JP2005146133A - Aromatic polyamide film - Google Patents

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Hodaka Kitajima
穂高 北島
Hideki Moriyama
英樹 森山
Akimitsu Tsukuda
佃  明光
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aromatic polyamide film having excellent strength, elongation and clarity after long-term passage. <P>SOLUTION: This aromatic polyamide film comprises an aromatic polyamide and a light stabilizer, in which the content of the light stabilizer is 0.02-15 pts.wt. based on the aromatic polyamide resin of 100 pts. wt. The film shows a change in transmission b value of ≤4 before and after an exposure test according to JIS K 7350-2 under a condition of illumination of 100 mW/cm<SP>2</SP>, a temperature of 60°C, relative humidity of 50% RH and an irradiation time of 24 h. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、耐光性を有する芳香族ポリアミドフィルムに関するものである。詳しくは太陽光や蛍光灯からの光、その他の発光によって発生する紫外線等を受けて長期経時後も特性が劣化せず、優れた強度、伸度、透明性を有する芳香族ポリアミドフィルムであり、電子部品等の電気用途、電気絶縁テープや梱包用テープ等の粘着テープ、菓子袋等の包装用途、ハウス等の農業用途、窓ガラスやショーウィンドウ等保護フィルムの表装用途、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のディスプレイ用途、等として好適に使用できるものである。   The present invention relates to an aromatic polyamide film having light resistance. Specifically, it is an aromatic polyamide film that has excellent strength, elongation, and transparency, without deterioration of properties after a long period of time due to light from sunlight or fluorescent light, ultraviolet rays generated by other light emission, etc. Electrical applications such as electronic parts, adhesive tapes such as electrical insulating tapes and packing tapes, packaging applications such as confectionery bags, agricultural applications such as houses, cover display applications such as window glass and show windows, liquid crystal displays, plasma displays, etc. It can be suitably used as a display application.

通常、高分子フィルムは屋外での使用時、長時間太陽光に含まれる紫外線にさらされると、経時的に劣化が生じ、強度、伸度が低下するのみならず、透明性、色調が大幅に低下する場合がある。また屋内での使用時にも、窓越しの紫外線や蛍光灯などに含まれる紫外線にさらされると、同様に経時的に劣化が生じる場合がある。強度、伸度の低下は各種用途において長期間の使用を困難にし、また、透明性、色調の低下はディスプレイ装置などの透明部材において画面、装置の色むらにつながり致命的である。ディスプレイ装置などの透明部材の分野では従来ポリエステルフィルムが使用されているが、耐熱性が不足することから高温での加工に適さず、また剛性が十分でなく薄膜化できないという問題もあり芳香族ポリアミドフィルムを使用することが有効と考えられてきた。芳香族ポリアミドフィルムは、機械的性質、電気的性質、寸法安定性、耐熱性、耐薬品性、表面硬度など優れた特性を有している。特にパラ配向系の芳香族ポリアミドフィルムは耐熱性、剛性が他のポリマーから得られるフィルムより優れているためさまざまな用途に展開されている。   Usually, when used outdoors, polymer films will deteriorate over time when exposed to ultraviolet rays contained in sunlight for a long time, resulting in not only a decrease in strength and elongation, but also a significant increase in transparency and color tone. May decrease. Similarly, when used indoors, deterioration may occur over time when exposed to ultraviolet rays through windows or ultraviolet rays contained in fluorescent lamps. The decrease in strength and elongation makes it difficult to use for a long period of time in various applications, and the decrease in transparency and color tone is fatal because it leads to uneven color of the screen and the device in a transparent member such as a display device. Conventionally, polyester films have been used in the field of transparent materials such as display devices, but due to lack of heat resistance, they are not suitable for processing at high temperatures, and there are problems that they cannot be thinned due to insufficient rigidity. It has been considered effective to use a film. The aromatic polyamide film has excellent properties such as mechanical properties, electrical properties, dimensional stability, heat resistance, chemical resistance, and surface hardness. In particular, para-oriented aromatic polyamide films are more versatile because they have better heat resistance and rigidity than films obtained from other polymers.

高分子フィルムの光による劣化問題の対策として、紫外線吸収剤を含有したポリエステルフィルムが例えば特許文献1で提案されている。しかしながらポリエステルフィルムは溶融製膜法で製膜されるのに対して、芳香族ポリアミドフィルム、特にパラ配向系のものは融点を持たないために溶液製膜法で製膜する必要があり、同様の手法を採ることは一般に困難であった。すなわち、芳香族ポリアミドでは系内にポリマー以外に溶媒や塩などが含まれるために、溶融製膜法で製膜するポリエステルと同一の方法を用いると分散性が悪化する等の原因により、紫外線による劣化を抑制できないなどの問題があった。
特開2003−1703号公報(2頁、2〜6段落)
For example, Patent Document 1 proposes a polyester film containing an ultraviolet absorber as a countermeasure against the degradation problem due to light of a polymer film. However, a polyester film is formed by a melt film forming method, whereas an aromatic polyamide film, particularly a para-oriented film, does not have a melting point, and therefore needs to be formed by a solution film forming method. It was generally difficult to adopt the method. In other words, since aromatic polyamide contains solvents and salts in addition to the polymer in the system, the use of the same method as the polyester film formed by the melt film-forming method causes the deterioration of dispersibility, etc. There was a problem that deterioration could not be suppressed.
JP 2003-1703 (2 pages, 2-6 paragraphs)

本発明は上記問題を解決し、耐光性に優れた芳香族ポリアミドフィルムを提供することにある。すなわち電子部品等の電気用途、電気絶縁テープや梱包用テープ等の粘着テープ、菓子袋等の包装用途、ハウス等の農業用途、窓ガラスやショーウィンドウ等の表装用途、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のディスプレイ用途、等としての使用において、太陽光や蛍光灯から発せられる紫外線あるいは他の発光により発生する紫外線から、フィルム自身の変色や強度低下などを抑制することである。   The present invention is to solve the above problems and provide an aromatic polyamide film excellent in light resistance. That is, electrical applications such as electronic parts, adhesive tapes such as electrical insulation tape and packing tape, packaging applications such as confectionery bags, agricultural applications such as houses, cover applications such as window glass and show windows, liquid crystal displays, plasma displays, etc. In use as a display application, etc., it is to suppress discoloration or strength reduction of the film itself from ultraviolet rays emitted from sunlight or fluorescent lamps or other emitted light.

上記目的を達成するために本発明は、芳香族ポリアミドと光安定剤とを含み、光安定剤の含有量が芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対し0.02〜15重量部であり、かつ、JIS K 7350−2(B法:人工光源アンダーグラス暴露試験)に準じて、紫外線を照度100mW/cm2、温度60℃、相対湿度50%RH、照射時間24時間の条件で暴露試験を行った前後の透過b値の変化(Δb)が4以下である芳香族ポリアミドフィルムを特徴とする。 In order to achieve the above object, the present invention comprises an aromatic polyamide and a light stabilizer, the content of the light stabilizer is 0.02 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin, and In accordance with JIS K 7350-2 (Method B: Artificial light source undergrass exposure test), ultraviolet rays were subjected to an exposure test under the conditions of an illuminance of 100 mW / cm 2 , a temperature of 60 ° C., a relative humidity of 50% RH, and an irradiation time of 24 hours. It is characterized by an aromatic polyamide film having a change in transmission b value before and after (Δb) of 4 or less.

本発明によれば、以下に説明するとおり、耐光性に優れた芳香族ポリアミドフィルムを得ることができる。   According to the present invention, an aromatic polyamide film excellent in light resistance can be obtained as described below.

以下、本発明の実施形態の例を説明する。   Hereinafter, examples of embodiments of the present invention will be described.

本発明において光安定剤とは、芳香族ポリアミドフィルムの紫外線照射による劣化を抑制する効果を有するものであり、例えば、紫外線吸収剤、クエンチャー、HALS(Hindered Amine Light Stabilizer)などが例示される。   In the present invention, the light stabilizer has an effect of suppressing deterioration of an aromatic polyamide film due to ultraviolet irradiation, and examples thereof include an ultraviolet absorber, a quencher, and HALS (Hindered Amine Light Stabilizer).

紫外線吸収剤とは、紫外線等を吸収し、分子内で吸収したエネルギーを、熱、蛍光、燐光等に低エネルギー化して放出する物質であり、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ベンゾエート系などの化合物が例示される。   An ultraviolet absorber is a substance that absorbs ultraviolet rays, etc., and releases the energy absorbed in the molecule by reducing the energy to heat, fluorescence, phosphorescence, etc., and is benzophenone, benzotriazole, cyanoacrylate, benzoate And the like.

