JP2005070654A - Quality control method for planographic printing plate - Google Patents

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敏夫 上杉
Koichiro Aono
小一郎 青野
Fumikazu Kobayashi
史和 小林
Takahiro Goto
孝浩 後藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a quality control method for keeping the quality of a planographic printing plate to be constant and for continuously forming a uniform image, by easily deciding the platemaking conditions of a negative planographic printing original plate for IR laser for direct platemaking, in particular, deciding the state of a developing solution and back feeding the result to exposure/development steps. <P>SOLUTION: The quality control method for a planographic printing plate includes steps of: (A) exposing a planographic printing original plate having a photosensitive layer containing an IR absorbent, a compound generating a radical and a polymerizable compound on a supporting body, then developing the plate with a standard alkaline developing solution, and determining the activity of the standard alkaline developing solution from physical properties of the solution; (B) determining the activity of the objective alkaline developing solution to be evaluated under the same conditions, except for using the objective alkaline developing solution instead of the standard one; (C) comparing the activity of the standard alkaline developing solution with the activity of the objective alkaline developing solution; and (D) controlling the exposure/development conditions, according to the difference in the activity if the difference in the activity is equal to or larger than a specified value. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、平版印刷版の品質管理方法に関し、より詳細には、コンピュータ等のディジタル信号から直接製版可能な、所謂、ダイレクト製版用の赤外線レーザー用のネガ型平版印刷版原版に好適な品質管理方法に関する。   The present invention relates to a quality control method for a lithographic printing plate, and more particularly, quality control suitable for a negative lithographic printing plate precursor for so-called infrared laser for direct plate making, which can be directly made from a digital signal of a computer or the like. Regarding the method.

近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
前述の赤外線領域に発光領域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版は、支持体上に、赤外線吸収剤と、熱によりラジカルを発生する化合物と、重合性化合物とを含む感光層を有する。
In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared region to the infrared region have been increasing in output and size. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data such as a computer.
The negative lithographic printing plate precursor for infrared laser, which uses an infrared laser having a light emitting region in the infrared region as described above as an exposure light source, is composed of an infrared absorbent, a compound that generates radicals by heat, and a polymerizable property on a support. And a photosensitive layer containing the compound.

通常、このようなネガ型の平版印刷版原版は、熱により発生したラジカルを開始剤として、重合反応を生起させて、露光部の感光層を硬化させて画像部を形成する記録方式を利用している。このようなネガ型の平版印刷版原版は、赤外線レーザ照射のエネルギーにより感光層の可溶化を起こさせるポジ型の記録方式と比較して画像形成性が低いことから、重合などの硬化反応を促進させて強固な画像部を形成するため、現像工程前に加熱処理を行うのが一般的である。   Usually, such a negative lithographic printing plate precursor uses a recording method in which a radical generated by heat is used as an initiator to cause a polymerization reaction to cure an exposed portion of a photosensitive layer to form an image portion. ing. Such negative type lithographic printing plate precursors promote the curing reaction such as polymerization because they are less image-forming than the positive type recording method that causes solubilization of the photosensitive layer by the energy of infrared laser irradiation. In order to form a strong image portion, the heat treatment is generally performed before the development step.

また、このような赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版においては、UV露光により製版するネガ型平版印刷版原版と比べ、現像液の活性度に対するラチチュードが狭いため、現像液の活性度が高い場合には、画像部の濃度低下、耐刷低下を、活性度が低い場合には、現像不良を容易に引き起こすという問題がある。
かかる問題は、以下に述べるような、赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版と、UV露光により製版するネガ型平版印刷版原版との製版メカニズムの本質的な相違に起因する。
UV露光により製版するネガ型平版印刷版原版の多くのものは、ジアゾニウム化合物と結合剤となるポリマーとを必須成分とする。画像形成性は、使用するジアゾニウム化合物と結合剤によって異なるが、一般に分子量が大きく、カルボキシル基等の親水性基との共重合比が小さい結合剤を用いるために、非画像部(未露光部)はベンジルアルコールなどの有機溶剤を添加した現像液で容易に溶解、除去することができる。一方、UV露光により、露光部では前記結合剤とジアゾニウム化合物とが光反応を起こして網状構造を形成するため、有機溶剤を含有する現像液を用いた場合でも溶解し難くなる。したがって、該UV露光により製版するネガ型平版印刷版原版においては、露光部と非露光部の現像液に対する溶解性の差が非常に大きい。
In addition, in such negative lithographic printing plate precursors for infrared lasers, the latitude of the developer activity is narrower than that of negative lithographic printing plate precursors made by UV exposure. However, there is a problem that the density of the image area and the printing durability are lowered, and if the activity is low, development defects are easily caused.
Such a problem is caused by an essential difference in the plate making mechanism between the negative lithographic printing plate precursor for infrared laser and the negative lithographic printing plate precursor made by UV exposure as described below.
Many negative lithographic printing plate precursors that are made by UV exposure contain a diazonium compound and a polymer as a binder as essential components. The image forming property varies depending on the diazonium compound and the binder to be used, but generally uses a binder having a large molecular weight and a small copolymerization ratio with a hydrophilic group such as a carboxyl group. Can be easily dissolved and removed with a developer containing an organic solvent such as benzyl alcohol. On the other hand, since the binder and the diazonium compound cause a photoreaction to form a network structure in the exposed area by UV exposure, it is difficult to dissolve even when a developer containing an organic solvent is used. Therefore, in the negative lithographic printing plate precursor for making a plate by UV exposure, the difference in solubility in the developing solution between the exposed portion and the non-exposed portion is very large.

これに対し、前記赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版においては、露光時に、露光部(非画像部)では、光が赤外線吸収剤により熱エネルギーに変換され、その熱により、ラジカルなどの画像部の硬化に寄与する成分が生成するが、反応をより促進させるためには、露光後に加熱処理を施すことが好ましく、この加熱により重合反応が効率よく進行して強固な画像部が形成される。その後、かかる赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版は現像されて平版印刷版となるが、平版印刷版として実際に使用しうるレベルのものを得られる露光、現像処理の条件が非常に狭い。更に、ここで用いられる重合性化合物は、UV露光用の平版印刷版原版に用いられる結合剤に比較して親水性基が圧倒的に多いため、硬化した後もアルカリ性の現像剤に対して溶解しやすい。このため、赤外線レーザ用のネガ型平版印刷版原版では、非露光部と露光部との溶解性の差が小さい。   On the other hand, in the negative lithographic printing plate precursor for infrared laser, at the time of exposure, light is converted into thermal energy by the infrared absorber in the exposed portion (non-image portion), and the heat causes an image portion such as a radical. However, in order to further accelerate the reaction, it is preferable to perform a heat treatment after the exposure, and this heating allows the polymerization reaction to proceed efficiently to form a strong image portion. Thereafter, the negative lithographic printing plate precursor for infrared laser is developed into a lithographic printing plate. However, the conditions of exposure and development treatment that can obtain a level that can be actually used as a lithographic printing plate are very narrow. Furthermore, since the polymerizable compound used here has an overwhelmingly larger number of hydrophilic groups than the binder used in the lithographic printing plate precursor for UV exposure, it is soluble in an alkaline developer even after curing. It's easy to do. For this reason, in the negative planographic printing plate precursor for infrared laser, the difference in solubility between the non-exposed part and the exposed part is small.

以上の理由から、赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版のような、現像液の活性度に対するラチチュードが狭い平版印刷版原版を使用して、安定した品質の画像を連続的に形成するためには、その製版工程の制御やその管理が非常に困難である。
通常、赤外レーザー用ネガ感光性平版印刷版を現像する際、現像液感度を極力一定に保つような補充機構を有する自動現像機を用いる。該補充機構は、平版印刷版原版の現像処理やCO2の吸収より現像液のpHが低下し現像性が低下することを防ぐため、現像液に、高活性の補充液を加えるというものである。
具体的には、通常のPS版の処理システムでは、i)電導度を管理して、それが一定になるように補充液を加える方法(例えば、特許文献1〜4参照。)や、ii)平版印刷版原版の現像処理枚数が一定枚数に達する毎、或いは、一定の処理時間を経過した後、などに定期的に所定量の補充液を加える方法(例えば、特許文献5〜6参照。)が提案されている。
For the above reasons, using a lithographic printing plate precursor having a narrow latitude with respect to the activity of the developer, such as a negative lithographic printing plate precursor for infrared laser, in order to continuously form stable quality images Therefore, it is very difficult to control and manage the plate making process.
Usually, when developing a negative photosensitive lithographic printing plate for an infrared laser, an automatic processor having a replenishment mechanism that keeps the developer sensitivity as constant as possible is used. The replenishment mechanism is to add a highly active replenisher to the developer in order to prevent the pH of the developer from being lowered due to the development processing of the lithographic printing plate precursor and the absorption of CO 2 and the developability to be lowered. .
Specifically, in a normal PS plate processing system, i) a method of managing conductivity and adding a replenisher so that the conductivity is constant (see, for example, Patent Documents 1 to 4), and ii) A method of periodically adding a predetermined amount of replenisher every time the development processing number of a lithographic printing plate precursor reaches a certain number, or after a certain processing time has elapsed (see, for example, Patent Documents 5 to 6). Has been proposed.

しかし、i)電導度で管理する方法においては、現像処理枚数が増えて感光層の組成物が多く溶解した現像液は、現像スタート時と比べて同じ電導度値でもpHが異なり、現像性も異なってくるという事実がある。
また、ii)定期的に所定量の補充液を加える方法においては、平版印刷版原版の単位面積当りの補充量が規定されるために、画像面積によって現像液に溶け込む感光層の組成物量が異なること、自動現像機の設置環境(温度、湿度、CO2濃度等)により経時でのCO2吸収量が異なること等の要因により、現像液の状態が微妙に変化してしまう。このため、定期的に所定量の補充液を加える方法による管理では、均一な現像性を持続させる得るのは困難である。
However, i) in the method of managing by conductivity, the developer having a larger number of development processes and a large amount of the composition of the photosensitive layer dissolved therein has a different pH and developability even at the same conductivity value compared to the time of development start. There is a fact that it will be different.
In addition, ii) in the method of periodically adding a predetermined amount of replenisher, since the replenishment amount per unit area of the lithographic printing plate precursor is defined, the amount of the photosensitive layer composition that dissolves in the developer varies depending on the image area. In addition, the state of the developing solution slightly changes due to factors such as a difference in the amount of CO 2 absorbed over time depending on the installation environment (temperature, humidity, CO 2 concentration, etc.) of the automatic developing machine. For this reason, it is difficult to maintain uniform developability by managing by a method of periodically adding a predetermined amount of replenisher.

通常、UV露光を用いる汎用の平版印刷版原版においては、現像液の活性度に対するラチチュードが広いため、上記のような、現像性の変動は大きな問題にはならない。しかし、赤外レーザー用ネガ型平版印刷版原版は、先に述べたように現像液の活性度に対するラチチュードが狭いことから、現像液の活性度の変化により画像形成性が大きく変動し、平版印刷版の品質上の問題を容易に引き起こす。
しかしながら、汎用の赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版に適用して、画像部の濃度低下、耐刷低下又は現像不良などの画像品質の低下を、簡易な工程管理で、効果的に防止する方法は未だ見出されていないのが現状である。
特開平8−44076号公報 特公平5−8823号公報 特公平6−3542号公報 特公平6−12435号公報 特開2000−105465号公報 特開平6−43661号公報
Usually, in a general-purpose lithographic printing plate precursor using UV exposure, the latitude with respect to the activity of the developer is wide, and thus the change in developability is not a big problem. However, the negative lithographic printing plate precursor for infrared laser has a narrow latitude with respect to the activity of the developer as described above. Easily cause plate quality problems.
However, a method for effectively preventing image quality deterioration such as a decrease in density of an image portion, a decrease in printing durability, or a development failure by applying it to a general-purpose negative lithographic printing plate precursor for an infrared laser with simple process management. Is not yet found.
JP-A-8-44076 Japanese Patent Publication No. 5-8823 Japanese Patent Publication No. 6-3542 Japanese Patent Publication No. 6-12435 JP 2000-105465 A JP-A-6-43661

本発明は、前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版の製版条件、特に、現像液の状態を容易に判定し、その結果を露光/現像工程にフィードバックすることで、平版印刷版の品質を一定に保ち、均一な画像を連続的に形成するための品質管理方法を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above problems and achieve the following object.
That is, the object of the present invention is to easily determine the plate making conditions of the negative lithographic printing plate precursor for infrared laser for direct plate making, particularly the state of the developer, and feed back the result to the exposure / development process. An object of the present invention is to provide a quality control method for continuously forming a uniform image while keeping the quality of a planographic printing plate constant.

本発明者らは、検討の結果、赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版を基準のアルカリ現像液で製版した後、同様の平版印刷版原版について、評価対象となるアルカリ現像液で製版を行い、両者の現像液の活性度を比較し、その評価結果を露光や現像の製版条件にフィードバックすることで、平版印刷版の品質管理が容易に行えることを見出し、本発明を完成した。   As a result of the study, the inventors made a negative lithographic printing plate precursor for infrared laser with a standard alkaline developer, and then made the same lithographic printing plate precursor with an alkaline developer to be evaluated, The inventors have found that quality control of a lithographic printing plate can be easily performed by comparing the activities of the two developers and feeding back the evaluation results to the plate making conditions for exposure and development, thereby completing the present invention.

本発明の平版印刷版の品質管理方法は、
(A)支持体上に、赤外線吸収剤と、ラジカルを発生する化合物と、重合性化合物と、を含有する感光層を設けてなる平版印刷版原版を露光後、標準アルカリ現像液で現像して、該標準アルカリ現像液の活性度をその物性により決定する工程と、
(B)評価しようとするアルカリ現像液で現像する他は、前記(A)工程と同様の条件で、該評価しようとするアルカリ現像液の活性度を決定する工程と、
(C)前記標準アルカリ現像液の活性度と、前記評価しようとするアルカリ現像液の活性度と、を比較する工程と、
(D)前記比較の結果、活性度の差が所定の値以上である場合に、該活性度の差異に応じて露光/現像条件を調整する工程と、
を有することを特徴とする。
The quality control method of the lithographic printing plate of the present invention,
(A) A lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer containing an infrared absorber, a radical generating compound, and a polymerizable compound on a support is exposed and then developed with a standard alkali developer. Determining the activity of the standard alkaline developer according to its physical properties;
(B) The step of determining the activity of the alkali developer to be evaluated under the same conditions as in the step (A) except that the development is performed with the alkali developer to be evaluated;
(C) comparing the activity of the standard alkali developer with the activity of the alkali developer to be evaluated;
(D) as a result of the comparison, when the difference in activity is a predetermined value or more, adjusting the exposure / development conditions according to the difference in activity; and
It is characterized by having.

