JP2005056876A - Multi-hierarchical data base for parameter expressing impurity concentration distribution produced by ion implantation and its data extracting program - Google Patents

Multi-hierarchical data base for parameter expressing impurity concentration distribution produced by ion implantation and its data extracting program Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multi-hierarchical data base which is made to be configured and maintained easily and to extract data easily from the data base by simplifying the data base. <P>SOLUTION: The multi-hierarchical data base, in which a plurality of data is stored correspondingly to the values of a plurality of categories and from which the data can be extracted by a computer, has a plurality of elements respectively having the names and values of the categories and configured in a multi-hierarchy by correlating the categories to layers. The multi-hierarchy is configured by correlating at least a plurality of lower-layer elements with an elements of upper layers, and in addition, by correlating data with the elements of the lowermost layer. Then a plurality of elements of a second layer which is lower than a first layer is correlated with the first element of a first layer and a plurality of elements of a third layer which is lower than the second layer is directly correlated with the second element of the first layer. Since the multi-hierarchy is configured by omitting the elements of the second layer when the data do not rely upon the values of the elements of the second layer with respect to the values of the second elements of the first layer, it becomes unnecessary to uselessly have identical data groups in a duplicated state. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多階層構造のデータベース及びそれのデータ抽出プログラムに関し、特に、イオン注入の不純物濃度分布用のパラメータについての多階層構造のデータベース及びそれのデータ抽出プログラムに関する。
【0002】
【従来の技術】
多階層構造のデータベースが様々なシミュレーションにおいて利用される。半導体デバイスの製造プロセスの一つにイオン注入工程があるが、かかるイオン注入工程により半導体基板表面に形成される不純物濃度分布を、シミュレーションにより擬似的に生成し、デバイス解析に利用することが行われる。このようなイオン注入分布のシミュレーションにおいても、種々のイオン注入条件に対応する分布関数を特定するパラメータを多階層構造のデータベースとして利用する。多階層構造のデータベースを利用することは、例えば特許文献1に記載されている。
【0003】
図1は、イオン注入分布シミュレータの構成図である。イオン注入分布シミュレータは、汎用コンピュータにパラメータデータベース10とイオン注入分布シミュレーションプログラム12とがインストールされており、バス14を介して、CPU、RAM、入出力装置I/Oなどが接続されている。そして、入出力装置I/Oを介して、イオン注入条件16を入力すると、その条件に対応するイオン注入分布のデータ18が出力される。
【0004】
図2は、イオン注入された時の不純物濃度分布とシミュレーションで生成される不純物濃度分布関数とを示す図である。図2(A)は、イオン注入装置によりイオン注入された半導体基板の表面を、SIMS(Secondary Ion Mass Spectroscopy)法などの測定方法により基板深さ方向に対する不純物濃度分布の測定データを示す。横軸が深さ方向を、縦軸が不純物濃度をそれぞれ示す。このように、イオン注入による不純物濃度分布は、基板表面(深さ0の位置)から所定の深さでピークを有し、深くなるにしたがって濃度が低くなる分布を有する。
【0005】
かかる不純物濃度分布は、デュアルピアソン関数により表現できることが知られている。図2(B)はそのピアソン関数による不純物濃度分布関数である。この濃度分布関数は、2組のパラメータ(Rp、ΔRp、γ、β、Rp2、ΔRp2、γ2、β2)による2つの関数N1(x)、N2(x)をドーズレシオrによって合成して得られる以下の濃度分布関数である。
【0006】
N(x)=φ{rN1(x)+(1−r)N2)x)}
ここで、φはドーズ量、rはドーズレシオ、N1(x)はパラメータRp、ΔRp、γ、βにより特定される分布関数、N2(x)はパラメータRp2、ΔRp2、γ2、β2により特定される分布関数である。
【0007】
従って、上記の濃度分布関数は、9つのパラメータにより特定される。逆にいえば、図1のパラメータデータベース10として、種々のイオン注入条件に対応する上記1組のパラメータをあらかじめ作成しておけば、イオン注入のシミュレーションを行うときは、イオン注入条件を与えることで、それに対応するパラメータを抽出し、そのパラメータにより特定されるイオン注入の不純物濃度分布を生成することができる。このイオン注入条件は、例えば、注入される基板の角度、基板の回転角、基板表面のカバー酸化膜厚、注入エネルギー、注入量(ドーズ量)であり、これらのイオン注入条件に対応して、不純物濃度分布が再現される。
【0008】
図3は、従来の汎用シミュレータが有するパラメータのデータベース構造の一例を示す図である。ここに示したデータベースは、多階層構造であり、分類項目A,B,Cの組合せに対応するデータDATA#1〜#5が格納されている。この分類項目A,B,Cは上記のイオン注入の例でいえば、基板角度、基板回転角、カバー酸化膜厚などのイオン注入条件であり、データDATA#1〜#5の分類項目である。即ち、所定の組み合わせのイオン注入条件に対応して、パラメータであるデータが格納されている。
【0009】
従来のデータベース構造は、階層構造が定義されると、ルート要素から下層方向に沿って、定義された全階層の分類項目に対する値(Value)を必ず持つ必要がある。即ち、分類項目Aについてはvalue=0とvalue=10とが存在し、その下層の分類項目Bについては、value=0とvalue=15とが存在し、その下層の分類項目Cについても何らかの値を有し、そして階層構造の最下層に、対応するデータが格納される。これらの要素は、例えばポインタで接続されて全体のデータベースを構築している。
【0010】
従来のデータベース構造では、階層構造が定義され、その定義に従ってツリー構造が構築されるので、各要素にはどの分類項目かの情報は与えられず分類項目の値のみしか与えられない。
【0011】
また、データベースから所望の分類項目の組み合わせに対するデータを抽出する場合は、各階層の分類項目について補間計算を繰り返す演算処理が行われる。例えば、分類項目Cにおいて抽出条件C=3に対しては、C=1のデータDATA#1とC=5のデータDATA#2とから補間計算してC=3に対応するデータが取得される。分類項目B、Aについても同様の補間計算がそれぞれ行われる。つまり、抽出データの分類項目の値にしたがって、データルートから順次、各階層の1対の分類項目を選択し、最下層の要素のデータに対して補間計算を行い、同様の補間計算を上層の要素にも繰り返し実行する。このように、抽出したいデータの分類項目の値がデータベース内に格納されている分類項目の値に一致しない場合であっても、抽出対象の値に近接する1対の値を有する要素のデータを補間計算することで、抽出したいデータを出力することができる。
