JP2005083959A - Carrying substrate defect detection device and laser trimming machine equipped with carrying substrate defect detection device - Google Patents

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Katsunori Nagamatsu
勝教 永松
Nobuhiko Komiyama
信彦 小見山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To realize cost and space reduction as well as productivity improvement by shortening detection time for a two-ply defect and a crack, or a breakage. <P>SOLUTION: The laser trimming machine equipped with a carrying substrate defect detection device is composed of: a detection stage 2 in which while a substrate 11 is carried the substrate 11 is stopped by detecting a defect of the substrate 11; a lighting 23; a mirror 25 which projects the side surface image of the substrate 11 on the imaging surface of a camera 21; the camera 21 which takes a picture of the surface image of the substrate 11 and the side surface image of the substrate 11 projected on the mirror 25; an image processing unit 3 which performs image processing of this picture and detects whether a two-ply defect and a crack or a breakage of the substrate 11 has occurred, and outputs a detection signal; and a CPU 4 which performs defective substrate treatment when a defect detection signal is inputted from the image processing unit 3. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、搬送基板不良検出装置及びこの搬送基板不良検出装置を備えたレーザトリミングマシンに関し、特に、基板搬送において発生する二枚重ね不良及び基板の割れ・欠け不良を、同一画像として取り込むことにより検出し、検出処理時間の短縮及び検出ステージ数の低減による基板搬送時間の短縮を行い、生産性の向上を可能とした搬送基板不良検出装置及びこの搬送基板不良検出装置を備えたレーザトリミングマシンに関する。   The present invention relates to a conveyance substrate defect detection device and a laser trimming machine equipped with the conveyance substrate defect detection device, and in particular, detects a double stacking defect and a substrate crack / chip defect that occur in substrate conveyance by capturing them as the same image. The present invention relates to a transport substrate defect detection device capable of shortening the substrate processing time by shortening the detection processing time and the number of detection stages and improving the productivity, and a laser trimming machine equipped with the transport substrate failure detection device.

レーザトリミングマシン等の基板処理装置は、一般的に、基板の対向する端部が載置されるコンベア(搬送手段)を備えている。たとえば、レーザトリミングマシンは、幾重にも重なったセラミック基板を一枚ずつ持ち上げコンベア上に載置する基板投入手段によって、基板が供給される。
この際、セラミック基板どうしが真空吸着により密着していると、基板投入手段は、二枚重なった状態の基板をコンベア上に載置することがある。また、割れ・欠け(割れ及び/又は欠け)不良の発生した基板がコンベアに載置されることもある。
このような不良基板がレーザトリミングマシンのトリミング装置本体に搬送されると、マシンを破損する危険性があることから、次のような搬送基板不良検出装置が使用されてきた。
A substrate processing apparatus such as a laser trimming machine generally includes a conveyor (conveying means) on which opposite ends of a substrate are placed. For example, in a laser trimming machine, a substrate is supplied by a substrate loading unit that lifts ceramic substrates that are overlaid one by one and places them on a conveyor.
At this time, if the ceramic substrates are brought into close contact with each other by vacuum suction, the substrate loading means may place the two stacked substrates on the conveyor. Moreover, the board | substrate with which crack and chip | tip (crack and / or chip | tip) defect generate | occur | produced may be mounted on a conveyor.
When such a defective substrate is conveyed to the trimming device main body of the laser trimming machine, there is a risk of damaging the machine. Therefore, the following conveyance substrate defect detection device has been used.

図8は、従来例にかかる搬送基板不良検出装置の概略ブロック図を示している。
同図において、搬送基板不良検出装置100は、二枚重ね検出ステージ102,割れ・欠け検出ステージ103,厚さ検出センサ105,画像処理ユニット106及びCPU107とからなっており、基板投入手段101とレーザトリミングマシン104の間に設置される。
基板投入手段101は、積み重ねられたセラミック基板を一枚ずつ持ち上げて、搬送基板不良検出装置100の二枚重ね検出ステージ102へ搬送する。そして、搬送された基板は、二枚重ね検出ステージ102及び割れ・欠け検出ステージ103を経由して、レーザトリミングマシン104に供給される。
FIG. 8 shows a schematic block diagram of a transport substrate defect detection device according to a conventional example.
In the figure, a transport substrate defect detection apparatus 100 includes a double stack detection stage 102, a crack / chip detection stage 103, a thickness detection sensor 105, an image processing unit 106, and a CPU 107, and includes a substrate input unit 101 and a laser trimming machine. 104.
The substrate loading means 101 lifts the stacked ceramic substrates one by one and conveys them to the double-stack detection stage 102 of the transport substrate defect detection device 100. Then, the conveyed substrate is supplied to the laser trimming machine 104 via the double-stack detection stage 102 and the crack / chip detection stage 103.

図9は、従来例にかかる搬送基板不良検出装置の厚さ検出センサを説明する概略ブロック図を示している。
同図において、厚さ検出センサ105は、たとえば、図示してないが、小型の反射型センサを上下二段に重ね合わせた構成としてある。下段の反射型センサは、二枚重ねされた下段の基板11を検出し、上段の反射型センサは上段の基板10を検出する。各反射型センサは、CPU107と接続されており、検出信号をCPU107に出力する。
なお、一般的に、二枚重ね検出ステージ102は、基板10,11を搬送するベルトコンベア及びガイド板等(図示せず)を備えている。
FIG. 9 is a schematic block diagram for explaining a thickness detection sensor of a transport substrate defect detection device according to a conventional example.
In the figure, the thickness detection sensor 105 has a configuration in which, for example, a small reflective sensor is superposed in two stages, although not shown. The lower reflective sensor detects the lower substrate 11 that is stacked, and the upper reflective sensor detects the upper substrate 10. Each reflective sensor is connected to the CPU 107 and outputs a detection signal to the CPU 107.
In general, the double overlap detection stage 102 includes a belt conveyor and a guide plate (not shown) for transporting the substrates 10 and 11.

CPU107は、情報処理手段であり、一般的にパーソナルコンピュータ等が使用される。なお、反射型センサを用いた厚さ検出センサ105を使用する場合、反射型センサからの検出信号をシーケンサ又はリレー回路を用いて処理することも可能である。
このCPU107は、厚さ検出センサ105の上段の反射型センサから基板10を検出した検出信号を入力すると、二枚重ね検出ステージ102に制御信号を出力し、ベルトコンベアを停止させる。そして、警報手段(図示せず)に警報信号を出力し、オペレータに基板の二枚重ね不良が発生したことを知らせる。
The CPU 107 is information processing means, and generally a personal computer or the like is used. In addition, when using the thickness detection sensor 105 using a reflection type sensor, it is also possible to process the detection signal from a reflection type sensor using a sequencer or a relay circuit.
When the CPU 107 receives a detection signal for detecting the substrate 10 from the upper reflective sensor of the thickness detection sensor 105, the CPU 107 outputs a control signal to the double-stack detection stage 102 to stop the belt conveyor. Then, an alarm signal is output to an alarm means (not shown) to notify the operator that a double stack failure has occurred.

