JP2005111329A - Washing apparatus - Google Patents

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Nagayasu Kikuchi
長保 菊地
Takashi Yoshida
隆司 吉田
Motoaki Iwasaki
元明 岩崎
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a washing apparatus capable of altering the distance of a solvent jet nozzle and the surface of an article to be washed corresponding to a change in plate thickness. <P>SOLUTION: In the washing apparatus constituted so that at least two solvent jet nozzles are supported by a support member and moved to the surface of the article to be washed at the time of washing but allowed to retreat from the article to be washed at the time of non-washing, at least one of the solvent jet nozzles can be moved in the direction vertical to the surface of the article to be washed. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

この発明は、ハードディスクの媒体やシリコンウエハー等の表面上の微細な粒子や有機物を洗浄して除去する洗浄装置に関するものである。   The present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning and removing fine particles and organic substances on the surface of a medium of a hard disk, a silicon wafer or the like.

ハードディスクの媒体やシリコンウエハーあるいは液晶ディスプレイ等を加工するガラス板などは、表面の凹凸を最小限にし、また微細加工する関係上その表面を完全に洗浄して、微細な粒子や有機物が残存しないようにしなければならない。   For glass plates that process hard disk media, silicon wafers, or liquid crystal displays, etc., the surface irregularities are minimized, and the surface is thoroughly cleaned so that fine particles and organic substances do not remain due to microprocessing. Must be.

このようなシリコンウエハーなどの表面を洗浄する先行文献としては次のようなものがある。   The following is a prior art document for cleaning the surface of such a silicon wafer.

特開2003−1208号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-1208

図4は上記公報に記載された洗浄装置の構成図である。図において、11は溶媒としてのCOが入れられたボンベであり、その内部のCOは温度Tの液体部分111と圧力Pの気体部分112に分かれている。12はボンベ11を一定温度に保温するヒータである。 FIG. 4 is a configuration diagram of the cleaning apparatus described in the above publication. In the figure, 11 is a cylinder which CO 2 has been placed as a solvent, CO 2 therein is divided into a gas portion 112 of the liquid portion 111 and the pressure P 0 of the temperature T. Reference numeral 12 denotes a heater for keeping the cylinder 11 at a constant temperature.

13は気体COを外部に取り出す導管。14は導管13の途中に設置された圧力計であり、導管13内の圧力を測定する。この圧力は気体部分112の圧力Pと同じである。15は導管13に取り付けられたバルブである。16はラインフィルタ、17はエアオペレート弁で、いずれも導管13に取り付けられている。また、COボンベ11、ラインフィルタ16、エアオペレート弁17は図示の順に取り付けられている。 13 is a conduit for extracting gaseous CO 2 to the outside. 14 is a pressure gauge installed in the middle of the conduit 13 and measures the pressure in the conduit 13. This pressure is the same as the pressure P 0 of the gas portion 112. A valve 15 is attached to the conduit 13. Reference numeral 16 is a line filter, and 17 is an air operated valve, both of which are attached to the conduit 13. Further, the CO 2 cylinder 11, the line filter 16, and the air operated valve 17 are attached in the order shown.

19は被洗浄物であるハードディスク媒体で、スピンドル20によって回転させられる。18はノズルであり、被洗浄物19と所定のギャップdだけ離して取り付けられている。ノズル18は2重管になっており、内側の管には導管13により導かれた気体COが、外側の管にはNガスが通される。21は赤外線ヒータであり、被洗浄物19を加熱する。22はNガスを噴射するパージ管である。 A hard disk medium 19 is an object to be cleaned and is rotated by a spindle 20. Reference numeral 18 denotes a nozzle which is attached to the object to be cleaned 19 by a predetermined gap d. The nozzle 18 is a double pipe, and gas CO 2 guided by the conduit 13 is passed through the inner pipe, and N 2 gas is passed through the outer pipe. Reference numeral 21 denotes an infrared heater that heats the object 19 to be cleaned. Reference numeral 22 denotes a purge pipe for injecting N 2 gas.

