JP2005131801A - Recovery method of polyester resin support - Google Patents

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Toshikatsu Yanagihara
敏克 柳原
Shigeru Kobayashi
茂 小林
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a recovery method of a polyester resin support from a recording material, where a coating film is formed on the support, in such a state that the support can be recycled as a raw material of the support for a recording material by suppressing re-adhesion to the support, thermal fusion at parts in contact with a treating liquid such as an inner wall, a stirring blade, a rotary shaft, or the like of the coating film and sludge, and to facilitate the cleaning of the treatment tank after treatment. <P>SOLUTION: In the recovery method of the polyester resin support for treating the chip-like recording material, wherein at least one coating film is provided on the polyester resin support, with an alkaline treatment liquid in the treatment tank using a stirrer and subsequently recovering the polyester resin support from the alkaline treatment liquid, the treatment of the recording material with the alkaline treatment liquid comprises two stages of first treatment at a temperature of 70-95°C and for a time of 10-120 min and second treatment at a temperature of 1-35°C and for a time of 5-120 min. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ポリエステル系樹脂支持体上に少なくとも1層の塗布膜を有する記録材料からポリエステル系樹脂支持体を回収する回収方法に関する。   The present invention relates to a recovery method for recovering a polyester resin support from a recording material having at least one coating film on the polyester resin support.

ポリエステル系樹脂、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートはその優れた特性によりハロゲン化銀写真感光材料、熱現像写真感光材料、インクジェット記録材料、磁気記録材料等の記録材料の支持体として、及び液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイの各種表示装置に使用する光学フィルムとして情報記録産業界でも広く用いられている。ポリエステル系樹脂支持体を使用した記録材料の一例として写真感光材料の場合について図で概略説明する。   Polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are used as a support for recording materials such as silver halide photographic light-sensitive materials, heat-developable photographic light-sensitive materials, ink-jet recording materials, and magnetic recording materials because of their excellent characteristics, and liquid crystal displays. It is also widely used in the information recording industry as an optical film used in various display devices of organic EL displays. The case of a photographic photosensitive material as an example of a recording material using a polyester resin support will be schematically described with reference to the drawings.

図4は写真感光材料の概略断面図である。   FIG. 4 is a schematic sectional view of a photographic light-sensitive material.

図中、6は写真感光材料を示す。601はポリエステル系樹脂支持体を示し、602a、602bは下塗り層を示す。603は下塗り層602aを介してポリエステル系樹脂支持体601上に形成された塗布膜の感光層を示し、605は感光層603の上に形成された塗布膜の保護層を示す。604は下塗り層602bを介してポリエステル系樹脂支持体601上に形成された塗布膜のバッキング層を示す。感光層603は必要に応じて多層から構成されている場合もあるし、上に保護層を塗設していない場合もある。感光層603、保護層605及びバッキング層には天然高分子バインダー又は合成高分子バインダーが作製する写真感光材料の種類により選択され使用されている。本発明では、塗布膜とは感光層と、保護層と、バッキング層とを含めた総称を言う。   In the figure, 6 indicates a photographic material. Reference numeral 601 denotes a polyester resin support, and reference numerals 602a and 602b denote undercoat layers. Reference numeral 603 denotes a photosensitive layer of a coating film formed on the polyester resin support 601 via the undercoat layer 602a, and 605 denotes a protective layer of the coating film formed on the photosensitive layer 603. Reference numeral 604 denotes a coating layer backing layer formed on the polyester resin support 601 through the undercoat layer 602b. The photosensitive layer 603 may be composed of multiple layers as required, or may not be provided with a protective layer. The photosensitive layer 603, the protective layer 605 and the backing layer are selected and used depending on the type of photographic photosensitive material produced by a natural polymer binder or a synthetic polymer binder. In the present invention, the coating film is a generic name including a photosensitive layer, a protective layer, and a backing layer.

近年、情報記録産業界は著しい発展を遂げつつあり使用されるポリエステル系樹脂材料も急増しつつある。それに伴い、製造工程において発生する廃棄対象物(例えば、生産端材、製品検査過程で発生する品質不良品等)、使用済み品も多量になりつつある。   In recent years, the information recording industry has undergone remarkable development and the number of polyester resin materials used has been rapidly increasing. Along with this, the amount of waste products (for example, production scraps, defective products generated in the product inspection process, etc.) and used products generated in the manufacturing process are increasing.

これらポリエステル系樹脂材料の屑は殆どが有効利用されることなく埋め立て又は焼却処理で対応しているのが実状であるが、埋め立てでは腐敗消滅することは無く、焼却処理では焼却条件によりダイオキシンの発生を引き起こし、地球環境負荷を大きくする一因にもなっている。又、ポリエステル原料損失という問題点があり、省資源の面からも好ましくない。   In fact, most of these polyester resin wastes are used in landfill or incineration without being effectively used, but in landfill there is no decay, and incineration generates dioxins depending on the incineration conditions. It is also a cause of increasing the global environmental load. Moreover, there is a problem of loss of polyester raw material, which is not preferable from the viewpoint of resource saving.

特に、これらポリエステル系樹脂支持体を使用し、塗布膜のバインダーに合成高分子系素材を用いた記録材料に対しては、ポリエステル系樹脂支持体として再使用が出来る状態での回収が困難で、使用済み品及び生産端材については殆どが有効利用されることなく、やむなく、ダイオキシンの発生を抑えるために高温で焼却処理で対応していた。このため、高温の焼却処理に伴い焼却炉の傷みが早く維持費がかかり問題となっている。   In particular, using these polyester resin supports, for recording materials using a synthetic polymer material as a binder for the coating film, it is difficult to recover in a state that can be reused as a polyester resin support, Most of the used products and production scraps were not effectively used, and inevitably, incineration treatment was performed at a high temperature in order to suppress the generation of dioxins. For this reason, the incinerator is quickly damaged due to the high-temperature incineration process, which causes a problem of maintenance costs.

これらの問題点を解決するために、ポリエステル系樹脂支持体を使用した記録材料からポリエステル系樹脂支持体を回収する方法が検討されてきた。例えば、塩化ビニリデン、イタコン酸、アクリル酸等の共重合体を下塗り層としたポリエステル系樹脂としてポリエチレンテレフタレート(PET)を使用した支持体を用いた印刷製版フィルムをアルカリ金属塩の水溶液中でカチオン系界面活性剤とともに50〜95℃で加熱処理することでPETを回収する方法が知られている(例えば、特許文献1を参照。)。   In order to solve these problems, methods for recovering a polyester resin support from a recording material using the polyester resin support have been studied. For example, a printing plate-making film using a support using polyethylene terephthalate (PET) as a polyester resin with a copolymer such as vinylidene chloride, itaconic acid or acrylic acid as an undercoat layer is cationic in an aqueous solution of an alkali metal salt. A method of recovering PET by heat treatment at 50 to 95 ° C. with a surfactant is known (see, for example, Patent Document 1).

下塗り層を有するポリエステル系樹脂支持体及びそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料をチップ状に破砕し、界面活性剤(非イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤)を併用し、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを含むアルカリ性処理液で温度70〜100℃で撹拌しながら加熱処理することでポリエステル系樹脂支持体(以下、単に支持体ともいう)を回収する方法が知られている(例えば、特許文献2を参照。)。   A polyester resin support having an undercoat layer and a silver halide photographic light-sensitive material using the polyester resin support are crushed into chips, and surfactants (nonionic surfactant, cationic surfactant, anionic surfactant) are added. A method for recovering a polyester-based resin support (hereinafter also simply referred to as a support) is known in combination with heat treatment with an alkaline treatment liquid containing sodium hydroxide or potassium hydroxide at a temperature of 70 to 100 ° C. while stirring. (For example, see Patent Document 2).

しかしながら、特許文献1及び特許文献2に記載の回収方法では、支持体上に合成高分子バインダーを使用し塗布膜を形成した記録材料から支持体を回収した場合、以下に示す問題点が挙げられる。1)剥離した塗布膜及びアルカリ性処理液による処理で発生するスラッジが再付着した支持体、塗布膜が剥離せず残った支持体、剥離した塗布膜等の混入が生じ、記録材料用の支持体の原料として再使用するには純度的に不十分となっている。2)処理槽の内壁、攪拌羽根、回転軸などの処理液と接触する箇所に剥離した塗布膜、スラッジが再付着してしまい、処理後の処理槽の清掃に時間が掛かり作業効率を下げている。   However, in the recovery methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2, when a support is recovered from a recording material in which a synthetic polymer binder is used and a coating film is formed on the support, there are the following problems. . 1) A support for recording materials, in which the peeled coating film and the support on which sludge generated by the treatment with the alkaline processing liquid is reattached, the support in which the coating film is not peeled off, the peeled coating film, and the like are mixed. It is insufficient in purity to be reused as a raw material. 2) The peeled coating film and sludge are reattached to places that come into contact with the processing liquid such as the inner wall of the processing tank, the stirring blade, and the rotating shaft, and it takes time to clean the processing tank after processing, reducing work efficiency. Yes.

特に記録材料用の支持体の原料として再使用する場合、要求される項目としては次の項目が挙げられる。1)性能に悪影響(例えば写真感光材料の場合、カブリ、増感・減感等の感度異常等)を与える不純物の混入がなく、2)物理的特性(色調、分子量分布等)が変化していないこと、3)撮影したときに画像に悪影響を与える異物の混入が無いこと等が挙げられる。   In particular, when reusing as a raw material for a support for recording material, the following items are listed as required items. 1) There is no contamination with impurities that adversely affect performance (for example, in the case of photographic materials, fog, sensitivity abnormalities such as sensitization / desensitization, etc.) 2) Physical properties (color tone, molecular weight distribution, etc.) are changed 3) The absence of foreign matter that adversely affects the image when taken, and the like.