【0012】
【特許文献1】特開2001−344558号公報
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、データベースの種類によっては必ずしも全ての階層の分類項目による分類が必要にならない場合がある。例えば、イオン注入分布に対する分布関数のパラメータの場合は、イオン注入方向に対するウエハ基板の傾きが0°の場合は、ウエハ基板の回転方向についての分類は必要ない。イオン注入方向に対するウエハ基板の傾きが0°の場合は、ウエハ基板の回転方向がいずれであっても不純物濃度分布は同じになるので、いずれの回転方向に対しても同じパラメータになる。従って、「基板傾き」の分類項目の値が0°に対するデータベースでは、「回転方向」の分類項目は必要ない。しかし、従来のデータベースでは、前述の通り「回転方向」の分類項目を設ける必要があり、基板の傾きが0°の場合は、回転方向の値が0°に対するデータ群と回転方向の値が20°に対するデータ群とは同じであっても、それらのデータ群を重複してデータベース内に格納する必要がある。
【0014】
図3を例にして説明すると、階層構造Aが前記の「ウエハ基板傾き」の分類項目とすると、その値が0°の場合は、下層Bの「回転方向」の値が0°であっても15°であってもそれぞれのデータ群は同じである。つまり、階層Bのvalue=0以下のデータDATA#4、DATA#5と階層Bのvalue=15以下のデータ群とは同じであるので、階層Bのvalue=15以下のデータ群は不必要なダミーデータ群20となっている。
【0015】
しかし、データベースの構築と、そのデータベースからのデータの抽出のためには、ダミーデータ群20のように重複データ群であってもデータベース内に格納する必要があり、データベース構築に工数がかかる。また、データベースの維持においても、あるデータを変更した場合、ダミーデータ群における同じデータも変更する必要があり、維持に工数を要する。更に、データの抽出時には各階層の分類項目について補間計算を行う必要があるが、上記のダミーデータ群20においても重複して補間計算を行わなければならず、データ抽出工数が大きくなるという課題を有する。
【0016】
そこで、本発明の目的は、ダミーデータ群を設ける必要がなく、簡略化したデータベースとそれのデータ抽出プログラムを提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の第1の側面は、複数の分類項目の値に対応して複数のデータを格納し、コンピュータによりデータ抽出可能な多階層構造のデータベースにおいて、
前記複数の分類項目を各層に対応つけて多階層に構築され、それぞれ前記分類項目の名前とその値とを有する複数の要素を有し、
上層の要素に対して少なくとも複数の下層の要素が関連付けられ、最下層の要素に対してデータがそれぞれ関連付けられて前記多階層構造が構築され、第1の層の第1の要素に対して前記第1の層より下層の第2の層の複数の要素が関連付けられ、前記第1の層の第2の要素に対して前記第2の層より下層の第3の層の複数の要素が直接関連付けられていることを特徴とする。
【0018】
上記の第1の側面によれば、第1の層の第2の要素の値に対しては第2の層の要素の値がデータが依存しない場合は、当該第2の層の要素を省略して階層構造を構築するので、無用に同じデータ群を重複して有する必要がなくなる。
【0019】
上記の目的を達成するために、本発明の第2の側面は、複数の分類項目の値の組み合わせからなる入力条件に応答して、上記第1の側面のデータベースを検索して、前記複数の分類項目の値の組み合わせに対応するデータを抽出するデータ抽出手順をコンピュータに実行させるデータ抽出プログラムにおいて、
前記入力条件に従って、最上層から最下層までの各層において、当該入力条件に近接する値を有する1対の要素を検出する第1の工程と、
最下層から最上層まで順番に繰り返され、各階層の1対の要素に関連付けられた1対のデータに対して、当該1対の要素の値に基づく補間計算を実行して、当該階層に対応する入力条件の値に対応するデータを抽出し、当該抽出データを上層の要素に対応付ける第2の工程とを有し、
前記第2の工程において、実行中の階層にて対応する分類項目を有する要素がない場合は、当該分類項目の値に基づく補間計算を行わないことを特徴とする。
【0020】
上記の第2の側面によれば、データ抽出処理において補間計算が少なくなる。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態例を説明する。しかしながら、本発明の保護範囲は、以下の実施の形態例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明とその均等物にまで及ぶものである。
【0022】
図4は、本実施の形態におけるデータベース構造例を示す図である。図4のデータベースは、図3のデータベースを本実施の形態により構築したものであり、図3の例と同様に、ルートエレメントRELMのデータルートの下に第1の階層Aと第2の階層Bと第3の階層Cと第3の階層に関連付けられたデータ群DATA#1〜DATA#5とで構成されている。そして、図4のデータベースの要素ELMは、各階層に対応する分類項目A〜Cの名前とその値(value)とを有する。例えば、第1の階層の要素ELM11,ELM12は、分類項目名Aと値value=0,10をそれぞれ有する。同様に、第2の階層の要素ELM21,ELM22は、分類項目名Bと値value=0,15をそれぞれ有し、第3の階層の要素ELM31〜ELM38は、分類項目名Cと値value=1,5,10,1,5をそれぞれ有する。そして、上層の要素に対して少なくとも複数の下層の要素が関連付けられ、最下層の要素に対してデータがそれぞれ関連付けられて前記多階層構造が構築されている。
【0023】
図4のデータベースの特徴は、第1の層Aの第1の要素ELM12に対して第1の層Aより下層の第2の層Bの複数の要素ELM21.ELM22が関連付けられ、第1の層Aの第2の要素ELM11に対して第2の層Bより下層の第3の層Cの複数の要素ELM37,ELM38が直接関連付けられていることである。つまり、第2の層Bにおいて、第1の層Aの第2の要素ELM11に下には第2の層Bの要素22を介することなく第3の層Cの要素が直接関連付けされている。その結果、図4のデータベースからは、図3で重複して設けられていたダミーデータ群20がなくなっている。つまり、第3の層Cの要素ELM37,ELM38とそれに関連付けられたデータDATA#4,DATA#5とが重複することなくデータベース内に設けられる。
【0024】
かかる構成にすることで、データベース内に無駄にデータ群を重複して設ける必要がなくなり、データベースの構築と維持が容易になり、更にデータ抽出も簡単になる。
【0025】
図5は、本実施の形態におけるイオン注入分布データベースの一例を示す図である。図5のデータベースは各要素がノード型で表記されている。ルートエレメントRELMの下の第1の層に分類項目名「基板傾き(tilt)」、値0,10を有する2つの要素ELM11,ELM12が関連付けられ、基板傾き10°の要素ELM12の下には第2の層の分類項目名「基板回転角(rotate)」、値0,20を有する2つの要素ELM21,ELM22が関連付けされている。更に、それらの要素ELM21,ELM22の下には第3の層の分類項目名「カバー酸化膜厚(tox)」、値0,5,10を有する3つの要素ELM31,ELM32,ELM33が関連付けられている。一方、第1の要素の基板傾き0°の下には、第2の層の分類項目名「基板回転角」の要素を介することなく、第3の層の分類項目名「カバー酸化膜」の3つの要素ELM31,ELM32,ELM33が直接関連付けられている。そして、第3の層の全ての要素の下には、第4の層の分類項目名「注入エネルギー(energy)」、値1,3,5の要素ELM41,ELM42,ELM43が関連付けられ、それら第4の階層の要素には、データとして、イオン注入分布関数を特定するパラメータrp、drp、γ、βが関連付けられている。
【0026】
第1の層の分類項目である基板傾きの値が0°の場合は、第2の層の分類項目の基板回転角に依存していないので、基板傾きが0°の要素の下には第2の層の要素を介することなく第3の層の要素が関連付けられている。そのため、基板傾きが0°の場合には、基板回転角が0°と20°の区別なくカバー酸化膜厚や注入エネルギーに分類されたデータ群が関連付けられる。
【0027】
図6は、本実施の形態におけるイオン注入分布データベースの別の例を示す図である。この例は、図5と同じデータベースをXMLにより記述した例であり、図5の例と同様に、ルート要素の下に第1の層として分類項目「基板傾き(tilt)」、第2の層として分類項目「基板回転角(rotate)」、第3の層として分類項目「カバー酸化膜(tox)」、第4の層として分類項目「注入エネルギー(energy)」が関連付けられ、最下層の第4の層の要素には、それぞれパラメータが関連付けられている。そして、基板傾きtiltが0の下には、第2の層の要素を介することなく、第3の層のカバー酸化膜(tox)の要素が関連付けられて階層構造を単純化する。
【0028】
図7、図8は、本実施の形態におけるイオン注入分布シミュレーションのフローチャート図である。この例では、データベースがパラメータデータベースに、分類項目がイオン注入条件に、データがパラメータにそれぞれ対応する。また、図9は、データ抽出工程の再帰的処理を説明する図である。そして、図10は、上記フローチャートのデータ抽出工程による処理手順を説明するための図であり、あるデータベースDB10を例にとって説明する。
