JP2004363362A

JP2004363362A - Display device, filter therefor, and method of manufacturing filter therefor

Info

Publication number: JP2004363362A
Application number: JP2003160619A
Authority: JP
Inventors: Michihiko Taki; 充彦瀧
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2003-06-05
Filing date: 2003-06-05
Publication date: 2004-12-24

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide filter for a display device which has sufficient surface strength and is capable of improving a display characteristic and productivity, a display device to which this filter for a display device is applied, and a method of manufacturing this filter for a display device. <P>SOLUTION: A functional layer 41 is additionally provided on one surface of a resin-based base 12 in an electromagnetic wave shielding film 10. An antireflection film 30 is joined to the functional layer 41 via an adhering layer 21. In the antireflection film 30, an antireflection layer 32 is directly formed on a glass base 31 by sputtering, and this forms an outermost surface of the filer 1 for a display device. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば電磁波遮蔽能や近赤外線遮蔽吸収能などの各種の機能を付加するために、表示装置、特にプラズマディスプレイに代表される平面型表示装置の表示面側に配設される表示装置用フィルタおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：ＰｌａｓｍａＤｉｓｐｌａｙＰａｎｅｌ）は、陰極線管では実現が難しいとされる薄型・大画面化が可能なディスプレイとして注目されており、近年では、４０インチ以上のテレビジョン受像機が製品化されている。
【０００３】
ＰＤＰは、発光表示にプラズマ放電を利用しており、表示パネルは高周波駆動される。そのため、従来より、ＰＤＰでは表示パネルから放射される電磁輻射が大きいことが問題となってきた。この輻射ノイズが低減できるかどうかが製品化の可否を握ることが多いことから、これまでにも、消費電流の低減などの数々の対策手段が提案されてきている。
【０００４】
なかでも、電磁波遮蔽フィルムをパネル前面に付設するという手法は、簡便、かつ、期待できる効果が大きく、現在のＰＤＰにおいてほぼ不可欠の要素技術である。実用化されているフィルムは、電磁波遮蔽に限らず、近赤外線（熱線）を遮蔽する機能や、輝度や色調の補正といった光学的機能などが付加された機能性多層膜となっている。この多層膜が、本発明に係る表示装置用フィルタであり、一般に光学フィルタなどと呼ばれているものである。
【０００５】
図１０は、ＰＤＰ本体の一般的な構成を表す断面図である。表示パネル１０１は、２枚のガラス基板が、放電ガスを充填した放電空間を介して対向配置された構造をとり、裏面で接続された駆動回路基板１０２と共に、平面型の筐体１１０に収容されている。表示装置用フィルタ１０３は、この表示パネル１０１の前面に対向して配置されている。なお、表示装置用フィルタ１０３は、図示のように表示パネル１０１から（例えば５ｍｍ程度）離間させるのが一般的である。これは、表示パネル１０１に直付けする場合に、貼合に用いる接着剤の層や貼り合わせ具合によって生じる光学的な作用が表示に直接影響すると考えられており、直付け工程が製品の表示品質を損ね、生産性を低下させる可能性があることによる。
【０００６】
図１１（Ａ），（Ｂ）は、それぞれ、従来の表示装置用フィルタの層構造の具体例を示している。なお、本明細書における以下の説明では、フィルタの表示面と対向する側を下側，反対に外表となる側を上側とし、適宜呼び分けると共に、参照図面の上下もこれに対応させる。
【０００７】
（Ａ）の場合では、表示パネル１０１の側から順に電磁波遮蔽フィルム１２０，ガラス基体１３０，近赤外線遮蔽層１４１が付設された樹脂系基体１４０Ａ，反射防止層１４２が設けられた樹脂系基体１４０Ｂが積層されており、各層間が接着層１５１，１５２，１５３によって接合された構造となっている。なお、近赤外線遮蔽層１４１と反射防止層１４２の積層の順序は、特に決まってはおらず、この逆でもよい。この構成では、電磁波遮蔽層１２１，近赤外線遮蔽層１４１，反射防止層１４２の各機能層に対応して樹脂系基体は３つ用いられ、その間を接合する接着層も３層が必要となっている。
【０００８】
このような表示装置用フィルタは、各機能層を樹脂系基体上に形成して機能性フィルムとしたうえで、これら機能性フィルムとガラス基体１３０をラミネートする方法で製造される。図１２は、その具体的な製造方法を示すフローチャートである。反射防止フィルムは、樹脂系基体１４０Ｂの表面に、反射防止層１４２を成膜することにより作製される（ステップＳ１０１）。次に、樹脂系基体１４０Ｂの裏面に接着剤を塗布し、接着層１５３を形成する（ステップＳ１０２）。近赤外線遮蔽フィルムは、例えば、樹脂系基体１４０Ａの表面に近赤外線吸収剤を塗工し、近赤外線遮蔽層１４１をことによって作製され（ステップＳ１０３）、さらにその樹脂系基体１４０Ｂの裏面に接着剤を塗布し、接着層１５２を形成しておく（ステップＳ１０４）。
【０００９】
