JP2005099266A - Phase difference control substrate and display - Google Patents

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Norihisa Moriya
徳久 守谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phase difference control substrate wherein thickening of film thickness due to an ink returning phenomenon is eliminated when a phase difference controlling layer is provided, then, uniform cell gap can be obtained over the entire region of a display area when a liquid crystal cell is constituted, cutting especially collective bonding of a plurality of screens after bonding to a counter substrate is made possible and dust generated when cutting neither contaminates nor damages the display area. <P>SOLUTION: The phase difference control layer 4 composed of a liquid crystalline polymer is layered on a substrate 2 via a color filter layer 3 etc. and the phase difference control layer 4 is layered so as to leave a margin at an outer peripheral part of the substrate (1) or so as to be flat from the center part to the outer peripheral part of the phase difference control layer 4 (2). In the case (2), the thickness of the outer peripheral part is preferably made to be ≤+10 μm as compared with the flat part of the center part of the layer 4. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、基板の外周部における位相差制御層の厚みが、その他の部分にくらべて厚いことが解消された改良された、位相差制御基板に関するものであり、また、この位相差制御基板を用いて構成されたディスプレイ、とりわけ、液晶ディスプレイに関するものである。   The present invention relates to an improved retardation control substrate in which the thickness of the retardation control layer in the outer peripheral portion of the substrate is eliminated from that of other portions, and the retardation control substrate is The present invention relates to a display configured by using, in particular, a liquid crystal display.

種々の方式のディスプレイにはその観察側等に視野角の調製等の目的で位相差フィルムがよく用いられている。たとえば反射型の液晶ディスプレイにおいては、通常円偏光を得るため、直線偏光板に加えて1/4λ位相差フィルムが用いられている。また、近年TV用液晶ディスプレイに広く適用されている垂直配向モード液晶ディスプレイにおいては、その視野角依存性を低減するため、光軸が基板に垂直で、負の複屈折異方性を有する位相差フィルム(負のCプレート)と、光軸が基板に水平で、正の複屈折異方性を有する位相差フィルム(正のAプレート)の両方が用いられており、これらの他にもディスコティック液晶を用いた視野角補償フィルム等、多くの位相差フィルムが上市されている。   In various types of displays, retardation films are often used on the viewing side for the purpose of adjusting the viewing angle. For example, in a reflection type liquid crystal display, in order to obtain circularly polarized light, a quarter-wave retardation film is used in addition to a linearly polarizing plate. Further, in a vertical alignment mode liquid crystal display widely applied to a liquid crystal display for TV in recent years, a phase difference having a negative birefringence anisotropy in which the optical axis is perpendicular to the substrate in order to reduce the viewing angle dependency. Both a film (negative C plate) and a retardation film (positive A plate) whose optical axis is horizontal to the substrate and has positive birefringence anisotropy are used. Many retardation films such as viewing angle compensation films using liquid crystals are on the market.

これらの位相差フィルムは、他の位相差板、および偏光板とお互いの光軸をある特定の角度で貼り合わせ、液晶セル外に貼り付けて用いられるが、貼り付けの際に用いられる粘着剤の屈折率が位相差フィルムや偏光板の屈折率と異なるため、貼り合わせ界面において外光の反射が生じ、この外光反射は表示のコントラストを低下させ、画像品位を著しく劣化させる。   These retardation films are used by sticking other retardation plates and polarizing plates to each other with their optical axes at a specific angle and sticking them outside the liquid crystal cell. Since the refractive index of the film differs from the refractive index of the retardation film or polarizing plate, external light is reflected at the bonding interface, and this external light reflection lowers the display contrast and remarkably deteriorates the image quality.

このような問題は、前述した位相差フィルムを液晶セル外に適用する替わりに液晶性高分子からなる位相差制御層を液晶セル内に適用することにより解決可能である。すなわち、ガラス転移温度を有し、ガラス転移温度以下でその液晶構造を凍結することができる液晶性高分子を用いて構成するか、もしくは分子構造中に不飽和結合などの反応性基を有する液晶性モノマーを適用し、その反応性基を利用して液晶層状態で3次元架橋させることにより、同じく液晶構造を凍結させることにより、位相差制御層を構成することが出来る。   Such a problem can be solved by applying a retardation control layer made of a liquid crystalline polymer in the liquid crystal cell instead of applying the retardation film described above outside the liquid crystal cell. That is, a liquid crystal having a glass transition temperature and using a liquid crystalline polymer that can freeze the liquid crystal structure below the glass transition temperature, or having a reactive group such as an unsaturated bond in the molecular structure A phase difference control layer can be formed by applying a reactive monomer and three-dimensionally crosslinking in the liquid crystal layer state using the reactive group to freeze the liquid crystal structure.

ところで、位相差制御層を構成する際に、上記の液晶性高分子もしくは液晶性モノマーは、配向機能を有する基材上に、スピンコーティング法、スリット&スピンコーティング法など、既知の手法を用いて均一に塗布することが出来る。しかしながら、これらの既知の手法による塗布では、被塗布基板の外周部を除けば塗膜の膜厚の均一性が優れているものの、基板の端面から外周部にかけて、いわゆるインキの戻り現象により、膜厚が厚くなるという問題がある。例えば、図4(a)に示すように、従来の位相差制御板11においては、基板12上にカラーフィルタ(図中「CF」で示す。)層13が積層され、カラーフィルタ層13上を覆って位相差制御層14が積層されており、位相差制御層14の基板12の外周部において、膜厚の厚くなった盛り上がり部分14aを有している。   By the way, when constituting the retardation control layer, the above liquid crystalline polymer or liquid crystalline monomer is formed on a substrate having an alignment function by using a known method such as a spin coating method, a slit & spin coating method, or the like. It can be applied uniformly. However, in coating by these known methods, the film thickness uniformity of the coating film is excellent except for the outer peripheral portion of the substrate to be coated. However, the film returns to the outer peripheral portion from the end surface of the substrate due to a so-called ink return phenomenon. There is a problem that the thickness increases. For example, as shown in FIG. 4A, in the conventional phase difference control plate 11, a color filter (indicated by “CF” in the figure) layer 13 is laminated on a substrate 12, and the color filter layer 13 is covered. The phase difference control layer 14 is laminated so as to cover the outer peripheral portion of the substrate 12 of the phase difference control layer 14 and has a raised portion 14a having a thick film thickness.

また、ディスプレイの中でも特に液晶ディスプレイにおいては、液晶層を挟む両基板のうち、一方の基板の全面に位相差制御層を積層した位相差制御基板を用いることが望ましいが、位相差制御基板を、位相差制御層を内側にして対向基板と重ね合わせる際には、表示エリア全域に渡って均一なセルギャップを得ることが必要である。これはセルギャップにムラがあると、表示の明暗ムラが発生して表示の品質を著しく損なうからである。しかし、図4(b)に示すように、上記のような、基板12の外周部において、インキの戻り現象により膜厚が厚くなった位相差制御層14の盛り上がり部分14aを有する位相差制御板11を用いると、盛り上がり部分14aの影響で、液晶セル15の外周部のセルギャップが大きくなるので、表示エリア全域に渡っての均一なセルギャップを得ることが困難である。特に、基板12に、カラーフィルタ層13を複数画面分設ける多面付けの場合、対向基板と重ねて一度に複数の液晶ディスプレイ用のセルが形成されるが、全てのセルで同一で、かつ各セル面内で均一なセルギャップとすることが困難である。   Among the displays, particularly in a liquid crystal display, it is desirable to use a retardation control substrate in which a retardation control layer is laminated on the entire surface of one of the substrates sandwiching the liquid crystal layer. When overlapping the counter substrate with the phase difference control layer on the inside, it is necessary to obtain a uniform cell gap over the entire display area. This is because if the cell gap is uneven, display unevenness occurs, and the display quality is significantly impaired. However, as shown in FIG. 4B, the phase difference control plate having the raised portion 14 a of the phase difference control layer 14 whose thickness is increased due to the ink return phenomenon at the outer peripheral portion of the substrate 12 as described above. When 11 is used, the cell gap in the outer peripheral portion of the liquid crystal cell 15 becomes large due to the influence of the raised portion 14a, so that it is difficult to obtain a uniform cell gap over the entire display area. In particular, in the case of multi-sided arrangement in which the color filter layer 13 is provided on the substrate 12 for a plurality of screens, a plurality of liquid crystal display cells are formed at the same time on the counter substrate. It is difficult to obtain a uniform cell gap in the plane.

均一なセルギャップを得るため、外周部のインキの厚膜が厚くなった部分を予め切断して除去してから貼り合せることも考えられるものの、切断の工程が新たに加わる上、切断に伴う発塵により表示エリアを汚染したり、キズをつける危険が避けられず、さらに汚染や傷付きを切断保護膜を設けて解消することも考えられるが、切断保護膜の形成工程や除去工程も加わり、工程数の増加が避けられない。また、切断すると、必然的に一画面分ずつの重ね合わせとなるため、製造効率も悪くなる。   In order to obtain a uniform cell gap, it may be possible to cut and remove the thickened ink film on the outer periphery in advance, but then add the cutting process. The risk of polluting and scratching the display area with dust is unavoidable, and it is also possible to eliminate contamination and scratches by providing a cutting protective film, but the cutting protective film forming process and removal process have also been added, An increase in the number of processes is inevitable. In addition, when cutting is performed, the screens are inevitably overlapped on a screen-by-screen basis, resulting in poor manufacturing efficiency.

あるいは、2枚の透明性基板間に低分子ネマチック液晶と非液晶性高分子物質からなる液晶層を挟持した位相差板も紹介されている。(例えば、特許文献1参照。)。
特開平8−286179(第3頁、図1)。
Alternatively, a retardation plate is also introduced in which a liquid crystal layer composed of a low-molecular nematic liquid crystal and a non-liquid crystalline polymer substance is sandwiched between two transparent substrates. (For example, refer to Patent Document 1).
JP-A-8-286179 (page 3, FIG. 1).

しかし、特許文献1記載の位相差板では、位相差制御層の膜厚の均一化は図れても、透明性基板を2枚使用する不利が避けられない上、液晶セル内に位相差制御層を設けようとする意図が見られない。   However, with the retardation plate described in Patent Document 1, the disadvantage of using two transparent substrates is inevitable even if the thickness of the retardation control layer can be made uniform, and the retardation control layer is included in the liquid crystal cell. There is no intention to set up.

