JP2005017665A - Heat developable photosensitive material and image forming method - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved heat developable photosensitive material having high sensitivity and little fog and an image forming method. <P>SOLUTION: The heat developable photosensitive material includes an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on one and the same surface of a support, wherein (1) the heat developable photosensitive material contains a development accelerator and (2) the non-photosensitive organic silver salt is subjected to oxidation treatment. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【００１７】
（式中、Ｘ_１ａおよびＸ_２ａはそれそれ独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ^１ａ〜Ｒ^３ａはそれそれ独立に水素原子または置換基を表す。ｍ及びｐはそれそれ独立に０〜４の整数、ｎは０〜２の整数を表す。）
＜９＞ 前記現像促進剤が下記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で表される化合物であることを特徴とする＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の熱現像感光材料。
【００１８】
【化４】

【００１９】
（一般式（Ｉ）において、Ｒ^１はアルキル基、アリール基、アルケニル基、ヘテロ環、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基またはアルキニル基を表し、Ｘ^１はアシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基またはスルファモイル基を表す。Ｙ^１〜Ｙ^５はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
（一般式（ＩＩ）において、Ｑ^１は炭素原子でＮＨＮＨ−Ｒ^１ｂと結合する５〜７員の不飽和環を表し、Ｒ^１ｂはカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、又はスルファモイル基を表す。）
（一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、Ｒ^３ｃ、Ｘ^１ｃおよびＸ^２ｃはそれぞれ独立に水素原子；ハロゲン原子；または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子もしくはリン原子でベンゼン環に結合する置換基を表す。
但し、Ｘ^１ｃ、Ｘ^２ｃの少なくとも一方は、−ＮＲ^４Ｒ^５で表される基である。Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、あるいは−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ）_２または−Ｃ（＝ＮＲ’）−Ｒで表される基である。Ｒ、Ｒ’はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基から選ばれる基である。これらの置換基はそれぞれ隣接する基同士が結合して環を形成してもよい。）
（一般式（ＩＶ）において、Ｘ^１ｄは置換基を表し、Ｘ^２ｄ〜Ｘ^４ｄはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。但し、Ｘ^１ｄ〜Ｘ^４ｄでヒドロキシ基であることはなく、Ｘ^３ｄはスルホンアミド基であることはない。Ｘ^１ｄ〜Ｘ^４ｄで表される置換基は互いに結合して環を形成しても良い。Ｒ^１ｄは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基またはアルコキシ基を表す。）
＜１０＞ 前記バインダーとしてポリマーラテックスを含有することを特徴とする＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載の熱現像感光材料。
＜１１＞ 前記ポリマーラテックスを全バインダーの３０質量％以上含有することを特徴とする＜１０＞に記載の熱現像感光材料。
＜１２＞ 銀塗設量が０．５ｇ／ｍ^２〜１．９ｇ／ｍ^２の範囲にあることを特徴とする＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の熱現像感光材料。
＜１３＞ 前記＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の熱現像感光材料を用いて、熱現像時間５秒〜１４秒の範囲内で熱現像することにより画像を形成する画像形成方法。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の熱現像感光材料は、支持体の少なくとも一方面上に感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤、及びバインダーを含有する画像形成層を有している。また、画像形成層の上に表面保護層、あるいはその反対面にバック層やバック保護層などを有してもよい。
画像形成層、表面保護層、バック層、およびバック保護層などは、それぞれ単層でも複数の層より構成されても良い。
これらの各層の構成、およびその好ましい成分について詳しく説明する。
【００２１】
１．熱現像感光材料
１−１．非感光性有機銀塩
本発明に用いられる非感光性有機銀塩（以後、単に有機銀塩とも記載される）について説明する。
本発明の有機銀塩の調製方法は、すでに良く知られているが、次の工程を経て調製される。
ａ．有機酸、またはそのアルカリ金属塩と水溶性銀塩との反応による有機銀塩の生成
ｂ．ろ過による副生塩類を除去
ｃ．乾燥
ｄ．分散（有機銀塩、好ましくは護コロイドを含有し、水を分散媒とした所望の微粒子に分散する）
ｃの乾燥工程は、必須ではなく、水分をある程度含んだウェットケーキ状態でｄの分散工程に進むこともできる。
本発明に用いられる有機銀塩は、少なくともこれらの工程のいずれかの工程、または分散物調製後、感光性ハロゲン化銀と混合されるまでの間の工程の少なくとも１つの工程で有機銀塩の酸化処理がなされる。
【００２２】
以下に詳細に説明する。
１）有機銀塩の組成
本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀及び還元剤の存在下で、８０℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀イオン供給体として機能し、銀画像を形成せしめる銀塩である。このような非感光性の有機銀塩については、特開平１０−６２８９９号の段落番号００４８〜００４９、欧州特許公開第０８０３７６４Ａ１号の第１８ページ第２４行〜第１９ページ第３７行、欧州特許公開第０９６２８１２Ａ１号、特開平１１−３４９５９１号、特開２０００−７６８３号、同２０００−７２７１１号等に記載されている。有機酸の銀塩、特に（炭素数が１０〜３０、好ましくは１５〜２８の）長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。脂肪酸銀塩の好ましい例としては、リグノセリン酸、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、エルカ酸およびこれらの混合物などを含む。
【００２３】
本発明においては、これら脂肪酸銀の中でも、ベヘン酸銀含有率が５０モル％以上、好ましくは９０モル％以上、さらに好ましくは９５モル％以上の脂肪酸銀を用いることが好ましい。この範囲の高純度のベヘン酸銀は、かぶりが低く、特に本発明の目的を達成するのに好ましい有機銀塩である。
【００２４】
２）粒子サイズ、形状
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状いずれでもよい。
本発明においてはりん片状の有機銀塩が好ましい。また、長軸と単軸の長さの比が５以下の短針状、直方体、立方体またはジャガイモ状の不定形粒子も好ましく用いられる。これらの有機銀粒子は長軸と単軸の長さの比が５以上の長針状粒子に比べて熱現像時のカブリが少ないという特徴を有している。特に、長軸と単軸の比が３以下の粒子は塗布膜の機械的安定性が向上し好ましい。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からａ、ｂ、ｃとした（ｃはｂと同じであってもよい。）とき、短い方の数値ａ、ｂで計算し、次のようにしてｘを求める。
ｘ＝ｂ／ａ
【００２５】
このようにして２００個程度の粒子についてｘを求め、その平均値ｘ（平均）としたとき、ｘ（平均）≧１．５の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは３０≧ｘ（平均）≧１．５、より好ましくは２０≧ｘ（平均）≧２．０である。因みに針状とは１≦ｘ（平均）＜１．５である。
【００２６】
りん片状粒子において、ａはｂとｃを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。ａの平均は０．０１μ 以上０．２３μｍ 以下が好ましく０．１μｍ 以上０．２３μｍ 以下がより好ましい。ｃ／ｂの平均は好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下、さらに好ましくは１以上３以下、特に好ましくは１以上２以下である。
【００２７】
有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の１００分率が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率（変動係数）が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下である。測定方法としては例えば市販より得られるレーザー光散乱型粒子サイズ測定装置を用いて行うことができる。
【００２８】
３）有機銀塩の調製方法
本発明に用いられる有機酸銀の調製方法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平１０−６２８９９号、欧州特許公開第０８０３７６３Ａ１、欧州特許公開第０９６２８１２Ａ１号、特開平１１−３４９５９１号、特開２０００−７６８３号、同２０００−７２７１１号、特願平１１−３４８２２８〜３０号、同１１−２０３４１３号、特願２０００−９００９３号、同２０００−１９５６２１号、同２０００−１９１２２６号、同２０００−２１３８１３号、同２０００−２１４１５５号、同２０００−１９１２２６号等を参考にすることができる。
４）分散方法
次に、有機銀塩の固体分散物の製造方法について説明する。
従来、一般的に知られているメディア分散の方法としては、有機銀塩の粉末または水や有機溶媒で湿らせたウェットケーキを、水性スラリーにして、公知の粉砕機を用いて分散メディアの存在下で機械力によって粉砕して分散する方法が挙げられる。メディア分散に用いる粉砕機としては、例えばボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、縦形サンドミル、ローラーミル、ピンミル、コボールミル、キャディーミル、横形サンドミル、あるいはアトライターを挙げることができる。また、分散メディアとしては、スチールボール、セラミックボール、ガラスビーズ、アルミナビーズ、ジルコニアシリケートビーズ、ジルコニアビーズ、オタワサンドなどを挙げることができる。分散メディア（ビーズ）の平均直径は０．３ｍｍ〜５ｍｍが好ましく、０．３ｍｍ〜３ｍｍがより好ましく、０．３ｍｍ〜１ｍｍがさらにより好ましく、０．３ｍｍまたは０．５ｍｍのものがもっとも好ましく用いられる。
【００２９】
本発明においては、有機酸銀の分散調製のために高圧ホモジナイザーを用いるのが好ましい。高圧ホモジナイザーは、分散流路の途中に高圧粉砕部を設けて、高圧、高速で分散させる装置や分散液の流路の一部を狭めて、高圧、高速で分散液を通過させて分散、乳化及び粉砕を行う装置である。
【００３０】
例えば、分散液同士が分散流路の中で衝突するナノマイザーＬＡ（ナノマイザー株式会社製）、分散液の流路に高圧粉砕部を設けているマイクロフルイダイザー（マイクロフルイダックス社製）やゴーリンホモジナイザー（ＡＰＶ社製）、分散液の流路にオリフィスと呼ばれる細い管状流路を設けているジーナスＰＹ（ジーナス社製）等を用いることができる。
【００３１】
本発明において用いられる高圧ホモジナイザーに設けられている高圧粉砕部とは、図１に示す１１および１２の領域であって分散装置の中を通過する原料液の流路がほぼ直角に曲げられる領域であり、前記高圧粉砕部を原料液の高速流が通過するときに有機銀塩が粉砕、分散された有機銀塩分散物が得られる。
【００３２】
本発明において、ほぼ直角とは、原料液の流路が方向の異なる流路に向かうときに、各々の流路から形成されるコーナーの角度が７０度から１１０度である場合を意味する。
【００３３】
本発明において用いられる高圧ホモジナイザーに設けられる細い管状流路（オリフィス）としては、分散流路内での分散物の詰まりを抑制するために、予備分散時には、０．１ｍｍφ以上の流路径が好ましく用いられ、更に好ましくは、０．２ｍｍφ以上の流路径が用いられる。また、分散液にかける圧力としては、予備分散時には５ｋｇｆ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、１０ｋｇｆ／ｃｍ２以上である。更に、本分散時には、０．５ｍｍφ以下の流路径が好ましく用いられ、更に好ましくは、０．２ｍｍφ以下の流路径が用いられる。また、分散液にかける圧力としては、１００ｋｇｆ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、２８０ｋｇｆ／ｃｍ２以上である。
【００３４】
本発明においては、少なくとも有機銀塩、溶媒及び保護コロイドからなる原料液を少なくとも１回以上の予備分散を行った後に、本分散を行うが、該予備分散においては、本分散の時に用いられる分散流路径よりも大きい流路径を用いて分散することにより、本分散時に分散流路内での分散物の詰まりによる流路の閉塞を起こさず、且つ、分散性の良好な有機銀塩分散物を得ることが出来る。
【００３５】
本発明の製造方法において行われる予備分散及び本分散は、具体的には図２または図３に示されるような装置によって行われる。
【００３６】
図２に示される装置においては、原料液を供給ポットＡ_０から補助ポンプＰ_１、逆止弁Ｂ_０、高圧ポンプＰ_２、逆止弁Ｃ_０を通し、次いで切替弁Ｄ_０により、まず、予備分散用オリフィスＥに導入し、予備分散を行う。予備分散後、得られた予備分散液を供給ポットＡ_０に戻して、上記と同様な経路を通した後、切替弁Ｄ_０により本分散用オリフィスに導入し、本分散を行う。
【００３７】
図３に示される装置においては、原料液を供給ポットＡ_１から補助ポンプＰ_１、逆止弁Ｂ_１、高圧ポンプＰ_２、逆止弁Ｃ_１、切替弁Ｄ_１を経た後、予備分散用オリフィスに導入し、予備分散を行う。得られた予備分散液を別に設けられた供給ポットＡ_２に供給し、補助ポンプＰ_３、逆止弁Ｂ_２、高圧ポンプＰ_４、逆止弁Ｃ_２、切替弁Ｄ_２を経て本分散用オリフィスに導入し、本分散を行う。
【００３８】
本発明の製造方法においては、必要に応じて分散液の温度コントロールを行っても良い。分散前の原料液温度の調整は、原料液を入れておくタンクで行ってもよく、タンクから高圧ホモジナイザーの分散作用部までの途中で行ってもよい。特に分散液を露点以下に冷却する場合には、タンクでの冷却は結露の問題があり、タンクから分散作用部までの密閉された流路で行うのが好ましい。
【００３９】
更に、本発明に用いられる高圧ホモジナイザーの分散液にかける圧力を高める手段として、単一流路の出口を衝突板で塞ぐ方法や、流路の途中を細い管状流路（オリフィス）にする方法等を用いても良い。
【００４０】
なお、有機銀塩の分散時に、感光性銀塩を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことがより好ましい。本発明では、分散される水分散液中での感光性銀塩量は、その液中の有機酸銀塩１ｍｏｌに対し１ｍｏｌ％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１ｍｏｌ％以下であり、さらに好ましいのは積極的な感光性銀塩の添加を行わないものである。
【００４１】
５）有機銀塩の塗布量
本発明の有機銀塩は所望の量で使用できるが、ハロゲン化銀も含めた全塗布銀量として０．１〜５．０ｇ／ｍ^２が好ましく、より好ましくは０．３〜３．０ｇ／ｍ^２、さらに好ましくは０．５〜２．０ｇ／ｍ^２である。特に、画像保存性を向上させるためには、全塗布銀量が１．９ｇ／ｍ^２以下であることが好ましい。本発明の好ましい還元剤を使用すれば、このような低銀量においても十分な画像濃度を得ることが可能である。
【００４２】
１−２．酸化剤
【００４３】
本明細書中で言う「酸化剤」とは、銀原子を酸化しうる化合物を意味し、このような酸化剤としては、無機酸化剤、有機酸化剤などを用いることができる。次に酸化剤の具体例を挙げる。
【００４４】
１）有機酸化剤の具体例
本発明の有機銀塩の酸化処理に用いることのできる代表的な有機酸化剤としては、有機過酸化物が挙げられる。
本発明に用いることのできる有機過酸化物の例としては、一般に知られているアルキルヒドロペルオキシド、アリルペルオキシド、アシルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、ジアシルペルオキシドを挙げることができる。具体的には、過酢酸、過安息香酸、エチルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過酸化ベンゾイル、過酸化ジエチル、過酸化ジアセチル、クメンヒドロペルオキシド、クメニルヒドロペルオキシド、コハク酸ペルオキシド、１，１，３，３−テトラメチルブチルヒドロペルオキシドなどを挙げることができる。
また、その他ハロゲンを放出する酸化性化合物（例えばＮ−ブロムサクシイミドなど）などの酸化性化合物なども挙げることができる。
【００４５】
これらのうちで好ましい化合物は、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過酸化ベンゾイル、クメンヒドロペルオキシド、コハク酸ペルオキシドであり、特に好ましいのは過酸化ベンゾイルである。
【００４６】
本発明に用いられるこれら有機酸化剤の含有量は、酸化剤の種類にもよるが、該非感光性有機銀塩１モル当り、０．０１モル％〜２００モル％が好ましく、さらに好ましくは０．１モル％〜１００モル％、さらにより好ましくは１モル％〜５０モル％である。これらの酸化剤の含有量が少なすぎると効果がなく、多すぎると感度の低下をもたらす場合がある。
【００４７】
２）無機酸化剤の具体例
次に無機酸化剤の具体例を挙げる。無機酸化剤としては、過酸化水素（水）、過酸化水素の付加物（例えば、ＮａＢＯ_２・Ｈ_２Ｏ_２・３Ｈ_２Ｏ、２ＮａＣＯ_３・３Ｈ_２Ｏ_２、Ｎａ_４Ｐ_２Ｏ_７・２Ｈ_２Ｏ_２、Ｎａ_２ＳＯ_４・Ｈ_２Ｏ_２・２Ｈ_２Ｏなど）、アルカリ金属過酸化物、アルカリ土類過酸化物、重金属過酸化物などがある。例えば、ペルオキシ酸塩（例えば、Ｋ_２Ｓ_２Ｏ_８、Ｋ_２Ｃ_２Ｏ_６、Ｋ_４Ｐ_２Ｏ_８など）、ペルオキシ錯体化合物（例えば、Ｋ_２〔Ｔｉ（Ｏ_２）Ｃ_２Ｏ_４〕・３Ｈ_２Ｏ、Ｎａ_３〔ＶＯ（Ｏ_２）（Ｃ_２Ｏ_４）_２〕・６Ｈ_２Ｏなど）、過マンガン酸塩（例えば、ＫＭｎＯ_４など）やクロム酸塩（例えば、Ｋ_２Ｃｒ_２Ｏ_７など）などの酸素酸塩類などが挙げられる。また、その他酸化性のガス（例えば、オゾン、酸素ガスなど）、ハロゲンを放出する塩素酸塩、過塩素酸塩（例えば、次亜塩素酸ナトリウムなど）などの酸化性化合物も用いることができる。これらの酸化剤の中にはゼラチンを分解したり、減感作用を有するものもあり上記の酸化剤のうちでは、特に過酸化水素またはその付加物ないし前駆体が好ましい。
【００４８】
これらの無機酸化剤の添加量は非感光性有機銀塩１モル当り、０．０１モル％〜２００モル％が好ましく、さらに好ましくは０．１モル％〜１００モル％、さらにより好ましくは１モル％〜５０モル％である。
【００４９】
３）処理方法
本発明による酸化剤による有機銀塩の処理は、有機銀塩調製工程のいずれにても行うことができる。
▲１▼有機酸、またはそのアルカリ金属塩と水溶性銀塩との反応による有機銀塩の生成工程において酸化剤処理を行う場合、酸化剤を予め有機酸、もしくはそのアルカリ金属塩、または水溶性銀塩の少なくとも一方または水を擁する反応容器に添加しておくか、あるいは、反応の途中過程において添加することができる。
▲２▼ろ過による副生塩類を除去する工程において酸化剤処理を行う場合、ろ過する前に予め添加しておくことが好ましい。
▲３▼分散工程で添加する場合、分散する前に酸化剤を添加しておき、その後分散するか、もしくは分散途中に酸化剤を添加してもよい。
▲４▼分散終了後に酸化剤を添加して充分に酸化剤が作用するまで必要な温度と時間をかけて後処理することもできる。
【００５０】
▲５▼あるいは分散終了後に、酸化剤を添加して容器に分散物を収納しても良い。この場合、収納した容器中で保管中に酸化剤が作用するので、一定基間保存後に塗布液調製に供するのが好ましい。
【００５１】
好ましくは、▲３▼、▲４▼、または▲５▼の方法であり、▲４▼の方法が最も好ましい。
酸化剤の種類によって異なるが、後処理の温度は、４℃〜４０℃、好ましくは、１０℃〜３０℃で、５分〜４時間、好ましくは１０分〜２時間行う。後処理中は、静置しても良いが、撹拌を続けるのが良い。
【００５２】
有機銀塩の後処理に用いられる酸化剤は、無機酸化剤および有機酸化剤のいずれでもよいが、無機酸化剤が好ましく、特に過酸化水素が好ましい。
【００５３】
１−３．感光性ハロゲン化銀
１）ハロゲン化銀組成
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、ハロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀、ヨウ化銀を用いることができる。その中でも臭化銀、ヨウ臭化銀、およびヨウ化銀が好ましい。粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、コア／シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好ましく用いることができる。構造として好ましいものは２〜５重構造であり、より好ましくは２〜４重構造のコア／シェル粒子を用いることができる。また塩化銀、臭化銀または塩臭化銀粒子の表面に臭化銀やヨウ化銀を局在させる技術も好ましく用いることができる。
【００５４】
２）粒子形成方法
感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界ではよく知られており、例えば、リサーチディスクロージャー１９７８年６月の第１７０２９号、および米国特許第３，７００，４５８号に記載されている方法を用いることができるが、具体的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化合物及びハロゲン供給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合する方法を用いる。また、特開平１１−１１９３７４号公報の段落番号０２１７〜０２２４に記載されている方法、特開平１１−３５２６２７、特開２０００−３４７３３５号記載の方法も好ましい。
【００５５】
３）粒子サイズ
感光性ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像形成後の白濁を低く抑える目的のために小さいことが好ましく具体的には０．２０μｍ以下、より好ましくは０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下、更に好ましくは０．０２μｍ以上０．１２μｍ以下がよい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子の投影面積（平板粒子の場合は主平面の投影面積）と同面積の円像に換算したときの直径をいう。
【００５６】
４）形状
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特に立方体状粒子が好ましい。ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外表面の面指数（ミラー指数）については特に制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い［１００］面の占める割合が高いことが好ましい。その割合としては５０％以上が好ましく、６５％以上がより好ましく、８０％以上が更に好ましい。ミラー指数［１００］面の比率は増感色素の吸着における［１１１］面と［１００］面との吸着依存性を利用したＴ．Ｔａｎｉ；Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，２９、１６５（１９８５年）に記載の方法により求めることができる。
【００５７】
５）重金属
本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、周期律表（第１〜１８族までを示す）の第８族〜第１０族の金属または金属錯体を含有することができる。周期律表の第８族〜第１０族の金属または金属錯体の中心金属として好ましくは、ロジウム、ルテニウム、イリジウムである。これら金属錯体は１種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を２種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀１モルに対し１×１０^−９モルから１×１０^−３モルの範囲が好ましい。これらの重金属や金属錯体及びそれらの添加法については特開平７−２２５４４９号、特開平１１−６５０２１号段落番号００１８〜００２４、特開平１１−１１９３７４号段落番号０２２７〜０２４０に記載されている。
【００５８】
本発明においては、六シアノ金属錯体を粒子最表面に存在させたハロゲン化銀粒子が好ましい。六シアノ金属錯体としては、［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^４−、［Ｆｅ（ＣＮ）_６］^３−、［Ｒｕ（ＣＮ）_６］^４−、［Ｏｓ（ＣＮ）_６］^４−、［Ｃｏ（ＣＮ）_６］^３−、［Ｒｈ（ＣＮ）_６］^３−、［Ｉｒ （ＣＮ）_６］^３−、［Ｃｒ（ＣＮ）_６］^３−、［Ｒｅ（ＣＮ）_６］^３−などが挙げられる。本発明においては六シアノＦｅ錯体が好ましい。
【００５９】
六シアノ金属錯体は、水溶液中でイオンの形で存在するので対陽イオンは重要ではないが、水と混和しやすく、ハロゲン化銀乳剤の沈澱操作に適合しているナトリウムイオン、カリウムイオン、ルビジウムイオン、セシウムイオンおよびリチウムイオン等のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン（例えばテトラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニウムイオン、テトラプロピルアンモニウムイオン、テトラ（ｎ−ブチル）アンモニウムイオン）を用いることが好ましい。
【００６０】
六シアノ金属錯体は、水の他に水と混和しうる適当な有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類等）との混合溶媒やゼラチンと混和して添加することができる。
【００６１】
六シアノ金属錯体の添加量は、銀１モル当たり１×１０^−５モル以上１×１０^−２モル以下が好ましく、より好ましくは１×１０^−４モル以上１×１０^−３モル以下である。
【００６２】
六シアノ金属錯体をハロゲン化銀粒子最表面に存在させるには、六シアノ金属錯体を、粒子形成に使用する硝酸銀水溶液を添加終了した後、硫黄増感、セレン増感およびテルル増感のカルコゲン増感や金増感等の貴金属増感を行う化学増感工程の前までの仕込工程終了前、水洗工程中、分散工程中、または化学増感工程前に直接添加する。ハロゲン化銀微粒子を成長させないためには、粒子形成後速やかに六シアノ金属錯体を添加することが好ましく、仕込工程終了前に添加することが好ましい。
【００６３】
尚、六シアノ金属錯体の添加は、粒子形成をするために添加する硝酸銀の総量の９６質量％を添加した後から開始してもよく、９８質量％添加した後から開始するのがより好ましく、９９質量％添加した後が特に好ましい。
【００６４】
これら六シアノ金属錯体を粒子形成の完了する直前の硝酸銀水溶液を添加した後に添加すると、ハロゲン化銀粒子最表面に吸着することができ、そのほとんどが粒子表面の銀イオンと難溶性の塩を形成する。この六シアノ鉄（ＩＩ）の銀塩は、ＡｇＩよりも難溶性の塩であるため、微粒子による再溶解を防ぐことができ、粒子サイズが小さいハロゲン化銀微粒子を製造することが可能となった。
【００６５】
さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に含有することのできる金属原子、ハロゲン化銀乳剤の脱塩法や化学増感法については特開平１１−８４５７４号段落番号００４６〜００５０、特開平１１−６５０２１号段落番号００２５〜００３１、特開平１１−１１９３７４号段落番号０２４２〜０２５０に記載されている。
【００６６】
６）ゼラチン
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤に含有されるゼラチンとしては、種々のゼラチンが使用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤の有機銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持することが必要であり、分子量は、１０，０００〜１，０００，０００のゼラチンを使用することが好ましい。また、ゼラチンの置換基をフタル化処理することも好ましい。これらのゼラチンは粒子形成時あるいは脱塩処理後の分散時に使用してもよいが、粒子形成時に使用することが好ましい。
【００６７】
７）増感色素
本発明に適用できる増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。増感色素及び添加法については、特開平１１−６５０２１号の段落番号０１０３〜０１０９、特開平１０−１８６５７２号一般式（ＩＩ）で表される化合物、特開平１１−１１９３７４号の一般式（Ｉ） で表される色素及び段落番号０１０６、米国特許第５，５１０，２３６号、同第３，８７１，８８７号実施例５に記載の色素、特開平２−９６１３１号、特開昭５９−４８７５３号に開示されている色素、欧州特許公開第０８０３７６４Ａ１号の第１９ページ第３８行〜第２０ページ第３５行、特開２００１−２７２７４７号、特開２００１−２９０２３８号、特開２００２−２３３０６号等に記載されている。これらの増感色素は単独で用いてもよく、２種以上組合せて用いてもよい。本発明において増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加する時期は、脱塩工程後、塗布までの時期が好ましく、より好ましくは脱塩後から化学熟成が終了する前までの時期である。
本発明における増感色素の添加量は、感度やカブリの性能に合わせて所望の量にすることができるが、感光性層のハロゲン化銀１モル当たり１０^−６〜１モルが好ましく、さらに好ましくは１０^−４〜１０^−１モルである。
【００６８】
本発明は分光増感効率を向上させるため、強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色増感剤としては、欧州特許公開第５８７，３３８号、米国特許第３，８７７，９４３号、同第４，８７３，１８４号、特開平５−３４１４３２号、同１１−１０９５４７号、同１０−１１１５４３号等に記載の化合物が挙げられる。
【００６９】
８）化学増感
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、硫黄増感法、セレン増感法もしくはテルル増感法にて化学増感されていることが好ましい。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物、例えば、特開平７−１２８７６８号等に記載の化合物等を使用することができる。特に本発明においてはテルル増感が好ましく、特開平１１−６５０２１号段落番号００３０に記載の文献に記載の化合物、特開平５−３１３２８４号中の一般式（ＩＩ），（ＩＩＩ），（ＩＶ）で示される化合物がより好ましい。
【００７０】
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、上記カルコゲン増感と組み合わせて、あるいは単独で金増感法にて化学増感されていることが好ましい。金増感剤としては、金の価数が＋１価または＋３価が好ましく、金増感剤としては通常用いられる金化合物が好ましい。代表的な例としては塩化金酸、臭化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムブロロオーレート、オーリックトリクロライド、カリウムオーリックチオシアネート、カリウムヨードオーレート、テトラシアノオーリックアシド、アンモニウムオーロチオシアネート、ピリジルトリクロロゴールドなどが好ましい。また、米国特許第５８５８６３７号、特願２００１−７９４５０号に記載の金増感剤も好ましく用いられる。
【００７１】
本発明においては、化学増感は粒子形成後で塗布前であればいかなる時期でも可能であり、脱塩後、（１）分光増感前、（２）分光増感と同時、（３）分光増感後、（４）塗布直前等があり得る。 本発明で用いられる硫黄、セレンおよびテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、ハロゲン化銀１モル当たり１０^−８〜１０^−２モル、好ましくは１０^−７〜１０^−３モル程度を用いる。
金増感剤の添加量は種々の条件により異なるが、目安としてはハロゲン化銀１モル当たり１０^−７モルから１０^−３モル、より好ましくは１０^−６モル〜５×１０^−４モルである。
本発明における化学増感の条件としては特に制限はないが、ｐＨとしては５〜８、ｐＡｇとしては６〜１１、温度としては４０〜９５℃程度である。
本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州特許公開第２９３，９１７号公報に示される方法により、チオスルホン酸化合物を添加してもよい。
【００７２】
本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、還元剤を用いることが好ましい。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、二酸化チオ尿素が好ましく、その他に塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることが好ましい。還元増感剤の添加は、結晶成長から塗布直前の調製工程までの感光乳剤製造工程のどの過程でも良い。また、乳剤のｐＨを７以上またはｐＡｇを８．３以下に保持して熟成することにより還元増感することが好ましく、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより還元増感することも好ましい。
【００７３】
９）１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物
本発明における熱現像感光材料は、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。該化合物は、単独、あるいは前記の種々の化学増感剤と併用して用いられ、ハロゲン化銀の感度増加をもたらすことができる。
【００７４】
本発明の熱現像感光材料に含有される１電子酸化されて生成する１電子酸化体が１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ１〜５から選ばれる化合物である。
【００７５】
（タイプ１）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに２電子以上の電子を放出し得る化合物。
（タイプ２）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらにもう１電子を放出し得る化合物で、かつ同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を２つ以上有する化合物。
（タイプ３）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
（タイプ４）
１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続く分子内の環開裂反応を経た後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
（タイプ５）
Ｘ−Ｙで表される化合物においてＸは還元性基を、Ｙは脱離基を表し、Ｘで表される還元性基が１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続くＸ−Ｙ結合の開裂反応を伴ってＹを脱離してＸラジカルを生成し、そこからさらにもう１電子を放出し得る化合物。
【００７６】
上記タイプ１およびタイプ３〜５の化合物のうち好ましいものは、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。タイプ１〜４の化合物はより好ましくは「２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物」である。
【００７７】
タイプ１〜５の化合物について詳細に説明する。
タイプ１の化合物において「結合開裂反応」とは具体的に炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がさらにこれらに付随してもよい。タイプ１の化合物は１電子酸化されて１電子酸化体となった後に、初めて結合開裂反応を伴って、さらに２電子以上（好ましくは３電子以上）の電子を放出し得る化合物である。
【００７８】
タイプ１の化合物のうち好ましい化合物は一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、一般式（１）、一般式（２）または一般式（３）で表される。
【００７９】
一般式（Ａ）
【化５】

【００８０】
一般式（Ｂ）
【化６】

【００８１】
一般式（Ａ）においてＲＥＤ_１１は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｌ_１１は脱離基を表す。Ｒ_１１２は水素原子または置換基を表す。Ｒ_１１１は炭素原子（Ｃ）およびＲＥＤ_１１と共に、５員もしくは６員の芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体、もしくはオクタヒドロ体に相当する環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。
【００８２】
一般式（Ｂ）においてＲＥＤ_１２は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｌ_１２は脱離基を表す。Ｒ_１２１およびＲ_１２２は、それぞれ水素原子または置換基を表す。ＥＤ_１２は電子供与性基を表す。一般式（Ｂ）においてＲ_１２１とＲＥＤ_１２、Ｒ_１２１とＲ_１２２、またはＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【００８３】
これら一般式（Ａ）または一般式（Ｂ）で表される化合物は、ＲＥＤ_１１またはＲＥＤ_１２で表される還元性基が１電子酸化された後、自発的にＬ_１１またはＬ_１２を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を２つ以上、好ましくは３つ以上放出し得る化合物である。
【００８４】
一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）
【化７】

【００８５】
一般式（１）においてＺ_１は窒素原子およびベンゼン環の２つの炭素原子と共に６員環を形成し得る原子団を表し、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_Ｎ１はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｘ_１はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ_１は０〜３の整数を表し、Ｌ_１は脱離基を表す。一般式（２）においてＥＤ_２１は電子供与性基を表し、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_１３、Ｒ_１４はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｘ_２１はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、ｍ_２１は０〜３の整数を表し、Ｌ_２１は脱離基を表す。Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｘ_２１およびＥＤ_２１は、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。一般式（３）においてＲ_３２、Ｒ_３３、Ｒ_３１、Ｒ_Ｎ３１、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂはそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｌ_３１は脱離基を表す。但しＲ_Ｎ３１がアリール基以外の基を表す時、Ｒ_ａおよびＲ_ｂは互いに結合して芳香族環を形成する。
【００８６】
これら化合物は１電子酸化された後、自発的にＬ_１、Ｌ_２１、またはＬ_３１を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を２つ以上、好ましくは３つ以上放出し得る化合物である。
【００８７】
以下、先ず一般式（Ａ）で表される化合物について詳しく説明する。
一般式（Ａ）においてＲＥＤ_１１で表される１電子酸化され得る還元性基は、後述するＲ_１１１と結合して特定の環形成をし得る基であり、具体的には次の１価基から環形成をするのに適切な箇所の水素原子１個を除いた２価基が挙げられる。例えば、アルキルアミノ基、アリールアミノ基（アニリノ基、ナフチルアミノ基等）、ヘテロ環アミノ基（ベンズチアゾリルアミノ基、ピロリルアミノ基等）、アルキルチオ基、アリールチオ基（フェニルチオ基等）、ヘテロ環チオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基（フェノキシ基等）、ヘテロ環オキシ基、アリール基（フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等）、芳香族または非芳香族のヘテロ環基（５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子のうち少なくとも１つのヘテロ原子を含むヘテロ環で、その具体例としては、例えばテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環、インドリン環、インドール環、インダゾール環、カルバゾール環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、ベンゾチアゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、メチレンジオキシフェニル環等が挙げられる）である（以後、便宜上ＲＥＤ_１１は１価基名として記述する）。ＲＥＤ_１１は置換基を有していてもよい。
【００８８】
本発明において置換基とは、特に説明がない限り、以下の基から選ばれる置換基を意味する。ハロゲン原子、アルキル基（アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
【００８９】
ＲＥＤ_１１として好ましくは、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基であり、さらに好ましくはアリールアミノ基（特にアニリノ基）、アリール基（特にフェニル基）である。これらが置換基を有する時、置換基として好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基である。
但しＲＥＤ_１１がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも１つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。ここに「電子供与性基」とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（例えばインドリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、チアゾリル基、ベンズチアゾリル基、インダゾリル基など）、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基（ピロリジニル基、インドリニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基などで環状のアミノ基とも呼べる基）である。ここで活性メチン基とは２つの「電子求引性基」で置換されたメチン基を意味し、ここに「電子求引性基」とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味する。ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。
【００９０】
一般式（Ａ）においてＬ_１１は、具体的にはカルボキシ基もしくはその塩、シリル基、水素原子、トリアリールホウ素アニオン、トリアルキルスタニル基、トリアルキルゲルミル基、または−ＣＲ_Ｃ１Ｒ_Ｃ２Ｒ_Ｃ３基を表す。ここにシリル基とは具体的にトリアルキルシリル基、アリールジアルキルシリル基、トリアリールシリル基などを表し、任意の置換基を有していてもよい。
【００９１】
Ｌ_１１がカルボキシ基の塩を表すとき、塩を形成するカウンターイオンとしてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられ、好ましくはアルカリ金属イオンまたはアンモニウムイオンであり、アルカリ金属イオン（特にＬｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋イオン）が最も好ましい。
【００９２】
Ｌ_１１が−ＣＲ_Ｃ１Ｒ_Ｃ２Ｒ_Ｃ３基を表す時、ここにＲ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基を表し、これらが互いに結合して環状構造を形成していてもよく、さらに任意の置換基を有していてもよい。但し、Ｒ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３のうち１つが水素原子もしくはアルキル基を表す時、残る２つが水素原子もしくはアルキル基を表すことはない。Ｒ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３として好ましくは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基（特にフェニル基）、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基で、具体的にその例を挙げると、フェニル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、メチルチオ基、フェニルチオ基、フェノキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルアニリノ基、ジフェニルアミノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、ヒドロキシ基などが挙げられる。またこれらが互いに結合して環状構造を形成する場合の例としては１，３−ジチオラン−２−イル基、１，３−ジチアン−２−イル基、Ｎ−メチル−１，３−チアゾリジン−２−イル基、Ｎ−ベンジル−ベンゾチアゾリジン−２−イル基などが挙げられる。
−ＣＲ_Ｃ１Ｒ_Ｃ２Ｒ_Ｃ３基が、Ｒ_Ｃ１、Ｒ_Ｃ２、Ｒ_Ｃ３についてそれぞれ上述した範囲内で選択された結果として、一般式（Ａ）からＬ_１１を除いた残基と同じ基を表す場合もまた好ましい。
【００９３】
一般式（Ａ）においてＬ_１１は、好ましくはカルボキシ基またはその塩、および水素原子である。より好ましくはカルボキシ基またはその塩である。
【００９４】
Ｌ_１１が水素原子を表す時、一般式（Ａ）で表される化合物は、分子内に内在する塩基部位を有していることが好ましい。この塩基部位の作用により、一般式（Ａ）で表される化合物が酸化された後、Ｌ_１１で表される水素原子が脱プロトン化されて、ここからさらに電子が放出されるのである。
【００９５】
ここに塩基とは、具体的に約１〜約１０のｐＫａを示す酸の共役塩基である。例えば含窒素ヘテロ環類（ピリジン類、イミダゾール類、ベンゾイミダゾール類、チアゾール類など）、アニリン類、トリアルキルアミン類、アミノ基、炭素酸類（活性メチレンアニオンなど）、チオ酢酸アニオン、カルボキシレート（−ＣＯＯ⁻）、サルフェート（−ＳＯ_３ ⁻）、またはアミンオキシド（＞Ｎ^＋（Ｏ⁻）−）などが挙げられる。好ましくは約１〜約８のｐＫａを示す酸の共役塩基であり、カルボキシレート、サルフェート、またはアミンオキシドがより好ましく、カルボキシレートが特に好ましい。これらの塩基がアニオンを有する時、対カチオンを有していてもよく、その例としてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。これら塩基は、任意の位置で一般式（Ａ）で表される化合物に連結される。これら塩基部位が結合する位置としては、一般式（Ａ）のＲＥＤ_１１、Ｒ_１１１、Ｒ_１１２の何れでもよく、またこれらの基の置換基に連結していてもよい。
【００９６】
一般式（Ａ）においてＲ_１１２は水素原子または炭素原子に置換可能な置換基を表す。但しＲ_１１２がＬ_１１と同じ基を表すことはない。
Ｒ_１１２は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基（フェニル基など）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基など）、ヒドロキシ基、アルキルチオ基（メチルチオ基、ブチルチオ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、フェニル基、アルキルアミノ基である。
【００９７】
一般式（Ａ）においてＲ_１１１が形成する環状構造とは、５員もしくは６員の芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造で、ここにヒドロ体とは、芳香族環（芳香族ヘテロ環を含む）に内在する炭素−炭素２重結合（または炭素−窒素２重結合）が部分的に水素化された環構造を意味し、テトラヒドロ体とは２つの、ヘキサヒドロ体とは３つの、オクタヒドロ体とは４つの、炭素−炭素２重結合（または炭素−窒素２重結合）が水素化された構造を意味する。水素化されることで芳香族環は、部分的に水素化された非芳香族の環構造となる。
具体的には、ピロリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、ピラゾリジン環およびオキサゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、およびテトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環、オクタヒドロフェナントリジン環等が挙げられる。これらの環構造は任意の置換基を有していてもよい。
【００９８】
Ｒ_１１１が形成する環状構造としてさらに好ましくは、ピロリジン環、イミダゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環であり、特に好ましくは、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環であり、最も好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環である。
【００９９】
一般式（Ｂ）においてＲＥＤ_１２、Ｌ_１２は、それぞれ一般式（Ａ）のＲＥＤ_１１、Ｌ_１１に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。但し、ＲＥＤ_１２は下記の環状構造を形成する場合以外は１価基であり、具体的にはＲＥＤ_１１で記載した１価基名の基が挙げられる。Ｒ_１２１およびＲ_１２２は一般式（Ａ）のＲ_１１２に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。ＥＤ_１２は電子供与性基を表す。Ｒ_１２１とＲＥＤ_１２、Ｒ_１２１とＲ_１２２、またはＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１００】
一般式（Ｂ）においてＥＤ_１２で表される電子供与性基とは、ＲＥＤ_１１がアリール基を表すときの置換基として説明した電子供与性基と同じものである。ＥＤ_１２として好ましくはヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基であり、さらにヒドロキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基（例えばｐ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ジアルキルアミノフェニル基、ｏ，ｐ−ジアルコキシフェニル基等）がより好ましい。
【０１０１】
一般式（Ｂ）においてＲ_１２１とＲＥＤ_１２、Ｒ_１２２とＲ_１２１、またはＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここで形成される環状構造とは、非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、５員〜７員環の単環または縮合環で、置換もしくは無置換の環状構造である。Ｒ_１２１とＲＥＤ_１２とが環構造を形成するとき、その具体例としては、一般式（Ａ）においてＲ_１１１が形成する環状構造の例として挙げたものに加えて、ピロリン環、イミダゾリン環、チアゾリン環、ピラゾリン環、オキサゾリン環、インダン環、モルホリン環、インドリン環、テトラヒドロ−１，４−オキサジン環、２，３−ジヒドロベンゾ−１，４−オキサジン環、テトラヒドロ−１，４−チアジン環、２，３−ジヒドロベンゾ−１，４−チアジン環、２，３−ジヒドロベンゾフラン環、２，３−ジヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。ＥＤ_１２とＲＥＤ_１２とが環構造を形成するとき、ＥＤ_１２は好ましくはアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基を表し、形成される環構造の具体例としては、テトラヒドロピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロイソキノリン環などが挙げられる。Ｒ_１２２とＲ_１２１とが環構造を形成するとき、その具体例としてはシクロヘキサン環、シクロペンタン環などが挙げられる。
【０１０２】
次に一般式（１）〜（３）について説明する。
一般式（１）〜（３）においてＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_３１は、一般式（Ａ）のＲ_１１２と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。Ｌ_１、Ｌ_２１、Ｌ_３１は、一般式（Ａ）のＬ_１１について説明した中で具体例として挙げた基と同じ脱離基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。Ｘ_１、Ｘ_２１で表される置換基としては、一般式（Ａ）のＲＥＤ_１１が置換基を有する時の置換基の例と同じであり、好ましい範囲も同じである。ｍ_１、ｍ_２１は好ましくは０〜２の整数であり、より好ましくは０または１である。
【０１０３】
Ｒ_Ｎ１、Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_Ｎ３１が置換基を表す時、置換基としてはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、これらはさらに任意の置換基を有していてもよい。Ｒ_Ｎ１、Ｒ_Ｎ２１、Ｒ_Ｎ３１は水素原子、アルキル基またはアリール基が好ましく、水素原子またはアルキル基がより好ましい。
【０１０４】
Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｒ_３３、Ｒ_ａ、Ｒ_ｂが置換基を表す時、置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基などである。
【０１０５】
一般式（１）においてＺ_１が形成する６員環は、一般式（１）のベンゼン環と縮合した非芳香族のヘテロ環であり、具体的には縮合するベンゼン環も含めた環構造としてテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環であり、好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。これらは置換基を有していてもよい。
【０１０６】
一般式（２）においてＥＤ_２１は、一般式（Ｂ）のＥＤ_１２と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。
【０１０７】
一般式（２）においてＲ_Ｎ２１、Ｒ_１３、Ｒ_１４、Ｘ_２１およびＥＤ_２１のいずれか２つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここでＲ_Ｎ２１とＸ_２１が結合して形成される環状構造とは、好ましくはベンゼン環と縮合した５員〜７員の非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、その具体例としては、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環、２，３−ジヒドロ−５，６−ベンゾ−１，４−チアジン環などが挙げられる。好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環である。
【０１０８】
一般式（３）においてＲ_Ｎ３１がアリール基以外の基を表す時、Ｒ_ａおよびＲ_ｂは互いに結合して芳香族環を形成する。ここに芳香族環とはアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基）および芳香族ヘテロ環基（例えばピリジン環基、ピロール環基、キノリン環基、インドール環基など）であり、アリール基が好ましい。該芳香族環基は任意の置換基を有していてもよい。
一般式（３）においてＲ_ａおよびＲ_ｂは、互いに結合して芳香族環（特にフェニル基）を形成する場合が好ましい。
【０１０９】
一般式（３）においてＲ_３２は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アミノ基などであり、ここにＲ_３２がヒドロキシ基を表す時、同時にＲ_３３が「電子求引性基」を表す場合も好ましい例の１つである。ここに「電子求引性基」とは、先に説明したものと同じであり、アシル基、アルコシキカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基が好ましい。
【０１１０】
次にタイプ２の化合物について説明する。
タイプ２の化合物において「結合開裂反応」とは炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がこれに付随してもよい。
【０１１１】
タイプ２の化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基を２つ以上（好ましくは２〜６つ、より好ましくは２〜４つ）有する化合物である。より好ましくは２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。吸着性基の数は、好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４が良い。吸着性基については後述する。
【０１１２】
タイプ２の化合物のうち好ましい化合物は一般式（Ｃ）で表される。
【０１１３】
一般式（Ｃ）
【化８】

