JP2005031149A - 吐出装置、カラーフィルタ基板の製造装置、カラーフィルタ基板、電気光学装置、電気光学装置の製造装置、配線製造装置、電気光学装置の製造方法、および吐出方法、ならびに電子機器。 - Google Patents
吐出装置、カラーフィルタ基板の製造装置、カラーフィルタ基板、電気光学装置、電気光学装置の製造装置、配線製造装置、電気光学装置の製造方法、および吐出方法、ならびに電子機器。 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】吐出後の材料の乾燥時間を短縮できる吐出装置を提供すること。
【解決手段】吐出装置は、互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の材料を塗布する。前記吐出装置は、前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、前記材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部と、を備える。前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に前記材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である。
【選択図】 図８
【解決手段】吐出装置は、互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の材料を塗布する。前記吐出装置は、前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、前記材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部と、を備える。前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に前記材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である。
【選択図】 図８
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マトリクス状またはストライプ状に並んだ複数の被吐出部に液状の材料を塗布する技術に関し、より具体的には、カラーフィルタ基板の製造、電気光学装置の製造、および配線の製造に好適な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
吐出装置を用いることで、カラーフィルタのフィルタエレメントを形成することと、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）装置のピクセルのパターンを形成することとが知られている（例えば特許文献１）。
【特許文献１】
特開２００２−２７３８６９号公報
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
吐出装置によって所定のパターン状に吐出された液状の材料は、液状の材料に含まれる溶媒が気化した後に最終的に所望の層を形成する。ところで、カラーフィルタなどのピクセルは密集している。このため、ピクセルの複数の列に対してほぼ同時に液状の材料が吐出される場合には、液状の材料から気化した溶媒雰囲気の分圧が複数の列上で局所的に上昇する。溶媒雰囲気の分圧の上昇は、塗布された液状の材料に含まれる溶媒が気化することを妨げるので、結果として、塗布された材料の乾燥に時間がかかる。
【０００４】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、吐出後の材料の乾燥時間を短縮できる吐出装置を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の吐出装置は、互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の材料を塗布する吐出装置であって、前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、前記材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部と、を備えている。そして、前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に前記材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である。
【０００６】
本発明のある態様では、前記ノズル列は、複数の第１のノズルと少なくとも１つの第２のノズルと、からなり、前記複数の第１のノズルは前記期間内に前記材料を吐出する前記ノズルであり、前記少なくとも１つの第２のノズルは、前記期間中吐出を行わない。
【０００７】
好ましくは、前記ノズル列における２つのノズルのＸ軸方向の距離が前記所定の長さに一致するように、前記ノズル列の方向が設定されている。前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第１の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第１配置パターンであり、前記第１配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記材料を吐出する。前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を前記所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第２の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第２配置パターンであり、前記第２配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記材料を吐出する。そして、前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置とは、互いに半ピッチずれている。
【０００８】
好ましくは、前記ノズル列に対してＸ軸方向に並んだ複数の走査範囲が設定されており、前記吐出装置は、前記複数の被吐出部のすべてに前記材料を塗布するように、前記複数の走査範囲のそれぞれに対して、前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記材料の吐出と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記材料の吐出とを行う。
【０００９】
好ましくは、前記吐出装置は、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する前に、少なくとも前記複数の第１のノズルから予備吐出を行う。
【００１０】
さらに好ましくは、前記ヘッドは、前記材料が充填されるキャビティであって、それぞれが前記複数の第１のノズルおよび前記少なくとも１つの第２のノズルのそれぞれに対応する複数のキャビティと、それぞれが前記複数のキャビティのそれぞれに対応する複数のピエゾ素子と、を備えている。そして、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に、前記第２のノズルに対応する前記キャビティ内で前記材料が対流するように、対応する前記ピエゾ素子が振動する。
【００１１】
本発明の吐出装置は、互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、それぞれがＹ軸方向に延びるストライプ状に配置されるとともに、前記Ｙ軸方向と直交するＸ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の材料を塗布する吐出装置であって、 前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、前記材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部とを備えている。そして、前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査をする期間内に前記材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である。
【００１２】
また、本発明は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、カラーフィルタ基板の製造装置、電気光学装置の製造装置、配線製造装置などの態様で実現することができる。本発明の「電気光学装置」とは、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を備えた画像表示装置などを意味する。さらに、本発明でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化、旋光性の変化、光散乱性の変化、などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。
【００１３】
本発明のカラーフィルタ基板は、上記カラーフィルタ基板の製造方法によって製造されている。本発明の電気光学装置は、上記電気光学装置の製造方法によって製造されている。さらに、本発明の電子機器は上記電気光学装置を含んでいる。
【００１４】
本発明の吐出方法は、互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に吐出装置から液状の材料を吐出する吐出方法であって、前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んだノズル列における複数のノズルのうち、前記Ｘ軸方向に沿った互いの間隔が前記所定の長さの２倍以上の整数倍である複数のノズルを複数の吐出ノズルとして設定するステップ（ａ）と、前記複数の吐出ノズルのＸ軸方向の位置を対応する前記被吐出部のＸ軸方向の位置に一致させるステップ（ｂ）と、前記ノズル列を前記Ｙ軸方向に相対走査させるステップ（ｃ）と、前記ステップ（ａ）の期間内に、前記複数の吐出ノズルからのみ前記対応する被吐出部に材料を吐出するステップ（ｄ）と、を含む。
【００１５】
好ましくは、前記ノズル列における２つのノズルのＸ軸方向の距離が前記所定の長さに一致するように、前記ノズル列の方向が設定されており、前記吐出方法は、前記ノズル列における前記複数の吐出ノズルの配置パターンを第１配置パターンにするステップ（ｅ）と、前記ステップ（ｅ）の後で、前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列をＹ軸方向に相対走査するステップ（ｆ）と、前記ステップ（ｆ）の期間内に、前記吐出ノズルから対応する前記被吐出部に前記材料を吐出するステップ（ｇ）と、前記ノズル列における前記複数の吐出ノズルの配置パターンを第２配置パターンにするステップ（ｈ）と、前記ステップ（ｈ）の後で、前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を前記所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列を前記Ｙ軸方向に相対走査するステップ（ｉ）と、前記ステップ（ｉ）の期間内に、前記吐出ノズルから対応する前記被吐出部に前記材料を吐出するステップ（ｊ）と、を含む。そして、前記第１配置パターンにおける前記複数の吐出ノズルの位置と、前記第２配置パターンにおける前記複数の吐出ノズルの位置とは、互いに半ピッチずれている。
【００１６】
本発明の他の態様では、前記吐出方法が、前記複数の被吐出部のすべてに前記材料を塗布するように、前記ノズル列に対応する複数の走査範囲のそれぞれに対して、前記ステップ（ｅ）からステップ（ｊ）を行う。
【００１７】
また、本発明は、種々の態様で実現することが可能であり、製造方法などの態様で実現することができる。
【００１８】
本発明によれば、Ｙ軸方向に相対走査が行われる期間内に、同じ層が形成されるべき複数の被吐出部は、Ｘ軸方向に沿って少なくとも１つおきに塗布される。なぜなら、材料を吐出するノズル同士、つまり第１のノズル同士、の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍だからである。このため、１回の相対走査の期間内で同じ材料が塗布される被吐出部間の間隔が広くなり、この結果、Ｙ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで１回の相対走査が行われている間でも、被吐出部上の材料から溶媒が気化できる。つまり、塗布走査をしている間でも溶媒の気化を促せるため、材料の乾燥時間を短縮できる。なお、本発明では、第１のノズルを「吐出ノズル」と表記することもある。
【００１９】
さらに本発明によれば、複数の第１のノズルからの安定した前記材料の吐出を維持することができる。なぜなら、Ｙ軸方向に沿って走査範囲の前記一端から他端まで相対走査を１回する前に少なくとも第１のノズルから予備吐出を行うからである。
【００２０】
さらに本発明によれば、Ｙ軸方向に沿って走査範囲の前記一端から他端まで相対走査を１回する期間内に吐出動作を行わないノズル（第２のノズル）において、液状の材料の粘性が増大することを防止できる。なぜなら、対応するピエゾ素子が振動することで、第２のノズルに対応するキャビティ内で前記材料が対流するため、前記第２のノズルの開口部で大気に触れる前記材料の液面が常に流動するためである。この結果、第２のノズルとして機能したノズルが第１のノズルとして機能し始める場合でも、このノズルからすぐに安定して材料を吐出できる。なお、本発明では、第２のノズルを「非吐出ノズル」と表記することもある。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を、カラーフィルタ基板の製造装置、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置、プラズマ表示装置の製造装置、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置、および配線製造装置に適用した場合を例に取り、図面を参照しつつ説明する。なお、以下に示す実施形態は、特許請求の範囲に記載された発明の内容を何ら限定するものではない。また、以下の実施形態に示す構成のすべてが、特許請求の範囲に記載された発明の解決手段として必須であるとは限らない。
【００２２】
（実施形態１）
本発明をカラーフィルタ基板の製造装置１に適用した例を説明する。
【００２３】
図１（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、後述する製造装置１（図２）による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂを有する。
【００２４】
具体的には、基体１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。
【００２５】
それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【００２６】
図１（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【００２７】
被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ２３７μｍである。この間隔ＬＲＸは、被吐出部１８Ｇ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＧＸと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＢＸとも同じである。また、被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８ＧのそれぞれのＸ軸方向の長さおよびＹ軸方向の長さは、それぞれ約５０μｍおよび約１２０μｍである。
【００２８】
図２に示す製造装置１は、図１の基体１０Ａの被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜１６を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜１６を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜１６を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する搬送装置１７０も備えている。
【００２９】
図３に示すように、吐出装置１００Ｒは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを保持するタンク１０１Ｒと、チューブ１１０Ｒを介してタンク１０１Ｒからカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２は、それぞれがカラーフィルタ材料を吐出可能な複数のヘッド１１４（図４）を有するキャリッジ１０３と、キャリッジ１０３の位置を制御する第１位置制御装置１０４と、基体１０Ａを保持するステージ１０６と、ステージ１０６の位置を制御する第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、を備えている。タンク１０１Ｒと、キャリッジ１０３における複数のヘッド１１４と、はチューブ１１０Ｒで連結されており、タンク１０１Ｒから複数のヘッド１１４のそれぞれに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが圧縮空気によって供給される。
【００３０】
第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、キャリッジ１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向と直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な所定な軸の回りでキャリッジ１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の両方と直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。なお、第１位置制御措置１０４および第２位置制御装置１０８は、本発明の走査部に対応する。
【００３１】
ステージ１０６は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想的な平面上に位置する。また、ステージ１０６は、所定の材料を塗布すべき複数の被吐出部を有する基板を固定できるように構成されている。本実施形態では、複数の被吐出部を有する基板は、複数の被吐出部１８Ｒを有する基体１０Ａである。また、本明細書では、複数の被吐出部を有する基体を受容基板と表記することもある。
【００３２】
キャリッジ１０３およびステージ１０６は上記以外の平行移動および回転の自由度をさらに有している。ただし、本実施形態では、上記自由度以外の自由度に関する記載は説明を平易にする目的で省略されている。
【００３３】
制御部１１２は、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２の詳細な機能は、後述する。
【００３４】
図４に示すように、キャリッジ１０３は、互いに同じ構造を有する複数のヘッド１１４を保持している。ここで、図４は、キャリッジ１０３をステージ１０６側から観察した図であり、このため図面に垂直な方向がＺ軸方向である。本実施形態では、キャリッジ１０３には６個のヘッド１１４からなる列が２列配置されている。後に詳細に述べるように、それぞれのヘッド１１４の長手方向がＸ軸方向に対して角度ＡＮをなすように、ヘッド１１４のそれぞれがキャリッジ１０３に固定されている。
【００３５】
図５に示すように、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するためのヘッド１１４は、それぞれがヘッド１１４の長手方向に延びる２つのノズル列１１６を有している。１つのノズル列１１６とは、１８０個のノズル１１８が一列に並んだ列のことである。このノズル列方向ＨＸに沿ったノズル１１８の間隔は、約１４０μｍである。上述したように、ヘッド１１４の長手方向がＸ軸方向に対して角度ＡＮをなすため、ノズル列方向ＨＸ、すなわち１８０個のノズル１１８が一列に並ぶ方向もＸ軸方向に対して角度ＡＮをなす。なお、複数のノズル１１８のそれぞれの端部は、上記Ｘ軸方向およびＹ軸方向で定義される仮想的な平面上に位置している。また、ヘッド１１４がほぼＺ軸と平行に材料を吐出できるように、複数のノズル１１８のそれぞれの形状が調整されている。
【００３６】
図６（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２６と、の間には、タンク１０１Ｒから孔１３１を介して供給される液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが常に充填される液たまり１２９が位置している。また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９からカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００３７】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂに駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００３８】
制御部１１２（図３）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立な信号を与えるように構成されている。このため、ノズル１１８から吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御される。さらに、ノズル１１８のそれぞれから吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変である。このため、後述するように、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。
【００３９】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティに対応する振動子と、を含んだ部分を、吐出部と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部を有する。吐出部は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。
【００４０】
上述のように、キャリッジ１０３は第１位置制御装置１０４（図３）によってＸ軸方向およびＺ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６（図３）は第２位置制御手段１０８（図３）によってＹ軸方向に移動させられる。この結果、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、複数のヘッド１１４、複数のノズル列１１６、または複数のノズル１１８は、ステージ１０６上で位置決めされた被吐出部１８Ｒに対してＺ軸方向に所定の距離を保ちながらＸ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。さらに具体的には、ヘッド１１４は、ステージに対してＸ軸方向およびＹ軸方向に相対走査するとともに、複数のノズル１１８から材料を吐出する。本発明では、被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８を走査して、被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８から材料を吐出してもよい。「相対走査」とは吐出する側とそこからの吐出物が着弾する側（被吐出側１８Ｒ）の少なくとも一方を他方に対して走査することを含む。また、相対走査と材料の吐出との組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。
【００４１】
次に、制御部１１２の構成を説明する。図７に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査ドライバ２０６と、ヘッドドライバ２０８と、を備えている。バッファメモリ２０２と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査ドライバ２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッドドライバ２０とは相互に通信可能に接続されている。また、走査ドライバ２０６は、第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッドドライバ２０８は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。
【００４２】
入力バッファメモリ２００は、外部情報処理装置からカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出を行うための吐出データを受け取る。吐出データは、基体１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒの相対位置を表すデータと、すべての被吐出部１８Ｒに所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布するまでに必要となる相対走査の回数を示すデータと、第１のノズル１１８Ａとして機能するノズル１１８を指定するデータと、第２のノズル１１８Ｂとして機能するノズル１１８を指定するデータと、を含む。第１のノズル１１８Ａおよび第２のノズル１１８Ｂの説明は後述する。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図７では、記憶手段２０２はＲＡＭである。
