JP2005135948A - Chip-type electronic component and manufacturing method therefor - Google Patents

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誠 森田
Izuru Soma
出 相馬
Hitoshi Sasaki
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Daisuke Urabe
大輔 占部
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating method for thinning a film of outer covering resin and for miniaturizing a product without using solvent in the formation of coating of a chip-type electronic component by resin. <P>SOLUTION: Non-solvent-type B stage resin in a sheet or a plurality of specified shapes is bonded to a chip-type electronic component element. Then, it is gelated or hardened to form the cutter covering. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、チップ型電子部品及びその製造方法に関し、特に外装材である樹脂で被覆されたチップインダクタ及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a chip-type electronic component and a manufacturing method thereof, and more particularly to a chip inductor covered with a resin as an exterior material and a manufacturing method thereof.

現在、チップ型電子部品自動装着機を用いた回路基板への高密度面実装を実現するために、インダクタ、コンデンサ等の電子部品の小型化が進んでいる。
そして、電子部品のさらなる小型化には、電子部品の素子の小型化のみならず、電子部品の外装の小型化(薄膜化)及び良好な外装成形性が要求されている。
Currently, in order to realize high-density surface mounting on a circuit board using a chip-type electronic component automatic mounting machine, electronic components such as inductors and capacitors are being miniaturized.
For further miniaturization of electronic components, not only miniaturization of elements of electronic components but also miniaturization (thinning) of exterior of electronic components and good exterior formability are required.

チップインダクタなどのチップ型電子部品の小型化を図る従来の樹脂外装方法として、鼓型コアの巻芯部に導電線とこれを被覆する絶縁層とからなるワイヤーを巻回して形成したチップ型インダクタ素子を用意して、表面に液状樹脂が塗布されたドラムディスクを、その素子の巻線ワイヤーに接触させながら回転させて、液状樹脂をドラムディスクにより巻線ワイヤーの周りに塗布し、次に、素子に塗布された液状樹脂を指触乾燥し、さらに、指触乾燥した樹脂が被覆された素子を、耐熱性ゴム弾性体を備えた型プレートの収納部に入れて、被覆樹脂を熱硬化しながら該型プレートにより外装樹脂を成形する方法がある(例えば、特許文献1参照。)。   A chip-type inductor formed by winding a wire composed of a conductive wire and an insulating layer covering the core portion of a drum core as a conventional resin sheathing method for downsizing a chip-type electronic component such as a chip inductor Prepare the element, rotate the drum disk coated with liquid resin on the surface while contacting the winding wire of the element, apply the liquid resin around the winding wire with the drum disk, The liquid resin applied to the element is touch-dried, and the element coated with the touch-dried resin is placed in the storage part of the mold plate equipped with a heat-resistant rubber elastic body, and the coating resin is thermally cured. However, there is a method of molding the exterior resin with the mold plate (for example, see Patent Document 1).

特開2000−286140号公報JP 2000-286140 A

しかし、一般に、チップインダクタは、高インダクタンス化や高シールド化を図るために、外装樹脂として、フェライト粉が高充填されている樹脂を使用している。そのために、上記従来の樹脂外装方法は、以下のような問題点を有する。   However, in general, a chip inductor uses a resin highly filled with ferrite powder as an exterior resin in order to achieve a high inductance and a high shield. Therefore, the conventional resin coating method has the following problems.

上記従来の樹脂外装方法において、外装樹脂が無溶剤型樹脂からなる場合には、外装樹脂にフェライト粉が高充填(75重量%以上)されているために、樹脂粘度が高くなり、すなわち樹脂の流動性が悪くなり、ドラムディスクによる素子への樹脂の塗布などの作業性が悪くなるなどの生産効率が劣るという問題がある。   In the conventional resin sheathing method, when the sheathing resin is made of a solventless resin, since the ferrite powder is highly filled (75% by weight or more) in the sheathing resin, the resin viscosity becomes high, that is, the resin There is a problem that production efficiency is inferior, such as poor fluidity and poor workability such as application of resin to an element by a drum disk.

外装樹脂が溶剤型樹脂からなる場合には、溶剤が指触乾燥の際に揮発するために、外装樹脂内部に空隙が発生して、外装樹脂の強度を劣化させる恐れがあり、また、特性のバラツキの原因にもなり得るという問題がある。
また、外装樹脂成形後の導電性端子形成のためのメッキ工程において、メッキ液が外装樹脂内部の空隙に侵入し、さらに巻線ワイヤー部分に到達して、ワイヤー被覆に影響を及ぼし短絡を生じるという問題がある。
When the exterior resin is made of a solvent-type resin, the solvent volatilizes during touch-drying, which may cause voids inside the exterior resin, which may deteriorate the strength of the exterior resin. There is a problem that it may cause variation.
Also, in the plating process for forming the conductive terminal after molding the exterior resin, the plating solution penetrates into the void inside the exterior resin and further reaches the winding wire part, affecting the wire coating and causing a short circuit. There's a problem.

