JP2005091983A - Photomask discriminated with rf tag, pellicle, photomask with pellicle, and storage case - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程のフォトリソ工程で使用されるフォトマスク及びペリクル付きフォトマスクに関し、特に、ＲＦタグにより識別されるフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク及び収納ケースに関する。 The present invention relates to a photomask and a photomask with a pellicle used in a photolithographic process of manufacturing a semiconductor integrated circuit, a liquid crystal display element, and the like, and in particular, a photomask, a pellicle, a photomask with a pellicle and a storage identified by an RF tag. Regarding the case.
一般に、半導体集積回路及び液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する場合にフォトマスクに形成されたパターンを、フォトレジスト等の感光剤を塗布した基板上に投影光学系にて露光する投影露光方式が使用されている。近年、パターン形状の微細化に伴い、使用される露光光は短波長化される傾向にあり、これまで主流だった水銀ランプに代わって、ＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）を用いた露光装置が実用化されており、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程では、かなりの数のフォトマスク及びペリクル付きフォトマスクが使用されている。ここでいうフォトマスクとはレチクルを含む総称として用いている。 In general, when a semiconductor integrated circuit and a liquid crystal display element are manufactured by a photolithography process, a projection exposure system that exposes a pattern formed on a photomask onto a substrate coated with a photosensitive agent such as a photoresist by a projection optical system. Is used. In recent years, with the miniaturization of the pattern shape, the exposure light used tends to be shortened in wavelength. Instead of the mercury lamps that have been mainstream so far, KrF excimer laser (wavelength 248 nm) and ArF excimer laser (wavelength 193 nm). ) Has been put into practical use, and a considerable number of photomasks and photomasks with a pellicle are used in the manufacturing processes of semiconductor integrated circuits and liquid crystal display elements. The photomask here is used as a general term including a reticle.
このようなフォトマスクは石英等のガラス基板上にクロム及び酸化クロム等からなる遮光薄膜で回路パターン等を形成したもので、塵埃等の異物がフォトマスク表面に付着するのを防止するためにペリクルを装着したペリクル付きフォトマスクが使用されている。ペリクル付きフォトマスクは投影露光方式で主に使用され、フォトマスク上にペリクル膜が形成されたペリクルフレームを搭載したもので、仮にペリクル膜上にゴミが付着しても、投影光学系の焦点はフォトマスク表面のマスクパターンに合わせてあるので、ペリクル膜上のゴミは、ゴミパターンとして被露光面に結像されず、欠陥パターンとして形成されることはない。 Such a photomask is formed by forming a circuit pattern or the like with a light-shielding thin film made of chromium, chromium oxide or the like on a glass substrate such as quartz. In order to prevent foreign matters such as dust from adhering to the photomask surface, the pellicle A photomask with a pellicle is used. A photomask with a pellicle is mainly used in the projection exposure system, and is equipped with a pellicle frame with a pellicle film formed on the photomask. Even if dust adheres to the pellicle film, the focus of the projection optical system is Since it matches the mask pattern on the surface of the photomask, dust on the pellicle film is not imaged on the exposed surface as a dust pattern and is not formed as a defect pattern.
これらフォトマスク及びペリクル付きフォトマスクを管理するために、マスクメーカー及び半導体メーカーではそれぞれのマスクの品番、マスク内容等多岐にわたるマスクデータをフォトマスクの所定位置にバーコードシンボルとして表示したり、ペリクル付きフォトマスクの場合はペリクルフレームの側面に品番等を刻印したり、またはＩＤラベルをペリクル側面に表示したりしている（例えば、特許文献１参照。）。 In order to manage these photomasks and photomasks with pellicle, mask manufacturers and semiconductor manufacturers display various mask data such as the mask part numbers and mask contents as bar code symbols at predetermined positions on the photomask, or with pellicles In the case of a photomask, a product number or the like is stamped on the side surface of the pellicle frame, or an ID label is displayed on the side surface of the pellicle (for example, see Patent Document 1).