このように、基板10,11が二枚重ねされている場合、上下段の二つの反射型センサがそれぞれ基板10,11を検出し、CPU107は、基板10,11が二枚重ねされていることを検出する。
また、CPU107は、基板10,11の二枚重ねを検出すると、搬送を停止し警報信号を出力する。このようにして警報に気づいたオペレータは、基板10,11をライン(搬送経路)から取り外し再投入する。
As described above, when the two substrates 10 and 11 are stacked, the two upper and lower reflective sensors detect the substrates 10 and 11 respectively, and the CPU 107 detects that the two substrates 10 and 11 are stacked.
In addition, when the CPU 107 detects the overlapping of the substrates 10 and 11, the CPU 107 stops the conveyance and outputs an alarm signal. The operator who notices the alarm in this way removes the substrates 10 and 11 from the line (conveyance path) and re-inserts them.

図10は、従来例にかかる搬送基板不良検出装置の割れ・欠け検出手段の構成を説明する概略ブロック図を示している。
同図において、割れ・欠け検出手段130は、一枚の基板11を下方から撮像するカメラ131,このカメラに取り付けられたレンズ132,及び基板11に下方から光を照射する複数の照明133とからなっている。
なお、割れ・欠け検出ステージ103は、図示してないが、基板11を挟支又は吸着して搬送する二軸ロボットタイプの搬送手段を備えている。
FIG. 10 is a schematic block diagram for explaining the configuration of the crack / chip detection means of the transport substrate defect detection device according to the conventional example.
In the figure, the crack / chip detection means 130 includes a camera 131 that images a single substrate 11 from below, a lens 132 attached to the camera 11, and a plurality of illuminations 133 that irradiate the substrate 11 with light from below. It has become.
Although not shown in the figure, the crack / chip detection stage 103 includes a biaxial robot type transport unit that transports the substrate 11 by pinching or adsorbing it.

二枚重ね検出ステージ102を経由し一枚であることが確認された基板11は、レンズ132の正面に搬送され、照明133から光を照射された状態で、カメラ131により撮像される。
撮像された画像データは、画像処理ユニット106に出力され、画像処理ユニット106は、入力された画像データをデジタル信号に変換する。そして、画像処理ユニット106は、このデジタル化された画像をあらかじめ記憶してある正常な画像と比較し、基板11に割れ・欠けが発生しているか否かを判断し判断結果を検出信号としてCPU107に出力する。
The substrate 11 that has been confirmed to be a single substrate via the double-stack detection stage 102 is conveyed to the front of the lens 132 and is imaged by the camera 131 while being irradiated with light from the illumination 133.
The captured image data is output to the image processing unit 106, and the image processing unit 106 converts the input image data into a digital signal. Then, the image processing unit 106 compares the digitized image with a normal image stored in advance, determines whether or not the substrate 11 is cracked or chipped, and uses the determination result as a detection signal for the CPU 107. Output to.

なお、図11に示すように、正常な画像150は、カメラ撮影範囲134の灰色の背景画像151と、基板11の白色の表面画像152とからなっているのに対し、割れ・欠けが発生した基板11の画像150bは、図12に示すように、カメラ撮影範囲134の灰色の背景画像151と、黒色の割れ・欠け部154が映し出された基板11の白色の表面画像152bとからなっている。   As shown in FIG. 11, the normal image 150 includes a gray background image 151 of the camera shooting range 134 and a white surface image 152 of the substrate 11. As shown in FIG. 12, the image 150b of the substrate 11 includes a gray background image 151 of the camera photographing range 134 and a white surface image 152b of the substrate 11 on which a black crack / chip 154 is projected. .

CPU107は、画像処理ユニット106から検出信号を入力し、検出結果が正常であり、基板11に割れ・欠け不良が発生していないときは、基板11をレーザトリミングマシン104に搬送する。一方、検出結果が基板13に割れ・欠け不良が発生しているときは、基板11の搬送を停止し警報信号を出力する。   The CPU 107 inputs a detection signal from the image processing unit 106, and when the detection result is normal and there is no crack / chip defect in the substrate 11, the CPU 11 transports the substrate 11 to the laser trimming machine 104. On the other hand, when the detection result shows that the substrate 13 is cracked or chipped, the conveyance of the substrate 11 is stopped and an alarm signal is output.

このように、搬送基板不良検出装置100は、二枚重ね検出ステージ102と割れ・欠け検出ステージ103の二つのステージによって、二枚重ね不良や割れ・欠け不良を検出し、正常な基板11だけをレーザトリミングマシン104に搬送する。   As described above, the transport substrate defect detection apparatus 100 detects a two-sheet stacking defect or a crack / chip defect by using the two-stack detection stage 102 and the crack / chip detection stage 103, and the laser trimming machine 104 detects only the normal substrate 11. Transport to.

なお、特許文献1には、略四角形のパッケージの側面から延出された複数のリードを光学的に読み取る半導体装置の外観検査装置において、半導体装置の少なくとも一つの側面側に配置される反射手段と、反射手段にて反射される半導体装置の側面側の画像と該半導体装置の平面側の画像とを一括して得るための光学読み取り機構とからなる半導体装置の外観検査装置の技術が開示されている。   In Patent Document 1, in a visual inspection apparatus for a semiconductor device that optically reads a plurality of leads extending from a side surface of a substantially rectangular package, a reflecting means disposed on at least one side surface of the semiconductor device; The technology of a semiconductor device appearance inspection device comprising an optical reading mechanism for collectively obtaining an image on a side surface of a semiconductor device reflected by a reflecting means and an image on a plane side of the semiconductor device is disclosed. Yes.

また、特許文献2には、試料の周囲に配置され、試料の側面の画像を反射する複数のミラーと、試料の上方に配置され、試料の上面の画像、及び複数のミラーによって反射された試料の側面の画像を撮像する撮像手段と、撮像手段から供給される映像信号に濃淡画像処理を施し、試料の外観を検査する検査手段とを具備した外観検査装置の技術が開示されている。   In Patent Document 2, a plurality of mirrors arranged around the sample and reflecting the image of the side surface of the sample, and an image of the upper surface of the sample and reflected by the plurality of mirrors are arranged above the sample. There is disclosed a technique of an appearance inspection apparatus that includes an image pickup unit that picks up an image of the side surface, and an inspection unit that performs grayscale image processing on a video signal supplied from the image pickup unit and inspects the appearance of a sample.

また、特許文献3には、略四角形のパッケージを備えた半導体装置の画像を光学的に読み取る半導体装置の外観検査装置において、パッケージの4つの側面に対向して配置される4つの偏光光源と、4つの偏光光源とパッケージの対応する側面との間に配置され、そのパッケージを間として向かい合う側の偏光光源からパッケージに向けて出射された偏光光により形成される各側面側の投影像を各々反射させる4つの反射手段と、4つの反射手段で反射した各側面側の投影像とパッケージの平面側の画像とを一括して取り込む画像読み取り手段とを備えた半導体装置の外観検査装置の技術が開示されている。   Further, in Patent Document 3, in a visual inspection apparatus for a semiconductor device that optically reads an image of a semiconductor device provided with a substantially rectangular package, four polarized light sources arranged to face the four side surfaces of the package; It is arranged between the four polarized light sources and the corresponding side surfaces of the package, and reflects the projected images on the side surfaces formed by the polarized light emitted toward the package from the polarized light sources facing each other with the package in between. Disclosed is a technique of an appearance inspection apparatus for a semiconductor device, which includes four reflecting means to be performed, and image reading means for collectively fetching a projected image on each side surface reflected by the four reflecting means and an image on the plane side of the package. Has been.

