JP2005142485A - 光透過状態識別装置、露光装置、光透過状態識別方法及び露光方法 - Google Patents
光透過状態識別装置、露光装置、光透過状態識別方法及び露光方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 露光装置100の光源から照射される露光光が通過する露光光路上の空間領域のうち、所定の空間領域に対し、上記露光装置100の光源とは別に所定の光を照射する光源4と、上記光源4により照射され上記所定の空間領域を通過した所定の光を受光し、上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記受光された所定の光に関する所定の情報を出力する光強度測定素子5とを備えたことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
上記照射部により照射され上記所定の空間領域を通過した所定の光を受光し、上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記受光された所定の光に関する所定の情報を出力する受光部と
を備えたことを特徴とする。
上記照射部と上記受光部とは、上記照射部により照射された所定の光が上記所定の空間領域を通過する際、上記レチクル基板で反射され、反射された所定の光が上記受光部により受光されるように設置されたことを特徴とする。
上記照射部と上記受光部とは、上記照射部により照射された所定の光が上記所定の空間領域を通過する際、上記所定の空間領域に設置された上記レチクル基板を透過し、透過された所定の光が上記受光部により受光されるように設置されたことを特徴とする。
上記照射部は、照射した所定の光が、上記ウエハ面上に塗布されたレジストに照射することなく上記所定の空間領域に所定の光を照射するように設置されたことを特徴とする。
上記受光部は、上記照射部の移動に合わせて移動し、上記照射部により照射された所定の光を受光することを特徴とする。
上記照射工程により照射され上記所定の空間領域を通過した所定の光を受光する受光工程と、
上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記受光工程により受光された所定の光に関する所定の情報を出力する出力工程と
を備えたことを特徴とする。
光源から照射される露光光が通過する、不活性ガスによりパージされた露光光路上の空間領域のうちの所定の空間領域に対し、上記露光装置の光源とは別に上記露光光と同じ波長の光を照射する照射部と、
上記照射部により照射され上記所定の空間領域を通過した所定の光を受光し、上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記受光された所定の光に関する所定の情報を出力する受光部と
を備えたことを特徴とする。
光源から照射される露光光が通過する、所定の圧力の真空状態に保たれた露光光路上の空間領域のうちの所定の空間領域に対し、上記露光装置の光源とは別に上記露光光と同じ波長の光を照射する照射部と、
上記照射部により照射され上記所定の空間領域を通過した所定の光を受光し、上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記受光された所定の光に関する所定の情報を出力する受光部と
を備えたことを特徴とする。
上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記照射工程により照射された所定の光を受光する受光工程と、
上記受光工程により受光された所定の光強度が所定の閾値の範囲内である場合に、上記露光装置の光源から露光光を試料に照射する露光工程と
を備えたことを特徴とする。
以下、実施の形態1を具体的に説明するが、本発明は下記実施の形態に制限されるものではない。
S206において、露光工程として、露光装置100の光源(図示せず、例えば、F2レーザー発振器)は、上記受光工程により受光された所定の光の光強度が所定の閾値の範囲内である場合に、上記露光装置100の光源から露光光をレジストが塗布されたウエハ8(試料の一例である)に照射することで、ウエハ8上のレジストを感光させ、露光する。言いかえれば、レチクルステージ2部分とウエハステージ3部分とで露光可能と判定された時点で、ウエハ8上に露光光を照射する。なお、露光開始に際して、レチクルステージ2部分での判定と、ウエハステージ3部分での判定とを同時に実施しても良いが、両部分で露光開始可能とされなければ、露光開始しないシステムとなる。
図3は、実施の形態2におけるレチクルステージ2部分に取り付けた光強度測定装置1を示す図である。
図4は、実施の形態3におけるレチクルステージ2部分に取り付けた光強度測定装置1を示す図である。
図5は、実施の形態4におけるウエハステージ3部分に取り付けた光強度測定装置1を示す図である。
上記実施の形態では、露光装置100は、波長が200nm以下の光を露光光に用いていたが、実施の形態5では、波長が150nm以下の光を露光光に用いる露光装置の場合を説明する。特にここでは、例えば、波長13.5nmの極紫外線光(Extreme Ultra Violet Lithography:EUVL)を光源に用いた露光装置の構造について説明する。
