JP2004515481A

JP2004515481A - 固体支持体上の４級アミノ酸

Info

Publication number: JP2004515481A
Application number: JP2002547868A
Authority: JP
Inventors: ダルジットダノア，; マイケルジョンソン，; ケキアンリー，; エルゾディフランコ，
Original assignee: Pharmacore Inc
Current assignee: Pharmacore Inc
Priority date: 2000-12-06
Filing date: 2001-12-06
Publication date: 2004-05-27
Also published as: US20020086949A1; AU2002239520A1; WO2002046128A2; EP1373195A2; CA2431133A1; US6713580B2; WO2002046128A3

Abstract

本発明は、新規の化合物の作製に有用な新規のテンプレートおよび前記テンプレートを使用して生成された化合物に関する。テンプレートは、固体支持体に結合することができる４級アミノ酸を含む。これらのテンプレートにより複数の化学反応を介して化合物の新規の分野の生成が可能である。テンプレートは、医薬品発見管理体制での使用で有利である。

Description

【０００１】
（関連出願の記述）
本出願は、米国法典第３５編１１９条の下、「固体支持体上の４級アミノ酸」という発明の名称の２０００年１２月６日提出の米国特許仮出願番号６０／２５１，７２８号（その開示が本明細書中で参考として援用される）の優先権を主張する。
【０００２】
（発明の分野）
本発明は、新規の化合物の作製に有用な新規のテンプレート（鋳型）および前記テンプレートを使用して生成された化合物に関する。テンプレートは、固体支持体に結合することができる４級アミノ酸を含む。これらのテンプレートにより複数の化学反応を介して化合物の新規の分野の生成が可能である。テンプレートは、医薬品発見管理体制での使用で有利である。
【０００３】
（発明の背景）
ポリペプチドおよびオリゴヌクレオチド合成のための固相合成技術の使用は公知である。より最近では、有機小分子合成のための固相技術の使用は、主要な研究対象となりつつある。主な重要項目は、固相技術の自動化であり、それに付随して化合物の処理量および効率が増加している。これは、１つの新薬を見出すために１０，０００種の化合物を合成および試験することを評価する薬学研究分野で盛んに利用されている（Ｓｃｉｅｎｃｅ、２５９巻、１５６４号、１９９３年）。現在、薬学および農産業のほとんど全体で化合物の処理量を増加させるためのコンビナトリアル・ケミストリー技術（ｃｏｍｂｉｎａｔｏｒｉａｌｃｈｅｍｉｓｔｒｙｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ）が注目されている。
【０００４】
コンビナトリアル・ケミストリーのさらなる態様は、新規のリード構造についての研究において製薬会社によるスクリーニングに利用可能な化合物ストックの化学的多様性に関する。これらは、各会社内の医化学技術によってこれまで調査されてきた化合物の分野に制限される傾向があった。したがって、新規の分野の分子の入手可能性がスクリーニングのために主に必要とされている。
【０００５】
有効な自動化装置およびプロセスの開発の結果として、コンビナトリアル・ケミストリーでは並行合成技術が最も広範に使用されている方法となっている。薬学および農学研究分野では、スクリーニングおよび臨床試験用の多数の新規の分野の化合物を作製するための高度に柔軟なテクノロジーおよびポリマー支持体を含むか含まない化学的構成単位が非常に必要とされている。
【０００６】
したがって、本発明で示すようなテンプレートが特に創薬用の化合物を含むペプチドおよびアミノ酸の合成において非常に望ましく且つ価値がある。
【０００７】
（発明の要旨）
本発明は、新規の化合物を作製するために使用することができる支持体テンプレートを提供する。支持体テンプレートは、ポリマー支持体に結合して化学的発見のプラットフォームを形成することができるアミノ酸を含む。
【０００８】
大まかに言えば、本発明は、薬学、農学、食品、および／または関連する背景で有用であり得るペプチド、他のアミノ酸、および他の化合物を含む分子の合成用のテンプレートとして使用することができる４級アミノ酸を提供する。４級アミノ酸を固体支持体に結合させて、他の合成および単離技術に対して比較的不安定な中間体を含む化合物を有利に合成可能な固相合成技術で使用することができるテンプレートを形成することができる。本発明の実施形態を、並行合成技術を使用したコンビナトリアル・ケミストリーで使用して、潜在的に有用な化合物の巨大なライブラリーを作製およびスクリーニングすることができる。
【０００９】
本発明の詳細および実施形態を以下および添付の図面に記載する。
【００１０】
（発明の詳細な説明）
１つの態様では、本発明は、式：
【化７５】

（式中、文字Ｚは固体ポリマー支持体の残基を示す）で示す４級アミノ酸テンプレートを提供する。好ましくは、Ｚは、メリフィールド樹脂（Ｍｅｒｒｉｆｉｅｌｄｒｅｓｉｎ）、ヒドロキシメチル樹脂、ワング樹脂（Ｗａｎｇｒｅｓｉｎ）、アミノメチル樹脂、ＳＡＳＲＩＮ樹脂、ＴｅｎｔａＧｅｌＳＡＣ樹脂、ＴｅｎｔａＧｅｌＰＨＢ樹脂、またはＴｅｎｔａＧｅｌＳＮＨ_２樹脂を含む。特に好ましい実施形態は、Ｚがメリフィールド樹脂またはワング樹脂を含むものである。
【００１１】
記号Ｌ^１は、式−Ｏ−、−ＮＨ−、または−Ｏ−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２Ｏ−の二価の基を含む二価の結合を示す。好ましくは、Ｌ^１は、−Ｏ−または−ＮＨ−を含む。
【００１２】
記号Ｌ^２は、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、または直接的単結合を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｌ^２は、メチレン、エチレン、または直接的単結合を含む。より好ましくは、Ｌ^２は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含む。
【００１３】
記号Ｌ^３は、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、または直接的単結合を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｌ^３は、メチレン、エチレン、または直接的単結合を含む。より好ましくは、Ｌ^３は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含む。
【００１４】
記号Ｌ^４は、アルキレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、
【化７６】

、または直接的単結合もしくは二重結合を含み、Ｌ^５は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｌ^４は、低級アルキレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、
【化７７】

、または直接的単結合を含む。より好ましくは、Ｌ^４は、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、
【化７８】

、または直接的単結合を含む。
【００１５】
文字Ｅは、−Ｎ−、−ＣＨ−、または−Ｃ＝を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｅは、−Ｎ−または−ＣＨ−を含む。
【００１６】
文字Ｋは、−Ｎ−、−ＣＨ−、または−Ｃ＝を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｋは、−Ｎ−または−ＣＨ−を含む。
【００１７】
好ましくは、基Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４、Ｅ、およびＫは、３〜８員環を含むように選択される。
【００１８】
記号ＰＧは、水素またはアミノ保護基を含む基を示す。好ましい実施形態では、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、フェニル、ベンジル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含む。より好ましくは、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含む。
【００１９】
記号Ｒ^１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化７９】

を含む基を示し、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^９、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。好ましい実施形態では、Ｒ^１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化８０】

を含む基を示し、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。より好ましくは、Ｒ^１は、水素、ハロ、および−ＯＧ^３を含み、Ｇ^３は、
【化８１】

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、ＯＲ^１８、ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。さらにより好ましくは、Ｒ^１は、水素、ハロゲン、−ＯＨ、−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチル、または−Ｏ−ベンジルを含む。
【００２０】
記号Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含む基を示し、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化８２】

を含む基を示し、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^９、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。好ましい実施形態では、Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化８３】

を含む基を示し、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。より好ましくは、Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、または−Ｇ^５を含み、Ｇ^５は、
【化８４】

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含み、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。さらにより好ましくは、Ｒ^２は、水素、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含む。
【００２１】
Ｒ^１とＲ^２とでシクロアルキル環またはヘテロサイクリル環を構成することができるか、Ｌ^４が直接的結合を含む場合、Ｒ^１とＲ^２とで縮合アリール環またはへテロアリール環を構成することができる。
【００２２】
第２の態様では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ａ）：
【化８５】

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂、ヒドロキシメチル樹脂、ワング樹脂、またはアミノメチル樹脂を含み、ＥおよびＫは、独立して−ＣＨ−を含み、Ｌ^１は、−Ｏ−または−ＮＨ−を含み、Ｌ^２およびＬ^３は独立して−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含み、Ｌ^４は、−ＣＨ_２−、−Ｃ（Ｏ）−、
【化８６】

、または直接的単結合を含み、Ｌ^５は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１およびＲ^２は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含む基を示し、Ｒ^１とＲ^２とでシクロアルキル環またはヘテロサイクリル環を構成することができ、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化８７】

を含む基を示し、Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す）によって示される。
【００２３】
第２の態様の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｂ）：
【化８８】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は、−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−ＣＨ_２−を含み、ＥとＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１およびＲ^２は独立して水素を含む）によって示される。
【００２４】
第２の態様の第２の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化８９】

で示される。
【００２５】
第２の態様の第３の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化９０】

で示される。
【００２６】
第２の態様の第４の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｃ）：
【化９１】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は、
【化９２】

を含み、Ｌ^５は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１およびＲ^２は独立して水素を含む）で示される。
【００２７】
第２の態様の第５の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化９３】

で示される。
【００２８】
第２の態様の第６の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化９４】

で示される。
【００２９】
第２の態様の第７の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｄ）：
【化９５】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−ＣＨ−を含み、Ｒ^２はＨを含み、Ｒ^１は−ＯＧ_３を含み、Ｇ^３は、
【化９６】

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、ＯＲ^１８、ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す）によって示される。
【００３０】
第２の態様の第８の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｅ）：
【化９７】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は−ＯＨを含み、Ｒ^２は水素を含む）によって示される。
【００３１】
第２の態様の第９の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化９８】

で示される。
【００３２】
第２の態様の第１０の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化９９】

で示される。
【００３３】
第２の態様の第１１の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｇ）：
【化１００】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルを含み、Ｒ^２は水素を含む）で示される。
【００３４】
第２の態様の第１２の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１０１】

で示される。
【００３５】
第２の態様の第１３の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１０２】

で示される。
【００３６】
第２の態様の第１４の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｈ）：
【化１０３】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は−Ｏ−Ｇ^３を含み、Ｒ^２は水素を含み、Ｇ^３は、
【化１０４】

を含む基を示し、
Ｌ^７、Ｌ^８は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す）によって示される。
【００３７】
第２の態様の第１５の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｉ）：
【化１０５】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接単結合を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は−ＯＨを含み、Ｒ^２は水素を含む）で示される。
【００３８】
第２の態様の第１６の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１０６】

で示される。
【００３９】
第２の態様の第１７の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１０７】

で示される。
【００４０】
第２の態様の第１８の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｊ）：
【化１０８】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルを含み、Ｒ^２は水素を含む）で示される。
【００４１】
第２の態様の第１９の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１０９】

で示される。
【００４２】
第２の態様の第２０の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１１０】

で示される。
【００４３】
第２の態様の第２１の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｋ）：
【化１１１】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は−Ｏ−ベンジルを含み、Ｒ^２は水素を含む）で示される。
【００４４】
第２の態様の第２２の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１１２】

で示される。
【００４５】
第２の態様の第２３の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１１３】

で示される。
【００４６】
第３の態様では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ａ）：
【化１１４】