クエンチャーとは、基底状態にある発色団(主に不飽和炭化水素及びその化合物)が紫外線を吸収して励起状態になったものを、元の基底状態に戻す物質であり、Ni化合物などが例示される。具体的には、[2,2’−チオビス(4−t−オクチルフェノレート)]−2−エチルヘキシルアミン−ニッケル−(II)、[2,2’−チオビス(4−t−オクチルフェノレート)]−n−ブチルアミン−ニッケル−(II)、ニッケルモノエチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネートなどがある。   A quencher is a substance that returns a chromophore in the ground state (mainly unsaturated hydrocarbons and compounds thereof) to an original ground state after absorbing ultraviolet light and returning to the original ground state. Illustrated. Specifically, [2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine-nickel- (II), [2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate) ] -N-butylamine-nickel- (II), nickel monoethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl phosphonate and the like.

HALSとは、紫外線の照射によって生じるアルキルラジカル、パーオキシラジカル等をトラップすることにより、光酸化反応を抑止する光安定剤であって、例えばヒンダードピペリジン骨格を有する化合物などが例示される。具体的には、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドリキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]などがある。   HALS is a light stabilizer that suppresses a photo-oxidation reaction by trapping alkyl radicals, peroxy radicals, and the like generated by ultraviolet irradiation, and examples thereof include compounds having a hindered piperidine skeleton. Specifically, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] butyl malonate Bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2, 4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}].

本発明の芳香族ポリアミドフィルム中の光安定剤の量は、芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して0.02〜15重量部が好ましい。0.02重量部より少ない場合は、フィルムの耐光性が十分でなく、長時間紫外線を受けることで物性が低下することがある。また、15重量部より多い場合は、添加量に比して耐光性が向上せず経済的でなく、又フィルム使用時に他の添加剤とともにフィルム表面に噴き出したりする現象(ブリードアウト)が起こることがある。十分な耐光性の付与と経済性、光安定剤のブリードアウト防止、などのバランスという点から、0.1〜10重量部であることがより好ましく、0.5〜5重量部であることがさらに好ましい。フィルム中の光安定剤の含有量は、TGAを用いてフィルム中の光安定剤の熱による重量減少を確認することで、ポリマーとの重量比を確認することができる。またこの時に、芳香族ポリアミド溶液中への光安定剤の添加量と芳香族ポリアミドフィルム中の光安定剤の含有量に差が見られる場合があるが、これは製膜過程に熱などで散逸したためと考えられる。添加した光安定剤の種類が分からない場合でも、NMR、IR、ICP、GC−MS等の定性分析法と、TGA等の定量分析法を適宜選択することで、光安定剤を同定してフィルム中の光安定剤の含有量の確認が可能である。   The amount of the light stabilizer in the aromatic polyamide film of the present invention is preferably 0.02 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin. When the amount is less than 0.02 parts by weight, the light resistance of the film is not sufficient, and physical properties may be deteriorated by receiving ultraviolet rays for a long time. On the other hand, if the amount is more than 15 parts by weight, the light resistance is not improved as compared with the added amount, which is not economical, and a phenomenon (bleed out) occurs in which the film is sprayed with other additives when the film is used. There is. From the standpoints of providing sufficient light resistance and economy, preventing light stabilizer bleed-out, and the like, it is more preferably 0.1 to 10 parts by weight, and 0.5 to 5 parts by weight. Further preferred. The content of the light stabilizer in the film can confirm the weight ratio with the polymer by confirming the weight loss due to heat of the light stabilizer in the film using TGA. At this time, there may be a difference between the amount of the light stabilizer added to the aromatic polyamide solution and the amount of the light stabilizer contained in the aromatic polyamide film. It is thought that it was because. Even if you don't know the type of added light stabilizer, you can identify the light stabilizer and film by selecting qualitative analysis methods such as NMR, IR, ICP, GC-MS, and quantitative analysis methods such as TGA. The content of the light stabilizer inside can be confirmed.

さらに本発明の芳香族ポリアミドフィルムは、JIS K 7350−2(B法:人工光源アンダーグラス暴露試験)に準じて、照度100mW/cm2、温度60℃、相対湿度50%RH、照射時間24時間の条件で暴露試験を行った前後の透過b値の変化が4以下である(以下、この暴露試験を耐光性試験という)。ここで、耐光性試験前後の透過b値の変化=耐光性試験後の透過b値−耐光性試験前の透過b値であり、Δbと表す。Δb値が4を超えると強度・伸度などフィルムの劣化が大きくなることがあり、また透明部材として使用する際には変色が目立ち、低品位である印象を与えることがある。 Furthermore, the aromatic polyamide film of the present invention has an illuminance of 100 mW / cm 2 , a temperature of 60 ° C., a relative humidity of 50% RH, and an irradiation time of 24 hours in accordance with JIS K 7350-2 (Method B: artificial light source undergrass exposure test). The change in the transmission b value before and after the exposure test was performed under the conditions of 4 or less (hereinafter, this exposure test is referred to as a light resistance test). Here, the change in the transmission b value before and after the light resistance test = the transmission b value after the light resistance test−the transmission b value before the light resistance test, which is expressed as Δb. When the Δb value exceeds 4, deterioration of the film such as strength and elongation may increase, and when used as a transparent member, discoloration may be conspicuous and give a low-quality impression.

なお、ここでいうb値とは、ハンターLab表色系で定義された値であり、例えば分光式色差計SE−2000型(日本電色工業(株)製)を用いて測定することができる。   In addition, b value here is a value defined by Hunter Lab color system, for example, can be measured using a spectroscopic color difference meter SE-2000 type (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). .

また、上記の耐光性試験は、例えば紫外線劣化促進試験機アイスーパーUVテスターXER−W75(岩崎電気(株)製)を用い、キセノンランプにより照度100mW/cm2、温度60℃、相対湿度50%RHの条件下で24時間照射することにより実施することができる。 In addition, the above light resistance test uses, for example, an ultraviolet degradation acceleration tester iSuper UV Tester XER-W75 (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.), an illuminance of 100 mW / cm 2 , a temperature of 60 ° C., and a relative humidity of 50%. It can be carried out by irradiation for 24 hours under the condition of RH.

また、本発明に使用される光安定剤としては上記したものの中でも特に紫外線吸収剤が好ましい。これは窓ガラスやショーウィンドウ等の表装用途、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のディスプレイ用途、等の透明部材として使用するに際して、太陽光や蛍光灯から発せられる紫外線あるいは他の発光により発生する紫外線から、フィルム自身の特性変化、すなわち黄変や強度低下などを抑制する効果と、また内容物を保護する機能を長期間維持する効果があるためである。例えば、液晶ディスプレイ部材においては、液晶の劣化防止の点から波長380nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の点より波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。特に波長380nmでの透過率が60%以下であることが好ましく、より好ましくは40%以下、更に好ましくは20%以下である。また、透明フィルムの380nmにおける透過率を60%以下に保つには紫外線吸収剤を含有した芳香族ポリアミドであることが有効である。   Of the above-described light stabilizers, UV absorbers are particularly preferable. This is because when used as a transparent member for display applications such as window glass and show windows, display applications such as liquid crystal displays and plasma displays, from ultraviolet rays emitted from sunlight or fluorescent lamps or other emitted light, This is because there is an effect of suppressing the characteristic change of the film itself, that is, yellowing and strength reduction, and the effect of maintaining the function of protecting the contents for a long time. For example, a liquid crystal display member that is excellent in the ability to absorb ultraviolet light having a wavelength of 380 nm or less from the viewpoint of preventing deterioration of the liquid crystal and that has little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more from the viewpoint of good liquid crystal display properties is preferably used. . In particular, the transmittance at a wavelength of 380 nm is preferably 60% or less, more preferably 40% or less, and still more preferably 20% or less. In order to keep the transmittance of the transparent film at 380 nm at 60% or less, it is effective to use an aromatic polyamide containing an ultraviolet absorber.

紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾエート系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸エステル系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、無機系化合物などがあげられるが、本発明はこれらに限定されない。   Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole compounds, benzophenone compounds, benzoate compounds, cyanoacrylate compounds, salicylic acid ester compounds, oxybenzophenone compounds, triazine compounds, and inorganic compounds. Is not limited to these.