これらの状況から、支持体に天然高分子系バインダー及び合成高分子系バインダーを使用し塗布膜を形成した記録材料から、記録材料用(特に純度的に要求が高い写真感光材料用)の支持体の原料として再使用出来る状態で支持体を回収する方法及び処理後の処理槽の清掃が容易な支持体の回収方法の開発が望まれている。
特開平11−302580号公報 特開平8−146560号公報
From these situations, a support for a recording material (especially for a photographic light sensitive material having a high purity requirement) from a recording material in which a coating film is formed using a natural polymer binder and a synthetic polymer binder for the support. Development of a method for recovering a support in a state where it can be reused as a raw material and a method for recovering a support that facilitates cleaning of a treated tank after processing is desired.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-302580 JP-A-8-146560

本発明は、上記状況に鑑み成されたものであり、その目的は、支持体上に天然高分子系バインダー及び合成高分子系バインダーを使用し塗布膜を形成した記録材料から、剥離した塗布膜及びスラッジの支持体への再付着、処理槽の内壁、攪拌羽根、回転軸などの処理液と接触部への熱溶着などを抑制し、記録材料用の支持体の原料として再使用出来る状態で支持体の回収及び処理後の処理槽の清掃が容易な支持体の回収方法する方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and the object thereof is a coating film peeled from a recording material in which a coating film is formed using a natural polymer binder and a synthetic polymer binder on a support. In addition, it can be reused as a raw material for the support for recording materials by suppressing the reattachment of sludge to the support, heat treatment between the inner wall of the processing tank, the stirring blade, the rotating shaft, etc. It is an object of the present invention to provide a method for recovering a support that is easy to recover the support and clean the treatment tank after the treatment.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成された。
(請求項1)
ポリエステル系樹脂支持体上に少なくとも1層の塗布膜を有するチップ状の記録材料を撹拌装置を用いて処理槽中でアルカリ性処理液により処理し、該アルカリ性処理液から該ポリエステル系樹脂支持体を分離した後、前記ポリエステル系樹脂支持体を回収するポリエステル系樹脂支持体回収方法において、
該アルカリ性処理液による処理が、温度70〜95℃、時間10〜120minの第1処理と、温度1〜35℃、時間5〜120minの第2処理との2段階で処理することを特徴とするポリエステル系樹脂支持体回収方法。
(請求項2)
前記処理槽は、内面が耐熱離型被膜で被覆されていることを特徴とする請求項1に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。
(請求項3)
前記塗布膜が天然高分子系バインダー又は合成高分子系バインダーを使用していることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。
(請求項4)
前記チップ状の記録材料は、外形サイズが0.1〜100mmの不定形であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。
The above object of the present invention has been achieved by the following constitution.
(Claim 1)
A chip-shaped recording material having at least one coating film on a polyester resin support is treated with an alkaline treatment liquid in a treatment tank using a stirrer, and the polyester resin support is separated from the alkaline treatment liquid. Then, in the polyester resin support recovery method of recovering the polyester resin support,
The treatment with the alkaline treatment liquid is performed in two stages of a first treatment at a temperature of 70 to 95 ° C. and a time of 10 to 120 min and a second treatment at a temperature of 1 to 35 ° C. and a time of 5 to 120 min. Polyester-based resin support recovery method.
(Claim 2)
The polyester resin support recovery method according to claim 1, wherein an inner surface of the treatment tank is covered with a heat-resistant release film.
(Claim 3)
The method for recovering a polyester resin support according to claim 1 or 2, wherein the coating film uses a natural polymer binder or a synthetic polymer binder.
(Claim 4)
The polyester-based resin support recovery method according to any one of claims 1 to 3, wherein the chip-shaped recording material is an indeterminate shape having an outer size of 0.1 to 100 mm.

発明者らは、上記課題を達成するために鋭意検討を加えた結果、支持体に天然高分子系バインダー又は合成高分子系バインダーを使用し塗布膜を形成した記録材料をチップ状にし支持体を回収する場合、アルカリ処理液による脱膜処理の条件、特に処理温度及び処理時間により不純物の混入が多くなり、記録材料の支持体の原料に再使用するのは困難であること及び処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸に剥離した塗布膜、発生したスラッジが付着してしまい処理後の清掃に時間が掛かり作業効率を低下させていることが判明した。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the inventors have made a recording material in which a coating film is formed using a natural polymer binder or a synthetic polymer binder on a support, and the support is made into a chip. In the case of recovery, impurities are mixed in depending on the conditions of the film removal treatment with an alkali treatment liquid, particularly the treatment temperature and treatment time, and it is difficult to reuse the raw material for the recording material support and the inner wall of the treatment tank. It was found that the agitation blade, the coating film peeled off on the rotating shaft, and the generated sludge adhered to each other, and it took time for cleaning after the treatment, thereby reducing the work efficiency.

不純物の混入が多くなる原因及び処理槽の処理液と接触する箇所の汚れは、次の現象が生じていることによるものと推定した。1)剥離した塗布膜が長時間、高温条件の下に置かれることで表面が粘性を増すと同時に弾性が無くなり支持体、及び処理槽の処理液と接触する箇所に付着する。2)発生したスラッジが長時間、高温条件の下に置かれることで表面の粘性が増し、支持体、及び処理槽の処理液と接触する箇所に付着する。3)処理液が高温の状態で塗布膜、支持体、スラッジを分離すると、支持体に付着した塗布膜及びスラッジが接着剤の働きをして更に支持体を強固に接着させてしまい分離が不可能となる。又、処理液と接触する箇所に付着した塗布膜及びスラッジも接触界面から処理液が無くなることでより強固に接着し分離が困難となる。   It was presumed that the cause of the contamination of impurities and the contamination of the treatment tank in contact with the treatment liquid were caused by the following phenomenon. 1) When the peeled coating film is placed under a high temperature condition for a long time, the surface increases in viscosity, and at the same time, the elasticity is lost and it adheres to the support and the portion in contact with the treatment liquid in the treatment tank. 2) When the generated sludge is placed under high temperature conditions for a long time, the viscosity of the surface increases, and the sludge adheres to the support and the portion in contact with the treatment liquid in the treatment tank. 3) If the coating film, support and sludge are separated while the treatment liquid is at a high temperature, the coating film and sludge adhering to the support will act as an adhesive to further adhere the support firmly, and separation will not occur. It becomes possible. In addition, the coating film and sludge adhering to the portion in contact with the processing liquid are more firmly bonded and difficult to separate because the processing liquid disappears from the contact interface.

これらに対してアルカリ処理液で脱膜処理を行う際、塗布膜の剥離を促進させるために高温で処理し、付着した塗布膜及びスラッジを処理液の存在下で再剥離すること及び処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸等の処理液と接触する箇所の表面エネルギーを下げることが効果的であることが判明し、本発明に至った次第である。   When performing film removal treatment with an alkali treatment liquid on these, the film is treated at a high temperature in order to promote peeling of the coating film, and the attached coating film and sludge are removed again in the presence of the treatment liquid, and the treatment tank It has been found that it is effective to reduce the surface energy of the portions that come into contact with the processing liquid such as the inner wall, the stirring blades, and the rotating shaft, and it is up to the present invention.

支持体上に天然高分子系バインダー及び合成高分子系バインダーを使用し塗布膜を形成した記録材料から、剥離した塗布膜及びスラッジの支持体への再付着、処理槽の内壁、攪拌羽根、回転軸などの処理液と接触部への熱溶着などを抑制し、記録材料用の支持体の原料として再使用出来る状態で支持体を回収する方法を提供することが出来、高分子系バインダーを用いた記録材料から支持体の材料として再使用可能の支持体回収収率を大幅に向上させることが可能となった。又、処理後の処理槽の清掃が容易になり作業効率が向上した。   Reattachment of the coating film and sludge that has been peeled off from the recording material using a natural polymer binder and synthetic polymer binder on the support to form a coating film, the inner wall of the processing tank, stirring blades, rotation It is possible to provide a method of recovering the support in a state where it can be reused as a raw material for the support for recording materials by suppressing heat welding, etc. to the processing liquid such as the shaft and the contact portion. As a result, the recovery yield of the support that can be reused as the support material from the recorded material can be greatly improved. In addition, the treatment tank after the treatment can be easily cleaned and the working efficiency is improved.

本発明に係る実施の形態を図1〜図3を参照して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Embodiments according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3, but the present invention is not limited thereto.

図1は支持体の回収方法の一例を示す模式図である。   FIG. 1 is a schematic view showing an example of a method for recovering a support.

図中、1はアルカリ性処理液により処理を行う第1化学処理部を示す。101は、処理槽101aに入れられた、支持体上に塗布膜を有する細断したチップ状の記録材料102を、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを含むアルカリ性処理液103で攪拌機101bで撹拌しながら加熱処理し、支持体から塗布膜を剥離する処理装置を示す。   In the figure, reference numeral 1 denotes a first chemical processing unit that performs processing with an alkaline processing liquid. 101, while stirring the shredded chip-shaped recording material 102 having a coating film on a support in a processing tank 101a with an alkaline processing liquid 103 containing sodium hydroxide or potassium hydroxide with an agitator 101b. The processing apparatus which heat-processes and peels a coating film from a support body is shown.

処理槽101a中でチップ状の記録材料102をアルカリ性処理液103で処理するときの固形分濃度としては、0.1〜50質量%が好ましい。0.1質量%未満の場合は、チップ状の記録材料が互いに衝突する回数が減少するし、チップ状の記録材料が羽根と衝突する回数が減少し、記録材料の種類によっては塗布膜の剥離がされないで残るチップ状の記録材料が多くなる場合がある。50質量%を越える場合は、処理液の撹拌が十分に行うことが出来なくなり、チップ状の記録材料に強い剪断力を与えることが無くなるため、記録材料の種類によっては塗布膜の剥離がされないで残るチップ状の記録材料が多くなる場合がある。101b1は撹拌用のモータを示し、101b2は攪拌羽根101b3を取り付ける回転軸を示す。   The solid content concentration when the chip-shaped recording material 102 is processed with the alkaline processing liquid 103 in the processing tank 101a is preferably 0.1 to 50% by mass. When the content is less than 0.1% by mass, the number of times the chip-shaped recording material collides with each other decreases, and the number of times the chip-shaped recording material collides with the blade decreases. Depending on the type of the recording material, the coating film is peeled off. In some cases, the amount of chip-shaped recording material that remains without being removed increases. When the amount exceeds 50% by mass, the treatment liquid cannot be sufficiently stirred, and a strong shearing force is not applied to the chip-shaped recording material. Therefore, depending on the type of the recording material, the coating film is not peeled off. The remaining chip-shaped recording material may increase. 101b1 indicates a motor for stirring, and 101b2 indicates a rotating shaft to which the stirring blade 101b3 is attached.

処理槽101aでのアルカリ水溶液103による処理は、攪拌羽根101b3による撹拌しながら次の第1処理と第2処理との2段階処理で行われる。第1処理は温度70〜95℃、時間10〜120min、第2処理は温度1〜35℃、時間5〜120minである。第1処理が終了した時点で引き続き第2処理が行われる。第1処理では、支持体から塗布膜の剥離を行うために高温処理となっている。処理温度が75〜95℃の高温では剥離した塗布膜は、表面の粘性が上がり、弾性率が下がり接着し易い状態となっている。このため、剥離した塗布膜の一部は支持体、処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸に付着したりする。又塗布膜同士も付着する。加熱処理により発生するスラッジも表面の粘性が上がり発生したスラッジの一部が塗布膜と同様に支持体、処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸に付着したりする。又、塗布膜及びスラッジが付着した支持体も互いに接着したりする。第1処理の段階で処理を終了し、次の工程に進んだ場合、支持体に付着した塗布膜、スラッジの支持体との界面からアルカリ処理液が除去されることで支持体により強く付着した状態となり、最終段階まで除去出来ずに残り不純物となり回収した支持体中に混入するため、支持体の原料として再使用が困難となる。   The treatment with the alkaline aqueous solution 103 in the treatment tank 101a is performed by the following two-stage treatment including the first treatment and the second treatment while stirring with the stirring blade 101b3. The first treatment is performed at a temperature of 70 to 95 ° C. for 10 to 120 minutes, and the second treatment is performed at a temperature of 1 to 35 ° C. for 5 to 120 minutes. When the first process is finished, the second process is continued. In the first treatment, a high temperature treatment is performed to peel the coating film from the support. At a high processing temperature of 75 to 95 ° C., the peeled coating film is in a state in which the viscosity of the surface is increased, the elastic modulus is decreased, and adhesion is easy. For this reason, a part of the peeled coating film adheres to the support, the inner wall of the treatment tank, the stirring blade, and the rotating shaft. Also, the coating films adhere to each other. As for the sludge generated by the heat treatment, the viscosity of the surface increases, and a part of the generated sludge adheres to the support, the inner wall of the treatment tank, the stirring blade, and the rotating shaft in the same manner as the coating film. The support to which the coating film and the sludge are attached is also bonded to each other. When the process is completed in the first treatment stage and the process proceeds to the next process, the alkali treatment liquid is removed from the interface between the coating film adhering to the support and the sludge support, so that it adheres more strongly to the support. Since it becomes a state and cannot be removed until the final stage, it becomes a remaining impurity and is mixed into the recovered support, making it difficult to reuse it as a raw material for the support.