電磁波遮蔽フィルム１２０は、例えば、樹脂系基体に銅箔を接着し（ステップＳ１０５）、銅箔をエッチングによりメッシュ状にパターニングして電磁波遮蔽層１２１を形成し（ステップＳ１０６）、さらにその上から、銅メッシュの露出部分に透明化処理を施す（ステップＳ１０７）ことによって作製される。なお、透明化処理とは、銅メッシュの間隙から外部にはみ出した接着剤が、乱反射などを起こして光学特性を悪化させるのを防ぐ目的で、銅メッシュの露出面を平滑にする処理である。具体的には、銅メッシュの露出面に樹脂フィルムを張り合わせる方法や、銅メッシュの露出面側に樹脂を流し込み、その表面を平滑化する方法がある。なお、この電磁波遮蔽フィルム１２０についても、その樹脂系基体の裏面に接着剤を塗布し、接着層１５１を形成しておく（ステップＳ１０８）。
【００１０】
また、基材ガラスとして、強化ガラスなどのガラス基体１３０を用意する（ステップＳ１０９）。最後に、電磁波遮蔽フィルム１２０，ガラス基体１３０，近赤外線遮蔽フィルム，反射防止フィルムを、この順で上に重ねるようにしてラミネート加工を施す（ステップＳ１１０）。このようにして、多層化した表示装置用フィルタを完成させる（ステップＳ１１１）。
【００１１】
図１１（Ｂ）は、（Ａ）の構成例から樹脂系基体１４０Ａをなくし、接着剤に近赤外線吸収剤を混入することで、接着層１５２と赤外線遮蔽層１４１の機能を機能層１６１が併せ持つようにした例である。この結果、樹脂系基体は１つ省略されて２つとなり、接着層は実質２層となっている。
【００１２】
また、（Ａ），（Ｂ）に矢印Ｉで示したように、従来の表示装置用フィルタでは、電磁波遮蔽以外の機能を担う各層は、ガラス基体１３０の上側（ＰＤＰ本体に配置したときの外表面側）に設けられていた。ガラス基体１３０は、強度を確保するために光学フィルタの層間に挿入されるが、特許文献１に開示された技術のように、表示パネル１０１が発生する熱を機能層に伝え難くするための熱緩衝層としての役割も兼ね、最も表示パネル１０１側の最下層に配置されることもある。こうしたフィルタに対する多機能化の要請は高く、さらに色目調整や、プラズマ放電により発生する紫外線の遮蔽などの機能を付加するときには、これまでは、▲１▼新たに基体を用意し、機能性フィルムを別途形成する、▲２▼（Ａ），（Ｂ）に矢印Ｉで示した範囲の基体、すなわち樹脂系基体１４０Ａ，１４０Ａの残りの面に層を形成する、▲３▼接着層１５２，１５３を機能材が混入された接着剤を用いて形成する、のうちのいずれかの方法が採られていた。
【００１３】
このように、従来の表示装置用フィルタでは、基本的には機能層ごとに樹脂系基体を用意しなければならず、ガラス基体１３０より上層に限っても樹脂系基体および接着層が最低２層ずつ必要とされていた。また、機能を付加するたびに層構造が複雑化していっていた。
【００１４】
【特許文献１】
特開２００３−５８０６４号公報
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、多機能化に伴う多層化には、互いに材質が異なる層同士の界面が多くなると、界面反射の影響によってフィルタ全体としての反射率が増大し、環境光の映り込みなどの弊害が生じるという問題があった。また、機能層以外の基体や接着層が介在するほど、表示装置用フィルタ自身のヘイズ（拡散透過光量／全透過光量。曇価または霞度）が大きくなることから、ＰＤＰの表示コントラスト低下を招くという問題があった。
【００１６】
また、機能層の層数が増えたり、層構造が複雑化したりするほど、製造工程は複雑化する。具体的には、機能層と樹脂系基体を貼り合わせて機能性フィルムを形成する工程、さらにはフィルタ同士をラミネートする工程が増える。それぞれの工程における貼り合わせ具合や、樹脂系基体の歩留りを考慮すると、こうした工程の複雑化は表示装置用フィルタの歩留りにかなりの影響を与えていた。また、そのため、生産コストが上昇するという問題もあった。
【００１７】
さらに、従来の表示装置用フィルタは、上述のようにガラス基体１３０の上に機能性フィルムが積層された構造であり、外表近くは柔らかくなっている。そのため、衝撃等によるはがれが起きやすく、傷がつきやすいという問題があった。
【００１８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、十分な表面強度を具備すると同時に、表示特性および生産性を改善することが可能な表示装置用フィルタおよびこの表示装置用フィルタを適用した表示装置、ならびにこの表示装置用フィルタの製造方法を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明の表示装置用フィルタは、表示面を保護することが十分可能な程度に剛性が高い第１の基体、および第１の基体に直接付設され、表示面に入射する外光の反射を防止するための反射防止層からなる第１の積層体と、第２の基体、この第２の基体に付設され、表示面から放射される電磁波を遮蔽するための電磁波遮蔽層、および第２の基体に一面が接合されることにより直接付設され、表示面から放出される特定波長の電磁波あるいは表示面そのものに対する所定の機能を有する１または複数の機能層を含む第２の積層体とを備え、第１および第２の積層体が、第１の積層体を最外面とするようにして積層されているものである。
【００２０】
ここでいう「表示面から放出される特定波長の電磁波あるいは表示面そのものに対する所定の機能」とは、表示面から放出される電磁波のうち特定帯域に対する反射，透過，吸収等の光学的機能、もしくは、表面保護など表示面に物理的に作用する機能を指す。また、特定波長の電磁波には、人体や電気機器の動作に影響を与えると考えられている高周波帯の電磁波，近赤外線，可視光，紫外線などが含まれ、例えば可視光は色目調整のため帯域がさらに細分化されていてよい。また、本発明にいう「直接付設され」る（もしくは「直接付設する」）とは、基体などの接着対象に対し、接着層等の他の構成要素を介さずに直接接合された状態で設けられる（設ける）という意味である。そのような形態は、例えば、接着対象に直接成膜することで実現される。成膜方法としては、スパッタ法，蒸着法，コーティング法，塗布法などを適用することができる。
【００２１】
また、本発明の表示装置は、本発明の表示装置用フィルタが表示面に対向配置されているものである。
【００２２】
本発明の表示装置用フィルタおよび本発明の表示装置では、（１）ガラスに代表される高剛性の基体（第１の基体）上に、反射防止層が接着層を介することなく直接付設される。この第１の基体と反射防止層とからなる第１の積層体は、表示パネルと対向する側とは反対側の最外面に配置され、表示装置用フィルタの外表面の硬度を高めるように作用する。また、（２）この反射防止層以外の機能層は、電磁波遮蔽層と共に第２の基体を基礎として設けられ、第２の積層体を形成する。すなわち、機能層は必ず第２の基体の少なくとも一面に直接形成され、本来的には電磁波遮蔽フィルムを構成するために用いられる第２の基体が、電磁波遮蔽層と機能層とに併用される。