また、外装樹脂が溶剤型樹脂からなる場合は、有害な溶剤が外気に揮発するので、人の健康にも問題があり、また環境問題にもなる。
さらに、上記従来の樹脂外装方法が使用しているドラムディスクによる樹脂の塗布は、液状樹脂を使用するので、素子形状、特にコアが小型化及び低背化になるほど、コア端部(導電性端子形成部)の樹脂による汚れが発生しやすくなり、樹脂の塗布を安定化させるのが困難になるという問題がある。そのために、樹脂による汚れの防止や樹脂の塗布の安定化を図ろうとすれば、作業効率が悪くなるという問題も生ずる。
Further, when the exterior resin is made of a solvent-type resin, a harmful solvent is volatilized in the outside air, which causes a problem for human health and an environmental problem.
Further, since the resin application by the drum disk used in the above conventional resin sheathing method uses a liquid resin, as the element shape, particularly the core becomes smaller and lower in profile, the end of the core (conductive terminal) There is a problem that stains due to the resin in the forming portion) are likely to occur, and it becomes difficult to stabilize the application of the resin. For this reason, if it is attempted to prevent contamination by the resin or stabilize the application of the resin, there arises a problem that the working efficiency is deteriorated.

したがって、本発明の目的は、上記従来の樹脂外装方法の有する問題点を解決する新たな樹脂外装方法によるチップ型部品及びその製造方法を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a chip-type component by a new resin coating method and a method for manufacturing the same, which solve the problems of the conventional resin coating method.

上記の目的を達成するために、本発明は、外装樹脂で被覆されるチップ型電子部品において、該外装樹脂が、無溶剤型Bステージ樹脂をチップ型電子部品素子に付着した後に該Bステージ樹脂をゲル化及び硬化することによって形成されたものであることを特徴とするチップ型電子部品を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a chip-type electronic component coated with an exterior resin, wherein the exterior resin adheres the solvent-free B-stage resin to the chip-type electronic component element. Provided is a chip-type electronic component characterized by being formed by gelling and curing.

また、本発明は、チップ型電子部品素子に外装樹脂を被覆する工程と該樹脂を硬化する工程とを有するチップ型電子部品の製造方法において、該樹脂を被覆する工程が、該素子に無溶剤型Bステージ樹脂を付着し、該Bステージ樹脂をゲル化することからなることを特徴とするチップ型電子部品の製造方法を提供する。   Further, the present invention provides a method for manufacturing a chip-type electronic component comprising a step of coating a chip-type electronic component element with an exterior resin and a step of curing the resin. Provided is a method for manufacturing a chip-type electronic component comprising attaching a mold B-stage resin and gelling the B-stage resin.

本発明においては、外装樹脂として無溶剤型Bステージ樹脂を使用するので、有害な溶剤が樹脂の乾燥や硬化時に樹脂から外気に揮発することがなく、したがって人の健康の問題も環境問題も生じることなく、かつ溶剤が揮発することによる外装樹脂内部の空隙の発生もなく、後工程であるメッキ工程でのメッキ液の外装樹脂内部への侵入を防止でき、安定して均一な特性を有するチップ型電子部品を提供することができる。   In the present invention, since a solvent-free B-stage resin is used as the exterior resin, no harmful solvent is volatilized from the resin to the outside air when the resin is dried or cured, thus causing both human health problems and environmental problems. Chips with stable and uniform characteristics that can prevent the penetration of the plating solution into the exterior resin in the plating process, which is a subsequent process, without generating voids inside the exterior resin due to the volatilization of the solvent. Mold electronic components can be provided.

本発明においては、無溶剤型Bステージ樹脂をシート形状にしたもの又は特定形状のチップにしたものを、素子に付着しゲル化及び硬化することにより、素子を外装樹脂で被覆するので、液状樹脂の塗布による従来の樹脂外装方法に比較して、チップ型電子部品の外装樹脂の薄膜化及び外装成形性に優れ、さらなる小型化が図られかつ生産効率の優れたチップ型電子部品の製造方法を提供することができる。   In the present invention, since the solvent-free B-stage resin is made into a sheet shape or a chip having a specific shape is attached to the element and gelled and cured, the element is covered with the exterior resin, so that the liquid resin Compared to the conventional resin sheathing method by coating, the chip type electronic component manufacturing method is excellent in thinning of the resin and thinning of the exterior resin of the chip type electronic component, further downsizing and excellent production efficiency Can be provided.

本発明においては、Bステージ樹脂をゲル化するときに、Bステージ樹脂の溶融粘度とゲル化するまでの時間を調整するので、良好な外装成形ができ、かつ、小型及び低背のチップ型電子部品を提供することができる。   In the present invention, when the B-stage resin is gelled, the melt viscosity of the B-stage resin and the time until gelation are adjusted, so that good exterior molding can be performed, and a small and low-profile chip-type electronic Parts can be provided.