また、特許文献4には、被検査体が載置される検査ステージ上方に、被検査体を照らす照明と、カメラとを備え、被検査体の周囲に、この被検査体の側面を観察する側面観察手段を備え、カメラが、被検査体の上面と側面観察手段がとらえた被検査体の側面画像とを検査画像として取り込む構成とした外観検査装置の技術が開示されている。   Further, Patent Document 4 includes an illumination for illuminating the inspection object and a camera above the inspection stage on which the inspection object is placed, and observes the side surface of the inspection object around the inspection object. There is disclosed a technique of an appearance inspection apparatus that includes a side observation unit, and in which a camera captures, as an inspection image, an upper surface of an inspection target and a side image of the inspection target captured by the side observation unit.

また、特許文献5には、半導体装置の平面側若しくは底面側に配された撮像手段と、半導体装置平面側と底面側のそれぞれに設けられた照明手段と、半導体装置の左右両側面側に配され、半導体装置の左右両側面部を被写体の一部として撮像手段に取り込むための一対のミラーとで構成され、撮像手段によって半導体装置の外観を検査するようにした半導体装置の外観検査装置の技術が開示されている。   Further, Patent Document 5 discloses an imaging unit disposed on a plane side or a bottom side of a semiconductor device, an illumination unit provided on each of the plane side and the bottom side of the semiconductor device, and both left and right side surfaces of the semiconductor device. The semiconductor device appearance inspection technique is configured by a pair of mirrors for taking both left and right side portions of the semiconductor device into the imaging means as part of the subject, and inspecting the appearance of the semiconductor device by the imaging means. It is disclosed.

特開平7−98216号公報(第2頁、第1,2図)Japanese Patent Laid-Open No. 7-98216 (2nd page, FIGS. 1 and 2) 特開平10−141925号公報(第2頁、第1,2図)Japanese Patent Laid-Open No. 10-141925 (second page, FIGS. 1 and 2) 特開平11−44513号公報(第2頁、第1,2図)Japanese Patent Laid-Open No. 11-44513 (Page 2, FIGS. 1 and 2) 特開2000−18927号公報(第2頁、第1,2図)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-18927 (page 2, FIGS. 1 and 2) 特開2003−35681号公報(第2頁、第1図)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-35681 (2nd page, FIG. 1)

しかしながら、上記搬送基板不良検出装置100は、二枚重ね検出ステージ102と割れ・欠け検出ステージ103が別個に設けられ、かつ、別々に不良検出処理が行なわれるため、検出時間や搬送に時間がかかり生産性を向上させることができないといった問題があった。
また、二つのステージ102,103及び別々の不良検出手段、すなわち、厚さ検出センサ105や割れ・欠け検出手段130等を必要とするので、製造原価のコストダウンを図ることができないといった問題があった。
さらに、二つのステージ102,103を設けているために、省スペース化を図ることができないといった問題があった。
However, since the double substrate detection stage 102 and the crack / chip detection stage 103 are separately provided and the defect detection process is performed separately, the transport substrate defect detection apparatus 100 takes a long time for detection and transport and is therefore productive. There was a problem that it was not possible to improve.
In addition, since the two stages 102 and 103 and separate defect detection means, that is, the thickness detection sensor 105 and the crack / chip detection means 130 are required, there is a problem that the manufacturing cost cannot be reduced. It was.
Further, since the two stages 102 and 103 are provided, there is a problem that space saving cannot be achieved.

また、上記特許文献1〜5には、半導体装置等の上面及び外部端子を同一画像として撮像し処理する外観検査装置の技術が開示されているものの、一般的に、半導体装置等は、検査ステージに載置された状態で検査されるのに対し、搬送基板は、生産性を向上させる観点から搬送ライン上で検査する必要がある。また、不良が検出された基板を迅速に処理し、生産停止時間を短縮する必要があった。
すなわち、特許文献1〜5に記載された技術では、搬送される基板を効率よく検査することができないといった問題があった。
Further, although Patent Documents 1 to 5 disclose the technique of an appearance inspection apparatus that captures and processes the upper surface and external terminals of a semiconductor device or the like as the same image, generally, a semiconductor device or the like is an inspection stage. In contrast, the transport substrate needs to be inspected on the transport line from the viewpoint of improving productivity. In addition, it is necessary to quickly process a substrate in which a defect is detected, and to shorten the production stop time.
That is, the techniques described in Patent Documents 1 to 5 have a problem that the substrate to be transported cannot be efficiently inspected.

本発明は、上記諸問題を解決すべく、二枚重ね不良及び割れ・欠け不良を同時にかつ同一ステージで検出することにより、検出時間を短縮し生産性を向上させるとともに、製造原価のコストダウン及び省スペース化を図ることの可能な搬送基板不良検出装置の提供を目的とする。   In order to solve the above problems, the present invention detects a double stacking defect and a crack / chip defect simultaneously and on the same stage, thereby reducing the detection time and improving the productivity, reducing the manufacturing cost and saving the space. It is an object of the present invention to provide a conveyance substrate defect detection device that can be made simple.

この目的を達成するために、本発明の搬送基板不良検出装置は、被検査体である基板を搬送し、前記基板の不良を検出するとき、前記基板を停止させ又は前記基板の搬送速度を減速する検出ステージと、この検出ステージ上を搬送される前記基板の表面又は裏面のいずれか一方の面と側面を照らす照明と、前記検出ステージ上を搬送される前記基板の側面画像をカメラの撮像面に映し出す鏡と、前記照明に照らされた前記基板の表面又は裏面のいずれか一方の面の画像と前記鏡に映し出された前記基板の側面画像を撮像するカメラと、このカメラが撮像した画像を画像処理し、前記基板の二枚重ね不良が発生していないか,及び,前記基板に割れ・欠け不良が発生していないかを検出し、検出信号を出力する画像処理ユニットと、前記画像処理ユニットから不良検出信号を入力すると、所定の不良基板処理を行なう情報処理手段とを具備した構成としてある。   In order to achieve this object, the transport substrate defect detection device of the present invention transports a substrate which is an object to be inspected, and stops the substrate or decelerates the transport speed of the substrate when detecting the defect of the substrate. A detection stage, illumination that illuminates one of the front and back surfaces of the substrate conveyed on the detection stage, and a side image of the substrate conveyed on the detection stage. A mirror that is projected on the camera, a camera that captures an image of either the front surface or the back surface of the substrate illuminated by the illumination, a side image of the substrate that is projected on the mirror, and an image captured by the camera. An image processing unit for performing image processing to detect whether or not a double stacking defect of the substrate has occurred and whether or not a crack or chipping defect has occurred in the substrate, and to output a detection signal; If you enter a defect detection signal from the unit, there is a configuration provided with the information processing unit for performing predetermined defective substrate process.