また、本発明の平版印刷版の品質管理方法は、更に、
(E)前記(D)工程の終了後、調整された露光/現像条件下でのアルカリ現像液の活性度を前記(A)工程と同様の指標により決定し、該アルカリ現像液の活性度を前記(B)工程における評価しようとするアルカリ現像液の活性度とする工程を有し、
前記(E)(C)及び(D)工程を、この順に1回又は複数回実施することを特徴とする。
Further, the quality control method of the lithographic printing plate of the present invention further comprises:
(E) After the completion of the step (D), the activity of the alkali developer under the adjusted exposure / development conditions is determined by the same index as in the step (A), and the activity of the alkali developer is determined. The step of setting the activity of the alkaline developer to be evaluated in the step (B),
The steps (E), (C) and (D) are performed once or a plurality of times in this order.

ここで、アルカリ現像液の活性度を決定する指標としては、アルカリ現像液の物性を用いるが、具体的には、アルカリ現像液のpH又は電導度を用いることが好ましい。
また、前記(D)工程において、標準アルカリ現像液の活性度と、前記評価しようとするアルカリ現像液の活性度と、の差が10%〜30%となった場合に露光/現像条件の調整が行われることが、実用上好適である。
Here, as an index for determining the activity of the alkali developer, the physical properties of the alkali developer are used. Specifically, it is preferable to use the pH or conductivity of the alkali developer.
Further, in the step (D), when the difference between the activity of the standard alkali developer and the activity of the alkali developer to be evaluated is 10% to 30%, the exposure / development condition is adjusted. Is practically preferable.

本発明によれば、アルカリ現像液の活性度の変動を、容易に判定し、その判定結果を、フィードバックして、製版条件を調整することで、平版印刷版の品質を一定に保ち、均一な画像を連続的に形成するための平版印刷版の品質管理方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to easily determine the variation in the activity of the alkaline developer, feed back the determination result, and adjust the plate-making conditions to keep the quality of the lithographic printing plate constant and uniform. A quality control method for a lithographic printing plate for continuously forming images can be provided.

以下、本発明の平版印刷版の品質管理方法(以下、適宜、「品質管理方法」と称する。)について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版の品質管理方法は、
(A)支持体上に、赤外線吸収剤と、ラジカルを発生する化合物と、重合性化合物と、を含有する感光層を設けてなる平版印刷版原版を露光後、標準アルカリ現像液で現像して、該標準アルカリ現像液の活性度をその物性により決定する工程と、
(B)評価しようとするアルカリ現像液で現像する他は、前記(A)工程と同様の条件で、該評価しようとするアルカリ現像液の活性度を決定する工程と、
(C)前記標準アルカリ現像液の活性度と、前記評価しようとするアルカリ現像液の活性度と、を比較する工程と、
(D)前記比較の結果、活性度の差が所定の値以上である場合に、該活性度の差異に応じて製版条件を調整する工程と、
を有することを特徴とする。
The lithographic printing plate quality control method of the present invention (hereinafter referred to as “quality control method” where appropriate) will be described in detail below.
The quality control method of the lithographic printing plate of the present invention,
(A) A lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer containing an infrared absorber, a radical generating compound, and a polymerizable compound on a support is exposed and then developed with a standard alkali developer. Determining the activity of the standard alkaline developer according to its physical properties;
(B) The step of determining the activity of the alkali developer to be evaluated under the same conditions as in the step (A) except that the development is performed with the alkali developer to be evaluated;
(C) comparing the activity of the standard alkali developer with the activity of the alkali developer to be evaluated;
(D) as a result of the comparison, when the difference in activity is equal to or greater than a predetermined value, adjusting the plate-making conditions according to the difference in activity; and
It is characterized by having.

また、本発明の平版印刷版の品質管理方法は、更に、(E)前記(D)工程の終了後、調整された製版条件下でのアルカリ現像液の活性度を前記(A)工程と同様の指標により決定し、該アルカリ現像液の活性度を前記(B)工程における評価しようとするアルカリ現像液の活性度とする工程を有し、
前記(E)(C)及び(D)工程を、この順に1回又は複数回実施することが好ましい態様である。
Moreover, the quality control method of the lithographic printing plate according to the present invention further includes (E) after the completion of the step (D), the activity of the alkaline developer under the adjusted plate making conditions is the same as that in the step (A). And determining the activity of the alkali developer as the activity of the alkali developer to be evaluated in the step (B),
It is a preferred embodiment that the steps (E), (C) and (D) are carried out once or a plurality of times in this order.

以下、本発明における各工程について順次説明する。
まず、(A)工程において、支持体上に、赤外線吸収剤と、ラジカルを発生する化合物と、重合性化合物と、を含有する感光層を設けてなる平版印刷版原版を露光後、標準アルカリ現像液で現像して、該標準アルカリ現像液の活性度をその物性により決定する。
なお、本発明における、支持体上に、赤外線吸収剤と、ラジカルを発生する化合物と、重合性化合物と、を含有する感光層を設けてなる平版印刷版原版を、以下、単に「平版印刷版原版」と称し、支持体や感光層については、後に、詳細に説明する。
Hereafter, each process in this invention is demonstrated sequentially.
First, in step (A), a lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer containing an infrared absorber, a radical generating compound, and a polymerizable compound on a support is exposed to a standard alkali development after exposure. After developing with a solution, the activity of the standard alkaline developer is determined by its physical properties.
In the present invention, a lithographic printing plate precursor provided with a photosensitive layer containing an infrared absorber, a radical generating compound, and a polymerizable compound on a support is hereinafter simply referred to as “lithographic printing plate”. The support and photosensitive layer will be described in detail later.

(A)工程における、標準アルカリ現像液の活性度はその物性を指標として決定されるが、その具体的な方法としては、アルカリ現像液のpH、伝導度、比重を測定することで行われることが好ましい。中でも、アルカリ現像液のpH、又は伝導度を用いることが好ましい。   In the step (A), the activity of the standard alkaline developer is determined by using its physical properties as an index. The specific method is to measure the pH, conductivity, and specific gravity of the alkaline developer. Is preferred. Among these, it is preferable to use the pH or conductivity of the alkali developer.

このように、(A)工程にて決定された、標準アルカリ現像液の活性度は、(B)工程にて決定される、評価しようとするアルカリ現像液の活性度の評価基準となる。   Thus, the activity of the standard alkaline developer determined in the step (A) is an evaluation criterion for the activity of the alkaline developer to be evaluated, which is determined in the step (B).

この評価基準となる標準アルカリ現像液の活性度は、評価毎に決定される必要はなく、同一の製版処理を行う連続工程において、評価、管理を行なおうとする場合であれば、最初の段階で決定されればよい。
例えば、標準アルカリ現像液としては、通常、連続的な現像工程を行なう自動現像機中のアルカリ現像液であって、現像工程を行っていない、若しくは、連続的な現像工程の初期の段階のものを用い、このような状態のアルカリ現像液の活性度を標準アルカリ現像液の活性度とすることが好ましい。
The activity of the standard alkaline developer that serves as the evaluation criterion does not need to be determined for each evaluation. If the evaluation and management are to be performed in a continuous process in which the same plate-making process is performed, the first step is required. It may be determined by.
For example, the standard alkaline developer is usually an alkaline developer in an automatic developing machine that performs a continuous development process, and the development process is not performed, or the initial stage of the continuous development process It is preferable that the activity of the alkali developer in such a state be the activity of the standard alkali developer.

次に、(B)工程において、評価しようとするアルカリ現像液で現像する他は、前記(A)工程と同様の条件で、該評価しようとするアルカリ現像液の活性度を決定する。
(B)工程で決定される、評価しようとするアルカリ現像液の活性度は、経時後(現像処理継続後)の現像液の疲労や物性変動の状況を確認するためのものであり、評価を必要とする時点で、(A)工程と同様の条件で決定される。つまり、(B)工程では、アルカリ現像液の活性度が異なる以外、露光条件や現像条件などの製版条件は、(A)工程と同一の条件が適用される。
このように、(B)工程にて決定された、評価しようとするアルカリ現像液の活性度は、(A)工程にて決定された、標準アルカリ現像液の活性度の評価対象となる。
Next, in step (B), the activity of the alkali developer to be evaluated is determined under the same conditions as in step (A) except that development is performed with the alkali developer to be evaluated.
(B) The activity of the alkaline developer to be evaluated, which is determined in the step, is for confirming the state of the developer's fatigue and changes in physical properties after the passage of time (after the development process is continued). When required, it is determined under the same conditions as in step (A). That is, in the step (B), the same conditions as those in the step (A) are applied as plate making conditions such as exposure conditions and development conditions, except that the activity of the alkali developer is different.
As described above, the activity of the alkaline developer to be evaluated determined in the step (B) is an evaluation target of the activity of the standard alkaline developer determined in the step (A).

評価の対象となるアルカリ現像液は、通常は、連続的な現像工程を行なう自動現像機中のアルカリ現像液であって、所定の期間連続的に現像処理を行った後(本発明における平版印刷版原版を所定の枚数連続的に現像処理を行った後)のものを用い、このような状態のアルカリ現像液の活性度を評価しようとするアルカリ現像液とすることが好ましい。   The alkaline developer to be evaluated is usually an alkaline developer in an automatic developing machine that performs a continuous development process, and after a continuous development process for a predetermined period (lithographic printing in the present invention). It is preferable to use a plate precursor that has been subjected to development processing for a predetermined number of sheets continuously) to obtain an alkaline developer for evaluating the activity of the alkaline developer in such a state.

次に、(C)工程において、標準アルカリ現像液の活性度(評価基準)と、評価しようとするアルカリ現像液の活性度(評価対象)と、を比較する。このように、両者を比較することにより、アルカリ現像液の活性度の変化を、的確に、かつ、容易に検知することができる。
その結果、露光/現像条件の調整の要否を判断することができる。
Next, in the step (C), the activity (evaluation criteria) of the standard alkali developer is compared with the activity (evaluation target) of the alkali developer to be evaluated. Thus, by comparing the two, the change in the activity of the alkaline developer can be detected accurately and easily.
As a result, it is possible to determine whether adjustment of exposure / development conditions is necessary.

次に、(D)工程において、(C)工程における比較の結果、活性度の差が所定の値以上である場合に、該活性度の差異に応じて製版条件を調整する。   Next, in the step (D), when the difference in the activity is a predetermined value or more as a result of the comparison in the step (C), the plate-making conditions are adjusted according to the difference in the activity.

(D)工程における、「所定の値」とは、所望された画像品質を一定に保つために許容されるアルカリ現像液の活性度の差の最大値である。そのため、具体的な値は、製版された平版印刷版に対して所望される画像品質によって適宜決定すればよい。この所定の値以上の活性度の差が発生した場合にのみ、製版条件を調整する(D)工程が行なわれる。一般的には、所定の値、つまり、標準アルカリ現像液と、評価しようとするアルカリ現像液と、の活性度の差が、10〜30%を超えた場合に、製版条件の調整を行うことが好ましい。
より具体的には、アルカリ現像液の活性度の指標をpHとした場合には、(D)工程における所定の差は、例えば、0.1となる。
また、アルカリ現像液の活性度の指標を伝導度とした場合には、(D)工程における所定の差は、例えば、4mS/cmとなる。
In the step (D), the “predetermined value” is the maximum value of the difference in the activity of the alkaline developer that is allowed to keep the desired image quality constant. Therefore, the specific value may be determined as appropriate according to the image quality desired for the lithographic printing plate that has been made. Only when the difference in the degree of activity equal to or greater than the predetermined value occurs, the step (D) of adjusting the plate-making conditions is performed. Generally, the plate-making conditions are adjusted when the difference in activity between a predetermined value, that is, the standard alkaline developer and the alkaline developer to be evaluated exceeds 10 to 30%. Is preferred.
More specifically, when the activity index of the alkaline developer is pH, the predetermined difference in step (D) is, for example, 0.1.
In addition, when conductivity is used as an index of the activity of the alkaline developer, the predetermined difference in the step (D) is, for example, 4 mS / cm.

(D)工程における露光/現像条件の調整手段は以下の通りである。
評価しようとするアルカリ現像液において、標準アルカリ現像液と比較して、活性度の上昇が見られる場合には、現像条件を緩和する、露光条件を上げる手段を採ればよい。
また、評価しようとするアルカリ現像液において、標準アルカリ現像液と比較して、活性度の低下が見られる場合には、現像条件を活性化させる手段を採ればよい。
The means for adjusting exposure / development conditions in the step (D) are as follows.
In the alkaline developer to be evaluated, when an increase in the activity is observed as compared with the standard alkaline developer, a means for relaxing the developing conditions and increasing the exposure conditions may be employed.
Further, when the alkali developer to be evaluated shows a decrease in activity as compared with the standard alkali developer, a means for activating the developing conditions may be taken.

評価しようとするアルカリ現像液において、標準アルカリ現像液と比較して、活性度の上昇が見られる場合の対策手段としては以下の手段が挙げられる。   In the alkaline developer to be evaluated, the following means can be cited as countermeasures in the case where an increase in the activity is observed as compared with the standard alkaline developer.

<現像工程における調整に適用する手段>
(1)現像液に水を加える。
(2)現像液にドライアイスを入れる。
(3)CO2ガスを吹き込む。
(4)補充液の希釈比を下げる。
(5)自動現像機の補充量の設定を少なくする。
(6)現像温度を下げる。
(7)現像時間を短くする(自動現像機の搬送速度を上げる)。
(8)自動現像機の現像ブラシの圧力を下げる。
(9)自動現像機の現像ブラシの数を減らす。
(10)スプレーの吐出量を下げる。
(11)現像液を撹拌する。
(12)現像液を新液に交換する。
<露光工程、及び露光前工程における調整に適用する手段>
(13)露光量を上げる。
(14)赤外レーザー用ネガ型平版印刷版原版を露光前に加熱する。
<Means Applied to Adjustment in Development Process>
(1) Add water to the developer.
(2) Add dry ice to the developer.
(3) Blow CO 2 gas.
(4) Reduce the dilution ratio of the replenisher.
(5) Reduce the replenishment amount setting of the automatic processor.
(6) Lower the development temperature.
(7) Shorten the development time (increase the conveyance speed of the automatic processor).
(8) Lower the pressure of the developing brush of the automatic processor.
(9) Reduce the number of developing brushes in the automatic processor.
(10) Lower the spray discharge amount.
(11) Stir the developer.
(12) Replace the developer with a new solution.
<Means Applied to Adjustment in Exposure Step and Pre-Exposure Step>
(13) Increase the exposure amount.
(14) The negative lithographic printing plate precursor for infrared laser is heated before exposure.

評価しようとするアルカリ現像液において、標準アルカリ現像液と比較して、活性度の低下が見られる場合の対策手段としては以下の手段が挙げられる。   In the alkaline developer to be evaluated, the following means can be cited as countermeasures in the case where a decrease in activity is observed as compared with the standard alkaline developer.