図4において、圧力計14により導管13内の圧力を測定して、この圧力が一定になるようにヒータ12を制御する。ボンベ11内はCOの液体と気体が共存しているので、気体部分112の圧力Pは液体部分111の温度Tにおける飽和蒸気圧になっている。液温と飽和蒸気圧との間には1対1の関係があるので、ヒータ12によって液体部分111の温度を制御することにより、飽和蒸気圧すなわち導管13の圧力を制御することができる。例えば、液温を22℃に制御すると、飽和蒸気圧は6.0MPaになる。 In FIG. 4, the pressure in the conduit 13 is measured by the pressure gauge 14, and the heater 12 is controlled so that this pressure becomes constant. Since CO 2 liquid and gas coexist in the cylinder 11, the pressure P 0 of the gas portion 112 is a saturated vapor pressure at the temperature T of the liquid portion 111. Since there is a one-to-one relationship between the liquid temperature and the saturated vapor pressure, the saturated vapor pressure, that is, the pressure in the conduit 13 can be controlled by controlling the temperature of the liquid portion 111 with the heater 12. For example, when the liquid temperature is controlled to 22 ° C., the saturated vapor pressure becomes 6.0 MPa.

このような構成によれば、溶媒(CO)の気体をラインフィルタに通してごみなどの粒子を除去し、ノズルから噴射して固体粒子または液滴に変換して被洗浄物に噴射して粒子または有機物を洗浄することができる。また、ノズルと被洗浄物の間のギャップを制御することにより、溶媒を固体粒子または液滴状にできるので、汚れの程度に応じて最適の溶媒の状態を選択することができる。 According to such a configuration, the solvent (CO 2 ) gas is passed through the line filter to remove particles such as dust, and is ejected from the nozzle to be converted into solid particles or liquid droplets and ejected onto the object to be cleaned Particles or organics can be washed. Further, since the solvent can be made into solid particles or droplets by controlling the gap between the nozzle and the object to be cleaned, the optimum solvent state can be selected according to the degree of contamination.

図5はこのような洗浄装置の他の一例を示す要部構成図である。図において、2点鎖線で囲ったA部は保温室であり、図では省略するが断熱材を用いて外部との熱の交換を防いでいる。この保温室にはヒータブロック4、フィルター3、支持部材2が格納されている。1はNガスを噴射するパイプであり、一端は閉塞され他端は支持部材2に固定されている。 FIG. 5 is a main part configuration diagram showing another example of such a cleaning apparatus. In the figure, part A surrounded by a two-dot chain line is a warming room, and although not shown in the figure, heat exchange with the outside is prevented by using a heat insulating material. A heater block 4, a filter 3, and a support member 2 are stored in this warm room. Reference numeral 1 denotes a pipe for injecting N 2 gas. One end is closed and the other end is fixed to the support member 2.

支持部材2には分岐孔2aが形成されており、この分岐孔の両端に2本のパイプ1の他端が気密に固定されている。分岐孔2aの所定の箇所にはフィルター3の出口に連結する配管3aが接続されている。ヒータブロック4の入口にはNガスを導入する配管4aが接続され、出口にはフィルター3の入口と連結する配管4bが接続されている。 A branch hole 2a is formed in the support member 2, and the other ends of the two pipes 1 are airtightly fixed to both ends of the branch hole. A pipe 3a connected to the outlet of the filter 3 is connected to a predetermined portion of the branch hole 2a. A pipe 4 a for introducing N 2 gas is connected to the inlet of the heater block 4, and a pipe 4 b connected to the inlet of the filter 3 is connected to the outlet.

ガスを導入する配管4aには2方からNガスが流入するように形成されており、一方の常時導入管6aの入口からは常時低流量のNガスが流入し、他方の噴射時導入管6bからは洗浄時にエアオペレート弁5を介して比較的に大容量のNガスが流入する構成となっている。 The pipe 4a for introducing the N 2 gas is formed as N 2 gas flows from the two-way, from the entrance of one of the continuously introducing pipe 6a flows is N 2 gas constantly low flow, the other injection A relatively large volume of N 2 gas flows from the hour introduction pipe 6b through the air operated valve 5 during cleaning.