ここで、ベンゾトリアゾール系化合物としては、2−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−5−カルボン酸ブチルエステルベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−5,6−ジクロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−5−エチルスルホンベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−アミノフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジメチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジメチルフェニル)−5−メトキシベンゾトリアゾール、2−(2′−メチル−4′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ステアリルオキシ−3′,5′−ジメチルフェニル)−5−メチルベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5−カルボン酸フェニル)ベンゾトリアゾールエチルエステル、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−メチル−5′−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メトキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−シクロヘキシルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4′,5′−ジメチルフェニル)−5−カルボン酸ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−カルボン酸ブチルエステルベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4′,5′−ジクロルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジメチルフェニル)−5−エチルスルホベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メトキシフェニル)−5−メチルベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−5−カルボン酸エステルベンゾトリアゾール、2−(2′−アセトキシ−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等を例示することができる。   Here, as the benzotriazole compounds, 2- (2'-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-) Methylphenyl) -5-carboxylic acid butyl ester benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) -5,6-dichlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) -5-ethylsulfonebenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-aminophenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy) -3 ', 5'-dimethylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-dimethylphenyl) -5-methoxybenzotriazole, 2- (2'-methyl-4'-hydroxyphenyl) ) Benzotriazole, 2- (2'-stearyloxy-3 ', 5'-dimethylphenyl) -5-methylbenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5-carboxylic acid phenyl) benzotriazole ethyl ester, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-methyl-5'-t-butylphenyl) -5 Chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, -(2'-hydroxy-5'-methoxyphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'- Hydroxy-5'-cyclohexylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4 ', 5'-dimethylphenyl) -5-carboxylic acid benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5-methylphenyl)- 5-carboxylic acid butyl ester benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4 ', 5'-dichlorophenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-dimethylphenyl) -5 Ethylsulfobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4'-octoxyphenyl) benzotriazole, 2- (2'- Droxy-5'-methoxyphenyl) -5-methylbenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) -5-carboxylic acid ester benzotriazole, 2- (2'-acetoxy-methylphenyl) benzo A triazole etc. can be illustrated.

ベンゾフェノン系化合物としては、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2′−カルボキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ベンゾイルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホンベンゾフェノン、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−5−クロルベンゾフェノン、ビス−(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニル)メタン等を例示することができる。   Examples of the benzophenone compounds include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2'-carboxybenzophenone, 2, 2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-benzoyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfonebenzophenone, 2, 2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-5-chlorobenzophenone, bis- (2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl) Phenyl) meta It can be exemplified, and the like.

ベンゾエート系化合物としては、フェニルサルシレート、4−t−ブチルフェニルサルシレート、2,5−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸n−ヘキサデシルエステル、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3´,5´−ジ−t−ブチル−4´−ヒドロキシベンゾエート等を例示することができる。   Examples of benzoate compounds include phenyl salicylate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2,5-t-butyl-4-hydroxybenzoic acid n-hexadecyl ester, 2,4-di-t-butylphenyl -3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxybenzoate and the like can be exemplified.

また、シアノアクリレート系化合物としては、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレートを例示することができる。サリチル酸エステル系化合物としては、フェニルサリチレート、4−t−ブチルフェニルサリチレートを例示することができる。オキシベンゾフェノン系化合物としては、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノンを例示することができる。トリアジン系化合物としては、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノールを例示することができる。   An example of the cyanoacrylate compound is ethyl-2-cyano-3,3-diphenylacrylate. Examples of salicylic acid ester compounds include phenyl salicylate and 4-t-butylphenyl salicylate. Examples of oxybenzophenone compounds include 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone. Examples of triazine compounds include 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol.

無機系化合物としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等を例示することができる。   Examples of inorganic compounds include titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, iron oxide, and barium sulfate.

本発明においては、上記具体例のうち、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系のいずれかを用いることが好ましく、具体的には、特に2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)メタンを用いることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to use either benzotriazole type or benzophenone type among the above specific examples, and specifically, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis. It is preferable to use (1-methyl-1-phenylethyl) phenol and bis (5-benzoyl-4-hydroxy-2-methoxyphenyl) methane.

本発明における芳香族ポリアミドフィルムは、耐光性試験前の450nmから700nmの光波長の光線透過率が80%以上100%以下であることが好ましい。より好ましくは光線透過率が85%以上100%以下、さらに好ましくは90%以上100%以下である。450nmから700nmの光波長の光線透過率が80%未満であれば、芳香族ポリアミドフィルムを各種透明部材として使用することが困難となる。   The aromatic polyamide film in the present invention preferably has a light transmittance at a light wavelength of 450 nm to 700 nm before the light resistance test of 80% or more and 100% or less. More preferably, the light transmittance is 85% or more and 100% or less, and further preferably 90% or more and 100% or less. If the light transmittance at a light wavelength of 450 nm to 700 nm is less than 80%, it becomes difficult to use the aromatic polyamide film as various transparent members.

また、本発明における芳香族ポリアミドフィルムは、以下に示す構造単位を持つ芳香族ポリアミドフィルムを用いると、高いヤング率や表面硬度、ガラス転移温度などの優れた機械物性と、高い透明性を両立できるため好ましい。即ち、化学式(I)、(II)、(III)または(IV)で示される構造単位を含み(これらの全ての構造単位を含むこともあり、またその一部のみを含むこともある)、かつ、化学式(I)、(II)、(III)および(IV)で示される構造単位のモル分率をそれぞれl、m、n、oとしたとき、次式(1)〜(3)を満足していることが好ましい。   Moreover, the aromatic polyamide film in the present invention can achieve both excellent mechanical properties such as high Young's modulus, surface hardness, glass transition temperature, and high transparency when an aromatic polyamide film having the structural units shown below is used. Therefore, it is preferable. That is, the structural unit represented by the chemical formula (I), (II), (III) or (IV) is included (all of these structural units may be included, or only a part thereof may be included), And when the molar fractions of the structural units represented by the chemical formulas (I), (II), (III) and (IV) are l, m, n and o, respectively, the following formulas (1) to (3) It is preferable to be satisfied.

50<l+m+n≦100 ・・・ (1)
0≦l、m、n、o≦100・・・ (2)
0≦o≦50 ・・・ (3)
50 <l + m + n ≦ 100 (1)
0 ≦ l, m, n, o ≦ 100 (2)
0 ≦ o ≦ 50 (3)

Figure 2005146133
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1:少なくとも一つの5員環、6員環または7員環を有する基
2:任意の芳香族基
X:水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
R 1 : a group having at least one 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring R 2 : any aromatic group X: hydrogen, halogen or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms

Figure 2005146133
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3:−CF3、−CCl3、−CBr3、−OH、−F、−Cl、−OCH3(ただし、分子内においてこれらの基を有する構造単位が混在していてもよい。)
4:任意の芳香族基
R 3 : —CF 3 , —CCl 3 , —CBr 3 , —OH, —F, —Cl, —OCH 3 (however, structural units having these groups may be mixed in the molecule)
R 4 : any aromatic group

Figure 2005146133
Figure 2005146133

5:−SO2−、−O−、−CH2−、−C(CF32−から選ばれる基、または−SO2−、−O−、−CH2−、−C(CF32−から選ばれる基を1つ以上含む芳香族基。 R 5: -SO 2 -, - O -, - CH 2 -, - C (CF 3) 2 - group selected from or -SO 2, -, - O - , - CH 2 -, - C (CF 3 2 ) An aromatic group containing one or more groups selected from-.