【0029】
イオン注入分布シミュレーションでは、データベースの分類項目の値として所望のイオン注入条件を入力し(S10)、パラメータデータベースから入力したイオン注入条件に対応するパラメータを抽出し(S12)、抽出したパラメータによる不純物濃度分布関数により、不純物濃度分布を出力する(S14)。但し、データベースであるパラメータデータベースは、各分類項目に対して離散的な値しか設けられていないので、入力された分類項目の値に(イオン注入条件)基づいて各層で補間計算を行って、入力された分類項目の値(イオン注入条件)に対応するパラメータを抽出する必要がある。
【0030】
図10のデータベースDB10では、データルートの下に、第1の層の分類項目A、第2の層の分類項目B、第3の層の分類項目Cとが関連付けされた例である。そこで、手順S12のパラメータ抽出手順は、図7に示されるとおり、全ての層においてイオン注入条件に近接する値を有する1対の要素を検出する手順(S121)と、その検出された各1対の要素に対して、関連付けられたデータを1対の要素の値に基づく補間計算を行って入力条件の分類項目の値であるイオン注入条件に対応するデータを抽出し、当該抽出データを上層の要素に対応付けることを最下層から最上層まで繰り返す手順(S122)とからなる。
【0031】
図10のデータベースDB10を例にとると、抽出条件としてA=3,B=10,C=2が入力されると、第1の手順S121により入力された抽出条件の値に近接する1対の要素が各階層において検出される。第1の層の抽出条件がA=3であるので、それに近接する1対の要素はA=0,A=10の2つであり、第2の層では、抽出条件B=10に近接するB=0,B=20の2つであり、第3の層では、抽出条件C=2に近接するC=1,C=3の2つである。このように、データベースから入力された抽出条件に近接する1対の要素が検出され、図10のS121のように展開される。
【0032】
そして、上記展開されたデータベースに対して、手順S122にて補間計算が最下層から最上層まで繰り返し行われる。図8に示されたデータ抽出処理の第2の手順S122では、上記展開されたデータベースに対して、ルートエレメントから下層の要素に順番に、その要素に関連付けられたデータが存在するか否かがチェックされ(S20)、存在しなければ次の下層に移動して、図8のデータ抽出手順S122が再帰的に実行される。そして、最下層に達すると1対の要素に関連する1対のデータから抽出条件により補間計算が行われ、抽出条件に対応するデータが抽出され、抽出されたデータが上層の要素に関連付けられる。最下層の処理が終了するとリターンにより上層に移動し、同じ補間計算を再帰的に繰り返すことになる。
【0033】
図9に示されるとおり、再帰的なデータ抽出手順では、各階層A,B,Cにおける補間計算が、展開したデータベースに対して、データルートを起点にして、手順S100〜S109の順番に繰り返される。つまり、階層構造のデータベースに対して、図8の再帰的手順により、最下層から最上層に補間計算が順に繰り返される。
【0034】
図10の展開されたデータベースS121を例にして具体的に説明すると、手順S122に示されるとおり、データルートから第1の層のA=0,A=10の要素には関連付けられたデータが存在しないので、要素A=0の下層の1対の要素C=1,C=3に移動し、それらに関連付けられた1対のデータを、抽出条件C=2に基づいて補間演算を行い、得られたデータが上層の要素A=0に関連付けられる。同様に、要素A=10の下層の1対の要素B=0,B=20に移動し、それらの要素にもデータが関連付けられていないので、要素B=0の下層の要素C=1,C=3に移り補間演算を行い、抽出条件C=2に対応するデータを抽出し、要素B=0に関連付ける。また、要素B=20の下の要素C=1,C=3に移り補間演算を行い抽出条件C=2に対応するデータを抽出し、要素B=20に関連付ける。その結果、1対の要素B=0,B=20にデータが関連付けられる。そこで、第2の層に移り、要素B=0,B=20に関連付けられた1対のデータに対して、B=10で補間計算を行い、求められたデータを上層の要素A=10に関連付ける。最後は、第1の層に移り、要素A=0,A=10に関連付けられた1対のデータに対して、A=3で補間計算を行い、求められたデータをデータルートに関連付ける。データルートに関連付けられたデータが、入力条件に対応するデータである。
【0035】
以上のデータ抽出工程にて明らかなとおり、本実施の形態におけるデータベースは、無用に同じデータを重複して設けていないので、各階層での補間計算を重複して行う必要はない。従って、データ抽出手順においても処理速度が速くなるというメリットを有する。
【0036】
図11は、本実施の形態におけるデータ抽出プログラムのクラス図である。オブジェクト指向型のJAVA(登録商標)などにより記述されるプログラムのクラス図である。50〜65はクラスを、50E〜52E,60Eは対応するクラスの説明である。データ抽出クラス50は、データ抽出処理のメインクラスであり、変数にデータベースと抽出対象データを、メソッドに抽出計算を有する。データベースクラス51は、データベースファイルをノード型の変数として有する。具体的には、図5に示したデータベースである。また、データクラス52は、抽出対象データを定義するクラスであり、変数に抽出条件データとそれに関連付けられるパラメータのデータとを有する。
【0037】
分類項目クラス60は、各層の分類項目の処理を定義するクラスのスーパークラスであり、変数として、選択した下層の2つの分類項目と、それら分類項目の値(double value)を有し、更に、メソッドとしてデータの補間計算を有する。このスーパークラスに対応して、各層での処理を定義するTILTクラス61、回転角クラス62、酸化膜厚クラス63、Energyクラス65とを有する。また、図5には含まれていないイオン注入量に対応するDoseクラス64も図11には記載されている。但し、以下の説明からはこのDoseクラスは除く。最下層のEnergyクラス65にのみ、1対のデータが変数に含まれているが、それより上層のクラス61〜63にはデータは含まれていない。
【0038】
図12は、図5のデータベースに対して図示された抽出条件に従って各層から1対の要素を展開したデータベースを示す図である。この展開処理については、前述した通りである。
【0039】
図13は、図11のクラス図に示したデータ抽出プログラムの動作を説明する図である。データ抽出クラス50の実行に伴って、子ノードを使って必要な分類項目クラスが展開される(S121)。ここに展開された分類項目クラスは、図11の各要素に対応し、最下層のEnergyクラスには変数に1対のデータdata1,2とその分類項目の値valueとが与えられている。TILTクラス61の下には、分類項目sel1に対しては回転角クラスを介することなく酸化膜厚クラス63(1)が展開され、分類項目sel2に対しては回転角クラス62を介して酸化膜厚クラス63(2)、63(3)が展開されている。そして、各酸化膜厚クラスの下にはEnergyクラス65(1)〜65(6)が展開されている。
【0040】
そして、変数にデータdata1,data2を有するEnergyクラスでは、メソッドに定義されている補間計算を行って、求めたデータをDataクラスとして上層のクラスに関連付ける。更に、Dataクラスを関連付けられた上層のクラスでも補間計算を行って同様に上層のクラスに関連付ける。そして、最後にTILTクラスで補間計算が終了すると、データ抽出クラス50に抽出されたデータがDATAクラスとして関連付けられる。
【0041】
以上のとおり、本実施の形態におけるデータベースは各要素に分類項目名と値を持たせて、抽出するデータが分類項目の値に依存しない場合は、その分類項目を省略して多階層構造を構築しているので、ダミーデータ領域がなく、データベースの構築と維持が容易になり、データ抽出における補間計算も減らすことができる。
【0042】
上記の実施例では、イオン注入分布のデータベースを例にして説明したが、それ以外のシミュレーション用などのデータベースについても同様に適用できる。
【0043】
以上、実施の形態例をまとめると以下の付記の通りである。
【0044】
(付記1)複数の分類項目の値に対応して複数のデータを格納し、コンピュータによりデータ抽出可能な多階層構造のデータベースにおいて、
前記分類項目の名前とその値とをそれぞれ有する要素であって、前記複数の分類項目を各層に対応付けて多階層に構築された複数の要素を有し、
上層の要素に対して少なくとも複数の下層の要素が関連付けられ、最下層の要素に対してデータがそれぞれ関連付けられて前記多階層構造が構築され、第1の層の第1の要素に対して前記第1の層より下層の第2の層の複数の要素が関連付けられ、前記第1の層の第2の要素に対して前記第2の層より下層の第3の層の複数の要素が直接関連付けられていることを特徴とする多階層構造のデータベース。
【0045】
(付記2)付記1において、
前記複数の分類項目がイオン注入における複数の設定条件であり、前記データが不純物濃度分布関数のパラメータであり、前記第1の層の分類項目名が基板傾きであり、前記第1の層の第2の要素は前記基板傾きが0°の値を有し、前記第1の要素はそれ以外の基板傾きの値であり、前記第2の層の分類項目名が基板回転角であることを特徴とする多階層構造のデータベース。
