JP2005008866A - Electronic beam-curable resin for magnetic recording medium, method for producing the same, and the magnetic recording medium given by using the same - Google Patents

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英樹 佐々木
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茂夫 黒瀬
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an electronic beam-curable resin for a magnetic recording medium, having such high crosslinking properties as to be suitably used for the magnetic recording medium, capable of preventing increase in viscosity of a coating material, and gelling thereof, when a conventional heat-curable vinyl chloride-based resin or polyurethane-based resin is subjected to electronic beam-initiated modification, to provide a method for producing the electronic beam-curable resin, capable of easily forming the electronic beam-curable resin having the high crosslinking properties out of a conventional heat-curable resin, and to provide the magnetic recording medium of high performance, by using the electronic beam-curable resin. <P>SOLUTION: The electronic beam-curable resin for the magnetic recording medium is obtained by reacting a diisocyante (DI) with a hydroxy(meth)acrylate-based compound (HA) in a mol ratio of HA/DI of more than 1 and less than 2 to form a DI-HA adduct, and further reacting the DI-HA adduct with active hydrogen radicals of the vinyl chloride-based resin or polyurethane-based resin which has the active hydrogen radicals in its molecule. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂、その製造方法およびそれを用いた磁気記録媒体に関し、詳しくは、磁気記録媒体用途に好適に使用可能な高い架橋性を有する電子線硬化型樹脂、一般的な熱硬化型塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂を電子線感応変性することにより架橋性の高い電子線硬化型樹脂を得るその製造方法、および、それを用いた磁気記録媒体に関する。   The present invention relates to an electron beam curable resin for a magnetic recording medium, a method for producing the same, and a magnetic recording medium using the same, and more specifically, an electron beam curable resin having high crosslinkability that can be suitably used for magnetic recording medium applications. The present invention relates to a production method for obtaining a highly cross-linkable electron beam curable resin by subjecting a general thermosetting vinyl chloride resin or polyurethane resin to electron beam sensitive modification, and a magnetic recording medium using the same.

従来より用いられている磁気記録媒体用の樹脂としては、主に熱硬化型樹脂および電子線硬化型樹脂が挙げられる。このうち熱硬化型樹脂は、樹脂中に存在する水酸基を代表とする活性水素基と、イソシアネート化合物とを反応させ、樹脂を架橋させる硬化方式を取るものであり、一方、電子線硬化型樹脂は、樹脂の分子内にアクリル二重結合に代表されるような電子線感応タイプの官能基を導入し、電子線照射により樹脂を架橋させる方法をとる。   Conventionally used resins for magnetic recording media include thermosetting resins and electron beam curable resins. Among these, the thermosetting resin takes a curing method in which an active hydrogen group represented by a hydroxyl group present in the resin is reacted with an isocyanate compound to crosslink the resin, while the electron beam curable resin is Then, an electron beam sensitive functional group represented by an acrylic double bond is introduced into the resin molecule, and the resin is crosslinked by electron beam irradiation.

一般に、磁気記録媒体に用いられる電子線硬化型樹脂としては、塩化ビニル系樹脂およびポリウレタン系樹脂が挙げられる。塩化ビニル系樹脂の場合、その電子線感応変性方法としては、水酸基を含有する熱硬化型塩化ビニル系樹脂中の当該水酸基に対し、トリレンジイソシアネート(TDI)と2−ヒドロキシエチルメタクリレート(2−HEMA)とを反応させてなるTDIアダクト体を反応させる方法(特許文献1参照)や、塩化ビニル系樹脂中の水酸基に環状酸無水物を反応させ、さらにアクリル2重結合を有するエポキシモノマーを反応させる方法(特許文献2参照)、塩化ビニル系樹脂中の水酸基に2−イソシアネートエチル(メタ)アクリレート(MOI)を反応させる方法(特許文献3参照)等がある。   In general, examples of electron beam curable resins used for magnetic recording media include vinyl chloride resins and polyurethane resins. In the case of a vinyl chloride resin, the electron beam sensitive modification method includes tolylene diisocyanate (TDI) and 2-hydroxyethyl methacrylate (2-HEMA) with respect to the hydroxyl group in the thermosetting vinyl chloride resin containing a hydroxyl group. ) And a TDI adduct obtained by reacting with a cyclic acid anhydride with a hydroxyl group in a vinyl chloride resin and further reacting with an epoxy monomer having an acrylic double bond. There are a method (see Patent Document 2), a method in which 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate (MOI) is reacted with a hydroxyl group in a vinyl chloride resin (see Patent Document 3), and the like.

一方、ポリウレタン系樹脂の場合には、ポリウレタンを合成する際の原料の一部として分子内に水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物を使用することにより、放射線硬化型ポリウレタン系樹脂とする方法(特許文献4参照)や、ポリマーの末端がイソシアネート基であるポリウレタンを作製し、続いてアクリル2重結合を有するアルコールを反応させる方法(特許文献5参照)等が代表的である。   On the other hand, in the case of a polyurethane resin, a method of forming a radiation curable polyurethane resin by using a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group in the molecule as a part of a raw material when synthesizing polyurethane (Patent Document) 4) and a method of producing a polyurethane having an isocyanate group at the end of the polymer and subsequently reacting an alcohol having an acrylic double bond (see Patent Document 5).

また、特許文献6中には、硬化性等に優れた放射線硬化性樹脂を得ることを目的として、所定のモノヒドロキシ化合物とジイソシアネート化合物とを所定割合で反応させる工程を含む放射線硬化性樹脂の製造方法が記載されている。
特公平1−25141号公報(特許請求の範囲等) 特許第2514682号公報(特許請求の範囲等) 特開平4−67314号公報(特許請求の範囲等) 特許第2610468号公報(特許請求の範囲等) 特公平3−1727号公報(特許請求の範囲等) 特公平1−81812号公報(特許請求の範囲等)
Patent Document 6 discloses the production of a radiation curable resin including a step of reacting a predetermined monohydroxy compound and a diisocyanate compound at a predetermined ratio for the purpose of obtaining a radiation curable resin excellent in curability and the like. A method is described.
Japanese Patent Publication No. 1-25141 (Claims) Japanese Patent No. 2514682 (claims, etc.) JP-A-4-67314 (Claims etc.) Japanese Patent No. 2610468 (claims, etc.) Japanese Examined Patent Publication No. 3-1727 (Claims) Japanese Patent Publication No. 1-81812 (Claims etc.)

しかしながら、これまでの塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の電子感応変性物では、塗膜の架橋性が必ずしも十分とはいえなかった。また、上記特許文献1および特許文献2記載の方法では樹脂・塗料がゲル化し、分散性が低下するという問題点があった。さらに、架橋性を高めるために、かかる樹脂中の水酸基濃度を高めると、塗料の粘度が高くなるという問題があった。   However, the conventional electronically sensitive modified products of vinyl chloride resin or polyurethane resin have not always had sufficient crosslinkability. Further, the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2 have a problem that the resin / paint is gelled and the dispersibility is lowered. Furthermore, when the hydroxyl group concentration in the resin is increased in order to improve the cross-linking property, there is a problem that the viscosity of the paint increases.