【００２３】
本発明の表示装置用フィルタの製造方法は、表示面を保護することが十分可能な程度に剛性が高い第１の基体に、反射防止層をスパッタにより直接付設し、第１の積層体を形成する工程を含むものである。
【００２４】
本発明の表示装置用フィルタの製造方法では、反射防止層は、ガラス等の高剛性基体（第１の基体）上にスパッタ成膜され、良好な光学特性と高い硬度をもつようになる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
具体的な説明に入る前に、以下の実施の形態に係る表示装置用フィルタの基本構成について図１を参照して説明する。本発明の実施の形態に係るフィルタは、光学的機能を具備し、ＰＤＰ等の表示パネル前面に設置されるものである。このフィルタの（１）表示面に対向する側と反対の外表面は、反射防止フィルム３０が構成している。反射防止フィルム３０は、高剛性基体、例えばガラス基体３１に反射防止層３２が直接形成されたものである。そのため、このフィルタは外表部分の硬度が高く、外傷に強くなっている。この効果は、ガラス基体３１を外表近傍に配するということだけでも得られるが、ガラス基体３１の上に形成される反射防止層３２は、柔らかい樹脂系基体上に形成される場合よりも硬い層となることが知られている。したがって、これらの相乗的な作用により、傷がつき難くなっている。
【００２６】
さらに、ガラス基体３１と反射防止層３２を、接着剤や樹脂系基体を介さずに直接接合しているので、その分層数が省略される。よって、従来のフィルタでは、ガラス基体の上に各種の機能層が積層されていたのに対し、ここでは、ガラス基体３１の上には反射防止層３２以外の機能層は設けられないことになる。そのかわり、その他の機能層は、反射防止フィルム３０の下層側、図中に矢印ＩＩで示した範囲に設けられるようになっている。
【００２７】
ここでは、（２）他の機能層は、電磁波遮蔽フィルム１０が包含する樹脂系基体の片面または両面に形成されるか、電磁波遮蔽フィルムに１０に包含される接着層あるいは接着層２０に材料を混入することで実現される。なお、電磁波遮蔽フィルム１０では、電磁波遮蔽層１１の少なくとも一面が接着層を介して樹脂系基体に接合されている。こうして、機能層をあたかも電磁波遮蔽フィルム１０ないし接着層２０に組み込むようにして構成することにより、従来は機能層を設けるために用いてきた樹脂系基体，接着層が省略される。すなわち、この表示装置用フィルタにおいて基体として用いられるのは、ガラス基体３１の他には電磁波遮蔽フィルム１０における樹脂系基体これ１つのみである。なお、ここでは、反射防止フィルム３０が本発明の「第１の積層体」に対応している。また、電磁波遮蔽フィルム１０における樹脂系基体を中心とした、電磁波遮蔽層１１，機能層を含んだ積層部分が、本発明の「第２の積層体」に対応している。
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００２９】
［第１の実施の形態］
図２は、本発明の第１の実施の形態に係る表示装置用フィルタの構成を表している。この表示装置用フィルタ１は、テレビジョン受像機やパーソナルコンピュータ等のディスプレイ、特にＰＤＰパネルの表示面に対向配置して使用するものである。その構成は、下（表示面に対向する側）から、電磁波遮蔽フィルム１０，機能層４１，接着層２１，反射防止フィルム３０が積層されている。
【００３０】
電磁波遮蔽フィルム１０は、電磁波遮蔽層１１が樹脂系基体１２の片面に設けられたものである。この場合には、電磁波遮蔽層１１は、樹脂系基体１２に接着層１３を介して一面で貼り合わせられ、その反対側の面が樹脂層１４で覆われている。電磁波遮蔽層１１は、表示面から放射される電磁波を遮蔽する機能を有するものであり、例えばメッシュ状にパターン化された金属（銅メッシュなど）または磁性材の薄膜からなる。そのため、電磁波遮蔽層１１は、一旦、樹脂系基体１２に張り付けられ、形状を固定化されている。樹脂系基体１２は、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）などからなるフィルム状の基体である。また、接着層１３は、アクリル樹脂系、あるいはゴム系の粘着剤などからなり、樹脂層１４は、ＵＶ硬化型樹脂，熱硬化型樹脂などからなる。
【００３１】
反射防止フィルム３０は、ガラス基体３１の一面に反射防止層３２がスパッタ等により直接形成されるようになっている。なお、反射防止層３２は、例えば、ＭｇＦ_２，ＳｉＯ_２，ＳｉＮ_２などの低屈折率材料、Ａｌ_２Ｏ_３などの中屈折率材料、およびＩＴＯ，ＳｎＯ_２，ＴｉＯ_２，ＴｉＮ_２，ＮｂＯなどの高屈折率材料から適宜選択した材料からなる光学薄膜ないし光学多層膜である。従来の反射防止層は樹脂系基体上に貼り付けられており、ガラス基体は別途用意されるようになっていたが、ここでは、こうした構成により樹脂系基体が１つ省略される。
【００３２】
表示装置用フィルタ１では、これら電磁波遮蔽フィルム１０と反射防止フィルム３０に挟まれるようにして機能層４１，接着層２１が積層されている。このうち、機能層４１は、樹脂系基体１２に直接接合されている。
【００３３】
機能層４１は、ディスプレイの表示面から放出される特定波長の電磁波あるいは表示面そのものに対する所定の機能を有したものである。ここでは、電磁波遮蔽および反射防止以外の機能、具体的には近赤外線遮蔽機能と色目調整機能とを備えている。ちなみに色目調整機能とは、第一義に、表示パネルにおける発光色の色純度を高めるものであり、特定波長（５９０ｎｍのネオン光線等）の透過を遮る機能、発光色であるＲ（ｒｅｄ），Ｇ（ｇｒｅｅｎ），Ｂ（ｂｌｕｅ）の各波長を選択透過させる機能を指す。また、これにボディカラーを調整する機能などが含まれる。ボディカラーは画面の基調色ともいうべきもので、ＰＤＰの商品としての見栄えを左右する要素である。一般に青みを持った画面のほうが高級感があり消費者を惹きつけ、黄色味を帯びていると古めかしい印象を与えてしまうとされる。すなわち、機能層４１は近赤外線吸収剤と色目調整用材料を含有しており、例えば、近赤外線吸収剤としてはシアニン系化合物，アントラキノン系化合物，ポリメチン系化合物，アミニウム系化合物またはジイオニウム系化合物等の色素が用いられ、色目調整用材料としては各種染料および顔料が用いられる。
【００３４】
この機能層４１の上に積層される接着層２１は、アクリル樹脂系、あるいは、ゴム系の粘着剤などからなる。なお、ここでは、反射防止フィルム３０が本発明の「第１の積層体」の一具体例に対応し、電磁波遮蔽フィルム１０、機能層４０および接着層２１からなる積層部分が、本発明の「第２の積層体」の一具体例に対応している。