【0046】
(付記3)付記1において、
前記各階層の複数の要素は、同じ分類項目名と異なる値を有することを特徴とする多階層構造のデータベース。
【0047】
(付記4)複数の分類項目の値の組み合わせからなる入力条件に応答して、付記1に記載のデータベースを検索して、前記複数の分類項目の値の組み合わせに対応するデータを抽出するデータ抽出手順をコンピュータに実行させるデータ抽出プログラムにおいて、
前記入力条件に従って、最上層から最下層までの各層において、当該入力条件に近接する値を有する1対の要素を検出する第1の工程と、
最下層から最上層まで順番に繰り返され、各階層の1対の要素に関連付けられた1対のデータに対して、当該1対の要素の値に基づく補間計算を実行して、当該階層に対応する入力条件の値に対応するデータを抽出し、当該抽出データを上層の要素に対応付ける第2の工程とを有し、
前記第2の工程において、実行中の階層にて対応する分類項目を有する要素がない場合は、当該分類項目の値に基づく補間計算を行わないことを特徴とするデータ抽出プログラム。
【0048】
(付記5)付記4において、
前記データベースは、
前記複数の分類項目がイオン注入における複数の設定条件であり、前記データが不純物濃度分布関数のパラメータであり、前記第1の層の分類項目名が基板傾きであり、前記第1の層の第2の要素は前記基板傾きが0°の値を有し、前記第1の要素はそれ以外の基板傾きの値であり、前記第2の層の分類項目名が基板回転角であることを特徴とするデータ抽出プログラム。
【0049】
(付記6)少なくともイオン注入方向に対する基板の傾きと基板の回転角とを含む複数のイオン注入条件を分類項目とし、複数の分類項目の値に対応して複数の不純物濃度分布関数のパラメータのデータを格納し、コンピュータによりデータ抽出可能な多階層構造のデータベースにおいて、
前記分類項目の名前とその値とをそれぞれ有する要素であって、前記複数の分類項目を各層に対応付けて多階層に構築された複数の要素を有し、
上層の要素に対して少なくとも複数の下層の要素が関連付けられ、最下層の要素に対して前記データがそれぞれ関連付けられて前記多階層構造が構築され、
前記基板の傾きに対応する第1の層の第1の要素に対して前記第1の層より下層の前記基板の回転角に対応する第2の層の複数の要素が関連付けられ、前記第1の層の第2の要素に対して前記第2の層より下層の第3の層の複数の要素が直接関連付けられ、前記第1の層の第2の要素は前記基板傾きが0°の値を有し、前記第1の要素はそれ以外の基板傾きの値であることを特徴とする多階層構造のデータベース。
【0050】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、多階層構造のデータベースを簡略化でき、データベースの構築と維持、及びデータ抽出が容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】イオン注入分布シミュレータの構成図である。
【図2】イオン注入された時の不純物濃度分布とシミュレーションで生成される不純物濃度分布関数とを示す図である。
【図3】従来の汎用シミュレータが有するパラメータのデータベース構造の一例を示す図である。
【図4】本実施の形態におけるデータベース構造例を示す図である。
【図5】本実施の形態におけるイオン注入分布データベースの一例を示す図である。
【図6】本実施の形態におけるイオン注入分布データベースの別の例を示す図である。
【図7】本実施の形態におけるイオン注入分布シミュレーションのフローチャート図である。
【図8】本実施の形態におけるイオン注入分布シミュレーションのフローチャート図である。
【図9】データ抽出工程の再帰的処理を説明する図である。
【図10】図9のフローチャートのデータ抽出工程による処理手順を説明するための図である。
【図11】本実施の形態におけるデータ抽出プログラムのクラス図である。
【図12】図5のデータベースに対して図示された抽出条件に従って各層から1対の要素を展開したデータベースを示す図である。
【図13】図11のデータ抽出プログラムの動作を説明する図である。
【符号の説明】
ELM:要素、A,B,C:分類項目の名前、value:値
10:パラメータのデータベース、12:シミュレーションプログラム
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a multi-hierarchical database and a data extraction program thereof, and more particularly to a multi-hierarchical database of parameters for impurity concentration distribution of ion implantation and a data extraction program thereof.
[0002]
[Prior art]
Multi-layered databases are used in various simulations. An ion implantation process is one of the manufacturing processes of semiconductor devices, and an impurity concentration distribution formed on the surface of a semiconductor substrate by such an ion implantation process is generated by simulation and used for device analysis. . Also in such a simulation of ion implantation distribution, parameters for specifying distribution functions corresponding to various ion implantation conditions are used as a database having a multi-layer structure. The use of a multi-hierarchical database is described in Patent Document 1, for example.
[0003]
FIG. 1 is a configuration diagram of an ion implantation distribution simulator. In the ion implantation distribution simulator, a parameter database 10 and an ion implantation distribution simulation program 12 are installed in a general-purpose computer, and a CPU, a RAM, an input / output device I / O, and the like are connected via a bus 14. When the ion implantation condition 16 is input via the input / output device I / O, the data 18 of the ion implantation distribution corresponding to the condition is output.
[0004]
FIG. 2 is a diagram showing an impurity concentration distribution when ions are implanted and an impurity concentration distribution function generated by simulation. FIG. 2A shows measurement data of the impurity concentration distribution in the depth direction of the substrate by a measuring method such as SIMS (Secondary Ion Mass Spectroscopy) on the surface of the semiconductor substrate ion-implanted by the ion implantation apparatus. The horizontal axis indicates the depth direction, and the vertical axis indicates the impurity concentration. Thus, the impurity concentration distribution by ion implantation has a peak at a predetermined depth from the substrate surface (position of depth 0), and the concentration decreases as the depth increases.