【０１１４】
ここに一般式（Ｃ）で表される化合物は、ＲＥＤ_２で表される還元性基が１電子酸化された後、自発的にＬ_２を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を１つ放出し得る化合物である。
【０１１５】
一般式（Ｃ）においてＲＥＤ_２は一般式（Ｂ）のＲＥＤ_１２と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。Ｌ_２は一般式（Ａ）のＬ_１１について説明したのと同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。なおＬ_２がシリル基を表す時、該化合物は分子内に、２つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。Ｒ_２１、Ｒ_２２は水素原子または置換基を表し、これらは一般式（Ａ）のＲ_１１２と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。ＲＥＤ_２とＲ_２１とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【０１１６】
ここで形成される環構造とは、５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、非芳香族の炭素環またはヘテロ環であり、置換基を有していてもよい。但し該環構造が、芳香族環または芳香族ヘテロ環のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造であることはない。環構造として好ましくは、芳香族環または芳香族ヘテロ環のジヒドロ体に相当する環構造で、その具体例としては、例えば２−ピロリン環、２−イミダゾリン環、２−チアゾリン環、１，２−ジヒドロピリジン環、１，４−ジヒドロピリジン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、２，３−ジヒドロベンゾチオフェン環、２，３−ジヒドロベンゾフラン環、ベンゾ−α−ピラン環、１，２−ジヒドロキノリン環、１，２−ジヒドロキナゾリン環、１，２−ジヒドロキノキサリン環などが挙げられ、好ましくは２−イミダゾリン環、２−チアゾリン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、１，２−ジヒドロピリジン環、１，２−ジヒドロキノリン環、１，２−ジヒドロキナゾリン環、１，２−ジヒドロキノキサリン環などであり、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、１，２−ジヒドロキノリン環がより好ましく、インドリン環が特に好ましい。
【０１１７】
次にタイプ３の化合物について説明する。
タイプ３の化合物において「結合形成過程」とは炭素−炭素、炭素−窒素、炭素−硫黄、炭素−酸素などの原子間結合の形成を意味する。
【０１１８】
タイプ３の化合物は好ましくは、１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続いて分子内に共存する反応性基部位（炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位）と反応して結合を形成した後に、さらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出し得ることを特徴とする化合物である。
【０１１９】
さらに詳細に述べるとタイプ３の化合物は、１電子酸化されて生成するその１電子酸化体（カチオンラジカル種、またはそこからプロトンの脱離により生成する中性のラジカル種）が、同じ分子内に共存する上記反応性基と反応し、結合を形成して、分子内に新たに環構造を有するラジカル種を生成する。そしてこのラジカル種から、直接もしくはプロトンの脱離を伴って、２電子目の電子が放出される特徴を有している。
そしてさらにタイプ３の化合物の中には、そうして生成した２電子酸化体がその後、ある場合には加水分解反応を受けた後に、またある場合には直接プロトンの移動を伴なう互変異性化反応を起して、そこからさらに１電子以上、通常２電子以上の電子を放出する場合がある。あるいはまたこうした互変異性化反応を経由せずに直接２電子酸化体から、さらに１電子以上、通常２電子以上の電子を放出する能力を有しているものも含まれる。
【０１２０】
タイプ３の化合物は好ましくは、一般式（Ｄ）で表される。
【０１２１】
一般式（Ｄ）
【化９】

【０１２２】
一般式（Ｄ）においてＲＥＤ_３は１電子酸化され得る還元性基を表し、Ｙ_３はＲＥＤ_３が１電子酸化された後に反応する反応性基部位を表し、具体的には炭素−炭素２重結合部位、炭素−炭素３重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す。Ｌ_３はＲＥＤ_３とＹ_３とを連結する連結基を表す。
【０１２３】
ＲＥＤ_３は一般式（Ｂ）のＲＥＤ_１２と同義の基を表し、好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基（特に含窒素ヘテロ環基が好ましい）であり、さらに好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基であり、このうちヘテロ環基に関しては、テトラヒドロキノリン環基、テトラヒドロキノキサリン環基、テトラヒドロキナゾリン環基、インドリン環基、インドール環基、カルバゾール環基、フェノキサジン環基、フェノチアジン環基、ベンゾチアゾリン環基、ピロール環基、イミダゾール環基、チアゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾイミダゾリン環基、ベンゾチアゾリン環基、３，４−メチレンジオキシフェニル−１−イル基などが好ましい。
ＲＥＤ_３として特に好ましくはアリールアミノ基（特にアニリノ基）、アリール基（特にフェニル基）、芳香族または非芳香族のヘテロ環基である。
【０１２４】
ここでＲＥＤ_３がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも１つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。「電子供与性基」は先に説明したものと同じである。
【０１２５】
ＲＥＤ_３がアリール基を表す時、そのアリール基の置換基としてより好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基である。
【０１２６】
Ｙ_３で表される炭素−炭素２重結合部位を含む有機基（例えばビニル基）が置換基を有するとき、その置換基として好ましくは、アルキル基、フェニル基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などであり、ここに電子供与性基として好ましくは、アルコキシ基、ヒドロキシ基（シリル基で保護されていてもよく、例えばトリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、フェニルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる）、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、スルホンアミド基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、およびこれら電子供与性基を置換基に有するフェニル基である。
【０１２７】
なおここで炭素−炭素２重結合部位を含む有機基が置換基としてヒドロキシ基を有する時、Ｙ_３は右記部分構造：＞Ｃ_１＝Ｃ_２（−ＯＨ）−を含むことになるが、これは互変異性化して右記部分構造：＞Ｃ_１Ｈ−Ｃ_２（＝Ｏ）−となっていても良い。さらにこの場合に、該Ｃ_１炭素に置換する置換基が電子求引性基である場合もまた好ましく、この場合Ｙ_３は「活性メチレン基」または「活性メチン基」の部分構造を有することになる。このような活性メチレン基または活性メチン基の部分構造を与え得る電子求引性基とは、上述の「活性メチン基」の説明の中で説明したものと同じである。
【０１２８】
Ｙ_３で表される炭素−炭素３重結合部位を含む有機基（例えばエチニル基）が置換基を有するとき、その置換基としてはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などが好ましい。
【０１２９】
Ｙ_３が芳香族基部位を含む有機基を表す時、芳香族基として好ましくは電子供与性基を置換基として有するアリール基（特にフェニル基が好ましい）またはインドール環基で、ここに電子供与性基として好ましくは、ヒドロキシ基（シリル基で保護ざれていてもよい）、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、活性メチン基、スルホンアミド基、メルカプト基である。
【０１３０】
Ｙ_３がベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す時、ベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基として好ましくはアニリン構造を部分構造として内在するもので、例えば、インドリン環基、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン環基、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン環基、４−キノロン環基などが挙げられる。
【０１３１】
Ｙ_３で表される反応性基としてより好ましくは、炭素−炭素２重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基を含む有機基である。さらに好ましくは、炭素−炭素２重結合部位、電子供与性基を置換基として有するフェニル基、インドール環基、アニリン構造を部分構造として内在するベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基である。ここに炭素−炭素２重結合部位は少なくとも１つの電子供与性基を置換基として有することがより好ましい。
【０１３２】
Ｙ_３で表される反応性基が、これまでに説明した範囲から選択された結果として、ＲＥＤ_３で表される還元性基と同じ部分構造を有する場合もまた、一般式（Ｄ）で表される化合物の好ましい例である。
【０１３３】
Ｌ_３は、ＲＥＤ_３とＹ_３とを連結する連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ_Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ_２−、−ＳＯ−、−Ｐ（＝Ｏ）−の各基の単独、またはこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにＲ_Ｎは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Ｌ_３で表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。Ｌ_３で表される連結基は、ＲＥＤ_３およびＹ_３で表される基の任意の位置で、それぞれの任意の１個の水素原子と置換する形で、連結され得る。
Ｌ_３の好ましい例としては、単結合、アルキレン基（特にメチレン基、エチレン基、プロピレン基）、アリーレン基（特にフェニレン基）、−Ｃ（＝Ｏ）−基、−Ｏ−基、−ＮＨ−基、−Ｎ（アルキル基）−基、およびこれらの基の組み合わせからなる２価の連結基が挙げられる。
【０１３４】
Ｌ_３で表される基は、ＲＥＤ_３が酸化されて生成するカチオンラジカル種（Ｘ^＋・）、またはそこからプロトンの脱離を伴って生成するラジカル種（Ｘ・）と、Ｙ_３で表される反応性基とが反応して結合形成する際、これに関わる原子団が、Ｌ_３を含めて３〜７員の環状構造を形成しうることが好ましい。この為にはラジカル種（Ｘ^＋・またはＸ・）、Ｙで表される反応性基、およびＬが、３〜７個の原子団で連結されていることが好ましい。
【０１３５】
次にタイプ４の化合物について説明する。
タイプ４の化合物は還元性基の置換した環構造を有する化合物であり、該還元性基が１電子酸化された後、環構造の開裂反応を伴ってさらに１電子もしくはそれ以上の電子を放出しうる化合物である。ここで言う環構造の開裂反応とは、下記で表される形式のものを意味する。
【０１３６】
【化１０】

【０１３７】
式中、化合物ａはタイプ４の化合物を表す。化合物ａ中、Ｄは還元性基を表し、Ｘ、Ｙは環構造中の１電子酸化後に開裂する結合を形成している原子を表す。まず化合物ａが１電子酸化されて １電子酸化体ｂを生成する。ここからＤ−Ｘの単結合が２重結合になると同時にＸ−Ｙの結合が切断され開環体ｃが生成する。あるいはまた１電子酸化体ｂからプロトンの脱離を伴ってラジカル中間体ｄが生成し、ここから同様に開環体ｅを生成する経路をとる場合もある。このように生成した開環体ｃまたはｅから、引き続きさらに１つ以上の電子が放出される点に本発明の化合物の特徴がある。
【０１３８】
タイプ４の化合物が有する環構造とは、３〜７員環の炭素環またはヘテロ環であり、単環もしくは縮環の、飽和もしくは不飽和の非芳香族の環を表す。好ましくは飽和の環構造であり、より好ましくは３員環あるいは４員環である。好ましい環構造としてはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アジリジン環、アゼチジン環、エピスルフィド環、チエタン環が挙げられる。より好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アゼチジン環であり、特に好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、アゼチジン環である。環構造は任意の置換基を有していても良い。
【０１３９】
タイプ４の化合物は好ましくは一般式（Ｅ）または（Ｆ）で表される。
【０１４０】
一般式（Ｅ）
【化１１】

【０１４１】
一般式（Ｆ）
【化１２】

【０１４２】
一般式（Ｅ）および一般式（Ｆ）においてＲＥＤ_４１およびＲＥＤ_４２は、それぞれ一般式（Ｂ）のＲＥＤ_１２と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。Ｒ_４０〜Ｒ_４４およびＲ_４５〜Ｒ_４９は、それぞれ水素原子または置換基を表す。一般式（Ｆ）においてＺ_４２は、−ＣＲ_４２０Ｒ_４２１−、−ＮＲ_４２３−、または−Ｏ−を表す。ここにＲ_４２０、Ｒ_４２１は、それぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ_４２３は水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
【０１４３】
一般式（Ｅ）および一般式（Ｆ）においてＲ_４０およびＲ_４５は、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基がより好ましい。Ｒ_４１〜Ｒ_４４およびＲ_４６〜Ｒ_４９として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。
【０１４４】
Ｒ_４１〜Ｒ_４４は、これらのうち少なくとも１つがドナー性基である場合と、Ｒ_４１とＲ_４２、あるいはＲ_４３とＲ_４４がともに電子求引性基である場合が好ましい。より好ましくはＲ_４１〜Ｒ_４４の少なくとも１つがドナー性基である場合である。さらに好ましくはＲ_４１〜Ｒ_４４の少なくとも１つがドナー性基であり且つ、Ｒ_４１〜Ｒ_４４の中でドナー性基でない基が水素原子またはアルキル基である場合である。
【０１４５】
ここで言うドナー性基とは、「電子供与性基」、または少なくとも１つの「電子供与性基」で置換されたアリール基である。ドナー性基として好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、少なくとも１つの電子供与性基で置換されたフェニル基が用いられる。より好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（インドール環、ピロール環、カルバゾール環など）、電子供与性基で置換されたフェニル基（３つ以上のアルコキシ基で置換されたフェニル基、ヒドロキシ基またはアルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基など）が用いられる。 特に好ましくはアリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも１つ含む５員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基（特に３−インドリル基）、電子供与性基で置換されたフェニル基（特にトリアルコキシフェニル基、アルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基）が用いられる。
【０１４６】
Ｚ_４２として好ましくは−ＣＲ_４２０Ｒ_４２１−または−ＮＲ_４２３−であり、より好ましくは−ＮＲ_４２３−である。Ｒ_４２０、Ｒ_４２１は好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。Ｒ_４２３は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基を表し、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基である。
【０１４７】
Ｒ_４０〜Ｒ_４９およびＲ_４２０、Ｒ_４２１、Ｒ_４２３の各基が置換基である場合にはそれぞれ総炭素数が４０以下のものが好ましく、より好ましくは総炭素数３０以下で、特に好ましくは総炭素数１５以下である。またこれらの置換基は互いに結合して、あるいは分子中の他の部位（ＲＥＤ_４１、ＲＥＤ_４２あるいはＺ_４２）と結合して環を形成していても良い。
【０１４８】
本発明のタイプ１〜４の化合物においてハロゲン化銀への吸着性基とは、ハロゲン化銀に直接吸着する基、またはハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基（またはその塩）、チオン基（−Ｃ（＝Ｓ）−）、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、カチオン性基、またはエチニル基である。但し、本発明のタイプ２の化合物においては、吸着性基としてスルフィド基は含まれない。
【０１４９】
吸着性基としてメルカプト基（またはその塩）とは、メルカプト基（またはその塩）そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも１つのメルカプト基（またはその塩）の置換したヘテロ環基またはアリール基またはアルキル基を表す。ここにヘテロ環基は、５員〜７員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基で、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズチアゾール環基、ベンズオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また４級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられ、中でもトリアゾリウム環基（例えば１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート環基）が好ましい。アリール基としてはフェニル基またはナフチル基が挙げられる。アルキル基としては炭素数１〜３０の直鎖または分岐または環状のアルキル基が挙げられる。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン（Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ａｇ^＋、Ｚｎ^２＋等）、アンモニウムイオン、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
【０１５０】
吸着性基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていてもよく、具体的にはチオアミド基（ここでは−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−基）、および該チオアミド基の部分構造を含む基、すなわち、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基などが挙げられる。ここで環状の例としてはチアゾリジン−２−チオン基、オキサゾリジン−２−チオン基、２−チオヒダントイン基、ローダニン基、イソローダニン基、チオバルビツール酸基、２−チオキソ−オキサゾリジン−４−オン基などが挙げられる。
【０１５１】
吸着性基としてチオン基とは、上述のメルカプト基が互変異性化してチオン基となった場合を含め、メルカプト基に互変異性化できない（チオン基のα位に水素原子を持たない）、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
【０１５２】
吸着性基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも１つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、または配位結合で銀イオンに配位し得る、”−Ｓ−”基または”−Ｓｅ−”基または”−Ｔｅ−”基または”＝Ｎ−”基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンズイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンズセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンズテルルアゾール基などが挙げられる。好ましくは前者である。
【０１５３】
吸着性基としてスルフィド基とは、”−Ｓ−”の部分構造を有する基すべてが挙げられるが、好ましくはアルキル（またはアルキレン）−Ｓ−アルキル（またはアルキレン）、アリール（またはアリーレン）−Ｓ−アルキル（またはアルキレン）、アリール（またはアリーレン）−Ｓ−アリール（またはアリーレン）の部分構造を有する基である。さらにこれらのスルフィド基は、環状構造を形成していてもよく、また−Ｓ−Ｓ−基となっていてもよい。環状構造を形成する場合の具体例としてはチオラン環、１，３−ジチオラン環または１，２−ジチオラン環、チアン環、ジチアン環、テトラヒドロ−１，４−チアジン環（チオモルホリン環）などを含む基が挙げられる。スルフィド基として特に好ましくはアルキル（またはアルキレン）−Ｓ−アルキル（またはアルキレン）の部分構造を有する基である。
【０１５４】
吸着性基としてカチオン性基とは、４級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基または４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。但し、該カチオン性基が色素構造を形成する原子団（例えばシアニン発色団）の一部となることはない。ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリールアンモニオ基、アルキルジアリールアンモニオ基などで、例えばベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。好ましくはピリジニオ基およびイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基である。これら４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、ピリジニオ基およびイミダゾリオ基の場合、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、ピリジニオ基の場合、置換基として特に好ましくはフェニル基である。
【０１５５】
吸着性基としてエチニル基とは、−Ｃ≡ＣＨ基を意味し、水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着性基は任意の置換基を有していてもよい。
【０１５６】
なお吸着性基の具体例としては、さらに特開平１１−９５３５５号の明細書４〜７頁に記載されているものが挙げられる。
【０１５７】
本発明において吸着性基として好ましいものは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基（例えば２−メルカプトチアジアゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、５−メルカプトテトラゾール基、２−メルカプト−１，３，４−オキサジアゾール基、２−メルカプトベンズオキサゾール基、２−メルカプトベンズチアゾール基、１，５−ジメチル−１，２，４−トリアゾリウム−３−チオレート基など）、またはイミノ銀（＞ＮＡｇ）を形成しうる−ＮＨ−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基（例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など）である。特に好ましくは、５−メルカプトテトラゾール基、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、およびベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール基、および５−メルカプトテトラゾール基である。
【０１５８】
本発明の化合物のうち、分子内に２つ以上のメルカプト基を部分構造として有する化合物もまた特に好ましい化合物である。ここにメルカプト基（−ＳＨ）は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。この様な化合物の例としては、以上述べてきたメルカプト基もしくはチオン基を部分構造として有する吸着性基（例えば環形成チオアミド基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、ヘテロ環メルカプト基など）を分子内に２つ以上有する化合物であってもよいし、また吸着性基の中で、２つ以上のメルカプト基またはチオン基を部分構造として有する吸着性基（例えばジメルカプト置換含窒素ヘテロ環基）を、１つ以上有していてもよい。
【０１５９】
２つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基（ジメルカプト置換含窒素ヘテロ環基など）の例としては、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−チアゾール基、２，５−ジメルカプト−１，３−オキサゾール基、２，７−ジメルカプト−５−メチル−ｓ−トリアゾロ（１，５−Ａ）−ピリミジン、２，６，８−トリメルカプトプリン、６，８−ジメルカプトプリン、３，５，７−トリメルカプト−ｓ−トリアゾロトリアジン、４，６−ジメルカプトピラゾロピリミジン、２，５−ジメルカプトイミダゾールなどが挙げられ、２，４−ジメルカプトピリミジン基、２，４−ジメルカプトトリアジン基、３，５−ジメルカプト−１，２，４−トリアゾール基が特に好ましい。
【０１６０】
吸着性基は一般式（Ａ）〜（Ｆ）および一般式（１）〜（３）のどこに置換されていてもよいが、一般式（Ａ）〜（Ｄ）においてはＲＥＤ_１１、ＲＥＤ_１２、ＲＥＤ_２、ＲＥＤ_３に、一般式（Ｅ）、（Ｆ）においてはＲＥＤ_４１、Ｒ_４１、ＲＥＤ_４２、Ｒ_４６〜Ｒ_４８に、一般式（１）〜（３）においてはＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_３１、Ｌ_１、Ｌ_２１、Ｌ_３１を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式（Ａ）〜（Ｆ）全てでＲＥＤ_１１〜ＲＥＤ_４２に置換されていることがより好ましい。
【０１６１】
分光増感色素の部分構造とは分光増感色素の発色団を含む基であり、分光増感色素化合物から任意の水素原子または置換基を除いた残基である。分光増感色素の部分構造は一般式（Ａ）〜（Ｆ）および一般式（１）〜（３）のどこに置換されていてもよいが、一般式（Ａ）〜（Ｄ）においてはＲＥＤ_１１、ＲＥＤ_１２、ＲＥＤ_２、ＲＥＤ_３に、一般式（Ｅ）、（Ｆ）においてはＲＥＤ_４１、Ｒ_４１、ＲＥＤ_４２、Ｒ_４６〜Ｒ_４８に、一般式（１）〜（３）においてはＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_３１、Ｌ_１、Ｌ_２１、Ｌ_３１を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式（Ａ）〜（Ｆ）全てでＲＥＤ_１１〜ＲＥＤ_４２に置換されていることがより好ましい。好ましい分光増感色素は、典型的にカラー増感技法で用いられる分光増感色素であり、例えばシアニン色素類、複合シアニン色素類、メロシアニン色素類、複合メロシアニン色素類、同極のシアニン色素類、スチリル色素類、ヘミシアニン色素類を含む。代表的な分光増感色素は、リサーチディスクロージャー、アイテム３６５４４、１９９４年９月に開示されている。前記リサーチディスクロージャー、もしくはＦ．Ｍ．ＨａｍｅｒのＴｈｅ Ｃｙａｎｉｎｅ ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ （Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ， Ｎｅｗ ｙｐｒｋ， １９６４）に記載される手順によって当業者は、これらの色素を合成することができる。さらに特開平１１−９５３５５号（米国特許６，０５４，２６０号）の明細書７〜１４頁に記載された色素類が全てそのまま当てはまる。
【０１６２】
本発明のタイプ１〜４の化合物は、その総炭素数が１０〜６０の範囲のものが好ましい。より好ましくは１５〜５０、さらに好ましくは１８〜４０であり、特に好ましくは１８〜３０である。
【０１６３】
本発明のタイプ１〜４の化合物は、これを用いたハロゲン化銀写真感光材料が露光されることを引き金に１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに１電子、あるいはタイプによっては２電子以上の電子が放出され、酸化されるが、その１電子目の酸化電位は、約１．４Ｖ以下が好ましく、さらには１．０Ｖ以下が好ましい。この酸化電位は好ましくは０Ｖより高く、より好ましくは０．３Ｖより高い。従って酸化電位は好ましくは約０〜約１．４Ｖ、より好ましくは約０．３〜約１．０Ｖの範囲である。
【０１６４】
ここに酸化電位はサイクリックボルタンメトリーの技法で測定でき、具体的には試料をアセトニトリル：水（０．１Ｍの過塩素酸リチウムを含む）＝８０％：２０％（容量％）の溶液に溶解し、１０分間窒素ガスを通気した後、ガラス状のカーボンディスクを動作電極に用い、プラチナ線を対電極に用い、そしてカロメル電極（ＳＣＥ）を参照電極に用いて、２５℃で、０．１Ｖ／秒の電位走査速度で測定したものである。サイクリックボルタンメトリー波のピーク電位の時に酸化電位対ＳＣＥをとる。
【０１６５】
本発明のタイプ１〜４の化合物が１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに１電子を放出する化合物である場合には、この後段の酸化電位は好ましくは−０．５Ｖ〜−２Ｖであり、より好ましくは−０．７Ｖ〜−２Ｖであり、さらに好ましくは−０．９Ｖ〜−１．６Ｖである。
【０１６６】
本発明のタイプ１〜４の化合物が１電子酸化され、引き続く反応の後、さらに２電子以上の電子を放出し、酸化される化合物である場合には、この後段の酸化電位については特に制限はない。２電子目の酸化電位と３電子目以降の酸化電位が明確に区別できない点で、これらを実際に正確に測定し区別することは困難な場合が多いためである。
【０１６７】
次にタイプ５の化合物について説明する。
タイプ５の化合物はＸ−Ｙで表され、ここにＸは還元性基を、Ｙは脱離基を表し、Ｘで表される還元性基が１電子酸化されて生成する１電子酸化体が、引き続くＸ−Ｙ結合の開裂反応を伴ってＹを脱離してＸラジカルを生成し、そこからさらにもう１電子を放出し得る化合物である。この様なタイプ５の化合物が酸化された時の反応は、以下の式で表すことができる。
【０１６８】
【化１３】

【０１６９】
タイプ５の化合物は好ましくはその酸化電位が０〜１．４Ｖであり、より好ましくは０．３Ｖ〜１．０Ｖである。また上記反応式において生成するラジカルＸ・の酸化電位は−０．７Ｖ〜−２．０Ｖであることが好ましく、−０．９Ｖ〜−１．６Ｖがより好ましい。
【０１７０】
タイプ５の化合物は、好ましくは一般式（Ｇ）で表される。
【０１７１】
一般式（Ｇ）
【化１４】

【０１７２】
一般式（Ｇ）においてＲＥＤ_０は還元性基を表し、Ｌ_０は脱離基を表し、Ｒ_０およびＲ_００は水素原子または置換基を表す。ＲＥＤ_０ とＲ_０、およびＲ_０とＲ_００とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。ＲＥＤ_０は一般式（Ｃ）のＲＥＤ_２と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。Ｒ_０およびＲ_００は一般式（Ｃ）のＲ_２１およびＲ_２２と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。但しＲ_０およびＲ_００が、水素原子を除いて、Ｌ_０と同義の基を表すことはない。ＲＥＤ_０とＲ_０とは互いに結合して環構造を形成していてもよく、ここに環構造の例としては、一般式（Ｃ）のＲＥＤ_２とＲ_２１が連結して環構造を形成する場合と同じ例が挙げられ、その好ましい範囲も同じである。Ｒ_０とＲ_００とが互いに結合して形成される環構造の例としては、シクロペンタン環やテトラヒドロフラン環などが挙げられる。一般式（Ｇ）においてＬ_０は、一般式（Ｃ）のＬ_２と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。
【０１７３】
一般式（Ｇ）で表される化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基、もしくは分光増感色素の部分構造を有していることが好ましいが、Ｌ_０がシリル基以外の基を表す時、分子内に吸着性基を同時に２つ以上有することはない。但しここで吸着性基としてのスルフィド基は、Ｌ_０に依らず、これを２つ以上有していてもよい。
【０１７４】
一般式（Ｇ）で表される化合物が有するハロゲン化銀への吸着性基としては、本発明のタイプ１〜４の化合物が有していてもよい吸着性基と同じものがその例として挙げられるが、さらに加えて、特開平１１−９５３５５号の明細書４〜７頁に「ハロゲン化銀吸着基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
一般式（Ｇ）で表される化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造とは、本発明のタイプ１〜４の化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造と同じであるが、同時に特開平１１−９５３５５号の明細書７〜１４頁に「光吸収性基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【０１７５】
以下に本発明のタイプ１〜５の化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１７６】
【化１５】

【０１７７】
【化１６】

【０１７８】
【化１７】

【０１７９】
【化１８】

【０１８０】
本発明のタイプ１〜４の化合物は、それぞれ特願２００２−１９２３７３号、特願２００２−１８８５３７号、特願２００２−１８８５３６号、特願２００１−２７２１３７号、特願２００２−１９２３７４号において、詳細に説明した化合物と同じものである。これら特許出願明細書に記載した具体的化合物例もまた、本発明のタイプ１〜４の化合物の具体例として挙げることができる。また本発明のタイプ１〜４の化合物の合成例も、これら特許に記載したものと同じである。
【０１８１】
本発明のタイプ５の化合物の具体例としては、さらに特開平９−２１１７６９号（２８〜３２頁の表Ｅおよび表Ｆに記載の化合物ＰＭＴ−１〜Ｓ−３７）、特開平９−２１１７７４号、特開平１１−９５３５５号（化合物ＩＮＶ１〜３６）、特表２００１−５００９９６号（化合物１〜７４、８０〜８７、９２〜１２２）、米国特許５，７４７，２３５号、米国特許５，７４７，２３６号、欧州特許７８６６９２Ａ１号（化合物ＩＮＶ１〜３５）、欧州特許８９３７３２Ａ１号、米国特許６，０５４，２６０号、米国特許５，９９４，０５１号などの特許に記載の「１光子２電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物の例が、そのまま挙げられる。
【０１８２】
本発明のタイプ１〜５の化合物は感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することも出来る。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時（化学増感開始直前から終了直後）、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前までである。
【０１８３】
本発明のタイプ１〜５の化合物は水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、ｐＨを高くまたは低くした方が溶解度が上がる化合物については、ｐＨを高くまたは低くして溶解し、これを添加しても良い。
【０１８４】
本発明のタイプ１〜５の化合物は感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層中に使用するのが好ましいが、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。本発明の化合物の添加時期は増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀１モル当り、１×１０^−９〜５×１０^−１モル、更に好ましくは１×１０^−８〜５×１０^−２モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有する。
【０１８５】
１０）ハロゲン化銀の複数併用
【０１８６】
本発明に用いられる感光材料中の感光性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上（例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの）併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化銀を複数種用いることで階調を調節することができる。これらに関する技術としては特開昭５７−１１９３４１号、同５３−１０６１２５号、同４７−３９２９号、同４８−５５７３０号、同４６−５１８７号、同５０−７３６２７号、同５７−１５０８４１号などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳剤で０．２ｌｏｇＥ以上の差を持たせることが好ましい。
【０１８７】
１１）塗布量
感光性ハロゲン化銀の添加量は、感材１ｍ^２当たりの塗布銀量で示して、０．０３〜０．６ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．０５〜０．４ｇ／ｍ^２であることがさらに好ましく、０．０７〜０．３ｇ／ｍ^２であることが最も好ましく、有機銀塩１モルに対しては、感光性ハロゲン化銀は０．０１モル以上０．５モル以下が好ましく、より好ましくは０．０２モル以上０．３モル以下、さらに好ましくは０．０３モル以上０．２モル以下である。
【０１８８】
１２）感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法
別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法及び混合条件については、それぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。また、混合する際に２種以上の有機銀塩水分散液と２種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましい方法である。
【０１８９】
本発明のハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好ましい添加時期は、塗布する１８０分前から直前、好ましくは６０分前から１０秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やＮ．Ｈａｒｎｂｙ、Ｍ．Ｆ．Ｅｄｗａｒｄｓ、Ａ．Ｗ．Ｎｉｅｎｏｗ著、高橋幸司訳“液体混合技術”（日刊工業新聞社刊、１９８９年）の第８章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
【０１９０】
１−４．還元剤
本発明の熱現像感光材料には有機銀塩のための還元剤である熱現像剤を含むことが好ましい。有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質（好ましくは有機物質）であってよい。このような還元剤の例は、特開平１１−６５０２１号の段落番号００４３〜００４５や、欧州特許公開第０８０３７６４Ａ１号の第７ページ第３４行〜第１８ページ第１２行に記載されている。
本発明に用いられる好ましい還元剤は、次の一般式（Ｒ）で表される化合物が好ましく、これらについて詳細に説明する。
【０１９１】
一般式（Ｒ）
【化１９】

【０１９２】
一般式（Ｒ）においては、Ｒ^１１およびＲ^１１’は各々独立に炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ^１２およびＲ^１２’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な置換基を表す。Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ^１３−基を表す。Ｒ^１３は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｘ^１およびＸ^１’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
【０１９３】
各置換基について詳細に説明する。
１）Ｒ^１１およびＲ^１１’
Ｒ^１１およびＲ^１１’は各々独立に置換または無置換の炭素数１〜２０のアルキル基であり、アルキル基の置換基は特に限定されることはないが、好ましくは、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等があげられる。
【０１９４】
２）Ｒ^１２およびＲ^１２’、Ｘ^１およびＸ^１’
Ｒ^１２およびＲ^１２’は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
Ｘ^１およびＸ^１’は、各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。それぞれベンゼン環に置換可能な基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基があげられる。
【０１９５】
３）Ｌ
Ｌは−Ｓ−基または−ＣＨＲ^１３−基を表す。Ｒ^１３は水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、アルキル基は置換基を有していてもよい。
Ｒ^１３の無置換のアルキル基の具体例はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、１−エチルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基などがあげられる。
【０１９６】
アルキル基の置換基の例はＲ^１１の置換基と同様で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基などがあげられる。
【０１９７】
４）好ましい置換基
Ｒ^１１およびＲ^１１’として好ましくは炭素数３〜１５の２級または３級のアルキル基であり、具体的にはイソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−メチルシクロプロピル基などがあげられる。Ｒ^１１およびＲ^１１’としてより好ましくは炭素数４〜１２の３級アルキル基で、その中でもｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、１−メチルシクロヘキシル基が更に好ましく、ｔ−ブチル基が最も好ましい。
【０１９８】
Ｒ^１２およびＲ^１２’として好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基などがあげられる。より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基である。
【０１９９】
Ｘ^１およびＸ^１’は、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基で、より好ましくは水素原子である。
【０２００】
Ｌは好ましくは−ＣＨＲ^１３−基である。
【０２０１】
Ｒ^１３として好ましくは水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基であり、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、２，４，４−トリメチルペンチル基が好ましい。Ｒ^１３として特に好ましいのは水素原子、メチル基、プロピル基またはイソプロピル基である。
【０２０２】
Ｒ^１３が水素原子である場合、Ｒ^１２およびＲ^１２’は好ましくは炭素数２〜５のアルキル基であり、エチル基、プロピル基がより好ましく、エチル基が最も好ましい。
【０２０３】
Ｒ^１３が炭素数１〜８の１級または２級のアルキル基である場合、Ｒ^１２およびＲ^１２’はメチル基が好ましい。Ｒ^１３の炭素数１〜８の１級または２級のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基が更に好ましい。
【０２０４】
Ｒ^１１、Ｒ^１１’およびＲ^１２、Ｒ^１２’とがいずれもメチル基である場合、Ｒ^１３は２級のアルキル基であることが好ましい。この場合、Ｒ^１３の２級アルキル基としてはイソプロピル基、イソブチル基、１−エチルペンチル基が好ましく、イソプロピル基がより好ましい。
【０２０５】
上記還元剤は、Ｒ^１１、Ｒ^１１’およびＲ^１２およびＲ^１２’、およびＲ^１３の組合せにより、種々の熱現像性能が異なる。２種以上の還元剤を種々の混合比率で併用することによってこれらの熱現像性能を調整することができるので、目的によっては還元剤を２種類以上組み合わせて使用することが好ましい。
【０２０６】
以下に本発明の一般式（Ｒ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２０７】
【化２０】

【０２０８】
本発明において還元剤の添加量は０．０１〜５．０ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．１〜３．０ ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、画像形成層を有する面の銀１モルに対しては５〜５０％モル含まれることが好ましく、１０〜４０モル％で含まれることがさらに好ましい。
【０２０９】
本発明の還元剤は、有機銀塩、および感光性ハロゲン化銀を含む画像形成層、およびその隣接層に添加することができるが、画像形成層に含有させることがより好ましい。
【０２１０】
本発明の還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。
【０２１１】
特に好ましい添加方法は、上述の固体微粒子分散法である。好ましくは、平均粒子サイズ０．０１μｍ〜１０μｍ、好ましくは０．０５μｍ〜５μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜１μｍの微粒子して添加される。
【０２１２】
１−５．現像促進剤
本発明の熱現像感光材料に用いられる現像促進剤とは、主還元剤に対するモル比で１０％添加した時に画像濃度＝１．０を出すのに必要な露光量が添加していない時に対して９０％以下になる化合物である。好ましくは、主還元剤に対するモル比が５％、さらに好ましくは２％添加した時に、濃度＝１．０を出すのに必要な露光量が添加していない時に対して９０％以下になる化合物である。
【０２１３】
現像促進剤としては熱現像において現像を促進する化合物であればどのような化合物でも用いることができる。いわゆる還元剤を用いることができる。
具体的には、ｐ−アミノフェノール類、ｐ−フェニレンジアミン類、スルホンアミドフェノール類、フェニドン類、アスコルビン酸、ヒドラジン類、フェノール類、ナフトール類などの化合物を用いることができる。中でも、スルホンアミドフェノール類（たとえば特開平１０−２２１８０６号記載の一般式（１）で表される化合物、特開２０００−２６７２２２号明細書に記載の式（Ａ）で表される化合物）、ナフトール類、ヒドラジン類が好ましい。
【０２１４】
本発明のより好ましい現像促進剤について説明する。
本発明のより好ましい現像促進剤は、フェノール誘導体、およびヒドラジン誘導体より選ばれる。
フェノール誘導体としては、下記一般式（Ｐ）または（Ｑ）で表される化合物が好ましく、より好ましくは、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）、および（ＩＶ）で表される化合物である。
ヒドラジン誘導体としては、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【０２１５】
【化２１】

（式中、Ｘ_１ａおよびＸ_２ａはそれそれ独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ^１ａ〜Ｒ^３ａはそれそれ独立に水素原子または置換基を表す。ｍ及びｐはそれそれ独立に０〜４の整数、ｎは０〜２の整数を表す。）
【０２１６】
【化２２】

（一般式（Ｉ）において、Ｒ^１はアルキル基、アリール基、アルケニル基、ヘテロ環、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基またはアルキニル基を表し、Ｘ^１はアシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基またはスルファモイル基を表す。Ｙ^１〜Ｙ^５はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
（一般式（ＩＩ）において、Ｑ^１は炭素原子でＮＨＮＨ−Ｒ^１ｂと結合する５〜７員の不飽和環を表し、Ｒ^１ｂはカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、又はスルファモイル基を表す。）
（一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、Ｒ^３ｃ、Ｘ^１ｃおよびＸ^２ｃはそれぞれ独立に水素原子；ハロゲン原子；または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子もしくはリン原子でベンゼン環に結合する置換基を表す。
但し、Ｘ^１ｃ、Ｘ^２ｃの少なくとも一方は、−ＮＲ^４Ｒ^５で表される基である。Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、あるいは−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ）_２または−Ｃ（＝ＮＲ’）−Ｒで表される基である。Ｒ、Ｒ’はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基から選ばれる基である。これらの置換基はそれぞれ隣接する基同士が結合して環を形成してもよい。）
（一般式（ＩＶ）において、Ｘ^１ｄは置換基を表し、Ｘ^２ｄ〜Ｘ^４ｄはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。但し、Ｘ^１ｄ〜Ｘ^４ｄでヒドロキシ基であることはなく、Ｘ^３ｄはスルホンアミド基であることはない。Ｘ^１ｄ〜Ｘ^４ｄで表される置換基は互いに結合して環を形成しても良い。Ｒ^１ｄは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基またはアルコキシ基を表す。）
【０２１７】
（一般式（Ｐ）および（Ｑ）で表される化合物）
一般式（Ｐ）および（Ｑ）において、Ｘ_１ａおよびＸ_２ａはそれぞれ独立して水素原子または置換基を表わす。
【０２１８】
Ｘ_１ａおよびＸ_２ａで表わされる置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、さらに好ましくは６〜１２であり、例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８であり、例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、さらに好ましくは６〜１２であり、例えば、フェニルオキシ、２−ナフチルオキシ等）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、さらに好ましくは６〜１２であり、例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１０であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１０であり、例えば、Ｎ−メチルアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アシル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル等）、スルホ基、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メシル、トシル等）、スルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等）、アゾ基、ヘテロ環基、ヘテロ環メルカプト基、シアノ基等が挙げられる。
【０２１９】
ここでいうヘテロ環基とは、飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表し、例えばピリジル基、キノリル基、キノキサリニル基、ピラジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、テトラゾリル基、ヒダントイン−１−イル基、スクシンイミド基、フタルイミド基等が挙げられる。
【０２２０】
一般式（Ｐ）又は式一般式（Ｑ）におけるＸ_１ａおよびＸ_２ａで表される置換基は、更に好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。Ｘ_１ａおよびＸ_２ａで表される置換基はさらに別の置換基で置換されていてもよく、写真性能を悪化させないものであれば一般に知られているどのような置換基でもよい。
【０２２１】
一般式（Ｐ）および（Ｑ）において、Ｒ^１ａ〜Ｒ^３ａはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。
ｍおよびｐはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｎは０〜２の整数を表す。
【０２２２】
Ｒ^１ａ〜Ｒ^３ａで表される置換基としては、写真性へ悪影響のないものであればどのような置換基を用いてもよい。例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、直鎖、分岐、環状またはそれら組み合わせのアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１３であり、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｔｅｒｔ−オクチル、ｎ−アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、シクロヘキシル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、さらに好ましくは６〜１２であり、例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、さらに好ましくは６〜１２であり、例えば、フェニルオキシ、２−ナフチルオキシ等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、アニリノ基等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１３であり、例えば、アセチルアミノ、トリデカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ブタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイド等）、カルバメート基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ、フェニルオキシカルボニルアミノ等）、カルボキシル基、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル等）、アシル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等）、スルホ基、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メシル、トシル等）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１６、さらに好ましくは０〜１２であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メチルチオ、ブチルチオ等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、ピリジル、イミダゾイル、ピロリジル等）等が挙げられる。
これらの置換基はさらに他の置換基で置換されていてもよい。
【０２２３】
Ｒ^１ａ〜Ｒ^３ａで表される置換基として好ましいものは、上記の中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アニリノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アシル基、スルホ基、スルホニル基、スルファモイル基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、ヘテロ環基である。
【０２２４】
一般式（Ｐ）で表される化合物は、２−位にカルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、 Ｎ−（２−クロロフェニル）カルバモイル、 Ｎ−（４−クロロフェニル）カルバモイルＮ−（２，４−ジクロロフェニル）カルバモイル、 Ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）カルバモイル等）を有することが更に好ましく、２−位にアリールカルバモイル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、さらに好ましくは７〜１２であり、例えば、Ｎ−フェニルカルバモイル、 Ｎ−（２−クロロフェニル）カルバモイル、 Ｎ−（４−クロロフェニル）カルバモイルＮ−（２，４−ジクロロフェニル）カルバモイル、 Ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）カルバモイル等）を有することが特に好ましい。
【０２２５】
一般式（Ｐ）あるいは（Ｑ）で表される化合物としては、一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。
【０２２６】
（一般式（Ｉ）で表される化合物）
一般式（Ｉ）で表される現像促進剤を説明する。
【０２２７】
【化２３】

【０２２８】
一般式（Ｉ）において、Ｒ^１はアルキル基、アリール基、アルケニル基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキニル基を表す。
Ｒ^１で表されるアルキル基は、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１３の、直鎖、分岐、環状またはそれら組み合わせのアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−オクチル、ｉ−オクチル、ｎ−アミル、ｔ−アミル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ベンジル、フェネチル等を挙げることができる。
【０２２９】
Ｒ^１で表されるアリール基は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、さらに好ましくは６〜１２であり、例えば、フェニル、４−メチルフェニル、２−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、３，４−ジクロロフェニル、２−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェニル、２−ドデシルオキシフェニル、ナフチル等を挙げることができる。
【０２３０】
Ｒ^１で表されるアルケニル基は、好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは２〜２０、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、シクロヘキセニル基などを挙げることができる。
Ｒ^１で表されるアルキニル基は、好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは２〜２０、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、エチニル基、プロピニル基などを挙げることができる。
【０２３１】
Ｒ^１は更に置換基を有していてもよく、好ましい置換基の例としては、後述の一般式（Ｉ）の化合物のＹ^１〜Ｙ^５で表される基を挙げることができる。
Ｒ^１は更に好ましくはアルキル基またはアリール基を表し、特に好ましくは、アルキル基を表す。
【０２３２】
一般式（Ｉ）の化合物において、Ｘ^１はアシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基またはスルファモイル基を表す。
Ｘ^１で表されるアシル基は、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ヘキサノイル、ミリスチリル、パルミトイル、ステアリル、オレイル、アクリロイル、シクロヘキサンカルボニル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等が挙げられる。
Ｘ^１で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、フェノキシカルボニル等が挙げられる。
【０２３３】
Ｘ^１で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−デシルカルバモイル、Ｎ−ヘキサデシルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−（２−クロロフェニル）カルバモイル、Ｎ−（４−クロロフェニル）カルバモイル、Ｎ−（２，４−ジクロロフェニル）カルバモイル、Ｎ−（３，４−ジクロロフェニル）カルバモイル等、Ｎ−ペンタクロロフェニルカルバモイル、Ｎ−（２−メトキシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（４−メトキシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（２，４−ジメトキシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（２−ドデシルオキシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（４−ドデシルオキシフェニル）カルバモイル等が挙げられる。
【０２３４】
Ｘ^１で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メシル、エタンスルホニル、シクロヘキサンスルホニル、ベンゼンスルホニル、トシル、４−クロロベンゼンスルホニル等が挙げられる。
Ｘ^１で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１６、さらに好ましくは０〜１２であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等が挙げられる。
【０２３５】
Ｘ^１は更に置換基を有していてもよく、好ましい置換基の例としては、後述の一般式（Ｉ）の化合物のＹ^１〜Ｙ^５で表される基を挙げることができる。
Ｘ^１は好ましくはカルバモイル基を表し、更に好ましくは、アルキルカルバモイル基またはアリールカルバモイル基を表し、特に好ましくはアリールカルバモイル基を表す。
【０２３６】
Ｙ^１〜Ｙ^５はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。
Ｙ^１〜Ｙ^５で表される置換基としては、写真性へ悪影響のないものであればどのような置換基を用いてもよい。例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、直鎖、分岐、環状またはそれら組み合わせのアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１３であり、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−オクチル、ｎ−アミル、ｔ−アミル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、シクロヘキシル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、さらに好ましくは６〜１２であり、例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、さらに好ましくは６〜１２であり、例えば、フェニルオキシ、２−ナフチルオキシ等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、アニリノ基等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１３であり、例えば、アセチルアミノ、トリデカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ等）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ブタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイド等）、カルバメート基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ、フェニルオキシカルボニルアミノ等）、カルボキシル基、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル等）、アシル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等）、スルホ基、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メシル、トシル等）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１６、さらに好ましくは０〜１２であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、さらに好ましくは１〜１２であり、例えば、メチルチオ、ブチルチオ等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、さらに好ましくは２〜１２であり、例えば、ピリジル、イミダゾイル、ピロリジル等）等が挙げられる。
これらの置換基はさらに他の置換基で置換されていてもよい。
【０２３７】
Ｙ^１〜Ｙ^５で表される置換基として好ましいものは、上記の中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アニリノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アシル基、スルホ基、スルホニル基、スルファモイル基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、ヘテロ環基である。
【０２３８】
一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｒ^１がアルキル基、Ｘ^１がカルバモイル基、Ｙ^１〜Ｙ^５が水素原子である組み合わせが好ましい。
【０２３９】
以下に一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明に用いられる化合物はこれらの具体例によって限定されるものではない。
【０２４０】
【化２４】