本発明は、上記問題点に鑑み、基板の端面から外周部にかけてのインキの戻り現象により膜厚が厚くなった点を解消し、液晶セルを構成する際に用いた場合に表示エリア全域に渡って均一なセルギャップを得ることが可能となるため、対向基板と貼り合せた後の切断工程が可能となり、特に複数画面分の一括貼り合せが可能となり、好ましくは、切断の際に生じる発塵が表示エリアを汚染したり、キズをつける危険が生じない位相差制御板を提供することを課題とするものである。   In view of the above problems, the present invention eliminates the point that the film thickness has increased due to the ink return phenomenon from the end surface of the substrate to the outer periphery, and covers the entire display area when used in the construction of a liquid crystal cell. A uniform cell gap can be obtained, so that the cutting process after bonding to the counter substrate is possible, and in particular, batch bonding for multiple screens is possible. It is an object of the present invention to provide a phase difference control plate that does not cause a risk of polluting the display area or causing scratches.

発明者の検討の結果、基板の端面から外周部にかけてのインキの戻り現象により位相差制御層の膜厚が厚くなった点の解消は、外周部の位相差制御層を除去するか、もしくは外周部の位相差制御層の厚くなった部分を加工して薄くする、いずれかの手段を講じるか、または両方の手段を同時に講じることにより、課題を解決し得ることが判明し、以下のような本発明に到達することができた。   As a result of the inventor's investigation, the solution to the point that the film thickness of the retardation control layer has increased due to the ink return phenomenon from the end surface of the substrate to the outer peripheral part is to remove the outer peripheral retardation control layer or It became clear that the problem can be solved by processing the thinned part of the retardation control layer of the part to make it thin, taking either means, or taking both means simultaneously. The present invention has been reached.

課題を解決するための第1の発明は、基板上に、液晶性高分子からなる位相差制御層が少なくとも一層積層された積層構造を有し、前記位相差制御層は、(1)前記基板の外周部に余白を残して積層されたものであるか、もしくは(2)前記位相差制御層の中央部から外周部にかけて平坦なものであるか、または前記(1)および前記(2)の両方であることを特徴とする位相差制御基板に関するものである。   A first invention for solving the problem has a laminated structure in which at least one retardation control layer made of a liquid crystalline polymer is laminated on a substrate, and the retardation controlling layer comprises (1) the substrate. Or (2) flat from the center portion to the outer peripheral portion of the retardation control layer, or the above (1) and (2) The present invention relates to a phase difference control board characterized by being both.

また、第2の発明は、第1の発明において、前記位相差制御層がその中央部から外周部にかけて平坦なものであり、前記位相差制御層の外周部の厚みが中央部の厚みにくらべて+10μm以下であることを特徴とする位相差制御基板に関するものである。   According to a second invention, in the first invention, the retardation control layer is flat from the central portion to the outer peripheral portion, and the thickness of the outer peripheral portion of the retardation control layer is larger than the thickness of the central portion. The present invention relates to a phase difference control board characterized by being +10 μm or less.

第3の発明は、第1または第2の発明において、前記位相差制御層に加えてカラーフィルタ層が積層されていることを特徴とする位相差制御基板に関するものである。   A third invention relates to the phase difference control substrate according to the first or second invention, wherein a color filter layer is laminated in addition to the phase difference control layer.

第4の発明は、第1〜第3いずれかの発明の位相差制御基板の前記位相差制御層の前記基板側とは反対側の面にオーバーコート層が積層されており、前記オーバーコート層は、(a)前記基板の外周部に余白を残して積層されたものであるか、もしくは(b)前記オーバーコート層の中央部から外周部にかけて平坦なものであるか、または前記(a)および前記(b)の両方であることを特徴とする位相差制御基板に関するものである。   According to a fourth aspect of the present invention, an overcoat layer is laminated on a surface opposite to the substrate side of the phase difference control layer of the phase difference control substrate of any one of the first to third aspects, and the overcoat layer Is (a) laminated with a margin left on the outer periphery of the substrate, or (b) flat from the center to the outer periphery of the overcoat layer, or (a) Further, the present invention relates to a phase difference control board that is both of the above (b).

第5の発明は、第1〜第4いずれかの発明の構成を有し、かつ片面に透明電極層を有する位相差制御基板および電極層を有する別の基板とが、前記両基板が有する電極層どうしが内側を向いて対向し、前記両基板間に液晶層が封入されていることを特徴とする液晶ディスプレイに関するものである。   5th invention has the structure of any one of 1st-4th invention, and the phase difference control board | substrate which has a transparent electrode layer on one side, and another board | substrate which has an electrode layer, The electrode which the said both board | substrate has The present invention relates to a liquid crystal display characterized in that the layers face each other and face each other, and a liquid crystal layer is sealed between the two substrates.

第6の発明は、基板上に、位相差制御層形成用組成物を用いて塗布することにより位相差制御層を積層した後、溶剤を用いて端面洗浄を行なうことにより、前記基板の外周部における前記位相差制御層を除去して前記基板の外周部に余白を形成するか、または/および前記位相差制御層をその中央部から外周部にかけて平坦化することを特徴とする位相差制御基板の製造方法に関するものである。   According to a sixth aspect of the present invention, an outer peripheral portion of the substrate is formed by laminating a retardation control layer by applying a composition for forming a retardation control layer on a substrate, and then cleaning the end surface using a solvent. The retardation control substrate is characterized in that the retardation control layer is removed to form a margin in the outer peripheral portion of the substrate, and / or the retardation control layer is flattened from the central portion to the outer peripheral portion. It is related with the manufacturing method.

第7の発明は、第7の発明の方法に従って端面洗浄を行った後、前記位相差制御層上を含む前記基板上に、オーバーコート層形成用組成物を用いて塗布しオーバーコート層を積層した後、溶剤を用いて端面洗浄を行なうことにより、前記基板の外周部における前記オーバーコート層を除去して前記基板の外周部に余白を形成するか、または/および前記オーバーコート層をその中央部から外周部にかけて平坦化することを特徴とする位相差制御基板の製造方法に関するものである。   In the seventh invention, after the end face cleaning is performed according to the method of the seventh invention, the overcoat layer is laminated on the substrate including the retardation control layer by using the overcoat layer forming composition. Then, by performing end face cleaning using a solvent, the overcoat layer in the outer peripheral portion of the substrate is removed to form a margin in the outer peripheral portion of the substrate, and / or the overcoat layer is formed in the center thereof. It is related with the manufacturing method of the phase difference control board characterized by planarizing from a part to an outer peripheral part.

請求項1の発明によれば、基板上に積層された位相差制御層は、基板の外周部に余白を残して積層されたものであるか、または/および位相差制御層の中央部から外周部にかけて平坦なものであるために、表示エリア全域に渡って対向基板との間に均一なセルギャップを実現することが可能な位相差制御基板を提供することができる。   According to the invention of claim 1, the retardation control layer laminated on the substrate is laminated with a margin left on the outer peripheral portion of the substrate or / and the outer periphery from the central portion of the retardation control layer. Since it is flat over the part, a phase difference control substrate capable of realizing a uniform cell gap with the counter substrate over the entire display area can be provided.

請求項2の発明によれば、請求項1の発明の効果に加え、位相差制御層の外周部の厚みを中央部の厚みにくらべて+10μm以下と規定したので、より一層セルギャップの均一性を高くすることが可能な位相差制御基板を提供することができる。   According to the invention of claim 2, in addition to the effect of the invention of claim 1, the thickness of the outer peripheral portion of the retardation control layer is defined as +10 μm or less compared to the thickness of the center portion, so that the cell gap uniformity is further increased. It is possible to provide a phase difference control board capable of increasing the height.

請求項3の発明によれば、請求項1または請求項2の発明の効果に加え、カラーフィルタ層が積層されたことにより、画像のカラー表示を可能とする位相差制御基板を提供することができる。   According to the invention of claim 3, in addition to the effect of the invention of claim 1 or 2, it is possible to provide a phase difference control substrate that enables color display of an image by laminating a color filter layer. it can.

請求項4の発明によれば、位相差制御層の基板側とは反対側の面にオーバーコート層が積層された積層構造を有しており、オーバーコート層は、基板の外周部に余白を残して積層されたものであるか、または/およびオーバーコート層の中央部から外周部にかけて平坦なものであるために、表示エリア全域に渡って対向基板との間に均一なセルギャップを実現することが可能な位相差制御基板を提供することができる。   According to the fourth aspect of the present invention, the overcoat layer is laminated on the surface opposite to the substrate side of the retardation control layer, and the overcoat layer has a margin on the outer periphery of the substrate. Since it is laminated and / or is flat from the center to the outer periphery of the overcoat layer, a uniform cell gap is realized between the counter substrate and the entire display area. It is possible to provide a phase difference control board that can be used.

請求項5の発明によれば、請求項1〜請求項4いずれかの発明の効果を発揮し得る位相差制御基板が用いられているので、位相差制御層の外周部の膜厚が厚くなったことに基づく欠点が解消され、しかも切断を伴なわないので、切断による支障も生じることがなく、表示エリア全域に渡って均一なセルギャップを実現できるので、表示される画像のムラが生じ難い液晶ディスプレイを提供することができる。   According to the invention of claim 5, since the retardation control substrate capable of exhibiting the effects of any of claims 1 to 4 is used, the film thickness of the outer peripheral portion of the retardation control layer is increased. This eliminates the disadvantages caused by this phenomenon, and does not involve cutting, so that there is no trouble caused by cutting, and a uniform cell gap can be realized over the entire display area. A liquid crystal display can be provided.

請求項6の発明によれば、基板に位相差制御層を形成した後、端面洗浄を行なうことにより、外周部の位相差制御層を除去するか、厚みを薄くすることができるので、外周部における位相差制御層の盛り上がりに基づく支障を解消することが容易な位相差制御基板の製造方法を提供することができる。   According to the invention of claim 6, the phase difference control layer is formed on the substrate, and then the end face cleaning is performed, so that the phase difference control layer on the outer periphery can be removed or the thickness can be reduced. Thus, it is possible to provide a method for manufacturing a phase difference control board that can easily eliminate the problems caused by the rise of the phase difference control layer.