そこで本発明の目的は、既存の熱硬化型塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂を電子線感応変性するにあたり、塗料の増粘、ゲル化を防ぎ、磁気記録媒体用途に好適に使用可能な高い架橋性を有する磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を提供することにある。また、本発明の他の目的は、既存の熱硬化型樹脂から容易に架橋性の高い電子線硬化型樹脂を得ることができるかかる電子線硬化型樹脂の製造方法を提供することにある。さらに、本発明の他の目的は、かかる電子線硬化型樹脂を用いることで高性能の磁気記録媒体を提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is to prevent high viscosity and gelation of paints and to be used suitably for magnetic recording medium applications when electron-sensitive modification of existing thermosetting vinyl chloride resins or polyurethane resins. It is an object of the present invention to provide an electron beam curable resin for magnetic recording media. Another object of the present invention is to provide a method for producing such an electron beam curable resin, which can easily obtain an electron beam curable resin having high crosslinkability from an existing thermosetting resin. Another object of the present invention is to provide a high-performance magnetic recording medium by using such an electron beam curable resin.

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の該活性水素基を、ジイソシアネート(DI)とヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)との反応生成物であるDI−HAアダクト体と反応させることで電子線硬化型に変性するにあたり、このアダクト体生成の際にHA/DIモル比を所定範囲内とすることで、高い架橋性及び安定性を持つ電子線硬化型樹脂が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the active hydrogen group of a vinyl chloride resin or polyurethane resin having an active hydrogen group in the molecule is converted to diisocyanate (DI) and hydroxy (meta ) In the modification to the electron beam curing type by reacting with a DI-HA adduct which is a reaction product with an acrylate compound (HA), the HA / DI molar ratio is within a predetermined range when the adduct is formed. As a result, it was found that an electron beam curable resin having high crosslinkability and stability was obtained, and the present invention was completed.

すなわち、本発明の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂は、ジイソシアネート(DI)とヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)とを、1よりも大きくかつ2未満のHA/DIモル比にて反応させて得られたDI−HAアダクト体と、分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の該活性水素基とを反応させてなることを特徴とするものである。前記ジイソシアネート(DI)は、好ましくはイソホロンジイソシアネート(IPDI)である。   That is, the electron beam curable resin for magnetic recording media of the present invention reacts diisocyanate (DI) with a hydroxy (meth) acrylate compound (HA) at a HA / DI molar ratio of greater than 1 and less than 2. The DI-HA adduct obtained by the above reaction is reacted with the active hydrogen group of a vinyl chloride resin or polyurethane resin having an active hydrogen group in the molecule. The diisocyanate (DI) is preferably isophorone diisocyanate (IPDI).

また、本発明の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂の製造方法は、ジイソシアネート(DI)とヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)とを、1よりも大きくかつ2未満のHA/DIモル比にて反応させ、次いで、得られたDI−HAアダクト体と、分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂とを反応させることを特徴とするものである。   The method for producing an electron beam curable resin for a magnetic recording medium according to the present invention comprises a diisocyanate (DI) and a hydroxy (meth) acrylate compound (HA), wherein the HA / DI molar ratio is greater than 1 and less than 2. Then, the obtained DI-HA adduct is reacted with a vinyl chloride resin or polyurethane resin having an active hydrogen group in the molecule.

さらに、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、前記磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を含有する層を備えることを特徴とするものである。   Furthermore, the magnetic recording medium of the present invention comprises a layer containing the electron beam curable resin for a magnetic recording medium on a nonmagnetic support.

本発明によれば、活性水素基を有する既存の塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂を原料として、塗料の増粘、ゲル化を防ぎつつ、架橋性、分散性に非常に優れた磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を得ることができ、これにより高性能の磁気記録媒体を得ることができる。   According to the present invention, an existing vinyl chloride resin or polyurethane resin having an active hydrogen group is used as a raw material for a magnetic recording medium having excellent crosslinkability and dispersibility while preventing thickening and gelation of a paint. An electron beam curable resin can be obtained, whereby a high-performance magnetic recording medium can be obtained.

以下、本発明の具体的な実施の形態について詳細に説明する。
本発明の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂は、塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂を原料とし、これを、特定のDI−HAアダクト体を用いて電子線感応変性することにより得られるものである。
Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail.
The electron beam curable resin for a magnetic recording medium of the present invention is obtained by using a vinyl chloride resin or a polyurethane resin as a raw material and subjecting it to electron beam sensitive modification using a specific DI-HA adduct. is there.

本発明で用いられる原料の塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂は既存の(汎用)のものでも新規なものでもよいが、分子内に水酸基や、1級及び2級アミンのような活性水素基を持つことが、反応を行う上で必要である。   The raw material vinyl chloride resin or polyurethane resin used in the present invention may be an existing (general purpose) or novel resin, but has an active hydrogen group such as a hydroxyl group or a primary or secondary amine in the molecule. It is necessary to carry out the reaction.

このような樹脂としては特に制限されないが、具体的に塩化ビニル系樹脂としてはMR110、MR104、MR112、MR113(日本ゼオン(株)製)、ソルバインA、ソルバインTAO、ソルバインMK6(日信化学工業(株)製)等が挙げられ、また、ポリウレタン系樹脂としてはエステン5778P、エステン5799P(BF GOODRICH(グッドリッチ)社製)、UR8700、UR8300(東洋紡績(株)製)、N−3167、N−3301、TK501K(日本ポリウレタン工業(株)製)等が挙げられる。   Such a resin is not particularly limited, but specific examples of the vinyl chloride resin include MR110, MR104, MR112, MR113 (manufactured by ZEON CORPORATION), Solvein A, Solvein TAO, Solvein MK6 (Nisshin Chemical Industry ( In addition, as polyurethane resins, ESTEN 5778P, ESTEN 5799P (manufactured by BF GOODRICH (Goodrich)), UR8700, UR8300 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.), N-3167, N- 3301, TK501K (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) and the like.

これらの樹脂の活性水素と反応させ、当該樹脂を電子線感応変性するために用いる化合物DI−HAアダクト体は、ジイソシアネート(DI)とヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)との反応物である。ここで、本発明においては、ジイソシアネート(DI)とヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)とを、1よりも大きくかつ2未満のHA/DIモル比にて反応させることが重要である。このHA/DIモル比は、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.3以上で、かつ2未満である。ジイソシアネート(DI)とヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)との反応時のHA/DIモル比を前記範囲内とすることにより、塗料の増粘、ゲル化を効果的に防ぐことができる。   The compound DI-HA adduct used for reacting with the active hydrogen of these resins and electron beam sensitive modification of the resin is a reaction product of diisocyanate (DI) and hydroxy (meth) acrylate compound (HA). . Here, in the present invention, it is important to react the diisocyanate (DI) and the hydroxy (meth) acrylate compound (HA) at an HA / DI molar ratio of greater than 1 and less than 2. This HA / DI molar ratio is preferably 1.2 or more, more preferably 1.3 or more and less than 2. By setting the HA / DI molar ratio during the reaction of diisocyanate (DI) and hydroxy (meth) acrylate compound (HA) within the above range, thickening and gelation of the coating can be effectively prevented.