【００３５】
このように、機能層４１は、電磁波遮蔽フィルム１０の樹脂系基体１２を電磁波遮蔽層１１と共用するようにして設けられており、自身は別途、樹脂系基体を用意せずに済む。また、機能層４１については、樹脂系基体１２の上に直接形成されていることから、基体に張り付けるための接着層が不要となっている。この表示装置用フィルタ１では、基体として用いられるのは、ガラス基体３１を別とすれば、この樹脂系基体１２のみとなっている。
【００３６】
こうした不要な基体や接着層の削減により、全体の層数が少なくて済み、界面反射の影響が減って反射特性が改善されると共にヘイズが改善される。また、層構造が簡略化されたことにより、製造工程を短縮することができる。そのうえ、層数が少ない分だけ、ラミネートされた層と層の剥がれや、層自体の品質による歩留りは確率的に上がることから、フィルタ全体の製造歩留りを向上させることができる。
【００３７】
次に、この表示装置用フィルタ１の製造方法について説明する。
【００３８】
図３は、本実施の形態に係る表示装置用フィルタの製造方法のフローチャートであり、図４は、これに対応して各工程を表したものである。まず、ガラス基体３１の表面に直接、反射防止層３２を成膜し、反射防止フィルム３０を作製する（ステップＳ１）。一般に、反射防止層の成膜方法は、真空蒸着法，スパッタ法，ＣＶＤ（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法，プラズマＣＶＤ法などのドライ方式と、塗布法などのウエット方式に大別される。ドライ方式は、膜厚を均一に形成でき、かつ、厚み寸法をウエット方式に比べて高精度に制御できることから、形成した膜には反射むらがなく、反射特性に優れる。そのいずれを適用することも可能であるが、ここでは、特にスパッタ法により反射防止層３２を成膜する。こうして形成される反射防止層３２は、ガラス基体３１の硬度が高く、またドライ方式により高密度に形成されることから、それ自体の硬度も高くなっている。
【００３９】
一方、樹脂系基体１２の表面に、例えば銅箔を接着し（ステップＳ２）、この銅箔をエッチングによりメッシュ状にパターニングする（ステップＳ３）。これにより、電磁波遮蔽層１１が形成される。次に、電磁波遮蔽層１１の上から透明化処理を施す（ステップＳ４）。ここでは、電磁波遮蔽層１１の露出面側に樹脂を流し込み、表面を平滑化する。これにより、樹脂層１４が形成され、電磁波遮蔽フィルム１０が作製される。
【００４０】
続いて、この電磁波遮蔽フィルム１０の樹脂系基体１２の側の外面に、機能層４１を形成する（ステップ５）。ここで、機能層４１は、近赤外線吸収剤と色目調整剤とをバインダや溶剤と混合し、これを樹脂系基体１２に塗工することにより形成する。さらに、この機能層４１の上に接着剤を塗布し、接着層２１を形成しておく（ステップＳ６）。
【００４１】
最後に、この機能層４１を設けた電磁波遮蔽フィルム１０に、外表側の最外面となる反射防止フィルム３０を貼り合わせる（ステップＳ７）。すなわち、接着層２１の上に、ガラス基体３１を配置した構成で貼り合わせる。このようにして、表示装置用フィルタ１が完成する（ステップＳ８）。
【００４２】
製造された表示装置用フィルタ１は、例えばＰＤＰなどの表示パネルの前面に対向配置される（図１０参照）。その際、反射防止層３２を外側にして配置するようにする。通常、ＰＤＰは、パネル本体の組み立て時に表示装置用フィルタが取り付けられ、最終製品となる。表示装置用フィルタ１が取り付けられたＰＤＰでは、フィルタ構造の簡略化による視感反射率およびヘイズの改善により、表示コントラストの向上が見込める。また、この場合の表示パネルの最外面は、硬度の高い反射防止フィルム３０（反射防止層３２）となっているので、外から傷がつき難く、フィルタを損傷したり、そのために表示品質が低下したりするおそれを低くすることができる。
【００４３】
このように本実施の形態によれば、（１）ガラス基体３１に直接、反射防止層３２を形成し、（２）電磁波遮蔽フィルム１０の樹脂系基体１２の片面を利用し、樹脂系基体１２と反射防止フィルム３０の間に機能層４１を形成したので、表示装置用フィルタ１は、従来に比べ、同等の機能を有しながらも層が省略された構成となっている。この表示装置用フィルタ１では、層数が少ないことから、層界面における界面反射の影響が減って反射特性が改善されると共に、ヘイズが改善される。よって、表示装置に装着した場合に、環境光の映り込みを抑制し、また表示コントラストを低下させることなく各種の機能を発揮することで、快適な映像環境を作り出すことができる。
【００４４】
さらに、層構造が簡略化されたことにより、製造工程の短縮化や歩留りの向上が可能となる。歩留りの改善については、樹脂系基体を削減するごとに樹脂系基体自体の欠陥による歩留りが向上すること、また、それに伴う接着工程が削除されることやラミネート工程における歩留りを考慮すると、全体として歩留りは向上するものと考えられる。例えば、本実施の形態のフィルタのように、樹脂系基体，接着層を各１層とした場合、従来方式である樹脂系基体，接着層が各３層のフィルタ（図１１（Ａ）参照）に比べて約１０％の歩留り向上が見込める。なお、層構造の簡略化および工程削減によるコストダウンについては、およそ５％以上の改善効果が見込める。
【００４５】
また、ここでは、ガラス基体３１の上にスパッタ成膜することで、反射防止層３２は高硬度に形成される。こうして反射防止フィルム３０を作製し、これを最外面に配することにより、表示装置用フィルタ１は外傷がつき難くなっている。また、これを用いた表示装置においては、フィルタに傷がつき、表示品質が低下することを防止することができ、装置としての信頼性を高めることができる。
【００４６】
なお、反射防止層３２は、スパッタ成膜されることにより、塗布法などにより形成される場合に比べて高い寸法精度で形成され、反射率などの光学特性に優れたものとなる。
【００４７】
次に、第１の実施の形態の変形例について説明する。なお、以下の変形例では、第１の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜省略するものとする。
【００４８】
［変形例１］
図５は、第１の実施の形態の第１の変形例に係る表示装置用フィルタの構成を表している。この表示装置用フィルタでは、表示装置用フィルタ１における機能層４１，接着層２１の機能が、機能層４１Ａに集約されている。すなわち、機能層４１Ａは、機能層４１と同様の近赤外線吸収剤，色目調整剤に、接着剤が混合されたものであり、近赤外線遮蔽機能，色目調整機能および接着剤としての機能を兼ね備えている。これにより、フィルタ層数は、第１の実施の形態からさらに１つ減少し、構造と製造工程をより簡略化させた表示装置用フィルタを得ることができる。