【０２４１】
【化２５】

【０２４２】
【化２６】

【０２４３】
【化２７】

【０２４４】
【化２８】

【０２４５】
【化２９】

【０２４６】
【化３０】

【０２４７】
【化３１】

【０２４８】
【化３２】

【０２４９】
（一般式（ＩＩ）で表される化合物）
一般式（ＩＩ）で表される化合物を説明する。
【０２５０】
【化３３】

【０２５１】
一般式（ＩＩ）で表される化合物は、ヒドラジン系現像主薬と総称される現像主薬である。式中、Ｑ^１は炭素原子でＮＨＮＨ−Ｒ^１ｂと結合する５〜７員の不飽和環を表し、Ｒ^１ｂはカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基またはスルファモイル基を表す。
【０２５２】
Ｑ^１で表される５〜７員の不飽和環の好ましい例としては、ベンゼン環、ピジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、１，２，４−トリアジン環、１，３，５−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、テトラゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，２，５−チアジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−オキサジアゾール環、１，２，５−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環などが挙げられ、これらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。
【０２５３】
これらの環は置換基を有していてもよく、２個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、およびアシル基を挙げることができる。
これらの置換基が置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、およびアシルオキシ基を挙ることができる。
【０２５４】
Ｒ^１ｂで表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０であり、例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）カルバモイル、Ｎ−オクタデシルカルバモイル、Ｎ−｛３−（２，４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノキシ）プロピル｝カルバモイル、Ｎ−（２−ヘキシルデシル）カルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−（４−ドデシルオキシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（２−クロロ−５−ドデシルオキシカルボニルフェニル）カルバモイル、Ｎ−ナフチルカルバモイル、Ｎ−３−ピリジルカルバモイル、Ｎ−ベンジルカルバモイルが挙げられる。
【０２５５】
Ｒ^１ｂで表されるアシル基は、好ましくは炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０であり、例えば、ホルミル、アセチル、２−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、２−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、４−ドデシルオキシベンゾイル、２−ヒドロキシメチルベンゾイルが挙げられる。
Ｒ^１ｂで表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数２〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。
【０２５６】
Ｒ^１ｂで表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数７〜５０、より好ましくは炭素数７〜４０であり、例えば、フェノキシカルボニル、４−オクチルオキシフェノキシカルボニル、２−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、４−ドデシルオキシフェノキシカルボニルが挙げられる。
Ｒ^１ｂで表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０であり、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、２−ヘキサデシルスルホニル、３−ドデシルオキシプロピルスルホニル、２−オクチルオキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニルスルホニル、４−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。
【０２５７】
Ｒ^１ｂで表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数０〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０であり、例えば、無置換スルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）スルファモイル、Ｎ−デシルスルファモイル、Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル、Ｎ−｛３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピル｝スルファモイル、Ｎ−（２−クロロ−５−ドデシルオキシカルボニルフェニル）スルファモイル、Ｎ−（２−テトラデシルオキシフェニル）スルファモイルが挙げられる。
Ｒ^１ｂで表される基は、さらに、置換可能な位置に前記のＱ^１で表される５〜７員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、２個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【０２５８】
一般式（ＩＩ）で表される化合物の中でも、Ｑ^１が５または６員の不飽和環であるものが好ましく、より好ましくは、Ｑ^１は、ベンゼン環、ピリミジン環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、テトラゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、またはこれらの環がベンゼン環もしくは不飽和ヘテロ環と縮合した環であり、特に好ましくはキナゾリン環である。
Ｑ^１は電子吸引的な置換基を少なくとも一つ有していることが好ましく、好ましい置換基としては、フルオロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、ジフルオロメチル基、フルオロメチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ペンタフルオロフェニル基）、シアノ基、ハロゲン原子（フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができ、特に好ましい置換基としてはトリフルオロメチル基を挙げることができる。
Ｒ^１ｂはカルバモイル基であるものが好ましく、特に好ましくは、Ｒ^１ｂが−Ｃ＝Ｏ−ＮＨ−Ｒ^１１で表される置換カルバモイル基であり、かつ、Ｒ^１１が炭素数１ないし１０のアルキル基またはアリール基を表すものである。
【０２５９】
以下に、一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明に用いられる化合物はこれらの具体例によって限定されるものではない。
【０２６０】
【化３４】

【０２６１】
【化３５】

【０２６２】
【化３６】

【０２６３】
【化３７】

【０２６４】
【化３８】

【０２６５】
【化３９】

【０２６６】
【化４０】

【０２６７】
【化４１】

【０２６８】
【化４２】

【０２６９】
【化４３】

【０２７０】
【化４４】

【０２７１】
【化４５】

【０２７２】
【化４６】

【０２７３】
【化４７】

【０２７４】
【化４８】

【０２７５】
【化４９】

【０２７６】
一般式（ＩＩ）で表される還元性化合物の合成は、特開平９−１５２７０２号公報、同８−２８６３４０号公報、同９−１５２７００号公報、同９−１５２７０１号公報、同９−１５２７０３号公報、および同９−１５２７０４号公報等に記載の方法に従って実施することができる。
【０２７７】
一般式（ＩＩ）で表される還元性化合物の融点は、２５０℃以下である事が好ましく、さらに好ましくは２００℃である。
【０２７８】
（一般式（ＩＩＩ）で表される化合物）
一般式（ＩＩＩ）で表される現像促進剤を説明する。
【０２７９】
【化５０】

【０２８０】
一般式（ＩＩＩ）のＲ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、Ｒ^３ｃはそれぞれ独立に水素原子；ハロゲン原子；または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子もしくはリン原子でベンゼン環に結合する置換基を表す。
【０２８１】
炭素原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、直鎖、分岐または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−アミル、１，３−テトラメチルブチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（カルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基（例えば、３−ピラゾリル基等が挙げられる）等がある。
【０２８２】
酸素原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、水酸基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（例えば、フェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、ヘテロ環オキシ基（例えば、４−ピリジルオキシ基等が挙げられる）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）などがある。窒素原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、アミノ基（例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、ニトロ基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基（例えば、１−イミダゾリル、モリホリルなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、ウレイド基（例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、ホスホリルアミノ基（例えば、ジエチルホスホリルアミノ、などが挙げられる。）、イミド基（例えば、スクシンイミド、フタルイミド、トリフルオロメタンスルホンイミドなどが挙げられる）等がある。
【０２８３】
硫黄原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、メルカプト基、ジスルフィド基、スルホ基、スルフィノ基、スルホニルチオ基、チオスルホニル基、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（例えば、メシル、トシル、フェニルスルホニルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−イミダゾリルチオ基等が挙げられる）等がある。リン原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、燐酸エステル基（例えば、ジエチル燐酸、ジフェニル燐酸などが挙げられる。）等がある。
【０２８４】
Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、Ｒ^３ｃで好ましいものは水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、メルカプト基、ジスルフィド基、スルホ基、スルフィノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヘテロ環チオ基等がある。
【０２８５】
Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、Ｒ^３ｃでより好ましいものは水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミド基、カルバモイル基、メルカプト基、スルホ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基である。
【０２８６】
Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、Ｒ^３ｃで特に好ましいものは水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基である。
【０２８７】
Ｘ^１ｃ、Ｘ^２ｃは水素原子；ハロゲン原子；または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子もしくはリン原子でベンゼン環に結合する置換基を表す。
【０２８８】
炭素原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、直鎖、分岐または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−アミル、１，３−テトラメチルブチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニルなどが挙げられる。）、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基（例えば、３−ピラゾリル基等が挙げられる）、カルバモイル基（カルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）等がある。
【０２８９】
酸素原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、水酸基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（例えば、フェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、ヘテロ環オキシ基（例えば、４−ピリジルオキシ基等が挙げられる）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）などがある。
【０２９０】
窒素原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、アミノ基（例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、ニトロ基、ヒドロキサム基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基（例えば、１−イミダゾリル、モリホリルなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、ホスホリルアミノ基（例えば、ジエチルホスホリルアミノ、などが挙げられる。）等がある。
【０２９１】
硫黄原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、メルカプト基、ジスルフィド基、スルホ基、スルフィノ基、スルホニルチオ基、チオスルホニル基、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（例えば、メシル、トシル、フェニルスルホニルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−イミダゾリルチオ基等が挙げられる）等がある。
リン原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、燐酸エステル基（例えば、ジエチル燐酸、ジフェニル燐酸などが挙げられる。）等がある。
【０２９２】
Ｘ^１ｃ、Ｘ^２ｃで好ましいものは水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、メルカプト基、ジスルフィド基、スルホ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、ヘテロ環チオ基等がある。
【０２９３】
Ｘ^１ｃ、Ｘ^２ｃでより好ましいものは水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミド基、カルバモイル基、スルホ基、アリールスルホニル基である。
【０２９４】
Ｘ^１ｃ、Ｘ^２ｃで特に好ましいものは水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、アルキルチオ基である。
【０２９５】
Ｘ^１ｃ、Ｘ^２ｃの少なくとも一方は−ＮＲ^４Ｒ^５で表される基である。Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、または−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ）_２、−Ｃ（＝ＮＲ′）−Ｒで表される基である。Ｒ、Ｒ′はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基から選ばれる基である。
【０２９６】
Ｒ^４、Ｒ^５が水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す場合には、それらは例えば、直鎖、分岐または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−アミル、１，３−テトラメチルブチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、ヘテロ環基（例えば、２−イミダゾリル、１−ピラゾリル基等が挙げられる）等を表す。
【０２９７】
Ｒ^４、Ｒ^５が−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ）_２、−Ｃ（＝ＮＲ′）−Ｒで表される基である場合には、ＲおよびＲ’はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基（例えば、メチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−アミル、１，３−テトラメチルブチル、シクロヘキシルなどが挙げられる）、アリール基（例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる）、ヘテロ環基（例えば、４−ピリジル、２−チエニル、１−メチル−２−ピロリルなどが挙げられる）、アミノ基（例えば、アミノ、ジメチルアミノ、ジフェニルアミノ、フェニルアミノ、２−ピリジルアミノなどが挙げられる）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、シクロヘキシルオキシなどが挙げられる）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−ナフトキシなどが挙げられる）などを表す。
【０２９８】
Ｒ^４、Ｒ^５で好ましいものは、水素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基である。
Ｒ^４、Ｒ^５でより好ましいものは、水素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、スルホニル基である。また特に好ましい組み合わせはＲ^４、Ｒ^５のどちらか一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基である。
【０２９９】
これらの置換基はさらに上記に記したような置換基で置換されていても良い。またこれらの置換基が酸性度の高い水素原子を持つものであれば、そのプロトンが解離して塩を形成していても良い。その対カチオンとしては、金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンが用いられる。このように活性水素を解離させた状態は、化合物の現像時における揮散性が問題となるケースには有効な対処法となりうる。
Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、Ｒ^３ｃ、Ｘ^１ｃおよびＸ^２ｃはそれぞれ隣接する基同士が結合して環を形成してもよい。
【０３００】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の一つの分子に該フェノール構造を一つだけ持つ場合には、置換基の総炭素数は好ましくは１〜２００個、より好ましくは１から１５０個、さらに好ましくは１から１００個である。ただし複数の該フェノール構造が高分子鎖に結合している場合にはこの限りではなく、高分子全体の平均分子量としては５０００００以下のものが用いられる。また炭素数１から１００個までの連結基で結合されたビス体、トリス体などの化合物も有効である。これらのように分子量を大きくすることは、化合物の現像時における揮散性が問題となるケースには有効な対処法となりうる。
【０３０１】
以下に、一般式（ＩＩＩ）で表される還元性化合物の具体例を示すが、本発明に用いられる化合物はこれらの具体例によって限定されるものではない。
【０３０２】
【化５１】

【０３０３】
【化５２】

【０３０４】
【化５３】

【０３０５】
【化５４】

【０３０６】
【化５５】

【０３０７】
【化５６】

【０３０８】
【化５７】

【０３０９】
【化５８】

【０３１０】
（一般式（ＩＶ）で表される化合物）
一般式（ＩＶ）で表される現像促進剤を説明する。
【０３１１】
【化５９】

【０３１２】
一般式（ＩＶ）において、Ｘ^１ｄはベンゼン環上に置換可能な置換基を表す（水素原子であることはない）。ただし、Ｘ^１ｄはヒドロキシル基であることはない。
置換基の具体例としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【０３１３】
さらに詳しくは、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ〔２，２，２〕オクト−２−エン−４−イル基）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ビリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ′−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。
【０３１４】
Ｘ^１ｄで表される置換基として好ましいものは、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、好ましくは塩素原子、臭素原子）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−メチルフェニル基など）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばメトキシ基、エトキシ基など）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、たとえばフェノキシ基、２−ナフチルオキシ基など）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基など）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２、例えば、フェノキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基等）、シアノ基、ニトロ基であり、より好ましくは、ハロゲン原子、アシルアミノ基、アルキル基であり、特に好ましくは塩素原子、臭素原子である。
【０３１５】
一般式（ＩＶ）において、Ｘ^３ｄは水素原子または置環基を表わす。ただし、Ｘ^３ｄはヒドロキシル基、スルホンアミド基であることはない。置換基の具体例としては、一般式（ＩＶ）のＸ^１ｄの例として挙げた置換基が挙げられる（スルホンアミド基を除く）。
Ｘ^３ｄとして好ましいものは、水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、好ましくは塩素原子、臭素原子）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−メチルフェニル基など）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばメトキシ基、エトキシ基など）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、たとえばフェノキシ基、２−ナフチルオキシ基など）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基など）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２、例えば、フェノキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基等）、シアノ基、ニトロ基であり、より好ましくは、ハロゲン原子、アシルアミノ基、アルキル基であり、特に好ましくは塩素原子または臭素原子である。
【０３１６】
Ｘ^１ｄ、Ｘ^３ｄで表される置換基は少なくとも一方が電子求引性基であることが好ましい。電子求引性基とは、ハメットの置換基定数σ_ｐ値が正である置換基であり、具体例としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換されたイミノ基、チオカルボニル基、パーフルオロアルキル基、スルホンアミド基、ホルミル基、ホスホリル基、カルボキシル基、カルバモイル基、アシル基、スルホ基（またはその塩）、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ基、ヘテロ環基、またはこれらの電子求引性基で置換されたアリール基などが挙げられる。
Ｘ^１ｄ、Ｘ^３ｄはより好ましくはともに電子吸引性基であり、さらに好ましくはともにハロゲン原子であり、特に好ましくはともに塩素原子または臭素原子である。
【０３１７】
一般式（ＩＶ）において、Ｘ^２ｄ、Ｘ^４ｄは水素原子または置換基を表わす。ただし、Ｘ^２ｄ、Ｘ^４ｄはヒドロキシル基であることはない。置換基の具体例としては、一般式（ＩＶ）のＸ^１ｄの例として挙げた置換基が挙げられる。
Ｘ^２ｄ、Ｘ^４ｄとして好ましいものは、水素原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、好ましくは、塩素原子、臭素原子）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−メチルフェニル基等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばメトキシ基、エトキシ基等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、例えばフェノキシ基、２−ナフチルオキシ基等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基など）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２、例えば、フェノキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基等）、シアノ基、ニトロ基である。より好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシルアミノ基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基である。
Ｘ^１ｄ〜Ｘ^４ｄはさらに置換されていてもよく、置換基の具体例としては一般式（ＩＶ）のＸ^１ｄの例として挙げた置換基が挙げられる。また、Ｘ^１ｄ〜Ｘ^４ｄは互いに結合して環を形成していてもよい。
【０３１８】
一般式（ＩＶ）において、Ｒ^１ｄは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜７、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１４、特に好ましくは炭素数６〜８、例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−メチルフェニル基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、イミダゾリル基、ピロリジル基）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１４、特に好ましくは炭素数０〜８、例えばアミノ基、メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１４、特に好ましくは炭素数１〜８、例えばメトキシ基、エトキシ基等）を表わす。好ましくは、水素原子、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキシ基、炭素数１〜７のアルキル基であり、さらに好ましくはアリール基または炭素数１〜７のアルキル基であり、特に好ましくはアリール基である。
Ｒ^１ｄはさらに置換されていてもよく、置換基の具体例としては一般式（ＩＶ）のＸ^１ｄの例として挙げた置換基が挙げられる。
【０３１９】
Ｘ^１ｄ〜Ｘ^４ｄ、Ｒ^１ｄの組み合わせとして好ましくは、Ｘ^１ｄ、Ｘ^３ｄの少なくとも１つがハロゲン原子であり、Ｘ^２ｄ、Ｘ^４ｄは水素原子またはアルキル基であり、Ｒ^１ｄはアリール基または炭素数１〜７のアルキル基である。さらに好ましい組み合わせは、Ｘ^１ｄ、Ｘ^３ｄはともに塩素原子または臭素原子であり、Ｘ^２ｄは水素原子またはアルキル基であり、Ｘ^４ｄは水素原子であり、Ｒ^１ｄはアリール基である。
【０３２０】
一般式（ＩＶ）で表される化合物の総分子量の好ましい範囲は１７０〜８００であり、より好ましくは２２０〜６５０であり、特に好ましくは２２０〜５００である。
【０３２１】
以下に一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明で用いることができる一般式（ＩＶ）の化合物はこれらの具体例に限定されるものではない。
【０３２２】
【化６０】

【０３２３】
【化６１】

【０３２４】
【化６２】

【０３２５】
【化６３】

【０３２６】
【化６４】

【０３２７】
【化６５】

【０３２８】
【化６６】

【０３２９】
【化６７】

【０３３０】
本発明で使用される現像促進剤の添加量は化合物によって大きく異なり、その一般的添加量範囲は広いが、主還元剤に対して０．００１モル％から１００モル％、好ましくは０．０１モル％から１０モル％、さらに好ましくは０．１モル％から１０モル％、特に好ましくは０．１モル％から５モル％である。
【０３３１】
本発明で使用される現像促進剤は、水あるいは適当な有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既によく知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、サンドグラインダーミル、マントンゴーリン、マイクロフルイダイザーあるいは超音波によって分散し用いることができる。
本発明で使用される現像促進剤は、支持体に対して画像形成層側のどの層に添加してもよいが、画像形成層あるいはそれに隣接する層が好ましく、画像形成層が最も好ましい。
【０３３２】
１−６．水素結合性化合物
本発明では、還元剤の芳香族性の水酸基（−ＯＨ）と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。
【０３３３】
水素結合を形成しうる基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、３級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒａ（ＲａはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）、ウレタン基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒａ（ＲａはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）、ウレイド基（但し、＞Ｎ−Ｈ基を持たず、＞Ｎ−Ｒａ（ＲａはＨ以外の置換基）のようにブロックされている。）を有する化合物である。
【０３３４】
本発明で、特に好ましい水素結合性化合物は下記一般式（Ｄ）で表される化合物である。
【０３３５】
一般式（Ｄ）
【化６８】

【０３３６】
一般式（Ｄ）においてＲ^２１ないしＲ^２３は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。
【０３３７】
Ｒ^２１ないしＲ^２３が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基またはアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−オクチル基、フェニル基、４−アルコキシフェニル基、４−アシルオキシフェニル基などがあげられる。
【０３３８】
Ｒ^２１ないしＲ^２３のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｔ−アミル基、ｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、２−フェノキシプロピル基などがあげられる。
【０３３９】
アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、４−ｔ−オクチルフェニル基、４−アニシジル基、３，５−ジクロロフェニル基などが挙げられる。
【０３４０】
アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、４−メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【０３４１】
アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。
【０３４２】
アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基等が挙げられる。
【０３４３】
Ｒ^２１ないしＲ^２３としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではＲ^２１ないしＲ^２３のうち少なくとも一つ以上がアルキル基またはアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基またはアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではＲ^２１ないしＲ^２３が同一の基である場合が好ましい。
【０３４４】
以下に本発明における一般式（Ｄ）の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３４５】
【化６９】

【０３４６】
水素結合性化合物の具体例は上述の他に特願２０００−１９２１９１号、同２０００−１９４８１１号に記載のものがあげられる。
【０３４７】
本発明の水素結合性化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、感光材料中で使用することができる。本発明の化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基を有する化合物と水素結合による錯体を形成しており、還元剤と本発明の一般式（Ｄ）の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。
【０３４８】
このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と本発明の水素結合性化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。
【０３４９】
本発明の水素結合性化合物は還元剤に対して、１〜２００モル％の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０〜１５０モル％の範囲で、さらに好ましくは３０〜１００モル％の範囲である。
【０３５０】
１−７．バインダー
本発明の有機銀塩含有層のバインダーはいかなるポリマーであってもよく、好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ゴム類、ポリ（ビニルアルコール）類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリ（ビニルピロリドン）類、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル酸）類、ポリ（メチルメタクリル酸）類、ポリ（塩化ビニル）類、ポリ（メタクリル酸）類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）及びポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）類、ポリ（エポキシド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ（酢酸ビニル）類、ポリ（オレフィン）類、セルロースエステル類、ポリ（アミド）類がある。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルションから被覆形成してもよい。
【０３５１】
本発明では、有機銀塩を含有する層のバインダーのガラス転移温度は−２０℃以上８０℃以下であることが好ましく、０℃〜７０℃であることがより好ましく、１０℃以上６０℃以下であることが更に好ましい。
【０３５２】
なお、本明細書においてＴｇは下記の式で計算される。
１／Ｔｇ＝Σ（Ｘｉ／Ｔｇｉ）
【０３５３】
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Ｘｉはｉ番目のモノマーの重量分率（ΣＸｉ＝１）、Ｔｇｉはｉ番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。
尚、各モノマーの単独重合体ガラスの転移温度の値（Ｔｇｉ）はＰｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ）（Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ， Ｅ．Ｈ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ著（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ、１９８９））の値を採用した。
【０３５４】
バインダーとなるポリマーは単独種で用いてもよいし、必要に応じて２種以上を併用しても良い。また、ガラス転移温度が２０℃以上のものとガラス転移温度が２０℃未満のものを組み合わせて用いてもよい。Ｔｇの異なるポリマーを２種以上ブレンドして使用する場合には、その重量平均Ｔｇが上記の範囲に入ることが好ましい。
【０３５５】
本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒の３０質量％以上が水である塗布液を用いて塗布し、乾燥して形成される場合に、さらに有機銀塩含有層のバインダーが水系溶媒（水溶媒）に可溶または分散可能である場合に、特に２５℃６０％ＲＨでの平衡含水率が２質量％以下のポリマーのラテックスからなる場合に性能が向上する。
最も好ましい形態は、イオン伝導度が２．５ｍＳ／ｃｍ以下になるように調製されたものであり、このような調製法としてポリマー合成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げられる。
【０３５６】
ここでいう前記ポリマーが可溶または分散可能である水系溶媒とは、水または水に７０質量％以下の水混和性の有機溶媒を混合したものである。
水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミドなどを挙げることができる。
【０３５７】
また「２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率」とは、２５℃６０％ＲＨの雰囲気下で調湿平衡にあるポリマーの重量Ｗ１と２５℃で絶乾状態にあるポリマーの重量Ｗ０を用いて以下のように表すことができる。
２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率＝［（Ｗ１−Ｗ０）／Ｗ０］×１００（質量％）
含水率の定義と測定法については、例えば高分子工学講座１４、高分子材料試験法（高分子学会編、地人書館）を参考にすることができる。
【０３５８】
本発明のバインダーポリマーの２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率は２質量％以下であることが好ましいが、より好ましくは０．０１質量％以上１．５質量％以下、さらに好ましくは０．０２質量％以上１質量％以下が望ましい。
【０３５９】
本発明のバインダーは水系溶媒に分散可能なポリマーが特に好ましい。分散状態の例としては、水不溶な疎水性ポリマーの微粒子が分散しているラテックスやポリマー分子が分子状態またはミセルを形成して分散しているものなどがあるが、いずれも好ましい。分散粒子の平均粒径は１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００ｎｍ程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。
【０３６０】
本発明において水系溶媒に分散可能なポリマーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリ（エステル）類、ゴム類（例えばＳＢＲ樹脂）、ポリ（ウレタン）類、ポリ（塩化ビニル）類、ポリ（酢酸ビニル）類、ポリ（塩化ビニリデン）類、ポリ（オレフィン）類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができる。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、２種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。
【０３６１】
これらポリマーの分子量は数平均分子量で５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜２０００００がよい。分子量が小さすぎるものは乳剤層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。
【０３６２】
好ましいポリマーラテックスの具体例としては以下のものを挙げることができる。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値は質量％、分子量は数平均分子量である。多官能モノマーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略した。Ｔｇはガラス転移温度を表す。
【０３６３】

【０３６４】
上記構造の略号は以下のモノマーを表す。ＭＭＡ；メチルメタクリレート、ＥＡ；エチルアクリレート、ＭＡＡ；メタクリル酸、２ＥＨＡ；２−エチルヘキシルアクリレート、Ｓｔ；スチレン、Ｂｕ；ブタジエン、ＡＡ；アクリル酸、ＤＶＢ；ジビニルベンゼン、ＶＣ；塩化ビニル、ＡＮ；アクリロニトリル、ＶＤＣ；塩化ビニリデン、Ｅｔ；エチレン、ＩＡ；イタコン酸。
【０３６５】
以上に記載したポリマーラテックスは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。アクリル系ポリマーの例としては、セビアンＡ−４６３５，４７１８，４６０１（以上ダイセル化学工業（株）製）、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ８１１、８１４、８２１、８２０、８５７（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（エステル）類の例としては、ＦＩＮＥＴＥＸ ＥＳ６５０、６１１、６７５、８５０（以上大日本インキ化学（株）製）、ＷＤ−ｓｉｚｅ、ＷＭＳ（以上イーストマンケミカル製）など、ポリ（ウレタン）類の例としては、ＨＹＤＲＡＮ ＡＰ１０、２０、３０、４０（以上大日本インキ化学（株）製）など、ゴム類の例としては、ＬＡＣＳＴＡＲ ７３１０Ｋ、３３０７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ（以上大日本インキ化学（株）製）、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ４１６、４１０、４３８Ｃ、２５０７（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（塩化ビニル）類の例としては、Ｇ３５１、Ｇ５７６（以上日本ゼオン（株）製）など、ポリ（塩化ビニリデン）類の例としては、Ｌ５０２、Ｌ５１３（以上旭化成工業（株）製）など、ポリ（オレフィン）類の例としては、ケミパールＳ１２０、ＳＡ１００（以上三井石油化学（株）製）などを挙げることができる。
これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上ブレンドしてもよい。
【０３６６】
本発明に用いられるポリマーラテックスとしては、特に、スチレン−ブタジエン共重合体のラテックスが好ましい。スチレン−ブタジエン共重合体におけるスチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との重量比は４０：６０〜９５：５であることが好ましい。また、スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との共重合体に占める割合は６０〜９９質量％であることが好ましい。好ましい分子量の範囲は前記と同様である。
【０３６７】
本発明に用いることが好ましいスチレン−ブタジエン共重合体のラテックスとしては、前記のＰ−３〜Ｐ−８，１４，１５、市販品であるＬＡＣＳＴＡＲ−３３０７Ｂ、７１３２Ｃ、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ４１６等が挙げられる。
【０３６８】
本発明の感光材料の有機銀塩含有層には必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。
【０３６９】
これらの親水性ポリマーの添加量は有機銀塩含有層の全バインダーの３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下が好ましい。
【０３７０】
本発明の有機銀塩含有層（即ち、画像形成層）は、ポリマーラテックスをバインダーに用いて形成されたものが好ましい。有機銀塩含有層のバインダーの量は、全バインダー／有機銀塩の重量比が１／１０〜１０／１、更には１／５〜４／１の範囲が好ましい。
【０３７１】
また、このような有機銀塩含有層は、通常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された感光性層（乳剤層）でもあり、このような場合の、全バインダー／ハロゲン化銀の重量比は４００〜５、より好ましくは２００〜１０の範囲が好ましい。
【０３７２】
本発明の画像形成層の全バインダー量は０．２〜３０ｇ／ｍ^２、より好ましくは１〜１５ｇ／ｍ^２の範囲が好ましい。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。
【０３７３】
本発明において感光材料の有機銀塩含有層塗布液の溶媒（ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。）は、水を３０質量％以上含む水系溶媒が好ましい。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。溶媒の水含有率は５０質量％以上がより好ましく、さらに好ましくは７０質量％以上が良い。
【０３７４】
好ましい溶媒組成の具体例を挙げると、水１００の他、水／メチルアルコール＝９０／１０、水／メチルアルコール＝７０／３０、水／メチルアルコール／ジメチルホルムアミド＝８０／１５／５、水／メチルアルコール／エチルセロソルブ＝８５／１０／５、水／メチルアルコール／イソプロピルアルコール＝８５／１０／５などがある（数値は質量％）。
【０３７５】
１−８．かぶり防止剤
１）有機ポリハロゲン化合物
本発明はカブリ防止剤として下記一般式（Ｈ）で表される有機ポリハロゲン化合物を含有するのが好ましい。
【０３７６】
一般式（Ｈ） Ｑ−（Ｙ）ｎ−Ｃ（Ｚ_１）（Ｚ_２）Ｘ
【０３７７】
一般式（Ｈ）において、Ｑはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、ｎは０または１を表し、Ｚ_１およびＺ_２はハロゲン原子を表し、Ｘは水素原子または電子求引性基を表す。
【０３７８】
Ｑは好ましくはハメットの置換基定数σｐが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９７３，Ｖｏｌ．１６，Ｎｏ．１１，１２０７−１２１６ 等を参考にすることができる。
【０３７９】
このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子（フッ素原子（σｐ値：０．０６）、塩素原子（σｐ値：０．２３）、臭素原子（σｐ値：０．２３）、ヨウ素原子（σｐ値：０．１８））、トリハロメチル基（トリブロモメチル（σｐ値：０．２９）、トリクロロメチル（σｐ値：０．３３）、トリフルオロメチル（σｐ値：０．５４））、シアノ基（σｐ値：０．６６）、ニトロ基（σｐ値：０．７８）、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基（例えば、メタンスルホニル（σｐ値：０．７２））、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基（例えば、アセチル（σｐ値：０．５０）、ベンゾイル（σｐ値：０．４３））、アルキニル基（例えば、Ｃ≡ＣＨ（σｐ値：０．２３））、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル（σｐ値：０．４５）、フェノキシカルボニル（σｐ値：０．４４））、カルバモイル基（σｐ値：０．３６）、スルファモイル基（σｐ値：０．５７）、スルホキシド基、ヘテロ環基、ホスホリル基等があげられる。
σｐ値としては好ましくは０．２〜２．０の範囲で、より好ましくは０．４から１．０の範囲である。
【０３８０】
電子求引性基として好ましいのは、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基、カルボキシル基、アルキルまたはアリールカルボニル基、およびアリールスルホニル基であり、特に好ましくはカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基であり、カルバモイル基が最も好ましい。
【０３８１】
Ｘは、好ましくは電子求引性基であり、より好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。
ハロゲン原子の中でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
【０３８２】
Ｙは好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ−または−ＳＯ_２ −を表し、より好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ_２ −であり、特に好ましくは−ＳＯ_２ −である。ｎは、０または１を表し、好ましくは１である。
【０３８３】
以下に本発明の一般式（Ｈ）の化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０３８４】
【化７０】