これに対し、特許文献1に記載されているような、本発明におけるHA/DIモル比から逸脱した配合比でDI−HAアダクト体を作ると、未反応のジイソシアネートが反応系に多量に残るため、得られたアダクト体を樹脂に反応させた場合、反応後の樹脂溶液の増粘、さらにはゲル化を起こすことにつながる。また、反応がスムーズに行われないため、樹脂皮膜の架橋性も低下することになる。さらに、このような樹脂を使用して顔料を分散させた場合、分散性の低下、塗膜の耐溶剤性の低下を起こすことになる。また、特許文献6では、アダクト体の生成反応において、モノヒドロキシ化合物とジイソシアネート化合物とを実質的に上記反応モル比で2.0未満となる割合で反応させる技術が記載されているが、この技術においても、反応後に未反応のジイソシアネート化合物が残存するため、これを除去する工程を必須とする。従って、この技術は、未反応のジイソシアネート化合物の残存がなく、そのため未反応ジイソシアネート化合物の除去工程を必要としない本発明とは効果の点で大きく異なるものである。また、特許文献6の実施例においては反応モル比1.0の樹脂の製造例のみが記載されており、この反応モル比は本発明の範囲外である。   On the other hand, when a DI-HA adduct is produced with a blending ratio deviating from the HA / DI molar ratio in the present invention as described in Patent Document 1, a large amount of unreacted diisocyanate remains in the reaction system. When the obtained adduct body is reacted with a resin, it leads to thickening and further gelation of the resin solution after the reaction. Moreover, since reaction is not performed smoothly, the crosslinkability of a resin film will also fall. Further, when such a resin is used to disperse the pigment, the dispersibility is lowered and the solvent resistance of the coating film is lowered. Patent Document 6 describes a technique of reacting a monohydroxy compound and a diisocyanate compound at a ratio of substantially less than 2.0 in the above reaction molar ratio in the adduct formation reaction. However, since an unreacted diisocyanate compound remains after the reaction, a step of removing it is essential. Therefore, this technique is significantly different from the present invention in that there is no remaining unreacted diisocyanate compound, and therefore does not require a step of removing the unreacted diisocyanate compound. Moreover, in the Example of patent document 6, only the manufacture example of resin of reaction molar ratio 1.0 is described, and this reaction molar ratio is outside the scope of the present invention.

ここで、かかるアダクト体の原料として使用されるジイソシアネート(DI)としては、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、2,4−トルエンジイソシアネート(2,4−TDI)、2,6−トルエンジイソシアネート(2,6−TDI)、1,4−キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート等が挙げられるが、この中で、イソホロンジイソシアネート(IPDI)を用いると、アダクト体の結晶性が小さく、その後の変性がスムーズに進むため好ましい。他のジイソシアネートの場合、アダクト体の結晶性が高くなり、反応系への溶解性が落ちるため、反応がスムーズに進まなくなって、若干増粘する傾向がある。その結果、分散性が若干低下する。   Here, as a diisocyanate (DI) used as a raw material of such an adduct body, isophorone diisocyanate (IPDI), 2,4-toluene diisocyanate (2,4-TDI), 2,6-toluene diisocyanate (2,6- TDI), 1,4-xylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, paraphenylene diisocyanate, etc. Among them, when isophorone diisocyanate (IPDI) is used, the crystallinity of the adduct is small and the subsequent modification is smooth. This is preferable because it goes forward. In the case of other diisocyanates, the crystallinity of the adduct is increased and the solubility in the reaction system is lowered, so that the reaction does not proceed smoothly and the viscosity tends to increase slightly. As a result, the dispersibility is slightly reduced.

また、アダクト体のもう一つの原料であるヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)は、単にヒドロキシアクリレート系化合物とも称し、ヒドロキシアクリレート化合物とヒドロキシメタクリレート化合物を包含するものである。かかる化合物は、特に限定されるものではないが、具体的には2−ヒドロキシエチルアクリレート(2−HEA)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(2−HEMA)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシジエチレングリコールメタクリレート、ブトキシヒドロキシプロピルアクリレート、フェノキシヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルジメタクリレート、グリシドールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。   The hydroxy (meth) acrylate compound (HA), which is another raw material of the adduct body, is also simply referred to as a hydroxyacrylate compound and includes a hydroxyacrylate compound and a hydroxymethacrylate compound. Although such a compound is not particularly limited, specifically, 2-hydroxyethyl acrylate (2-HEA), 2-hydroxyethyl methacrylate (2-HEMA), 2-hydroxypropyl acrylate, hydroxydiethylene glycol methacrylate, butoxy Examples thereof include hydroxypropyl acrylate, phenoxyhydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl dimethacrylate, glycidol dimethacrylate, glycerol dimethacrylate, monohydroxypentaerythritol triacrylate and the like.

これらのDI−HAアダクト体と塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の活性水素とを反応させることで、当該樹脂の電子線感応変性が行われる。反応はメチルエチルケトン(MEK)、トルエン等の有機溶媒中で行われ、この反応の際には通常ジブチルスズジラウレート、オクチル酸スズ等のウレタン化触媒を反応物の総量100質量部に対して0.005〜0.1質量部用いて合成を行うことが好ましい。この反応温度は30〜80℃が好ましく、より好ましくは50〜70℃である。   By reacting these DI-HA adducts with active hydrogen of a vinyl chloride resin or a polyurethane resin, electron beam sensitive modification of the resin is performed. The reaction is carried out in an organic solvent such as methyl ethyl ketone (MEK) or toluene. In this reaction, a urethanization catalyst such as dibutyltin dilaurate or tin octylate is usually added in an amount of 0.005 to 100 parts by mass of the total amount of reactants. The synthesis is preferably performed using 0.1 part by mass. This reaction temperature is preferably 30 to 80 ° C, more preferably 50 to 70 ° C.

このようにして作製された電子線硬化型樹脂は、磁気記録媒体において、樹脂アンダーコート層、無機顔料を含むアンダーコート層、バックコート層および磁性層の結合剤として用いることができる。これらの層を総称して、以下「機能層」とも記載する。使用形態としては、かかる電子線硬化型樹脂単独でもよく、また、ポリウレタン系樹脂に代表されるような他の樹脂との混合形態で用いても構わない。   The electron beam curable resin thus produced can be used as a binder for a resin undercoat layer, an undercoat layer containing an inorganic pigment, a backcoat layer, and a magnetic layer in a magnetic recording medium. Hereinafter, these layers are also collectively referred to as “functional layers”. The usage form may be such an electron beam curable resin alone, or may be used in a mixed form with other resins typified by polyurethane resins.

本発明の電子線硬化型樹脂を電子線を用いて架橋する際の照射量は、好ましくは1〜10Mradであり、より好ましくは3〜7Mradである。また、その照射エネルギー(加速電圧)は100kV以上とすることが好ましい。   The irradiation amount when the electron beam curable resin of the present invention is crosslinked using an electron beam is preferably 1 to 10 Mrad, more preferably 3 to 7 Mrad. The irradiation energy (acceleration voltage) is preferably 100 kV or more.

本発明においては、機能層の結合剤として上記電子線硬化型樹脂を用いることにより、高い架橋性を有し、耐溶剤性に優れた機能層を備えた高性能の磁気記録媒体を得ることができる。本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、上記本発明の電子線硬化型樹脂を含有する層を備えるものであればよく、それ以外の構成材料、添加剤等には特に制限はないが、例えば、以下の材料を用いることができる。   In the present invention, by using the electron beam curable resin as a binder for the functional layer, it is possible to obtain a high-performance magnetic recording medium having a functional layer having high crosslinkability and excellent solvent resistance. it can. The magnetic recording medium of the present invention only needs to be provided with a layer containing the electron beam curable resin of the present invention on a non-magnetic support, and other constituent materials, additives, etc. are not particularly limited. For example, the following materials can be used.

非磁性支持体としては、ポリエステル、ポリアミドまたは芳香族ポリアミドなどの既知の樹脂フィルムもしくはこれらの積層樹脂フィルムから適宜選定することができ、その厚さ等についても既知の範囲内であり、特に制限されるべきものではない。   The non-magnetic support can be appropriately selected from known resin films such as polyester, polyamide or aromatic polyamide, or laminated resin films thereof, and the thickness thereof is also within a known range and is not particularly limited. It shouldn't be.