【００４９】
［変形例２］
図６は、第１の実施の形態の第２の変形例に係る表示装置用フィルタの構成を表している。本変形例では、機能層４１の上には、接着層２１の代わりに接着層としての機能を兼ね備えた機能層４２が設けられている。
【００５０】
この機能層４２は、例えば、紫外線吸収機能など、他の機能層にはない機能を付加するように用いられる。具体的には、ベンゾトリアゾール系化合物色素などの紫外線吸収剤と接着剤とを混合し、塗布形成される。これにより、第１の実施の形態と同じ層数であって、さらに機能を付加した表示装置用フィルタを得ることができる。
【００５１】
なお、この変形例では、電磁波遮蔽フィルム１０の片面に機能層４１，４２の２層を形成するようにしたが、機能層を２層以上に積層するようにしてもよい。その場合、フィルタは多層化されるが、それでも保持する機能数でみると、従来のフィルタ構造に比べると少ない層数で構成することができる。
【００５２】
［第２の実施の形態］
図７は、第２の実施の形態に係る表示装置用フィルタの構成を表している。この表示装置用フィルタ２では、接着剤としての機能を兼ね備えた機能層４３が、樹脂系基体１２と電磁波遮蔽層１１の間に介在している。第１の実施の形態とその変形例では、機能層（機能層４１，４１Ａ，４２）をもっぱら樹脂系基体１２の外側の面上に形成する場合について説明したが、本発明のフィルタにおいては、こうした配置に限らず、機能層を樹脂系基体１２の内側の面上に付設することもできる。すなわち、ここでは、第１の実施の形態のフィルタとは、機能層４１の代わりに、接着層１３の位置に機能層４３を設けた点で異なっている（図２参照）。なお、本実施の形態では、第１の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜省略するものとする。
【００５３】
機能層４３は、例えば近赤外線遮蔽機能，色目調整機能を備えており、具体的には近赤外線吸収剤，色目調整剤および接着剤を含有している。接着層２２は、接着層２１と同様の接着剤からなる。
【００５４】
この表示装置用フィルタ２の製造方法について説明する。
【００５５】
図８は、本実施の形態に係る表示装置用フィルタの製造方法のフローチャートである。この場合も、まず、ガラス基体３１の表面に直接、スパッタリングなどにより反射防止層３２を成膜し、反射防止フィルム３０を作製する（ステップＳ１１）。一方、ここでは、樹脂系基体１２の表面に、接着力を備えた機能層４３を塗布形成し、その上に、例えば銅箔を接着させる（ステップＳ１２）。機能層４３は、近赤外線吸収剤，色目調整剤および接着剤を、バインダや溶剤等と混合し、これを接着剤のように塗工して形成する。このように、従来では銅箔の接着のためだけに樹脂系基体１２に塗布されてきた接着層を、接着層を兼ねる機能層４３に代えることで、フィルタの層構造が簡略化されると同時に、その製造工程も簡略化され、効率よく製造されるようになる。
【００５６】
続いて、接着した銅箔をエッチングによりメッシュ状にパターニングし、電磁波遮蔽層１１を形成する（ステップＳ１３）。次に、電磁波遮蔽層１１の露出面に透明化処理を施す（ステップＳ１４）。ここでは、電磁波遮蔽層１１の露出面側に樹脂を流し込み、表面を平滑化する。これにより、樹脂層１４が形成され、電磁波遮蔽フィルムが作製される。次に、この電磁波遮蔽フィルムの樹脂系基体１２の側の外面に、接着層２２を形成しておく（ステップ１５）。
【００５７】
次に、接着層２２を介し、この電磁波遮蔽フィルムに、外表側の最外面となる反射防止フィルム３０を貼り合わせる（ステップＳ１６）。こうして、表示装置用フィルタ２が完成する（ステップＳ１７）。
【００５８】
このように本実施の形態によれば、（１）ガラス基体３１に直接、反射防止層３２を形成し、（２）電磁波遮蔽フィルムの樹脂系基体１２の内側、つまり樹脂系基体１２と電磁波遮蔽層１１との間に、接着層としても機能する機能層４３を形成したので、表示装置用フィルタ２は、従来に比べ、同等の機能を有しながらも層が省略された構成となっている。また、この場合は、機能層４３が接着層としても機能する点で、第１の実施の形態よりも変形例１に近く、構成が表示装置用フィルタ１よりも簡略化されている。よって、本実施の形態の効果は、第１の実施の形態と同様の内容をより強調したものとなる。
【００５９】
［変形例３］
上記第２の実施の形態では、機能層を樹脂系基体１２と電磁波遮蔽層１１との間のみに設けるようにしたが、第１の実施の形態にて説明したように、機能層は樹脂系基体１２と反射防止フィルム３０との間に設けることも可能である。そこで、図９に示したように、第２の実施の形態の変形例として、接着層２２を接着層としての機能を兼ね備えた機能層４４に代えた場合を挙げることができる。
【００６０】
機能層４４は、例えば接着力と紫外線吸収機能を有し、紫外線吸収剤と接着剤を含有している。このように、機能層を樹脂系基体１２の片面のみならず両面に付設するようにしてもよい。これによれば、表示装置用フィルタは、簡略化した構成でありながらも、より多くの機能層を備えたものとなり、そこにより多くの機能を付加したり、機能を複数の領域に分散させたりすることが可能となる。
【００６１】
【実施例】
〔光学特性改善の検証〕
実施例１として、上記実施の形態と同様の表示装置用フィルタ（フィルタ全体に樹脂系基体が１層のみ）において視感反射率およびヘイズを見積もった。また、比較のため、従来の表示装置用フィルタとして樹脂系基体が２層のものを比較例１（図１１（Ａ）），樹脂系基体が３層のものを比較例２とし（図１１（Ｂ））、実施例１と同様に視感反射率およびヘイズを見積もった。その結果を、表１に示す。
【００６２】
【表１】

【００６３】
反射防止層の構成、電磁波遮蔽層の金属メッシュの処理、層構造などにおける差異により、フィルタの光学特性には差が生じるため、それぞれの場合における視感反射率，ヘイズの特性値には幅がある。それでも、視感反射率，ヘイズの値には、フィルタの層数に応じて減少する傾向が見られ、実施例における光学特性が比較例に比べて改善されていることがわかる。
【００６４】
実施例２として、第１の実施の形態の変形例１に対応する表示装置用フィルタを試作し、視感反射率およびヘイズを測定した。この実測値を表２に示す。得られた結果より、このフィルタでは、比較例１，２（従来品）に対して視感反射率で約１５％、ヘイズで約２０％もの改善が見られた。なお、このフィルタを実際に表示装置に装着し、表示コントラストを調べたところ、従来品を用いた場合に比べて表示映像のコントラストがかなり向上することが確認された。