【０３８５】
本発明の一般式（Ｈ）で表される化合物は画像形成層の非感光性銀塩１モル当たり、１０^−４〜０．８モルの範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０^−３〜０．１モルの範囲で、さらに好ましくは５×１０^−３〜０．０５モルの範囲で使用することが好ましい。
【０３８６】
本発明において、一般式（Ｈ）で表される化合物を感光材料に含有せしめる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載の方法が挙げられる。
【０３８７】
一般式（Ｈ）で表される化合物の融点は２００℃以下であることが好ましく、さらに好ましくは１７０℃以下がよい。
【０３８８】
本発明に用いられるその他の有機ポリハロゲン化物として、特開平１１−６５０２１号の段落番号０１１１〜０１１２に記載の特許に開示されているものが挙げられる。特に特願平１１−８７２９７号の式（Ｐ）で表される有機ハロゲン化合物、特開平１０−３３９９３４号の一般式（ＩＩ）で表される有機ポリハロゲン化合物、特願平１１−２０５３３０号に記載の有機ポリハロゲン化合物が好ましい。
【０３８９】
２）その他のかぶり防止剤
その他のカブリ防止剤としては特開平１１−６５０２１号段落番号０１１３の水銀（ＩＩ）塩、同号段落番号０１１４の安息香酸類、特開２０００−２０６６４２号のサリチル酸誘導体、特開２０００−２２１６３４号の式（Ｓ）で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平１１−３５２６２４号の請求項９に係るトリアジン化合物、特開平６−１１７９１号の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン等が挙げられる。
【０３９０】
本発明に用いることのできるカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体特開平１０−６２８９９号の段落番号００７０、欧州特許０８０３７６４Ａ１号の第２０頁第５７行〜第２１頁第７行に記載の特許のもの、特開平９−２８１６３７号、同９−３２９８６４号記載の化合物が挙げられる。
【０３９１】
本発明における熱現像感光材料はカブリ防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭５９−１９３４４７号記載の一般式（ＸＩ）で表される化合物、特公昭５５−１２５８１号記載の化合物、特開昭６０−１５３０３９号記載の一般式（ＩＩ）で表される化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては感光性層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好ましい。
【０３９２】
アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。
【０３９３】
本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀１モル当たり１×１０^−６モル以上２モル以下が好ましく、１×１０^−３モル以上０．５モル以下がさらに好ましい。
【０３９４】
１−９．その他の添加剤
１）メルカプト、ジスルフィド、およびチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平１０−６２８９９号の段落番号００６７〜００６９、特開平１０−１８６５７２号の一般式（Ｉ）で表される化合物及びその具体例として段落番号００３３〜００５２、欧州特許公開第０８０３７６４Ａ１号の第２０ページ第３６〜５６行、特願平１１−２７３６７０号等に記載されている。中でもメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
【０３９５】
２）色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平１０−６２８９９号の段落番号００５４〜００５５、欧州特許０８０３７６４Ａ１号のｐ．２１，２３行〜４８行、特開２０００−３５６３１７号や特願２０００−１８７２９８号に記載されており、特に、フタラジノン類（フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩；例えば４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノン、５，７−ジメトキシフタラジノンおよび２，３−ジヒドロー１，４−フタラジンジオン）；フタラジノン類とフタル酸類（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウムおよびテトラクロロ無水フタル酸）の組み合わせ；フタラジン類（フタラジン、フタラジン誘導体もしくは金属塩；例えば４−（１−ナフチル）フタラジン、６−イソプロピルフタラジン、６−ｔ−ブチルフタラジン、６−クロロフタラジン、５．７−ジメトキシフタラジン、および２，３−ジヒドロフタラジン）が好ましく、特に、ヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀との組み合わせにおいては、フタラジン類とフタル酸類の組み合わせが好ましい。
【０３９６】
好ましいフタラジン類の添加量としては、有機銀塩１モル当たり０．０１モル〜０．３モルであり、さらに好ましくは０．０２〜０．２モル、特に好ましくは０．０２〜０．１モルである。この添加量は、本発明のヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀乳剤で課題である現像促進にとって重要な要因であり、適正な添加量の選択によって十分な現像性と低いかぶりの両立が可能となる。
【０３９７】
３）可塑剤、潤滑剤
本発明の感光性層に用いることのできる可塑剤および潤滑剤については特開平１１−６５０２１号段落番号０１１７に記載されている。滑り剤については特開平１１−８４５７３号段落番号００６１〜００６４や特願平１１−１０６８８１号段落番号００４９〜００６２記載されている。
【０３９８】
４）染料、顔料
本発明の感光性層には色調改良、レーザー露光時の干渉縞発生防止、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔料（例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６０、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６４、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）を用いることができる。これらについてはＷＯ９８／３６３２２号、特開平１０−２６８４６５号、同１１−３３８０９８号等に詳細に記載されている。
【０３９９】
５）超硬調化剤
印刷製版用途に適した超硬調画像形成のためには、画像形成層に超硬調化剤を添加することが好ましい。超硬調化剤やその添加方法及び添加量については、特開平１１−６５０２１号公報段落番号０１１８、特開平１１−２２３８９８号公報段落番号０１３６〜０１９３、特願平１１−８７２９７号明細書の式（Ｈ）、式（１）〜（３）、式（Ａ）、（Ｂ）の化合物、特願平１１−９１６５２号明細書記載の一般式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）の化合物（具体的化合物：化２１〜化２４）、硬調化促進剤については特開平１１−６５０２１号公報段落番号０１０２、特開平１１−２２３８９８号公報段落番号０１９４〜０１９５に記載されている。
【０４００】
蟻酸や蟻酸塩を強いかぶらせ物質として用いるには、感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する側に銀１モル当たり５ミリモル以下、さらには１ミリモル以下で含有させることが好ましい。
本発明の熱現像感光材料で超硬調化剤を用いる場合には五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩を併用して用いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩としては、メタリン酸（塩）、ピロリン酸（塩）、オルトリン酸（塩）、三リン酸（塩）、四リン酸（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）などを挙げることができる。特に好ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩としては、オルトリン酸（塩）、ヘキサメタリン酸（塩）を挙げることができる。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどが挙げられる。
五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩の使用量（感光材料１ｍ^２あたりの塗布量）は感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよいが、０．１〜５００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、０．５〜１００ｍｇ／ｍ^２がより好ましい。
【０４０１】
１−１０．塗布液の調製
本発明の画像形成層塗布液の調製温度は３０℃以上６５℃以下がよく、さらに好ましい温度は３５℃以上６０℃未満、より好ましい温度は３５℃以上５５℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が３０℃以上６５℃以下で維持されることが好ましい。
【０４０２】
１−１１．その他の層、および構成成分
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に加えて非感光性層を有することができる。非感光性層は、その配置から（ａ）画像形成層の上（支持体よりも遠い側）に設けられる表面保護層、（ｂ）複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層、（ｃ）画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層、（ｄ）画像形成層の反対側に設けられるバック層に分類できる。
【０４０３】
また、光学フィルターとして作用する層を設けることができるが、（ａ）または（ｂ）の層として設けられる。アンチハレーション層は、（ｃ）または（ｄ）の層として感光材料に設けられる。
【０４０４】
１）表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。表面保護層については、特開平１１−６５０２１号段落番号０１１９〜０１２０、特願２０００−１７１９３６号に記載されている。
【０４０５】
本発明の表面保護層のバインダーとしてはゼラチンが好ましいがポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン（例えば新田ゼラチン７５０）、フタル化ゼラチン（例えば新田ゼラチン８０１）など使用することができる。
【０４０６】
ＰＶＡとしては、特開２０００−１７１９３６号の段落番号０００９〜００２０に記載のものがあげられ、完全けん化物のＰＶＡ−１０５、部分けん化物のＰＶＡ−２０５，ＰＶＡ−３３５、変性ポリビニルアルコールのＭＰ−２０３（以上、クラレ（株）製の商品名）などが好ましく挙げられる。
【０４０７】
保護層（１層当たり）のポリビニルアルコール塗布量（支持体１ｍ^２当たり）としては０．３〜４．０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．３〜２．０ｇ／ｍ^２がより好ましい。
【０４０８】
表面保護層（１層当たり）の全バインダー（水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む）塗布量（支持体１ｍ^２当たり）としては０．３〜５．０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．３〜２．０ｇ／ｍ^２がより好ましい。
【０４０９】
２）アンチハレーション層
本発明の熱現像感光材料においては、アンチハレーション層を感光性層に対して露光光源から遠い側に設けることができる。アンチハレーション層については特開平１１−６５０２１号段落番号０１２３〜０１２４、特開平１１−２２３８９８号、同９−２３０５３１号、同１０−３６６９５号、同１０−１０４７７９号、同１１−２３１４５７号、同１１−３５２６２５号、同１１−３５２６２６号等に記載されている。
【０４１０】
アンチハレーション層には、露光波長に吸収を有するアンチハレーション染料を含有する。露光波長が赤外域にある場合には赤外線吸収染料を用いればよく、その場合には可視域に吸収を有しない染料が好ましい。
【０４１１】
可視域に吸収を有する染料を用いてハレーション防止を行う場合には、画像形成後には染料の色が実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非感光性層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加してアンチハレーション層として機能させることが好ましい。これらの技術については特開平１１−２３１４５７号等に記載されている。
【０４１２】
消色染料の添加量は、染料の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度（吸光度）が０．１を越える量で使用する。光学濃度は、０．２〜２であることが好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に０．００１〜１ｇ／ｍ^２程度である。
【０４１３】
なお、このように染料を消色すると、熱現像後の光学濃度を０．１以下に低下させることができる。二種類以上の消色染料を、熱消色型記録材料や熱現像感光材料において併用してもよい。同様に、二種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。
【０４１４】
このような消色染料と塩基プレカーサーを用いる熱消色においては、特開平１１−３５２６２６号に記載のような塩基プレカーサーと混合すると融点を３℃以上降下させる物質（例えば、ジフェニルスルホン、４−クロロフェニル（フェニル）スルホン）を併用することが熱消色性等の点で好ましい。
【０４１５】
３）バック層
本発明に適用することのできるバック層については特開平１１−６５０２１号段落番号０１２８〜０１３０に記載されている。
【０４１６】
本発明においては、銀色調、画像の経時変化を改良する目的で３００〜４５０ｎｍに吸収極大を有する着色剤を添加することができる。このような着色剤は、特開昭６２−２１０４５８号、同６３−１０４０４６号、同６３−１０３２３５号、同６３−２０８８４６号、同６３−３０６４３６号、同６３−３１４５３５号、特開平０１−６１７４５号、特願平１１−２７６７５１号などに記載されている。このような着色剤は、通常、０．１ｍｇ／ｍ^２〜１ｇ／ｍ^２の範囲で添加され、添加する層としては感光性層の反対側に設けられるバック層が好ましい。
【０４１７】
４）マット剤
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を表面保護層、およびバック層に添加することが好ましい。マット剤については、特開平１１−６５０２１号段落番号０１２６〜０１２７に記載されている。
マット剤は感光材料１ｍ^２当たりの塗布量で示した場合、好ましくは１〜４００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは５〜３００ｍｇ／ｍ^２である。
【０４１８】
また、乳剤面のマット度は、画像部に小さな白抜けが生じ、光漏れが発生するいわゆる星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が３０秒以上２０００秒以下が好ましく、特に４０秒以上１５００秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｐ８１１９「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易に求めることができる。
【０４１９】
本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が１２００秒以下１０秒以上が好ましく、８００秒以下２０秒以上が好ましく、さらに好ましくは５００秒以下４０秒以上である。
【０４２０】
本発明において、マット剤は感光材料の最外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。
【０４２１】
５）ポリマーラテックス
本発明の表面保護層やバック層にポリマーラテックスを添加することができる。
このようなポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン（奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行（１９７８））」、「合成ラテックスの応用（杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行（１９９３））」、「合成ラテックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行（１９７０））」などにも記載され、具体的にはメチルメタクリレート（３３．５質量％）／エチルアクリレート（５０質量％）／メタクリル酸（１６．５質量％）コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（４７．５質量％）／ブタジエン（４７．５質量％）／イタコン酸（５質量％）コポリマーのラテックス、エチルアクリレート／メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（５８．９質量％）／２−エチルヘキシルアクリレート（２５．４質量％）／スチレン（８．６質量％）／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５．１質量％）／アクリル酸（２．０質量％）コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート（６４．０質量％）／スチレン（９．０質量％） ／ブチルアクリレート（２０．０質量％）／２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５．０質量％）／アクリル酸（２．０質量％）コポリマーのラテックスなどが挙げられる。
【０４２２】
ポリマーラテックスは、表面保護層、あるいはバック層の全バインダー（水溶性ポリマーおよびラテックスポリマーを含む）の１０質量％〜９０質量％用いるのが好ましく、特に２０質量％〜８０質量％が好ましい。
【０４２３】
６）膜面ｐＨ
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面ｐＨが７．０以下であることが好ましく、さらに好ましくは６．６以下である。その下限には特に制限はないが、３程度である。最も好ましいｐＨ範囲は４〜６．２の範囲である。
【０４２４】
膜面ｐＨの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面ｐＨを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面ｐＨを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面ｐＨの測定方法は、特願平１１−８７２９７号明細書の段落番号０１２３に記載されている。
【０４２５】
７）硬膜剤
本発明の感光性層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。
硬膜剤の例としてはＴ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ著”ＴＨＥ ＴＨＥＯＲＹ ＯＦ ＴＨＥ ＰＨＯＴＯＧＲＡＰＨＩＣ ＰＲＯＣＥＳＳ ＦＯＵＲＴＨ ＥＤＩＴＩＯＮ”（Ｍａｃｍｉｌｌａｎ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．， Ｉｎｃ．刊、１９７７年刊）７７頁から８７頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩、Ｎ，Ｎ−エチレンビス（ビニルスルフォンアセトアミド）、Ｎ，Ｎ−プロピレンビス（ビニルスルフォンアセトアミド）の他、同書７８頁など記載の多価金属イオン、米国特許４，２８１，０６０号、特開平６−２０８１９３号などのポリイソシアネート類、米国特許４，７９１，０４２号などのエポキシ化合物類、特開昭６２−８９０４８号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
【０４２６】
硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する１８０分前から直前、好ましくは６０分前から１０秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。
【０４２７】
具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やＮ．Ｈａｒｎｂｙ、Ｍ．Ｆ．Ｅｄｗａｒｄｓ、Ａ．Ｗ．Ｎｉｅｎｏｗ著、高橋幸司訳”液体混合技術”（日刊工業新聞社刊、１９８９年）の第８章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
【０４２８】
８）界面活性剤
本発明に適用できる界面活性剤については特開平１１−６５０２１号段落番号０１３２に記載されている。
本発明ではフッ素系界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の好ましい具体例は特開平１０−１９７９８５号、特開２０００−１９６８０号、特開２０００−２１４５５４号等に記載されている化合物が挙げられる。また、特開平９−２８１６３６号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。本発明においては、特願２０００−２０６５６０号記載のフッ素系界面活性剤の使用が特に好ましい。
【０４２９】
９）帯電防止剤
また、本発明では、公知の種々の金属酸化物あるいは導電性ポリマーなどを含む帯電防止層を有しても良い。帯電防止層は前述の下塗り層、バック層表面保護層などと兼ねても良く、また別途設けてもよい。帯電防止層については、特開平１１−６５０２１号段落番号０１３５、特開昭５６−１４３４３０号、同５６−１４３４３１号、同５８−６２６４６号、同５６−１２０５１９号、特開平１１−８４５７３号の段落番号００４０〜００５１、米国特許第５，５７５，９５７号、特開平１１−２２３８９８号の段落番号００７８〜００８４に記載の技術を適用することができる。
【０４３０】
１０）支持体
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、１３０〜１８５℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。
【０４３１】
医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料（例えば、特開平８−２４０８７７号実施例記載の染料−１）で着色されていてもよいし、無着色でもよい。
具体的な支持体の例は、特開平１１−６５０２１同号段落番号０１３４に記載されている。
【０４３２】
支持体には、特開平１１−８４５７４号の水溶性ポリエステル、同１０−１８６５６５号のスチレンブタジエン共重合体、特開２０００−３９６８４号や特願平１１−１０６８８１号段落番号００６３〜００８０の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。
【０４３３】
１１）その他の添加剤
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。特開平１１−６５０２１号段落番号０１３３の記載の溶剤を添加しても良い。各種の添加剤は、感光性層あるいは非感光性層のいずれかに添加する。それらについてＷＯ９８／３６３２２号、ＥＰ８０３７６４Ａ１号、特開平１０−１８６５６７号、同１０−１８５６８号等を参考にすることができる。
【０４３４】
１２）塗布、乾燥
本発明における熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、または米国特許第２，６８１，２９４号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを 含む種々のコーティング操作が用いられ、Ｓｔｅｐｈｅｎ Ｆ． Ｋｉｓｔｌｅｒ、Ｐｅｔｅｒｔ Ｍ． Ｓｃｈｗｅｉｚｅｒ著”ＬＩＱＵＩＤ ＦＩＬＭ ＣＯＡＴＩＮＧ”（ＣＨＡＰＭＡＮ ＆ ＨＡＬＬ社刊、１９９７年）３９９頁から５３６頁記載のエクストルージョンコーティング、またはスライドコーティング好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。
【０４３５】
スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書４２７頁のＦｉｇｕｒｅ １１ｂ．１に ある。また、所望により同書３９９頁から５３６頁記載の方法、米国特許第２，７６１，７９１ 号および英国特許第８３７，０９５号に記載の方法により２層またはそれ以上の層を同時に被覆することができる。
【０４３６】
本発明における有機銀塩含有層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平１１−５２５０９号を参考にすることができる。
本発明における有機銀塩含有層塗布液は剪断速度０．１Ｓ^−１における粘度は４００ｍＰａ・ｓ以上１００，０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、さらに好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以上２０，０００ｍＰａ・ｓ以下である。
また、剪断速度１０００Ｓ^−１においては１ｍＰａ・ｓ以上２００ｍＰａ・ｓ以下が好まく、さらに好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上８０ｍＰａ・ｓ以下である。
【０４３７】
本発明の熱現像感光材料は、塗布、乾燥直後に加熱処理をすることが好ましい。特に水性ラテックスをバインダーに用いた熱現像感光材料の場合、この加熱処理によって塗布膜の皮膜強度が改良され、その後の熱現像感光材料の種々の取扱いに対して寛容になり好ましい。加熱処理の温度は塗布膜の実効膜面温度で、６０℃〜１００℃の範囲が好ましく、加熱時間は、１秒〜６０秒の範囲が好ましい。より好ましい範囲は、７０℃〜９０℃、２秒〜１０秒の範囲である。本発明の好ましい加熱処理の方法は、特開２００２−１０７８７２号に記載されている。
【０４３８】
１３）包装材料
本発明の熱現像感光材料は、使用される前の保存時に写真性能の変質を防ぐため、あるいはロール状態の製品形態の場合にはカールしたり巻き癖が付くのを防ぐために、酸素透過率および／または水分透過率の低い包装材料で密閉包装するのが好ましい。酸素透過率は、２５℃で５０ｍｌ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｍｌ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは１．０ｍｌ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。水分透過率は、１０ｇ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは５ｇ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、さらに好ましくは１ｇ／ａｔｍ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。酸素透過率および／または水分透過率の低い包装材料の具体例としては、例えば特開平８−２５４７９３号、特開２０００−２０６６５３号に記載されているものを利用することができる。
【０４３９】
１４）その他の利用できる技術
本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、ＥＰ８０３７６４Ａ１号、ＥＰ８８３０２２Ａ１号、ＷＯ９８／３６３２２号、特開昭５６−６２６４８号、同５８−６２６４４号、特開平９−４３７６６、同９−２８１６３７、同９−２９７３６７号、同９−３０４８６９号、同９−３１１４０５号、同９−３２９８６５号、同１０−１０６６９号、同１０−６２８９９号、同１０−６９０２３号、同１０−１８６５６８号、同１０−９０８２３号、同１０−１７１０６３号、同１０−１８６５６５号、同１０−１８６５６７号、同１０−１８６５６９号〜同１０−１８６５７２号、同１０−１９７９７４号、同１０−１９７９８２号、同１０−１９７９８３号、同１０−１９７９８５号〜同１０−１９７９８７号、同１０−２０７００１号、同１０−２０７００４号、同１０−２２１８０７号、同１０−２８２６０１号、同１０−２８８８２３号、同１０−２８８８２４号、同１０−３０７３６５号、同１０−３１２０３８号、同１０−３３９９３４号、同１１−７１００号、同１１−１５１０５号、同１１−２４２００号、同１１−２４２０１号、同１１−３０８３２号、同１１−８４５７４号、同１１−６５０２１号、同１１−１０９５４７号、同１１−１２５８８０号、同１１−１２９６２９号、同１１−１３３５３６号〜同１１−１３３５３９号、同１１−１３３５４２号、同１１−１３３５４３号、同１１−２２３８９８号、同１１−３５２６２７号、同１１−３０５３７７号、同１１−３０５３７８号、同１１−３０５３８４号、同１１−３０５３８０号、同１１−３１６４３５号、同１１−３２７０７６号、同１１−３３８０９６号、同１１−３３８０９８号、同１１−３３８０９９号、同１１−３４３４２０号、特願２０００−１８７２９８号、同２０００−１０２２９号、同２０００−４７３４５号、同２０００−２０６６４２号、同２０００−９８５３０号、同２０００−９８５３１号、同２０００−１１２０５９号、同２０００−１１２０６０号、同２０００−１１２１０４号、同２０００−１１２０６４号、同２０００−１７１９３６号も挙げられる。
【０４４０】
１５）カラー画像形成
多色カラー熱現像感光材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第４，７０８，９２８号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。
多色カラー熱現像感光材料の場合、各乳剤層は、一般に、米国特許第４，４６０，６８１号に記載されているように、各感光性層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
【０４４１】
２．画像形成方法
２−１．露光
本発明の感光材料はいかなる方法で露光されても良いが、露光光源としてレーザー光が好ましい。
【０４４２】
特に最高濃度（Ｄｍａｘ）を出すような露光量を与える場合、感光材料表面の好ましい光量は０．１Ｗ／ｍｍ^２〜１００Ｗ／ｍｍ^２である。より好ましくは０．５Ｗ／ｍｍ^２〜５０Ｗ／ｍｍ^２であり、最も好ましくは１Ｗ／ｍｍ^２〜５０Ｗ／ｍｍ^２である。
【０４４３】
本発明によるレーザー光としては、ガスレーザー（Ａｒ^＋，Ｈｅ−Ｎｅ，Ｈｅ−Ｃｄ）、ＹＡＧレーザー、色素レーザー、半導体レーザーなどが好ましい。また、半導体レーザーと第２高調波発生素子などを用いることもできる。好ましく用いられるレーザーは、熱現像感光材料の分光増感色素などの光吸収ピーク波長に対応して決まるが、赤〜赤外発光のＨｅ−Ｎｅレーザー、赤色半導体レーザー、あるいは青〜緑発光のＡｒ^＋，Ｈｅ−Ｎｅ，Ｈｅ−Ｃｄレーザー、青色半導体レーザーである。 近年、特に、ＳＨＧ（Ｓｅｃｏｎｄ Ｈｅｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）素子と半導体レーザーを一体化したモジュールや青色半導体レーザーが開発されてきて、短波長領域のレーザー出力装置がクローズアップされてきた。青色半導体レーザーは、高精細の画像記録が可能であること、記録密度の増大、かつ長寿命で安定した出力が得られることから、今後需要が拡大していくことが期待されている。
【０４４４】
レーザー光は、高周波重畳などの方法によって縦マルチに発振していることも好ましく用いられる。
【０４４５】
２−２．熱現像
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては８０〜２５０℃であり、さらに好ましくは１００〜１４０℃である。
現像時間としては１〜６０秒が好ましく、５〜３０秒がさらに好ましく、５〜２０秒が特に好ましい。
【０４４６】
熱現像の方式としてはプレートヒーター方式が好ましい。プレートヒーター方式による熱現像方式とは特開平１１−１３３５７２号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒータからなり、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒータを２〜６段に分けて先端部については１〜１０℃程度温度を下げることが好ましい。
【０４４７】
このような方法は特開昭５４−３００３２号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を押さえることもできる。
【０４４８】
２−３．システム
露光部および熱現像部を備えた医療用レーザーイメージャーとして富士メディカルドライイメージャー−ＦＭ−ＤＰＬやＤＲＹＰＩＸ７０００を挙げることができる。該システムは、Ｆｕｊｉ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ Ｎｏ．８， ｐ．３９−５５に記載されており、それらの技術を利用することができる。また、ＤＩＣＯＭ規格に適合したネットワークシステムとして富士フィルムメディカル（株）が提案した「ＡＤ Ｎｅｔｗｏｒｋ」の中のレーザーイメージャー用の熱現像感光材料としても適用することができる。
【０４４９】
３．本発明の用途
本発明の熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、ＣＯＭ用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
【０４５０】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０４５１】
実施例１
１．バック層
両面に下塗りを施した厚み１７５μｍのポリエステル支持体に、下記のバック層とバック保護層を塗布した。
【０４５２】
１−１．塗布液の調製
１）塩基プレカーサーの固体微粒子分散液（ａ）の調製
塩基プレカーサー化合物１を１．５ｋｇ、デモールＮ（商品名、花王（株））２２５ｇ、ジフェニルスルホン９３７．５ｇ、パラヒドロキシ安息香酸メチルエステル（商品名：メッキンスＭ、上野製薬（株））１５ｇ、および蒸留水を加えて総量を５．０ｋｇに合わせて混合し、混合液を横型サンドミル（商品名：ＵＶＭ−２，アイメックス（株））で分散した。分散条件は、混合液を平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填したＵＶＭ−２機にダイアフラムポンプで送り、内圧５０ｈＰａ以上の状態で、所望の分散度に到達するまで分散を続けた。分散度は、分散液の分光吸収測定によって４５０ｎｍと６５０ｎｍｎにおける吸光度比（Ｄ４５０／Ｄ６５０）を目安にして、その値が２．２以上となるまで分散を行った。分散後、塩基プレカーサーの濃度が２０質量％となるように蒸留水で希釈し、ごみ取りのためにフィルター（平均細孔径：３μｍ、材質：ポリプロピレン）でろ過した。
２）染料固体微粒子分散液（ａ）の調製
【０４５３】
ハレーション防止染料として、シアニン染料化合物―１を６．０ｋｇ、ｐ−ドデシルスルホン酸ナトリウム３．０ｋｇ、デモールＳＭＢ（商品名、花王（株））０．６ｋｇ、サーフィノール１０４Ｅ（商品名、日信化学（株））０．１５ｋｇ、および蒸留水を混合して、総液量を６０ｋｇとした。混合液を横型サンドミルＵＶＭ−２で、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用いて分散した。吸光度比（Ｄ６５０／Ｄ７５０）が５．０以上となるまで分散を行った。分散後、シアニン染料の濃度が６重量％となるように蒸留水で希釈し、ごみ取りのためにフィルター（平均細孔径：１μｍ、材質：ポリプロピレン）でろ過した。
【０４５４】
３）バック層塗布液の調製
ゼラチン３０ｇ、ポリアクリルアミド２４．５ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ濃度の苛性ソーダを２．２ｇ、単分散ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒子サイズ８μｍ、粒径標準偏差０．４）２．４ｇ、ベンゾイソチアゾリノン０．０８ｇ、上記の染料固体微粒子分散液（ａ）を３５．９ｇ、上記の塩基プレカーサーの固体微粒子分散液（ａ）７４．２ｇ、ポリエチレンスルホン酸ナトリウム０．６ｇ、青色染料化合物−１を０．２１ｇ、黄色染料化合物−１を０．１５ｇ、アクリル酸／エチルアクリレート共重合ラテックス（共重合比：５／９５）を８．３ｇ、および水を混合し，総量を８１８ｍＬとして、ハレーション防止層塗布液を調製した。
【０４５５】
４）バック面保護層塗布液の調製
容器を４０℃に保温し、ゼラチン４０ｇ、流動パラフィン乳化物を流動パラフィンとして１．５ｇ、ベンゾイソチアゾリノン３５ｍｇ、１ｍｏｌ／Ｌ濃度の苛性ソーダを６．８ｇ、ｔ−オクチルフェノキシエトキシエタンスルホン酸ナトリウム０．５ｇ、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム０．２７ｇ、Ｎ、Ｎ−エチレンビス（ビニルスルホンアセトアミド）２．０ｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−１）を３７ｍｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−２）を１５０ｍｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−３）を６４ｍｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−４）を３２ｍｇ、アクリル酸／エチルアクリレート共重合体（共重合重量比５／９５）６．０ｇ、Ｎ，Ｎ−エチレンビス（ビニルスルホンアミド）２．０ｇを混合し、水で１０００ｍｌとしてバック面保護層塗布液とした。
【０４５６】
１−２．バック層とバック面保護層の塗布
上記下塗り支持体のバック面側に、バック層塗布液をゼラチン塗布量が０．４４ｇ／ｍ^２となるように、またバック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が１．７ｇ／ｍ^２となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層を作成した。
【０４５７】
２．画像形成層、中間層、および表面保護層
２−１．塗布用材料の準備
１）ハロゲン化銀乳剤
（ハロゲン化銀乳剤１の調製）
蒸留水１４２１ｍｌに１質量％臭化カリウム溶液３．１ｍｌを加え、さらに０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を３．５ｍｌ、フタル化ゼラチン３１．７ｇを添加した液をステンレス製反応壺中で攪拌しながら、３０℃に液温を保ち、硝酸銀２２２２ｇに蒸留水を加え９５．４ｍｌに希釈した溶液Ａと臭化カリウムを１５．３ｇ、ヨウ化カリウム０．８ｇを蒸留水にて容量９７．４ｍｌに希釈した溶液Ｂを一定流量で４５秒間かけて全量添加した。その後、３．５質量％の過酸化水素水溶液を１０ｍｌ添加し、さらにベンツイミダゾールの１０質量％水溶液を１０．８ｍｌ添加した。
【０４５８】
さらに、硝酸銀５１．８６ｇに蒸留水を加えて３１７．５ｍｌに希釈した溶液Ｃと臭化カリウムを４４．２ｇ、ヨウ化カリウム２．２ｇを蒸留水にて容量４００ｍｌに希釈した溶液Ｄを、溶液Ｃは一定流量で２０分間かけて全量添加し、溶液ＤはｐＡｇを８．１に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀１モル当たり１×１０^−４モルになるよう六塩化イリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム塩を溶液Ｃおよび溶液Ｄを添加しはじめてから１０分後に全量添加した。また、溶液Ｃの添加終了の５秒後に六シアン化鉄（ＩＩ）カリウム水溶液を銀１モル当たり３×１０^−４モル全量添加した。０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を用いてｐＨを３．８に調整し、攪拌を止め、沈降／脱塩／水洗工程をおこなった。１ｍｏｌ／Ｌ濃度の水酸化ナトリウムを用いてｐＨ５．９に調整し、ｐＡｇ８．０のハロゲン化銀分散物を作成した。
【０４５９】
上記ハロゲン化銀分散物を攪拌しながら３８℃に維持して、０．３４質量％の１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンのメタノール溶液を５ｍｌ加え、４０分後に４７℃に昇温した。昇温の２０分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀１モルに対して７．６×１０^−５モル加え、さらに５分後にテルル増感剤Ｃをメタノール溶液で銀１モル当たり２．９×１０^−４モル加えて９１分間熟成した。その後、分光増感色素Ａと増感色素Ｂのモル比で３：１のメタノール溶液を銀１モル当たり増感色素ＡとＢの合計として１．２×１０^−３モル加え、１分後にＮ，Ｎ’−ジヒドロキシ−Ｎ”、Ｎ”−ジエチルメラミンの０．８質量％メタノール溶液１．３ｍｌを加え、さらに４分後に、５−メチル−２−メルカプトベンゾイミダゾールをメタノール溶液で銀１モル当たり４．８×１０^−３モル、１−フェニル−２−ヘプチル−５−メルカプト−１，３，４−トリアゾールをメタノール溶液で銀１モルに対して５．４×１０^−３モルおよび１−（３−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀１モルに対して８．５×１０^−３モル添加して、ハロゲン化銀乳剤１を作成した。
【０４６０】
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径０．０４２μｍ、球相当径の変動係数２０％のヨウドを均一に３．５モル％含むヨウ臭化銀粒子であった。粒子サイズ等は、電子顕微鏡を用い１０００個の粒子の平均から求めた。この粒子の｛１００｝面比率は、クベルカムンク法を用いて測定して８０％であった。
【０４６１】
（ハロゲン化銀乳剤２の調製）
ハロゲン化銀乳剤１の調製において、粒子形成時の液温３０℃を４７℃に変更し、溶液Ｂは臭化カリウム１５．９ｇを蒸留水にて容量９７．４ｍｌに希釈することに変更し、溶液Ｄは臭化カリウム４５．８ｇを蒸留水４００ｍｌに希釈することに変更し、溶液Ｃの添加時間を３０分にして、六シアノ鉄（ＩＩ）カリウムを除去した以外は同様にして、ハロゲン化銀乳剤を調製した。
ハロゲン化銀乳剤１と同様に粒子形成／沈殿／水洗／分散を行った。更に分光増感色素ＡとＢをモル比で１：１の混合物のメタノール溶液を添加量が分光増感色素ＡとＢの合計モル量で７．５×１０^−４モル、テルル増感剤Ｃの添加量を銀１モル当たり５．１×１０^−５モルに変え、１−フェニル−２−ヘプチル−５−メルカプト−１，３，４−トリアゾールをフェニル）−５−メルカプトテトラゾールを水溶液で銀１モルに対して４．７×１０^−３モルをした事以外は乳剤１と同様にして、ハロゲン化銀乳剤２を得た。ハロゲン化銀乳剤Ｂの乳剤粒子は、平均球相当径８０ｎｍ、球相当径の変動係数２０％の純臭化銀立方体粒子であった。
【０４６２】
（ハロゲン化銀乳剤３の調製）
ハロゲン化銀乳剤１の調製において、粒子形成時の液温３０℃を２７℃に変更する以外は同様にして、ハロゲン化銀乳剤３の調製を行った。また、ハロゲン化銀乳剤１と同様に沈殿／脱塩／水洗／分散を行った。分光増感色素Ａと分光増感色素Ｂのモル比で１：１を固体分散物（ゼラチン水溶液）として添加量を銀１モル当たり増感色素Ａと増感色素Ｂの合計として６×１０^−３モル、テルル増感剤Ｃの添加量を銀１モル当たり５．２×１０^−４モルに変え、テルル増感剤の添加３分後に臭化金酸を銀１モル当たり５×１０^−４モルとチオシアン酸カリウムを銀１モルあたり２×１０^−３モルを添加したこと以外は乳剤１と同様にして、ハロゲン化銀乳剤３を得た。ハロゲン化銀乳剤３の乳剤粒子は、平均球相当径０．０３４μｍ、球相当径の変動係数２０％のヨウドを均一に３．５モル％含むヨウ臭化銀粒子であった。
【０４６３】
（塗布液用混合乳剤Ａの調製）
ハロゲン化銀乳剤１を７０質量％、ハロゲン化銀乳剤２を１５質量％、ハロゲン化銀乳剤３を１５質量％溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを１質量％水溶液にて銀１モル当たり７×１０^−３モル添加した。さらに塗布液用混合乳剤１ｋｇあたりハロゲン化銀の含有量が銀として３８．２ｇとなるように加水し、塗布液用混合乳剤１ｋｇあたり０．３４ｇとなるように１−（３−メチルウレイドフェニル）−５−メルカプトテトラゾールを添加した。
【０４６４】
２）有機銀塩の調製
（脂肪酸銀分散物Ａの調製）
ベヘン酸、アラキジン酸、ステアリン酸、およびリグノセリン酸をそれぞれ９５モル％、３モル％、０．４モル％、および１．６モル％の比率で混合した脂肪酸を８７．６ｋｇ、蒸留水４２３Ｌ、５ｍｏｌ／Ｌ濃度のＮａＯＨ水溶液４９．２Ｌ、ｔ−ブチルアルコール１２０Ｌを混合し、７５℃にて１時間攪拌し反応させ、脂肪酸ナトリウム溶液Ａを得た。別に、硝酸銀４０．４ｋｇの水溶液２０６．２Ｌ（ｐＨ４．０）を用意し、１０℃にて保温した。６３５Ｌの蒸留水と３０Ｌのｔ−ブチルアルコールを入れた反応容器を３０℃に保温し、十分に撹拌しながら先の脂肪酸ナトリウム溶液Ａの全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ９３分１５秒と９０分かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後１１分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあと脂肪酸ナトリウム溶液Ａを添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後１４分１５秒間は脂肪酸ナトリウム溶液Ａのみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は３０℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、脂肪酸ナトリウム溶液Ａの添加系の配管は、２重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が７５℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、２重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。 脂肪酸ナトリウム溶液Ａの添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
【０４６５】
脂肪酸ナトリウム溶液Ａを添加終了後、そのままの温度で２０分間撹拌放置し、３０分かけて３５℃に昇温し、その後２１０分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が３０μＳ／ｃｍになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
【０４６６】
得られた脂肪酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均値でａ＝０．１９μｍ、ｂ＝０．４μｍ、ｃ＝０．６μｍ、平均アスペクト比２．３、平均球相当径０．４５μｍ、球相当径の変動係数１４％のりん片状の結晶であった。（ａ，ｂ，ｃは本文の規定）
【０４６７】
乾燥固形分２６０ｋｇ相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２１７）１９．３ｋｇおよび水を添加し、全体量を１０００ｋｇとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー（みづほ工業製：ＰＭ−１０型）で予備分散した。
【０４６８】
次に予備分散済みの原液を高圧ホモジナイザー型分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−６１０、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Ｚ型インタラクションチャンバー使用）の圧力を１２６０ｋｇ／ｃｍ^２に調節して、三回処理し、脂肪酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで１８℃の分散温度に設定した。
【０４６９】
（過酸化物処理を施した脂肪酸銀分散物Ｐ１の調製）
上記で得た脂肪酸銀分散物Ａを１ｋｇに、過酸化水素１０質量％溶液を１０モル％添加し、２５℃で３０分攪拌した。
【０４７０】
３）還元剤分散物の調製
《還元剤−１分散物の調製》
還元剤―１（２，２’−メチレンビス−（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール））１０Ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液１６Ｋｇに、水１０Ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて還元剤の濃度が２５質量％になるように調製した。この分散液を６０℃で５時間加熱処理し、還元剤―１分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径０．４０μｍ、最大粒子径１．４μｍ以下であった。得られた還元剤分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７１】
《還元剤−２分散物の調製》
還元剤―２（６，６’−ジ−ｔ−ブチル−４，４’−ジメチル−２，２’−ブチリデンジフェノール）１０Ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液１６Ｋｇに、水１０Ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間３０分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて還元剤の濃度が２５質量％になるように調製した。この分散液を４０℃で１時間加熱した後、引き続いてさらに８０℃で１時間加熱処理し、還元剤―２分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径０．５０μｍ、最大粒子径１．６μｍ以下であった。得られた還元剤分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７２】
４）水素結合性化合物−１分散物の調製
水素結合性化合物−１を１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液を１６ｋｇと本発明、および比較の界面活性剤（種類と量は表１記載）に、水１０ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間３０分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて水素結合性化合物の濃度が２５質量％になるように調製した。この分散液を８０℃で１時間加温し、水素結合性化合物―１分散物を得た。こうして得た水素結合性化合物分散物に含まれる水素結合性化合物粒子はメジアン径０．３５μｍ、最大粒子径１．５μｍ以下であった。得られた水素結合性化合物分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７３】
５）現像促進剤分散物の調製
（現像促進剤−１分散物）
現像促進剤−１を１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液２０ｋｇに、水１０ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて３時間３０分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて現像促進剤の濃度が２０質量％になるように調製し、現像促進剤−１分散物を得た。こうして得た現像促進剤分散物に含まれる現像促進剤粒子はメジアン径０．４８μｍ、最大粒子径１．４μｍ以下であった。得られた現像促進剤分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７４】
（その他の現像促進剤分散物）
その他の現像促進剤分散物（表１に示す）についても現像促進剤−１と同様の方法により分散し、２０質量％の分散液を得た。
【０４７５】
（色調調整剤−１分散物）
色調調整剤−１分散物についても現像促進剤−１と同様の方法により分散し、２０質量％の分散液を得た。
【０４７６】
６）ポリハロゲン化合物分散物の調製
（有機ポリハロゲン化合物−１分散物の調製）
有機ポリハロゲン化合物―１を１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ポバールＭＰ２０３）の２０質量％水溶液１０ｋｇと本発明、および比較の界面活性剤（種類と量は表１記載）と水１４ｋｇを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて５時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が２６質量％になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物―１分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径０．４１μｍ、最大粒子径２．０μｍ以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径３μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７７】
（有機ポリハロゲン化合物−２分散物の調製）
有機ポリハロゲン化合物―２を１０ｋｇと変性ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ポバールＭＰ２０３）の１０質量％水溶液２０ｋｇと本発明、および比較の界面活性剤（種類と量は表１記載）を添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル（ＵＶＭ−２：アイメックス（株）製）にて５時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩０．２ｇと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が３０質量％になるように調製した。この分散液を４０℃で５時間加温し、有機ポリハロゲン化合物―２分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径０．４０μｍ、最大粒子径１．３μｍ以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径３．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【０４７８】
７）フタラジン化合物−１溶液の調製
８ｋｇのクラレ（株）製変性ポリビニルアルコールＭＰ２０３を水１７４．５７ｋｇに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの２０質量％水溶液３．１５ｋｇとフタラジン化合物―１（６−イソプロピルフタラジン）の７０質量％水溶液１４．２８ｋｇを添加し、フタラジン化合物―１の５質量％溶液を調製した。
【０４７９】
８）メルカプト化合物の調製
（メルカプト化合物−１水溶液の調製）
７ｇのメルカプト化合物―１を水９９３ｇに溶解し、０．７質量％の水溶液とした。
（メルカプト化合物−２水溶液の調製）
２０ｇのメルカプト化合物―２を水９８０ｇに溶解し、２．０質量％の水溶液とした。
【０４８０】
９）顔料−１分散物の調製
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６０を６４ｇと花王（株）製デモールＮを６．４ｇに水２５０ｇを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ８００ｇを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機（１／４Ｇサンドグラインダーミル：アイメックス（株）製）にて２５時間分散し、水を加えて顔料の濃度が５質量％になるように調製して顔料−１分散物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子は平均粒径０．２１μｍであった。
【０４８１】
１０）ＳＢＲラテックス液の調製
ＳＢＲラテックスは以下により調整した。
ガスモノマー反応装置（耐圧硝子工業（株）製ＴＡＳ−２Ｊ型）の重合釜に、蒸留水２８７ｇ、界面活性剤（パイオニンＡ−４３−Ｓ（竹本油脂（株）製）：固形分４８．５質量％）７．７３ｇ、１ｍｏｌ／リットルＮａＯＨ１４．０６ｍｌ、エチレンジアミン４酢酸４ナトリウム塩０．１５ｇ、スチレン２５５ｇ、アクリル酸１１．２５ｇ、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン３．０ｇを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度２００ｒｐｍで撹拌した。真空ポンプで脱気し窒素ガス置換を数回繰返した後に、１，３−ブタジエン１０８．７５ｇを圧入して内温６０℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム１．８７５ｇを水５０ｍｌに溶解した液を添加し、そのまま５時間撹拌した。さらに９０℃に昇温して３時間撹拌し、反応終了後内温が室温になるまで下げた後、１ｍｏｌ／リットルのＮａＯＨとＮＨ_４ＯＨを用いてＮａ^＋イオン：ＮＨ_４ ^＋イオン＝１：５．３（モル比）になるように添加処理し、ｐＨ８．４に調整した。その後、孔径１．０μｍのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、ＳＢＲラテックスを７７４．７ｇ得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度３ｐｐｍであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、１４５ｐｐｍであった。
【０４８２】
上記ラテックスは平均粒径９０ｎｍ、Ｔｇ＝１７℃、固形分濃度４４質量％、２５℃６０％ＲＨにおける平衡含水率０．６質量％、イオン伝導度４．８０ｍＳ／ｃｍ（イオン伝導度の測定は東亜電波工業（株）製伝導度計ＣＭ−３０Ｓ使用し、ラテックス原液（４４質量％）を２５℃にて測定）、ｐＨ８．４。
【０４８３】
２−２．塗布液の調製
１）画像形成層塗布液
（画像形成層塗布液の調製）
上記で得た脂肪酸銀分散物ＡまたはＰ１をそれぞれ１０００ｇに対して、水、顔料−１分散物、有機ポリハロゲン化合物−１分散物、有機ポリハロゲン化合物−２分散物、フタラジン化合物―１溶液、ＳＢＲラテックス（Ｔｇ：１７℃）液、還元剤−１分散物、還元剤−２分散物、現像促進剤分散物（表１に示す）、メルカプト化合物−１水溶液、メルカプト化合物−２水溶液を順次添加し、塗布直前に塗布液用混合乳剤Ａを添加して良く混合した画像形成層塗布液をそのままコーティングダイへ送液し、塗布した。
各素材の添加量は、後述の塗布試料の項に示した塗布量になるようにした。
【０４８４】
２）中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールＰＶＡ−２０５（クラレ（株）製）１０００ｇ、顔料−１分散物２７２ｇ、メチルメタクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸共重合体（共重合重量比６４／９／２０／５／２）ラテックス１９質量％液４２００ｍｌにエアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）の５質量％水溶液を２７ｍｌ、フタル酸二アンモニウム塩の２０質量％水溶液を１３５ｍｌ、総量１００００ｇになるように水を加え、ｐＨが７．５になるようにＮａＯＨで調整して中間層塗布液とし、９．１ｍｌ／ｍ^２になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はＢ型粘度計４０℃（Ｎｏ．１ローター、６０ｒｐｍ）で５８［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０４８５】
３）表面保護層第１層塗布液の調製
イナートゼラチン６４ｇを水に溶解し、メチルメタクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸共重合体（共重合重量比６４／９／２０／５／２）ラテックス１９．０質量％液１１２ｇ、フタル酸の１５質量％メタノール溶液を３０ｍｌ、４−メチルフタル酸の１０質量％水溶液２３ｍｌ、０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸を２８ｍｌ、エアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）の５質量％水溶液を５ｍｌ、フェノキシエタノール０．５ｇ、ベンゾイソチアゾリノン０．１ｇを加え、総量７５０ｇになるように水を加えて塗布液とし、４質量％のクロムみょうばん２６ｍｌを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを１８．６ｍｌ／ｍ^２になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はＢ型粘度計４０℃（Ｎｏ．１ローター、６０ｒｐｍ）で２０［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０４８６】
４）表面保護層第２層塗布液の調製
イナートゼラチン８０ｇを水に溶解し、メチルメタクリレート／スチレン／ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸共重合体（共重合重量比６４／９／２０／５／２）ラテックス２７．５質量％液１０２ｇ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−１）の２質量％溶液を５．４ｍｌ、フッ素系界面活性剤（Ｆ−２）の２質量％水溶液を５．４ｍｌ、エアロゾールＯＴ（アメリカンサイアナミド社製）の５質量％溶液を２３ｍｌ、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径０．７μｍ）４ｇ、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径４．５μｍ）２１ｇ、４−メチルフタル酸１．６ｇ、フタル酸４．８ｇ、０．５ｍｏｌ／Ｌ濃度の硫酸４４ｍｌ、ベンゾイソチアゾリノン１０ｍｇに総量６５０ｇとなるよう水を添加して、４質量％のクロムみょうばんと０．６７質量％のフタル酸を含有する水溶液４４５ｍｌを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを表面保護層第２層塗布液とし、８．３ｍｌ／ｍ^２になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はＢ型粘度計４０℃（Ｎｏ．１ローター，６０ｒｐｍ）で１９［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０４８７】
２−３．試料の作成
バック面と反対の面に下塗り面から画像形成層塗布液、中間層、表面保護層第１層、表面保護層第２層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料−１〜８を作成した。このとき、画像形成層と中間層は３１℃に、保護層第一層は３６℃に、保護層第二層は３７℃に温度調整した。
脂肪酸銀Ａを用いた試料は試料―１〜３、過酸化物処理した脂肪酸銀を用いた試料は試料―４〜８とした。
画像形成層の各化合物の塗布量（ｇ／ｍ^２）は以下の通りである。
【０４８８】
脂肪酸銀 ５．１５
顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６０） ０．０３６
ポリハロゲン化合物−１ ０．０８
ポリハロゲン化合物−２ ０．１６
フタラジン化合物−１ ０．１９
ＳＢＲラテックス ９．４０
還元剤−１ ０．４０
還元剤−２ ０．３０
現像促進剤 （表１に示す）
メルカプト化合物−１ ０．００２
メルカプト化合物−２ ０．０１２
ハロゲン化銀（Ａｇとして） ０．１２
【０４８９】
塗布乾燥条件は以下のとおりである。
塗布はスピード１６０ｍ／ｍｉｎで行い、コーティングダイ先端と支持体との間隙を０．１０〜０．３０ｍｍとし、減圧室の圧力を大気圧に対して１９６〜８８２Ｐａ低く設定した。支持体は塗布前にイオン風にて除電した。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度１０〜２０℃の風にて塗布液を冷却した後、無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度２３〜４５℃、湿球温度１５〜２１℃の乾燥風で乾燥させた。
乾燥後、２５℃で湿度４０〜６０％ＲＨで調湿した後、膜面を７０〜９０℃になるように加熱した。加熱後、膜面を２５℃まで冷却した。
【０４９０】
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で感光性層面側が５５０秒、バック面が１３０秒であった。また、感光層面側の膜面のｐＨを測定したところ６．０であった。
【０４９１】
以下に本発明の実施例で用いた化合物を示す。
【０４９２】
【化７１】

【０４９３】
【化７２】

【０４９４】
【化７３】

【０４９５】
【化７４】

【０４９６】
【化７５】

【０４９７】
（写真性能の評価）
得られた試料は半切サイズに切断し、２５℃５０％ＲＨの環境下で以下の包装材料に包装し、２週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
（包装材料）
ＰＥＴ １０μｍ／ＰＥ １２μｍ／アルミ箔９μｍ／Ｎｙ １５μｍ／カーボン３質量％を含むポリエチレン５０μｍ
酸素透過率：０．０２ｍｌ／ａｔｍ・ｍ^２・２５℃・ｄａｙ、水分透過率：０．１０ｇ／ａｔｍ・ｍ^２・２５℃・ｄａｙ
【０４９８】
試料は富士メディカルドライレーザーイメージャーＤＲＹＰＩＸ７０００（最大６０ｍＷ（ＩＩＩＢ）出力の６６０ｎｍ半導体レーザー搭載）にて露光・熱現像（１１９℃−１２１℃−１２０℃に設定した３枚のパネルヒータで合計１４秒）し、得られた画像の評価を濃度計により行った。
【０４９９】
かぶり（Ｄｍｉｎ_１）：未露光部の透過光学濃度である。
感度：かぶり＋１．０の光学濃度を与える露光量の逆数で感度を表し、試料１の感度を１００とし、相対値で示した。
暗熱画像保存性：熱現像した試料を４５℃、７５％ＲＨの環境下に７日間保存した後にかぶり濃度（Ｄｍｉｎ_２）を測定した。ΔＤｍｉｎを暗熱画像保存性の尺度とした。
ΔＤｍｉｎ ＝ Ｄｍｉｎ_２ ― Ｄｍｉｎ_１
【０５００】
【表１】

【０５０１】
結果を表１に示した。本発明の試料は、Ｄｍｉｎ_１が低く、ΔＤｍｉｎも低く保存安定性に優れ、かつ高感度であった。
この様に本発明の酸化処理を施した有機銀塩を用いて現像促進剤を利用する、高感度、低かぶりで、画像保存性の改良に優れた熱現像感光材料が得られた。
【０５０２】
実施例 ２
実施例１の脂肪酸組成をベヘン酸、アラキジン酸、およびステアリン酸をそれぞれ４５モル％、３０モル％、および２５モル％の比率で混合してその他は実施例１の「過酸化物処理を施した脂肪酸銀分散物Ｐ１」の調製と全く同様にして「過酸化物処理を施した脂肪酸銀分散物Ｐ２」を調製した。これを用いて評価用塗布試料を作成して実施例１と同様の評価を行なったところ表２の結果が得られた。
本発明の試料は、Ｄｍｉｎ_１およびΔＤｍｉｎが低く、保存安定性に優れ、かつ高感度であった。
【０５０３】
【表２】

【０５０４】
【発明の効果】
本発明によれば、高感度でかぶりの少ない改良された熱現像感光材料および画像形成方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に用いられる高圧粉砕部を有する分散装置のの高圧粉砕部を説明する図である。
【図２】切替弁の切り替えにより、予備分散と本分散とを単一の分散装置で行う１例を示す図である。
【図３】予備分散と本分散を各々、別途に設けられた分散装置で行う１例を示す図である。
【符号の説明】
１１ 高圧粉砕部
１２ 高圧粉砕部
Ａ０ 供給ポット
Ｐ１ 補助ポンプ
Ｂ０ 逆止弁
Ｐ２ 補助ポンプ
Ｃ０ 逆止弁
Ｄ０ 切替弁
Ｅ 予備分散用オリフィス
Ｆ 本分散用オリフィス
Ａ１ 供給ポット
Ａ２ 供給ポット
Ｐ３ 補助ポンプ
Ｐ４ 高圧ポンプ
Ｂ１ 逆止弁
Ｃ１ 逆止弁
Ｄ１ 切替弁
Ｂ２ 逆止弁
Ｃ２ 逆止弁
Ｄ２ 切替弁[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photothermographic material and an image forming method. In particular, the present invention relates to an improved photothermographic material and image forming method with high sensitivity and low fog.
[0002]
[Prior art]
In recent years, in the medical field, reduction of waste processing liquid has been strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving. Therefore, photosensitive heat for medical diagnosis and photographic technology that can be efficiently exposed by a laser image setter or laser imager and can form a clear black image having high resolution and sharpness. There is a need for techniques relating to developed photographic materials. These photosensitive photothermographic materials can eliminate the use of solution processing chemicals and supply customers with a simpler heat development processing system that does not damage the environment.
[0003]
Since medical images are required to be finely drawn, they require high image quality that is excellent in sharpness and graininess, and are characterized in that cold-black images are preferred from the viewpoint of ease of diagnosis. At present, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are distributed as general image forming systems. However, there is no satisfactory output system for medical images.
[0004]
On the other hand, a thermal image forming system using an organic silver salt is known. In particular, the photothermographic material generally contains a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), a reducing agent, a reducible silver salt (eg, an organic silver salt), and a color tone that controls the color tone of silver if necessary. And a photosensitive layer dispersed in a binder matrix. The photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and is blackened by an oxidation-reduction reaction between silver halide or a reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. Form a silver image. The oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. Therefore, a black silver image is formed in the exposure area. Fuji Medical Dry Imager FM-DPL was released as a medical image forming system using a photothermographic material.
[0005]
In the production of a thermal image forming system using an organic silver salt, it has been generally produced by coating with an organic solvent. As the organic solvent, methyl ethyl ketone (MEK), toluene, acetone, etc. are used, and these organic solvents require post-treatment such as recovery or combustion to prevent emission to the atmosphere by coating and drying, which leads to excessive equipment, It was a factor of cost increase. Further, it remains in the product, and has a problem of volatilizing from the film to give an odor during handling, particularly during heat development, and giving off an odor and polluting the environment. In recent years, an aqueous coating type photothermographic material produced by applying and drying a coating liquid containing an aqueous dispersion of polymer fine particles as a binder and various components therein as a dispersion without using an organic solvent. It has been developed.
According to this aqueous coating type photothermographic material, the photosensitive silver halide and the organic silver salt are prepared independently of each other and mixed together with a reducing agent and a binder before coating to prepare and apply an image forming layer coating solution. Thus, an image forming layer is formed. Therefore, photosensitive silver halide can be subjected to processing such as grain shape control, various chemical sensitization treatments, heavy metal doping, and color sensitization treatment independently of the preparation of the organic silver salt. It has advantages in terms of low fog and high image quality.
[0006]
Conventionally, an organic silver salt is generally used by being dispersed in an organic solvent. However, in the case of an aqueous coating type photothermographic material, it is preferably finely dispersed in water.
In particular, it is preferable to finely and uniformly disperse the organic silver salt in order to express the transparency of the coating film, the uniform coated surface, and stable photographic performance. For dispersion, media dispersion (ball mill, sand grinder mill, etc.) using spheres such as iron, zirconia, and glass is generally used as a dispersion medium.
[0007]
The photothermographic material is characterized in that all the materials necessary for image formation are previously incorporated in the coating film, and an image can be formed only by heating after image exposure. On the other hand, since all materials are mixed in the film, it is a big problem that it is susceptible to photographic performance fluctuations such as increased fog and fluctuations in sensitivity (for example, during storage or fluctuations in exposure conditions and thermal development conditions). Met. Also, image storage stability after image formation has been a major problem.
[0008]
In particular, keeping the fog low is an important issue, and efforts have been made to improve it from all aspects continuously. For example, improvement of a reducing agent for heat development, development of an antifogging agent such as an organic polyhalogen compound, selection and purity of an organic acid of an organic silver salt, or improvement of photosensitive silver halide can be mentioned.
[0009]
However, even if these improvement means are combined, the problem of fogging is still not sufficient, and further improvement has been demanded. In particular, in a photothermographic material used for medical diagnosis, the fog is a serious quality that affects the diagnostic ability, and there is a strong demand for improvement.
[0010]
A method is known in which after preparing a non-photosensitive organic silver salt, an N-halogeno compound is allowed to act to halogenate a part of the organic silver salt to form photosensitive silver halide on the surface of the organic silver salt particle. (See Patent Document 1). At this time, it is described that high sensitivity can be obtained by carrying out in the presence of an organic peroxide. According to the description of the above-mentioned document, the organic peroxide promotes the decomposition of the N-halogeno compound, and as a result, the halogenation is promoted, and the sensitivity is increased by increasing the amount of photosensitive silver halide produced. Has been. Moreover, the reduction of fog is also described as an accompanying effect.
[0011]
However, in the method in which an N-halogeno compound is allowed to act to form a photosensitive silver halide on the surface of the organic silver salt grains by halogenating a part of the organic silver salt, the photosensitive silver halide has high sensitivity and low fog. It is difficult to get. This is because it is difficult to strictly control the shape of the grains necessary for the performance of the photosensitive silver halide, the crystal structure, and the chemical sensitization treatment.
[0012]
It is also known that a photosensitive silver halide is prepared in the absence of an organic silver salt and then mixed with the organic silver salt. However, the photothermographic material is required to have high sensitivity and improvement of fogging for the reason specific to the photothermographic process in addition to the fine silver halide grain size.
[0013]
[Patent Document 1]
JP-A-52-93319
[0014]
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a photothermographic material and an image forming method having low fog and excellent storage stability. In particular, an aqueous coating type photothermographic material is to provide a photothermographic material and an image forming method having high sensitivity, low fog and good storage stability.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
The object of the present invention has been achieved by the following photothermographic materials.
<1> A photothermographic material having an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on the same surface of a support, comprising 1) A photothermographic material comprising a development accelerator in the photothermographic material, and 2) the non-photosensitive organic silver salt is oxidized.
<2> The image forming layer according to <1>, wherein the image forming layer is formed by applying an image forming layer coating solution prepared by at least the following steps 1) and 2) on the support. Photothermographic material.
1) preparing the non-photosensitive organic silver salt and subjecting it to an oxidation treatment;
2) A step of mixing the non-photosensitive organic silver salt subjected to the oxidation treatment and the photosensitive silver halide.
<3> The step of performing the oxidation treatment is 1) an organic silver salt forming step by a reaction between an alkali metal salt of an organic acid and a water-soluble silver salt, 2) a desalting step, 3) a dispersing step, and 4) after the dispersing step. 3. The photothermographic material according to claim 2, wherein the photothermographic material is at least one step prior to mixing with the photosensitive silver halide.
<4> The photothermographic material according to <3>, wherein the oxidation treatment is at least one of the steps 3) and 4).
<5> The photothermographic material according to <3> or <4>, wherein the oxidation treatment is the step 4).
<6> The photothermographic material according to any one of <1> to <5>, wherein the oxidizing agent for the oxidation treatment is hydrogen peroxide.
<7> The photothermographic material according to any one of <1> to <6>, wherein the development accelerator is at least one selected from a phenol derivative and a hydrazine derivative.
<8> The photothermographic material according to any one of <1> to <6>, wherein the development accelerator is a compound represented by the following general formula (P) or (Q): .
[0016]
[Chemical Formula 3]

