ化物塩の使用量は触媒量でよく、化合物(XXIX)に対して、通常1〜5当量、好ましくは1〜2当量である。   Examples of the fluoride salt include cesium fluoride and tetra-n-butylammonium fluoride, and cesium fluoride is preferable. The amount of the fluoride salt used may be a catalytic amount, usually 1 to 5 equivalents, preferably 1 to 2 equivalents, relative to compound (XXIX).

トリメチル(トリフルオロメチル)シランの使用量は、化合物(XXIX)に対して、通常0.8〜5当量、好ましくは1〜2当量である。   The amount of trimethyl (trifluoromethyl) silane to be used is generally 0.8-5 equivalents, preferably 1-2 equivalents, relative to compound (XXIX).

工程(g−4b)は、通常0〜80℃(好ましくは5〜40℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   A process (g-4b) is normally performed within 0-80 degreeC (preferably 5-40 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

工程(g−4b)で得られる化合物(XXX)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)で洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XXX)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XXX)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of the compound (XXX) obtained in the step (g-4b) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the compound (XXX) can be isolated by washing the reaction solution with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and concentrating the organic layer obtained by liquid separation. Further, the compound (XXX) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−4−3.工程(g−4c)
工程(g−4c)は、例えば溶媒中において、化合物(XXX)をフッ化物塩で処理することにより実現される。この場合、反応促進のために反応系を超音波にかけるのが好ましい。
7-4-3. Step (g-4c)
Step (g-4c) is realized, for example, by treating compound (XXX) with a fluoride salt in a solvent. In this case, it is preferable to apply ultrasonic waves to the reaction system in order to promote the reaction.

工程(g−4c)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばTHF、MTBE、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(XXX)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜12倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-4c), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include THF, MTBE, dichloromethane, chloroform, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. May be. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 12 times weight, with respect to compound (XXX).

フッ化物塩としては、例えばフッ化セシウム、フッ化テトラ−n−ブチルアンモニウム等が挙げられ、フッ化セシウムが好ましい。フッ化物塩の使用量は、化合物(XXX)に対して、通常1〜5当量、好ましくは1〜2当量である。   Examples of the fluoride salt include cesium fluoride and tetra-n-butylammonium fluoride, and cesium fluoride is preferable. The amount of the fluoride salt to be used is generally 1 to 5 equivalents, preferably 1 to 2 equivalents, relative to compound (XXX).

工程(g−4c)は、通常0〜80℃(好ましくは0〜40℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   A process (g-4c) is normally performed within 0-80 degreeC (preferably 0-40 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

工程(g−4c)で得られる化合物(XXXI)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)で洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XXXI)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XXXI)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of compound (XXXI) obtained in step (g-4c) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the compound (XXXI) can be isolated by washing the reaction solution with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and concentrating the organic layer obtained by liquid separation. Further, the compound (XXXI) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

7−4−4.工程(g−4d)
工程(g−4d)は、例えば溶媒中において、化合物(XXXI)を酸で処理することにより実現される。
7-4-4. Step (g-4d)
Step (g-4d) is realized, for example, by treating compound (XXXI) with an acid in a solvent.

工程(g−4d)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばアセトニトリル、THF、酢酸エチル、クロロホルム等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(XXXI)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (g-4d), any solvent that does not inhibit this reaction may be used. Examples thereof include acetonitrile, THF, ethyl acetate, chloroform, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. May be. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (XXXI).

酸としては、例えば強酸性イオン交換樹脂(例えば、アンバライト(登録商標)R−120、アンバリスト(登録商標)等)等が挙げられ、強酸性イオン交換樹脂が好ましい。酸の使用量は、化合物(XXXI)に対して、通常0.1〜100倍重量、好ましくは0.5〜20倍重量である。   Examples of the acid include strongly acidic ion exchange resins (for example, Amberlite (registered trademark) R-120, Amberlyst (registered trademark), etc.), and strong acid ion exchange resins are preferred. The amount of the acid to be used is generally 0.1 to 100 times weight, preferably 0.5 to 20 times weight, relative to compound (XXXI).

工程(g−4d)は、通常0〜80℃(好ましくは20〜50℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   A process (g-4d) is normally performed within 0-80 degreeC (preferably 20-50 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

7−5.Rが水素原子であり、Yがトリフルオロメチル基である場合(以下、工程(g−5)ともいう。)
が水酸基である場合は、Tetrahedron Lett., 36(42), 7761-7764(1995)に記載の方法に準じて、下記の工程(g−5a)〜(g−5c)により、化合物(IX)のR(水素原子)をトリフルオロメチル基に変換することができる。
7-5. When R 8 is a hydrogen atom and Y is a trifluoromethyl group (hereinafter also referred to as step (g-5)).
When R 8 is a hydroxyl group, according to the method described in Tetrahedron Lett., 36 (42), 7761-7764 (1995), the following steps (g-5a) to (g-5c) IX) R 8 (hydrogen atom) can be converted to a trifluoromethyl group.

すなわち、下記スキームに示すように、
工程(g−5a):化合物(IXa)またはその塩をトリメチル(トリフルオロメチル)シランと反応させて、一般式(XXXII)で表される化合物またはその塩を得;
工程(g−5b):得られた一般式(XXXI)で表される化合物またはその塩のトリメチルシリル基を脱保護して、一般式(XXXIII)で表される化合物またはその塩を得;
工程(g−5c):得られた一般式(XXXIII)で表される化合物またはその塩を酸化して、化合物(XId)を得ることができる。
That is, as shown in the following scheme:
Step (g-5a): The compound (IXa) or a salt thereof is reacted with trimethyl (trifluoromethyl) silane to obtain a compound represented by the general formula (XXXII) or a salt thereof;
Step (g-5b): The trimethylsilyl group of the obtained compound represented by the general formula (XXXI) or a salt thereof is deprotected to obtain a compound represented by the general formula (XXXIII) or a salt thereof;
Step (g-5c): The compound (XId) can be obtained by oxidizing the obtained compound represented by the general formula (XXXIII) or a salt thereof.

Figure 2005154430
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)
工程(g−5a)は工程(g−4b)と、工程(g−5b)は工程(g−4c)と、工程(g−5c)は工程(g−2e)とそれぞれ同様の方法、条件でおこなうことができる。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
The step (g-5a) is the same as the step (g-4b), the step (g-5b) is the same as the step (g-4c), and the step (g-5c) is the same as the step (g-2e). Can be done.

以上、工程(g−1)〜(g−5)で得られる化合物(XI)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XI)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XI)を精製することができるが、これらに限定されない。   As described above, the isolation and purification of the compound (XI) obtained in the steps (g-1) to (g-5) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (XI) can be isolated. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) , Dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), acetic esters (eg, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc.) are added for crystallization or silica gel Compound (XI) can be purified by subjecting it to column chromatography, but is not limited thereto.

8.工程(h)
工程(h)は、化合物(VI)またはその塩を、化合物(VI)におけるRが水素原子以外の場合は、カルボン酸体に変換した後、化合物(XII)と縮合させて、化合物(XI)またはその塩を得る方法である。
工程(h)は、化合物(VI)と化合物(XII)を直接縮合させることにより、短工程で、化合物(XI)を製造することができるという利点がある。
8). Step (h)
In step (h), when R 6 in compound (VI) is other than a hydrogen atom, compound (VI) or a salt thereof is converted to a carboxylic acid form, and then condensed with compound (XII) to give compound (XI) Or a salt thereof.
Step (h) has the advantage that compound (XI) can be produced in a short process by directly condensing compound (VI) and compound (XII).

化合物(VI)のRが水素原子以外、すなわち、アルキル基またはアラルキル基の場合は、工程(d)の場合と同様の方法により、まずカルボン酸体にする。 When R 6 of compound (VI) is other than a hydrogen atom, that is, an alkyl group or an aralkyl group, it is first converted to a carboxylic acid form by the same method as in step (d).

カルボン酸体と化合物(XII)を縮合させる方法としては、工程(d)のカルボン酸体とN−ヒドロキシスクシンイミドを縮合させる方法において、N−ヒドロキシスクシンイミドの代わりに化合物(XII)またはその塩を用いて、同様の条件により行うことができる。   As a method of condensing the carboxylic acid compound and the compound (XII), the compound (XII) or a salt thereof is used in place of the N-hydroxysuccinimide in the method of condensing the carboxylic acid compound and N-hydroxysuccinimide in the step (d). The same conditions can be used.

すなわち、好ましい態様としては、溶媒中においてカルボン酸体を活性化剤で活性化した後、化合物(XII)またはその塩と縮合させることによって、化合物(XI)を製造することができる。
以下に、当該態様について説明するが、工程(h)はこの態様に何ら限定されるものではない。
That is, as a preferred embodiment, compound (XI) can be produced by activating a carboxylic acid form with a activating agent in a solvent and then condensing with compound (XII) or a salt thereof.
Although the said aspect is demonstrated below, a process (h) is not limited to this aspect at all.

活性化剤としては、工程(d)と同様のものが挙げられ、クロロギ酸エステル、特に、クロロギ酸エチル、クロロギ酸メチル、クロロギ酸イソブチル等が好ましい。
活性化剤の使用量は、カルボン酸体に対して、通常0.9〜1.5当量、好ましくは1〜1.2当量である。
Examples of the activator include the same ones as in step (d), and chloroformates, particularly ethyl chloroformate, methyl chloroformate, isobutyl chloroformate, and the like are preferable.
The usage-amount of an activator is 0.9-1.5 equivalent normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 1-1.2 equivalent.

カルボン酸体を活性化する際に、必要に応じ塩基を添加してもよい。そのような塩基としては、工程(d)と同様の塩基が挙げられ、N−メチルモルホリン、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
当該塩基の使用量は、カルボン酸体に対して、通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.3当量である。
When activating the carboxylic acid form, a base may be added as necessary. Examples of such a base include the same bases as in step (d), and N-methylmorpholine, triethylamine, and pyridine are preferable.
The usage-amount of the said base is 0.9-2 equivalent normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 1-1.3 equivalent.

カルボン酸体の活性化に使用される溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチルなど)、炭化水素類(例えば、トルエン、ベンゼン、キシレンなど)、アセトニトリル、THF、ハロゲン系溶媒(例えばジクロロメタン、ジクロロエタン等)等などが挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよく、アセトニトリル、THF等の単独または混合溶媒がより好ましい。溶媒の使用量は、カルボン酸体に対して、通常3〜50倍重量であり、好ましくは5〜20倍重量である。   The solvent used for the activation of the carboxylic acid form may be any solvent as long as it does not inhibit this reaction. For example, acetate esters (for example, ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, etc.) , Hydrocarbons (for example, toluene, benzene, xylene, etc.), acetonitrile, THF, halogen-based solvents (for example, dichloromethane, dichloroethane, etc.) and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Single or mixed solvents such as acetonitrile and THF are more preferable. The usage-amount of a solvent is 3-50 times weight normally with respect to a carboxylic acid body, Preferably it is 5-20 times weight.

カルボン酸体の活性化は、通常−30〜40℃範囲内(好ましくは0〜30℃)で行う。当該活性化は、上記温度範囲内で、通常5分〜5時間(好ましくは10分〜2時間)で終了する。   Activation of a carboxylic acid body is normally performed within the range of -30-40 degreeC (preferably 0-30 degreeC). The activation is usually completed within 5 minutes to 5 hours (preferably 10 minutes to 2 hours) within the above temperature range.

カルボン酸体の活性化の後に、反応混合物に化合物(XII)を添加する。添加順序はこの逆または同時であってもよい。
化合物(XII)の使用量は、カルボン酸体に対して、通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.2当量である。
After activation of the carboxylic acid form, compound (XII) is added to the reaction mixture. The order of addition may be reversed or simultaneous.
The amount of compound (XII) to be used is generally 0.9 to 2 equivalents, preferably 1 to 1.2 equivalents, relative to the carboxylic acid form.

化合物(XII)が塩の形態のときは、中和のためにカルボン酸体を活性化する際に用いた塩基と同様の塩基を併せて添加するのが好ましい。
当該塩基の使用量は、化合物(XII)に対して、通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.2当量である。
When compound (XII) is in the form of a salt, it is preferable to add a base similar to the base used for activating the carboxylic acid form for neutralization.
The amount of the base to be used is generally 0.9 to 2 equivalents, preferably 1 to 1.2 equivalents, relative to compound (XII).

化合物(XII)との縮合は、通常−30〜40℃の範囲内(好ましくは−20〜30℃)で行う。当該縮合は、上記温度範囲内で、通常0.5時間〜5時間(好ましくは1時間〜3時間)で終了する。   The condensation with the compound (XII) is usually performed within a range of −30 to 40 ° C. (preferably −20 to 30 ° C.). The condensation is usually completed within 0.5 to 5 hours (preferably 1 to 3 hours) within the above temperature range.

化合物(XI)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XI)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XI)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of compound (XI) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (XI) can be isolated. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) , Dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or mixed solvents thereof, etc.) are added to crystallize or purify compound (XI) by silica gel column chromatography. However, it is not limited to these.

工程(h)の原料である化合物(XII)は、化合物(VIII)を原料とし、アミノ基を公知の方法によりベンジルオキシカルボニル基またはtert−ブトキシカルボニル基等で保護した後、上記工程(g)と同様な方法により、Rで表される基をYで表される基に変換した後、公知の方法により脱保護することにより合成することができる。 Compound (XII) which is a raw material of the step (h) is prepared by using the compound (VIII) as a raw material and protecting the amino group with a benzyloxycarbonyl group or a tert-butoxycarbonyl group by a known method, and then the step (g) It can be synthesized by converting the group represented by R 8 to the group represented by Y by the same method as described above and then deprotecting by a known method.

9.工程(i)
工程(i)は、化合物(IX)のピリミジン環5位のP−C(=O)−(式中、Pは前記と同意義を示す。)を脱保護して、化合物(X)またはその塩を得る方法である。
当該脱保護反応は、当業者に公知の方法、例えば、上記非特許文献1に記載のアミドの脱保護法を制限なく適用することができるが、分解等の副反応を回避するためには温和な条件が好ましい。
9. Step (i)
In step (i), P—C (═O) — (wherein P is as defined above) at the 5-position of the pyrimidine ring of compound (IX) is deprotected to give compound (X) or its This is a method for obtaining a salt.
For the deprotection reaction, a method known to those skilled in the art, for example, the amide deprotection method described in Non-Patent Document 1 can be applied without limitation, but in order to avoid side reactions such as decomposition, it is mild. These conditions are preferable.

工程(i)の好ましい態様としては、(1)酵素反応による脱保護〔以下、工程(i−1)ともいう。〕または(2)酸性条件による脱保護〔以下、工程(i−2)ともいう。〕が挙げられる。以下に、工程(i−1)および工程(i−2)について具体的に説明するが、工程(i)はこれらの態様に限定されるものではない。   As a preferable aspect of process (i), (1) Deprotection by an enzyme reaction [Hereafter, it is also called process (i-1). ] Or (2) Deprotection under acidic conditions [hereinafter also referred to as step (i-2). ]. Hereinafter, the step (i-1) and the step (i-2) will be described in detail, but the step (i) is not limited to these embodiments.

9−1.工程(i−1)
工程(i−1)では、例えば溶媒中において、化合物(IX)と酵素を反応させることにより、脱保護して、化合物(X)を製造することができる。
9-1. Step (i-1)
In step (i-1), compound (X) can be produced by deprotection, for example, by reacting compound (IX) with an enzyme in a solvent.

工程(i−1)に使用される酵素としては、ピリミジン環5位のP−C(=O)−(式中、Pは前記と同意義を示す。)を脱保護し得るものであれば特に限定はなく、細菌類、放線菌類、菌類などの微生物または動植物に由来する従来公知の酵素、例えば、ペニシリンアミダーゼ、ペニシリンアシラーゼ等が挙げられる。
また、酵素として樹脂等に固定化したものを用いることが、化合物との分離が容易であり、再利用もし易いことから好ましい。これらの酵素または固定化酵素は、市販品を用いることができる。
The enzyme used in the step (i-1) is any enzyme that can deprotect P—C (═O) — (wherein P is as defined above) at the 5-position of the pyrimidine ring. There are no particular limitations, and examples include conventionally known enzymes derived from microorganisms such as bacteria, actinomycetes, fungi, or animals and plants, such as penicillin amidase, penicillin acylase, and the like.
In addition, it is preferable to use an enzyme immobilized on a resin or the like because it can be easily separated from a compound and easily reused. As these enzymes or immobilized enzymes, commercially available products can be used.

酵素または菌体処理液の使用量は、目的とする効果を発揮する量(有効量)であればよく、この有効量は当業者であれば簡単な予備試験により容易に求められるが、例えば市販品酵素溶液の場合は、基質となる化合物(IX)1gに対して、0.01ml〜2mlである。   The amount of the enzyme or microbial cell treatment solution used may be an amount (effective amount) that exhibits the intended effect, and this effective amount can be easily determined by a person skilled in the art by a simple preliminary test. In the case of a product enzyme solution, the amount is 0.01 ml to 2 ml with respect to 1 g of compound (IX) as a substrate.

原料の化合物(IX)の保護基は、使用する酵素の基質特性により、適宜選択すれば良いが、好適な酵素であるペニシリンアミダ−ゼである場合は、Pがベンジルである、フェニルアセチル基が好ましい。   The protecting group of the starting compound (IX) may be appropriately selected depending on the substrate characteristics of the enzyme used. In the case of penicillin amidase, which is a suitable enzyme, P is benzyl, phenylacetyl group is preferable.

工程(i−1)で用いうる溶媒としては、水または水に親水性溶媒を酵素活性が損なわれない範囲で混合して用いることができ、水のみを用いるのが好ましい。親水性溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、THF、アセトン等の一種または2種以上を用いることができる。溶媒の使用量は、化合物(IX)に対して、通常5〜200倍重量であり、好ましくは10〜100倍重量である。   As the solvent that can be used in the step (i-1), water or a hydrophilic solvent can be mixed with water as long as the enzyme activity is not impaired, and it is preferable to use only water. As the hydrophilic solvent, one or more of N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, THF, acetone and the like can be used. The usage-amount of a solvent is 5-200 times weight normally with respect to compound (IX), Preferably it is 10-100 times weight.

