JP2005100741A - Light emitting device, and image display device, light source, and photosensitive exposure light source using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は陽極と陰極と、その間に配置され且つ燐光発光性金属配位化合物のみからなる有機発光層とを有する発光素子に関する。さらには、該発光素子を用いた画像表示装置、光源、感光体露光光源に関する。 The present invention relates to a light-emitting element having an anode and a cathode, and an organic light-emitting layer disposed between the anode and the cathode and made only of a phosphorescent metal coordination compound. Furthermore, the present invention relates to an image display device, a light source, and a photoreceptor exposure light source using the light emitting element.
有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)は発光素子である。有機EL素子の研究が精力的に行われている(非特許文献1)。 An organic electroluminescence element (organic EL element) is a light emitting element. Research on organic EL devices has been vigorously conducted (Non-Patent Document 1).
また三重項励起子を経由した燐光発光を利用する素子の検討がなされている(非特許文献2乃至3そして特許文献1乃至3)。
Further, devices utilizing phosphorescence emission via triplet excitons have been studied (Non-Patent Documents 2 to 3 and
また三重項励起子を経由した燐光発光を利用する素子の検討の中で、発光層をホストとゲストといった2種の材料から構成することを記載したものもある。これは2種類の発光材料間のエネルギー移動を利用して、短波長の発光材料(緑発光)から長波長の発光材料(黄色または赤発光)にエネルギーを移動させて、長波長の発光材料のみを発光させるものである(非特許文献4)。 In addition, in the study of a device using phosphorescence emission via triplet excitons, there is a description that the light emitting layer is composed of two kinds of materials such as a host and a guest. This uses energy transfer between two types of light-emitting materials to transfer energy from short-wavelength light-emitting materials (green light-emitting) to long-wavelength light-emitting materials (yellow or red light-emitting), and only long-wavelength light-emitting materials. Is emitted (Non-patent Document 4).
また単一材料(燐光発光材料)による有機EL素子に関する発表もある。これはイリジウム錯体を利用した燐光発光素子であり、発光層の陰極側にホールブロッキング層を設けている構成であり、このことから発光は発光層の電子輸送層側で行われているものと考えられる(非特許文献5)。 There is also a presentation on organic EL elements using a single material (phosphorescent material). This is a phosphorescent light emitting device using an iridium complex, and has a structure in which a hole blocking layer is provided on the cathode side of the light emitting layer, and from this, light emission is considered to be performed on the electron transport layer side of the light emitting layer. (Non-Patent Document 5).
そしてレニウム錯体を発光層に用いた燐光発光素子が発表されており、これによると発光層と陽極との間にホール輸送層が配置されている。このホール輸送層は電子ブロッキング層として機能する。そしてこの発光素子のELスペクトルとPLスペクトルの差は10nmである(非特許文献6)。 A phosphorescent light emitting device using a rhenium complex as a light emitting layer has been announced. According to this, a hole transport layer is disposed between the light emitting layer and the anode. This hole transport layer functions as an electron blocking layer. And the difference of EL spectrum and PL spectrum of this light emitting element is 10 nm (nonpatent literature 6).
ホストとゲストから発光層が構成される燐光発光素子は、その製造上生産性等コストの面で高くなってしまう。また発光層が非特許文献6に記載されているような素子の場合、ELスペクトルとPLスペクトルとの差を一定以下にできない。
A phosphorescent light-emitting element having a light-emitting layer composed of a host and a guest is expensive in terms of production and other costs. In the case where the light emitting layer is an element described in Non-Patent
本発明の課題は、ホストゲスト型の発光層に依らない単一材料の発光層を有し、ELスペクトルとPLスペクトルとの差を一定以下にできる発光素子を提供することにあ。 An object of the present invention is to provide a light-emitting element that has a single-material light-emitting layer that does not depend on a host-guest type light-emitting layer, and that can make the difference between an EL spectrum and a PL spectrum less than or equal to a certain level.