【００６５】
【表２】

【００６６】
〔フィルタ硬度の検証〕
本発明の表示装置用フィルタの構造上の特徴の１つに、表示パネルを保護するように、高硬度の反射防止フィルムを外表側に設ける点が挙げられる。こうしたフィルタの表面硬度の指標として、「鉛筆硬度」がある。鉛筆硬度は、鉛筆ＳＳ００２０８Ｐ１５もしくはＪＩＳにおいて規定されており、「表面をどれだけの硬さの鉛筆で引っ掻いて傷がつかないか」により表面硬度を表す。ちなみに、９Ｈが鉛筆硬度測定における最大硬さである。そこで、実施例３として、上記実施の形態と同様の構造をもつフィルタの鉛筆硬度を測定した。
【００６７】
実施例３では、反射防止層をガラス基体に直接スパッタ成膜したフィルタを用いた。なお、ここでは表面硬度をみているので、反射防止フィルム以外の層構造の差異によって測定結果に差が生じることはないと考えられる。また、反射防止層が、ＰＥＴやＴＡＣ等の樹脂系基体の上に塗布形成された他社従来品を、それぞれ比較例３，４とし、実施例３と同様にして鉛筆硬度を測定した。その結果を表３に示す。
【００６８】
【表３】

【００６９】
比較例３，比較例４の鉛筆硬度は、それぞれ「２Ｈ」，「Ｂ」であった。これに対し、実施例３は、最大硬度「９Ｈ」を達成した。このように、実施例３が従来品に比して飛躍的に高い硬度をもつ要因としては、基材の違いと成膜方式の違いが挙げられる。比較例３，４の場合、基材であるＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルムが柔軟であるため、その上に形成された反射防止層もそれほど硬くならないが、実施例３の場合はガラスの上に成膜しているので、反射防止層は比較的硬く形成されるものと考えられる。また、比較例３，４では、反射防止層をウエット方式で形成しているが、実施例３では、ドライ方式、つまりスパッタにより形成している。一般には、ドライ方式で形成した方が密度の高い膜になることから、硬度も高くなると考えられる。
【００７０】
〔反射防止層のスパッタ成膜による効果の検証〕
反射防止層をスパッタにより形成することには、上記のように層の硬度を向上させる作用のほか、膜厚を高い精度で均一化させる作用がある。その効果を検証するため、実施例３と比較例３それぞれの反射防止層における片面側のみの視感反射率を測定した。その結果を、表４に示す。
【００７１】
【表４】

【００７２】
比較例３に示したように、これまでの一般的なフィルタの視感反射率（片面）は、おおよそ０．８〜１．２％である。これに対し、実施例３の視感反射率（片面）は、０．４％以下とかなり良好な結果が得られた。また、実施例３の場合、反射防止層の膜厚は高い精度で設定値と一致しており、ほぼ設計どおりの反射特性が得られると共に、設計によってはさらに反射率を下げることも可能である。しかし、比較例３の場合には、塗布あるいはコーティングなどの方式で形成するために膜厚が一定しておらず、反射特性にばらつきが生じると同時に、ある程度より薄く形成することができないために、視感反射率は表４の数値範囲に収まることになる。このような違いは成膜方式による差と考えられ、以上の結果から、スパッタ成膜により、反射防止層にはより高い光学特性を付与することができることがわかる。
【００７３】
なお、本発明は、上記実施の形態および実施例等に限定されず種々の変形実施が可能である。例えば、上記実施の形態では、電磁波遮蔽フィルム１０に対する透明化処理を、樹脂層１４を用いて行うようにしたが、樹脂系基体を接着させるなど、これ以外の方法で透明化処理を行ってもよい。また、機能層の配置や種類については、上記の各実施の形態や変形例を適宜に組み合わせた構成とすることも可能である。例えば、第１の実施の形態や変形例２のように多層化した機能層を、電磁波遮蔽フィルム１０の内側（第２の実施の形態の機能層４３の位置）に設けるようにしてもよい。さらに、実施の形態において説明した規定部位に機能層を設けたうえであれば、規定部位以外のところに設けられる接着層に機能性材料（例えば紫外線吸収剤など）を適宜混入し、機能層としても機能するようにしても構わない。
【００７４】
また、実施の形態では、表示装置用フィルタを表示パネル面から離間させて配置する例について説明したが、本発明の表示装置用フィルタは、表示パネル面に接着剤等を用いて直接貼設して用いることもできる。
【００７５】
さらに、上記実施の形態ではＰＤＰに適用する場合について説明したが、本発明の表示装置用フィルタは、ＰＤＰ以外の表示装置、例えばＰＡＬＣ（ＰｌａｓｍａＡｄｄｒｅｓｓＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌＤｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ）や、ＦＥＤ（ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）など、その他の表示装置に適用することも可能である。
【００７６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の表示装置用フィルタによれば、表示面を保護することが十分可能な程度に剛性が高い第１の基体、および第１の基体に直接付設され、表示面に入射する外光の反射を防止するための反射防止層からなる第１の積層体と、第２の基体、この第２の基体に付設され、表示面から放射される電磁波を遮蔽するための電磁波遮蔽層、および第２の基体に一面が接合されることにより直接付設され、表示面から放出される特定波長の電磁波あるいは表示面そのものに対する所定の機能を有する１または複数の機能層を含む第２の積層体とを備え、なおかつ、これら第１および第２の積層体が、第１の積層体を最外面とするように積層されているようにしたので、第１の積層体は、高剛性基体を用いるために硬度が高く、最外面に配置されることで表示装置用フィルタの外表面の硬度を高め、フィルタないし表示パネルの耐擦傷性を高めることができる。また、第１の基体に反射防止層を直接付設すると共に、本来的には電磁波遮蔽フィルムを構成するために用いられる第２の基体を電磁波遮蔽層と機能層が併用した構成とすることにより、フィルタ全体の層数を削減することができる。したがって、光学特性が改善され、表示コントラストを低下させることなく各種の機能を発揮することが可能となる。さらに、層構造が簡略化されたことにより、製造工程の短縮化や歩留りの向上が可能となる。
【００７７】