従来のペリクル付きフォトマスクの一例を図５に示す。ペリクル付きフォトマスク５０はマスクパターンが形成されたフォトマスク上にペリクル膜６２が形成されたペリクルフレーム６１を粘着剤部６３を介して貼り合わせてあり、フォトマスク５１のパターン領域５２外の所定位置に遮光膜等をパターニング処理してバーコードシンボル７１を、粘着剤部の所定位置にＩＤラベル７２を、もしくはペリクルフレーム（金属製）６１の側面に品番等の刻印７３を設けてある。このバーコードシンボル７１、ＩＤラベル７２、刻印７３には、マスク名称、図番等のマスクデータが表示されており、目視、バーコードリーダー等でマスクデータを読みとり、工程管理、検査管理、出荷の際のマスク管理を行っている。 An example of a conventional photomask with a pellicle is shown in FIG. The pellicle-equipped photomask 50 has a pellicle frame 61 having a pellicle film 62 formed on a photomask on which a mask pattern is formed, bonded via an adhesive portion 63, and a predetermined position outside the pattern region 52 of the photomask 51. A bar code symbol 71 is formed by patterning the light shielding film and the like, an ID label 72 is provided at a predetermined position of the adhesive portion, or a mark 73 such as a product number is provided on the side surface of the pellicle frame (made of metal) 61. The bar code symbol 71, the ID label 72, and the engraving mark 73 display mask data such as a mask name and a drawing number. The mask data is read visually, with a bar code reader, etc. The mask management is performed.
しかしながら、従来のバーコードシンボル７１、ＩＤラベル７２、刻印７３等のマスクデータを読みとる場合、目視の場合は、読み取り間違いを起こし易く、誤った品番のフォトマスク、もしくはペリクル付きフォトマスクを使ってしまうことがる。また、バーコードリーダー等でマスクデータを読みとる場合は、バーコードリーダのある場所しか読みとれず、表示場所が制限される。
また、これらバーコードシンボル、ＩＤラベル、刻印等が形成されたフォトマスク、もし
くはペリクル付きフォトマスクは、マスクケース等に入った状態では、マスクデータを読みとることができないため、マスク出荷の際に、ケースの中のフォトマスク、もしくはペリクル付きフォトマスクを確認したい場合は、再度バーコードシンボル、ＩＤラベル、刻印等を読み込んで確認する必要がある。
さらにまた、製造工程、マスク検査工程中で新たにマスクデータの追加、変更が生じた場合、現状のシステムでは、新たに再度バーコードシンボル、ＩＤラベル等を作製して、貼り直すか、別の追加データとして台帳等に記載、保存しておき、必用なときにマスク名称等で参照することが行われている。
In addition, photomasks with these barcode symbols, ID labels, engravings, etc., or photomasks with pellicle cannot be read in the mask case, etc. If you want to check the photomask in the case or the photomask with pellicle, you need to read the bar code symbol, ID label, stamp, etc. again.
Furthermore, when new mask data is added or changed during the manufacturing process or the mask inspection process, the current system creates a new barcode symbol, ID label, etc. It is described and stored in a ledger or the like as additional data, and is referred to by a mask name or the like when necessary.
本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、フォトマスク及びペリクル並びにペリクル付きフォトマスクを製造したり、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程のフォトリソ工程で使用するにあたり、個々のマスクデータを随時書き込み、読み取りが可能なタグを設けたフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems. When manufacturing a photomask, a pellicle, and a photomask with a pellicle, or using it in a photolithography process of a manufacturing process of a semiconductor integrated circuit, a liquid crystal display element, etc., each mask An object is to provide a photomask, a pellicle, and a photomask with a pellicle provided with tags capable of writing and reading data as needed.
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、透明基板上にマスクパターンが形成されてなるフォトマスクにおいて、前記フォトマスクの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別されるフォトマスクとしたものである。 In order to achieve the above object in the present invention, first, in a photomask in which a mask pattern is formed on a transparent substrate, mask data can be written and read at a predetermined position of the photomask as needed. A photomask identified by an RF tag is provided with a possible RF tag.