本発明においては、外装樹脂にフェライト粉を含有させて、外装樹脂の透磁率を8MHz測定値で4〜8にすることにより、特性の優れたチップインダクタを提供することができる。   In the present invention, it is possible to provide a chip inductor having excellent characteristics by including ferrite powder in the exterior resin and setting the magnetic permeability of the exterior resin to 4 to 8 by 8 MHz measurement value.

本発明のチップ型電子部品は、外装樹脂で被覆されるチップ型電子部品において、該外装樹脂が、無溶剤型Bステージ樹脂をチップ型電子部品素子に付着した後に該Bステージ樹脂をゲル化及び硬化することによって形成されたものであることを特徴とする。また、このようなチップ型電子部品を製造する本発明の方法は、チップ型電子部品素子に外装樹脂を被覆する工程と該樹脂を硬化する工程とを有し、該樹脂を被覆する工程が、該素子に無溶剤型Bステージ樹脂を付着し、該Bステージ樹脂をゲル化することからなることを特徴とする。   The chip-type electronic component of the present invention is a chip-type electronic component that is coated with an exterior resin. The exterior resin gels the B-stage resin after the solvent-free B-stage resin is attached to the chip-type electronic component element. It is formed by hardening. The method of the present invention for manufacturing such a chip-type electronic component has a step of coating an exterior resin on the chip-type electronic component element and a step of curing the resin, and the step of coating the resin includes: A solvent-free B-stage resin is attached to the element, and the B-stage resin is gelled.

本発明で使用する無溶剤型のBステージ樹脂の原料としては、熱硬化性のエポキシ樹脂、フェノール樹脂及びエポキシフェノール樹脂が使用できるが、エポキシ樹脂が特に好ましい。このBステージ樹脂は、原料の樹脂に硬化剤を添加し熱処理して形成する。例えば、エポキシ樹脂にジシアンジアミドの硬化剤を添加して150〜170℃で5〜20分間の熱処理を行うことにより形成することができる。   As a raw material for the solventless B-stage resin used in the present invention, a thermosetting epoxy resin, a phenol resin, and an epoxy phenol resin can be used, and an epoxy resin is particularly preferable. This B-stage resin is formed by adding a curing agent to a raw material resin and heat-treating it. For example, it can be formed by adding a dicyandiamide curing agent to an epoxy resin and performing a heat treatment at 150 to 170 ° C. for 5 to 20 minutes.

本発明で使用するBステージ樹脂は、シート状又は特定形状のチップとして使用することができる。
シート形状のBステージ樹脂を使用する場合は、シート形状のBステージ樹脂の1つ又は複数を素子に被覆させることができる。
例えば、Bステージ樹脂シートを作製する場合は、図1a及び1bに示されるように、支持フィルム2上にメタルマスクで100〜300μmの厚さに硬化剤が添加された原料の樹脂を印刷し、その後に加熱処理してBステージ樹脂シート1を作製する。使用する支持フィルムは、特に限定されないが、表面にシリコーン離型処理されたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを使用することが好ましい。
The B stage resin used in the present invention can be used as a chip having a sheet shape or a specific shape.
When a sheet-shaped B-stage resin is used, one or more of the sheet-shaped B-stage resins can be coated on the element.
For example, when producing a B-stage resin sheet, as shown in FIGS. 1a and 1b, a raw material resin with a curing agent added to a thickness of 100 to 300 μm is printed on the support film 2 with a metal mask, Thereafter, the B stage resin sheet 1 is produced by heat treatment. Although the support film to be used is not particularly limited, it is preferable to use a polyethylene terephthalate (PET) film whose surface is subjected to silicone release treatment.

特定形状のBステージ樹脂チップを使用する場合は、複数個の該チップを組み合わせることにより素子を被覆する形状を形成することができる。好ましくは、該特定形状のチップを2個組み合わせることにより素子を被覆する形状を形成する。
例えば、上記特定形状のチップは、図1c〜1fに示されるようなコの字形状やLの字形状のものであり、コの字形状のBステージ樹脂を作製する場合は、図1g及び1hに示されるようなシリコーン製の抜き型を使用して作製できる。
When a B-stage resin chip having a specific shape is used, a shape that covers the element can be formed by combining a plurality of the chips. Preferably, a shape that covers the element is formed by combining two chips having the specific shape.
For example, the specific-shaped chip has a U-shape or L-shape as shown in FIGS. 1c to 1f, and when a U-shaped B-stage resin is produced, FIGS. 1g and 1h are used. It can be produced using a silicone die as shown in FIG.

硬化後の外装樹脂は20〜80℃のガラス転移温度を有することが好ましい。 また、外装樹脂は磁性粉を含有することができる。チップ型電子部品としてチップインダクタを製造する場合は、外装樹脂がフェライト粉を含有し、フェライト粉含有外装樹脂が8MHz測定値で4〜8の透磁率を有することが好ましい。   The cured exterior resin preferably has a glass transition temperature of 20 to 80 ° C. The exterior resin can contain magnetic powder. When manufacturing a chip inductor as a chip-type electronic component, it is preferable that the exterior resin contains ferrite powder, and the ferrite powder-containing exterior resin has a magnetic permeability of 4 to 8 at an 8 MHz measurement value.