請求項7の発明によれば、さらにオーバーコート層を積層した場合においても、端面洗浄を行なうことにより、外周部のオーバーコート層を除去するか、厚みを薄くすることができるので、外周部におけるオーバーコート層の盛り上がりに基づく支障も解消することが容易な位相差制御基板の製造方法を提供することができる。   According to the invention of claim 7, even when the overcoat layer is further laminated, the overcoat layer on the outer peripheral portion can be removed or the thickness can be reduced by cleaning the end face. It is possible to provide a method of manufacturing a phase difference control substrate that can easily eliminate the troubles caused by the overcoating of the overcoat layer.

図1および図2は本発明の位相差制御板の例、およびこれらを用いた液晶ディスプレイの積層構造の例を示す図である。なお、図1(a)および図2(a)に示す位相差制御板1は、除去線5aもしくは5bが付加されていることを除いて、図4(a)に示すものと同じである。   FIG. 1 and FIG. 2 are views showing examples of the retardation control plate of the present invention and examples of a laminated structure of a liquid crystal display using these. The phase difference control plate 1 shown in FIGS. 1 (a) and 2 (a) is the same as that shown in FIG. 4 (a) except that a removal line 5a or 5b is added.

図1(a)に示すように、位相差制御板1は、基板2上にカラーフィルタ(図中、「CF」で示す。)層3が左右方向に2画面分配置されて積層され、これらカラーフィルタ層3上も含めて基板2上には位相差制御層4が積層されており、位相差制御層4は、位相差制御層形成用の塗料組成物の塗布および乾燥によって形成されたものであって、位相差制御層4の表面(図中の上面)は基板2の外周部を除いて平坦部4bを有しており、基板2の外周部において、位相差制御層4の膜厚の厚くなった盛り上がり部分4aを有しているものである。   As shown in FIG. 1A, the phase difference control plate 1 is formed by laminating a color filter (indicated by “CF” in the figure) layers 3 on a substrate 2 in two horizontal directions. A retardation control layer 4 is laminated on the substrate 2 including the color filter layer 3, and the retardation control layer 4 is formed by applying and drying a coating composition for forming the retardation control layer. The surface (upper surface in the drawing) of the phase difference control layer 4 has a flat portion 4 b except for the outer peripheral portion of the substrate 2, and the film thickness of the phase difference control layer 4 at the outer peripheral portion of the substrate 2. It has a thickened raised portion 4a.

図1を引用して説明する例においては、形成された位相差制御層4の表面の盛り上がり部分4aと平坦部4bとの境界から基板2に対して垂直に向かう除去線5aを境として、除去線5aよりも外側の部分の位相差制御層4を除去し、基板2の表面の、盛り上がり部分4aのあった部分に露出部2aを生じさせ、平坦部4bのみからなる位相差制層4を有する位相差制御基板1aを形成する(図1(b))。   In the example described with reference to FIG. 1, removal is performed with a removal line 5 a extending perpendicularly to the substrate 2 from the boundary between the raised portion 4 a and the flat portion 4 b on the surface of the formed retardation control layer 4 as a boundary. The phase difference control layer 4 in the portion outside the line 5a is removed, the exposed portion 2a is formed in the portion of the surface of the substrate 2 where the raised portion 4a is present, and the phase difference control layer 4 consisting only of the flat portion 4b is formed. A phase difference control substrate 1a having the same is formed (FIG. 1B).

図1(b)に示す位相差制御基板1aを用いて液晶ディスプレイを構成する例を図1(c)を引用して説明すると、位相差制御基板1a上に対向基板7を向かい合わせ、残った位相差制御層4の外周部において、位相差制御基板1aと対向基板7をシール剤6を介して接合することによりシールを行ない、シール後、各チップ毎に切断した後、位相差制御基板1aと対向基板7との間のシールにより形成された空隙に液晶層を封入してセルギャップが均一な液晶ディスプレイ5aを構成することができる(図1(d))。この場合、シール工程の後に、切断処理を行なうので、切断の際に生じたガラス片等により、液晶ディスプレイ5aを構成する各基板の液晶に接する側の面が汚染される危険性が無い。なお、空隙の間隔、即ち、セルギャップを一定に保つ目的で、ビーズ状のスペーサ粒子が散布されていてもよい。位相差制御基板および対向基板の内側には、通常、液晶層を駆動するための電極層、および液晶を配向させるための配向層が形成され、位相差制御基板側の電極層は透明電極層であることが好ましい。   An example in which a liquid crystal display is configured using the phase difference control substrate 1a shown in FIG. 1B will be described with reference to FIG. 1C. The counter substrate 7 faces the phase difference control substrate 1a and remains. At the outer periphery of the phase difference control layer 4, the phase difference control substrate 1a and the counter substrate 7 are bonded together via a sealant 6 to perform sealing, and after sealing, each chip is cut and then the phase difference control substrate 1a. A liquid crystal layer 5 is sealed in a gap formed by a seal between the liquid crystal display 5 and the counter substrate 7 to form a liquid crystal display 5a having a uniform cell gap (FIG. 1D). In this case, since the cutting process is performed after the sealing step, there is no risk of contamination of the surface of each substrate in contact with the liquid crystal of the liquid crystal display 5a due to glass pieces or the like generated during the cutting. In addition, bead-like spacer particles may be dispersed for the purpose of keeping the gap interval, that is, the cell gap constant. An electrode layer for driving the liquid crystal layer and an alignment layer for aligning the liquid crystal are usually formed inside the retardation control substrate and the counter substrate. The electrode layer on the retardation control substrate side is a transparent electrode layer. Preferably there is.

次に、図2を引用して説明する例においては、位相差制御層4の表面の盛り上がり部分4aの上部を、平坦部4bの表面から外周部に向かって延長された除去線5b(図2(a))を境として、位相差制御層4の外周部の除去線5bよりも上側の部分を除去する薄膜化処理を行ない、基板2の表面の、盛り上がり部分4aのあった部分に、盛り上がり部分の形跡である僅かな盛り上がり部分4a’を残す。この例では、除去線5bと基板2の表面との間隔は、基板2の外側に近づくに伴い、基板2から離れるよう想定されており、平坦部4bに加えて、外周部が外に向かうほど若干厚くなった傾斜部4a’を有する位相差制層4が形成された位相差制御基板1bを得る(図2(b))。   Next, in the example described with reference to FIG. 2, the removal line 5 b (FIG. 2) extending from the surface of the flat portion 4 b toward the outer periphery of the upper portion of the raised portion 4 a on the surface of the phase difference control layer 4. Using (a)) as a boundary, thinning processing is performed to remove the portion above the removal line 5b on the outer periphery of the phase difference control layer 4, and the surface of the substrate 2 rises to the portion where the raised portion 4a was present. A slight raised portion 4a ′ which is a trace of the portion is left. In this example, the distance between the removal line 5b and the surface of the substrate 2 is assumed to move away from the substrate 2 as it approaches the outside of the substrate 2, and as the outer peripheral portion goes outward in addition to the flat portion 4b. A phase difference control substrate 1b on which the phase difference control layer 4 having the slightly inclined portion 4a ′ is formed is obtained (FIG. 2B).

図2(b)に示す位相差制御基板1bも、図1(b)に示す位相差制御基板1aと同様にして、位相差制御基板1bと対向基板7とを向かい合わせ、位相差制御層4aの外周部において、シール剤6を介して接合してシールを行ない、シール後、各チップ毎に切断した後、間に液晶層を封入して液晶ディスプレイ5bとすることができる(図2(c))。この場合も、シール工程の後に、切断処理を行なうので、切断の際に生じたガラス片等により、液晶ディスプレイ5aを構成する各基板の液晶に接する側の面が汚染される危険性が無い。スペーサ粒子、電極層、および配向層に関しては図1を引用して説明したのと同様である。   Similarly to the phase difference control substrate 1a shown in FIG. 1B, the phase difference control substrate 1b shown in FIG. 2B also faces the phase difference control substrate 1b and the counter substrate 7, and the phase difference control layer 4a. In the outer peripheral portion of the substrate, sealing is performed by bonding through a sealant 6, and after sealing, the chip is cut for each chip, and then a liquid crystal layer is sealed between them to form a liquid crystal display 5 b (FIG. 2C )). Also in this case, since the cutting process is performed after the sealing step, there is no risk of contamination of the surface of each substrate in contact with the liquid crystal of the liquid crystal display 5a due to glass pieces or the like generated at the time of cutting. The spacer particles, the electrode layer, and the alignment layer are the same as described with reference to FIG.

このとき、外周のシール剤6は、傾斜部4a’上に設けた場合、外周部における位相差制御基板1bと対向基板7との間隔は、外周部において若干広くなるものの(図2(c))、元の盛り上がり部分4aの高さにくらべれば、傾斜部4a’の高さは低くなっているので、セルギャップの不均一性が改善されている。   At this time, when the outer peripheral sealing agent 6 is provided on the inclined portion 4a ′, the distance between the phase difference control substrate 1b and the counter substrate 7 in the outer peripheral portion is slightly wider in the outer peripheral portion (FIG. 2C). ) Since the height of the inclined portion 4a ′ is lower than the height of the original raised portion 4a, the nonuniformity of the cell gap is improved.

なお上記において、傾斜部4a’を外に向かうほど若干薄くなるよう形成してもよいし、傾斜部4a’とせず、平坦部4bと同一な平面となるようにしてもよい。ここで、位相差制御層4の外周部を薄膜化する薄膜化処理を行なう場合には、位相差制御層4の外周部の厚み(最大厚みである。)が位相差制御層の中央部の厚みにくらべて+10μm以下となるよう平坦化することが好ましい。勿論、理想的には差が0μmであることがより好ましい。   In the above, the inclined portion 4a 'may be formed so as to be slightly thinner toward the outside, or may be formed in the same plane as the flat portion 4b, not the inclined portion 4a'. Here, when the thinning process for thinning the outer peripheral portion of the phase difference control layer 4 is performed, the thickness (maximum thickness) of the outer peripheral portion of the phase difference control layer 4 is the central portion of the phase difference control layer. It is preferable to planarize to be +10 μm or less compared to the thickness. Of course, ideally, the difference is more preferably 0 μm.