[0005]
It is known that such impurity concentration distribution can be expressed by a dual Pearson function. FIG. 2B is an impurity concentration distribution function by the Pearson function. This concentration distribution function is obtained by synthesizing two functions N1 (x) and N2 (x) based on two sets of parameters (Rp, ΔRp, γ, β, Rp2, ΔRp2, γ2, β2) by a dose ratio r. Is a concentration distribution function.
[0006]
N (x) = φ {rN1 (x) + (1-r) N2) x)}
Here, φ is a dose amount, r is a dose ratio, N1 (x) is a distribution function specified by parameters Rp, ΔRp, γ, and β, and N2 (x) is a distribution specified by parameters Rp2, ΔRp2, γ2, and β2. It is a function.
[0007]
Therefore, the above density distribution function is specified by nine parameters. Conversely, if the above-mentioned one set of parameters corresponding to various ion implantation conditions is created in advance as the parameter database 10 in FIG. 1, when performing ion implantation simulation, the ion implantation conditions are given. The parameters corresponding to the extracted parameters can be extracted, and the impurity concentration distribution of the ion implantation specified by the parameters can be generated. The ion implantation conditions are, for example, the angle of the substrate to be implanted, the rotation angle of the substrate, the cover oxide film thickness of the substrate surface, the implantation energy, the implantation amount (dose amount), and corresponding to these ion implantation conditions, Impurity concentration distribution is reproduced.
[0008]
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a parameter database structure included in a conventional general-purpose simulator. The database shown here has a multi-hierarchical structure and stores data DATA # 1 to # 5 corresponding to combinations of classification items A, B, and C. The classification items A, B, and C are ion implantation conditions such as the substrate angle, the substrate rotation angle, and the cover oxide film thickness, and are classification items of the data DATA # 1 to # 5. . That is, data as parameters is stored corresponding to a predetermined combination of ion implantation conditions.
[0009]
In the conventional database structure, when a hierarchical structure is defined, it is necessary to always have values (Values) for the defined classification items in all layers along the lower layer direction from the root element. That is, for category item A, value = 0 and value = 10 exist, for category item B below it, value = 0 and value = 15 exist, and for category item C there is also some value. And corresponding data is stored in the lowest layer of the hierarchical structure. These elements are connected by, for example, pointers to construct an entire database.
[0010]
In a conventional database structure, a hierarchical structure is defined, and a tree structure is constructed in accordance with the definition. Therefore, information on which classification item is not given to each element, and only the value of the classification item is given.
[0011]
In addition, when data for a desired combination of classification items is extracted from the database, a calculation process that repeats interpolation calculation is performed on the classification items of each layer. For example, with respect to the extraction condition C = 3 in the classification item C, data corresponding to C = 3 is acquired by performing interpolation calculation from the data DATA # 1 of C = 1 and the data DATA # 2 of C = 5. . Similar interpolation calculations are performed for the classification items B and A, respectively. That is, according to the value of the classification item of the extracted data, a pair of classification items of each hierarchy is selected sequentially from the data root, and the interpolation calculation is performed on the data of the lowermost element, and the same interpolation calculation is performed on the upper hierarchy. Repeat for elements. In this way, even if the value of the classification item of the data to be extracted does not match the value of the classification item stored in the database, the data of the element having a pair of values close to the extraction target value is obtained. Data to be extracted can be output by performing interpolation calculation.
[0012]
[Patent Document 1] Japanese Patent Laid-Open No. 2001-344558
[0013]
[Problems to be solved by the invention]
However, depending on the type of database, classification based on classification items of all layers may not be necessary. For example, in the case of the parameter of the distribution function for the ion implantation distribution, if the inclination of the wafer substrate with respect to the ion implantation direction is 0 °, classification of the rotation direction of the wafer substrate is not necessary. When the inclination of the wafer substrate with respect to the ion implantation direction is 0 °, the impurity concentration distribution is the same regardless of the rotation direction of the wafer substrate, and therefore the same parameter is used for any rotation direction. Accordingly, the “rotation direction” classification item is not necessary in the database for the value of the “substrate tilt” classification item of 0 °. However, in the conventional database, it is necessary to provide the classification item of “rotation direction” as described above. When the substrate tilt is 0 °, the data group for the rotation direction value is 0 ° and the rotation direction value is 20 °. Even if the data group for ° is the same, it is necessary to store these data groups in the database in duplicate.
[0014]
Referring to FIG. 3 as an example, if the hierarchical structure A is the classification item of “wafer substrate tilt”, when the value is 0 °, the value of “rotation direction” of the lower layer B is 0 °. Each data group is the same even if the angle is 15 °. That is, data DATA # 4 and DATA # 5 of layer B value = 0 or lower and the data group of layer B value = 15 or lower are the same, so the data group of layer B value = 15 or lower is unnecessary. A dummy data group 20 is formed.
[0015]
However, in order to construct a database and extract data from the database, it is necessary to store even a duplicate data group such as the dummy data group 20 in the database, and it takes time to construct the database. Also, in maintaining the database, when certain data is changed, it is necessary to change the same data in the dummy data group, which requires man-hours for maintenance. Further, when data is extracted, it is necessary to perform interpolation calculation for the classification items of each layer. However, the above-described dummy data group 20 must also be subjected to interpolation calculation, which increases the number of data extraction steps. Have.
[0016]
Therefore, an object of the present invention is to provide a simplified database and a data extraction program therefor without the need to provide a dummy data group.
[0017]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, there is provided a multi-hierarchical database that stores a plurality of data corresponding to a plurality of classification item values and is capable of extracting data by a computer.
The plurality of classification items are associated with each layer and constructed in multiple layers, each having a plurality of elements having the name of the classification item and its value,
At least a plurality of lower-layer elements are associated with the upper-layer elements, and the multi-layer structure is constructed by associating data with the lower-layer elements, and the first-layer first elements are A plurality of elements in a second layer below the first layer are associated, and a plurality of elements in a third layer below the second layer are directly related to the second element in the first layer It is characterized by being associated.
[0018]
According to the first aspect described above, when the data of the element value of the second layer does not depend on the value of the second element of the first layer, the element of the second layer is omitted. Thus, since the hierarchical structure is constructed, it is unnecessary to have the same data group redundantly unnecessarily.
[0019]
In order to achieve the above object, the second aspect of the present invention searches the database of the first aspect in response to an input condition comprising a combination of values of a plurality of classification items, and In a data extraction program for causing a computer to execute a data extraction procedure for extracting data corresponding to a combination of classification item values,
A first step of detecting a pair of elements having values close to the input condition in each layer from the top layer to the bottom layer according to the input condition;
Corresponding to the hierarchy by executing interpolation calculation based on the value of the pair of elements for a pair of data that is repeated in order from the bottom layer to the top layer and associated with a pair of elements in each layer A second step of extracting data corresponding to the value of the input condition to be performed and associating the extracted data with an upper layer element;
In the second step, when there is no element having a corresponding classification item in the hierarchy being executed, the interpolation calculation based on the value of the classification item is not performed.
[0020]
According to the second aspect, interpolation calculation is reduced in the data extraction process.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the protection scope of the present invention is not limited to the following embodiments, but extends to the invention described in the claims and equivalents thereof.