また、請求項２においては、ペリクルフレームにペリクル膜が形成されたペリクルにおいて、前記ペリクルの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別されるペリクルとしたものである。 According to a second aspect of the present invention, in the pellicle having a pellicle film formed on the pellicle frame, an RF tag capable of writing and reading mask data at any time is provided at a predetermined position of the pellicle. This is a pellicle.
また、請求項３においては、前記フォトマスクに前記ペリクルが搭載されてなるペリクル付きフォトマスクにおいて、前記フォトマスク及び前記ペリクル並びに前記ペリクル付きフォトマスクの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスクとしたものである。 According to a third aspect of the present invention, in a photomask with a pellicle in which the pellicle is mounted on the photomask, mask data can be written to and read from the photomask, the pellicle, and the photomask with the pellicle as needed. A photomask with a pellicle, which is identified by an RF tag, characterized in that a simple RF tag is provided.
さらにまた、請求項４においては、前記フォトマスク、前記ペリクル及び前記ペリクル付きフォトマスクを収納する収納ケースであって、前記収納ケースの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別される収納ケースとしたものである。 Furthermore, in claim 4, there is provided a storage case for storing the photomask, the pellicle and the photomask with a pellicle, wherein an RF tag capable of writing and reading mask data at any time in a predetermined position of the storage case is provided. The storage case is identified by an RF tag characterized by being provided.
本発明のＲＦタグにより識別されるフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク、収納ケースを用いることにより、フォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクの現品識別を確実に行うことができ、フォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクの誤使用がなくなる。
また、ＲＦタグを用いているため、ある程度離れた距離からでもマスクデータの読み取り、書き込みができるため、基本マスクデータに対して、製造工程中、マスク検査、出荷の段階で新たに発生したマスクデータの追加、変更を容易に行うことができる。
By using the photomask, pellicle, photomask with pellicle and storage case identified by the RF tag of the present invention, the actual product identification of the photomask, pellicle, pellicle-equipped photomask can be performed reliably, and the photomask and pellicle Incorrect use of photomask with pellicle is eliminated.
In addition, since the RF tag is used, the mask data can be read and written even from a certain distance, so that the mask data newly generated during the manufacturing process, mask inspection, and shipment from the basic mask data. Can be easily added or changed.
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
請求項１に係る本発明のＲＦタグにより識別されるフォトマスクは、図１に示すように、石英等の透明基板１１上にマスクパターンが形成されたフォトマスクのパターン領域１２外の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３１、もしくは透明基板１１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３２を設けたＲＦタグにより識別されるフォトマスク１０である。
ここで、ＲＦタグとは、外部からの電波通信により各種データの書き込み、読み取りを非接触で行うことができるデータキャリアシステムを内蔵したタグのことである。
このように、ＲＦタグ３１、もしくはＲＦタグ３２をフォトマスクの所定位置に設けることにより、マスクデータの書き込み、読み取りが随時にでき、フォトマスクの製造工程、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程のフォトリソ工程でのフォトマスクの識別、確認が容易にできる。また、フォトマスクの製造工程では、現品識別をするだけでなく、機器・工程の設定条件、作業日時、担当者、検査結果等もＲＦタグ３１、もしくはＲＦタグ３２に随時書き込んでおけば、工程管理のツールとしての利用展開も考えられる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
As shown in FIG. 1, the photomask identified by the RF tag according to the first aspect of the present invention is placed at a predetermined position outside the pattern region 12 of the photomask in which the mask pattern is formed on the transparent substrate 11 such as quartz. An RF tag 31 capable of writing and reading mask data at any time, or a photomask 10 identified by an RF tag provided with an RF tag 32 capable of writing and reading mask data at a predetermined position on the side surface of the transparent substrate 11. is there.
Here, the RF tag is a tag with a built-in data carrier system that can write and read various data in a non-contact manner by radio wave communication from the outside.
As described above, by providing the RF tag 31 or the RF tag 32 at a predetermined position of the photomask, writing and reading of mask data can be performed at any time, and a photomask manufacturing process, a semiconductor integrated circuit, a liquid crystal display element, and the like can be manufactured. The photomask can be easily identified and confirmed in the photolithography process. Further, in the photomask manufacturing process, not only the actual product identification but also the setting conditions of equipment / process, work date / time, person in charge, inspection result, etc. can be written to the RF tag 31 or RF tag 32 as needed. Usage deployment as a management tool can also be considered.