次に、素子にBステージ樹脂を被覆させるが、これは、素子の樹脂被覆されるべき部分(例えばチップインダクタの場合には、素子の巻線ワイヤー)にBステージ樹脂を付着させ、次に、例えば押し型により加熱しながら押し当ててBステージ樹脂をゲル化することによって行うことができる。
この場合、Bステージ樹脂が170℃で40〜100Pa・sの溶融粘度でゲル化することが好ましく、また、Bステージ樹脂のゲル化時間が20〜60秒であることが好ましい。なお、Bステージ樹脂のゲル化時間は、例えば押し型を使用してゲル化する場合は押し型を押し当てている時間である。
Next, the B-stage resin is coated on the element. This is because the B-stage resin is adhered to the portion of the element to be resin-coated (for example, in the case of a chip inductor, the winding wire of the element). For example, it can be carried out by gelling the B-stage resin by heating with a pressing die.
In this case, the B-stage resin is preferably gelled at 170 ° C. with a melt viscosity of 40 to 100 Pa · s, and the gel time of the B-stage resin is preferably 20 to 60 seconds. Note that the gel time of the B-stage resin is the time during which the pressing die is pressed when the gel is formed using a pressing die, for example.

上記のシート形状やコの字形状のBステージ樹脂をゲル化する場合は、図3a及び3bに示すようなコの字形状の押し型を使用でき、また、上記のL字形状のBステージ樹脂をゲル化する場合は、図3cに示されるようなL字形状の押し型を使用できる。例えば、2個のシート形状のBステージ樹脂を押し型で型押ししてゲル化することにより、型押し前に素子に付着してない樹脂部分が素子に付着して、素子の樹脂被覆されるべき部分が樹脂により完全に被覆される(図4参照)。また、特定形状のBステージ樹脂チップを複数個組み合わせて素子を被覆しても、型押ししてゲル化することにより、素子の樹脂被覆されるべき部分が樹脂により完全に被覆される。   When the above-mentioned sheet shape or U-shaped B-stage resin is gelled, a U-shaped stamping die as shown in FIGS. 3a and 3b can be used, and the above-mentioned L-shaped B-stage resin can be used. Can be gelled, an L-shaped pressing die as shown in FIG. 3c can be used. For example, two sheet-shaped B-stage resins are embossed and gelled by a stamping die, so that the resin portion that is not attached to the device before the stamping is attached to the device and the device is coated with the resin. The power portion is completely covered with the resin (see FIG. 4). Further, even when a plurality of B-stage resin chips having a specific shape are combined to cover the element, the portion to be resin-coated of the element is completely covered with the resin by embossing and gelling.

樹脂をゲル化した後に、好ましくは150〜170℃で30〜60分間の熱処理により本硬化を行い、樹脂の硬化度を高めて、外装成形を完了する。
また、樹脂の硬化物は、好ましくは20〜80℃、特に好ましくは50〜60℃のガラス転移温度(Tg)を有する。一方、Tgが80℃より高いと、リフロー後のコアクラックが発生し、Tgが20℃より低いと、硬化後の樹脂表面が柔らかく耐熱性が低い。
After the resin is gelled, the main curing is preferably performed by heat treatment at 150 to 170 ° C. for 30 to 60 minutes to increase the degree of curing of the resin, and the exterior molding is completed.
The cured product of the resin preferably has a glass transition temperature (Tg) of 20 to 80 ° C., particularly preferably 50 to 60 ° C. On the other hand, when Tg is higher than 80 ° C., core cracks after reflow occur, and when Tg is lower than 20 ° C., the cured resin surface is soft and has low heat resistance.

素子の必要な箇所に、例えばチップインダクタの場合は、鼓型コアの両端に取り出したワイヤー端部に導電端子を設けて、チップ型電子部品を完成する。
以下、チップ型電子部品としてチップインダクタを製作する実施例によって本発明をより具体的に説明する。
In the case of a chip inductor, for example, in the case of a chip inductor, a conductive terminal is provided at the wire ends taken out at both ends of the drum core to complete the chip electronic component.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to an embodiment in which a chip inductor is manufactured as a chip-type electronic component.

