JP2005089308A - Manufacturing method of 3-methylalkan-2-one compound - Google Patents

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啓輔 吉川
Hiroyuki Watanabe
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing 3-methylalkan-2-one compounds including 3,11-dimethyl-2-nonacosanone with a high yield by a simple method on an industrial scale. <P>SOLUTION: The 3-methylalkan-2-one compounds represented by formula (1) (wherein R is a 10-50C optionally branched alkyl or alkenyl group; and X is a leaving group) are manufactured via six steps from a compound represented by formula (8) (wherein R is the same as above). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンを包含する３−メチルアルカン−２−オン類の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing 3-methylalkane-2-ones including 3,11-dimethyl-2-nonacosanone.

３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンは、ゴキブリの性フェロモンとして単離、構造決定された化合物である。該化合物の合成方法はこれまで種々提案されている。例えば、エチルメチルアセトアセテートと１−ブロモ−８−メチル−８−ヘキサコセンを反応して得られたエチル ２，１０−ジメチル−２−アセチル−１１−オクタコセノエートを加水分解し、次いで脱炭酸反応を行い、得られる３，１１−ジメチル−２−オキソ−１１−ノナコセンを接触水素添加によって得る方法（例えば、非特許文献１、非特許文献２、非特許文献３：以下、タイプＡの合成方法という）、２−ヒドロキシ−３，１１−ジメチルノナコサンを酸化して得る方法（例えば、特許文献１、非特許文献４、非特許文献５、非特許文献６、非特許文献７：以下、タイプＢの合成方法という）、２，１０−ジメチルオクタコサンをメチルリチウムの存在下に処理する方法（例えば、非特許文献８、非特許文献９、非特許文献１０：以下、タイプＣの合成方法という）、１−ブロモ−８−メチルヘキサコサンを（２−オキソブチリデン）トリフェニルホスホランと反応し、得られた３，１１−ジメチル−２−オキソノナコシリデントリフェニルホスホランを加水分解する方法（例えば、非特許文献１１：以下、タイプＤの合成方法）、２，１０−ジメチルオクタコサン酸エステルをトリアルキルシリルメチルリチウムと反応させ、脂肪族アルコールと反応させるか、又はジメチルスルホキシド中の塩基と反応させた後、還元する方法（例えば、特許文献２：以下、タイプＥの合成方法）、メチルアセトアセテートとエチル ４−ブロモブチレートを反応させ、次いで加水分解、脱炭酸により得られた５−メチル−６−オキソヘプタン酸を６−メチルテトラコサン酸と共に共電解する方法（例えば、非特許文献１２：以下、タイプＦの合成方法）、３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ペンテン−１−インから８工程を経て得られた６−メチル−５−エン−７−インテトラコサナールを、リチウムの存在下に別途調製した（４−エチレンジオキソ）−３−メチル−１−クロロペンタンと反応させて得られる３，１１−ジメチル−２−エチレンジオキソ−６−ヒドロキシ−１０−ノナコセン−１２−インを得た後、４工程を経て目的化合物を得る方法（例えば、非特許文献１３：以下、タイプＧの合成方法）、１０−ウンデシレン酸から６工程を経て得られた１−メチル−２−（８−メチルヘキサコシル）−１−シクロプロパノールを水酸化カリウム中で反応して得る方法（例えば、非特許文献１４：以下、タイプＨの合成方法）などが提案されている。
特許第２７３６４６５号公報 特開昭６０−６４９４２号公報 Agr.Biol.Chem.,40(2),391-394(1976) Appl.Entomol.Zool.,(10),10(1975) Synthesis,(6),405-407(1977) Tetrahedron,Vol.46,4473-4486(1990) Tetrahedron,Vol.37(7),1329-1340(1981) Tetrahedron Letters,No.37,3447-3450(1978) Tetrahedron Letters,No.6,419-422(1976) Tetrahedron Letters,No.28,651-654(1987) Croatica Chemica Acta,Vol.59,No.1,177-181(1981) J.Org.Chem.,Vol.40,No.23,3456-3458(1975) J.Org.Chem.,Vol.40,No.16,2410-2411(1975) Chem.Ber.,113(2),451-456(1980) Tetrahedron,34(13),1931-1933(1978) Tetrahedron Letters,39,1823-1826(1998) 3,11-Dimethyl-2-nonacosanone is a compound isolated and determined as a cockroach sex pheromone. Various methods for synthesizing the compound have been proposed so far. For example, ethyl 2,10-dimethyl-2-acetyl-11-octacosenoate obtained by reacting ethylmethylacetoacetate with 1-bromo-8-methyl-8-hexacosene is hydrolyzed and then decarboxylated. A method of carrying out the reaction and obtaining 3,11-dimethyl-2-oxo-11-nonaccene obtained by catalytic hydrogenation (for example, Non-Patent Document 1, Non-Patent Document 2, Non-Patent Document 3: Hereinafter, synthesis of Type A Method), a method obtained by oxidizing 2-hydroxy-3,11-dimethylnonacosane (for example, Patent Document 1, Non-Patent Document 4, Non-Patent Document 5, Non-Patent Document 6, Non-Patent Document 7: Type B synthesis method), a method of treating 2,10-dimethyloctacosane in the presence of methyllithium (for example, Non-patent document 8, Non-patent document 9, Non-patent document 10: Hereinafter referred to as a type C synthesis method), 1-bromo-8-methylhexacosane reacted with (2-oxobutylidene) triphenylphosphorane, and 3,11-dimethyl-2-oxononacosylidenetriphenyl obtained Method of hydrolyzing phospholane (for example, Non-Patent Document 11: hereinafter, type D synthesis method), whether 2,10-dimethyloctacosanoic acid ester is reacted with trialkylsilylmethyllithium and reacted with aliphatic alcohol Or a method of reducing after reacting with a base in dimethyl sulfoxide (for example, Patent Document 2: Synthesis method of type E below), reacting methyl acetoacetate and ethyl 4-bromobutyrate, followed by hydrolysis, 5-Methyl-6-oxoheptanoic acid obtained by decarboxylation together with 6-methyltetracosanoic acid 6-methyl-5-ene obtained through 8 steps from a method to understand (for example, Non-Patent Document 12: Method for synthesizing type F hereinafter), 3-hydroxy-3-methyl-1-penten-1-yne 3,11-dimethyl-2-ethylenedioxo obtained by reacting -7-intetracosanal with (4-ethylenedioxo) -3-methyl-1-chloropentane prepared separately in the presence of lithium A method of obtaining a target compound through 4 steps after obtaining -6-hydroxy-10-nonaccene-12-in (for example, Non-Patent Document 13: hereinafter, type G synthesis method), 6 steps from 10-undecylenic acid The method obtained by reacting 1-methyl-2- (8-methylhexacosyl) -1-cyclopropanol obtained through the above in potassium hydroxide (for example, Non-Patent Document 14: hereinafter, the combination of type H Method) and the like have been proposed.
Japanese Patent No. 2736465 Japanese Patent Laid-Open No. 60-64942 Agr. Biol. Chem., 40 (2), 391-394 (1976) Appl. Entomol. Zool, (10), 10 (1975) Synthesis, (6), 405-407 (1977) Tetrahedron, Vol. 46, 4473-4486 (1990) Tetrahedron, Vol. 37 (7), 1329-1340 (1981) Tetrahedron Letters, No. 37, 3447-3450 (1978) Tetrahedron Letters, No. 6,419-422 (1976) Tetrahedron Letters, No. 28, 651-654 (1987) Croatica Chemica Acta, Vol.59, No.1,177-181 (1981) J. Org. Chem., Vol. 40, No. 23, 3456-3458 (1975) J. Org. Chem., Vol. 40, No. 16, 2410-2411 (1975) Chem.Ber., 113 (2), 451-456 (1980) Tetrahedron, 34 (13), 1931-1933 (1978) Tetrahedron Letters, 39, 1823-1826 (1998)