請求項２に係る本発明のＲＦタグにより識別されるペリクルは、図２に示すように、ペリクルフレーム２１の上部にペリクル膜２２が、ペリクルフレーム２１の下部に粘着剤２３及びライナー２４が形成されたペリクルフレーム２１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３３を設けたＲＦタグにより識別されるペリクル２０である。このように、ＲＦタグ３３をペリクル側面の所定位置に設けることにより、マスクデータの書き込み、読み取りが随時にでき、ペリクル製造工程でのペリクルの識別、確認が容易にできる。また、ペリクルの製造工程で、現品識別をするだけでなく、機器・工程の設定条件、作業日時、担当者、検査結果等もＲＦタグ３３に随時書き込んでおけば、工程管理のツールとしての利用展開も考えられる。 As shown in FIG. 2, the pellicle identified by the RF tag of the present invention according to claim 2 has a pellicle film 22 formed on the top of the pellicle frame 21, and an adhesive 23 and a liner 24 formed on the bottom of the pellicle frame 21. The pellicle 20 is identified by an RF tag provided with an RF tag 33 that can write and read mask data at a predetermined position on the side surface of the pellicle frame 21 at any time. Thus, by providing the RF tag 33 at a predetermined position on the side surface of the pellicle, writing and reading of mask data can be performed at any time, and identification and confirmation of the pellicle can be easily performed in the pellicle manufacturing process. In addition to identifying the actual product in the manufacturing process of the pellicle, if the device / process setting conditions, work date / time, person in charge, inspection results, etc. are written to the RF tag 33 as needed, it can be used as a process management tool. Development is also possible.
請求項３に係る本発明のＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスクは、図３に示すように、透明基板１１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３１、もしくはＲＦタグ３２が設けられたフォトマスク１０上に、ペリクルフレーム２１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３３を設けたペリクル２０を粘着剤２３で固定したＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスク３０である。このように、ＲＦタグ３１、ＲＦタグ３２及びＲＦタグ３３をフォトマスク及びペリクルに設けることにより、マスクデータの書き込み、読み取りが随時にでき、ペリクル付きフォトマスク製造工程でのフォトマスク、ペリクルの識別、確認が容易にでき、誤ったフォトマスクとペリクルの組み合わせ事故がなくなる。このように、異なった種類のフォトマスクとペリクルを組み合わせてペリクル付きフォトマスクを作製する場合にはこのＲＦタグによる認識、管理作業が威力を発揮する。また、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程のフォトリソ工程でのペリクル付きフォトマスクの識別、確認が容易にできる。また、ペリクル付きフォトマスクの製造工程では、現品識別をするだけでなく、機器・工程の設定条件、作業日時、担当者、検査結果等もＲＦタグ３１、ＲＦタグ３２及びＲＦタグ３３に随時書き込んでおけば、工程管理のツールとしての利用展開も考えられる。 As shown in FIG. 3, the photomask with a pellicle identified by the RF tag of the present invention according to claim 3 has an RF tag 31 that can write and read mask data at any time on a predetermined position on the side surface of the transparent substrate 11, Alternatively, an RF tag in which a pellicle 20 provided with an RF tag 33 capable of writing and reading mask data at any time on a predetermined position on the side surface of the pellicle frame 21 is fixed with an adhesive 23 on a photomask 10 provided with an RF tag 32. This is a photomask 30 with a pellicle identified by. As described above, by providing the RF tag 31, the RF tag 32, and the RF tag 33 on the photomask and the pellicle, the mask data can be written and read at any time, and the photomask and pellicle are identified in the manufacturing process of the photomask with a pellicle. This makes it easy to confirm and eliminates the accident of combining the wrong photomask and pellicle. As described above, when a photomask with a pellicle is manufactured by combining different types of photomasks and pellicles, the recognition and management work by the RF tag is effective. In addition, the photomask with a pellicle can be easily identified and confirmed in the photolithography process of the manufacturing process of semiconductor integrated circuits and liquid crystal display elements. In the manufacturing process of the photomask with pellicle, not only the actual product is identified, but also the device / process setting conditions, work date / time, person in charge, inspection results, etc. are written to the RF tag 31, RF tag 32 and RF tag 33 as needed. If so, it can be used as a process management tool.