本発明は、
陽極と陰極と、前記陽極と前記陰極との間に配置され且つ燐光発光性金属配位化合物のみからなる有機発光層とを有する発光素子において、
前記有機発光層と前記陽極との間に配置されているエキサイプレックス抑制層を有し、
前記燐光発光性金属配位化合物のHOMO準位は−5.5eV以下であり、且つ
前記エキサイプレックス抑制層のHOMO準位と前記燐光発光性金属配位化合物のHOMO準位との差が0.5eV以内であることを特徴とする発光素子を提供する。
The present invention
In a light-emitting element having an anode and a cathode, and an organic light-emitting layer that is disposed between the anode and the cathode and is made only of a phosphorescent metal coordination compound,
Having an exciplex suppression layer disposed between the organic light emitting layer and the anode;
The HOMO level of the phosphorescent metal coordination compound is −5.5 eV or less, and the difference between the HOMO level of the exciplex suppression layer and the HOMO level of the phosphorescent metal coordination compound is 0. Provided is a light emitting element characterized by being within 5 eV.
本発明により、ELスペクトルとPLスペクトルとの差を10nm以内とする、発光層が単一材料からなる燐光発光素子を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a phosphorescent light-emitting element in which the difference between the EL spectrum and the PL spectrum is within 10 nm and the light-emitting layer is made of a single material.
本発明の発光素子においては、陽極と発光層との間にエキサイプレックス抑制層を有する。発光層は燐光発光する材料が単独で存在する層であり、ホストゲストのようなエネルギーの転移を目的とする材料を有さなくても発光する層のことである。従って別の目的、例えば水分や酸素から発光材料を守る作用のある材料、例えば酸化カルシウムの無機酸化化合物やMgのような金属などが発光層に含まれていてもよい。 In the light emitting device of the present invention, an exciplex suppressing layer is provided between the anode and the light emitting layer. The light-emitting layer is a layer in which a material that emits phosphorescence alone is present, and is a layer that emits light even without a material intended for energy transfer such as a host guest. Therefore, the light emitting layer may contain another purpose, for example, a material having an action of protecting the light emitting material from moisture or oxygen, for example, an inorganic oxide compound of calcium oxide or a metal such as Mg.
エキサイプレックス抑制層とは、エキサイプレックスの発生を抑制するための層である。エキサイプレックスはほとんどの場合発光しないと考えられるが、仮に発光するとしても素子から出てくる光は発光材料そのものの発光波長(λmax、発光波長のピーク)から長波長側に大きくシフトした発光波長の光である。ELスペクトルとPLスペクトルとの差が10nm以内であることでエキサイプレックスの発生を抑制することができているということができる。 The exciplex suppression layer is a layer for suppressing the occurrence of exciplex. Exciplex is considered not to emit light in most cases, but even if it emits light, the light emitted from the element has an emission wavelength that is greatly shifted from the emission wavelength of the light emitting material itself (λmax, peak of emission wavelength) to the longer wavelength side. Light. It can be said that the occurrence of exciplex can be suppressed when the difference between the EL spectrum and the PL spectrum is within 10 nm.
エキサイプレックス抑制層が陽極と発光層との間に設けられているのは、本発明で用いられる燐光発光性金属配位化合物が電子輸送性であるからである。エキサイプレックスが発光層の陽極側で生じるためエキサイプレックス抑制層が陽極と発光層の間に配置されている。エキサイプレックス抑制層はホール輸送層と発光層との間に配置されていてもよい。もちろんホール輸送層は発光層からみて陽極側に配置されている層のことである。また、ホール輸送層がエキサイプレックス抑制層を兼ねることもできる。 The reason why the exciplex suppressing layer is provided between the anode and the light emitting layer is that the phosphorescent metal coordination compound used in the present invention has an electron transporting property. Since an exciplex occurs on the anode side of the light emitting layer, an exciplex suppression layer is disposed between the anode and the light emitting layer. The exciplex suppression layer may be disposed between the hole transport layer and the light emitting layer. Of course, the hole transport layer is a layer disposed on the anode side as viewed from the light emitting layer. The hole transport layer can also serve as an exciplex suppression layer.