しかしながら従来提案されている上記した３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの製造方法はそれぞれ問題点があり、例えば、上記したタイプＡの合成方法では、小スケールでは順調に反応が進むが、スケールアップすることにより、例えば、脱炭酸工程でレトロクライゼン反応による副生成物が生成するなどの問題があり、タイプＢでは、反応工程中に水酸基のクロム酸などによる酸化工程を含み工業的な製法とは言い難い。またタイプＣでは、高価で発火性のあるメチルリチウムを使用しており、タイプＤでは、メチルケトン部のメチル基側をトリフェニルホスホランで保護して位置選択的にアルキル化を達成しているが、収率が低いという問題がある。さらにタイプＥでは、高価なシリル化合物を使用し、厳密な無水反応条件が必要であり、また、高価で毒性の高いジメチルスルホキシドを使用しており、またさらに、タイプＦでは、共電解装置が必要であり、タイプＧでは、多工程で、工業化に不向きな工程が多いという問題がある。さらにタイプＨでは、特殊な反応試薬（過剰量のグリニヤール試薬、リン、ヨウ素など）を用いたり、有毒なヒドラジンを使用しているなどの問題点があった。   However, each of the conventionally proposed methods for producing 3,11-dimethyl-2-nonacosanone has its own problems. For example, in the type A synthesis method described above, the reaction proceeds smoothly on a small scale, but the scale-up is increased. Thus, for example, there is a problem that a by-product due to a retro-Claisen reaction is generated in the decarboxylation process. In Type B, an industrial process including an oxidation process with chromic acid of a hydroxyl group or the like is included in the reaction process. It's hard to say. In Type C, expensive and ignitable methyl lithium is used, and in Type D, the methyl group side of the methyl ketone portion is protected with triphenylphosphorane to achieve regioselective alkylation. There is a problem that the yield is low. Furthermore, type E uses expensive silyl compounds, requires strict anhydrous reaction conditions, uses expensive and highly toxic dimethyl sulfoxide, and type F requires a co-electrolyzer. In Type G, there is a problem that there are many processes that are unsuitable for industrialization in many processes. Furthermore, Type H has problems such as using a special reaction reagent (excess amount of Grignard reagent, phosphorus, iodine, etc.) or using toxic hydrazine.

従って、本発明の目的は、好収率、高純度で、且つ簡便な方法により工業的規模で３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンを包含する３−メチルアルカン−２−オン類を製造する方法を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing 3-methylalkane-2-ones including 3,11-dimethyl-2-nonacosanone on an industrial scale by a simple method with good yield and high purity. Is to provide.

そこで本発明者らは、上記の課題を解決するため、新規合成法について鋭意検討を行った結果、今回、上記したタイプＡの合成方法に改良を加え、１−ハロゲノ−９−メチル−９−ヘプタコセンにアセト酢酸エステルを縮合させて得た２−（８−メチル−８−ヘキサコセン）−アセト酢酸エステル類のケトン部をアセタール化して保護基を導入し、次いでエステル部をアルコールまで還元し、脱保護、脱水、水素添加することにより、容易に目的化合物を好収率、高純度で工業的規模で製造できることを見出し本発明を完成するに至った。   In order to solve the above problems, the present inventors have intensively studied a new synthesis method. As a result, the present inventors have improved the above-described synthesis method of type A to obtain 1-halogeno-9-methyl-9-. The ketone part of 2- (8-methyl-8-hexacocene) -acetoacetate obtained by condensing acetoacetate to heptacocene is acetalized to introduce a protecting group, and then the ester part is reduced to alcohol and dehydrated The inventors have found that the target compound can be easily produced in good yield, high purity and on an industrial scale by protection, dehydration and hydrogenation, and the present invention has been completed.