また、本発明にかかる搬送基板不良検出装置は、二枚重ねされた基板から基板一枚を取り除く基板移動手段を備え、前記情報処理手段が、前記画像処理ユニットから前記二枚重ね不良の不良検出信号を入力すると、前記基板移動手段に二枚重ねされた基板から基板一枚を取り除かせ、さらに、残った一枚の基板に対して少なくとも前記割れ・欠け不良が発生していないかを検出させる構成としてある。   In addition, the transport substrate defect detection device according to the present invention includes a substrate moving unit that removes one substrate from the two stacked substrates, and the information processing unit inputs the defect detection signal of the two-stack error from the image processing unit. The substrate moving means is configured to remove one substrate from the two stacked substrates, and to detect whether at least the crack / chip defect has occurred in the remaining substrate.

また、本発明にかかる搬送基板不良検出装置は、前記情報処理手段が、前記画像処理ユニットから不良検出信号を入力すると、警報手段へ警報信号を出力する構成としてある。   In the conveyance substrate defect detection device according to the present invention, when the information processing unit inputs a defect detection signal from the image processing unit, the alarm signal is output to the alarm unit.

また、本発明にかかる搬送基板不良検出装置は、前記検出ステージを搬送コンベアとした構成としてある。   Moreover, the conveyance board defect detection apparatus concerning this invention is set as the structure which used the said detection stage as the conveyance conveyor.

また、本発明にかかる搬送基板不良検出装置は、前記搬送コンベアが前記基板をガイドするガイド板を備え、前記ガイド板の外側に取り付けられた前記鏡が、前記ガイド板を介して、前記基板の側面画像をカメラの撮像面に映し出す構成としてある。   In the transport substrate defect detection device according to the present invention, the transport conveyor includes a guide plate that guides the substrate, and the mirror attached to the outside of the guide plate passes through the guide plate to The side image is displayed on the imaging surface of the camera.

また、本発明にかかる搬送基板不良検出装置は、前記ガイド板の材料として透明な材料を用いたこと、又は、前記ガイド板に、前記基板の側面を映し出すための切欠を設けた構成としてある。   In addition, the conveyance substrate defect detection device according to the present invention is configured such that a transparent material is used as the material of the guide plate, or a notch for projecting the side surface of the substrate is provided on the guide plate.

また、本発明にかかる搬送基板不良検出装置は、前記検出ステージを搬送ロボットとした構成としてある。   Moreover, the conveyance substrate defect detection apparatus according to the present invention is configured such that the detection stage is a conveyance robot.

また、本発明にかかる搬送基板不良検出装置を備えたレーザトリミングマシンは、上記請求項1〜7のいずれかに記載の搬送基板不良検出装置を備えた構成としてある。   Moreover, the laser trimming machine provided with the conveyance board defect detection apparatus concerning this invention is set as the structure provided with the conveyance board defect detection apparatus in any one of the said Claims 1-7.

本発明における搬送基板不良検出装置は、一つの検出ステージで、搬送中の基板の二枚重ね不良及び割れ・欠け不良を同一画像から同時に検出することができるので、検出にともなう搬送時間及び検出処理時間からなる検出時間を短縮でき、生産性を向上させることができる。また、検出ステージが一つであるため、二枚重ね検出ステージの分だけ、停止時間及び搬送時間が省くことができるので搬送時間を短縮できる。
また、二つ合った検出ステージが一つとなり、かつ、厚さ検出センサを設けなくてもすむので、製造原価のコストダウンを図ることができる。さらに、二つ合った検出ステージが一つとなるので、省スペース化を図ることができる。
The transport substrate defect detection device according to the present invention can simultaneously detect a double stacking defect and a crack / chip defect of a substrate being transported from the same image with a single detection stage. Therefore, from the transport time and the detection processing time associated with the detection. Detection time can be shortened, and productivity can be improved. In addition, since there is one detection stage, the stop time and the transport time can be saved by the amount corresponding to the two-layer detection stage, so that the transport time can be shortened.
In addition, since two detection stages are combined into one and it is not necessary to provide a thickness detection sensor, the manufacturing cost can be reduced. Furthermore, since the two detection stages are combined into one, space saving can be achieved.

また、基板の二枚重ね不良が検出されたとき、自動的に基板一枚を搬送経路から取り除き、残った基板に検査を行なうことにより、オペレータより迅速に処理することができるので、生産停止時間を短縮でき、生産効率を改善することができる。
さらに、検出ステージは、搬送コンベアや搬送ロボットを備えた構成とすることができるので、基板処理装置の仕様に応じて搬送手段を自由に選択することができる。
In addition, when a double substrate failure is detected, a single substrate is automatically removed from the transport path, and the remaining substrate is inspected so that it can be processed more quickly by the operator, reducing production stop time. Production efficiency can be improved.
Furthermore, since the detection stage can be configured to include a transfer conveyor and a transfer robot, the transfer means can be freely selected according to the specifications of the substrate processing apparatus.

また、搬送コンベアのガイド板の外側に鏡を設置することにより、基板の搬送に同期させて鏡を昇降させなくてもすむので、設備費のコストダウンを図ることができる。具体的には、ガイド板の材料として透明な材料を用いたり、ガイド板に、基板の側面を映し出すための切欠(のぞき窓)を設けることにより、容易に実現することができる。
さらに、レーザトリミングマシンに本発明にかかる搬送基板不良検出装置を設けることにより、特に、加工時間の短い基板を効率よく製造することができ、レーザトリミングマシンの稼働率を大幅に改善することができる。
Further, by installing a mirror outside the guide plate of the transport conveyor, it is not necessary to raise and lower the mirror in synchronization with the transport of the substrate, so that the equipment cost can be reduced. Specifically, it can be easily realized by using a transparent material as the material of the guide plate or by providing a notch (view window) for projecting the side surface of the substrate on the guide plate.
Furthermore, by providing the transport substrate defect detection device according to the present invention in the laser trimming machine, particularly a substrate with a short processing time can be efficiently manufactured, and the operating rate of the laser trimming machine can be greatly improved. .

[搬送基板不良検出装置]
図1は、本発明にかかる搬送基板不良検出装置の構成を説明する概略ブロック図を示している。
同図において、搬送基板不良検出装置1は、検出ステージ2,画像処理ユニット3及びCPU4とからなっており、基板投入手段101とレーザトリミングマシン104の間に設置される。
[Transfer substrate defect detection device]
FIG. 1 is a schematic block diagram for explaining the configuration of a transport substrate defect detection apparatus according to the present invention.
In FIG. 1, a conveyance substrate defect detection apparatus 1 includes a detection stage 2, an image processing unit 3, and a CPU 4, and is installed between a substrate loading unit 101 and a laser trimming machine 104.