本実施例においては、チップインダクタの外装樹脂(硬化物)のガラス転移温度(Tg)がそれぞれ0、20、50、80及び100℃になるように、Bステージ樹脂の原料として表1に示されるビスフェノールA又はF型エポキシ樹脂、直鎖可撓性エポキシ樹脂、反応性希釈剤、硬化剤(ジシアンジアミド)及びカップリング剤を配合比を変えて配合した樹脂分に、フェライト粉(フェライト材料自体の透磁率が700〜800ので、平均粒径が1.8μmと25〜35μmの粉体を3:7で配合したもの)を75重量%含有させた樹脂組成物を使用した。   In this example, Table 1 shows the raw materials for the B-stage resin so that the glass transition temperatures (Tg) of the exterior resin (cured product) of the chip inductor are 0, 20, 50, 80, and 100 ° C., respectively. Ferrite powder (permeability of the ferrite material itself) is added to the resin component in which bisphenol A or F type epoxy resin, linear flexible epoxy resin, reactive diluent, curing agent (dicyandiamide) and coupling agent are blended at different blending ratios. A resin composition containing 75% by weight of a powder having a magnetic permeability of 700 to 800 and having an average particle diameter of 1.8 μm and 25 to 35 μm in a ratio of 3: 7 was used.

Figure 2005135948
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上記の樹脂組成物を、表面にシリコーン離型処理を施したPETフィルム上に、メタルマスクで100〜300μmの厚さに印刷した。その後、印刷した樹脂シートを150〜170℃で5〜20分間の熱処理を施して、Bステージ樹脂シートを作製した(図1a及び1b参照)。   The above resin composition was printed to a thickness of 100 to 300 μm with a metal mask on a PET film having a surface subjected to silicone release treatment. Then, the printed resin sheet was heat-treated at 150 to 170 ° C. for 5 to 20 minutes to produce a B stage resin sheet (see FIGS. 1a and 1b).

チップインダクタ素子として、図2a〜2cに示されるような、鼓型コア7の巻芯部8に導電線とこれを被覆する絶縁層とからなるワイヤー9を巻回して作製された素子を用意した。図2a及び2bにおいて、参照数字12は、鼓型コア7の両端部に導電性端子を形成するために、鼓型コア7の端部の表面に引き出された巻線ワイヤーの端部を示す。そして、作製した2枚のBステージ樹脂シートを80〜120℃で加熱して、用意した素子の巻線ワイヤーに付着させた(図2a〜2c参照)。   As the chip inductor element, an element was prepared by winding a wire 9 composed of a conductive wire and an insulating layer covering the core portion 8 of the drum core 7 as shown in FIGS. . In FIGS. 2 a and 2 b, reference numeral 12 indicates the end of the winding wire drawn on the surface of the end of the drum core 7 in order to form conductive terminals at both ends of the drum core 7. Then, the two produced B-stage resin sheets were heated at 80 to 120 ° C. and adhered to the winding wires of the prepared elements (see FIGS. 2a to 2c).

次に、図3aに示されるように、Bステージ樹脂シートが付着した素子を、表面を離型処理した2個の押し型10を用いて170℃で加熱しつつ押し当てて、Bステージ樹脂シート1をゲル化した。このとき、樹脂の溶融粘度は70Pa・sで、ゲル化時間は15秒であった。図4は、Bステージ樹脂シートがゲル化して外装成形したチップインダクタの状態を示している。   Next, as shown in FIG. 3a, the element to which the B-stage resin sheet is attached is pressed while heating at 170 ° C. using two pressing molds 10 whose surfaces are subjected to mold release treatment, 1 gelled. At this time, the melt viscosity of the resin was 70 Pa · s and the gelation time was 15 seconds. FIG. 4 shows a state of the chip inductor formed by the B-stage resin sheet being gelled and packaged.

次に、ゲル化した樹脂で被覆されたチップインダクタ素子に、150〜170℃で30〜60分の熱処理を施して樹脂を本硬化した。これにより、外装樹脂の硬化度を高め、チップインダクタ素子の外装成形を完了した。ガラス転移温度(Tg)がそれぞれ0、20、50、80及び100℃の外装樹脂(硬化物)で被覆されたチップインダクタを作製した。完成したチップインダクタの外形寸法は、2.5mm×1.8mm×1.8mmであった。   Next, the chip inductor element covered with the gelled resin was heat-treated at 150 to 170 ° C. for 30 to 60 minutes to fully cure the resin. As a result, the degree of cure of the exterior resin was increased, and the exterior molding of the chip inductor element was completed. Chip inductors coated with an exterior resin (cured product) having glass transition temperatures (Tg) of 0, 20, 50, 80, and 100 ° C. were produced. The outer dimensions of the completed chip inductor were 2.5 mm × 1.8 mm × 1.8 mm.

最後に、外装樹脂が被覆されていないコアの両端に取り出されたワイヤーの端部に、導電性端子を設け、Ni、Snメッキを施して、チップインダクタを完成した。   Finally, conductive terminals were provided at the ends of the wires taken out at both ends of the core not covered with the exterior resin, and Ni and Sn plating were performed to complete the chip inductor.

上記に従って作製されたTgが異なる外装樹脂で被覆されたチップインダクタについて、リフロー後のコアクラックの発生状態を試験した。その結果を表2に示す。   With respect to the chip inductor manufactured according to the above and coated with an exterior resin having a different Tg, the occurrence of core cracks after reflow was tested. The results are shown in Table 2.