<現像工程における調整に適用する手段>
(1)補充液を加える。
(2)補充液の希釈比を上げる。
(3)自動現像機の補充量の設定を多くする。
(4)現像温度を上げる。
(5)現像時間を長くする(自動現像機の搬送速度を下げる)。
(6)自動現像機の現像ブラシの圧力を上げる。
(7)自動現像機の現像ブラシの数を増やす。
(8)スプレーの吐出量を上げる。
(9)現像液を新液に交換する。
<Means Applied to Adjustment in Development Process>
(1) Add replenisher.
(2) Increase the dilution ratio of the replenisher.
(3) Increase the replenishment amount setting of the automatic processor.
(4) Increase the development temperature.
(5) Increase the development time (lower the conveyance speed of the automatic processor).
(6) Increase the pressure of the developing brush of the automatic processor.
(7) Increase the number of developing brushes in the automatic processor.
(8) Increase the spray discharge amount.
(9) Replace the developer with a new solution.

ここで、上記した露光工程における調整に適用する手段において、「露光量を上げる」を行う場合、具体的な露光量の制御は、レーザー光の出力、ビーム径、走査速度、露光時間などの条件を、適宜、調整することで行なわれる。   Here, in the means applied to the adjustment in the exposure process described above, when performing “increase exposure amount”, the specific exposure amount control is performed under conditions such as laser light output, beam diameter, scanning speed, and exposure time. Is appropriately adjusted.

更に、本発明の品質管理方法においては、前記(A)乃至(D)工程の終了後、(E)工程として、調整された露光/現像条件下でのアルカリ現像液の活性度を前記(A)工程と同様の指標により決定し、該アルカリ現像液の活性度を前記(B)工程における評価しようとするアルカリ現像液の活性度とする工程を有し、
前記(E)(C)及び(D)工程を、この順に1回又は複数回実施することを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版の品質管理方法。
このように、画像評価の結果をフィードバックさせて、製版条件を調整する工程を経て、更に、前記(E)(C)及び(D)工程を繰り返すことにより、アルカリ現像液の活性度を、安定にかつ長期間に亘って一定に保持することが可能になる。その結果、現像処理条件が一定になることで、一定の品質を有する平版印刷版が長期間に亘って作製されることになる。
Further, in the quality control method of the present invention, after the completion of the steps (A) to (D), as the step (E), the activity of the alkaline developer under the adjusted exposure / development conditions is set as (A). ) Determined by the same index as in the step, the activity of the alkaline developer is the activity of the alkali developer to be evaluated in the step (B),
The quality control method for a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the steps (E), (C), and (D) are performed once or a plurality of times in this order.
As described above, the results of the image evaluation are fed back, the plate making conditions are adjusted, and the steps (E), (C), and (D) are repeated to stabilize the activity of the alkaline developer. In addition, it can be held constant over a long period of time. As a result, the development processing conditions become constant, so that a lithographic printing plate having a constant quality is produced over a long period of time.

<平版印刷版原版>
以下に、本発明の平版印刷版の品質管理方法を適用し得る平版印刷版原版について説明する。
本発明の品質管理方法には、支持体上に、赤外線吸収剤と、ラジカルを発生する化合物と、重合性化合物と、を含有する感光層を設けてなる平版印刷版原版、即ち、赤外線レーザ照射部がラジカル重合により硬化して画像部を形成するネガ型の感光層を有する平版印刷版原版であれば、いずれのものにも適用することができる。
このような平版印刷版原版の好ましい態様としては、支持体上に、赤外線吸収剤と、スルホニウム塩重合開始剤と、重合性化合物と、バインダーポリマーと、を含むネガ型感光層を設けてなる平版印刷版原版である。
以下、本発明に適用される平版印刷版原版を構成する各成分について詳細に説明する。
<Lithographic printing plate precursor>
The planographic printing plate precursor to which the planographic printing plate quality control method of the present invention can be applied will be described below.
In the quality control method of the present invention, a lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer containing an infrared absorber, a radical generating compound, and a polymerizable compound on a support, ie, infrared laser irradiation. Any lithographic printing plate precursor having a negative photosensitive layer in which the part is cured by radical polymerization to form an image part can be applied.
As a preferred embodiment of such a lithographic printing plate precursor, a lithographic plate in which a negative photosensitive layer containing an infrared absorber, a sulfonium salt polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer is provided on a support. It is a printing plate master.
Hereafter, each component which comprises the lithographic printing plate precursor applied to this invention is demonstrated in detail.

[赤外線吸収剤]
本発明に適用される平版印刷版原版を、760から1,200nmの赤外線を発するレーザーを光源として直接描画(画像形成)する場合には、通常、赤外線吸収剤を用いることが必須である。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。この際発生した熱により、後述するラジカルを発生する化合物(重合開始剤)が熱分解し、ラジカルを発生する。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760nmから1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
[Infrared absorber]
When the lithographic printing plate precursor applied to the present invention is directly drawn (image formation) using a laser emitting infrared rays of 760 to 1,200 nm as a light source, it is usually essential to use an infrared absorber. The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat. With the heat generated at this time, a compound (polymerization initiator) that generates radicals described later is thermally decomposed to generate radicals. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, 58-181690, JP-A-58-194595, etc., methine dyes, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59- No. 73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent 434,875 And cyanine dyes.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特願2001−6326、特願2001−237840記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. . Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Other preferred examples of the infrared absorbing dye of the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application Nos. 2001-6326 and 2001-237840 as exemplified below.

Figure 2005070654
Figure 2005070654

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

Figure 2005070654
Figure 2005070654

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa-は後述するZ1-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se. Xa - is defined as for Z 1-to be described later, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 2005070654
Figure 2005070654

1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Z1-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZ1-は必要ない。好ましいZ1-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Z 1− represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by the general formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary, Z 1− is not necessary. Preferred Z 1− is halogen ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, and sulfonate ion, particularly preferably perchlorate ion, in view of storage stability of the photosensitive layer coating solution. Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例として更に、前記した特願平2001−6326、特願平2001−237840明細書に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application Nos. 2001-6326 and 2001-237840 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この好ましい粒径の範囲において、感光層塗布液中における顔料の優れた分散安定性が得られ、均一な感光層が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this preferred particle size range, excellent dispersion stability of the pigment in the photosensitive layer coating solution can be obtained, and a uniform photosensitive layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、本発明における平版印刷版原版の感光層に適用する場合、他の成分と同一の層に添加してもよいし、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよいが、画像部の強度(耐刷性)の観点から、ネガ型平版印刷版原版を作成した際に、感光層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で0.5〜1.2の範囲にあるように添加する。好ましくは、0.6〜1.15の範囲である。
感光層の吸光度は、感光層に添加する赤外線吸収剤の量と感光層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの感光層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
When these infrared absorbers are applied to the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, they may be added to the same layer as other components or may be added to the same layer as other components. However, from the viewpoint of the strength (printing durability) of the image area, when a negative lithographic printing plate precursor is prepared, the photosensitive layer has a wavelength range of 760 nm to 1200 nm. Is added so that the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 0.5 to 1.2 in the reflection measurement method. Preferably, it is the range of 0.6-1.15.
The absorbance of the photosensitive layer can be adjusted by the amount of infrared absorber added to the photosensitive layer and the thickness of the photosensitive layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, a photosensitive layer having a thickness appropriately determined in a range where the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is measured by an optical densitometer. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.

これらのこれらの赤外線吸収剤は、感度、感光層中における均一性や感光層の耐久性の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。   These infrared absorbers are 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1%, based on the total solid content constituting the photosensitive layer, from the viewpoints of sensitivity, uniformity in the photosensitive layer and durability of the photosensitive layer. In the case of a dye, particularly preferably in the case of a dye, 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, it can be added in a ratio of preferably 0.1 to 10% by mass.

[ラジカルを発生する化合物]
本発明に適用される平版印刷版原版の感光層に用いられるラジカルを発生する化合物は、発生するラジカルにより後述する重合性化合物の硬化反応を開始、進行させる機能を有する。このラジカルを発生する化合物を前述した赤外線吸収剤と併用することで、赤外線レーザーを照射した際に赤外線吸収剤がその赤外線を熱に変換し、その熱によりラジカルを発生するという機構が発現する。
このように、かかるラジカルを発生する化合物は、熱により分解してラジカルを発生する熱分解型のラジカル発生剤であることが好ましい。
本発明に用いられる平版印刷版原版としては、ラジカルを発生する化合物としてスルホニウム塩重合開始剤を用いることが好ましい。
[Compound that generates radicals]
The compound that generates radicals used in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor applied to the present invention has a function of initiating and proceeding the curing reaction of the polymerizable compound described later by the generated radicals. By using this radical generating compound in combination with the above-described infrared absorber, a mechanism that the infrared absorber converts the infrared rays into heat when irradiated with an infrared laser, and generates a radical by the heat is developed.
Thus, it is preferable that the compound generating radicals is a thermal decomposition type radical generator that decomposes by heat to generate radicals.
In the lithographic printing plate precursor used in the present invention, a sulfonium salt polymerization initiator is preferably used as the radical generating compound.

(スルホニウム塩重合開始剤)
本発明において好適に用いられるスルホニウム塩重合開始剤としては、下記一般式(I)で表されるオニウム塩が挙げられる。
(Sulfonium salt polymerization initiator)
Examples of the sulfonium salt polymerization initiator suitably used in the present invention include onium salts represented by the following general formula (I).

Figure 2005070654
Figure 2005070654

一般式(I)中、R11、R12及びR13は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、カルボキシレートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 In general formula (I), R 11 , R 12 and R 13 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 11− represents a counter ion selected from the group consisting of a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, a carboxylate ion, and a sulfonate ion, preferably a perchlorate ion, Hexafluorophosphate ions, carboxylate ions, and aryl sulfonate ions.

以下に、一般式(I)で表されるオニウム塩の具体例([OS−1]〜[OS−12])を挙げるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples ([OS-1] to [OS-12]) of the onium salt represented by the general formula (I) are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2005070654
Figure 2005070654

Figure 2005070654
Figure 2005070654

上記したものの他、特開2002−148790公報、特開2002−148790公報、特開2002−350207公報、特開2002−6482公報に記載の特定の芳香族スルホニウム塩も好適に用いられる。   In addition to the above, specific aromatic sulfonium salts described in JP-A Nos. 2002-148790, 2002-148790, 2002-350207, and 2002-6482 are also preferably used.

(その他のラジカルを発生する化合物)
更に、本発明において、ラジカルを発生する化合物としては、上記のスルホニウム塩重合開始剤の他にも、スルホニウム塩以外の他のオニウム塩、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノンジアジドなどの従来公知の重合開始剤(ラジカル発生剤)を用いることができる。また、上記のスルホニウム塩重合開始剤を必須成分として、これらの重合開始剤を併用することもできる。
本発明において好適に用い得る他のオニウム塩としては、ヨードニウム塩及びジアゾニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能する。
本発明における他のオニウム塩としては、下記一般式(II)及び(III)で表されるオニウム塩が挙げられる。
(Other compounds that generate radicals)
Furthermore, in the present invention, as a compound that generates radicals, in addition to the above-mentioned sulfonium salt polymerization initiator, other onium salts other than sulfonium salts, peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, quinonediazides, and the like A conventionally known polymerization initiator (radical generator) can be used. Moreover, these polymerization initiators can be used in combination with the sulfonium salt polymerization initiator as an essential component.
Other onium salts that can be suitably used in the present invention include iodonium salts and diazonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators.
Other onium salts in the present invention include onium salts represented by the following general formulas (II) and (III).

Figure 2005070654
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一般式(II)中、Ar21とAr22は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z21-はZ11-と同義の対イオンを表す。 In general formula (II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a carbon atom having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. Z 21- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

一般式(III)中、Ar31は、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオンを表す。 In the general formula (III), Ar 31 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

以下に、本発明において、好適に用いることのできる一般式(II)で示されるオニウム塩([OI−1]〜[OI−10])、及び一般式(III)で示されるオニウム塩([ON−1]〜[ON−5])の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。   In the present invention, onium salts represented by general formula (II) ([OI-1] to [OI-10]) and onium salts represented by general formula (III) ([ Specific examples of ON-1] to [ON-5] are given below, but are not limited thereto.

Figure 2005070654
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Figure 2005070654
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Figure 2005070654
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本発明においてラジカルを発生する化合物として好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133696号公報に記載されたもの等を挙げることができる。   Specific examples of the onium salt that can be suitably used as the radical-generating compound in the present invention include those described in JP-A No. 2001-133696.

なお、本発明において用いられるラジカルを発生する化合物は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、更に360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The radical generating compound used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.

本発明におけるラジカルを発生する化合物の総含有量は、感度、及び、印刷時の非画像部の汚れの発生の観点から、感光層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。   The total content of the radical generating compound in the present invention is 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid content constituting the photosensitive layer, from the viewpoint of sensitivity and generation of stains in the non-image area during printing. Preferably it is 0.5-30 mass%, Most preferably, it is 1-20 mass%.

本発明におけるラジカルを発生する化合物は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。2種以上の重合開始剤を併用する場合は、例えば、好適に用いられるスルホニウム塩重合開始剤のみを複数種用いてもよいし、スルホニウム塩重合開始剤と他の重合開始剤を併用してもよい。
スルホニウム塩重合開始剤と他の重合開始剤とを併用する場合の含有比(質量比)としては、100/1〜100/50が好ましく、100/5〜100/25がより好ましい。
また、重合開始剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
Only 1 type may be used for the compound which generate | occur | produces the radical in this invention, and 2 or more types may be used together. When two or more polymerization initiators are used in combination, for example, only a plurality of suitably used sulfonium salt polymerization initiators may be used, or a sulfonium salt polymerization initiator and another polymerization initiator may be used in combination. Good.
The content ratio (mass ratio) when the sulfonium salt polymerization initiator and another polymerization initiator are used in combination is preferably 100/1 to 100/50, more preferably 100/5 to 100/25.
Moreover, a polymerization initiator may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

本発明における平版印刷版原版の感光層にラジカルを発生する化合物として、高感度であるスルホニウム塩重合開始剤を含有すると、ラジカル重合反応が効果的に進行し、形成された画像部の強度が非常に高いものとなる。従って、後述する保護層の高い酸素遮断機能とあいまって、高い画像部強度を有する平版印刷版を作製することができ、その結果、耐刷性が向上する。また、スルホニウム塩重合開始剤を用いることで、それ自身が経時安定性に優れていることから、作製された平版印刷版原版を保存した際にも、所望されない重合反応の発生を抑制することができる。   When a highly sensitive sulfonium salt polymerization initiator is contained as a radical generating compound in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, the radical polymerization reaction proceeds effectively, and the strength of the formed image area is extremely high. It will be expensive. Therefore, combined with a high oxygen blocking function of the protective layer described later, a lithographic printing plate having high image area strength can be produced, and as a result, printing durability is improved. In addition, by using a sulfonium salt polymerization initiator, it is excellent in stability over time, so that it is possible to suppress the occurrence of an undesirable polymerization reaction even when the prepared lithographic printing plate precursor is stored. it can.