検出ステージ2は、基板投入手段101及びレーザトリミングマシン104と連結されており、基板投入手段101から基板(図示せず)を供給されると、この基板を搬送し、カメラ撮影範囲25で停止させ又は基板の搬送速度を減速して不良検出を行い、正常な基板だけを再び搬送し、レーザトリミングマシン104に投入する。
なお、検出ステージ2は、搬送手段として、たとえば、ベルトコンベア,ローラコンベア,チェーンコンベア等の搬送コンベアや、可動部に基板を保持する真空吸着手段やエアハンドなどを取り付けた二軸ロボット,三軸ロボットといった搬送ロボットを用いることができ、様々な基板及び基板処理装置に対応することができる。
The detection stage 2 is connected to the substrate loading unit 101 and the laser trimming machine 104. When a substrate (not shown) is supplied from the substrate loading unit 101, the detection stage 2 is transported and stopped in the camera photographing range 25. Alternatively, the substrate transport speed is reduced to detect a defect, and only a normal substrate is transported again, and is loaded into the laser trimming machine 104.
The detection stage 2 is a two-axis robot or a three-axis robot equipped with, for example, a conveyor such as a belt conveyor, a roller conveyor or a chain conveyor, a vacuum suction means for holding a substrate on a movable part, an air hand, etc. Such a transfer robot can be used, and can cope with various substrates and substrate processing apparatuses.

図2は、本発明にかかる搬送基板不良検出装置の不良検出手段の構成を説明する概略ブロック図を示している。
同図において、不良検出手段20は、一枚の基板11を上方から撮像するカメラ21,このカメラ21に取り付けられ、カメラ21の撮影範囲25を拡大するレンズ22,基板11の表面と側面を撮像可能に光を照射する複数の照明23,及び基板11の側面画像をカメラ21に映し出す鏡24を備えた構成としてあり、検出ステージ2に設けてある。
FIG. 2 is a schematic block diagram illustrating the configuration of the defect detection means of the conveyance substrate defect detection device according to the present invention.
In the figure, a defect detection means 20 is a camera 21 that images a single substrate 11 from above, a lens 22 that is attached to the camera 21 and expands the imaging range 25 of the camera 21, and images the surface and side surfaces of the substrate 11. The detection stage 2 is provided with a plurality of illuminations 23 for irradiating light and a mirror 24 for projecting a side image of the substrate 11 to the camera 21.

カメラ21は、基板11及び鏡24がカメラ撮影範囲25内に収まる構成としてあるので、一つの画面を撮像することによって、基板11の表面画像及び側面画像を撮像することができる(図3参照)。
このように、搬送中の基板11を一回停止させ又は搬送速度を減速して撮像することにより、表面画像と側面画像を同時に取得することができ、搬送・停止にともなう搬送時間及び撮像時間を短縮することができる。
なお、本実施形態では、基板11の表面の画像及び側面画像を撮像する構成としてあるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、基板11の裏面の画像及び側面画像を撮像する構成としてもよい。
Since the camera 21 has a configuration in which the substrate 11 and the mirror 24 are within the camera photographing range 25, the surface image and the side image of the substrate 11 can be imaged by imaging one screen (see FIG. 3). .
In this way, by stopping the substrate 11 being transported once or capturing an image while decelerating the transport speed, the front surface image and the side image can be acquired simultaneously, and the transport time and imaging time associated with the transport / stop are set. It can be shortened.
In addition, in this embodiment, although it is set as the structure which images the surface image and side image of the board | substrate 11, it is not limited to this structure, For example, as a structure which images the back surface image and side image of the board | substrate 11 Also good.

画像処理ユニット3は、カメラ21が撮像した画像を画像処理し、あらかじめ記憶してある正常な画像と比較することによって、基板11に割れ・欠け不良が発生していないかを検出する。また、上記正常な画像と基板11の側面画像の厚さを比較し、基板の二枚重ね不良が発生していないかを検出する。そして、検出結果を、検出信号としてCPU4に出力する。   The image processing unit 3 performs image processing on an image captured by the camera 21 and compares it with a normal image stored in advance, thereby detecting whether a crack or chipping defect has occurred in the substrate 11. Further, the thickness of the normal image and the side image of the substrate 11 are compared, and it is detected whether or not a substrate double stacking defect has occurred. The detection result is output to the CPU 4 as a detection signal.

情報処理手段であるCPU4は、画像処理ユニット3から不良検出信号を入力し、二枚重ね不良又は割れ・欠け不良が検出されたとき、所定の不良基板処理として、たとえば、警報手段(図示せず)に警報信号を出力し、オペレータに不良が発生し停止状態に陥ったことを知らせる。
これにより、オペレータは、不良基板を搬送経路から取り除き、生産を再開することができる。
The CPU 4 as the information processing means inputs a defect detection signal from the image processing unit 3 and, when a double sheet defect or crack / chip defect is detected, as a predetermined defective substrate process, for example, to an alarm means (not shown). An alarm signal is output to inform the operator that a failure has occurred and the vehicle has stopped.
As a result, the operator can remove the defective substrate from the transport path and resume production.

次に、上記構成の搬送基板不良検出装置1の動作について、図面を参照して説明する。
まず、搬送基板不良検出装置1は、カメラ撮影範囲25内の所定の位置に基板11を搬送し、カメラ21が基板11を撮像し、画像処理ユニット3が撮像された画像を画像処理する。
Next, the operation of the transport substrate defect detection apparatus 1 having the above configuration will be described with reference to the drawings.
First, the transport substrate defect detection device 1 transports the substrate 11 to a predetermined position within the camera shooting range 25, the camera 21 captures the substrate 11, and the image processing unit 3 performs image processing on the captured image.

図3は、本発明にかかる搬送基板不良検出装置における、二枚重ね不良及び割れ・欠け不良のない正常な基板の画像の概略図を示している。
同図において、画像処理ユニット3によって画像処理された正常な画像50は、カメラ撮影範囲25の灰色の背景画像51と、基板11の白色の表面画像52と、基板11の白色の側面画像53とからなっている。
画像処理ユニット3は、あらかじめ記憶してある正常な画像と、撮像し画像処理した画像50とを比較し同じか否かを判断し、同じであるとき基板11が正常である旨の検出信号をCPU4に出力する。
FIG. 3 is a schematic view of an image of a normal substrate having no double stacking defect and no crack / chip defect in the conveyance substrate defect detection device according to the present invention.
In the figure, a normal image 50 image-processed by the image processing unit 3 includes a gray background image 51 of the camera shooting range 25, a white surface image 52 of the substrate 11, and a white side image 53 of the substrate 11. It is made up of.
The image processing unit 3 compares a normal image stored in advance with the captured and image-processed image 50 to determine whether or not they are the same, and when they are the same, a detection signal indicating that the substrate 11 is normal is output. Output to CPU4.

図4は、本発明にかかる搬送基板不良検出装置における、二枚重ね不良が発生した基板の画像の概略図を示している。
同図において、画像処理ユニット3によって画像処理された二枚重ね不良の画像50aは、カメラ撮影範囲25の灰色の背景画像51と、上段の基板11の白色の表面画像52と、二枚重ねされた上段の基板10と下段の基板11が映し出された白色の側面画像53aとからなっている。
画像処理ユニット3は、あらかじめ記憶してある正常な画像と、撮像し画像処理した画像50aとを比較し、側面画像53aが側面画像53より二倍厚いことから二枚重ね不良が発生していると判断し、その旨の不良検出信号をCPU4に出力する。そして、CPU4が警報信号を出力し、オペレータは、不良基板処理を行なうことができる。
FIG. 4 is a schematic view of an image of a substrate on which a double stacking defect has occurred in the transport substrate defect detection device according to the present invention.
In the figure, an image 50a having a double overlay image processed by the image processing unit 3 includes a gray background image 51 in the camera shooting range 25, a white surface image 52 of the upper substrate 11, and an upper substrate on which two images are superimposed. 10 and a white side image 53a on which the lower substrate 11 is projected.
The image processing unit 3 compares the normal image stored in advance with the captured and image-processed image 50a, and determines that the double stacking defect has occurred because the side image 53a is twice as thick as the side image 53. Then, a defect detection signal to that effect is output to the CPU 4. Then, the CPU 4 outputs an alarm signal, and the operator can perform defective substrate processing.