当該溶媒は、リン酸二水素カリウム、リン酸一水素カリウム等の緩衝成分によって、酵素に至適なpH(例えばpH6〜8程度)に調整するのが好ましい。
緩衝成分の溶媒中における濃度は、酵素反応を阻害しない範囲であれば特に限定はないが、0.001M〜0.2M程度である。
また、反応中、適宜塩基を添加する等して、pH調整してもよい。
The solvent is preferably adjusted to a pH optimum for the enzyme (for example, about pH 6 to 8) with a buffer component such as potassium dihydrogen phosphate and potassium monohydrogen phosphate.
The concentration of the buffer component in the solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the enzyme reaction, but is about 0.001M to 0.2M.
Moreover, you may adjust pH by adding a base suitably etc. during reaction.

工程(i−1)では、必要に応じ、反応を促進するために界面活性剤を添加してもよい。そのような界面活性剤としては、例えばトリトンX−100(TritonX−100(登録商標))、ツィーン(Tween(登録商標))等が挙げられ、トリトンX−100が好ましい。当該界面活性剤の使用量は、化合物(IX)に対して、通常0.001〜0.05倍重量、好ましくは0.01〜0.05倍重量である。   In step (i-1), a surfactant may be added as needed to promote the reaction. Examples of such a surfactant include Triton X-100 (Triton X-100 (registered trademark)) and Tween (Tween (registered trademark)), and Triton X-100 is preferable. The amount of the surfactant used is usually 0.001 to 0.05 times by weight, preferably 0.01 to 0.05 times by weight, relative to compound (IX).

工程(i−1)は、通常20〜50℃(好ましくは30〜40℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜一週間(好ましくは1時間〜20時間)で終了する。   Step (i-1) is usually performed within a range of 20 to 50 ° C (preferably 30 to 40 ° C). The reaction is usually completed within 30 minutes to 1 week (preferably 1 hour to 20 hours) within the above temperature range.

反応終了後、得られた化合物(X)は、常法により酵素と分離することができる。例えば、固定化酵素の場合は、化合物(X)の可溶性溶媒(例えば、アセトニトリル等)を必要に応じて加え、濾過することにより、化合物(X)を濾液中に分離することができる。また、固定化されていない酵素の場合は、必要に応じ反応混合物中に水を加えて化合物(X)を析出させて、濾過することにより化合物(X)を濾過物として分離することができるが、これらに限定されるものではない。   After completion of the reaction, the obtained compound (X) can be separated from the enzyme by a conventional method. For example, in the case of an immobilized enzyme, the compound (X) can be separated into the filtrate by adding a soluble solvent (for example, acetonitrile) of the compound (X) as necessary and filtering. In the case of an enzyme that is not immobilized, compound (X) can be separated as a filtrate by adding water to the reaction mixture as necessary to precipitate compound (X) and filtering. However, it is not limited to these.

分離された化合物(X)は、例えばこれに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(X)を精製することができるが、これらに限定されない。   The separated compound (X) is, for example, a crystallization solvent (eg, ethers (eg, diethyl ether, THF), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.). , Adding a halogenated solvent (for example, dichloromethane, dichloroethane, etc.), alcohols (for example, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc. to cause crystallization, or subjecting to silica gel column chromatography Can purify the compound (X), but is not limited thereto.

9−2.工程(i−2)
工程(i−2)では、例えば溶媒中において、化合物(IX)に酸を添加して反応させることにより脱保護して、化合物(X)を製造することができる。添加順序は、この逆または同時であってもよい。
9-2. Step (i-2)
In step (i-2), compound (X) can be produced by deprotection by adding an acid to compound (IX) for reaction in a solvent, for example. The order of addition may be reversed or simultaneous.

工程(i−2)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよいが、酸を使用する場合は少なくとも、水、アルコール等のプロトン性溶媒が存在していることが必要である。溶媒としては、例えば、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチルなど)、炭化水素類(例えば、トルエン、ベンゼン、キシレンなど)、アセトニトリル、THF、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノールなど)、N,N−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよく、メタノール、エタノール、アセトニトリル、イソプロピルアルコール、水等が好ましく、中でもメタノール、アセトニトリル、水等の単独または混合溶媒が好ましい。溶媒の使用量は、化合物(IX)に対して、通常3〜50倍重量であり、好ましくは5〜20倍重量である。   The solvent that can be used in the step (i-2) may be any solvent that does not inhibit this reaction. However, when an acid is used, at least a protic solvent such as water or alcohol is present. is necessary. Examples of the solvent include acetates (for example, ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, etc.), hydrocarbons (for example, toluene, benzene, xylene, etc.), acetonitrile, THF, alcohols (for example, , Methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, etc.), N, N-dimethylformamide, etc., and these may be used alone or in combination of two or more, methanol, ethanol, acetonitrile, isopropyl alcohol, water Among them, methanol, acetonitrile, water or the like alone or a mixed solvent is preferable. The amount of the solvent to be used is generally 3 to 50 times weight, preferably 5 to 20 times weight, relative to compound (IX).

工程(i−2)に使用する酸としては、無機酸(例えば塩酸、硫酸等)、有機酸(例えばメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等)等が挙げられ、好ましくは塩酸等である。   Examples of the acid used in the step (i-2) include inorganic acids (for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.), organic acids (for example, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.), preferably hydrochloric acid. Etc.

酸の使用量は、化合物(IX)に対して、通常1〜50当量、好ましくは3〜10当量である。
酸は、使用する溶媒の溶液として使用するのが好ましく、溶媒と酸の使用量が上記範囲になるように添加すればよい。
The amount of the acid to be used is generally 1-50 equivalents, preferably 3-10 equivalents, relative to compound (IX).
The acid is preferably used as a solution of the solvent to be used, and may be added so that the amount of the solvent and acid used is within the above range.

工程(i−2)は、通常0℃から用いる溶媒のリフラックス温度(好ましくは20〜60℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常60分〜一晩(好ましくは1時間〜5時間)で終了する。   Step (i-2) is usually performed within the range of the reflux temperature (preferably 20 to 60 ° C.) of the solvent used from 0 ° C. The reaction is usually completed within 60 minutes to overnight (preferably 1 hour to 5 hours) within the above temperature range.

反応終了後、化合物(X)は、使用した酸との塩の形態で反応混合物中に存在している。したがって、反応混合物を濃縮することにより当該酸付加塩を単離することができる。単離した酸付加塩は、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させることにより、化合物(X)の酸付加塩を精製することができる。   After completion of the reaction, compound (X) is present in the reaction mixture in the form of a salt with the acid used. Therefore, the acid addition salt can be isolated by concentrating the reaction mixture. The isolated acid addition salt can be added to a crystallization solvent (eg, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen The acid addition salt of compound (X) is crystallized by adding a system solvent (eg, dichloromethane, dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, and the like. Can be purified.

化合物(X)のフリー体を単離するには、水、アルコール等のプロトン性溶媒中でアルカリ添加したり、反応終了後、反応液をアルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(X)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)等を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(X)のフリー体を精製することができるが、これらに限定されない。   In order to isolate the free form of compound (X), alkali is added in a protic solvent such as water or alcohol, or after completion of the reaction, the reaction solution is washed with an aqueous alkaline solution (for example, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate, brine, etc.). The compound (X) can be isolated by concentrating the organic layer obtained by washing and liquid separation. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) , Dichloroethane, etc.), alcohols (for example, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc.) are added for crystallization, or subjected to silica gel column chromatography to give the compound (X) Although a free body can be refine | purified, it is not limited to these.

工程(i)で製造される化合物(X)は、新規化合物であり、化合物(XV)の他、他の酵素阻害剤を製造するための汎用性の高い合成中間体として有用である(J. Med. Chem.,2001, 44, 1286-1296参照)。
例えば、以下に説明する工程(j)、(k)および(l)により、化合物(XV)を製造することができる。
Compound (X) produced in step (i) is a novel compound, and is useful as a highly versatile synthetic intermediate for producing other enzyme inhibitors in addition to compound (XV) (J. Med. Chem., 2001, 44, 1286-1296).
For example, compound (XV) can be produced by steps (j), (k) and (l) described below.

10.工程(j)
工程(j)は、公知の方法、例えば非特許文献1の第309頁以降に列挙された方法により、化合物(X)のアミノ基をアシル基以外で保護することにより、化合物(XIII)またはその塩を得る方法である。
10. Step (j)
In step (j), compound (XIII) or a compound thereof is protected by protecting the amino group of compound (X) other than an acyl group by a known method, for example, the method listed on page 309 and thereafter of Non-Patent Document 1. This is a method for obtaining a salt.

以下に、工程(j)の好ましい態様であるCbz基による保護について説明するが、工程(j)はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, the protection by the Cbz group, which is a preferred embodiment of the step (j), will be described, but the step (j) is not limited thereto.

Cbz基による保護は、例えば溶媒中、化合物(X)をベンジルオキシカルボニル化剤(以下、Cbz化剤という。)と反応させることにより実現される。   The protection by the Cbz group is realized, for example, by reacting the compound (X) with a benzyloxycarbonylating agent (hereinafter referred to as Cbzating agent) in a solvent.

当該保護反応で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えば水、アセトニトリル、酢酸エチル、THF、クロロホルム等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(X)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   The solvent that can be used in the protection reaction may be any solvent as long as it does not inhibit this reaction. Examples thereof include water, acetonitrile, ethyl acetate, THF, chloroform, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. May be. The usage-amount of a solvent is 5-50 times weight normally with respect to compound (X), Preferably it is 8-20 times weight.

Cbz化剤としては、例えばベンジルオキシカルボニルクロリド等が挙げられる。Cbz化剤の使用量は、化合物(X)に対して、通常0.9〜2当量、好ましくは1〜1.3当量である。   Examples of the Cbz agent include benzyloxycarbonyl chloride. The amount of the Cbz agent to be used is generally 0.9 to 2 equivalents, preferably 1 to 1.3 equivalents, relative to compound (X).

当該保護反応においては、塩基(例えば水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、ピリジン、炭酸ナトリウム等)を添加してもよい。塩基の使用量は、化合物(X)に対して、通常0.9〜3当量、好ましくは1〜1.5当量である。   In the protection reaction, a base (for example, sodium hydroxide, triethylamine, pyridine, sodium carbonate, etc.) may be added. The amount of the base to be used is generally 0.9 to 3 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to compound (X).

当該保護反応は、通常−20〜40℃(好ましくは0〜20℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   The said protection reaction is normally performed within the range of -20-40 degreeC (preferably 0-20 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

得られる化合物(XIII)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、反応液を酸性水溶液(例えば、塩酸、硫酸など)、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で順次洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XIII)を単離することができる。さらに、晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XIII)を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of the resulting compound (XIII) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the reaction solution is washed successively with an acidic aqueous solution (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) and an aqueous alkaline solution (eg, saturated aqueous sodium bicarbonate, brine, etc.), and the organic layer obtained by liquid separation is concentrated. Thus, compound (XIII) can be isolated. Further, the compound (XIII) can be purified by crystallization or silica gel column chromatography, but is not limited thereto.

11.工程(k)
工程(k)は、化合物(XIII)またはその塩のRで表される基をYで表される基に変換して、化合物(XIV)またはその塩を得る工程である。
工程(k)は、上記工程(g)と同様の方法および反応条件で行うことができる。
11. Step (k)
The step (k) is a step of obtaining the compound (XIV) or a salt thereof by converting the group represented by R 8 of the compound (XIII) or a salt thereof into a group represented by Y.
Step (k) can be carried out under the same method and reaction conditions as in step (g) above.

12.工程(l)
工程(l)は、公知の方法、例えば非特許文献1の第309頁以降に列挙された方法により、化合物(XIV)またはその塩の保護基Qを脱保護して、化合物(XV)またはその塩を得る方法である。
12 Step (l)
In the step (l), the protecting group Q of the compound (XIV) or a salt thereof is deprotected by a known method, for example, the method listed on page 309 and thereafter of Non-Patent Document 1, to thereby give the compound (XV) or a compound thereof. This is a method for obtaining a salt.

以下に工程(l)の好ましい態様である、QがCbz基である場合の脱保護について説明するが、工程(l)はこれに限定されるものではない。   The deprotection when Q is a Cbz group, which is a preferred embodiment of the step (l), will be described below, but the step (l) is not limited thereto.

Cbz基の脱保護反応は、例えば溶媒中において、化合物(XIV)を水素化分解することにより実現される。   The deprotection reaction of the Cbz group is realized, for example, by hydrogenolysis of the compound (XIV) in a solvent.

当該水素化分解反応で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよく、例えばエタノール、メタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、THF等が挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、化合物(XIV)に対して、通常5〜50倍重量であり、好ましくは8〜20倍重量である。   As the solvent that can be used in the hydrogenolysis reaction, any solvent that does not inhibit this reaction may be used, and examples thereof include ethanol, methanol, isopropanol, ethyl acetate, THF, and the like. You may use together. The amount of the solvent to be used is generally 5 to 50 times weight, preferably 8 to 20 times weight, with respect to compound (XIV).

水素化分解反応に用いられる触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム等が挙げられる。当該触媒の使用量は、化合物(XIV)に対して、通常0.01〜0.5倍重量、好ましくは0.05〜0.2倍重量である。   Examples of the catalyst used in the hydrocracking reaction include palladium carbon and palladium hydroxide. The usage-amount of the said catalyst is 0.01-0.5 times weight normally with respect to compound (XIV), Preferably it is 0.05-0.2 times weight.

水素化分解反応においては反応促進のため、酸(例えば塩酸、メタンスルホン酸等)を添加してもよい。酸の使用量は、化合物(XIV)に対して、通常0.05〜1.5当量、好ましくは0.1〜1当量である。   In the hydrocracking reaction, an acid (for example, hydrochloric acid, methanesulfonic acid, etc.) may be added to promote the reaction. The amount of the acid to be used is generally 0.05 to 1.5 equivalents, preferably 0.1 to 1 equivalents, relative to compound (XIV).

当該反応は、通常10〜80℃(好ましくは20〜50℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜24時間(好ましくは1時間〜16時間)で終了する。   The said reaction is normally performed within the range of 10-80 degreeC (preferably 20-50 degreeC). The said reaction is normally complete | finished in 30 minutes-24 hours (preferably 1 hour-16 hours) within the said temperature range.

得られる化合物(XV)の単離精製は常法で行うことができる。例えば、反応終了後、濾過等により触媒を除去し、水、アルコール等のプロトン性溶媒中でアルカリ添加したり、アルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XV)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)等を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XV)のフリー体を精製することができるが、これらに限定されない。   Isolation and purification of the resulting compound (XV) can be performed by a conventional method. For example, after completion of the reaction, the catalyst is removed by filtration or the like, and alkali is added in a protic solvent such as water or alcohol, or it is washed with an alkaline aqueous solution (for example, saturated sodium bicarbonate water, saline solution) and separated. By concentrating the obtained organic layer, compound (XV) can be isolated. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) , Dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc.) are added for crystallization, or subjected to silica gel column chromatography to give the compound (XV). Although a free body can be refine | purified, it is not limited to these.

13.工程(m)
工程(m)は、化合物(XI)のピリミジン環5位のP−C(=O)−(式中、Pは前記と同意義を示す。)を脱保護して、化合物(XV)またはその塩を得る方法である。
当該脱保護反応は、当業者に公知の方法、例えば、上記非特許文献1に記載のアミドの脱保護法を制限なく適用することができるが、分解等の副反応を回避するためには温和な条件、例えば上記の工程(i)と同様の条件によって行うことが好ましい。
13. Process (m)
In step (m), P—C (═O) — (wherein P is as defined above) at the 5-position of the pyrimidine ring of compound (XI) is deprotected to give compound (XV) or its This is a method for obtaining a salt.
For the deprotection reaction, a method known to those skilled in the art, for example, the amide deprotection method described in Non-Patent Document 1 can be applied without limitation, but in order to avoid side reactions such as decomposition, it is mild. It is preferable to carry out under various conditions, for example, the same conditions as in step (i) above.

工程(m)の好ましい態様としては工程(i)と同様に、(1)酵素反応による脱保護〔以下、工程(m−1)ともいう。〕または(2)酸性条件による脱保護〔以下、工程(m−2)ともいう。〕が挙げられる。以下に、工程(m−1)および工程(m−2)について具体的に説明するが、工程(m)はこれらの態様に限定されるものではない。   As a preferred embodiment of the step (m), as in the step (i), (1) deprotection by enzymatic reaction [hereinafter also referred to as step (m-1). ] Or (2) Deprotection under acidic conditions [hereinafter also referred to as step (m-2). ]. Hereinafter, the step (m-1) and the step (m-2) will be described in detail, but the step (m) is not limited to these embodiments.

13−1.工程(m−1)
工程(m−1)では、例えば溶媒中において、化合物(XI)と酵素を反応させることにより、脱保護して、化合物(XV)を製造することができる。
13-1. Step (m-1)
In the step (m-1), the compound (XV) can be produced by deprotecting, for example, by reacting the compound (XI) with an enzyme in a solvent.

工程(m−1)に使用される酵素としては、工程(i−1)と同様なものが挙げられ、ペニシリンアミダーゼ、ペニシリンアシラーゼ等が好ましい。
また、酵素として樹脂等に固定化したものを用いるのが、工程(i−1)と同様好ましい。
Examples of the enzyme used in the step (m-1) include those similar to those in the step (i-1), and penicillin amidase, penicillin acylase and the like are preferable.
Moreover, it is preferable to use what was fixed to resin etc. as an enzyme like a process (i-1).