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂、ヒドロキシメチル樹脂、ワング樹脂、またはアミノメチル樹脂を含み、ＥおよびＫは、独立して−ＣＨ−を含み、Ｌ^１は、−Ｏ−または−ＮＨ−を含み、Ｌ^２およびＬ^３は独立して−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含み、Ｌ^４は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、または−Ｓ（Ｏ）_２−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１およびＲ^２は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含む基を示し、Ｒ^１とＲ^２とでシクロアルキル環またはヘテロサイクリル環を構成することができ、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化１１５】

を含む基を示し、Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す）によって示される。
【００４７】
第３の態様の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｌ）：
【化１１６】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−Ｏ−を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１およびＲ^２は独立して水素を含む）で示される。
【００４８】
第３の態様の第２の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１１７】

で示される。
【００４９】
第３の態様の第３の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１１８】

で示される。
【００５０】
第３の態様の第４の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｍ）：
【化１１９】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−Ｓ−を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１およびＲ^２は独立して水素を含む）で示される。
【００５１】
第３の態様の第５の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１２０】

で示される。
【００５２】
第３の態様の第６の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１２１】

で示される。
【００５３】
第３の態様の第７の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｎ）：
【化１２２】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−Ｓ（Ｏ）_２−を含み、ＥおよびＫは独立して−ＣＨ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１およびＲ^２は独立して水素を含む）で示される。
【００５４】
第３の態様の第８の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１２３】

で示される。
【００５５】
第３の態様の第９の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１２４】

で示される。
【００５６】
第４の態様では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｏ）：
【化１２５】

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂、ヒドロキシメチル樹脂、ワング樹脂、またはアミノメチル樹脂を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、Ｌ^１は、−Ｏ−または−Ｎ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は、直接的単結合を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｇ^３、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化１２６】

を含む基を示し、Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示し、
Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、または−Ｇ^５を含み、Ｇ^５は、
【化１２７】

を含む基を示し、Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す）によって示される。
【００５７】
第４の態様の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｐ）：
【化１２８】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は、−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は、直接的単結合を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は水素を含み、Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、または−Ｇ^５を含み、Ｇ^５は、
【化１２９】

を含む基を示し、Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す）によって示される。
【００５８】
第４の態様の第２の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｑ）：
【化１３０】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１およびＲ^２は独立して水素を含む）で示される。
【００５９】
第４の態様の第３の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１３１】

で示される。
【００６０】
第４の態様の第４の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１３２】

で示される。
【００６１】
第４の態様の第５の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｒ）：
【化１３３】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は水素を含み、Ｒ^２は９−フルオレニルメトキシカルボニルを含む）で示される。
【００６２】
第４の態様の第６の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１３４】

で示される。
【００６３】
第４の態様の第７の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１３５】

で示される。
【００６４】
第４の態様の第８の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｓ）：
【化１３６】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は水素を含み、Ｒ^２はベンジルを含む）で示される。
【００６５】
第４の態様の第９の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１３７】

で示される。
【００６６】
第４の態様の第１０の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１３８】

で示される。
【００６７】
第４の態様の第１１の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｔ）：
【化１３９】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は直接的単結合を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は水素を含み、Ｒ^２はベンジルオキシカルボニルを含む）で示される。
【００６８】
第４の態様の第１２の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１４０】

で示される。
【００６９】
第４の態様の第１３の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１４１】

で示される。
【００７０】
第５の態様では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｖ）：
【化１４２】

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂、ヒドロキシメチル樹脂、ワング樹脂、またはアミノメチル樹脂を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、Ｌ^１は、−Ｏ−または−Ｎ−を含み、Ｌ^２は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−ＣＨ_２−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｇ^３、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化１４３】

を含む基を示し、Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示し、
Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、または−Ｇ^５を含み、Ｇ^５は、
【化１４４】

を含む基を示し、Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す）によって示される。
【００７１】
第５の態様の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｖ）：
【化１４５】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−ＣＨ_２−を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は水素を含み、Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、または−Ｇ^５を含み、Ｇ^５は、
【化１４６】

を含む基を示し、Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す）によって示される。
【００７２】
第５の態様の第２の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｗ）：
【化１４７】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−ＣＨ_２−を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１およびＲ^２は独立して水素を含む）で示される。
【００７３】
第５の態様の第３の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１４８】

で示される。
【００７４】
第５の態様の第４の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１４９】

で示される。
【００７５】
第５の態様の第５の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｘ）：
【化１５０】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−ＣＨ_２−を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は水素を含み、Ｒ^２は９−フルオレニルメトキシカルボニルを含む）で示される。
【００７６】
第５の態様の第６の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１５１】

で示される。
【００７７】
第５の態様の第７の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１５２】

で示される。
【００７８】
第５の態様の第８の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｙ）：
【化１５３】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−ＣＨ_２−を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は水素を含み、Ｒ^２はベンジルを含む）で示される。
【００７９】
第５の態様の第９の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１５４】

で示される。
【００８０】
第５の態様の第１０の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１５５】

で示される。
【００８１】
第５の態様の第１１の実施形態では、本発明のアミノ酸テンプレートは、式（１ｚ）：
【化１５６】

（式中、Ｚはワング樹脂またはメリフィールド樹脂を含み、Ｌ^１は−Ｏ−を含み、Ｌ^２は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−ＣＨ_２−を含み、Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含み、Ｒ^１は水素を含み、Ｒ^２はベンジルオキシカルボニルを含む）で示される。
【００８２】
第５の態様の第１２の実施形態では、Ｚがワング樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１５７】

で示される。
【００８３】
第５の態様の第１３の実施形態では、Ｚがメリフィールド樹脂を含む本発明のアミノ酸テンプレートは、式：
【化１５８】

で示される。
【００８４】
第６の態様では、本発明は、式：
【化１５９】

（式中、Ｌ^１は、式−Ｏ−、−ＮＨ−、または−Ｏ−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２Ｏ−の二価の基を含む二価の結合を示す）
によって示される４級アミノ酸を提供する。好ましくは、Ｌ^１は−Ｏ−または−ＮＨ−を含む。
【００８５】
記号Ｌ^２は、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、または直接的単結合を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｌ^２は、メチレン、エチレン、または直接的単結合を含む。より好ましくは、Ｌ^２は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含む。
【００８６】
記号Ｌ^３は、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、または直接的単結合を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｌ^３は、メチレン、エチレン、または直接的単結合を含む。より好ましくは、Ｌ^３は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含む。
【００８７】
記号Ｌ^４は、アルキレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、
【化１６０】

、または直接的単結合もしくは二重結合を含み、Ｌ^５は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｌ^４は、低級アルキレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、
【化１６１】

、または直接的単結合を含む。より好ましくは、Ｌ^４は、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、
【化１６２】

、または直接的単結合を含む。
【００８８】
文字Ｅは、−Ｎ−、−ＣＨ−、または−Ｃ＝を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｅは、−Ｎ−または−ＣＨ−を含む。
【００８９】
文字Ｋは、−Ｎ−、−ＣＨ−、または−Ｃ＝を含む二価の結合を示す。好ましい実施形態では、Ｋは、−Ｎ−または−ＣＨ−を含む。
【００９０】
好ましくは、基Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４、Ｅ、およびＫは、３〜８員環を含むように選択される。
【００９１】
記号ＰＧは、水素またはアミノ保護基を含む基を示す。好ましい実施形態では、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、フェニル、ベンジル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含む。より好ましくは、ＰＧは、水素、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含む。
【００９２】
記号Ｒ^１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化１６３】

を含む基を示し、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^９、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。好ましい実施形態では、Ｒ^１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化１６４】

を含む基を示し、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。より好ましくは、Ｒ^１は、水素、ハロ、および−ＯＧ^３を含み、Ｇ^３は、
【化１６５】

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、ＯＲ^１８、ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。さらにより好ましくは、Ｒ^１は、水素、ハロゲン、−ＯＨ、−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチル、または−Ｏ−ベンジルを含む。
【００９３】
記号Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含む基を示し、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化１６６】

を含む基を示し、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^９、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。好ましい実施形態では、Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、Ｇ^３およびＧ^４は独立して
【化１６７】

を含む基を示し、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含む基を示し、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。より好ましくは、Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、または−Ｇ^５を含み、Ｇ^５は、
【化１６８】