磁性層に用いる強磁性粉末は、好ましくは平均長軸長が0.15μm以下、より好ましくは0.03〜0.10μmの針状強磁性金属粉末である。平均長軸長が0.15μmを超えると、磁気記録媒体に要求される電磁変換特性(特に、S/NおよびC/N特性)を十分に満足することができなくなる傾向にある。また、バリウムフェライト等の六方晶形酸化鉄粉末を用いることもできる。六方晶形酸化鉄粉末の板状比は2〜7が好ましい。また、TEM観察による平均一次板径が10〜50nmであることが好ましい。これよりも大きいと、磁性層表面が悪化する傾向にある。   The ferromagnetic powder used for the magnetic layer is preferably an acicular ferromagnetic metal powder having an average major axis length of 0.15 μm or less, more preferably 0.03 to 0.10 μm. When the average major axis length exceeds 0.15 μm, the electromagnetic conversion characteristics (particularly, S / N and C / N characteristics) required for the magnetic recording medium tend not to be sufficiently satisfied. Further, hexagonal iron oxide powder such as barium ferrite can also be used. The plate ratio of the hexagonal iron oxide powder is preferably 2-7. Moreover, it is preferable that the average primary plate diameter by TEM observation is 10-50 nm. If it is larger than this, the magnetic layer surface tends to deteriorate.

このような強磁性粉末は、磁性層組成中に70〜90質量%程度含まれていればよい。強磁性粉末の含有量が多すぎると結合剤の含有量が減少するためカレンダ加工による表面平滑性が悪化しやすくなり、一方、少なすぎると高い再生出力が得られにくくなる。   Such a ferromagnetic powder should just be contained about 70-90 mass% in a magnetic layer composition. If the content of the ferromagnetic powder is too large, the content of the binder is reduced, so that the surface smoothness due to calendering tends to be deteriorated. On the other hand, if the content is too small, a high reproduction output is difficult to obtain.

磁性層用の結合剤樹脂としては、本発明の上記電子線硬化型樹脂の他、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、他の放射線硬化型樹脂やこれらの混合物を好適に使用することができ、特に制限されるべきものではない。   As the binder resin for the magnetic layer, in addition to the electron beam curable resin of the present invention, conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, other radiation curable resins, and mixtures thereof are preferably used. And should not be restricted in particular.

磁性層に用いられるこれらの結合剤樹脂の含有量は、強磁性粉末100質量部に対して5〜40質量部、特には10〜30質量部が好ましい。結合剤樹脂の含有量が少なすぎると磁性層の強度が低下するため、走行耐久性が悪化しやすくなる。一方、多すぎると強磁性金属粉末の含有量が低下するため、電磁変換特性が低下してくる。   The content of these binder resins used in the magnetic layer is preferably 5 to 40 parts by mass, particularly 10 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ferromagnetic powder. If the content of the binder resin is too small, the strength of the magnetic layer is lowered, and the running durability is likely to deteriorate. On the other hand, if the amount is too large, the content of the ferromagnetic metal powder is lowered, so that the electromagnetic conversion characteristics are lowered.

これらの結合剤樹脂を硬化させる架橋剤としては、例えば、熱硬化型樹脂の場合は、既知の各種ポリイソシアネートを挙げることができ、この架橋剤の含有量は結合剤樹脂100質量部に対し、10〜30質量部とすることが好ましい。また、磁性層中には、必要に応じ、研磨材、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、その他の各種添加物を添加してもよい。   As the crosslinking agent for curing these binder resins, for example, in the case of thermosetting resins, various known polyisocyanates can be mentioned, and the content of this crosslinking agent is 100 parts by mass of the binder resin. It is preferable to set it as 10-30 mass parts. Moreover, you may add dispersing agents, such as an abrasive | polishing material and surfactant, a higher fatty acid, and other various additives as needed in a magnetic layer.

磁性層形成用の塗料は、上記成分に有機溶剤を加えることにより調製される。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤やトルエン等の芳香族系溶剤などの各種溶剤の1種または2種以上を適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、固形分(強磁性金属粉末や各種無機粒子等)と結合剤樹脂との合計量100質量部に対して100〜1100質量部程度とすればよい。   The coating material for forming the magnetic layer is prepared by adding an organic solvent to the above components. The organic solvent to be used is not particularly limited, and one or more of various solvents such as ketone solvents such as methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, and aromatic solvents such as toluene may be appropriately selected and used. Good. The addition amount of the organic solvent may be about 100 to 1100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the solid content (ferromagnetic metal powder, various inorganic particles, etc.) and the binder resin.

本発明における磁性層の厚さは3.0μm以下とし、好ましくは0.01〜0.50μm、さらに好ましくは0.02〜0.30μmとする。磁性層が厚すぎると、自己減磁損失や厚み損失が大きくなる。   The thickness of the magnetic layer in the present invention is 3.0 μm or less, preferably 0.01 to 0.50 μm, more preferably 0.02 to 0.30 μm. If the magnetic layer is too thick, self-demagnetization loss and thickness loss increase.

上記アンダーコート層としての非磁性層は、磁性層と非磁性支持体との間に設けることができ、これにより、薄層化された磁性層の電磁変換特性についての改良がなされ、より一層の信頼性の向上に役立つものである。   The nonmagnetic layer as the undercoat layer can be provided between the magnetic layer and the nonmagnetic support, thereby improving the electromagnetic conversion characteristics of the thinned magnetic layer. It helps to improve reliability.

非磁性層に用いる非磁性粉末としては、各種無機質粉末を用いることができ、好ましくは、針状非磁性粉末、例えば、針状の非磁性酸化鉄(α−Fe23)などを挙げることができる。その他、炭酸カルシウム(CaCO3)、酸化チタン(TiO2)、硫酸バリウム(BaSO4)、α−アルミナ(α−Al23)等の各種非磁性粉末を適宜配合してもよい。また、非磁性層にはカーボンブラックを用いることが好ましい。かかるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネスブラック、ゴム用サーマルブラック、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。 As the nonmagnetic powder used in the nonmagnetic layer, various inorganic powders can be used. Preferably, acicular nonmagnetic powders such as acicular nonmagnetic iron oxide (α-Fe 2 O 3 ) are exemplified. Can do. In addition, various nonmagnetic powders such as calcium carbonate (CaCO 3 ), titanium oxide (TiO 2 ), barium sulfate (BaSO 4 ), and α-alumina (α-Al 2 O 3 ) may be appropriately blended. In addition, it is preferable to use carbon black for the nonmagnetic layer. As such carbon black, furnace black for rubber, thermal black for rubber, black for color, acetylene black and the like can be used.

カーボンブラックと無機質粉末の配合比率は、重量比で100/0〜10/90が好ましい。無機質粉末の配合比率が90を上回ると、表面電気抵抗で問題が生じやすくなる。   The mixing ratio of carbon black and inorganic powder is preferably 100/0 to 10/90 by weight. When the blending ratio of the inorganic powder exceeds 90, a problem is likely to occur due to surface electrical resistance.