発光層を構成する燐光発光性金属配位化合物の中心金属がレニウムであることは、電子輸送性が高いという点で好ましい。レニウムを中心金属とする金属配位化合物はLUMO準位が他の金属配位化合物と比べて低い。そのため本発明で用いられる電子輸送性の高い燐光発光性金属化合物を発光層として用いる場合、陰極から注入された電子は発光層の陽極側まで容易に到達すると考えられる。 The central metal of the phosphorescent metal coordination compound constituting the light emitting layer is preferably rhenium from the viewpoint of high electron transport properties. A metal coordination compound having rhenium as a central metal has a lower LUMO level than other metal coordination compounds. Therefore, when the phosphorescent metal compound having a high electron transport property used in the present invention is used as the light emitting layer, it is considered that electrons injected from the cathode easily reach the anode side of the light emitting layer.
このような知見から本発明者等はエキサイプレックスの発生を抑制するためにはエキサイプレックス抑制層のHOMO準位と発光層のHOMO準位との差が0.5eV以下になることが好ましいことを見出した。そしてそのような関係を成り立たせるためには燐光発光性金属配位化合物からなる発光層のHOMO準位を−5.5eV以下とすることが必要であることを見出した。尚、燐光発光性金属配位化合物からなる発光層のHOMO準位の下限は6.22eVである。この値以下だと燐光発光性金属配位化合物の正常な発光が得られなくなってしまう。 From these findings, the present inventors indicate that the difference between the HOMO level of the exciplex suppression layer and the HOMO level of the light emitting layer is preferably 0.5 eV or less in order to suppress the occurrence of the exciplex. I found it. In order to establish such a relationship, it has been found that the HOMO level of a light emitting layer made of a phosphorescent metal coordination compound needs to be −5.5 eV or less. Note that the lower limit of the HOMO level of the light-emitting layer made of the phosphorescent metal coordination compound is 6.22 eV. Below this value, normal light emission of the phosphorescent metal coordination compound cannot be obtained.
そしてこれら条件を満たす発光素子において、ELスペクトルとPLスペクトルとの差を10nm以内とする、発光層が単一材料からなる燐光発光素子を提供することができる。 In the light-emitting element that satisfies these conditions, a phosphorescent light-emitting element in which the difference between the EL spectrum and the PL spectrum is within 10 nm and the light-emitting layer is made of a single material can be provided.
次に本発明の発光素子の層構成について説明する。図1は本発明の一実施形態の断面模式図である。図中、1は陰極、2は発光層、3はホール輸送層、4は陽極、5は基板、6は電子輸送層、8はエキサイプレックス抑制層である。本実施形態において、陰極1は反射電極で、陽極4は透明電極で、基板5は透明基板という構成である。もちろん陰極1を透明電極とし、陽極4を反射電極とする構成でもよい。その場合、特に、基板に発光素子の点灯を制御するための駆動素子、例えば薄膜トランジスタ(TFT)が配置されていてもよい。その場合いわゆるトップエミッション型発光素子として、発光面の開口率を向上させるという意味で好ましい形態である。
Next, the layer structure of the light emitting device of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic sectional view of an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a cathode, 2 is a light emitting layer, 3 is a hole transport layer, 4 is an anode, 5 is a substrate, 6 is an electron transport layer, and 8 is an exciplex suppression layer. In the present embodiment, the
本図では電子注入層やホール注入層を図示していないが適宜設けてもよい。或いは電子輸送層6やホール輸送層3をそれぞれ個別に電子注入層やホール注入層に置き換えた形態、或いは電子輸送層6やホール輸送層3や電子注入層やホール注入層のいずれも設けない形態やこれら4つの層の少なくともいずれか1層以上を適宜設けた形態でもよい。
Although an electron injection layer and a hole injection layer are not shown in the drawing, they may be provided as appropriate. Alternatively, the
また陽極4及び陰極1の少なくとも一方の電極が多層構成となっていてもよい。
Further, at least one of the anode 4 and the
本発明で用いられる燐光発光性金属配位化合物として中心金属がレニウムであることが好ましいことを先に述べたが、具体例を構造式として以下に例示する(Re(dmphen)(btpz)、Re(dmphen)(pz))。またエキサイプレックス抑制層となる化合物の構造式も以下に例示する(TFB3、TFB4)。またホール輸送層や電子輸送層となる化合物の構造式も以下に例示する(FL03、Bphen)。 As described above, it is preferable that the central metal is rhenium as the phosphorescent metal coordination compound used in the present invention. Specific examples are given below as structural formulas (Re (dmphen) (btpz), Re (Dmphen) (pz)). Moreover, the structural formula of the compound used as an exciplex suppression layer is also illustrated below (TFB3, TFB4). Further, structural formulas of compounds that become the hole transport layer and the electron transport layer are also exemplified below (FL03, Bphen).