請求項４に係る本発明のＲＦタグにより識別される収納ケースは、図４に示すように、プラスチック成型等により作製された収納ケース４１の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３４を設けたＲＦタグにより識別される収納ケース４０である。このように、収納ケース４１にＲＦタグ３４を設けることにより、収納ケースに収納されているフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクの内容が確認できると同時に、上記ＲＦタグが設けられたフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクが収納されている場合は、ケースの蓋をとらないでも、収納ケース４０のＲＦタグ３４のマスクデータ情報と収納されている個々のフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフ
ォトマスクのマスクデータ情報が一致するかどうかの確認作業ができる。ここでは、フォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクが所定枚数収納される収納ケースの事例について説明したが、個々のフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクを収納する収納ケースに付いても適用されるのは言うまでもない。
As shown in FIG. 4, the storage case identified by the RF tag of the present invention according to claim 4 is an RF capable of writing and reading mask data at any time in a predetermined position of a storage case 41 made by plastic molding or the like. The storage case 40 is identified by an RF tag provided with a tag 34. As described above, by providing the RF tag 34 in the storage case 41, the contents of the photomask, pellicle, and photomask with pellicle stored in the storage case can be confirmed, and at the same time, the photomask provided with the RF tag, When a pellicle and a photomask with a pellicle are stored, the mask data information of the RF tag 34 of the storage case 40 and the stored individual photomask, pellicle, and photomask with a pellicle can be stored without removing the case cover. It is possible to confirm whether the mask data information matches. Here, an example of a storage case in which a predetermined number of photomasks, pellicles, and photomasks with pellicles are stored has been described. However, the present invention can also be applied to storage cases that store individual photomasks, pellicles, and photomasks with pellicles. Needless to say.
上記のＲＦタグ３１、３２、３３及び３４は、クリーンルームで使用されるため、発塵性には配慮し、例えば発塵性の少ない材料（ポリエチレンテレフタレート、シリコーン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂等）でＩＣ及びアンテナからなる内部部品をモールドしたパッケージで構成されており、粘着剤、もしくは接着剤でそれぞれのフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク及び収納ケースの所定位置に固定される。 Since the RF tags 31, 32, 33 and 34 are used in a clean room, the dust generation property is taken into consideration. For example, a material with low dust generation property (polyethylene terephthalate, silicone resin, polytetrafluoroethylene resin, etc.) is used. It is composed of a package in which internal components including an IC and an antenna are molded, and is fixed to a predetermined position of each photomask, pellicle, pellicle-equipped photomask and storage case with an adhesive or an adhesive.
まず、石英ガラスからなる透明基板１１上にスパッター成膜により ｎｍ厚のクロム膜及び ｎｍ厚の酸化クロム膜からなる低反射ブランクスを作成した。さらに、低反射ブランクスに電子線レジストを塗布し、電子線描画、現像等の一連のパターニング処理を行ってレジストパターンを形成し、レジストパターンをマスクにして酸化クロム膜及びクロム膜をエッチングしてマスクパターンを形成し、フォトマスクを作製した。
さらに、透明基板１１の側面にＩＣ及びアンテナからなる部品をポリエチレンテレフタレート樹脂でパッケージしたＲＦタグ３２を粘着剤で固定し、本発明のＲＦタグにより識別されるフォトマスク１０を作製した（図１参照）。
First, a low reflection blank made of a chromium film having a thickness of nm and a chromium oxide film having a thickness of nm was formed on a transparent substrate 11 made of quartz glass by sputtering. Furthermore, an electron beam resist is applied to the low-reflective blanks, a resist pattern is formed by performing a series of patterning processes such as electron beam drawing and development, and the chromium oxide film and the chromium film are etched using the resist pattern as a mask. A pattern was formed to produce a photomask.