非磁性層用の結合剤樹脂としては、磁性層と同様、本発明の上記電子線硬化型樹脂の他に、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、他の放射線硬化型樹脂やこれらの混合物等が使用されるが、これらの中でも放射線硬化型樹脂が好ましい。   As the binder resin for the non-magnetic layer, in addition to the electron beam curable resin of the present invention, as in the case of the magnetic layer, conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, other radiation curable resins, and these Although a mixture etc. are used, a radiation curable resin is preferable among these.

本発明における非磁性層中には、さらに、必要に応じ、磁性層に用いた界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコーンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。また、非磁性層用の塗料は、上記磁性層と同様の有機溶剤を同程度の添加量にて用いて作製することができる。   In the nonmagnetic layer of the present invention, if necessary, a dispersant such as a surfactant used in the magnetic layer, a lubricant such as a higher fatty acid, a fatty acid ester, a silicone oil, and other various additives are added. May be. In addition, the coating material for the nonmagnetic layer can be prepared using the same amount of organic solvent as that of the magnetic layer.

非磁性層の厚さは、好ましくは2.5μm以下、より好ましくは0.1〜2.3μmである。この厚さを2.5μmより厚くしても性能の向上は望めず、却って、塗膜を設ける際、厚みが不均一になり易く、塗布条件が厳しくなり、表面平滑性も悪くなりがちになる。   The thickness of the nonmagnetic layer is preferably 2.5 μm or less, more preferably 0.1 to 2.3 μm. Even if this thickness is made larger than 2.5 μm, the improvement in performance cannot be expected. On the other hand, when a coating film is provided, the thickness tends to be uneven, the application conditions become severe, and the surface smoothness tends to deteriorate. .

バックコート層は、走行安定性の改善や磁性層の帯電防止等のために、必要に応じて設けられる。バックコート層には、30〜80質量%のカーボンブラックを含有させることが好ましく、かかるカーボンブラックとしては通常使用されるものであればどのようなものであってもよく、上述の非磁性層に用いるものと同様のものを用いることができる。また、カーボンブラック以外に、必要に応じ、磁性層に用いた各種研磨材等の非磁性無機粉末や、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコーンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。   The back coat layer is provided as necessary for improving running stability and preventing the magnetic layer from being charged. The backcoat layer preferably contains 30 to 80% by mass of carbon black, and any carbon black that is normally used may be used as the carbon black. The thing similar to what is used can be used. In addition to carbon black, if necessary, nonmagnetic inorganic powders such as various abrasives used in the magnetic layer, dispersants such as surfactants, lubricants such as higher fatty acids, fatty acid esters, silicone oils, etc. Various additives may be added.

バックコート層の厚さ(カレンダー加工後)は、0.1〜1.5μm、好ましくは0.2〜0.8μmである。この厚さが1.5μmを超えると、媒体摺接経路との間の摩擦が大きくなりすぎて、走行安定性が低下する傾向にある。一方、0.1μm未満では、媒体の走行時にバックコート層の塗膜削れが発生しやすい。   The thickness of the back coat layer (after calendering) is 0.1 to 1.5 μm, preferably 0.2 to 0.8 μm. If this thickness exceeds 1.5 μm, the friction with the medium sliding contact path becomes too large, and the running stability tends to decrease. On the other hand, if the thickness is less than 0.1 μm, the coating film of the backcoat layer tends to be scraped when the medium is running.

以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明する。なお、以下において「部」とは「質量部」を、また「%」とは「質量%」を夫々意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In the following, “part” means “part by mass”, and “%” means “% by mass”.

合成例1:樹脂1
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)372部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 1: Resin 1
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 372 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体352部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂1を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 352 parts of the previously obtained IPDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 1 was obtained.

合成例2:樹脂2
1リットルの三口フラスコに、2,4−トリレンジイソシアネート(2,4TDI)330部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)372部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、2,4TDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 2: Resin 2
In a 1 liter three-necked flask, 330 parts of 2,4-tolylene diisocyanate (2,4TDI), 0.4 parts of dibutyltin dilaurate, 0. 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT). 24 parts were charged, and 372 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling at 60 ° C. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain a 2,4TDI-2HPA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られた2,4TDI−2HPAアダクト体352部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂2を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 352 parts of the previously obtained 2,4TDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 2 was obtained.

合成例3:樹脂3
1リットルの三口フラスコに、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)319部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)372部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、HDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 3: Resin 3
In a 1-liter three-necked flask, 319 parts of hexamethylene diisocyanate (HDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate, and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, While controlling at 60 ° C., 372 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise. After completion of the dropping, the mixture was taken out after stirring for 2 hours at 60 ° C. to obtain an HDI-2HPA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたHDI−2HPAアダクト体352部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂3を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 352 parts of the previously obtained HDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 3 was obtained.

合成例4:樹脂4
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシエチルメタクリレート(2HEMA)372部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HEMAアダクト体を得た。
Synthesis Example 4: Resin 4
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, While controlling at ° C., 372 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate (2HEMA) was added dropwise. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HEMA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HEMAアダクト体352部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂4を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 352 parts of the previously obtained IPDI-2HEMA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 4 was obtained.

合成例5:樹脂5
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながらモノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレート710部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレートアダクト体を得た。
Synthesis Example 5: Resin 5
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 710 parts of monohydroxypentaerythritol triacrylate was added dropwise while controlling at 0 ° C. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-monohydroxypentaerythritol triacrylate adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−モノヒドロキシペンタエリスリトールトリアクリレートアダクト体470部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂5を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 470 parts of the previously obtained IPDI-monohydroxypentaerythritol triacrylate adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 5 was obtained.

合成例6:樹脂6
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート424部(IPDI)と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)372部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 6: Resin 6
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) were charged, 60 372 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、日信化学工業(株)製 ソルバインTAO 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体352部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂6を得た。 Next, 630 parts of Solvein TAO manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, and 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) 0.09 part was charged, and after stirring at 70 ° C. for 3 hours, 352 parts of the previously obtained IPDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 6 was obtained.

合成例7:樹脂7
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)298部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 7: Resin 7
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 298 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体352部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂7を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 352 parts of the previously obtained IPDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 7 was obtained.

合成例8:樹脂8
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)322部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 8: Resin 8
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, While controlling at ° C., 322 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体352部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂8を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 352 parts of the previously obtained IPDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption of the isocyanate group (2270 cm −1 ) in the IR spectrum, the resin 8 was obtained.

合成例9:樹脂9
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)446部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 9: Resin 9
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 446 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体528部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂9を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 528 parts of the previously obtained IPDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 9 was obtained.

合成例10:樹脂10
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)372部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 10: Resin 10
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 372 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体68部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂10を得た。 Next, 630 parts of ESTEN 5778P manufactured by BF Goodrich, 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) Then, after stirring at 70 ° C. for 3 hours, 68 parts of the IPDI-2HPA adduct obtained above was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 10 was obtained.

合成例11:樹脂11
1リットルの三口フラスコに、2,4−トリレンジイソシアネート(2,4TDI)330部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)372部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、2,4TDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 11: Resin 11
In a 1 liter three-necked flask, 330 parts of 2,4-tolylene diisocyanate (2,4TDI), 0.4 parts of dibutyltin dilaurate, 0. 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT). 24 parts were charged, and 372 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling at 60 ° C. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain a 2,4TDI-2HPA adduct.

次に、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られた2,4TDI−2HPAアダクト体68部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂11を得た。 Next, 630 parts of ESTEN 5778P manufactured by BF Goodrich, 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 68 parts of the previously obtained 2,4TDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 11 was obtained.