従って、本発明は、下記式（８）   Accordingly, the present invention provides the following formula (8):

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、ＲはＣ１０からＣ５０の分岐してもよいアルキル基またはアルケニル基を示し、Ｘは脱離基を示し、ハロゲン原子又は下記式（１０）を示す。） (In the formula, R represents an alkyl or alkenyl group which may be branched from C10 to C50, X represents a leaving group, and represents a halogen atom or the following formula (10).)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒ’はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基および４−メチルフェニル基を示す。）
で表される化合物を、下記式（７） (In the formula, R ′ represents a methyl group, a trifluoromethyl group, a phenyl group and a 4-methylphenyl group.)
A compound represented by the following formula (7)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒ１は置換基を有してもよい低級アルキル基を示す。）
で表されるアセト酢酸エステル類と反応させ、下記式（６） (In the formula, R 1 represents a lower alkyl group which may have a substituent.)
Is reacted with acetoacetic acid esters represented by the following formula (6):

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、ＲおよびＲ１は上記したと同義である。）
で表される２−アルキル又はアルケニルアセト酢酸エステル類を得、ケトン部をアセタール化して保護基を導入して下記式（５） (In the formula, R and R1 have the same meaning as described above.)
A 2-alkyl or alkenyl acetoacetate represented by the formula:

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、ＲおよびＲ１は上記したと同義であり、Ｒ２は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を有してもよい低級アルキル基を示すか、又は二つのＯＲ２は一緒になって下記式（９）を示し、ここでＲ３は置換基を有してもよい低級アルキレン基を示す。） (In the formula, R and R1 have the same meanings as described above, and R2 may be the same or different and each represents a lower alkyl group which may have a substituent, or two OR2s together. The following formula (9) is shown, wherein R3 represents a lower alkylene group which may have a substituent.

Figure 2005089308
Figure 2005089308

で表される化合物を得、該化合物を還元して下記式（４） A compound represented by the following formula (4) is obtained by reducing the compound:

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、ＲおよびＲ２は上記したと同義である。）
で表される化合物を得、該化合物の保護基を脱保護して下記式（３） (Wherein R and R2 have the same meaning as described above.)
And the protecting group of the compound is deprotected to obtain the following formula (3)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される化合物を得、脱水して下記式（２） (Wherein R has the same meaning as described above.)
A compound represented by the following formula (2) is obtained by dehydration:

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される化合物を得、次いで水素添加することを特徴とする下記式（１） (Wherein R has the same meaning as described above.)
And then hydrogenating the compound represented by the following formula (1)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される３−メチルアルカン−２−オン類の製造方法を提供するものである。 (Wherein R has the same meaning as described above.)
The manufacturing method of 3-methylalkane-2-one represented by these is provided.

また本発明は、下記式（８’）   Further, the present invention provides the following formula (8 ')

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｘは脱離基を示し、ハロゲン原子又は下記式（１０）を示し、破線は二重結合又は単結合を示し、二重結合の場合のシス／トランスは限定されず、混合物であってもよい。） (In the formula, X represents a leaving group, represents a halogen atom or the following formula (10), a broken line represents a double bond or a single bond, and cis / trans in the case of a double bond is not limited. May be.)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒ’はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基および４−メチルフェニル基を示す。）
で表される化合物を、下記式（７） (In the formula, R ′ represents a methyl group, a trifluoromethyl group, a phenyl group and a 4-methylphenyl group.)
A compound represented by the following formula (7)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒ１は置換されていてもよい低級アルキル基を示す。）
で表されるアセト酢酸エステル類と反応させ、下記式（６’） (In the formula, R 1 represents an optionally substituted lower alkyl group.)
Is reacted with acetoacetic acid esters represented by the following formula (6 ′)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒ１および破線は上記したと同義である。）
で表される２−（８−置換）−アセト酢酸エステル類を得、ケトン部をアセタール化して保護基を導入して下記式（５’） (In the formula, R1 and the broken line have the same meaning as described above.)
2- (8-substituted) -acetoacetate represented by the following formula, a ketone portion is acetalized to introduce a protecting group, and the following formula (5 ′)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒ１および破線は上記したと同義であり、Ｒ２は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換されていてもよい低級アルキル基を示すか、又は二つのＯＲ２は一緒になって下記式（９）を示し、ここでＲ３は置換されていてもよい低級アルキレン基を示す。） (In the formula, R1 and the broken line have the same meaning as described above, and R2 may be the same or different and each represents a lower alkyl group which may be substituted, or two OR2 together represent the following formula: (9) wherein R3 represents an optionally substituted lower alkylene group.)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

で表される化合物を得、該化合物を還元して下記式（４’） And a compound represented by the following formula (4 ')

Figure 2005089308
Figure 2005089308

（式中、Ｒ２および破線は上記したと同義である。）
で表される化合物を得、該化合物の保護基を脱保護して下記式（３’） (In the formula, R2 and the broken line have the same meaning as described above.)
And the protecting group of the compound is deprotected to obtain the following formula (3 ′)

Figure 2005089308
Figure 2005089308

で表される化合物を得、脱水して下記式（２’） And a compound represented by the following formula (2 ')

Figure 2005089308
Figure 2005089308

で表される化合物を得、次いで水素添加することを特徴とする下記式（１’） A compound represented by the following formula (1 ′):

Figure 2005089308
Figure 2005089308

で表される３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの製造方法が提供される。 A method for producing 3,11-dimethyl-2-nonacosanone represented by the formula:

本発明によれば、好収率、高純度で、且つ簡便な方法により工業的規模でゴキブリの性フェロモンとして有用な３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンを包含する３−メチルアルカン−２−オン類を製造する方法を提供することができる。   According to the present invention, 3-methylalkane-2-one including 3,11-dimethyl-2-nonacosanone useful as a cockroach sex pheromone on an industrial scale by a simple method with good yield, high purity. A method of manufacturing the class can be provided.

本発明の製造方法に従って、前記式（１）の化合物の合成法を反応工程図で示すと以下の反応式Ａのとおりである。   According to the production method of the present invention, the synthesis method of the compound of the formula (1) is shown in the reaction process diagram as shown in the following reaction formula A.

Figure 2005089308
Figure 2005089308

［式中、Ｒ、Ｘ、Ｒ１およびＲ２は前記したと同義である。］
上記反応式Ａに従って、式（８）と式（７）の化合物から式（１）の化合物を合成する方法について工程別に詳細に説明する。 [Wherein, R, X, R1 and R2 have the same meaning as described above. ]
A method for synthesizing the compound of the formula (1) from the compounds of the formula (8) and the formula (7) according to the reaction formula A will be described in detail for each step.