図3は盛り上がり部分4aを有する位相差制御基板1と、本発明の位相差制御基板1a(もしくは1b)との関係を平面的に示す図である。図3に示す例では、カラーフィルタ層3が左右方向に2画面分、上下方向に3画面分配置されて積層された上に、位相差制御層4が積層されており、位相差制御層4の基板の外周部に縁状に、膜厚の厚くなった盛り上がり部分4aを有して位相差制御基板1が構成されている。   FIG. 3 is a plan view showing the relationship between the phase difference control board 1 having the raised portion 4a and the phase difference control board 1a (or 1b) of the present invention. In the example shown in FIG. 3, the color filter layer 3 is arranged by laminating two screens in the left-right direction and three screens in the up-down direction, and the phase difference control layer 4 is laminated. The phase difference control substrate 1 is configured to have a raised portion 4a having a thick film on the outer periphery of the substrate.

従って、盛り上がり部分4aが位相差制御層4のその他の平坦部4bとくらべて相対的に盛り上がった関係が解消すればよいから、位相差制御層4の盛り上がり部分4aを、その厚み全体を基板上から完全に除去してもよいし、あるいは位相差制御層4の平面的な面積の変化を伴なうこと無く、盛り上がり部分4aの平坦部4bよりも突出した部分のみ除去して、僅かな盛り上がり部分4a’、もしくはまったく平坦な部分としてもよい。また、後者の突出した部分のみ除去する場合に、除去した部分が平坦部4bよりも厚みが薄くなってもよい。   Therefore, the relationship where the raised portion 4a is raised relative to the other flat portions 4b of the phase difference control layer 4 only has to be eliminated. Therefore, the raised portion 4a of the phase difference control layer 4 is formed over the entire thickness of the substrate. May be completely removed or only a portion protruding from the flat portion 4b of the raised portion 4a may be removed without causing a change in the planar area of the phase difference control layer 4, and a slight rise The portion 4a ′ or a completely flat portion may be used. Further, when only the latter protruding portion is removed, the removed portion may be thinner than the flat portion 4b.

図1および図2を引用して説明した内容にかかわらず、位相差制御層4の盛り上がり部分4aを表面から基板表面に至るまで除去するとは、盛り上がり部分4aの基板2の中央寄りの部分が若干残った状態になることも含む。この場合、外周部には盛り上がり部分4aの一部が平坦部よりも突出した突出部を形成するが、突出部の突出高さが位相差制御層の中央部の厚みにくらべて+10μm以下であることが好ましく、0μmであることがより好ましい。また、既に述べた、盛り上がり部分4aの平坦部4bよりも突出した部分を除去するとは、突出した部分が若干残った状態になることも含む。盛り上がり部分4aを表面から基板表面に至るまで除去すること、および、盛り上がり部分4aの平坦部4bよりも突出した部分を除去することは、いずれか一方のみを行なえば足りるが、両方を併用してもよい。   Regardless of what has been described with reference to FIGS. 1 and 2, removing the raised portion 4 a of the phase difference control layer 4 from the surface to the substrate surface means that the portion of the raised portion 4 a near the center of the substrate 2 is slightly. Including remaining state. In this case, a protruding portion in which a part of the raised portion 4a protrudes from the flat portion is formed on the outer peripheral portion, but the protruding height of the protruding portion is +10 μm or less compared to the thickness of the central portion of the phase difference control layer. Is preferable, and 0 μm is more preferable. Moreover, removing the part which protruded rather than the flat part 4b of the bulging part 4a already mentioned includes that the part which protruded remains a little. The removal of the raised portion 4a from the surface to the substrate surface and the removal of the protruding portion of the raised portion 4a from the flat portion 4b are sufficient if only one of them is performed. Also good.

以上の説明において、位相差制御基板1(1a、1bを含む。)は、基板2上にカラーフィルタ層3、および位相差制御層4が順に積層されたものを例に説明したが、位相差制御層4は単層でも複層であってもよい。本発明は基板2上に少なくとも位相差制御層4が積層されたものであれば成り立つので、カラーフィルタ層3を欠いてもよいし、逆に、基板2と位相差制御層4以外に、種々の層が積層されていてもよい。種々の層としては、カラーフィルタ層3も含め、ブラックマトリックス、オーバーコート層、配向層、もしくは電極層等である。ブラックマトリックスは例えば基板とカラーフィルタ層3との間に積層され、オーバーコート層は、位相差制御層4の基板2側とは反対側の面に積層され、また、電極層および配向層は、位相差制御層4の基板側とは反対側に、位相差制御層4側から電極層、配向層の順に積層される。   In the above description, the phase difference control substrate 1 (including 1a and 1b) has been described as an example in which the color filter layer 3 and the phase difference control layer 4 are sequentially laminated on the substrate 2. The control layer 4 may be a single layer or multiple layers. Since the present invention is valid as long as at least the phase difference control layer 4 is laminated on the substrate 2, the color filter layer 3 may be omitted. Conversely, in addition to the substrate 2 and the phase difference control layer 4, there are various types. These layers may be laminated. Examples of the various layers include a black matrix, an overcoat layer, an alignment layer, or an electrode layer including the color filter layer 3. For example, the black matrix is laminated between the substrate and the color filter layer 3, the overcoat layer is laminated on the surface opposite to the substrate 2 side of the retardation control layer 4, and the electrode layer and the alignment layer are On the side opposite to the substrate side of the phase difference control layer 4, the electrode layer and the alignment layer are laminated in this order from the phase difference control layer 4 side.

上記の位相差制御層4以外の種々の層も、塗布によって設けられる場合には、基板の端面から外周部にかけて、層の厚みが厚くなって盛り上がり部分を形成する問題があり得る。そのような場合には、位相差制御層4の盛り上がり部分4aを除去するのと同様な方法により、盛り上がり部分を除去することが好ましい。特に、位相差制御層4の基板2側とは反対側の面にオーバーコート層が積層される場合には、オーバーコート層が全面に形成されることが多く、厚みも厚いために、盛り上がり部分が生じることによる支障も大きいから、盛り上がり部分を除去することが好ましい。オーバーコート層の盛り上がり部分の除去も、(a)盛り上がり部分を表面から基板表面に至るまで除去すること、もしくは(b)盛り上がり部分の平坦部よりも突出した部分を除去すること、のいずれか一方のみを行なうか、または(a)および(b)の両方を行なうことによればよい。オーバーコート層が、このように盛り上がり部分が除去されていることにより、図1(c)および図2(c)を引用して説明したのと同様、セルギャップの均一性が向上した液晶ディスプレイを得ることができる。   When various layers other than the above-described phase difference control layer 4 are also provided by coating, there is a problem that the layer thickness increases from the end surface of the substrate to the outer peripheral portion to form a raised portion. In such a case, it is preferable to remove the raised portion by the same method as that for removing the raised portion 4a of the phase difference control layer 4. In particular, when an overcoat layer is laminated on the surface opposite to the substrate 2 side of the phase difference control layer 4, the overcoat layer is often formed on the entire surface, and the thickness is also thick. It is preferable to remove the swelled portion because there is a great trouble caused by the occurrence of the above. The removal of the raised portion of the overcoat layer is either one of (a) removing the raised portion from the surface to the substrate surface, or (b) removing the portion protruding from the flat portion of the raised portion. Or both (a) and (b) may be performed. As described above with reference to FIGS. 1 (c) and 2 (c), the liquid crystal display with improved cell gap uniformity is obtained by removing the raised portion of the overcoat layer. Can be obtained.

本発明における位相差制御基板の基板2としては、ガラス、シリコン、もしくは石英等の無機基材か、次に列挙するような有機基材を挙げることができる。有機基材としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、もしくはシンジオタクティック・ポリスチレン等、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等、または、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミド等からなるものを挙げることができるが、ポリプロピレンやその他の一般的なプラスチックからなるものも使用可能である。基板2の厚みには、特に限定は無いが、用途に応じ、例えば、5μm〜1mm程度のものが使用される。   Examples of the substrate 2 of the retardation control substrate in the present invention include inorganic base materials such as glass, silicon, and quartz, and organic base materials as listed below. Examples of organic base materials include acrylics such as polymethyl methacrylate, polyamide, polyacetal, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, or syndiotactic polystyrene, polyphenylene sulfide, polyether ketone, polyether ether Ketone, fluororesin, polyether nitrile, etc., polycarbonate, modified polyphenylene ether, polycyclohexene, polynorbornene resin, etc., or polysulfone, polyethersulfone, polysulfone, polyarylate, polyamideimide, polyetherimide, or heat Examples include plastic polyimide, but polypropylene and other common polypropylene. Made of sticks can also be used. Although there is no limitation in particular in the thickness of the board | substrate 2, a thing of about 5 micrometers-1 mm is used according to a use, for example.

ブラックマトリックスは、黒色着色剤を含有する塗料タイプの樹脂組成物を一面に適用して、一旦固化させた後、フォトレジストを適用して行なうか、もしくは、黒色着色剤を含有する塗料タイプの感光性樹脂組成物を用いて、塗布、露光および現像を行なうことにより形成することができ、従って、黒色着色剤を含有する樹脂組成物から構成することができる。   The black matrix is formed by applying a paint-type resin composition containing a black colorant to one side and solidifying it once, and then applying a photoresist, or a paint-type photosensitive resin containing a black colorant. It can form by performing application | coating, exposure, and image development using a conductive resin composition, Therefore, it can comprise from the resin composition containing a black coloring agent.

あるいは、ブラックマトリックスは、CrOx/Cr(xは任意の数、「/」は積層を表す。)の積層構造からなる2層クロムブラックマトリックス、あるいはさらに反射率を低減させたCrOx/CrNy/Cr(x,yは任意の数)の積層構造からなる3層クロムブラックマトリックス等を、蒸着、イオンプレーティング、もしくはスパッタリング等の各種の方法で必要に応じ金属、金属酸化物、もしくは金属窒化物等の薄膜を形成し、フォトリソグラフィー法を利用してパターン化する方法、無電界メッキ法、もしくは黒色のインキ組成物を用いた印刷法等を利用しても形成することができる。ブラックマトリックスの厚みは、薄膜で形成する場合には、0.2μm〜0.4μm程度であり、印刷法によるときは0.5μm〜2μm程度である。   Alternatively, the black matrix is a two-layer chrome black matrix having a laminated structure of CrOx / Cr (x is an arbitrary number, “/” represents a laminated structure), or CrOx / CrNy / Cr (with reduced reflectance). x, y are arbitrary numbers), and a three-layer chrome black matrix or the like is formed by various methods such as vapor deposition, ion plating, or sputtering. It can also be formed by forming a thin film and patterning it using photolithography, electroless plating, or printing using black ink composition. The thickness of the black matrix is about 0.2 μm to 0.4 μm when formed as a thin film, and about 0.5 μm to 2 μm when formed by a printing method.