酵素または菌体処理液の使用量は、目的とする効果を発揮する量(有効量)であればよく、この有効量は当業者であれば簡単な予備試験により容易に求められるが、例えば市販品酵素溶液の場合は、基質となる化合物(XI)1gに対して、0.01ml〜2mlである。   The amount of the enzyme or microbial cell treatment solution used may be an amount (effective amount) that exhibits the intended effect, and this effective amount can be easily determined by a person skilled in the art by a simple preliminary test. In the case of a product enzyme solution, the amount is 0.01 ml to 2 ml with respect to 1 g of compound (XI) as a substrate.

原料の化合物(XI)の保護基は、使用する酵素の基質特性により、適宜選択すれば良いが、好適な酵素であるペニシリンアミダ−ゼである場合は、Pがベンジルである、フェニルアセチルが好ましい。   The protecting group of the starting compound (XI) may be appropriately selected depending on the substrate characteristics of the enzyme used. In the case of penicillin amidase which is a suitable enzyme, P is benzyl, and phenylacetyl is preferred. .

工程(m−1)で用いうる溶媒としては、水または水に親水性溶媒を酵素活性が損なわれない範囲で混合して用いることができ、水のみを用いるのが好ましい。好適な親水性溶媒としては、ジメチルスルホキシド、アセトン等の一種または2種以上を用いることができる。溶媒の使用量は、化合物(XI)に対して、通常5〜200倍重量であり、好ましくは10〜100倍重量である。   As a solvent that can be used in the step (m-1), water or a hydrophilic solvent can be mixed with water as long as the enzyme activity is not impaired, and it is preferable to use only water. As a suitable hydrophilic solvent, one or more of dimethyl sulfoxide, acetone and the like can be used. The usage-amount of a solvent is 5-200 times weight normally with respect to compound (XI), Preferably it is 10-100 times weight.

当該溶媒は、リン酸二水素カリウム、リン酸一水素カリウム等の緩衝成分によって、酵素に至適なpH(例えばpH6〜8程度)に調整するのが好ましい。
緩衝成分の溶媒中における濃度は、酵素反応を阻害しない範囲であれば特に限定はないが、0.001M〜0.2M程度である。
また、反応中、適宜塩基を添加する等して、pHを調整してもよい。
The solvent is preferably adjusted to a pH optimum for the enzyme (for example, about pH 6 to 8) with a buffer component such as potassium dihydrogen phosphate and potassium monohydrogen phosphate.
The concentration of the buffer component in the solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the enzyme reaction, but is about 0.001M to 0.2M.
Moreover, you may adjust pH by adding a base suitably during reaction.

工程(m−1)では、必要に応じ、反応を促進するために界面活性剤を添加してもよい。そのような界面活性剤としては、例えばトリトンX−100(TritonX−100(登録商標))、ツィーン(Tween(登録商標))等が挙げられ、トリトンX−100が好ましい。当該界面活性剤の使用量は、化合物(IX)に対して、通常0.001〜0.05倍重量、好ましくは0.01〜0.05倍重量である。   In the step (m-1), a surfactant may be added as necessary to promote the reaction. Examples of such a surfactant include Triton X-100 (Triton X-100 (registered trademark)) and Tween (Tween (registered trademark)), and Triton X-100 is preferable. The amount of the surfactant used is usually 0.001 to 0.05 times by weight, preferably 0.01 to 0.05 times by weight, relative to compound (IX).

工程(m−1)は、通常20〜50℃(好ましくは30〜40℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常30分〜一週間(好ましくは1時間〜20時間)で終了する。   A process (m-1) is normally performed within the range of 20-50 degreeC (preferably 30-40 degreeC). The reaction is usually completed within 30 minutes to 1 week (preferably 1 hour to 20 hours) within the above temperature range.

反応終了後、得られた化合物(XV)は、常法により酵素と分離することができる。例えば、固定化酵素の場合は、化合物(XV)の可溶性溶媒(例えば、アセトニトリル等)を必要に応じて加え、濾過することにより、化合物(XV)を濾液中に分離することができる。また、固定化されていない酵素の場合は、必要に応じ反応混合物中に水を加えて化合物(XV)を析出させて、濾過することにより化合物(XV)を濾液物として分離することができるが、これに限定されるものではない。   After completion of the reaction, the obtained compound (XV) can be separated from the enzyme by a conventional method. For example, in the case of an immobilized enzyme, the compound (XV) can be separated into the filtrate by adding a soluble solvent (for example, acetonitrile) of the compound (XV) as necessary and filtering. In the case of an enzyme that is not immobilized, the compound (XV) can be separated as a filtrate by adding water to the reaction mixture as necessary to precipitate the compound (XV) and filtering. However, the present invention is not limited to this.

分離された化合物(XV)は、例えばこれに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XV)を精製することができるが、これらに限定されない。   The separated compound (XV) is, for example, a crystallization solvent (eg, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.) , Adding a halogenated solvent (for example, dichloromethane, dichloroethane, etc.), alcohols (for example, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc. to cause crystallization, or subjecting to silica gel column chromatography Can purify compound (XV), but is not limited thereto.

13−2.工程(m−2)
工程(m−2)では、例えば溶媒中において、化合物(XI)に酸を添加して反応させることにより脱保護して、化合物(XV)を製造することができる。添加順序は、この逆または同時であってもよい。
13-2. Step (m-2)
In the step (m-2), the compound (XV) can be produced by deprotection by adding an acid to the compound (XI) for reaction in a solvent, for example. The order of addition may be reversed or simultaneous.

工程(m−2)で用いうる溶媒としては、本反応を阻害しない溶媒であればいずれでもよいが、酸を使用する場合は少なくとも、水、アルコール等のプロトン性溶媒が存在していることが必要である。溶媒としては、例えば、酢酸エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチルなど)、炭化水素類(例えば、トルエン、ベンゼン、キシレンなど)、アセトニトリル、THF、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノールなど)、N,N−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、これらは1種または2種以上を併用してもよく、メタノール、エタノール、アセトニトリル、イソプロピルアルコール、水等が好ましく、中でもメタノール、アセトニトリル、水等の単独または混合溶媒が好ましい。溶媒の使用量は、化合物(XI)に対して、通常3〜50倍重量であり、好ましくは5〜20倍重量である。   The solvent that can be used in the step (m-2) may be any solvent that does not inhibit this reaction. However, when an acid is used, at least a protic solvent such as water or alcohol is present. is necessary. Examples of the solvent include acetates (for example, ethyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, etc.), hydrocarbons (for example, toluene, benzene, xylene, etc.), acetonitrile, THF, alcohols (for example, , Methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, etc.), N, N-dimethylformamide, etc., and these may be used alone or in combination of two or more, methanol, ethanol, acetonitrile, isopropyl alcohol, water Among them, methanol, acetonitrile, water or the like alone or a mixed solvent is preferable. The usage-amount of a solvent is 3-50 times weight normally with respect to compound (XI), Preferably it is 5-20 times weight.

工程(m−2)に使用する酸としては、無機酸(例えば塩酸、硫酸等)、有機酸(例えばメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等)等が挙げられ、好ましくは塩酸等である。   Examples of the acid used in the step (m-2) include inorganic acids (for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.), organic acids (for example, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.), and preferably hydrochloric acid. Etc.

酸の使用量は、化合物(XI)に対して、通常1〜50当量、好ましくは3〜10当量である。
酸は、使用する溶媒の溶液として使用するのが好ましく、溶媒と酸の使用量が上記範囲になるように添加すればよい。
The usage-amount of an acid is 1-50 equivalent normally with respect to compound (XI), Preferably it is 3-10 equivalent.
The acid is preferably used as a solution of the solvent to be used, and may be added so that the amount of the solvent and acid used is within the above range.

工程(m−2)は、通常0℃から用いる溶媒のリフラックス温度(好ましくは20〜60℃)の範囲内で行う。当該反応は、上記温度範囲内で、通常60分〜一晩(好ましくは1時間〜5時間)で終了する。   The step (m-2) is usually performed within the range of the reflux temperature of the solvent used from 0 ° C (preferably 20 to 60 ° C). The reaction is usually completed within 60 minutes to overnight (preferably 1 hour to 5 hours) within the above temperature range.

反応終了後、化合物(XV)は、使用した酸との塩の形態で反応混合物中に存在している。したがって、反応混合物を濃縮することにより当該酸付加塩を単離することができる。単離した酸付加塩は、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)を加えて晶析させることにより、化合物(XV)の酸付加塩を精製することができる。   After completion of the reaction, compound (XV) is present in the reaction mixture in the form of a salt with the acid used. Therefore, the acid addition salt can be isolated by concentrating the reaction mixture. The isolated acid addition salt can be added to a crystallization solvent (eg, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen The acid addition salt of compound (XV) is crystallized by adding a system solvent (for example, dichloromethane, dichloroethane, etc.), alcohols (for example, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, and the like. Can be purified.

化合物(XV)のフリー体を単離するには、水、アルコール等のプロトン性溶媒中でアルカリ添加したり、反応終了後、反応液をアルカリ水溶液(例えば、飽和重曹水、食塩水など)で洗浄し、分液して得られた有機層を濃縮することにより、化合物(XV)を単離することができる。さらに、これに晶析溶媒(例えば、エーテル類(例:ジエチルエーテル、THFなど)、アセトン、アセトニトリル、炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタンなど)、ハロゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど)、水またはこれらの混合溶媒など)等を加えて晶析させるか、あるいはシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付すことにより、化合物(XV)のフリー体を精製することができるが、これらに限定されない。   In order to isolate the free form of compound (XV), alkali is added in a protic solvent such as water or alcohol, or after the reaction is completed, the reaction solution is washed with an alkaline aqueous solution (for example, saturated aqueous sodium bicarbonate solution, saline solution, etc.). Compound (XV) can be isolated by concentrating the organic layer obtained by washing and liquid separation. Further, crystallization solvents (for example, ethers (eg, diethyl ether, THF, etc.), acetone, acetonitrile, hydrocarbon solvents (eg, toluene, benzene, hexane, heptane, etc.), halogen solvents (eg, dichloromethane) , Dichloroethane, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, etc.), water or a mixed solvent thereof, etc.) are added for crystallization, or subjected to silica gel column chromatography to give the compound (XV). Although a free body can be refine | purified, it is not limited to these.

以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited by these.

参考例1
4−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−2−メチル−5−オキサゾリノン
N−アセチルグリシン(20.0g,171mmol)に、オキシ塩化リン(67.0g,437mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(33.0g,451mmol)を氷浴中で加え、45℃にて1.5時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、28%アンモニア水(150ml)中に10℃以下を保ちながら滴下した。氷浴下1時間攪拌して析出物を濾集し、得られた結晶を水、エタノールで順次洗浄した後、乾燥し、表題化合物の結晶(20.2g,131mmol)を得た。
Reference example 1
4- (N, N-dimethylaminomethylene) -2-methyl-5-oxazolinone N-acetylglycine (20.0 g, 171 mmol) was added to phosphorus oxychloride (67.0 g, 437 mmol) and N, N-dimethylformamide ( 33.0 g, 451 mmol) was added in an ice bath and stirred at 45 ° C. for 1.5 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure and added dropwise to 28% aqueous ammonia (150 ml) while maintaining the temperature at 10 ° C. or lower. The mixture was stirred for 1 hour in an ice bath and the precipitate was collected by filtration. The obtained crystals were washed successively with water and ethanol and dried to give the title compound crystals (20.2 g, 131 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:2.21(3H, s), 3.18(3H, m), 3.47(3H, s), 6.96(1H, s).
MS(ESI) m/z [MH]+ 155.2
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.21 (3H, s), 3.18 (3H, m), 3.47 (3H, s), 6.96 (1H, s).
MS (ESI) m / z [MH] + 155.2

参考例2
2−ベンジル−4−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−5−オキサゾリノン
フェナセツル酸(10.0g,51.8mmol)にクロロホルム(30.0ml)、オキシ塩化リン(20.0g,130mmol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(10.0g,137mmol)を氷浴中で加え、45℃にて1.5時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、28%アンモニア水(65ml)中に10℃以下を保ちながら滴下した。クロロホルムにて抽出し、有機層を水と飽和食塩水にて洗浄後、濃縮乾固した。濃縮物をイソプロピルアルコールにて洗浄して、析出物を濾過し、イソプロピルアルコールで洗浄後、乾燥して、表題化合物の結晶(9.90g,43.3mmol)を得た。
Reference example 2
2-Benzyl-4- (N, N-dimethylaminomethylene) -5-oxazolinone Phenacetic acid (10.0 g, 51.8 mmol) in chloroform (30.0 ml), phosphorus oxychloride (20.0 g, 130 mmol) and N , N-dimethylformamide (10.0 g, 137 mmol) was added in an ice bath and stirred at 45 ° C. for 1.5 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure and added dropwise to 28% aqueous ammonia (65 ml) while maintaining the temperature at 10 ° C. or lower. The mixture was extracted with chloroform, and the organic layer was washed with water and saturated brine, and concentrated to dryness. The concentrate was washed with isopropyl alcohol, and the precipitate was filtered, washed with isopropyl alcohol and dried to give the title compound as crystals (9.90 g, 43.3 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:3.17(3H, s), 3.48(3H, m), 3.83(2H, s), 6.97(1H, s), 7.23-7.36(5H, m)
MS(ESI) m/z [MH]+ 231.5
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 3.17 (3H, s), 3.48 (3H, m), 3.83 (2H, s), 6.97 (1H, s), 7.23-7.36 (5H, m)
MS (ESI) m / z [MH] + 231.5

参考例3
2−メチル−4−(モルホリノメチレン)−5−オキサゾリノン
N−アセチルグリシン(0.50g,4.27mmol)に、オキシ塩化リン(995μl,10.7mmol)とN−ホルミルモルホリン(1.23g,10.7mmol)を氷浴中で加え、45℃にて1.5時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、28%アンモニア水(5ml)と水(5ml)中に10℃以下を保ちながら滴下した。氷浴下1時間攪拌して析出物を濾集し、得られた結晶を水、エタノールで順次洗浄した後、乾燥し、表題化合物の結晶(0.52g,2.65mmol)を得た。
Reference example 3
2-Methyl-4- (morpholinomethylene) -5-oxazolinone N-acetylglycine (0.50 g, 4.27 mmol) was added to phosphorus oxychloride (995 μl, 10.7 mmol) and N-formylmorpholine (1.23 g, 10 0.7 mmol) was added in an ice bath and stirred at 45 ° C. for 1.5 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure and added dropwise to 28% aqueous ammonia (5 ml) and water (5 ml) while maintaining the temperature at 10 ° C. or lower. The mixture was stirred for 1 hour in an ice bath and the precipitate was collected by filtration. The obtained crystals were washed successively with water and ethanol and dried to give the title compound crystals (0.52 g, 2.65 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:2.21(3H, s), 3.47(2H, br), 3.79(4H, t, J=4.8Hz), 4.27(2H, s), 6.92(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 196.9
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.21 (3H, s), 3.47 (2H, br), 3.79 (4H, t, J = 4.8Hz), 4.27 (2H, s), 6.92 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 196.9

参考例4
2−ベンジル−4−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−5−オキサゾリノン
フェナセツル酸(1.00g,5.18mmol)にトルエン(10.0ml)とN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(1.07g,5.19mmol)を加えて、室温で一晩攪拌した。析出物を濾去して、N,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(0.68g,5.71mmol)を加え、終夜攪拌した。反応混合物を飽和食塩水にて洗浄し、濃縮乾固させた。濃縮物にイソプロピルアルコールを加え、晶析し、析出物を濾過した。イソプロピルアルコールで洗浄後、減圧乾燥し、表題化合物の結晶(0.78g,3.39mmol)を得た。
Reference example 4
2-Benzyl-4- (N, N-dimethylaminomethylene) -5-oxazolinone Phenacetic acid (1.00 g, 5.18 mmol) to toluene (10.0 ml) and N, N′-dicyclohexylcarbodiimide (1.07 g, 5.19 mmol) was added and stirred at room temperature overnight. The precipitate was filtered off, N, N-dimethylformamide dimethyl acetal (0.68 g, 5.71 mmol) was added, and the mixture was stirred overnight. The reaction mixture was washed with saturated brine and concentrated to dryness. Isopropyl alcohol was added to the concentrate for crystallization, and the precipitate was filtered. After washing with isopropyl alcohol and drying under reduced pressure, crystals of the title compound (0.78 g, 3.39 mmol) were obtained.

実施例1
4−ヒドロキシメチレン−2−メチル−5−オキサゾリノン ナトリウム塩
4−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−2−メチル−5−オキサゾリノン(4.00g,26.0mmol)のアセトニトリル溶液(50ml)に、2N水酸化ナトリウム水溶液(15ml,30.0mmol)を氷冷下で加えて一晩攪拌させた。水を留去してアセトニトリル(30ml)を加え、攪拌した。析出物を濾過し、アセトニトリルで洗浄後、減圧乾燥し、表題化合物の結晶(3.65g,24.5mmol)を得た。
Example 1
4-hydroxymethylene-2-methyl-5-oxazolinone sodium salt 4- (N, N-dimethylaminomethylene) -2-methyl-5-oxazolinone (4.00 g, 26.0 mmol) in acetonitrile (50 ml) 2N aqueous sodium hydroxide solution (15 ml, 30.0 mmol) was added under ice cooling and allowed to stir overnight. Water was distilled off and acetonitrile (30 ml) was added and stirred. The precipitate was filtered, washed with acetonitrile, and then dried under reduced pressure to obtain crystals of the title compound (3.65 g, 24.5 mmol).