出発物質である式（８）の化合物は公知であり、市場において入手することができ、また従来提案の方法でも容易に製造することができる。式（８）の化合物としては、例えば、式（８’）の構造を持つ１−ハロゲノ−８−メチル−８−ヘキサコセンの他、１−メタンスルホニルオキシドデカン、１−ハロゲノドデカン、１−ハロゲノヘキサデカンなどを挙げることができる。ここで、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などを例示することができる。   The starting compound of the formula (8) is known and can be obtained on the market, and can also be easily produced by a conventionally proposed method. Examples of the compound of the formula (8) include 1-halogeno-8-methyl-8-hexacocene having the structure of the formula (8 ′), 1-methanesulfonyl oxide decane, 1-halogenododecane, 1-halogenohexadecane. And so on. Here, examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

もう一方の出発物質である式（７）のアセト酢酸エステル類も市場で入手することができ、また従来提案されている方法でも容易に製造することができる。式（７）のアセト酢酸エステル類を具体的に示せば、例えば、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、ｎ−プロピルアセトアセテート、ｉｓｏ−プロピルアセトアセテート、ベンジルアセトアセテートなどを例示することができる。   The other starting material, acetoacetic acid ester of formula (7), is also commercially available, and can be easily produced by a conventionally proposed method. Specific examples of the acetoacetate of formula (7) include methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, n-propyl acetoacetate, iso-propyl acetoacetate, benzyl acetoacetate and the like.

式（８）と式（７）の化合物から式（６）の化合物の合成（第１工程）
上記反応式Ａにおいて、式（６）の化合物の合成は、式（８）の化合物に式（７）の化合物を塩基の存在下に縮合させることにより容易に合成することができる。 Synthesis of compound of formula (6) from compound of formula (8) and formula (7) (first step)
In the reaction formula A, the compound of the formula (6) can be easily synthesized by condensing the compound of the formula (7) with the compound of the formula (8) in the presence of a base.

式（７）の化合物の使用量は特に制限されるものではなく、反応条件等に応じて適宜選択することができるが、一般には、式（８）の化合物１モルに対して式（７）の化合物を約０．８〜約１０モル、特に約１〜約３モルの範囲内で使用することができる。該反応は、通常、有機溶媒の存在下または不存在下、好ましくは有機溶媒の存在下に、約０〜約１００℃の温度で、３０分〜５時間攪拌しながら行うことができる。ここで使用しうる有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、ジオキサン、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジクロロメタン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブタノール等が挙げられ、その使用量は、式（８）の化合物に対して重量で、通常、１〜１０倍量とすることができる。   The amount of the compound of the formula (7) used is not particularly limited and can be appropriately selected according to the reaction conditions and the like. Generally, the compound of the formula (7) is used with respect to 1 mol of the compound of the formula (8). Of from about 0.8 to about 10 moles, particularly from about 1 to about 3 moles. The reaction can be usually performed in the presence or absence of an organic solvent, preferably in the presence of an organic solvent, at a temperature of about 0 to about 100 ° C. with stirring for 30 minutes to 5 hours. Examples of the organic solvent that can be used here include benzene, toluene, xylene, n-hexane, n-heptane, cyclohexane, dioxane, diethyl ether, methyl-t-butyl ether, diisopropyl ether, N, N-dimethylformamide, N , N-dimethylacetamide, dichloromethane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, t-butanol, etc., and the amount used is usually 1 to 10 times the weight of the compound of formula (8). Can do.

反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（６）の化合物を得ることができる。   After completion of the reaction, normal post-treatment is performed, and purification is performed by column chromatography or the like to obtain the compound of formula (6).

上述のようにして得られる式（６）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、２−（８−メチル−８−ヘキサコセン）−アセト酢酸エステル、２−ドデシルアセト酢酸エステル、２−ヘキサデシルアセト酢酸エステルなどを例示することができる。   Specific examples of the compound of formula (6) obtained as described above include, for example, 2- (8-methyl-8-hexacosene) -acetoacetate, 2-dodecylacetoacetate, 2-hexadecylacetate. Examples include acetate esters.

式（６）の化合物から式（５）の化合物の合成（第２工程）
上記反応式Ａにおいて、式（５）の化合物の合成は、式（６）の化合物のケトン部をアセタール化して保護基を導入することにより容易に得ることができる。 Synthesis of compound of formula (5) from compound of formula (6) (second step)
In the above reaction formula A, the synthesis of the compound of formula (5) can be easily obtained by acetalizing the ketone moiety of the compound of formula (6) and introducing a protecting group.

式（６）の化合物のケトン部をアセタール化する方法としては、特に制限されず、PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS(Theodora W.Greene,Peter G.M.Wuts著；A WILEY-INTERSCIENCE PUBLICATION)に示されているような方法により、非環式または環式のアセタールを従来公知の方法を用いて形成させることができる。   The method for acetalizing the ketone moiety of the compound of formula (6) is not particularly limited, as shown in PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS (by Theodora W. Greene, Peter GMWuts; A WILEY-INTERSCIENCE PUBLICATION). By this method, an acyclic or cyclic acetal can be formed using a conventionally known method.

反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（５）の化合物を得ることができる。   After completion of the reaction, normal post-treatment is performed and purification is performed by column chromatography or the like to obtain the compound of the formula (5).

上述のようにして得られる式（５）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、２−（８−メチル−８−ヘキサコセン）−アセト酢酸エステル−ジメチルアセタール、２−（８−メチル−８−ヘキサコセン）−アセト酢酸エステル−エチレンアセタール、２−ドデシルアセト酢酸エステル−ジエチルアセタール、２−ヘキサデシルアセト酢酸エステル−エチレンアセタールなどを例示することができる。   Specific examples of the compound of the formula (5) obtained as described above include, for example, 2- (8-methyl-8-hexacosene) -acetoacetate-dimethylacetal, 2- (8-methyl-8- Hexacocene) -acetoacetate-ethylene acetal, 2-dodecylacetoacetate-diethyl acetal, 2-hexadecyl acetoacetate-ethylene acetal, and the like.