カラーフィルタ層4の各色パターンは、ブラックマトリックスの開孔部毎に設けたものであってもよいが、便宜的には、図1における手前側から奥側の方向に帯状に設けたものであってもよい。カラーフィルタ層4を形成するには、所定の色に着色したインキ組成物を調製して、各色パターン毎に印刷することによって行なってもよいが、所定の色の着色剤を含有した塗料タイプの感光性樹脂組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によって行なうのがより好ましい。カラーフィルタ層4の厚みは、1μm〜5μm程度である。   Each color pattern of the color filter layer 4 may be provided for each aperture of the black matrix, but for convenience, it is provided in a strip shape from the front side to the back side in FIG. May be. The color filter layer 4 may be formed by preparing an ink composition colored in a predetermined color and printing it for each color pattern. However, a paint type containing a colorant of a predetermined color may be used. It is more preferable to carry out by a photolithography method using the photosensitive resin composition. The thickness of the color filter layer 4 is about 1 μm to 5 μm.

位相差制御層4を形成するに先立ち、必要に応じて配向膜を形成する。配向膜は位相差制御層4を構成するために用いる液晶高分子を所定の方向に配列させるためのもので、ポリアミド樹脂もしくはポリイミド樹脂等の樹脂の被膜を、これらの樹脂を溶解した樹脂組成物を塗布し、乾燥させることにより形成した後、布を巻き付けたローラ等により所定の方向に摩擦するラビングを施すことにより、形成することができる。なお、位相差制御層4を二層重ねる際にも、一層目と二層目との間に配向膜を積層することが好ましい。   Prior to forming the phase difference control layer 4, an alignment film is formed as necessary. The alignment film is for aligning liquid crystal polymers used for constituting the phase difference control layer 4 in a predetermined direction. A resin composition in which a resin film such as a polyamide resin or a polyimide resin is dissolved. Can be formed by applying rubbing that rubs in a predetermined direction with a roller or the like around which the cloth is wound. In addition, when stacking two layers of the phase difference control layer 4, it is preferable to stack an alignment film between the first layer and the second layer.

位相差制御層4は、光軸が層に水平な位相差制御層4を形成する場合には、重合性の液晶性モノマーを重合させることにより形成することができ、具体的には、そのようなモノマーに光重合開始剤を配合した光重合性液晶組成物である位相差制御層形成用組成物を塗布し、紫外線露光する等により形成することができ、また、光軸が層に垂直な位相差制御層4を形成する場合には、さらにキラル剤、好ましくは重合性キラル剤を配合した光重合性液晶組成物である位相差制御層形成用組成物を用いて、同様に形成することができる。   The phase difference control layer 4 can be formed by polymerizing a polymerizable liquid crystalline monomer when the phase difference control layer 4 whose optical axis is horizontal to the layer is formed, specifically, The composition can be formed by applying a composition for forming a retardation control layer, which is a photopolymerizable liquid crystal composition in which a photopolymerization initiator is blended with a monomer, and exposing to ultraviolet rays, and the optical axis is perpendicular to the layer. When forming the retardation control layer 4, it is similarly formed using a composition for forming a retardation control layer, which is a photopolymerizable liquid crystal composition containing a chiral agent, preferably a polymerizable chiral agent. Can do.

重合性の液晶モノマーとしては、例えば特表平10−508882号に、また、重合性キラル剤としては、例えば特開平7−258638号に開示されているような公知のものを使用することができるが、より具体的には、重合性液晶モノマーとしては、下記式(1)〜式(11)に示すようなものが、また、キラル剤としては、下記式(12)〜式(14)に示すようなものを例示することができる。   As the polymerizable liquid crystal monomer, for example, known ones as disclosed in JP-T-10-508882 and as the polymerizable chiral agent can be used, for example, as disclosed in JP-A-7-258638. More specifically, examples of the polymerizable liquid crystal monomer include those represented by the following formulas (1) to (11), and examples of the chiral agent include those represented by the following formulas (12) to (14). The following can be exemplified.

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上記各式の表記において、「式11」〜「式14」中のいずれもメチレン基の数(アルキレン基の鎖長)を示すa〜eはいずれも整数であって、まず、a、bが、各々個別に2〜12であり、より好ましくは4〜10、特に好ましくは6〜9であり、c、dはいずれも2〜12であり、より好ましくは4〜10であり、特に好ましくは6〜9であり、さらにeは2〜6である。また、「式12」および「式13」中のYは、「化15」および「化16」に示す「式i」〜「式xxiv」のいずれかであって、より好ましくは「式i」、「式ii」、「式iii」、「式v」、もしくは「式vii」のいずれかである。
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In the above formulas, “a” to “e” indicating the number of methylene groups (chain length of the alkylene group) in “Formula 11” to “Formula 14” are all integers. , Individually 2 to 12, more preferably 4 to 10, particularly preferably 6 to 9, and c and d are both 2 to 12, more preferably 4 to 10, particularly preferably. 6-9, and e is 2-6. Y in “Formula 12” and “Formula 13” is any one of “Formula i” to “Formula xxiv” shown in “Formula 15” and “Formula 16”, and more preferably “Formula i”. , “Formula ii”, “formula iii”, “formula v”, or “formula vii”.

位相差制御層4を形成するには、上記のような光重合性液晶組成物を用い、必要に応じて溶剤で溶解もしくは希釈し、スピンコーティング法、ダイコーティング、スリットコーティング、もしくはその他の適宜な方法により、対象面上に塗布を行ない、紫外線を照射して重合させることにより行なう。   In order to form the phase difference control layer 4, the photopolymerizable liquid crystal composition as described above is used, dissolved or diluted with a solvent as necessary, and spin coating method, die coating, slit coating, or other appropriate methods. According to the method, coating is performed on the target surface, and polymerization is performed by irradiating with ultraviolet rays.

得られた位相差制御層4には、外周部に盛り上がり部分4aを有しており、支障となるため、先に述べたように、盛り上がり部分4aを表面から基板表面に至るまで除去するか、もしくは、盛り上がり部分4aの平坦部4bよりも突出した部分を除去する。これらの除去は、位相差制御層4を光重合性液晶組成物を用いて形成する際に、重合前もしくは重合後に行なうことができる。位相差制御層4が複層である場合には、これらの除去は、層ごとに行なってもよいし、複層の位相差制御層4を積層した後に行なってもよい。   The obtained phase difference control layer 4 has a bulging portion 4a on the outer peripheral portion, which is a problem, so as described above, the bulging portion 4a is removed from the surface to the substrate surface, Or the part which protruded rather than the flat part 4b of the rising part 4a is removed. These removals can be performed before or after polymerization when the retardation control layer 4 is formed using a photopolymerizable liquid crystal composition. When the phase difference control layer 4 is a multilayer, these removals may be performed for each layer or after the multilayer phase difference control layer 4 is laminated.

上記の除去を行なうには、有機溶剤を用いた基板の端面洗浄によることが好ましく、有機溶剤を、図1を引用して説明した、位相差制御層4の盛り上がり部分4aと平坦部4bとの境界に設定した除去線5aよりも、基板2の端部寄りの箇所にのみ吹き出させて、有機溶剤による溶解を行なわせる。吹き出た有機溶剤が除去線5aよりも基板2の中央寄りに流れることを防止するため、基板2の端部側から真空もしくは減圧による排気を行なうことが好ましい。例えば、断面が「コ」の字形等の一方が開いた領域に、開いた側から領域の内部に位相差制御層4を有する基板2の端部を挿入し、「コ」の字の上の線に相当する内面に下向きに設置したノズルにより有機溶剤を吹出させ、「コ」の字の右側の縦の線に相当する位置に設置した排気口もしくは減圧口から、真空もしくは減圧による排気を行なって、吹き出た有機溶剤の流れが一方向になるよう規制することにより、有機溶剤を連続的に吹出させ、必要に応じ、位相差制御層4を有する基板2を連続的に移動させることにより、端面洗浄による位相差制御層4の盛り上がり部分4aの除去を行なうことができ、あるいは盛り上がり部分4aの厚みを薄くすることができる。なお、ノズルを「コ」の字の下の線に相当する内面に上向きに設置することにより、基板2の下側に設けた位相差制御層4の盛り上がり部分を除去することができる。有機溶剤を用いた基板の端面洗浄は、基板2の端部側に向けて傾けて設置したノズルを用いて行なってもよく、このように行なっても、吹き出た有機溶剤が所定の位置よりも基板2の中央寄りに流れることを防止することができる。   In order to perform the above-described removal, it is preferable to clean the end face of the substrate using an organic solvent. The organic solvent is formed between the raised portion 4a and the flat portion 4b of the retardation control layer 4 described with reference to FIG. It blows out only to the part near the edge part of the board | substrate 2 rather than the removal line 5a set to the boundary, and makes it melt | dissolve with an organic solvent. In order to prevent the blown-out organic solvent from flowing closer to the center of the substrate 2 than the removal line 5a, it is preferable to perform evacuation by vacuum or reduced pressure from the end side of the substrate 2. For example, an end portion of the substrate 2 having the phase difference control layer 4 is inserted into the region where one side is open, such as a U-shaped cross section from the opened side, The organic solvent is blown out by the nozzle installed downward on the inner surface corresponding to the wire, and exhausted by vacuum or reduced pressure from the exhaust port or decompression port installed at the position corresponding to the vertical line on the right side of the “U” By restricting the flow of the blown organic solvent in one direction, the organic solvent is blown continuously, and if necessary, the substrate 2 having the phase difference control layer 4 is moved continuously, The raised portion 4a of the retardation control layer 4 can be removed by end face cleaning, or the thickness of the raised portion 4a can be reduced. In addition, the rising portion of the phase difference control layer 4 provided on the lower side of the substrate 2 can be removed by installing the nozzle upward on the inner surface corresponding to the lower line of the “U”. The cleaning of the end face of the substrate using the organic solvent may be performed using a nozzle that is inclined toward the end side of the substrate 2, and even if it is performed in this way, the blown-out organic solvent is more than the predetermined position. Flowing toward the center of the substrate 2 can be prevented.