又、処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸に付着した塗布膜及びスラッジも支持体の場合と同様に強固に付着し除去するのが困難となり、作業効率が著しく低下する。この様な状態になることを防止するのが第1処理に引き続き行われる第2処理である。第2処理では低温であるため剥離した塗布膜の表面の粘性はなくなり、弾性率も高くなり付着し難い状態となる。又、発生したスラッジも表面の粘性はなくなり付着し難い状態となる。   Further, the coating film and sludge adhering to the inner wall of the processing tank, the stirring blade, and the rotating shaft are also firmly attached and difficult to remove as in the case of the support, and the working efficiency is remarkably lowered. Preventing such a state is the second process performed subsequent to the first process. In the second treatment, since the temperature is low, the surface of the peeled coating film is no longer viscous, and the elastic modulus is high, making it difficult to adhere. Also, the generated sludge is in a state where the surface has no viscosity and is difficult to adhere.

この様な状態で撹拌が行われることで、剥離した塗布膜同士が付着した塗布膜、塗布膜が剥離した支持体及び塗布膜、スラッジが付着した支持体は撹拌羽根及び支持体同士の衝突により剪断力が掛けられることで、支持体に付着していた塗布膜、スラッジは再剥離される。同時に剥離した塗布膜同士が付着した塗布膜の凝集固着が抑制され分離する。又、処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸に付着した塗布膜及びスラッジも支持体の衝突により剥離除去される。再剥離された塗布膜、スラッジは処理液の温度が低いため再付着することが無くなる。この様な状態で次工程に進むことで支持体と塗布膜、スラッジとの分離が容易になり、回収した支持体への混入も無くなり、記録材料の原料として再使用することが可能となる。   By stirring in such a state, the coating film where the peeled coating films are attached, the support and the coating film where the coating film is peeled off, and the support where the sludge is attached are caused by the collision between the stirring blades and the supports. By applying the shearing force, the coating film and sludge adhering to the support are peeled off again. At the same time, the agglomeration and fixation of the coating films to which the separated coating films adhere are suppressed and separated. Further, the coating film and sludge adhering to the inner wall of the treatment tank, the stirring blade, and the rotating shaft are also peeled and removed by the collision of the support. The re-peeled coating film and sludge are not reattached because the temperature of the treatment liquid is low. By proceeding to the next step in such a state, separation of the support from the coating film and sludge is facilitated, and mixing into the recovered support is eliminated and the recording material can be reused as a raw material.

処理後の処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸の清掃作業も容易になり大幅に作業効率が向上する。   Cleaning of the inner wall of the processing tank, the stirring blade, and the rotating shaft after processing becomes easy, and the working efficiency is greatly improved.

第1処理の温度が70℃未満の場合は、チップ状の記録材料からの塗布膜の剥離がし難くなり、処理時間が長くなること、及び塗布膜の残りが多くなるため好ましくない。95℃を越えた場合は、チップ状の記録材料に過剰に熱がかかり、ポリエステル樹脂支持体が熱により劣化するため好ましくない。   When the temperature of the first treatment is less than 70 ° C., it is difficult to peel the coating film from the chip-shaped recording material, and it is not preferable because the processing time becomes long and the remaining coating film increases. When the temperature exceeds 95 ° C., excessive heat is applied to the chip-shaped recording material, and the polyester resin support is deteriorated by heat, which is not preferable.

第1処理の時間が10min未満の場合は、チップ状の記録材料からの塗布膜の剥離が終わらないため、塗布膜の残りが多くなるため好ましくない。120minを越えた場合は、チップ状の記録材料のポリエステル樹脂支持体が加水分解により分解し、組成変化が生じるため好ましくない。   When the time of the first treatment is less than 10 minutes, the peeling of the coating film from the chip-shaped recording material does not end, and therefore, the remaining coating film is not preferable. Exceeding 120 min is not preferable because the polyester resin support of the chip-shaped recording material is decomposed by hydrolysis and changes in composition.

第2処理の温度が1℃未満の場合は、溶媒が凍結し撹拌が不良になり、無理に撹拌することでチップ状の記録材料に剪断力が掛かり、傷、ひび割れ等が発生するため好ましくない。35℃を越えた場合は、剥離した塗布膜が粘性を帯び、塗布膜がポリエステル樹脂支持体、処理槽の内壁、撹拌羽根に付着するため好ましくない。   When the temperature of the second treatment is less than 1 ° C., the solvent freezes and the stirring becomes poor, and it is not preferable because the shearing force is applied to the chip-shaped recording material and scratches, cracks, etc. occur due to excessive stirring. . When the temperature exceeds 35 ° C., the peeled coating film is viscous, and the coating film adheres to the polyester resin support, the inner wall of the treatment tank, and the stirring blade, which is not preferable.

第2処理の時間が5min未満の場合は、第1処理による加熱温度を十分に下げることが出来ないため、剥離した塗布膜に粘性が残り、塗布膜がポリエステル樹脂支持体、処理槽の内壁、撹拌羽根に付着するため好ましくない。120minを越えた場合は、必要以上にポリエステル樹脂支持体に剪断力を掛けることになり、傷、ひび割れ等が発生するため好ましくない。   When the time of the second treatment is less than 5 minutes, the heating temperature by the first treatment cannot be sufficiently lowered, so that the viscosity remains on the peeled coating film, the coating film is a polyester resin support, the inner wall of the treatment tank, Since it adheres to a stirring blade, it is not preferable. If it exceeds 120 min, a shearing force is applied to the polyester resin support more than necessary, and scratches, cracks and the like are generated, which is not preferable.

処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸への塗布膜、スラッジの付着を防止するために表面エネルギーを下げる様にすることが好ましく、このために処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸表面を耐熱離型被膜で被覆することで可能となる。   It is preferable to reduce the surface energy in order to prevent the coating film and sludge from adhering to the inner wall of the processing tank, the stirring blade, and the rotating shaft. For this purpose, the inner wall of the processing tank, the stirring blade, and the surface of the rotating shaft are heat resistant. It becomes possible by covering with a release coating.

使用する耐熱離型被膜としては、一般に使用されている耐熱離型被膜を使用することが可能であり、例えばテトラフルオロエチレン(TFE)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(3フッ化)(ECTFE)、ポリビニリデンフルオライド(2フッ化)(PVDF)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリエーテルサルホン(PES)、グラファイトライクカーボン(アモルファスグラファイト)(GLC)、ダイヤモンドライクカーボン(アモルファスダイヤモンド)(DLC)、SiC、TiN、TiCN、TiAl、TiCrN、CrN、SiO2、SiZrO4、ZrO2等が挙げられる。 As the heat-resistant release film to be used, a commonly used heat-resistant release film can be used, for example, tetrafluoroethylene (TFE), polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl. Vinyl ether copolymer (PFA), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (FEP), tetrafluoroethylene / ethylene copolymer (ETFE), polychlorotrifluoroethylene (trifluoride) (ECTFE), poly Vinylidene fluoride (difluoride) (PVDF), polyamideimide (PAI), polyethersulfone (PES), graphite-like carbon (GLC), diamond-like carbon (amorphous diamond) ) (DLC), SiC, TiN , TiCN, TiAl, TiCrN, CrN, SiO 2, SiZrO 4, ZrO 2 and the like.

これら耐熱離型被膜は一般的な方法で形成することが可能であり、例えば高温焼き付け法、電着法、常温スプレーコーティング等が挙げられる。   These heat-resistant release coatings can be formed by a general method, and examples thereof include a high temperature baking method, an electrodeposition method, and a room temperature spray coating.

この様に、処理液と接触する処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸を耐熱離型被膜で被覆することと、第2処理とを組み合わせることで更に、剥離した塗布膜、発生したスラッジの付着を防止することが可能となり、処理後の清掃が容易になり作業効率が向上する。   In this way, by coating the inner wall of the treatment tank, the stirring blade, and the rotating shaft that come into contact with the treatment liquid with the heat-resistant release coating, and the second treatment, the peeled coating film and the generated sludge are adhered. Can be prevented, cleaning after processing becomes easy, and work efficiency is improved.

処理槽で処理するチップ状の記録材料は外形サイズが0.1〜100mmの不定形であることが好ましい。外形サイズとは、チップ状の記録材料の中心(重心)から最も遠い角の頂点までの距離の2倍の長さを言う。外形サイズが0.1mm未満の場合は、図1に示す回収方法の各送液管の太さによっては、送液管が詰まる危険がある。100mmを越えた場合も同様に、図1に示す回収方法の各送液管の太さによっては、送液管が詰まる危険がある。又、アルカリ処理で撹拌が充分に出来なくなったり、伝熱効率が低下し塗布膜が残る場合がある。   The chip-shaped recording material to be processed in the processing tank is preferably indeterminate with an outer size of 0.1 to 100 mm. The external size means a length twice the distance from the center (center of gravity) of the chip-shaped recording material to the vertex of the farthest corner. When the outer size is less than 0.1 mm, there is a risk of clogging the liquid feeding pipe depending on the thickness of each liquid feeding pipe of the collection method shown in FIG. Similarly, when the length exceeds 100 mm, there is a risk of clogging of the liquid feeding pipe depending on the thickness of each liquid feeding pipe of the recovery method shown in FIG. In addition, the alkali treatment may not sufficiently stir, the heat transfer efficiency may decrease, and the coating film may remain.

処理装置1によりチップ状の記録材料102を加熱処理することにより、アルカリ性処理液103中には、剥離した塗布膜と、塗布膜が剥離した支持体と、一部の塗布膜が残った支持体と、発生したスラッジと、剥離した塗布膜及び発生したスラッジが付着した支持体等とを含む状態となる。本発明では、これらを全て含めて固形物と言う。   By subjecting the chip-shaped recording material 102 to heat treatment by the processing apparatus 1, in the alkaline processing liquid 103, the peeled coating film, the support from which the coating film has been peeled, and the support in which a part of the coating film remains. And the generated sludge, the peeled coating film, the support to which the generated sludge adheres, and the like. In the present invention, all of these are referred to as a solid material.