本発明の発光素子は、ディスプレイといった表示装置に用いることができる。例えばディスプレイの画素部または副画素部に用いた画像表示装置に用いることができる。ディスプレイとはテレビやパソコンやデジタルカメラやカムコーダーなどに搭載される表示装置や、車体に搭載される表示装置等である。また、本発明の発光素子は照明用の光源として、或いは電子写真式の画像形成装置等の表示部或いは感光体への露光光源として用いてもよい。 The light-emitting element of the present invention can be used for a display device such as a display. For example, it can be used for an image display device used in a pixel portion or a sub-pixel portion of a display. The display is a display device mounted on a television, a personal computer, a digital camera, a camcorder, or the like, or a display device mounted on a vehicle body. The light-emitting element of the present invention may be used as a light source for illumination, or as an exposure light source for a display unit or a photoreceptor of an electrophotographic image forming apparatus.
本発明の発光素子は単数で用いてもよく、或いは複数で用いてもよい。複数の場合、例えばパッシブ駆動或いはアクティブマトリクス駆動で発光させてもよい。また発光素子を複数用いる場合、それぞれが単色或いは異色でもよい。異色の場合、フルカラー発光させることができる。 The light emitting element of the present invention may be used singly or in plural. In a plurality of cases, for example, light may be emitted by passive driving or active matrix driving. Further, when a plurality of light emitting elements are used, each may be a single color or a different color. In the case of different colors, full color light emission can be performed.
(実施例1、実施例2、比較例1)
基板上に膜厚が100nmの陽極(ITO)を電極面積が3mm2となるように形成した。その上に形成する各層とその膜厚はそれぞれの実施例及び比較例ごとに以下のとおりである。それぞれの素子を形成するにあたり、陽極に対して対向電極となる陰極の形成まで各層を10-4Paの真空チャンバー内で抵抗加熱による真空蒸着による連続成膜を行った。各実施例において、各層は記載された順に陽極上に配置される。
(Example 1, Example 2, Comparative Example 1)
An anode (ITO) having a film thickness of 100 nm was formed on the substrate so as to have an electrode area of 3 mm 2 . The layers formed thereon and the film thicknesses are as follows for each example and comparative example. In forming each element, the respective layers were continuously formed by resistance heating vacuum deposition in a vacuum chamber of 10 −4 Pa until a cathode serving as a counter electrode with respect to the anode was formed. In each example, each layer is placed on the anode in the order listed.
・実施例1
エキサイプレックス抑制層(25nm):TFB4
発光層(40nm):Re(dmphen)(btpz)
電子輸送層(60nm):Bphen
金属電極1(1nm):KF
金属電極2(150nm):Al
Example 1
Exciplex suppression layer (25 nm): TFB4
Light emitting layer (40 nm): Re (dmphen) (btpz)
Electron transport layer (60 nm): Bphen
Metal electrode 1 (1 nm): KF
Metal electrode 2 (150 nm): Al
・実施例2
ホール輸送層(25nm):FL03
エキサイプレックス抑制層(25nm):TFB3
発光層(40nm):Re(dmphen)(btpz)
電子輸送層(60nm):Bphen
金属電極1(1nm):KF
金属電極2(150nm):Al
Example 2
Hole transport layer (25 nm): FL03
Exciplex suppression layer (25 nm): TFB3
Light emitting layer (40 nm): Re (dmphen) (btpz)
Electron transport layer (60 nm): Bphen
Metal electrode 1 (1 nm): KF
Metal electrode 2 (150 nm): Al
・比較例1
ホール輸送層(40nm):FL03
発光層(40nm):Re(dmphen)(btpz)
電子輸送層(60nm):Bphen
金属電極1(1nm):KF
金属電極2(150nm):Al
Comparative example 1
Hole transport layer (40 nm): FL03
Light emitting layer (40 nm): Re (dmphen) (btpz)
Electron transport layer (60 nm): Bphen
Metal electrode 1 (1 nm): KF
Metal electrode 2 (150 nm): Al
各素子の特性評価を表1に示す。 Table 1 shows the characteristic evaluation of each element.