[重合性化合物]
本発明に適用される平版印刷版原版の感光層に用いられる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
[Polymerizable compound]
The polymerizable compound used in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor applied to the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one ethylenically unsaturated bond, Preferably, it is selected from compounds having two or more. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926、特公昭51−47334、特開昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240、特開昭59−5241、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(1)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (1) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (1)
(ただし、R4及びR5は、H又はCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (1)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や疎水性の高い化合物は、感光スピードや膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。また、組成物中の他の成分(例えば、バインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。   About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combined use, and addition amount can be arbitrarily set according to the final performance design. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of photosensitive speed, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether). It is also effective to adjust both photosensitivity and strength by using a compound of the type). A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but is not preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. Further, the selection / use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components in the composition (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or using two or more of them together.

組成物中の付加重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生じたり、平版印刷版原版に適用した際の感光層の粘着性による製造工程上の問題(例えば、感光層成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液からの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、付加重合性化合物は、組成物中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択できる。更に、本発明における平版印刷版原版には、下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。   As for the compounding ratio of the addition polymerizable compound in the composition, a larger amount is more advantageous in terms of sensitivity, but if it is too much, undesirable phase separation occurs or the photosensitive layer when applied to a lithographic printing plate precursor Problems in the production process due to the adhesive property (for example, transfer of photosensitive layer components, production failure due to adhesion), and precipitation from the developer may occur. From these viewpoints, the addition polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, with respect to the nonvolatile component in the composition. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can arbitrarily select an appropriate structure, blending, and addition amount from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, and the like. Further, the lithographic printing plate precursor according to the invention may be subjected to a layer constitution / coating method such as undercoating or overcoating.

[バインダーポリマー]
本発明における平版印刷版原版の感光層に用いられるバインダーポリマーは、膜性向上の観点から含有されるものであって、膜性を向上させる機能を有していれば、種々のものを使用することがすることができる。中でも、本発明において好適なバインダーポリマーとしては、下記一般式(i)で表される繰り返し単位を有するバインダーポリマーである。以下、一般式(i)で表される繰り返し単位を有するバインダーポリマーを、適宜、特定バインダーポリマーと称し、詳細に説明する。
[Binder polymer]
The binder polymer used in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is contained from the viewpoint of improving the film properties, and various materials are used as long as they have a function of improving the film properties. Can be Especially, as a binder polymer suitable in this invention, it is a binder polymer which has a repeating unit represented by the following general formula (i). Hereinafter, the binder polymer having the repeating unit represented by the general formula (i) is appropriately referred to as a specific binder polymer and will be described in detail.

Figure 2005070654
Figure 2005070654

(一般式(i)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子から構成され、置換基を除いた原子数2〜30である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。) (In general formula (i), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is composed of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, and a halogen atom, and the number of atoms excluding a substituent. Represents a linking group of 2 to 30. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 5. Represents.)

まず、一般式(i)におけるR1は、水素原子又はメチル基を表し、特にメチル基が好ましい。 First, R 1 in the general formula (i) represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is particularly preferable.

一般式(i)におけるR2で表される連結基は、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子から構成されるもので、その置換基を除いた原子数は2〜30である。具体的には、アルキレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレンなどが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有していてもよい。
鎖状構造の連結基としては、エチレン、プロピレン等が挙げられる。また、これらのアルキレンがエステル結合を介して連結されている構造もまた好ましいものとして例示することができる。
The linking group represented by R 2 in the general formula (i) is composed of a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and a halogen atom, and the number of atoms excluding the substituent is 2 to 30. is there. Specific examples include alkylene, substituted alkylene, arylene, substituted arylene, and the like, and a structure in which a plurality of these divalent groups are linked by an amide bond or an ester bond may be used.
Examples of the linking group having a chain structure include ethylene and propylene. A structure in which these alkylenes are linked via an ester bond can also be exemplified as a preferable example.

この中でも、一般式(i)におけるR2で表される連結基は、炭素原子数3から30までの脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。より具体的には、任意の置換基によって一個以上置換されていてもよいシクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、ジシクロヘキシル、ターシクロヘキシル、ノルボルナン等の脂肪族環状構造を有する化合物を構成する任意の炭素原子上の水素原子を(n+1)個除き、(n+1)価の炭化水素基としたものを挙げることができる。また、R2は、置換基を含めて炭素数3から30であることが好ましい。 Among these, the linking group represented by R 2 in the general formula (i) is preferably an (n + 1) -valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure having 3 to 30 carbon atoms. More specifically, a compound having an aliphatic cyclic structure such as cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclodecane, dicyclohexyl, tercyclohexyl, norbornane and the like, which may be substituted by one or more arbitrary substituents And (n + 1) valent hydrocarbon groups by removing (n + 1) hydrogen atoms on an arbitrary carbon atom constituting. R 2 preferably has 3 to 30 carbon atoms including a substituent.

脂肪族環状構造を構成する化合物の任意の炭素原子は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子から選ばれるヘテロ原子で、一個以上置き換えられていてもよい。耐刷性の点で、R2は縮合多環脂肪族炭化水素、橋架け環脂肪族炭化水素、スピロ脂肪族炭化水素、脂肪族炭化水素環集合(複数の環が結合又は連結基でつながったもの)等、2個以上の環を含有してなる炭素原子数5から30までの置換基を有していてもよい脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。この場合も炭素数は置換基が有する炭素原子を含めてのものである。 One or more arbitrary carbon atoms of the compound constituting the aliphatic cyclic structure may be replaced with a heteroatom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. In terms of printing durability, R 2 represents a condensed polycyclic aliphatic hydrocarbon, a bridged cyclic aliphatic hydrocarbon, a spiro aliphatic hydrocarbon, an aliphatic hydrocarbon ring assembly (a plurality of rings are connected by a bond or a linking group). A (n + 1) valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure which may have a substituent of 5 to 30 carbon atoms containing two or more rings. . Also in this case, the carbon number includes the carbon atom of the substituent.

2で表される連結基としては、更に、原子数が5〜10のものが好ましく、構造的には、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものや、前記の如き環状構造を有するものが好ましい。 As the linking group represented by R 2 , those having 5 to 10 atoms are further preferable, and structurally a chain structure having an ester bond in the structure, Those having a cyclic structure are preferred.

2で表される連結基に導入可能な置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(aryl))及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(aryl))及びその共役塩基基、アルコキシシリル基(−Si(Oalkyl)3)、アリーロキシシリル基(−Si(Oaryl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si(OH)3)及びその共役塩基基、ホスホノ基(−PO32)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルボリル基(−B(alkyl)2)、ジアリールボリル基(−B(aryl)2)、アルキルアリールボリル基(−B(alkyl)(aryl))、ジヒドロキシボリル基(−B(OH)2)及びその共役塩基基、アルキルヒドロキシボリル基(−B(alkyl)(OH))及びその共役塩基基、アリールヒドロキシボリル基(−B(aryl)(OH))及びその共役塩基基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Examples of the substituent that can be introduced into the linking group represented by R 2 include monovalent nonmetallic atomic groups other than hydrogen, such as halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups. Group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N- Diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy , Arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-aryl Ureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N ′ -Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N ' -Aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-al Kill-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group and its conjugate base group, Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, Alkylsulfinyl group An arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group, alkoxy sulfonyl group, aryloxy sulfonyl group, sulfinamoyl group, N- alkylsulfinamoyl group, N, N- Dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N -Dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group and its conjugate base group, N- alkylsulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHSO 2 alkyl)) and its conjugated base group, N- aryl sulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHSO 2 (aryl) ) and its conjugated base group, N- alkylsulfonylcarbamoyl group (-CONHSO 2 (alkyl)) and its conjugate Base group, N-arylsulfonylcarbamoyl group (—CONHSO 2 (aryl)) and its conjugate base group, alkoxysilyl group (—Si (Oalkyl) 3 ), aryloxysilyl group (—Si (Oaryl) 3 ), hydroxysilyl Group (—Si (OH) 3 ) and its conjugate base group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group, dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphono group (— PO 3 (aryl) 2), alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )) , Monoalkylphosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group, monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group, phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) And its conjugate base group, dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) ( aryl)), monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group, monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group, cyano group, nitro group, group, (2 -B (alkyl)) dialkyl boryl group, Jiariruboriru group (-B (aryl) 2), alkyl aryl boryl -B (alkyl) (aryl)) , dihydroxy boryl group (-B (OH) 2) and its conjugated base group, an alkyl hydroxy boryl group (-B (alkyl) (OH) ) and its conjugated base group, an aryl hydroxy boryl And the group (—B (aryl) (OH)) and its conjugate base group, aryl group, alkenyl group and alkynyl group.

本発明における平版印刷版原版は、感光層の設計にもよるが、水素結合可能な水素原子を有する置換基や、特に、カルボン酸よりも酸解離定数(pKa)が小さい酸性を有する置換基は、耐刷性を下げる傾向にあるので好ましくない。一方、ハロゲン原子や、炭化水素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基)、アルコキシ基、アリーロキシ基などの疎水性置換基は、耐刷を向上する傾向にあるのでより好ましく、特に、環状構造がシクロペンタンやシクロヘキサン等の6員環以下の単環脂肪族炭化水素である場合には、このような疎水性の置換基を有していることが好ましい。これら置換基は可能であるならば、置換基同士、又は置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよく、置換基は更に置換されていてもよい。   Although the lithographic printing plate precursor according to the invention depends on the design of the photosensitive layer, a substituent having a hydrogen atom capable of hydrogen bonding, particularly a substituent having an acid dissociation constant (pKa) smaller than that of a carboxylic acid, , Because it tends to lower the printing durability. On the other hand, hydrophobic substituents such as halogen atoms, hydrocarbon groups (alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups), alkoxy groups, aryloxy groups and the like are more preferable because they tend to improve printing durability. When the cyclic structure is a monocyclic aliphatic hydrocarbon having 6 or less members such as cyclopentane or cyclohexane, it preferably has such a hydrophobic substituent. If possible, these substituents may be bonded to each other or with a substituted hydrocarbon group to form a ring, and the substituent may be further substituted.

一般式(i)におけるAがNR3−である場合のR3は、水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。このR3で表される炭素数1〜10までの一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−ノルボルニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、インデニル基等の炭素数1〜10までのアリール基、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個含有する炭素数1〜10までのヘテロアリール基、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基等が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−シクロペンテニル基、1−シクロヘキセニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基の具体例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、1−オクチニル基等の炭素数1〜10までのアルキニル基が挙げられる。R3が有してもよい置換基としては、R2が導入し得る置換基として挙げたものと同様である。但し、R3の炭素数は、置換基の炭素数を含めて1〜10である。
一般式(i)におけるAは、合成が容易であることから、酸素原子又は−NH−であることが好ましい。
R 3 in the case where A in formula (i) is NR 3 — represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 3 include an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.
Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, 1 carbon number such as tert-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-adamantyl group, 2-norbornyl group Up to 10 linear, branched or cyclic alkyl groups.
Specific examples of the aryl group include carbon having one heteroatom selected from the group consisting of an aryl group having 1 to 10 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, and an indenyl group, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. Examples include heteroaryl groups of 1 to 10, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, pyridyl, and quinolyl groups.
Specific examples of the alkenyl group include those having 1 to 10 carbon atoms such as vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-cyclopentenyl group, 1-cyclohexenyl group and the like. A linear, branched, or cyclic alkenyl group is mentioned.
Specific examples of the alkynyl group include alkynyl groups having 1 to 10 carbon atoms such as ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, and 1-octynyl group. The substituent that R 3 may have is the same as those exemplified as the substituent that R 2 can introduce. However, the carbon number of R < 3 > is 1-10 including the carbon number of a substituent.
A in the general formula (i) is preferably an oxygen atom or —NH— because synthesis is easy.

一般式(i)におけるnは、1〜5の整数を表し、耐刷の点で好ましくは1である。   N in the general formula (i) represents an integer of 1 to 5, and is preferably 1 in terms of printing durability.

以下に、一般式(i)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of the repeating unit represented by general formula (i) below is shown, this invention is not limited to these.

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一般式(i)で表される繰り返し単位は、バインダーポリマー中に1種類だけであってもよいし、2種類以上含有していてもよい。本発明における特定バインダーポリマーは、一般式(i)で表される繰り返し単位だけからなるポリマーであってもよいが、通常、他の共重合成分と組み合わされ、コポリマーとして使用される。コポリマーにおける一般式(i)で表される繰り返し単位の総含有量は、その構造や、組成物の設計等によって適宜決められるが、好ましくはポリマー成分の総モル量に対し、1〜99モル%、より好ましくは5〜40モル%、更に好ましくは5〜20モル%の範囲で含有される。   One type of repeating unit represented by the general formula (i) may be contained in the binder polymer, or two or more types may be contained. The specific binder polymer in the present invention may be a polymer composed only of the repeating unit represented by the general formula (i), but is usually used as a copolymer in combination with other copolymerization components. The total content of the repeating unit represented by the general formula (i) in the copolymer is appropriately determined depending on the structure, the design of the composition, etc., but preferably 1 to 99 mol% with respect to the total molar amount of the polymer component. More preferably, it is contained in the range of 5 to 40 mol%, more preferably 5 to 20 mol%.

コポリマーとして用いる場合の共重合成分としては、ラジカル重合可能なモノマーであれば従来公知のものを制限なく使用できる。具体的には、「高分子データハンドブック−基礎編−(高分子学会編、培風館、1986)」記載のモノマー類が挙げられる。このような共重合成分は1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   As a copolymerization component in the case of using as a copolymer, a conventionally well-known thing can be used without a restriction | limiting, if it is a monomer which can be radically polymerized. Specific examples include monomers described in “Polymer Data Handbook—Basic Edition” (Edition of Polymer Society, Bafukan, 1986). One type of such copolymerization component may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明における特定バインダーポリマーの分子量は、画像形成性や耐刷性の観点から適宜決定される。通常、分子量が高くなると、耐刷性は優れるが、画像形成性は劣化する傾向にある。逆に、低いと、画像形成性はよくなるが、耐刷性は低くなる。好ましい分子量としては、2,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜200,000の範囲である。   The molecular weight of the specific binder polymer in the present invention is appropriately determined from the viewpoint of image formability and printing durability. Usually, when the molecular weight increases, the printing durability is excellent, but the image formability tends to deteriorate. On the other hand, if it is low, the image forming property is improved, but the printing durability is lowered. The molecular weight is preferably in the range of 2,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, and still more preferably 10,000 to 200,000.