式（５）の化合物から式（４）の化合物の合成（第３工程）
上記反応式Ａにおいて、式（４）の化合物の合成は、式（５）の化合物を還元することにより容易に得ることができる。 Synthesis of compound of formula (4) from compound of formula (5) (third step)
In the above reaction formula A, the synthesis of the compound of the formula (4) can be easily obtained by reducing the compound of the formula (5).

該反応に使用することができる還元剤としては、例えば、水素化アルミニウム、リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化トリエトキシアルミニウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムなどを挙げることができる。該反応は、通常、有機溶媒の存在下に、約−２０〜約１００℃の温度で、３０分〜５時間攪拌しながら行うことができる。ここで使用しうる有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル等が挙げられ、その使用量は、式（５）の化合物に対して重量で、通常、２〜１０倍量とすることができる。   Examples of the reducing agent that can be used in the reaction include aluminum hydride, lithium, diisobutylaluminum hydride, triethoxyaluminum hydride, bis (2-methoxyethoxy) aluminum hydride, and the like. The reaction can be usually carried out in the presence of an organic solvent at a temperature of about -20 to about 100 ° C with stirring for 30 minutes to 5 hours. Examples of the organic solvent that can be used here include hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene, xylene, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, and the like. It can be usually 2 to 10 times the weight of the compound.

反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（４）の化合物を得ることができる。   After completion of the reaction, normal post-treatment is performed and purification is performed by column chromatography or the like to obtain the compound of the formula (4).

上述のようにして得られる式（４）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、３−ヒドロキシメチル−１１−メチル−１１−ノナコセン−２−オン−ジメチルアセタール、３−ヒドロキシメチル−１１−メチル−１１−ノナコセン−２−オン−エチレンアセタール、３−ヒドロキシメチルペンタデカ−２−オン−ジエチルアセタール、３−ヒドロキシメチルノナデカ−２−オン−エチレンアセタールなどを例示することができる。   Specific examples of the compound of formula (4) obtained as described above include, for example, 3-hydroxymethyl-11-methyl-11-nonacen-2-one-dimethylacetal, 3-hydroxymethyl-11-methyl. Illustrative examples include 11-nonacen-2-one-ethylene acetal, 3-hydroxymethylpentadec-2-one-diethyl acetal, and 3-hydroxymethyl nonadec-2-one-ethylene acetal.

式（４）の化合物から式（３）の化合物の合成（第４工程）
上記反応式Ａにおいて、式（３）の化合物の合成は、式（４）の化合物を脱保護することにより容易に得ることができる。 Synthesis of compound of formula (3) from compound of formula (4) (fourth step)
In the above reaction formula A, the synthesis of the compound of the formula (3) can be easily obtained by deprotecting the compound of the formula (4).

該反応において脱保護する方法としては、アセタールの脱保護反応として従来公知の方法のいずれも採用することができ、例えば、酸性条件下の加水分解反応や過剰量のケトン存在下でのアセタール交換反応を採用することができる（PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS(Theodora W.Greene,Peter G.M.Wuts著；A WILEY-INTERSCIENCE PUBLICATION））。   As a method for deprotection in the reaction, any of conventionally known methods can be adopted as a deprotection reaction of acetal. For example, a hydrolysis reaction under acidic conditions or an acetal exchange reaction in the presence of an excessive amount of ketone. (PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS (by Theodora W. Greene, Peter GMWuts; A WILEY-INTERSCIENCE PUBLICATION)).

反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（３）の化合物を得ることができる。   After completion of the reaction, normal post-treatment is performed and purification is performed by column chromatography or the like to obtain the compound of the formula (3).

上述のようにして得られる式（３）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、３−ヒドロキシメチル−１１−メチル−１１−ノナコセン−２−オン、３−ヒドロキシメチルペンタデカ−２−オン、３−ヒドロキシメチルノナデカ−２−オンなどを例示することができる。   Specific examples of the compound of the formula (3) obtained as described above include, for example, 3-hydroxymethyl-11-methyl-11-nonacsen-2-one, 3-hydroxymethylpentadec-2-one, 3-hydroxymethyl nonadeca-2-one etc. can be illustrated.

式（３）の化合物から式（２）の化合物の合成（第５工程）
上記反応式Ａにおいて、式（２）の化合物の合成は、式（３）の化合物を脱水することにより容易に得ることができる。 Synthesis of compound of formula (2) from compound of formula (3) (fifth step)
In the above reaction formula A, the synthesis of the compound of the formula (2) can be easily obtained by dehydrating the compound of the formula (3).

該反応は酸性触媒条件下に容易に脱水反応が進行する。酸性触媒としては、例えば、硫酸、塩酸、メタスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、三フッ化ホウ素またはそのエーテル錯体塩化カルシウムなどを例示することができ、式（３）の化合物に対して重量で約０．００１〜１０％を使用することができる。該反応は、通常、有機溶媒の存在下または不存在下、好ましくは有機溶媒の存在下に、約０〜約１５０℃の温度で、３０分〜５時間攪拌しながら行うことができる。ここで使用しうる有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、その使用量は、式（３）の化合物に対して重量で、通常、０．５〜１０倍量とすることができる。   In this reaction, the dehydration reaction proceeds easily under acidic catalyst conditions. Examples of the acidic catalyst include sulfuric acid, hydrochloric acid, metasulfonic acid, benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, boron trifluoride, or ether complex calcium chloride thereof, and the like, for the compound of formula (3) About 0.001 to 10% by weight can be used. The reaction can be usually performed in the presence or absence of an organic solvent, preferably in the presence of an organic solvent, at a temperature of about 0 to about 150 ° C. with stirring for 30 minutes to 5 hours. Examples of the organic solvent that can be used here include hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene, xylene, and the like. The amount used is generally 0.5% by weight with respect to the compound of formula (3). -10 times the amount.