表1の〔1〕とはエキサイプレックス抑制層のHOMO準位である。測定には理研計器社製AC−1を用いた。測定条件は大気中でかつ室温である。 [1] in Table 1 is the HOMO level of the exciplex suppression layer. For the measurement, AC-1 manufactured by Riken Keiki Co., Ltd. was used. The measurement conditions are air and room temperature.
また〔2〕は発光層(燐光発光発光性金属配位化合物)のHOMO準位である。測定には理研計器社製AC−1を用いた。測定条件は大気中で室温である。 [2] is the HOMO level of the light emitting layer (phosphorescent light emitting metal coordination compound). For the measurement, AC-1 manufactured by Riken Keiki Co., Ltd. was used. The measurement conditions are room temperature in the atmosphere.
またcd/A〔600cd/cm2〕とは、輝度600cd/m2での電流効率という意味である。発光量の測定にはTOPCON社製BM−7を用いた。測定条件は、室温である。 Further, cd / A [600 cd / cm 2 ] means current efficiency at a luminance of 600 cd / m 2 . A BM-7 manufactured by TOPCON was used for the measurement of the amount of luminescence. The measurement condition is room temperature.
またT1/2(h)とは低電流駆動時における輝度半減時間という意味である。輝度半減期の測定には、フォトダイオードによる輝度測定装置を用いた。測定条件は、室温である。 T 1/2 (h) means a luminance half time at the time of low current driving. For measuring the luminance half-life, a luminance measuring device using a photodiode was used. The measurement condition is room temperature.
次にELスペクトルとPLスペクトルの差をそれぞれの実施例と比較例において測定した。測定装置はHITACHI社製蛍光測定器で、測定条件は室温である。その結果を表1に示す。また、〔3〕はELスペクトルとPLスペクトルのλmaxの差を示している。 Next, the difference between the EL spectrum and the PL spectrum was measured in each example and comparative example. The measuring apparatus is a fluorescence measuring instrument manufactured by HITACHI, and the measurement condition is room temperature. The results are shown in Table 1. [3] indicates the difference in λmax between the EL spectrum and the PL spectrum.
その結果、実施例1及び実施例2は、比較例1と比べてELスペクトルとPLスペクトルの差が10nm以内となり、燐光発光性金属配位化合物由来の発光を得ることができた。これに対して比較例1については実施例1と実施例2と比較して次のような欠点がある。即ち、FL03とRe(dmphen)(btpz)のHOMO準位の差が0.5eV以上であり、発光層の燐光発光性金属配位化合物とエキサイプレックスを形成しているために電流効率が低く輝度半減時間が短くなっていることである。 As a result, in Example 1 and Example 2, the difference between the EL spectrum and the PL spectrum was within 10 nm as compared with Comparative Example 1, and light emission derived from the phosphorescent metal coordination compound could be obtained. On the other hand, Comparative Example 1 has the following disadvantages as compared with Example 1 and Example 2. That is, the difference between the HOMO levels of FL03 and Re (dmphen) (btpz) is 0.5 eV or more, and the current efficiency is low because of the formation of an exciplex with the phosphorescent metal coordination compound in the light emitting layer. The half time is shortened.
(実施例3、比較例2)
基板上に膜厚が100nmの陽極(ITO)を電極面積が3mm2となるように形成した。その上に形成する各層とその膜厚はそれぞれの実施例及び比較例ごとに以下のとおりである。それぞれの素子を形成するにあたり、陽極に対して対向電極となる陰極の形成まで各層を10-4Paの真空チャンバー内で抵抗加熱による真空蒸着による連続成膜を行った。各実施例において、各層は記載された順に陽極上に配置される。
(Example 3, Comparative Example 2)
An anode (ITO) having a film thickness of 100 nm was formed on the substrate so as to have an electrode area of 3 mm 2 . The layers formed thereon and the film thicknesses are as follows for each example and comparative example. In forming each element, each layer was continuously formed by vacuum deposition by resistance heating in a vacuum chamber of 10 −4 Pa until the formation of a cathode that was a counter electrode with respect to the anode. In each example, each layer is placed on the anode in the order listed.