本発明おいて用いられるバインダーポリマーは、特定バインダーポリマー単独であってもよいし、他のバインダーポリマーを1種以上併用して、混合物として用いてもよい。併用されるバインダーポリマーは、バインダーポリマー成分の総質量に対し1〜60質量%、好ましくは1〜40質量%、更に好ましくは1〜20質量%の範囲で用いられる。併用できるバインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、具体的には、本業界においてよく使用されるアクリル主鎖バインダーや、ウレタンバインダー等が好ましく用いられる。   The binder polymer used in the present invention may be a specific binder polymer alone, or may be used as a mixture by combining one or more other binder polymers. The binder polymer used in combination is used in the range of 1 to 60% by mass, preferably 1 to 40% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass with respect to the total mass of the binder polymer component. As the binder polymer that can be used in combination, a conventionally known binder polymer can be used without limitation, and specifically, an acrylic main chain binder, a urethane binder, or the like often used in the industry is preferably used.

組成物中での特定バインダーポリマー及び併用してもよいバインダーポリマーの合計量は、適宜決めることができるが、組成物中の不揮発性成分の総質量に対し、通常10〜90質量%、好ましくは20〜80質量%、更に好ましくは30〜70質量%の範囲である。
また、このようなバインダーポリマーの酸価(meg/g)としては、2.00〜3.60の範囲であることが好ましい。
Although the total amount of the specific binder polymer in the composition and the binder polymer that may be used in combination can be determined as appropriate, it is usually 10 to 90% by mass, preferably, based on the total mass of nonvolatile components in the composition. It is 20-80 mass%, More preferably, it is the range of 30-70 mass%.
Moreover, as an acid value (meg / g) of such a binder polymer, it is preferable that it is the range of 2.00-3.60.

(併用可能な他のバインダーポリマー)
前記特定バインダーポリマーと併用可能な他のバインダーポリマーは、ラジカル重合性基を有するバインダーポリマーであることが好ましい。そのラジカル重合性基としては、ラジカルにより重合することが可能であれば特に限定されないが、α−置換メチルアクリル基[−OC(=O)−C(−CH2Z)=CH2、Z=ヘテロ原子から始まる炭化水素基]、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基が挙げられ、この中でも、アクリル基、メタクリル基が好ましい。
かかるバインダーポリマー中のラジカル重合性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、感度や保存性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。
(Other binder polymers that can be used in combination)
The other binder polymer that can be used in combination with the specific binder polymer is preferably a binder polymer having a radical polymerizable group. The radical polymerizable group is not particularly limited as long as it can be polymerized by radicals, but α-substituted methylacrylic group [—OC (═O) —C (—CH 2 Z) ═CH 2 , Z = A hydrocarbon group starting from a hetero atom], an acryl group, a methacryl group, an allyl group, and a styryl group. Among these, an acryl group and a methacryl group are preferable.
The content of the radical polymerizable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 1 g per binder polymer from the viewpoint of sensitivity and storage stability. It is 10.0 mmol, More preferably, it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol.

また、併用可能な他のバインダーポリマーは、更に、アルカリ可溶性基を有するものが好ましい。バインダーポリマー中のアルカリ可溶性基の含有量(中和滴定による酸価)は、現像カスの析出性や耐刷性の観点から、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜3.0mmol、より好ましくは0.2〜2.0mmol、最も好ましくは0.45〜1.0mmolである。   Further, the other binder polymer that can be used in combination is preferably one having an alkali-soluble group. The content of alkali-soluble groups in the binder polymer (acid value by neutralization titration) is preferably from 0.1 to 3.0 mmol, more preferably from 1 to 3.0 g of binder polymer, from the viewpoints of precipitation of developing residue and printing durability. Is 0.2 to 2.0 mmol, most preferably 0.45 to 1.0 mmol.

このようなバインダーポリマーの質量平均分子量は、皮膜性(耐刷性)や、塗布溶剤への溶解性の観点から、好ましくは2,000〜1,000,000、より好ましくは10,000〜300,000、最も好ましくは20,000〜200,000の範囲である。   The mass average molecular weight of such a binder polymer is preferably from 2,000 to 1,000,000, more preferably from 10,000 to 300, from the viewpoints of film properties (press life) and solubility in a coating solvent. In the range of 20,000 to 200,000.

また、このようなバインダーポリマーのガラス転移点(Tg)は、保存安定性、耐刷性、及び感度の観点から、好ましくは70〜300℃、より好ましくは80〜250℃、最も好ましくは90〜200℃の範囲である。
バインダーポリマーのガラス転移点を高めるため手段としては、その分子中に、アミド基やイミド基を含有することが好ましく、特に、メタクリルアミドメタクリルアミド誘導体を含有することが好ましい。
Further, the glass transition point (Tg) of such a binder polymer is preferably 70 to 300 ° C., more preferably 80 to 250 ° C., and most preferably 90 to 90 ° C. from the viewpoints of storage stability, printing durability, and sensitivity. It is in the range of 200 ° C.
As a means for increasing the glass transition point of the binder polymer, the molecule preferably contains an amide group or an imide group, and particularly preferably contains a methacrylamide methacrylamide derivative.

本発明における平版印刷版原版の感光層には、以上の基本成分の他に、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい添加剤に関し例示する。   In addition to the above basic components, the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention may further contain other components suitable for its use and production method. Hereinafter, preferred additives will be exemplified.

[重合禁止剤]
本発明における平版印刷版原版の感光層には、重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、即ち、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物中の不揮発性成分の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
[Polymerization inhibitor]
In the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a compound having a polymerizable ethylenically unsaturated double bond, that is, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is added in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound. It is desirable to do. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the nonvolatile components in the entire composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide or the like may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen and may be unevenly distributed on the surface of the layer in the course of drying after coating. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass with respect to the nonvolatile components in the entire composition.

[着色剤]
更に、本発明における平版印刷版原版の感光層には、その着色を目的として染料若しくは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させることができる。着色剤としては、多くの染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。着色剤としての染料及び顔料の添加量は全組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約5質量%が好ましい。
[Colorant]
Further, a dye or pigment may be added to the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention for the purpose of coloring. As a result, it is possible to improve so-called plate inspection properties such as visibility after plate making as a printing plate and suitability for an image density measuring machine. As the colorant, many dyes cause a decrease in the sensitivity of the photopolymerization type photosensitive layer. Therefore, it is particularly preferable to use a pigment as the colorant. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The addition amount of the dye and the pigment as the colorant is preferably about 0.5% by mass to about 5% by mass with respect to the non-volatile components in the entire composition.

[その他の添加剤]
更に、硬化皮膜の物性を改良するための無機充填剤や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上させ得る感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、バインダーポリマーと付加重合性化合物との合計質量に対し一般的に10質量%以下の範囲で添加することができる。また、後述する平版印刷版原版において、後述する膜強度(耐刷性)向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するために、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加も行うことができる。
[Other additives]
Furthermore, you may add well-known additives, such as an inorganic filler for improving the physical property of a cured film, other plasticizers, and a fat-sensitizing agent which can improve the ink deposition property of the photosensitive layer surface. Examples of plasticizers include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and addition polymerization with binder polymer. Generally, it can be added in a range of 10% by mass or less based on the total mass with the compound. In addition, in the lithographic printing plate precursor described later, in order to enhance the effect of heating and exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later, a UV initiator, a thermal crosslinking agent, etc. are added. Can also be done.

<平版印刷版原版の作製>
本発明における平版印刷版原版は、上記の各成分を含む感光層塗布液を適当な支持体又は中間層上に塗布することにより製造することができる。また、本発明における平版印刷版原版は、必要に応じて、感光層上に保護層を設けてもよい。
<Preparation of lithographic printing plate precursor>
The lithographic printing plate precursor according to the invention can be produced by coating a photosensitive layer coating solution containing the above-described components on a suitable support or intermediate layer. In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer may be provided on the photosensitive layer as necessary.

本発明における感光層を塗設する際に使用される溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。   Solvents used for coating the photosensitive layer in the present invention include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene Glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol , Diethylene Recall monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, lactic acid Examples include methyl and ethyl lactate. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by mass.

前記感光層の被覆量は、主に、感光層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響し得るもので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版原版としては、その被覆量は乾燥後の質量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。 The coating amount of the photosensitive layer mainly affects the sensitivity of the photosensitive layer, the developability, and the strength and printing durability of the exposed film, and is preferably selected as appropriate according to the application. When the coating amount is too small, the printing durability is not sufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, it takes time for exposure, and a longer time is required for development processing, which is not preferable. For the lithographic printing plate precursor for scanning exposure which is the main object of the present invention, the coating amount is suitably in the range of about 0.1 g / m 2 to about 10 g / m 2 in terms of the mass after drying. More preferably from 0.5 to 5 g / m 2.

(感光層の物性)
なお、本発明に適用される平版印刷版原版の感光層の物性としては、pH10〜13.5のアルカリ現像液に対する未露光部の現像速度が80nm/sec以上、かつ、該アルカリ現像液の露光部における浸透速度が100nF/sec以下であることが好ましい。
なお、ここで、pH10〜13.5のアルカリ現像液による現像速度とは、感光層の膜厚(m)を現像に要する時間(sec)で除した値であり、アルカリ現像液の浸透速度とは、導電性支持体上に前記感光層を製膜し、現像液に浸漬した場合の静電容量(F)の変化速度を示す値である。
以下に、本発明における「アルカリ現像液に対する現像速度」及び「アルカリ現像液の浸透速度」の測定方法について詳細に説明する。
(Physical properties of photosensitive layer)
The physical properties of the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor applied to the present invention are as follows: the development speed of the unexposed area with respect to an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 is 80 nm / sec or more and the exposure of the alkaline developer. The penetration rate in the part is preferably 100 nF / sec or less.
Here, the development speed with an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 is a value obtained by dividing the film thickness (m) of the photosensitive layer by the time (sec) required for development, Is a value indicating the rate of change in capacitance (F) when the photosensitive layer is formed on a conductive support and immersed in a developer.
Hereinafter, a method for measuring “development speed with respect to an alkali developer” and “penetration speed of an alkali developer” in the present invention will be described in detail.

[アルカリ現像液に対する現像速度の測定]
ここで、感光層のアルカリ現像液に対する現像速度とは、感光層の膜厚(m)を現像に要する時間(sec)で除した値である。
本発明における現像速度の測定方法としては、図1に示すように、アルミニウム支持体上に未露光の感光層を備えたものをpH10〜13.5の範囲の一定のアルカリ現像液(30℃)中に浸漬し、感光層の溶解挙動をDRM干渉波測定装置で調査した。図1に、感光層の溶解挙動を測定するためのDRM干渉波測定装置の概略図を示す。本発明においては、640nmの光を用い干渉により膜厚の変化を検出した。現像挙動が感光層表面からの非膨潤的現像の場合、膜厚は現像時間に対して徐々に薄くなり、その厚みに応じた干渉波が得られる。また、膨潤的溶解(脱膜的溶解)の場合には、膜厚は現像液の浸透により変化するため、きれいな干渉波が得られない。
[Measurement of development speed for alkaline developer]
Here, the developing speed of the photosensitive layer with respect to the alkaline developer is a value obtained by dividing the film thickness (m) of the photosensitive layer by the time (sec) required for development.
As a method for measuring the developing speed in the present invention, as shown in FIG. 1, a constant alkali developer (30 ° C.) having an unexposed photosensitive layer on an aluminum support and having a pH in the range of 10 to 13.5. It was immersed in and the dissolution behavior of the photosensitive layer was investigated with a DRM interference wave measuring device. FIG. 1 shows a schematic diagram of a DRM interference wave measuring apparatus for measuring the dissolution behavior of a photosensitive layer. In the present invention, a change in film thickness was detected by interference using light of 640 nm. When the development behavior is non-swelling development from the surface of the photosensitive layer, the film thickness gradually decreases with respect to the development time, and an interference wave corresponding to the thickness can be obtained. Further, in the case of swelling dissolution (film removal dissolution), the film thickness changes due to the penetration of the developer, so that a clean interference wave cannot be obtained.

この条件において測定を続け、感光層が完全に除去され、膜厚が0となるまでの時間(現像完了時間)(s)と、感光層の膜厚(μm)より、現像速度を以下の式により求めることができる。この現像速度が大きいものほど、現像液により容易に膜が除去され、現像性が良好であると判定する。
(未露光部の)現像速度=〔感光層厚(μm)/記録完了時間(sec)〕
The measurement is continued under these conditions, and the developing speed is expressed by the following equation from the time (s) until the photosensitive layer is completely removed and the film thickness becomes 0 (development completion time) and the film thickness (μm) of the photosensitive layer. It can ask for. It is determined that the higher the development speed, the easier the film is removed by the developer and the better the developability.
Development speed (of unexposed area) = [photosensitive layer thickness (μm) / recording completion time (sec)]

[アルカリ現像液の浸透速度の測定]
また、アルカリ現像液の浸透速度とは、導電性支持体上に前記感光層を製膜し、現像液に浸漬した場合の静電容量(F)の変化速度を示す値である。
本発明における浸透性の目安となる静電容量の測定方法としては、図2に示すように、pH10〜13.5の範囲の一定のアルカリ現像液(28℃)中にアルミニウム支持体上に所定の露光量にて露光を行ない、硬化した感光層を備えたものを一方の電極として浸漬し、アルミニウム支持体に導線をつなぎ、他方に通常の電極を用いて電圧を印加する方法が挙げられる。電圧を印加後、浸漬時間の経過に従って現像液が支持体と感光層との界面に浸透し、静電容量が変化する。
[Measurement of penetration rate of alkaline developer]
The permeation rate of the alkaline developer is a value indicating the rate of change of the capacitance (F) when the photosensitive layer is formed on a conductive support and immersed in the developer.
As shown in FIG. 2, a method for measuring the capacitance, which is a measure of permeability in the present invention, is a predetermined method on an aluminum support in a constant alkaline developer (28 ° C.) in the range of pH 10 to 13.5. There is a method in which the exposure is carried out at the exposure amount, the one provided with the cured photosensitive layer is immersed as one electrode, a lead wire is connected to the aluminum support, and a voltage is applied to the other using a normal electrode. After the voltage is applied, the developer permeates the interface between the support and the photosensitive layer as the immersion time elapses, and the capacitance changes.