6:任意の芳香族基
X:水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
R 6: any aromatic group X: hydrogen, halogen or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms

Figure 2005146133
Figure 2005146133

7:任意の芳香族基
8:任意の芳香族基
X:水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
化学式(I)、(II)、(III)および(IV)はそれぞれ存在しても、または存在しなくても構わないが、化学式(I)、(II)および(III)で示される構造単位のモル分率をそれぞれl、m、nとした時、l+m+nが50を超えることが好ましい様態である。さらに好ましくはl+m+nは80以上であり、最も好ましくはl+m+nは100である。l+m+nが50以下の場合にはこれらの効果よりも着色に寄与する構造単位の寄与が大きくなり無色透明フィルムは得られない(光線透過率に劣る)ことがある。アラミドの着色は分子内および分子間の電荷移動錯体によると考えられているが、化学式(I)、(II)および(III)はいずれもアラミド分子内および分子間の電荷移動錯体の形成を阻害し、アラミドフィルムを無色透明化する(光線透過率を向上させる)と考えられる。
R 7 : Arbitrary aromatic group R 8 : Arbitrary aromatic group X: Hydrogen, halogen, or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms Chemical formulas (I), (II), (III) and (IV) are present respectively. Or not, but when the molar fractions of the structural units represented by the chemical formulas (I), (II) and (III) are 1, m and n, respectively, l + m + n is 50. It is a preferable aspect to exceed. More preferably, l + m + n is 80 or more, and most preferably l + m + n is 100. When l + m + n is 50 or less, the contribution of the structural unit contributing to coloring becomes larger than these effects, and a colorless transparent film may not be obtained (inferior in light transmittance). The coloration of aramid is believed to be due to intramolecular and intermolecular charge transfer complexes, but chemical formulas (I), (II) and (III) all inhibit the formation of intramolecular and intermolecular charge transfer complexes. The aramid film is considered to be colorless and transparent (to improve light transmittance).

化学式(I)においてR1は少なくとも一つの5員環、6員環または7員環を有する基などが好適に用いられるが、化学式(V)で示される環状基であることがさらに好ましい。最も好ましくはフルオレン基である。 In Chemical Formula (I), R 1 is preferably a group having at least one 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, and more preferably a cyclic group represented by Chemical Formula (V). Most preferred is a fluorene group.

Figure 2005146133
Figure 2005146133

化学式(II)においてR3は、−CF3、−CCl3、−CBr3、−OH、−F、−Cl、−OCH3(ただし、分子内においてこれらの基を有する構造単位が混在していてもよい。)などが好適に用いられる。最も好ましくは−CF3である。 In the chemical formula (II), R 3 is —CF 3 , —CCl 3 , —CBr 3 , —OH, —F, —Cl, —OCH 3 (however, structural units having these groups are mixed in the molecule. Or the like may be suitably used. Most preferably -CF 3.

化学式(III)においてR5は、−SO2−、−O−、−CH2−、−C(CF32−から選ばれる基、または−SO2−、−O−、−CH2−、−C(CF32−から選ばれる基を1つ以上含む芳香族基などが好適に用いられるが、最も好ましくは−SO2−である。 R 5 is, -SO 2 in Formula (III) -, - O - , - CH 2 -, - C (CF 3) 2 - group selected from or -SO 2, -, - O - , - CH 2 - An aromatic group containing one or more groups selected from —C (CF 3 ) 2 — is preferably used, and —SO 2 — is most preferred.

本発明における芳香族ポリアミドフィルムは、耐光性試験前後の透過b値の変化が4以下である事が重要であり、好ましくは3以下であると、耐光性試験後のフィルムの強度低下が少ないために好ましく、4を超えるとフィルムの黄変や強度低下が大きく長期間の使用が困難になる。耐光性試験前後の透過b値の変化を4以下に保って、フィルムの劣化を防ぎ、強度低下を抑制するためには、光安定剤、特に紫外線吸収剤を、芳香族ポリアミド中に均一分散させることが重要となる。均一分散させることで、光によるポリマーの劣化を抑制し、耐光性試験前後の透過b値の変化を4以下に抑えることが可能となり、その結果、フィルムの強度・伸度など各種物性低下を抑えることができる。光安定剤の添加方法は、芳香族ポリアミド重合前の反応容器にジアミン、酸ジクロライドと共に添加する方法、重合後の溶液に添加する方法、また、光安定剤を含有する塗布層を設ける方法などが挙げられる。しかし、重合後の芳香族ポリアミド溶液に光安定剤を添加する場合は、溶液の粘度が高いため均一に分散しにくくなるので、重合前に添加する方法や塗布層を設ける方法が好ましい。   In the aromatic polyamide film in the present invention, it is important that the change in the transmission b value before and after the light resistance test is 4 or less, and when it is 3 or less, there is little decrease in strength of the film after the light resistance test. Preferably, when it exceeds 4, yellowing of the film and strength reduction are large, and long-term use becomes difficult. In order to keep the change in the transmission b value before and after the light resistance test at 4 or less, to prevent the deterioration of the film and to suppress the strength reduction, uniformly disperse the light stabilizer, particularly the ultraviolet absorber, in the aromatic polyamide. It becomes important. By uniformly dispersing, it is possible to suppress the deterioration of the polymer due to light and to suppress the change in the transmission b value before and after the light resistance test to 4 or less. As a result, it is possible to suppress the deterioration of various physical properties such as film strength and elongation. be able to. Methods for adding a light stabilizer include a method of adding a diamine and acid dichloride to a reaction vessel before aromatic polyamide polymerization, a method of adding to a solution after polymerization, and a method of providing a coating layer containing a light stabilizer. Can be mentioned. However, when a light stabilizer is added to the aromatic polyamide solution after polymerization, the viscosity of the solution is high, so that it is difficult to disperse uniformly. Therefore, a method of adding before polymerization or a method of providing a coating layer is preferable.

また、光安定剤の分散性を向上するためには芳香族ポリアミド溶液のpHを6〜9にすることで、溶液中の光安定剤の分散性が向上するために好ましい。6未満の酸性領域または9を超える塩基性領域では、製膜時に熱がかかった時に光安定剤が分解したりすることがある。   In order to improve the dispersibility of the light stabilizer, it is preferable to adjust the pH of the aromatic polyamide solution to 6 to 9 because the dispersibility of the light stabilizer in the solution is improved. In an acidic region of less than 6 or a basic region of more than 9, the light stabilizer may be decomposed when heat is applied during film formation.

本発明における光安定剤の添加方法は、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−またはp−クレゾール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどの有機溶媒に光安定剤を溶解させてから、重合前の反応容器に添加するのが良い。また塗布層の形成は、紫外線吸収剤に対しバインダーとしてアクリル系樹脂等の樹脂成分を混合することが好ましい。すなわち、樹脂成分および光安定剤をそれぞれ溶解し得る有機溶媒、水、2種以上の有機溶媒の混合液、あるいは有機溶媒/水混合液に樹脂成分と紫外線吸収剤を溶解させて塗液状態にして用いることが好ましい。もちろん、樹脂成分と紫外線吸収剤を予め別々に有機溶媒、水、有機溶媒混合液、あるいは有機溶媒/水混合液に溶解または分散させたものを任意に混合して使用してもよい。   The method for adding the light stabilizer in the present invention includes sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, Acetamide solvents such as N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m- or p-cresol, halogenated phenol, catechol, etc. It is preferable to dissolve the light stabilizer in a phenolic solvent or an organic solvent such as hexamethylphosphoramide or γ-butyrolactone and then add it to the reaction vessel before polymerization. In forming the coating layer, it is preferable to mix a resin component such as an acrylic resin as a binder with the ultraviolet absorber. That is, the resin component and the UV absorber are dissolved in an organic solvent capable of dissolving the resin component and the light stabilizer, water, a mixture of two or more organic solvents, or an organic solvent / water mixture to form a coating solution. Are preferably used. Of course, the resin component and the ultraviolet absorber separately dissolved or dispersed in an organic solvent, water, an organic solvent mixed solution, or an organic solvent / water mixed solution may be arbitrarily mixed and used.

以下に本発明において好ましく用いられる芳香族ポリアミドフィルムの製造方法の例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Although the example of the manufacturing method of the aromatic polyamide film used preferably in this invention is demonstrated below, this invention is not limited to this.

芳香族ポリアミド溶液、すなわち製膜原液を得る方法は種々の方法が利用可能であり、例えば、低温溶液重合法、界面重合法、溶融重合法、固相重合法などを用いることができる。低温溶液重合法つまりカルボン酸ジクロライドとジアミンから得る場合には、非プロトン性有機極性溶媒中で合成される。   Various methods can be used as a method for obtaining an aromatic polyamide solution, that is, a film-forming stock solution. For example, a low temperature solution polymerization method, an interfacial polymerization method, a melt polymerization method, a solid phase polymerization method and the like can be used. When it is obtained from a low temperature solution polymerization method, that is, from carboxylic acid dichloride and diamine, it is synthesized in an aprotic organic polar solvent.