細断したチップ状の記録材料102としては、製造工程において発生する廃棄対象物(例えば、生産端材、製品検査過程で発生する品質不良品等)、使用済み品等が挙げられる。   Examples of the chopped chip-shaped recording material 102 include discarded objects (for example, production scraps, defective products generated in the product inspection process) generated in the manufacturing process, used products, and the like.

2は第1分離処理部を示し、ハイドロサイクロン201と、第1衝突型遠心脱水機202と、水切り手段203とを有している。水切り手段203としては特に限定はなく、例えばエアーサイクロン、スクリーンコンベア等が挙げられる。本図では、エアーサイクロンを使用した場合を示している。   Reference numeral 2 denotes a first separation processing unit, which includes a hydrocyclone 201, a first collision type centrifugal dehydrator 202, and a draining means 203. There is no limitation in particular as the draining means 203, For example, an air cyclone, a screen conveyor, etc. are mentioned. In this figure, the case where an air cyclone is used is shown.

201aはハイドロサイクロン201によりアルカリ性処理液より分離された固形物を受けるホッパーを示す。ハイドロサイクロン201と、第1衝突型遠心脱水機202と、エアーサイクロン203はいずれも市販のものを使用することが可能であり、処理量から適宜大きさを選択することが可能である。   Reference numeral 201a denotes a hopper that receives solids separated from the alkaline processing liquid by the hydrocyclone 201. Commercially available hydrocyclone 201, first collision type centrifugal dehydrator 202, and air cyclone 203 can be used, and the size can be appropriately selected from the processing amount.

第1分離処理部では、前工程のアルカリ性処理液から固形物を分離する工程である。第1化学処理部1からの固形物を含むアルカリ性処理液は、ハイドロサイクロン201の円柱部の201bの上部より、ハイドロサイクロンの円周方向の接線方向に10〜2500m/minの速度で導入することが好ましい。10m/min未満の場合は、ハイドロサイクロン本体中に渦流の発生が弱くなり、第1化学処理部から送られてくるアルカリ性処理液中の固形物の状態によっては分離が出来なくなる場合がある。2500m/minを越えた場合は、第1化学処理部から送られてくるアルカリ性処理液中の固形物の状態によっては、ハイドロサイクロンの下部のオリフィス201cに固形物が詰まり分離が出来なくなる場合がある。   The first separation processing unit is a step of separating solids from the alkaline processing liquid of the previous step. The alkaline processing liquid containing the solid matter from the first chemical processing unit 1 is introduced from the upper part of the cylindrical portion 201b of the hydrocyclone 201 at a speed of 10 to 2500 m / min in the circumferential tangential direction of the hydrocyclone. Is preferred. If it is less than 10 m / min, the generation of eddy currents in the hydrocyclone main body becomes weak, and separation may not be possible depending on the state of solids in the alkaline processing liquid sent from the first chemical processing unit. When it exceeds 2500 m / min, depending on the state of solids in the alkaline processing liquid sent from the first chemical processing unit, solids may be clogged in the orifice 201 c below the hydrocyclone and separation may not be possible. .

ハイドロサイクロン201に導入するときの固形分濃度は0.1〜2質量%になるようにアルカリ性処理液を水で希釈することが好ましい。0.1質量%未満の場合は、水を多量に使用することになり、生産性を悪くする原因のひとつになる場合がある。2質量%を越えた場合は、細断したチップ状の記録材料の大きさによってはハイドロサイクロンが詰まってしまう場合がある。   It is preferable to dilute the alkaline processing liquid with water so that the solid content concentration when introduced into the hydrocyclone 201 is 0.1 to 2% by mass. When the amount is less than 0.1% by mass, a large amount of water is used, which may be one of the causes of poor productivity. When the content exceeds 2% by mass, the hydrocyclone may be clogged depending on the size of the chip-shaped recording material.

ハイドロサイクロンの円周方向の接線方向に沿って導入されたアルカリ性処理液は、遠心力により固形物は、ハイドロサイクロン201のテーパー部201eを介してオリフィス201cよりホッパー201aに分離回収され、上部の排出口201dからは剥離した塗布膜と、発生したスラッジ等の一部を含むアルカリ処理液が排出される。   The alkaline treatment liquid introduced along the circumferential tangential direction of the hydrocyclone is separated and collected by the centrifugal force from the orifice 201c to the hopper 201a via the tapered portion 201e of the hydrocyclone 201, and the upper portion is discharged. From the outlet 201d, an alkaline treatment liquid containing a part of the peeled coating film and generated sludge or the like is discharged.

これら固形物から、支持体に再付着した塗布膜及びスラッジ、剥離した塗布膜、スラッジ等を分離除去するために、ホッパー201aから、水を加えて固形分濃度を0.1〜50質量%に調整し、第1衝突型遠心脱水機202の下部から導入される。   From these solids, in order to separate and remove the coating film and sludge reattached to the support, the peeled coating film, sludge, etc., water is added from the hopper 201a to a solid content concentration of 0.1 to 50% by mass. It is adjusted and introduced from the lower part of the first collision type centrifugal dehydrator 202.

第1衝突型遠心脱水機202に導入された溶液は互いに衝突しながら上部に移動する間に付着物の一部及び剥離した塗布膜、スラッジ等が下部202aより排出される。上部202bからは支持体(塗布膜が剥離された支持体と、一部の塗布膜が残った支持体と、剥離した塗布膜及びスラッジ等が付着した支持体等とを含む)、分離出来ずに残った剥離した塗布膜等が排出される。   While the solution introduced into the first collision type centrifugal dehydrator 202 moves to the upper part while colliding with each other, a part of the deposit and the peeled coating film, sludge and the like are discharged from the lower part 202a. From the upper part 202b, the support (including the support from which the coating film has been peeled off, the support from which a part of the coating film remains, and the support to which the peeled coating film and sludge are attached) cannot be separated. The peeled coating film and the like remaining on are discharged.

第1衝突型遠心脱水機202の上部202bから排出される支持体(塗布膜が剥離された支持体と、一部の塗布膜が残った支持体と、剥離した塗布膜及びスラッジ等が付着した支持体等とを含む)、分離出来ずに残った剥離した塗布膜等は水切り手段であるエアーサイクロンに導入され付着している水が除去される。   The support discharged from the upper part 202b of the first collision type centrifugal dehydrator 202 (the support from which the coating film was peeled off, the support from which a part of the coating film was left, the peeled coating film, sludge, and the like adhered. In addition, the peeled coating film remaining without being separated is introduced into an air cyclone serving as a draining means, and the adhering water is removed.

この段階で回収された固形物は、塗布膜が剥離された支持体と、一部の塗布膜が残った支持体と、剥離した塗布膜が再付着した支持体と、アルカリ性処理液により生じたスラッジ等が付着した支持体と、剥離した塗布膜と、アルカリ性処理液により生じたスラッジ等とが混入しているため、未だ記録材料の支持体に再利用出来る状態とはなっていない。   The solids collected at this stage were generated by the support from which the coating film was peeled off, the support from which a part of the coating film remained, the support from which the peeled coating film was reattached, and the alkaline processing liquid. Since the support to which sludge and the like are attached, the peeled coating film, and the sludge and the like generated by the alkaline processing liquid are mixed, it is not yet in a state where it can be reused for the support of the recording material.

3は第2分離処理部を示し、高剪断撹拌装置301と第2衝突型遠心脱水機302とを有している。高剪断撹拌装置301と第2衝突型遠心脱水機302はいずれも市販のものを使用することが可能であり、処理量に合わせ適宜大きさを選択することが可能である。   Reference numeral 3 denotes a second separation processing unit, which has a high shear stirring device 301 and a second collision type centrifugal dehydrator 302. Commercially available high shear agitator 301 and second collision type centrifugal dehydrator 302 can both be used, and the size can be appropriately selected in accordance with the processing amount.

第2分離処理部3は、第1分離処理部で回収された、剥離した塗布膜及びスラッジ等が付着している支持体から物理的な力により塗布膜及びスラッジ等の剥離と、剥離した塗布膜を細分化し除去し易くし支持体を分離する工程である。   The second separation processing unit 3 is configured to remove the coating film and sludge by the physical force from the support to which the separated coating film and sludge and the like collected by the first separation processing unit are attached. This is a step of subdividing the membrane to facilitate removal and separating the support.

第1分離処理部2で回収された固形物は、水により固形分濃度を0.1〜50質量%に調整し、高剪断撹拌装置301に入れられる。尚、高剪断撹拌装置301の機構及び処理条件は図2を参照して説明する。   The solid matter recovered by the first separation processing unit 2 is adjusted to a solid content concentration of 0.1 to 50% by mass with water, and is put into the high shear stirring device 301. The mechanism and processing conditions of the high shear stirring device 301 will be described with reference to FIG.

固形物は、高剪断撹拌装置301で高剪断力を掛けられて処理されることで、支持体に残っている塗布膜、付着していた塗布膜及びスラッジ等が剥離されと同時に細分化される。又、同様に分離せずに残っていた剥離した塗布膜、スラッジ等も高剪断力を掛けられて処理されることで細分化され、水と混合した溶液となる。   The solid matter is processed by applying a high shearing force with the high shear stirring device 301, so that the coating film remaining on the support, the coating film adhering thereto, sludge, etc. are peeled off and simultaneously subdivided. . Similarly, the peeled coating film, sludge and the like remaining without being separated are subdivided by being treated by applying a high shearing force to form a solution mixed with water.

この状態で第2衝突型遠心脱水機302に導入され処理されることで、支持体と塗布膜、スラッジ等が分離され、支持体が回収される。尚、第2衝突型遠心脱水機302から支持体を回収するときは、第1分離処理部に示した様なエアーサイクロンを介して回収してもかまわない。この段階で回収された支持体には、僅かな塗布膜、スラッジ等が付着している支持体と、細分化された塗布膜等が混入しているため、未だ記録材料の支持体に再利用出来る状態とはなっていない。第2衝突型遠心脱水機302の機構及び条件については図3で説明する。   In this state, the support is separated from the coating film, sludge, and the like by being introduced into the second collision type centrifugal dehydrator 302 and processed, and the support is recovered. When the support is recovered from the second collision type centrifugal dehydrator 302, the support may be recovered via an air cyclone as shown in the first separation processing unit. Since the support recovered at this stage contains a support with a small amount of coating film, sludge, etc., and a subdivided coating film, etc., it is still reused as a recording material support. It is not in a state where it can be done. The mechanism and conditions of the second collision type centrifugal dehydrator 302 will be described with reference to FIG.