Figure 2005135948
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表1より、Tgが100℃の外装樹脂においては、クラックが発生した。一方、Tgが0℃の外装樹脂においては、樹脂表面が柔らかいために、耐熱性が弱い懸念があり好ましくない。これにより、望ましいTg範囲は、20〜80℃である。   From Table 1, cracks occurred in the exterior resin having a Tg of 100 ° C. On the other hand, an exterior resin having a Tg of 0 ° C. is not preferable because the resin surface is soft and there is a concern that heat resistance is weak. Thereby, a desirable Tg range is 20-80 degreeC.

本実施例は、170℃でゲル化するときのBステージ樹脂シートの溶融粘度を10、20、30、40、70、100及び120Pa・sに変えた以外は、実施例1と同様に、Tgが50℃である外装樹脂で被覆されたチップインダクタを作製した。チップインダクタの外装成形後の外観及び樹脂流動によるバリを評価した。その結果を表3に示す。   This example is similar to Example 1 except that the melt viscosity of the B-stage resin sheet when gelled at 170 ° C. was changed to 10, 20, 30, 40, 70, 100, and 120 Pa · s. A chip inductor coated with an exterior resin having a temperature of 50 ° C. was produced. The appearance after chip molding of the chip inductor and burrs due to resin flow were evaluated. The results are shown in Table 3.

Figure 2005135948
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表2から、樹脂の溶融粘度が10〜30Pa・sの場合は、溶融粘度が低いために端子部に樹脂が流れ出してバリが発生した。一方、樹脂の溶融粘度が100Pa・sを超える場合は、流動性が悪く外観状態が思わしくない状態になった。よって、ゲル化時の樹脂の最適溶融粘度は、40〜100Pa・sの範囲である。   From Table 2, when the resin had a melt viscosity of 10 to 30 Pa · s, the resin flowed out to the terminal portion because the melt viscosity was low, and burrs were generated. On the other hand, when the melt viscosity of the resin exceeds 100 Pa · s, the fluidity is poor and the appearance is not expected. Therefore, the optimum melt viscosity of the resin during gelation is in the range of 40 to 100 Pa · s.

本実施例は、Bステージ樹脂シートのゲル化時間を10、20、40、60、80及び100秒に変えた以外は、実施例1と同様に、Tgが50℃の外装樹脂で被覆されたチップインダクタを作製した。チップインダクタの外装成形後の外観及び樹脂流動によるバリを評価した。その結果を表4に示す。   In this example, except that the gelation time of the B-stage resin sheet was changed to 10, 20, 40, 60, 80 and 100 seconds, it was coated with an exterior resin having a Tg of 50 ° C. as in Example 1. A chip inductor was fabricated. The appearance after chip molding of the chip inductor and burrs due to resin flow were evaluated. The results are shown in Table 4.

Figure 2005135948
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表3の結果から、ゲル化時間が10秒と短い場合は、樹脂流動が不十分なために外観状態が悪かった。ゲル化時間が80秒以上と長い場合は、樹脂が導電性端子部に流れ出しバリが発生した。よって、樹脂のゲル化時間は20〜60秒程度が望ましい。   From the results of Table 3, when the gelation time was as short as 10 seconds, the appearance of the resin was poor due to insufficient resin flow. When the gelation time was as long as 80 seconds or longer, the resin flowed out to the conductive terminal portion, and burrs were generated. Therefore, the gel time of the resin is desirably about 20 to 60 seconds.

本実施例は、樹脂に含有されるフェライト粉の量を60〜85重量%に変えて外装樹脂の透磁率を3、3.5、4、5、6、7、8、9と変えた以外は、実施例1と同様に、Tgが50℃である外装樹脂で被覆されたチップインダクタを作製した。作製したチップインダクタについて、コイルの自己インダクタンス値(L値)及び直流重畳の製品特性を評価した。その結果を表5に示す。   In this example, the amount of ferrite powder contained in the resin was changed to 60 to 85% by weight, and the magnetic permeability of the exterior resin was changed to 3, 3.5, 4, 5, 6, 7, 8, and 9. As in Example 1, a chip inductor coated with an exterior resin having a Tg of 50 ° C. was produced. About the produced chip inductor, the self-inductance value (L value) of a coil and the product characteristic of direct current superposition were evaluated. The results are shown in Table 5.

Figure 2005135948
Figure 2005135948

表4の結果から、外装樹脂の透磁率が4より低い場合は、L値のアップ率が低く、所定のL値を得るためには、巻線の巻数を増やす必要があるが、巻線を増やすと直流抵抗特性(RDC特性)が悪くなるために好ましくない。一方、外装樹脂の透磁率が8より高い場合は、L値のアップ率は満足する値であったので、巻線の巻数を減少させることもできるが、反面、直流重畳特性が低下したため、好ましくない。したがって、外装樹脂の透磁率は、4〜8が望ましい。   From the results of Table 4, when the permeability of the exterior resin is lower than 4, the increase rate of the L value is low, and in order to obtain a predetermined L value, it is necessary to increase the number of turns of the winding. Increasing the number is not preferable because the direct current resistance characteristic (RDC characteristic) deteriorates. On the other hand, when the magnetic permeability of the exterior resin is higher than 8, the L-value up rate is a satisfactory value, so the number of turns of the winding can be reduced. Absent. Therefore, the permeability of the exterior resin is desirably 4-8.