反応中、生成する水を、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ水分分離装置により系外に除去することにより反応が促進され、より好ましい。反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（２）の化合物を得ることができる。   During the reaction, the generated water is removed out of the system by a Dean-Stark water separator, which is more preferable because the reaction is accelerated. After completion of the reaction, normal post-treatment is performed, and purification is performed by column chromatography or the like to obtain the compound of the formula (2).

上述のようにして得られる式（２）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、１１−メチル−３−メチレン−１１−ノナコセン−２−オン、３−メチレンペンタデカ−２−オン、３−メチレンノナデカ−２−オンなどを例示することができる。   Specific examples of the compound of the formula (2) obtained as described above include 11-methyl-3-methylene-11-nonacsen-2-one, 3-methylenepentadec-2-one, 3- Methylene nonadec-2-one and the like can be exemplified.

式（２）の化合物から式（１）の化合物の合成（第６工程）
上記反応式Ａにおいて、式（１）の化合物の合成は、式（２）の化合物を水素添加することにより容易に得ることができる。 Synthesis of compound of formula (1) from compound of formula (2) (sixth step)
In the above reaction formula A, the synthesis of the compound of the formula (1) can be easily obtained by hydrogenating the compound of the formula (2).

該反応において水素添加する方法としては、例えば、炭素担持パラジウム、アルミナ担持パラジウム、ラネーニッケルなどを不均一触媒とし、大気圧〜５０Ｋｇ／ｃｍ２の水素雰囲気下に反応させることができる。該反応は、通常、有機溶媒の存在下または不存在下、約０〜約１００℃の温度で、３０分〜５時間攪拌しながら行うことができる。ここで使用しうる有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、メチルイソブチルケトン等が挙げられ、その使用量は、式（２）の化合物に対して重量で、通常、０〜５０倍量とすることができる。   As a method of adding hydrogen in the reaction, for example, palladium on carbon, palladium on alumina, Raney nickel, etc. can be used as a heterogeneous catalyst, and the reaction can be carried out in a hydrogen atmosphere at atmospheric pressure to 50 kg / cm 2. The reaction can be usually performed in the presence or absence of an organic solvent at a temperature of about 0 to about 100 ° C. with stirring for 30 minutes to 5 hours. Examples of the organic solvent that can be used here include hexane, heptane, benzene, toluene, methyl isobutyl ketone, and the amount used is usually 0 to 50 by weight with respect to the compound of formula (2). It can be doubled.

反応終了後、触媒を除去し、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（１）の化合物を得ることができる。   After completion of the reaction, the catalyst can be removed and purified by column chromatography or the like to obtain the compound of formula (1).

上述のようにして得られる式（１）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、式（１’）の構造を持つ３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの他、３−メチル−２−ペンタデカノン、３−メチルノナデカノンなどを例示することができる。   Specific examples of the compound of formula (1) obtained as described above include, for example, 3-methyl-2-pentadecanone in addition to 3,11-dimethyl-2-nonacosanone having the structure of formula (1 ′). , 3-methylnonadecanone and the like can be exemplified.

上記した式（１）に包含される前記した式（１’）で表される３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの合成方法を具体的に示せば下記に示す反応式Ｂのとおりである。   The method for synthesizing 3,11-dimethyl-2-nonacosanone represented by the above formula (1 ′) included in the above formula (1) is specifically shown in the following reaction formula B.

Figure 2005089308
Figure 2005089308

［Ｘ、Ｒ、Ｒ１およびＲ２は前記と同義である。］
以下、実施例および参考例により本発明を更に詳しく説明する。 [X, R, R1 and R2 are as defined above. ]
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Reference Examples.

実施例１：式（６’）の化合物の製造例
アセト酢酸エチル１１４５ｇとｔ−ブタノール２９６１ｇの溶液にカリウムｔ−ブトキシドの粉末を９８７ｇ加え、加熱して完全に溶解させた。式（８’）の化合物の臭化物１６１０ｇを８０〜９０℃で１時間かけて投入し、更に同温度で５時間反応した。冷却後、冷水５Ｋｇに反応液を注ぎ、トルエン５Ｋｇで抽出した。トルエン層は飽和ソーダ灰水溶液、ブライン各２Ｋｇで順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。トルエンを減圧回収後、式（６’）の化合物の粗生成物が１７９８ｇ得られた（定量的）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（６’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。 Example 1: Preparation Example of Compound of Formula (6 ') To a solution of 1145 g of ethyl acetoacetate and 2961 g of t-butanol, 987 g of potassium t-butoxide powder was added and heated to completely dissolve. 1610 g of the bromide of the compound of the formula (8 ′) was added at 80 to 90 ° C. over 1 hour, and further reacted at the same temperature for 5 hours. After cooling, the reaction solution was poured into 5 kg of cold water and extracted with 5 kg of toluene. The toluene layer was washed with 2 Kg each of saturated aqueous soda ash solution and brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. After recovering toluene under reduced pressure, 1798 g of a crude product of the compound of formula (6 ′) was obtained (quantitative). Purification by silica gel column chromatography yields the pure compound of formula (6 ′), but it can also be used in the next reaction as a crude product.

実施例２：式（５’）の化合物の製造例
実施例１で得られた式（６’）の化合物の粗生成物２１４ｇとエチレングリコール１３１ｇをトルエン２リットルに溶解させ、パラトルエンスルホン酸モノ水和物５ｇを加えて加熱した。トルエン還流下での反応の進行に従って生成する水は、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋの水分離装置を用いて系外に除去した。３時間反応して原料を消失させ、冷却した。反応液は飽和ソーダ灰水溶液、ブライン各２００ｇで順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。トルエンを減圧回収後、式（５’）の化合物の粗生成物が２４１ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物から定量的）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（５’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。 Example 2: Production Example of Compound of Formula (5 ') 214 g of the crude product of the compound of formula (6') obtained in Example 1 and 131 g of ethylene glycol were dissolved in 2 liters of toluene, and paratoluenesulfonic acid mono 5 g of hydrate was added and heated. Water generated as the reaction progressed under reflux of toluene was removed out of the system using a Dean-Stark water separator. The reaction was allowed to proceed for 3 hours, and the raw material disappeared and cooled. The reaction solution was washed sequentially with 200 g of saturated aqueous soda ash and brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. After recovering toluene under reduced pressure, 241 g of a crude product of the compound of the formula (5 ′) was obtained (quantitative from the bromide of the starting material formula (8 ′)). Purification by silica gel column chromatography yields the pure compound of formula (5 ′), but it can also be used in the next reaction as a crude product.