[0022]
FIG. 4 is a diagram showing an example of a database structure in the present embodiment. The database shown in FIG. 4 is constructed by building the database shown in FIG. 3 according to the present embodiment. Similar to the example shown in FIG. 3, the first hierarchy A and the second hierarchy B below the data root of the root element RELM. And a third hierarchy C and data groups DATA # 1 to DATA # 5 associated with the third hierarchy. The element ELM of the database in FIG. 4 includes the names of classification items A to C corresponding to the respective hierarchies and their values. For example, the elements ELM11 and ELM12 in the first hierarchy have a classification item name A and values value = 0 and 10, respectively. Similarly, the elements ELM21 and ELM22 in the second hierarchy have the classification item name B and the values value = 0 and 15, respectively, and the elements ELM31 to ELM38 in the third hierarchy have the classification item name C and the value value = 1. , 5, 10, 1, 5 respectively. Then, at least a plurality of lower-layer elements are associated with the upper-layer elements, and data is associated with each of the lower-layer elements to construct the multi-layer structure.
[0023]
4 is characterized in that a plurality of elements ELM21... In a second layer B below the first layer A with respect to the first element ELM12 in the first layer A. The ELM 22 is associated, and the plurality of elements ELM 37 and ELM 38 in the third layer C lower than the second layer B are directly associated with the second element ELM 11 in the first layer A. That is, in the second layer B, the element of the third layer C is directly associated with the second element ELM11 of the first layer A without the element 22 of the second layer B below. As a result, the dummy data group 20 provided redundantly in FIG. 3 disappears from the database of FIG. That is, the elements ELM37 and ELM38 of the third layer C and the data DATA # 4 and DATA # 5 associated therewith are provided in the database without overlapping.
[0024]
By adopting such a configuration, it is not necessary to redundantly provide data groups in the database, the database can be easily constructed and maintained, and the data extraction can be simplified.
[0025]
FIG. 5 is a diagram showing an example of an ion implantation distribution database in the present embodiment. In the database of FIG. 5, each element is described in a node type. Two elements ELM11 and ELM12 having the classification item name “substrate tilt (tilt)” and values 0 and 10 are associated with the first layer below the root element RELM, and the element ELM12 having a substrate inclination of 10 ° is associated with the first element. Two elements ELM21 and ELM22 having the classification item name “substrate rotation angle (rotate)” of the two layers and the values 0 and 20 are associated with each other. Further, under the elements ELM21 and ELM22, three elements ELM31, ELM32, and ELM33 having a classification item name “cover oxide film thickness (tox)” of the third layer and values 0, 5, and 10 are associated. Yes. On the other hand, under the substrate tilt of 0 ° of the first element, the classification item name “cover oxide film” of the third layer does not pass through the element of the classification item name “substrate rotation angle” of the second layer. Three elements ELM31, ELM32, and ELM33 are directly associated with each other. Under all the elements of the third layer, the elements ELM41, ELM42, ELM43 of the classification item name “injection energy (energy)”, values 1, 3, 5 of the fourth layer are associated. Parameters of rp, drp, γ, and β that specify the ion implantation distribution function are associated with the elements of the four layers as data.
[0026]
When the value of the substrate tilt, which is the classification item of the first layer, is 0 °, it does not depend on the substrate rotation angle of the classification item of the second layer, so A third layer element is associated with no intervening second layer element. Therefore, when the substrate tilt is 0 °, data groups classified into the cover oxide film thickness and the implantation energy are associated with each other regardless of whether the substrate rotation angle is 0 ° or 20 °.
[0027]
FIG. 6 is a diagram showing another example of the ion implantation distribution database in the present embodiment. This example is an example in which the same database as that in FIG. 5 is described in XML. Similar to the example in FIG. 5, the classification item “substrate tilt (tilt)” as the first layer below the root element, the second layer The classification item “substrate rotation angle (rotate)” as the third layer, the classification item “cover oxide film (tox)” as the third layer, and the classification item “injection energy (energy)” as the fourth layer. Parameters are associated with the elements of the four layers. When the substrate tilt tilt is 0, the element of the third layer cover oxide film (tox) is associated without the element of the second layer, thereby simplifying the hierarchical structure.
[0028]
7 and 8 are flowcharts of ion implantation distribution simulation in the present embodiment. In this example, the database corresponds to the parameter database, the classification item corresponds to the ion implantation condition, and the data corresponds to the parameter. Moreover, FIG. 9 is a figure explaining the recursive process of a data extraction process. FIG. 10 is a diagram for explaining the processing procedure in the data extraction process of the above flowchart, and a database DB 10 will be described as an example.
[0029]
In the ion implantation distribution simulation, a desired ion implantation condition is input as a value of a database classification item (S10), a parameter corresponding to the ion implantation condition input from the parameter database is extracted (S12), and an impurity concentration based on the extracted parameter is obtained. The impurity concentration distribution is output by the distribution function (S14). However, since the parameter database, which is a database, has only discrete values for each classification item, an interpolation calculation is performed on each layer based on the value of the input classification item (ion implantation condition) and input. It is necessary to extract a parameter corresponding to the value of the classified item (ion implantation condition).
[0030]
In the database DB10 of FIG. 10, the classification item A of the first layer, the classification item B of the second layer, and the classification item C of the third layer are associated under the data route. Therefore, as shown in FIG. 7, the parameter extraction procedure in step S12 includes a procedure (S121) for detecting a pair of elements having values close to the ion implantation conditions in all layers, and each detected pair. The data corresponding to the ion implantation condition which is the value of the classification item of the input condition is extracted by performing interpolation calculation based on the value of the pair of elements for the associated data, and the extracted data is This is a procedure (S122) in which the association with the element is repeated from the lowest layer to the highest layer.
[0031]
Taking the database DB10 of FIG. 10 as an example, when A = 3, B = 10, and C = 2 are input as extraction conditions, a pair of values that are close to the value of the extraction condition input in the first step S121. Elements are detected in each hierarchy. Since the extraction condition of the first layer is A = 3, there are two pairs of elements A = 0 and A = 10 adjacent to the extraction condition, and the second layer is close to the extraction condition B = 10. B = 0 and B = 20, and in the third layer, C = 1 and C = 3, which are close to the extraction condition C = 2. In this way, a pair of elements close to the extraction condition input from the database is detected and developed as in S121 of FIG.
[0032]
Then, in step S122, interpolation calculation is repeatedly performed on the developed database from the lowest layer to the highest layer. In the second procedure S122 of the data extraction process shown in FIG. 8, it is determined whether or not there is data associated with the element in order from the root element to the lower element in the expanded database. Checked (S20), if it does not exist, it moves to the next lower layer, and the data extraction procedure S122 of FIG. 8 is recursively executed. When reaching the lowermost layer, interpolation calculation is performed from a pair of data related to the pair of elements according to the extraction condition, data corresponding to the extraction condition is extracted, and the extracted data is associated with the upper layer element. When the processing of the lowermost layer is finished, the return moves to the upper layer, and the same interpolation calculation is repeated recursively.
[0033]
As shown in FIG. 9, in the recursive data extraction procedure, the interpolation calculation in each of the hierarchies A, B, and C is repeated in the order of steps S100 to S109 starting from the data route for the developed database. . That is, for the hierarchical database, the interpolation calculation is repeated in order from the bottom layer to the top layer by the recursive procedure of FIG.