支持フィルムに支持されたBステージ樹脂シートの一例を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows an example of the B stage resin sheet supported by the support film. 支持フィルムに支持されたBステージ樹脂シートの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the B stage resin sheet supported by the support film. 特定形状のBステージ樹脂チップの一例を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows an example of the B-stage resin chip of a specific shape. 特定形状のBステージ樹脂チップの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the B-stage resin chip of a specific shape. 特定形状のBステージ樹脂チップの他の一例を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows another example of the B-stage resin chip of a specific shape. 特定形状のBステージ樹脂チップの他の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows another example of the B stage resin chip of a specific shape. 図1c及び図1dに示される特定形状のBステージ樹脂チップを作製するための抜き型の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the cutting die for producing the B-stage resin chip of the specific shape shown by FIG. 1c and FIG. 1d. 図1c及び図1dに示される特定形状のBステージ樹脂チップを作製するための抜き型の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the cutting die for producing the B stage resin chip of the specific shape shown by FIG. 1c and FIG. 1d. Bステージ樹脂シートをチップインダクタ素子の片面に付着させた状態の一例の概略側面図である。It is a schematic side view of an example of the state which adhered the B stage resin sheet to the single side | surface of the chip inductor element. Bステージ樹脂シートをチップインダクタ素子の両面に付着させた状態の一例の概略側面図である。It is a schematic side view of an example of the state which made the B stage resin sheet adhere to both surfaces of a chip inductor element. Bステージ樹脂シートをチップインダクタの片面に付着させた状態の一例の概略平面図である。It is a schematic plan view of an example of the state which made the B stage resin sheet adhere to the single side | surface of a chip inductor. Bステージ樹脂シートを押し型でゲル化する直前の状態の一例を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows an example of the state just before gelatinizing a B stage resin sheet with a pressing die. チップインダクタ素子に付着した、図1c及び図1dで示される特定形状のBステージ樹脂チップを押し型でゲル化する直前の状態の一例を示す概略側面図である。FIG. 2 is a schematic side view showing an example of a state immediately before the B-stage resin chip having a specific shape shown in FIGS. 1c and 1d attached to the chip inductor element is gelled by a pressing die. チップインダクタ素子に付着した、図1e及び図1fで示される特定形状のBステージ樹脂チップを押し型でゲル化する状態の一例を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows an example of the state which gelatinizes with a pressing die the B-stage resin chip of the specific shape shown by FIG. 1e and FIG. 1f which adhered to the chip inductor element. ゲル化後の樹脂に被覆されたチップインダクタ素子の状態を示す概略側面図であるIt is a schematic side view which shows the state of the chip inductor element coat | covered with resin after gelatinization.

符号の説明Explanation of symbols

1 Bステージ樹脂シート
2 支持フィルム
3 特定形状のBステージ樹脂チップ
4 特定形状のBステージ樹脂チップ
5 抜き型
6 開口部
7 鼓型コア
8 巻芯部
9 巻線ワイヤー
10 押し型
11 ゲル化後の外装樹脂
12 ワイヤー端部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 B stage resin sheet 2 Support film 3 B shape resin chip of specific shape 4 B stage resin chip of specific shape 5 Cutting die 6 Opening part 7 Drum core 8 Core part 9 Winding wire 10 Stamping die 11 After gelatinization Exterior resin 12 Wire end

Claims (23)