8は棒状のCO溶媒噴射ノズルで、例えば長さ50mm,一辺が15mm程度の熱容量の大きな金属ブロックで構成されており、一端が支持部材2に固定され、他端には例えば0.3mm程度の噴出穴8’が形成されている。この溶媒噴射ノズル8は図では省略するが被洗浄物19を挟んで2本取り付けられており両面を同時に洗浄するようになっている。 8 is a rod-like CO 2 solvent spray nozzle, which is composed of a metal block having a large heat capacity, for example, a length of 50 mm and a side of about 15 mm. One end is fixed to the support member 2 and the other end is, for example, about 0.3 mm. No. 8 'is formed. Although two solvent injection nozzles 8 are not shown in the drawing, they are attached with an object to be cleaned 19 interposed therebetween, and both surfaces are cleaned simultaneously.

2点鎖線で囲った保温室A内の支持部材2、フィルター3、ヒータブロック4、CO噴射手段8およびパイプ1は一体として駆動される。この保温室Aは被洗浄物19を洗浄するに際しては矢印B方向に移動し被洗浄物をシークする。そして、シークに合わせて被洗浄物に対して噴出孔8aからCOを噴射させる。このCO噴射のタイミングに同期してエアオペレート弁が開となり、噴射時導入管6bから大流量のNガスが噴出する。 The support member 2, the filter 3, the heater block 4, the CO 2 injection means 8 and the pipe 1 in the warming room A surrounded by the two-dot chain line are driven as a unit. When the object to be cleaned 19 is cleaned, the chamber A moves in the direction of arrow B and seeks the object to be cleaned. Then, the CO 2 is injected from the injection holes 8a against the object to be cleaned in accordance with the seek. The air operated valve is opened in synchronization with the timing of CO 2 injection, and a large flow of N 2 gas is ejected from the introduction pipe 6b during injection.

洗浄が終了すると保温室Aは被洗浄物の取付け取り外しのために矢印B方向に退避する。パイプ1には退避時においても常時導入管6a→ヒータブロック4→フィルター3→支持部材2を通って所定の温度に加熱された小流量のNガスが噴出しており、パイプ1自身を所定温度に維持している。 When cleaning is completed, the greenhouse A is withdrawn in the direction of the arrow B in order to attach and remove the object to be cleaned. Even when the pipe 1 is retracted, a small flow rate of N 2 gas heated to a predetermined temperature is ejected through the introduction pipe 6a → the heater block 4 → the filter 3 → the support member 2 and the pipe 1 itself is predetermined. Maintaining temperature.

ところで、上記従来の洗浄装置においては棒状の2本のCO溶媒噴射ノズル8が被洗浄物19を挟んで支持部材2に固定されている。
図6はこのような溶媒噴射ノズル8を固定した状態を示すものである。図において、2本の溶媒噴射ノズル8,8は被洗浄物19の厚さよりわずかに厚い(例えば1.0mm)スペーサ9を挟んで支持部材2に溶接などにより固定されている。
By the way, in the conventional cleaning apparatus, two rod-like CO 2 solvent spray nozzles 8 are fixed to the support member 2 with the object to be cleaned 19 interposed therebetween.
FIG. 6 shows a state in which such a solvent injection nozzle 8 is fixed. In the figure, the two solvent spray nozzles 8 and 8 are fixed to the support member 2 by welding or the like with a spacer 9 slightly thicker (for example, 1.0 mm) than the thickness of the article 19 to be cleaned.

そして、洗浄に際しては2本のノズルの噴出穴8’が被洗浄物19の表面から等距離になるように支持部材を微動させて調整している。
このような構成は被洗浄物の厚さが一定で大量に生産する場合に適している。
During cleaning, the support member is finely adjusted so that the ejection holes 8 ′ of the two nozzles are equidistant from the surface of the object to be cleaned 19.
Such a configuration is suitable when the object to be cleaned has a constant thickness and is produced in large quantities.

しかしながら、各種の大きさの媒体が要求され厚さに関しても一定ではなく、銘柄変更時に被洗浄物の板厚変更やサイズ変更が頻繁に行われるようになっている。   However, various sizes of media are required and the thickness is not constant, and the plate thickness and size of the object to be cleaned are frequently changed when the brand is changed.

従って本発明の目的は、板厚の変化に応じて溶媒噴射ノズルと被洗浄物の表面との距離を変更可能とした洗浄装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a cleaning apparatus that can change the distance between the solvent spray nozzle and the surface of the object to be cleaned in accordance with the change in the plate thickness.