1H-NMR(DMSO-d6) δ:2.00(3H, s), 8.67(3H, s)
MS(API-ES) m/z [MH]+ 126.1
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.00 (3H, s), 8.67 (3H, s)
MS (API-ES) m / z [MH] + 126.1

実施例2
2−ベンジル−4−ヒドロキシメチレン−5−オキサゾリノン ナトリウム塩・一水和物
2−ベンジル−4−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−5−オキサゾリノン(10.8g,46.9mmol)のアセトニトリル溶液(120ml)に、1N水酸化ナトリウム水溶液(53ml,53.0mmol)を氷冷下で加えて一晩攪拌させた。アセトニトリルを留去して、氷冷下で晶析させた。析出物を濾過して減圧乾燥し、表題化合物の結晶(5.99g,26.6mmol)を得た。熱分析装置(理学電機製、TAS−200)にて示差走査熱量(DSC)および熱重量(TG)を測定した。121.4℃に吸熱ピークを示し、116.1〜126.9℃で重量減少が観察された。チャートを図1に示す。
Example 2
2-Benzyl-4-hydroxymethylene-5-oxazolinone sodium salt monohydrate 2-Benzyl-4- (N, N-dimethylaminomethylene) -5-oxazolinone (10.8 g, 46.9 mmol) in acetonitrile (120 ml) was added 1N aqueous sodium hydroxide solution (53 ml, 53.0 mmol) under ice cooling and allowed to stir overnight. Acetonitrile was distilled off and crystallized under ice cooling. The precipitate was filtered and dried under reduced pressure to obtain the title compound crystal (5.99 g, 26.6 mmol). Differential scanning calorimetry (DSC) and thermogravimetry (TG) were measured with a thermal analyzer (manufactured by Rigaku Corporation, TAS-200). An endothermic peak was observed at 121.4 ° C., and weight loss was observed at 116.1-126.9 ° C. The chart is shown in FIG.

1H-NMR(DMSO-d6) δ:3.66(2H, s), 7.22-7.32(5H, m), 8.71(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]- 202.1
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.66 (2H, s), 7.22-7.32 (5H, m), 8.71 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] -202.1

実施例3
2−ベンジル−4−ヒドロキシメチレン−5−オキサゾリノン ナトリウム塩・無水物
2−ベンジル−4−(N,N−ジメチルアミノメチレン)−5−オキサゾリノン(1.00g,4.34mmol)のアセトニトリル溶液(10ml)に、1N水酸化ナトリウム水溶液(5ml,5.00mmol)を氷冷下で加えて一晩攪拌させた。反応液を濃縮乾固して、アセトニトリル(5ml)を加えて析出物を濾過し、100℃で2時間乾燥させ、表題化合物の結晶(0.90g,4.00mmol)を得た。熱分析装置にてDSCおよびTGを測定した。220℃まで吸熱ピークおよび明確な重量変化は観察されなかった。チャートを図2に示す。
Example 3
2-Benzyl-4-hydroxymethylene-5-oxazolinone sodium salt / anhydride 2-Benzyl-4- (N, N-dimethylaminomethylene) -5-oxazolinone (1.00 g, 4.34 mmol) in acetonitrile (10 ml) 1N aqueous sodium hydroxide solution (5 ml, 5.00 mmol) was added under ice cooling and allowed to stir overnight. The reaction mixture was concentrated to dryness, acetonitrile (5 ml) was added and the precipitate was filtered and dried at 100 ° C. for 2 hours to give the title compound as crystals (0.90 g, 4.00 mmol). DSC and TG were measured with a thermal analyzer. No endothermic peak and no obvious weight change was observed up to 220 ° C. The chart is shown in FIG.

1H-NMR(DMSO-d6) δ:3.66(2H, s), 7.22-7.32(5H, m), 8.71(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]- 202.1
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.66 (2H, s), 7.22-7.32 (5H, m), 8.71 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] -202.1

実施例4
2−ベンジル−4−ヒドロキシメチレン−5−オキサゾリノン
4−N,N’-ジメチルアミノメチレン−2−ベンジルー5−オキサゾリノン(350mg,6.65mmol)のアセトニトリル溶液(15ml)に2N水酸化ナトリウム水溶液(0.92ml)を氷冷下で加えて室温で一晩攪拌させた。反応液を濃縮してアセトニトリルを留去し、酢酸エチル(5ml)で洗浄し、氷冷下で1N塩酸にてpH4に中和した。析出物を濾過して、水で洗浄し、減圧乾燥させて、表題化合物の結晶(1.03g,5.07mmol)を得た。
Example 4
2-Benzyl-4-hydroxymethylene-5-oxazolinone 4-N, N′-dimethylaminomethylene-2-benzyl-5-oxazolinone (350 mg, 6.65 mmol) in acetonitrile (15 ml) was added 2N aqueous sodium hydroxide (0 .92 ml) was added under ice cooling and allowed to stir overnight at room temperature. The reaction mixture was concentrated, acetonitrile was distilled off, washed with ethyl acetate (5 ml), and neutralized to pH 4 with 1N hydrochloric acid under ice cooling. The precipitate was filtered, washed with water, and dried under reduced pressure to give the title compound as crystals (1.03 g, 5.07 mmol).

1H-NMR(DMSO-d6) δ:3.92(2H, s), 7.29-7.38(5H, m), 7.68(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]- 202.3
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.92 (2H, s), 7.29-7.38 (5H, m), 7.68 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] -202.3

実施例5
4−メトキシメチレン−2−メチル−5−オキサゾリノン
4−ヒドロキシメチレン−2−メチル−5−オキサゾリノン ナトリウム塩(3.00g,20.1mmol)にN,N−ジメチルホルムアミド(30ml)と硫酸ジメチル(2.20ml,23.2mmol)を加えて、60℃にて5時間攪拌した。溶媒を留去して、酢酸エチルを加えて析出した塩を濾去した。濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、表題化合物(1.73g,12.2mmol)を得た。
Example 5
4-methoxymethylene-2-methyl-5-oxazolinone 4-hydroxymethylene-2-methyl-5-oxazolinone sodium salt (3.00 g, 20.1 mmol) was added to N, N-dimethylformamide (30 ml) and dimethyl sulfate (2 20 ml, 23.2 mmol) was added and stirred at 60 ° C. for 5 hours. The solvent was distilled off, ethyl acetate was added and the precipitated salt was removed by filtration. The filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (1.73 g, 12.2 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:2.28(3H, s), 4.11(3H, s), 7.13(1H, s)
MS(APCI) m/z [MH]+ 142.1
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.28 (3H, s), 4.11 (3H, s), 7.13 (1H, s)
MS (APCI) m / z [MH] + 142.1

実施例6
4−エトキシメチレン−2−メチル−5−オキサゾリノン
硫酸ジメチルの代わりに、硫酸ジエチルを用いたこと以外は実施例5と同様に行い、表題化合物を得た。
Example 6
4-Ethoxymethylene-2-methyl-5-oxazolinone The title compound was obtained in the same manner as in Example 5 except that diethyl sulfate was used instead of dimethyl sulfate.

1H-NMR(CDCl3) δ:1.45 (3H, t, J=7.1Hz), 2.29 (3H, s), 4.35 (2H, q, J=7.1 Hz), 7.21(1H, s) 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.45 (3H, t, J = 7.1Hz), 2.29 (3H, s), 4.35 (2H, q, J = 7.1 Hz), 7.21 (1H, s)

実施例7
4−ベンジルオキシメチレン−2−メチル−5−オキサゾリノン
4−ヒドロキシメチレン−2−メチル−5−オキサゾリノン ナトリウム塩(0.42g,2.81mmol)にN,N−ジメチルホルムアミド(5ml)と臭化ベンジル(0.53g,3.10mmol)を加えて、80℃にて5時間攪拌した。反応液を濃縮し,トルエンを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて順次洗浄した。有機層を濃縮乾固し、残渣にイソプロピルアルコールを加え、晶析させた。析出物を濾過し、イソプロピルアルコールで洗浄後、減圧乾燥し、表題化合物の結晶(0.37g,1.70mmol)を得た。
Example 7
4-Benzyloxymethylene-2-methyl-5-oxazolinone 4-hydroxymethylene-2-methyl-5-oxazolinone sodium salt (0.42 g, 2.81 mmol) to N, N-dimethylformamide (5 ml) and benzyl bromide (0.53 g, 3.10 mmol) was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 5 hours. The reaction mixture was concentrated, toluene was added, and the mixture was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The organic layer was concentrated to dryness, and isopropyl alcohol was added to the residue for crystallization. The precipitate was filtered, washed with isopropyl alcohol, and dried under reduced pressure to give the title compound as crystals (0.37 g, 1.70 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:2.27(3H, s), 5.26(2H, s), 7.19-7.38(6H, m)
MS(ESI) m/z [MH]+ 218.3
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.27 (3H, s), 5.26 (2H, s), 7.19-7.38 (6H, m)
MS (ESI) m / z [MH] + 218.3

実施例8
2−ベンジル−4−メトキシメチレン−5−オキサゾリノン
2−ベンジル−4−ヒドロキシメチレン−5−オキサゾリノン ナトリウム塩(3.00g,13.3mmol)にアセトニトリル(30ml)と硫酸ジメチル(1.64ml,17.3mmol)を加えて、60℃にて4時間攪拌した。溶媒を留去して、酢酸エチルとn−ヘキサンを加えて、析出した塩を濾去した。濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、表題化合物(1.99g,9.16mmol)を得た。
Example 8
2-Benzyl-4-methoxymethylene-5-oxazolinone 2-Benzyl-4-hydroxymethylene-5-oxazolinone sodium salt (3.00 g, 13.3 mmol) in acetonitrile (30 ml) and dimethyl sulfate (1.64 ml, 17. 3 mmol) was added and the mixture was stirred at 60 ° C. for 4 hours. The solvent was distilled off, ethyl acetate and n-hexane were added, and the precipitated salt was removed by filtration. The filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain the title compound (1.99 g, 9.16 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ: 3.86(2H, s), 4.10(3H, s), 7.15(1H, s), 7.25-7.37(5H, m)
MS(ESI) m/z [MH]+ 218.2
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 3.86 (2H, s), 4.10 (3H, s), 7.15 (1H, s), 7.25-7.37 (5H, m)
MS (ESI) m / z [MH] + 218.2

実施例9
2−ベンジル−4−エトキシメチレン−5−オキサゾリノン
2−ベンジル−4−ヒドロキシメチレン−5−オキサゾリノン ナトリウム塩(3.00g,13.3mmol)にアセトニトリル(30ml)と硫酸ジエチル(2.28ml,17.4mmol)を加えて、60℃にて12時間攪拌した。酢酸エチルを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて順次洗浄した。有機層を濃縮乾固し、表題化合物(2.60g,11.2mmol)を得た。
Example 9
2-Benzyl-4-ethoxymethylene-5-oxazolinone 2-Benzyl-4-hydroxymethylene-5-oxazolinone sodium salt (3.00 g, 13.3 mmol) in acetonitrile (30 ml) and diethyl sulfate (2.28 ml, 17. 4 mmol) was added and the mixture was stirred at 60 ° C. for 12 hours. Ethyl acetate was added, and the mixture was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The organic layer was concentrated to dryness to give the title compound (2.60 g, 11.2 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:1.43(3H, t, J=7.1Hz), 3.86(2H, s), 4.28(2H, q, J=7.1Hz), 7.21(1H, s), 7.24-7.35(5H, m)
MS(ESI) m/z [MH]+ 231.8
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.43 (3H, t, J = 7.1Hz), 3.86 (2H, s), 4.28 (2H, q, J = 7.1Hz), 7.21 (1H, s), 7.24- 7.35 (5H, m)
MS (ESI) m / z [MH] + 231.8

実施例10
2−ベンジル−4−エトキシメチレン−5−オキサゾリノン
4−ヒドロキシメチレン−2−ベンジル−5−オキサゾリノン(0.56g,2.76mmol)にアセトニトリル(6ml)、トリエチルアミン(0.5ml, 3.60mmol)および硫酸ジエチル(0.47ml,3.60mmol)を加えて、80℃にて5時間攪拌した。反応液を濃縮して、酢酸エチルを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて順次洗浄した。有機層を濃縮乾固し、表題化合物(0.54g,2.34mmol)を得た。
Example 10
2-benzyl-4-ethoxymethylene-5-oxazolinone 4-hydroxymethylene-2-benzyl-5-oxazolinone (0.56 g, 2.76 mmol) to acetonitrile (6 ml), triethylamine (0.5 ml, 3.60 mmol) and Diethyl sulfate (0.47 ml, 3.60 mmol) was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 5 hours. The reaction mixture was concentrated, ethyl acetate was added, and the mixture was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The organic layer was concentrated to dryness to give the title compound (0.54 g, 2.34 mmol).

実施例11
2−ベンジル−4−ベンジルオキシメチレン−5−オキサゾリノン
2−ベンジル−4−ヒドロキシメチレン−5−オキサゾリノン ナトリウム塩(0.60g,2.66mmol)にアセトニトリル(6ml)と臭化ベンジル(0.48g,2.81mmol)を加えて、80℃にて7時間攪拌した。反応液を濃縮し、酢酸エチルを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて順次洗浄した。有機層を濃縮乾固し、表題化合物(0.69g,2.35mmol)を得た。
Example 11
2-Benzyl-4-benzyloxymethylene-5-oxazolinone 2-Benzyl-4-hydroxymethylene-5-oxazolinone sodium salt (0.60 g, 2.66 mmol) in acetonitrile (6 ml) and benzyl bromide (0.48 g, 2.81 mmol) was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 7 hours. The reaction mixture was concentrated, ethyl acetate was added, and the mixture was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. The organic layer was concentrated to dryness to give the title compound (0.69 g, 2.35 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:3.86(2H, s), 5.28(2H, s), 7.26-7.39(11H, m)
MS(ESI) m/z [MH]+ 294.6
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 3.86 (2H, s), 5.28 (2H, s), 7.26-7.39 (11H, m)
MS (ESI) m / z [MH] + 294.6

実施例12
(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸
N−(カルボキシメチル)フェニルアミジン(0.40g,2.25mmol)にイソプロピルアルコール(8ml)および21%ナトリウムエトキサイド・エタノール溶液(0.73g,2.26mmol)を加え、0.5時間攪拌した。その後、4−ベンジルオキシメチレン−2−メチル−5−オキサゾリノン(0.49g,2.25mmol)の結晶を50℃にて4回に分けて1時間で添加した。80℃で一晩攪拌して反応液を濃縮し、酢酸エチル(5ml)と水(5ml)を加えて分液して、水層を塩酸でpH2に調整して酢酸エチルで抽出した。有機層にヘキサンを加えて晶析して析出物を濾過し減圧乾燥させ、表題化合物を黄色結晶(0.44g,1.53mmol)として得た。
Example 12
(5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetic acid N- (carboxymethyl) phenylamidine (0.40 g, 2.25 mmol) in isopropyl alcohol (8 ml) and 21% sodium ethoxide / ethanol solution (0.73 g, 2.26 mmol) was added and stirred for 0.5 hour. Thereafter, 4-benzyloxymethylene-2-methyl-5-oxazolinone (0.49 g, 2.25 mmol) crystals were added in 4 portions at 50 ° C. over 1 hour. The mixture was stirred overnight at 80 ° C., and the reaction mixture was concentrated. Ethyl acetate (5 ml) and water (5 ml) were added for liquid separation, and the aqueous layer was adjusted to pH 2 with hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. Hexane was added to the organic layer for crystallization, and the precipitate was filtered and dried under reduced pressure to give the title compound as yellow crystals (0.44 g, 1.53 mmol).

1H-NMR(DMSO-d6) δ:2.15(3H, s), 4.52(2H, s), 7.48-7.56(5H, m), 8.83(1H, s), 9.58(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 288.2, [MH]- 286.1
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.15 (3H, s), 4.52 (2H, s), 7.48-7.56 (5H, m), 8.83 (1H, s), 9.58 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 288.2, [MH]-286.1

実施例13
(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸
4−ベンジルオキシメチレン−2−メチル−5−オキサゾリノンの代わりに2−ベンジル−4−ベンジルオキシメチレン−5−オキサゾリノンを用いたこと以外は実施例12と同様に行い、表題化合物を得た。
Example 13
(6-Oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetic acid 4-benzyloxymethylene-2-methyl-5-oxazolinone instead of 2-benzyl-4-benzyl The title compound was obtained in the same manner as in Example 12 except that oxymethylene-5-oxazolinone was used.

1H-NMR(DMSO-d6) δ:3.84(2H, s), 4.52(2H, s), 7.25-7.27(1H, m), 7.31-7.34(4H, m), 7.47-7.55(5H, m), 8.83(1H, s), 9.72(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 364.0, [MH]- 361.6
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.84 (2H, s), 4.52 (2H, s), 7.25-7.27 (1H, m), 7.31-7.34 (4H, m), 7.47-7.55 (5H, m), 8.83 (1H, s), 9.72 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 364.0, [MH]-361.6

実施例14
1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン
N−(tert−ブトキシカルボニルメチル)フェニルアミジン塩酸塩(2.00g,7.39mmol)と炭酸ナトリウム(2.30g,21.7mmol)をトルエン(25ml)と水(10ml)に加え、激しく攪拌させ、有機層を飽和食塩水にて洗浄した。この有機層に、4−エトキシメチレン−2−べンジル−5−オキサゾリノン(1.38g,5.97mmol)のアセトニトリル(5ml)溶液を摘下し、80℃で終夜攪拌した。反応液を室温まで冷却して1N塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食温水にてそれぞれ洗浄した後、減圧濃縮した。残渣にヘキサンを加え晶析させ、析出物を濾過し、減圧乾燥させて、表題化合物を淡黄色結晶(2.03g,4.84mmol)として得た。
Example 14
1- (tert-Butoxycarbonylmethyl) -6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidine N- (tert-butoxycarbonylmethyl) phenylamidine hydrochloride (2.00 g, 7. 39 mmol) and sodium carbonate (2.30 g, 21.7 mmol) were added to toluene (25 ml) and water (10 ml), and the mixture was vigorously stirred, and the organic layer was washed with saturated brine. To this organic layer, a solution of 4-ethoxymethylene-2-benzyl-5-oxazolinone (1.38 g, 5.97 mmol) in acetonitrile (5 ml) was dropped and stirred at 80 ° C. overnight. The reaction solution was cooled to room temperature, washed with a 1N hydrochloric acid aqueous solution, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and saturated hot water, respectively, and then concentrated under reduced pressure. Hexane was added to the residue for crystallization, and the precipitate was filtered and dried under reduced pressure to give the title compound as pale yellow crystals (2.03 g, 4.84 mmol).