また、本発明の表示装置は、本発明の表示装置用フィルタを表示面に対向配置するようにしたので、電磁波や近赤外線，紫外線等が外部から遮蔽されると同時に、フィルタ表面における環境光の映り込みやコントラストの低下が抑制され、快適な映像環境を作り出すことができる。また、フィルタ外表面に傷がつき難いことから、擦傷等による表示品質の低下が防止され、装置としての信頼性を高めることができる。
【００７８】
本発明の表示装置用フィルタの製造方法は、表示面を保護することが十分可能な程度に剛性が高い第１の基体に、反射防止層をスパッタにより直接付設し、第１の積層体を形成する工程を含むようにしたので、第１の積層体を、極めて高い硬度に形成することができる。よって、第１の積層体を最外面とすれば、擦傷が非常に生じ難く、表示パネル保護に優れると同時に、反射率などの光学特性に優れた表示装置用フィルタを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る表示装置用フィルタの概念構成図である。
【図２】第１の実施の形態に係る表示装置用フィルタの構成を表す断面図である。
【図３】図２に示した表示装置用フィルタの製造工程を表したフローチャートである。
【図４】図３のフローチャートに対応する表示装置用フィルタの製造工程図である。
【図５】図２に示した表示装置用フィルタの第１の変形例の構成を表す断面図である。
【図６】図２に示した表示装置用フィルタの第２の変形例の構成を表す断面図である。
【図７】第２の実施の形態に係る表示装置用フィルタの構成を表す断面図である。
【図８】図７に示した表示装置用フィルタの製造工程を表したフローチャートである。
【図９】図７に示した表示装置用フィルタの変形例の構成を表す断面図である。
【図１０】表示装置用フィルタを組み込んだ表示装置の一般的な構成例を示す図である。
【図１１】（Ａ），（Ｂ）はいずれも、従来の表示装置用フィルタの構成例を表す断面図である。
【図１２】図１１（Ｂ）に示した従来の表示装置用フィルタの製造工程を表すフローチャートである。
【符号の説明】
１，２…表示装置用フィルタ、１０…電磁波遮蔽フィルム、１１…電磁波遮蔽層、１２…樹脂系基体、１３，２０，２１，２２…接着層、１４…樹脂層、３０…反射防止フィルム、３１…ガラス基体、３２…反射防止層、４１，４１Ａ，４２，４３，４４…機能層。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention provides a display device, particularly a display device disposed on the display surface side of a flat display device represented by a plasma display, in order to add various functions such as an electromagnetic wave shielding capability and a near-infrared shielding absorption capability. And a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art A plasma display panel (PDP) has attracted attention as a display capable of realizing a thin and large screen which is difficult to realize with a cathode ray tube. In recent years, a television receiver of 40 inches or more has been commercialized. ing.
[0003]
The PDP uses plasma discharge for light emission display, and the display panel is driven at a high frequency. For this reason, conventionally, there has been a problem in PDP that electromagnetic radiation radiated from the display panel is large. Whether or not the radiation noise can be reduced often determines the feasibility of commercialization, and various countermeasures such as reduction of current consumption have been proposed.
[0004]
Above all, the method of attaching the electromagnetic wave shielding film to the front surface of the panel is simple and has a large expected effect, and is almost indispensable element technology in the current PDP. Films put into practical use are not limited to electromagnetic wave shielding, but are functional multilayer films to which a function of shielding near infrared rays (heat rays) and an optical function such as correction of luminance and color tone are added. This multilayer film is the display device filter according to the present invention, and is generally called an optical filter or the like.
[0005]