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含み、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含む基を示し、Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む基を示す。さらにより好ましくは、Ｒ^２は、水素、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、またはｔ−ブトキシカルボニルを含む。
【００９４】
Ｒ^１とＲ^２とでシクロアルキル環またはヘテロサイクリル環を構成することができるか、Ｌ^４が直接的結合を含む場合、Ｒ^１とＲ^２とで縮合アリール環またはへテロアリール環を構成することができる。
【００９５】
式１の化合物では、表示の種々の官能基が、官能基のハイフンに結合点を有すると理解すべきである。言い換えれば、−Ｏ−Ｇ^３の場合、結合点は酸素原子であり、例はｔｅｒｔ−ブトキシであると理解すべきである。−ＣＯ_２−Ｌ^１２−Ｒ^１５などの基の場合、結合点はカルボニル炭素である。
【００９６】
本発明の一定の化合物は、不斉炭素原子（光学中心）を有し、ラセミ体、ジアステレオマー、幾何異性体、および各異性体が、本発明の範囲内で含まれることが意図される。
【００９７】
本発明の化合物はまた、このような化合物を構成する１つまたは複数の原子の放射性同位元素の比率が不自然であり得る。例えば、化合物を、例えば、トリチウム（^３Ｈ）、ヨウ素１２５（^１２５Ｉ）、または炭素１４（^１４Ｃ）などの放射性同位元素で放射性標識することができる。本発明の化合物の同位元素の全変形形態が、放射性にかかわらず本発明の範囲内に含まれることが意図される。
【００９８】
本明細書中で使用される、用語「任意選択的に」は、その後に記載する事象が起こっても起こらなくてもよく、起こる事象と起こらない事象の両方を含むことを意味する。
【００９９】
本明細書中で使用される、用語「低級」は、１〜６個の炭素を有する基をいう。
【０１００】
本明細書中で使用される、用語「アルキル」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、１〜１０個の炭素原子を有する直鎖または分岐炭化水素をいう。本明細書中で使用される「アルキル」の例には、メチル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソブチル、およびイソプロピルなどが含まれるが、これらに限定されない。
【０１０１】
本明細書中で使用される、用語「アルキレン」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、１〜１０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖の二価の炭化水素遊離基をいう。本明細書中で使用される「アルキレン」の例には、メチレン、エチレンなどが含まれるが、これらに限定されない。
【０１０２】
本明細書中で使用される、用語「ハロゲン」または「ハロ」には、ヨウ素、臭素、塩素、およびフッ素が含まれる。
【０１０３】
本明細書中で使用される、用語「アルケニル」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、２〜１０個の炭素を有し、少なくとも１つの炭素−炭素二重結合を有する炭化水素遊離基をいう。
【０１０４】
本明細書中で使用される、用語「アルケニレン」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、２〜１０個の炭素を有し、１つまたは複数の炭素−炭素二重結合を有する直鎖または分岐鎖の二価の炭化水素遊離基をいう。本明細書中で使用される「アルケニレン」の例には、エテン−１，２−ジイル、プロペン−１，３−ジイルなどが含まれるが、これらに限定されない。
【０１０５】
本明細書中で使用される、用語「アルキニル」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、２〜１０個の炭素を有し、少なくとも１つの炭素−炭素三重結合を有する炭化水素遊離基をいう。
【０１０６】
本明細書中で使用される、用語「アルキニレン」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、２〜１０個の炭素原子を有し、１つまたは複数の炭素−炭素三重結合を有する直鎖または分岐鎖の二価の炭化水素遊離基をいう。本明細書中で使用される、「アルキニレン」の例には、エチン−１，２−ジイル、プロピン−１，３−ジイルなどが含まれるが、これらに限定されない。
【０１０７】
本明細書中で使用される、用語「シクロアルキル」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、３〜１２個の炭素原子を有する１つまたは複数の不飽和度の脂環式炭化水素基をいう。本明細書中で使用される、「シクロアルキル」の例には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、またはシクロオクチルが含まれるが、これらに限定されない。
【０１０８】
本明細書中で使用される、用語「シクロアルキレン」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、３〜１２個の炭素原子を有し、任意選択的に１つまたは複数の不飽和度を有する二価の非芳香族脂環式炭化水素遊離基をいう。本明細書中で使用される、「シクロアルキレン」の例には、シクロプロピル−１，１−ジイル、シクロプロピル−１，２−ジイル、シクロブチル−１，２−ジイル、シクロペンチル−１，３−ジイル、シクロヘキシル−１，４−ジイル、シクロヘプチル−１，４−ジイル、またはシクロオクチル−１，５−ジイルなどが含まれるが、これらに限定されない。
【０１０９】
本明細書中で使用される、用語「複素環式（ヘテロサイクリック）」または用語「ヘテロサイクリル」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、Ｓ、ＳＯ，ＳＯ_２、Ｏ、またはＮから選択される１つまたは複数のヘテロ原子で置換された任意選択的に１つまたは複数の不飽和度を有する３〜１２員複素環をいう。このような環を、任意選択的に１つまたは複数の別の「複素」環またはシクロアルキル環に縮合することができる。「複素環」の例には、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサン、ピペリジン、ピロリジン、モルホリン、ピペラジンなどが含まれるが、これらに限定されない。
【０１１０】
本明細書中で使用される、用語「ヘテロサイクリレン」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、Ｓ、ＳＯ，ＳＯ_２、Ｏ、またはＮから選択される１つまたは複数のヘテロ原子を含む任意選択的に１つまたは複数の不飽和度を有する３〜１２員複素環二価遊離基をいう。このような環を、任意選択的に１つまたは複数のベンゼン環または２つまたはそれ以上の別の「複素環」またはシクロアルキル環に縮合することができる。「ヘテロサイクリレン」の例には、テトラヒドロフラン−２，５−ジイル、モルホリン−２，３−ジイル、ピラン−２，４−ジイル、１，４−ジオキサン−２，３−ジイル、１，３−ジオキサン−２，４−ジイル、ピペリジン−２，４−ジイル、ピペリジン−１，４−ジイル、ピロリジン−１，３−ジイル、モルホリン−２，４−ジイル、ピペラジン−１，４−ジイルなどが含まれるが、これらに限定されない。
【０１１１】
本明細書中で使用される、用語「アリール」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、ベンゼン環または１つまたは複数の任意選択的に置換されたベンゼン環に縮合した任意選択的に置換されたベンゼン環系をいう。「アリール」の例には、フェニル、２−ナフチル、１−ナフチル、１−アントラセニルなどが含まれるが、これらに限定されない。
【０１１２】
本明細書中で使用される、用語「アリーレン」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、ベンゼン環遊離基または１つまたは複数の任意選択的に置換されたベンゼン環に縮合したベンゼン環系遊離基をいう。「アリーレン」の例には、ベンゼン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，８−ジイルなどが含まれるが、これらに限定されない。
【０１１３】
本明細書中で使用される、用語「ヘテロアリール」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、１つまたは複数の窒素、酸素、または硫黄ヘテロ原子を含み、Ｎ酸化物ならびに硫黄一酸化物および硫黄二酸化物で複素環式芳香族化合物を置換することができる５〜７員芳香環または多環の複素環式芳香環をいう。多環式芳香環系については、１つまたは複数の環は、１つまたは複数のヘテロ原子を含むことができる。本明細書中で使用される、「ヘテロアリール」の例は、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、イソキサゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ピリミジン、キノリン、イソキノリン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、およびインダーゾールなどである。
【０１１４】
本明細書中で使用される、用語「ヘテロアリーレン」は、任意選択的に置換基で置換され、種々の程度で置換された、１つまたは複数の窒素、酸素、または硫黄ヘテロ原子を含み、Ｎ酸化物ならびに硫黄一酸化物および硫黄二酸化物で複素環式芳香族化合物を置換することができる５〜７員芳香環二価遊離基または多環の複素環式芳香環二価遊離基をいう。多環式芳香環系二価遊離基については、１つまたは複数の環は、１つまたは複数のヘテロ原子を含むことができる。本明細書中で使用される、「ヘテロアリーレン」の例は、フラン−２，５−ジイル、チオフェン−２，４−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３−チアゾール−２，４−ジイル、１，３−チアゾール−２，５−ジイル、ピリジン−２，４−ジイル、ピリジン−２，３−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，４−ジイル、キノリン−２，３−ジイルなどである。
【０１１５】
本明細書中で使用される、用語「縮合シクロアルキルアリール」は、一般にアリール基に縮合したシクロアルキル基をいい、その２つの基は２つの原子を共有している。本明細書中で使用される「縮合シクロアルキルアリール」の例には、１−インダニル、２−インダニル、１−（１，２，３，４−テトラヒドロナフチル）などが含まれる。
【０１１６】
本明細書中で使用される、用語「縮合シクロアルキルへテロアリール」は、ヘテロアリール基に縮合したシクロアルキル基をいい、その２つの基は２つの原子を共有している。本明細書中で使用される「縮合シクロアルキルへテロアリール」の例には、５−アザ−１−インダニルなどが含まれる。
【０１１７】
本明細書中で使用される、用語「縮合ヘテロサイクリルアリール」は、アリール基に縮合したヘテロサイクリル基をいい、その２つの基は２つの原子を共有している。本明細書中で使用される「縮合ヘテロサイクリルアリール」の例には、２，３−ベンゾジオキシンなどが含まれる。
【０１１８】
本明細書中で使用される、用語「縮合ヘテロサイクリルへテロアリール」は、ヘテロアリール基に縮合したヘテロサイクリル基をいい、その２つの基は２つの原子を共有している。本明細書中で使用される「縮合ヘテロサイクリルへテロアリール」の例には、３，４−メチレンジオキシピリジンなどが含まれる。
【０１１９】
本明細書中で使用される、構造的に可変である仕様の一部としての用語「直接的結合」は、可変物の側面に置かれた（あるいは前方や後方に置かれた）置換基の直接的連結をいう。用語「直接的単結合」は、単結合を介した可変物に配置された置換基の直接的連結をいう。用語「直接的二重結合」は、二重結合を介した可変物に配置された置換基の直接的連結をいう。
【０１２０】
上記のスキームでは、「ＰＧ」は、アミノ保護基を示す。本明細書中で使用される、用語「アミノ保護基」は、アミノの官能性を遮断または保護しながら化合物上の他の官能基と反応させるために一般的に使用されるアミノ基の置換基をいう。このようなアミノ保護基の例には、ホルミル基、トリチル基、フタルイミド基、トリクロロアセチル基、クロロアセチル基、ブロモアセチル基、インドアセチル基、ウレタン型保護基（ベンジルオキシカルボニル（「ＣＢＺ」）、４−フェニルベンジルオキシカルボニル、２−メチルベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、４−フルオロベンジルオキシカルボニル、４−クロロベンジルオキシカルボニル、３−クロロベンジルオキシカルボニル、２−クロロベンジルオキシカルボニル、２，４−ジクロロベンジルオキシカルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボニル、３−ブロモベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−シアノベンジルオキシカルボニル、２−（４−キセニル）イソ−プロポキシカルボニル、１，１−ジフェニルエト−１−イルオキシカルボニル、１，１−ジフェニルプロプ−１−イルオキシカルボニル、２−フェニルプロプ−２−イルオキシカルボニル、２−（ｐ−トルイル）プロプ−２−イルオキシカルボニル、シクロペンタニルオキシカルボニル、１−メチルシクロペンタニルオキシカルボニル、シクロヘキサニルオキシカルボニル、１−メチルシクロヘキサニルオキシカルボニル、２−メチルシクロヘキサニルオキシカルボニル、２−（４−トルイルスルホニル）エトキシカルボニル、２（メチルスルホニル）エトキシカルボニル、２−（トリフェニルホスフィノ）エトキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル（「ＦＭＯＣ」）、ｔ−ブトキシカルボニル（「ＢＯＣ」）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、１−（トリメチルシリルメチル）プロプ−１−エニルオキシカルボニル、５−ベンズイソキアリルメトキシカルボニル、４−アセトキシベンジルオキシカルボニル、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−エチニル−２−プロポキシカルボニル、シクロプロピルメトキシカルボニル、４−（デシルオキシ）ベンジルオキシカルボニル、イソボルニルオキシカルボニル、１−ピペリジルオキシカルボニルなど）、ベンゾイルメチルスルホニル基、２−（ニトロ）フェニルスルフェニル基、ジフェニルホスフィンオキシド基などのアミノ保護基が含まれる。アミノ基誘導体が式１の化合物の他の位置でその後の反応条件に安定性を示し、所望の時点で残りの分子を破壊することなく除去することができる限り、使用したアミノ保護基の種類は重要ではない。好ましいアミノ保護基は、ｔ−ブトキシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシカルボニル基、およびベンジルオキシカルボニル基である。セファロスポリン、ペニシリン、およびペプチド分野で使用される類似のアミノ保護基もまた、上記用語に含まれる。上記用語で言及される基のさらなる例は、Ｊ．Ｗ．Ｂａｒｔｏｎ、「保護基の有機化学」、Ｊ．Ｇ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ編、ＰｌｅｎｕｍＰｒｅｓｓ、ＮｅｗＹｏｒｋ、Ｎ．Ｙ．、１９７３、第２章およびＴ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、「保護基の有機合成」、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙａｎｄＳｏｎｓ、ＮｅｗＹｏｒｋ、Ｎ．Ｙ．、１９８１、第７章に記載されている。関連用語「保護アミノ」は、上記のアミノ保護基で置換されたアミノ基と定義する。
【０１２１】
本明細書中に記載される、用語「ケミカル・ライブラリー」または「アレイ」は、合成し、種々の異なる形態での生物活性についてスクリーニングすることができる異なる分子の意図的に作製した集団（例えば、可溶性分子ライブラリー、固体支持体に結合した分子のライブラリー）を含む。
【０１２２】
上記に「Ｚ」で示されたポリマー支持体は、保護されたアミノ酸構造に共有結合することができる水酸基またはアミノ官能基を有する任意の公知の固体支持体であり得る。
【０１２３】
本明細書中で使用される、用語「固体支持体」には、標準的な化学的方法によって化学分子を基質表面に結合することができるように適切に誘導された不溶性基質が含まれる。固体支持体には、ペプチド合成樹脂などのビーズおよび粒子が含まれるが、これらに限定されない。例えば、Ｍｅｒｒｉｆｉｅｌｄ，Ｂ．、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、８５、２１４９〜２１５４、（１９６３年）、米国特許第４，６３１，２１１号、Ｇｅｙｓｅｎら、Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ、８１、３９９８〜４００２、（１９８４年）を参照のこと。固体支持体は、合成方法により材料が官能化される能力によって主に制限される多数の材料から構成することができる。このような材料の例には、ポリマー、プラスチック、樹脂、多糖類、ケイ素またはシリカベースの材料、および膜が含まれるが、これらに限定されない。好ましい樹脂には、メリフィールド樹脂、ヒドロキシメチル樹脂、ワング樹脂、アミノメチル樹脂（全てＡｄｖａｎｃｅｄＣｈｅｍＴｅｃｈ、Ｎｏｖａｂｉｏｃｈｅｍなどの種々の販売者から入手可能）、ＳＡＳＲＩＮ樹脂（ＢａｃｈｅｍＢｉｏｓｃｉｅｎｃｅ、Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄから入手可能なポリスチレン樹脂）、ＴｅｎｔａＧｅｌＳＡＣ樹脂、ＴｅｎｔａＧｅｌＰＨＢ樹脂、またはＴｅｎｔａＧｅｌＳＮＨ_２樹脂（ＲａｐｐＰｏｌｙｍｅｒｅ、Ｔｕｂｉｎｇｅｎ、Ｇｅｒｍａｎｙから入手可能なポリスチレン−ポリエチレングリコールコポリマー樹脂）が含まれる。
【０１２４】
支持体表面に化学モジュールを結合することができるように適切な官能基が既に存在する固体支持体を購入することができる（例えば、Ｎｏｖａｂｉｏｃｈｅｍ、ＢａｃｈｅｍＢｉｏｓｃｉｅｎｃｅ、ＲａｐｐＰｏｌｙｍｅｒｅ）。あるいは、支持体表面に化学モジュールを結合することができるように固体支持体を化学修飾することができる（Ｇｒａｎｔ、「合成ペプチド：ユーザーガイド」、Ｗ．Ｈ．ＦｒｅｅｍａｎａｎｄＣｏ．、（１９９２年）、Ｈｅｒｍｋｅｎｓら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、５２、４５２７〜４５５４、（１９９６年）。固体支持体への分子の結合に使用する官能基の選択は、合成される化合物の性質および固体支持体の型に依存する。化学モジュールに結合するために使用することができる固体支持体上に存在する官能基の例には、ハロゲン化アルキルまたはアリール、アルデヒド、アルコール、ケトン、アミン、スルフィド、カルボキシル基、アルデヒド基、およびスルホニル基が含まれるが、これらに限定されない。
【０１２５】
好ましくは、化学モジュールを結合させる固体支持体上の官能基は、アルコール、アミン、アルデヒド、または酸性の基である。固体支持体への化学モジュールの結合に使用することができる化学反応の例には、ハライドまたは他の遊離基の求核置換、アルコールのエーテル化、アルコールのエステル化、アミンのアミド化、アルデヒドのアセチル化、およびケトンのケタール化が含まれるが、これらに限定されない。好ましくは、固体支持体への化学モジュールの結合に使用される反応は、アルコールのエステル化、アミンのアミド化、またはアルデヒドのアセチル化である。固体支持体への一定の化学モジュールの結合のために、結合プロセスに関連しないが適合様式と不適合な官能基のマスキングが必要であり得る。カップリング反応前に、上記のアミノ保護基を使用したペプチド分野におけるアミノ基の標準的な保護方法によりアミノ基を「保護」する。
【０１２６】
以下の略称を使用した。
Ｂｏｃ＝ｔ−ブトキシカルボニル
Ｃｂｚ＝ベンジルオキシカルボニル
ＤＩＣ＝ジイソプロピルカルボジイミド
ＤＣＣ＝ジシクロヘキシルカルボジイミド
ＤＣＭ＝ジクロロメタン
ＤＩＥＡ＝ジイソプロピルエチルアミン
ＤＭＡＰ＝Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン
ＤＭＦ＝Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＤＭＳＯ＝ジメチルスルホキシド
ＥＤＣ＝１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−カルボジイミドヒドロクロリド
ＥｔＯＡｃ＝酢酸エチル
Ｆｍｏｃ＝９−フルオレニルメトキシカルボニル
ｇ＝グラム
ｈ＝時間
ＨＯＢｔ＝１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
Ｌ＝リットル
Ｍ＝モル濃度
ＭｅＯＨ＝メタノール
ｍｇ＝ミリグラム
ｍｉｎ＝分
ｍｌ＝ミリリットル
ｍＭ＝ミリモル濃度
ｍｍｏｌ＝ミリモル
ｍｏｌ＝モル
Ｎ＝規定
ＮＭＭ＝Ｎ−メチルモルホリン、４−メチルモルホリン
ＮＭＲ＝核磁気共鳴分光法
ＰＭＡ＝リンモリブデン酸
ＰＰＴｓ＝ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸
ｒｔ＝室温
ＴＥＡ＝トリエチルアミン
ＴＦＡ＝トリフルオロ酢酸
ＴＨＦ＝テトラヒドロフラン
ＴＨＰ＝テトラヒドロピラニル
ＴＭＳＣＩ＝トリメチルシリルクロリド
【０１２７】
本発明の支持体結合アミノ酸は、創薬用ペプチドおよびアミノ酸を含む化合物の合成におけるテンプレートとして有用である。したがって、本発明の支持体結合アミノ酸は、ペプチドおよび本発明のアミノ酸部分を有する生物活性化合物の大規模なコンビナトリアル・ライブラリの合成に有用である。
【０１２８】
標準的な合成方法を使用して、本発明の固体支持体上の４級アミノ酸のテンプレートを調製することができる。例示目的として、スキーム１〜７は、式（１）のアミノ酸テンプレートの一般的な調製方法の例示である。
【化１６９】