1H-NMR(DMSO-d6) δ:1.40(9H, s), 3.81(2H, s), 4.58(2H, s), 7.33-7.44(5H, m), 7.53-7.67(5H, m), 8.02(1H, s), 9.10(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 420.4
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.40 (9H, s), 3.81 (2H, s), 4.58 (2H, s), 7.33-7.44 (5H, m), 7.53-7.67 (5H, m) , 8.02 (1H, s), 9.10 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 420.4

実施例15
1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン
(1)2−ベンジル−4−メタンスルホニルオキシメチレン−5−オキサゾリノン
2−ベンジル−4−ヒドロキシメチレン−5−オキサゾリノン ナトリウム塩(100mg,0.444mmol)をクロロホルム(3ml)に懸濁させ、メタンスルホニルクロリド(34.3μl,0.443mmol)を加えて、室温で6時間攪拌した。反応混合物の一部をサンプリングし、H−NMRで分析して、2−ベンジル−4−メタンスルホニルオキシメチレン−5−オキサゾリノンが含まれていることを確認した。
1H-NMR(CDCl3) δ:3.67(2H, s), 3.87(1.5H, s), 3.90(1.5H, s), 7.28-7.33(6H, m)
Example 15
1- (tert-Butoxycarbonylmethyl) -6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidine (1) 2-benzyl-4-methanesulfonyloxymethylene-5-oxazolinone 2-benzyl -4-Hydroxymethylene-5-oxazolinone sodium salt (100 mg, 0.444 mmol) was suspended in chloroform (3 ml), methanesulfonyl chloride (34.3 μl, 0.443 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. . A part of the reaction mixture was sampled and analyzed by 1 H-NMR, and it was confirmed that 2-benzyl-4-methanesulfonyloxymethylene-5-oxazolinone was contained.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 3.67 (2H, s), 3.87 (1.5H, s), 3.90 (1.5H, s), 7.28-7.33 (6H, m)

(2)1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン
N−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−フェニルアミジン塩酸塩(155mg,0.57mmol)、炭酸ナトリウム(200mg,1.89mmol)、トルエン(2ml)および水(2ml)の混合物を10分間攪拌した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、該有機層にトリエチルアミン(62μl,0.445mmol)を添加し、更に実施例15(1)の反応混合物を添加し、80℃で終夜攪拌した。反応液を1N塩酸水及び飽和食塩水にて順次洗浄した。該有機層を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン)で精製して、表題化合物の結晶(84mg,0.20mmol)を得た。
(2) 1- (tert-Butoxycarbonylmethyl) -6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidine N- (tert-butoxycarbonylmethyl) -phenylamidine hydrochloride (155 mg, 0.57 mmol), sodium carbonate (200 mg, 1.89 mmol), toluene (2 ml) and water (2 ml) were stirred for 10 minutes. The organic layer was washed with saturated brine, triethylamine (62 μl, 0.445 mmol) was added to the organic layer, the reaction mixture of Example 15 (1) was further added, and the mixture was stirred at 80 ° C. overnight. The reaction solution was washed successively with 1N aqueous hydrochloric acid and saturated brine. The organic layer was concentrated and purified by silica gel chromatography (ethyl acetate / hexane) to give the title compound as crystals (84 mg, 0.20 mmol).

実施例16
1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン
(1)2−ベンジル−4−トリメチルシリルオキシメチレン−5−オキサゾリノン
2−ベンジル−4−ヒドロキシメチレン−5−オキサゾリノン ナトリウム塩(100mg,0.444mmol)をクロロホルム(3ml)に懸濁させ、トリメチルシリルクロリド(61.9μl,0.498mmol)を加えて、室温で2時間攪拌した。反応終了後、反応混合物の一部をサンプリングし、H−NMRで分析して、2−ベンジル−4−トリメチルシリルオキシメチレン−5−オキサゾリノンが含まれていることを確認した。
1H-NMR(CDCl3) δ:0.30(9H, s), 3.82(2H, s), 7.20-7.27(6H, m)
(2)1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン
N−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−フェニルアミジン塩酸塩(155mg,0.57mmol)、炭酸ナトリウム(200mg,1.89mmol)、トルエン(2ml)および水(2ml)の混合物を10時間攪拌した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、更に実施例16(1)の反応混合物を添加し、80℃で終夜攪拌した。反応液を1N塩酸水及び飽和食塩水にて順次洗浄した。有機層を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製して、表題化合物の結晶(121mg,0.288mmol)を得た。
Example 16
1- (tert-Butoxycarbonylmethyl) -6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidine (1) 2-benzyl-4-trimethylsilyloxymethylene-5-oxazolinone 2-benzyl- 4-hydroxymethylene-5-oxazolinone sodium salt (100 mg, 0.444 mmol) was suspended in chloroform (3 ml), trimethylsilyl chloride (61.9 μl, 0.498 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, a part of the reaction mixture was sampled and analyzed by 1 H-NMR to confirm that 2-benzyl-4-trimethylsilyloxymethylene-5-oxazolinone was contained.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.30 (9H, s), 3.82 (2H, s), 7.20-7.27 (6H, m)
(2) 1- (tert-Butoxycarbonylmethyl) -6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidine N- (tert-butoxycarbonylmethyl) -phenylamidine hydrochloride (155 mg, 0.57 mmol), sodium carbonate (200 mg, 1.89 mmol), toluene (2 ml) and water (2 ml) were stirred for 10 hours. The organic layer was washed with saturated brine, and the reaction mixture of Example 16 (1) was further added, followed by stirring at 80 ° C. overnight. The reaction solution was washed successively with 1N aqueous hydrochloric acid and saturated brine. The organic layer was concentrated and purified by silica gel chromatography to give the title compound as crystals (121 mg, 0.288 mmol).

実施例17
1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン
(1)4−アセトキシメチレン−2−ベンジル−5−オキサゾリノン
2−ベンジル−4−ヒドロキシメチレン−5−オキサゾリノン(100mg,0.492mmol)に無水酢酸(0.5ml,5.29mmol)を加えて室温で1時間攪拌した。反応液に冷水を加えて洗浄して、酢酸エチルと飽和食塩水を加えて洗浄した。有機層を減圧乾燥して、4−アセトキシメチレン−2−ベンジル−5−オキサゾリノンを得た。
1H-NMR(CDCl3) δ:2.36(3H, s), 4.08(2H, s), 7.28-7.37(5H, m), 8.11(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 264.1, [MH]- 261.9
Example 17
1- (tert-Butoxycarbonylmethyl) -6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidine (1) 4-acetoxymethylene-2-benzyl-5-oxazolinone 2-benzyl-4 Acetic anhydride (0.5 ml, 5.29 mmol) was added to -hydroxymethylene-5-oxazolinone (100 mg, 0.492 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Cold water was added to the reaction solution for washing, and ethyl acetate and saturated brine were added for washing. The organic layer was dried under reduced pressure to give 4-acetoxymethylene-2-benzyl-5-oxazolinone.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.36 (3H, s), 4.08 (2H, s), 7.28-7.37 (5H, m), 8.11 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 264.1, [MH]-261.9

(2)1−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン
N−(tert−ブトキシカルボニルメチル)−フェニルアミジン塩酸塩(155mg,0.572mmol)、炭酸ナトリウム(200mg,1.89mmol)、トルエン(2ml)および水(2ml)の混合物を10時間攪拌した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、該有機層に実施例17(1)で得られた4−アセトキシメチレン−2−ベンジル−5−オキサゾリノンを添加し、80℃で終夜攪拌した。反応液を1N塩酸水、および飽和食塩水にて洗浄した。有機層をを濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、表題化合物の結晶(70.0mg,0.167mmol)を得た。
(2) 1- (tert-Butoxycarbonylmethyl) -6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidine N- (tert-butoxycarbonylmethyl) -phenylamidine hydrochloride (155 mg, 0.572 mmol), sodium carbonate (200 mg, 1.89 mmol), toluene (2 ml) and water (2 ml) were stirred for 10 hours. The organic layer was washed with saturated brine, and 4-acetoxymethylene-2-benzyl-5-oxazolinone obtained in Example 17 (1) was added to the organic layer, followed by stirring at 80 ° C. overnight. The reaction solution was washed with 1N hydrochloric acid and saturated brine. The organic layer was concentrated and purified by silica gel column chromatography to give the title compound as crystals (70.0 mg, 0.167 mmol).

実施例18
5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1−(スクシンイミドオキシカルボニルメチル)−1,6−ジヒドロピリミジン
(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸(300mg,1.04mmol)、アセトニトリル(5ml)およびN−メチルモルホリン(121mg,1.20mmol)を混合し、クロロギ酸エチル(125mg,1.15mmol)を加え、水冷下で30分攪拌した。N−ヒドロキシスクシンイミド(148mg,1.29mmol)を加えて5時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮して、酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて順次洗浄し、濃縮乾固した。水(5ml)でスラリー洗浄して析出物を濾過し、結晶を乾燥させ、表題化合物を淡黄色結晶(0.31g,0.81mmol)として得た。
Example 18
5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1- (succinimidooxycarbonylmethyl) -1,6-dihydropyrimidine (5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidine-1 -Yl) acetic acid (300 mg, 1.04 mmol), acetonitrile (5 ml) and N-methylmorpholine (121 mg, 1.20 mmol) were mixed, ethyl chloroformate (125 mg, 1.15 mmol) was added, and 30 minutes under water cooling Stir. N-hydroxysuccinimide (148 mg, 1.29 mmol) was added and stirred for 5 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, ethyl acetate was added, washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and concentrated to dryness. The slurry was washed with water (5 ml), the precipitate was filtered, and the crystals were dried to give the title compound as pale yellow crystals (0.31 g, 0.81 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:2.23(3H, s), 2.88(4H, s), 4.94(2H, s), 7.50-7.56(5H, m), 8.04(1H, s), 9.10(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 385.2, [MH]- 383.2
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.23 (3H, s), 2.88 (4H, s), 4.94 (2H, s), 7.50-7.56 (5H, m), 8.04 (1H, s), 9.10 (1H , s)
MS (ESI) m / z [MH] + 385.2, [MH]-383.2

実施例19
(S)−2−[2−(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセチルアミノ]−3−フェニルプロピオン酸
L−フェニルアラニン(100mg,0.61mmol)を50%アセトニトリル水(3ml)に加え、6N水酸化ナトリウム水溶液にてpH8に調整して溶解させた。この溶液に、5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1−(スクシンイミドオキシカルボニルメチル)−1,6−ジヒドロピリミジン(176mg,0.46mmol)をアセトニトリル(1ml)に溶かして、氷冷下滴下して2時間攪拌した。更に室温で3時間攪拌した。反応液を濃縮して塩酸水溶液にてpH2に調整して晶析し、析出物を濾過して洗浄し、減圧乾燥して、表題化合物を白色結晶(190mg,0.44mmol)として得た。
Example 19
(S) -2- [2- (5-Acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetylamino] -3-phenylpropionic acid L-phenylalanine (100 mg, 0 .61 mmol) was added to 50% acetonitrile water (3 ml), and adjusted to pH 8 with 6N aqueous sodium hydroxide solution and dissolved. To this solution, 5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1- (succinimidooxycarbonylmethyl) -1,6-dihydropyrimidine (176 mg, 0.46 mmol) was dissolved in acetonitrile (1 ml) and ice-cooled. The solution was added dropwise and stirred for 2 hours. The mixture was further stirred at room temperature for 3 hours. The reaction solution was concentrated and crystallized by adjusting the pH to 2 with an aqueous hydrochloric acid solution. The precipitate was filtered, washed and dried under reduced pressure to obtain the title compound as white crystals (190 mg, 0.44 mmol).

1H-NMR(DMSO-d6) δ: 2.14(3H, s), 2.84-2.87(1H, dd, J1=13.8Hz, J2=5.0Hz), 3.01(1H, dd, J1=13.8Hz, J2=8.7Hz), 4.41-4.48(3H, m), 7.12-7.14(2H, d, J=7.8Hz), 7.21-7.25(3H, m), 7.43-7.52(5H, m), 8.53(1H, d, J=7.8Hz), 8.80(1H, s), 9.52(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 435.2, [MH]- 433.3
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.14 (3H, s), 2.84-2.87 (1H, dd, J1 = 13.8Hz, J2 = 5.0Hz), 3.01 (1H, dd, J1 = 13.8Hz, J2 = 8.7Hz), 4.41-4.48 (3H, m), 7.12-7.14 (2H, d, J = 7.8Hz), 7.21-7.25 (3H, m), 7.43-7.52 (5H, m), 8.53 (1H, d, J = 7.8Hz), 8.80 (1H, s), 9.52 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 435.2, [MH]-433.3

実施例20
(S)−2−[(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセチルアミノ]−3−フェニルプロピオン酸
5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1−(スクシンイミドオキシカルボニルメチル)−1,6−ジヒドロピリミジンの代わりに、6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1−(スクシンイミドオキシカルボニルメチル)−1,6−ジヒドロピリミジンを用いたこと以外は、実施例19と同様に行い、表題化合物の結晶を得た。
Example 20
(S) -2-[(6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetylamino] -3-phenylpropionic acid 5-acetylamino-6-oxo Instead of 2-phenyl-1- (succinimidooxycarbonylmethyl) -1,6-dihydropyrimidine, 6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1- (succinimidooxycarbonylmethyl) -1,6 -Crystals of the title compound were obtained in the same manner as in Example 19 except that dihydropyrimidine was used.

1H-NMR(DMSO-d6) δ:2.85(1H, dd, J1=14.1Hz, J2=5.1Hz), 3.02(1H, dd, J1=14.1Hz, J2=5.1Hz), 3.83(2H, s), 4.45(3H, m), 7.15-7.52(15H, m), 8.53(1H, d, J=7.8Hz), 8.80(1H, s), 9.64(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 511.3, [MH]- 509.4
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.85 (1H, dd, J1 = 14.1Hz, J2 = 5.1Hz), 3.02 (1H, dd, J1 = 14.1Hz, J2 = 5.1Hz), 3.83 (2H, s), 4.45 (3H, m), 7.15-7.52 (15H, m), 8.53 (1H, d, J = 7.8Hz), 8.80 (1H, s), 9.64 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 511.3, [MH]-509.4

実施例21
(S)−2−[2−(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセチルアミノ]−3−メチル酪酸メチル
(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸(250mg,0.87mmol)に、テトラヒドロフラン(5ml)およびN−メチルモルホリン(0.10ml,0.91mmol)を添加して溶解し、氷冷下でクロロギ酸エチル(85.3μl,0.91mmol)を加え、20分間攪拌した。L−バリンメチルエステル塩酸塩(146mg,0.87mmol)およびN−メチルモルホリン(0.10ml,0.91mmol)を加えて2時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、1N塩酸水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて順次洗浄し、有機層を濃縮乾固して、表題化合物(0.18g,0.45mmol)を得た。
Example 21
(S) -2- [2- (5-Acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetylamino] -3-methylbutyrate (5-acetylamino-6 To -oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetic acid (250 mg, 0.87 mmol) was added tetrahydrofuran (5 ml) and N-methylmorpholine (0.10 ml, 0.91 mmol). After dissolution, ethyl chloroformate (85.3 μl, 0.91 mmol) was added under ice cooling, and the mixture was stirred for 20 minutes. L-valine methyl ester hydrochloride (146 mg, 0.87 mmol) and N-methylmorpholine (0.10 ml, 0.91 mmol) were added and stirred for 2 hours. Ethyl acetate was added to the reaction mixture, and the mixture was washed successively with 1N aqueous hydrochloric acid, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and the organic layer was concentrated to dryness to give the title compound (0.18 g, 0.45 mmol). .

1H-NMR(CDCl3) δ:0.92(3H, d, J=6.9Hz), 0.94(3H, d, J=6.9Hz), 2.16-2.19(1H, m), 2.21(3H, S), 3.75(3H, s), 4.58(3H, m), 6.37(1H, d, J=8.6Hz), 7.43-7.50(3H, m), 7.55-7.57(2H, m), 8.01(1H, s) 9.10(1H, s) 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.92 (3H, d, J = 6.9Hz), 0.94 (3H, d, J = 6.9Hz), 2.16-2.19 (1H, m), 2.21 (3H, S), 3.75 (3H, s), 4.58 (3H, m), 6.37 (1H, d, J = 8.6Hz), 7.43-7.50 (3H, m), 7.55-7.57 (2H, m), 8.01 (1H, s) 9.10 (1H, s)

実施例22
N−[2−(5−tert−ブチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)−1−メチル−2−オキソエチル]−(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド
(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸(600mg,1.65mmol)に、テトラヒドロフラン(8ml)およびN−メチルモルホリン(0.20ml,1.82mmol)を添加して溶解し、氷冷下でクロロギ酸エチル(0.165ml,1.73mmol)を加え、20分間攪拌した。2−アミノ−1−(5−tert−ブチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)−1−プロパノン塩酸塩(386mg,1.65mmol)およびN−メチルモルホリン(0.20ml,1.82mmol)を加えて1時間攪拌した。反応液にメチル−tert−ブチルエーテルを加え、1N塩酸水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて順次洗浄し、有機層を濃縮乾固して、表題化合物(0.61g,1.12mmol)を得た。
Example 22
N- [2- (5-tert-butyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) -1-methyl-2-oxoethyl]-(6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino) -1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide (6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetic acid (600 mg, 1.65 mmol) in tetrahydrofuran (8 ml) and N-methylmorpholine (0.20 ml, 1.82 mmol) were added and dissolved, and ethyl chloroformate (0.165 ml, 1.73 mmol) was added under ice cooling, followed by stirring for 20 minutes. 2-Amino-1- (5-tert-butyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) -1-propanone hydrochloride (386 mg, 1.65 mmol) and N-methylmorpholine (0.20 ml, 1.82 mmol) was added and stirred for 1 hour. Methyl-tert-butyl ether was added to the reaction mixture, and the mixture was washed successively with 1N aqueous hydrochloric acid, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and the organic layer was concentrated to dryness to give the title compound (0.61 g, 1.12 mmol). Got.