[0034]
Specifically, taking the expanded database S121 of FIG. 10 as an example, as shown in step S122, there is associated data in the elements A = 0 and A = 10 of the first layer from the data route. Therefore, it moves to a pair of elements C = 1, C = 3 in the lower layer of the element A = 0, and interpolates the pair of data associated with them based on the extraction condition C = 2. The associated data is associated with the upper element A = 0. Similarly, since it moves to a pair of elements B = 0, B = 20 in the lower layer of the element A = 10 and no data is associated with these elements, the lower element C = 1, in the element B = 0. Moving to C = 3, an interpolation operation is performed, data corresponding to the extraction condition C = 2 is extracted, and associated with the element B = 0. Further, the element C = 1, C = 3 under the element B = 20 is moved to perform an interpolation operation, data corresponding to the extraction condition C = 2 is extracted, and associated with the element B = 20. As a result, data is associated with a pair of elements B = 0 and B = 20. Therefore, the second layer is moved, interpolation calculation is performed with B = 10 for a pair of data associated with the elements B = 0 and B = 20, and the obtained data is changed to the upper layer element A = 10. Associate. Finally, the process moves to the first layer, and interpolation calculation is performed with A = 3 for a pair of data associated with elements A = 0 and A = 10, and the obtained data is associated with the data route. Data associated with the data route is data corresponding to the input condition.
[0035]
As is clear from the data extraction process described above, the database in the present embodiment does not needlessly duplicate the same data, so there is no need to duplicately perform interpolation calculations at each layer. Accordingly, there is an advantage that the processing speed is increased also in the data extraction procedure.
[0036]
FIG. 11 is a class diagram of the data extraction program in the present embodiment. It is a class diagram of a program described by object-oriented JAVA (registered trademark) or the like. 50 to 65 are classes, and 50E to 52E and 60E are descriptions of corresponding classes. The data extraction class 50 is a main class of data extraction processing, and has a database and extraction target data as variables and an extraction calculation as a method. The database class 51 has a database file as a node type variable. Specifically, it is the database shown in FIG. The data class 52 is a class that defines data to be extracted, and has variable extraction condition data and parameter data associated therewith.
[0037]
The classification item class 60 is a superclass of a class that defines the processing of the classification item of each layer, and has two classification items of the selected lower layer and values (double values) of the classification items as variables. It has data interpolation calculation as a method. Corresponding to this super class, it has a TILT class 61, a rotation angle class 62, an oxide film thickness class 63, and an energy class 65 that define processing in each layer. FIG. 11 also shows a dose class 64 corresponding to an ion implantation amount not included in FIG. However, this Dose class is excluded from the following description. Only the lowest class Energy class 65 includes a pair of data, but the upper classes 61 to 63 do not include data.
[0038]
FIG. 12 is a diagram showing a database in which a pair of elements is expanded from each layer in accordance with the extraction conditions illustrated for the database of FIG. This expansion process is as described above.
[0039]
FIG. 13 is a diagram for explaining the operation of the data extraction program shown in the class diagram of FIG. Along with the execution of the data extraction class 50, necessary classification item classes are expanded using child nodes (S121). The classification item class developed here corresponds to each element in FIG. 11, and a pair of data data 1 and 2 and the value value of the classification item are given to the energy class at the lowest layer. Under the TILT class 61, the oxide film thickness class 63 (1) is developed for the classification item sel1 without going through the rotation angle class, and for the classification item sel2, the oxide film thickness is passed through the rotation angle class 62. Thickness classes 63 (2) and 63 (3) are developed. Energy classes 65 (1) to 65 (6) are developed under each oxide film thickness class.
[0040]
Then, in the Energy class having the data data1 and data2 as variables, the interpolation calculation defined in the method is performed, and the obtained data is associated with the upper class as the Data class. Furthermore, interpolation calculation is performed on the upper layer class associated with the Data class, and the data class is similarly associated with the upper layer class. Finally, when the interpolation calculation is completed in the TILT class, the data extracted in the data extraction class 50 is associated as the DATA class.
[0041]
As described above, the database in this embodiment has a classification item name and value for each element, and if the data to be extracted does not depend on the value of the classification item, the classification item is omitted and a multi-layer structure is constructed. Therefore, there is no dummy data area, the construction and maintenance of the database is facilitated, and the interpolation calculation in data extraction can be reduced.
[0042]
In the above embodiments, the database of ion implantation distribution has been described as an example, but the present invention can be similarly applied to other databases for simulation and the like.
[0043]
The exemplary embodiments are summarized as follows.
[0044]
(Supplementary note 1) In a multi-tier database that stores a plurality of data corresponding to a plurality of classification item values and can be extracted by a computer,
The elements each having a name of the classification item and a value thereof, and having a plurality of elements constructed in multiple layers in association with each of the plurality of classification items,
At least a plurality of lower-layer elements are associated with the upper-layer elements, and the multi-layer structure is constructed by associating data with the lower-layer elements, and the first-layer first elements are A plurality of elements in a second layer below the first layer are associated, and a plurality of elements in a third layer below the second layer are directly related to the second element in the first layer A multi-level database characterized by being associated.
[0045]
(Appendix 2) In Appendix 1,
The plurality of classification items are a plurality of setting conditions in ion implantation, the data is a parameter of an impurity concentration distribution function, the classification item name of the first layer is a substrate tilt, and the first layer of the first layer The element 2 has a substrate tilt value of 0 °, the first element is a substrate tilt value other than that, and the classification item name of the second layer is a substrate rotation angle. A multi-tiered database.
[0046]
(Appendix 3) In Appendix 1,
A database having a multi-hierarchy structure, wherein the plurality of elements in each hierarchy have the same classification item name and different values.
[0047]
(Additional remark 4) Data extraction which searches the database of Additional remark 1 in response to the input condition which consists of the combination of the value of a some classification item, and extracts the data corresponding to the value combination of the said some classification item In a data extraction program that causes a computer to execute a procedure,
A first step of detecting a pair of elements having values close to the input condition in each layer from the top layer to the bottom layer according to the input condition;
Corresponding to the hierarchy by executing interpolation calculation based on the value of the pair of elements for a pair of data that is repeated in order from the bottom layer to the top layer and associated with a pair of elements in each layer A second step of extracting data corresponding to the value of the input condition to be performed and associating the extracted data with an upper layer element;
In the second step, when there is no element having a corresponding classification item in the hierarchy being executed, an interpolation calculation based on the value of the classification item is not performed.
[0048]
(Appendix 5) In Appendix 4,
The database is
The plurality of classification items are a plurality of setting conditions in ion implantation, the data is a parameter of an impurity concentration distribution function, the classification item name of the first layer is a substrate tilt, and the first layer of the first layer The element 2 has a substrate tilt value of 0 °, the first element is a substrate tilt value other than that, and the classification item name of the second layer is a substrate rotation angle. A data extraction program.
[0049]
(Supplementary note 6) A plurality of ion implantation conditions including at least the tilt of the substrate with respect to the ion implantation direction and the rotation angle of the substrate are classified items, and data of a plurality of impurity concentration distribution function parameters corresponding to the values of the plurality of classified items In a multi-layered database that can be stored and extracted by a computer,
The elements each having a name of the classification item and a value thereof, and having a plurality of elements constructed in multiple layers in association with each of the plurality of classification items,
At least a plurality of lower-layer elements are associated with the upper-layer elements, and the data is associated with the lower-layer elements to construct the multi-hierarchy structure,
A plurality of elements of a second layer corresponding to a rotation angle of the substrate below the first layer are associated with the first element of the first layer corresponding to the tilt of the substrate, and the first element A plurality of elements of a third layer below the second layer are directly associated with a second element of the first layer, the second element of the first layer having a substrate tilt value of 0 ° And the first element is a value of the other substrate tilt.
[0050]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a multi-hierarchical database can be simplified, and the construction and maintenance of the database and the data extraction are facilitated.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a configuration diagram of an ion implantation distribution simulator.
FIG. 2 is a diagram showing an impurity concentration distribution when ions are implanted and an impurity concentration distribution function generated by simulation.