【０１２９】
スキーム１に示すように、本発明の化合物を、適切な樹脂の混合物（ＥＤＣおよびＨＯＢｔを含むＤＭＦ）への３〜５倍過剰の式（２）のアミノ酸の添加によって調製することができる。反応混合物を２４時間以上撹拌する。液相を吸引によって除去し、その後樹脂をメタノールおよびジクロロメタンで洗浄して、式（１）の樹脂結合アミノ酸が得られる。
【０１３０】
スキーム２に示すように、シクロペンテン骨格およびアミノ保護基を含む式（２ａ）の４級アミノ酸を、そのカルボキシル末端を介して種々の樹脂に固定することができる。式（２ａ）の４級アミノ酸を、ヒドロキシメチル樹脂またはアミノメチルなどのポリマー支持体を含むＥＤＣ、ＨＯＢｔ、およびＴＥＡのＤＭＦ溶液に２４時間添加する。１２時間以上反応混合物を震盪した後、混合物をＤＭＦ、メタノール、およびジクロロメタンで洗浄して、式（１ａａ）の所望の樹脂結合アミノ酸が得られる。
【化１７０】

【０１３１】
スキーム３に示すように、式（１ｂｂ）の三官能化４級アミノ酸テンプレートを、スキーム１および２に記載の条件を使用して対応する４級アミノ酸（２ｂ）から調製することができる。式（２ｂ）のアミノ酸を、ＥＤＣ，ＨＯＢｔ、およびＴＥＡのＤＭＦ溶液の存在下でヒドロキシメチル樹脂、ワング樹脂、またはアミノメチル樹脂で２４時間処理する。反応混合物を、真空下での非消費反応物および試薬の除去によって処理し、メタノール、ジクロロメタン、酢酸エチル、およびＤＭＦで連続的に洗浄する。得られた生成物を真空乾燥させて、式（１ｂｂ）のアミノ酸が得られる。
【化１７１】

【０１３２】
スキーム４に示すように、上記と類似の反応条件を使用して、式（２ｃ）のアミノ酸誘導体を含むエポキシドを適切な樹脂に結合させて式（１ｃｃ）のアミノ酸テンプレートを得ることができる。式（２ｃ）のアミノ酸誘導体を含むエポキシドを、ＥＤＣ、ＨＯＢｔ、およびＴＥＡのＤＭＦ溶液の存在下にて樹脂で２４時間処理する。反応混合物を、真空下での非消費反応物および試薬の除去によって処理し、メタノール、ジクロロメタン、酢酸エチル、およびＤＭＦで連続的に洗浄する。得られた生成物を真空乾燥させて、式（１ｃｃ）のアミノ酸が得られる。
【化１７２】

【０１３３】
スキーム５に示すように、式（２ｄ）のアミノ酸を含む保護ジオールを、アミノメチル樹脂またはヒドロキシメチル樹脂およびＥＤＣ／ＨＯＢｔ／ＴＥＡのＤＭＦ溶液で２４時間処理することができる。反応混合物を、真空下での非消費反応物および試薬の除去によって処理し、ＤＭＦ、メタノール、酢酸エチル、およびジクロロメタンで連続的に洗浄する。得られた生成物を真空乾燥させて、式（１ｄｄ）のアミノ酸が得られる。
【化１７３】

【０１３４】
スキーム６に示すように、式（２ｅ、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉ、または−Ｓ−Ｇ^４を含む）の高度に官能化されたアミノ酸を、ＥＤＣ、ＨＯＢｔ、およびＴＥＡのＤＭＦ溶液で２４時間を処理することによって式（１ｅ）の樹脂含有アミノ酸に変換することができる。反応混合物を、真空下での非消費反応物および試薬の除去によって処理し、ＤＭＦ、メタノール、酢酸エチル、およびジクロロメタンで連続的に洗浄する。得られた生成物を真空乾燥させて、式（１ｅｅ）のアミノ酸が得られる。
【化１７４】

【０１３５】
ワング樹脂へのアミノ酸負荷を決定する一般的手順は、４級アミノ酸を負荷した３２５ｍｇのワング樹脂から開始する。負荷樹脂を小さな丸底フラスコに入れ、１０ｍｌの１：１ＴＦＡ／ＣＨ_２Ｃｌ_２を添加する。得られた混合物を周囲温度で３０分間撹拌し、樹脂を濾過して除去し、濾過物を真空濃縮し、トルエン（２×５ｍｌ）と共沸する。^１ＨＮＭＲ分析を使用して、ワング樹脂に最初に負荷した４級アミノ酸の量を明らかにする。
【０１３６】
アミノ酸誘導体（２ｆ）を、ヒドロキシメチル樹脂およびアミノメチル樹脂で処理して、式（１ｆｆ）の対応する樹脂結合生成物を得ることができる。これらの反応物では、任意の望ましくない副産物を形成することなく反応を進行させるためにアミノ酸およびカルボキシル基を共に適切に保護しなければならない。
【化１７５】

【０１３７】
他の樹脂へのアミノ酸負荷の決定手順は、ワング樹脂へのアミノ酸負荷の公知の一般的手順に照らして、当業者に容易に明らかである。
【０１３８】
式（２）の４級アミノ酸を使用して、本発明の支持体結合アミノ酸テンプレートを調製する。例えば、式（２）の４級アミノ酸を、スキーム７および８に概説の一般的手順にしたがって調製することができる。
【０１３９】
スキーム７では、シクロヘキサノンなどの適切なケトンを、アミノ酸／キラル助剤またはその塩（例えば、フェニルアラニン）、および適切な変換可能なイソシアニド（Ｒ^４がフェニル、シクロヘキセニル、シクロヘキシル、ｔ−ブチル、アミノ保護基などであるものなど）と反応させる。式Ｒ^５ＯＨの溶媒には、メタノール、エタノール、イソプロパノールが含まれ、反応温度条件は、約−８０℃〜約２２０℃であり得る。次いで、キラル補助アミンおよびアミド部分の切断後、式（２）のアミノ酸が得られる。この一般的手順を使用した４級アミノ酸の特定の合成例を以下に記載する。
【化１７６】