合成例12:樹脂12
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシエチルメタクリレート(2HEMA)372部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HEMAアダクト体を得た。
Synthesis Example 12: Resin 12
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, While controlling at ° C., 372 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate (2HEMA) was added dropwise. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HEMA adduct.

次に、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HEMAアダクト体68部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂12を得た。 Next, 630 parts of ESTEN 5778P manufactured by BF Goodrich, 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) Then, after stirring at 70 ° C. for 3 hours, 68 parts of the IPDI-2HEMA adduct body obtained previously was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 12 was obtained.

合成例13:樹脂13
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)298部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 13: Resin 13
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 298 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体68部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂13を得た。 Next, 630 parts of ESTEN 5778P manufactured by BF Goodrich, 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) Then, after stirring at 70 ° C. for 3 hours, 68 parts of the IPDI-2HPA adduct obtained above was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 13 was obtained.

合成例14:樹脂14
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)322部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 14: Resin 14
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, While controlling at ° C., 322 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体68部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂14を得た。 Next, 630 parts of Esten 5778P manufactured by BF Goodrich, 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) And stirred at 70 ° C. for 3 hours, and then charged with 68 parts of the IPDI-2HPA adduct obtained above. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 14 was obtained.

合成例15:樹脂15
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)446部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 15: Resin 15
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 446 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体68部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂15を得た。 Next, 630 parts of ESTEN 5778P manufactured by BF Goodrich, 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) Then, after stirring at 70 ° C. for 3 hours, 68 parts of the IPDI-2HPA adduct obtained above was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 15 was obtained.

合成例16:樹脂16
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)248部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 16: Resin 16
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 248 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体352部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂16を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 352 parts of the previously obtained IPDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption of the isocyanate group (2270 cm −1 ) in the IR spectrum, the resin 16 was obtained.

合成例17:樹脂17
1リットルの三口フラスコに、2,4−トリレンジイソシアネート(2,4TDI)330部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)248部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、2,4TDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 17: Resin 17
In a 1 liter three-necked flask, 330 parts of 2,4-tolylene diisocyanate (2,4TDI), 0.4 parts of dibutyltin dilaurate, 0. 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT). 24 parts was charged, and 248 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling at 60 ° C. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain a 2,4TDI-2HPA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られた2,4TDI−2HPAアダクト体352部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂17を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 352 parts of the previously obtained 2,4TDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 17 was obtained.

合成例18:樹脂18
1リットルの三口フラスコに、トリレンジイソシアネート(TDI)348部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシエチルメタクリレート(2HEMA)260部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、TDI−2HEMAアダクト体を得た。
Synthesis Example 18: Resin 18
In a 1 liter three-necked flask, 348 parts of tolylene diisocyanate (TDI), 0.4 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.24 parts of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged. While controlling at 60 ° C., 260 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate (2HEMA) was added dropwise. After completion of the dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain a TDI-2HEMA adduct.

次に、日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたTDI−2HEMAアダクト体272部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂18を得た。 Next, 630 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 272 parts of the previously obtained TDI-2HEMA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 18 was obtained.

合成例19:樹脂19
3リットルの三口フラスコに、日本ゼオン(株)製 MR110 500部と、メチルエチルケトン(MEK)1250部と、ジブチルスズジラウレート0.5部と、ハイドロキノン0.3部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、2−イソシアネートエチルメタクリレート25部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂19を得た。
Synthesis Example 19: Resin 19
A 3-liter three-necked flask was charged with 500 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 1250 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 0.5 part of dibutyltin dilaurate, and 0.3 part of hydroquinone, and stirred at 70 ° C. for 3 hours. 25 parts of 2-isocyanatoethyl methacrylate were added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 19 was obtained.

合成例20:樹脂20
3リットルの三口フラスコに、日本ゼオン(株)製 MR110 500部と、メチルエチルケトン(MEK)725部と、トルエン725部とを仕込み80℃で3時間撹拌後、無水1,2−シクロヘキサンジカルボン酸21部を加えた。次いで、IRスペクトルにおいて酸無水物の特性吸収(1790cm-1及び1870cm-1)が消滅するまで80℃で反応させ、さらに無水1,2−シクロヘキサンジカルボン酸42部と、グリシジルメタクリレート58部と、ハイドロキノン0.05部と、トリエタノールアミン0.3部とを徐々に加え、80℃で20時間撹拌し、酸価が4未満になったことを確認した後取出し、樹脂20を得た。
Synthesis Example 20: Resin 20
A 3-liter three-necked flask was charged with 500 parts of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., 725 parts of methyl ethyl ketone (MEK), and 725 parts of toluene, stirred at 80 ° C. for 3 hours, and then 21 parts of anhydrous 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid. Was added. Next, the reaction is carried out at 80 ° C. until the characteristic absorption (1790 cm −1 and 1870 cm −1 ) of the acid anhydride disappears in the IR spectrum, and further 42 parts of anhydrous 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 58 parts of glycidyl methacrylate, hydroquinone 0.05 part and 0.3 part of triethanolamine were gradually added and stirred at 80 ° C. for 20 hours. After confirming that the acid value was less than 4, the resin 20 was obtained.

合成例21:樹脂21
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)496部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 21: Resin 21
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 496 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に日本ゼオン(株)製 MR110 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体528部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂21を得た。 Next, ZEON Corporation MR110 630 parts, methyl ethyl ketone (MEK) 2291 parts, dibutyltin dilaurate 2.45 parts, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) 0.09 parts And stirred at 70 ° C. for 3 hours, and then, 528 parts of the previously obtained IPDI-2HPA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 21 was obtained.

合成例22:樹脂22
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)248部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 22: Resin 22
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 248 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体68部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂22を得た。 Next, 630 parts of ESTEN 5778P manufactured by BF Goodrich, 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) Then, after stirring at 70 ° C. for 3 hours, 68 parts of the IPDI-2HPA adduct obtained above was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 22 was obtained.

合成例23:樹脂23
1リットルの三口フラスコに、イソホロンジイソシアネート(IPDI)424部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシプロピルアクリレート(2HPA)496部を滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、IPDI−2HPAアダクト体を得た。
Synthesis Example 23: Resin 23
Into a 1 liter three-necked flask, 424 parts of isophorone diisocyanate (IPDI), 0.4 part of dibutyltin dilaurate and 0.24 part of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged, 496 parts of 2-hydroxypropyl acrylate (2HPA) was added dropwise while controlling the temperature. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain an IPDI-2HPA adduct.

次に、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたIPDI−2HPAアダクト体68部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂23を得た。 Next, 630 parts of ESTEN 5778P manufactured by BF Goodrich, 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) Then, after stirring at 70 ° C. for 3 hours, 68 parts of the IPDI-2HPA adduct obtained above was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 23 was obtained.

合成例24:樹脂24
3リットルの三口フラスコに、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 500部と、メチルエチルケトン(MEK)1250部と、ジブチルスズジラウレート0.5部と、ハイドロキノン0.3部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、2−イソシアネートエチルメタクリレート25部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂24を得た。
Synthesis Example 24: Resin 24
A 3-liter three-necked flask was charged with 500 parts of EST Good 5778P, 1250 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 0.5 part of dibutyltin dilaurate, and 0.3 part of hydroquinone, and stirred at 70 ° C. for 3 hours. 25 parts of 2-isocyanatoethyl methacrylate were added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 24 was obtained.