1H-NMR(CDCl3) δ:1.48(9H, s), 1.53(3H, d, J=4.2Hz) , 3.76(2H,s), 4.57(2H, s), 5.43-5.51(1H, m), 6.76(1H, d, J=6.8Hz), 7.25-7.32(5H, m), 7.43-7.53(5H, m), 8.05(1H, s), 9.09(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 543.4, [MH]- 541.4
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.48 (9H, s), 1.53 (3H, d, J = 4.2Hz), 3.76 (2H, s), 4.57 (2H, s), 5.43-5.51 (1H, m ), 6.76 (1H, d, J = 6.8Hz), 7.25-7.32 (5H, m), 7.43-7.53 (5H, m), 8.05 (1H, s), 9.09 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 543.4, [MH]-541.4

実施例23
N−[2−(5−tert−ブチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)−1−メチル−2−オキソエチル]−(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド
(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸の代わりに(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸を用いたこと以外は、実施例22と同様に行い、表題化合物を得た。
Example 23
N- [2- (5-tert-butyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) -1-methyl-2-oxoethyl]-(5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl- 1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide (6-acetyl-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetic acid instead of (5-acetylamino-6- The title compound was obtained in the same manner as in Example 22 except that oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetic acid was used.

1H-NMR(CDCl3) δ:1.48(9H, s), 1.59(3H, d, J=7.3Hz), 2.23(3H, s), 4.62(2H, s), 5.48-5.54(1H, m), 6.79(1H, d, J=6.9Hz), 7.47-7.56(5H, m), 8.02(1H, s), 9.08(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 467.2, [MH]- 465.4
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.48 (9H, s), 1.59 (3H, d, J = 7.3Hz), 2.23 (3H, s), 4.62 (2H, s), 5.48-5.54 (1H, m ), 6.79 (1H, d, J = 6.9Hz), 7.47-7.56 (5H, m), 8.02 (1H, s), 9.08 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 467.2, [MH]-465.4

実施例24
N−[2−メチル−1−(2−チアゾリルカルボニル)プロピル]−(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド
(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸(400mg,1.10mmol)に、テトラヒドロフラン(6ml)およびN−メチルモルホリン(0.133ml,1.21mmol)を添加して溶解し、氷冷下でクロロギ酸エチル(0.11ml,1.15mmol)を加え、20分間攪拌した。2−アミノ−3−メチル−1−(2−チアゾリル)−1−ブタノン塩酸塩(250mg,1.13mmol)およびN−メチルモルホリン(0.133ml,1.21mmol)を加えて1時間攪拌した。反応液にエチル−tert−ブチルエーテルを加え、1N塩酸水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水にて順次洗浄し、有機層を濃縮乾固して、表題化合物(556mg,1.05mmol)を得た。
Example 24
N- [2-Methyl-1- (2-thiazolylcarbonyl) propyl]-(6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide (6- Oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetic acid (400 mg, 1.10 mmol) was added to tetrahydrofuran (6 ml) and N-methylmorpholine (0.133 ml, 1.21 mmol). ) Was added and dissolved, and ethyl chloroformate (0.11 ml, 1.15 mmol) was added under ice cooling, followed by stirring for 20 minutes. 2-Amino-3-methyl-1- (2-thiazolyl) -1-butanone hydrochloride (250 mg, 1.13 mmol) and N-methylmorpholine (0.133 ml, 1.21 mmol) were added and stirred for 1 hour. Ethyl-tert-butyl ether was added to the reaction mixture, and the mixture was washed successively with 1N aqueous hydrochloric acid, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and the organic layer was concentrated to dryness to give the title compound (556 mg, 1.05 mmol). It was.

1H-NMR(CDCl3) δ:0.76(3H, d, J=6.8Hz), 0.99(3H, d, J=6.8Hz), 2.37-2.45(1H, m), 3.75(2H, s), 4.11(1H, dd, J1=14.3Hz, J2=7.1Hz), 4.60-4.70(2H, m), 5.65-5.68(1H, dd, J1=8.9Hz, J2=4.9Hz), 7.05(1H, d, J=8.9Hz), 7.23-7.53(10H, m), 7.69(1H, d, J=3.0Hz), 7.99(1H, d, J=3.0Hz), 8.16(1H, s),9.08(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 530.3, [MH]- 528.3
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.76 (3H, d, J = 6.8Hz), 0.99 (3H, d, J = 6.8Hz), 2.37-2.45 (1H, m), 3.75 (2H, s), 4.11 (1H, dd, J1 = 14.3Hz, J2 = 7.1Hz), 4.60-4.70 (2H, m), 5.65-5.68 (1H, dd, J1 = 8.9Hz, J2 = 4.9Hz), 7.05 (1H, d , J = 8.9Hz), 7.23-7.53 (10H, m), 7.69 (1H, d, J = 3.0Hz), 7.99 (1H, d, J = 3.0Hz), 8.16 (1H, s), 9.08 (1H , s)
MS (ESI) m / z [MH] + 530.3, [MH]-528.3

実施例25
N−[2−メチル−1−(2−チアゾリルカルボニル)プロピル]−(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド
(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸の代わりに(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸を用いたこと以外は、実施例24と同様に行い、表題化合物を得た。
Example 25
N- [2-Methyl-1- (2-thiazolylcarbonyl) propyl]-(5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide (6-oxo (2-acetyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) (5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) instead of acetic acid ) The title compound was obtained in the same manner as in Example 24 except for using acetic acid.

1H-NMR(CDCl3) δ:0.84(3H, d, J=6.9Hz), 1.05(3H, d, J=6.9Hz), 2.22(3H, s), 2.48(1H, m), 4.61(1H, d, J=16Hz), 4.68(1H, d, J=16Hz), 5,67(1H, dd, J1=8.8Hz, J2=4.8Hz), 6.78(1H, d, J=8.8Hz), 7.41-7.46(3H, m), 7.54-7.56(2H, m), 7.73(1H, d, J=3.0Hz), 8.00(1H, s), 8.04(1H, d, J=3.0Hz), 9.09(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 454.2, [MH]- 452.4
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.84 (3H, d, J = 6.9Hz), 1.05 (3H, d, J = 6.9Hz), 2.22 (3H, s), 2.48 (1H, m), 4.61 ( 1H, d, J = 16Hz), 4.68 (1H, d, J = 16Hz), 5,67 (1H, dd, J1 = 8.8Hz, J2 = 4.8Hz), 6.78 (1H, d, J = 8.8Hz) , 7.41-7.46 (3H, m), 7.54-7.56 (2H, m), 7.73 (1H, d, J = 3.0Hz), 8.00 (1H, s), 8.04 (1H, d, J = 3.0Hz), 9.09 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 454.2, [MH]-452.4

実施例26
(S)−N−[1−ベンジル−3−クロロ−2−オキソプロピル]−(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド
(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸の代わりに(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)酢酸、2−アミノ−1−(5−tert−ブチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)−1−プロパノン塩酸塩の代わりに(S)−3−アミノ−1−クロロ−4−フェニル−2−ブタノン塩酸塩を用いたこと以外は、実施例22と同様に行い、表題化合物を得た。
Example 26
(S) -N- [1-Benzyl-3-chloro-2-oxopropyl]-(5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide (6- (5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidine-1-) instead of oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetic acid Yl) acetic acid, 2-amino-1- (5-tert-butyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) -1-propanone instead of (S) -3-amino-1- The title compound was obtained in the same manner as in Example 22 except that chloro-4-phenyl-2-butanone hydrochloride was used.

1H-NMR(CDCl3) δ:2.24(3H, s), 3.02-3.07(1H, dd, J1=14.0Hz, J2=6.9Hz), 3.10-3.16(1H, dd, J1=14.0Hz, J2=6.9Hz), 4.00(1H, d, J=16.1Hz), 4.15(1H, d, J=16.1Hz) 4.48(1H, d, J=15.6Hz), 4.56(1H, d, J=15.6Hz), 4.98-5.03(1H, m), 6.51(1H, d, J=7.2Hz), 7.10-7.12(2H, m), 7.26-7.29(3H, m), 7.45-7.49(5H, m), 7.96(1H, s), 9.10(1H, s)
MS(ESI) m/z [MH]+ 467.2, [MH]- 465.2
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 2.24 (3H, s), 3.02-3.07 (1H, dd, J1 = 14.0Hz, J2 = 6.9Hz), 3.10-3.16 (1H, dd, J1 = 14.0Hz, J2 = 6.9Hz), 4.00 (1H, d, J = 16.1Hz), 4.15 (1H, d, J = 16.1Hz) 4.48 (1H, d, J = 15.6Hz), 4.56 (1H, d, J = 15.6Hz) ), 4.98-5.03 (1H, m), 6.51 (1H, d, J = 7.2Hz), 7.10-7.12 (2H, m), 7.26-7.29 (3H, m), 7.45-7.49 (5H, m), 7.96 (1H, s), 9.10 (1H, s)
MS (ESI) m / z [MH] + 467.2, [MH]-465.2

実施例27
(S)−2−[(5−アミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセチルアミノ]−3−フェニルプロピオン酸
(S)−2−[(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセチルアミノ]−3−フェニルプロピオン酸(135mg,0.264mmol)に、水(10ml)とリン酸二水素カリウム(155mg,1.14mmol)を加え、水酸化ナトリウム水溶液でpH7.6に調整し、ペニシリンアミダ−ゼビーズ(シグマ社製,23.0mg)を加えて、37℃終夜攪拌させた。得られた反応液にアセトニトリルを加えて、析出物を濾去し、濾液を濃縮した。塩酸水溶液を加えてpH2.0に調整し、晶析させた。析出物を濾過、洗浄、減圧乾燥し、表題化合物の結晶(85.0mg,0.217mmol)を得た。
Example 27
(S) -2-[(5-Amino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetylamino] -3-phenylpropionic acid (S) -2-[(6- Oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetylamino] -3-phenylpropionic acid (135 mg, 0.264 mmol), water (10 ml) and dihydrogen phosphate Potassium (155 mg, 1.14 mmol) was added, the pH was adjusted to 7.6 with an aqueous sodium hydroxide solution, penicillin amidase beads (Sigma, 23.0 mg) were added, and the mixture was stirred at 37 ° C. overnight. Acetonitrile was added to the resulting reaction solution, the precipitate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated. A hydrochloric acid aqueous solution was added to adjust the pH to 2.0, and crystallization was performed. The precipitate was filtered, washed and dried under reduced pressure to give the title compound as crystals (85.0 mg, 0.217 mmol).

1H-NMR(DMSO-d6) δ:2.83-2.88(1H, m), 3.00-3.03(1H, m), 4.33-4.47(3H, m), 5.14(2H, br), 7.14-7.45(10H, m), 8.44(1H, d, J=7.8Hz)
MS(ESI) m/z [MH]+ 393.3, [MH]- 391.2
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.83-2.88 (1H, m), 3.00-3.03 (1H, m), 4.33-4.47 (3H, m), 5.14 (2H, br), 7.14-7.45 ( 10H, m), 8.44 (1H, d, J = 7.8Hz)
MS (ESI) m / z [MH] + 393.3, [MH]-391.2

実施例28
N−[2−メチル−1−(2−チアゾリルカルボニル)プロピル]−(5−アミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド
N−[2−メチル−1−(2−チアゾリルカルボニル)プロピル]−(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド(150mg,0.283mmol)を0.05Mリン酸カリウム緩衝液(pH7.4,15.0ml)に懸濁させ、トリトンX−100(登録商標)(2.00μl)とペニシリンアミダ−ゼ水溶液(シグマ社製)を加えて、37℃で5日間攪拌した。得られた反応液の析出物を濾過、洗浄、減圧乾燥し、表題化合物の結晶(114mg,0.277mmol)を得た。
Example 28
N- [2-Methyl-1- (2-thiazolylcarbonyl) propyl]-(5-amino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide N- [2- Methyl-1- (2-thiazolylcarbonyl) propyl]-(6-oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide (150 mg, 0.283 mmol). Suspended in 0.05 M potassium phosphate buffer (pH 7.4, 15.0 ml), Triton X-100 (registered trademark) (2.00 μl) and penicillin amidase aqueous solution (manufactured by Sigma) were added, Stir at 37 ° C. for 5 days. The resulting precipitate of the reaction solution was filtered, washed and dried under reduced pressure to obtain the title compound crystal (114 mg, 0.277 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:0.84(3H, d , J=6.8Hz), 1.05(3H, d, J=6.82Hz), 2.45-2.50(1H, m), 4.04(2H, s), 4.58(1H, d, J=15.5Hz), 4.66(1H, d, J=15.5Hz), 5.64(1H, dd, J1=8.9Hz, J2=4.8Hz), 6.88(1H, d, J=8.9Hz), 7.40-7.52(6H,m), 7.72(1H, d, J=3.1Hz), 8.03(1H, d, J=3.1Hz)
MS(ESI) m/z [MH]+ 412.2, [MH]- 410.0
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 0.84 (3H, d, J = 6.8Hz), 1.05 (3H, d, J = 6.82Hz), 2.45-2.50 (1H, m), 4.04 (2H, s), 4.58 (1H, d, J = 15.5Hz), 4.66 (1H, d, J = 15.5Hz), 5.64 (1H, dd, J1 = 8.9Hz, J2 = 4.8Hz), 6.88 (1H, d, J = 8.9 Hz), 7.40-7.52 (6H, m), 7.72 (1H, d, J = 3.1Hz), 8.03 (1H, d, J = 3.1Hz)
MS (ESI) m / z [MH] + 412.2, [MH]-410.0

実施例29
N−[2−(5−tert−ブチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)−1−メチル−2−オキソエチル]−(5−アミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド
N−[2−(5−tert−ブチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)−1−メチル−2−オキソエチル]−(6−オキソ−2−フェニル−5−フェニルアセチルアミノ−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド(150mg,0.277mmol)を0.05Mリン酸カリウム緩衝液(pH7.4,15.0ml)に懸濁させ、トリトンX−100(登録商標)(2.00μl)とペニシリンアミダ−ゼ水溶液(シグマ社製)を加えて、37℃で終夜攪拌した。得られた反応液の析出物を濾過、洗浄、減圧乾燥し、表題化合物の結晶(114mg,0.269mmol)を得た。
Example 29
N- [2- (5-tert-butyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) -1-methyl-2-oxoethyl]-(5-amino-6-oxo-2-phenyl-1 , 6-Dihydropyrimidin-1-yl) acetamide N- [2- (5-tert-butyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) -1-methyl-2-oxoethyl]-(6- Oxo-2-phenyl-5-phenylacetylamino-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide (150 mg, 0.277 mmol) in 0.05 M potassium phosphate buffer (pH 7.4, 15.0 ml). The suspension was suspended, Triton X-100 (registered trademark) (2.00 μl) and penicillin amidase aqueous solution (manufactured by Sigma) were added, and the mixture was stirred at 37 ° C. overnight. The resulting precipitate of the reaction solution was filtered, washed and dried under reduced pressure to obtain the title compound crystal (114 mg, 0.269 mmol).

1H-NMR(CDCl3) δ:1.48(9H, s), 1.57(3H, d, J=7.3Hz), 4.48(1H, d, J=15.5Hz), 4.64(1H, d, J=15.5Hz), 4.47(1H, m), 7.01(1H, d, J=6.6Hz), 7.43-7.53(6H, m)
MS(ESI) m/z [MH]+ 425.3, [MH]- 423.1
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.48 (9H, s), 1.57 (3H, d, J = 7.3Hz), 4.48 (1H, d, J = 15.5Hz), 4.64 (1H, d, J = 15.5 Hz), 4.47 (1H, m), 7.01 (1H, d, J = 6.6Hz), 7.43-7.53 (6H, m)
MS (ESI) m / z [MH] + 425.3, [MH]-423.1

実施例30
(S)−2−[(5−アミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセチルアミノ]−3−メチル酪酸メチル 塩酸塩
(S)−2−[(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセチルアミノ]−3−メチル酪酸メチル(100mg,0.25mmol)をメタノール(5ml)に溶解させ、10%塩化水素メタノール溶液(0.5ml)を加えて室温で終夜攪拌した。反応混合物を濃縮乾固し、メチル−tert−ブチルエーテルを加え、濾過、メチル−tert−ブチルエーテルで洗浄、乾燥して、表題化合物の結晶(90.0mg,0.228mmol)を得た。
Example 30
(S) -2-[(5-Amino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetylamino] -3-methylbutyric acid hydrochloride (S) -2-[( 5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetylamino] -3-methylbutyrate (100 mg, 0.25 mmol) was dissolved in methanol (5 ml) and 10 % Hydrogen chloride methanol solution (0.5 ml) was added and stirred at room temperature overnight. The reaction mixture was concentrated to dryness, methyl-tert-butyl ether was added, filtered, washed with methyl-tert-butyl ether and dried to give the title compound as crystals (90.0 mg, 0.228 mmol).