この静電容量が変化するまでにかかる時間(s)と、感光層の膜厚(μm)より以下の式により求めることができる。この浸透速度が小さいものほど、現像液の浸透性が低いと判定する。
(露光部の)現像液浸透速度=
〔感光層厚(μm)/静電容量変化が一定になるまでに要する時間(s)〕
From the time (s) required for the capacitance to change and the film thickness (μm) of the photosensitive layer, it can be obtained by the following equation. It is determined that the smaller the permeation rate, the lower the permeability of the developer.
Developer penetration rate (of exposed area) =
[Photosensitive layer thickness (μm) / Time required for capacitance change to be constant (s)]

本発明に適用される平版印刷版原版の感光層の好ましい物性としては、上記測定によるpH10〜13.5のアルカリ現像液による未露光部の現像速度が、好ましくは80〜400nm/secであり、同様のアルカリ現像液の感光層に対する浸透速度は90nF/sec以下であることが好ましい。また、上記測定によるpH10〜13.5のアルカリ現像液による未露光部の現像速度が、更に好ましくは90〜200nm/secであり、同様のアルカリ現像液の感光層に対する浸透速度は80nF/sec以下であることが好ましい。現像速度の上限値、或いは、浸透速度の下限値には、特に制限はないが、両者のバランスを考慮するに、未露光部の現像速度は90〜200nm/secの範囲であることがより好ましく、アルカリ現像液の感光層に対する浸透速度は80nF/sec以下であることが好ましい。
感光層の未露光部の現像速度や硬化後の感光層に対するアルカリ現像液の浸透速度の制御は、常法により行うことができるが、代表的なものとしては、未露光部の現像速度の向上には、親水性の化合物の添加が有用であり、露光部への現像液浸透抑制には、疎水性の化合物の添加する手段が有用である。
上述の特定バインダーポリマーを使用することで、感光層の現像速度、現像液の浸透速度を容易に上記の好ましい範囲に調製することができる。
As a preferable physical property of the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor to be applied to the present invention, the development rate of the unexposed portion with an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 by the above measurement is preferably 80 to 400 nm / sec. The permeation rate of the same alkaline developer into the photosensitive layer is preferably 90 nF / sec or less. Further, the development rate of the unexposed area with an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 as measured above is more preferably 90 to 200 nm / sec, and the penetration rate of the same alkaline developer into the photosensitive layer is 80 nF / sec or less. It is preferable that The upper limit of the development speed or the lower limit of the permeation speed is not particularly limited, but considering the balance between the two, the development speed of the unexposed area is more preferably in the range of 90 to 200 nm / sec. The permeation rate of the alkali developer into the photosensitive layer is preferably 80 nF / sec or less.
Control of the development speed of the unexposed area of the photosensitive layer and the penetration speed of the alkaline developer into the photosensitive layer after curing can be performed by conventional methods, but as a typical example, the development speed of the unexposed area is improved. In addition, addition of a hydrophilic compound is useful, and means for adding a hydrophobic compound is useful for suppressing penetration of the developer into the exposed area.
By using the above-mentioned specific binder polymer, the developing speed of the photosensitive layer and the permeation speed of the developer can be easily adjusted to the above preferred ranges.

[支持体]
本発明における平版印刷版原版の支持体としては、従来公知の、平版印刷版原版に使用される親水性支持体を限定無く使用することができる。
使用される支持体は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等が含まれ、これらの表面に対し、必要に応じ親水性の付与や、強度向上等の目的で、適切な公知の物理的、化学的処理を施してもよい。
[Support]
As the support for the lithographic printing plate precursor in the invention, a conventionally known hydrophilic support for use in the lithographic printing plate precursor can be used without limitation.
The support used is preferably a dimensionally stable plate, for example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc). , Copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), Paper or plastic film, etc. on which such metals are laminated or vapor-deposited are included. Appropriately known physical and chemical treatments are applied to these surfaces for the purpose of imparting hydrophilicity and improving strength as necessary. You may give it.

特に、好ましい支持体としては、紙、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供できるアルミニウム板は更に好ましい。また、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。   In particular, preferred supports include paper, polyester film or aluminum plate, among which dimensional stability is good, relatively inexpensive, and a surface with excellent hydrophilicity and strength is provided by surface treatment as required. An aluminum plate that can be formed is more preferable. A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 is also preferable.

アルミニウム板とは、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属板であり、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合金)がラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルム又は紙の中から選ばれる。以下の説明において、上記に挙げたアルミニウム又はアルミニウム合金からなる支持体をアルミニウム支持体と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のもの、例えば、JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することができる。
また、本発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更することができる。アルミニウム支持体には適宜必要に応じて後述の支持体表面処理が施されてもよい。もちろん施されなくてもよい。
An aluminum plate is a metal plate mainly composed of dimensionally stable aluminum. In addition to a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or aluminum (alloy) is laminated. Or it is chosen from the vapor-deposited plastic film or paper. In the following description, the above-mentioned support made of aluminum or an aluminum alloy is generically used as an aluminum support. Examples of the foreign element contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is suitable. However, since pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, it may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and it is a conventionally known material such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, JIS A 3005, etc. Can be used as appropriate.
Moreover, the thickness of the aluminum support body used for this invention is about 0.1 mm-about 0.6 mm. This thickness can be appropriately changed depending on the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's desire. The aluminum support may be subjected to a support surface treatment described later as necessary. Of course, it may not be applied.

(粗面化処理)
粗面化処理方法は、特開昭56−28893号公報に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。更に塩酸又は硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするポールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシグレイン法のような機械的粗面化法を用いることができ、上記粗面化方法を単独或いは組み合わせて用いることもできる。その中でも粗面化に有用に使用される方法は塩酸又は硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気化学的方法であり、適する陽極時電気量は50C/dm2〜400C/dm2の範囲である。更に具体的には、0.1〜50%の塩酸又は硝酸を含む電解液中、温度20〜80℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm2〜400C/dm2の条件で交流及び/又は直流電解を行うことが好ましい。
(Roughening treatment)
Examples of the roughening treatment method include mechanical roughening, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, the electrochemical surface roughening method in which the surface is electrochemically roughened in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte solution, the aluminum surface is scratched with a metal wire, the wire brush grain method, the surface of the aluminum is polished with a polishing ball and an abrasive. A mechanical graining method such as a pole grain method, a brush grain method in which the surface is roughened with a nylon brush and an abrasive, can be used, and the above roughening methods can be used alone or in combination. Among them, a method usefully used for roughening is an electrochemical method in which roughening is performed chemically in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable amount of electricity at the time of anode is 50 C / dm 2 to 400 C / dm 2 . It is a range. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 80 ° C., for 1 second to 30 minutes, alternating at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to perform direct current electrolysis.

このように粗面化処理したアルミニウム支持体は、酸又はアルカリにより化学的にエッチングされてもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃である。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。以上のように処理された後、処理面の中心線平均粗さRaが0.2〜0.5μmであれば、特に方法条件は限定しない。   The roughened aluminum support may be chemically etched with acid or alkali. Etching agents suitably used are caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like. Preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50% and 20%, respectively. ~ 100 ° C. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123. After the treatment as described above, the method condition is not particularly limited as long as the center line average roughness Ra of the treatment surface is 0.2 to 0.5 μm.

(陽極酸化処理)
以上のようにして処理され酸化物層を形成したアルミニウム支持体には、その後に陽極酸化処理がなされる。
陽極酸化処理は硫酸、燐酸、シュウ酸若しくは硼酸/硼酸ナトリウムの水溶液が単独若しくは複数種類組み合わせて電解浴の主成分として用いられる。この際、電解液中に少なくともAl合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもちろん含まれても構わない。更には第2、第3成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、3成分とは、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては0〜10000ppm程度含まれてもよい。陽極酸化処理の条件に特に限定はないが、好ましくは30〜500g/リットル、処理液温10〜70℃で、電流密度0.1〜40A/m2の範囲で直流又は交流電解によって処理される。形成される陽極酸化皮膜の厚さは0.5〜1.5μmの範囲である。好ましくは0.5〜1.0μmの範囲である。以上の処理によって作製された支持体が、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアのポア径が5〜10nm、ポア密度が8×1015〜2×1016個/m2の範囲に入るように処理条件が選択されることが好ましい。
(Anodizing treatment)
The aluminum support that has been treated as described above to form an oxide layer is then anodized.
In the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or an aqueous solution of boric acid / sodium borate is used alone or in combination as a main component of the electrolytic bath. In this case, the electrolyte solution may of course contain at least components normally contained in at least an Al alloy plate, an electrode, tap water, groundwater and the like. Further, the second and third components may be added. Here, the second and third components are, for example, metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn, and ammonium ions. Examples include cations, nitrate ions, carbonate ions, chloride ions, phosphate ions, fluorine ions, sulfite ions, titanate ions, silicate ions, borate ions and the like, and the concentration is 0 to 10,000 ppm. May be included. There are no particular limitations on the conditions of the anodizing treatment, but the treatment is preferably carried out by direct current or alternating current electrolysis at a current density of 0.1 to 40 A / m 2 at 30 to 500 g / liter, a treatment liquid temperature of 10 to 70 ° C. . The thickness of the formed anodic oxide film is in the range of 0.5 to 1.5 μm. Preferably it is the range of 0.5-1.0 micrometer. The support prepared by the above treatment is treated so that the pore diameter of the micropores existing in the anodized film is in the range of 5 to 10 nm and the pore density is in the range of 8 × 10 15 to 2 × 10 16 pieces / m 2. It is preferred that the conditions are selected.

前記支持体表面の親水化処理としては、広く公知の方法が適用できる。特に好ましい処理としては、シリケート又はポリビニルホスホン酸等による親水化処理が施される。皮膜はSi、又はP元素量として2〜40mg/m2、より好ましくは4〜30mg/m2で形成される。塗布量はケイ光X線分析法により測定できる。 A widely known method can be applied as the hydrophilic treatment on the surface of the support. As a particularly preferable treatment, a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid is performed. A film | membrane is formed by 2-40 mg / m < 2 > as Si or P element amount, More preferably, it is 4-30 mg / m < 2 >. The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis.

上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩、又はポリビニルホスホン酸が1〜30質量%、好ましくは2〜15質量%であり、25℃のpHが10〜13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム支持体を、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬することにより実施される。   The hydrophilization treatment is carried out by applying an anodized film to an aqueous solution containing 1 to 30% by mass, preferably 2 to 15% by mass of alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid, and having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. This is carried out by immersing the aluminum support on which is formed, for example, at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

前記親水化処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。   As the alkali metal silicate used for the hydrophilization treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, or the like is used. Examples of the hydroxide used for increasing the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or Group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble substances such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Salt. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be mentioned.

アルカリ土類金属塩若しくは、第IVB族金属塩は単独又は2種以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。特公昭46−27481号、特開昭52−58602号、特開昭52−30503号に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び親水化処理を組合せた表面処理も有用である。   Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by mass. Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Surface obtained by combining a support with electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, JP-A-52-30503, and the above anodizing treatment and hydrophilization treatment Processing is also useful.

[中間層(下塗り層)]
本発明における平版印刷版原版には、感光層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層(下塗り層)を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特願平8−225335号、特願平8−270098号、特願平9−195863号、特願平9−195864号、特願平9−89646号、特願平9−106068号、特願平9−183834号、特願平9−264311号、特願平9−127232号、特願平9−245419号、特願平10−127602号、特願平10−170202号、特願平11−36377号、特願平11−165861号、特願平11−284091号、特願2000−14697号等に記載のものを挙げることができる。
[Intermediate layer (undercoat layer)]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an intermediate layer (undercoat layer) may be provided for the purpose of improving the adhesion and stain resistance between the photosensitive layer and the support. Specific examples of such an intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-159983, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, Special Kaihei 8-320551, JP 9-34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP-A-10-282682, JP-A-11-84684, Japanese Patent Application No. 8-225335, Japanese Patent Application No. 8-270098, Japanese Patent Application No. 9-195863, Japanese Patent Application No. 9-195864, Japanese Patent Application No. 9-89646, Japanese Patent Application No. 9-106068, Japanese Patent Application No. 9-183834, Japanese Patent Application No. 9-264411, Japanese Patent Application No. 9 -127232, Japanese Patent Application No. 9-245419, Japanese Patent Application No. 10-127602, Japanese Patent Application No. 10-170202, Japanese Patent Application No. 11-36377, Japanese Patent Application No. 11-165661, Japanese Patent Application No. 11-284091 No., Japanese Patent Application No. 2000-14697, and the like.

[保護層]
本発明における平版印刷版原版の感光層は、上述のように、熱重合性ネガ型感光層であるため、露光を大気中で行うために、感光層の上に、更に、保護層(オーバーコート層とも呼ばれる。)を設けることが好ましい。保護層は、基本的には感光層を保護するために設けているが、感光層が本発明の如くラジカル重合性の画像形成機構を有する場合には酸素遮断層としての役割を持ち、高照度の赤外レーザで露光する場合はアブレーション防止層としての機能を果たす。
また、保護層に望まれる特性としては、上記以外に、更に、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。この様な保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第3,458,311号、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
[Protective layer]
Since the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is a thermopolymerizable negative photosensitive layer as described above, a protective layer (overcoat) is further formed on the photosensitive layer in order to perform exposure in the air. It is preferable to provide a layer). The protective layer is basically provided to protect the photosensitive layer. However, when the photosensitive layer has a radical polymerizable image forming mechanism as in the present invention, it has a role as an oxygen blocking layer and has a high illuminance. When exposed with an infrared laser, it functions as an ablation preventing layer.
In addition to the properties desired for the protective layer, in addition to the above, the transmission of light used for exposure is not substantially inhibited, it has excellent adhesion to the photosensitive layer, and can be easily removed in the development process after exposure. Is desirable. Such a protective layer has been conventionally devised and described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

保護層に使用できる材料としては、例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独又は混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。   As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / Examples include water-soluble polymers such as vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, polyacrylamide, etc. They can be used alone or in combination. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。特に、ポリビニルアルコールに対し、ポリビニルピロリドンを15〜50質量%の範囲で置換した化合物が保存安定性の点で好ましい。
ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100%加水分解され、重合繰り返し単位が300から2400の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。
The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. In particular, a compound obtained by substituting polyvinyl pyrrolidone in a range of 15 to 50% by mass with respect to polyvinyl alcohol is preferable in terms of storage stability.
Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis rate of 71 to 100% and a polymerization repeating unit in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(酸素遮断層中の未置換ビニルアリコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程、酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。
従って、25℃、1気圧下における酸素透過性Aが0.2≦A≦20(cc/m2・day)であることが好ましい。
上記ポリビニルアルコール(PVA)等の(共)重合体の分子量は、2000〜1000万の範囲のものが使用でき、好ましくは2万〜300万範囲のものが適当である。
Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units in the oxygen barrier layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. is there. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that unnecessary polymerization reaction occurs during production and raw storage, and unnecessary fogging and image line thickening occur during image exposure.
Accordingly, the oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm is preferably 0.2 ≦ A ≦ 20 (cc / m 2 · day).
The molecular weight of the (co) polymer such as polyvinyl alcohol (PVA) can be in the range of 2000 to 10 million, preferably in the range of 20,000 to 3 million.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加することができる。
保護層の膜厚は、0.5〜5μmが適当であり、特に0.5〜2μmが好適である。
As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer Mass% can be added.
The thickness of the protective layer is suitably from 0.5 to 5 μm, particularly preferably from 0.5 to 2 μm.