【００４３】
処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部１８Ｒに対するノズル列１１６の相対位置を示すデータを走査ドライバ２０６に与える。走査ドライバ２０６はこのデータに応じた駆動信号を第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に与える。この結果、被吐出部１８Ｒに対してノズル列１１６が走査される。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データに基づいて、対応するノズル１１８からの吐出タイミングを示すデータをヘッドドライバ２０８に与える。ヘッドドライバ２０８はこのデータに基づいて、カラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出に必要な駆動信号をヘッド１１４に与える。この結果、ノズル列１１６における対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００４４】
制御部１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。
【００４５】
以上の構成によって、吐出装置１００Ｒは、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、カラーフィルタ材料１１１Ｒの塗布走査を行う。
【００４６】
以上は、吐出装置１００Ｒの構成の説明である。吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成と、は、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクを備える点で吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクを備える点で吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。
【００４７】
次に、吐出装置１００Ｒの動作を説明する。吐出装置１００Ｒは、基体１０Ａ上でマトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒに同一の材料を吐出する。なお、後述するように、基体１０Ａは、エレクトロルミネッセンス表示装置用の基体に置き換わってもよいし、プラズマ表示装置用背面基板の基体に置き換わってもよよし、電子放出素子の基板に置き換わってもよい。
【００４８】
図８に示す基体１０Ａは、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に固定されている。このため、基体１０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想的な平面上に位置する。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。図８に示すように、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂがマトリクス状に配置されているので、複数の被吐出部１８Ｒ同士も、マトリクス状に配置されている。
【００４９】
図８は、１つのノズル列１１６が、Ｙ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１から他端Ｅ２まで相対走査する様子を示している。図８では、説明を平易にする目的で１つのヘッド１１４おける１つのノズル列１１６しか図示されていないが、以下の説明は、他のヘッド１１４のノズル列１１６についても同様である。また、図８では、１つのノズル列１１６中に、７つのノズル１１８しか図示されていなが、実際には上述したように１８０個のノズル１１８が位置している。
【００５０】
図８に示すように、ノズル列方向ＨＸは、Ｘ軸方向に対して所定の角度ＡＮをなす方向である。つまり、複数のノズル１１８が、Ｘ軸方向に対して所定の角度ＡＮをなす方向に一列に並んでいる。所定の角度ＡＮについては後述する。
【００５１】
図８の走査範囲１３４Ａとは、ノズル列１１６のＸ軸方向の位置（またはＸ座標）を基体１０Ａに対して固定した場合に、ノズル列１１６がＹ軸方向に並んだ被吐出部１８Ｒをすべて塗布するまでにノズル列１１６がＹ軸方向に相対移動する範囲を意味する。ここで、基体１０Ａにおける被吐出部１８Ｒのすべてを塗布するまでにノズル列１１６のＸ軸方向の位置を何度か移動させる場合には、１つのノズル列１１６に対して、Ｘ軸方向に並んだ複数の走査範囲１３４Ａが存在する。また、走査範囲１３４Ａは、図４、図５に示したノズル列１１６毎に定義されてよい。ただし、用語「走査範囲」は、上述のように狭義には１つのノズル列１１６が相対移動する範囲を意味するが、広義には、１つのノズル１１８が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのヘッド１１４が相対移動する範囲を意味することもあるし、キャリッジ１０３が相対移動する範囲を意味することもある。また、本発明では、Ｘ軸方向の位置およびＹ軸方向の位置をそれぞれ「Ｘ座標」および「Ｙ座標」と表記することもある。
【００５２】
本発明では、１つのノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１（または他端Ｅ２）から他端Ｅ２（または一端Ｅ１）に至るまでに、その１つのノズル列１１６が行う吐出動作を、「１回の塗布走査」と表記することもあるし、「１回のパス」と表記することもある。
【００５３】
以下では、図８に示す１２個の被吐出部１８Ｒのすべてに対して吐出装置１００Ｒがカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程を、工程（Ａ１）、工程（Ａ２）、および工程（Ａ３）に分けて説明する。工程（Ａ２）および工程（Ａ３）は、工程（Ａ１）の後に、どちらかが選択される工程である。
【００５４】
（Ａ１）塗布走査の第１の工程：
図８のノズル列１１６は、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する第１のノズル１１８Ａと、吐出動作を行わない第２のノズル１１８Ｂと、を含む。図８に示す例では、ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１から他端Ｅ２まで相対走査を１回する場合、最も左側のノズル１１８と左から５番目のノズル１１８とが複数の第１のノズル１１８Ａとして機能する。図８では、第１のノズル１１８Ａは黒丸で示されている。一方、一端Ｅ１から他端Ｅ２への１回の相対走査の期間に亘って、第１のノズル１１８Ａの間に位置する３つのノズル１１８が第２のノズル１１８Ｂとして機能する。図８では、第２のノズル１１８Ｂは白丸で示されている。カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するノズル１１８同士、すなわち第１のノズル１１８Ａ同士、のＸ軸方向の間隔ＬＮＸは、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸの２倍の４７４μｍ（２３７μｍ×２）である。ここで、図５で説明したように、ノズル列方向ＨＸに沿ったノズル１１８の間隔は１４０μｍであるので、ノズル列方向ＨＸに沿った第１のノズル１１８Ａ同士の間隔は、５６０μｍである。したがって、ノズル列方向ＨＸとＸ軸方向との間の角度ＡＮが３２．２°に設定されれば、第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸは４７４μｍになる。このため、ノズル列方向ＨＸは、Ｘ軸方向に対してＡＮ＝３２．２°をなすように配置されている。
【００５５】
本発明では、第１のノズル１１８Ａを「吐出ノズル」と表記することもある。また、本発明では、第２のノズル１１８Ｂを「非吐出ノズル」と表記することもある。
【００５６】
ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１から他端Ｅ２まで１回の相対走査を開始する前に、図８に示すノズル１１８のうちの最も左のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置が、図８の被吐出部１８Ｒの列のうちの最も左の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致するように、制御部１１２が第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に信号を与える。この結果、左下から５番目のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置は、左から７番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致する。
【００５７】
そして、走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１からＹ軸方向の負の方向（図面下方向）に、ノズル列１１６の相対走査を開始する。この場合、ノズル列１１６が他端Ｅ２に到着するまでに、第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、第１のノズル１１８Ａから対応する被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００５８】
しかしながら、ノズル列１１６が一端Ｅ１から他端Ｅ２まで相対走査する期間内に、第２のノズル１１８Ｂが被吐出部１８Ｒに対応する領域に進入しても、第２のノズル１１８Ｂのいずれからもなんら材料は吐出されない。
【００５９】
したがって、ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１から他端Ｅ２まで相対走査を１回する期間内に、最も左の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から７番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒとに、同じ材料（つまりカラーフィルタ材料１１１Ｒ）が塗布される。一方、この１回の相対走査の期間内では、左から４番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒに対しては第２のノズル１１８Ｂがその領域に侵入してもなんら材料は吐出されない。
【００６０】
一端Ｅ１と他端Ｅ２との間の工程（Ａ１）は、最も左の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から７番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるまで繰り返される。ここで、所望の厚さのカラーフィルタ１１１Ｒの層が形成されるまで工程（Ａ１）を連続的に行ってもよいし、後述する工程（Ａ２）または（Ａ３）を途中に挿入することで、他の列を構成する被吐出部１８Ｒのための塗布走査を交えてもよい。
【００６１】
Ｙ軸方向に沿った少なくとも１回の塗布走査によって、最も左の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から７番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、次に左から４番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に対して、塗布走査を行う。つまり、カラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された列の間に位置する列に対して塗布走査を行う。この場合、以下の（Ａ２）および（Ａ３）に示す２つの塗布走査の工程がある。
【００６２】
（Ａ２）塗布走査の第２の工程：
塗布走査の第２の工程は、複数のノズル１１８に対する第１のノズル１１８Ａの機能の割当てと第２のノズル１１８Ｂの機能の割当てとを変えない工程である。
【００６３】
図９に示すように、まず、制御部１１２は、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸと同じ距離だけ、ノズル列１１６をＸ軸方向の正の方向（図面の右方向）に相対的に移動させることで、ノズル列１１６を走査範囲１３４Ｂに位置させる。この際、図９に示すノズル１１８のうちの最も左のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置が、図９の被吐出部１８Ｒの列のうちの左から４番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致するように、制御部１１２が第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に信号を与える。この結果、左から５番目のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置は、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致する。
【００６４】
次に、走査範囲１３４Ｂの他端Ｅ２からＹ軸方向の正の方向（図面上方向）に、ノズル列１１６の相対走査を開始する。この場合、ノズル列１１６が一端Ｅ１に到着するまでに、第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、第１のノズル１１８Ａから対応する被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００６５】
しかしながら、ノズル列１１６が他端Ｅ２から一端Ｅ１に相対走査する期間内に、第２のノズル１１８Ｂが被吐出部１８Ｒに対応する領域に進入しても、第２のノズル１１８Ｂのいずれからもなんら材料は吐出されない。
【００６６】
したがって、ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ｂの他端Ｅ２から一端Ｅ１まで相対走査を１回する期間内に、左から４番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、に同じ材料（つまりカラーフィルタ材料１１１Ｒ）が塗布される。一方、この１回の塗布走査の期間内では、左から７番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒに対して第２のノズル１１８Ｂがその領域に侵入したとしてもなんら材料は吐出されない。
【００６７】
他端Ｅ２と一端Ｅ１との間のこの工程（Ａ２）は、左から４番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるまで続けられる。ここで、これらの列を構成する被吐出部１８Ｒに所望の厚さのカラーフィルタ１１１Ｒの層が形成されるまで工程（Ａ２）を連続して行ってもよいし、途中でノズル列１１６のＸ軸方向の位置を変えて、他の列を構成する被吐出部１８Ｒのための塗布走査を交えてもよい。
【００６８】
（Ａ３）塗布走査の第３の工程：
塗布走査の第３の工程は、複数のノズル１１８に対する第１のノズル１１８Ａの機能の割当てと第２のノズル１１８Ｂの機能の割当てとを変える工程である。
【００６９】
図１０に示すように、この場合には、複数のノズル１１８のうち、左から３番目のノズル１１８と、左から７番目のノズル１１８とが、複数の第１のノズル１１８Ａとして機能する。一方、その他のノズル１１８は第２のノズル１１８Ｂとして機能する。第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸは、被吐出部１８ＲのＸ軸方向の間隔ＬＲＸの２倍である。なお、この工程（Ａ３）の場合のノズル列１１６のＸ軸方向の位置は、１回目の工程（Ａ１）の場合のノズル列１１６のＸ軸方向の位置と同じである。
【００７０】
ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの他端Ｅ２から一端Ｅ１までの相対走査を開始する前に、図１０に示すノズル１１８のうちの左から３番目のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置が、図１０の被吐出部１８Ｒの列のうちの左から４番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致するように、制御部１１２が第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に信号を与える。この結果、左から７番目のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置は、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致する。
【００７１】
次に、走査範囲１３４Ａの他端Ｅ２からＹ軸方向の正の方向（図面上方向）に、ノズル列１１６の相対走査を開始する。この場合、ノズル列１１６が一端Ｅ１に到着するまでに第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、第１のノズル１１８Ａから対応する被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００７２】
しかしながら、ノズル列１１６が他端Ｅ２から一端Ｅ１に相対走査する期間内に、第２のノズル１１８Ｂが被吐出部１８Ｒに対応する領域に進入しても、第２のノズル１１８Ｂのいずれからもなんら材料は吐出されない。
【００７３】
したがって、ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの他端Ｅ２から一端Ｅ１まで相対走査を１回する期間内に、左から４番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、に同じ材料（つまりカラーフィルタ材料１１１Ｒ）が塗布される。一方、この１回の塗布走査の期間内では、最も左側の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から７番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒとに対して、第２のノズル１１８Ｂがその領域に侵入したとしても、なんら材料は吐出されない。
【００７４】
他端Ｅ２と一端Ｅ１との間のこの工程（Ａ３）は、左から４番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるまで続けられる。ここで、これらの列を構成する被吐出部１８Ｒに所望の厚さのカラーフィルタ１１１Ｒの層が形成されるまで工程（Ａ３）を連続して行ってもよいし、上記工程（Ａ２）を途中に挿入することで、他の列を構成する被吐出部１８Ｒのための塗布走査を交えてもよい。
【００７５】
上記工程（Ａ１）と、工程（Ａ１）に引き続く工程（Ａ２）または工程（Ａ３）とによって、図８、図９、図１０に示された１２個の被吐出部１８Ｒのすべてに所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成される。１２個の被吐出部１８Ｒのすべてに所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されると、その後、制御部１１２はノズル列１１６をＸ軸方向に相対移動させることで、まだ塗布されていない被吐出部１８Ｒを含む走査範囲にノズル列１１６を位置させる。そして、上記の工程は、基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてに所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるまで繰り返される。
【００７６】
以下では、工程（Ａ１）と工程（Ａ３）とを繰り返すことで、基体１０Ａのすべての被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する方法を、より詳細に説明する。
【００７７】
吐出装置１００Ｒは、工程（Ａ１）と、工程（Ａ３）と、ノズル列１１６のＸ軸方向への相対走査と、を繰り返すことで、基体１０Ａ上が有するすべての被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する。図１１（ａ）および（ｃ）に示すように、工程（Ａ１）の期間の間には、第１のノズル１１８Ａの配置パターンは第１配置パターンとなる。具体的には、図１１（ａ）および（ｃ）に示すノズル１１８のうち、最も左のノズル１１８と、左から５番目のノズル１１８とが、第１のノズル１１８Ａとなる。一方、図１１（ｂ）および（ｄ）に示すように、工程（Ａ３）の期間の間には、第１のノズル１１８Ａの配置パターンが第２配置パターンとなる。具体的には、工程（Ａ３）の場合には、図１１（ｂ）および（ｄ）に示すノズル１１８のうち、左から３番目のノズル１１８と、最も右のノズル１１８とが、第１のノズル１１８Ａとなる。なお、図１１（ａ）から（ｄ）は、同じノズル列１１６の同じ箇所を図示している。また、図１１（ａ）から（ｄ）は、第１のノズル１１８Ａを黒丸で描いている。
【００７８】
第１配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸは、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸの２倍である。同様に、第２配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸも、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸの２倍である。ただし、第１配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａの位置と、第２配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａの位置とは、ヘッド１１４上で互いに半ピッチずれている。
【００７９】
図１１に示すように、吐出装置１００Ｒが、順番に、工程（Ａ１）、工程（Ａ３）、工程（Ａ１）、工程（Ａ３）を行う場合には、一つのノズル列１１６において、第１配置パターンと、第２配置パターンと、が交互に現れる。なお、図１１には省略されているが、工程（Ａ３）から工程（Ａ１）に移行する間で、吐出装置１００Ｒはノズル列１１６をＸ軸方向に相対走査するステップを行う。
【００８０】
図１２のフローチャートを参照しながら、吐出装置１００Ｒが、工程（Ａ１）と、工程（Ａ３）と、ノズル列１１６のＸ軸方向への相対走査と、を繰り返す場合を説明する。なお、図１２に示すステップＳ０からＳ２０のうち、ステップＳ２からステップＳ８までが工程（Ａ１）に対応し、ステップＳ１０からステップＳ１４までが工程（Ａ３）に対応する。
【００８１】
まず、ノズル列１１６における任意の２つのノズル１１８のＸ軸方向の距離と、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸと、が一致するように、ノズル列方向ＨＸが設定される。これら任意の２つのノズル１１８が互いに隣接している必要はない。これによって、図８におけるすべての被吐出部１８Ｒのそれぞれに、ノズル列１１６に含まれるノズル１１８のうち少なくともいずれかが対応する。
【００８２】
吐出装置１００Ｒは、ステップＳ０において処理を開始する。
【００８３】
ステップＳ０に引き続くステップＳ２において、ノズル列１１６（ヘッド１１４）における第１のノズル１１８Ａの配置パターンが、図１１（ａ）に示す第１配置パターンとなるように、複数のノズル１１８のうちいくつかを第１のノズル１１８Ａとして選択する。第１のノズル１１８Ａとして設定されないノズル１１８は、第２のノズル１１８Ｂとなる。なお、本発明では、「配置パターン」を「コンフィギュレーション」と表記することもある。
【００８４】
ステップＳ２に引き続くステップＳ４において、ノズル列１１６のＸ軸方向の位置を所定のＸ座標に固定する。具体的には、ある１つの第１のノズル１１８ＡのＸ軸方向の位置を、被吐出部１８Ｒが構成する複数の列のうち、いずれかの列のＸ軸方向の位置に一致させる。そのことによって、他の第１のノズル１１８ＡのＸ軸方向の位置も、対応する他の列のＸ軸方向の位置に一致する。
【００８５】
ステップＳ４に引き続くステップＳ６において、ノズル列１１６のＸ軸方向の位置をステップＳ４で固定したＸ座標に維持しながら、ノズル列１１６をＹ軸方向に沿って走査範囲の一端（または他端）から他端（または一端）へ１回相対走査する。本発明では、ステップＳ６においてノズル列１１６がＹ軸方向に相対走査する期間を第１の期間と表記することもある。ステップＳ６の期間内または第１の期間内に、第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、第１のノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。ステップＳ６による塗布走査によって、被吐出部１８Ｒが構成する複数の列のうち、１列おきの列が塗布される。
【００８６】
ステップＳ６に引き続くステップＳ８において、ターゲットとされた被吐出部１８Ｒに所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されたかどうかが、判断される。所望の体積の材料が吐出されていない場合（ステップＳ８のＮＯ）には、処理はステップＳ６に戻り、再度、Ｙ軸方向の相対走査と、材料の吐出と、を行う。
【００８７】