4は第2分離処理部3より回収された支持体を記録材料の支持体に再利用出来る状態にする酸性処理液で処理する第2化学処理部を示す。401は、処理槽401aに入れられた、第2衝突型遠心脱水機302から回収した支持体402を、酸性処理液403で温度1〜95℃で攪拌機401bで撹拌しながら、支持体を処理する処理装置を示す。酸性処理液で処理ことにより、支持体402に付着している僅かな塗布膜、スラッジ、混入している微細な塗膜のバインダーが分解し、銀を硝酸銀として分離除去することが出来る状態となる。   Reference numeral 4 denotes a second chemical processing unit for processing the support recovered from the second separation processing unit 3 with an acidic processing solution that can be reused as a recording material support. 401, the support 402 collected from the second collision-type centrifugal dehydrator 302 placed in the treatment tank 401a is treated with the acidic treatment liquid 403 at a temperature of 1 to 95 ° C. with the stirrer 401b while the support is treated. A processing device is shown. By the treatment with the acidic treatment liquid, a slight coating film, sludge, and a fine coating film binder adhering to the support 402 are decomposed, and silver can be separated and removed as silver nitrate. .

酸性処理液で処理が終了した段階で回収された支持体は、異物の付着が無く、酸性処理液を分離することで記録材料の製造時に使用する支持体と同じ程度となっており、記録材料の支持体に再利用出来る状態となっている。   The support recovered at the stage where the treatment with the acidic processing liquid is completed has no adhesion of foreign matter, and is separated from the acidic processing liquid by the same level as the support used in the production of the recording material. It is in a state that can be reused for the support.

第2化学処理部で使用する酸性処理液としては特に限定は無く、例えば硝酸、ハロゲン化水素酸、硫酸等が挙げられ、特に硝酸、ハロゲン化水素酸が好ましい。酸性処理液の濃度は0.01〜10mol/Lが好ましい。0.01mol/L未満の場合は、バインダーの種類によっては塗膜のバインダーが分解せず、銀が溶液中に溶出しない場合がある。10mol/Lを越える場合は、設備に使用している材質によっては、腐食が進み生産に支障をきたす場合がある。   The acidic treatment liquid used in the second chemical treatment section is not particularly limited, and examples thereof include nitric acid, hydrohalic acid, sulfuric acid and the like, and nitric acid and hydrohalic acid are particularly preferable. The concentration of the acidic treatment liquid is preferably 0.01 to 10 mol / L. When it is less than 0.01 mol / L, the binder of the coating film may not be decomposed depending on the type of binder, and silver may not be eluted into the solution. If it exceeds 10 mol / L, depending on the material used in the equipment, corrosion may progress and hinder production.

5は水洗・乾燥部を示す。水洗・乾燥部5は、化学処理部4で酸性溶液で処理した支持体を分離、水洗し、乾燥する工程である。   Reference numeral 5 denotes a water washing / drying section. The water washing / drying unit 5 is a step of separating, washing, and drying the support treated with the acidic solution in the chemical treatment unit 4.

501は水洗装置を示し、502は乾燥装置を示す。水洗装置501は回収された支持体を効率良く洗浄出来れば装置には特に限定はなく、例えば撹拌機が付いた水洗槽でもよく、水洗水をシャワーで欠けながら回転可能なメッシュのドラム式容器等でも良い。乾燥装置で乾燥が終了した段階で、記録材料の支持体の原材料に再利用出来る状態の支持体の回収が終了する。   Reference numeral 501 denotes a water washing apparatus, and 502 denotes a drying apparatus. The washing apparatus 501 is not particularly limited as long as the recovered support can be efficiently washed. For example, the washing apparatus 501 may be a washing tank equipped with a stirrer, or a mesh drum type container that can be rotated while the washing water is lost in the shower. But it ’s okay. When the drying is completed by the drying apparatus, the recovery of the support that can be reused as the raw material of the recording material support is completed.

乾燥装置502も水洗装置501と同様に効率良く乾燥出来れば装置には特に限定はなく、例えば乾燥風を吹き付けながら回転可能なメッシュのドラム式容器等でも良い。   The drying device 502 is not particularly limited as long as the drying device 502 can be efficiently dried similarly to the water washing device 501, and may be, for example, a mesh drum type container that can be rotated while blowing drying air.

図1に示される、第1化学処理部、第1分離処理部、第2分離処理部、第2化学処理部、水洗・乾燥部はいずれもバッチ処理で行うことが好ましい。   It is preferable that all of the first chemical processing unit, the first separation processing unit, the second separation processing unit, the second chemical processing unit, and the water washing / drying unit shown in FIG.

次に、本発明に係る高剪断撹拌装置の機構及び処理条件に付き説明する。   Next, the mechanism and processing conditions of the high shear stirring apparatus according to the present invention will be described.

図2は図1の第2分離処理部の高剪断撹拌装置であるヘンシェルミキサーの概略図である。図2の(a)はヘンシェルミキサーの概略断面図である。図2の(b)はヘンシェルミキサーの下羽根の概略斜視図である。図2の(c)はヘンシェルミキサーの上羽根の概略斜視図である。   FIG. 2 is a schematic view of a Henschel mixer, which is a high shear stirring device of the second separation processing unit of FIG. FIG. 2A is a schematic cross-sectional view of a Henschel mixer. FIG. 2B is a schematic perspective view of the lower blade of the Henschel mixer. FIG. 2C is a schematic perspective view of the upper blade of the Henschel mixer.

第1分離処理部で回収した固形物から支持体のみを回収するためには、これらに高剪断力を掛け、支持体に残存している塗布膜、支持体に再付着している塗布膜及びスラッジ等を剥離し細分化して除去する、及び混入している塗布膜を細分化して除去することが一番効果的であることが検討の結果明らかになった。   In order to recover only the support from the solids recovered in the first separation processing unit, a high shear force is applied to these, and the coating film remaining on the support, the coating film reattached to the support, and As a result of the examination, it has become clear that it is most effective to peel and remove sludge and the like and to subtract and remove the mixed coating film.

支持体に残存している塗布膜は、アルカリ性処理液で処理が終了している段階で下塗り層にアルカリ性処理液が染み込んでいる状態であるため塗布膜に高剪断力を掛けることで剥離が促進され易い状態となっている。又、支持体に付着している塗布膜及びスラッジ等も高剪断力を掛けることで剥離が促進される。剥離された塗布膜、スラッジ等は高剪断力を掛けることで細分化され次の工程で支持体との分離がし易くなる。   The coating film remaining on the support is in a state in which the alkaline treatment liquid is infiltrated into the undercoat layer at the stage where the treatment with the alkaline treatment liquid has been completed, so peeling is promoted by applying a high shear force to the coating film. It is easy to be done. Moreover, peeling is promoted by applying a high shearing force to the coating film, sludge and the like adhering to the support. The peeled coating film, sludge and the like are subdivided by applying a high shearing force, and are easily separated from the support in the next step.

均等に高剪断力を掛ける最適な装置としてヘンシェルミキサー(三井鉱山株式会社製)が挙げられる。本図では高剪断撹拌装置としてヘンシェルミキサーを使用した場合に付き説明する。   A Henschel mixer (manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd.) can be cited as an optimal apparatus that applies a high shear force evenly. In this figure, a case where a Henschel mixer is used as a high shear stirring device will be described.

図中、301aはヘンシェルミキサーの有底円筒状の胴部を示し、301bは蓋部を示す。301cは回転軸を示し、301dは回転軸31cに取り付けられた下羽根を示し、301eは回転軸301cに取り付けられた上羽根を示す。回転軸が回転(図中の矢印方向)することで胴部301aの液体は2つの方向の流れが発生する。1つは下羽根301dの回転により下から上向きの流れ(図中の矢印方向)が発生する。他の1つは上羽根301eの回転により水平方向の流れ(図中の矢印方向)が発生する。処理液中に固形物が存在する場合、固形物は、一旦上向きの流れに乗り流れ、次に下向きの流れに乗り、上羽根に接触することで剪断力が掛けられる。この様な流れを発生させるヘンシェルミキサーで一定時間処理することで固形物毎に高剪断力が均一に掛けられることで、支持体に残存していた塗布膜、付着していた塗布膜及びスラッジ、分離せずに残っていた塗布膜が剥離されると同時に細断され細分化することで次の工程で分離が容易となる。   In the figure, 301a represents a bottomed cylindrical body of the Henschel mixer, and 301b represents a lid. 301c shows a rotating shaft, 301d shows the lower blade | wing attached to the rotating shaft 31c, 301e shows the upper blade | wing attached to the rotating shaft 301c. As the rotating shaft rotates (in the direction of the arrow in the figure), the liquid in the body 301a generates a flow in two directions. One is the upward flow from the bottom (in the direction of the arrow in the figure) due to the rotation of the lower blade 301d. The other is a horizontal flow (in the direction of the arrow in the figure) generated by the rotation of the upper blade 301e. When solids are present in the processing liquid, the solids are once subjected to an upward flow, and then are subjected to a downward flow and contact with the upper blade to be subjected to a shearing force. By applying a high shearing force uniformly to each solid matter by processing for a certain period of time with a Henschel mixer that generates such a flow, the coating film remaining on the support, the coating film and sludge that had adhered, When the coating film remaining without being separated is peeled off, it is shredded and subdivided to facilitate separation in the next step.

下羽根及び上羽根の形状は特に限定は無く、被撹拌物の種類と固形物の濃度とにより適宜選択することが可能である。   The shape of the lower blade and the upper blade is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the type of the object to be stirred and the concentration of the solid material.

ヘンシェルミキサー301における好ましい条件としては次の条件が挙げられる。固形分濃度は1〜70質量%が好ましい。1質量%未満の場合は、槽内旋回流が支配的となり、軸流が発生しなくなり、被撹拌物の種類と固形物の種類によっては上羽根による粉砕が出来なくなる場合がある。70質量%を越えた場合は、固形物の種類によっては、ブリッジを起こしやすくなり均一な撹拌が出来なくなる場合がある。   Preferred conditions in the Henschel mixer 301 include the following conditions. The solid content concentration is preferably 1 to 70% by mass. When the amount is less than 1% by mass, the swirl flow in the tank becomes dominant, the axial flow is not generated, and the pulverization by the upper blade may not be possible depending on the kind of the object to be stirred and the kind of the solid substance. If it exceeds 70% by mass, depending on the type of solid matter, bridging is likely to occur and uniform stirring may not be possible.

羽根の回転速度(羽根の先端の周速度)は10〜70m/secが好ましい。20m/sec未満では固形物毎に与える剪断力が小さくなり、付着した塗布膜及びスラッジの状態によっては剥離されなくなったり、剥離した塗布膜等が細分化しなくなる場合がある。70m/secを越えた場合は、塗布膜の種類によっては、剥離した塗布膜が撹拌に伴い温度が上昇し、塗膜中に使用しているバインダーの種類によっては粘性が上がり軟化し、剥離した塗膜が再び支持体に付着し、その後の工程で再付着した塗膜を剥離することが困難となる場合がある。   The rotation speed of the blade (the peripheral speed at the tip of the blade) is preferably 10 to 70 m / sec. If it is less than 20 m / sec, the shearing force applied to each solid matter becomes small, and depending on the state of the applied coating film and sludge, it may not be peeled off or the peeled coating film may not be fragmented. When it exceeds 70 m / sec, depending on the type of coating film, the temperature of the peeled coating film rises with stirring, and depending on the type of binder used in the coating film, the viscosity increases and softens and peels. The coating film may adhere to the support again, and it may be difficult to peel off the coating film that has been reattached in the subsequent steps.