カルボン酸ジクロライドとしてはテレフタル酸ジクロライド、2クロロ−テレフタル酸ジクロライド、イソフタル酸ジクロライド、ナフタレンジカルボニルクロライド、ビフェニルジカルボニルクロライド、ターフェニルジカルボニルクロライドなどが挙げられるが、最も好ましくはテレフタル酸ジクロライド、2クロロ−テレフタル酸ジクロライドが用いられる。   Examples of the carboxylic acid dichloride include terephthalic acid dichloride, 2chloro-terephthalic acid dichloride, isophthalic acid dichloride, naphthalene dicarbonyl chloride, biphenyl dicarbonyl chloride, terphenyl dicarbonyl chloride, and the like. Most preferably, terephthalic acid dichloride, 2chloro. Terephthalic acid dichloride is used.

芳香族ポリアミド溶液は、単量体として酸ジクロライドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の中和剤が使用される。しかし無機系の中和剤を用いると塩化水素と100%反応しにくい問題点があり、また有機系の中和剤を用いると熱により塩酸塩が分解して、中和剤と塩化水素に戻ってしまう問題がある。そこで中和方法は、無機系の中和剤を用いて90〜98%の塩化水素を中和して、その後残りの塩化水素に対して有機系の中和剤を用いて中和を行い、最後にpHを6〜9に調整することが好ましい方法である。   In the aromatic polyamide solution, when acid dichloride and diamine are used as monomers, hydrogen chloride is by-produced. When neutralizing this, an inorganic neutralizing agent such as calcium hydroxide, calcium carbonate, lithium carbonate, Organic neutralizers such as ethylene oxide, propylene oxide, ammonia, triethylamine, triethanolamine, and diethanolamine are used. However, when an inorganic neutralizer is used, there is a problem that it is difficult to react 100% with hydrogen chloride. When an organic neutralizer is used, the hydrochloride is decomposed by heat and returns to the neutralizer and hydrogen chloride. There is a problem. Therefore, the neutralization method neutralizes 90 to 98% of hydrogen chloride using an inorganic neutralizer, and then neutralizes the remaining hydrogen chloride using an organic neutralizer, Finally, it is preferable to adjust the pH to 6-9.

2種類以上のジアミンを用いて重合を行う場合、ジアミンは1種類づつ添加し、該ジアミンに対し10〜99モル%の酸ジクロライドを添加して反応させ、この後に他のジアミンを添加して、さらに酸ジクロライドを添加して反応させる段階的な反応方法、およびすべてのジアミンを混合して添加し、この後に酸ジクロライドを添加して反応させる方法などが利用可能である。   When performing polymerization using two or more kinds of diamines, diamines are added one by one, 10 to 99 mol% of acid dichloride is added to the diamine and reacted, and then another diamine is added, Further, a stepwise reaction method in which acid dichloride is added and reacted, a method in which all diamines are mixed and added, and then acid dichloride is added and reacted can be used.

また、2種類以上の酸ジクロライドを利用する場合も同様に段階的な方法、同時に添加する方法などが利用できる。いずれの場合においても全ジアミンと全酸ジクロライドのモル比は95〜105:105〜95が好ましく、この値を外れた場合、得られるポリマーの分子量が低くなり、フィルムの伸度及び靭性が低下することがある。   Similarly, when two or more kinds of acid dichlorides are used, a stepwise method, a method of simultaneously adding them, and the like can be used. In any case, the molar ratio of the total diamine to the total acid dichloride is preferably 95 to 105: 105 to 95, and if this value is exceeded, the molecular weight of the resulting polymer will be low, and the elongation and toughness of the film will decrease. Sometimes.

本発明の芳香族ポリアミドフィルムの製造において、使用する非プロトン性極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−またはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどを挙げることができ、これらを単独又は混合物として用いるのが望ましいが、更にはキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の使用も可能である。さらにはポリマーの溶解を促進する目的で溶媒にはポリマー100重量部に対して50重量部以下のアルカリ金属、またはアルカリ土類金属の塩を添加することができる。   Examples of the aprotic polar solvent used in the production of the aromatic polyamide film of the present invention include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, and formamide such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide. Solvents, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide and other acetamide solvents, N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-pyrrolidone and other pyrrolidone solvents, phenol, o-, m- Alternatively, phenolic solvents such as p-cresol, xylenol, halogenated phenol, catechol, hexamethylphosphoramide, γ-butyrolactone, etc. can be mentioned, and these are preferably used alone or as a mixture, but more preferably xylene The The use of aromatic hydrocarbons such as ene are also possible. Furthermore, for the purpose of accelerating the dissolution of the polymer, 50 parts by weight or less of alkali metal or alkaline earth metal salt can be added to the solvent with respect to 100 parts by weight of the polymer.

本発明の芳香族ポリアミドフィルムには、表面形成、加工性改善などを目的としてポリマー100重量部に対して10重量部以下の無機質または有機質の添加物を含有させてもよい。表面形成を目的とした添加剤としては例えば、無機粒子ではSiO2、TiO2、Al23、CaSO4、BaSO4、CaCO3、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、フラーレン、ゼオライト、その他の金属微粉末等が挙げられる。また、好ましい有機粒子としては、例えば、架橋ポリビニルベンゼン、架橋アクリル、架橋ポリスチレン、ポリエステル粒子、ポリイミド粒子、ポリアミド粒子、フッ素樹脂粒子等の有機高分子からなる粒子、あるいは、表面に上記有機高分子で被覆等の処理を施した無機粒子が挙げられる。 The aromatic polyamide film of the present invention may contain 10 parts by weight or less of an inorganic or organic additive with respect to 100 parts by weight of the polymer for the purpose of surface formation and processability improvement. Examples of additives for surface formation include inorganic particles such as SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , CaSO 4 , BaSO 4 , CaCO 3 , carbon black, carbon nanotubes, fullerene, zeolite, and other metal fine powders. Etc. Preferred organic particles include, for example, particles made of an organic polymer such as crosslinked polyvinylbenzene, crosslinked acrylic, crosslinked polystyrene, polyester particles, polyimide particles, polyamide particles, and fluororesin particles, or the above organic polymer on the surface. Inorganic particles that have been subjected to treatment such as coating may be mentioned.

次にフィルム化について説明する。上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいずれの方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾湿式法を例にとって説明する。   Next, film formation will be described. The film-forming stock solution prepared as described above is formed into a film by a so-called solution casting method. The solution casting method includes a dry-wet method, a dry method, a wet method, etc., and any method may be used, but here, the dry-wet method will be described as an example.

製膜原液としては、中和後のポリマー溶液をそのまま用いてもよいし、一旦、ポリマーを単離後、溶媒に再溶解したものを用いてもよい。溶媒としては、取り扱いやすいことからN−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等の有機極性溶媒が好ましいが、濃硫酸、濃硝酸、ポリリン酸等の強酸性溶媒を用いてもかまわない。製膜原液中のポリマー濃度は2〜50重量%程度が好ましい。   As the film-forming stock solution, the neutralized polymer solution may be used as it is, or a polymer once isolated and then redissolved in a solvent may be used. As the solvent, organic polar solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide are preferable because of easy handling, but strongly acidic such as concentrated sulfuric acid, concentrated nitric acid, polyphosphoric acid and the like. A solvent may be used. The polymer concentration in the film-forming stock solution is preferably about 2 to 50% by weight.

乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金からドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性をもつまで乾燥する。乾式工程を終えたフィルムは支持体から剥離されて湿式工程に導入され、脱塩、脱溶媒などが行なわれ、さらに延伸、乾燥、熱処理が行なわれてフィルムとなる。   In the case of forming a film by a dry-wet method, the stock solution is extruded from a die onto a support such as a drum or an endless belt to form a thin film, and then the solvent is scattered from the thin film layer and dried until the thin film has self-holding property. The film after the dry process is peeled off from the support and introduced into the wet process, desalted, desolvated, etc., and further stretched, dried and heat treated to form a film.

延伸は延伸倍率として面倍率で0.8〜8(面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルムの面積で除した値で定義する。1以下はリラックスを意味する。)の範囲内にあることが好ましく、より好ましくは0.8〜4である。   Stretching is in the range of 0.8 to 8 (drawing ratio is defined by dividing the film area after stretching by the area of the film before stretching. 1 or less means relaxation) as the stretching ratio. It is preferable that it is in 0.8, More preferably, it is 0.8-4.