また、画像部との密着性や耐傷性も、版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を新油性の重合層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これらの2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば、米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号、特公昭55−49729号に詳しく記載されている。   In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are also extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a new oil-based polymer layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563 disclose an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and the like and laminating on a polymerization layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method of the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

本発明に適用される平版印刷版原版を製版するために、少なくとも、露光及び現像のプロセスが行われる。
本発明に適用される平版印刷版原版を露光する光源としては、赤外線レーザが好適なものとして挙げられ、また、紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能である。
中でも、本発明においては、波長750nmから1400nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。平版印刷版原版に照射されるエネルギーは10〜300mJ/cm2であることが好ましい。露光のエネルギーが低すぎると感光層の硬化が十分に進行しない。また、露光のエネルギーが高すぎると感光層がレーザーアブレーションされ、画像が損傷することがある。
In order to make a lithographic printing plate precursor to be applied to the present invention, at least exposure and development processes are performed.
As a light source for exposing the lithographic printing plate precursor to be applied to the present invention, an infrared laser is preferable, and thermal recording by an ultraviolet lamp or a thermal head is also possible.
In particular, in the present invention, image exposure is preferably performed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 750 nm to 1400 nm. The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the planographic printing plate precursor is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . If the exposure energy is too low, the photosensitive layer is not sufficiently cured. If the exposure energy is too high, the photosensitive layer may be laser ablated and the image may be damaged.

本発明における露光は光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えばビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)で表わしたとき、FWHM/副走査ピッチ幅(オーバーラップ係数)で定量的に表現することができる。本発明ではこのオーバーラップ係数が0.1以上であることが好ましい。   The exposure in the present invention can be performed by overlapping the light beams of the light sources. Overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. The overlap can be expressed quantitatively by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient), for example, when the beam diameter is expressed by the half width (FWHM) of the beam intensity. In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.1 or more.

本発明に使用する露光装置の光源の走査方式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。   The scanning method of the light source of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylindrical outer surface scanning method, a cylindrical inner surface scanning method, a planar scanning method, or the like can be used. The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface system, a multi-channel is preferably used.

本発明においては、露光後すぐに現像処理を行ってもよいが、露光工程と現像工程の間に加熱処理を行ってもよい。この加熱処理の条件としては、温度60〜150℃の範囲において、5秒〜5分間とすることが好ましい。
前記加熱処理としては、従来公知の種々の方法から適宜選択することができる。具体的には、平版印刷版原版をパネルヒーターやセラミックヒーターと接触させながら加熱する方法、ランプや温風により非接触での加熱方法等が挙げられる。前記加熱処理を施すことにより、照射するレーザーの、画像記録に必要なレーザーエネルギー量の低減を図ることができる。
In the present invention, the development treatment may be performed immediately after exposure, but the heat treatment may be performed between the exposure step and the development step. The heat treatment condition is preferably 5 seconds to 5 minutes in the temperature range of 60 to 150 ° C.
The heat treatment can be appropriately selected from conventionally known various methods. Specific examples include a method of heating the lithographic printing plate precursor while being in contact with a panel heater or a ceramic heater, a non-contact heating method using a lamp or hot air, and the like. By performing the heat treatment, it is possible to reduce the amount of laser energy required for image recording of the laser to be irradiated.

また、本発明における平版印刷版原版が保護層を有する態様である場合には、現像工程の前に、保護層を除去するプレ水洗を行ってもよい。プレ水洗は、例えば、平版印刷版原版の保護層表面にスプレーパイプから水が吐出され、かかる保護層が湿潤した後、ブラシローラによって除去されるという方法で行なわれる。プレ水洗には、例えば、水道水が用いられる。また、現像工程が自動現像機により行なわれる場合には、該自動現像機内においてプレ水洗工程が行なわれてもよい。   Moreover, when the lithographic printing plate precursor according to the invention is in an embodiment having a protective layer, pre-water washing for removing the protective layer may be performed before the development step. The pre-water washing is performed, for example, by a method in which water is discharged from the spray pipe onto the surface of the protective layer of the planographic printing plate precursor, and the protective layer is wetted and then removed by a brush roller. For the pre-water washing, for example, tap water is used. Further, when the developing process is performed by an automatic developing machine, a pre-water washing process may be performed in the automatic developing machine.

本発明における平版印刷版原版は、露光された後そのまま、又は、加熱工程やプレ水洗工程を経た後、現像処理される。かかる現像処理に使用される現像液としては、pH14以下のアルカリ水溶液が特に好ましく、より好ましくはアニオン系界面活性剤を含有するpH8〜12のアルカリ水溶液が使用される。例えば、第三リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は、単独若しくは2種以上を組み合わせて用いられる。   The lithographic printing plate precursor according to the invention is developed as it is after being exposed, or after being subjected to a heating step or a pre-water washing step. As the developer used in such development processing, an alkaline aqueous solution having a pH of 14 or less is particularly preferred, and an alkaline aqueous solution having a pH of 8 to 12 containing an anionic surfactant is more preferably used. For example, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, Examples include inorganic alkaline agents such as potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

また、本発明に適用される平版印刷版原版の現像処理においては、現像液中にアニオン界面活性剤1〜20質量%加えるが、より好ましくは、3〜10質量%で使用される。少なすぎると現像性が悪化し、多すぎると画像の耐摩耗性などの強度が劣化するなどの弊害が出る。アニオン界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェートのアンモニウム塩、オクチルアルコールサルフェートのナトリウム塩、例えば、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、イソブチルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリオキシエチレングリコールモノナフチルエーテル硫酸エステルのナトリウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのようなアルキルアリールスルホン酸塩、第2ナトリウムアルキルサルフェートなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステル類、セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩などの様な脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、例えば、C1733CON(CH3)CH2CH2SO3Naなどのようなアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えば、ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸塩類などが含まれる。 Moreover, in the development processing of the lithographic printing plate precursor applied to the present invention, 1 to 20% by mass of an anionic surfactant is added to the developer, but more preferably 3 to 10% by mass. If the amount is too small, the developability deteriorates. If the amount is too large, the strength such as the abrasion resistance of the image deteriorates. Anionic surfactants include, for example, sodium salt of lauryl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, such as sodium salt of isopropyl naphthalene sulfonic acid, sodium salt of isobutyl naphthalene sulfonic acid, polyoxy Higher carbon number such as sodium salt of ethylene glycol mononaphthyl ether sulfate ester, sodium salt of dodecylbenzene sulfonic acid, alkylaryl sulfonate such as sodium salt of metanitrobenzene sulfonic acid, secondary sodium alkyl sulfate, etc. Aliphatic alcohol phosphates such as alcohol sulfates, sodium salts of cetyl alcohol phosphates, eg C 17 H 33 CON (CH 3) CH 2 CH 2 SO 3 sulfonates of alkylamides such as Na, for example, sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sulfonate of dibasic aliphatic esters such as sodium sulfosuccinate dihexyl ester Salts are included.

また、必要に応じてベンジルアルコール等の水と混合するような有機溶媒を現像液に加えてもよい。有機溶媒としては、水に対する溶解度が約10質量%以下のものが適しており、好ましくは5質量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパノール、1,4−フェニルブタノール、2,2−フェニルブタノール、1,2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘクサノール、4−メチルシクロヘクサノール及び3−メチルシクロヘクサノール等を挙げることができる。有機溶媒の含有量は、使用時の現像液の総質量に対して1〜5質量%が好適である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増すにつれ、アニオン界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これはアニオン界面活性剤の量が少ない状態で、有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。   Moreover, you may add the organic solvent which mixes with water, such as benzyl alcohol, to a developing solution as needed. As the organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by mass or less are suitable, and preferably selected from those having 5% by mass or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpropanol, 1,4-phenylbutanol, 2,2-phenylbutanol, 1,2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m -Methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and the like can be mentioned. The content of the organic solvent is preferably 1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer at the time of use. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of anionic surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because when the amount of the organic solvent is large and the amount of the anionic surfactant is small, the organic solvent is not dissolved, so that it is impossible to expect good developability.

また、更に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水軟化剤としては、例えば、Na227、Na533、Na339、Na24P(NaO3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、アミノポリカルボン酸類(例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩)、他のポリカルボン酸類(例えば、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2一ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)、有機ホスホン酸類(例えば、1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)を挙げることができる。このような硬水軟化剤の最適量は使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させられる。 Furthermore, additives such as an antifoaming agent and a hard water softening agent can be further contained as necessary. Examples of the hard water softener include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 , Calgon (sodium polymetaphosphate) Such as polyphosphates, aminopolycarboxylic acids (eg, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,3-diamino-2 -Propanol tetraacetic acid, its potassium salt, Sodium salt), other polycarboxylic acids (eg 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 2-phosphonobutanone tricarboxylic acid-2,3,4, Potassium salt, sodium salt thereof, etc., organic phosphonic acids (eg, 1-phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, potassium salt, sodium salt thereof; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, Potassium salt, sodium salt thereof; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt thereof, sodium salt thereof and the like. The optimum amount of such a hard water softener varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by weight, more preferably in the developer at the time of use. It is made to contain in 0.01-0.5 mass%.

更に、自動現像機を用いて、平版印刷版原版を現像する場合には、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特許第4,882,246号に記載されている方法で補充することが好ましい。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。この補充を行う場合にも、必要に応じて、本発明の品質管理方法における(D)工程の製版工程の調整を適用することができる。
また、特開昭50−26601号、同58−54341号、特公昭56−39464号、同56−42860号、同57−7427号の各公報に記載されている現像液も好ましい。
Furthermore, when developing a lithographic printing plate precursor using an automatic processor, the developer becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capacity can be restored using a replenisher or fresh developer. Also good. In this case, it is preferable to replenish by the method described in US Pat. No. 4,882,246. This replenishment method is also preferably applied in the present invention. Also when performing this replenishment, adjustment of the plate-making process of the (D) process in the quality control method of this invention can be applied as needed.
Developers described in JP-A-50-26601, 58-54341, JP-B-56-39464, 56-42860, and 57-7427 are also preferable.

このようにして現像処理された平版印刷版原版は、特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理されてもよい。本発明に適用される平版印刷版原版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The lithographic printing plate precursor thus developed is subjected to washing water, surface activity as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-11545, 59-58431, and the like. It may be post-treated with a rinsing liquid containing an agent, a desensitizing liquid containing gum arabic, starch derivatives, and the like. These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the lithographic printing plate precursor applied to the present invention.

本発明に適用される平版印刷版原版の製版においては、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱、若しくは、全面露光を行うことが有効である。
現像後の加熱には非常に強い条件を利用することができる。通常は加熱温度が200〜500℃の範囲で実施される。現像後の加熱温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じるおそれがある。
In plate making of a lithographic printing plate precursor to be applied to the present invention, it is effective to subject the image after development to full post heating or full exposure for the purpose of improving image strength and printing durability.
Very strong conditions can be used for heating after development. Usually, the heating temperature is 200 to 500 ° C. If the heating temperature after development is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained, and if it is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.

以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとしては、従来より知られているPS版用プレートクリーナーが使用され、例えば、CL−1、CL−2、CP、CN−4、CN、CG−1、PC−1、SR、IC(富士写真フイルム株式会社製)等が挙げられる。
The planographic printing plate obtained by the above processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
As plate cleaners used for removing stains on the plate during printing, conventionally known plate cleaners for PS plates are used. For example, CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG-1, PC-1, SR, IC (made by Fuji Photo Film Co., Ltd.), etc. are mentioned.

以下、実施例によって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例1〕
[支持体の作成]
<アルミニウム板>
厚さ0.30mm、幅1030mmのJIS A 1050のアルミニウム板を用い、以下に示す表面処理を行った。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.
[Example 1]
[Create support]
<Aluminum plate>
The following surface treatment was performed using a JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.30 mm and a width of 1030 mm.

<表面処理>
表面処理は、以下の(a)〜(j)の各種処理を連続的に行うことにより行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
<Surface treatment>
The surface treatment was performed by continuously performing the following various treatments (a) to (j). In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板を苛性ソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を5g/m2溶解した。その後、水洗を行った。
(A) Alkaline etching treatment The aluminum plate was subjected to an etching treatment by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 2.6 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C., thereby dissolving the aluminum plate by 5 g / m 2 . . Then, it washed with water.

(b)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、で水洗した。
(B) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water.

(c)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5wt%、アンモニウムイオン0.007wt%含む)、温度30℃であった。交流電源は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが2msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で250C/cm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、水洗を行った。
(C) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (containing 0.5 wt% aluminum ions and 0.007 wt% ammonium ions) at a temperature of 30 ° C. The AC power source was subjected to an electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 2 msec until the current value reached a peak from zero and a duty ratio of 1: 1. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 250 C / cm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, it washed with water.

(d)アルカリエッチング処理
アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を35℃で行い、アルミニウム板を0.2g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。その後、水洗した。
(D) Alkali etching treatment The aluminum plate was etched by spraying at 35 ° C. with a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass% to dissolve the aluminum plate by 0.2 g / m 2 , The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical roughening was used, and the edge portion of the generated pit was dissolved to smooth the edge portion. Then, it washed with water.

(e)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25wt%水溶液(アルミニウムイオンを0.5wt%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) Desmutting treatment A desmutting treatment by spraying was performed with a 25 wt% sulfuric acid concentration aqueous solution (containing 0.5 wt% aluminum ions) at a temperature of 60 ° C., followed by washing with water by spraying.

(f)陽極酸化処理
硫酸濃度170g/l(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度33℃、電流密度が5(A/dm2)で、50秒間陽極酸化処理を行った。その後、水洗を行った。この時の陽極酸化皮膜重量が2.7g/m2であった。
(F) Anodizing treatment Anodizing treatment was performed for 50 seconds at a sulfuric acid concentration of 170 g / l (containing 0.5 mass% of aluminum ions), a temperature of 33 ° C., and a current density of 5 (A / dm 2 ). Then, it washed with water. At this time, the weight of the anodized film was 2.7 g / m 2 .

[感光層]
次に、下記感光層塗布液[P−1]を調整し、上記のアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布した。乾燥は、温風式乾燥装置にて122℃で27秒間行い、平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲であった。
[Photosensitive layer]
Next, the following photosensitive layer coating solution [P-1] was prepared and applied to the above aluminum support using a wire bar. Drying was carried out at 122 ° C. for 27 seconds with a hot air drying apparatus to obtain a lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying was in the range of 1.2 to 1.3 g / m 2 .