合成例25:樹脂25
1リットルの三口フラスコに、トリレンジイソシアネート(TDI)348部と、ジブチルスズジラウレート0.4部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.24部とを仕込み、60℃に制御しながら2−ヒドロキシエチルメタクリレート(2HEMA)260部とを滴下した。滴下終了後、60℃で2時間撹拌後取出し、TDI−2HEMAアダクト体を得た。
Synthesis Example 25: Resin 25
In a 1 liter three-necked flask, 348 parts of tolylene diisocyanate (TDI), 0.4 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.24 parts of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) are charged. While controlling at 60 ° C., 260 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate (2HEMA) was added dropwise. After completion of the dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 60 ° C. and taken out to obtain a TDI-2HEMA adduct.

次に、BFグッドリッチ社製 エステン5778P 630部と、メチルエチルケトン(MEK)2291部と、ジブチルスズジラウレート2.45部と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)0.09部とを仕込み、70℃で3時間撹拌後、先に得られたTDI−2HEMAアダクト体68部を投入した。70℃で15時間撹拌後、IRスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収(2270cm-1)の消滅を確認した後取出し、樹脂25を得た。 Next, 630 parts of ESTEN 5778P manufactured by BF Goodrich, 2291 parts of methyl ethyl ketone (MEK), 2.45 parts of dibutyltin dilaurate, and 0.09 of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) After stirring at 70 ° C. for 3 hours, 68 parts of the previously obtained TDI-2HEMA adduct body was added. After stirring at 70 ° C. for 15 hours, after confirming the disappearance of the characteristic absorption (2270 cm −1 ) of the isocyanate group in the IR spectrum, the resin 25 was obtained.

実施例1
(評価1)架橋性評価
樹脂1の皮膜を剥離フィルム上に30μmの厚みで形成した後、加速電圧200kVの条件で6Mradの電子線を照射して皮膜を硬化させた。次に、剥離フィルムから電子線硬化後の樹脂皮膜を剥がし、下記の条件でゲル分率を測定した。
Example 1
(Evaluation 1) Crosslinkability evaluation After forming a film of resin 1 with a thickness of 30 μm on a release film, the film was cured by irradiation with an electron beam of 6 Mrad under the condition of an acceleration voltage of 200 kV. Next, the resin film after electron beam curing was peeled off from the release film, and the gel fraction was measured under the following conditions.

<ゲル分率測定条件>
溶剤:メチルエチルケトン(MEK)
抽出条件:MEK 煮沸
抽出時間:5時間
上記条件にて抽出を行い、抽出前後の樹脂皮膜の重量を測定して、その差からゲル分率を算出した。
<Gel fraction measurement conditions>
Solvent: Methyl ethyl ketone (MEK)
Extraction conditions: MEK Boiling extraction time: 5 hours Extraction was performed under the above conditions, the weight of the resin film before and after extraction was measured, and the gel fraction was calculated from the difference.

(評価2)顔料、磁性粉含有皮膜の架橋性及び分散性の評価
金属磁性粉、α−酸化鉄/カーボンブラック混合系、カーボンブラックの3種類の系にて、各々を樹脂中に分散し、架橋させたサンプルの架橋性評価として、耐溶剤性の評価を行なった。また、分散性の評価として表面粗さ(Ra)の測定を行った。
(Evaluation 2) Evaluation of crosslinkability and dispersibility of pigment and magnetic powder-containing coating In each of three types of systems, metal magnetic powder, α-iron oxide / carbon black mixed system, and carbon black, each is dispersed in a resin. As the crosslinkability evaluation of the cross-linked sample, solvent resistance was evaluated. Moreover, the surface roughness (Ra) was measured as dispersibility evaluation.

(1)金属磁性粉の評価
磁性塗料サンプルの作製
金属磁性粉(Fe/Co/Al/Y=100/10/5.2/2.0(重量比))
100部
(Hc=145.6kA/m(1830 Oe),σs=130Am2/kg,BET比表面積=57m2/g,平均長軸長=0.10μm)
樹脂1 70部
MEK 120部
トルエン 120部
シクロヘキサノン 70部
上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミルにて分散を行い、磁性塗料を作製した。
(1) Evaluation of metal magnetic powder
Preparation of magnetic paint sample Metallic magnetic powder (Fe / Co / Al / Y = 100/10 / 5.2 / 2.0 (weight ratio))
100 parts (Hc = 145.6 kA / m (1830 Oe), σs = 130 Am 2 / kg, BET specific surface area = 57 m 2 / g, average major axis length = 0.10 μm)
Resin 1 70 parts MEK 120 parts Toluene 120 parts Cyclohexanone 70 parts The above composition was kneaded and then dispersed in a sand grinder mill to prepare a magnetic paint.

次に、得られた磁性塗料を6.1μm厚のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に乾燥膜厚1.5μmの厚みとなるように塗布し、乾燥温度100℃で乾燥後、線圧2.9×105N/m、温度90℃にてカレンダー処理を行い、続いて電子線(EB)照射(6Mrad)を行い、硬化済みの磁性塗料の皮膜を作製した。 Next, the obtained magnetic coating material was applied on a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 6.1 μm so as to have a dry film thickness of 1.5 μm, dried at a drying temperature of 100 ° C., and then subjected to a linear pressure of 2.9. A calender treatment was performed at × 10 5 N / m and a temperature of 90 ° C., followed by electron beam (EB) irradiation (6 Mrad) to prepare a cured magnetic coating film.

(2)α−酸化鉄/カーボンブラック混合系顔料の評価
非磁性塗料サンプルの作製
非磁性粉末:針状α−Fe23 80部
(平均短軸径=18nm,アスペクト比=6.1,pH=8.9)
カーボンブラック(三菱化学(株)製:#850B) 20部
(平均粒径=16nm,BET比表面積=200m2/g,DBP吸油量=70ml/100g)
樹脂1 70部
MEK 120部
トルエン 120部
シクロヘキサノン 70部
上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミルにて分散を行い、非磁性塗料を作製した。
(2) Evaluation of α-iron oxide / carbon black mixed pigment
Preparation of nonmagnetic paint sample Nonmagnetic powder: 80 parts of acicular α-Fe 2 O 3 (average minor axis diameter = 18 nm, aspect ratio = 6.1, pH = 8.9)
20 parts of carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation: # 850B) (average particle size = 16 nm, BET specific surface area = 200 m 2 / g, DBP oil absorption = 70 ml / 100 g)
Resin 1 70 parts MEK 120 parts Toluene 120 parts Cyclohexanone 70 parts The above composition was kneaded and then dispersed in a sand grinder mill to prepare a nonmagnetic paint.

次に、得られた非磁性塗料を6.1μm厚のPETフィルム上に乾燥膜厚1.5μmの厚みとなるように塗布し、乾燥温度100℃で乾燥後、線圧2.9×105N/m、温度90℃にてカレンダー処理を行い、続いてEB照射(6Mrad)を行い、硬化済みの非磁性塗料の皮膜を作製した。 Next, the obtained nonmagnetic coating material was applied onto a 6.1 μm thick PET film so as to have a dry film thickness of 1.5 μm, dried at a drying temperature of 100 ° C., and then subjected to a linear pressure of 2.9 × 10 5. A calendar process was performed at N / m and a temperature of 90 ° C., followed by EB irradiation (6 Mrad) to prepare a cured non-magnetic coating film.