このような課題を解決するために、本発明のうち請求項1に記載の発明は、
少なくとも2本の溶媒噴射ノズルが支持部材に支持されるとともに洗浄時には前記被洗浄物上に移動し、非洗浄時には前記被洗浄物から退避するように構成された洗浄装置において、前記溶媒噴射ノズルの少なくとも一方は前記被洗浄物の表面に対して垂直方向に移動可能に構成している。板厚の変化に対応できる。
In order to solve such a problem, the invention according to claim 1 of the present invention,
At least two solvent spray nozzles are supported by a support member and moved onto the object to be cleaned at the time of cleaning, and retracted from the object to be cleaned at the time of non-cleaning. At least one of them is configured to be movable in a direction perpendicular to the surface of the object to be cleaned. Can respond to changes in plate thickness.

本発明のうち請求項2に記載の発明は、溶媒噴射ノズルに温度制御手段を設け溶媒の露点以上の温度に制御するようにした。COの温度をより正確に制御することができる。 In the present invention, the temperature control means is provided in the solvent injection nozzle to control the temperature above the dew point of the solvent. The temperature of CO 2 can be controlled more accurately.

本発明のうち請求項3に記載の発明は、被洗浄物の表面に対応する長手方向に楔状の傾斜を設けた。噴出したドライアイスが溶媒噴射ノズルとの間で跳ね返ることがなくスムーズな洗浄ができる。   According to the third aspect of the present invention, a wedge-shaped slope is provided in the longitudinal direction corresponding to the surface of the object to be cleaned. The sprayed dry ice does not bounce between the solvent spray nozzles and smooth cleaning is possible.

本発明のうち請求項4に記載の発明は、被洗浄物の表面の垂直方向への移動手段としてマイクロメータを用いている。微調整が簡単にできる。   The invention according to claim 4 of the present invention uses a micrometer as means for moving the surface of the object to be cleaned in the vertical direction. Fine adjustment is easy.

以上説明したことから明らかなように、本発明によれば、次の効果が期待できる。 2本の溶媒噴射ノズルが支持部材に支持されるとともに洗浄時には前記被洗浄物上に移動し、非洗浄時には前記被洗浄物から退避するように構成された洗浄装置において、前記溶媒噴射ノズルは前記被洗浄物の表面に対して垂直方向に移動可能に構成することにより、溶媒噴射ノズルを夫々独立して移動可能とすることにより板厚の変化に対応できる。   As is clear from the above description, the following effects can be expected according to the present invention. In the cleaning apparatus configured such that two solvent spray nozzles are supported by a support member and move onto the object to be cleaned at the time of cleaning, and retract from the object to be cleaned at the time of non-cleaning, the solvent spray nozzle is By being configured to be movable in the vertical direction with respect to the surface of the object to be cleaned, it is possible to cope with changes in the plate thickness by allowing the solvent spray nozzles to move independently.

また、溶媒噴射ノズルに温度制御手段を設け溶媒の露点以上の温度に制御するようにしたのでCOの温度をより正確に制御することができる。
また,被洗浄物の表面に対応する長手方向に楔状の傾斜を設けているので、噴出したドライアイスが金属ブロックとの間で跳ね返ることがなくスムーズな洗浄ができる。
In addition, since the temperature control means is provided in the solvent injection nozzle so as to control the temperature above the dew point of the solvent, the temperature of CO 2 can be controlled more accurately.
Moreover, since the wedge-shaped inclination is provided in the longitudinal direction corresponding to the surface of the object to be cleaned, the sprayed dry ice does not bounce between the metal blocks and can be cleaned smoothly.

さらに、垂直方向への移動手段としてマイクロメータを用いることにより、微調整が簡単にできる洗浄装置を実現することができる。   Furthermore, by using a micrometer as the means for moving in the vertical direction, it is possible to realize a cleaning apparatus that can easily make fine adjustments.