[0017]
(Where X_1aAnd X_2aEach independently represents a hydrogen atom or a substituent;^1a~ R^3aEach independently represents a hydrogen atom or a substituent. m and p each independently represents an integer of 0 to 4, and n represents an integer of 0 to 2. )
<9> The photothermographic material according to any one of <1> to <6>, wherein the development accelerator is a compound represented by the following general formulas (I) to (IV).
[0018]
[Formula 4]

[0019]
(In the general formula (I), R¹Represents an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a heterocycle, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group or an alkynyl group, and X¹Represents an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group or a sulfamoyl group. Y¹~ Y⁵Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. )
(In the general formula (II), Q¹Is a carbon atom and NHNH-R^1bRepresents a 5- to 7-membered unsaturated ring bonded to R,^1bRepresents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, or a sulfamoyl group. )
(In the general formula (III), R^1c, R^2c, R^3c, X^1cAnd X^2cEach independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituent bonded to the benzene ring by a carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom or phosphorus atom.
However, X^1c, X^2cAt least one of -NR⁴R⁵It is group represented by these. R⁴, R⁵Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or —C (═O) —R, —C (═O) —C (═O) —R, —SO₂-R, -SO-R, -P (= O) (R)₂Or it is group represented by -C (= NR ')-R. R and R 'are each independently a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, and an aryloxy group. These substituents may be bonded to each other to form a ring. )
(In the general formula (IV), X^1dRepresents a substituent and X^2d~ X^4dEach independently represents a hydrogen atom or a substituent. However, X^1d~ X^4dAnd is not a hydroxy group, X^3dIs not a sulfonamide group. X^1d~ X^4dMay be combined with each other to form a ring. R^1dRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group or an alkoxy group. )
<10> The photothermographic material according to any one of <1> to <9>, wherein the binder contains a polymer latex.
<11> The photothermographic material according to <10>, wherein the polymer latex is contained in an amount of 30% by mass or more based on the total binder.
<12> Silver coating amount is 0.5 g / m²~ 1.9g / m²The photothermographic material according to any one of <1> to <11>, which is in a range of
<13> An image forming method in which an image is formed by heat development using the photothermographic material according to any one of <1> to <12> within a heat development time range of 5 seconds to 14 seconds.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The present invention is described in detail below.
The photothermographic material of the present invention has an image forming layer containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on at least one surface of a support. Further, a surface protective layer may be provided on the image forming layer, or a back layer or a back protective layer may be provided on the opposite surface.
Each of the image forming layer, the surface protective layer, the back layer, the back protective layer, and the like may be composed of a single layer or a plurality of layers.
The configuration of each layer and preferred components thereof will be described in detail.
[0021]
1. Photothermographic material
1-1. Non-photosensitive organic silver salt
The non-photosensitive organic silver salt (hereinafter simply referred to as organic silver salt) used in the present invention will be described.
The method for preparing the organic silver salt of the present invention is already well known, but is prepared through the following steps.
a. Formation of organic silver salt by reaction of organic acid or its alkali metal salt with water-soluble silver salt
b. Removal of by-product salts by filtration
c. Dry
d. Dispersion (containing organic silver salt, preferably protective colloid, dispersed in desired fine particles using water as dispersion medium)
The drying process of c is not essential, and the process can proceed to the dispersion process of d in a wet cake state containing moisture to some extent.
The organic silver salt used in the present invention is at least one of these steps, or at least one of the steps after preparing the dispersion and mixing with the photosensitive silver halide. Oxidation treatment is performed.
[0022]
This will be described in detail below.
1) Composition of organic silver salt
Organic silver salts that can be used in the present invention are relatively stable to light, but when heated to 80 ° C. or higher in the presence of exposed photosensitive silver halide and reducing agent. It is a silver salt that functions as a silver ion supplier and forms a silver image. Regarding such non-photosensitive organic silver salt, paragraph numbers 0048 to 0049 of JP-A-10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent Publication No. 0803764A1, European Patent Publication. No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids, particularly silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferable examples of the fatty acid silver salt include lignoceric acid, silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, erucic acid and mixtures thereof. Etc.
[0023]
In the present invention, among these fatty acid silvers, it is preferable to use a fatty acid silver having a silver behenate content of 50 mol% or more, preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more. High-purity silver behenate in this range has a low fog and is a preferable organic silver salt particularly for achieving the object of the present invention.
[0024]
2) Particle size and shape
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a flake shape.
In the present invention, scaly organic silver salts are preferred. In addition, short needle-like, rectangular parallelepiped, cubic or potato-like amorphous particles having a major axis / uniaxial length ratio of 5 or less are also preferably used. These organic silver particles have a feature that there is less fog at the time of thermal development than long needle-like particles having a ratio of the major axis to the uniaxial length of 5 or more. In particular, particles having a major axis / uniaxial ratio of 3 or less are preferable because the mechanical stability of the coating film is improved. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic acid silver salt was observed with an electron microscope, the shape of the organic acid silver salt particle was approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped were designated a, b, and c from the shortest side (c was the same as b). Then, the shorter numerical values a and b are calculated, and x is obtained as follows.
x = b / a
[0025]
In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 20 ≧ x (average) ≧ 2.0. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.
[0026]
In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.23 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.23 μm or less. The average of c / b is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, still more preferably 1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1 or more and 2 or less.
[0027]
The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. It is as follows. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method for obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, a commercially available laser light scattering type particle size measuring device can be used.
[0028]
3) Preparation method of organic silver salt
As a method for preparing the organic acid silver used in the present invention, a known method or the like can be applied. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-62899, European Patent Publication No. 0803563A1, European Patent Publication No. 0968212A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-349591, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-7683, Japanese Patent Application No. 2000-72711, Japanese Patent Application No. 11-348228- No. 30, No. 11-203413, No. 2000-90093, No. 2000-195621, No. 2000-191226, No. 2000-213813, No. 2000-214155, No. 2000-191226, etc. be able to.
4) Dispersion method
Next, a method for producing a solid dispersion of an organic silver salt will be described.
Conventionally, as a generally known method of media dispersion, an organic silver salt powder or a wet cake moistened with water or an organic solvent is made into an aqueous slurry, and the presence of the dispersion media using a known pulverizer is used. There is a method of pulverizing and dispersing under mechanical force. Examples of the pulverizer used for media dispersion include a ball mill, a colloid mill, a vibrating ball mill, a vertical sand mill, a roller mill, a pin mill, a coball mill, a caddy mill, a horizontal sand mill, and an attritor. Examples of the dispersion medium include steel balls, ceramic balls, glass beads, alumina beads, zirconia silicate beads, zirconia beads, and Ottawa Sand. The average diameter of the dispersion media (beads) is preferably 0.3 mm to 5 mm, more preferably 0.3 mm to 3 mm, even more preferably 0.3 mm to 1 mm, and most preferably 0.3 mm or 0.5 mm. .
[0029]
In the present invention, it is preferable to use a high-pressure homogenizer for dispersion preparation of organic acid silver. A high-pressure homogenizer is equipped with a high-pressure pulverization unit in the middle of the dispersion flow path, narrows a part of the high-pressure and high-speed dispersion device or the dispersion liquid flow path, and disperses and emulsifies the dispersion liquid at high pressure and high speed. And a device for crushing.
[0030]
For example, Nanomizer LA (manufactured by Nanomizer Co., Ltd.) in which the dispersions collide with each other in the dispersion channel, Microfluidizer (manufactured by Microfluidax) or Gorin homogenizer with a high-pressure pulverization unit in the dispersion channel ( APS (manufactured by APV), and Genus PY (manufactured by Genus) having a thin tubular channel called an orifice in the channel of the dispersion can be used.
[0031]
The high-pressure pulverization section provided in the high-pressure homogenizer used in the present invention is a region 11 and 12 shown in FIG. 1 and a region where the flow path of the raw material liquid passing through the dispersing device is bent at a substantially right angle. There is obtained an organic silver salt dispersion in which an organic silver salt is pulverized and dispersed when a high-speed flow of the raw material liquid passes through the high-pressure pulverizing section.
[0032]
In the present invention, the term “substantially perpendicular” means that the angle of the corner formed from each flow path is 70 degrees to 110 degrees when the flow paths of the raw material liquid are directed to flow paths having different directions.
[0033]
As the thin tubular flow path (orifice) provided in the high-pressure homogenizer used in the present invention, a flow path diameter of 0.1 mmφ or more is preferably used during preliminary dispersion in order to suppress clogging of the dispersion in the dispersion flow path. More preferably, a flow path diameter of 0.2 mmφ or more is used. Further, the pressure applied to the dispersion is preferably 5 kgf / cm 2 or more, more preferably 10 kgf / cm 2 or more during preliminary dispersion. Furthermore, at the time of this dispersion, a channel diameter of 0.5 mmφ or less is preferably used, and more preferably, a channel diameter of 0.2 mmφ or less is used. The pressure applied to the dispersion is preferably 100 kgf / cm 2 or more, more preferably 280 kgf / cm 2 or more.
[0034]
In the present invention, at least one preliminary dispersion of a raw material liquid comprising an organic silver salt, a solvent and a protective colloid is performed, and then the main dispersion is performed. In the preliminary dispersion, the dispersion used at the time of the main dispersion is used. By dispersing using a channel diameter larger than the channel diameter, an organic silver salt dispersion having good dispersibility without causing blockage of the channel due to clogging of the dispersion in the dispersion channel at the time of main dispersion is obtained. Can be obtained.
[0035]
Specifically, the preliminary dispersion and the main dispersion performed in the production method of the present invention are performed by an apparatus as shown in FIG. 2 or FIG.
[0036]
In the apparatus shown in FIG. 2, the raw material liquid is supplied to the supply pot A.₀To auxiliary pump P₁, Check valve B₀, High pressure pump P₂, Check valve C₀And then switch valve D₀First, the pre-dispersion orifice E is introduced to perform pre-dispersion. After the preliminary dispersion, the obtained preliminary dispersion is supplied to the supply pot A₀And after passing through the same route as above, the switching valve D₀In this way, it is introduced into the main dispersion orifice to perform main dispersion.
[0037]
In the apparatus shown in FIG. 3, the raw material liquid is supplied to the supply pot A.₁To auxiliary pump P₁, Check valve B₁, High pressure pump P₂, Check valve C₁, Switching valve D₁After passing through, it introduce | transduces into the orifice for preliminary dispersion | distribution, and performs preliminary dispersion | distribution. Supply pot A provided with the obtained preliminary dispersion separately₂Auxiliary pump P₃, Check valve B₂, High pressure pump P₄, Check valve C₂, Switching valve D₂Then, it is introduced into the main orifice for main dispersion and main dispersion is performed.
[0038]
In the production method of the present invention, the temperature of the dispersion may be controlled as necessary. Adjustment of the raw material liquid temperature before dispersion may be performed in a tank in which the raw material liquid is placed, or may be performed in the middle from the tank to the dispersing action part of the high-pressure homogenizer. In particular, when the dispersion liquid is cooled below the dew point, cooling in the tank has a problem of dew condensation, and it is preferable to perform it in a closed flow path from the tank to the dispersing action part.
[0039]
Furthermore, as means for increasing the pressure applied to the dispersion of the high-pressure homogenizer used in the present invention, a method of closing the outlet of a single flow path with a collision plate, a method of making the middle of the flow path a thin tubular flow path (orifice), etc. It may be used.
[0040]
In addition, when the photosensitive silver salt is allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, the fog is increased and the sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that the photosensitive silver salt is not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of the photosensitive silver salt in the aqueous dispersion to be dispersed is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.1 mol% or less with respect to 1 mol of the organic acid silver salt in the liquid. Further, it is more preferable that no positive photosensitive silver salt is added.
[0041]
5) Application amount of organic silver salt
The organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, but the total amount of applied silver including silver halide is 0.1 to 5.0 g / m.²Is more preferable, and 0.3 to 3.0 g / m is more preferable.²More preferably, 0.5 to 2.0 g / m²It is. In particular, in order to improve image storability, the total silver coating amount is 1.9 g / m.²The following is preferable. If the preferred reducing agent of the present invention is used, it is possible to obtain a sufficient image density even with such a low silver amount.
[0042]
1-2. Oxidant
[0043]
“Oxidizing agent” in the present specification means a compound capable of oxidizing silver atoms, and as such an oxidizing agent, an inorganic oxidizing agent, an organic oxidizing agent, or the like can be used. Next, specific examples of the oxidizing agent are given.
[0044]
1) Specific examples of organic oxidizing agents
A typical organic oxidant that can be used for the oxidation treatment of the organic silver salt of the present invention includes an organic peroxide.
Examples of organic peroxides that can be used in the present invention include generally known alkyl hydroperoxides, allyl peroxides, acyl peroxides, dialkyl peroxides, and diacyl peroxides. Specifically, peracetic acid, perbenzoic acid, ethyl hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide, benzoyl peroxide, diethyl peroxide, diacetyl peroxide, cumene hydroperoxide, cumenyl hydroperoxide, succinic peroxide, 1,1 , 3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide and the like.
In addition, other oxidizing compounds such as an oxidizing compound that releases halogen (for example, N-bromosuccinimide) can be used.
[0045]
Among these, preferred compounds are tert-butyl hydroperoxide, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, and succinic peroxide, and particularly preferred is benzoyl peroxide.
[0046]
The content of these organic oxidants used in the present invention is preferably 0.01 mol% to 200 mol%, more preferably 0.001 mol per mol of the non-photosensitive organic silver salt, although it depends on the kind of the oxidizer. It is 1 mol%-100 mol%, More preferably, it is 1 mol%-50 mol%. If the content of these oxidizing agents is too small, there is no effect, and if the content is too large, the sensitivity may be lowered.
[0047]
2) Specific examples of inorganic oxidizing agents
Next, specific examples of the inorganic oxidizing agent are given. Examples of inorganic oxidizing agents include hydrogen peroxide (water) and hydrogen peroxide adducts (for example, NaBO).₂・ H₂O₂・ 3H₂O, 2NaCO₃・ 3H₂O₂, Na₄P₂O₇・ 2H₂O₂, Na₂SO₄・ H₂O₂・ 2H₂O), alkali metal peroxides, alkaline earth peroxides, heavy metal peroxides, and the like. For example, peroxyacid salts (eg K₂S₂O₈, K₂C₂O₆, K₄P₂O₈Etc.), peroxy complex compounds (for example, K₂[Ti (O₂) C₂O₄] 3H₂O, Na₃[VO (O₂) (C₂O₄)₂] 6H₂O), permanganate (eg, KMnO)₄Etc.) and chromate (for example, K₂Cr₂O₇And the like. In addition, oxidizing compounds such as oxidizing gases (for example, ozone, oxygen gas, etc.), chlorates that release halogen, perchlorates (for example, sodium hypochlorite), and the like can also be used. Some of these oxidizing agents decompose gelatin or have a desensitizing action, and among the above oxidizing agents, hydrogen peroxide or its adduct or precursor is particularly preferable.
[0048]
The amount of these inorganic oxidizers added is preferably 0.01 mol% to 200 mol%, more preferably 0.1 mol% to 100 mol%, still more preferably 1 mol, per mol of the non-photosensitive organic silver salt. % To 50 mol%.
[0049]
3) Processing method
The treatment of the organic silver salt with the oxidizing agent according to the present invention can be performed in any of the organic silver salt preparation steps.
(1) When the oxidizing agent treatment is performed in the production process of the organic silver salt by the reaction of the organic acid or an alkali metal salt thereof and a water-soluble silver salt, the oxidizing agent is previously an organic acid, an alkali metal salt thereof, or a water-soluble It can be added to the reaction vessel containing at least one of the silver salts or water, or can be added during the course of the reaction.
(2) When the oxidant treatment is performed in the step of removing by-product salts by filtration, it is preferably added in advance before the filtration.
(3) When adding in the dispersing step, an oxidizing agent may be added before dispersing and then dispersed, or an oxidizing agent may be added during the dispersion.
{Circle around (4)} After the dispersion is completed, an oxidant can be added and post-treatment can be performed by taking the necessary temperature and time until the oxidant is fully activated.
[0050]
(5) Alternatively, after the dispersion is completed, an oxidant may be added to store the dispersion in a container. In this case, since the oxidizing agent acts during storage in the accommodated container, it is preferable to prepare the coating solution after storage between certain groups.
[0051]
The method (3), (4), or (5) is preferred, and the method (4) is most preferred.
Although depending on the type of the oxidizing agent, the post-treatment temperature is 4 ° C. to 40 ° C., preferably 10 ° C. to 30 ° C., for 5 minutes to 4 hours, preferably 10 minutes to 2 hours. During the post-treatment, it may be allowed to stand, but stirring is preferably continued.
[0052]
The oxidizing agent used for the post-treatment of the organic silver salt may be either an inorganic oxidizing agent or an organic oxidizing agent, but is preferably an inorganic oxidizing agent, and particularly preferably hydrogen peroxide.
[0053]
1-3. Photosensitive silver halide
1) Silver halide composition
The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited as a halogen composition, and silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide, and silver iodide can be used. it can. Of these, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide are preferred. The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, more preferably 2- to 4-fold core / shell particles. A technique for localizing silver bromide or silver iodide on the surface of silver chloride, silver bromide or silver chlorobromide grains can also be preferably used.
[0054]
2) Particle formation method
Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art, for example using the methods described in Research Disclosure No. 17029 of June 1978 and US Pat. No. 3,700,458. Specifically, there is used a method in which a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver supply compound and a halogen supply compound to gelatin or another polymer solution, and then mixed with an organic silver salt. Further, the method described in paragraph Nos. 0217 to 0224 of JP-A No. 11-119374, and the methods described in JP-A Nos. 11-352627 and 2000-347335 are also preferable.
[0055]
3) Particle size
The grain size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of keeping the cloudiness after image formation low, specifically 0.20 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, and still more preferably. It is preferably 0.02 μm or more and 0.12 μm or less. The grain size here means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of silver halide grains (in the case of tabular grains, the projected area of the main plane).
[0056]
4) Shape
Examples of the shape of silver halide grains include cubes, octahedrons, tabular grains, spherical grains, rod-shaped grains, and potato-shaped grains. In the present invention, cubic grains are particularly preferred. Grains with rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (Miller index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grain is not particularly limited, but the ratio of the [100] plane having high spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more, and still more preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is a T.K. based on the adsorption dependency of [111] plane and [100] plane in the adsorption of sensitizing dye. Tani; Imaging Sci. 29, 165 (1985).
[0057]
5) Heavy metal
The photosensitive silver halide grain of the present invention can contain a metal or metal complex of Group 8 to Group 10 of the Periodic Table (showing Groups 1 to 18). As the central metal of the group 8 to group 10 metal or metal complex of the periodic table, rhodium, ruthenium and iridium are preferable. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is 1 x 10 per mole of silver.^-9From mole to 1 × 10^-3A molar range is preferred. These heavy metals and metal complexes and methods for adding them are described in JP-A-7-225449, JP-A-11-65021, paragraphs 0018 to 0024, and JP-A-11-119374, paragraphs 0227 to 0240.
[0058]
In the present invention, silver halide grains in which a hexacyano metal complex is present on the outermost surface of the grains are preferred. As the hexacyano metal complex, [Fe (CN)₆]^4-, [Fe (CN)₆]^3-, [Ru (CN)₆]^4-, [Os (CN)₆]^4-, [Co (CN)₆]^3-, [Rh (CN)₆]^3-, [Ir (CN)₆]^3-, [Cr (CN)₆]^3-, [Re (CN)₆]^3-Etc. In the present invention, a hexacyano Fe complex is preferred.
[0059]
The hexacyano metal complex is present in the form of ions in aqueous solution, so the counter cation is not important, but it is easy to mix with water and is suitable for precipitation of silver halide emulsions. Sodium ion, potassium ion, rubidium It is preferable to use alkali metal ions such as ions, cesium ions, and lithium ions, ammonium ions, and alkylammonium ions (for example, tetramethylammonium ions, tetraethylammonium ions, tetrapropylammonium ions, tetra (n-butyl) ammonium ions).
[0060]
In addition to water, the hexacyano metal complex is miscible with a mixed solvent or gelatin with an appropriate organic solvent miscible with water (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides, etc.). Can be added.
[0061]
The amount of hexacyano metal complex added is 1 × 10 5 per mole of silver.^-51 x 10 moles or more^-2Or less, more preferably 1 × 10^-41 x 10 moles or more^-3It is below the mole.
[0062]
In order for the hexacyano metal complex to be present on the outermost surface of the silver halide grain, the chalcogen sensitization of sulfur sensitization, selenium sensitization and tellurium sensitization is completed after the addition of the aqueous silver nitrate solution used for grain formation. It is added directly before the completion of the preparation step before the chemical sensitization step for performing noble metal sensitization such as sensitization and gold sensitization, during the washing step, during the dispersion step, or before the chemical sensitization step. In order to prevent the silver halide fine grains from growing, it is preferable to add the hexacyano metal complex immediately after the grain formation, and it is preferable to add it before the completion of the preparation step.
[0063]
The addition of the hexacyano metal complex may be started after adding 96% by mass of the total amount of silver nitrate to be added to form grains, more preferably starting after adding 98% by mass, The addition of 99% by mass is particularly preferable.
[0064]
When these hexacyanometal complexes are added after the addition of the aqueous silver nitrate solution just before the completion of grain formation, they can be adsorbed on the outermost surface of the silver halide grains, and most of them form slightly soluble salts with silver ions on the grain surface. To do. This silver salt of hexacyanoiron (II) is a less soluble salt than AgI, so that re-dissolution by fine particles can be prevented and silver halide fine particles having a small particle size can be produced. .
[0065]
Furthermore, regarding the metal atoms that can be contained in the silver halide grains used in the present invention, and methods for desalting and chemically sensitizing silver halide emulsions, paragraph numbers 0046 to 0050 of JP-A No. 11-84574, No. 65021, paragraph numbers 0025 to 0031, and JP-A No. 11-119374, paragraph numbers 0242 to 0250.
[0066]
6) Gelatin
Various gelatins can be used as the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention. It is necessary to maintain a good dispersion state of the photosensitive silver halide emulsion in the coating solution containing an organic silver salt, and gelatin having a molecular weight of 10,000 to 1,000,000 is preferably used. It is also preferable to phthalate the gelatin substituent. These gelatins may be used at the time of grain formation or at the time of dispersion after desalting, but are preferably used at the time of grain formation.
[0067]
7) Sensitizing dye
As a sensitizing dye that can be applied to the present invention, it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and has a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. The dye can be advantageously selected. Regarding the sensitizing dye and the addition method, paragraphs 0103 to 0109 of JP-A-11-65021, compounds represented by the general formula (II) of JP-A-10-186572, and general formulas (I) of JP-A-11-119374 ) And dyes described in paragraph No. 0106, U.S. Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887, Example 5, JP-A-2-96131, JP-A-59-48753 No. 19, page 38 to line 20, page 35 of European Patent Publication No. 0803764A1, JP 2001-272747, JP 2001-290238, JP 2002-23306, etc. It is described in. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the time when the sensitizing dye is added to the silver halide emulsion is preferably the time from the desalting step to the coating, and more preferably the time from desalting to the end of chemical ripening.
The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be set to a desired amount in accordance with the sensitivity and the fogging performance, but is 10 per mol of silver halide in the photosensitive layer.^-6~ 1 mol is preferred, more preferably 10^-4-10^-1Is a mole.
[0068]
In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. As the supersensitizer used in the present invention, European Patent Publication No. 587,338, US Pat. Nos. 3,877,943, 4,873,184, JP-A-5-341432, 11- 109547, 10-111543, etc. are mentioned.
[0069]
8) Chemical sensitization
The photosensitive silver halide grain in the present invention is preferably chemically sensitized by sulfur sensitizing method, selenium sensitizing method or tellurium sensitizing method. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, selenium sensitization method, and tellurium sensitization method, known compounds such as compounds described in JP-A-7-128768 can be used. In the present invention, tellurium sensitization is particularly preferred, and compounds described in the literature described in paragraph No. 0030 of JP-A-11-65021, general formulas (II), (III), (IV) in JP-A-5-313284 The compound shown by is more preferable.
[0070]
The photosensitive silver halide grains in the present invention are preferably chemically sensitized by gold sensitization alone or in combination with the chalcogen sensitization described above. As the gold sensitizer, the valence of gold is preferably +1 or +3, and the gold sensitizer is preferably a gold compound that is usually used. Typical examples include chloroauric acid, bromoauric acid, potassium chloroaurate, potassium bromoaurate, auric trichloride, potassium auric thiocyanate, potassium iodoaurate, tetracyanoauric acid, ammonium aurothiocyanate, pyridyltrichlorogold. Etc. are preferable. Further, gold sensitizers described in US Pat. No. 5,858,637 and Japanese Patent Application No. 2001-79450 are also preferably used.
[0071]
In the present invention, chemical sensitization can be performed at any time after particle formation and before coating. After desalting, (1) before spectral sensitization, (2) simultaneously with spectral sensitization, (3) spectral After sensitization, there may be (4) immediately before application. The amount of sulfur, selenium and tellurium sensitizers used in the present invention varies depending on the silver halide grains used, chemical ripening conditions, etc., but is 10 per mol of silver halide.^-8-10^-2Moles, preferably 10^-7-10^-3Use moles.
The amount of the gold sensitizer added varies depending on various conditions, but as a guide, it is 10 per silver halide.^-7From mole 10^-3Mole, more preferably 10^-6Mol ~ 5x10^-4Is a mole.
The conditions for chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, and the temperature is about 40 to 95 ° C.
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method described in European Patent Publication No. 293,917.
[0072]
A reducing agent is preferably used for the photosensitive silver halide grains in the present invention. As specific compounds for the reduction sensitization, ascorbic acid and thiourea dioxide are preferable, and in addition, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds, and the like are preferably used. . The reduction sensitizer may be added at any stage in the photosensitive emulsion production process from crystal growth to the preparation process immediately before coating. Further, reduction sensitization is preferred by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 7 or higher or pAg at 8.3 or lower, and reduction sensitization is achieved by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. It is also preferable to do.
[0073]
9) One-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more.
In the photothermographic material of the invention, it is preferable that the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contains a compound capable of emitting one electron or more. The compound can be used alone or in combination with the above-described various chemical sensitizers, and can increase the sensitivity of silver halide.
[0074]
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contained in the photothermographic material of the present invention is a compound selected from the following types 1 to 5 that can emit one or more electrons.
[0075]
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit two or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of releasing another electron with subsequent bond cleavage reaction, and has two or more adsorptive groups to silver halide in the same molecule. Compound.
(Type 3)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation process.
(Type 4)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent intramolecular ring-cleaving reaction.
(Type 5)
In the compound represented by XY, X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is followed by XY A compound capable of releasing Y by releasing Y with a bond cleavage reaction and releasing another electron therefrom.
[0076]
Preferred among the compounds of types 1 and 3 to 5 above are “compounds having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “partial structure of spectral sensitizing dye in the molecule”. Compound ". More preferred is a “compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule”. The compounds of types 1 to 4 are more preferably “compounds having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group”.
[0077]
The compounds of types 1 to 5 will be described in detail.
In the type 1 compound, “bond cleavage reaction” specifically means cleavage of bonds between carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, and carbon-germanium elements, These may be further accompanied by carbon-hydrogen bond cleavage. A type 1 compound is a compound capable of emitting two or more (preferably three or more) electrons for the first time after a one-electron oxidation to form a one-electron oxidant, followed by a bond cleavage reaction.
[0078]
Among the compounds of type 1, preferred compounds are represented by general formula (A), general formula (B), general formula (1), general formula (2), or general formula (3).
[0079]
Formula (A)
[Chemical formula 5]

[0080]
General formula (B)
[Chemical 6]

[0081]
In general formula (A), RED₁₁Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L₁₁Represents a leaving group. R₁₁₂Represents a hydrogen atom or a substituent. R₁₁₁Is carbon atom (C) and RED₁₁And a nonmetallic atomic group capable of forming a cyclic structure corresponding to a tetrahydro form, hexahydro form, or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle).
[0082]
In the general formula (B), RED₁₂Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L₁₂Represents a leaving group. R₁₂₁And R₁₂₂Each represents a hydrogen atom or a substituent. ED₁₂Represents an electron donating group. R in the general formula (B)₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₁And R₁₂₂Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0083]
These compounds represented by general formula (A) or general formula (B) are represented by RED.₁₁Or RED₁₂After the reducing group represented by₁₁Or L₁₂Is a compound that can release two or more electrons, preferably three or more electrons, by releasing them by bond cleavage reaction.
[0084]
General formula (1), general formula (2), general formula (3)
[Chemical 7]

[0085]
In general formula (1), Z₁Represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring with a nitrogen atom and two carbon atoms of a benzene ring, and R₁, R₂, R_N1Each represents a hydrogen atom or a substituent, and X₁Represents a substitutable substituent on the benzene ring, m₁Represents an integer of 0 to 3, L₁Represents a leaving group. ED in general formula (2)₂₁Represents an electron donating group, R₁₁, R₁₂, R_N21, R₁₃, R₁₄Each represents a hydrogen atom or a substituent, and X₂₁Represents a substitutable substituent on the benzene ring, m₂₁Represents an integer of 0 to 3, L₂₁Represents a leaving group. R_N21, R₁₃, R₁₄, X₂₁And ED₂₁May be bonded to each other to form a cyclic structure. In the general formula (3), R₃₂, R₃₃, R₃₁, R_N31, R_a, R_bEach represents a hydrogen atom or a substituent, and L₃₁Represents a leaving group. However, R_N31When represents a group other than an aryl group, R_aAnd R_bCombine with each other to form an aromatic ring.
[0086]
After these compounds are oxidized by one electron,₁, L₂₁Or L₃₁Is a compound that can release two or more electrons, preferably three or more electrons, by releasing them by bond cleavage reaction.
[0087]
Hereinafter, the compound represented by the general formula (A) will be described in detail first.
In general formula (A), RED₁₁A reducing group that can be oxidized by one electron is represented by R described later.₁₁₁And a divalent group obtained by removing one hydrogen atom at a suitable site for ring formation from the following monovalent group. For example, alkylamino group, arylamino group (anilino group, naphthylamino group, etc.), heterocyclic amino group (benzthiazolylamino group, pyrrolylamino group, etc.), alkylthio group, arylthio group (phenylthio group, etc.), heterocyclic thio Group, alkoxy group, aryloxy group (phenoxy group etc.), heterocyclic oxy group, aryl group (phenyl group, naphthyl group, anthranyl group etc.), aromatic or non-aromatic heterocyclic group (5-membered to 7-membered) A monocyclic or condensed heterocyclic ring containing at least one heteroatom among nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom and selenium atom. Specific examples thereof include, for example, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, and a tetrahydroquinoxaline ring. , Tetrahydroquinazoline ring, indoline ring, indole ring, indazo Ring, carbazole ring, phenoxazine ring, phenothiazine ring, benzothiazoline ring, pyrrole ring, imidazole ring, thiazoline ring, piperidine ring, pyrrolidine ring, morpholine ring, benzimidazole ring, benzimidazoline ring, benzoxazoline ring, methylenedioxyphenyl Ring, etc.) (hereinafter referred to as RED for convenience)₁₁Is described as a monovalent radical name). RED₁₁May have a substituent.
[0088]
In the present invention, the substituent means a substituent selected from the following groups unless otherwise specified. Halogen atoms, alkyl groups (including aralkyl groups, cycloalkyl groups, active methine groups, etc.), alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups (regardless of the position of substitution), quaternized nitrogen atoms Heterocyclic groups (eg pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfa Moylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, carbonimidoyl group, thiocarbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group (including groups containing ethyleneoxy group or propyleneoxy group units repeatedly), aryloxy group , Telocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group Thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, Acylureido group, acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) Rufiniru group, a sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, phosphoric acid amide or a group containing a phosphoric acid ester structure and so forth. These substituents may be further substituted with these substituents.
[0089]
RED₁₁Are preferably alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, aryl group, aromatic or non-aromatic heterocyclic group, more preferably arylamino group (especially anilino group), aryl group (especially phenyl). Group). When these have a substituent, the substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an acylamino group, or a sulfonamide group.
However, RED₁₁When represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. Here, the “electron donating group” means a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an acylamino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an active methine group, and a nitrogen atom in the ring. 5-membered, monocyclic or condensed, electron-rich aromatic heterocyclic group (for example, indolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, thiazolyl group, benzthiazolyl group, indazolyl group) containing at least one, nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group (a group that can also be called a cyclic amino group such as a pyrrolidinyl group, an indolinyl group, a piperidinyl group, a piperazinyl group, or a morpholino group) substituted with an atom. Here, the active methine group means a methine group substituted by two “electron-withdrawing groups”, and the “electron-withdrawing group” means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, It means a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, or a carbonimidoyl group. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0090]
In general formula (A), L₁₁Is specifically a carboxy group or a salt thereof, a silyl group, a hydrogen atom, a triarylboron anion, a trialkylstannyl group, a trialkylgermyl group, or -CR_C1R_C2R_C3Represents a group. Here, the silyl group specifically represents a trialkylsilyl group, an aryldialkylsilyl group, a triarylsilyl group, or the like, and may have an arbitrary substituent.
[0091]
L₁₁When represents a salt of a carboxy group, examples of counter ions that form salts include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions, and the like, preferably alkali metal ions or ammonium ions. , Alkali metal ions (especially Li⁺, Na⁺, K⁺Ion) is most preferred.
[0092]
L₁₁-CR_C1R_C2R_C3When representing a group, here R_C1, R_C2, R_C3Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a hydroxy group. May be bonded to each other to form a cyclic structure, and may further have an arbitrary substituent. However, R_C1, R_C2, R_C3When one of them represents a hydrogen atom or an alkyl group, the remaining two do not represent a hydrogen atom or an alkyl group. R_C1, R_C2, R_C3Preferably, each independently represents an alkyl group, an aryl group (particularly a phenyl group), an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic group, an alkoxy group, or a hydroxy group. For example, phenyl group, p-dimethylaminophenyl group, p-methoxyphenyl group, 2,4-dimethoxyphenyl group, p-hydroxyphenyl group, methylthio group, phenylthio group, phenoxy group, methoxy group, ethoxy group, dimethylamino Group, N-methylanilino group, diphenylamino group, morpholino group, thiomorpholino group, hydroxy group and the like. Examples of the case where they are bonded to each other to form a cyclic structure include 1,3-dithiolan-2-yl group, 1,3-dithian-2-yl group, N-methyl-1,3-thiazolidine-2 -Yl group, N-benzyl-benzothiazolidin-2-yl group and the like.
-CR_C1R_C2R_C3The group is R_C1, R_C2, R_C3As a result of each selected within the above-mentioned range, the general formula (A) to L₁₁It is also preferred if it represents the same group as the residue excluding.
[0093]
In general formula (A), L₁₁Is preferably a carboxy group or a salt thereof, and a hydrogen atom. More preferably, it is a carboxy group or a salt thereof.
[0094]
L₁₁When represents a hydrogen atom, the compound represented by the general formula (A) preferably has a base moiety inherent in the molecule. After the compound represented by the general formula (A) is oxidized by the action of this base moiety,₁₁Is deprotonated, and further electrons are emitted therefrom.
[0095]
Here, the base is specifically a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 10. For example, nitrogen-containing heterocycles (pyridines, imidazoles, benzimidazoles, thiazoles, etc.), anilines, trialkylamines, amino groups, carbon acids (active methylene anions, etc.), thioacetic acid anions, carboxylates (- COO⁻), Sulfate (-SO₃ ⁻), Or amine oxide (> N⁺(O⁻)-) And the like. Preferably, it is a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 8, more preferably carboxylate, sulfate, or amine oxide, and particularly preferably carboxylate. When these bases have anions, they may have counter cations, examples of which include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions and the like. These bases are linked to the compound represented by the general formula (A) at an arbitrary position. The position at which these base sites are bonded includes RED of the general formula (A).₁₁, R₁₁₁, R₁₁₂Any of these may be sufficient, and you may connect with the substituent of these groups.
[0096]
R in the general formula (A)₁₁₂Represents a substituent substitutable on a hydrogen atom or a carbon atom. However, R₁₁₂Is L₁₁Does not represent the same group.
R₁₁₂Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group (such as a phenyl group), an alkoxy group (such as a methoxy group, an ethoxy group, and a benzyloxy group), a hydroxy group, an alkylthio group (such as a methylthio group and a butylthio group), an amino group, and an alkyl group An amino group, an arylamino group and a heterocyclic amino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a phenyl group and an alkylamino group.
[0097]
R in the general formula (A)₁₁₁Is a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including aromatic heterocycle), where the hydro form is an aromatic A ring structure in which a carbon-carbon double bond (or carbon-nitrogen double bond) in a ring (including an aromatic heterocycle) is partially hydrogenated means a tetrahydro form, and two tetrahydro forms are hexahydro forms The three and octahydro forms mean a structure in which four carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds) are hydrogenated. By being hydrogenated, the aromatic ring becomes a partially hydrogenated non-aromatic ring structure.
Specifically, pyrrolidine ring, imidazolidine ring, thiazolidine ring, pyrazolidine ring and oxazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetralin ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, And tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring, octahydrophenanthridine ring and the like. These ring structures may have an arbitrary substituent.
[0098]
R₁₁₁More preferably, the cyclic structure formed by pyrrolidine ring, imidazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring Particularly preferred are pyrrolidine ring, piperidine ring, piperazine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, most preferably pyrrolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring. , Tetrahydroquinoline ring and tetrahydroisoquinoline ring.
[0099]
In the general formula (B), RED₁₂, L₁₂Are respectively RED of the general formula (A)₁₁, L₁₁The preferred range is also the same. However, RED₁₂Is a monovalent group except when it forms the following cyclic structure, specifically RED.₁₁And monovalent group names described in the above. R₁₂₁And R₁₂₂Is R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. ED₁₂Represents an electron donating group. R₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₁And R₁₂₂Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0100]
ED in general formula (B)₁₂The electron donating group represented by RED₁₁Is the same as the electron-donating group described as the substituent for when A represents an aryl group. ED₁₂Preferably a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group, an arylamino group, an active methine group, a 5-membered monocyclic or condensed ring electron containing at least one nitrogen atom in the ring An excess aromatic heterocyclic group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and a phenyl group substituted with these electron donating groups, and further a hydroxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group Group, arylamino group, active methine group, non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with nitrogen atom, and phenyl group substituted with these electron donating groups (for example, p-hydroxyphenyl group, p-dialkylaminophenyl group) , O, p-dialkoxyphenyl group, etc.) are more preferable.
[0101]
R in the general formula (B)₁₂₁And RED₁₂, R₁₂₂And R₁₂₁Or ED₁₂And RED₁₂And may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed here is a non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed ring, and is a substituted or unsubstituted cyclic structure. R₁₂₁And RED₁₂When and form a ring structure, specific examples thereof include R in general formula (A).₁₁₁In addition to those listed as examples of the cyclic structure formed by pyrrole, imidazoline, thiazoline, pyrazoline, oxazoline, indane, morpholine, indoline, tetrahydro-1,4-oxazine, 2, 3-dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, tetrahydro-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 2,3-dihydrobenzothiophene A ring etc. are mentioned. ED₁₂And RED₁₂And form a ring structure, ED₁₂Preferably represents an amino group, an alkylamino group, or an arylamino group, and specific examples of the ring structure formed include a tetrahydropyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydroquinoxaline ring, and a tetrahydroisoquinoline ring. R₁₂₂And R₁₂₁When and form a ring structure, specific examples thereof include a cyclohexane ring and a cyclopentane ring.
[0102]
Next, general formulas (1) to (3) will be described.
In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁Is R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. L₁, L₂₁, L₃₁Is L in the general formula (A)₁₁Represents the same leaving group as the specific examples given in the description, and preferred ranges thereof are also the same. X₁, X₂₁As the substituent represented by the formula (A),₁₁Is the same as the example of the substituent when has a substituent, and the preferred range is also the same. m₁, M₂₁Is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.
[0103]
R_N1, R_N21, R_N31When represents a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and these may further have an arbitrary substituent. R_N1, R_N21, R_N31Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
[0104]
R₁₃, R₁₄, R₃₃, R_a, R_bWhen represents a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, alkoxy group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, alkylthio group. An arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, and the like.
[0105]
In general formula (1), Z₁The 6-membered ring formed by is a non-aromatic heterocycle condensed with the benzene ring of the general formula (1). Specifically, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring as a ring structure including the condensed benzene ring, A tetrahydroquinazoline ring, preferably a tetrahydroquinoline ring or a tetrahydroquinoxaline ring. These may have a substituent.
[0106]
ED in general formula (2)₂₁Is the ED of the general formula (B)₁₂The preferred range is also the same.
[0107]
In the general formula (2), R_N21, R₁₃, R₁₄, X₂₁And ED₂₁Any two of these may combine with each other to form a cyclic structure. Where R_N21And X₂₁The cyclic structure formed by bonding is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring condensed with a benzene ring. Specific examples thereof include a tetrahydroquinoline ring and a tetrahydroquinoxaline. A ring, an indoline ring, a 2,3-dihydro-5,6-benzo-1,4-thiazine ring, and the like. Preferred are a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring and an indoline ring.
[0108]
In the general formula (3), R_N31When represents a group other than an aryl group, R_aAnd R_bCombine with each other to form an aromatic ring. Here, the aromatic ring is an aryl group (for example, a phenyl group or a naphthyl group) and an aromatic heterocyclic group (for example, a pyridine ring group, a pyrrole ring group, a quinoline ring group, or an indole ring group), and an aryl group is preferable. The aromatic ring group may have an arbitrary substituent.
In the general formula (3), R_aAnd R_bAre preferably bonded to each other to form an aromatic ring (particularly a phenyl group).
[0109]
In the general formula (3), R₃₂Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, an amino group, etc., where R₃₂When R represents a hydroxy group,₃₃The case where represents an “electron-withdrawing group” is also a preferred example. Here, the “electron withdrawing group” is the same as described above, and an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a cyano group are preferable.
[0110]
Next, the type 2 compound will be described.
In the type 2 compound, “bond cleavage reaction” means carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, carbon-germanium bond cleavage, and carbon-hydrogen. This may be accompanied by cleavage of the bond.
[0111]
The type 2 compound is a compound having two or more (preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4) adsorptive groups to silver halide in the molecule. More preferred is a compound having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group. The number of adsorptive groups is preferably 2-6, more preferably 2-4. The adsorptive group will be described later.
[0112]
A preferable compound among the compounds of type 2 is represented by the general formula (C).
[0113]
General formula (C)
[Chemical 8]