時間は、10〜30分が好ましい。10分未満の場合は、塗布膜の種類及び付着している異物の状態によって剥離が終了しない場合がある。30分を越えた場合は、内部の温度が上昇し塗膜中に使用しているバインダーの種類によっては粘性が上がり軟化し、剥離した塗膜が再び支持体に付着し、その後の工程で再付着した塗膜を剥離することが困難となる場合がある。   The time is preferably 10 to 30 minutes. If it is less than 10 minutes, the peeling may not be completed depending on the type of coating film and the state of adhering foreign matter. If it exceeds 30 minutes, the internal temperature rises and the viscosity increases and softens depending on the type of binder used in the coating, and the peeled coating adheres to the support again. It may be difficult to peel off the attached coating film.

温度は、1〜40℃が好ましい。1℃未満の場合は、内容物の種類によっては部分的に凝固が生じ完全な流動が出来なくなる場合がある。40℃を越えた場合は、塗布膜の種類によっては、粘性を帯び始め支持体に再付着する場合がある。   The temperature is preferably 1 to 40 ° C. When the temperature is lower than 1 ° C., depending on the type of contents, solidification may occur partially and complete flow may not be possible. When it exceeds 40 ° C., depending on the type of coating film, it may start to become viscous and reattach to the support.

図3は図1に示す第2衝突型遠心脱水機の概略図である。図3の(a)は図1に示す第2衝突型遠心脱水機の概略断面図である。図3の(b)は衝突型遠心脱水機の概略平面図である。   FIG. 3 is a schematic view of the second collision type centrifugal dehydrator shown in FIG. FIG. 3A is a schematic sectional view of the second collision type centrifugal dehydrator shown in FIG. FIG. 3B is a schematic plan view of a collision type centrifugal dehydrator.

図中、302aは衝突型遠心脱水機の円筒状の外筒を示し、302bは外筒302aの内部に配設された回転ローターを示す。302cは円筒状の分離筒を示す。302dは回転ローター302bの駆動用のモータを示す。302c1は円筒状の分離筒302cに設けられた孔を示す。302b1は回転ローター302bの表面に取り付けられた撹拌羽根を示す。撹拌羽根は回転ローター302bが回転(図中の矢印方向)したとき、分離筒302cと回転ローター302bの外側との間隙303に供給口304から入れられた高剪断撹拌装置により処理された処理液が上方向の流れになるような角度で取り付けられている。回転ローター302bが回転することで遠心力が作用し、分離筒302cに設けられた孔からは支持体から剥離した塗布膜、スラッジ及び処理液が通過し除去され、支持体は通過しないで残り上部の排出口305から排出分離される。孔を通過した塗布膜、付着物が混入している処理液は外筒302aの下部の排出口306から排出される。孔302c1の大きさは、細断されたチップ状の記録材料の大きさに対して1/10〜1/2が好ましい。1/10未満の場合は、剥離した塗布膜の大きさ及び付着物の大きさによっては孔を通過しないで除去されない場合がある。1/2を越えた場合は、支持体の大きさによっては支持体が除去されてしまう場合がある。尚、細断されたチップ状の記録材料の大きさとは、細断されたチップ状の記録材料を100g取り、この中の各チップの最大長さを測定した平均値を示す。孔302c1の形状は特に限定はないが、円形が分離筒の清掃、強度維持、作りやすさの面から好ましい。   In the figure, 302a indicates a cylindrical outer cylinder of a collision type centrifugal dehydrator, and 302b indicates a rotating rotor disposed inside the outer cylinder 302a. 302c shows a cylindrical separation cylinder. Reference numeral 302d denotes a motor for driving the rotary rotor 302b. Reference numeral 302c1 denotes a hole provided in the cylindrical separation cylinder 302c. Reference numeral 302b1 denotes a stirring blade attached to the surface of the rotating rotor 302b. When the rotary rotor 302b is rotated (in the direction of the arrow in the figure), the stirring blade is fed with the processing liquid processed by the high shear stirring device inserted from the supply port 304 into the gap 303 between the separation cylinder 302c and the outside of the rotary rotor 302b. It is attached at an angle that results in upward flow. Centrifugal force is applied by rotating the rotating rotor 302b, and the coating film, sludge and treatment liquid peeled off from the support are removed from the holes provided in the separation cylinder 302c, and the support is not passed through the remaining upper portion. Is discharged and separated from the outlet 305 of the printer. The coating film and the treatment liquid mixed with the adhering material that have passed through the holes are discharged from the discharge port 306 at the lower part of the outer cylinder 302a. The size of the hole 302c1 is preferably 1/10 to 1/2 with respect to the size of the chip-shaped recording material cut into pieces. If it is less than 1/10, depending on the size of the peeled coating film and the size of the deposit, it may not be removed without passing through the hole. When the ratio exceeds 1/2, the support may be removed depending on the size of the support. Note that the size of the chip-shaped recording material that has been chopped indicates an average value obtained by measuring 100 g of the chip-shaped recording material that has been chopped and measuring the maximum length of each chip. The shape of the hole 302c1 is not particularly limited, but a circular shape is preferable from the viewpoints of cleaning the separation cylinder, maintaining strength, and making it easily.

分離筒302cに設けられた孔302c1の開口率(孔の総面積/分離筒の総表面積×100で表される値)は、10〜80%が好ましい。更に、30〜60%が好ましい。10%未満の場合は、処理液中の固形物濃度によっては分離に時間が掛かり、作業効率が悪くなる場合がある。80%を越えた場合は、分離筒の材質によっては強度が不足し、分離筒のメンテナンスに時間と費用が掛かり、生産効率が悪くなる場合がある。   The aperture ratio of the holes 302c1 provided in the separation cylinder 302c (the total area of the holes / total surface area of the separation cylinder × 100) is preferably 10 to 80%. Furthermore, 30 to 60% is preferable. If it is less than 10%, depending on the concentration of solids in the treatment liquid, it may take time to separate, and work efficiency may deteriorate. If it exceeds 80%, the strength may be insufficient depending on the material of the separation cylinder, and it may take time and cost for maintenance of the separation cylinder, resulting in poor production efficiency.

回転ローター302bの形状は高速回転が可能であるならば特に限定は無く、例えば円筒形、多角筒形等であってもかまわない。本図では円筒形の場合を示している。尚、第1分離処理部に使用している第1衝突型遠心脱水機も本図に示す第2衝突型遠心脱水機と同じ構造をしている。   The shape of the rotating rotor 302b is not particularly limited as long as it can rotate at high speed, and may be, for example, a cylindrical shape or a polygonal cylindrical shape. This figure shows a cylindrical shape. The first collision type centrifugal dehydrator used in the first separation processing unit has the same structure as the second collision type centrifugal dehydrator shown in the figure.

衝突型遠心脱水機に入れる処理液の量は、固形分濃度と衝突型遠心脱水機の大きさにより適宜決めることが可能である。回転ローターの回転速度(周速度)は、5〜40m/secが好ましい。5m/sec未満の場合、処理液中の塗布膜の一部が残った支持体、剥離した塗布膜、アルカリ性処理液処理により発生したスラッジ及び剥離した塗布膜が付着している支持体の大きさによっては、衝突型遠心脱水機内にて固形物の巻き上がりが生じず、これらの支持体同士の衝突がなくなり、塗布膜及びアルカリ性処理液処理により発生したスラッジ等が分離出来なくなる場合がある。40m/secを越えた場合は、ロータの羽根により支持体が破損され微細化が進むため、分離筒に設けられた孔の大きさによっては、微細化した支持体か除去され、回収率が大幅に低下する場合がある。   The amount of the processing liquid to be put into the collision type centrifugal dehydrator can be appropriately determined depending on the solid content concentration and the size of the collision type centrifugal dehydrator. The rotational speed (circumferential speed) of the rotating rotor is preferably 5 to 40 m / sec. In the case of less than 5 m / sec, the size of the support on which a part of the coating film in the treatment liquid remains, the peeled coating film, sludge generated by the alkaline treatment liquid treatment, and the peeled coating film are attached. Depending on the situation, solids do not roll up in the collision type centrifugal dehydrator, there is no collision between these supports, and sludge generated by the coating film and alkaline treatment liquid treatment may not be separated. If it exceeds 40 m / sec, the support is damaged by the blades of the rotor and miniaturization proceeds, so depending on the size of the hole provided in the separation cylinder, the refined support is removed and the recovery rate is greatly increased. May fall.

図1〜図3に示す方法を用いてポリエステル系樹脂支持体を用いた記録材料を細断しチップ状し支持体を回収する効果として次の効果が挙げられる。   The following effects can be mentioned as an effect of cutting the recording material using the polyester resin support by using the method shown in FIGS.

1)アルカリ性処理液による処理で剥離した塗布膜、発生したスラッジの支持体への再付着が無くなるため、回収された支持体の純度が高く、記録材料の支持体の原料(写真感光材料の支持体の原料)として再使用するとしてことが可能となった。   1) Since the coating film peeled off by the treatment with the alkaline processing liquid and the generated sludge are not reattached to the support, the purity of the recovered support is high, and the raw material of the support of the recording material (support of the photosensitive material) It can be reused as a body raw material).

2)純度の高い支持体の回収率の向上が可能となった。   2) The recovery rate of the support having high purity can be improved.

3)アルカリ性処理液による第1化学処理部以降の工程での処理が容易になり作業効率の向上が可能となった。   3) Processing in the processes after the first chemical processing section with the alkaline processing liquid is facilitated, and the working efficiency can be improved.

4)アルカリ性処理液による処理後の処理槽の清掃が容易になり作業効率の向上が可能となった。   4) The treatment tank after the treatment with the alkaline treatment liquid can be easily cleaned and the working efficiency can be improved.

5)再使用することが可能になったことに伴い、焼却処理又は埋め立て処理の必要が無くなり環境負荷を減少が可能となった。   5) Along with the fact that it can be reused, the need for incineration or landfilling is eliminated, and the environmental burden can be reduced.

本発明に係る支持体としては特に限定はなく、例えば特開2000−206646、同2001−290243、同2002−99063、同2002−116320、同2002−131872、同2002−250990、同2003−1774等に記載のものが挙げられる。   The support according to the present invention is not particularly limited. For example, JP 2000-206646, 2001-290243, 2002-99063, 2002-116320, 2002-131872, 2002-250990, 2003-1774, etc. The thing of description is mentioned.

本発明に係る、支持体を用いた記録材料としては、天然高分子バインダー及び合成高分子バインダーを使用して塗布膜を形成した記録材料のいずれも対象とすることが可能である。天然高分子バインダーを用いた記録材料としては、例えば医療用、印刷用、一般用のハロゲン化銀写真感光材料が挙げられる。   The recording material using the support according to the present invention can be any recording material in which a coating film is formed using a natural polymer binder and a synthetic polymer binder. Examples of the recording material using the natural polymer binder include medical, printing and general silver halide photographic light-sensitive materials.