また、熱処理としては200℃〜500℃で数秒から数分間の熱処理が好ましく実施される。200℃以下では、熱処理が十分ではなく、フィルムの表面硬度やヤング率が低下することがある。また、500℃以上では、フィルムが着色することがある。本発明の芳香族ポリアミドフィルムは単層フィルムに限定されるものではなく、積層フィルムであっても良いし、ガスバリヤ性の付与、耐溶剤性の改良、表面硬度の改良などの目的で各種下塗りや表面処理を施した複合フィルムであってもよい。   Moreover, as heat processing, the heat processing for several seconds to several minutes at 200 to 500 degreeC is implemented preferably. Below 200 ° C., heat treatment is not sufficient, and the surface hardness and Young's modulus of the film may decrease. In addition, at 500 ° C. or higher, the film may be colored. The aromatic polyamide film of the present invention is not limited to a single-layer film, and may be a laminated film, or various undercoats for the purpose of imparting gas barrier properties, improving solvent resistance, improving surface hardness, etc. It may be a composite film subjected to surface treatment.

以下、実施例によって本発明を説明する。なお、特性は以下の方法により測定評価した。   Hereinafter, the present invention will be described by way of examples. The characteristics were measured and evaluated by the following methods.

(1)耐光性試験
紫外線劣化促進試験機アイスーパーキセノンテスターXER−W75(岩崎電気(株)製)を用い、JIS K 7350−2(B法:人工光源アンダーグラス暴露試験)に準じて下記の条件で強制紫外線照射試験を行った。
(1) Light resistance test Using an ultraviolet degradation acceleration tester, iSuperxenon Tester XER-W75 (Iwasaki Electric Co., Ltd.), according to JIS K 7350-2 (Method B: Artificial light source undergrass exposure test) The forced ultraviolet irradiation test was conducted under the conditions.

「紫外線照射条件」
光源:キセノンランプ
照度:100mW/cm2
温度:60℃
相対湿度:50%RH
照射時間:24時間
(2)透過b値
分光式色差計SE−2000型(日本電色工業(株)製)を用い、JIS−K−7105(昭和56年3月1日制定)に従って透過法で耐光性試験前後のフィルムを測定した。
"UV irradiation conditions"
Light source: Xenon lamp Illuminance: 100 mW / cm 2
Temperature: 60 ° C
Relative humidity: 50% RH
Irradiation time: 24 hours (2) Transmission b value Using a spectroscopic color difference meter SE-2000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), the transmission method according to JIS-K-7105 (established March 1, 1981) The film before and after the light resistance test was measured.

Δb(耐光性試験前後の透過b値の変化)=耐光性試験後の透過b値−耐光性試験前の透過b値
(3)光線透過率
UV測定器U−3410(日立計測社製)を用いて、各波長の光に対応する透過率を測定し、以下の方法で評価した。
Δb (change in transmission b value before and after light resistance test) = transmission b value after light resistance test−transmission b value before light resistance test (3) Light transmittance UV measuring instrument U-3410 (manufactured by Hitachi Keiki Co., Ltd.) The transmittance corresponding to the light of each wavelength was measured and evaluated by the following method.

透過率(%)=(T1/T0)×100
ただしT1は試料を通過した光の強度、T0は試料を通過しない以外は同一の距離の空気中を通過した光の強度である。
Transmittance (%) = (T1 / T0) × 100
However, T1 is the intensity | strength of the light which passed the sample, and T0 is the intensity | strength of the light which passed the air of the same distance except not passing a sample.

波長範囲:300nm〜800nm
測定速度:120nm/分
測定モード:透過
(4)破断強度および破断強度減少率
ロボットテンシロンRTA100(オリエンテック社製)を用いて、温度23℃、相対湿度65%において測定し、以下の方法で評価した。ただし、試験片は幅10mmで長さ50mmの試料とした。引張速度は300mm/分である。但し、試験を開始してから荷重が1Nを通過した点を伸びの原点とした。下記式から破断強度減少率を求めて評価した。
Wavelength range: 300 nm to 800 nm
Measurement speed: 120 nm / min Measurement mode: Permeation (4) Breaking strength and breaking strength reduction rate Using Robot Tensilon RTA100 (Orientec), measured at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65%, and evaluated by the following method. did. However, the test piece was a sample having a width of 10 mm and a length of 50 mm. The tensile speed is 300 mm / min. However, the point where the load passed 1 N after the start of the test was taken as the origin of elongation. The breaking strength reduction rate was obtained from the following formula and evaluated.

破断強度減少率(%)=((耐光性試験前の破断強度−耐光性試験後の破断強度)/耐光性試験前の破断強度)×100
(評価基準)
○:破断強度減少率≦30%
△:30%<破断強度減少率≦50%
×:50%<破断強度減少率
(5)380nm光の長期カット性
上記のUV測定器U−3410(日立計測社製)を用いて同様の条件で透過率を測定して、下記の基準で評価した。
Breaking strength reduction rate (%) = ((breaking strength before light resistance test−breaking strength after light resistance test) / breaking strength before light resistance test) × 100
(Evaluation criteria)
○: Breaking strength reduction rate ≦ 30%
Δ: 30% <break strength reduction rate ≦ 50%
×: 50% <break strength reduction rate (5) Long-term cut property of 380 nm light Using the above UV measuring device U-3410 (manufactured by Hitachi Keiki Co., Ltd.), the transmittance was measured under the same conditions. evaluated.

○:基準(a)、(b)を満たす
△:基準(b)のみ満たす
×:基準(a)、(b)の両方満たさない
基準(a)=耐光性試験前の380nm透過率≦60%
基準(b)=耐光性試験前の380nm透過率−耐光性試験後の380nm透過率≦20%
(6)目視での色
耐光性試験後のフィルムの色を目視で確認した。
○: Satisfies criteria (a) and (b) Δ: Satisfies only criterion (b) ×: Does not satisfy both criteria (a) and (b) Criterion (a) = 380 nm transmittance before light resistance test ≦ 60%
Criteria (b) = 380 nm transmittance before light resistance test−380 nm transmittance after light resistance test ≦ 20%
(6) Visual color The color of the film after the light resistance test was visually confirmed.

○:無色
△:黄色
×:濃い黄色もしくは白濁
(7)pHの測定法
pH試験紙UNIV試験紙(東洋濾紙(株)製)にポリマー溶液をつけることで測定した。
(Circle): Colorless (triangle | delta): Yellow x: Dark yellow or cloudiness (7) Measuring method of pH It measured by attaching a polymer solution to pH test paper UNIV test paper (made by Toyo Filter Paper Co., Ltd.).

(実施例1)
脱水したN−メチル−2−ピロリドンに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“TINUVIN234”)、100モル%に相当する2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニルを溶解させ、これに100モル%に相当する2−クロルテレフタル酸クロライドを添加し、2時間撹拌により重合した。その後発生塩化水素に対して96.5モル%の炭酸リチウムと5.5モル%のジエタノールアミンを用いて中和を行い、さらに13モル%のトリエタノールアミンを用いてpHを8に調整した。得られた溶液は、ポリマー濃度が10重量%であり、紫外線吸収剤を芳香族ポリアミド100重量部に対して2重量部含む芳香族ポリアミド溶液であった。
(Example 1)
Dehydrated N-methyl-2-pyrrolidone and benzotriazole UV absorber (“TINUVIN234” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2,2′-bis (trifluoromethyl)-equivalent to 100 mol% 4,4′-Diaminobiphenyl was dissolved, and 2-chloroterephthalic acid chloride corresponding to 100 mol% was added thereto, and polymerization was carried out by stirring for 2 hours. Thereafter, neutralization was performed using 96.5 mol% lithium carbonate and 5.5 mol% diethanolamine, and the pH was adjusted to 8 using 13 mol% triethanolamine. The resulting solution was an aromatic polyamide solution having a polymer concentration of 10% by weight and containing 2 parts by weight of an ultraviolet absorber with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide.

得られたポリマー濃度10重量%の紫外線吸収剤含有芳香族ポリアミド溶液をバーコーターで支持体上に流延し、120℃のオーブンで7分間乾燥して溶媒を蒸発させ、自己支持性を発現した重合体シートを支持体から剥離した。続いて剥離したフィルムを水槽内へ5分間通し、残存溶媒と中和で生じた無機塩の水抽出を行なった。この後、温度280℃のオーブン中で幅を一定に保ったまま1分間の熱処理を行い、本発明の実施例1である厚み10μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。   The obtained UV polyamide-containing aromatic polyamide solution having a polymer concentration of 10% by weight was cast on a support with a bar coater, dried in an oven at 120 ° C. for 7 minutes to evaporate the solvent, and self-supporting properties were exhibited. The polymer sheet was peeled from the support. Subsequently, the peeled film was passed into the water tank for 5 minutes, and the remaining solvent and the inorganic salt produced by neutralization were extracted with water. Thereafter, heat treatment was performed for 1 minute while keeping the width constant in an oven at a temperature of 280 ° C. to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 10 μm, which is Example 1 of the present invention.