[0114]
The compound represented by the general formula (C) is RED₂After the reducing group represented by₂It is a compound that can release one more electron with this by leaving the group by bond cleavage reaction.
[0115]
In the general formula (C), RED₂Is the RED of the general formula (B)₁₂Represents the same group, and the preferred range is also the same. L₂Is L in the general formula (A)₁₁Represents the same group as described above, and its preferred range is also the same. L₂When represents a silyl group, the compound is a compound having, as an adsorptive group, a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups in the molecule. R₂₁, R₂₂Represents a hydrogen atom or a substituent, and these are R in the general formula (A)₁₁₂The preferred range is also the same. RED₂And R₂₁And may be bonded to each other to form a ring structure.
[0116]
The ring structure formed here is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed, non-aromatic carbocycle or heterocycle, which may have a substituent. However, the ring structure is not a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle. The ring structure is preferably a ring structure corresponding to a dihydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and specific examples thereof include, for example, a 2-pyrroline ring, a 2-imidazoline ring, a 2-thiazoline ring, 1,2- Dihydropyridine ring, 1,4-dihydropyridine ring, indoline ring, benzimidazoline ring, benzothiazoline ring, benzoxazoline ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, benzo-α-pyran ring, 1 , 2-dihydroquinoline ring, 1,2-dihydroquinazoline ring, 1,2-dihydroquinoxaline ring and the like, preferably 2-imidazoline ring, 2-thiazoline ring, indoline ring, benzoimidazoline ring, benzothiazoline ring, Benzoxazoline ring, 1,2-dihydropyridine ring, 1,2-dihydroquino Down ring, 1,2-dihydro-quinazoline ring, and the like 1,2-dihydro-quinoxaline ring, indoline ring, benzimidazoline ring, a benzothiazoline ring, 1,2-dihydroquinoline ring is more preferable, indoline ring is particularly preferred.
[0117]
Next, the compound of type 3 will be described.
In the type 3 compound, “bond formation process” means formation of an interatomic bond such as carbon-carbon, carbon-nitrogen, carbon-sulfur, carbon-oxygen and the like.
[0118]
The compound of type 3 is preferably a reactive group site (carbon-carbon double bond site, carbon-carbon triple bond site, fragrance) in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation coexists in the molecule. And a non-aromatic heterocyclic group part of a benzo-condensed ring) to form a bond and then emit one electron or more electrons.
[0119]
More specifically, a type 3 compound has a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation (a cation radical species or a neutral radical species produced by elimination of a proton therefrom) in the same molecule. It reacts with the coexisting reactive group, forms a bond, and generates a radical species having a new ring structure in the molecule. This radical species has a feature that electrons of the second electron are emitted directly or with elimination of protons.
And in some Type 3 compounds, the two-electron oxidant so produced is then subjected to a hydrolysis reaction in some cases, and in some cases tautomerization with direct proton transfer. There is a case in which one or more electrons, usually two or more electrons are emitted from the oxidization reaction. Alternatively, those having the ability to emit one or more electrons, usually two or more electrons, directly from a two-electron oxidant without going through such a tautomerization reaction are also included.
[0120]
The compound of type 3 is preferably represented by the general formula (D).
[0121]
Formula (D)
[Chemical 9]

[0122]
In general formula (D), RED₃Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, Y₃Is RED₃Represents a reactive group site that reacts after one-electron oxidation, specifically a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or a non-aromatic heterocycle of a benzo-fused ring An organic group containing a ring group site is represented. L₃Is RED₃And Y₃Represents a linking group for linking.
[0123]
RED₃Is the RED of the general formula (B)₁₂And is preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryloxy group, an arylthio group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group (particularly a nitrogen-containing heterocyclic group is preferred). And more preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group, and among these heterocyclic groups, a tetrahydroquinoline ring group, a tetrahydroquinoxaline ring group, a tetrahydroquinazoline ring Group, indoline ring group, indole ring group, carbazole ring group, phenoxazine ring group, phenothiazine ring group, benzothiazoline ring group, pyrrole ring group, imidazole ring group, thiazole ring group, benzimidazole ring group, benzimidazoline ring group, Benzothiazoline ring group, 3,4-methylenedioxyphenyl- - etc. yl group.
RED₃Particularly preferred are an arylamino group (particularly anilino group), an aryl group (particularly a phenyl group), and an aromatic or non-aromatic heterocyclic group.
[0124]
Where RED₃When represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. The “electron donating group” is the same as described above.
[0125]
RED₃When represents an aryl group, the substituent of the aryl group is more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an active methine group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocycle substituted with a nitrogen atom More preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an active methine group, and a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and most preferably an alkylamino group and a non-aromatic group substituted with a nitrogen atom. Nitrogen heterocyclic group.
[0126]
Y₃When the organic group containing a carbon-carbon double bond site represented by (for example, vinyl group) has a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, a phenyl group, an acyl group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, A carbamoyl group, an electron donating group, and the like. As the electron donating group, an alkoxy group, a hydroxy group (which may be protected with a silyl group, such as a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group, Phenylsilyloxy group, triethylsilyloxy group, phenyldimethylsilyloxy group, etc.), amino group, alkylamino group, arylamino group, sulfonamide group, active methine group, mercapto group, alkylthio group, and these electron donors It is a phenyl group having a functional group as a substituent.
[0127]
Here, when the organic group containing a carbon-carbon double bond site has a hydroxy group as a substituent, Y₃Is the partial structure on the right:> C₁= C₂(—OH) — is included, but this is tautomerized and the partial structure shown on the right:> C₁HC₂It may be (= O)-. In this case, the C₁It is also preferred that the substituent substituted for carbon is an electron withdrawing group, in which case Y₃Has a partial structure of “active methylene group” or “active methine group”. The electron withdrawing group that can give such a partial structure of the active methylene group or active methine group is the same as that described in the description of the above-mentioned “active methine group”.
[0128]
Y₃When the organic group containing a carbon-carbon triple bond site represented by (for example, ethynyl group) has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, a phenyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and an electron donating group. preferable.
[0129]
Y₃Represents an organic group containing an aromatic group, an aromatic group is preferably an aryl group having an electron donating group as a substituent (particularly a phenyl group is preferred) or an indole ring group, where the electron donating group is Preferred are a hydroxy group (which may be protected with a silyl group), an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an active methine group, a sulfonamide group and a mercapto group.
[0130]
Y₃Represents an organic group containing a non-aromatic heterocyclic group portion of a benzo-fused ring, preferably a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group that preferably has an aniline structure as a partial structure, for example, an indoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline ring group, 4-quinolone ring group and the like can be mentioned.
[0131]
Y₃More preferred as the reactive group represented by is an organic group containing a carbon-carbon double bond site, an aromatic group site, or a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group. More preferred are a carbon-carbon double bond site, a phenyl group having an electron donating group as a substituent, an indole ring group, and a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group having an aniline structure as a partial structure. Here, the carbon-carbon double bond site preferably has at least one electron donating group as a substituent.
[0132]
Y₃As a result of the selection of the reactive group represented by₃The case where it has the same partial structure as the reducing group represented by general formula (D) is also a preferred example of the compound represented by general formula (D).
[0133]
L₃RED₃And Y₃And specifically represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR._N-, -C (= O)-, -SO₂The group which consists of individual group of-, -SO-, -P (= O)-, or a combination of these groups is represented. R here_NRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. L₃The linking group represented by may have an arbitrary substituent. L₃The linking group represented by RED₃And Y₃In any position of the group represented by the formula (1), each of the hydrogen atoms may be linked to replace any one hydrogen atom.
L₃Preferred examples of are: a single bond, an alkylene group (particularly a methylene group, an ethylene group, a propylene group), an arylene group (particularly a phenylene group), a —C (═O) — group, an —O— group, an —NH— group, -N (alkyl group)-group and the bivalent coupling group which consists of a combination of these groups are mentioned.
[0134]
L₃The group represented by₃Cation radical species (X⁺.), Or a radical species (X.) generated from the proton withdrawn therefrom, and Y₃When the reactive group represented by the above reacts to form a bond, the atomic group involved in this reaction is L₃It is preferable that a 3-7 membered cyclic structure including can be formed. For this purpose, radical species (X⁺-Or X-), the reactive group represented by Y, and L are preferably connected by 3 to 7 atomic groups.
[0135]
Next, the type 4 compound will be described.
A compound of type 4 is a compound having a ring structure substituted with a reducing group, and after the reducing group is oxidized by one electron, one or more electrons are emitted along with the ring structure cleavage reaction. Compound. The ring structure cleavage reaction referred to here means one having the following form.
[0136]
[Chemical Formula 10]

[0137]
In the formula, compound a represents a type 4 compound. In compound a, D represents a reducing group, and X and Y represent atoms forming a bond that is cleaved after one-electron oxidation in the ring structure. First, the compound a is one-electron oxidized to produce a one-electron oxidant b. From this, the single bond of XX becomes a double bond, and at the same time, the bond of XY is cleaved to produce a ring-opened product c. Alternatively, a radical intermediate d may be generated from the one-electron oxidant b with proton desorption, and a ring-opening body e may be similarly generated therefrom. The compound of the present invention is characterized in that one or more electrons are subsequently released from the ring-opened product c or e thus produced.
[0138]
The ring structure possessed by the type 4 compound is a 3- to 7-membered carbocyclic or heterocyclic ring, and represents a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated non-aromatic ring. A saturated ring structure is preferable, and a 3-membered ring or 4-membered ring is more preferable. Preferred examples of the ring structure include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring, an aziridine ring, an azetidine ring, an episulfide ring, and a thietane ring. More preferred are a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring and an azetidine ring, and particularly preferred are a cyclopropane ring, a cyclobutane ring and an azetidine ring. The ring structure may have an arbitrary substituent.
[0139]
The compound of type 4 is preferably represented by the general formula (E) or (F).
[0140]
General formula (E)
Embedded image

[0141]
Formula (F)
Embedded image

[0142]
RED in general formula (E) and general formula (F)₄₁And RED₄₂Are respectively RED of the general formula (B)₁₂Represents a group having the same meaning, and the preferred range thereof is also the same. R₄₀~ R₄₄And R₄₅~ R₄₉Each represents a hydrogen atom or a substituent. In general formula (F), Z₄₂Is -CR₄₂₀R₄₂₁-, -NR₄₂₃-Represents-or -O-. R here₄₂₀, R₄₂₁Each represents a hydrogen atom or a substituent, and R₄₂₃Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
[0143]
R in general formula (E) and general formula (F)₄₀And R₄₅Preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R₄₁~ R₄₄And R₄₆~ R₄₉And preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an arylthio group, an alkylthio group, an acylamino group, or a sulfonamide group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. is there.
[0144]
R₄₁~ R₄₄In which at least one of these is a donor group and R₄₁And R₄₂Or R₄₃And R₄₄Are preferably electron withdrawing groups. More preferably R₄₁~ R₄₄This is a case where at least one of the above is a donor group. More preferably R₄₁~ R₄₄At least one of them is a donor group and R₄₁~ R₄₄In this case, the group that is not a donor group is a hydrogen atom or an alkyl group.
[0145]
The donor group mentioned here is an “electron-donating group” or an aryl group substituted with at least one “electron-donating group”. The donor group is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring electron-rich aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring, nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with an atom or a phenyl group substituted with at least one electron-donating group is used. More preferably, an alkylamino group, an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-excessive aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring (indole ring, pyrrole ring, carbazole ring, etc.) ), A phenyl group substituted with an electron donating group (such as a phenyl group substituted with three or more alkoxy groups, a phenyl group substituted with a hydroxy group, an alkylamino group, or an arylamino group). Particularly preferably an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-containing electron-rich aromatic heterocyclic group (especially a 3-indolyl group) or an electron-donating group containing at least one nitrogen atom in the ring. Used phenyl groups (particularly phenyl groups substituted by trialkoxyphenyl groups, alkylamino groups or arylamino groups).
[0146]
Z₄₂Preferably as -CR₄₂₀R₄₂₁-Or -NR₄₂₃-, More preferably -NR₄₂₃-. R₄₂₀, R₄₂₁Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acylamino group, or a sulfoneamino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R₄₂₃Preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aromatic heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
[0147]
R₄₀~ R₄₉And R₄₂₀, R₄₂₁, R₄₂₃When each of these groups is a substituent, the total number of carbon atoms is preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and particularly preferably 15 or less. These substituents may be bonded to each other or other sites in the molecule (RED₄₁, RED₄₂Or Z₄₂) To form a ring.
[0148]
In the compounds of types 1 to 4 of the present invention, the adsorptive group to silver halide is a group that directly adsorbs to silver halide or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, mercapto A heterocyclic group containing at least one atom selected from a group (or a salt thereof), a thione group (-C (= S)-), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom, a sulfide group, a cationic group, Or an ethynyl group. However, the type 2 compound of the present invention does not contain a sulfide group as an adsorptive group.
[0149]
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof). Or represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring group. , Benzthiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, triazine A cyclic group etc. are mentioned. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated into a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, Examples include a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group, a triazolium ring group, a tetrazolium ring group, a thiadiazolium ring group, a pyridinium ring group, a pyrimidinium ring group, and a triazinium ring group. Among them, a triazolium ring group (for example, 1,2,4- Triazolium-3-thiolate ring group) is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms. When the mercapto group forms a salt, the counter ion is a cation such as an alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (Li⁺, Na⁺, K⁺, Mg²⁺, Ag⁺, Zn²⁺And the like, ammonium ions, quaternized heterocyclic groups containing nitrogen atoms, phosphonium ions, and the like.
[0150]
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group, specifically, a thioamide group (here, —C (═S) —NH— group) and the thioamide group. A group having a partial structure of, ie, a chain or cyclic thioamide group, a thioureido group, a thiourethane group, or a dithiocarbamate group. Examples of cyclic groups include thiazolidine-2-thione group, oxazolidine-2-thione group, 2-thiohydantoin group, rhodanine group, isorhodanine group, thiobarbituric acid group, 2-thioxo-oxazolidine-4-one group Is mentioned.
[0151]
The thione group as an adsorptive group cannot be tautomerized to a mercapto group (including a hydrogen atom at the α-position of the thione group), including the case where the mercapto group described above is tautomerized into a thione group. A chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group is also included.
[0152]
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as the adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) and a partial structure of the heterocyclic ring A nitrogen-containing heterocyclic group, or a “—S—” group, a “—Se—” group, a “—Te—” group, or a “═N—” group that can coordinate to a silver ion via a coordination bond. A heterocyclic group having a ring partial structure. Examples of the former include benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, and purine group, and examples of the latter include thiophene. Group, thiazole group, oxazole group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, triazine group Seleno azole group, benzimidazole seleno azole group, tellurium azole group, such as benz tellurium azole group. The former is preferred.
[0153]
The sulfide group as the adsorptive group includes all groups having a partial structure of “—S—”, preferably alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S—. A group having a partial structure of alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S-aryl (or arylene). Furthermore, these sulfide groups may form a cyclic structure or may be an -S-S- group. Specific examples in the case of forming a cyclic structure include a thiolane ring, a 1,3-dithiolane ring or a 1,2-dithiolane ring, a thiane ring, a dithiane ring, a tetrahydro-1,4-thiazine ring (thiomorpholine ring) and the like. Groups. Particularly preferred as the sulfide group is a group having a partial structure of alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene).
[0154]
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. . However, the cationic group does not become a part of an atomic group forming a dye structure (for example, a cyanine chromophore). Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylarylammonio group, an alkyldiarylammonio group or the like, and examples thereof include a benzyldimethylammonio group, a trihexylammonio group, and a phenyldiethylammonio group. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like. A pyridinio group and an imidazolio group are preferable, and a pyridinio group is particularly preferable. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but in the case of a pyridinio group and an imidazolio group, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an acylamino group , A chloro atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and the like. In the case of a pyridinio group, a phenyl group is particularly preferable as a substituent.
[0155]
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and a hydrogen atom may be substituted.
The above adsorptive group may have an arbitrary substituent.
[0156]
Specific examples of the adsorptive group further include those described in pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355.
[0157]
Preferred as the adsorptive group in the present invention is a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1). , 3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group), or imino silver (> A nitrogen-containing heterocyclic group (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.) having a —NH— group that can form NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. Particularly preferred are 5-mercaptotetrazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and benzotriazole group, most preferred are 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -Mercaptotetrazole group.
[0158]
Of the compounds of the present invention, compounds having two or more mercapto groups as partial structures in the molecule are also particularly preferred compounds. Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized. Examples of such compounds include the above-described adsorptive groups having a mercapto group or thione group as a partial structure (for example, a ring-forming thioamide group, an alkyl mercapto group, an aryl mercapto group, a heterocyclic mercapto group, etc.) Or a compound having two or more mercapto groups or thione groups as a partial structure (for example, a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group), You may have one or more.
[0159]
Examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5 -Dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group, 2,5-dimercapto-1,3-oxazole group, 2,7-dimercapto-5-methyl-s- Triazolo (1,5-A) -pyrimidine, 2,6,8-trimercaptopurine, 6,8-dimercaptopurine, 3,5,7-trimercapto-s-triazolotriazine, 4,6-dimercapto And pyrazolopyrimidine, 2,5-dimercaptoimidazole, and the like. 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3, - dimercapto-1,2,4-triazole group are particularly preferred.
[0160]
The adsorptive group may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED₁₁, RED₁₂, RED₂, RED₃In the general formulas (E) and (F), RED₄₁, R₄₁, RED₄₂, R₄₆~ R₄₈In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁, L₁, L₂₁, L₃₁It is preferably substituted at any position except for RED, and RED in all of the general formulas (A) to (F)₁₁~ RED₄₂More preferably, it is substituted.
[0161]
The partial structure of the spectral sensitizing dye is a group containing a chromophore of the spectral sensitizing dye, and is a residue obtained by removing any hydrogen atom or substituent from the spectral sensitizing dye compound. The partial structure of the spectral sensitizing dye may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED₁₁, RED₁₂, RED₂, RED₃In the general formulas (E) and (F), RED₄₁, R₄₁, RED₄₂, R₄₆~ R₄₈In the general formulas (1) to (3), R₁, R₂, R₁₁, R₁₂, R₃₁, L₁, L₂₁, L₃₁It is preferably substituted at any position except for RED, and RED in all of the general formulas (A) to (F)₁₁~ RED₄₂More preferably, it is substituted. Preferred spectral sensitizing dyes are spectral sensitizing dyes typically used in color sensitization techniques such as cyanine dyes, complex cyanine dyes, merocyanine dyes, complex merocyanine dyes, homopolar cyanine dyes, Includes styryl dyes and hemicyanine dyes. Exemplary spectral sensitizing dyes are disclosed in Research Disclosure, Item 36544, September 1994. Research Disclosure or F.I. M.M. One of ordinary skill in the art can synthesize these dyes by the procedure described in Hammer's The Cyanines and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964). Further, all the dyes described in JP-A-11-95355 (US Pat. No. 6,054,260), pages 7 to 14 are applied as they are.
[0162]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention preferably have a total carbon number of 10 to 60. More preferably, it is 15-50, More preferably, it is 18-40, Most preferably, it is 18-30.
[0163]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention are subjected to 1-electron oxidation triggered by exposure of the silver halide photographic light-sensitive material using the compound, and after the subsequent reaction, further 1 electron, or 2 electrons or more depending on the type. Electrons are emitted and oxidized, and the oxidation potential of the first electron is preferably about 1.4 V or less, and more preferably 1.0 V or less. This oxidation potential is preferably higher than 0V, more preferably higher than 0.3V. Accordingly, the oxidation potential is preferably in the range of about 0 to about 1.4V, more preferably about 0.3 to about 1.0V.
[0164]
Here, the oxidation potential can be measured by a cyclic voltammetry technique. Specifically, a sample is dissolved in a solution of acetonitrile: water (including 0.1 M lithium perchlorate) = 80%: 20% (volume%). After bubbling nitrogen gas for 10 minutes, a glassy carbon disk was used as the working electrode, a platinum wire was used as the counter electrode, and a calomel electrode (SCE) was used as the reference electrode at 25 ° C. and 0.1 V / Measured at a potential scanning speed of seconds. The oxidation potential versus SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave.
[0165]
In the case where the compounds of types 1 to 4 of the present invention are one-electron oxidized and further emit one electron after the subsequent reaction, the subsequent oxidation potential is preferably −0.5 V to −2 V. More preferably, it is -0.7V--2V, More preferably, it is -0.9V--1.6V.
[0166]
In the case where the compound of types 1 to 4 of the present invention is a compound that is oxidized by one electron and emits two or more electrons after the subsequent reaction and is oxidized, there is no particular limitation on the oxidation potential of this latter stage. Absent. This is because the oxidation potential of the second electron and the oxidation potential of the third and subsequent electrons cannot be clearly distinguished, and it is often difficult to accurately measure and distinguish these actually.
[0167]
Next, the compound of type 5 will be described.
A compound of type 5 is represented by XY, where X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is This is a compound capable of releasing X by further elimination of Y with subsequent XY bond cleavage reaction to generate an X radical, from which another electron is emitted. The reaction when such a type 5 compound is oxidized can be represented by the following formula.
[0168]
Embedded image

[0169]
The compound of type 5 preferably has an oxidation potential of 0 to 1.4V, more preferably 0.3V to 1.0V. The oxidation potential of the radical X · generated in the above reaction formula is preferably −0.7 V to −2.0 V, more preferably −0.9 V to −1.6 V.
[0170]
The compound of type 5 is preferably represented by the general formula (G).
[0171]
General formula (G)
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[0172]
In general formula (G), RED₀Represents a reducing group, L₀Represents a leaving group, R₀And R₀₀Represents a hydrogen atom or a substituent. RED₀  And R₀And R₀And R₀₀And may be bonded to each other to form a ring structure. RED₀Is RED of general formula (C)₂Represents the same group, and the preferred range is also the same. R₀And R₀₀Is R in the general formula (C)₂₁And R₂₂The preferred range is also the same. However, R₀And R₀₀Except for the hydrogen atom, L₀Does not represent the same group as RED₀And R₀May be bonded to each other to form a ring structure, and examples of the ring structure include RED of the general formula (C).₂And R₂₁Examples are the same as in the case of linking to form a ring structure, and the preferred range is also the same. R₀And R₀₀Examples of the ring structure formed by bonding to each other include a cyclopentane ring and a tetrahydrofuran ring. In general formula (G), L₀Is L in the general formula (C)₂The preferred range is also the same.
[0173]
The compound represented by the general formula (G) preferably has an adsorbing group for silver halide or a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule.₀When represents a group other than a silyl group, it does not have two or more adsorptive groups in the molecule at the same time. However, the sulfide group as the adsorptive group here is L₀You may have two or more regardless of this.
[0174]
Examples of the adsorptive group to the silver halide of the compound represented by the general formula (G) include the same adsorptive groups that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. In addition, all those described as “silver halide adsorbing groups” on pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355 can be mentioned, and preferred ranges are also the same.
The partial structure of the spectral sensitizing dye that the compound represented by the general formula (G) may have is the partial structure of the spectral sensitizing dye that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. However, at the same time, all those described as “light-absorbing groups” on pages 7 to 14 of JP-A No. 11-95355 can be mentioned, and preferred ranges are also the same.
[0175]
Specific examples of the compounds of types 1 to 5 of the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.
[0176]
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[0177]
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[0178]
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[0179]
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[0180]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention are described in detail in Japanese Patent Application No. 2002-192373, Japanese Patent Application No. 2002-188537, Japanese Patent Application No. 2002-188536, Japanese Patent Application No. 2001-272137, and Japanese Patent Application No. 2002-192374, respectively. Same as described compound. Specific compound examples described in these patent application specifications can also be given as specific examples of the compounds of types 1 to 4 of the present invention. The synthesis examples of the compounds of types 1 to 4 of the present invention are also the same as those described in these patents.
[0181]
Specific examples of the compound of type 5 of the present invention are further described in JP-A-9-211769 (compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on pages 28-32), JP-A-9-21774. JP-A-11-95355 (compounds INV1-36), JP-T-2001-99696 (compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747, No. 236, European Patent No. 786692A1 (compounds INV1 to 35), European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051, etc. Examples of compounds referred to as “deprotonated electron donating sensitizers” are mentioned as they are.
[0182]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention may be used at any time during the process of producing a photothermographic material when preparing a photosensitive silver halide emulsion. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before coating, more preferably from the time of chemical sensitization Until before mixing with the non-photosensitive organic silver salt.
[0183]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is increased or decreased may be dissolved at a higher or lower pH and added.
[0184]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention are preferably used in emulsion layers containing a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt, but contain a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt. It may be added to the protective layer or intermediate layer together with the emulsion layer to be diffused during coating. The timing of addition of the compound of the present invention is preferably before or after the sensitizing dye, and preferably 1 × 10 5 per mole of silver halide.^-9~ 5x10^-1Mole, more preferably 1 × 10^-8~ 5x10^-2It is contained in the silver halide emulsion layer in a molar ratio.
[0185]
10) Combined use of multiple silver halides
[0186]
The light-sensitive silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, different halogen compositions, different crystal habits, chemical increase). Those with different feeling conditions) may be used in combination. The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. Examples of these technologies include JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841 and the like. Can be mentioned. The sensitivity difference is preferably 0.2 log E or more for each emulsion.
[0187]
11) Application amount
The amount of photosensitive silver halide added is 1m of photosensitive material.²Indicated by the amount of applied silver per unit,²Preferably, 0.05 to 0.4 g / m²More preferably, 0.07 to 0.3 g / m²The photosensitive silver halide is preferably 0.01 mol or more and 0.5 mol or less, more preferably 0.02 mol or more and 0.3 mol or less, with respect to 1 mol of the organic silver salt. More preferably, it is 0.03 mol or more and 0.2 mol or less.
[0188]
12) Method of mixing photosensitive silver halide and organic silver salt
Regarding the mixing method and mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the silver halide grains and organic silver salt that were prepared respectively were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer. Etc., or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide that has been prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt, etc., but the effect of the present invention is sufficient As long as it appears in, there is no particular limitation. Moreover, mixing two or more organic silver salt aqueous dispersions and two or more photosensitive silver salt aqueous dispersions when mixing is a preferred method for adjusting photographic characteristics.
[0189]
The preferred addition timing of the silver halide of the present invention to the image forming layer coating solution is from 180 minutes before coating to immediately before, preferably from 60 minutes to 10 seconds before coating. There is no particular limitation as long as the effect is sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method of using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's Koji Takahashi's “Liquid mixing technology” (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0190]
1-4. Reducing agent
The photothermographic material of the present invention preferably contains a heat developer which is a reducing agent for the organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance (preferably an organic substance) that reduces silver ions to metallic silver. Examples of such reducing agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraphs 0043 to 0045, and European Patent Publication No. 0803764A1, page 7, line 34 to page 18, line 12.
The preferred reducing agent used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (R), which will be described in detail.
[0191]
Formula (R)
Embedded image

[0192]
In general formula (R), R¹¹And R¹¹Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R¹²And R¹²Each independently represents a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on the benzene ring. L is a -S- group or -CHR.¹³-Represents a group. R¹³Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X¹And X¹Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
[0193]
Each substituent will be described in detail.
1) R¹¹And R¹¹’
R¹¹And R¹¹Each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the substituent of the alkyl group is not particularly limited, but is preferably an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group. Group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group, ester group, halogen atom and the like.
[0194]
2) R¹²And R¹²', X¹And X¹’
R¹²And R¹²Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
X¹And X¹Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. Preferred examples of each group that can be substituted on the benzene ring include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, and an acylamino group.
[0195]
3) L
L is a -S- group or -CHR.¹³-Represents a group. R¹³Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent.
R¹³Specific examples of the unsubstituted alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, undecyl group, isopropyl group, 1-ethylpentyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group and the like. .
[0196]
Examples of substituents for alkyl groups are R¹¹In the same manner as the above substituent, a halogen atom, alkoxy group, alkylthio group, aryloxy group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, oxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group and the like can be mentioned.
[0197]
4) Preferred substituents
R¹¹And R¹¹'Is preferably a secondary or tertiary alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, specifically, isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl. Group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like. R¹¹And R¹¹'Is more preferably a tertiary alkyl group having 4 to 12 carbon atoms, among which a t-butyl group, a t-amyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are more preferable, and a t-butyl group is most preferable.
[0198]
R¹²And R¹²'Is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, cyclohexyl group, 1-methyl group. Examples include cyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group and the like. More preferred are methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group and t-butyl group.
[0199]
X¹And X¹'Is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0200]
L is preferably -CHR¹³-Group.
[0201]
R¹³Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and the alkyl group is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, or a 2,4,4-trimethylpentyl group. R¹³Particularly preferred is a hydrogen atom, a methyl group, a propyl group or an isopropyl group.
[0202]
R¹³R is a hydrogen atom, R¹²And R¹²'Is preferably an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a propyl group, and most preferably an ethyl group.
[0203]
R¹³Is a primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R¹²And R¹²'Is preferably a methyl group. R¹³The primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or an isopropyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group or a propyl group.
[0204]
R¹¹, R¹¹'And R¹², R¹²When both are methyl groups,¹³Is preferably a secondary alkyl group. In this case, R¹³As the secondary alkyl group, isopropyl group, isobutyl group, and 1-ethylpentyl group are preferable, and isopropyl group is more preferable.
[0205]
The reducing agent is R¹¹, R¹¹'And R¹²And R¹²'And R¹³Depending on the combination, various heat development performances differ. Since these heat development performances can be adjusted by using two or more reducing agents in combination at various mixing ratios, it is preferable to use two or more reducing agents in combination depending on the purpose.
[0206]
Specific examples of the compound represented by the general formula (R) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0207]
Embedded image

[0208]
In the present invention, the reducing agent is added in an amount of 0.01 to 5.0 g / m.²Preferably, 0.1 to 3.0 g / m²More preferably, it is contained in an amount of 5 to 50% by mole, more preferably 10 to 40% by mole based on 1 mole of silver on the surface having the image forming layer.
[0209]
The reducing agent of the present invention can be added to an image forming layer containing an organic silver salt and a photosensitive silver halide and its adjacent layer, but it is more preferably contained in the image forming layer.
[0210]
The reducing agent of the present invention may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.
[0211]
A particularly preferable addition method is the above-described solid fine particle dispersion method. Preferably, it is added as fine particles having an average particle size of 0.01 μm to 10 μm, preferably 0.05 μm to 5 μm, more preferably 0.1 μm to 1 μm.
[0212]
1-5. Development accelerator
The development accelerator used in the photothermographic material of the present invention is compared with the case where the exposure amount necessary to give an image density = 1.0 is not added when 10% is added in a molar ratio to the main reducing agent. It is a compound that becomes 90% or less. Preferably, the compound has a molar ratio with respect to the main reducing agent of 5%, more preferably 2%, and 90% or less of the exposure amount necessary to give a density = 1.0 when not added. is there.
[0213]
As the development accelerator, any compound that accelerates development in thermal development can be used. A so-called reducing agent can be used.
Specifically, compounds such as p-aminophenols, p-phenylenediamines, sulfonamidophenols, phenidones, ascorbic acid, hydrazines, phenols, and naphthols can be used. Among them, sulfonamidophenols (for example, compounds represented by the general formula (1) described in JP-A-10-221806, compounds represented by the formula (A) described in JP-A 2000-267222), naphthol And hydrazines are preferred.
[0214]
A more preferred development accelerator of the present invention will be described.
More preferred development accelerators of the present invention are selected from phenol derivatives and hydrazine derivatives.
As a phenol derivative, the compound represented by the following general formula (P) or (Q) is preferable, More preferably, it is a compound represented by the following general formula (I), (III), and (IV).
As the hydrazine derivative, a compound represented by the following general formula (II) is preferable.
[0215]
Embedded image

(Where X_1aAnd X_2aEach independently represents a hydrogen atom or a substituent;^1a~ R^3aEach independently represents a hydrogen atom or a substituent. m and p each independently represents an integer of 0 to 4, and n represents an integer of 0 to 2. )
[0216]
Embedded image

(In the general formula (I), R¹Represents an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a heterocycle, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group or an alkynyl group, and X¹Represents an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group or a sulfamoyl group. Y¹~ Y⁵Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. )
(In the general formula (II), Q¹Is a carbon atom and NHNH-R^1bRepresents a 5- to 7-membered unsaturated ring bonded to R,^1bRepresents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group, or a sulfamoyl group. )
(In the general formula (III), R^1c, R^2c, R^3c, X^1cAnd X^2cEach independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituent bonded to the benzene ring by a carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom or phosphorus atom.
However, X^1c, X^2cAt least one of -NR⁴R⁵It is group represented by these. R⁴, R⁵Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or —C (═O) —R, —C (═O) —C (═O) —R, —SO₂-R, -SO-R, -P (= O) (R)₂Or it is group represented by -C (= NR ')-R. R and R 'are each independently a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, and an aryloxy group. These substituents may be bonded to each other to form a ring. )
(In the general formula (IV), X^1dRepresents a substituent and X^2d~ X^4dEach independently represents a hydrogen atom or a substituent. However, X^1d~ X^4dAnd is not a hydroxy group, X^3dIs not a sulfonamide group. X^1d~ X^4dMay be combined with each other to form a ring. R^1dRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group or an alkoxy group. )
[0217]
(Compounds represented by general formulas (P) and (Q))
In the general formulas (P) and (Q), X_1aAnd X_2aEach independently represents a hydrogen atom or a substituent.
[0218]
X_1aAnd X_2aAs examples of the substituent represented by formula (1), a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), an aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, still more preferably 6). -12, for example, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc.), an alkoxy group (preferably having a carbon number of 1-20, more preferably 1-12, still more preferably 1-8, for example, methoxy, ethoxy , Butoxy, etc.), an aryloxy group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16, more preferably 6 to 12, such as phenyloxy, 2-naphthyloxy, etc.), an alkylthio group (preferably C1-C20, More preferably, it is 1-16, More preferably, it is 1-12, for example, methylthio, ethylthio, butyl O), an arylthio group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms such as phenylthio, naphthylthio, etc.), an acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, More preferably, it is 2-16, More preferably, it is 2-10, for example, acetoxy, benzoyloxy etc., acylamino group (preferably C2-C20, more preferably 2-16, still more preferably 2-10) Yes, for example, N-methylacetylamino, benzoylamino and the like, sulfonylamino groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 and even more preferably 1 to 12, such as methanesulfonylamino and benzene Sulfonylamino and the like), a carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 6, more preferably 1 to 12, for example, carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, etc.), acyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12, for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16, more preferably 2 to 12, such as methoxycarbonyl Etc.), sulfo group, sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12, such as mesyl, tosyl, etc.), sulfonyloxy group (preferably having 1 carbon atom). To 20, more preferably 1 to 16, still more preferably 1 to 12, for example, methanesulfonylo And azo group, heterocyclic group, heterocyclic mercapto group, cyano group and the like.
[0219]
The heterocyclic group here means a saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, pyridyl group, quinolyl group, quinoxalinyl group, pyrazinyl group, benzotriazolyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, tetrazolyl group. Group, hydantoin-1-yl group, succinimide group, phthalimide group and the like.
[0220]
X in general formula (P) or general formula (Q)_1aAnd X_2aThe substituent represented by is more preferably an alkoxy group or an aryloxy group. X_1aAnd X_2aThe substituent represented by may be further substituted with another substituent, and may be any generally known substituent as long as it does not deteriorate the photographic performance.
[0221]
In the general formulas (P) and (Q), R^1a~ R^3aEach independently represents a hydrogen atom or a substituent.
m and p each independently represents an integer of 0 to 4, and n represents an integer of 0 to 2.
[0222]
R^1a~ R^3aAny substituent may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a linear, branched, cyclic or a combination thereof (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably Are 1 to 13, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, sec-butyl, tert-butyl, tert-octyl, n-amyl, tert-amyl, n-dodecyl, n-tridecyl, cyclohexyl, etc.) An alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms such as vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), an aryl group (preferably carbon Formula 6-30, More preferably, it is 6-20, More preferably, it is 6-12, for example, phenyl, p- Tilphenyl, naphthyl and the like), an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12, such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (preferably Has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy, 2-naphthyloxy, and the like, and an acyloxy group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 carbon atoms). -16, more preferably 2-12, for example, acetoxy, benzoyloxy, etc.), amino group (preferably 0-20 carbon atoms, more preferably 1-16, still more preferably 1-12, Dimethylamino group, diethylamino group, dibutylamino group, anilino group, etc.), acylamino group (preferably charcoal) The number is 2 to 20, more preferably 2 to 16, and further preferably 2 to 13. For example, acetylamino, tridecanoylamino, benzoylamino, etc.), a sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably Is 1 to 16, more preferably 1 to 12, for example, methanesulfonylamino, butanesulfonylamino, benzenesulfonylamino and the like, and a ureido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably Are 1-12, for example, ureido, methylureido, phenylureido, etc.), carbamate groups (preferably having 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16, still more preferably 2-12, for example, methoxycarbonyl Amino, phenyloxycarbonylamino, etc.), carboxyl group, carbamo An yl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably 1 to 12 carbon atoms such as carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, etc.), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl, etc.), an acyl group (preferably having 2 to 2 carbon atoms). 20, More preferably, it is 2-16, More preferably, it is 2-12, for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl etc., a sulfo group, a sulfonyl group (preferably C1-C20, more preferably 1-16) And more preferably 1 to 12, for example, mesyl, tosyl, etc.), sulfa An yl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, still more preferably 0 to 12 carbon atoms such as sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), a cyano group , A nitro group, a hydroxyl group, a mercapto group, an alkylthio group (preferably having a carbon number of 1-20, more preferably 1-16, still more preferably 1-12, such as methylthio, butylthio, etc.), a heterocyclic group (preferably Has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include pyridyl, imidazolyl, pyrrolidyl and the like.
These substituents may be further substituted with other substituents.
[0223]
R^1a~ R^3aAmong the above, preferred as the substituent represented by halogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, anilino group, acylamino group, sulfonylamino group, carboxyl group, carbamoyl group, An acyl group, a sulfo group, a sulfonyl group, a sulfamoyl group, a cyano group, a hydroxyl group, a mercapto group, an alkylthio group, and a heterocyclic group.
[0224]
The compound represented by the general formula (P) has a carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably 1 to 12 carbon atoms) at the 2-position, for example, carbamoyl, N, N -Diethylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (2-chlorophenyl) carbamoyl, N- (4-chlorophenyl) carbamoyl N- (2,4-dichlorophenyl) carbamoyl, N- (3,4-dichlorophenyl) ) Carbamoyl, etc., and an arylcarbamoyl group (preferably having a carbon number of 7 to 20, more preferably 7 to 16, more preferably 7 to 12, such as N-phenylcarbamoyl, N- (2-chlorophenyl) carbamoyl, N- (4-chlorophenyl) cal It is particularly preferable to have (Vamoyl N- (2,4-dichlorophenyl) carbamoyl, N- (3,4-dichlorophenyl) carbamoyl, etc.).
[0225]
Examples of the compound represented by the general formula (P) or (Q) include compounds represented by the general formulas (I), (III), and (IV).
[0226]
(Compound represented by formula (I))
The development accelerator represented by formula (I) will be described.
[0227]
Embedded image