(3)カーボンブラック系の評価
カーボンブラック塗料サンプルの作製
カーボンブラック 100部
(コロンビアンカーボン社製:Conductex SC 平均粒径=20nm,BET比表面積=220m2/g)
カーボンブラック 1部
(コロンビアンカーボン社製:Sevacarb MT 平均粒径=350nm,BET比表面積=8m2/g)
樹脂1 330部
MEK 350部
トルエン 350部
シクロヘキサノン 170部
上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミルにて分散を行った。
(3) Evaluation of carbon black
Preparation of carbon black paint sample 100 parts of carbon black (manufactured by Colombian Carbon: Conductex SC, average particle diameter = 20 nm, BET specific surface area = 220 m 2 / g)
Carbon black 1 part (manufactured by Colombian Carbon: Sevacarb MT average particle size = 350 nm, BET specific surface area = 8 m 2 / g)
Resin 1 330 parts MEK 350 parts Toluene 350 parts Cyclohexanone 170 parts The above composition was kneaded and then dispersed in a sand grinder mill.

次に、カーボンブラック塗料を6.1μm厚のPETフィルム上に乾燥膜厚1.5μmの厚みとなるように塗布し、乾燥温度100℃で乾燥後、線圧2.9×105N/m、温度70℃にてカレンダー処理を行い、続いてEB照射(6Mrad)を行い、硬化済みのカーボンブラック塗料の皮膜を作製した。 Next, a carbon black paint was applied on a 6.1 μm thick PET film so as to have a dry film thickness of 1.5 μm, dried at a drying temperature of 100 ° C., and then a linear pressure of 2.9 × 10 5 N / m. Then, a calendar treatment was performed at a temperature of 70 ° C., followed by EB irradiation (6 Mrad) to prepare a film of a cured carbon black paint.

以上の方法で作製した各皮膜サンプルについて、以下の方法・基準にて耐溶剤性を評価した。
(1)MEKを浸した綿棒を使用した。
(2)皮膜上を綿棒でこすった。
(3)何回こすったところで皮膜がなくなるかカウントした。
(4)15回以上:◎
10回以上15回未満:○
5回以上10回未満:△
1回以上5回未満:×
とした。
About each film | membrane sample produced with the above method, solvent resistance was evaluated with the following method and reference | standard.
(1) A cotton swab dipped in MEK was used.
(2) The film was rubbed with a cotton swab.
(3) Count how many times the film was rubbed.
(4) 15 times or more: ◎
10 times or more and less than 15 times: ○
5 times or more and less than 10 times: △
1 to less than 5 times: ×
It was.

また、表面の粗さの評価として下記の条件で測定を行った。
測定器:テーラーホブソン社製タリステップシステム
測定条件:フィルター条件 0.18〜9Hz
触針 0.1×2.5μm特殊スタイラス
触針圧 2mg
測定スピード 0.03mm/sec
測定長 500μm
Further, as an evaluation of surface roughness, measurement was performed under the following conditions.
Measuring instrument: Taylor Hobson Talystep system Measurement conditions: Filter conditions 0.18-9Hz
Stylus 0.1 × 2.5μm special stylus
Stylus pressure 2mg
Measurement speed 0.03mm / sec
Measurement length 500μm

実施例2
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂2を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 2
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 2 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例3
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂3を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 3
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 3 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例4
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂4を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 4
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 4 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例5
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂5を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 5
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 5 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例6
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂6を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 6
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 6 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例7
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂7を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 7
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 7 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例8
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂8を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 8
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 8 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例9
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂9を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 9
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 9 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例10
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂10を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 10
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 10 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例11
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂11を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 11
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 11 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例12
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂12を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 12
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 12 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例13
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂13を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 13
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 13 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例14
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂14を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 14
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 14 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例15
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂15を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Example 15
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 15 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例1
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂16を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 1
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 16 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例2
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂17を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 2
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 17 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例3
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂18を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 3
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 18 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例4
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂19を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 4
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 19 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例5
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂20を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 5
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 20 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例6
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂21を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 6
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 21 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例7
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂22を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 7
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 22 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例8
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂23を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 8
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 23 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例9
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂24を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 9
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 24 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例10
実施例1で樹脂1の代わりに、樹脂25を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 10
A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin 25 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

比較例11
日本ゼオン(株)製 MR110 300gをメチルエチルケトン(MEK)700gに溶解し、樹脂溶液1を作製した。実施例で樹脂1の代わりに、前記樹脂溶液1を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 11
300 g of MR110 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. was dissolved in 700 g of methyl ethyl ketone (MEK) to prepare a resin solution 1. A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin solution 1 was used instead of the resin 1, and the same evaluation was performed.

比較例12
BFグッドリッチ社製 エステン5778P 300gをメチルエチルケトン(MEK)700gに溶解し、樹脂溶液2を作製した。実施例1で樹脂1の代わりに、前記樹脂溶液2を用いた他は実施例1と同様に皮膜サンプルを作製し、同様の評価を行った。
Comparative Example 12
300 g of ESTEN 5778P manufactured by BF Goodrich was dissolved in 700 g of methyl ethyl ketone (MEK) to prepare a resin solution 2. A film sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin solution 2 was used instead of the resin 1 in Example 1, and the same evaluation was performed.

実施例1〜15および比較例1〜12で用いた樹脂、ジイソシアネート(DI)、ヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)およびDI−HIアダクト体合成時のHI/DIモル比を下記の表1にまとめて示す。また、評価結果を下記の表2〜5に示す。   The HI / DI molar ratio at the time of synthesizing the resin, diisocyanate (DI), hydroxy (meth) acrylate compound (HA) and DI-HI adduct used in Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 12 is shown in Table 1 below. It summarizes and shows. The evaluation results are shown in Tables 2 to 5 below.

Figure 2005008866
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Figure 2005008866
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Figure 2005008866
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Figure 2005008866
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Figure 2005008866
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Claims (4)

ジイソシアネート(DI)とヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)とを、1よりも大きくかつ2未満のHA/DIモル比にて反応させて得られたDI−HAアダクト体と、分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂の該活性水素基とを反応させてなることを特徴とする磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂。   A DI-HA adduct obtained by reacting diisocyanate (DI) with a hydroxy (meth) acrylate compound (HA) at a HA / DI molar ratio of greater than 1 and less than 2, and active in the molecule An electron beam curable resin for a magnetic recording medium, which is obtained by reacting the active hydrogen group of a vinyl chloride resin or a polyurethane resin having a hydrogen group. 前記ジイソシアネート(DI)がイソホロンジイソシアネート(IPDI)である請求項1記載の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂。   2. The electron beam curable resin for magnetic recording media according to claim 1, wherein the diisocyanate (DI) is isophorone diisocyanate (IPDI). ジイソシアネート(DI)とヒドロキシ(メタ)アクリレート系化合物(HA)とを、1よりも大きくかつ2未満のHA/DIモル比にて反応させ、次いで、得られたDI−HAアダクト体と、分子内に活性水素基を有する塩化ビニル系樹脂又はポリウレタン系樹脂とを反応させることを特徴とする磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂の製造方法。   Diisocyanate (DI) and hydroxy (meth) acrylate compound (HA) are reacted at a HA / DI molar ratio of greater than 1 and less than 2, and then the resulting DI-HA adduct and intramolecular A method for producing an electron beam curable resin for a magnetic recording medium, comprising reacting an active hydrogen group with a vinyl chloride resin or a polyurethane resin. 非磁性支持体上に、請求項1または2記載の磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂を含有する層を備えることを特徴とする磁気記録媒体。   A magnetic recording medium comprising a layer containing the electron beam curable resin for a magnetic recording medium according to claim 1 on a nonmagnetic support.
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