Claims (13)
- 露光装置の光源から照射される露光光が通過する露光光路上の空間領域のうち、所定の空間領域に対し、上記露光装置の光源とは別に所定の光を照射する照射部と、
上記照射部により照射され上記所定の空間領域を通過した所定の光を受光し、上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記受光された所定の光に関する所定の情報を出力する受光部と
を備えたことを特徴とする光透過状態識別装置。 - 上記受光部により出力された所定の情報を受信し、受信された所定の情報に基づいて、上記受光部により受光された所定の光強度が所定の閾値の範囲内であるかどうかにより上記光の透過状態を識別する光透過状態識別部を加えたことを特徴とする請求項1記載の光透過状態識別装置。
- 上記所定の空間領域は、上記露光装置の外部の空間への開放と不活性ガスを用いたパージとが行なわれる空間領域であることを特徴とする請求項1記載の光透過状態識別装置。
- 上記所定の空間領域は、上記露光装置の外部の空間への開放と上記開放終了後に内部の圧力を所定の圧力の真空状態にする処理とが行なわれる空間領域であることを特徴とする請求項1記載の光透過状態識別装置。
- 上記照射部は、露光処理の際に露光装置の光源から照射された露光光が上記所定の空間領域を通過する方向に対し、略直角の方向に上記所定の光を照射することを特徴とする請求項1記載の光透過状態識別装置。
- 上記所定の空間領域には、レチクル基板が設置され、
上記照射部と上記受光部とは、上記照射部により照射された所定の光が上記所定の空間領域を通過する際、上記レチクル基板で反射され、反射された所定の光が上記受光部により受光されるように設置されたことを特徴とする請求項1記載の光透過状態識別装置。 - 上記所定の空間領域には、レチクル基板が設置され、
上記照射部と上記受光部とは、上記照射部により照射された所定の光が上記所定の空間領域を通過する際、上記所定の空間領域に設置された上記レチクル基板を透過し、透過された所定の光が上記受光部により受光されるように設置されたことを特徴とする請求項1記載の光透過状態識別装置。 - 上記所定の空間領域には、ウエハ面上にレジストが塗布されたウエハが設置され、
上記照射部は、照射した所定の光が、上記ウエハ面上に塗布されたレジストを感光することなく上記所定の空間領域に所定の光を照射するように設置されたことを特徴とする請求項1記載の光透過状態識別装置。 - 上記照射部は、移動しながら所定の光を照射し、
上記受光部は、上記照射部の移動に合わせて移動し、上記照射部により照射された所定の光を受光することを特徴とする請求項1記載の光透過状態識別装置。 - 露光装置の光源から照射される露光光が通過する露光光路上の空間領域のうち、所定の空間領域に対し、上記露光装置の光源とは別の光源から所定の光を照射する照射工程と、
上記照射工程により照射され上記所定の空間領域を通過した所定の光を受光する受光工程と、
上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記受光工程により受光された所定の光に関する所定の情報を出力する出力工程と
を備えたことを特徴とする光透過状態識別方法。 - 波長が200nm以下の光を露光光に用いる露光装置において、
光源から照射される露光光が通過する、不活性ガスによりパージされた露光光路上の空間領域のうちの所定の空間領域に対し、上記露光装置の光源とは別に上記露光光と同じ波長の光を照射する照射部と、
上記照射部により照射され上記所定の空間領域を通過した所定の光を受光し、上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記受光された所定の光に関する所定の情報を出力する受光部と
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 波長が150nm以下の光を露光光に用いる露光装置において、
光源から照射される露光光が通過する、所定の圧力の真空状態に保たれた露光光路上の空間領域のうちの所定の空間領域に対し、上記露光装置の光源とは別に上記露光光と同じ波長の光を照射する照射部と、
上記照射部により照射され上記所定の空間領域を通過した所定の光を受光し、上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記受光された所定の光に関する所定の情報を出力する受光部と
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 光源から照射される露光光が通過する露光光路上の空間領域のうち、所定の空間領域に対し、上記露光装置の光源とは別の光源から所定の光を照射する照射工程と、
上記所定の空間領域における光の透過状態を識別するために上記照射工程により照射された所定の光を受光する受光工程と、
上記受光工程により受光された所定の光強度が所定の閾値の範囲内である場合に、上記露光装置の光源から露光光を試料に照射する露光工程と
を備えたことを特徴とする露光方法。
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