【０１４０】
スキーム８に示すように、式（２）のアミノ酸を、別の一般的な手順を使用して調製することができる。スキーム８では、１，４−ジブロモ−２−ブタノール（３）などの適切なジブロモアルカノールをＴＨＰ基で保護して、ＴＨＰ保護ジブロモアルカノール（４）が得られる。次に、水素化ナトリウムの懸濁液を、Ｎ−（ジフェニルメチレン）グリシンエチルエステルおよびＴＨＰ保護ジブロモアルカノール（４）を含む溶液に添加する。反応混合物の標準的な混合後、ＴＨＰ基を除去し、中間体４級アミノエステル（５）が得られる。
【化１７７】

【０１４１】
中間体４級アミノエステル（５）をアミノ保護基で保護して、保護４級アミノエステル（６）が得られる。保護４級アミノエステル（６）の単離後、エステル基を加水分解し、アミノ保護基を除去する。遊離アミンをアミノ保護基で再度保護して化合物（２ｆ）が得られ、これを使用して本発明の支持体結合アミノ酸テンプレートを調製することができる。
【０１４２】
式（２ｆ）の化合物のカルボン酸を保護し、その後遊離アルコールにｔｅｒｔ−ブチル基を添加し、カルボン酸保護基を除去して式（２ｇ）が得られ、これを使用して本発明の支持体結合アミノ酸を調製することができる。
【０１４３】
（実施例）
実施例１
以下の実施例は、本発明の４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランメリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１７８】

【０１４４】
ヒドロキシメチル樹脂（５００ｍｇ）を、ＤＭＦで膨潤し、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピラン（４当量）を添加後、ＴＥＡ（６当量）、ＤＣＣ（４当量）、およびＨＯＢｔ（４当量）を添加した。得られた反応混合物を、２４時間震盪した。反応混合物を真空濾過して、試薬および溶媒を除去した。残存樹脂を、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、およびＤＣＭで連続的に洗浄して、樹脂結合４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランが得られた。
【０１４５】
実施例２
以下の実施例は、本発明の４−Ｂｏｃ−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランメリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１７９】

【０１４６】
ヒドロキシメチル樹脂（５００ｍｇ）を、ＤＭＦで膨潤し、４−Ｂｏｃ−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピラン（４当量）を添加後、ＴＥＡ（６当量）、ＤＣＣ又はＥＤＣ（４当量）、およびＨＯＢｔ（４当量）を添加した。得られた反応混合物を、２４時間震盪した。反応混合物を真空濾過して、試薬および溶媒を除去した。残存樹脂を、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、およびＤＣＭで連続的に洗浄して、樹脂結合４−Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランが得られた。
【０１４７】
実施例３
以下の実施例は、本発明の４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシテトラヒドロチオピランワング樹脂の合成を例示する。
【化１８０】

【０１４８】
ワング樹脂（５００ｍｇ）を、ＤＭＦで膨潤し、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシテトラヒドロチオピラン（４当量）を添加後、ＴＥＡ（６当量）、ＤＣＣ又はＥＤＣ（４当量）、およびＨＯＢｔ（４当量）を添加した。得られた反応混合物を、２４時間震盪した。反応混合物を真空濾過して、試薬および溶媒を除去した。残存樹脂を、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、およびＤＣＭで連続的に洗浄して、樹脂結合４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシテトラヒドロチオピランが得られた。
【０１４９】
実施例４
以下の実施例は、本発明の４−Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシテトラヒドロチオピランワング樹脂の合成を例示する。
【化１８１】

【０１５０】
ワング樹脂（５００ｍｇ）を、ＤＭＦで膨潤し、４−Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシテトラヒドロチオピラン（４当量）を添加後、ＴＥＡ（６当量）、ＤＣＣ又はＥＤＣ（４当量）、およびＨＯＢｔ（４当量）を添加した。得られた反応混合物を、２４時間震盪した。反応混合物を真空濾過して、試薬および溶媒を除去した。残存樹脂を、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、およびＤＣＭで連続的に洗浄して、樹脂結合４−Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシテトラヒドロチオピランが得られた。
【０１５１】
実施例５
以下の実施例は、本発明の４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシ−１，１−ジオキソテトラヒドロチオピランワング樹脂の合成を例示する。
【化１８２】

【０１５２】
ワング樹脂結合４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシテトラヒドロチオピラン（１ｇ）をジクロロメタンで膨潤し、過酢酸またはｍ−クロロ過安息香酸で２４時間処理した。反応混合物を真空濾過し、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＡｃ、およびＤＣＭで洗浄して、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシ−１，１−ジオキソテトラヒドロチオピランワング樹脂を得た。
【０１５３】
実施例６
以下の実施例は、本発明の４−Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシ−１，１−ジオキソテトラヒドロチオピランワング樹脂の合成を例示する。
【化１８３】

【０１５４】
ワング樹脂結合４−Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシテトラヒドロチオピラン（１．２ｇ）をジクロロメタンで膨潤し、過酢酸またはｍ−クロロ過安息香酸で２４時間処理した。反応混合物を真空濾過し、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＡｃ、およびＤＣＭで洗浄して、４−Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−４−Ｎ−カルボキシ−１，１−ジオキソテトラヒドロチオピランワング樹脂を得た。
【０１５５】
実施例７
以下の実施例は、本発明の１−Ｎ−Ｂｏｃ−４（Ｆｍｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸メリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１８４】

【０１５６】
ヒドロキシメチル樹脂のＤＭＦ懸濁液に、１−Ｎ−Ｂｏｃ−４−Ｎ−（Ｆｍｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸（５００ｍｇ）を添加し、その後ＴＥＡ、ＤＣＣ、ＨＯＢｔを添加した。混合物を２４時間震盪した。溶媒および非消費試薬を真空下で除去した。次いで、粗生成物を、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＡｃ、およびＤＣＭで連続的に洗浄して、樹脂結合生成物を生成した。
【０１５７】
実施例８
以下の実施例は、本発明の１−Ｎ−Ｂｏｃ−４−Ｎ−（Ｆｍｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸ワング樹脂の合成を例示する。
【化１８５】

【０１５８】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、ワング樹脂（１．０ｇ、１．０ｍｍｏｌの活性部位）を入れ、その後ＤＭＦ（５ｍｌ）を入れた。次いで、１−Ｂｏｃ−４−Ｎ−（Ｆｍｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸（４．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（４ｍｌ）に溶解し、樹脂／ＤＭＦに添加し、その後ジイソプロピルカルボジイミド（０．６１３ｍｌ、４．０ｍｍｏｌ）を添加した。ジメチルアミノピリジン（０．１２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１ｍｌ）に溶解して上記の混合物に添加し、これをオービタル震盪機にて周囲温度で１６時間置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦで洗浄し、その後ＣＨ_２ＣＬ_２およびＭｅＯＨ（それぞれ約３０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。１−Ｎ−Ｂｏｃ−４−Ｎ−（Ｆｍｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸ワング樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には４０％負荷）。
【０１５９】
実施例９
以下の実施例は、本発明の１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−４−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸メリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１８６】

【０１６０】
１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−４−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸（５．０ｍｍｏｌ）を含むＭｅＯＨ（２４ｍｌ）および水（２．４ｍｌ）に、ｐＨ７まで２０％Ｃｓ_２ＣＯ_３水溶液を添加した。真空下で揮発性物質を除去した。残渣を、１／１の割合のＭｅＯＨ／トルエン（２×１０ｍｌ）と共沸し、真空乾燥させて、１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−４−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸のセシウム塩を得た。
【０１６１】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、メリフィールド樹脂（２．０ｇ、２．０ｍｍｏｌの活性部位）を入れ、その後ＤＭＦ（１３ｍｌ）、１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−４−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸（２．０ｍｍｏｌ）を入れた。混合物をオービタル震盪機上の５０℃の砂浴上に２０時間置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦ、５０％ＤＭＦ／Ｈ_２Ｏ、５０％Ｈ_２Ｏ／ＭｅＯＨ、およびＭｅＯＨ（それぞれ約４０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−４−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸メリフィールド樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には３０％負荷）。
【０１６２】
実施例１０
以下の実施例は、本発明のＮ−Ｆｍｏｃ−アミノ−３−ヒドロキシシクロペンチルカルボン酸メリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１８７】

【０１６３】
Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシシクロペンチル）カルボン酸（５．０ｍｍｏｌ）を含むＭｅＯＨ（２４ｍｌ）および水（２．４ｍｌ）に、ｐＨ７まで２０％Ｃｓ_２ＣＯ_３水溶液を添加した。真空下で揮発性物質を除去した。残渣を、１／１の割合のＭｅＯＨ／トルエン（２×１０ｍｌ）と共沸し、真空乾燥させて、Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシシクロペンチル）カルボン酸のセシウム塩を得た。
【０１６４】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、メリフィールド樹脂（２．０ｇ、２．０ｍｍｏｌの活性部位）およびＤＭＦ（１３ｍｌ）を入れ、その後Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシシクロペンチル）カルボン酸のセシウム塩（２．０ｍｍｏｌ）を入れた。混合物をオービタル震盪機上の５０℃の砂浴上に２０時間置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦ、５０％ＤＭＦ／Ｈ_２Ｏ、５０％Ｈ_２Ｏ／ＭｅＯＨ、およびＭｅＯＨ（それぞれ約４０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。得られたＮ−Ｆｍｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシシクロペンチル）カルボン酸メリフィールド樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には３０％負荷）。
【０１６５】
実施例１１
以下の実施例は、本発明のＮ−Ｂｏｃ−アミノ−３−ヒドロキシシクロペンチル−カルボン酸メリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１８８】

【０１６６】
Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシシクロペンチル）カルボン酸（４当量）を、ヒドロキシメチル樹脂のＤＭＦ懸濁液に添加した。この混合物に４〜５倍過剰のモルホリン、ＤＣＣ、およびＨＯＢｔを添加した。得られた混合物を２４時間震盪し、真空濾過し、真空下でＤＭＦ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＡｃ、およびＤＣＭで連続的に洗浄し、得られた生成物を乾燥させて、Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシシクロペンチル）カルボン酸メリフィールド樹脂を得た。
【０１６７】
実施例１２
以下の実施例は、本発明のＮ−Ｆｍｏｃ−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブトキシシクロペンチル−カルボン酸ワング樹脂の合成を例示する。
【化１８９】

【０１６８】
Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブトキシシクロペンチル−カルボン酸（４当量）を、ワング樹脂のＤＭＦ懸濁液に添加した。この混合物に４倍過剰のモルホリン、ＤＣＣ、およびＨＯＢｔを添加した。得られた混合物を２４時間震盪し、真空濾過して樹脂結合生成物を得た。これを、真空下でＤＭＦ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＡｃ、およびＤＣＭで連続的に洗浄し、得られた生成物を乾燥させて、Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−（３−ｔｅｒｔ−ブトキシシクロペンチル）カルボン酸ワング樹脂を得た。
【０１６９】
実施例１３
以下の実施例は、本発明の１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−３−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−３−カルボン酸メリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１９０】