端面洗浄に用いる有機溶剤としては、基本的にはほとんどのものが使用可能であるが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、もしくはシクロヘキサノン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、もしくはメトキシブチルアセテート等のエステル系溶剤、メタノール、エタノール、もしくはイソプロパノール等のアルコール系溶剤、クロロホルム、塩化メチレン、もしくは四塩化炭素等のハロゲン系溶剤、または、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、もしくはキシレンが使用可能である。   Almost all organic solvents can be used for end face cleaning. For example, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, or cyclohexanone, ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, or methoxybutyl acetate. An ester solvent such as methanol, ethanol or isopropanol, a halogen solvent such as chloroform, methylene chloride or carbon tetrachloride, or tetrahydrofuran, benzene, toluene or xylene can be used.

特に、位相差制御層4を、液晶性モノマーを用い、紫外線露光等により硬化させて形成した後に、有機溶剤を用いた基板の端面洗浄を行なう際には、上記の有機溶剤のうちでも、比較的溶解度の高い溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、クロロホルム、塩化メチレン、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルアセトアミド、もしくはジメチルホルムアミド等を用いることがより好ましい。   In particular, when the substrate surface is cleaned with an organic solvent after the retardation control layer 4 is formed by using a liquid crystalline monomer and cured by ultraviolet exposure or the like, among the above organic solvents, the comparison is performed. It is more preferable to use a solvent having a high general solubility, such as tetrahydrofuran, chloroform, methylene chloride, N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone, dimethylacetamide, or dimethylformamide.

また、基板の端面洗浄をより確実に行なうためには、ブラシやスポンジ等を接触させて行なう摩擦洗浄を併用することもできる。   In order to more reliably clean the end face of the substrate, friction cleaning performed by bringing a brush, a sponge or the like into contact can be used in combination.

上記の除去は、適宜な砥粒をシート上に散布して接着したサンドペーパー等を用いて行なう通常の研摩法のほか、化学的研摩法、もしくは機械的研摩法、またはそれらを併用したメカノケミカルポリッシング(MCP、ケミカルメカニカルポリッシング(CMP)とも言われる。)によっても行うことができる。化学的研摩法は、例えば、布、不織布、もしくはポリウレタン樹脂等の発泡体からなる研摩部材に、研摩剤として、エッチング性の液体を供給して行うものであり、ここでは、上記の有機溶剤を用いて行なうことができる。機械的研摩法は、例えば、布、不織布、もしくはポリウレタン樹脂等の発泡体を研摩部材とし、コロイダルシリカもしくは酸化セリウムの微粉末を研摩剤として含浸させて用いるか、またはコロイダルシリカもしくは酸化セリウムを分散させた分散液を供給して行なうものである。いずれにせよ、対象物と研磨部材とを相対的に移動させつつ、位相差制御層の外周部に研摩部材を接触させ、必要に応じて研摩剤を供給しながら行なう。これらの化学的研摩法、機械的研摩法、もしくはそれらを併用したメカノケミカルポリッシング、または通常の研摩法は、位相差制御層4を重合性の液晶性モノマーを用いて形成する場合には、紫外線露光等を行なって硬化させた後に、行なうことが好ましい。   The above removal is performed by using a sandpaper or the like, which is obtained by spreading and adhering appropriate abrasive grains on a sheet, and a chemical polishing method or a mechanical polishing method, or a mechanochemical using them in combination. Polishing (also referred to as MCP or chemical mechanical polishing (CMP)) can be performed. The chemical polishing method is performed, for example, by supplying an etching liquid as an abrasive to an abrasive member made of a foam such as cloth, non-woven fabric, or polyurethane resin. Can be used. The mechanical polishing method uses, for example, cloth, non-woven fabric, or polyurethane resin as a polishing member, impregnated with fine powder of colloidal silica or cerium oxide as an abrasive, or disperses colloidal silica or cerium oxide. This is performed by supplying the dispersed liquid. In any case, the polishing member is brought into contact with the outer peripheral portion of the phase difference control layer while relatively moving the object and the polishing member, and the polishing agent is supplied as necessary. These chemical polishing methods, mechanical polishing methods, or mechanochemical polishing using them in combination, or ordinary polishing methods, are used when the retardation control layer 4 is formed using a polymerizable liquid crystalline monomer. It is preferable to carry out after curing by exposure or the like.

オーバーコート層は、通常の塗料バインダ用の透明な熱可塑性樹脂を用いて構成することもできるが、好ましくは、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂(実際には、電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性樹脂であって、後者であることが多い。)の硬化物で構成されたものであることが好ましい。オーバーコート層はオーバーコート層形成用組成物を用いて塗布、乾燥するか、または、電離放射線硬化性樹脂を、必要に応じ、溶剤、希釈剤、もしくはモノマー等、さらには、適宜な添加剤と共に混合して得た電離放射線硬化性のオーバーコート層形成用組成物を用いて一様に塗布し、乾燥させた後、電離放射線を照射して硬化させることによって形成することができる。このオーバーコート層にも、位相差制御層4に対して行なうのと同様な端面洗浄を行なうことにより、基板2の外周部におけるオーバーコート層を除去するか、オーバーコート層の外周部の厚みを薄くして、オーバーコート層の中央部から外周部にかけて平坦化することができ、オーバーコート層を伴なわない位相差制御層4が端面洗浄された際と同様な効果を生じ得る。   The overcoat layer can also be formed using a transparent thermoplastic resin for a normal paint binder, but preferably an acrylate-based, methacrylate-based, polyvinyl cinnamate-based, or cyclized rubber-based reactive agent. It is preferably made of a cured product of an ionizing radiation curable resin having a vinyl group (actually, an electron beam curable resin or an ultraviolet curable resin, which is often the latter). The overcoat layer is applied and dried using the overcoat layer forming composition, or the ionizing radiation curable resin is mixed with a solvent, a diluent, a monomer, or the like, and an appropriate additive as necessary. It can be formed by uniformly applying and drying an ionizing radiation-curable composition for forming an overcoat layer obtained by mixing, and then curing it by irradiation with ionizing radiation. The overcoat layer is also subjected to end face cleaning similar to that performed for the retardation control layer 4 to remove the overcoat layer on the outer periphery of the substrate 2 or to reduce the thickness of the outer periphery of the overcoat layer. It can be thinned and flattened from the center portion to the outer peripheral portion of the overcoat layer, and the same effect as when the phase difference control layer 4 without the overcoat layer is end-face cleaned can be produced.

以下に、本発明の位相差制御基板を、基板上にカラーフィルタ層を介して位相差制御層を積層したものを例により具体的に説明する。   The phase difference control substrate of the present invention will be specifically described below by way of example in which a phase difference control layer is laminated on a substrate via a color filter layer.