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a parameter database structure included in a conventional general-purpose simulator;
FIG. 4 is a diagram showing an example of a database structure in the present embodiment.
FIG. 5 is a diagram showing an example of an ion implantation distribution database in the present embodiment.
FIG. 6 is a diagram showing another example of an ion implantation distribution database in the present embodiment.
FIG. 7 is a flowchart of ion implantation distribution simulation in the present embodiment.
FIG. 8 is a flowchart of ion implantation distribution simulation in the present embodiment.
FIG. 9 is a diagram illustrating a recursive process of a data extraction process.
10 is a diagram for explaining a processing procedure by a data extraction process in the flowchart of FIG. 9; FIG.
FIG. 11 is a class diagram of a data extraction program in the present embodiment.
12 is a diagram showing a database in which a pair of elements is expanded from each layer in accordance with the extraction conditions illustrated for the database in FIG. 5. FIG.
13 is a diagram for explaining the operation of the data extraction program of FIG. 11;
[Explanation of symbols]
ELM: element, A, B, C: name of classification item, value: value
10: Database of parameters, 12: Simulation program

Claims (5)

複数の分類項目の値に対応して複数のデータを格納し、コンピュータによりデータ抽出可能な多階層構造のデータベースにおいて、
前記分類項目の名前とその値とをそれぞれ有する要素であって、前記複数の分類項目を各層に対応付けて多階層に構築された複数の要素を有し、
上層の要素に対して少なくとも複数の下層の要素が関連付けられ、最下層の要素に対してデータがそれぞれ関連付けられて前記多階層構造が構築され、第1の層の第1の要素に対して前記第1の層より下層の第2の層の複数の要素が関連付けられ、前記第1の層の第2の要素に対して前記第2の層より下層の第3の層の複数の要素が直接関連付けられていることを特徴とする多階層構造のデータベース。
In a multi-tiered database that stores multiple data corresponding to the values of multiple classification items and can be extracted by a computer,
The elements each having a name of the classification item and a value thereof, and having a plurality of elements constructed in multiple layers in association with each of the plurality of classification items,
At least a plurality of lower-layer elements are associated with the upper-layer elements, and the multi-layer structure is constructed by associating data with the lower-layer elements, and the first-layer first elements are A plurality of elements in a second layer below the first layer are associated, and a plurality of elements in a third layer below the second layer are directly related to the second element in the first layer A multi-level database characterized by being associated.
請求項1において、
前記複数の分類項目がイオン注入における複数の設定条件であり、前記データが不純物濃度分布関数のパラメータであり、前記第1の層の分類項目名が基板傾きであり、前記第1の層の第2の要素は前記基板傾きが0°の値を有し、前記第1の要素はそれ以外の基板傾きの値であり、前記第2の層の分類項目名が基板回転角であることを特徴とする多階層構造のデータベース。
In claim 1,
The plurality of classification items are a plurality of setting conditions in ion implantation, the data is a parameter of an impurity concentration distribution function, the classification item name of the first layer is a substrate tilt, and the first layer of the first layer The element 2 has a substrate tilt value of 0 °, the first element is a substrate tilt value other than that, and the classification item name of the second layer is a substrate rotation angle. A multi-tiered database.
複数の分類項目の値の組み合わせからなる入力条件に応答して、付記1に記載のデータベースを検索して、前記複数の分類項目の値の組み合わせに対応するデータを抽出するデータ抽出手順をコンピュータに実行させるデータ抽出プログラムにおいて、
前記入力条件に従って、最上層から最下層までの各層において、当該入力条件に近接する値を有する1対の要素を検出する第1の工程と、
最下層から最上層まで順番に繰り返され、各階層の1対の要素に関連付けられた1対のデータに対して、当該1対の要素の値に基づく補間計算を実行して、当該階層に対応する入力条件の値に対応するデータを抽出し、当該抽出データを上層の要素に対応付ける第2の工程とを有し、
前記第2の工程において、実行中の階層にて対応する分類項目を有する要素がない場合は、当該分類項目の値に基づく補間計算を行わないことを特徴とするデータ抽出プログラム。
In response to an input condition composed of a combination of values of a plurality of classification items, a data extraction procedure for searching the database described in Appendix 1 and extracting data corresponding to the combination of values of the plurality of classification items is performed on a computer In the data extraction program to be executed,
A first step of detecting a pair of elements having values close to the input condition in each layer from the top layer to the bottom layer according to the input condition;
Corresponding to the hierarchy by executing interpolation calculation based on the value of the pair of elements for a pair of data that is repeated in order from the bottom layer to the top layer and associated with a pair of elements in each layer A second step of extracting data corresponding to the value of the input condition to be performed and associating the extracted data with an upper layer element;
In the second step, when there is no element having a corresponding classification item in the hierarchy being executed, an interpolation calculation based on the value of the classification item is not performed.
請求項3において、
前記データベースは、
前記複数の分類項目がイオン注入における複数の設定条件であり、前記データが不純物濃度分布関数のパラメータであり、前記第1の層の分類項目名が基板傾きであり、前記第1の層の第2の要素は前記基板傾きが0°の値を有し、前記第1の要素はそれ以外の基板傾きの値であり、前記第2の層の分類項目名が基板回転角であることを特徴とするデータ抽出プログラム。
In claim 3,
The database is
The plurality of classification items are a plurality of setting conditions in ion implantation, the data is a parameter of an impurity concentration distribution function, the classification item name of the first layer is a substrate tilt, and the first layer of the first layer The element 2 has a substrate tilt value of 0 °, the first element is a substrate tilt value other than that, and the classification item name of the second layer is a substrate rotation angle. A data extraction program.
少なくともイオン注入方向に対する基板の傾きと基板の回転角とを含む複数のイオン注入条件を分類項目とし、複数の分類項目の値に対応して複数の不純物濃度分布関数のパラメータのデータを格納し、コンピュータによりデータ抽出可能な多階層構造のデータベースにおいて、
前記分類項目の名前とその値とをそれぞれ有する要素であって、前記複数の分類項目を各層に対応付けて多階層に構築された複数の要素を有し、
上層の要素に対して少なくとも複数の下層の要素が関連付けられ、最下層の要素に対して前記データがそれぞれ関連付けられて前記多階層構造が構築され、
前記基板の傾きに対応する第1の層の第1の要素に対して前記第1の層より下層の前記基板の回転角に対応する第2の層の複数の要素が関連付けられ、前記第1の層の第2の要素に対して前記第2の層より下層の第3の層の複数の要素が直接関連付けられ、前記第1の層の第2の要素は前記基板傾きが0°の値を有し、前記第1の要素はそれ以外の基板傾きの値であることを特徴とする多階層構造のデータベース。
A plurality of ion implantation conditions including at least the tilt of the substrate with respect to the ion implantation direction and the rotation angle of the substrate are classified items, and data of a plurality of impurity concentration distribution function parameters are stored corresponding to the values of the plurality of classified items, In a multi-level database that can be extracted by a computer,
The elements each having a name of the classification item and a value thereof, and having a plurality of elements constructed in multiple layers in association with each of the plurality of classification items,
At least a plurality of lower-layer elements are associated with the upper-layer elements, and the data is associated with the lower-layer elements to construct the multi-hierarchy structure,
A plurality of elements of a second layer corresponding to a rotation angle of the substrate below the first layer are associated with the first element of the first layer corresponding to the tilt of the substrate, and the first element A plurality of elements of a third layer below the second layer are directly associated with a second element of the first layer, the second element of the first layer having a substrate tilt value of 0 ° And the first element is a value of the other substrate tilt.
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