図5は、本発明にかかる搬送基板不良検出装置における、割れ・欠け不良が発生した基板の画像の概略図を示している。
同図において、画像処理ユニット3によって画像処理された割れ・欠け不良の画像50bは、カメラ撮影範囲25の灰色の背景画像51と、黒色の割れ・欠け部54が映し出された基板11の白色の表面画像52bと、基板11の白色の側面画像53とからなっている。
画像処理ユニット3は、あらかじめ記憶してある正常な画像と、撮像し画像処理した画像50bとを比較し、表面画像52bに割れ・欠け部54が映し出されていることから割れ・欠け不良が発生していると判断し、その旨の不良検出信号をCPU4に出力する。そして、CPU4が警報信号を出力し、オペレータは、不良基板処理を行なうことができる。
FIG. 5 shows a schematic diagram of an image of a substrate in which a crack / chip defect has occurred in the transport substrate defect detection device according to the present invention.
In the figure, a crack / chip defect image 50b image-processed by the image processing unit 3 is a white background of the substrate 11 on which a gray background image 51 of the camera photographing range 25 and a black crack / chip portion 54 are projected. It consists of a surface image 52 b and a white side image 53 of the substrate 11.
The image processing unit 3 compares a normal image stored in advance with the captured and image-processed image 50b, and a crack / chip defect 54 is displayed on the surface image 52b. The failure detection signal indicating that is output to the CPU 4. Then, the CPU 4 outputs an alarm signal, and the operator can perform defective substrate processing.

このように、本実施形態の搬送基板不良検出装置1によれば、一つの検出ステージ2で、搬送中の基板の二枚重ね不良及び割れ・欠け不良を同時に検出することができるので、検出にともなう搬送時間及び検出処理時間からなる検出時間を短縮でき、生産性を向上させることができる。   As described above, according to the transport substrate defect detection device 1 of the present embodiment, a single detection stage 2 can simultaneously detect a double stacking defect and a crack / chip defect of a substrate being transported. Detection time consisting of time and detection processing time can be shortened, and productivity can be improved.

なお、上記実施形態では、不良が発生すると、不良検出信号を入力したCPU4が警報信号を出力し、オペレータが不良基板処理を行なっているが、この構成に限定されるものではない。
次に、搬送基板不良検出装置1が効率よく不良基板処理を行なう応用例について、図面を参照して説明する。
In the above embodiment, when a defect occurs, the CPU 4 that has input the defect detection signal outputs an alarm signal and the operator performs the defective substrate processing. However, the present invention is not limited to this configuration.
Next, an application example in which the transport substrate defect detection apparatus 1 efficiently processes a defective substrate will be described with reference to the drawings.

図6は、本発明にかかる搬送基板不良検出装置の応用例の概略図であり、(a)は正面図を、(b)はA−A側面図を示している。
なお、同図(a)において、理解しやすいように、カメラ21や照明23等を省略してある。
同図において、搬送基板不良検出装置1aは、検出ステージ2aが、ベルトコンベア26,透明なガイド板27及び基板移動手段7を備えた構成としてある。
6A and 6B are schematic views of an application example of the conveyance substrate defect detection device according to the present invention, in which FIG. 6A is a front view, and FIG. 6B is a side view of AA.
In FIG. 2A, the camera 21, illumination 23, etc. are omitted for easy understanding.
In the figure, the conveyance substrate defect detection device 1a is configured such that the detection stage 2a includes a belt conveyor 26, a transparent guide plate 27, and a substrate moving means 7.

検出ステージ2aは、基板11を搬送するベルトコンベア26と、基板11をベルトコンベア26上にガイドするガイド板27とを備えている。また、このガイド板27と隣接し、かつ、カメラ撮影範囲25内に収まるように、鏡24が配設してある。
このようにすると、透明なアクリル又は強化ガラス等の材料からなる透明なガイド板27を透して、基板11の側面を鏡24に映し出すことができる。なお、ガイド板27の材料として透明な材料を用いる代わりに、ガイド板27に、基板11の側面を映し出すための切欠(図示せず)を設けてもよい。
The detection stage 2 a includes a belt conveyor 26 that conveys the substrate 11 and a guide plate 27 that guides the substrate 11 onto the belt conveyor 26. Further, a mirror 24 is disposed so as to be adjacent to the guide plate 27 and to be within the camera photographing range 25.
In this way, the side surface of the substrate 11 can be reflected on the mirror 24 through the transparent guide plate 27 made of a material such as transparent acrylic or tempered glass. Instead of using a transparent material as the material of the guide plate 27, the guide plate 27 may be provided with a notch (not shown) for projecting the side surface of the substrate 11.

基板移動手段7は、回転エアーシリンダ71と、この回転エアーシリンダ71により回動されるエアーシリンダ72と、エアーシリンダ72のロッド先端に取り付けられ、真空発生装置(図示せず)と連結された吸着パッド73とからなっており、二枚重ねされた基板10,11から基板10だけを取り除くことができる(図2参照)。
また、基板移動手段7は、CPU4と接続されており、不良検出信号を入力したCPU4によって制御される。
なお、その他の構成は、上記搬送基板不良検出装置1とほぼ同様としてある。
The substrate moving means 7 is attached to a rotary air cylinder 71, an air cylinder 72 rotated by the rotary air cylinder 71, and a rod tip of the air cylinder 72, and is attached to a vacuum generator (not shown). Only the substrate 10 can be removed from the two stacked substrates 10 and 11 (see FIG. 2).
The substrate moving means 7 is connected to the CPU 4 and is controlled by the CPU 4 that has input a defect detection signal.
Other configurations are substantially the same as those of the transport substrate defect detection apparatus 1.

次に、上記構成の搬送基板不良検出装置1aの動作について説明する。
搬送基板不良検出装置1aは、基板投入手段101から基板11を供給される。この際、基板11はベルトコンベア26上に載置され、載置された基板11は、ベルトコンベア26によって、カメラ撮影範囲25内に搬送され、基板11の表面及び側面がカメラ21によって撮像される。そして、基板11が正常なとき、レーザトリミングマシン104方向に搬送される。
なお、基板11の搬送速度が、カメラ撮影範囲25内において、撮像可能な搬送速度であるときは、特に一回停止させたり、搬送速度を減速しなくてもよい。
Next, the operation of the transport substrate defect detection device 1a having the above configuration will be described.
The transport substrate defect detection device 1 a is supplied with the substrate 11 from the substrate loading means 101. At this time, the substrate 11 is placed on the belt conveyor 26, and the placed substrate 11 is conveyed into the camera photographing range 25 by the belt conveyor 26, and the surface and side surfaces of the substrate 11 are imaged by the camera 21. . And when the board | substrate 11 is normal, it is conveyed in the laser trimming machine 104 direction.
In addition, when the conveyance speed of the board | substrate 11 is the conveyance speed which can be imaged within the camera imaging | photography range 25, it is not necessary to stop once especially and to decelerate a conveyance speed.