【０１７０】
１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−３−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−３−カルボン酸（５．０ｍｍｏｌ）を含むＭｅＯＨ（２４ｍｌ）および水（２．４ｍｌ）に、ｐＨ７まで２０％Ｃｓ_２ＣＯ_３水溶液を添加した。真空下で揮発性物質を除去した。残渣を、１／１の割合のＭｅＯＨ／トルエン（２×１０ｍｌ）と共沸し、真空乾燥させて、１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−４−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−４−カルボン酸のセシウム塩を得た。
【０１７１】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、メリフィールド樹脂（２．０ｇ、２．０ｍｍｏｌの活性部位）およびＤＭＦ（１３ｍｌ）を入れ、その後１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−３−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−３−カルボン酸のセシウム塩（２．０ｍｍｏｌ）を入れた。混合物をオービタル震盪機上の５０℃の砂浴上に２０時間置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦ、５０％ＤＭＦ／Ｈ_２Ｏ、５０％Ｈ_２Ｏ／ＭｅＯＨ、およびＭｅＯＨ（それぞれ約４０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。得られた１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−３−Ｎ−（Ｂｏｃ−アミノ）ピペリジン−３−カルボン酸メリフィールド樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には３０％負荷）。
【０１７２】
実施例１４
以下の実施例は、本発明の４−ヒドロキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸メリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１９１】

【０１７３】
４−ヒドロキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸（５．０ｍｍｏｌ）を含むＭｅＯＨ（２４ｍｌ）および水（２．４ｍｌ）に、ｐＨ７まで２０％Ｃｓ_２ＣＯ_３水溶液を添加した。真空下で揮発性物質を除去した。残渣を、１／１の割合のＭｅＯＨ／トルエン（２×１０ｍｌ）と共沸し、真空乾燥させて、４−ヒドロキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸のセシウム塩を得た。
【０１７４】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、メリフィールド樹脂（２．０ｇ、２．０ｍｍｏｌの活性部位）およびＤＭＦ（１３ｍｌ）を入れ、その後４−ヒドロキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸のセシウム塩（２．０ｍｍｏｌ）を入れた。混合物をオービタル震盪機上の５０℃の砂浴上に２０時間置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦ、５０％ＤＭＦ／Ｈ_２Ｏ、５０％Ｈ_２Ｏ／ＭｅＯＨ、およびＭｅＯＨ（それぞれ約４０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。得られた４−ヒドロキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸メリフィールド樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には３０％負荷）。
【０１７５】
実施例１５
以下の実施例は、本発明の４−ヒドロキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸ワング樹脂の合成を例示する。
【化１９２】

【０１７６】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、ワング樹脂（１．０ｇ、１．０ｍｍｏｌの活性部位）を入れ、その後ＤＭＦ（５ｍｌ）を入れた。次いで、４−ヒドロキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸（４．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（４ｍｌ）に溶解し、樹脂／ＤＭＦに添加し、その後ジイソプロピルカルボジイミド（０．６１３ｍｌ、４．０ｍｍｏｌ）を添加した。ジメチルアミノピリジン（０．１２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１ｍｌ）に溶解し、上記混合物に添加し、周囲温度で１６時間オービタル震盪機に置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦで洗浄し、その後ＣＨ_２ＣＬ_２およびＭｅＯＨ（それぞれ約３０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。得られた４−ヒドロキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸ワング樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には４０％負荷）。
【０１７７】
実施例１６
以下の実施例は、本発明の４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸メリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１９３】

【０１７８】
４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸（５．０ｍｍｏｌ）を含むＭｅＯＨ（２４ｍｌ）および水（２．４ｍｌ）に、ｐＨ７まで２０％Ｃｓ_２ＣＯ_３水溶液を添加した。真空下で揮発性物質を除去した。残渣を、１／１の割合のＭｅＯＨ／トルエン（２×１０ｍｌ）と共沸し、真空乾燥させて、４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸のセシウム塩を得た。
【０１７９】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、メリフィールド樹脂（２．０ｇ、２．０ｍｍｏｌの活性部位）およびＤＭＦ（１３ｍｌ）を入れ、その後４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸のセシウム塩（２．０ｍｍｏｌ）を入れた。混合物をオービタル震盪機上の５０℃の砂浴上に２０時間置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦ、５０％ＤＭＦ／Ｈ_２Ｏ、５０％Ｈ_２Ｏ／ＭｅＯＨ、およびＭｅＯＨ（それぞれ約４０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。得られた４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸メリフィールド樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には３０％負荷）。
【０１８０】
実施例１７
以下の実施例は、本発明の４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸ワング樹脂の合成を例示する。
【化１９４】

【０１８１】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、ワング樹脂（１．０ｇ、１．０ｍｍｏｌの活性部位）を入れ、その後ＤＭＦ（５ｍｌ）を入れた。４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸（４．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（４ｍｌ）に溶解し、樹脂／ＤＭＦに添加し、その後ジイソプロピルカルボジイミド（０．６１３ｍｌ、４．０ｍｍｏｌ）を添加した。ジメチルアミノピリジン（０．１２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１ｍｌ）に溶解し、上記混合物に添加し、周囲温度で１６時間オービタル震盪機に置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦで洗浄し、その後ＣＨ_２ＣＬ_２およびＭｅＯＨ（それぞれ約３０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。得られた４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−１−シクロヘキシルカルボン酸ワング樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には４０％負荷）。
【０１８２】
実施例１８
以下の実施例は、本発明のＮ−Ｆｍｏｃ−アミノシクロヘキシルカルボキシレートメリフィールド樹脂の合成を例示する。
【化１９５】

【０１８３】
Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノシクロヘキシルカルボン酸（５．０ｍｍｏｌ）を含むＭｅＯＨ（２４ｍｌ）および水（２．４ｍｌ）に、ｐＨ７まで２０％Ｃｓ_２ＣＯ_３水溶液を添加した。真空下で揮発性物質を除去し、残渣を、１／１の割合のＭｅＯＨ／トルエン（２×１０ｍｌ）と共沸し、真空乾燥させた。
【０１８４】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、メリフィールド樹脂（２．０ｇ、２．０ｍｍｏｌの活性部位）およびＤＭＦ（１３ｍｌ）を入れ、その後上記のセシウム塩（２．０ｍｍｏｌ）を入れた。混合物をオービタル震盪機上の５０℃の砂浴上に２０時間置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦ、５０％ＤＭＦ／Ｈ_２Ｏ、５０％Ｈ_２Ｏ／ＭｅＯＨ、およびＭｅＯＨ（それぞれ約４０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。得られたＮ−Ｆｍｏｃ−アミノシクロヘキシルカルボキシレートメリフィールド樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には３０％負荷）。
【０１８５】
実施例１９
以下の実施例は、本発明のＮ−Ｆｍｏｃ−アミノシクロヘキシルカルボキシレートワング樹脂の合成を例示する。
【化１９６】

【０１８６】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、ワング樹脂（１．０ｇ、１．０ｍｍｏｌの活性部位）を入れ、その後ＤＭＦ（５ｍｌ）を入れた。Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノシクロヘキシルカルボン酸（４．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（４ｍｌ）に溶解し、樹脂／ＤＭＦに添加し、その後ジイソプロピルカルボジイミド（０．６１３ｍｌ、４．０ｍｍｏｌ）を添加した。ジメチルアミノピリジン（０．１２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１ｍｌ）に溶解し、上記混合物に添加し、周囲温度で１６時間オービタル震盪機に置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦで洗浄し、その後ＣＨ_２ＣＬ_２およびＭｅＯＨ（それぞれ約３０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノシクロヘキシルカルボキシレートワング樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には４０％負荷）。
【０１８７】
実施例２０
以下の実施例は、本発明のＮ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−（エチレンケタール）シクロヘキシルカルボキシレートワング樹脂の合成を例示する。
【化１９７】

【０１８８】
被覆（ＳＩＧＭＡＣＯＴＥ（登録商標））バイアルに、ワング樹脂（１．０ｇ、１．０ｍｍｏｌの活性部位）を入れ、その後ＤＭＦ（５ｍｌ）を入れた。Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−（エチレンケタール）シクロヘキシルカルボン酸（４．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（４ｍｌ）に溶解し、樹脂／ＤＭＦに添加し、その後ジイソプロピルカルボジイミド（０．６１３ｍｌ、４．０ｍｍｏｌ）を添加した。ジメチルアミノピリジン（０．１２２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１ｍｌ）に溶解し、上記混合物に添加し、周囲温度で１６時間オービタル震盪機に置いた。次いで、樹脂をフリットシリンジで濾過し、ＤＭＦで洗浄し、その後ＣＨ_２ＣＬ_２およびＭｅＯＨ（それぞれ約３０ｍｌ）で洗浄した。濾過前に各洗浄の間に樹脂を懸濁した。得られたＮ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−（エチレンケタール）シクロヘキシルカルボキシレートワング樹脂を恒量まで真空乾燥させた（標準的には４０％負荷）。
【０１８９】
実施例２１
以下の実験手順は、４−Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランの調製を例示する。
【化１９８】

【０１９０】
ギ酸アンモニウム（１８．９５ｇ、０．３ｍｏｌ）を含むメタノール（６００ｍＬ）混合物に、テトラヒドロ−４Ｈ−ピラン−４−オン（１４．９６ｇ、０．１５ｍｏｌ）およびｔ−ブチルイソシアニド（１４．９３ｇ、０．１８ｍｏｌ）を添加した。反応混合物を約３時間還流し、溶媒を蒸発させた。粗生成物を、以下の加水分解反応で使用した。ＭＳ（ＥＳＰ＋）、ｍ／ｚ２２９（ＭＨ＋）。粗生成物に６００ｍｌの７ＮＨＣｌを添加し、反応混合物を還流で３時間撹拌し、最初の体積の半分に濃縮し、冷蔵庫に一晩放置した。固体４−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランを完全に濾過し、酢酸エチルで洗浄し、水性部分を再度濃縮し、より多くの４−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランを回収した。収率：約７５％。
ＭＳ（ＥＳＰ＋）：ｍ／ｚ１４６（ＭＨ＋）；^１ＨＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ、４００ＭＨｚ、ＨＣｌ塩）：δ１．８７（ｍ，２Ｈ）、２．２１（ｍ，２Ｈ）、３．８５（ｍ，４Ｈ）。
【０１９１】
４−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランヒドロクロリド（４．５９ｇ、２５．３ｍｍｏｌ）を、ジクロロメタン（２３０ｍｌ）溶液に溶解し、ＤＩＥＡ（１７．６９ｍｌ、１０１．２ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を、−１０℃に冷却し、トリメチルシリルクロリド（ＴＭＳＣｌ、７．０６ｍｌ、５５．７ｍｍｏｌ）を添加し、その後ＦｍｏｃＣｌ（６．５５ｇ、２５．３ｍｍｏｌ）を室温で添加した。混合物を一晩撹拌した。溶媒を真空蒸発させ、残渣を２．５％炭酸ナトリウム溶液で処理した。酢酸エチルでの抽出後、水相を１ＮのＨＣｌ溶液でｐＨ３に酸性化した。酢酸エチルでの抽出後、有機溶液を蒸発乾燥して１５ｇ（８２％）の純粋なＮ−Ｆｍｏｃ−アミノ−カルボキシテトラヒドロピランを得た。
ＭＳ（ＥＳＰ＋）ｍ／ｚ３６８．４６（ＭＨ＋）。
【０１９２】
実施例２２
以下の実験手順は、４−Ｂｏｃ−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランの調製を例示する。
【化１９９】