本発明のポリエステル系樹脂支持体回収方法に適用する合成高分子バインダーを用いた記録材料としては、熱現像感光材料、放射線画像変換シート等が挙げられる。特に、特開平9−292671号、同9−304870号、同9−304871号、同9−304872号、同10−31282号、特開平10−62898号、特開平11−295844号、特開平11−352627号に開示されている熱現像感光材料が好ましい。   Examples of the recording material using the synthetic polymer binder applied to the polyester resin support recovery method of the present invention include a photothermographic material and a radiation image conversion sheet. In particular, JP-A-9-292671, JP-A-9-304870, JP-A-9-304871, JP-A-9-304882, JP-A-10-31282, JP-A-10-62898, JP-A-11-295844, and JP-A-11 The photothermographic material disclosed in Japanese Patent No. -352627 is preferred.

本発明において、支持体上に形成される塗布膜に用いる透明又は半透明の天然高分子、合成高分子バインダーとしては次のものが挙げられる。天然高分子バインダーとしては例えば:ゼラチン、アラビアゴム、カゼイン、デンプン等が挙げられる。合成高分子バインダーとしては例えば:ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメチルメタクリル酸、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセタール類(例えば、ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール)、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド類、ポリカーボネート類、ポリビニルアセテート、セルロースエステル類、ポリアミド類が広く用いられる。   In the present invention, examples of the transparent or translucent natural polymer and synthetic polymer binder used for the coating film formed on the support include the following. Examples of natural polymer binders include: gelatin, gum arabic, casein, starch and the like. Examples of synthetic polymer binders include: polyvinyl alcohol, hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, polymethyl methacrylic acid, polyvinyl chloride, polymethacrylic acid, styrene-maleic anhydride copolymer Styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, polyvinyl acetals (for example, polyvinyl formal and polyvinyl butyral), polyesters, polyurethanes, phenoxy resins, polyvinylidene chloride, polyepoxides, polycarbonates, polyvinyl acetate, Cellulose esters and polyamides are widely used.

塗布膜に用いるバインダーとしては、疎水性樹脂及び親水性樹脂のいずれでもよく、それぞれの適性に応じて使い分けられる。   As a binder used for a coating film, any of a hydrophobic resin and a hydrophilic resin may be used, and they are properly used according to their suitability.

好ましい疎水性樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、セルロースアセテート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂等が挙げられる。
以下、実施例を挙げて本発明の具体的な効果を示すが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
Preferable hydrophobic resins include polyvinyl butyral resin, cellulose acetate resin, cellulose acetate butyrate resin, polyester resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polyurethane resin, and vinyl chloride resin.
Hereinafter, although an example is given and the concrete effect of the present invention is shown, the mode of the present invention is not limited to this.

実施例1
(チップ状の記録材料の準備)
10mm×10mm(外形サイズ14mm)の大きさのチップ状の記録材料(コニカミノルタエムジー(株)製SD−P(熱現像感光材料)の半切サイズ)260kgを準備した。
Example 1
(Preparation of chip-shaped recording material)
A chip-shaped recording material having a size of 10 mm × 10 mm (outside size 14 mm) (a half-cut size of SD-P (photothermographic material) manufactured by Konica Minolta MG Co., Ltd.) (260 kg) was prepared.

〈支持体の回収〉
図1に示す方法に従って順次処理を行った。
<Recovery of support>
Processing was sequentially performed according to the method shown in FIG.

(アルカリ性処理液による処理条件の設定)
表1に示す様に処理温度、時間を変えた処理条件を設定し1−1〜1−26とした。
(Setting of processing conditions with alkaline processing liquid)
As shown in Table 1, the processing conditions with changing the processing temperature and time were set to 1-1 to 1-26.

Figure 2005131801
Figure 2005131801

(処理装置の準備)
内径50cm、高さ70cmのステンレス製の加熱ジャケット付きの処理槽を準備し、回転直径が処理槽の内径に対して40%、羽根を回転したときの回転容積が処理槽の処理液の容量に対して10%の6枚羽根のステンレス製の撹拌羽根を用い、処理槽の液面からの鉛直方向の距離が処理液の深さに対して0.3になるように回転軸に取り付け処理槽内に配設した。尚、処理液との接する処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸にはチッ化チタン(TiN)による耐熱離型被膜で被覆を行った。
(アルカリ処理液による処理及び処理済みアルカリ性処理液から支持体の回収)
処理槽に濃度1mol/Lの水酸化ナトリウム溶液100Lを入れ、準備したチップ状の記録材料(SD−P)を入れ撹拌し、表1に示す各処理条件により処理を行った。尚、各処理は準備したチップ状の記録材料(SD−P)の内、各10kgとした。撹拌は、撹拌速度(撹拌羽根の周速度)5m/secで撹拌した。処理後、各処理済みアルカリ性処理液を図1に示す第1分離部、第2分離部、酸性処理液による処理、水洗、乾燥を行い支持体を回収し、試料101〜126とした。
(Preparation of processing equipment)
A treatment tank with a stainless steel heating jacket with an inner diameter of 50 cm and a height of 70 cm is prepared. The rotation diameter is 40% of the inner diameter of the treatment tank, and the rotation volume when the blade is rotated is the capacity of the treatment liquid in the treatment tank. The processing tank is attached to the rotary shaft so that the vertical distance from the liquid level of the processing tank is 0.3 with respect to the depth of the processing liquid, using a stainless steel stirring blade of 10% blades. Arranged inside. In addition, the inner wall of the treatment tank in contact with the treatment liquid, the stirring blade, and the rotating shaft were coated with a heat-resistant release film made of titanium nitride (TiN).
(Treatment of support from alkaline treatment liquid and treated alkaline treatment liquid)
100 L of a sodium hydroxide solution having a concentration of 1 mol / L was placed in a treatment tank, the prepared chip-shaped recording material (SD-P) was stirred, and the treatment was performed under the treatment conditions shown in Table 1. Each treatment was 10 kg each of the prepared chip-shaped recording material (SD-P). Stirring was performed at a stirring speed (circumferential speed of stirring blades) of 5 m / sec. After the treatment, each of the treated alkaline treatment liquids was treated with a first separation part, a second separation part, an acidic treatment liquid, washed with water, and dried as shown in FIG.

〈第1分離部による分離処理〉
(ハイドロサイクロンによる分離)
図1に示すハイドロサイクロンを使用し、処理済みのアルカリ性処理液から固形物の分離を行った。使用したハイドロサイクロンは、円柱部長さ0.45m、円柱部内径0.3m、円錐部の長さ0.45m、円錐部テーパー度15%、オリフィス部内径5cmのものを使用し、ハイドロサイクロンの上部より、ハイドロサイクロンの円周接線方向に、流速100m/minの速度で処理済みのアルカリ性処理液を導入し処理を行った。
(第1衝突型遠心脱水機による分離)
ハイドロサイクロンにより各処理済みアルカリ性処理液から分離された固形物に、更に水を加え固形分濃度を50質量%に調整し、図1、図3に示す第1衝突型遠心脱水機の下部より、流速5m/minの速度で混合液を導入し、不要物の一部を分離した。尚、使用した第1衝突型遠心脱水機は、外筒直径0.4m、高さ1.5m、回転ローターの直径0.3m、直径1.5mのものを使用し、回転速度(回転周速)は15m/secで行った。尚、分離筒は、直径2mm(チップ状のSD−Pの大きさ(外形サイズ)に対して約1/5)の円形の孔が3mm間隔でチドリ状に配列し開孔率40%のものを使用した。
(エアーサイクロンによる水分、その他付着物等の分離)
第1衝突型遠心脱水機の上部より、各処理済みアルカリ性処理液から分離して排出されてくる固形物をエアーサイクロンにより、付着している水分、その他付着物を分離した。
<Separation process by the first separation unit>
(Separation by hydrocyclone)
The hydrocyclone shown in FIG. 1 was used to separate solids from the treated alkaline processing liquid. The hydrocyclone used has a cylindrical part length of 0.45 m, a cylindrical part inner diameter of 0.3 m, a conical part length of 0.45 m, a conical part taper degree of 15%, and an orifice inner diameter of 5 cm. Thus, the treated alkaline treatment liquid was introduced into the hydrocyclone in the circumferential tangential direction at a flow rate of 100 m / min.
(Separation by the first collision type centrifugal dehydrator)
From the lower part of the first collision type centrifugal dehydrator shown in FIGS. 1 and 3, water is further added to the solid matter separated from each treated alkaline treatment liquid by the hydrocyclone to adjust the solid content concentration to 50 mass%. The mixed solution was introduced at a flow rate of 5 m / min to separate a part of the unnecessary matter. The first impingement type centrifugal dehydrator used has an outer cylinder diameter of 0.4 m, a height of 1.5 m, and a rotating rotor with a diameter of 0.3 m and a diameter of 1.5 m. ) Was performed at 15 m / sec. The separation cylinder has a circular hole with a diameter of 2 mm (about 1/5 of the size (outside size) of the chip-shaped SD-P) arranged in a plover shape at intervals of 3 mm, and has an opening rate of 40%. It was used.
(Separation of moisture and other deposits by air cyclone)
From the upper part of the first collision type centrifugal dehydrator, the solid matter separated from each treated alkaline treatment liquid and discharged was separated by air cyclone from the adhering moisture and other deposits.

〈第2分離処理部による固形物から塗布膜、スラッジ等の分離〉
第1分離処理部により分離された固形物から、支持体に残存している塗布膜、付着しているスラッジ及び塗布膜、分離せずに残っている剥離した塗布膜等を除去するために図1に示される第2分離処理部による処理を行った。
<Separation of coating film, sludge, etc. from solids by the second separation processing unit>
In order to remove the coating film remaining on the support, the adhering sludge and coating film, the separated coating film remaining without separation, and the like from the solid separated by the first separation processing unit. The process by the 2nd separation process part shown by 1 was performed.

(高剪断撹拌装置による混合)
高剪断撹拌装置としてはヘンシェルミキサー(三井鉱山株式会社製FM20C/L、上羽根はYi羽根、下羽根はSo羽根)を使用した。分離された固形物を図1、図2に示されるヘンシェルミキサーによる処理を行うため、固形分濃度が50質量%になるように水を加えて調整した。調製した処理液を、羽根の回転速度(羽根の先端の周速度)は40m/sec、温度30℃で10分間ヘンシェルミキサーによる処理を行った。
(第2衝突型遠心脱水機による分離)
ヘンシェルミキサーにより混合された混合液を、図1、図3に示す第2衝突型遠心脱水機の下部より、流速5m/minの速度で混合液を導入し、固形物より支持体の分離を行った。尚、使用した第2衝突型遠心脱水機は、第1衝突型遠心脱水機と同じ物を使用し、同じ条件で処理した。
(Mixing with high shear stirrer)
A Henschel mixer (FM20C / L manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd., the upper blade is Yi blade, and the lower blade is So blade) was used as the high shear stirring device. In order to process the separated solid matter using the Henschel mixer shown in FIGS. 1 and 2, water was added to adjust the solid concentration to 50% by mass. The treatment liquid thus prepared was treated with a Henschel mixer at a blade rotation speed (peripheral speed at the tip of the blade) of 40 m / sec and a temperature of 30 ° C. for 10 minutes.
(Separation by the second collision type centrifugal dehydrator)
The mixed solution mixed by the Henschel mixer is introduced from the lower part of the second collision type centrifugal dehydrator shown in FIGS. 1 and 3 at a flow rate of 5 m / min to separate the support from the solid matter. It was. The second collision-type centrifugal dehydrator used was the same as the first collision-type centrifugal dehydrator and was processed under the same conditions.