これに対し、搬送基板不良検出装置1aは、基板11に二枚重ね不良が発生したとき、まず、ベルトコンベア26を停止し、基板移動手段7が上段の基板10だけをベルトコンベア26から取り外す。続いて、下段の一枚となった基板11に対して再度不良検出を行ない、基板11が正常なとき、基板11を搬送する。そして、取り外した基板10を再びベルトコンベア26に戻し、基板10に対して不良検出を行なう構成としてある。
このようにすると、搬送基板不良検出装置1が、二枚重ね不良の不良基板処理を自動的かつ効率よく行なうので、生産性を向上させることができる。
On the other hand, when the double substrate failure occurs on the substrate 11, the transport substrate defect detection device 1 a first stops the belt conveyor 26, and the substrate moving unit 7 removes only the upper substrate 10 from the belt conveyor 26. Subsequently, the defect detection is performed again on the substrate 11 which is the lower one, and when the substrate 11 is normal, the substrate 11 is transported. Then, the removed substrate 10 is returned to the belt conveyor 26, and the substrate 10 is detected for defects.
In this way, the transport substrate defect detection device 1 automatically and efficiently performs the defective substrate processing for the double stacking defect, so that productivity can be improved.

なお、基板移動手段7が、割れ・欠け不良が発生した基板11をベルトコンベア26から取り外し、割れ・欠け不良の不良基板処理を自動的に行なう構成としてもよい。このようにすると、一般的に、オペレータが不良基板処理を行なう場合より停止時間が短縮され、稼働率を向上させることができる。   The substrate moving means 7 may be configured to remove the substrate 11 in which the crack / chip defect has occurred from the belt conveyor 26 and automatically perform the defective substrate processing of the crack / chip defect. In this case, generally, the stop time is shortened compared with the case where an operator performs defective substrate processing, and the operating rate can be improved.

上述したように、本応用例にかかる搬送基板不良検出装置1aによれば、不良が発生するたびにオペレータが不良基板を処理しなくてもすむので、オペレータの作業効率を改善することができるとともに、オペレータが迅速に不良基板を処理できないことに起因して生産ラインの稼働率が低下するといった不具合を改善することができる。
また、固定された鏡24が、ベルトコンベア26上を搬送される基板11の側面を映し出すことができるので、鏡24を昇降させる等の手段が不要となり、構造を単純化することができる。
As described above, according to the transport substrate defect detection device 1a according to this application example, the operator does not have to process the defective substrate every time a defect occurs, so that the operator's work efficiency can be improved. The problem that the operation rate of the production line is lowered due to the fact that the operator cannot process the defective substrate quickly can be improved.
Further, since the fixed mirror 24 can project the side surface of the substrate 11 conveyed on the belt conveyor 26, means such as raising and lowering the mirror 24 is not necessary, and the structure can be simplified.

[レーザトリミングマシン]
図7は、本発明にかかるレーザトリミングマシンの構成を説明するための概略ブロック図を示している。
同図において、レーザトリミングマシン60は、基板投入手段101,搬送基板不良検出装置1,レーザトリミング装置本体61及び基板搬出手段62とからなっている。
[Laser trimming machine]
FIG. 7 is a schematic block diagram for explaining the configuration of the laser trimming machine according to the present invention.
In the figure, a laser trimming machine 60 comprises a substrate loading means 101, a transport substrate defect detection device 1, a laser trimming device main body 61, and a substrate carry-out means 62.

レーザトリミングマシン60は、省スペース化された搬送基板不良検出装置1を内蔵することにより、装置が大型化することを回避することができる。
また、搬送基板不良検出装置を別個に設置しなくてもすむので、使い勝手を改善することができる。
さらに、基板の二枚重ね不良及び割れ・欠け不良を検出することができるので、不良基板によって、レーザトリミング装置本体61が破損するといった不具合を防止することができる。
The laser trimming machine 60 can avoid an increase in size of the apparatus by incorporating the space-saving transport substrate defect detection apparatus 1.
In addition, since it is not necessary to separately install a transfer board defect detection device, usability can be improved.
Furthermore, since it is possible to detect a double stacking defect and a crack / chip defect of the substrate, it is possible to prevent a problem that the laser trimming apparatus main body 61 is damaged by the defective substrate.

本発明の搬送基板不良検出装置及びこの搬送基板不良検出装置を備えたレーザトリミングマシンについて、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、搬送基板不良検出装置1に基板投入手段101の機能を備えた構成としてもよく、このようにすると、高機能かつ省スペース化された搬送基板不良検出装置及びこの搬送基板不良検出装置を備えたレーザトリミングマシンを提供する用途にも適用することができる。
The transport substrate defect detection device of the present invention and the laser trimming machine equipped with this transport substrate defect detection device have been described with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, It goes without saying that various modifications can be made within the scope of the present invention.
For example, the transport substrate defect detection device 1 may be configured to have the function of the substrate loading means 101. In this way, the transport substrate failure detection device and the transport substrate failure detection device that are highly functional and space-saving are provided. The present invention can also be applied to applications that provide a laser trimming machine.

本発明にかかる搬送基板不良検出装置の構成を説明する概略ブロック図を示している。The schematic block diagram explaining the structure of the conveyance board defect detection apparatus concerning this invention is shown. 本発明にかかる搬送基板不良検出装置の不良検出手段の構成を説明する概略ブロック図を示している。The schematic block diagram explaining the structure of the defect detection means of the conveyance board defect detection apparatus concerning this invention is shown. 本発明にかかる搬送基板不良検出装置における、二枚重ね不良及び割れ・欠け不良のない正常な基板の画像の概略図を示している。The schematic diagram of the image of the normal board | substrate without a double sheet | seat overlap defect and a crack and a chip defect in the conveyance board defect detection apparatus concerning this invention is shown. 本発明にかかる搬送基板不良検出装置における、二枚重ね不良が発生した基板の画像の概略図を示している。The schematic of the image of the board | substrate in which the double stacking defect generate | occur | produced in the conveyance board defect detection apparatus concerning this invention is shown. 本発明にかかる搬送基板不良検出装置における、割れ・欠け不良が発生した基板の画像の概略図を示している。The schematic of the image of the board | substrate in which the crack and chipping defect generate | occur | produced in the conveyance board defect detection apparatus concerning this invention is shown. 本発明にかかる搬送基板不良検出装置の応用例の概略図であり、(a)は正面図を、(b)はA−A側面図を示している。It is the schematic of the application example of the conveyance board defect detection apparatus concerning this invention, (a) is a front view, (b) has shown the AA side view. 本発明にかかるレーザトリミングマシンの構成を説明するための概略ブロック図を示している。1 is a schematic block diagram for explaining a configuration of a laser trimming machine according to the present invention. FIG. 従来例にかかる搬送基板不良検出装置の概略ブロック図を示している。The schematic block diagram of the conveyance board defect detection apparatus concerning a prior art example is shown. 従来例にかかる搬送基板不良検出装置の厚さ検出センサを説明する概略ブロック図を示している。The schematic block diagram explaining the thickness detection sensor of the conveyance board defect detection apparatus concerning a prior art example is shown. 従来例にかかる搬送基板不良検出装置の割れ・欠け検出手段の構成を説明する概略ブロック図を示している。The schematic block diagram explaining the structure of the crack and chip | tip detection means of the conveyance board defect detection apparatus concerning a prior art example is shown. 従来例にかかる搬送基板不良検出装置の割れ・欠け部のない良品基板の画像の概略図を示している。The schematic of the image of the non-defective board | substrate without a crack and a chip | tip part of the conveyance board defect detection apparatus concerning a prior art example is shown. 従来例にかかる搬送基板不良検出装置の割れ・欠け部のある不良基板の画像の概略図を示している。The schematic of the image of the defect board | substrate with a crack and a chip | tip part of the conveyance board defect detection apparatus concerning a prior art example is shown.