【０１９３】
４−アミノ−４−カルボキシテトラヒドロピランヒドロクロリド（１０ｇ、５５ｍｍｏｌ）を、１：１のジオキサン／水混合物に懸濁した。次いで、５当量の炭酸カリウムを添加し、溶液を０℃に冷却した。次いで、２．５当量のジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジカルボネートを添加し、混合物を室温で４８時間撹拌した。反応混合物を最初の体積の半分に濃縮し、ヘキサンで抽出した。水相を１ＮのＨＣｌ溶液でｐＨ３〜４に酸性化した。酢酸エチルでの抽出後、有機溶液を蒸発乾燥した。収穫量：３ｇ（２２％）。
ＭＳ（ＥＳＰ＋）：ｍ／ｚ２４６（ＭＨ＋）；^１ＨＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ、３００ＭＨｚ）：３．７１（ｍ，４Ｈ）、２．０７（ｍ，２Ｈ）、１．９２（ｍ，２Ｈ）、１．４２（ｍ，９Ｈ）。
【０１９４】
実施例２３
以下の実験手順は、１−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（９−フルオレニルメトキシカルボニルアミノ）ピペリジン−４−カルボン酸の調製を例示する。
【化２００】

【０１９５】
撹拌器に１２Ｌの丸底フラスコを取り付け、５００ｇ（３．２５ｍｏｌ）の４−ピペリドン塩酸塩の一水和物、６８５ｇ（６．９９ｍｏｌ）の炭酸アンモニウム、４．２Ｌのメタノール、および２．６Ｌの水を入れた。全ての固体が溶解するまで混合物を室温で撹拌した。４４３ｇ（６．８２ｍｏｌ）のシアン化カリウムを含む１．７Ｌの水を、１５分間反応混合物に滴下した。室温で４８時間反応させた。吸引濾過を使用してブフナー漏斗に沈殿した淡黄色固体を回収した。この淡黄色固体を、純白になるまで水で洗浄した（注釈２）。生成物を吸引オーブンにおき、８０℃で最も高い真空度で乾燥させた。これによりヒダトイン４４０ｇ（収率８０％）が得られた。
【０１９６】
注釈：シアン化カリウムは猛毒であり、常に手袋を着用して慎重に取り扱うべきである。酸への曝露により、非常に有毒なシアン化合物ガスが発生する。
【０１９７】
また、注釈：沈殿したヒダトインを十分な量の水で洗浄してその後の反応を妨害し得る任意の残渣アンモニアを除去しなければならない。最初の洗浄後にアンモニア臭また黄色が残存している場合、さらなる洗浄を行うべきである。
【０１９８】
撹拌器に１２Ｌの丸底フラスコを取り付け、３６７ｇ（２．１７ｍｏｌ）のピペリジン−４−スピロ−５’−ヒダトイン、６．０Ｌの１，２−ジメトキシエタン、および２２１ｇ（２．１７ｍｏｌ）のトリエチルアミンを入れた。この懸濁液を３０分間撹拌した。撹拌しながら、反応混合物に２３６８ｇ（１０．９ｍｏｌ）の固体ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボネートを添加し、その後、２．７ｇ（０．０２１ｍｏｌ）の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）を添加した。一連の反応中、１２時間ごとに触媒量（２．７ｇ）のＤＭＡＰを添加した。反応物を７２時間激しく撹拌した。この間、反応物の粘度が増加した。吸引濾過を使用して沈殿した黄色固体をブフナー漏斗に回収した。得られた黄色固体を、４Ｌのジエチルエーテルで２時間かけて粉末にした。吸引濾過を使用して固体をブフナー漏斗に再度回収した。得られた淡黄色固体を、４Ｌのジエチルエーテルで洗浄した。生成物を一晩風乾して、９１０ｇ（収率８７％）のトリＢｏｃ生成物を得た。
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ；ＣＤＣｌ_３）δ４．２９−４．０１（ｍ，２Ｈ）、３．５７−３．４２（ａｐｐｄｔ，２Ｈ）、２．６７（ｄｔ，２Ｈ）、１．７６（ｍ，２Ｈ）、１．５８（ｓ，９Ｈ）、１．５４（ｓ，９Ｈ）、１．４７（ｓ，９Ｈ）。
【０１９９】
注釈：先の工程由来の痕跡量のアンモニアの結果として生成され得る残存無水ｔ−ブチルカーボネートおよび任意のｔ−ブチルカルバマートを首尾良く除去するために、ジエチルエーテルでの分散が必要であることが見出された。
【０２００】
撹拌器に１２Ｌの丸底フラスコを取り付け、８７５ｇ（１．８２ｍｏｌ）の１−ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルピペリジン−４−スピロ−５’（１’３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル））ヒダトインを入れ、その後４．８Ｌのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を入れた。撹拌しながら４．８Ｌの３．０Ｍ水酸化カリウムを一度に添加した。反応混合物を４８時間撹拌した。層を分離し、下の層を丸底フラスコに入れた。残存ＴＨＦを、回転蒸発によって除去した。次いで、水層を４℃に冷却し、６．０ＭのＨＣｌ水溶液を使用してｐＨ７にゆっくりと酸性化した。得られた白色沈殿を濾過し、水で洗浄し、７０℃で真空乾燥させた。４２１ｇ（収率９６％）の純粋なアミノ酸が得られた。
【０２０１】
注釈：水層の重イオン含有量により溶液が均一になり、相が分離する。加水分解の結果として生成されるジ−ｔｅｒｔ−ブチルイミノジカルボキシレートは、ＴＨＦ層で選択的に可溶性を示し、生成物の炭酸アミノ塩は水層に溶液中に残存する。
【０２０２】
注釈：ＨＣｌ溶液の添加中は温度を１５℃以上にさせない。各水溶液について、通常４００ｍＬの６．０ＭのＨＣｌ水溶液を使用してｐＨ７にする。
【０２０３】
撹拌器に１２Ｌの丸底フラスコを取り付け、２７３ｇ（１．１２ｍｏｌ）のアミノ酸、３９４ｇ（３．７２ｍｏｌ）の炭酸ナトリウム、４Ｌの水、および４Ｌの１，４−ジオキサンを入れた。この懸濁液を３０分間撹拌して、均一にした。撹拌しながら３１７ｇ（１．２３ｍｏｌ）の９−フルオレニルメチルクロロホレートを一度に添加した。溶液を１６時間撹拌した（ＴＬＣ（酢酸エチル：ヘキサン＝８：２）Ｆｍｏｃ−ＣｌＲｆ＝０．８、生成物Ｒｆ＝０．４、出発材料Ｒｆ＝０．０、ＰＭＡまたはニンヒドリンで染色）。反応物を４Ｌの水に注ぎ、２×３Ｌのジエチルエーテルで抽出した。次いで、水層を２ＭのＨＣｌ水溶液でｐＨ２に酸性化し、懸濁液を２×３Ｌの酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮した。得られた粘性固体を、ヘキサンで分散し、その後濃縮した。得られた白色固体をフラスコから取り出し、４０℃で真空乾燥させた。これにより、４００ｇ（７７％）の所望の生成物が得られた。
^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ｄ_６−ＤＭＳＯ）：δ７．８８（ｄ，２Ｈ）、７．７１（ｄ，２Ｈ）、７．６２（ｄ，１Ｈ）、７．３９（ｔ，２Ｈ）、７．２５（ｔ，２Ｈ）、４．３７（ｍ，３Ｈ）、３．７６（ｍ，２Ｈ）、３．０４（ｍ，２Ｈ）、１．９６（ｍ，２Ｈ）、１．５８（ｍ，２Ｈ）、１．３８（ｓ，９Ｈ）。
【０２０４】
実施例２４
以下の実験手順は、Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−３−ヒドロキシシクロペンチル−カルボン酸の調製を例示する。
【化２０１】

【０２０５】
ピリジニウムｐ−トルエンスルホン酸（２．５ｇ、３ｍｏｌ％）を含む８７ｇ（３７３ｍｍｏｌ）の１，４−ジブロモ−２−ブタノールの乾燥ジクロロメタン（１５００ｍＬ）溶液に、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（５１ｍＬ，５６０ｍｍｏｌ、１．５当量）を添加し、得られた混合物を室温で５時間撹拌した。飽和重炭酸ナトリウム溶液（３００ｍＬ）を添加し、有機層を水層から分離した。有機溶液を、水（５００ｍＬ）、飽和塩化ナトリウム溶液（５００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒除去後、１１８グラム（１００％）の淡褐色オイルが得られ、これをさらに精製することなく次ぎの工程で使用した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ□４．７１（ｂｓ，１Ｈ）、４．１０−３．３０（ｍ，７Ｈ）、２．３７−２．０５（ｍ，２Ｈ）、１．９０−１．４０（ｍ，６Ｈ）。
【０２０６】
水素化ナトリウム（３３．０ｇ、８２０ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ（１０００ｍＬ）懸濁液に、Ｎ−（ジフェニルメチレン）グリシンエチルエステル（１００ｇ、３７３ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ（３００ｍＬ）溶液を窒素下で滴下し、得られた混合物を室温で３０分間撹拌した。２−テトラヒドロピラニル−１，４−ジブロモ−２−ブタノール（１１８ｇ、３７３ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ（１００ｍＬ）溶液を添加し、得られた混合物を室温で２時間撹拌し、４時間還流した。反応物を氷浴を使用して０℃に冷却し、１０００ｍｌの２．５ＮのＨＣｌ水溶液を添加した。得られた混合物を、室温で一晩撹拌した。エーテル（５００ｍＬ）を添加し、水層を有機層と分離した。水溶液をエーテル（２×５００ｍＬ）で抽出し、重炭酸ナトリウムを使用してｐＨ７に塩基性化した。重炭酸トリウム（１．５ｍｏｌ、４．０当量）を水溶液に添加し、その後Ｆｍｏｃ−Ｏｓｕ（１５０ｇ、４５０ｍｍｏｌ、１．２当量）の１，４−ジオキサン（１０００ｍＬ）溶液を添加し、得られた混合物を室温で一晩撹拌した。回転蒸発を使用してジオキサンを除去し、水溶液をエーテル（３×５００ｍＬ）で抽出した。水溶液を２ＮのＨＣｌ水溶液でｐＨ３に酸性化し、生成物を酢酸エチル（３×５００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出物を、飽和塩化ナトリウム溶液（５００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒除去後、１１８ｇ（８０％）の所望の生成物が得られた。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ□７．８０−７．１０（ｍ，８Ｈ）、６．０８（ｂｓ，１Ｈ）、４．６０−３．９０（ｍ，５Ｈ）、２．７０−１．３５（ｍ，６Ｈ）、１．１８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）。
【０２０７】
Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシ−シクロペンチル）カルボン酸エチルエステル（５９ｇ、１４９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３００ｍＬ）溶液に水酸化リチウム一水和物（１８．８ｇ、４４７ｍｍｏｌ、３．０当量）の水溶液（３００ｍＬ）を添加し、得られた混合物を室温で一晩撹拌した。エーテル（１００ｍＬ）を添加し、水層を有機層から分離した。水溶液をエーテル（２×５０ｍＬ）で抽出し、２．０ＮのＨＣｌ水溶液を使用してｐＨ７に塩基性化した。次いで、水溶液に重炭酸ナトリウム（５９６ｍｍｏｌ、４．０当量）を添加し、その後、Ｆｍｏｃ−Ｏｓｕ（６０ｇ、１８０ｍｍｏｌ、１．２当量）の１，４−ジオキサン（３００ｍＬ）溶液を添加し、得られた混合物を室温で一晩撹拌した。回転蒸発を使用してジオキサンを除去し、水溶液をエーテル（３×１００ｍＬ）で抽出した。水溶液を２ＮのＨＣｌ水溶液でｐＨ３に酸性化し、生成物を酢酸エチル（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出物を、飽和塩化ナトリウム溶液（１００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒除去後、４６ｇ（８５％）の所望の生成物が得られた。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ□１２．２５□（ｂｓ，１Ｈ）□□７．９０−７．２５（ｍ，８Ｈ）、７．６５（ｓ，１Ｈ）、４．１０−４．３０（ｍ，３Ｈ）、２．５０−１．４０（ｍ，６Ｈ）。
【０２０８】
Ｃ_２１Ｈ_２１ＮＯ_５３６８（Ｍ＋Ｈ）についてのＭＳ計算は、３６８であった。
【０２０９】
実施例２５
以下の実験手順は、Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ−３−ヒドロキシシクロペンチル−カルボン酸の調製を例示する。
【化２０２】