以下本発明を図面を用いて詳細に説明する。
図1(a,b)は本発明の洗浄装置の実施形態の一例を示す要部構成図であり、図(a)は正面図、図(b)は平面図である。なお、図4に示す従来例と同一要素には同一符号を付している。また、溶媒噴射ノズルの垂直方向移動機構以外の構成と動作も同一なのでここでの図示と説明は省略する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1A and FIG. 1B are main part configuration diagrams showing an example of an embodiment of the cleaning apparatus of the present invention. FIG. 1A is a front view and FIG. 1B is a plan view. The same elements as those in the conventional example shown in FIG. Further, since the configuration and operation other than the vertical movement mechanism of the solvent injection nozzle are the same, the illustration and description here are omitted.

図において、2aは支持部材、8aはこの支持部材に移動可能に取り付けられた溶媒噴射ノズルである。30は固定部材31に支持された微駆動手段としてのマイクロメータであり、回転部30aを回すと先端の軸30bが矢印D方向にミクロン単位で移動するように構成されている。   In the figure, reference numeral 2a denotes a support member, and 8a denotes a solvent injection nozzle that is movably attached to the support member. Reference numeral 30 denotes a micrometer as fine driving means supported by the fixed member 31. When the rotating portion 30a is turned, the tip shaft 30b moves in the direction of arrow D in units of microns.

32は支点部材で、軸30bが矢印D方向に移動するとピン33aを介して伝達部材34を矢印E方向に移動させる。34は移動部材であり、伝達部材33と1体で被洗浄物19の表面に対して垂直な矢印C方向に移動する。なお、対向する2つの溶媒噴射ノズルは
ばね等により被洗浄物の最大厚さに対して対応可能な距離に広げられて対峙している。
Reference numeral 32 denotes a fulcrum member. When the shaft 30b moves in the arrow D direction, the transmission member 34 is moved in the arrow E direction via the pin 33a. Reference numeral 34 denotes a moving member, which moves together with the transmission member 33 in the direction of arrow C perpendicular to the surface of the object 19 to be cleaned. Note that the two opposing solvent injection nozzles are confronted with a spring or the like that is expanded to a distance that can accommodate the maximum thickness of the object to be cleaned.

上述の構成において、被洗浄物19を洗浄するに際しては図示しない駆動装置により支持部材2aに取り付けられた溶媒噴射ノズル8aを被洗浄物上に移動させ、溶媒噴射ノズル8aと被洗浄物の表面との隙間を調整する。   In the above-described configuration, when cleaning the object 19 to be cleaned, the solvent injection nozzle 8a attached to the support member 2a is moved onto the object to be cleaned by a driving device (not shown), and the solvent injection nozzle 8a and the surface of the object to be cleaned are Adjust the gap.

その際はマイクロメータ30の回転部30aを回して駆動軸30bを前進させて支点部材32を回動させる。するとピン33a及びこのピン33aに固定された移動部材を矢印Cの縮まる方向に移動させる。   In that case, the rotation part 30a of the micrometer 30 is rotated to advance the drive shaft 30b, and the fulcrum member 32 is rotated. Then, the pin 33a and the moving member fixed to the pin 33a are moved in the direction in which the arrow C contracts.

図2は溶媒噴射ノズル8aの実施形態の一例を示す断面図(a)、側面図(b)および底面図(c)である。図において、8fは溶媒であるCOが流れるCO流路である。8eは温度制御手段であり、図では省略するがこの部分にはヒータ、温度センサおよび温度制御回路が組み込まれている。また、被洗浄物と対向する面は噴出穴の部分を除いて面取りが施され逃げ部10が形成されている。 FIG. 2 is a cross-sectional view (a), a side view (b), and a bottom view (c) showing an example of the embodiment of the solvent injection nozzle 8a. In the figure, 8f is a CO 2 flow path through which CO 2 as a solvent flows. Reference numeral 8e denotes a temperature control means, which is omitted in the drawing, but includes a heater, a temperature sensor, and a temperature control circuit. Further, the surface facing the object to be cleaned is chamfered except for the portion of the ejection hole to form a relief portion 10.

図3(a〜c)は図2に示す溶媒噴射ノズル8aを用いてCOを噴射した場合のCOの流れを示すもので、(a)は正面図、(b)は側面図、(c)は斜視図である。これらの図によれば噴出穴8a’から噴出したCO(ドライアイス)が矢印方向に流れ溶媒噴射ノズル8aとの間で跳ね返らずにスムーズに流れることが分る。 3A to 3C show the flow of CO 2 when CO 2 is injected using the solvent injection nozzle 8a shown in FIG. 2, wherein (a) is a front view, (b) is a side view, c) is a perspective view. According to these drawings, it can be seen that CO 2 (dry ice) ejected from the ejection hole 8a ′ flows in the direction of the arrow and smoothly flows without rebounding from the solvent ejection nozzle 8a.