実施例３：式（４’）の化合物の製造例
エーテル１リットルに水素化リチウムアルミニウム１６ｇを懸濁させ、実施例２で得られた式（５’）の化合物の粗生成物２４１ｇのエーテル５００ミリリットル溶液を冷却下に０〜１０℃で１時間かけて加えた。１時間反応して１５０ｇの水を注意深く加えて反応を停止した。反応液に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。エーテルを減圧回収後、式（４’）の化合物の粗生成物が２０６ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物からの収率９６．７％）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（４’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。 Example 3 Production Example of Compound of Formula (4 ′) 16 g of lithium aluminum hydride was suspended in 1 liter of ether, and 241 g of a crude product of the compound of formula (5 ′) obtained in Example 2 was obtained as ether 500. The milliliter solution was added with cooling at 0-10 ° C over 1 hour. The reaction was stopped for 1 hour by adding 150 g of water carefully. To the reaction solution was added anhydrous sodium sulfate and dried. After recovering the ether under reduced pressure, 206 g of a crude product of the compound of the formula (4 ′) was obtained (yield from the bromide of the starting material formula (8 ′) 96.7%). Purification by silica gel column chromatography yields the pure compound of formula (4 ′), but it can also be used in the next reaction as a crude product.

実施例４：式（３’）の化合物の製造例
実施例３で得られた式（４’）の化合物の粗生成物２０６ｇのアセトン１．５リットル溶液に、パラトルエンスルホン酸モノ水和物１ｇを加えて室温で５時間反応した。アセトンを減圧下に回収して得られた残渣をトルエン１リットルに希釈し、飽和ソーダ灰水溶液、ブライン各５００ｇで順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。トルエンを減圧回収後、式（３’）の化合物の粗生成物が１８１ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物からの収率９３．０％）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（３’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。 Example 4 Production Example of Compound of Formula (3 ′) Paratoluenesulfonic acid monohydrate was added to a solution of 206 g of the crude product of the compound of formula (4 ′) obtained in Example 3 in 1.5 liter of acetone. 1 g was added and reacted at room temperature for 5 hours. The residue obtained by recovering acetone under reduced pressure was diluted with 1 liter of toluene, washed successively with 500 g of saturated aqueous soda ash and brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. After recovering toluene under reduced pressure, 181 g of a crude product of the compound of formula (3 ′) was obtained (yield from bromide of starting material formula (8 ′) 93.0%). Purification by column chromatography on silica gel yields a pure compound of formula (3 ′), but it can also be used in the next reaction as a crude product.

実施例５：式（２’）の化合物の製造例
実施例４で得られた式（３’）の化合物の粗生成物１８１ｇをトルエン８００ミリリットルに溶解し、パラトルエンスルホン酸モノ水和物１ｇを加えて加熱した。脱水反応の進行により生成する水は、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋの水分離装置を用いて系外に除去した。２時間反応して原料を消失させ、冷却した。反応液は飽和ソーダ灰水溶液、ブライン各３００ｇで順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。トルエンを減圧回収後、式（２’）の化合物の粗生成物が１７２ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物からの収率９２．０％）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（２’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。 Example 5: Preparation Example of Compound of Formula (2 ') 181 g of the crude product of the compound of formula (3') obtained in Example 4 was dissolved in 800 ml of toluene, and 1 g of paratoluenesulfonic acid monohydrate was obtained. And heated. The water produced by the progress of the dehydration reaction was removed out of the system using a Dean-Stark water separator. The reaction was allowed to proceed for 2 hours, and the raw material disappeared and cooled. The reaction solution was washed sequentially with 300 g of saturated aqueous soda ash and brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. After recovering toluene under reduced pressure, 172 g of a crude product of the compound of the formula (2 ′) was obtained (yield from the bromide of the starting material formula (8 ′) 92.0%). Purification by column chromatography on silica gel gives a pure compound of formula (2 ′), but it can also be used in the next reaction as a crude product.

実施例６：式（１’）の化合物の製造例
実施例５で得られた式（２’）の化合物の粗生成物１７２ｇのヘプタン１００ミリリットル溶液に１０％パラジウム−炭素触媒を１ｇ加え、水素雰囲気下（大気圧）、室温で５時間反応した。反応液から触媒を濾別し、ヘプタンを減圧回収後、式（１’）の化合物の粗生成物が１７３ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物から収率９１．７％）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（１’）の化合物が１６９ｇ得られた（出発原料の式（８’）の臭化物からの収率８９．６％）。ＧＣ純度は９８．９％（カラムＯＶ−１で測定）であり、核磁気共鳴スペクトルとマススペクトルは、製造した式（１’）が３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンであることを強く指示した。
Example 6 Production Example of Compound of Formula (1 ′) 1 g of 10% palladium-carbon catalyst was added to a solution of 172 g of the crude product of the compound of formula (2 ′) obtained in Example 5 in 100 ml of heptane and hydrogen The reaction was carried out at room temperature for 5 hours under atmosphere (atmospheric pressure). After the catalyst was filtered off from the reaction solution and heptane was recovered under reduced pressure, 173 g of a crude product of the compound of the formula (1 ′) was obtained (yield 91.7% from the bromide of the starting material formula (8 ′)). Purification by column chromatography on silica gel yielded 169 g of pure compound of formula (1 ′) (yield from the starting bromide of formula (8 ′) 89.6%). The GC purity is 98.9% (measured with column OV-1) and the nuclear magnetic resonance spectrum and mass spectrum strongly indicate that the formula (1 ′) produced is 3,11-dimethyl-2-nonacosanone. did.