Further, an RF tag 32 in which components including an IC and an antenna are packaged with polyethylene terephthalate resin is fixed to the side surface of the transparent substrate 11 with an adhesive, and a photomask 10 identified by the RF tag of the present invention is manufactured (see FIG. 1). ).
まず、アルマイト処理されたアルミニウム合金で作製されたペリクルフレーム２１の上部に２．１μｍ厚のニトロセロースフィルムシートを貼り付けてペリクル膜２２を形成した。さらに、ペリクルフレーム２１の下部にフッ素樹脂からなる粘着材２３及びポリエチレンテレフタレートのシートに離型剤を塗布したライナー２４を形成したペリクルを作製した。次に、ペリクルフレーム２１の側面にＩＣ及びアンテナからなる部品をポリエチレンテレフタレート樹脂でパッケージしたＲＦタグ３３を粘着剤で固定し、本発明のＲＦタグにより識別されるペリクル２０を作製した（図２参照）。 First, a pellicle film 22 was formed by affixing a 2.1 μm-thick nitroserose film sheet on top of a pellicle frame 21 made of an anodized aluminum alloy. Further, a pellicle was produced in which an adhesive 23 made of a fluororesin and a liner 24 in which a release agent was applied to a polyethylene terephthalate sheet were formed below the pellicle frame 21. Next, an RF tag 33 in which a part composed of an IC and an antenna was packaged with polyethylene terephthalate resin on the side surface of the pellicle frame 21 was fixed with an adhesive to produce a pellicle 20 that was identified by the RF tag of the present invention (see FIG. 2). ).
実施例２で作製したＲＦタグにより識別されるペリクル２０のライナー２４を剥離して、実施例１で作製したＲＦタグにより識別されるフォトマスク１０上の所定位置に貼り合わせ、ＲＦタグにより識別されるレチクル２０を固定し、本発明のＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスク３０を作製した（図３参照）。 The liner 24 of the pellicle 20 identified by the RF tag produced in Example 2 is peeled off and bonded to a predetermined position on the photomask 10 identified by the RF tag produced in Example 1, and identified by the RF tag. The photomask 30 with a pellicle identified by the RF tag of the present invention was manufactured (see FIG. 3).
まず、アクリル系の樹脂（ＢＡＹＯＮ（バイヨン）：呉羽化学工業（株））をインジェクション成型にて作製した収納ケース４１の側面にＩＣ及びアンテナからなる部品をポリエチレンテレフタレート樹脂でパッケージしたＲＦタグ３４を粘着剤で固定し、本発明のＲＦタグにより識別される収納ケース４０を作製した（図４参照）。 First, an RF tag 34 in which a component made of an IC and an antenna is packaged with polyethylene terephthalate resin is adhered to the side surface of a storage case 41 made of an acrylic resin (BAYON: Kureha Chemical Industry Co., Ltd.) by injection molding. A storage case 40 identified by the RF tag of the present invention was prepared (see FIG. 4).
１０……ＲＦタグにより識別されるフォトマスク
１１……透明基板
１２……パターン領域
２０……ＲＦタグにより識別されるペリクル
２１……ペリクルフレーム
２２……ペリクル膜
２３……粘着材
２４……ライナー
３０……ＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスク
３１、３２，３３，３４……ＲＦタグ
４０……ＲＦタグにより識別される収納ケース
４１……収納ケース
５０……ペリクル付きフォトマスク
５１……フォトマスク
５２……パターン領域
６１……ペリクルフレーム
６２……ペリクル膜
６３……粘着材部
７１……バーコードシンボル
７２……ＩＤラベル
７３……刻印
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Photomask identified by RF tag 11 ... Transparent substrate 12 ... Pattern area 20 ... Pellicle 21 identified by RF tag ... Pellicle frame 22 ... Pellicle film 23 ... Adhesive material 24 ... Liner 30... Photomask 31, 32, 33, 34 with pellicle identified by RF tag 40. Storage case 41 identified by RF tag 41. Storage case 50. Photomask 52 ... Pattern area 61 ... Pellicle frame 62 ... Pellicle film 63 ... Adhesive material 71 ... Bar code symbol 72 ... ID label 73 ... Stamp
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