基板上に形成するブラックマトリックスおよびカラーフィルタ層の各色パターンを形成するための各感光性樹脂組成物(以降においてフォトレジストと称する。)を調製した。各フォトレジストは、顔料、分散剤、および溶媒にビーズを加え、ペイントシェーカーを分散機として用い、3時間分散させた後、ビーズを取り除いて得られた分散液と、ポリマー、モノマー、添加剤、開始剤および溶剤からなるレジスト組成物とを混合することにより調製した。各フォトレジストの組成は下記に示す通りで、部数はいずれも質量基準である。
ブラックマトリックス形成用フォトレジスト
・黒顔料・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・14.0部
(大日精化工業(株)製、TMブラック#9550)
・分散剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・1.2部
(ビックケミー(株)製、ディスパービック111)
・ポリマー・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・2.8部
(昭和高分子(株)製、(メタ)アクリル系樹脂、品番;VR60)
・モノマー・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・3.5部
(サートマー(株)製、多官能アクリレート、品番;SR399)
・添加剤(分散性改良剤)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.7部
(綜研化学(株)製、ケミトリーL−20)
・開始剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・1.6部
(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1)
・開始剤(4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン)・・・・・・0.3部
・開始剤(2,4−ジエチルチオキサントン)・・・・・・・・・・0.1部
・溶剤(エチレングリコールモノブチルエーテル)・・・・・・・75.8部
赤色パターン形成用フォトレジスト
・赤色顔料(C.I.PR254)・・・・・・・・・・・・・・・3.5部
(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)、クロモフタールDPP Red BP)
・黄色顔料(C.I.PY139)・・・・・・・・・・・・・・・0.6部
(BASF社製、パリオトールイエローD1819))
・分散剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・3.0部
(ゼネカ(株)製、ソルスパース24000)
・ポリマー1(下記)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・5.0部
・モノマー・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・4.0部
(サートマー(株)製、多官能アクリレート、品番;SR399)
・開始剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・1.4部
(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)
・開始剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.6部
(2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール)
・溶剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・80.0部
(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
なお、ポリマー1は、ポリマー1は、ベンジルメタクリレート:スチレン:アクリル酸:2−ヒドロキシエチルメタクリレート=15.6:37.0:30.5:16.9(モル比)の共重合体100モル%に対して、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを16.9モル%付加したものであり、重量平均分子量は42500であり、以降においても同じである。
緑色パターン形成用フォトレジスト
上記の赤色パターン形成用フォトレジストにおける赤色顔料および黄色顔料に替えて、顔料として下記のものを下記の配合量で用いた。
・緑色顔料(C.I.PG7)・・・・・・・・・・・・・・・・・3.7部
(大日精化製セイカファストグリーン5316P))
・黄色顔料(C.I.PY139)・・・・・・・・・・・・・・・2.3部
(BASF社製、パリオトールイエローD1819)
青色パターン形成用フォトレジスト
上記の赤色パターン形成用フォトレジストにおける赤色顔料、黄色顔料、および分散剤に替えて、下記のものを下記の配合量で用いた。
・青色顔料(C.I.PB15:6)・・・・・・・・・・・・・・4.6部
(BASF社製ヘリオゲンブルーL6700F))
・紫色顔料(C.I.PV23)・・・・・・・・・・・・・・・・1.4部
(クラリアント社製、フォスタパームRL−NF)
・顔料誘導体・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.6部
(ゼネカ(株)製ソルスパース12000)
・分散剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・2.4部
(ゼネカ(株)製ソルスパース24000)
基板として、厚みが0.7mmの溶融成形ホウケイ酸薄板ガラス(米国コーニング社製、品番;7059)を準備し、洗浄を行なった後、基板上にブラックマトリックス形成用フォトレジストを、スピンコート法により塗布し、塗布後、温度;90℃、および加熱時間;3分間の条件でプリベークを行ない、プリベーク後、所定のパターンを介し、照射線量が100mJ/cm2になるよう紫外線露光を行ない、露光後、0.05%KOH水溶液を用いたスプレー現像を60秒間行なった後、温度;200℃、および加熱時間;30分間の条件でポストベークを行ない、画素に相当する開孔部を有する厚みが1.2μmのブラックマトリックスを形成した。
Each photosensitive resin composition (hereinafter referred to as a photoresist) for forming each color pattern of a black matrix and a color filter layer formed on a substrate was prepared. Each photoresist is prepared by adding beads to a pigment, a dispersant, and a solvent, using a paint shaker as a disperser, dispersing for 3 hours, and then removing the beads, a polymer, a monomer, an additive, It was prepared by mixing a resist composition comprising an initiator and a solvent. The composition of each photoresist is as shown below, and the number of parts is based on mass.
Photoresist for forming black matrix, black pigment, 14.0 parts (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., TM Black # 95550)
・ Dispersant ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 1.2 parts (Bic Chemie Co., Disparvic 111)
・ Polymer ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 2.8 parts (made by Showa Polymer Co., Ltd., (meth) acrylic resin, product number; VR60)
・ Monomer ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 3.5 parts (manufactured by Sartomer Co., Ltd., polyfunctional acrylate, product number: SR399)
・ Additive (dispersibility improver) ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 0.7 parts (Chemical L-20, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
Initiator ... 1.6 parts (2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpho Linophenyl) -butanone-1)
・ Initiator (4,4′-diethylaminobenzophenone) ··· 0.3 parts · Initiator (2,4-diethylthioxanthone) ··· 0.1 parts · Solvent ( Ethylene glycol monobutyl ether) ... 75.8 parts Photoresist for forming red pattern Red pigment (CIPR254) ... 3.5 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Chromoval DPP Red BP)
・ Yellow pigment (CI PY139): 0.6 part (BASF, Pariotor Yellow D1819))
・ Dispersant ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 3.0 parts (Zeneca Co., Ltd., Solsperse 24000)
・ Polymer 1 (below) ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 5.0 parts ・ Monomer ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・..... 4.0 parts (manufactured by Sartomer, polyfunctional acrylate, product number: SR399)
・ Initiator ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 1.4 parts (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907)
・ Initiator ... 0.6 parts (2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5 , 4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole)
・ Solvent ... 80.0 parts (propylene glycol monomethyl ether acetate)
In addition, the polymer 1 is 100 mol% of the copolymer in which the polymer 1 is benzyl methacrylate: styrene: acrylic acid: 2-hydroxyethyl methacrylate = 15.6: 37.0: 30.5: 16.9 (molar ratio). On the other hand, 16.9 mol% of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate is added, and the weight average molecular weight is 42500, and the same applies thereafter.
Green Pattern Forming Photoresist Instead of the red pigment and yellow pigment in the above red pattern forming photoresist, the following pigments were used in the following amounts.
・ Green pigment (CIPG7) ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 3.7 parts (Seika Fast Green 5316P manufactured by Dainichi Seika)
-Yellow pigment (CI PY139) ... 2.3 parts (manufactured by BASF, Paliotor Yellow D1819)
Blue pattern forming photoresist Instead of the red pigment, yellow pigment, and dispersant in the above red pattern forming photoresist, the following were used in the following amounts.
-Blue pigment (CI PB15: 6) ... 4.6 parts (BASF Heliogen Blue L6700F))
・ Purple pigment (CI. PV23) ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 1.4 parts (Clariant, Foster Palm RL-NF)
Pigment derivative: 0.6 parts (Solsperse 12000 manufactured by Zeneca)
・ Dispersant ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 2.4 parts (Solsparse 24000 manufactured by Zeneca)
As a substrate, a melt-formed borosilicate thin plate glass having a thickness of 0.7 mm (manufactured by Corning, USA, product number: 7059) was prepared, washed, and then a black matrix forming photoresist was formed on the substrate by spin coating. After application, pre-baking is performed under conditions of temperature: 90 ° C. and heating time: 3 minutes, and after pre-baking, UV exposure is performed through a predetermined pattern so that the irradiation dose becomes 100 mJ / cm 2. , Spray development using 0.05% KOH aqueous solution was performed for 60 seconds, and then post-baking was performed under the conditions of temperature: 200 ° C. and heating time: 30 minutes, and the thickness having an aperture corresponding to a pixel was 1 A black matrix of 2 μm was formed.

次に、基板上にブラックマトリックスが形成された上に、赤色パターン形成用フォトレジストをスピンコート法により塗布し、温度;80℃、および加熱時間;5分間の条件でプリベークを行なった後、所定のパターンを介し、紫外線光源による照射線量が300mJ/cm2になるようアライメント露光を行ない、露光後、0.1%KOH水溶液を用いたスプレー現像を60秒間行なった後、温度;200℃、および加熱時間;60分間の条件でポストベークを行ない、ブラックマトリックスの所定の開孔部に相当する位置に、厚みが2.6μmの赤色パターンを形成した。 Next, a black matrix is formed on the substrate, a red pattern forming photoresist is applied by spin coating, prebaked under conditions of a temperature of 80 ° C. and a heating time of 5 minutes, and then predetermined. Through the pattern, alignment exposure is performed so that the irradiation dose from the ultraviolet light source becomes 300 mJ / cm 2, and after the exposure, spray development using a 0.1% KOH aqueous solution is performed for 60 seconds, and then the temperature; 200 ° C., and Post baking was performed under the condition of heating time: 60 minutes, and a red pattern having a thickness of 2.6 μm was formed at a position corresponding to a predetermined opening of the black matrix.

続いて、上記の赤色パターンの形成工程と同様にして、緑色パターン形成用フォトレジストを用いて厚みが2.6μmの緑色パターンを、また、その後、青色パターン形成用フォトレジストを用いて厚みが2.6μmの青色パターンを、赤色、緑色、および青色の各色パターンをブラックマトリックスの異なる開孔部に相当する位置に配列するよう形成し、赤色、緑色、および青色の三色のパターンが配列したカラーフィルタ層を形成した。   Subsequently, in the same manner as the red pattern forming step, a green pattern having a thickness of 2.6 μm is formed using a green pattern forming photoresist, and then a blue pattern forming photoresist is used. .6 μm blue pattern is formed by arranging red, green and blue color patterns at positions corresponding to different apertures of the black matrix, and a pattern in which three patterns of red, green and blue are arranged A filter layer was formed.

基板上にブラックマトリックスおよびカラーフィルタ層が形成された上に、可溶性ポリイミド樹脂系の配向膜形成用インキ組成物(JSR(株)製、品番;AL1254)をフレキソ印刷法により必要箇所にパターン状に印刷し、印刷後、乾燥させて溶剤を除去した後、温度;200℃、および加熱時間;1時間の条件で焼成を行ない、焼成後、表面にラビング処理を行なって、厚みが700Åの配向膜をカラーフィルタ層上も含めた基板上の全面に形成した。なお、ここでは設けなかったが、カラーフィルタ層と配向膜との間には、透明なオーバーコート層が介在してもよい。   A black matrix and a color filter layer are formed on a substrate, and a soluble polyimide resin-based ink composition for forming an alignment film (manufactured by JSR Corporation, product number: AL1254) is patterned in a required shape by a flexographic printing method. After printing, printing and drying to remove the solvent, baking is performed under the conditions of temperature: 200 ° C. and heating time: 1 hour, and after baking, the surface is rubbed to obtain an alignment film having a thickness of 700 mm Was formed on the entire surface of the substrate including the color filter layer. Although not provided here, a transparent overcoat layer may be interposed between the color filter layer and the alignment film.

別に位相差制御層形成用の感光性樹脂組成物(1)および(2)を調製した。Aプレート用の感光性樹脂組成物(1)としては、中央部にメソゲン、および両端に重合可能なアクリレート基を有し、中央部のメソゲンと両端のアクリレート基との間にスペーサを有する液晶材を75部、光重合開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184を使用。)を1部、および溶剤としてトルエン25部を混合し調製した。また、Cプレート用の感光性樹脂組成物(2)としては、感光性樹脂組成物(1)と同様の組成に加えて、さらに、両末端に重合可能なアクリレート基を有するキラル材を5部配合して混合し調製した。   Separately, photosensitive resin compositions (1) and (2) for forming a retardation control layer were prepared. As the photosensitive resin composition (1) for the A plate, a liquid crystal material having a mesogen at the center and a polymerizable acrylate group at both ends and a spacer between the mesogen at the center and the acrylate groups at both ends And 1 part of a photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., Irgacure 184) and 25 parts of toluene as a solvent were prepared. In addition to the same composition as the photosensitive resin composition (1), the photosensitive resin composition (2) for the C plate further contains 5 parts of a chiral material having polymerizable acrylate groups at both ends. Prepared by blending and mixing.

調整したインキをスピンコーティング法を用いて配向膜上に塗布し、塗布後、基板ごとホットプレート上で温度;100℃で5分間加熱して、液晶状態が発現した厚みが1.0μmの乾燥塗膜を得た。この乾燥塗膜は、基板の周囲の端から3cm以内の部分の厚みが最大で14μmとなる盛り上がり部分を有している。   The prepared ink is applied onto the alignment film using a spin coating method, and after coating, the substrate is heated on a hot plate at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes, and a dry coating having a liquid crystal state of 1.0 μm in thickness is applied. A membrane was obtained. This dry coating film has a raised portion where the thickness of the portion within 3 cm from the peripheral edge of the substrate is 14 μm at the maximum.

得られた乾燥塗膜に対し、端面洗浄装置(東京応化工業(株)製、品番;EBR)を使用し、洗浄液としてはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いて、基板の周囲の端から3cm以内の区域の全域に渡って、乾燥塗膜の膜厚が11μmになるまで、洗浄液の吹付けによる洗浄処理を行なった。膜厚は、露光後に触針式膜厚計(米国KLA−テンコール社製、品名;アルファステップ)を用いて測定した。   For the obtained dried coating film, an end face cleaning device (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., product number: EBR) is used, and propylene glycol monomethyl ether acetate is used as the cleaning liquid, within 3 cm from the peripheral edge of the substrate. Cleaning treatment by spraying the cleaning liquid was performed over the entire area until the film thickness of the dried coating film reached 11 μm. The film thickness was measured after exposure using a stylus type film thickness meter (manufactured by KLA-Tencor Corp., product name: Alphastep).