Claims (2)

下記式（８）
Figure 2005089308
 （式中、ＲはＣ１０からＣ５０の分岐してもよいアルキル基またはアルケニル基を示し、Ｘは脱離基を示し、ハロゲン原子又は下記式（１０）を示す。）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒ’はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基および４−メチルフェニル基を示す。）
で表される化合物を、下記式（７）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒ１は置換基を有してもよい低級アルキル基を示す。）
で表されるアセト酢酸エステル類と反応させ、下記式（６）
Figure 2005089308
 （式中、ＲおよびＲ１は上記したと同義である。）
で表される２−アルキル又はアルケニルアセト酢酸エステル類を得、ケトン部をアセタール化して保護基を導入して下記式（５）
Figure 2005089308
 （式中、ＲおよびＲ１は上記したと同義であり、Ｒ２は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を有してもよい低級アルキル基を示すか、又は二つのＯＲ２は一緒になって下記式（９）を示し、ここでＲ３は置換基を有してもよい低級アルキレン基を示す。）
Figure 2005089308
 で表される化合物を得、該化合物を還元して下記式（４）
Figure 2005089308
 （式中、ＲおよびＲ２は上記したと同義である。）
で表される化合物を得、該化合物の保護基を脱保護して下記式（３）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される化合物を得、脱水して下記式（２）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される化合物を得、次いで水素添加することを特徴とする下記式（１）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される３−メチルアルカン−２−オン類の製造方法。 Following formula (8)
Figure 2005089308
 (In the formula, R represents an alkyl or alkenyl group which may be branched from C10 to C50, X represents a leaving group, and represents a halogen atom or the following formula (10).)
Figure 2005089308
 (In the formula, R ′ represents a methyl group, a trifluoromethyl group, a phenyl group and a 4-methylphenyl group.)
A compound represented by the following formula (7)
Figure 2005089308
 (In the formula, R 1 represents a lower alkyl group which may have a substituent.)
Is reacted with acetoacetic acid esters represented by the following formula (6):
Figure 2005089308
 (In the formula, R and R1 have the same meaning as described above.)
A 2-alkyl or alkenyl acetoacetate represented by the formula:
Figure 2005089308
 (In the formula, R and R1 have the same meanings as described above, and R2 may be the same or different and each represents a lower alkyl group which may have a substituent, or two OR2s together. The following formula (9) is shown, wherein R3 represents a lower alkylene group which may have a substituent.
Figure 2005089308
 A compound represented by the following formula (4) is obtained by reducing the compound:
Figure 2005089308
 (Wherein R and R2 have the same meaning as described above.)
And the protecting group of the compound is deprotected to obtain the following formula (3)
Figure 2005089308
 (Wherein R has the same meaning as described above.)
A compound represented by the following formula (2) is obtained by dehydration:
Figure 2005089308
 (Wherein R has the same meaning as described above.)
And then hydrogenating the compound represented by the following formula (1)
Figure 2005089308
 (Wherein R has the same meaning as described above.)
The manufacturing method of 3-methylalkane-2-one represented by these. 下記式（８’）
Figure 2005089308
 （式中、Ｘは脱離基を示し、ハロゲン原子又は下記式（１０）を示し、破線は二重結合又は単結合を示し、二重結合の場合のシス／トランスは限定されず、混合物であってもよい。）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒ’はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基および４−メチルフェニル基を示す。）
で表される化合物を、下記式（７）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒ１は置換されていてもよい低級アルキル基を示す。）
で表されるアセト酢酸エステル類と反応させ、下記式（６’）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒ１および破線は上記したと同義である。）
で表される２−（８−置換）−アセト酢酸エステル類を得、ケトン部をアセタール化して保護基を導入して下記式（５’）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒ１および破線は上記したと同義であり、Ｒ２は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換されていてもよい低級アルキル基を示すか、又は二つのＯＲ２は一緒になって下記式（９）を示し、ここでＲ３は置換されていてもよい低級アルキレン基を示す。）
Figure 2005089308
 で表される化合物を得、該化合物を還元して下記式（４’）
Figure 2005089308
 （式中、Ｒ２および破線は上記したと同義である。）
で表される化合物を得、該化合物の保護基を脱保護して下記式（３’）
Figure 2005089308
 で表される化合物を得、脱水して下記式（２’）
Figure 2005089308
 で表される化合物を得、次いで水素添加することを特徴とする下記式（１’）
Figure 2005089308
 で表される３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの製造方法。
Following formula (8 ')
Figure 2005089308
 (In the formula, X represents a leaving group, represents a halogen atom or the following formula (10), a broken line represents a double bond or a single bond, and cis / trans in the case of a double bond is not limited. May be.)
Figure 2005089308
 (In the formula, R ′ represents a methyl group, a trifluoromethyl group, a phenyl group and a 4-methylphenyl group.)
A compound represented by the following formula (7)
Figure 2005089308
 (In the formula, R 1 represents an optionally substituted lower alkyl group.)
Is reacted with acetoacetic acid esters represented by the following formula (6 ′)
Figure 2005089308
 (In the formula, R1 and the broken line have the same meaning as described above.)
2- (8-substituted) -acetoacetate represented by the following formula, a ketone portion is acetalized to introduce a protecting group, and the following formula (5 ′)
Figure 2005089308
 (In the formula, R1 and the broken line have the same meaning as described above, and R2 may be the same or different and each represents a lower alkyl group which may be substituted, or two OR2 together represent the following formula: (9) wherein R3 represents an optionally substituted lower alkylene group.)
Figure 2005089308
 And a compound represented by the following formula (4 ′)
Figure 2005089308
 (In the formula, R2 and the broken line have the same meaning as described above.)
And the protecting group of the compound is deprotected to obtain the following formula (3 ′)
Figure 2005089308
 A compound represented by the following formula (2 ′)
Figure 2005089308
 And then hydrogenating the compound represented by the following formula (1 ′)
Figure 2005089308
 The manufacturing method of 3,11-dimethyl-2-nonacosanone represented by these.
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