得られたフィルムのTGAから、光安定剤の含有量は芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して1.98重量部であった。耐光性試験前の透過率を図1に示す。耐光性試験前の透過率は450〜700nmにおいて80%以上であった。また、耐光性試験後のフィルムは劣化が少なく耐光性に優れたものとなった。また透明性も高く、透明部材として使用した際に紫外線からの内容物の保護機能を持つものとなった。結果を表1に示す。   From the TGA of the obtained film, the content of the light stabilizer was 1.98 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin. The transmittance before the light resistance test is shown in FIG. The transmittance before the light resistance test was 80% or more at 450 to 700 nm. Further, the film after the light resistance test was less deteriorated and excellent in light resistance. Also, it has high transparency, and when used as a transparent member, it has a function of protecting contents from ultraviolet rays. The results are shown in Table 1.

(実施例2)
脱水したN−メチル−2−ピロリドンに、HALS(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“TINUVIN144”)、100モル%に相当する2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニルを溶解させ、これに100モル%に相当する2−クロルテレフタル酸クロライドを添加し、2時間撹拌により重合した。その後発生塩化水素に対して96.5モル%の炭酸リチウムと5.5モル%のジエタノールアミンを用いて中和を行い、さらに13モル%のトリエタノールアミンを用いてpHを8に調整した。得られた溶液は、ポリマー濃度が10重量%であり、光安定剤を芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して2重量部含む芳香族ポリアミド溶液であった。
(Example 2)
Dehydrated N-methyl-2-pyrrolidone and HALS (“TINUVIN 144” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′- equivalent to 100 mol% Diaminobiphenyl was dissolved, 2-chloroterephthalic acid chloride corresponding to 100 mol% was added thereto, and polymerization was carried out by stirring for 2 hours. Thereafter, neutralization was performed using 96.5 mol% lithium carbonate and 5.5 mol% diethanolamine, and the pH was adjusted to 8 using 13 mol% triethanolamine. The obtained solution was an aromatic polyamide solution having a polymer concentration of 10% by weight and containing 2 parts by weight of a light stabilizer with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin.

このポリマー溶液を実施例1と同様にしてフィルム化し、厚み12μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルムは透明性に優れたものとなった。   This polymer solution was made into a film in the same manner as in Example 1 to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 12 μm. The obtained film was excellent in transparency.

得られたフィルムのTGAから、光安定剤の含有量は芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して1.93重量部であった。耐光性試験後のフィルムは劣化が少なく耐光性に優れたものとなった。しかし紫外線吸収剤を含まないため、紫外線の長期カット性に劣るものとなった。結果を表1に示す。   From the TGA of the obtained film, the content of the light stabilizer was 1.93 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin. The film after the light resistance test was less deteriorated and excellent in light resistance. However, since it does not contain an ultraviolet absorber, it has inferior long-term ultraviolet cut ability. The results are shown in Table 1.

(実施例3)
紫外線吸収剤の量を変える以外は実施例1と同様にして、ポリマー濃度が10重量%、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“TINUVIN234”)を芳香族ポリアミド100重量部に対して11重量部含む、芳香族ポリアミド溶液を得た。
(Example 3)
Except for changing the amount of the UV absorber, the polymer concentration was 10% by weight, and the benzotriazole UV absorber (“TINUVIN234” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was used in the same manner as in Example 1. An aromatic polyamide solution containing 11 parts by weight with respect to parts was obtained.

このポリマー溶液を実施例1と同様にして、フィルム化し、厚み13μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。   This polymer solution was made into a film in the same manner as in Example 1 to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 13 μm.

得られたフィルムのTGAから、光安定剤の含有量は芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して10.97重量部であった。得られたフィルムは、紫外線吸収剤の含有量が多いため、実施例1に対して若干耐光性が悪化したが実用範囲内であった。結果を表1に示す。   From the TGA of the obtained film, the content of the light stabilizer was 10.97 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin. The obtained film contained a large amount of the ultraviolet absorber, and thus the light resistance was slightly deteriorated compared to Example 1, but was within the practical range. The results are shown in Table 1.

(実施例4)
紫外線吸収剤の量を変える以外は実施例1と同様にして、ポリマー濃度が10重量%、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“TINUVIN234”)を芳香族ポリアミド100重量部に対して0.07重量部含む、芳香族ポリアミド溶液を得た。
Example 4
Except for changing the amount of the UV absorber, the polymer concentration was 10% by weight and the benzotriazole UV absorber (“TINUVIN234” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was used in the same manner as in Example 1. An aromatic polyamide solution containing 0.07 parts by weight with respect to parts was obtained.

このポリマー溶液を実施例1と同様にして、フィルム化し、厚み11μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。   This polymer solution was made into a film in the same manner as in Example 1 to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 11 μm.

得られたフィルムのTGAから、光安定剤の含有量は芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して0.05重量部であった。得られたフィルムは、紫外線吸収剤の含有量が少ないため、実施例1に対して若干耐光性が悪化したが実用範囲内であった。結果を表1に示す。   From the TGA of the obtained film, the content of the light stabilizer was 0.05 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin. Since the obtained film had a small content of the ultraviolet absorber, its light resistance was slightly deteriorated compared to Example 1, but it was within the practical range. The results are shown in Table 1.

(実施例5)
脱水したN−メチル−2−ピロリドンに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“TINUVIN234”)、85モル%に相当する2−クロロパラフェニレンジアミン、15モル%に相当する4、4’−ジアミノジフェニルエーテルを溶解させ、これに100モル%に相当する2−クロロテレフタル酸ジクロライドを添加し、2時間攪拌により重合した。その後発生塩化水素に対して96.5モル%の炭酸リチウムと5.5m%のジエタノールアミンを用いて中和を行い、さらに13mol%のトリエタノールアミンを用いてpHを8に調整した。得られた溶液は、ポリマー濃度が10重量%であり、紫外線吸収剤を芳香族ポリアミド100重量部に対して2重量部含む芳香族ポリアミド溶液であった。
(Example 5)
Dehydrated N-methyl-2-pyrrolidone, benzotriazole UV absorber (“TINUVIN234” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2-chloroparaphenylenediamine equivalent to 85 mol%, equivalent to 15 mol% 4,4′-diaminodiphenyl ether was dissolved, 2-chloroterephthalic acid dichloride corresponding to 100 mol% was added thereto, and polymerization was carried out by stirring for 2 hours. Thereafter, neutralization was performed using 96.5 mol% lithium carbonate and 5.5 m% diethanolamine, and the pH was adjusted to 8 using 13 mol% triethanolamine. The resulting solution was an aromatic polyamide solution having a polymer concentration of 10% by weight and containing 2 parts by weight of an ultraviolet absorber with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide.

このポリマー溶液を実施例1と同様にしてフィルム化し、厚み15μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。   This polymer solution was formed into a film in the same manner as in Example 1 to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 15 μm.

得られたフィルムのTGAから、光安定剤の含有量は芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して1.98重量部であった。得られたフィルムは透明だが若干黄色に着色していた。耐光性試験後のフィルムは劣化が少なく耐光性に優れたものとなった。結果を表1に示す。   From the TGA of the obtained film, the content of the light stabilizer was 1.98 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin. The resulting film was transparent but slightly colored yellow. The film after the light resistance test was less deteriorated and excellent in light resistance. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
脱水したN−メチル−2−ピロリドンに、100モル%に相当する2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニルを溶解させ、これに100モル%に相当する2−クロルテレフタル酸クロライドを添加し、2時間撹拌により重合後、炭酸リチウムで中和を行いポリマーの重合を行った。このポリマー溶液にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“TINUVIN234”)を添加し1時間攪拌により、ポリマー濃度が10重量%であり、紫外線吸収剤を芳香族ポリアミド100重量部に対して0.07重量部含む芳香族ポリアミド溶液を得た。
(Comparative Example 1)
2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl corresponding to 100 mol% is dissolved in dehydrated N-methyl-2-pyrrolidone, and 2-mol corresponding to 100 mol% is dissolved therein. Chlorterephthalic acid chloride was added, polymerized by stirring for 2 hours, and then neutralized with lithium carbonate to polymerize the polymer. A benzotriazole UV absorber (“TINUVIN234” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added to this polymer solution and stirred for 1 hour. The polymer concentration was 10% by weight and the UV absorber was 100% by weight of aromatic polyamide. An aromatic polyamide solution containing 0.07 parts by weight with respect to parts was obtained.