1H-NMR(DMSO-d6) δ: 0.80(3H, d, J=3.0Hz), 0.82(3H, d, J=3.0Hz), 1.97-2.02(1H, m), 3.64(3H, s), 4.20(1H, dd, J1=8.4Hz, J2=6.2Hz), 4.53(2H, s), 7.37(1H, s), 7.48-7.55(5H, m), 8.51(1H, d, J=8.4Hz)
MS(ESI) m/z [MH]+ 359.4, [MH]- 393.1
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 0.80 (3H, d, J = 3.0Hz), 0.82 (3H, d, J = 3.0Hz), 1.97-2.02 (1H, m), 3.64 (3H, s ), 4.20 (1H, dd, J1 = 8.4Hz, J2 = 6.2Hz), 4.53 (2H, s), 7.37 (1H, s), 7.48-7.55 (5H, m), 8.51 (1H, d, J = (8.4Hz)
MS (ESI) m / z [MH] + 359.4, [MH]-393.1

実施例31
N−[2−メチル−1−(2−チアゾリルカルボニル)プロピル]−(5−アミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド 塩酸塩
N−[2−メチル−1−(2−チアゾリルカルボニル)プロピル]−(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド(100mg,0.220mmol)をメタノール(5ml)に溶解させ、10%塩化水素メタノール溶液(0.5ml)を加えて60℃で終夜攪拌した。反応混合物を濃縮乾固し、メチル−tert−ブチルエーテルを加え、濾過、メチル−tert−ブチルエーテルで洗浄、乾燥して、表題化合物の結晶(93.0mg,0.208mmol)を得た。
Example 31
N- [2-Methyl-1- (2-thiazolylcarbonyl) propyl]-(5-amino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide hydrochloride N- [ 2-Methyl-1- (2-thiazolylcarbonyl) propyl]-(5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide (100 mg, 0.220 mmol) Was dissolved in methanol (5 ml), 10% hydrogen chloride methanol solution (0.5 ml) was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. overnight. The reaction mixture was concentrated to dryness, methyl-tert-butyl ether was added, filtered, washed with methyl-tert-butyl ether and dried to give the title compound as crystals (93.0 mg, 0.208 mmol).

1H-NMR(DMSO-d6) δ:0.80(3H, d , J=6.9Hz), 0.87(3H, d, J=6.9Hz), 2.28-2.33(1H, m), 4.62(2H, s), 5.45(1H, dd, J1=8.1Hz, J2=5.5Hz), 7.51- 7.62(6H,m), 8.20(1H, d, J=3.0Hz), 8.30(1H, d, J=3.0Hz), 8.75(1H, d, J=8.1Hz)
MS(ESI) m/z [MH]+ 412.3, [MH]- 446.2
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 0.80 (3H, d, J = 6.9Hz), 0.87 (3H, d, J = 6.9Hz), 2.28-2.33 (1H, m), 4.62 (2H, s ), 5.45 (1H, dd, J1 = 8.1Hz, J2 = 5.5Hz), 7.51-7.62 (6H, m), 8.20 (1H, d, J = 3.0Hz), 8.30 (1H, d, J = 3.0Hz) ), 8.75 (1H, d, J = 8.1Hz)
MS (ESI) m / z [MH] + 412.3, [MH]-446.2

実施例32
(S)−N−[1−ベンジル−3−クロロ−2−オキソプロピル]−(5−アミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミド 塩酸塩
(S)−2−[(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセチルアミノ]−3−メチル酪酸メチルの代わりに(S)−N−[1−ベンジル−3−クロロ−2−オキソプロピル]−(5−アセチルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)アセトアミドを用いたこと以外は、実施例30と同様に行い、表題化合物の結晶を得た。
Example 32
(S) -N- [1-Benzyl-3-chloro-2-oxopropyl]-(5-amino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide hydrochloride (S ) -2-[(5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetylamino] -3-methylbutyrate instead of methyl (S) -N- [1 -Benzyl-3-chloro-2-oxopropyl]-(5-acetylamino-6-oxo-2-phenyl-1,6-dihydropyrimidin-1-yl) acetamide and Example 30 In the same manner, crystals of the title compound were obtained.

1H-NMR(DMSO-d6) δ:2.78-2.84(1H, m), 3.07-3.11(1H, m), 4.43(2H, s), 4.55-4.60(3H, m), 7.13-7.23(5H, m), 7.43-7.58(5H, m), 7.59-7.60(1H, m), 8.96(1H, d, J=7.4Hz)
MS(ESI) m/z [MH]+ 425.2, [MH]- 459.2
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.78-2.84 (1H, m), 3.07-3.11 (1H, m), 4.43 (2H, s), 4.55-4.60 (3H, m), 7.13-7.23 ( 5H, m), 7.43-7.58 (5H, m), 7.59-7.60 (1H, m), 8.96 (1H, d, J = 7.4Hz)
MS (ESI) m / z [MH] + 425.2, [MH]-459.2

比較例1
4−N,N−ジメチルアミノメチレン−2−ベンジル−5−オキサゾリノン(242mg,1.05mmol)のエタノール(8ml)溶液に、水酸化ナトリウム(50mg,1.25mmol)を氷冷下で加えて、室温下2時間攪拌した。溶媒を留去して水を加え、2N塩酸にて中和した。反応終了後および中和後に、HPLC,MS分析したところ、開環体であるエチル 2−フェニルアセチルアミノ−3−N,N−ジメチルアミノプロピオネートであった。
Comparative Example 1
To a solution of 4-N, N-dimethylaminomethylene-2-benzyl-5-oxazolinone (242 mg, 1.05 mmol) in ethanol (8 ml) was added sodium hydroxide (50 mg, 1.25 mmol) under ice cooling, Stir at room temperature for 2 hours. The solvent was distilled off, water was added, and the mixture was neutralized with 2N hydrochloric acid. After completion of the reaction and after neutralization, HPLC and MS analysis revealed ethyl 2-phenylacetylamino-3-N, N-dimethylaminopropionate which was a ring-opened product.

実施例2の化合物の熱分析(DSCおよびTG)の結果を示すチャートである。2 is a chart showing the results of thermal analysis (DSC and TG) of the compound of Example 2. 実施例3の化合物の熱分析(DSCおよびTG)の結果を示すチャートである。4 is a chart showing the results of thermal analysis (DSC and TG) of the compound of Example 3.

Claims (33)

一般式(I):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、RおよびRは同一または異なって、アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって脂肪族複素環を形成してもよく、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、一般式(II):
Figure 2005154430

(式中、Mは水素原子、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを示し、Pおよび波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
得られた一般式(II)で表される化合物を一般式:R−X(III)〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4bを示し、Xはハロゲン原子、−OSOまたは−OCOR4a(ここでR、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。〕で表される試薬と反応させることを特徴とする、一般式(IV):
Figure 2005154430

(式中、各記号および波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物の製造方法。
Formula (I):
Figure 2005154430

(Wherein P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group, or An adjacent heterocyclic group may form an aliphatic heterocyclic ring, and the wavy line indicates that it is a cis- or trans-isomer or a mixture thereof. Hydrolysis in the presence of an alkali metal gives general formula (II):
Figure 2005154430

(Wherein M represents a hydrogen atom, sodium, potassium or lithium, and P and a wavy line have the same meanings as described above);
The compound represented by the general formula (II) thus obtained is represented by the general formula: R 3 -X (III) [wherein R 3 has an alkyl group which may have a substituent and a substituent. An aryl group which may be substituted, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b , wherein X is a halogen atom, —OSO 3 R 4 or —OCOR 4a (here And R 4 , R 4a and R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. And a reagent represented by the general formula (IV):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol and wavy line have the same meaning as described above).
下記工程(a)、(b)および(c)を含むことを特徴とする、一般式(VI):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法;
工程(a):一般式(I):
Figure 2005154430

(式中、Pは前記と同意義を示し、RおよびRは同一または異なって、アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって脂肪族複素環を形成してもよく、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、一般式(II):
Figure 2005154430

(式中、Mは水素原子、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを示し、Pおよび波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(b):得られた一般式(II)で表される化合物を一般式:R−X(III)〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4bを示し、Xはハロゲン原子、−OSOまたは−OCOR4a(ここでR、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。〕で表される試薬と反応させて、一般式(IV):
Figure 2005154430

(式中、各記号および波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(c):得られた一般式(IV)で表される化合物を一般式(V):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩と反応させて、上記一般式(VI)で表される化合物またはその塩を得る。
General formula (VI), characterized by comprising the following steps (a), (b) and (c):
Figure 2005154430

(In the formula, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. A phenyl group which may be present, and R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aralkyl group.)
Step (a): General formula (I):
Figure 2005154430

Wherein P is as defined above, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group or may form an aliphatic heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom. , The wavy line indicates that the compound is a cis isomer, a trans isomer or a mixture thereof) or a salt thereof in the presence of an alkali metal hydroxide to give a general formula (II):
Figure 2005154430

(Wherein M represents a hydrogen atom, sodium, potassium or lithium, and P and a wavy line have the same meanings as described above);
Step (b): The compound represented by the general formula (II) thus obtained is represented by the general formula: R 3 -X (III) [wherein R 3 is an alkyl group which may have a substituent, a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b , wherein X is a halogen atom, —OSO 3 R 4 or -OCOR 4a (wherein R 4 , R 4a and R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent) .) And a reagent represented by the general formula (IV):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol and wavy line have the same meaning as described above) to obtain a compound represented by
Step (c): The obtained compound represented by the general formula (IV) is converted into the general formula (V):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol has the same meaning as described above) is reacted with a compound represented by the general formula (VI) or a salt thereof.
下記工程(a)、(b)、(c)および(d)を含むことを特徴とする、一般式(VII):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示す。)で表される化合物の製造方法;
工程(a):一般式(I):
Figure 2005154430

(式中、Pは前記と同意義を示し、RおよびRは同一または異なって、アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって脂肪族複素環を形成してもよく、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、一般式(II):
Figure 2005154430

(式中、Mは水素原子、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを示し、Pおよび波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(b):得られた一般式(II)で表される化合物を一般式:R−X(III)〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4bを示し、Xはハロゲン原子、−OSOまたは−OCOR4a(ここでR、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。〕で表される試薬と反応させて、一般式(IV):
Figure 2005154430

(式中、各記号および波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(c):得られた一般式(IV)で表される化合物を一般式(V):
Figure 2005154430

(式中、Rは前記と同意義を示し、Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩と反応させて、一般式(VI):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(d):得られた一般式(VI)で表される化合物またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させて、上記一般式(VII)で表される化合物を得る。
General formula (VII) characterized in that it comprises the following steps (a), (b), (c) and (d):
Figure 2005154430

(In the formula, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. A phenyl group that may be present; and a method for producing a compound represented by:
Step (a): General formula (I):
Figure 2005154430

Wherein P is as defined above, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group or may form an aliphatic heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom. , The wavy line indicates that the compound is a cis isomer, a trans isomer or a mixture thereof) or a salt thereof in the presence of an alkali metal hydroxide to give a general formula (II):
Figure 2005154430

(Wherein M represents a hydrogen atom, sodium, potassium or lithium, and P and a wavy line have the same meanings as described above);
Step (b): The compound represented by the general formula (II) thus obtained is represented by the general formula: R 3 -X (III) [wherein R 3 is an alkyl group which may have a substituent, a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b , wherein X is a halogen atom, —OSO 3 R 4 or -OCOR 4a (wherein R 4 , R 4a and R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent) .) And a reagent represented by the general formula (IV):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol and wavy line have the same meaning as described above) to obtain a compound represented by
Step (c): The obtained compound represented by the general formula (IV) is converted into the general formula (V):
Figure 2005154430

(Wherein R 5 represents the same meaning as described above, and R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aralkyl group) and a compound represented by the general formula (VI):
Figure 2005154430

Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Step (d): The compound represented by the general formula (VI) or a salt thereof obtained is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, then condensed with N-hydroxysuccinimide, and the above general formula A compound represented by the formula (VII) is obtained.
Pがメチル基、エチル基またはベンジル基である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method as described in any one of Claims 1-3 whose P is a methyl group, an ethyl group, or a benzyl group. がメチル基、エチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基またはトリメチルシリル基である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 3, wherein R 3 is a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a methanesulfonyl group or a trimethylsilyl group. 下記工程(a)、(b)、(c)、(d)および(e)を含むことを特徴とする、一般式(IX):
Figure 2005154430

〔式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または−N(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示す。〕で表される化合物またはその塩の製造方法;
工程(a):一般式(I):
Figure 2005154430

(式中、Pは前記と同意義を示し、RおよびRは同一または異なって、アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって脂肪族複素環を形成してもよく、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、一般式(II):
Figure 2005154430

(式中、Mは水素原子、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを示し、Pおよび波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(b):得られた一般式(II)で表される化合物を一般式:R−X(III)〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4bを示し、Xはハロゲン原子、−OSOまたは−OCOR4a(ここでR、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。〕で表される試薬と反応させて、一般式(IV):
Figure 2005154430

(式中、各記号および波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(c):得られた一般式(IV)で表される化合物を一般式(V):
Figure 2005154430

(式中、Rは前記と同意義を示し、Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩と反応させて、一般式(VI):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(d):得られた一般式(VI)で表される化合物またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させて、一般式(VII):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(e):得られた一般式(VII)で表される化合物と一般式(VIII):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩とを反応させて、上記一般式(IX)で表される化合物またはその塩を得る。
General formula (IX), characterized in that it comprises the following steps (a), (b), (c), (d) and (e):
Figure 2005154430

[Wherein, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. R 8 represents an aryl group, R 8 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group, or —N (R 9 ) —OR 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or different and each independently represents an alkyl group). Group). Or a salt thereof;
Step (a): General formula (I):
Figure 2005154430

Wherein P is as defined above, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group or may form an aliphatic heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom. , The wavy line indicates that the compound is a cis isomer, a trans isomer or a mixture thereof) or a salt thereof in the presence of an alkali metal hydroxide to give a general formula (II):
Figure 2005154430

(Wherein M represents a hydrogen atom, sodium, potassium or lithium, and P and a wavy line have the same meanings as described above);
Step (b): The compound represented by the general formula (II) thus obtained is represented by the general formula: R 3 -X (III) [wherein R 3 is an alkyl group which may have a substituent, a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b , wherein X is a halogen atom, —OSO 3 R 4 or -OCOR 4a (wherein R 4 , R 4a and R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent) .) And a reagent represented by the general formula (IV):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol and wavy line have the same meaning as described above) to obtain a compound represented by
Step (c): The obtained compound represented by the general formula (IV) is converted into the general formula (V):
Figure 2005154430

(Wherein R 5 represents the same meaning as described above, and R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aralkyl group) and a compound represented by the general formula (VI):
Figure 2005154430

Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Step (d): When the compound represented by the general formula (VI) or a salt thereof obtained is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, it is condensed with N-hydroxysuccinimide to give a general formula (VII):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol is as defined above), a compound represented by
Step (e): the compound represented by the general formula (VII) and the general formula (VIII):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol has the same meaning as described above) is reacted with a compound represented by the general formula (IX) or a salt thereof.
下記工程(a)、(b)、(c)および(f)を含むことを特徴とする、一般式(IX):
Figure 2005154430

〔式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または−N(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示す。〕で表される化合物またはその塩の製造方法;
工程(a):一般式(I):
Figure 2005154430

(式中、Pは前記と同意義を示し、RおよびRは同一または異なって、アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって脂肪族複素環を形成してもよく、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、一般式(II):
Figure 2005154430

(式中、Mは水素原子、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを示し、Pおよび波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(b):得られた一般式(II)で表される化合物を一般式:R−X(III)〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4bを示し、Xはハロゲン原子、−OSOまたは−OCOR4a(ここでR、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。〕で表される試薬と反応させて、一般式(IV):
Figure 2005154430

(式中、各記号および波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(c):得られた一般式(IV)で表される化合物を一般式(V):
Figure 2005154430

(式中、Rは前記と同意義を示し、Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩と反応させて、一般式(VI):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(f):得られた一般式(VI)で表される化合物またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、一般式(VIII):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩と縮合させて、上記一般式(IX)で表される化合物またはその塩を得る。
General formula (IX), characterized in that it comprises the following steps (a), (b), (c) and (f):
Figure 2005154430

[Wherein, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. R 8 represents an aryl group, R 8 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group, or —N (R 9 ) —OR 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or different and each independently represents an alkyl group). Group). Or a salt thereof;
Step (a): General formula (I):
Figure 2005154430

Wherein P is as defined above, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group or may form an aliphatic heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom. , The wavy line indicates that the compound is a cis isomer, a trans isomer or a mixture thereof) or a salt thereof in the presence of an alkali metal hydroxide to give a general formula (II):
Figure 2005154430

(Wherein M represents a hydrogen atom, sodium, potassium or lithium, and P and a wavy line have the same meanings as described above);
Step (b): The compound represented by the general formula (II) thus obtained is represented by the general formula: R 3 -X (III) [wherein R 3 is an alkyl group which may have a substituent, a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b , wherein X is a halogen atom, —OSO 3 R 4 or -OCOR 4a (wherein R 4 , R 4a and R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent) .) And a reagent represented by the general formula (IV):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol and wavy line have the same meaning as described above) to obtain a compound represented by
Step (c): The obtained compound represented by the general formula (IV) is converted into the general formula (V):
Figure 2005154430

(Wherein R 5 represents the same meaning as described above, and R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aralkyl group) and a compound represented by the general formula (VI):
Figure 2005154430

Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Step (f): The compound represented by the general formula (VI) or a salt thereof obtained is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, and then the general formula (VIII):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol has the same meaning as described above) is condensed with a compound represented by the above general formula (IX) or a salt thereof.
Pがメチル基、エチル基またはベンジル基である、請求項6または7記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 6 or 7 whose P is a methyl group, an ethyl group, or a benzyl group. がメチル基、エチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基またはトリメチルシリル基である、請求項6または7記載の製造方法。 The production method according to claim 6 or 7, wherein R 3 is a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a methanesulfonyl group or a trimethylsilyl group. 請求項6〜9のいずれか一項の製造方法により得られる一般式(IX):
Figure 2005154430

〔式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または−N(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示す。〕で表される化合物またはその塩を脱保護することを特徴とする、一般式(X):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法。
General formula (IX) obtained by the production method according to any one of claims 6 to 9:
Figure 2005154430

[Wherein, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. R 8 represents an aryl group, R 8 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group, or —N (R 9 ) —OR 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or different and each independently represents an alkyl group). Group). A compound represented by the general formula (X):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol is as defined above), or a method for producing the salt thereof.
酵素反応により脱保護することを特徴とする、請求項10記載の製造方法。   The production method according to claim 10, wherein the deprotection is performed by an enzymatic reaction. 酸性条件により脱保護することを特徴とする、請求項10記載の製造方法。   The production method according to claim 10, wherein the deprotection is performed under acidic conditions. 下記工程(j)、(k)および(l)を含むことを特徴とする、一般式(XV):
Figure 2005154430