本発明の以上の説明は、説明および例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎない。したがって本発明はその本質から逸脱せずに多くの変更、変形をなし得ることは当業者に明らかである。例えば本実施例では被洗浄物の表面と裏面にマイクロメータを設け双方の溶媒噴射ノズルを駆動する構成としたが、マイクロメータによる駆動は一方のみとしてもよい。特許請求の範囲の欄の記載により定義される本発明の範囲は、その範囲内の変更、変形を包含するものとする。   The foregoing description of the present invention has only shown certain preferred embodiments for purposes of illustration and illustration. Accordingly, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention can be modified and modified in many ways without departing from the essence thereof. For example, in this embodiment, a micrometer is provided on the front and back surfaces of the object to be cleaned, and both solvent spray nozzles are driven. However, only one drive may be performed by the micrometer. The scope of the present invention defined by the description in the appended claims is intended to include modifications and variations within the scope.

本発明の実施形態の一例を示す要部構成図である。It is a principal part block diagram which shows an example of embodiment of this invention. 本発明の溶媒噴射ノズルの実施形態の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of embodiment of the solvent injection nozzle of this invention. 本発明の溶媒噴射ノズルを用いたCOの流れを示す図であるIt is a diagram showing the flow of CO 2 using a solvent injection nozzle of the present invention 従来例を示す構成図である。It is a block diagram which shows a prior art example. 従来例を示す構成図である。It is a block diagram which shows a prior art example. 従来の溶媒噴射ノズルの調整方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the adjustment method of the conventional solvent injection nozzle.

符号の説明Explanation of symbols

1 パイプ
2,2a 支持部材
3 フィルター
4 ヒータブロック
5 エアオペレート弁
6 N導入管
8,8a 溶媒噴射ノズル
8a’ 噴出穴
8c、8f CO流路
8d N流路
8e 温度制御手段
9 楔状部
10 逃げ部
30 マイクロメータ
31 固定部材
32 支点部材
33 伝達部材
34 移動部材
1 pipe 2,2a supporting member 3 filter 4 the heater block 5 Air operated valve 6 N 2 inlet 8,8a solvent injection nozzle 8a 'jetting holes 8c, 8f CO 2 passage 8d N 2 flow path 8e temperature control means 9 wedge portion DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Escape part 30 Micrometer 31 Fixed member 32 Support point member 33 Transmission member 34 Moving member

Claims (4)

少なくとも2本の溶媒噴射ノズルが支持部材に支持されるとともに洗浄時には前記被洗浄物上に移動し、非洗浄時には前記被洗浄物から退避するように構成された洗浄装置において、前記溶媒噴射ノズルの少なくとも一方は前記被洗浄物の表面に対して垂直方向に移動可能に構成したことを特徴とする洗浄装置。   At least two solvent spray nozzles are supported by a support member and moved onto the object to be cleaned at the time of cleaning, and retracted from the object to be cleaned at the time of non-cleaning. At least one of the cleaning apparatuses is configured to be movable in a direction perpendicular to the surface of the object to be cleaned. 前記溶媒噴射ノズルに温度制御手段を設けたことを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。   The cleaning apparatus according to claim 1, wherein a temperature control unit is provided in the solvent injection nozzle. 前記溶媒噴射ノズルは棒状に形成され、前記被洗浄物の表面に対応する長手方向に楔状の傾斜を設けたことを特徴とする請求項1または2に記載の洗浄装置。   The cleaning apparatus according to claim 1 or 2, wherein the solvent spray nozzle is formed in a rod shape and has a wedge-shaped inclination in a longitudinal direction corresponding to a surface of the object to be cleaned. 前記被洗浄物の表面の垂直方向への移動手段としてマイクロメータを用いたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の洗浄装置。
4. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein a micrometer is used as means for moving the surface of the object to be cleaned in the vertical direction.
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