このポリマー溶液を実施例1と同様にしてフィルム化し、厚み11μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。   This polymer solution was formed into a film in the same manner as in Example 1 to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 11 μm.

得られたフィルムのTGAから、光安定剤の含有量は芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して0.05重量部であった。得られたフィルムは、ポリマーの重合後に紫外線吸収剤を添加し、さらにpHが6〜9の範囲に入っていないために、紫外線吸収剤が本来の物性を発揮できないため耐光性に劣るものとなった。結果を表1に示す。   From the TGA of the obtained film, the content of the light stabilizer was 0.05 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin. The obtained film is inferior in light resistance because an ultraviolet absorber is added after polymerization of the polymer and the pH is not in the range of 6 to 9, so that the ultraviolet absorber cannot exhibit its original physical properties. It was. The results are shown in Table 1.

(比較例2)
紫外線吸収剤の量を変える以外は実施例1と同様にして、ポリマー濃度が10重量%、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“TINUVIN234”)を芳香族ポリアミド100重量部に対して17重量部含む芳香族ポリアミド溶液を得た。
(Comparative Example 2)
Except for changing the amount of the UV absorber, the polymer concentration was 10% by weight, and the benzotriazole UV absorber (“TINUVIN234” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was used in the same manner as in Example 1. An aromatic polyamide solution containing 17 parts by weight with respect to parts was obtained.

このポリマー溶液を実施例1と同様にしてフィルム化し、厚み11μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。   This polymer solution was formed into a film in the same manner as in Example 1 to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 11 μm.

得られたフィルムのTGAから、光安定剤の含有量は芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して16.97重量部であった。得られたフィルムは、紫外線吸収剤の含有量が多すぎるため、耐光性試験後に若干紫外線吸収剤がブリードアウトしてフィルムが白濁した。結果を表1に示す。   From the TGA of the obtained film, the content of the light stabilizer was 16.97 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin. Since the obtained film contained too much ultraviolet absorber, the ultraviolet absorber slightly bleeded out after the light resistance test, and the film became cloudy. The results are shown in Table 1.

(比較例3)
紫外線吸収剤の量を変える以外は実施例1と同様にして、ポリマー濃度が10重量%、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“TINUVIN234”)を芳香族ポリアミド100重量部に対して0.01重量部含む芳香族ポリアミド溶液を得た。
(Comparative Example 3)
Except for changing the amount of the UV absorber, the polymer concentration was 10% by weight and the benzotriazole UV absorber (“TINUVIN234” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was used in the same manner as in Example 1. An aromatic polyamide solution containing 0.01 parts by weight with respect to parts was obtained.

このポリマー溶液を実施例1と同様にしてフィルム化し、厚み11μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。   This polymer solution was formed into a film in the same manner as in Example 1 to obtain an aromatic polyamide film having a thickness of 11 μm.

得られたフィルムのTGAから、光安定剤の含有量は芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対して0.009重量部であった。得られたフィルムは、紫外線吸収剤の含有量が少ないため耐光性に劣るものとなった。結果を表1に示す。   From the TGA of the obtained film, the content of the light stabilizer was 0.009 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin. The obtained film was inferior in light resistance since the content of the ultraviolet absorber was small. The results are shown in Table 1.

Figure 2005146133
Figure 2005146133

本発明は、長期経時後も優れた強度、伸度、そして透明性、色調を有する芳香族ポリアミドフィルムについてであり、包装材料や粘着テープ、磁気テープ、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのディスプレイ装置、装飾、印刷物等の表示材や窓材等の透明部材として好適に使用できるが、その応用範囲が、これらに限られるものではない。   The present invention relates to an aromatic polyamide film having excellent strength, elongation, transparency, and color tone even after long-term aging, and includes packaging materials, adhesive tapes, magnetic tapes, display devices such as liquid crystal displays and plasma displays, and decorations. Although it can be suitably used as a transparent member such as a display material such as a printed material or a window material, its application range is not limited thereto.

実施例1における耐光性試験前のフィルムの透過率を示した概略グラフである。2 is a schematic graph showing the transmittance of a film before a light resistance test in Example 1. FIG.

Claims (4)

芳香族ポリアミドと光安定剤とを含み、光安定剤の含有量が芳香族ポリアミド樹脂100重量部に対し0.02〜15重量部であり、かつ、JIS K 7350−2(B法:人工光源アンダーグラス暴露試験)に準じて、照度100mW/cm2、温度60℃、相対湿度50%RH、照射時間24時間の条件で暴露試験を行った前後の透過b値の変化が4以下である芳香族ポリアミドフィルム。 An aromatic polyamide and a light stabilizer, the light stabilizer content is 0.02 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide resin, and JIS K 7350-2 (Method B: artificial light source) According to the undergrass exposure test), the fragrance has a change in transmission b value of 4 or less before and after the exposure test was performed under the conditions of an illuminance of 100 mW / cm 2 , a temperature of 60 ° C., a relative humidity of 50% RH, and an irradiation time of 24 hours. Group polyamide film. 光安定剤が紫外線吸収剤である、請求項1に記載の芳香族ポリアミドフィルム。 The aromatic polyamide film according to claim 1, wherein the light stabilizer is an ultraviolet absorber. 紫外線を照射する前の波長450〜700nmの全ての光に対する光線透過率が80%以上100%以下である、請求項1または2に記載の芳香族ポリアミドフィルム。 The aromatic polyamide film according to claim 1 or 2, wherein the light transmittance for all light having a wavelength of 450 to 700 nm before irradiation with ultraviolet rays is from 80% to 100%. 化学式(I)、(II)、(III)または(IV)で示される構造単位を含み、かつ、化学式(I)、(II)、(III)および(IV)で示される構造単位のモル分率をそれぞれl、m、n、oとしたとき、次式(1)〜(3)を満足している、請求項1〜3のいずれかに記載の芳香族ポリアミドフィルム。
50<l+m+n≦100 ・・・ (1)
0≦l、m、n、o≦100 ・・・ (2)
0≦o≦50 ・・・ (3)
Figure 2005146133
1:少なくとも一つの5員環、6員環または7員環を有する基
2:任意の芳香族基
X:水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
Figure 2005146133
3:−CF3、−CCl3、−CBr3、−OH、−F、−Cl、−OCH3(ただし、分子内においてこれらの基を有する構造単位が混在していてもよい。)
4:任意の芳香族基
Figure 2005146133
5:−SO2−、−O−、−CH2−、−C(CF32−から選ばれる基、または−SO2−、−O−、−CH2−、−C(CF32−から選ばれる基を1つ以上含む芳香族基。
6:任意の芳香族基
X:水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
Figure 2005146133
7:任意の芳香族基
8:任意の芳香族基
X:水素、ハロゲンまたは炭素数1〜3の炭化水素基
Mole fraction of structural units containing structural units represented by chemical formula (I), (II), (III) or (IV) and represented by chemical formulas (I), (II), (III) and (IV) The aromatic polyamide film according to any one of claims 1 to 3, wherein the following formulas (1) to (3) are satisfied when the rates are l, m, n, and o, respectively.
50 <l + m + n ≦ 100 (1)
0 ≦ l, m, n, o ≦ 100 (2)
0 ≦ o ≦ 50 (3)
Figure 2005146133
R 1 : a group having at least one 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring R 2 : any aromatic group X: hydrogen, halogen or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms
Figure 2005146133
R 3 : —CF 3 , —CCl 3 , —CBr 3 , —OH, —F, —Cl, —OCH 3 (however, structural units having these groups may be mixed in the molecule)
R 4 : any aromatic group
Figure 2005146133
R 5: -SO 2 -, - O -, - CH 2 -, - C (CF 3) 2 - group selected from or -SO 2, -, - O - , - CH 2 -, - C (CF 3 2 ) An aromatic group containing one or more groups selected from-.
R 6: any aromatic group X: hydrogen, halogen or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms
Figure 2005146133
R 7: any aromatic radical R 8: any aromatic group X: hydrogen, halogen or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms
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