[0228]
In general formula (I), R¹Represents an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or an alkynyl group.
R¹Is preferably a linear, branched, cyclic or a combination thereof having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and still more preferably 1 to 13 carbon atoms. For example, methyl, Ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-octyl, i-octyl, n-amyl, t-amyl, n-decyl, n-dodecyl, Examples thereof include n-tridecyl, benzyl, phenethyl and the like.
[0229]
R¹Is preferably 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms. For example, phenyl, 4-methylphenyl, 2-chlorophenyl, 4-chlorophenyl, 2 , 4-dichlorophenyl, 3,4-dichlorophenyl, 2-methoxyphenyl, 4-methoxyphenyl, 4-hexyloxyphenyl, 2-dodecyloxyphenyl, naphthyl and the like.
[0230]
R¹Is preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, and a cyclohexenyl group. And so on.
R¹Is preferably 2-30 carbon atoms, more preferably 2-20 carbon atoms, still more preferably 2-12 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group and a propynyl group.
[0231]
R¹May further have a substituent. Examples of preferred substituents include Y of the compound of the general formula (I) described later.¹~ Y⁵The group represented by these can be mentioned.
R¹More preferably represents an alkyl group or an aryl group, and particularly preferably represents an alkyl group.
[0232]
In the compound of general formula (I), X¹Represents an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group or a sulfamoyl group.
X¹Is preferably 2-20, more preferably 2-16, and even more preferably 2-12, such as acetyl, propionyl, butyryl, valeryl, hexanoyl, myristyl, palmitoyl, stearyl, Examples include oleyl, acryloyl, cyclohexanecarbonyl, benzoyl, formyl, pivaloyl and the like.
X¹Is preferably 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16 carbon atoms, still more preferably 2-12 carbon atoms, and examples thereof include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl, phenoxycarbonyl and the like. .
[0233]
X¹Is preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- Decylcarbamoyl, N-hexadecylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (2-chlorophenyl) carbamoyl, N- (4-chlorophenyl) carbamoyl, N- (2,4-dichlorophenyl) carbamoyl, N- (3,4 Dichlorophenyl) carbamoyl, N-pentachlorophenylcarbamoyl, N- (2-methoxyphenyl) carbamoyl, N- (4-methoxyphenyl) carbamoyl, N- (2,4-dimethoxyphenyl) carbamoyl, N- (2-dodecyloxy) Phenyl) carbamoyl, N- ( - dodecyloxyphenyl) carbamoyl, and the like.
[0234]
X¹Is preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl, ethanesulfonyl, cyclohexanesulfonyl, benzenesulfonyl, tosyl, 4-chlorobenzene. And sulfonyl.
X¹Is preferably 0-20, more preferably 0-16, and still more preferably 0-12. For example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl Etc.
[0235]
X¹May further have a substituent. Examples of preferred substituents include Y of the compound of the general formula (I) described later.¹~ Y⁵The group represented by these can be mentioned.
X¹Preferably represents a carbamoyl group, more preferably an alkylcarbamoyl group or an arylcarbamoyl group, and particularly preferably an arylcarbamoyl group.
[0236]
Y¹~ Y⁵Each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
Y¹~ Y⁵Any substituent may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a linear, branched, cyclic or a combination thereof (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably Are 1 to 13, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, sec-butyl, t-butyl, t-octyl, n-amyl, t-amyl, n-dodecyl, n-tridecyl, cyclohexyl, etc.) An alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms such as vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), an aryl group (preferably carbon The number is 6 to 30, more preferably 6 to 20, and still more preferably 6 to 12. For example, phenyl, p-methylphenyl, Til, etc.), an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12, such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (preferably carbon The number is 6 to 30, more preferably 6 to 20, and further preferably 6 to 12. For example, phenyloxy, 2-naphthyloxy and the like, acyloxy group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms). More preferably, it is 2-12, for example, acetoxy, benzoyloxy etc.), an amino group (preferably C0-20, more preferably 1-16, still more preferably 1-12, for example, dimethylamino Group, diethylamino group, dibutylamino group, anilino group, etc.), acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, and more) It is preferably 2 to 16, more preferably 2 to 13, for example, acetylamino, tridecanoylamino, benzoylamino, etc., a sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, More preferably, it is 1-12, for example, methanesulfonylamino, butanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc., a ureido group (preferably having 1-20 carbon atoms, more preferably 1-16, more preferably 1-12. Yes, for example, ureido, methylureido, phenylureido, etc.), carbamate groups (preferably having 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16, further preferably 2-12, such as methoxycarbonylamino, phenyloxycarbonyl Amino), carboxyl group, carbamoyl group (preferably C1-C20, More preferably, it is 1-16, More preferably, it is 1-12, for example, carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl etc.), alkoxycarbonyl groups (preferably Has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl, etc.), an acyl group (preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16, more preferably 2 to 12, for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), sulfo group, sulfonyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1) -12, for example, mesyl, tosyl, etc.), sulfamoyl group (preferably The number of carbon atoms is 0 to 20, more preferably 0 to 16, and still more preferably 0 to 12. For example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl etc.), cyano group, nitro group, hydroxyl Group, mercapto group, alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12, such as methylthio, butylthio, etc.), heterocyclic group (preferably having 2 to 2 carbon atoms). 20, more preferably 2 to 16, still more preferably 2 to 12, and examples thereof include pyridyl, imidazolyl, pyrrolidyl and the like.
These substituents may be further substituted with other substituents.
[0237]
Y¹~ Y⁵Among the above, preferred as the substituent represented by halogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, anilino group, acylamino group, sulfonylamino group, carboxyl group, carbamoyl group, An acyl group, a sulfo group, a sulfonyl group, a sulfamoyl group, a cyano group, a hydroxyl group, a mercapto group, an alkylthio group, and a heterocyclic group.
[0238]
In the compound represented by the general formula (I), R¹Is an alkyl group, X¹Is a carbamoyl group, Y¹~ Y⁵A combination in which is a hydrogen atom is preferred.
[0239]
Specific examples of the compound represented by the general formula (I) are shown below, but the compound used in the present invention is not limited by these specific examples.
[0240]
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[0241]
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[0242]
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[0243]
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[0244]
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[0245]
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[0246]
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[0247]
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[0248]
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[0249]
(Compound represented by formula (II))
The compound represented by formula (II) will be described.
[0250]
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[0251]
The compound represented by the general formula (II) is a developing agent collectively referred to as a hydrazine developing agent. Where Q¹Is a carbon atom and NHNH-R^1bRepresents a 5- to 7-membered unsaturated ring bonded to R,^1bRepresents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfonyl group or a sulfamoyl group.
[0252]
Q¹Preferred examples of the 5- to 7-membered unsaturated ring represented by benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, 1,2,4-triazine ring, 1,3,5-triazine ring Pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1 , 2,5-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring , Isoxazole ring, thiophene ring and the like, and condensed rings in which these rings are condensed with each other are also preferable.
[0253]
These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different.
Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and acyl groups.
When these substituents are substitutable groups, they may further have substituents. Examples of preferred substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, aryls. Sulfonamide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and acyloxy group Can be listed.
[0254]
R^1bIs preferably 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, unsubstituted carbamoyl, methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-sec- Butylcarbamoyl, N-octylcarbamoyl, N-cyclohexylcarbamoyl, N-tert-butylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl, N-octadecylcarbamoyl, N- {3- (2,4 -Tert-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) Carba Yl, N- naphthylcarbamoyl, N-3- pyridylcarbamoyl include N- benzylcarbamoyl.
[0255]
R^1bIs preferably 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as formyl, acetyl, 2-methylpropanoyl, cyclohexylcarbonyl, octanoyl, 2-hexyldecanoyl, Examples include dodecanoyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, and 2-hydroxymethylbenzoyl.
R^1bIs preferably 2 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, dodecyloxycarbonyl, benzyloxy And carbonyl.
[0256]
R^1bIs preferably 7 to 50 carbon atoms, more preferably 7 to 40 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl, 4-octyloxyphenoxycarbonyl, 2-hydroxymethylphenoxycarbonyl, 4- Dodecyloxyphenoxycarbonyl is mentioned.
R^1bIs preferably 1 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms. For example, methylsulfonyl, butylsulfonyl, octylsulfonyl, 2-hexadecylsulfonyl, 3-dodecyloxypropylsulfonyl 2-octyloxy-5-tert-octylphenylsulfonyl and 4-dodecyloxyphenylsulfonyl.
[0257]
R^1bIs preferably 0 to 50 carbon atoms, more preferably 6 to 40 carbon atoms, such as unsubstituted sulfamoyl, N-ethylsulfamoyl group, N- (2-ethylhexyl) sulfamoyl, N-decylsulfamoyl, N-hexadecylsulfamoyl, N- {3- (2-ethylhexyloxy) propyl} sulfamoyl, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) sulfamoyl, N- (2 -Tetradecyloxyphenyl) sulfamoyl.
R^1bIn the group represented by¹May have the groups mentioned as examples of the substituents of the 5- to 7-membered unsaturated ring represented by the formula (1), and when they have two or more substituents, these substituents are the same. Or different.
[0258]
Among the compounds represented by the general formula (II), Q¹Are preferably 5- or 6-membered unsaturated rings, more preferably Q¹Benzene ring, pyrimidine ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,3 , 4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, or a ring in which these rings are condensed with a benzene ring or an unsaturated heterocycle And particularly preferred is a quinazoline ring.
Q¹Preferably has at least one electron-withdrawing substituent. Preferred substituents include fluoroalkyl groups (for example, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, difluoro group). Methyl group, fluoromethyl group, heptafluoropropyl group, pentafluorophenyl group), cyano group, halogen atom (fluoro, chloro, bromo, iodo), acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group A particularly preferred substituent is a trifluoromethyl group.
R^1bIs preferably a carbamoyl group, particularly preferably R^1bIs -C = O-NH-R¹¹And a substituted carbamoyl group represented by:¹¹Represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group.
[0259]
Although the specific example of a compound represented by general formula (II) below is shown, the compound used for this invention is not limited by these specific examples.
[0260]
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[0261]
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[0276]
Synthesis of the reducing compound represented by the general formula (II) is disclosed in JP-A-9-152702, JP-A-8-286340, JP-A-9-152700, JP-A-9-152701, and JP-A-9-152703. It can implement according to the method as described in gazette and the 9-152704 gazette.
[0277]
The melting point of the reducing compound represented by the general formula (II) is preferably 250 ° C. or lower, more preferably 200 ° C.
[0278]
(Compound represented by formula (III))
The development accelerator represented by the general formula (III) will be described.
[0279]
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[0280]
R in the general formula (III)^1c, R^2c, R^3cEach independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituent bonded to the benzene ring by a carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom or phosphorus atom.
[0281]
Non-limiting examples of substituents attached to the benzene ring at a carbon atom include linear, branched or cyclic alkyl groups (eg, methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, tert-amyl). , 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl groups (for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl groups (for example, propargyl group, 3- Pentynyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl etc.), acyl group (eg, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl etc.), alkoxycarbonyl Groups (for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.). , Aryloxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl etc.), carbamoyl group (for example, carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl etc.), cyano group, carboxyl group, heterocyclic group (for example, 3-pyrazolyl group) Etc.).
[0282]
Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with an oxygen atom include a hydroxyl group, an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (for example, phenyloxy, 2-naphthyl). Oxy, etc.), heterocyclic oxy groups (for example, 4-pyridyloxy group and the like), acyloxy groups (for example, acetoxy, benzoyloxy and the like) and the like. Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with a nitrogen atom include an amino group (for example, amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, etc.), a nitro group, a hydrazino group, A heterocyclic group (for example, 1-imidazolyl, morpholyl and the like), an acylamino group (for example, acetylamino, benzoylamino and the like), an alkoxycarbonylamino group (for example, methoxycarbonylamino and the like) can be mentioned. ), Aryloxycarbonylamino groups (for example, phenyloxycarbonylamino and the like), sulfonylamino groups (for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino and the like), sulfamoyl groups (for example, sulfamoyl, methyl) Sulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), ureido groups (for example, ureido, methylureido, phenylureido, etc.), phosphorylamino groups (for example, diethylphosphorylamino, etc.) ) And imide groups (for example, succinimide, phthalimide, trifluoromethanesulfonimide, etc.).
[0283]
Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with a sulfur atom include a mercapto group, a disulfide group, a sulfo group, a sulfino group, a sulfonylthio group, a thiosulfonyl group, an alkylthio group (for example, methylthio, ethylthio, etc.). ), Arylthio groups (for example, phenylthio and the like), sulfonyl groups (for example, mesyl, tosyl, phenylsulfonyl and the like), sulfinyl groups (for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like). ), A heterocyclic thio group (for example, a 2-imidazolylthio group, etc.). Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring by a phosphorus atom include a phosphate group (for example, diethyl phosphate, diphenyl phosphate, etc.).
[0284]
R^1c, R^2c, R^3cPreferred are hydrogen atom, halogen atom, linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, heterocyclic group, hydroxyl group, alkoxy group, Aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, amino group, nitro group, heterocyclic group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, imide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido Groups, mercapto groups, disulfide groups, sulfo groups, sulfino groups, alkylthio groups, arylthio groups, sulfonyl groups, sulfinyl groups, heterocyclic thio groups, and the like.
[0285]
R^1c, R^2c, R^3cAnd more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, heterocyclic group, hydroxyl group, alkoxy group , Aryloxy group, acyloxy group, amino group, nitro group, heterocyclic group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, imide group, carbamoyl group, mercapto group, sulfo group, alkylthio group , An arylthio group and a sulfonyl group.
[0286]
R^1c, R^2c, R^3cParticularly preferred are hydrogen atom, halogen atom, linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonyl. An amino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, a carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group.
[0287]
X^1c, X^2cRepresents a hydrogen atom; a halogen atom; or a substituent bonded to the benzene ring by a carbon atom, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom or phosphorus atom.
[0288]
Non-limiting examples of substituents attached to the benzene ring at a carbon atom include linear, branched or cyclic alkyl groups (eg, methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, tert-amyl). , 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl groups (for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl groups (for example, propargyl group, 3- Pentynyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl etc.), acyl group (eg, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl etc.), alkoxycarbonyl Groups (for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.). , Aryloxycarbonyl groups (for example, phenoxycarbonyl and the like), cyano groups, carboxyl groups, heterocyclic groups (for example, 3-pyrazolyl group and the like), carbamoyl groups (carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.) And the like.
[0289]
Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with an oxygen atom include a hydroxyl group, an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (for example, phenyloxy, 2-naphthyl). Oxy, etc.), heterocyclic oxy groups (for example, 4-pyridyloxy group and the like), acyloxy groups (for example, acetoxy, benzoyloxy and the like) and the like.
[0290]
Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with a nitrogen atom include an amino group (for example, amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, etc.), a nitro group, a hydroxamum group, A hydrazino group, a heterocyclic group (eg, 1-imidazolyl, morpholyl, etc.), an acylamino group (eg, acetylamino, benzoylamino, etc.), an alkoxycarbonylamino group (eg, methoxycarbonylamino, etc.) ), Aryloxycarbonylamino groups (for example, phenyloxycarbonylamino and the like), sulfonylamino groups (for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino and the like), sulfamoyl groups (for example, sulfamoyl group). Amoiru, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, and the like phenylsulfamoyl.), Phosphorylamino group (e.g., diethyl phosphoryl amino, and the like.), And the like.
[0291]
Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with a sulfur atom include a mercapto group, a disulfide group, a sulfo group, a sulfino group, a sulfonylthio group, a thiosulfonyl group, an alkylthio group (for example, methylthio, ethylthio, etc.). ), Arylthio groups (for example, phenylthio and the like), sulfonyl groups (for example, mesyl, tosyl, phenylsulfonyl and the like), sulfinyl groups (for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like). ), A heterocyclic thio group (for example, a 2-imidazolylthio group, etc.).
Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring by a phosphorus atom include a phosphate group (for example, diethyl phosphate, diphenyl phosphate, etc.).
[0292]
X^1c, X^2cPreferred are hydrogen atom, halogen atom, linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, heterocyclic group, hydroxyl group, alkoxy group, Aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, amino group, nitro group, heterocyclic group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, imide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido Groups, mercapto groups, disulfide groups, sulfo groups, alkylthio groups, arylthio groups, sulfonyl groups, heterocyclic thio groups, and the like.
[0293]
X^1c, X^2cAnd more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group An acyloxy group, an amino group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, an imide group, a carbamoyl group, a sulfo group, and an arylsulfonyl group.
[0294]
X^1c, X^2cParticularly preferred are hydrogen atom, halogen atom, linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy A group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, a carbamoyl group, a mercapto group, and an alkylthio group.
[0295]
X^1c, X^2cAt least one of -NR⁴R⁵It is group represented by these. R⁴, R⁵Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or —C (═O) —R, —C (═O) —C (═O) —R, —SO₂-R, -SO-R, -P (= O) (R)₂, -C (= NR ')-R. R and R ′ are each independently a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, and an aryloxy group.
[0296]
R⁴, R⁵Are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, these include, for example, a linear, branched or cyclic alkyl group (for example, methyl, ethyl, iso-propyl, tert -Butyl, n-octyl, tert-amyl, 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl groups (for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), Alkynyl groups (for example, propargyl group, 3-pentenyl group, etc.), aryl groups (for example, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic groups (for example, 2-imidazolyl, 1 -A pyrazolyl group etc. are mentioned).
[0297]
R⁴, R⁵-C (= O) -R, -C (= O) -C (= O) -R, -SO₂-R, -SO-R, -P (= O) (R)₂, —C (═NR ′) — R, R and R ′ are each independently a hydrogen atom, an alkyl group (for example, methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n -Octyl, tert-amyl, 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, etc.), aryl groups (eg, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl etc.), heterocyclic groups (eg, 4-pyridyl) , 2-thienyl, 1-methyl-2-pyrrolyl and the like), amino group (for example, amino, dimethylamino, diphenylamino, phenylamino, 2-pyridylamino and the like), alkoxy group (for example, methoxy, Ethoxy, cyclohexyloxy and the like), aryloxy groups (for example, phenoxy, 2-naphthyl) Alkoxy, and the like) representing the like.
[0298]
R⁴, R⁵And preferred are a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group and a sulfinyl group.
R⁴, R⁵And more preferably a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, an aryl group, an acyl group, and a sulfonyl group. A particularly preferred combination is R.⁴, R⁵One of these is a hydrogen atom, and the other is an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group.
[0299]
These substituents may be further substituted with a substituent as described above. Moreover, if these substituents have a hydrogen atom with high acidity, the proton may dissociate to form a salt. As the counter cation, a metal ion, an ammonium ion, or a phosphonium ion is used. The state in which active hydrogen is dissociated in this way can be an effective countermeasure for cases where volatility during development of the compound becomes a problem.
R^1c, R^2c, R^3c, X^1cAnd X^2cMay be bonded to each other to form a ring.
[0300]
When one molecule of the compound represented by the general formula (III) has only one phenol structure, the total number of carbon atoms of the substituent is preferably 1 to 200, more preferably 1 to 150, The number is preferably 1 to 100. However, this is not the case when a plurality of the phenol structures are bonded to the polymer chain, and the average molecular weight of the whole polymer is 500,000 or less. In addition, compounds such as bis-forms and tris-forms bonded by a linking group having 1 to 100 carbon atoms are also effective. Increasing the molecular weight as described above can be an effective countermeasure for cases where volatility during development of a compound becomes a problem.
[0301]
Specific examples of the reducing compound represented by the general formula (III) are shown below, but the compounds used in the present invention are not limited to these specific examples.
[0302]
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[0303]
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[0310]
(Compound represented by general formula (IV))
The development accelerator represented by the general formula (IV) will be described.
[0311]
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[0312]
In general formula (IV), X^1dRepresents a substitutable substituent on the benzene ring (not a hydrogen atom). However, X^1dIs not a hydroxyl group.
Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group (including a cycloalkyl group and a bicycloalkyl group), an alkenyl group (including a cycloalkenyl group and a bicycloalkenyl group), an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and a cyano group. Group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxy Carbonylamino, aryloxycarbonylamino, sulfamoylamino, alkyl and arylsulfonylamino, mercapto, alkylthio, arylthio, heterocyclic thio, sulfamoyl, sulfo, Kill and arylsulfinyl groups, alkyl and arylsulfonyl groups, acyl groups, aryloxycarbonyl groups, alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, aryl and heterocyclic azo groups, imide groups, phosphino groups, phosphinyl groups, phosphinyloxy groups, phosphine groups Examples include a finylamino group and a silyl group.
[0313]
More specifically, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), an alkyl group [represents a linear, branched, or cyclic substituted or unsubstituted alkyl group. They are alkyl groups (preferably alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, n-octyl group, eicosyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-ethylhexyl group), cycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as cyclohexyl group, cyclopentyl group, 4-n-dodecylcyclohexyl group), Bicycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a bicycloalkane having 5 to 30 carbon atoms. For example, bicyclo [ 1,2,2] heptan-2-yl group, bicyclo [2,2,2] octane-3-yl group), It is intended to encompass such tricyclo structure having many cyclic structures into. An alkyl group (for example, an alkyl group of an alkylthio group) in the substituents described below also represents such an alkyl group. ], An alkenyl group [represents a linear, branched or cyclic substituted or unsubstituted alkenyl group. They are an alkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as a vinyl group, an allyl group, a prenyl group, a geranyl group, an oleyl group), a cycloalkenyl group (preferably a carbon number of 3 A substituted or unsubstituted cycloalkenyl group having ˜30, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms, such as a 2-cyclopenten-1-yl group and 2-cyclohexene -1-yl group), a bicycloalkenyl group (substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group, preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a hydrogen atom of a bicycloalkene having one double bond. A monovalent group, for example, a bicyclo [2,2,1] hept-2-en-1-yl group, It is intended to include cycloalkyl [2,2,2] oct-2-en-4-yl group). An alkynyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as an ethynyl group, a propargyl group, a trimethylsilylethynyl group, an aryl group (preferably a substituted or unsubstituted group having 6 to 30 carbon atoms). An aryl group such as a phenyl group, a p-tolyl group, a naphthyl group, an m-chlorophenyl group, an o-hexadecanoylaminophenyl group), a heterocyclic group (preferably a 5- or 6-membered substituted or unsubstituted aromatic or It is a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a non-aromatic heterocyclic compound, and more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms. Furyl, 2-thienyl, 2-bilimidinyl, 2-benzothiazolyl), cyano, nitro, carboxyl, alkoxy (Preferably, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, for example, methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group, n-octyloxy group, 2-methoxyethoxy group), aryloxy A group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-tert-butylphenoxy group, 3-nitrophenoxy group, 2-tetradecanoyl group; An aminophenoxy group), a silyloxy group (preferably a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, such as a trimethylsilyloxy group or a tert-butyldimethylsilyloxy group), a heterocyclic oxy group (preferably a substitution having 2 to 30 carbon atoms) Or an unsubstituted heterocyclic oxy group, 1-phenyltetrazole-5- Xyl group, 2-tetrahydropyranyloxy group), acyloxy group (preferably formyloxy group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 6 to 30 carbon atoms) Oxy groups such as formyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy group, benzoyloxy group, p-methoxyphenylcarbonyloxy group), carbamoyloxy group (preferably substituted or unsubstituted having 1 to 30 carbon atoms) Carbamoyloxy groups such as N, N-dimethylcarbamoyloxy group, N, N-diethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N, N-di-n-octylaminocarbonyloxy group, Nn-octylcarbamoyl Oxy group), Arco A xoxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, a tert-butoxycarbonyloxy group, an n-octylcarbonyloxy group), an aryl An oxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy group having 7 to 30 carbon atoms such as phenoxycarbonyloxy group, p-methoxyphenoxycarbonyloxy group, pn-hexadecyloxyphenoxycarbonyloxy Group), acylamino group (preferably formylamino group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, for example, , Formylamino group, acetylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino group, benzoylamino group, 3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino group), aminocarbonylamino group (preferably having 1 to 1 carbon atoms) 30 substituted or unsubstituted aminocarbonylamino groups, for example, carbamoylamino group, N, N-dimethylaminocarbonylamino group, N, N-diethylaminocarbonylamino group, morpholinocarbonylamino group), alkoxycarbonylamino group (preferably A substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, such as a methoxycarbonylamino group, an ethoxycarbonylamino group, a tert-butoxycarbonylamino group, an n-octadecyloxycarbonylamino group, an N-methyl group; Ru-methoxycarbonylamino group), aryloxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonylamino group, p-chlorophenoxycarbonylamino group, m -N-octyloxyphenoxycarbonylamino group), sulfamoylamino group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms, such as sulfamoylamino group, N, N-dimethyl Aminosulfonylamino group, Nn-octylaminosulfonylamino group), alkyl and arylsulfonylamino groups (preferably substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino groups having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted groups having 6 to 30 carbon atoms) Substituted arylsulfonyl An amino group, such as a methylsulfonylamino group, a butylsulfonylamino group, a phenylsulfonylamino group, a 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino group, a p-methylphenylsulfonylamino group, a mercapto group, an alkylthio group (preferably, C1-C30 substituted or unsubstituted alkylthio group such as methylthio group, ethylthio group, n-hexadecylthio group), arylthio group (preferably C6-C30 substituted or unsubstituted arylthio group such as phenylthio group) , P-chlorophenylthio group, m-methoxyphenylthio group), heterocyclic thio group (preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic thio group having 2 to 30 carbon atoms, such as 2-benzothiazolylthio group, 1- Phenyltetrazol-5-ylthio group), sulfamo (Preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, such as N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group) N-acetylsulfamoyl group, N-benzoylsulfamoyl group, N- (N′-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group), sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms substituted or Unsubstituted alkylsulfinyl groups, 6-30 substituted or unsubstituted arylsulfinyl groups such as methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, p-methylphenylsulfinyl group), alkyl and arylsulfonyl groups (preferably , Substitution of 1 to 30 carbon atoms or A substituted alkylsulfonyl group, 6-30 substituted or unsubstituted arylsulfonyl groups such as methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, p-methylphenylsulfonyl group), acyl group (preferably formyl group, carbon It is bonded to the carbonyl group by a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted carbon atom having 4 to 30 carbon atoms. Heterocyclic carbonyl group, for example, acetyl group, pivaloyl group, 2-chloroacetyl group, stearoyl group, benzoyl group, pn-octyloxyphenylcarbonyl group, 2-pyridylcarbonyl group, 2-furylcarbonyl group), aryloxy A carbonyl group (preferably a substitution of 7 to 30 carbon atoms) Or an unsubstituted aryloxycarbonyl group such as phenoxycarbonyl group, o-chlorophenoxycarbonyl group, m-nitrophenoxycarbonyl group, p-tert-butylphenoxycarbonyl group), alkoxycarbonyl group (preferably having 2 carbon atoms). -30 substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, n-octadecyloxycarbonyl group), carbamoyl group (preferably substituted or unsubstituted having 1 to 30 carbon atoms) Substituted carbamoyl groups such as carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-di-n-octylcarbamoyl group, N- (methylsulfonyl) carbamoyl group), aryl and hete A cyclic azo group (preferably a substituted or unsubstituted arylazo group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocyclic azo group having 3 to 30 carbon atoms, such as a phenylazo group, a p-chlorophenylazo group, 5-ethylthio; -1,3,4-thiadiazol-2-ylazo group), imide group (preferably N-succinimide group, N-phthalimide group), phosphino group (preferably substituted or unsubstituted phosphino having 2 to 30 carbon atoms) Group such as dimethylphosphino group, diphenylphosphino group, methylphenoxyphosphino group), phosphinyl group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinyl group having 2 to 30 carbon atoms such as phosphinyl group, dioctyloxyphosphini Group, diethoxyphosphinyl group), phosphinyloxy group (preferably carbon A substituted or unsubstituted phosphinyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as a diphenoxyphosphinyloxy group or a dioctyloxyphosphinyloxy group, or a phosphinylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms) A substituted or unsubstituted phosphinylamino group such as a dimethoxyphosphinylamino group or a dimethylaminophosphinylamino group, a silyl group (preferably a substituted or unsubstituted silyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as , Trimethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, phenyldimethylsilyl group).
[0314]
X^1dPreferred examples of the substituent represented by formula (1) include a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, preferably chlorine atom, bromine atom), acylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably carbon. 1 to 14, particularly preferably 1 to 8, for example, formylamino group, acetylamino group, benzoylamino group, etc., alkyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, Particularly preferably, the number of carbon atoms is 1 to 8, for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, cyclohexyl group, etc., aryl group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, particularly preferably carbon number). 6 to 8, for example, phenyl group, naphthyl group, p-methylphenyl group, etc.), alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferred) Has 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methoxy group or an ethoxy group, and an aryloxy group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, particularly preferably carbon atoms). 6 to 8, for example, phenoxy group, 2-naphthyloxy group, etc.), acyloxy group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, acetoxy group , A benzoyloxy group, etc.), a sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methanesulfonylamino group, a benzenesulfonylamino group, etc.), A carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms such as carbamoyl Group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, etc.), acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as formyl. Group, acetyl group, benzoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc. Group, butoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, for example, phenoxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl). Group, etc.), cyano group, nitro group, more preferably halogen atom, acylamino group An alkyl group, particularly preferably a chlorine atom or a bromine atom.
[0315]
In general formula (IV), X^3dRepresents a hydrogen atom or a substituted ring group. However, X^3dIs not a hydroxyl group or a sulfonamide group. Specific examples of the substituent include X in the general formula (IV).^1dExamples of the substituents are as follows (excluding the sulfonamide group).
X^3dAs preferred, a hydrogen atom, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom), an acylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atom). 14, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, formylamino group, acetylamino group, benzoylamino group, etc., alkyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably C1-C8, for example, a methyl group, an ethyl group, isopropyl group, a cyclohexyl group, etc., an aryl group (preferably C6-C20, more preferably C6-C14, especially preferably C6-C8 , For example, phenyl group, naphthyl group, p-methylphenyl group, etc.), alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably carbon 1 to 14, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group, and an aryloxy group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, and particularly preferably 6 carbon atoms). -8, such as phenoxy group, 2-naphthyloxy group, etc., acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, acetoxy group, benzoyl Oxy group, etc.), carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group) Group), an acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, A rumil group, an acetyl group, a benzoyl group, etc.), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl group, ethoxy A carbonyl group, a butoxycarbonyl group, etc.), an aryloxycarbonyl group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, such as a phenoxycarbonyl group, 2-naphthyloxy group). A carbonyl group or the like, a cyano group, or a nitro group, more preferably a halogen atom, an acylamino group, or an alkyl group, and particularly preferably a chlorine atom or a bromine atom.
[0316]
X^1d, X^3dIt is preferable that at least one of the substituents represented by is an electron withdrawing group. The electron withdrawing group is Hammett's substituent constant σ_pSpecific examples of the substituent include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a thiocarbonyl group, a peroxy group. Fluoroalkyl group, sulfonamido group, formyl group, phosphoryl group, carboxyl group, carbamoyl group, acyl group, sulfo group (or its salt), alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, acyloxy group, acylthio group, sulfonyloxy Group, a heterocyclic group, or an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups.
X^1d, X^3dAre more preferably both electron-withdrawing groups, more preferably both are halogen atoms, and particularly preferably both are chlorine atoms or bromine atoms.
[0317]
In general formula (IV), X^2d, X^4dRepresents a hydrogen atom or a substituent. However, X^2d, X^4dIs not a hydroxyl group. Specific examples of the substituent include X in the general formula (IV).^1dExamples of the substituents are as follows.
X^2d, X^4dPreferred are as follows: hydrogen atom, halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, preferably chlorine atom, bromine atom), acylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom) To 14, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as formylamino group, acetylamino group, benzoylamino group, etc., alkyl groups (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably C1-C8, for example, a methyl group, an ethyl group, isopropyl group, a cyclohexyl group, etc.), an aryl group (preferably C6-C20, more preferably C6-C14, especially preferably C6-C8 , For example, a phenyl group, a naphthyl group, a p-methylphenyl group, etc.), an alkoxy group (preferably having a carbon number of 1 to 20, more preferably a carbon number) To 14, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group, and an aryloxy group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 8 carbon atoms). For example, phenoxy group, 2-naphthyloxy group, etc.), acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, acetoxy group, benzoyloxy group, etc. ), A sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms such as methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, etc.), carbamoyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a carbamoyl group, N, N-dimethyl. Rucarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, etc.), acyl group (preferably 1-20 carbon atoms, more preferably 1-14 carbon atoms, particularly preferably 1-8 carbon atoms, such as formyl group, acetyl group, benzoyl group, etc. ), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, etc.), Aryloxycarbonyl group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, etc.), cyano group, nitro group It is a group. More preferred are a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a halogen atom and an acylamino group, and particularly preferred are a hydrogen atom, a methyl group and an ethyl group.
X^1d~ X^4dMay be further substituted. Specific examples of the substituent include X in the general formula (IV).^1dExamples of the substituents are as follows. X^1d~ X^4dMay be bonded to each other to form a ring.
[0318]
In general formula (IV), R^1dIs a hydrogen atom, an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 7 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a cyclohexyl group, etc.), aryl A group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, particularly preferably 6 to 8 carbon atoms, such as a phenyl group, a naphthyl group, a p-methylphenyl group), a heterocyclic group (for example, pyridyl Group, imidazolyl group, pyrrolidyl group), amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 14 carbon atoms, particularly preferably 0 to 8 carbon atoms such as amino group, methylamino group, N, N- Dimethylamino group, N-phenylamino group, etc.), alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, Example, if a methoxy group, an ethoxy group, etc.). Preferably, they are a hydrogen atom, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, and an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, more preferably an aryl group or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, particularly preferably. An aryl group.
R^1dMay be further substituted. Specific examples of the substituent include X in the general formula (IV).^1dExamples of the substituents are as follows.
[0319]
X^1d~ X^4d, R^1dThe combination of X is preferably X^1d, X^3dAt least one of is a halogen atom, and X^2d, X^4dIs a hydrogen atom or an alkyl group, R^1dIs an aryl group or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms. A more preferred combination is X^1d, X^3dAre both chlorine or bromine atoms, and X^2dIs a hydrogen atom or an alkyl group, and X^4dIs a hydrogen atom and R^1dIs an aryl group.
[0320]
The preferable range of the total molecular weight of the compound represented by the general formula (IV) is 170 to 800, more preferably 220 to 650, and particularly preferably 220 to 500.
[0321]
Specific examples of the compound represented by the general formula (IV) are shown below, but the compound of the general formula (IV) that can be used in the present invention is not limited to these specific examples.
[0322]
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[0323]
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[0324]
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[0325]
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[0326]
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[0327]
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[0328]
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[0329]
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[0330]
The addition amount of the development accelerator used in the present invention varies greatly depending on the compound, and the general addition amount range is wide, but 0.001 mol% to 100 mol%, preferably 0.01 mol, relative to the main reducing agent. % To 10 mol%, more preferably 0.1 mol% to 10 mol%, particularly preferably 0.1 mol% to 5 mol%.
[0331]
The development accelerator used in the present invention is water or an appropriate organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide. It can be used by dissolving in methyl cellosolve.
In addition, using a well-known emulsification dispersion method, it is dissolved using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified and dispersed. An object can be made and used. Alternatively, the powder can be dispersed and used in water by a ball mill, a colloid mill, a sand grinder mill, a manton gourin, a microfluidizer or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method.
The development accelerator used in the present invention may be added to any layer on the image forming layer side with respect to the support, but the image forming layer or a layer adjacent thereto is preferable, and the image forming layer is most preferable.
[0332]
1-6. Hydrogen bonding compound
In the present invention, it is preferable to use a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with an aromatic hydroxyl group (—OH) of the reducing agent.
[0333]
Examples of the group capable of forming a hydrogen bond include a phosphoryl group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, a carbonyl group, an amide group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing aromatic group. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (however, it has no> N—H group,> N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
[0334]
In the present invention, particularly preferred hydrogen bonding compounds are compounds represented by the following general formula (D).
[0335]
Formula (D)
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[0336]
R in general formula (D)²¹Or R²³Each independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be unsubstituted or may have a substituent.
[0337]
R²¹Or R²³In the case where has a substituent, the substituent is a halogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, amino group, acyl group, acylamino group, alkylthio group, arylthio group, sulfonamido group, acyloxy group, oxycarbonyl group, carbamoyl Group, sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like. Preferred as substituents are alkyl groups or aryl groups such as methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-octyl group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like can be mentioned.
[0338]
R²¹Or R²³Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, butyl group, octyl group, dodecyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, and 1-methylcyclohexyl group. Benzyl group, phenethyl group, 2-phenoxypropyl group, and the like.
[0339]
Examples of the aryl group include phenyl group, cresyl group, xylyl group, naphthyl group, 4-t-butylphenyl group, 4-t-octylphenyl group, 4-anisidyl group, and 3,5-dichlorophenyl group.
[0340]
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, benzyl An oxy group etc. are mentioned.
[0341]
Examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group.
[0342]
Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. .
[0343]
R²¹Or R²³Are preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In terms of the effect of the present invention, R²¹Or R²³Of these, at least one is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. In addition, R can be obtained at low cost.²¹Or R²³Are preferably the same group.
[0344]
Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0345]
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[0346]
Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in Japanese Patent Application Nos. 2000-192191 and 2000-19481 in addition to those described above.
[0347]
The hydrogen bonding compound of the present invention can be used in a light-sensitive material after being contained in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersed fine particle dispersion in the same manner as the reducing agent. The compound of the present invention forms a complex by a hydrogen bond with a compound having a phenolic hydroxyl group in a solution state. Depending on the combination of the reducing agent and the compound of the general formula (D) of the present invention, the compound of the present invention Can be separated.
[0348]
The use of the crystal powder isolated in this way as a solid dispersed fine particle dispersion is particularly preferable for obtaining stable performance. Further, a method in which the reducing agent and the hydrogen bonding compound of the present invention are mixed as a powder and complexed at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can be preferably used.
[0349]
The hydrogen bonding compound of the present invention is preferably used in the range of 1 to 200 mol%, more preferably in the range of 10 to 150 mol%, still more preferably in the range of 30 to 100 mol% with respect to the reducing agent. It is.
[0350]
1-7. binder
The binder of the organic silver salt-containing layer of the present invention may be any polymer, suitable binders are transparent or translucent and generally colorless, natural resins, polymers and copolymers, synthetic resins, polymers and copolymers, other films Forming media such as gelatins, gums, poly (vinyl alcohol) s, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrates, poly (vinyl pyrrolidone) s, casein, starch, poly (acrylic acid) , Poly (methyl methacrylic acid) s, poly (vinyl chloride) s, poly (methacrylic acid) s, styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers, Poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl acetal) Marl) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane) s, phenoxy resins, poly (vinylidene chloride) s, poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate) s , Poly (olefin) s, cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
[0351]
In the present invention, the glass transition temperature of the binder of the layer containing the organic silver salt is preferably −20 ° C. or more and 80 ° C. or less, more preferably 0 ° C. to 70 ° C., and 10 ° C. or more and 60 ° C. or less. More preferably it is.
[0352]
In this specification, Tg is calculated by the following formula.
1 / Tg = Σ (Xi / Tgi)
[0353]
Here, it is assumed that n monomer components from i = 1 to n are copolymerized in the polymer. Xi is the weight fraction of the i-th monomer (ΣXi = 1), and Tgi is the glass transition temperature (absolute temperature) of the homopolymer of the i-th monomer. However, Σ is the sum from i = 1 to n.
As the transition temperature value (Tgi) of the homopolymer glass of each monomer, the value of Polymer Handbook (3rd Edition) (by J. Brandrup, EH Immergut (Wiley-Interscience, 1989)) was adopted.
[0354]
The polymer used as the binder may be used alone or in combination of two or more as required. Further, a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and a glass transition temperature of less than 20 ° C. may be used in combination. When two or more kinds of polymers having different Tg are blended, the weight average Tg is preferably within the above range.
[0355]
In the present invention, when the organic silver salt-containing layer is formed using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried, the binder of the organic silver salt-containing layer is further added to an aqueous solvent ( When it is soluble or dispersible in an aqueous solvent), the performance is improved particularly when it is made of a latex of a polymer having an equilibrium water content of 2% by mass or less at 25 ° C. and 60% RH.
The most preferable form is one prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less, and as such a preparation method, there is a method of performing purification treatment using a separation functional membrane after polymer synthesis.
[0356]
The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible here is a mixture of water or water with 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent.
Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and propyl alcohol, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve, ethyl acetate and dimethylformamide.
[0357]
The “equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH” is the following using the weight W1 of the polymer in the humidity-controlled equilibrium under the atmosphere of 25 ° C. and 60% RH and the weight W0 of the polymer in the absolutely dry state at 25 ° C. It can be expressed as
Equilibrium water content at 25 ° C. and 60% RH = [(W1-W0) / W0] × 100 (mass%)
For the definition and measurement method of moisture content, for example, Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Society of Polymer Sciences, Jinshokan) can be referred to.
[0358]
The equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH of the binder polymer of the present invention is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 1.5% by mass or less, and further preferably 0.02% by mass. % To 1% by mass is desirable.
[0359]
The binder of the present invention is particularly preferably a polymer that can be dispersed in an aqueous solvent. Examples of the dispersed state include latex in which fine particles of water-insoluble hydrophobic polymer are dispersed and polymer molecules dispersed in a molecular state or forming micelles, and all are preferable. The average particle size of the dispersed particles is preferably 1 to 50000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.
[0360]
In the present invention, preferred embodiments of the polymer that can be dispersed in an aqueous solvent include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (eg, SBR resin), poly (urethanes), poly (vinyl chloride) s, poly (acetic acid). Hydrophobic polymers such as vinyl), poly (vinylidene chloride) and poly (olefin) can be preferably used. These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more types of monomers. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer.
[0361]
These polymers have a number average molecular weight of 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 200,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the emulsion layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film formability is poor, which is not preferable.
[0362]
Specific examples of preferable polymer latex include the following. Below, it represents using a raw material monomer, the numerical value in a parenthesis is the mass%, and molecular weight is a number average molecular weight. When a polyfunctional monomer was used, the concept of molecular weight was not applicable because a crosslinked structure was formed, so it was described as crosslinkability, and the description of molecular weight was omitted. Tg represents the glass transition temperature.
[0363]

[0364]
The abbreviations for the above structures represent the following monomers. MMA; Methyl methacrylate, EA; Ethyl acrylate, MAA; Methacrylic acid, 2EHA; 2-Ethylhexyl acrylate, St; Styrene, Bu; Butadiene, AA; Acrylic acid, DVB; Divinylbenzene, VC; Vinyl chloride, AN; Acrylonitrile, VDC Vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.
[0365]
The polymer latex described above is also commercially available, and the following polymers can be used. Examples of the acrylic polymer include Sebian A-4635, 4718, 4601 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 857 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), poly ( Examples of esters) include, for example, poly (urethanes) such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (above made by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (more made by Eastman Chemical). Examples of rubbers such as HYDRAN AP10, 20, 30, 40 (more from Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) include LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C (more from Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (made by Nippon Zeon Co., Ltd.) However, examples of poly (vinyl chloride) include G351 and G576 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and examples of poly (vinylidene chloride) include L502 and L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.). Examples of poly (olefin) s include Chemipearl S120, SA100 (manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.).
These polymer latexes may be used alone or in combination of two or more as required.
[0366]
As the polymer latex used in the present invention, a styrene-butadiene copolymer latex is particularly preferable. The weight ratio of the styrene monomer unit to the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably 40:60 to 95: 5. The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is preferably 60 to 99% by mass. The preferred molecular weight range is the same as described above.
[0367]
Examples of the latex of styrene-butadiene copolymer that is preferably used in the present invention include the aforementioned P-3 to P-8, 14, and 15, commercially available LACSTAR-3307B and 7132C, and Nipol Lx416.
[0368]
If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose may be added to the organic silver salt-containing layer of the light-sensitive material of the present invention.
[0369]
The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, based on the total binder of the organic silver salt-containing layer.
[0370]
The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) of the present invention is preferably formed using a polymer latex as a binder. The amount of the binder in the organic silver salt-containing layer is preferably such that the weight ratio of total binder / organic silver salt is 1/10 to 10/1, more preferably 1/5 to 4/1.
[0371]
In addition, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (emulsion layer) containing a photosensitive silver halide which is a photosensitive silver salt. The weight ratio of silver is preferably 400 to 5, more preferably 200 to 10.
[0372]
The total binder amount of the image forming layer of the present invention is 0.2 to 30 g / m.², More preferably 1-15 g / m²The range of is preferable. The image forming layer of the present invention may contain a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like.
[0373]
In the present invention, the solvent of the organic silver salt-containing layer coating solution of the light-sensitive material (here, for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent) is preferably an aqueous solvent containing 30% by mass or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate may be used. The water content of the solvent is more preferably 50% by mass or more, and still more preferably 70% by mass or more.
[0374]
Specific examples of the preferred solvent composition include water 100, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl. Alcohol / ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical values are mass%).
[0375]
1-8. Antifogging agent
1) Organic polyhalogen compounds
The present invention preferably contains an organic polyhalogen compound represented by the following general formula (H) as an antifoggant.
[0376]
Formula (H) Q- (Y) n-C (Z₁) (Z₂) X
[0377]
In the general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z₁And Z₂Represents a halogen atom, and X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
[0378]
Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-attracting group in which Hammett's substituent constant σp takes a positive value. For Hammett's substituent constants, see Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, no. 11, 1207-1216 etc. can be referred to.
[0379]
Examples of such an electron withdrawing group include a halogen atom (fluorine atom (σp value: 0.06), chlorine atom (σp value: 0.23), bromine atom (σp value: 0.23), iodine atom. (Σp value: 0.18)), trihalomethyl group (tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl (σp value: 0.33), trifluoromethyl (σp value: 0.54)), Cyano group (σp value: 0.66), nitro group (σp value: 0.78), aliphatic aryl, or heterocyclic sulfonyl group (for example, methanesulfonyl (σp value: 0.72)), aliphatic aryl Or a heterocyclic acyl group (for example, acetyl (σp value: 0.50), benzoyl (σp value: 0.43)), alkynyl group (for example, C≡CH (σp value: 0.23)), aliphatic Aryl or heterocyclic oxycarbo Group (for example, methoxycarbonyl (σp value: 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)), carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value: 0.57), Examples thereof include a sulfoxide group, a heterocyclic group, and a phosphoryl group.
The σp value is preferably in the range of 0.2 to 2.0, more preferably in the range of 0.4 to 1.0.
[0380]
Preferred as the electron withdrawing group are a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an alkylphosphoryl group, a carboxyl group, an alkyl or arylcarbonyl group, and an arylsulfonyl group, and particularly preferably a carbamoyl group and an alkoxycarbonyl group. , An alkylsulfonyl group and an alkylphosphoryl group, and a carbamoyl group is most preferred.
[0381]
X is preferably an electron-withdrawing group, more preferably a halogen atom, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group, A carbamoyl group and a sulfamoyl group, particularly preferably a halogen atom.
Among the halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable, and a bromine atom is particularly preferable.
[0382]
Y is preferably -C (= O)-, -SO- or -SO.₂  -, More preferably -C (= O)-, -SO₂  -, Particularly preferably -SO₂  -. n represents 0 or 1, and is preferably 1.
[0383]
Although the specific example of the compound of general formula (H) of this invention is shown below, this invention is not limited to these.
[0384]
Embedded image