(酸性溶液による処理)
第2衝突型遠心脱水機により分離された固形物(支持体)から異物を除去するために濃度5mol/Lの硝酸溶液により、温度50℃で、60分間処理した後、水洗処理・乾燥を行った。
(Treatment with acidic solution)
In order to remove foreign matter from the solid matter (support) separated by the second collision type centrifugal dehydrator, it was treated with a 5 mol / L nitric acid solution at a temperature of 50 ° C. for 60 minutes, followed by washing with water and drying. It was.

(評価)
得られた各試料101〜126に付き、分子量測定、着色度測定、異物付着観察を行い、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表2に示す。尚、分子量測定は柴山科学機械製作所製粘度測定器SS−270LC−1を用いて測定し、得られた粘度から換算した。着色度測定は、各試料を使用し、日精樹脂工業(株)製射出成型機AU3Eを用いて、厚さ0.5mmのプレートを作製した。それぞれのプレートを(株)日立製作所製分光光度計U−3210を用いて測定した。
(Evaluation)
The obtained samples 101 to 126 are subjected to molecular weight measurement, coloring degree measurement, and foreign matter adhesion observation, and the results of evaluation according to the following evaluation rank are shown in Table 2. The molecular weight was measured using a viscosity measuring device SS-270LC-1 manufactured by Shibayama Scientific Machinery Co., Ltd. and converted from the obtained viscosity. For the coloring degree measurement, each sample was used, and a 0.5 mm thick plate was prepared using an injection molding machine AU3E manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd. Each plate was measured using a spectrophotometer U-3210 manufactured by Hitachi, Ltd.

分子量の評価ランク
○:基準試料に対する差が10%未満
△:基準試料に対する差が10〜30%未満
×:基準試料に対する差が30%以上
尚、評価に使用した基準試料には、製膜直後の支持体を使用した。
Evaluation rank of molecular weight ○: Difference from the reference sample is less than 10% Δ: Difference from the reference sample is less than 10 to 30% ×: Difference from the reference sample is 30% or more Note that the reference sample used for the evaluation is immediately after film formation The support was used.

着色度の評価ランク
○:基準試料に対する差が3%未満
△:基準試料に対する差が3〜5%未満
×:基準試料に対する差が5%以上
尚、評価に使用した基準試料には、製膜直後の支持体を細断し、各試料と同様に日精樹脂工業(株)製射出成型機AU3Eを用いて、厚さ0.5mmのプレートを作製した物を使用した。
Evaluation rank of coloring degree ○: The difference with respect to the reference sample is less than 3% △: The difference with respect to the reference sample is less than 3-5% ×: The difference with respect to the reference sample is 5% or more Immediately after the support was chopped, a product with a 0.5 mm thick plate was used using an injection molding machine AU3E manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd. in the same manner as each sample.

異物付着観察
各試料101〜126につき、各10gを任意サンプリングし、目視により異物付着の有無を確認した。
Observation of foreign matter 10 g of each sample 101 to 126 was sampled arbitrarily, and the presence or absence of foreign matter was confirmed visually.

異物付着の評価ランク
○:回収した支持体の全てに異物付着が認められない
△:回収した支持体の1枚に直径0.1mm程度の大きさの異物が1〜4個付着している
×:回収した支持体の1枚に直径0.1mm程度の大きさの異物が5個以上付着している
Evaluation rank of foreign matter adhesion ○: No foreign matter adhesion is observed on all the collected supports Δ: One to four foreign matters having a diameter of about 0.1 mm are attached to one of the collected supports × : Five or more foreign matters having a diameter of about 0.1 mm are attached to one of the collected supports.

Figure 2005131801
Figure 2005131801

以上の結果より、使用前のPETと同じ純度の支持体が回収されたことが確認され、本発明の有効性が確認された。   From the above results, it was confirmed that a support having the same purity as that of PET before use was recovered, and the effectiveness of the present invention was confirmed.

実施例2
(処理装置の準備)
実施例1で試料121を作製するときに処理装置の処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸に表3に示す様に耐熱離型被膜で被覆を行い2−1〜2−5とした。尚、耐熱離型被膜で被覆を行わない他は全て同じ条件の処理装置を準備し比較処理装置2−6とした。
Example 2
(Preparation of processing equipment)
When the sample 121 was produced in Example 1, the inner wall of the treatment tank of the treatment apparatus, the stirring blade, and the rotating shaft were coated with a heat-resistant release coating as shown in Table 3 to obtain 2-1 to 2-5. In addition, except not covering with a heat-resistant release film, the processing apparatus of the same conditions was prepared and it was set as the comparison processing apparatus 2-6.

Figure 2005131801
Figure 2005131801

a:PTFE
b:PES
c:DLC
d:TiN
e:SiZrO4
(処理装置の清掃)
表3に示す処理装置を使用した他は全て実施例1の試料121を作製した条件と同じ条件でアルカリ処理液による処理を行った後、処理槽を空にして処理槽の内壁、撹拌羽根、回転軸の清掃を行い、清掃するに要した時間を表4に示す。尚、清掃は常温の流水とナイロンブラシを用いて手作業で行った。
a: PTFE
b: PES
c: DLC
d: TiN
e: SiZrO 4
(Cleaning of processing equipment)
Except for using the processing apparatus shown in Table 3, after performing the treatment with the alkaline treatment liquid under the same conditions as the sample 121 of Example 1, the treatment tank was emptied, the inner wall of the treatment tank, the stirring blade, Table 4 shows the time required for cleaning the rotating shaft. The cleaning was performed manually using normal temperature running water and a nylon brush.

Figure 2005131801
Figure 2005131801

以上の結果より、耐熱離型被膜で被覆する効果が確認され、本発明の有効性が確認された。   From the above results, the effect of covering with the heat-resistant release coating was confirmed, and the effectiveness of the present invention was confirmed.

実施例3
実施例1の試料121を作製するときに、チップ状の記録材料(SD−P)の大きさを表5に示す様な外形サイズを使用した他は全て同じ条件で処理し支持体の回収し試料301〜307とした。
Example 3
When the sample 121 of Example 1 was manufactured, the chip-shaped recording material (SD-P) was processed under the same conditions except that the outer size as shown in Table 5 was used, and the support was recovered. Samples 301 to 307 were used.

(評価)
得られた各試料301〜307に付き、分子量測定、着色度測定、異物付着観察を実施例1と同じ方法で行い、実施例1と同じ評価ランクに従って評価した結果を表5に示す。
(Evaluation)
Table 5 shows the results obtained by performing molecular weight measurement, coloring degree measurement, and foreign material adhesion observation on the obtained samples 301 to 307 in the same manner as in Example 1 and evaluating according to the same evaluation rank as in Example 1.

Figure 2005131801
Figure 2005131801

以上の結果より、使用前のPETと同じ純度の支持体が回収されたことが確認され、本発明の有効性が確認された。   From the above results, it was confirmed that a support having the same purity as that of PET before use was recovered, and the effectiveness of the present invention was confirmed.

支持体の回収方法の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the collection | recovery method of a support body. 図1の第2分離処理部の高剪断撹拌装置であるヘンシェルミキサーの概略図である。It is the schematic of the Henschel mixer which is a high shear stirring apparatus of the 2nd separation process part of FIG. 図1に示す第2衝突型遠心脱水機の概略図である。It is the schematic of the 2nd collision type centrifugal dehydrator shown in FIG. 写真感光材料の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of a photographic photosensitive material.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1化学処理部
101、401 処理装置
101a 処理槽
101a1 底面
101b2 回転軸
101b3 撹拌羽根
2 第1分離処理部
201 ハイドロサイクロン
202 第1衝突型遠心脱水機
3 第2分離処理部
301 高剪断撹拌装置
302 第2衝突型遠心脱水機
4 第2化学処理部
5 水洗・乾燥部
501 水洗装置
502 乾燥装置
6 写真感光材料
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st chemical processing part 101,401 Processing apparatus 101a Processing tank 101a1 Bottom face 101b2 Rotating shaft 101b3 Stirring blade 2 First separation processing part 201 Hydrocyclone 202 First collision type centrifugal dehydrator 3 Second separation processing part 301 High shear stirring apparatus 302 Second collision type centrifugal dehydrator 4 Second chemical treatment section 5 Water washing / drying section 501 Water washing apparatus 502 Drying apparatus 6 Photosensitive material

Claims (4)

ポリエステル系樹脂支持体上に少なくとも1層の塗布膜を有するチップ状の記録材料を撹拌装置を用いて処理槽中でアルカリ性処理液により処理し、該アルカリ性処理液から該ポリエステル系樹脂支持体を分離した後、前記ポリエステル系樹脂支持体を回収するポリエステル系樹脂支持体回収方法において、
該アルカリ性処理液による処理が、温度70〜95℃、時間10〜120minの第1処理と、温度1〜35℃、時間5〜120minの第2処理との2段階で処理することを特徴とするポリエステル系樹脂支持体回収方法。
A chip-shaped recording material having at least one coating film on a polyester resin support is treated with an alkaline treatment liquid in a treatment tank using a stirrer, and the polyester resin support is separated from the alkaline treatment liquid. Then, in the polyester resin support recovery method of recovering the polyester resin support,
The treatment with the alkaline treatment liquid is performed in two stages of a first treatment at a temperature of 70 to 95 ° C. and a time of 10 to 120 min and a second treatment at a temperature of 1 to 35 ° C. and a time of 5 to 120 min. Polyester-based resin support recovery method.
前記処理槽は、内面が耐熱離型被膜で被覆されていることを特徴とする請求項1に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。 The polyester resin support recovery method according to claim 1, wherein an inner surface of the treatment tank is coated with a heat-resistant release film. 前記塗布膜が天然高分子系バインダー又は合成高分子系バインダーを使用していることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。 The method for recovering a polyester resin support according to claim 1 or 2, wherein the coating film uses a natural polymer binder or a synthetic polymer binder. 前記チップ状の記録材料は、外形サイズが0.1〜100mmの不定形であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。 The polyester-based resin support recovery method according to any one of claims 1 to 3, wherein the chip-shaped recording material is an indeterminate shape having an outer size of 0.1 to 100 mm.
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