符号の説明Explanation of symbols

1,1a 搬送基板不良検出装置
2,2a 検出ステージ
3 画像処理ユニット
4 CPU
7 基板移動手段
10,11 基板
20 不良検出手段
21 カメラ
22 レンズ
23 照明
24 鏡
25 カメラ撮影範囲
26 ベルトコンベア
27 ガイド板
50,50a,50b,150,150b 画像
51,151 背景画像
52,152,152b 表面画像
53,53a 側面画像
54 割れ・欠け部
60 レーザトリミングマシン
61 レーザトリミング装置本体
62 基板搬出手段
71 回転エアーシリンダ
72 エアーシリンダ
73 吸着パッド
100 搬送基板不良検出装置
101 基板投入手段
102 二枚重ね検出ステージ
103 割れ・欠け検出ステージ
104 レーザトリミングマシン
105 厚さ検出センサ
106 画像処理ユニット
107 CPU
130 割れ・欠け検出手段
131 カメラ
132 レンズ
133 照明
134 カメラ撮影範囲
154 割れ・欠け部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1a Conveyance board defect detection apparatus 2,2a Detection stage 3 Image processing unit 4 CPU
7 Substrate moving means 10, 11 Substrate 20 Defect detecting means 21 Camera 22 Lens 23 Illumination 24 Mirror 25 Camera photographing range 26 Belt conveyor 27 Guide plates 50, 50a, 50b, 150, 150b Images 51, 151 Background image
52, 152, 152b Surface image 53, 53a Side image 54 Crack / chip part 60 Laser trimming machine 61 Laser trimming device main body 62 Substrate unloading means 71 Rotating air cylinder 72 Air cylinder 73 Adsorption pad 100 Conveying substrate defect detection device 101 Substrate loading means 102 Double-stack detection stage 103 Crack / chip detection stage 104 Laser trimming machine 105 Thickness detection sensor 106 Image processing unit 107 CPU
130 Crack / Chip Detection Unit 131 Camera 132 Lens 133 Illumination 134 Camera Shooting Range 154 Crack / Chip

Claims (8)

被検査体である基板を搬送し、前記基板の不良を検出するとき、前記基板を停止させ又は前記基板の搬送速度を減速する検出ステージと、
この検出ステージ上を搬送される前記基板の表面又は裏面のいずれか一方の面と側面を照らす照明と、
前記検出ステージ上を搬送される前記基板の側面画像をカメラの撮像面に映し出す鏡と、
前記照明に照らされた前記基板の表面又は裏面のいずれか一方の面の画像と前記鏡に映し出された前記基板の側面画像を撮像するカメラと、
このカメラが撮像した画像を画像処理し、前記基板の二枚重ね不良が発生していないか,及び,前記基板に割れ・欠け不良が発生していないかを検出し、検出信号を出力する画像処理ユニットと、
前記画像処理ユニットから不良検出信号を入力すると、所定の不良基板処理を行なう情報処理手段と
を具備したことを特徴とする搬送基板不良検出装置。
A detection stage for conveying a substrate to be inspected and detecting a defect of the substrate to stop the substrate or reduce the conveyance speed of the substrate;
Illumination that illuminates either one of the front surface or the back surface of the substrate conveyed on the detection stage and the side surface;
A mirror that projects a side image of the substrate conveyed on the detection stage onto an imaging surface of a camera;
A camera that captures an image of one of the front and back surfaces of the substrate illuminated by the illumination and a side image of the substrate projected on the mirror;
An image processing unit that performs image processing on an image captured by the camera, detects whether a double stacking defect of the substrate has occurred and whether a crack or chipping defect has occurred in the substrate, and outputs a detection signal When,
An information processing means for performing predetermined defective substrate processing when a defect detection signal is input from the image processing unit.
二枚重ねされた基板から基板一枚を取り除く基板移動手段を備え、前記情報処理手段が、前記画像処理ユニットから前記二枚重ね不良の不良検出信号を入力すると、前記基板移動手段に二枚重ねされた基板から基板一枚を取り除かせ、さらに、残った一枚の基板に対して少なくとも前記割れ・欠け不良が発生していないかを検出させることを特徴とする請求項1記載の搬送基板不良検出装置。   Substrate moving means for removing one substrate from the two stacked substrates, and when the information processing means inputs the defect detection signal of the double stacking failure from the image processing unit, the substrate moving means from the two stacked substrates to the substrate moving means. 2. The transport substrate defect detection apparatus according to claim 1, wherein the substrate is removed, and further, it is detected whether at least the crack / chip defect has occurred in the remaining one substrate. 前記情報処理手段が、前記画像処理ユニットから不良検出信号を入力すると、警報手段へ警報信号を出力することを特徴とする請求項1又は2記載の搬送基板不良検出装置。   3. The conveyance substrate defect detection device according to claim 1, wherein when the information processing unit inputs a defect detection signal from the image processing unit, the information processing unit outputs an alarm signal to the alarm unit. 前記検出ステージを搬送コンベアとしたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の搬送基板不良検出装置。   The conveyance substrate defect detection device according to claim 1, wherein the detection stage is a conveyance conveyor. 前記搬送コンベアが前記基板をガイドするガイド板を備え、前記ガイド板の外側に取り付けられた前記鏡が、前記ガイド板を介して、前記基板の側面画像をカメラの撮像面に映し出すことを特徴とする請求項4記載の搬送基板不良検出装置。   The transport conveyor includes a guide plate for guiding the substrate, and the mirror attached to the outside of the guide plate projects a side image of the substrate on the imaging surface of the camera via the guide plate. The conveyance substrate defect detection device according to claim 4. 前記ガイド板の材料として透明な材料を用いたこと、又は、前記ガイド板に、前記基板の側面を映し出すための切欠を設けたことを特徴とする請求項5記載の搬送基板不良検出装置。   The transport substrate defect detection device according to claim 5, wherein a transparent material is used as a material of the guide plate, or a notch for projecting a side surface of the substrate is provided in the guide plate. 前記検出ステージを搬送ロボットとしたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の搬送基板不良検出装置。   The conveyance substrate defect detection device according to claim 1, wherein the detection stage is a conveyance robot. 上記請求項1〜7のいずれかに記載の搬送基板不良検出装置を備えたレーザトリミングマシン。   A laser trimming machine comprising the conveyance substrate defect detection device according to any one of claims 1 to 7.
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