[0385]
The compound represented by the general formula (H) of the present invention is 10 per mole of the non-photosensitive silver salt of the image forming layer.^-4It is preferable to use in the range of ~ 0.8 mol, more preferably 10^-3In the range of ~ 0.1 mol, more preferably 5 × 10^-3It is preferable to use in the range of ˜0.05 mol.
[0386]
In the present invention, examples of the method for incorporating the compound represented by the general formula (H) into the photosensitive material include the methods described in the method for containing a reducing agent.
[0387]
The melting point of the compound represented by the general formula (H) is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower.
[0388]
Other organic polyhalides used in the present invention include those disclosed in the patents described in paragraph Nos. 0111 to 0112 of JP-A No. 11-65021. In particular, an organic halogen compound represented by the formula (P) of Japanese Patent Application No. 11-87297, an organic polyhalogen compound represented by the general formula (II) of Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-339934, and Japanese Patent Application No. 11-205330 The organic polyhalogen compounds described are preferred.
[0389]
2) Other antifogging agents
Examples of other antifoggants include mercury (II) salts described in JP-A No. 11-65021, paragraph number 0113, benzoic acids described in paragraph No. 0114, salicylic acid derivatives disclosed in JP-A No. 2000-206642, and formulas described in JP-A No. 2000-221634. A formalin scavenger compound represented by (S), a triazine compound according to claim 9 of JP-A-11-352624, a compound represented by formula (III) of JP-A-6-11791, 4-hydroxy-6-6 Examples include methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene.
[0390]
Antifoggant, stabilizer and stabilizer precursor that can be used in the present invention described in JP-A No. 10-62899, paragraph number 0070, European Patent No. 0803764A, page 20, line 57 to page 21, line 7. Patented compounds and compounds described in JP-A Nos. 9-281737 and 9-329864 can be mentioned.
[0390]
The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of fog prevention. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented. The azolium salt may be added to any part of the photosensitive material, but the addition layer is preferably added to the layer having the photosensitive layer, and more preferably to the organic silver salt-containing layer.
[0392]
The azolium salt may be added at any step in the coating solution preparation. When added to the organic silver salt-containing layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be used. To immediately before coating. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent.
[0393]
In the present invention, any amount of the azolium salt may be added, but 1 × 10 10 per silver mole.^-6Preferred is 1 to 10 moles.^-3More preferably, it is at least 0.5 moles.
[0394]
1-9. Other additives
1) Mercapto, disulfide, and thiones
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound can be contained in order to suppress or promote development to control development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. JP-A-10-62899, paragraphs 0067 to 0069, JP-A-10-186572, the compound represented by the general formula (I) and specific examples thereof include paragraphs 0033 to 0052, EP 080376A1, No. 20 pages, lines 36 to 56, and Japanese Patent Application No. 11-273670. Of these, mercapto-substituted heteroaromatic compounds are preferred.
[0395]
2) Color preparation
In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to add a color toning agent. For the color toning agent, paragraph numbers 0054 to 0055 of JP-A No. 10-62899, p. Lines 21, 23 to 48, JP-A No. 2000-356317 and Japanese Patent Application No. 2000-187298, in particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, A combination of diammonium phthalate, sodium phthalate, potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride); phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropylphthalazine, 6 -T-butylphthalazine, 6-chloro (Talazine, 5.7-dimethoxyphthalazine, and 2,3-dihydrophthalazine) are preferable. In particular, in the combination with silver halide having a high silver iodide content, the combination of phthalazine and phthalic acid is preferable.
[0396]
The amount of phthalazine added is preferably 0.01 to 0.3 mol, more preferably 0.02 to 0.2 mol, particularly preferably 0.02 to 0.1 mol, per mol of the organic silver salt. It is. This addition amount is an important factor for promoting development, which is a problem in the silver halide emulsion having a high silver iodide content of the present invention. By selecting an appropriate addition amount, both sufficient developability and low fog are achieved. Is possible.
[0397]
3) Plasticizer, lubricant
The plasticizer and lubricant that can be used in the photosensitive layer of the present invention are described in paragraph No. 0117 of JP-A No. 11-65021. The slip agent is described in JP-A No. 11-84573, paragraph numbers 0061 to 0064 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0049 to 0062.
[0398]
4) Dyes and pigments
In the photosensitive layer of the present invention, various dyes and pigments (for example, CI Pigment Blue 60, CI Pigment Blue 64, C.I. Pigment Blue 64, C.I. I. Pigment Blue 15: 6) can be used. These are described in detail in WO98 / 36322, JP-A-10-268465, JP-A-11-338098 and the like.
[0399]
5) Ultra-high contrast agent
In order to form an ultrahigh contrast image suitable for printing plate making applications, it is preferable to add an ultrahigh contrast agent to the image forming layer. As for the ultrahigh contrast agent and its addition method and addition amount, the formulas of JP-A-11-65021, paragraph No. 0118, JP-A-11-223898, paragraphs 0136 to 0193, and Japanese Patent Application No. 11-87297 ( H), compounds of formulas (1) to (3), formulas (A) and (B), compounds of general formulas (III) to (V) described in Japanese Patent Application No. 11-91652 (specific compounds: Chemical Formula 21 to Chemical Formula 24) and the high contrast accelerator are described in paragraph No. 0102 of JP-A No. 11-65021 and paragraph Nos. 0194 to 0195 of JP-A No. 11-223898.
[0400]
In order to use formic acid or formate as a strong fogging substance, it is preferable to contain 5 mmol or less, more preferably 1 mmol or less, per mol of silver on the side having the image forming layer containing photosensitive silver halide.
When the ultrahigh contrast agent is used in the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use an acid formed by hydrating diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametalin An acid (salt) etc. can be mentioned. Examples of the acid or salt thereof formed by hydrating diphosphorus pentoxide particularly preferably include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific examples of the salt include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, ammonium hexametaphosphate and the like.
Amount of acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (1m photosensitive material)²The coating amount per unit) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fog, but 0.1 to 500 mg / m²Is preferably 0.5 to 100 mg / m²Is more preferable.
[0401]
1-10. Preparation of coating solution
The preparation temperature of the image forming layer coating solution of the present invention is preferably 30 ° C. or more and 65 ° C. or less, more preferably 35 ° C. or more and less than 60 ° C., and more preferably 35 ° C. or more and 55 ° C. or less. Moreover, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating liquid immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.
[0402]
1-11. Other layers and components
The photothermographic material of the present invention can have a non-photosensitive layer in addition to the image forming layer. The non-photosensitive layer includes (a) a surface protective layer provided on the image forming layer (on the side farther than the support), (b) between the plurality of image forming layers and between the image forming layer and the protective layer. It can be classified into an intermediate layer provided therebetween, (c) an undercoat layer provided between the image forming layer and the support, and (d) a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.
[0403]
In addition, although a layer acting as an optical filter can be provided, it is provided as the layer (a) or (b). The antihalation layer is provided on the photosensitive material as the layer (c) or (d).
[0404]
1) Surface protective layer
In the photothermographic material of the invention, a surface protective layer can be provided for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers. The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and Japanese Patent Application No. 2000-171936.
[0405]
As the binder for the surface protective layer of the present invention, gelatin is preferable, but it is also preferable to use polyvinyl alcohol (PVA) or a combination thereof. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), and the like can be used.
[0406]
Examples of PVA include those described in paragraph Nos. 0009 to 0020 of JP-A No. 2000-171936. Completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP- Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
[0407]
Polyvinyl alcohol coating amount of protective layer (per layer) (support 1m²Per unit) as 0.3 to 4.0 g / m²Is preferable, 0.3 to 2.0 g / m²Is more preferable.
[0408]
Total binder (including water-soluble polymer and latex polymer) coating amount of surface protective layer (per layer) (support 1m)²As per) 0.3 to 5.0 g / m²Is preferable, 0.3 to 2.0 g / m²Is more preferable.
[0409]
2) Antihalation layer
In the photothermographic material of the present invention, the antihalation layer can be provided on the side far from the exposure light source with respect to the photosensitive layer. As for the antihalation layer, paragraph numbers 0123 to 0124 of JP-A No. 11-65021, JP-A Nos. 11-223898, 9-230531, 10-36695, 10-104779, 11-231457, 11 -352625, 11-352626 and the like.
[0410]
The antihalation layer contains an antihalation dye having absorption at the exposure wavelength. When the exposure wavelength is in the infrared region, an infrared absorbing dye may be used, and in that case, a dye having no absorption in the visible region is preferable.
[0411]
When antihalation is performed using a dye having absorption in the visible range, it is preferable that substantially no dye color remains after image formation, and a means for decoloring by the heat of heat development is used. In particular, it is preferable to add a thermally decolorable dye and a base precursor to the non-photosensitive layer to function as an antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.
[0412]
The amount of decoloring dye added is determined by the use of the dye. In general, the optical density (absorbance) measured at the target wavelength is used in an amount exceeding 0.1. The optical density is preferably 0.2-2. The amount of dye used to obtain such an optical density is generally 0.001 to 1 g / m.²Degree.
[0413]
When the dye is decolored in this way, the optical density after heat development can be reduced to 0.1 or less. Two or more kinds of decoloring dyes may be used in combination in a heat decoloring type recording material or a photothermographic material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination.
[0414]
In thermal decoloration using such decoloring dyes and base precursors, substances that lower the melting point by 3 ° C. or more when mixed with a base precursor as described in JP-A No. 11-352626 (for example, diphenylsulfone, 4-chlorophenyl, etc.) (Phenyl) sulfone) is preferably used in view of thermal decoloring properties.
[0415]
3) Back layer
The back layer applicable to the present invention is described in paragraph Nos. 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.
[0416]
In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 to 450 nm can be added for the purpose of improving the silver color tone and the temporal change of the image. Such colorants are disclosed in JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-63-208846, JP-A-63-306436, JP-A-63-141435, and JP-A-01-61745. And Japanese Patent Application No. 11-276751. Such colorants are typically 0.1 mg / m²~ 1g / m²The back layer provided on the opposite side of the photosensitive layer is preferable as the layer to be added in the range of.
[0417]
4) Matting agent
In the present invention, it is preferable to add a matting agent to the surface protective layer and the back layer in order to improve transportability. Matting agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0126 to 0127.
Matting agent is photosensitive material 1m²When expressed in a coating amount per unit, preferably 1 to 400 mg / m², More preferably 5 to 300 mg / m²It is.
[0418]
Further, the matte degree of the emulsion surface may be any as long as a so-called stardust failure in which small white spots occur in the image area and light leakage occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less. It is preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily obtained by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 “Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard” and TAPPI standard method T479.
[0419]
In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.
[0420]
In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photosensitive material, the layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferable.
[0421]
5) Polymer latex
A polymer latex can be added to the surface protective layer or the back layer of the present invention.
For such polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi "Molecular Publications (1993))" and "Synthetic Latex Chemistry (Muroichi Muroi, published by High Polymers Publication (1970))", specifically, methyl methacrylate (33.5% by mass) / Ethyl acrylate (50 wt%) / Methacrylic acid (16.5 wt%) copolymer latex, Methyl methacrylate (47.5 wt%) / Butadiene (47.5 wt%) / Itaconic acid (5 wt%) copolymer Latex, latex of ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethyl A latex of xyl acrylate (25.4% by weight) / styrene (8.6% by weight) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.1% by weight) / acrylic acid (2.0% by weight) copolymer, methyl methacrylate (64. 0 mass%) / styrene (9.0 mass%) / butyl acrylate (20.0 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer latex, etc. Is mentioned.
[0422]
The polymer latex is preferably used in an amount of 10% by mass to 90% by mass, particularly preferably 20% by mass to 80% by mass, based on the total binder (including the water-soluble polymer and latex polymer) of the surface protective layer or the back layer.
[0423]
6) Membrane pH
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2.
[0424]
For the adjustment of the film surface pH, it is preferable to use an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, and a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or thermal development.
In addition, it is also preferable to use ammonia in combination with a nonvolatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide. The method for measuring the film surface pH is described in paragraph No. 0123 of Japanese Patent Application No. 11-87297.
[0425]
7) Hardener
A hardener may be used in each layer such as the photosensitive layer, protective layer, and back layer of the present invention.
Examples of hardeners include T.W. H. There are various methods described in "THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION" by James (published by Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), pages 77 to 87. -S-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfonacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfonacetamide), polyvalent metal ions described on page 78 of the same, US Pat. No. 4,281, Polyisocyanates such as 060 and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinyl sulfone compounds such as JP-A 62-89048 are preferably used. It is.
[0426]
The hardening agent is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation.
[0427]
Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid fed to the coater is a desired time, and N.I. Harnby, M.M. F. Edwards, A.D. W. There is a method using a static mixer described in Chapter 8 of Nienow's Koji Takahashi "Liquid Mixing Technology" (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0428]
8) Surfactant
Surfactants applicable to the present invention are described in paragraph No. 0132 of JP-A No. 11-65021.
In the present invention, it is preferable to use a fluorochemical surfactant. Preferable specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A Nos. 10-197985, 2000-19680, 2000-214554 and the like. Further, a polymeric fluorine-based surfactant described in JP-A-9-281636 is also preferably used. In the present invention, the use of a fluorosurfactant described in Japanese Patent Application No. 2000-206560 is particularly preferred.
[0429]
9) Antistatic agent
In the present invention, an antistatic layer containing various known metal oxides or conductive polymers may be provided. The antistatic layer may also serve as the above-described undercoat layer, back layer surface protective layer, or the like, or may be provided separately. Regarding the antistatic layer, paragraph No. 0135 of JP-A No. 11-65021, paragraphs of JP-A Nos. 56-143430, 56-143431, 58-62646, No. 56-120519, and paragraphs of JP-A No. 11-84573. The techniques described in Paragraph Nos. 0078 to 0084 of Nos. 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957 and JP-A-11-223898 can be applied.
[0430]
10) Support
The transparent support is a polyester, particularly polyethylene, which has been heat-treated in a temperature range of 130 to 185 ° C. in order to relieve internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate thermal shrinkage strain generated during heat development. Terephthalate is preferably used.
[0431]
In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored.
Specific examples of the support are described in paragraph No. 0134 of JP-A No. 11-65021.
[0432]
Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and Japanese Patent Application No. 11-106881, paragraph numbers 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer.
[0433]
11) Other additives
An antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, or a coating aid may be further added to the photothermographic material. A solvent described in paragraph No. 0133 of JP-A No. 11-65021 may be added. Various additives are added to either the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. With respect to these, WO 98/36322, EP 803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like can be referred to.
[0434]
12) Application and drying
The photothermographic material in the invention may be applied by any method. Specifically, various coating operations including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. And Stephen F. Kistler, Peter M. et al. Extrusion coating or slide coating described in pages 399 to 536 of “LIQUID FILM COATING” (CHAPMAN & HALL, 1997) by Schweizer is preferably used, and slide coating is particularly preferably used.
[0435]
An example of the shape of a slide coater used for slide coating is shown in FIG. 11b. 1 If desired, two or more layers can be simultaneously coated by the method described on pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. .
[0436]
The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to.
The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention has a shear rate of 0.1 S.^-1The viscosity is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, and more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less.
Also, shear rate 1000S^-1Is preferably 1 mPa · s or more and 200 mPa · s or less, more preferably 5 mPa · s or more and 80 mPa · s or less.
[0437]
The photothermographic material of the present invention is preferably heat-treated immediately after coating and drying. In particular, in the case of a photothermographic material using an aqueous latex as a binder, the film strength of the coating film is improved by this heat treatment, and it is preferable because it allows for various handling of the photothermographic material thereafter. The temperature of the heat treatment is the effective film surface temperature of the coating film and is preferably in the range of 60 ° C. to 100 ° C., and the heating time is preferably in the range of 1 second to 60 seconds. A more preferable range is a range of 70 ° C. to 90 ° C. and 2 seconds to 10 seconds. A preferable heat treatment method of the present invention is described in JP-A No. 2002-107872.
[0438]
13) Packaging materials
The photothermographic material of the present invention has an oxygen transmission rate and a photosensitivity in order to prevent deterioration of photographic performance during storage before use, or to prevent curling or wrinkling in the case of a rolled product form. It is preferable to hermetically package with a packaging material having a low moisture permeability. Oxygen permeability is 50 ml / atm / m at 25 ° C²-Day or less is preferable, more preferably 10 ml / atm / m²-Day or less, more preferably 1.0 ml / atm / m²-Day or less. Moisture permeability is 10 g / atm / m²-Day or less is preferable, more preferably 5 g / atm / m²-Day or less, more preferably 1 g / atm / m²-Day or less. As specific examples of the packaging material having low oxygen permeability and / or moisture permeability, those described in, for example, JP-A-8-254793 and JP-A-2000-206653 can be used.
[0439]
14) Other available technologies
Techniques that can be used for the photothermographic material of the present invention include EP80364A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP56-62648, 58-62644, JP9-43766, and 9-. 281637, 9-297367, 9-304869, 9-311405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023, 10-186568, 10-90823, 10-171106, 10-186565, 10-186567, 10-186567 to 10-186572, 10-197974, 10-197982, 10 -197983, 10-197985 to 10-197987, 10- 07001, 10-207004, 10-221807, 10-282601, 10-288823, 10-288824, 10-307365, 10-312038, 10-339934 11-7100, 11-15105, 11-24200, 11-24201, 11-30201, 11-30832, 11-84574, 11-65021, 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11-133543, 11-223898, 11-352627, 11- 305377, 11-305378, 11-305384, 11-30538 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11-343420, Japanese Patent Application 2000-187298, 2000-10229 2000-47345, 2000-206642, 2000-98530, 2000-98531, 2000-112059, 2000-112060, 2000-112104, 2000-112604, No. 2000-171936 is also mentioned.
[0440]
15) Color image formation
The construction of a multicolor color photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and contains all the components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. May be included.
In the case of a multicolor color photothermographic material, each emulsion layer is generally a functional or non-functional barrier layer between each photosensitive layer as described in US Pat. No. 4,460,681. Are used to keep them distinguished from each other.
[0441]
2. Image forming method
2-1. exposure
The light-sensitive material of the present invention may be exposed by any method, but laser light is preferred as the exposure light source.
[0442]
In particular, when an exposure amount giving the maximum density (Dmax) is given, the preferable light amount on the surface of the photosensitive material is 0.1 W / mm.²~ 100W / mm²It is. More preferably 0.5 W / mm²~ 50W / mm²And most preferably 1 W / mm²~ 50W / mm²It is.
[0443]
As the laser light according to the present invention, a gas laser (Ar⁺, He—Ne, He—Cd), YAG laser, dye laser, semiconductor laser and the like are preferable. A semiconductor laser and a second harmonic generation element can also be used. The laser preferably used is determined according to the light absorption peak wavelength of the photosensitizing material such as a spectral sensitizing dye, but it is a red to infrared emitting He-Ne laser, a red semiconductor laser, or a blue to green emitting Ar.⁺, He—Ne, He—Cd laser, blue semiconductor laser. In recent years, in particular, a module in which an SHG (Second Harmonic Generator) element and a semiconductor laser are integrated and a blue semiconductor laser have been developed, and a laser output device in a short wavelength region has been closed up. The blue semiconductor laser is expected to increase in demand in the future because high-definition image recording is possible, the recording density is increased, and a stable output is obtained with a long lifetime.
[0444]
It is also preferable that the laser light is oscillated in a vertical multi by a method such as high frequency superposition.
[0445]
2-2. Heat development
The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C.
The development time is preferably 1 to 60 seconds, more preferably 5 to 30 seconds, and particularly preferably 5 to 20 seconds.
[0446]
A plate heater method is preferred as the heat development method. The heat development method using the plate heater method is preferably a method described in JP-A-11-133572. The heat development photosensitive material on which a latent image is formed is brought into contact with a heating means in a heat development part, and heat for obtaining a visible image. In the developing device, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the heat is interposed between the press roller and the plate heater. A thermal development apparatus that performs thermal development by passing a development photosensitive material. It is preferable to divide the plate heater into 2 to 6 stages and lower the temperature about 1 to 10 ° C. at the tip.
[0447]
Such a method is also described in JP-A-54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and rapidly develop the photothermographic material. It is also possible to suppress changes in the shape of the support of the photothermographic material due to heating of the photothermographic material.
[0448]
2-3. system
Fuji Medical Dry Imager-FM-DPL and DRYPIX7000 can be given as medical laser imagers having an exposure unit and a heat development unit. The system is Fuji Medical Review No. 8, p. 39-55, and these techniques can be used. Further, it can also be applied as a photothermographic material for a laser imager in “AD Network” proposed by Fuji Film Medical Co., Ltd. as a network system conforming to the DICOM standard.
[0449]
3. Application of the present invention
The photothermographic material of the present invention forms a black and white image by a silver image, and is used as a photothermographic material for medical diagnosis, a photothermographic material for industrial photography, a photothermographic material for printing, and a photothermographic material for COM. It is preferably used.
[0450]
【Example】
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[0451]
Example 1
1. Back layer
The following back layer and back protective layer were applied to a polyester support having a thickness of 175 [mu] m and undercoated on both sides.
[0452]
1-1. Preparation of coating solution
1) Preparation of solid precursor dispersion (a) of base precursor
1.5 kg of the base precursor compound 1, 225 g of Demol N (trade name, Kao Corp.), 937.5 g of diphenyl sulfone, 15 g of methyl parahydroxybenzoate (trade name: Platens M, Ueno Pharmaceutical Co., Ltd.), and Distilled water was added and the total amount was adjusted to 5.0 kg and mixed, and the mixed solution was dispersed with a horizontal sand mill (trade name: UVM-2, Imex Co., Ltd.). Dispersion conditions were such that the mixed solution was sent to a UVM-2 machine filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm by a diaphragm pump, and the dispersion was continued until the desired dispersity was reached at an internal pressure of 50 hPa or higher. The degree of dispersion was determined by measuring the spectral absorption of the dispersion, using the absorbance ratio (D450 / D650) at 450 nm and 650 nm as a guide, and dispersing until the value was 2.2 or more. After dispersion, the mixture was diluted with distilled water so that the concentration of the base precursor was 20% by mass, and filtered through a filter (average pore diameter: 3 μm, material: polypropylene) to remove dust.
2) Preparation of dye solid fine particle dispersion (a)
[0453]
As an antihalation dye, 6.0 kg of cyanine dye compound-1, 3.0 kg of sodium p-dodecylsulfonate, 0.6 kg of Demol SMB (trade name, Kao Corporation), Surfinol 104E (trade name, Nissin Chemical) (Co., Ltd.) 0.15 kg and distilled water were mixed to make the total liquid volume 60 kg. The mixed solution was dispersed with a horizontal sand mill UVM-2 using zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. Dispersion was performed until the absorbance ratio (D650 / D750) was 5.0 or more. After dispersion, the mixture was diluted with distilled water so that the concentration of the cyanine dye was 6% by weight, and filtered through a filter (average pore diameter: 1 μm, material: polypropylene) to remove dust.
[0454]
3) Preparation of back layer coating solution
30 g of gelatin, 24.5 g of polyacrylamide, 2.2 g of 1 mol / L sodium hydroxide, 2.4 g of monodispersed polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 8 μm, particle size standard deviation 0.4), benzoisothiazolinone 08 g, 35.9 g of the above-mentioned dye solid fine particle dispersion (a), 74.2 g of the above-mentioned basic precursor solid fine particle dispersion (a), 0.6 g of sodium polyethylene sulfonate, 0.21 g of blue dye compound-1 , 0.15 g of yellow dye compound-1, 8.3 g of acrylic acid / ethyl acrylate copolymer latex (copolymerization ratio: 5/95), and water were mixed to make the total amount 818 mL, and the antihalation layer coating solution was prepared. Prepared.
[0455]
4) Preparation of back surface protective layer coating solution
The container was kept at 40 ° C., gelatin 40 g, liquid paraffin emulsion 1.5 g as liquid paraffin, benzoisothiazolinone 35 mg, 1 mol / L caustic soda 6.8 g, sodium t-octylphenoxyethoxyethane sulfonate 0 0.5 g, 0.27 g of polystyrene sulfonate sodium, 2.0 g of N, N-ethylenebis (vinylsulfone acetamide), 37 mg of fluorosurfactant (F-1), and fluorosurfactant (F-2) 150 mg, 64 mg of fluorosurfactant (F-3), 32 mg of fluorosurfactant (F-4), 6.0 g of acrylic acid / ethyl acrylate copolymer (copolymerization weight ratio 5/95), N , N-ethylenebis (vinylsulfonamide) 2.0g, mixed with water to make 1000ml, back surface protective layer coating It was a liquid.
[0456]
1-2. Application of back layer and back surface protective layer
On the back surface side of the undercoat support, the gelatin coating amount of the back layer coating solution is 0.44 g / m.²In addition, the back surface protective layer coating solution has a gelatin coating amount of 1.7 g / m.²Then, a simultaneous multilayer coating was applied and dried to form a back layer.
[0457]
2. Image forming layer, intermediate layer, and surface protective layer
2-1. Preparation of coating materials
1) Silver halide emulsion
(Preparation of silver halide emulsion 1)
To a solution of 1421 ml of distilled water, 3.1 ml of a 1% by mass potassium bromide solution was added, and a solution containing 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid and 31.7 g of phthalated gelatin was stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 30 ° C., distilled water was added to 2222 g of silver nitrate and diluted to 95.4 ml with solution A and potassium bromide 15.3 g, and potassium iodide 0.8 g with distilled water to a volume of 97.4 ml. The whole amount of the diluted solution B was added at a constant flow rate over 45 seconds. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and further 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was added.
[0458]
Further, a solution C in which distilled water was added to 51.86 g of silver nitrate and diluted to 317.5 ml, and solution D in which 44.2 g of potassium bromide and 2.2 g of potassium iodide were diluted with distilled water to a volume of 400 ml, C was added at a constant flow rate over 20 minutes, and Solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. 1 x 10 per mole of silver^-4The total amount of potassium hexachloroiridate (III) was added 10 minutes after the start of the addition of Solution C and Solution D so as to have a molar ratio. In addition, 5 seconds after completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added at 3 × 10 5 per mol of silver.^-4The whole molar amount was added. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and a precipitation / desalting / water washing step was performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.
[0459]
The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a 0.34 mass% 1,2-benzisothiazolin-3-one methanol solution was added, and the temperature was raised to 47 ° C. after 40 minutes. 20 minutes after the temperature rise, sodium benzenethiosulfonate was 7.6 × 10 6 in 1 mol of silver with a methanol solution.^-55 minutes later, tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to give 2.9 × 10 6 per mole of silver.^-4Mole was added and aged for 91 minutes. Thereafter, a methanol solution having a molar ratio of the spectral sensitizing dye A and the sensitizing dye B of 3: 1 is 1.2 × 10 as the total of the sensitizing dyes A and B per mole of silver.^-31 minute later, 1.3 ml of a 0.8 mass% methanol solution of N, N′-dihydroxy-N ″ and N ″ -diethylmelamine was added, and further 4 minutes later, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added. 4.8 x 10 per mole of silver in methanol solution^-3Mole, 1-phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in a methanol solution to 5.4 × 10 5 per mole of silver^-3Mole and 1- (3-Methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole in aqueous solution to 8.5 × 10 5 per mole of silver^-3A silver halide emulsion 1 was prepared by adding a molar amount.
[0460]
The grains in the silver halide emulsion thus prepared were silver iodobromide grains containing 3.5 mol% of iodine having an average equivalent sphere diameter of 0.042 μm and a variation coefficient of 20% of the equivalent sphere diameter. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope. The {100} face ratio of the particles was 80% as measured using the Kubelka-Munk method.
[0461]
(Preparation of silver halide emulsion 2)
In the preparation of silver halide emulsion 1, the liquid temperature at the time of grain formation was changed from 30 ° C. to 47 ° C., and solution B was changed to diluting 15.9 g of potassium bromide with distilled water to a volume of 97.4 ml, Solution D was changed to diluting 45.8 g of potassium bromide in 400 ml of distilled water, the addition time of solution C was changed to 30 minutes, and potassium hexacyanoferrate (II) was removed in the same manner. A silver emulsion was prepared.
In the same manner as silver halide emulsion 1, grain formation / precipitation / water washing / dispersion was carried out. Further, a methanol solution of a mixture of spectral sensitizing dyes A and B in a molar ratio of 1: 1 is added in an amount of 7.5 × 10 in the total molar amount of spectral sensitizing dyes A and B.^-4Mol, tellurium sensitizer C is added in an amount of 5.1 × 10 5 per mol of silver.^-51-Phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole was converted to mol) and phenyl) -5-mercaptotetrazole in an aqueous solution was 4.7 × 10 × 1 mol of silver.^-3A silver halide emulsion 2 was obtained in the same manner as Emulsion 1 except that the molar amount was changed. The emulsion grains of the silver halide emulsion B were pure silver bromide cubic grains having an average sphere equivalent diameter of 80 nm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%.
[0462]
(Preparation of silver halide emulsion 3)
In the preparation of silver halide emulsion 1, silver halide emulsion 3 was prepared in the same manner except that the liquid temperature at the time of grain formation was changed from 30 ° C. to 27 ° C. Further, precipitation / desalting / washing / dispersion was performed in the same manner as silver halide emulsion 1. The molar ratio of spectral sensitizing dye A and spectral sensitizing dye B is 1: 1 as a solid dispersion (gelatin aqueous solution), and the addition amount is 6 × 10 as the total of sensitizing dye A and sensitizing dye B per mole of silver.^-3Mol, tellurium sensitizer C is added in an amount of 5.2 × 10 5 per mol of silver.^-43 minutes after addition of tellurium sensitizer, 5 × 10^-4Moles and potassium thiocyanate 2 x 10 per mole of silver^-3A silver halide emulsion 3 was obtained in the same manner as Emulsion 1 except that a mole was added. The emulsion grains of the silver halide emulsion 3 were silver iodobromide grains containing 3.5 mol% of iodine having an average sphere equivalent diameter of 0.034 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 20%.
[0463]
(Preparation of mixed emulsion A for coating solution)
70% by weight of silver halide emulsion 1, 15% by weight of silver halide emulsion 2 and 15% by weight of silver halide emulsion 3 were dissolved, and 7% by mole of silver in a 1% by weight aqueous solution of benzothiazolium iodide. × 10^-3Mole was added. Further, water is added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution is 38.2 g as silver, and 1- (3-methylureidophenyl) is adjusted to 0.34 g per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution. -5-mercaptotetrazole was added.
[0464]
2) Preparation of organic silver salt
(Preparation of fatty acid silver dispersion A)
87.6 kg of fatty acid obtained by mixing behenic acid, arachidic acid, stearic acid, and lignoceric acid at a ratio of 95 mol%, 3 mol%, 0.4 mol%, and 1.6 mol%, respectively, 423 L, 5 mol of distilled water / L concentration NaOH aqueous solution 49.2L and t-butyl alcohol 120L were mixed, and it stirred at 75 degreeC for 1 hour, and was made to react, and fatty-acid sodium solution A was obtained. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 40.4 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. A reaction vessel containing 635 L of distilled water and 30 L of t-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and with sufficient stirring, the total amount of the fatty acid sodium solution A and the total amount of the aqueous silver nitrate solution were kept constant at 93 minutes and 15 seconds, respectively. And added over 90 minutes. At this time, only the aqueous silver nitrate solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the fatty acid sodium solution A is started, and only the fatty acid sodium solution A is added for 14 minutes and 15 seconds after the addition of the aqueous silver nitrate solution is completed. It was made to be. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. Further, the pipe of the addition system of the fatty acid sodium solution A was prepared by keeping warm water by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the fatty acid sodium solution A and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.
[0465]
After completion of the addition of the fatty acid sodium solution A, the mixture was left to stand for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 30 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
[0466]
When the morphology of the obtained fatty acid silver particles was evaluated by electron microscope photography, the average values were a = 0.19 μm, b = 0.4 μm, c = 0.6 μm, average aspect ratio 2.3, average sphere equivalent diameter 0. It was a flake-like crystal with a coefficient of variation of .45 μm and a sphere equivalent diameter of 14%. (A, b, and c are the text provisions)
[0467]
19.3 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water are added to a wet cake corresponding to a dry solid content of 260 kg, and the whole amount is made 1000 kg, and then slurried with a dissolver blade, and further a pipeline mixer (manufactured by Mizuho Kogyo Co., Ltd.). : PM-10 type).
[0468]
Next, the pre-dispersed stock solution is subjected to a pressure of 1260 kg / cm of a high-pressure homogenizer type disperser (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, Z-type interaction chamber).²And processed three times to obtain a fatty acid silver dispersion. The cooling operation was carried out by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber, and adjusting the temperature of the refrigerant to a dispersion temperature of 18 ° C.
[0469]
(Preparation of peroxide-treated fatty acid silver dispersion P1)
To 1 kg of the fatty acid silver dispersion A obtained above, 10 mol% of a hydrogen peroxide 10 mass% solution was added and stirred at 25 ° C. for 30 minutes.
[0470]
3) Preparation of reducing agent dispersion
<< Preparation of Reducing Agent-1 Dispersion >>
Reducing agent-1 (2,2′-methylenebis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol)) 10 kg and denatured polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., POVAL MP203) 10% by weight aqueous solution 16 kg, 10 kg water Add and mix well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed for 3 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0. 2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heat-treated at 60 ° C. for 5 hours to obtain a reducing agent-1 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0471]
<< Preparation of Reducing Agent-2 Dispersion >>
10 mass of reducing agent-2 (6,6′-di-t-butyl-4,4′-dimethyl-2,2′-butylidenediphenol) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of% aqueous solution and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour, and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a reducing agent-2 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.50 μm and a maximum particle diameter of 1.6 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0472]
4) Preparation of hydrogen bonding compound-1 dispersion
10 kg of hydrogen bonding compound-1 and 10 kg of 10% by mass aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) and 16 kg of the present invention, and a comparative surfactant (type and amount are listed in Table 1), 10 kg of water was added and mixed well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 3 hours 30 minutes, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a hydrogen bonding compound concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a hydrogen bonding compound-1 dispersion. The hydrogen bonding compound particles contained in the hydrogen bonding compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.35 μm and a maximum particle diameter of 1.5 μm or less. The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0473]
5) Preparation of development accelerator dispersion
(Development accelerator-1 dispersion)
10 kg of development accelerator-1 and 20 kg of 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) were added to 10 kg of water and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to adjust the concentration of the development accelerator to 20% by mass to obtain a development accelerator-1 dispersion. The development accelerator particles contained in the development accelerator dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained development accelerator dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0474]
(Other development accelerator dispersions)
Other development accelerator dispersions (shown in Table 1) were also dispersed in the same manner as development accelerator-1 to obtain a 20 mass% dispersion.
[0475]
(Color tone adjusting agent-1 dispersion)
The color tone modifier-1 dispersion was also dispersed in the same manner as in the development accelerator-1, and a 20 mass% dispersion was obtained.
[0476]
6) Preparation of polyhalogen compound dispersion
(Preparation of organic polyhalogen compound-1 dispersion)
10 kg of organic polyhalogen compound-1, 10 kg of 20% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd. Poval MP203), the present invention, and a comparative surfactant (type and amount are listed in Table 1) and 14 kg of water Add and mix well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 26% by mass to obtain an organic polyhalogen compound-1 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0477]
(Preparation of organic polyhalogen compound-2 dispersion)
10 kg of organic polyhalogen compound-2, 20 kg of 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203), the present invention, and a comparative surfactant (type and amount are listed in Table 1) were added. , Well mixed to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 5 hours in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm. 2 g and water were added to prepare an organic polyhalogen compound concentration of 30% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 5 hours to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0478]
7) Preparation of phthalazine compound-1 solution
8 kg of modified polyvinyl alcohol MP203 manufactured by Kuraray Co., Ltd. was dissolved in 174.57 kg of water, and then 3.15 kg of a 20 mass% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and 70 mass of phthalazine compound-1 (6-isopropylphthalazine). 14.28 kg of a% aqueous solution was added to prepare a 5% by mass solution of phthalazine compound-1.
[0479]
8) Preparation of mercapto compound
(Preparation of mercapto compound-1 aqueous solution)
7 g of mercapto compound-1 was dissolved in 993 g of water to obtain a 0.7% by mass aqueous solution.
(Preparation of mercapto compound-2 aqueous solution)
20 g of mercapto compound-2 was dissolved in 980 g of water to obtain a 2.0 mass% aqueous solution.
[0480]
9) Preparation of pigment-1 dispersion
C. I. Pigment Blue 60 (64 g) and Kao Corp. Demol N (6.4 g) were added to 250 g of water and mixed well to obtain a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and disperse with a disperser (1/4 G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 25 hours. A pigment-1 dispersion was obtained by adjusting the concentration to 5% by mass. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.
[0481]
10) Preparation of SBR latex solution
The SBR latex was prepared as follows.
In a polymerization kettle of a gas monomer reactor (TAS-2J type manufactured by Pressure Glass Industrial Co., Ltd.), 287 g of distilled water and a surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)): solid content 48.5 (Mass%) 7.73 g, 1 mol / liter NaOH 14.06 ml, ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 0.15 g, styrene 255 g, acrylic acid 11.25 g, tert-dodecyl mercaptan 3.0 g were put, the reaction vessel was sealed and the stirring speed was Stir at 200 rpm. After degassing with a vacuum pump and repeating nitrogen gas replacement several times, 108.75 g of 1,3-butadiene was injected to raise the internal temperature to 60 ° C. A solution obtained by dissolving 1.875 g of ammonium persulfate in 50 ml of water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 5 hours. The mixture was further heated to 90 ° C. and stirred for 3 hours. After the reaction was completed, the internal temperature was lowered to room temperature, and then 1 mol / liter NaOH and NH.₄Na with OH⁺Ion: NH₄ ⁺The addition treatment was performed so that the ion was 1: 5.3 (molar ratio), and the pH was adjusted to 8.4. Thereafter, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored, and 774.7 g of SBR latex was obtained. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 145 ppm.
[0482]
The latex has an average particle size of 90 nm, Tg = 17 ° C., solid content concentration of 44 mass%, equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH, 0.6 mass%, ion conductivity of 4.80 mS / cm (measurement of ion conductivity is Using a conductivity meter CM-30S manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd., a latex stock solution (44% by mass) measured at 25 ° C.), pH 8.4.
[0483]
2-2. Preparation of coating solution
1) Image forming layer coating solution
(Preparation of image forming layer coating solution)
For each 1000 g of the fatty acid silver dispersion A or P1 obtained above, water, pigment-1 dispersion, organic polyhalogen compound-1 dispersion, organic polyhalogen compound-2 dispersion, phthalazine compound-1 solution, SBR latex (Tg: 17 ° C.) liquid, reducing agent-1 dispersion, reducing agent-2 dispersion, development accelerator dispersion (shown in Table 1), mercapto compound-1 aqueous solution, mercapto compound-2 aqueous solution are sequentially added. Then, the coating liquid for image forming layer, which was mixed well by adding the mixed emulsion A for coating liquid immediately before coating, was fed to the coating die as it was and coated.
The amount of each material added was set to the coating amount shown in the section of the coating sample described later.
[0484]
2) Preparation of intermediate layer coating solution
Polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1000 g, pigment-1 dispersion 272 g, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer weight ratio 64/9/20/5 / 2) 27200 ml of an aerosol OT (manufactured by American Cyanamid Co.) was added to 4200 ml of a latex 19 mass% solution, 135 ml of a 20 mass% aqueous solution of diammonium phthalate, and water was added to a total amount of 10000 g. In addition, an intermediate layer coating solution was prepared by adjusting with NaOH so that the pH was 7.5, and 9.1 ml / m²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0485]
3) Preparation of surface protective layer first layer coating solution
Inert gelatin (64 g) is dissolved in water, and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5/2) 19.0% by weight of latex 112 g, 30 ml of 15% by weight methanol solution of phthalic acid, 23 ml of 10% by weight aqueous solution of 4-methylphthalic acid, 28 ml of sulfuric acid having a concentration of 0.5 mol / L, and 5% by weight aqueous solution of Aerosol OT (American Cyanamid Co., Ltd.) Add 5 ml, 0.5 g phenoxyethanol, 0.1 g benzoisothiazolinone, add water to make a total amount of 750 g, and use 26 ml of 4% by weight chromium alum mixed with a static mixer just before coating. 18.6 ml / m²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0486]
4) Preparation of surface protective layer second layer coating solution
Inert gelatin (80 g) is dissolved in water, and methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5/2) 27.5% by weight of latex 102 g, 5.4 ml of a 2% by weight solution of a fluorosurfactant (F-1), 5.4 ml of a 2% by weight aqueous solution of a fluorosurfactant (F-2), Aerosol OT (American Cyanamid Co., Ltd.) ) 23 ml, 4 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 0.7 μm), 21 g of polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 4.5 μm), 1.6 g of 4-methylphthalic acid, 4.8 g of phthalic acid Water was added to 44 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid and 10 mg of benzoisothiazolinone to a total amount of 650 g. A solution prepared by mixing 445 ml of an aqueous solution containing a mass% chromium alum and 0.67 mass% phthalic acid with a static mixer immediately before coating is used as the surface protective layer second layer coating solution, 8.3 ml / m.²Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0487]
2-3. Sample preparation
The photothermographic material is applied simultaneously on the surface opposite to the back surface by the slide bead coating method in the order of the image forming layer coating solution, intermediate layer, surface protective layer first layer, and surface protective layer second layer from the undercoat surface. Samples 1 to 8 were prepared. At this time, the image forming layer and the intermediate layer were adjusted to 31 ° C., the protective layer first layer was adjusted to 36 ° C., and the protective layer second layer was adjusted to 37 ° C.
Samples using fatty acid silver A were Samples 1 to 3, and samples using peroxide-treated fatty acid silver were Samples 4 to 8.
Coating amount of each compound in the image forming layer (g / m²) Is as follows.
[0488]
Fatty acid silver 5.15
Pigment (C.I. Pigment Blue 60) 0.036
Polyhalogen compound-1 0.08
Polyhalogen compound-2 0.16
Phthalazine Compound-1 0.19
SBR latex 9.40
Reducing agent-1 0.40
Reducing agent-2 0.30
Development accelerator (shown in Table 1)
Mercapto Compound-1 0.002
Mercapto compound-2 0.012
Silver halide (as Ag) 0.12
[0489]
The coating and drying conditions are as follows.
The coating was performed at a speed of 160 m / min, the gap between the coating die tip and the support was set to 0.10 to 0.30 mm, and the pressure in the decompression chamber was set to 196 to 882 Pa lower than the atmospheric pressure. The support was neutralized with an ion wind before coating.
In the subsequent chilling zone, after cooling the coating solution with wind at a dry bulb temperature of 10 to 20 ° C., the coating solution is transported in a non-contact manner, and dried at a dry bulb temperature of 23 to 45 ° C. It dried with the dry wind of the wet bulb temperature 15-21 degreeC.
After drying, the humidity was adjusted at 25 ° C. and humidity of 40 to 60% RH, and then the film surface was heated to 70 to 90 ° C. After heating, the film surface was cooled to 25 ° C.
[0490]
The photothermographic material thus prepared had a Beck smoothness of 550 seconds on the photosensitive layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the photosensitive layer surface side was measured and found to be 6.0.
[0491]
The compounds used in the examples of the present invention are shown below.
[0492]
Embedded image

[0493]
Embedded image

[0494]
Embedded image

[0495]
Embedded image

[0496]
Embedded image

[0497]
(Evaluation of photographic performance)
The obtained sample was cut into half-cut sizes, packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% RH, stored at room temperature for 2 weeks, and then evaluated as follows.
(Packaging material)
PET 10 μm / PE 12 μm / aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon
Oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m²・ 25 ° C./day, moisture permeability: 0.10 g / atm · m²・ 25 ℃ ・ day
[0498]
Samples were exposed and heat-developed with Fuji Medical Dry Laser Imager DRYPIX7000 (with a 660 nm semiconductor laser with a maximum output of 60 mW (IIIB)) (total of 14 seconds with three panel heaters set at 119 ° C-121 ° C-120 ° C) Then, the obtained image was evaluated with a densitometer.
[0499]
Cover (Dmin₁): Transmission optical density of the unexposed area.
Sensitivity: Sensitivity was represented by the reciprocal of the exposure amount giving an optical density of fog + 1.0, and the sensitivity of Sample 1 was taken as 100 and expressed as a relative value.
Dark thermal image storability: The heat-developed sample was stored for 7 days in an environment of 45 ° C. and 75% RH, and then the fog density (Dmin₂) Was measured. ΔDmin was used as a measure of dark heat image storage stability.
ΔDmin = Dmin₂  -Dmin₁
[0500]
[Table 1]

[0501]
The results are shown in Table 1. The sample of the present invention is Dmin₁And ΔDmin was low, and the storage stability was excellent and the sensitivity was high.
As described above, a photothermographic material having high sensitivity, low fog and excellent image storability using an organic silver salt subjected to the oxidation treatment of the present invention and having a development accelerator was obtained.
[0502]
Example 2
The fatty acid composition of Example 1 was mixed with behenic acid, arachidic acid, and stearic acid in proportions of 45 mol%, 30 mol%, and 25 mol%, respectively, and the others were “peroxide-treated. "Fatty acid silver dispersion P2 subjected to peroxide treatment" was prepared in exactly the same manner as the preparation of "fatty acid silver dispersion P1". When a coating sample for evaluation was prepared using this and the same evaluation as in Example 1 was performed, the results shown in Table 2 were obtained.
The sample of the present invention is Dmin₁And ΔDmin was low, the storage stability was excellent, and the sensitivity was high.
[0503]
[Table 2]

[0504]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to provide an improved photothermographic material and image forming method with high sensitivity and low fog.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram illustrating a high-pressure pulverization unit of a dispersion apparatus having a high-pressure pulverization unit used in the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating an example in which preliminary dispersion and main dispersion are performed by a single dispersion apparatus by switching of a switching valve;
FIG. 3 is a diagram illustrating an example in which preliminary dispersion and main dispersion are each performed by a separately provided dispersion apparatus;
[Explanation of symbols]
11 High pressure crushing section
12 High pressure crusher
A0 supply pot
P1 Auxiliary pump
B0 Check valve
P2 auxiliary pump
C0 check valve
D0 selector valve
E Orifice for preliminary dispersion
F Orifice for dispersion
A1 supply pot
A2 supply pot
P3 Auxiliary pump
P4 high pressure pump
B1 Check valve
C1 Check valve
D1 selector valve
B2 Check valve
C2 Check valve
D2 selector valve

Claims (13)

1. A photothermographic material comprising an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on the same surface of a support, comprising 1) the photothermographic material. 2. A photothermographic material comprising a development accelerator in the material, and 2) the non-photosensitive organic silver salt is oxidized. 2. The photothermographic sensor according to claim 1, wherein the image forming layer is formed by applying an image forming layer coating solution prepared by at least the following steps 1) and 2) on the support. material.
1) preparing the non-photosensitive organic silver salt and subjecting it to an oxidation treatment;
2) A step of mixing the non-photosensitive organic silver salt subjected to the oxidation treatment with the photosensitive silver halide. The step of performing the oxidation treatment is 1) an organic silver salt forming step by reaction of an alkali metal salt of an organic acid with a water-soluble silver salt, 2) a desalting step, 3) a dispersing step, 4) photosensitivity after the dispersing step. 3. The photothermographic material according to claim 2, wherein the photothermographic material is at least one step prior to mixing with silver halide. 4. The photothermographic material according to claim 3, wherein the oxidation treatment is at least one of the steps 3) and 4). 5. The photothermographic material according to claim 3, wherein the oxidation treatment is step 4). 6. The photothermographic material according to claim 1, wherein the oxidizing agent for the oxidation treatment is hydrogen peroxide. 7. The photothermographic material according to claim 1, wherein the development accelerator is at least one selected from a phenol derivative and a hydrazine derivative. The photothermographic material according to claim 1, wherein the development accelerator is a compound represented by the following general formula (P) or (Q).

(Wherein, X _1a and X _{2a each} independently represent a hydrogen atom or a substituent, and R ^{1a to} R ^{3a each} independently represent a hydrogen atom or a substituent. M and p each independently represent 0 An integer of -4, n represents an integer of 0-2.) The photothermographic material according to claim 1, wherein the development accelerator is a compound represented by the following general formulas (I) to (IV).

(In the general formula (I), R ¹ represents an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a heterocyclic ring, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group or an alkynyl group, and X ¹ represents an acyl group, an alkoxycarbonyl group or a carbamoyl group. Represents a sulfonyl group or a sulfamoyl group, Y ¹ to Y ⁵ each independently represents a hydrogen atom or a substituent.)
(In General Formula (II), Q ¹ represents a 5- to 7-membered unsaturated ring bonded to NHNH—R ^1b at a carbon atom, and R ^1b represents a carbamoyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, Represents a sulfonyl group or a sulfamoyl group.)
(In the general formula (III), R ^1c , R ^2c , R ^3c , X ^1c and X ^2c are each independently a hydrogen atom; a halogen atom; or a benzene ring with a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom. The substituent couple | bonded with is represented.
However, at least one of X ^1c and X ^2c is a group represented by —NR ⁴ R ⁵ . R ⁴ and R ⁵ are each independently a hydrogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, or —C (═O) —R, —C (═O) —C (═O). It is a group represented by —R, —SO ₂ —R, —SO—R, —P (═O) (R) ₂ or —C (═NR ′) — R. R and R ′ are each independently a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, and an aryloxy group. These substituents may be bonded to each other to form a ring. )
(In the general formula (IV), X ^1d represents a substituent, and X ^{2d to} X ^4d each independently represents a hydrogen atom or a substituent. However, X ^{1d to} X ^4d are not hydroxy groups, ^3d is not a sulfonamide group, and the substituents represented by X ^{1d to} X ^4d may be bonded to each other to form a ring, and R ^1d is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. Represents an amino group or an alkoxy group.) The photothermographic material according to claim 1, wherein the binder contains a polymer latex. The photothermographic material according to claim 10, wherein the polymer latex is contained in an amount of 30% by mass or more based on the total binder. The photothermographic material according to any one of claims 1 to 11, Gin'nuri設量is characterized in that in the range of ^{0.5g / m 2 ~1.9g / m 2} . 13. An image forming method for forming an image by heat development using the photothermographic material according to claim 1 within a heat development time range of 5 seconds to 14 seconds.

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