<感光層塗布液[P−1]>
・赤外線吸収剤(IR−1) 0.074g
・ラジカルを発生する化合物(OS−12) 0.311g
・重合性化合物(AM−1) 1.000g
・バインダーポリマー(BT−1) 1.000g
・添加剤(PM−1) 0.151g
・エチルバイオレット(C−1) 0.040g
・フッ素系界面活性剤 0.015g
(メガファックF−780−F 大日本インキ化学工業(株)、
メチルイソブチルケトン(MIBK)30質量%溶液)
・メチルエチルケトン 10.4g
・メタノール 4.83g
・1−メトキシ−2−プロパノール 10.4g
<Photosensitive layer coating solution [P-1]>
・ Infrared absorber (IR-1) 0.074g
Compound that generates radicals (OS-12) 0.311 g
-Polymerizable compound (AM-1) 1.000 g
-Binder polymer (BT-1) 1.000 g
・ Additive (PM-1) 0.151g
・ Ethyl violet (C-1) 0.040g
・ Fluorine-based surfactant 0.015g
(Megafuck F-780-F Dainippon Ink and Chemicals,
Methyl isobutyl ketone (MIBK) 30% by mass solution)
・ Methyl ethyl ketone 10.4g
・ Methanol 4.83g
・ 10.4 g of 1-methoxy-2-propanol

なお、ラジカルを発生する化合物(OS−12)は、前述の一般式(I)で表されるオニウム塩の化合物例として挙げられているものを指す。
上記感光層塗布液に用いた赤外線吸収剤(IR−1)、重合性化合物(AM−1)、添加剤(PM−1)、バインダーポリマー(BT−1)、及びエチルバイオレット(C−1)の構造を以下に示す。
In addition, the compound (OS-12) which generate | occur | produces a radical points out what is mentioned as a compound example of the onium salt represented by the above-mentioned general formula (I).
Infrared absorber (IR-1), polymerizable compound (AM-1), additive (PM-1), binder polymer (BT-1), and ethyl violet (C-1) used in the photosensitive layer coating solution The structure of is shown below.

Figure 2005070654
Figure 2005070654

Figure 2005070654
Figure 2005070654

[保護層(オーバーコート層)]
上記の感光層表面に、ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500)と、ポリビニルピロリドン(BASF社製、ルビスコールK−30)との混合水溶液をワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて125℃75秒間乾燥させた。なお、ポリビニルアルコール/ポリビニルピロリドンの含有量比は4/1質量%であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は2.30g/m2であった。
[Protective layer (overcoat layer)]
A mixed aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree: 98 mol%, polymerization degree: 500) and polyvinylpyrrolidone (BASF Corp., Rubiscol K-30) is applied to the surface of the photosensitive layer using a wire bar. It dried at 125 degreeC for 75 second (s) with the wind-type drying apparatus. The content ratio of polyvinyl alcohol / polyvinyl pyrrolidone was 4/1% by mass, and the coating amount (the coating amount after drying) was 2.30 g / m 2 .

(露光)
得られたネガ型平版印刷版原版[P−1](1030mm×800mm×0.3mm厚)に対し、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力40W、外面ドラム回転数360rpm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光を行った。なお、露光は、25℃50%RHの条件下で行った。
(exposure)
The resulting negative lithographic printing plate precursor [P-1] (1030 mm × 800 mm × 0.3 mm thickness) is output at 40 W with an external drum rotation speed by a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser. The exposure was performed under the conditions of 360 rpm, plate surface energy 100 mJ / cm 2 , and resolution 2400 dpi. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH.

(現像)
露光後、水道水による水洗により保護層を除去した。
その後、自動現像機として富士写真フイルム(株)製LP−1310HIIを用いて現像を行った。現像液は、富士フイルム(株)社製DV−2の1:4水希釈水を用い、フィニッシャーは、富士フイルム(株)社製GN−2Kの1:1水希釈液を用いた。
現像を行う前のアルカリ現像液のpHを11.95に調整し、これを標準アルカリ現像液の活性度とした。
なお、現像工程は、現像液温30℃、現像時間12秒に設定して、一日当り100版現像処理し、3ヵ月間現像処理した。また、現像工程は、標準アルカリ現像液の活性度より高い活性度を有する、pH13.00の補充液(富士フイルム(株)社DV−2RS)を、1版毎に40ml添加しつつ行った。
(developing)
After the exposure, the protective layer was removed by washing with tap water.
Thereafter, development was performed using LP-1310HII manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. as an automatic developing machine. The developer used was a 1: 4 water-diluted water of DV-2 manufactured by FUJIFILM Corporation, and the 1: 1 water-diluted solution of GN-2K manufactured by FUJIFILM Corporation was used as the finisher.
The pH of the alkali developer before development was adjusted to 11.95, and this was defined as the activity of the standard alkali developer.
In the development process, a developing solution temperature of 30 ° C. and a development time of 12 seconds were set, and 100 plate development processing was performed per day, followed by development processing for 3 months. Further, the development process was performed while adding 40 ml of a replenisher having a higher activity than that of a standard alkaline developer (pH-2.000, Fuji Film Co., Ltd. DV-2RS) per plate.

実施期間中は、毎日、本発明の品質管理方法を用いて、アルカリ現像液の活性度の比較を行い、得られた評価結果を、フィードバックして、製版条件である露光/現像工程の各条件を、適宜、調整することにより、作製された平版印刷版の品質管理を行った。   During the implementation period, using the quality control method of the present invention, the activities of the alkaline developers are compared daily, the obtained evaluation results are fed back, and the conditions of the exposure / development process, which are platemaking conditions, are fed back. Was appropriately adjusted to perform quality control of the produced lithographic printing plate.

本実施例における露光条件/現像条件の調整は、評価しようとするアルカリ現像液の活性度を示すpHが、標準アルカリ現像液の活性度を示すpH11.95から±0.2を超えた場合、即ち、評価しようとするアルカリ現像液のpHが11.75〜12.15の範囲を超えた場合に、現像液温度、現像時間、及び露光量を制御することにより行った。
また、実施期間中、現像条件及び自動現像機をそのままに製版を継続し、毎日、最初の1版を現像する前のアルカリ現像液のpHを測定し、それを評価しようとするアルカリ現像液の活性度とした。また、製版条件が調整された後は、その調整後の条件にて製版を継続し、次の日から毎日、最初の1版を現像する前のアルカリ現像液のpHを測定し、それを評価しようとするアルカリ現像液の活性度とした。
Adjustment of the exposure conditions / development conditions in this example is performed when the pH indicating the activity of the alkaline developer to be evaluated exceeds ± 0.2 from pH 11.95 indicating the activity of the standard alkali developer. That is, when the pH of the alkaline developer to be evaluated exceeded the range of 11.75 to 12.15, the developer temperature, development time, and exposure amount were controlled.
In addition, during the implementation period, the plate making is continued while maintaining the development conditions and the automatic developing machine, and the pH of the alkaline developer before developing the first plate is measured every day, and the alkaline developer to be evaluated is measured. It was set as activity. After the platemaking conditions are adjusted, platemaking is continued under the adjusted conditions, and the pH of the alkaline developer before developing the first plate is measured and evaluated every day from the next day. The activity of the alkaline developer to be used was defined.

本実施例における品質管理の詳細は以下の通りである。
・17日目に、評価しようとするアルカリ現像液のpHが11.70となり、pHの差が0.2を超えたため、現像液温を30℃から32℃へと調整した。これにより、アルカリ現像液の活性度は低下しているものの、現像液温を上昇させたため、十分な現像が行なわれ、初期と同様の品質の画像を有する平版印刷版を作製することができた。
・20日目に、pHが11.80まで変化したため、現像液温を32℃から30℃へと戻した。
・40日目に、評価しようとするアルカリ現像液のpHが12.20となり、pHの差が0.2を超えたため、現像液温を30℃から28℃へと調整した。これにより、アルカリ現像液の活性度は上昇しているものの、現像液温を降下させたため、過現像とならず、初期と同様の品質の画像を有する平版印刷版を作製することができた。
・43日目に、pHが12.10まで変化したため、現像液温を28℃から30℃へと戻した。
・52日目に、評価しようとするアルカリ現像液のpHが11.70となり、pHの差が0.2を超えたため、現像時間を12秒から14秒へと調整した。これにより、アルカリ現像液の活性度は低下しているものの、現像時間を長くしたため、十分な現像が行なわれ、初期と同様の品質の画像を有する平版印刷版を作製することができた。
・55日目に、pHが11.80まで変化したため、現像時間を14秒から12秒へと戻した。
・60日目に、評価しようとするアルカリ現像液のpHが12.20となり、pHの差が0.2を超えたため、現像時間を12秒から10秒へと調整した。これにより、アルカリ現像液の活性度は上昇しているものの、現像時間を短くしたため、過現像とならず、初期と同様の品質の画像を有する平版印刷版を作製することができた。
・63日目に、pHが12.10まで変化したため、現像時間を10秒から12秒へと戻した。
・70日目に、評価しようとするアルカリ現像液のpHが12.20となり、pHの差が0.2を超えたため、露光量(出力)を40Wから44Wへと調整した。これにより、アルカリ現像液の活性度は上昇しているものの、露光量を上げたため画像部の強度が高くなり、過現像とならず、初期と同様の品質の画像を有する平版印刷版を作製することができた。
・73日目に、pHが12.10まで変化したため、露光量(出力)を44Wから40Wへと戻した。
その後は、90日目(3ヶ月間)まで、pHの差が0.2を超えず、安定していた。
Details of quality control in this embodiment are as follows.
On the 17th day, the pH of the alkaline developer to be evaluated was 11.70, and the difference in pH exceeded 0.2, so the developer temperature was adjusted from 30 ° C. to 32 ° C. As a result, although the activity of the alkali developer was lowered, the developer temperature was raised, so that sufficient development was performed and a lithographic printing plate having an image of the same quality as the initial stage could be produced. .
On the 20th day, since the pH changed to 11.80, the developer temperature was returned from 32 ° C. to 30 ° C.
On the 40th day, the pH of the alkaline developer to be evaluated was 12.20, and the difference in pH exceeded 0.2, so the developer temperature was adjusted from 30 ° C. to 28 ° C. As a result, although the activity of the alkali developer was increased, the developer temperature was lowered, so that the lithographic printing plate having an image with the same quality as the initial one could be produced without over-development.
On day 43, the pH changed to 12.10, so the developer temperature was returned from 28 ° C. to 30 ° C.
On the 52nd day, the pH of the alkaline developer to be evaluated was 11.70, and the difference in pH exceeded 0.2, so the development time was adjusted from 12 seconds to 14 seconds. As a result, although the activity of the alkaline developer was lowered, the development time was extended, so that sufficient development was performed, and a lithographic printing plate having an image of the same quality as the initial stage could be produced.
On the 55th day, since the pH changed to 11.80, the development time was returned from 14 seconds to 12 seconds.
On the 60th day, the pH of the alkaline developer to be evaluated was 12.20, and the difference in pH exceeded 0.2, so the development time was adjusted from 12 seconds to 10 seconds. As a result, although the activity of the alkali developer was increased, the development time was shortened, so that the lithographic printing plate having an image with the same quality as the initial one could be produced without over-development.
On day 63, the development time was returned from 10 seconds to 12 seconds because the pH changed to 12.10.
On the 70th day, the pH of the alkaline developer to be evaluated was 12.20, and the difference in pH exceeded 0.2. Therefore, the exposure amount (output) was adjusted from 40 W to 44 W. As a result, although the activity of the alkali developer is increased, the exposure amount is increased, so that the strength of the image portion is increased, and the lithographic printing plate having an image of the same quality as the initial stage is produced without over-development. I was able to.
On day 73, since the pH changed to 12.10, the exposure amount (output) was returned from 44 W to 40 W.
Thereafter, until the 90th day (3 months), the difference in pH did not exceed 0.2 and was stable.

本実施例において、17日目に現像液pHが11.70に低下した際、そのまま製版を続けていると、版の中央部の非画像部に残膜が発生した。
以上の結果から、本実施例において、本発明の平版印刷版の品質管理方法を用いなければ、好ましい画像を形成でき得る製版は、16日間しか稼動できなかったことになる。
このことから、本発明の平版印刷版の品質管理方法が、赤外線レーザ用のネガ型平版印刷版原版を用いた製版工程において有効であることがわかる。
In this example, when the developer pH decreased to 11.70 on the 17th day, if the plate making was continued as it was, a residual film was generated in the non-image area at the center of the plate.
From the above results, in this embodiment, if the lithographic printing plate quality control method of the present invention is not used, a plate making capable of forming a preferable image can only be operated for 16 days.
This shows that the lithographic printing plate quality control method of the present invention is effective in the plate making process using a negative lithographic printing plate precursor for an infrared laser.

感光層の溶解挙動を測定するためのDRM干渉波測定装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the DRM interference wave measuring apparatus for measuring the dissolution behavior of a photosensitive layer. 現像液の感光層への浸透性を評価するのに用いられる静電容量の測定方法の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the measuring method of the electrostatic capacitance used in evaluating the permeability to the photosensitive layer of a developing solution.

Claims (2)

(A)支持体上に、赤外線吸収剤と、ラジカルを発生する化合物と、重合性化合物と、を含有する感光層を設けてなる平版印刷版原版を露光後、標準アルカリ現像液で現像して、該標準アルカリ現像液の活性度をその物性により決定する工程と、
(B)評価しようとするアルカリ現像液で現像する他は、前記(A)工程と同様の条件で、該評価しようとするアルカリ現像液の活性度を決定する工程と、
(C)前記標準アルカリ現像液の活性度と、前記評価しようとするアルカリ現像液の活性度と、を比較する工程と、
(D)前記比較の結果、活性度の差が所定の値以上である場合に、該活性度の差異に応じて露光/現像条件を調整する工程と、
を有することを特徴とする平版印刷版の品質管理方法。
(A) A lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer containing an infrared absorber, a radical generating compound, and a polymerizable compound on a support is exposed and then developed with a standard alkali developer. Determining the activity of the standard alkaline developer according to its physical properties;
(B) The step of determining the activity of the alkali developer to be evaluated under the same conditions as in the step (A) except that the development is performed with the alkali developer to be evaluated;
(C) comparing the activity of the standard alkali developer with the activity of the alkali developer to be evaluated;
(D) as a result of the comparison, when the difference in activity is a predetermined value or more, adjusting the exposure / development conditions according to the difference in activity; and
A quality control method for a lithographic printing plate, comprising:
更に、(E)前記(D)工程の終了後、調整された露光/現像条件下でのアルカリ現像液の活性度を前記(A)工程と同様の指標により決定し、該アルカリ現像液の活性度を前記(B)工程における評価しようとするアルカリ現像液の活性度とする工程を有し、
前記(E)(C)及び(D)工程を、この順に1回又は複数回実施することを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版の品質管理方法。
(E) After the completion of the step (D), the activity of the alkali developer under the adjusted exposure / development conditions is determined by the same index as in the step (A), and the activity of the alkali developer is determined. A step of setting the degree of activity of the alkaline developer to be evaluated in the step (B),
The quality control method for a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the steps (E), (C), and (D) are performed once or a plurality of times in this order.
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