ステップＳ８において、所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されたと判断された場合（ステップＳ８のＹＥＳ）には、ステップＳ１０において、ノズル列１１６に含まれる複数のノズル１１８のうちで第１のノズル１１８Ａとして機能するノズル１１８を変える。つまり、ステップＳ１０において、第１のノズル１１８Ａの配置パターンを、第１配置パターンから第２配置パターンに切り換える。具体的には、第１配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａの中間に位置するノズル１１８が、第２配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａとなる。第２配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａは、工程（Ａ１）の期間の間（少なくともステップＳ６の期間の間）、第２のノズル１１８Ｂである。一方、第１配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａは、工程（Ａ３）の間、第２のノズル１１８Ｂとなる。
【００８８】
ステップＳ１０に引き続くステップＳ１２において、ノズル列１１６のＸ軸方向の位置をステップＳ４で固定したＸ座標に維持したまま、ノズル列１１６をＹ軸方向に沿って走査範囲の一端（他端）から他端（一端）へ１回相対走査する。本発明では、ステップＳ１２においてノズル列１１６がＹ軸方向に相対走査する期間を第２の期間と表記することもある。ステップＳ１２の期間内または第２の期間内に、第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、対応する第１のノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００８９】
ステップＳ１２に引き続くステップＳ１４において、ターゲットとされた被吐出部１８Ｒに所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されたかどうかが、判断される。所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されていない場合（ステップＳ１４のＮＯ）には、処理はステップＳ１２に戻り、再度、Ｙ軸方向の相対走査と、材料の吐出と、を行う。
【００９０】
ステップＳ１４において、所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されたと判断される場合（ステップＳ１４のＹＥＳ）には、ステップＳ１６において、基体１０Ａにおけるすべての被吐出部１８Ｒに材料が吐出されたかどうかが、判断される。
【００９１】
ステップＳ１６において、基体１０におけるすべての被吐出部１８Ｒに材料が吐出されと判断された場合（ステップＳ１６のＹＥＳ）には、ステップＳ２０において処理を終了する。
【００９２】
ステップＳ１６において、基体１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒに材料が吐出されていないと判断された場合（ステップＳ１６のＮＯ）には、ステップＳ１８において、ノズル列１１６をＸ軸方向に相対走査することで、材料が塗布されていない被吐出部１８Ｒを含む走査範囲にノズル列１１６を位置させる。そして、材料が塗布されていない被吐出部１８Ｒに対して、ステップＳ２からステップＳ１６までのステップを行う。
【００９３】
以上では、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程のみを説明した。以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。
【００９４】
まず、以下の手順にしたがって図１の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。なお、バンク１６として、樹脂ブラックからなるバンクを用いてもよい。樹脂ブラックは遮光性を有しているため、ブラックマトリクス１４となる金属薄膜の形成を省略してもよい。つまり、樹脂ブラックを用いる場合には、バンク１６がブラックマトリクス１４の機能を併せ持つため、ブラックマトリクス１４を省略できる。
【００９５】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂとなる。なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂである。
【００９６】
被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１３（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。吐出装置１００Ｒのカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２を参照しながら説明した方法である。基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。
【００９７】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１３（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。吐出装置１００Ｇのカラーフィルタ材料１１１Ｇの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２を参照しながら説明した方法と同じである。基体１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。
【００９８】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１３（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。吐出装置１００Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２を参照しながら説明した方法と同じである。基体１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。
【００９９】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。
【０１００】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜１６が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜１６が形成された後に、搬送装置１７０は基体１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜１６を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜１６を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。
【０１０１】
本実施形態によれば、吐出装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂのそれぞれにおいて、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内に液状の材料を吐出するノズル１１８のＸ軸方向の間隔は、その材料が塗布されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。このため、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内で塗布される被吐出部同士のＸ軸方向の間隔は、最終的に同じフィルタ層が形成されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。この結果、塗布走査と同時に材料の乾燥が促され、この結果、被吐出部に塗布された材料の乾燥時間が短くなる。つまり、製造時間を短縮できる。
【０１０２】
（実施形態２）
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置を製造する製造装置２に適用した例を説明する。
【０１０３】
図１４（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図１５）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。
【０１０４】
具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。
【０１０５】
回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成された層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１４（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。
【０１０６】
基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。
【０１０７】
図１４（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【０１０８】
被吐出部３８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ２３７μｍである。この間隔は、被吐出部３８Ｇ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＧＸと同じであり、被吐出部３８Ｂ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＢＸとも同じである。また、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８ＧのそれぞれのＸ軸方向の長さおよびＹ軸方向の長さは、それぞれ約５０μｍおよび約１２０μｍである。
【０１０９】
図１５に示す製造装置２は、図１４の基体３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する搬送装置２７０も備えている。
【０１１０】
図１６に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持するタンク２０１Ｒと、チューブ２１０Ｒを介してタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２（図３）の構成と同じであるため、同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置２００Ｒにおけるタンク２０１Ｒの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクを備える点で吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２０１Ｂ用のタンクを備える点で吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。
【０１１１】
製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図１４に示す基体３０Ａを製造する。
【０１１２】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。なお、画素電極３６の材質、無機バンク４０の材質、および有機バンク４０の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。
【０１１３】
ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極上３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層を設ける場合には、正孔輸送層と、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂをインクジェット法により形成することも可能である。この場合、各画素領域ごとに正孔輸送層を形成するための材料を含む溶液を所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３８Ｂを形成することができる。
【０１１４】
被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１７（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｒを吐出する。吐出装置２００Ｒの発光材料２１１Ｒの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。
【０１１５】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料Ｇを吐出する。吐出装置２００Ｇの発光材料２１１Ｇの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。
【０１１６】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料Ｂを吐出する。吐出装置２００Ｂの発光材料２１１Ｂの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。
【０１１７】
図１７（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図１７（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。
【０１１８】
エレクトロルミネッセンス表示装置５０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。
【０１１９】
本実施形態によれば、吐出装置２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂのそれぞれにおいて、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内に液状の材料を吐出するノズル１１８のＸ軸方向の間隔は、その材料が塗布されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。このため、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内で塗布される被吐出部同士のＸ軸方向の間隔は、最終的に同じ発光層が形成されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。この結果、塗布走査と同時に材料の乾燥が促され、この結果、被吐出部に塗布された材料の乾燥時間が短くなる。つまり、製造時間を短縮できる。
【０１２０】
（実施形態３）
本発明をプラズマ表示装置の背面基板を製造する製造装置３に適用した例を説明する。
【０１２１】
図１８（ａ）および（ｂ）に示す基体５０Ａは、後述する製造装置３（図１９）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基体５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。
【０１２２】
具体的には、基体５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基体５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。
【０１２３】
基体５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６およびバンクによって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を蛍光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を蛍光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を蛍光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１２４】
図１８（ｂ）に示す基体５０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【０１２５】
被吐出部５８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部５８Ｇ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＧＸと同じであり、被吐出部５８Ｂ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＢＸとも同じである。この間隔は、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔に対応する。
【０１２６】
図１９に示す製造装置３は、図１８の基体５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基体５０Ａを搬送する搬送装置３７０も備えている。
【０１２７】
図２０に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持するタンク３０１Ｒと、チューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒから蛍光材料が供給される吐出走査部３０２と、を備える。
【０１２８】
図２５に示すように、本実施形態の吐出走査部３０２においては、ノズル列方向ＨＸと、Ｘ軸方向と、がなす角ＡＮは、０°である。また、本実施形態では、第１のノズル１１８Ａ同士の間隔ＬＮＸは１１２０μｍ（１．１１２ｍｍ）に設定されている。この間隔ＬＮＸは、被吐出部５８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸのほぼ２倍である。一方、２つの第１のノズル１１８Ａの間には、７つの第２のノズル１１８Ｂが位置している。ノズル列方向ＨＸとＸ軸方向との間の角度ＡＮが０°である点と、第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸが１１２０μｍに設定されている点と、を除いて、本実施形態の吐出走査部３０２は、実施形態１の吐出走査部１０２（図３）と基本的に同じである。
【０１２９】
吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置３００Ｒにおけるタンク３０１Ｒに代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクを備える点で吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクを備える点で吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。
【０１３０】
製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図１８に示す基体５０Ａを得る。
【０１３１】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。
【０１３２】
被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成された基体５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２１（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料の層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料Ｒを吐出する。吐出装置３００Ｒの蛍光材料３１１Ｒの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。
【０１３３】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。吐出装置３００Ｇの蛍光材料３１１Ｇの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。
【０１３４】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料Ｂを吐出する。吐出装置３００Ｂの蛍光材料３１１Ｂの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。
【０１３５】
以上の工程によって、基体５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる。
【０１３６】
次に図２２に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。
【０１３７】
本実施形態によれば、吐出装置３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂのそれぞれにおいて、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内に液状の材料を吐出するノズル１１８のＸ軸方向の間隔は、その材料が塗布されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。このため、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内で塗布される被吐出部同士のＸ軸方向の間隔は、最終的に同じ蛍光層が形成されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。この結果、塗布走査と同時に材料の乾燥が促され、この結果、被吐出部に塗布された材料の乾燥時間が短くなる。つまり、製造時間を短縮できる。
【０１３８】
（実施形態４）
次に本発明を、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置４に適用した例を説明する。
【０１３９】
図２７（ａ）および（ｂ）に示す基体７０Ａは、後述する製造装置４（図２８）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基体７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。
【０１４０】
具体的には、基体７０Ａは、基板７２と、基板７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。
【０１４１】
１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基板７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。
【０１４２】
基体７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図３１）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップと、を覆うように形成される。図２７（ｂ）において点線で示すように、本実施形態における被吐出部７８の形状は円形である。このように、本発明の被吐出部の形状は実施形態１〜３で説明したような矩形に限定されず、本実施形態において説明するような円形でも構わない。
【０１４３】
図２７（ｂ）に示す基体７０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体７０Ａにおいて、被吐出部７８は、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。さらに、被吐出部７８はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【０１４４】
被吐出部７８同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ１９０μｍである。被吐出部７８同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、画素領域同士の間隔に対応する。
【０１４５】
図２８に示す製造装置４は、図２７の基体７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基体７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。
【０１４６】
図２９に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持するタンク４０１と、チューブ４１０と、チューブ４１０を介してタンク４０１から導電性薄膜材料４１１が供給される吐出走査部３０２と、を備える。吐出走査部３０２の説明は、実施形態３で説明したため省略する。なお、本実施形態では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。
【０１４７】
製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基板７２上に、ニ酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基板７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ２膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４上および複数の素子電極７６Ａ上に銀（Ａｇ）ペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図２７に示す基体７０Ａを得る。