・実施例3
エキサイプレックス抑制層(25nm):TFB4
発光層(40nm):Re(dmphen)(btpz)
電子輸送層(60nm):Bphen
金属電極1(1nm):KF
金属電極2(150nm):Al
Example 3
Exciplex suppression layer (25 nm): TFB4
Light emitting layer (40 nm): Re (dmphen) (btpz)
Electron transport layer (60 nm): Bphen
Metal electrode 1 (1 nm): KF
Metal electrode 2 (150 nm): Al
・比較例2
エキサイプレックス抑制層(25nm):TFB4
発光層(40nm):Re(dmphen)(pz)
電子輸送層(60nm):Bphen
金属電極1(1nm):KF
金属電極2(150nm):Al
Comparative example 2
Exciplex suppression layer (25 nm): TFB4
Light emitting layer (40 nm): Re (dmphen) (pz)
Electron transport layer (60 nm): Bphen
Metal electrode 1 (1 nm): KF
Metal electrode 2 (150 nm): Al
それぞれの発光素子の特性結果を表2に示す。 Table 2 shows the characteristic results of each light-emitting element.
表1の〔1〕、〔2〕、cd/A〔@600cd/cm2〕、〔3〕は表1と同様である。 [1], [2], cd / A [@ 600 cd / cm 2 ], and [3] in Table 1 are the same as in Table 1.
その結果、実施例3が比較例2と比べて電流効率と輝度半減時間の点で優れていることがわかる。 As a result, it can be seen that Example 3 is superior to Comparative Example 2 in terms of current efficiency and luminance half time.
そして燐光発光性金属配位化合物とのHOMO準位が−5.5eV以下の錯体でのみELスペクトルとPLスペクトルの差が10nm以内になることが表2の〔3〕の記載からわかる。 It can be seen from the description in [3] of Table 2 that the difference between the EL spectrum and the PL spectrum is within 10 nm only for the complex having a HOMO level of −5.5 eV or less with the phosphorescent metal coordination compound.
1 陰極
2 発光層
3 ホール輸送層
4 陽極
5 基板
6 電子輸送層
8 エキサイプレックス抑制層
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記有機発光層と前記陽極との間に配置されているエキサイプレックス抑制層を有し、
前記燐光発光性金属配位化合物のHOMO準位は−5.5eV以下であり、且つ
前記エキサイプレックス抑制層のHOMO準位と前記燐光発光性金属配位化合物のHOMO準位との差が0.5eV以内であることを特徴とする発光素子。 In a light-emitting element having an anode and a cathode, and an organic light-emitting layer that is disposed between the anode and the cathode and is made only of a phosphorescent metal coordination compound,
Having an exciplex suppression layer disposed between the organic light emitting layer and the anode;
The phosphorescent metal coordination compound has a HOMO level of −5.5 eV or less, and the difference between the HOMO level of the exciplex suppression layer and the HOMO level of the phosphorescent metal coordination compound is 0. A light emitting element characterized by being within 5 eV.
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Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
WO2006035997A1 (en) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Compound and organic electroluminescent device using same |
KR100690348B1 (en) | 2004-05-11 | 2007-03-09 | 주식회사 엘지화학 | Organic electronic devices |
JP2007273704A (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Canon Inc | Organic el display panel |
JP2009032989A (en) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Fujifilm Corp | Organic electroluminescent element |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100690348B1 (en) | 2004-05-11 | 2007-03-09 | 주식회사 엘지화학 | Organic electronic devices |
WO2006035997A1 (en) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Compound and organic electroluminescent device using same |
JP2007273704A (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Canon Inc | Organic el display panel |
JP2009032989A (en) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Fujifilm Corp | Organic electroluminescent element |
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