外装樹脂で被覆されたチップ型電子部品において、
該外装樹脂が、無溶剤型Bステージ樹脂をチップ型電子部品素子に付着した後に該Bステージ樹脂をゲル化及び硬化することによって形成されたものであることを特徴とするチップ型電子部品。
In chip-type electronic parts covered with exterior resin,
A chip-type electronic component, wherein the exterior resin is formed by attaching a solvent-free B-stage resin to a chip-type electronic component element and then gelling and curing the B-stage resin.
前記Bステージ樹脂が、熱硬化性のエポキシ樹脂、フェノール樹脂及びエポキシフェノール樹脂からなる群より選択される樹脂である請求項1に記載のチップ型電子部品。   The chip-type electronic component according to claim 1, wherein the B-stage resin is a resin selected from the group consisting of a thermosetting epoxy resin, a phenol resin, and an epoxy phenol resin. 前記Bステージ樹脂がエポキシ樹脂である請求項1に記載のチップ型電子部品。   The chip-type electronic component according to claim 1, wherein the B-stage resin is an epoxy resin. 前記Bステージ樹脂が、エポキシ樹脂にジシアンジアミドの硬化剤を添加して150〜170℃で5〜20分間の熱処理を行うことにより形成されたものである請求項1に記載のチップ型電子部品。   2. The chip-type electronic component according to claim 1, wherein the B-stage resin is formed by adding a dicyandiamide curing agent to an epoxy resin and performing a heat treatment at 150 to 170 ° C. for 5 to 20 minutes. 硬化後の外装樹脂のガラス転移温度が20〜80℃である請求項1に記載のチップ型電子部品。   The chip-type electronic component according to claim 1, wherein the cured resin has a glass transition temperature of 20 to 80 ° C. 前記外装樹脂が磁性粉を含有している請求項1に記載のチップ型電子部品。   The chip-type electronic component according to claim 1, wherein the exterior resin contains magnetic powder. 前記磁性粉がフェライト粉であり、フェライト粉含有外装樹脂が8MHz測定値で4〜8の透磁率を有する請求項6に記載のチップ型電子部品。   The chip-type electronic component according to claim 6, wherein the magnetic powder is a ferrite powder, and the ferrite powder-containing exterior resin has a magnetic permeability of 4 to 8 as measured at 8 MHz. 前記チップ型電子部品がチップインダクタである請求項1〜7のいずれか一項に記載のチップ型電子部品。   The chip type electronic component according to claim 1, wherein the chip type electronic component is a chip inductor. チップ型電子部品素子に外装樹脂を被覆する工程と該樹脂を硬化する工程とを有するチップ型電子部品の製造方法において、該樹脂を被覆する工程が、該素子に無溶剤型Bステージ樹脂を付着し、該Bステージ樹脂をゲル化することからなることを特徴とするチップ型電子部品の製造方法。   In a manufacturing method of a chip-type electronic component having a step of coating a chip-type electronic component element with an exterior resin and a step of curing the resin, the step of coating the resin attaches a solvent-free B-stage resin to the device And manufacturing the chip-type electronic component, wherein the B-stage resin is gelled. 前記Bステージ樹脂が、熱硬化性のエポキシ樹脂、フェノール樹脂及びエポキシフェノール樹脂からなる群より選択される樹脂である請求項9に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 9, wherein the B-stage resin is a resin selected from the group consisting of a thermosetting epoxy resin, a phenol resin, and an epoxy phenol resin. 前記Bステージ樹脂がエポキシ樹脂である請求項9に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 9, wherein the B-stage resin is an epoxy resin. 前記Bステージ樹脂が、エポキシ樹脂にジシアンジアミドの硬化剤を添加して150〜170℃で5〜20分間の熱処理を行うことにより形成されたものである請求項9に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 9, wherein the B-stage resin is formed by adding a dicyandiamide curing agent to an epoxy resin and performing a heat treatment at 150 to 170 ° C. for 5 to 20 minutes. 前記Bステージ樹脂がシート形状を有する請求項9〜12のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 9, wherein the B-stage resin has a sheet shape. 前記シート形状のBステージ樹脂の1つ又は複数を前記素子に被覆させる請求項13に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 13, wherein the element is covered with one or more of the sheet-shaped B-stage resins. 前記Bステージ樹脂が特定形状を有する複数個のチップであり、該複数個のチップを組み合わせることにより前記素子を被覆する形状を形成する請求項9〜12のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 9, wherein the B-stage resin is a plurality of chips having a specific shape, and the shape covering the element is formed by combining the plurality of chips. 前記特定形状のチップを2個組み合わせることにより前記素子を被覆する形状を形成する請求項15に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 15, wherein a shape covering the element is formed by combining two chips having the specific shape. 前記Bステージ樹脂のゲル化が、押し型による加熱によって行われる請求項9〜16のいずれか一項に記載の製造方法。   The production method according to any one of claims 9 to 16, wherein the gelation of the B-stage resin is performed by heating with a pressing die. 前記Bステージ樹脂が、170℃で40〜100Pa・sの溶融粘度でゲル化する請求項9〜17のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 9 to 17, wherein the B-stage resin is gelled at 170 ° C with a melt viscosity of 40 to 100 Pa · s. 前記Bステージ樹脂のゲル化時間が20〜60秒である請求項18に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 18, wherein the gel time of the B-stage resin is 20 to 60 seconds. 硬化後の外装樹脂のガラス転移温度が20〜80℃である請求項9に記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 9 whose glass transition temperature of exterior resin after hardening is 20-80 degreeC. 前記外装樹脂が磁性粉を含有している請求項9に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 9, wherein the exterior resin contains magnetic powder. 前記磁性粉がフェライトであり、フェライト粉含有外装樹脂が8MHz測定値で4〜8の透磁率を有する請求項21に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 21, wherein the magnetic powder is ferrite, and the ferrite powder-containing exterior resin has a permeability of 4 to 8 at an 8 MHz measurement. 前記チップ型電子部品がチップインダクタである請求項9〜22のいずれか一項に記載の製造方法。
The manufacturing method according to claim 9, wherein the chip-type electronic component is a chip inductor.
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