【０２１０】
Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシシクロペンチル）カルボン酸エチルエステル（１１．３ｇ、２８．７２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍＬ）溶液に水酸化リチウム一水和物（３．６ｇ、８６．１６ｍｍｏｌ、３．０当量）の水溶液（５０ｍＬ）を添加し、得られた混合物を室温で一晩撹拌した。エーテル（１００ｍＬ）および水（１００ｍＬ）を添加し、水層を有機相から分離した。水溶液をエーテル（２×５０ｍＬ）で抽出し、２．０ＮのＨＣｌ水溶液を使用してｐＨ７に塩基性化した。次いで、水溶液に重炭酸カリウム（１４４ｍｍｏｌ、５．０当量）を添加し、その後、Ｂｏｃ_２Ｏ（１５．７ｇ、７１．８ｍｍｏｌ、２．５当量）の１，４−ジオキサン（１５０ｍＬ）溶液を添加し、得られた混合物を室温で２日間撹拌した。回転蒸発を使用してジオキサンを除去し、水溶液をエーテル（３×５０ｍＬ）で抽出した。水溶液を２ＮのＨＣｌ水溶液でｐＨ３に酸性化し、生成物を酢酸エチル（６×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出物を、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒除去後、２．５ｇ（３６％）の所望の生成物が得られた。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ□７．１８（ｂｓ，１Ｈ）、４．６５（ｂｓ，１Ｈ）、４．１０（ｍ，２Ｈ）、２．５０〜１．４０（ｍ，６Ｈ）、１．３０（ｓ，９Ｈ）。
【０２１１】
Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシシクロペンチル）カルボン酸（２７１ｍｇ、０．７４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５．０ｍＬ）溶液に、室温でＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．１３ｍＬ、１．０当量）、触媒量のヨウ化ナトリウム、および臭化ベンジル（０．１１ｍＬ、１．２当量）を添加した。得られた混合物を室温で一晩撹拌した。水（１５ｍＬ）を添加し、生成物を酢酸エチル（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機抽出物を飽和塩化ナトリウム溶液（５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。回転蒸発を使用して溶媒を除去し、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製して、定量的収率で所望の生成物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ□７．８０−７．２０（ｍ，１３Ｈ）、５．５５（ｂｓ，１Ｈ）、５．１８（ｓ，２Ｈ）、４．５０−４．２５（ｍ，２Ｈ）、４．２２−４．１０（ｍ，１Ｈ）、２．６０−１．７０（ｍ，６Ｈ）。
【０２１２】
Ｎ−Ｆｍｏｃ−アミノ−（３−ヒドロキシシクロペンチル）カルボン酸ベンジルエステル（３３８ｍｇ、０．７４ｍｍｏｌ）の乾燥ジクロロメタン（１０ｍＬ）溶液を、−７８℃に冷却した。この溶液に、リン酸（０．０５ｍＬ、４．０ｇのＰ_２Ｏ_５を１１．０ｍＬの８５％Ｈ_３ＰＯ_４への溶解によって調製）、および三フッ化ホウ素ジエチルエテラート（０．１ｍＬ）、およびイソブチレン（１０ｍＬ）を添加した。混合物を撹拌しながら段階的に室温まで加温した。飽和重炭酸ナトリウム（１０ｍＬ）および酢酸エチル（２５ｍＬ）を添加し、有機層を水層から分離した。水層を、酢酸エチル（１０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機抽出物を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。回転蒸発を使用して溶媒を除去し、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製して、３７０ｍｇ（９８％）の所望の生成物を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ□７．８０−７．２０（ｍ，１３Ｈ）、５．９０（ｂｓ，１Ｈ）、５．１８（ｓ，２Ｈ）、４．４０−４．１０（ｍ，３Ｈ）、２．４０−１．７５（ｍ，６Ｈ）、１．１８（ｓ，９Ｈ）。
【０２１３】
１．０ｇの１０重量％パラジウム−活性炭触媒を含むＮ−Ｆｍｏｃ−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブトキシ−シクロペンチルカルボン酸ベンジルエステル（２０ｇ、３９ｍｍｏｌ）の無水エタノール（１０００ｍＬ）溶液を、水素バルーンを使用して水素下で４時間室温で撹拌した。セライトに通過させてパラジウム触媒を除去し、短時間シリカゲル（２３０〜４００メッシュ）に通してエタノール溶液をさらに脱色した。真空下で溶媒を除去した。一晩の真空乾燥後、１８ｇ（９７％）の所望の生成物が得られた。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ□７．９０−７．２５（ｍ，９Ｈ）、４．３０−４．０５（ｍ，３Ｈ）、２．５０−１．３０（ｍ，６Ｈ）、１．１８（ｓ，９Ｈ）。Ｃ_２５Ｈ_２９ＮＯ_５４２４（Ｍ＋Ｈ）についてのＭＳ計算は、４２４であった。
【０２１４】
上記の発明は明確に理解するために例示および実施例によって幾らか詳細に記載しているが、本発明の教示を照らして、添付の特許請求の範囲の精神または範囲を逸脱することなく、本発明の変更形態および修正形態を実施することができることが当業者に容易に明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の種々の化合物の構造を示す図である。
【図２】
本発明の種々の化合物の構造を示す図である。
【図３】
本発明の種々の化合物の構造を示す図である。
【図４】
本発明の種々の化合物の構造を示す図である。
【図５】
本発明の種々の化合物の構造を示す図である。
【図６】
本発明の種々の化合物の構造を示す図である。
【図７】
本発明の種々の化合物の構造を示す図である。
【図８】
本発明の種々の化合物の構造を示す図である。

Claims

以下の式：

（式中、
Ｚは、固体ポリマー支持体の残基を含み、
Ｌ^１は、式−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２Ｏ−の二価の基を含み、
Ｌ^２およびＬ^３は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、または直接的単結合を含み、
Ｌ_４は、アルキレン、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、

、または直接的単結合もしくは二重結合を含み、
Ｌ^５は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、
ＥおよびＫは独立して−Ｎ−、−ＣＨ−、または−Ｃ＝を含み、
ＰＧは、水素またはアミノ保護基を含み、
Ｒ^１およびＲ^２は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、
Ｒ^１とＲ^２とでシクロアルキルまたはヘテロサイクリル環を構成することができるか、Ｌ^４が直接的結合である場合、Ｒ^１とＲ^２とで縮合アリールまたはへテロアリール環を構成することができ、
Ｇ^３およびＧ^４は独立して

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^９、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９が以下のように定義される場合、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む）の化合物。
基Ｌ^２、Ｌ^３、Ｌ^４、Ｅ、およびＫが３〜８員環を含む、請求項１に記載の化合物。
ＰＧが、ｔ−ブトキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、およびベンジルオキシカルボニルからなる群から選択される、請求項２に記載の化合物。
ＥおよびＫが−ＣＨ−であり、式：

（式中、
Ｌ^２およびＬ^３は独立して−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含み、
Ｌ^４は、−ＣＨ_２−、−Ｃ（Ｏ）−、

、または直接的単結合を含み、
Ｌ^５は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、
Ｒ^１およびＲ^２は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、
Ｒ^１とＲ^２とでシクロアルキルまたはヘテロサイクリル環を構成することができ、
Ｇ^３およびＧ^４は独立して

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９が以下のように定義される場合、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む）で示される、請求項２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４に記載の化合物。
ＥおよびＫが−ＣＨ−であり、式：

（式中、
Ｌ^２およびＬ^３は独立して−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含み、
Ｌ^４は、−Ｏ−、−Ｓ−、Ｓ（Ｏ）−、または−Ｓ（Ｏ）_２−を含み、
Ｒ^１およびＲ^２は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｏ−Ｇ^４、−Ｇ^３、−Ｇ^４、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、
Ｒ^１とＲ^２とでヘテロサイクリル環を構成することができ、
Ｇ^３およびＧ^４は独立して

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９が以下のように定義される場合、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む）で示される、請求項２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項２９に記載の化合物。
Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を含み、Ｌ４は直接的単結合を含み、式：

（式中、
Ｌ^２は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含み、
Ｒ^１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｇ^３、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、
Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、または−Ｇ^５を含み、
Ｒ^１とＲ^２とでヘテロサイクリル環を構成することができ、
Ｇ^３およびＧ^４は独立して

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９が以下のように定義される場合、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含み、
Ｇ^５は、

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９が以下のように定義される場合、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む）で示される、請求項２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項４２に記載の化合物。
Ｅは−ＣＨ−を含み、Ｋは−Ｎ−を含み、Ｌ^３は−ＣＨ_２−を含み、Ｌ^４は−ＣＨ_２−を含み、式：

（式中、
Ｌ^２は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または直接的単結合を含み、
Ｒ^１は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、ハロ、−Ｏ−Ｇ^３、−Ｇ^３、または−Ｎ（Ｇ^３）Ｇ^４を含み、
Ｒ^２は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロサイクリル、アリール、ヘテロアリール、水素、または−Ｇ^５を含み、
Ｒ^１とＲ^２とでヘテロサイクリル環を構成することができ、
Ｇ^３およびＧ^４は独立して

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１０、Ｌ^１１、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９が以下のように定義される場合、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含み、
Ｇ^５は、

を含み、
Ｌ^７、Ｌ^８、Ｌ^１２は独立してアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、シクロアルキレン、シクロアルケニレン、アリーレン、ヘテロサイクリレン、ヘテロアリーレン、縮合シクロアルキルアリーレン、縮合シクロアルキルへテロアリーレン、縮合ヘテロサイクリルアリーレン、縮合ヘテロサイクリルへテロアリーレン、または直接的結合を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９が以下のように定義される場合、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１５は独立してアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロサイクリル、ヘテロアリール、アリール、縮合シクロアルキルアリール、縮合シクロアルキルへテロアリール、縮合ヘテロサイクリルアリール、縮合ヘテロサイクリルへテロアリール、−ＮＲ^１８Ｒ^１９、−ＯＲ^１８、−ＳＲ^１８、または水素を含み、
Ｒ^１８およびＲ^１９は独立して水素、アルキル、アルキニル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロサイクリル、またはヘテロアリールを含む）で示される、請求項２に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはワング樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。
式：

（式中、Ｚはメリフィールド樹脂を含む）
の請求項５５に記載の化合物。