【０１４８】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。
【０１４９】
被吐出部７８が形成された基体７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図３０に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、ヘッド１１４から導電性薄膜材料４１１を吐出する。吐出装置４００の導電性薄膜材料４１１の吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。本実施形態では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基体７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基体７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。
【０１５０】
次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。
【０１５１】
以上の工程によって、図３１に示すように、基体７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。
【０１５２】
次に図３２に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせることで、電子放出素子を備えた画像表装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。
【０１５３】
本実施形態によれば、吐出装置４００において、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内に液状の材料を吐出するノズル１１８のＸ軸方向の間隔は、その材料が塗布されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。このため、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内で塗布される被吐出部同士のＸ軸方向の間隔は、最終的に同じ導電性薄膜が形成されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。この結果、塗布走査と同時に材料の乾燥が促され、この結果、被吐出部に塗布された材料の乾燥時間が短くなる。つまり、製造時間を短縮できる。
【０１５４】
上記実施形態１〜４で説明した製造装置は、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造に適用できる。本発明では、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を利用した表示装置などを「電気光学装置」と表記することもある。なお、本明細書でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化、旋光性の変化、光散乱性の変化、などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。
【０１５５】
上記実施形態１〜４で説明した製造装置によって製造された電気光学装置は、電子機器において利用可能である。さらに、上記実施形態１〜４で説明した製造装置は、電気光学装置を含んだ電子機器の製造装置にも適用できる。
【０１５６】
（実施形態１〜４の変形例）
（１）実施形態１〜４において、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する被吐出部はマトリクス状に配置されている。しかしながら、図２３に示すように、Ｒ，Ｇ、Ｂに対応する被吐出部がデルタ状（千鳥状）に配置されていても、本発明を適用できる。なお、デルタ配置とは、奇数ラインの被吐出部の並びと、偶数ラインの被吐出部の並びとが、互いに半ピッチずれた配置をいう。ここでいうピッチとは、互いに隣接する２つの被吐出部間の間隔である。例えば、ピッチとは、隣接する被吐出部の中心位置間の距離に等しい。
【０１５７】
具体的には、図２３（ａ）の第１ラインに属する被吐出部Ｒ１、Ｇ１、Ｇ１と、第３ラインに属する被吐出部Ｒ３、Ｇ３、Ｂ３は、図２３（ｂ）に示すように、１つのマトリクスを構成する。同様に、第２ラインに属する被吐出部Ｒ２、Ｇ２、Ｂ２と、第４ラインに属する被吐出部Ｒ４、Ｇ４、Ｂ４は、１つの他のマトリクスを構成する。したがって、実施形態１〜３の塗布走査の方法を、奇数ラインに属する被吐出部と、偶数ラインに属する被吐出部とに分けて行えばよい。
【０１５８】
（２）実施形態１〜４において、マトリクス状に配置された被吐出部に対して材料を吐出する製造装置を説明した。しかしながら、図２４に示すように、ストライプ状に配置された被吐出部に対して液状の材料を吐出する製造装置にも本発明を適用できる。より具体的には、図２４は、配線製造装置がプラズマ表示装置５０の支持基板５２にアドレス電極５４を形成する例を示している。
【０１５９】
支持基板５２上の複数の被吐出部８０は、互いに平行であり、それぞれがＹ軸方向に延びたストライプ状の形状を有している。また、複数の被吐出部８０は、Ｘ軸方向に沿って所定の間隔ＸＰで配置されている。複数の被吐出部８０は、互いに同じな複数のアドレス電極５４が形成されるべき領域である。複数のアドレス電極５４は、配線製造装置における第１のノズル１１８Ａから液状の配線材料が塗布されることで形成される。このような配線製造装置においても、第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向に沿った間隔を、被吐出部８０のＸ軸方向の間隔ＸＰの２倍である２ＸＰにすればよい。そうすれば、Ｙ軸方向に沿った塗布走査と同時に配線材料の乾燥を促すことができるため、実施形態１〜４の効果と同じ効果が得られる。
【０１６０】
（３）実施形態１および２では、ノズル列方向ＨＸとＸ軸方向とがなす角度ＡＮを３２．２°にすることで、第１のノズル同士の間隔を、同一の材料を塗布すべき被吐出部のＸ軸方向の間隔の２倍に設定した。また、実施形態３および４では、ノズル列方向ＨＸとＸ軸方向とがなす角度ＡＮを０°にすることで、第１のノズル同士の間隔を、同一の材料を塗布すべき被吐出部のＸ軸方向の間隔の２倍に設定した。しかしながら、第１のノズル同士の間隔が同一の材料を塗布すべき被吐出部のＸ軸方向の間隔の２倍に設定されるのであれば、ノズル列ＨＸの方向とＸ軸方向との間の角度ＡＮは、上記の値に限られない。第１のノズル同士の間隔が同一の材料を塗布すべき被吐出部のＸ軸方向の間隔の２倍に設定されれば、Ｙ軸方向に沿った塗布走査と同時に材料の乾燥を促すことができるため、実施形態１〜３の効果と同じ効果が得られる。
【０１６１】
（４）実施形態１〜４において説明したように、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する期間内に、第１のノズルからは材料が吐出され、第２のノズルからはなんら材料は吐出されない。この場合には、一端から他端までの１回の相対走査の期間に亘って、第２のノズルに対応するキャビティ内に充填されている材料に振動を与えることが好ましい。キャビティ内に充填されている材料に振動を与える構成の具体例は以下の通りである。
【０１６２】
まず、ピエゾ素子に印加する電圧（すなわち印加電圧）の最大値と最小値との差が所定値ＳＡＢを超える場合に、対応したノズルから液状の材料が吐出されるとする。例えば、図２６（ａ）に示すように、第１のノズルが被吐出部に対応した領域に侵入する場合には、互いに極性が逆のＴＡおよびＴＢの間で印加電圧を変化させる。具体的には、１つの液滴を吐出する場合に、印加電圧を、期間Ｐ１１の間に０からＴＡに変化させ、期間Ｐ１１に引き続く期間Ｐ１２の間でＴＡからＴＢに変化させ、期間Ｐ１２に引き続く期間Ｐ１３の間に０に戻し、期間Ｐ１３に続く期間Ｐ１４の間０に維持する。ＴＡおよびＴＢは、それぞれ印加電圧の最大値および最小値である。そして、ＴＡとＴＢとの差ＴＡＢは所定値ＳＡＢよりも大きい。時間軸に沿ってこのような波形パターンを有する印加電圧を第１のノズルに対応するピエゾ素子に与えることで、液状の材料が吐出される。図２６（ａ）に示す例では、期間１１、Ｐ１２、Ｐ１３、Ｐ１４からなる波形パターンが１つの液滴の吐出に対応する。また、図２６（ａ）では、この波形パターンが３つ隣接している。なお、本発明では、所定値ＳＡＢを非吐出電圧差と表記することもある。
【０１６３】
一方、第２のノズルに対応するピエゾ素子に印加する電圧（すなわち印加電圧）の最大値と最小値との差は、図２６（ｂ）に示すように、所定値ＳＡＢ以下である。図２６（ｂ）に示す例では、互いに極性が逆であるＲＡとＲＢとの間で印加電圧を変化させる。より具体的には、印加電圧を、期間Ｐ２１の間に０からＲＡに変化させ、期間Ｐ２１に引き続く期間Ｐ２２の間でＲＡからＲＢに変化させ、期間Ｐ２２に引き続く期間Ｐ２３の間に０に戻す。そして、期間Ｐ２１、Ｐ２２、Ｐ２３を含む波形パターン（印加電圧）を所定の周期でピエゾ素子に与える。ＲＡおよびＲＢは、それぞれ印加電圧の最大値および最小値である。そして、ＲＡとＲＢとの差は所定値ＳＡＢ以下である。
【０１６４】
最大値と最小値との差が所定値ＳＡＢ以下となるように変化する印加電圧によってピエゾ素子は振動するが、しかしながら、その振動によって材料は吐出されない。本発明では、ノズルから材料を吐出させない程度の振動を「非吐出振動」と表記することもある。第２のノズルに対応するピエゾ素子が非吐出振動をすることで、第２のノズルに対応するキャビティ内に充填された液状の材料が、その振動を受けてキャビティ内で対流する。液状の材料が対流すると、大気に触れている面の材料が常に流動するので、液状の材料から溶媒が気化することを防止できる。そして、溶媒の気化を防げるため、液状の材料の粘性が増加することを防止でき、このためノズルからの吐出不良を防止できる。なお、印加電圧の最大値および最小値の差を所定値以下にする以外にも、波形パターンの周波数を変えることでも非吐出振動を実現できるし、最大値・最小値の差および周波数の双方を調整することでも非吐出振動を実現できる。
【０１６５】
ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する期間内に、第１のノズルが材料を複数回吐出する場合には、吐出のタイミング間に第１のノズルに対応するピエゾ素子に非吐出振動をさせてもよい。そうすれば、第１のノズルからの材料の吐出がより安定するので、この点で好ましい。
【０１６６】
（５）実施形態１〜４の吐出装置において、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査する前に毎回、ノズル列を走査範囲の外側の所定位置に移動させて、ノズルから材料を吐出してもよい。そうすれば、たとえノズルからの材料の吐出量が規定の吐出量よりも少なくなった場合でも、その位置で吐出動作を続ければ規定の吐出量が回復する可能性が高いからである。本発明では、このような走査範囲外での吐出動作を「予備吐出」と表記することもある。予備吐出を行うことで、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで新たに相対走査する前に、ノズルから材料が安定して吐出されるようになる。予備吐出は、予備吐出の工程に引き続いて行われる塗布走査の工程において第１のノズルとなるノズルに対してのみ行ってもよいし、ノズル列のすべてのノズルに対して行ってもよい。また、予備吐出は、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する毎に行ってもよいし、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を複数回する毎に行ってもよい。
【０１６７】
（６）実施の形態１〜４では、Ｘ軸方向に沿った第１のノズル同士の間隔は、同一の材料を塗布すべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。ただし、第１のノズル同士のＸ軸方向の間隔は上記間隔の２倍以上の整数倍であってもよい。より具体的には、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する期間内に、同じ材料が塗布されるべき２つの隣接する被吐出部の列のどちらかに対して吐出動作が行われないのであれば、実施形態１〜３の効果と同様の効果が得られる。
【０１６８】
（７）実施の形態１および２では、２つの第１のノズルの間に３つの第２のノズルが位置していた。しかしながら、第１のノズル同士のＸ軸方向の間隔が、同一の材料の層が形成されるべき複数の被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍以上の整数倍であれば、第２のノズルの数は３つに限定されない。具体的には、ノズル列の中に第２のノズルが存在しなくてもよい。しかしながら、ノズル列において少なくとも１つの第２のノズルを設定するようにすれば、同一の材料の層が形成されるべき複数の被吐出部同士のＸ軸方向の間隔よりもノズル同士の間隔が小さい吐出装置を用いて塗布走査ができるため、この点で好ましい。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は実施形態１の基体の断面図を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態１の基体の平面図を示す模式図。
【図２】実施形態１の製造装置を示す模式図。
【図３】実施形態１の吐出装置を示す模式図。
【図４】実施形態１のキャリッジを示す模式図。
【図５】実施形態１のヘッドを示す模式図。
【図６】実施形態１のヘッドを示す模式図。
【図７】吐出装置における制御部の機能ブロック図。
【図８】実施形態１の吐出方法を示す模式図。
【図９】実施形態１の吐出方法を示す模式図。
【図１０】実施形態１の吐出方法を示す模式図。
【図１１】（ａ）〜（ｄ）はノズル列における第１の吐出ノズルの配置パターンを示す模式図。
【図１２】吐出装置の吐出方法を示すフローチャート。
【図１３】（ａ）〜（ｄ）は実施形態１の製造方法を示す模式図。
【図１４】（ａ）は実施形態２の基体の断面図を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態２の基体の平面図を示す模式図。
【図１５】（ａ）〜（ｄ）は実施形態２の製造装置を示す模式図。
【図１６】実施形態２の吐出装置を示す模式図。
【図１７】実施形態２の製造方法を示す模式図。
【図１８】（ａ）は実施形態３の基体の断面図を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態３の基体の平面図を示す模式図。
【図１９】実施形態３の製造装置を示す模式図。
【図２０】実施形態３の吐出装置を示す模式図。
【図２１】（ａ）〜（ｃ）は実施形態３の製造方法を示す模式図。
【図２２】実施形態３のプラズマ表示装置を示す模式図。
【図２３】被吐出部の配置の変形例を示す模式図。
【図２４】被吐出部の配置の変形例を示す模式図。
【図２５】被吐出部とヘッドとの位置関係を示す模式図。
【図２６】第２のノズルに対応するピエゾ素子に与える駆動波形を示す模式図。
【図２７】（ａ）は実施形態４の基体の断面図を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態４の基体の平面図を示す模式図。
【図２８】実施形態４の製造装置を示す模式図。
【図２９】実施形態４の吐出装置を示す模式図。
【図３０】実施形態４の製造方法を示す模式図。
【図３１】実施形態４の電子源基板を示す模式図。
【図３２】実施形態４の製造装置によって製造される表示装置を示す模式図。
【符号の説明】
１、２、３、４…製造装置
１０Ａ…基体
１０…カラーフィルタ基板
１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ…被吐出部
３０Ａ…基体
３０…エレクトロルミネッセンス表示装置
３８Ｒ、３８Ｇ，３８Ｂ…被吐出部
５０Ａ…基体
５０…プラズマ表示装置
５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂ…被吐出部
７０Ａ…基体
７０…電子放出素子を備えた画像表示装置
７８…被吐出部
１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ、２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂ、３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂ、４００…吐出装置
１０３…キャリッジ
１１４…ヘッド
１１６…ノズル列
１１８…ノズル
１１８Ａ…第１のノズル
１１８Ｂ…第２のノズル
２００…入力バッファメモリ
２０２…記憶手段
２０４…処理部
２０６…走査ドライバ
２０８…ヘッドドライバ
１０４…第１位置制御手段
１０８…第２位置制御手段
１０６…ステージ
【発明の属する技術分野】
本発明は、マトリクス状またはストライプ状に並んだ複数の被吐出部に液状の材料を塗布する技術に関し、より具体的には、カラーフィルタ基板の製造、電気光学装置の製造、および配線の製造に好適な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
吐出装置を用いることで、カラーフィルタのフィルタエレメントを形成することと、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）装置のピクセルのパターンを形成することとが知られている（例えば特許文献１）。
【特許文献１】
特開２００２−２７３８６９号公報
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
吐出装置によって所定のパターン状に吐出された液状の材料は、液状の材料に含まれる溶媒が気化した後に最終的に所望の層を形成する。ところで、カラーフィルタなどのピクセルは密集している。このため、ピクセルの複数の列に対してほぼ同時に液状の材料が吐出される場合には、液状の材料から気化した溶媒雰囲気の分圧が複数の列上で局所的に上昇する。溶媒雰囲気の分圧の上昇は、塗布された液状の材料に含まれる溶媒が気化することを妨げるので、結果として、塗布された材料の乾燥に時間がかかる。
【０００４】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、吐出後の材料の乾燥時間を短縮できる吐出装置を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の吐出装置は、互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の材料を塗布する吐出装置であって、前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、前記材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部と、を備えている。そして、前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に前記材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である。
【０００６】
本発明のある態様では、前記ノズル列は、複数の第１のノズルと少なくとも１つの第２のノズルと、からなり、前記複数の第１のノズルは前記期間内に前記材料を吐出する前記ノズルであり、前記少なくとも１つの第２のノズルは、前記期間中吐出を行わない。
【０００７】
好ましくは、前記ノズル列における２つのノズルのＸ軸方向の距離が前記所定の長さに一致するように、前記ノズル列の方向が設定されている。前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第１の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第１配置パターンであり、前記第１配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記材料を吐出する。前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を前記所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第２の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第２配置パターンであり、前記第２配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記材料を吐出する。そして、前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置とは、互いに半ピッチずれている。
【０００８】
好ましくは、前記ノズル列に対してＸ軸方向に並んだ複数の走査範囲が設定されており、前記吐出装置は、前記複数の被吐出部のすべてに前記材料を塗布するように、前記複数の走査範囲のそれぞれに対して、前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記材料の吐出と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記材料の吐出とを行う。
【０００９】
好ましくは、前記吐出装置は、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する前に、少なくとも前記複数の第１のノズルから予備吐出を行う。
【００１０】
さらに好ましくは、前記ヘッドは、前記材料が充填されるキャビティであって、それぞれが前記複数の第１のノズルおよび前記少なくとも１つの第２のノズルのそれぞれに対応する複数のキャビティと、それぞれが前記複数のキャビティのそれぞれに対応する複数のピエゾ素子と、を備えている。そして、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に、前記第２のノズルに対応する前記キャビティ内で前記材料が対流するように、対応する前記ピエゾ素子が振動する。
【００１１】
本発明の吐出装置は、互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、それぞれがＹ軸方向に延びるストライプ状に配置されるとともに、前記Ｙ軸方向と直交するＸ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の材料を塗布する吐出装置であって、 前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、前記材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部とを備えている。そして、前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査をする期間内に前記材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である。
【００１２】
また、本発明は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、カラーフィルタ基板の製造装置、電気光学装置の製造装置、配線製造装置などの態様で実現することができる。本発明の「電気光学装置」とは、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を備えた画像表示装置などを意味する。さらに、本発明でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化、旋光性の変化、光散乱性の変化、などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。
【００１３】
本発明のカラーフィルタ基板は、上記カラーフィルタ基板の製造方法によって製造されている。本発明の電気光学装置は、上記電気光学装置の製造方法によって製造されている。さらに、本発明の電子機器は上記電気光学装置を含んでいる。
【００１４】
本発明の吐出方法は、互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に吐出装置から液状の材料を吐出する吐出方法であって、前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んだノズル列における複数のノズルのうち、前記Ｘ軸方向に沿った互いの間隔が前記所定の長さの２倍以上の整数倍である複数のノズルを複数の吐出ノズルとして設定するステップ（ａ）と、前記複数の吐出ノズルのＸ軸方向の位置を対応する前記被吐出部のＸ軸方向の位置に一致させるステップ（ｂ）と、前記ノズル列を前記Ｙ軸方向に相対走査させるステップ（ｃ）と、前記ステップ（ａ）の期間内に、前記複数の吐出ノズルからのみ前記対応する被吐出部に材料を吐出するステップ（ｄ）と、を含む。
【００１５】
好ましくは、前記ノズル列における２つのノズルのＸ軸方向の距離が前記所定の長さに一致するように、前記ノズル列の方向が設定されており、前記吐出方法は、前記ノズル列における前記複数の吐出ノズルの配置パターンを第１配置パターンにするステップ（ｅ）と、前記ステップ（ｅ）の後で、前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列をＹ軸方向に相対走査するステップ（ｆ）と、前記ステップ（ｆ）の期間内に、前記吐出ノズルから対応する前記被吐出部に前記材料を吐出するステップ（ｇ）と、前記ノズル列における前記複数の吐出ノズルの配置パターンを第２配置パターンにするステップ（ｈ）と、前記ステップ（ｈ）の後で、前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を前記所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列を前記Ｙ軸方向に相対走査するステップ（ｉ）と、前記ステップ（ｉ）の期間内に、前記吐出ノズルから対応する前記被吐出部に前記材料を吐出するステップ（ｊ）と、を含む。そして、前記第１配置パターンにおける前記複数の吐出ノズルの位置と、前記第２配置パターンにおける前記複数の吐出ノズルの位置とは、互いに半ピッチずれている。