上記の洗浄処理の後、乾燥塗膜に紫外線照射を行い(波長;365nm、照射エネルギー;10J/cm2、)、液晶状態を固定した後、温度;200℃のホットプレート上に基板ごと置き、10分間加熱して完全に硬化反応を進行させて、有効表示区域に、厚みが1.0μmのAプレートの位相差制御層を形成した。 After the above cleaning treatment, the dried coating film is irradiated with ultraviolet rays (wavelength: 365 nm, irradiation energy: 10 J / cm 2 ), and after fixing the liquid crystal state, the whole substrate is placed on a hot plate at a temperature of 200 ° C. The curing reaction was completely advanced by heating for 10 minutes to form an A plate retardation control layer having a thickness of 1.0 μm in the effective display area.

上記のようにしてAプレートが形成された上に、感光性樹脂組成物(2)を用い、感光性樹脂組成物(1)を用いて行ったのと同様にして、乾燥塗膜を得た後、洗浄処理、紫外線照射を順次行って、厚みが2.5μmのCプレートの位相差制御層を形成した。洗浄処理は、基板の周囲の端から3cm以内の区域の全域に渡って、AプレートとCプレートの各々の膜厚の合計が13.5μmになるまで行なった。この場合も、なお、液晶セルに適用する際のより確実なセル組みのためには、基板端面から3cm以内のエリア全域の乾燥塗膜は、完全に除去されることが好ましい。   After the A plate was formed as described above, the photosensitive resin composition (2) was used, and a dry coating film was obtained in the same manner as performed using the photosensitive resin composition (1). Thereafter, washing treatment and ultraviolet irradiation were sequentially performed to form a C plate retardation control layer having a thickness of 2.5 μm. The cleaning process was performed over the entire area within 3 cm from the peripheral edge of the substrate until the total thickness of each of the A plate and the C plate reached 13.5 μm. In this case as well, for more reliable cell assembly when applied to a liquid crystal cell, it is preferable that the dried coating film in the entire area within 3 cm from the substrate end face is completely removed.

以上のようにして、基板上にブラックマトリックス、カラーフィルタ層、並びに二層の位相差制御層、即ち、AプレートおよびCプレートが積層された位相差制御層付きカラーフィルタ基板を形成した後、Cプレート上に配向膜を形成し、スペーサービーズ(積水化学工業(株)製、商品名;「ミクロパール」)ドライ状態で散布し、有効表示エリア外周部に外周シール剤を塗布して、対向基板と貼り合わせ、液晶封入用のセルを得た。   After forming the black matrix, the color filter layer, and the two phase difference control layers, that is, the color filter substrate with the phase difference control layer in which the A plate and the C plate are laminated, as described above, An alignment film is formed on the plate, spacer beads (Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name: “Micropearl”) are sprayed in a dry state, an outer peripheral sealant is applied to the outer periphery of the effective display area, and a counter substrate is formed. And a cell for liquid crystal encapsulation was obtained.

実施例1と同様に、基板上にブラックマトリックス、カラーフィルタ層、Aプレート、およびCプレートを順次形成した後、Cプレート上に次のようにして、全面にオーバーコート層を形成した。   In the same manner as in Example 1, a black matrix, a color filter layer, an A plate, and a C plate were sequentially formed on a substrate, and then an overcoat layer was formed on the entire surface of the C plate as follows.

オーバーコート層の形成には、アクリル系樹脂を用いて調製された保護膜形成用インキ (JSR(株)製、品番;JNPC80)を用い、スピンコート法により塗布し、温度;100℃、加熱時間;5分間の条件でプリベークを行なった後、洗浄処理、紫外線照射およびポストベークを行なって、厚みが1.5μmのオーバーコート層を形成した。洗浄処理は実施例1におけるAプレート、およびCプレートの場合と同様にして行ない、基板の周囲の端から3cm以内の区域の全域に渡って、Aプレート、Cプレート、およびオーバーコート層の各々の膜厚の合計が15μmになるまで行なった。紫外線照射は、300mJ/cm2の条件で全面に行ない、また、ポストベークは、温度;200℃、加熱時間;60分の条件で行なった。 To form the overcoat layer, a protective film forming ink prepared using an acrylic resin (manufactured by JSR, product number: JNPC80) is applied by spin coating, temperature: 100 ° C., heating time After pre-baking under conditions of 5 minutes, washing treatment, ultraviolet irradiation and post-baking were performed to form an overcoat layer having a thickness of 1.5 μm. The cleaning process is performed in the same manner as in the case of the A plate and the C plate in Example 1, and each of the A plate, the C plate, and the overcoat layer is spread over the entire area within 3 cm from the peripheral edge of the substrate. This was performed until the total film thickness reached 15 μm. Ultraviolet irradiation was performed on the entire surface under conditions of 300 mJ / cm 2 , and post-baking was performed under the conditions of temperature: 200 ° C., heating time: 60 minutes.

外周部が除去された位相差制御層を有する位相差制御基板を示す図である。It is a figure which shows the phase difference control board which has a phase difference control layer from which the outer peripheral part was removed. 外周部が薄膜化された位相差制御層を有する位相差制御基板を示す図である。It is a figure which shows the phase difference control board which has a phase difference control layer by which the outer peripheral part was thinned. 位相差制御層の盛り上がり部分を示す図である。It is a figure which shows the swelling part of a phase difference control layer. 従来の位相差制御基板を示す図である。It is a figure which shows the conventional phase difference control board.

符号の説明Explanation of symbols

1……位相差制御基板
2……基板
3……CF(カラーフィルタ)層
4……位相差制御層
5……除去線
6……外周部シール剤
7……対向基板
8……スペーサ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Phase difference control board 2 ... Board 3 ... CF (color filter) layer 4 ... Phase difference control layer 5 ... Removal line 6 ... Outer peripheral part sealant 7 ... Opposite substrate 8 ... Spacer

Claims (7)

基板上に、液晶性高分子からなる位相差制御層が少なくとも一層積層された積層構造を有し、前記位相差制御層は、(1)前記基板の外周部に余白を残して積層されたものであるか、もしくは(2)前記位相差制御層の中央部から外周部にかけて平坦なものであるか、または前記(1)および前記(2)の両方であることを特徴とする位相差制御基板。   The substrate has a laminated structure in which at least one phase difference control layer made of a liquid crystalline polymer is laminated, and the phase difference control layer is (1) laminated with a margin on the outer periphery of the substrate. Or (2) a phase difference control substrate that is flat from the center to the outer periphery of the phase difference control layer, or is both the above (1) and (2) . 前記位相差制御層がその中央部から外周部にかけて平坦なものであり、前記位相差制御層の外周部の厚みが中央部の厚みにくらべて+10μm以下であることを特徴とする請求項1記載の位相差制御基板。   2. The retardation control layer is flat from the center to the outer periphery, and the thickness of the outer periphery of the retardation control layer is +10 μm or less compared to the thickness of the center. Phase difference control board. 前記位相差制御層に加えてカラーフィルタ層が積層されていることを特徴とする請求項1または請求項2記載の位相差制御基板。   The phase difference control substrate according to claim 1, wherein a color filter layer is laminated in addition to the phase difference control layer. 請求項1〜請求項3いずれか記載の位相差制御基板の前記位相差制御層の前記基板側とは反対側の面にオーバーコート層が積層されており、前記オーバーコート層は、(a)前記基板の外周部に余白を残して積層されたものであるか、もしくは(b)前記オーバーコート層の中央部から外周部にかけて平坦なものであるか、または前記(a)および前記(b)の両方であることを特徴とする位相差制御基板。   The overcoat layer is laminated | stacked on the surface on the opposite side to the said substrate side of the said phase difference control layer of the phase difference control board in any one of Claims 1-3, The said overcoat layer is (a). The substrate is laminated with leaving a blank space, or (b) is flat from the center to the outer periphery of the overcoat layer, or (a) and (b) A phase difference control board characterized by being both. 請求項1〜請求項4いずれか記載の構成を有し、かつ片面に透明電極層を有する位相差制御基板および電極層を有する別の基板とが、前記両基板が有する電極層どうしが内側を向いて対向し、前記両基板間に液晶層が封入されていることを特徴とする液晶ディスプレイ。   The phase difference control substrate having the configuration according to any one of claims 1 to 4 and having a transparent electrode layer on one side and another substrate having an electrode layer are arranged such that the electrode layers of both the substrates are inside. A liquid crystal display having a liquid crystal layer sealed between the substrates. 基板上に、位相差制御層形成用組成物を用いて塗布することにより位相差制御層を積層した後、溶剤を用いて端面洗浄を行なうことにより、前記基板の外周部における前記位相差制御層を除去して前記基板の外周部に余白を形成するか、または/および前記位相差制御層をその中央部から外周部にかけて平坦化することを特徴とする位相差制御基板の製造方法。   After laminating the phase difference control layer by coating with a composition for forming a phase difference control layer on the substrate, the phase difference control layer in the outer peripheral portion of the substrate is washed by using a solvent. A method of manufacturing a phase difference control substrate, wherein a blank is formed on the outer peripheral portion of the substrate and / or the phase difference control layer is planarized from the central portion to the outer peripheral portion. 請求項6記載の方法に従って端面洗浄を行った後、前記位相差制御層上を含む前記基板上に、オーバーコート層形成用組成物を用いて塗布しオーバーコート層を積層した後、溶剤を用いて端面洗浄を行なうことにより、前記基板の外周部における前記オーバーコート層を除去して前記基板の外周部に余白を形成するか、または/および前記オーバーコート層をその中央部から外周部にかけて平坦化することを特徴とする位相差制御基板の製造方法。
After end face cleaning is performed according to the method of claim 6, the overcoat layer-forming composition is applied onto the substrate including the retardation control layer, the overcoat layer is laminated, and then a solvent is used. By cleaning the end surface, the overcoat layer on the outer peripheral portion of the substrate is removed to form a margin in the outer peripheral portion of the substrate, or / and the overcoat layer is flattened from the central portion to the outer peripheral portion. A method of manufacturing a phase difference control board.
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