(式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Y は置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいアシル基またはハロアルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法;
工程(j):請求項10〜12のいずれか一項に記載の方法によって得られる一般式(X):
Figure 2005154430

〔式中、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または−N(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示し、他の各記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合物またはその塩のアミノ基を保護して、一般式(XIII):
Figure 2005154430

(式中、Qはアシル基以外のアミノ基の保護基を示し、他の各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(k):得られた一般式(XIII)で表される化合物またはその塩のRで表される基をYで表される基に変換して、一般式(XIV):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(l):得られた一般式(XIV)で表される化合物またはその塩を脱保護して、上記一般式(XV)で表される化合物またはその塩を得る。
General formula (XV), characterized in that it comprises the following steps (j), (k) and (l):
Figure 2005154430

(In the formula, R 5 represents an alkyl group which may have a substituent or a phenyl group which may have a substituent, and R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Represents an aralkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and Y 1 may have a heterocyclic group which may have a substituent, or a substituent. A good acyl group or haloalkyl group)) or a salt thereof;
Process (j): General formula (X) obtained by the method as described in any one of Claims 10-12:
Figure 2005154430

[Wherein, R 8 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group, or —N (R 9 ) —OR 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or different and each independently represents an alkyl group) And other symbols are as defined above. And the amino group of the compound represented by the formula (XIII):
Figure 2005154430

Wherein Q represents an amino-protecting group other than an acyl group, and other symbols are as defined above, or a salt thereof;
Step (k): Converting the group represented by R 8 of the compound represented by the general formula (XIII) or a salt thereof to the group represented by Y to produce the general formula (XIV):
Figure 2005154430

Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Step (l): The compound represented by the general formula (XIV) or a salt thereof obtained is deprotected to obtain the compound represented by the general formula (XV) or a salt thereof.
下記工程(a)、(b)、(c)、(d)、(e)および(g)を含むことを特徴とする、一般式(XI):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Y は置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいアシル基またはハロアルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法;
工程(a):一般式(I):
Figure 2005154430

(式中、Pは前記と同意義を示し、RおよびRは同一または異なって、アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって脂肪族複素環を形成してもよく、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、一般式(II):
Figure 2005154430

(式中、Mは水素原子、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを示し、Pおよび波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(b):得られた一般式(II)で表される化合物を一般式:R−X(III)〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4bを示し、Xはハロゲン原子、−OSOまたは−OCOR4a(ここでR、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。〕で表される試薬と反応させて、一般式(IV):
Figure 2005154430

(式中、各記号および波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(c):得られた一般式(IV)で表される化合物を一般式(V):
Figure 2005154430

(式中、Rは前記と同意義を示し、Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩と反応させて、一般式(VI):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(d):得られた一般式(VI)で表される化合物またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、N−ヒドロキシスクシンイミドと縮合させて、一般式(VII):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(e):得られた一般式(VII)で表される化合物と一般式(VIII):
Figure 2005154430

〔式中、Rは前記と同意義を示し、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基−またはN(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示す。〕で表される化合物またはその塩とを反応させて、一般式(IX):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(g):得られた一般式(IX)で表される化合物またはその塩のRで表される基をYで表される基に変換して、上記一般式(XI)で表される化合物またはその塩を得る。
General formula (XI), characterized in that it comprises the following steps (a), (b), (c), (d), (e) and (g):
Figure 2005154430

(In the formula, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. A aryl group, and Y represents a heterocyclic group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent or a haloalkyl group.) Or a salt thereof;
Step (a): General formula (I):
Figure 2005154430

Wherein P is as defined above, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group or may form an aliphatic heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom. , The wavy line indicates that the compound is a cis isomer, a trans isomer or a mixture thereof) or a salt thereof in the presence of an alkali metal hydroxide to give a general formula (II):
Figure 2005154430

(Wherein M represents a hydrogen atom, sodium, potassium or lithium, and P and a wavy line have the same meanings as described above);
Step (b): The compound represented by the general formula (II) thus obtained is represented by the general formula: R 3 -X (III) [wherein R 3 is an alkyl group which may have a substituent, a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b , wherein X is a halogen atom, —OSO 3 R 4 or -OCOR 4a (wherein R 4 , R 4a and R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent) .) And a reagent represented by the general formula (IV):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol and wavy line have the same meaning as described above) to obtain a compound represented by
Step (c): The obtained compound represented by the general formula (IV) is converted into the general formula (V):
Figure 2005154430

(Wherein R 5 represents the same meaning as described above, and R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aralkyl group) and a compound represented by the general formula (VI):
Figure 2005154430

Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Step (d): When the compound represented by the general formula (VI) or a salt thereof obtained is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, it is condensed with N-hydroxysuccinimide to give a general formula (VII):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol is as defined above), a compound represented by
Step (e): the compound represented by the general formula (VII) and the general formula (VIII):
Figure 2005154430

[In the formula, R 7 is as defined above, and R 8 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group- or N (R 9 ) -OR 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or And each independently represents an alkyl group.). ] Or a salt thereof is reacted with the compound represented by the general formula (IX):
Figure 2005154430

Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Step (g): The compound represented by the general formula (IX) or a salt thereof obtained by converting the group represented by R 8 to the group represented by Y is represented by the above general formula (XI). Or a salt thereof.
下記工程(a)、(b)、(c)、(f)および(g)を含むことを特徴とする、一般式(XI):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Y は置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいアシル基またはハロアルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法;
工程(a):一般式(I):
Figure 2005154430

(式中、Pは前記と同意義を示し、RおよびRは同一または異なって、アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって脂肪族複素環を形成してもよく、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、一般式(II):
Figure 2005154430

(式中、Mは水素原子、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを示し、Pおよび波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(b):得られた一般式(II)で表される化合物を一般式:R−X(III)〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4bを示し、Xはハロゲン原子、−OSOまたは−OCOR4a(ここでR、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。〕で表される試薬と反応させて、一般式(IV):
Figure 2005154430

(式中、各記号および波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(c):得られた一般式(IV)で表される化合物を一般式(V):
Figure 2005154430

(式中、Rは前記と同意義を示し、Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩と反応させて、一般式(VI):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(f):得られた一般式(VI)で表される化合物またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、一般式(VIII):
Figure 2005154430

〔式中、Rは前記と同意義を示し、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基−またはN(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示す。〕で表される化合物またはその塩と縮合させて、一般式(IX):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(g):得られた一般式(IX)で表される化合物またはその塩のRで表される基をYで表される基に変換して、上記一般式(XI)で表される化合物またはその塩を得る。
General formula (XI) characterized by comprising the following steps (a), (b), (c), (f) and (g):
Figure 2005154430

(In the formula, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. A aryl group, and Y represents a heterocyclic group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent or a haloalkyl group.) Or a salt thereof;
Step (a): General formula (I):
Figure 2005154430

Wherein P is as defined above, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group or may form an aliphatic heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom. , The wavy line indicates that the compound is a cis isomer, a trans isomer or a mixture thereof) or a salt thereof in the presence of an alkali metal hydroxide to give a general formula (II):
Figure 2005154430

(Wherein M represents a hydrogen atom, sodium, potassium or lithium, and P and a wavy line have the same meanings as described above);
Step (b): The compound represented by the general formula (II) thus obtained is represented by the general formula: R 3 -X (III) [wherein R 3 is an alkyl group which may have a substituent, a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b , wherein X is a halogen atom, —OSO 3 R 4 or -OCOR 4a (wherein R 4 , R 4a and R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent) .) And a reagent represented by the general formula (IV):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol and wavy line have the same meaning as described above) to obtain a compound represented by
Step (c): The obtained compound represented by the general formula (IV) is converted into the general formula (V):
Figure 2005154430

(Wherein R 5 represents the same meaning as described above, and R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aralkyl group) and a compound represented by the general formula (VI):
Figure 2005154430

Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Step (f): The compound represented by the general formula (VI) or a salt thereof obtained is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, and then the general formula (VIII):
Figure 2005154430

[Wherein R 7 is as defined above, R 8 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group — or N (R 9 ) —OR 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or And each independently represents an alkyl group.). A compound represented by the general formula (IX):
Figure 2005154430

Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Step (g): The compound represented by the general formula (IX) or a salt thereof obtained by converting the group represented by R 8 to the group represented by Y is represented by the above general formula (XI). Or a salt thereof.
下記工程(a)、(b)、(c)および(h)を含むことを特徴とする、一般式(XI):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Y は置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいアシル基またはハロアルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法;
工程(a):一般式(I):
Figure 2005154430

(式中、Pは前記と同意義を示し、RおよびRは同一または異なって、アルキル基を示すか、または隣接する窒素原子と一緒になって脂肪族複素環を形成してもよく、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物またはその塩を、水酸化アルカリ金属の存在下、加水分解して、一般式(II):
Figure 2005154430

(式中、Mは水素原子、ナトリウム、カリウムまたはリチウムを示し、Pおよび波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(b):得られた一般式(II)で表される化合物を一般式:R−X(III)〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4bを示し、Xはハロゲン原子、−OSOまたは−OCOR4a(ここでR、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示す。〕で表される試薬と反応させて、一般式(IV):
Figure 2005154430

(式中、各記号および波線は前記と同意義を示す。)で表される化合物を得;
工程(c):得られた一般式(IV)で表される化合物を一般式(V):
Figure 2005154430

(式中、Rは前記と同意義を示し、Rは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩と反応させて、一般式(VI):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩を得;
工程(h):得られた一般式(VI)で表される化合物またはその塩を、Rが水素原子以外の場合は水素原子に変換した後、一般式(XII):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩と縮合させて、上記一般式(XI)で表される化合物またはその塩を得る。
General formula (XI), characterized in that it comprises the following steps (a), (b), (c) and (h):
Figure 2005154430

(In the formula, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. A aryl group, and Y represents a heterocyclic group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent or a haloalkyl group.) Or a salt thereof;
Step (a): General formula (I):
Figure 2005154430

Wherein P is as defined above, and R 1 and R 2 are the same or different and each represents an alkyl group or may form an aliphatic heterocyclic ring together with an adjacent nitrogen atom. , The wavy line indicates that the compound is a cis isomer, a trans isomer or a mixture thereof) or a salt thereof in the presence of an alkali metal hydroxide to give a general formula (II):
Figure 2005154430

(Wherein M represents a hydrogen atom, sodium, potassium or lithium, and P and a wavy line have the same meanings as described above);
Step (b): The compound represented by the general formula (II) thus obtained is represented by the general formula: R 3 -X (III) [wherein R 3 is an alkyl group which may have a substituent, a substituent. An aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b , wherein X is a halogen atom, —OSO 3 R 4 or -OCOR 4a (wherein R 4 , R 4a and R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent) .) And a reagent represented by the general formula (IV):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol and wavy line have the same meaning as described above) to obtain a compound represented by
Step (c): The obtained compound represented by the general formula (IV) is converted into the general formula (V):
Figure 2005154430

(Wherein R 5 represents the same meaning as described above, and R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aralkyl group) and a compound represented by the general formula (VI):
Figure 2005154430

Wherein each symbol is as defined above, or a salt thereof;
Step (h): The compound represented by the general formula (VI) or a salt thereof obtained is converted to a hydrogen atom when R 6 is other than a hydrogen atom, and then the general formula (XII):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol is as defined above) is condensed with a compound represented by the general formula (XI) or a salt thereof.
Pがメチル基、エチル基またはベンジル基である、請求項14〜16のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method as described in any one of Claims 14-16 whose P is a methyl group, an ethyl group, or a benzyl group. がメチル基、エチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基またはトリメチルシリル基である、請求項14〜16のいずれか一項に記載の製造方法。 R 3 is a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a methanesulfonyl group or a trimethylsilyl group, The process according to any one of claims 14 to 16. 請求項14〜18のいずれか一項の製造方法により得られる一般式(XI):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Y は置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいアシル基またはハロアルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩を脱保護することを特徴とする、一般式(XV):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法。
General formula (XI) obtained by the manufacturing method of any one of Claims 14-18:
Figure 2005154430

(In the formula, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. Represents an aryl group, and Y represents a heterocyclic group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent or a haloalkyl group.) Or a salt thereof The general formula (XV):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol is as defined above), or a method for producing the salt thereof.
酵素反応により脱保護することを特徴とする、請求項19記載の製造方法。   The production method according to claim 19, wherein the deprotection is performed by an enzymatic reaction. 酸性条件により脱保護することを特徴とする、請求項19記載の製造方法。   The production method according to claim 19, wherein the deprotection is performed under acidic conditions. 一般式(IV’):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、R3aは置換基を有していてもよいアルキル基(但し、Pがアルキル基またはベンジル基の場合は除く)、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、トリアルキルシリル基、−COR4aまたは−SO4b(ここで、R4aおよびR4bは同一または異なって、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示す。)を示し、波線はシス体若しくはトランス体またはそれらの混合物であることを示す。)で表される化合物。
General formula (IV ′):
Figure 2005154430

(In the formula, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 3a represents an alkyl group which may have a substituent (provided that P Is an alkyl group or a benzyl group), an aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, a trialkylsilyl group, —COR 4a or —SO 2 R 4b Wherein R 4a and R 4b are the same or different and each independently represents an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. A wavy line indicates a cis- or trans-isomer or a mixture thereof.)
Pがメチル基、エチル基またはベンジル基であり、R3aがメチル基、エチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基またはトリメチルシリル基である請求項22記載の化合物。 The compound according to claim 22, wherein P is a methyl group, an ethyl group or a benzyl group, and R 3a is a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a methanesulfonyl group or a trimethylsilyl group. 一般式(VII):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示す。)で表される化合物。
General formula (VII):
Figure 2005154430

(In the formula, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. A phenyl group which may have a compound represented by:
Pがメチル基、エチル基またはベンジル基であり、Rがメチル基または置換基を有していてもよいフェニル基である請求項24記載の化合物。 The compound according to claim 24, wherein P is a methyl group, an ethyl group or a benzyl group, and R 5 is a methyl group or a phenyl group which may have a substituent. 一般式(IX):
Figure 2005154430

〔式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または−N(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示す。〕で表される化合物またはその塩。
General formula (IX):
Figure 2005154430

[Wherein, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. R 8 represents an aryl group, R 8 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group, or —N (R 9 ) —OR 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or different and each independently represents an alkyl group). Group). Or a salt thereof.
Pがメチル基、エチル基またはベンジル基であり、Rがメチル基または置換基を有していてもよいフェニル基であり、Rがメチル基、イソプロピル基またはベンジル基であり、Rが水素原子、水酸基、メトキシ基、エトキシ基または−N(Me)−OMeである請求項26記載の化合物またはその塩。 P is a methyl group, an ethyl group or a benzyl group, R 5 is a methyl group or an optionally substituted phenyl group, R 7 is a methyl group, an isopropyl group or a benzyl group, and R 8 is 27. The compound or a salt thereof according to claim 26, which is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or -N (Me) -OMe. 一般式(X):
Figure 2005154430

〔式中、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または−N(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示す。〕で表される化合物またはその塩。
Formula (X):
Figure 2005154430

[Wherein, R 5 represents an alkyl group which may have a substituent or a phenyl group which may have a substituent, and R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Represents an aralkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and R 8 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group or —N (R 9 ) —OR. 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or different and each independently represents an alkyl group). Or a salt thereof.
がメチル基または置換基を有していてもよいフェニル基であり、Rがメチル基、イソプロピル基またはベンジル基であり、Rが水素原子、水酸基、メトキシ基、エトキシ基または−N(Me)−OMeである請求項28記載の化合物またはその塩。 R 5 is a methyl group or an optionally substituted phenyl group, R 7 is a methyl group, an isopropyl group, or a benzyl group, and R 8 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or —N 29. The compound according to claim 28 or a salt thereof, which is (Me) -OMe. 一般式(IX):
Figure 2005154430

〔式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Rは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基または−N(R)−OR10(ここで、RおよびR10は同一または異なって、それぞれ独立して、アルキル基を示す。)を示す。〕で表される化合物またはその塩を、酵素反応により脱保護することを特徴とする、一般式(X):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法。
General formula (IX):
Figure 2005154430

[Wherein, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. R 8 represents an aryl group, R 8 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group, or —N (R 9 ) —OR 10 (wherein R 9 and R 10 are the same or different and each independently represents an alkyl group). Group). A compound represented by the general formula (X):
Figure 2005154430

(Wherein each symbol is as defined above), or a method for producing the salt thereof.
一般式(XI):
Figure 2005154430

(式中、Pは水素原子、アルキル基、アルケニル基、置換基を有していてもよいアラルキル基またはハロアルキル基を示し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を示し、Y は置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいアシル基またはハロアルキル基を示す。)で表される化合物またはその塩を、酵素反応により脱保護することを特徴とする、一般式(XV):
Figure 2005154430

(式中、各記号は前記と同意義を示す。)で表される化合物またはその塩の製造方法。
General formula (XI):
Figure 2005154430

(In the formula, P represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or a haloalkyl group which may have a substituent, and R 5 represents an alkyl group or a substituent which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent or a substituent. An aryl group, and Y represents a heterocyclic group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, or a haloalkyl group. General formula (XV), characterized by deprotection by:
Figure 2005154430

(Wherein each symbol is as defined above), or a method for producing the salt thereof.
Pが置換基を有していてもよいベンジル基である、請求項30または31記載の製造方法。   32. The production method according to claim 30 or 31, wherein P is an optionally substituted benzyl group. 酵素がペニシリンアミダーゼである、請求項30または31記載の製造方法。   The production method according to claim 30 or 31, wherein the enzyme is penicillin amidase.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013511499A (en) * 2009-11-20 2013-04-04 サノフイ Process for the preparation of N-succinimidyl N-biotinyl-6-aminocaproate

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