【００１６】
本発明の他の態様では、前記吐出方法が、前記複数の被吐出部のすべてに前記材料を塗布するように、前記ノズル列に対応する複数の走査範囲のそれぞれに対して、前記ステップ（ｅ）からステップ（ｊ）を行う。
【００１７】
また、本発明は、種々の態様で実現することが可能であり、製造方法などの態様で実現することができる。
【００１８】
本発明によれば、Ｙ軸方向に相対走査が行われる期間内に、同じ層が形成されるべき複数の被吐出部は、Ｘ軸方向に沿って少なくとも１つおきに塗布される。なぜなら、材料を吐出するノズル同士、つまり第１のノズル同士、の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍だからである。このため、１回の相対走査の期間内で同じ材料が塗布される被吐出部間の間隔が広くなり、この結果、Ｙ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで１回の相対走査が行われている間でも、被吐出部上の材料から溶媒が気化できる。つまり、塗布走査をしている間でも溶媒の気化を促せるため、材料の乾燥時間を短縮できる。なお、本発明では、第１のノズルを「吐出ノズル」と表記することもある。
【００１９】
さらに本発明によれば、複数の第１のノズルからの安定した前記材料の吐出を維持することができる。なぜなら、Ｙ軸方向に沿って走査範囲の前記一端から他端まで相対走査を１回する前に少なくとも第１のノズルから予備吐出を行うからである。
【００２０】
さらに本発明によれば、Ｙ軸方向に沿って走査範囲の前記一端から他端まで相対走査を１回する期間内に吐出動作を行わないノズル（第２のノズル）において、液状の材料の粘性が増大することを防止できる。なぜなら、対応するピエゾ素子が振動することで、第２のノズルに対応するキャビティ内で前記材料が対流するため、前記第２のノズルの開口部で大気に触れる前記材料の液面が常に流動するためである。この結果、第２のノズルとして機能したノズルが第１のノズルとして機能し始める場合でも、このノズルからすぐに安定して材料を吐出できる。なお、本発明では、第２のノズルを「非吐出ノズル」と表記することもある。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を、カラーフィルタ基板の製造装置、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置、プラズマ表示装置の製造装置、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置、および配線製造装置に適用した場合を例に取り、図面を参照しつつ説明する。なお、以下に示す実施形態は、特許請求の範囲に記載された発明の内容を何ら限定するものではない。また、以下の実施形態に示す構成のすべてが、特許請求の範囲に記載された発明の解決手段として必須であるとは限らない。
【００２２】
（実施形態１）
本発明をカラーフィルタ基板の製造装置１に適用した例を説明する。
【００２３】
図１（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、後述する製造装置１（図２）による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂを有する。
【００２４】
具体的には、基体１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。
【００２５】
それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【００２６】
図１（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【００２７】
被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ２３７μｍである。この間隔ＬＲＸは、被吐出部１８Ｇ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＧＸと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＢＸとも同じである。また、被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８ＧのそれぞれのＸ軸方向の長さおよびＹ軸方向の長さは、それぞれ約５０μｍおよび約１２０μｍである。
【００２８】
図２に示す製造装置１は、図１の基体１０Ａの被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜１６を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜１６を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜１６を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する搬送装置１７０も備えている。
【００２９】
図３に示すように、吐出装置１００Ｒは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを保持するタンク１０１Ｒと、チューブ１１０Ｒを介してタンク１０１Ｒからカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２は、それぞれがカラーフィルタ材料を吐出可能な複数のヘッド１１４（図４）を有するキャリッジ１０３と、キャリッジ１０３の位置を制御する第１位置制御装置１０４と、基体１０Ａを保持するステージ１０６と、ステージ１０６の位置を制御する第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、を備えている。タンク１０１Ｒと、キャリッジ１０３における複数のヘッド１１４と、はチューブ１１０Ｒで連結されており、タンク１０１Ｒから複数のヘッド１１４のそれぞれに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが圧縮空気によって供給される。
【００３０】
第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、キャリッジ１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向と直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な所定な軸の回りでキャリッジ１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の両方と直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。なお、第１位置制御措置１０４および第２位置制御装置１０８は、本発明の走査部に対応する。
【００３１】
ステージ１０６は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想的な平面上に位置する。また、ステージ１０６は、所定の材料を塗布すべき複数の被吐出部を有する基板を固定できるように構成されている。本実施形態では、複数の被吐出部を有する基板は、複数の被吐出部１８Ｒを有する基体１０Ａである。また、本明細書では、複数の被吐出部を有する基体を受容基板と表記することもある。
【００３２】
キャリッジ１０３およびステージ１０６は上記以外の平行移動および回転の自由度をさらに有している。ただし、本実施形態では、上記自由度以外の自由度に関する記載は説明を平易にする目的で省略されている。
【００３３】
制御部１１２は、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２の詳細な機能は、後述する。
【００３４】
図４に示すように、キャリッジ１０３は、互いに同じ構造を有する複数のヘッド１１４を保持している。ここで、図４は、キャリッジ１０３をステージ１０６側から観察した図であり、このため図面に垂直な方向がＺ軸方向である。本実施形態では、キャリッジ１０３には６個のヘッド１１４からなる列が２列配置されている。後に詳細に述べるように、それぞれのヘッド１１４の長手方向がＸ軸方向に対して角度ＡＮをなすように、ヘッド１１４のそれぞれがキャリッジ１０３に固定されている。
【００３５】
図５に示すように、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するためのヘッド１１４は、それぞれがヘッド１１４の長手方向に延びる２つのノズル列１１６を有している。１つのノズル列１１６とは、１８０個のノズル１１８が一列に並んだ列のことである。このノズル列方向ＨＸに沿ったノズル１１８の間隔は、約１４０μｍである。上述したように、ヘッド１１４の長手方向がＸ軸方向に対して角度ＡＮをなすため、ノズル列方向ＨＸ、すなわち１８０個のノズル１１８が一列に並ぶ方向もＸ軸方向に対して角度ＡＮをなす。なお、複数のノズル１１８のそれぞれの端部は、上記Ｘ軸方向およびＹ軸方向で定義される仮想的な平面上に位置している。また、ヘッド１１４がほぼＺ軸と平行に材料を吐出できるように、複数のノズル１１８のそれぞれの形状が調整されている。
【００３６】
図６（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２６と、の間には、タンク１０１Ｒから孔１３１を介して供給される液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが常に充填される液たまり１２９が位置している。また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９からカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００３７】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂに駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００３８】
制御部１１２（図３）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立な信号を与えるように構成されている。このため、ノズル１１８から吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御される。さらに、ノズル１１８のそれぞれから吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変である。このため、後述するように、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。
【００３９】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティに対応する振動子と、を含んだ部分を、吐出部と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部を有する。吐出部は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。
【００４０】
上述のように、キャリッジ１０３は第１位置制御装置１０４（図３）によってＸ軸方向およびＺ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６（図３）は第２位置制御手段１０８（図３）によってＹ軸方向に移動させられる。この結果、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、複数のヘッド１１４、複数のノズル列１１６、または複数のノズル１１８は、ステージ１０６上で位置決めされた被吐出部１８Ｒに対してＺ軸方向に所定の距離を保ちながらＸ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。さらに具体的には、ヘッド１１４は、ステージに対してＸ軸方向およびＹ軸方向に相対走査するとともに、複数のノズル１１８から材料を吐出する。本発明では、被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８を走査して、被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８から材料を吐出してもよい。「相対走査」とは吐出する側とそこからの吐出物が着弾する側（被吐出側１８Ｒ）の少なくとも一方を他方に対して走査することを含む。また、相対走査と材料の吐出との組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。
【００４１】
次に、制御部１１２の構成を説明する。図７に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査ドライバ２０６と、ヘッドドライバ２０８と、を備えている。バッファメモリ２０２と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査ドライバ２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッドドライバ２０とは相互に通信可能に接続されている。また、走査ドライバ２０６は、第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッドドライバ２０８は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。
【００４２】
入力バッファメモリ２００は、外部情報処理装置からカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出を行うための吐出データを受け取る。吐出データは、基体１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒの相対位置を表すデータと、すべての被吐出部１８Ｒに所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布するまでに必要となる相対走査の回数を示すデータと、第１のノズル１１８Ａとして機能するノズル１１８を指定するデータと、第２のノズル１１８Ｂとして機能するノズル１１８を指定するデータと、を含む。第１のノズル１１８Ａおよび第２のノズル１１８Ｂの説明は後述する。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図７では、記憶手段２０２はＲＡＭである。
【００４３】
処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部１８Ｒに対するノズル列１１６の相対位置を示すデータを走査ドライバ２０６に与える。走査ドライバ２０６はこのデータに応じた駆動信号を第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に与える。この結果、被吐出部１８Ｒに対してノズル列１１６が走査される。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データに基づいて、対応するノズル１１８からの吐出タイミングを示すデータをヘッドドライバ２０８に与える。ヘッドドライバ２０８はこのデータに基づいて、カラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出に必要な駆動信号をヘッド１１４に与える。この結果、ノズル列１１６における対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００４４】
制御部１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。
【００４５】
以上の構成によって、吐出装置１００Ｒは、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、カラーフィルタ材料１１１Ｒの塗布走査を行う。
【００４６】
以上は、吐出装置１００Ｒの構成の説明である。吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成と、は、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクを備える点で吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクを備える点で吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。
【００４７】
次に、吐出装置１００Ｒの動作を説明する。吐出装置１００Ｒは、基体１０Ａ上でマトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒに同一の材料を吐出する。なお、後述するように、基体１０Ａは、エレクトロルミネッセンス表示装置用の基体に置き換わってもよいし、プラズマ表示装置用背面基板の基体に置き換わってもよよし、電子放出素子の基板に置き換わってもよい。
【００４８】
図８に示す基体１０Ａは、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に固定されている。このため、基体１０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想的な平面上に位置する。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。図８に示すように、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂがマトリクス状に配置されているので、複数の被吐出部１８Ｒ同士も、マトリクス状に配置されている。
【００４９】
図８は、１つのノズル列１１６が、Ｙ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１から他端Ｅ２まで相対走査する様子を示している。図８では、説明を平易にする目的で１つのヘッド１１４おける１つのノズル列１１６しか図示されていないが、以下の説明は、他のヘッド１１４のノズル列１１６についても同様である。また、図８では、１つのノズル列１１６中に、７つのノズル１１８しか図示されていなが、実際には上述したように１８０個のノズル１１８が位置している。
【００５０】
図８に示すように、ノズル列方向ＨＸは、Ｘ軸方向に対して所定の角度ＡＮをなす方向である。つまり、複数のノズル１１８が、Ｘ軸方向に対して所定の角度ＡＮをなす方向に一列に並んでいる。所定の角度ＡＮについては後述する。
【００５１】
図８の走査範囲１３４Ａとは、ノズル列１１６のＸ軸方向の位置（またはＸ座標）を基体１０Ａに対して固定した場合に、ノズル列１１６がＹ軸方向に並んだ被吐出部１８Ｒをすべて塗布するまでにノズル列１１６がＹ軸方向に相対移動する範囲を意味する。ここで、基体１０Ａにおける被吐出部１８Ｒのすべてを塗布するまでにノズル列１１６のＸ軸方向の位置を何度か移動させる場合には、１つのノズル列１１６に対して、Ｘ軸方向に並んだ複数の走査範囲１３４Ａが存在する。また、走査範囲１３４Ａは、図４、図５に示したノズル列１１６毎に定義されてよい。ただし、用語「走査範囲」は、上述のように狭義には１つのノズル列１１６が相対移動する範囲を意味するが、広義には、１つのノズル１１８が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのヘッド１１４が相対移動する範囲を意味することもあるし、キャリッジ１０３が相対移動する範囲を意味することもある。また、本発明では、Ｘ軸方向の位置およびＹ軸方向の位置をそれぞれ「Ｘ座標」および「Ｙ座標」と表記することもある。
【００５２】
本発明では、１つのノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１（または他端Ｅ２）から他端Ｅ２（または一端Ｅ１）に至るまでに、その１つのノズル列１１６が行う吐出動作を、「１回の塗布走査」と表記することもあるし、「１回のパス」と表記することもある。
【００５３】
以下では、図８に示す１２個の被吐出部１８Ｒのすべてに対して吐出装置１００Ｒがカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程を、工程（Ａ１）、工程（Ａ２）、および工程（Ａ３）に分けて説明する。工程（Ａ２）および工程（Ａ３）は、工程（Ａ１）の後に、どちらかが選択される工程である。
【００５４】
（Ａ１）塗布走査の第１の工程：
図８のノズル列１１６は、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する第１のノズル１１８Ａと、吐出動作を行わない第２のノズル１１８Ｂと、を含む。図８に示す例では、ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１から他端Ｅ２まで相対走査を１回する場合、最も左側のノズル１１８と左から５番目のノズル１１８とが複数の第１のノズル１１８Ａとして機能する。図８では、第１のノズル１１８Ａは黒丸で示されている。一方、一端Ｅ１から他端Ｅ２への１回の相対走査の期間に亘って、第１のノズル１１８Ａの間に位置する３つのノズル１１８が第２のノズル１１８Ｂとして機能する。図８では、第２のノズル１１８Ｂは白丸で示されている。カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するノズル１１８同士、すなわち第１のノズル１１８Ａ同士、のＸ軸方向の間隔ＬＮＸは、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸの２倍の４７４μｍ（２３７μｍ×２）である。ここで、図５で説明したように、ノズル列方向ＨＸに沿ったノズル１１８の間隔は１４０μｍであるので、ノズル列方向ＨＸに沿った第１のノズル１１８Ａ同士の間隔は、５６０μｍである。したがって、ノズル列方向ＨＸとＸ軸方向との間の角度ＡＮが３２．２°に設定されれば、第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸは４７４μｍになる。このため、ノズル列方向ＨＸは、Ｘ軸方向に対してＡＮ＝３２．２°をなすように配置されている。
【００５５】
本発明では、第１のノズル１１８Ａを「吐出ノズル」と表記することもある。また、本発明では、第２のノズル１１８Ｂを「非吐出ノズル」と表記することもある。
【００５６】
ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１から他端Ｅ２まで１回の相対走査を開始する前に、図８に示すノズル１１８のうちの最も左のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置が、図８の被吐出部１８Ｒの列のうちの最も左の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致するように、制御部１１２が第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に信号を与える。この結果、左下から５番目のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置は、左から７番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致する。
【００５７】
そして、走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１からＹ軸方向の負の方向（図面下方向）に、ノズル列１１６の相対走査を開始する。この場合、ノズル列１１６が他端Ｅ２に到着するまでに、第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、第１のノズル１１８Ａから対応する被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００５８】
しかしながら、ノズル列１１６が一端Ｅ１から他端Ｅ２まで相対走査する期間内に、第２のノズル１１８Ｂが被吐出部１８Ｒに対応する領域に進入しても、第２のノズル１１８Ｂのいずれからもなんら材料は吐出されない。
【００５９】
したがって、ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの一端Ｅ１から他端Ｅ２まで相対走査を１回する期間内に、最も左の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から７番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒとに、同じ材料（つまりカラーフィルタ材料１１１Ｒ）が塗布される。一方、この１回の相対走査の期間内では、左から４番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒに対しては第２のノズル１１８Ｂがその領域に侵入してもなんら材料は吐出されない。
【００６０】
一端Ｅ１と他端Ｅ２との間の工程（Ａ１）は、最も左の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から７番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるまで繰り返される。ここで、所望の厚さのカラーフィルタ１１１Ｒの層が形成されるまで工程（Ａ１）を連続的に行ってもよいし、後述する工程（Ａ２）または（Ａ３）を途中に挿入することで、他の列を構成する被吐出部１８Ｒのための塗布走査を交えてもよい。
【００６１】
Ｙ軸方向に沿った少なくとも１回の塗布走査によって、最も左の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から７番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、次に左から４番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に対して、塗布走査を行う。つまり、カラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された列の間に位置する列に対して塗布走査を行う。この場合、以下の（Ａ２）および（Ａ３）に示す２つの塗布走査の工程がある。
【００６２】
（Ａ２）塗布走査の第２の工程：
塗布走査の第２の工程は、複数のノズル１１８に対する第１のノズル１１８Ａの機能の割当てと第２のノズル１１８Ｂの機能の割当てとを変えない工程である。
【００６３】
図９に示すように、まず、制御部１１２は、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸと同じ距離だけ、ノズル列１１６をＸ軸方向の正の方向（図面の右方向）に相対的に移動させることで、ノズル列１１６を走査範囲１３４Ｂに位置させる。この際、図９に示すノズル１１８のうちの最も左のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置が、図９の被吐出部１８Ｒの列のうちの左から４番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致するように、制御部１１２が第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に信号を与える。この結果、左から５番目のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置は、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致する。
【００６４】
次に、走査範囲１３４Ｂの他端Ｅ２からＹ軸方向の正の方向（図面上方向）に、ノズル列１１６の相対走査を開始する。この場合、ノズル列１１６が一端Ｅ１に到着するまでに、第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、第１のノズル１１８Ａから対応する被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００６５】
しかしながら、ノズル列１１６が他端Ｅ２から一端Ｅ１に相対走査する期間内に、第２のノズル１１８Ｂが被吐出部１８Ｒに対応する領域に進入しても、第２のノズル１１８Ｂのいずれからもなんら材料は吐出されない。
【００６６】
したがって、ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ｂの他端Ｅ２から一端Ｅ１まで相対走査を１回する期間内に、左から４番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、に同じ材料（つまりカラーフィルタ材料１１１Ｒ）が塗布される。一方、この１回の塗布走査の期間内では、左から７番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒに対して第２のノズル１１８Ｂがその領域に侵入したとしてもなんら材料は吐出されない。
【００６７】
他端Ｅ２と一端Ｅ１との間のこの工程（Ａ２）は、左から４番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるまで続けられる。ここで、これらの列を構成する被吐出部１８Ｒに所望の厚さのカラーフィルタ１１１Ｒの層が形成されるまで工程（Ａ２）を連続して行ってもよいし、途中でノズル列１１６のＸ軸方向の位置を変えて、他の列を構成する被吐出部１８Ｒのための塗布走査を交えてもよい。
【００６８】
（Ａ３）塗布走査の第３の工程：
塗布走査の第３の工程は、複数のノズル１１８に対する第１のノズル１１８Ａの機能の割当てと第２のノズル１１８Ｂの機能の割当てとを変える工程である。
【００６９】
図１０に示すように、この場合には、複数のノズル１１８のうち、左から３番目のノズル１１８と、左から７番目のノズル１１８とが、複数の第１のノズル１１８Ａとして機能する。一方、その他のノズル１１８は第２のノズル１１８Ｂとして機能する。第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸは、被吐出部１８ＲのＸ軸方向の間隔ＬＲＸの２倍である。なお、この工程（Ａ３）の場合のノズル列１１６のＸ軸方向の位置は、１回目の工程（Ａ１）の場合のノズル列１１６のＸ軸方向の位置と同じである。
【００７０】
ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの他端Ｅ２から一端Ｅ１までの相対走査を開始する前に、図１０に示すノズル１１８のうちの左から３番目のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置が、図１０の被吐出部１８Ｒの列のうちの左から４番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致するように、制御部１１２が第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に信号を与える。この結果、左から７番目のノズル１１８（第１のノズル１１８Ａ）のＸ軸方向の位置は、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８ＲのＸ軸方向の位置に一致する。
【００７１】
次に、走査範囲１３４Ａの他端Ｅ２からＹ軸方向の正の方向（図面上方向）に、ノズル列１１６の相対走査を開始する。この場合、ノズル列１１６が一端Ｅ１に到着するまでに第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、第１のノズル１１８Ａから対応する被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００７２】
しかしながら、ノズル列１１６が他端Ｅ２から一端Ｅ１に相対走査する期間内に、第２のノズル１１８Ｂが被吐出部１８Ｒに対応する領域に進入しても、第２のノズル１１８Ｂのいずれからもなんら材料は吐出されない。
【００７３】
したがって、ノズル列１１６がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４Ａの他端Ｅ２から一端Ｅ１まで相対走査を１回する期間内に、左から４番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、に同じ材料（つまりカラーフィルタ材料１１１Ｒ）が塗布される。一方、この１回の塗布走査の期間内では、最も左側の列に含まれる被吐出部１８Ｒと、左から７番目の列に含まれる被吐出部１８Ｒとに対して、第２のノズル１１８Ｂがその領域に侵入したとしても、なんら材料は吐出されない。
【００７４】
他端Ｅ２と一端Ｅ１との間のこの工程（Ａ３）は、左から４番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、左から１０番目の列を構成する被吐出部１８Ｒと、に所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるまで続けられる。ここで、これらの列を構成する被吐出部１８Ｒに所望の厚さのカラーフィルタ１１１Ｒの層が形成されるまで工程（Ａ３）を連続して行ってもよいし、上記工程（Ａ２）を途中に挿入することで、他の列を構成する被吐出部１８Ｒのための塗布走査を交えてもよい。
【００７５】
上記工程（Ａ１）と、工程（Ａ１）に引き続く工程（Ａ２）または工程（Ａ３）とによって、図８、図９、図１０に示された１２個の被吐出部１８Ｒのすべてに所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成される。１２個の被吐出部１８Ｒのすべてに所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されると、その後、制御部１１２はノズル列１１６をＸ軸方向に相対移動させることで、まだ塗布されていない被吐出部１８Ｒを含む走査範囲にノズル列１１６を位置させる。そして、上記の工程は、基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてに所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるまで繰り返される。
【００７６】
以下では、工程（Ａ１）と工程（Ａ３）とを繰り返すことで、基体１０Ａのすべての被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する方法を、より詳細に説明する。
【００７７】
吐出装置１００Ｒは、工程（Ａ１）と、工程（Ａ３）と、ノズル列１１６のＸ軸方向への相対走査と、を繰り返すことで、基体１０Ａ上が有するすべての被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する。図１１（ａ）および（ｃ）に示すように、工程（Ａ１）の期間の間には、第１のノズル１１８Ａの配置パターンは第１配置パターンとなる。具体的には、図１１（ａ）および（ｃ）に示すノズル１１８のうち、最も左のノズル１１８と、左から５番目のノズル１１８とが、第１のノズル１１８Ａとなる。一方、図１１（ｂ）および（ｄ）に示すように、工程（Ａ３）の期間の間には、第１のノズル１１８Ａの配置パターンが第２配置パターンとなる。具体的には、工程（Ａ３）の場合には、図１１（ｂ）および（ｄ）に示すノズル１１８のうち、左から３番目のノズル１１８と、最も右のノズル１１８とが、第１のノズル１１８Ａとなる。なお、図１１（ａ）から（ｄ）は、同じノズル列１１６の同じ箇所を図示している。また、図１１（ａ）から（ｄ）は、第１のノズル１１８Ａを黒丸で描いている。
【００７８】
第１配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸは、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸの２倍である。同様に、第２配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸも、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸの２倍である。ただし、第１配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａの位置と、第２配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａの位置とは、ヘッド１１４上で互いに半ピッチずれている。
【００７９】
図１１に示すように、吐出装置１００Ｒが、順番に、工程（Ａ１）、工程（Ａ３）、工程（Ａ１）、工程（Ａ３）を行う場合には、一つのノズル列１１６において、第１配置パターンと、第２配置パターンと、が交互に現れる。なお、図１１には省略されているが、工程（Ａ３）から工程（Ａ１）に移行する間で、吐出装置１００Ｒはノズル列１１６をＸ軸方向に相対走査するステップを行う。
【００８０】
図１２のフローチャートを参照しながら、吐出装置１００Ｒが、工程（Ａ１）と、工程（Ａ３）と、ノズル列１１６のＸ軸方向への相対走査と、を繰り返す場合を説明する。なお、図１２に示すステップＳ０からＳ２０のうち、ステップＳ２からステップＳ８までが工程（Ａ１）に対応し、ステップＳ１０からステップＳ１４までが工程（Ａ３）に対応する。
【００８１】
まず、ノズル列１１６における任意の２つのノズル１１８のＸ軸方向の距離と、被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向の間隔ＬＲＸと、が一致するように、ノズル列方向ＨＸが設定される。これら任意の２つのノズル１１８が互いに隣接している必要はない。これによって、図８におけるすべての被吐出部１８Ｒのそれぞれに、ノズル列１１６に含まれるノズル１１８のうち少なくともいずれかが対応する。
【００８２】
吐出装置１００Ｒは、ステップＳ０において処理を開始する。
【００８３】
ステップＳ０に引き続くステップＳ２において、ノズル列１１６（ヘッド１１４）における第１のノズル１１８Ａの配置パターンが、図１１（ａ）に示す第１配置パターンとなるように、複数のノズル１１８のうちいくつかを第１のノズル１１８Ａとして選択する。第１のノズル１１８Ａとして設定されないノズル１１８は、第２のノズル１１８Ｂとなる。なお、本発明では、「配置パターン」を「コンフィギュレーション」と表記することもある。
【００８４】
ステップＳ２に引き続くステップＳ４において、ノズル列１１６のＸ軸方向の位置を所定のＸ座標に固定する。具体的には、ある１つの第１のノズル１１８ＡのＸ軸方向の位置を、被吐出部１８Ｒが構成する複数の列のうち、いずれかの列のＸ軸方向の位置に一致させる。そのことによって、他の第１のノズル１１８ＡのＸ軸方向の位置も、対応する他の列のＸ軸方向の位置に一致する。
【００８５】
ステップＳ４に引き続くステップＳ６において、ノズル列１１６のＸ軸方向の位置をステップＳ４で固定したＸ座標に維持しながら、ノズル列１１６をＹ軸方向に沿って走査範囲の一端（または他端）から他端（または一端）へ１回相対走査する。本発明では、ステップＳ６においてノズル列１１６がＹ軸方向に相対走査する期間を第１の期間と表記することもある。ステップＳ６の期間内または第１の期間内に、第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、第１のノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。ステップＳ６による塗布走査によって、被吐出部１８Ｒが構成する複数の列のうち、１列おきの列が塗布される。
【００８６】
ステップＳ６に引き続くステップＳ８において、ターゲットとされた被吐出部１８Ｒに所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されたかどうかが、判断される。所望の体積の材料が吐出されていない場合（ステップＳ８のＮＯ）には、処理はステップＳ６に戻り、再度、Ｙ軸方向の相対走査と、材料の吐出と、を行う。
【００８７】
ステップＳ８において、所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されたと判断された場合（ステップＳ８のＹＥＳ）には、ステップＳ１０において、ノズル列１１６に含まれる複数のノズル１１８のうちで第１のノズル１１８Ａとして機能するノズル１１８を変える。つまり、ステップＳ１０において、第１のノズル１１８Ａの配置パターンを、第１配置パターンから第２配置パターンに切り換える。具体的には、第１配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａの中間に位置するノズル１１８が、第２配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａとなる。第２配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａは、工程（Ａ１）の期間の間（少なくともステップＳ６の期間の間）、第２のノズル１１８Ｂである。一方、第１配置パターンにおける第１のノズル１１８Ａは、工程（Ａ３）の間、第２のノズル１１８Ｂとなる。
【００８８】
ステップＳ１０に引き続くステップＳ１２において、ノズル列１１６のＸ軸方向の位置をステップＳ４で固定したＸ座標に維持したまま、ノズル列１１６をＹ軸方向に沿って走査範囲の一端（他端）から他端（一端）へ１回相対走査する。本発明では、ステップＳ１２においてノズル列１１６がＹ軸方向に相対走査する期間を第２の期間と表記することもある。ステップＳ１２の期間内または第２の期間内に、第１のノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入した場合には、対応する第１のノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００８９】
ステップＳ１２に引き続くステップＳ１４において、ターゲットとされた被吐出部１８Ｒに所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されたかどうかが、判断される。所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されていない場合（ステップＳ１４のＮＯ）には、処理はステップＳ１２に戻り、再度、Ｙ軸方向の相対走査と、材料の吐出と、を行う。
【００９０】
ステップＳ１４において、所望の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されたと判断される場合（ステップＳ１４のＹＥＳ）には、ステップＳ１６において、基体１０Ａにおけるすべての被吐出部１８Ｒに材料が吐出されたかどうかが、判断される。
【００９１】
ステップＳ１６において、基体１０におけるすべての被吐出部１８Ｒに材料が吐出されと判断された場合（ステップＳ１６のＹＥＳ）には、ステップＳ２０において処理を終了する。
【００９２】
ステップＳ１６において、基体１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒに材料が吐出されていないと判断された場合（ステップＳ１６のＮＯ）には、ステップＳ１８において、ノズル列１１６をＸ軸方向に相対走査することで、材料が塗布されていない被吐出部１８Ｒを含む走査範囲にノズル列１１６を位置させる。そして、材料が塗布されていない被吐出部１８Ｒに対して、ステップＳ２からステップＳ１６までのステップを行う。
【００９３】
以上では、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程のみを説明した。以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。
【００９４】
まず、以下の手順にしたがって図１の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。なお、バンク１６として、樹脂ブラックからなるバンクを用いてもよい。樹脂ブラックは遮光性を有しているため、ブラックマトリクス１４となる金属薄膜の形成を省略してもよい。つまり、樹脂ブラックを用いる場合には、バンク１６がブラックマトリクス１４の機能を併せ持つため、ブラックマトリクス１４を省略できる。
【００９５】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂとなる。なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂである。
【００９６】
被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１３（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。吐出装置１００Ｒのカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２を参照しながら説明した方法である。基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。
【００９７】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１３（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。吐出装置１００Ｇのカラーフィルタ材料１１１Ｇの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２を参照しながら説明した方法と同じである。基体１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。
【００９８】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１３（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。吐出装置１００Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２を参照しながら説明した方法と同じである。基体１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。
【００９９】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。
【０１００】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜１６が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜１６が形成された後に、搬送装置１７０は基体１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜１６を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜１６を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。
【０１０１】
本実施形態によれば、吐出装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂのそれぞれにおいて、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内に液状の材料を吐出するノズル１１８のＸ軸方向の間隔は、その材料が塗布されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。このため、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内で塗布される被吐出部同士のＸ軸方向の間隔は、最終的に同じフィルタ層が形成されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。この結果、塗布走査と同時に材料の乾燥が促され、この結果、被吐出部に塗布された材料の乾燥時間が短くなる。つまり、製造時間を短縮できる。
【０１０２】
（実施形態２）
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置を製造する製造装置２に適用した例を説明する。
【０１０３】
図１４（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図１５）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。
【０１０４】
具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。
【０１０５】
回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成された層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１４（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。
【０１０６】
基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。
【０１０７】
図１４（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【０１０８】
被吐出部３８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ２３７μｍである。この間隔は、被吐出部３８Ｇ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＧＸと同じであり、被吐出部３８Ｂ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＢＸとも同じである。また、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８ＧのそれぞれのＸ軸方向の長さおよびＹ軸方向の長さは、それぞれ約５０μｍおよび約１２０μｍである。
【０１０９】
図１５に示す製造装置２は、図１４の基体３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する搬送装置２７０も備えている。
【０１１０】
図１６に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持するタンク２０１Ｒと、チューブ２１０Ｒを介してタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２（図３）の構成と同じであるため、同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置２００Ｒにおけるタンク２０１Ｒの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクを備える点で吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２０１Ｂ用のタンクを備える点で吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。
【０１１１】
製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図１４に示す基体３０Ａを製造する。
【０１１２】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。なお、画素電極３６の材質、無機バンク４０の材質、および有機バンク４０の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。
【０１１３】
ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極上３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層を設ける場合には、正孔輸送層と、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂをインクジェット法により形成することも可能である。この場合、各画素領域ごとに正孔輸送層を形成するための材料を含む溶液を所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３８Ｂを形成することができる。
【０１１４】
被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１７（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｒを吐出する。吐出装置２００Ｒの発光材料２１１Ｒの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。
【０１１５】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料Ｇを吐出する。吐出装置２００Ｇの発光材料２１１Ｇの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。
【０１１６】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料Ｂを吐出する。吐出装置２００Ｂの発光材料２１１Ｂの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。
【０１１７】
図１７（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図１７（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。
【０１１８】
エレクトロルミネッセンス表示装置５０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。
【０１１９】
本実施形態によれば、吐出装置２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂのそれぞれにおいて、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内に液状の材料を吐出するノズル１１８のＸ軸方向の間隔は、その材料が塗布されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。このため、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内で塗布される被吐出部同士のＸ軸方向の間隔は、最終的に同じ発光層が形成されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。この結果、塗布走査と同時に材料の乾燥が促され、この結果、被吐出部に塗布された材料の乾燥時間が短くなる。つまり、製造時間を短縮できる。
【０１２０】
（実施形態３）
本発明をプラズマ表示装置の背面基板を製造する製造装置３に適用した例を説明する。
【０１２１】
図１８（ａ）および（ｂ）に示す基体５０Ａは、後述する製造装置３（図１９）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基体５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。
【０１２２】
具体的には、基体５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基体５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。
【０１２３】
基体５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６およびバンクによって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を蛍光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を蛍光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を蛍光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１２４】
図１８（ｂ）に示す基体５０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【０１２５】
被吐出部５８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部５８Ｇ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＧＸと同じであり、被吐出部５８Ｂ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＢＸとも同じである。この間隔は、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔に対応する。
【０１２６】
図１９に示す製造装置３は、図１８の基体５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基体５０Ａを搬送する搬送装置３７０も備えている。
【０１２７】
図２０に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持するタンク３０１Ｒと、チューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒから蛍光材料が供給される吐出走査部３０２と、を備える。
【０１２８】
図２５に示すように、本実施形態の吐出走査部３０２においては、ノズル列方向ＨＸと、Ｘ軸方向と、がなす角ＡＮは、０°である。また、本実施形態では、第１のノズル１１８Ａ同士の間隔ＬＮＸは１１２０μｍ（１．１１２ｍｍ）に設定されている。この間隔ＬＮＸは、被吐出部５８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸのほぼ２倍である。一方、２つの第１のノズル１１８Ａの間には、７つの第２のノズル１１８Ｂが位置している。ノズル列方向ＨＸとＸ軸方向との間の角度ＡＮが０°である点と、第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向の間隔ＬＮＸが１１２０μｍに設定されている点と、を除いて、本実施形態の吐出走査部３０２は、実施形態１の吐出走査部１０２（図３）と基本的に同じである。
【０１２９】
吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置３００Ｒにおけるタンク３０１Ｒに代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクを備える点で吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクを備える点で吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。
【０１３０】
製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図１８に示す基体５０Ａを得る。
【０１３１】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。
【０１３２】
被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成された基体５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２１（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料の層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料Ｒを吐出する。吐出装置３００Ｒの蛍光材料３１１Ｒの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。
【０１３３】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。吐出装置３００Ｇの蛍光材料３１１Ｇの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。
【０１３４】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料Ｂを吐出する。吐出装置３００Ｂの蛍光材料３１１Ｂの吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。基体５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。
【０１３５】
以上の工程によって、基体５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる。
【０１３６】
次に図２２に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。
【０１３７】
本実施形態によれば、吐出装置３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂのそれぞれにおいて、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内に液状の材料を吐出するノズル１１８のＸ軸方向の間隔は、その材料が塗布されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。このため、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内で塗布される被吐出部同士のＸ軸方向の間隔は、最終的に同じ蛍光層が形成されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。この結果、塗布走査と同時に材料の乾燥が促され、この結果、被吐出部に塗布された材料の乾燥時間が短くなる。つまり、製造時間を短縮できる。
【０１３８】
（実施形態４）
次に本発明を、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置４に適用した例を説明する。
【０１３９】
図２７（ａ）および（ｂ）に示す基体７０Ａは、後述する製造装置４（図２８）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基体７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。
【０１４０】
具体的には、基体７０Ａは、基板７２と、基板７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。
【０１４１】
１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基板７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。
【０１４２】
基体７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図３１）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップと、を覆うように形成される。図２７（ｂ）において点線で示すように、本実施形態における被吐出部７８の形状は円形である。このように、本発明の被吐出部の形状は実施形態１〜３で説明したような矩形に限定されず、本実施形態において説明するような円形でも構わない。
【０１４３】
図２７（ｂ）に示す基体７０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体７０Ａにおいて、被吐出部７８は、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。さらに、被吐出部７８はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【０１４４】
被吐出部７８同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ１９０μｍである。被吐出部７８同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、画素領域同士の間隔に対応する。
【０１４５】
図２８に示す製造装置４は、図２７の基体７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基体７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。
【０１４６】
図２９に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持するタンク４０１と、チューブ４１０と、チューブ４１０を介してタンク４０１から導電性薄膜材料４１１が供給される吐出走査部３０２と、を備える。吐出走査部３０２の説明は、実施形態３で説明したため省略する。なお、本実施形態では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。
【０１４７】
製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基板７２上に、ニ酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基板７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ２膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４上および複数の素子電極７６Ａ上に銀（Ａｇ）ペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図２７に示す基体７０Ａを得る。
【０１４８】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。
【０１４９】
被吐出部７８が形成された基体７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図３０に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、ヘッド１１４から導電性薄膜材料４１１を吐出する。吐出装置４００の導電性薄膜材料４１１の吐出方法は、図８、図９、図１０、図１１、および図１２（実施形態１）を参照しながら説明した方法と同じである。本実施形態では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基体７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基体７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。
【０１５０】
次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。
【０１５１】
以上の工程によって、図３１に示すように、基体７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。
【０１５２】
次に図３２に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせることで、電子放出素子を備えた画像表装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。
【０１５３】
本実施形態によれば、吐出装置４００において、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内に液状の材料を吐出するノズル１１８のＸ軸方向の間隔は、その材料が塗布されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。このため、Ｙ軸方向に沿った１回の相対走査の期間内で塗布される被吐出部同士のＸ軸方向の間隔は、最終的に同じ導電性薄膜が形成されるべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。この結果、塗布走査と同時に材料の乾燥が促され、この結果、被吐出部に塗布された材料の乾燥時間が短くなる。つまり、製造時間を短縮できる。
【０１５４】
上記実施形態１〜４で説明した製造装置は、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造に適用できる。本発明では、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を利用した表示装置などを「電気光学装置」と表記することもある。なお、本明細書でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化、旋光性の変化、光散乱性の変化、などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。
【０１５５】
上記実施形態１〜４で説明した製造装置によって製造された電気光学装置は、電子機器において利用可能である。さらに、上記実施形態１〜４で説明した製造装置は、電気光学装置を含んだ電子機器の製造装置にも適用できる。
【０１５６】
（実施形態１〜４の変形例）
（１）実施形態１〜４において、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する被吐出部はマトリクス状に配置されている。しかしながら、図２３に示すように、Ｒ，Ｇ、Ｂに対応する被吐出部がデルタ状（千鳥状）に配置されていても、本発明を適用できる。なお、デルタ配置とは、奇数ラインの被吐出部の並びと、偶数ラインの被吐出部の並びとが、互いに半ピッチずれた配置をいう。ここでいうピッチとは、互いに隣接する２つの被吐出部間の間隔である。例えば、ピッチとは、隣接する被吐出部の中心位置間の距離に等しい。
【０１５７】
具体的には、図２３（ａ）の第１ラインに属する被吐出部Ｒ１、Ｇ１、Ｇ１と、第３ラインに属する被吐出部Ｒ３、Ｇ３、Ｂ３は、図２３（ｂ）に示すように、１つのマトリクスを構成する。同様に、第２ラインに属する被吐出部Ｒ２、Ｇ２、Ｂ２と、第４ラインに属する被吐出部Ｒ４、Ｇ４、Ｂ４は、１つの他のマトリクスを構成する。したがって、実施形態１〜３の塗布走査の方法を、奇数ラインに属する被吐出部と、偶数ラインに属する被吐出部とに分けて行えばよい。
【０１５８】
（２）実施形態１〜４において、マトリクス状に配置された被吐出部に対して材料を吐出する製造装置を説明した。しかしながら、図２４に示すように、ストライプ状に配置された被吐出部に対して液状の材料を吐出する製造装置にも本発明を適用できる。より具体的には、図２４は、配線製造装置がプラズマ表示装置５０の支持基板５２にアドレス電極５４を形成する例を示している。
【０１５９】
支持基板５２上の複数の被吐出部８０は、互いに平行であり、それぞれがＹ軸方向に延びたストライプ状の形状を有している。また、複数の被吐出部８０は、Ｘ軸方向に沿って所定の間隔ＸＰで配置されている。複数の被吐出部８０は、互いに同じな複数のアドレス電極５４が形成されるべき領域である。複数のアドレス電極５４は、配線製造装置における第１のノズル１１８Ａから液状の配線材料が塗布されることで形成される。このような配線製造装置においても、第１のノズル１１８Ａ同士のＸ軸方向に沿った間隔を、被吐出部８０のＸ軸方向の間隔ＸＰの２倍である２ＸＰにすればよい。そうすれば、Ｙ軸方向に沿った塗布走査と同時に配線材料の乾燥を促すことができるため、実施形態１〜４の効果と同じ効果が得られる。
【０１６０】
（３）実施形態１および２では、ノズル列方向ＨＸとＸ軸方向とがなす角度ＡＮを３２．２°にすることで、第１のノズル同士の間隔を、同一の材料を塗布すべき被吐出部のＸ軸方向の間隔の２倍に設定した。また、実施形態３および４では、ノズル列方向ＨＸとＸ軸方向とがなす角度ＡＮを０°にすることで、第１のノズル同士の間隔を、同一の材料を塗布すべき被吐出部のＸ軸方向の間隔の２倍に設定した。しかしながら、第１のノズル同士の間隔が同一の材料を塗布すべき被吐出部のＸ軸方向の間隔の２倍に設定されるのであれば、ノズル列ＨＸの方向とＸ軸方向との間の角度ＡＮは、上記の値に限られない。第１のノズル同士の間隔が同一の材料を塗布すべき被吐出部のＸ軸方向の間隔の２倍に設定されれば、Ｙ軸方向に沿った塗布走査と同時に材料の乾燥を促すことができるため、実施形態１〜３の効果と同じ効果が得られる。
【０１６１】
（４）実施形態１〜４において説明したように、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する期間内に、第１のノズルからは材料が吐出され、第２のノズルからはなんら材料は吐出されない。この場合には、一端から他端までの１回の相対走査の期間に亘って、第２のノズルに対応するキャビティ内に充填されている材料に振動を与えることが好ましい。キャビティ内に充填されている材料に振動を与える構成の具体例は以下の通りである。
【０１６２】
まず、ピエゾ素子に印加する電圧（すなわち印加電圧）の最大値と最小値との差が所定値ＳＡＢを超える場合に、対応したノズルから液状の材料が吐出されるとする。例えば、図２６（ａ）に示すように、第１のノズルが被吐出部に対応した領域に侵入する場合には、互いに極性が逆のＴＡおよびＴＢの間で印加電圧を変化させる。具体的には、１つの液滴を吐出する場合に、印加電圧を、期間Ｐ１１の間に０からＴＡに変化させ、期間Ｐ１１に引き続く期間Ｐ１２の間でＴＡからＴＢに変化させ、期間Ｐ１２に引き続く期間Ｐ１３の間に０に戻し、期間Ｐ１３に続く期間Ｐ１４の間０に維持する。ＴＡおよびＴＢは、それぞれ印加電圧の最大値および最小値である。そして、ＴＡとＴＢとの差ＴＡＢは所定値ＳＡＢよりも大きい。時間軸に沿ってこのような波形パターンを有する印加電圧を第１のノズルに対応するピエゾ素子に与えることで、液状の材料が吐出される。図２６（ａ）に示す例では、期間１１、Ｐ１２、Ｐ１３、Ｐ１４からなる波形パターンが１つの液滴の吐出に対応する。また、図２６（ａ）では、この波形パターンが３つ隣接している。なお、本発明では、所定値ＳＡＢを非吐出電圧差と表記することもある。
【０１６３】
一方、第２のノズルに対応するピエゾ素子に印加する電圧（すなわち印加電圧）の最大値と最小値との差は、図２６（ｂ）に示すように、所定値ＳＡＢ以下である。図２６（ｂ）に示す例では、互いに極性が逆であるＲＡとＲＢとの間で印加電圧を変化させる。より具体的には、印加電圧を、期間Ｐ２１の間に０からＲＡに変化させ、期間Ｐ２１に引き続く期間Ｐ２２の間でＲＡからＲＢに変化させ、期間Ｐ２２に引き続く期間Ｐ２３の間に０に戻す。そして、期間Ｐ２１、Ｐ２２、Ｐ２３を含む波形パターン（印加電圧）を所定の周期でピエゾ素子に与える。ＲＡおよびＲＢは、それぞれ印加電圧の最大値および最小値である。そして、ＲＡとＲＢとの差は所定値ＳＡＢ以下である。
【０１６４】
最大値と最小値との差が所定値ＳＡＢ以下となるように変化する印加電圧によってピエゾ素子は振動するが、しかしながら、その振動によって材料は吐出されない。本発明では、ノズルから材料を吐出させない程度の振動を「非吐出振動」と表記することもある。第２のノズルに対応するピエゾ素子が非吐出振動をすることで、第２のノズルに対応するキャビティ内に充填された液状の材料が、その振動を受けてキャビティ内で対流する。液状の材料が対流すると、大気に触れている面の材料が常に流動するので、液状の材料から溶媒が気化することを防止できる。そして、溶媒の気化を防げるため、液状の材料の粘性が増加することを防止でき、このためノズルからの吐出不良を防止できる。なお、印加電圧の最大値および最小値の差を所定値以下にする以外にも、波形パターンの周波数を変えることでも非吐出振動を実現できるし、最大値・最小値の差および周波数の双方を調整することでも非吐出振動を実現できる。
【０１６５】
ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する期間内に、第１のノズルが材料を複数回吐出する場合には、吐出のタイミング間に第１のノズルに対応するピエゾ素子に非吐出振動をさせてもよい。そうすれば、第１のノズルからの材料の吐出がより安定するので、この点で好ましい。
【０１６６】
（５）実施形態１〜４の吐出装置において、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査する前に毎回、ノズル列を走査範囲の外側の所定位置に移動させて、ノズルから材料を吐出してもよい。そうすれば、たとえノズルからの材料の吐出量が規定の吐出量よりも少なくなった場合でも、その位置で吐出動作を続ければ規定の吐出量が回復する可能性が高いからである。本発明では、このような走査範囲外での吐出動作を「予備吐出」と表記することもある。予備吐出を行うことで、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで新たに相対走査する前に、ノズルから材料が安定して吐出されるようになる。予備吐出は、予備吐出の工程に引き続いて行われる塗布走査の工程において第１のノズルとなるノズルに対してのみ行ってもよいし、ノズル列のすべてのノズルに対して行ってもよい。また、予備吐出は、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する毎に行ってもよいし、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を複数回する毎に行ってもよい。
【０１６７】
（６）実施の形態１〜４では、Ｘ軸方向に沿った第１のノズル同士の間隔は、同一の材料を塗布すべき被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍である。ただし、第１のノズル同士のＸ軸方向の間隔は上記間隔の２倍以上の整数倍であってもよい。より具体的には、ノズル列がＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する期間内に、同じ材料が塗布されるべき２つの隣接する被吐出部の列のどちらかに対して吐出動作が行われないのであれば、実施形態１〜３の効果と同様の効果が得られる。
【０１６８】
（７）実施の形態１および２では、２つの第１のノズルの間に３つの第２のノズルが位置していた。しかしながら、第１のノズル同士のＸ軸方向の間隔が、同一の材料の層が形成されるべき複数の被吐出部同士のＸ軸方向の間隔の２倍以上の整数倍であれば、第２のノズルの数は３つに限定されない。具体的には、ノズル列の中に第２のノズルが存在しなくてもよい。しかしながら、ノズル列において少なくとも１つの第２のノズルを設定するようにすれば、同一の材料の層が形成されるべき複数の被吐出部同士のＸ軸方向の間隔よりもノズル同士の間隔が小さい吐出装置を用いて塗布走査ができるため、この点で好ましい。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は実施形態１の基体の断面図を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態１の基体の平面図を示す模式図。
【図２】実施形態１の製造装置を示す模式図。
【図３】実施形態１の吐出装置を示す模式図。
【図４】実施形態１のキャリッジを示す模式図。
【図５】実施形態１のヘッドを示す模式図。
【図６】実施形態１のヘッドを示す模式図。
【図７】吐出装置における制御部の機能ブロック図。
【図８】実施形態１の吐出方法を示す模式図。
【図９】実施形態１の吐出方法を示す模式図。
【図１０】実施形態１の吐出方法を示す模式図。
【図１１】（ａ）〜（ｄ）はノズル列における第１の吐出ノズルの配置パターンを示す模式図。
【図１２】吐出装置の吐出方法を示すフローチャート。
【図１３】（ａ）〜（ｄ）は実施形態１の製造方法を示す模式図。
【図１４】（ａ）は実施形態２の基体の断面図を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態２の基体の平面図を示す模式図。
【図１５】（ａ）〜（ｄ）は実施形態２の製造装置を示す模式図。
【図１６】実施形態２の吐出装置を示す模式図。
【図１７】実施形態２の製造方法を示す模式図。
【図１８】（ａ）は実施形態３の基体の断面図を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態３の基体の平面図を示す模式図。
【図１９】実施形態３の製造装置を示す模式図。
【図２０】実施形態３の吐出装置を示す模式図。
【図２１】（ａ）〜（ｃ）は実施形態３の製造方法を示す模式図。
【図２２】実施形態３のプラズマ表示装置を示す模式図。
【図２３】被吐出部の配置の変形例を示す模式図。
【図２４】被吐出部の配置の変形例を示す模式図。
【図２５】被吐出部とヘッドとの位置関係を示す模式図。
【図２６】第２のノズルに対応するピエゾ素子に与える駆動波形を示す模式図。
【図２７】（ａ）は実施形態４の基体の断面図を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態４の基体の平面図を示す模式図。
【図２８】実施形態４の製造装置を示す模式図。
【図２９】実施形態４の吐出装置を示す模式図。
【図３０】実施形態４の製造方法を示す模式図。
【図３１】実施形態４の電子源基板を示す模式図。
【図３２】実施形態４の製造装置によって製造される表示装置を示す模式図。
【符号の説明】
１、２、３、４…製造装置
１０Ａ…基体
１０…カラーフィルタ基板
１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ…被吐出部
３０Ａ…基体
３０…エレクトロルミネッセンス表示装置
３８Ｒ、３８Ｇ，３８Ｂ…被吐出部
５０Ａ…基体
５０…プラズマ表示装置
５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂ…被吐出部
７０Ａ…基体
７０…電子放出素子を備えた画像表示装置
７８…被吐出部
１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ、２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂ、３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂ、４００…吐出装置
１０３…キャリッジ
１１４…ヘッド
１１６…ノズル列
１１８…ノズル
１１８Ａ…第１のノズル
１１８Ｂ…第２のノズル
２００…入力バッファメモリ
２０２…記憶手段
２０４…処理部
２０６…走査ドライバ
２０８…ヘッドドライバ
１０４…第１位置制御手段
１０８…第２位置制御手段
１０６…ステージ
Claims (27)
- 互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の材料を塗布する吐出装置であって、
前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、
前記材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、
前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部と、を備え、
前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に前記材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である、
吐出装置。 - 請求項１記載の吐出装置であって、
前記ノズル列は、複数の第１のノズルと、少なくとも１つの第２のノズルと、からなり、
前記複数の第１のノズルは前記期間内に前記材料を吐出する前記ノズルであり、
前記少なくとも１つの第２のノズルは、前記期間中吐出を行わない、
吐出装置。 - 請求項２記載の吐出装置であって、
前記ノズル列における２つのノズルのＸ軸方向の距離が前記所定の長さに一致するように、前記所定の角度が設定されており、
前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第１の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第１配置パターンであり、前記第１配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記材料を吐出し、
前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を前記所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第２の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第２配置パターンであり、前記第２配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記材料を吐出し、
前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置とは、互いに半ピッチずれている、
吐出装置。 - 請求項３記載の吐出装置であって、
前記ノズル列に対して前記Ｘ軸方向に並んだ複数の走査範囲が設定されており、
前記複数の被吐出部のすべてに前記材料を塗布するように、前記複数の走査範囲のそれぞれに対して、前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記材料の吐出と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記材料の吐出とを行う、
吐出装置。 - 請求項２記載の吐出装置であって、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する前に、少なくとも前記複数の第１のノズルから予備吐出を行う、
吐出装置。 - 請求項２記載の吐出装置であって、
前記ヘッドは、前記材料が充填されるキャビティであって、それぞれが前記複数の第１のノズルおよび前記少なくとも１つの第２のノズルのそれぞれに対応する複数のキャビティと、それぞれが前記複数のキャビティのそれぞれに対応する複数のピエゾ素子と、を備えており、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に、前記第２のノズルに対応する前記キャビティ内で前記材料が対流するように、対応する前記ピエゾ素子が振動する、
吐出装置。 - 互いに同じフィルタ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状のカラーフィルタ材料を塗布する吐出装置を備えたカラーフィルタ基板の製造装置であって、
前記吐出装置は、
前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、
前記カラーフィルタ材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、
前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部と、を備え、
前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に前記カラーフィルタ材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である、
カラーフィルタ基板の製造装置。 - 請求項７記載のカラーフィルタ基板の製造装置であって、
前記ノズル列は、複数の第１のノズルと、少なくとも１つの第２のノズルと、からなり、
前記複数の第１のノズルは前記期間内に前記カラーフィルタ材料を吐出する前記ノズルであり、
前記少なくとも１つの第２のノズルは、前記期間中吐出を行わない、
カラーフィルタ基板の製造装置。 - 請求項８記載のカラーフィルタ基板の製造装置であって、
前記ノズル列における２つのノズルのＸ軸方向の距離が前記所定の長さに一致するように、前記所定の角度が設定されており、
前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第１の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第１配置パターンであり、前記第１配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記カラーフィルタ材料を吐出し、
前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を前記所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第２の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第２配置パターンであり、前記第２配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記カラーフィルタ材料を吐出し、
前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置とは、互いに半ピッチずれている、
カラーフィルタ基板の製造装置。 - 請求項９記載のカラーフィルタ基板の製造装置であって、
前記ノズル列に対して前記Ｘ軸方向に並んだ複数の走査範囲が設定されており、
前記複数の被吐出部のすべてに前記カラーフィルタ材料を塗布するように、前記複数の走査範囲のそれぞれに対して、前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記カラーフィルタ材料の吐出と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記カラーフィルタ材料の吐出とを行う、
カラーフィルタ基板の製造装置。 - 請求項８記載のカラーフィルタ基板の製造装置であって、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する前に、少なくとも前記複数の第１のノズルから予備吐出を行う、
カラーフィルタ基板の製造装置。 - 請求項８記載のカラーフィルタ基板の製造装置であって、
前記ヘッドは、前記カラーフィルタ材料が充填されるキャビティであって、それぞれが前記複数の第１のノズルおよび前記少なくとも１つの第２のノズルのそれぞれに対応する複数のキャビティと、それぞれが前記複数のキャビティのそれぞれに対応する複数のピエゾ素子と、を備えており、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に、前記第２のノズルに対応する前記キャビティ内で前記カラーフィルタ材料が対流するように、対応する前記ピエゾ素子が振動する、
カラーフィルタ基板の製造装置。 - 請求項７記載のカラーフィルタの製造方法によって製造されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の材料を塗布する吐出装置を備えた電気光学装置の製造装置であって、
前記吐出装置は、
前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、
前記材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、
前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部と、を備え、
前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に前記材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である、
電気光学装置の製造装置。 - 請求項１４記載の電気光学装置の製造装置であって、
前記ノズル列は、複数の第１のノズルと、少なくとも１つの第２のノズルと、からなり、
前記複数の第１のノズルは前記期間内に前記材料を吐出する前記ノズルであり、
前記少なくとも１つの第２のノズルは、前記期間中吐出を行わない、
電気光学装置の製造装置。 - 請求項１５記載の電気光学装置の製造装置であって、
前記ノズル列における２つのノズルのＸ軸方向の距離が前記所定の長さに一致するように、前記所定の角度が設定されており、
前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第１の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第１配置パターンであり、前記第１配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記材料を吐出し、
前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を前記所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する第２の期間内には、前記ノズル列における前記複数の第１のノズルの配置パターンは第２配置パターンであり、前記第２配置パターンの前記複数の第１のノズルが前記被吐出部に前記材料を吐出し、
前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルの位置とは、互いに半ピッチずれている、
電気光学装置の製造装置。 - 請求項１６記載の電気光学装置の製造装置であって、
前記ノズル列に対して前記Ｘ軸方向に並んだ複数の走査範囲が設定されており、
前記複数の被吐出部のすべてに前記材料を塗布するように、前記複数の走査範囲のそれぞれに対して、前記第１配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記材料の吐出と、前記第２配置パターンにおける前記複数の第１のノズルからの前記材料の吐出とを行う、電気光学装置の製造装置。 - 請求項１５記載の電気光学装置の製造装置であって、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する前に、少なくとも前記複数の第１のノズルから予備吐出を行う、
電気光学装置の製造装置。 - 請求項１５記載の電気光学装置の製造装置であって、
前記ヘッドは、前記材料が充填されるキャビティであって、それぞれが前記複数の第１のノズルおよび前記少なくとも１つの第２のノズルのそれぞれに対応する複数のキャビティと、それぞれが前記複数のキャビティのそれぞれに対応する複数のピエゾ素子と、を備えており、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に、前記第２のノズルに対応する前記キャビティ内で前記材料が対流するように、対応する前記ピエゾ素子が振動する、
電気光学装置の製造装置。 - 請求項１４記載の電気光学装置の製造方法によって製造されることを特徴とする電気光学装置。
- 互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、それぞれがＹ軸方向に延びるストライプ状に配置されるとともに、前記Ｙ軸方向と直交するＸ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の材料を塗布する吐出装置であって、
前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、
前記材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、
前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部と、を備え、
前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に前記材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である、
吐出装置。 - 互いに同じ配線が形成されるべき複数の被吐出部であって、それぞれがＹ軸方向に延びるストライプ状に配置されるとともに、前記Ｙ軸方向と直交するＸ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に液状の配線材料を塗布する吐出装置を備えた配線製造装置であって、
前記吐出装置は、
前記複数の被吐出部の位置を決めるステージと、
前記配線材料を吐出可能なノズル列を有するヘッドと、
前記ノズル列が前記複数の被吐出部に対して前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向のそれぞれの方向に相対走査するように前記ステージに対する前記ヘッドの相対位置を変える走査部と、を備え、
前記ノズル列は前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んでいて、
前記ノズル列が前記Ｙ軸方向に相対走査する期間内に前記配線材料を吐出するノズル同士の前記Ｘ軸方向の間隔は前記所定の長さの２倍以上の整数倍である、
配線製造装置。 - 互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に吐出装置から液状の材料を吐出する吐出工程を含んだ電気光学装置の製造方法であって、
前記吐出工程は、
前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んだノズル列における複数のノズルのうち、前記Ｘ軸方向に沿った互いの間隔が前記所定の長さの２倍以上の整数倍である複数のノズルを複数の吐出ノズルとして設定するステップ（ａ）と、
前記複数の吐出ノズルのＸ軸方向の位置を対応する前記被吐出部のＸ軸方向の位置に一致させるステップ（ｂ）と、
前記ノズル列を前記Ｙ軸方向に相対走査させるステップ（ｃ）と、
前記ステップ（ｃ）の期間内に、前記複数の吐出ノズルからのみ前記対応する被吐出部に材料を吐出するステップ（ｄ）と、を含んでいる、
電気光学装置の製造方法。 - 互いに同じ層が形成されるべき複数の被吐出部であって、互いに直交するＸ軸方向およびＹ軸方向に並ぶとともに前記Ｘ軸方向の間隔が所定の長さである複数の被吐出部、に吐出装置から液状の材料を吐出する吐出方法であって、
前記Ｘ軸方向と所定の角度をなす方向に並んだノズル列における複数のノズルのうち、前記Ｘ軸方向に沿った互いの間隔が前記所定の長さの２倍以上の整数倍である複数のノズルを複数の吐出ノズルとして設定するステップ（ａ）と、
前記複数の吐出ノズルのＸ軸方向の位置を対応する前記被吐出部のＸ軸方向の位置に一致させるステップ（ｂ）と、
前記ノズル列を前記Ｙ軸方向に相対走査させるステップ（ｃ）と、
前記ステップ（ｃ）の期間内に、前記複数の吐出ノズルからのみ前記対応する被吐出部に材料を吐出するステップ（ｄ）と、
を含んだ吐出方法。 - 請求項２４記載の吐出方法であって、
前記ノズル列における２つのノズルのＸ軸方向の距離が前記所定の長さに一致するように、前記所定の角度が設定されており、
前記吐出方法は、
前記ノズル列における前記複数の吐出ノズルの配置パターンを第１配置パターンにするステップ（ｅ）と、
前記ステップ（ｅ）の後で、前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列をＹ軸方向に相対走査するステップ（ｆ）と、
前記ステップ（ｆ）の期間内に、前記複数の吐出ノズルから対応する前記被吐出部に前記材料を吐出するステップ（ｇ）と、
前記ノズル列における前記複数の吐出ノズルの配置パターンを第２配置パターンにするステップ（ｈ）と、
前記ステップ（ｈ）の後で、前記ノズル列の前記Ｘ軸方向の位置を前記所定のＸ座標に一致させながら前記ノズル列を前記Ｙ軸方向に相対走査するステップ（ｉ）と、
前記ステップ（ｉ）の期間内に、前記複数の吐出ノズルから対応する前記被吐出部に前記材料を吐出するステップ（ｊ）と、を含み、
前記第１配置パターンにおける前記複数の吐出ノズルの位置と、前記第２配置パターンにおける前記複数の吐出ノズルの位置とは、互いに半ピッチずれている、
吐出方法。 - 請求項２５記載の吐出方法であって、
前記複数の被吐出部のすべてに前記材料を塗布するように、前記ノズル列に対応する複数の走査範囲のそれぞれに対して、前記ステップ（ｅ）からステップ（ｊ）を行う、吐出方法。 - 請求項２０記載の電気光学装置を含むことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003193104A JP2005031149A (ja) | 2003-07-07 | 2003-07-07 | 吐出装置、カラーフィルタ基板の製造装置、カラーフィルタ基板、電気光学装置、電気光学装置の製造装置、配線製造装置、電気光学装置の製造方法、および吐出方法、ならびに電子機器。 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003193104A JP2005031149A (ja) | 2003-07-07 | 2003-07-07 | 吐出装置、カラーフィルタ基板の製造装置、カラーフィルタ基板、電気光学装置、電気光学装置の製造装置、配線製造装置、電気光学装置の製造方法、および吐出方法、ならびに電子機器。 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005031149A true JP2005031149A (ja) | 2005-02-03 |
Family
ID=34204698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003193104A Withdrawn JP2005031149A (ja) | 2003-07-07 | 2003-07-07 | 吐出装置、カラーフィルタ基板の製造装置、カラーフィルタ基板、電気光学装置、電気光学装置の製造装置、配線製造装置、電気光学装置の製造方法、および吐出方法、ならびに電子機器。 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005031149A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015095992A1 (zh) * | 2013-12-23 | 2015-07-02 | 北京美科艺数码科技发展有限公司 | 喷墨打印装置及打印方法 |
-
2003
- 2003-07-07 JP JP2003193104A patent/JP2005031149A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015095992A1 (zh) * | 2013-12-23 | 2015-07-02 | 北京美科艺数码科技发展有限公司 | 喷墨打印装置及打印方法 |
| CN105026158A (zh) * | 2013-12-23 | 2015-11-04 | 北京美科艺数码科技发展有限公司 | 喷墨打印装置及打印方法 |
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