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a general configuration of a PDP main body. The display panel 101 has a structure in which two glass substrates are opposed to each other via a discharge space filled with a discharge gas, and is housed in a flat casing 110 together with a drive circuit board 102 connected on the back surface. ing. The display device filter 103 is arranged to face the front surface of the display panel 101. The display device filter 103 is generally separated from the display panel 101 (for example, about 5 mm) as illustrated. It is considered that, when directly attached to the display panel 101, the optical action caused by the layer of the adhesive used for attachment or the degree of attachment directly affects the display, and the direct attachment process causes the display quality of the product to change. And may reduce productivity.
[0006]
FIGS. 11A and 11B show specific examples of the layer structure of a conventional filter for a display device. In the following description of the present specification, the side facing the display surface of the filter will be referred to as the lower side, and the side serving as the outer table will be referred to as the upper side.
[0007]
In the case of (A), the electromagnetic wave shielding film 120, the glass substrate 130, the resin-based substrate 140A provided with the near-infrared shielding layer 141, and the resin-based substrate 140B provided with the anti-reflection layer 142 are arranged in this order from the display panel 101 side. These layers are stacked, and have a structure in which the respective layers are joined by

adhesive layers

151, 152, and 153. The order of lamination of the near-infrared shielding layer 141 and the anti-reflection layer 142 is not particularly determined, and may be reversed. In this configuration, three resin-based substrates are used corresponding to the respective functional layers of the electromagnetic wave shielding layer 121, the near-infrared ray shielding layer 141, and the antireflection layer 142, and three adhesive layers are required between them. I have.
[0008]
Such a filter for a display device is manufactured by forming a functional film by forming each functional layer on a resin-based substrate, and then laminating the functional film and the glass substrate 130. FIG. 12 is a flowchart showing a specific manufacturing method. The anti-reflection film is produced by forming an anti-reflection layer 142 on the surface of the resin base 140B (step S101). Next, an adhesive is applied to the back surface of the resin base 140B to form an adhesive layer 153 (Step S102). The near-infrared shielding film is produced, for example, by applying a near-infrared absorbing agent on the surface of the resin-based substrate 140A and forming a near-infrared shielding layer 141 (step S103), and furthermore, an adhesive is applied to the back surface of the resin-based substrate 140B. Is applied to form an adhesive layer 152 (step S104).
[0009]
The electromagnetic wave shielding film 120 is formed, for example, by bonding a copper foil to a resin base (Step S105), patterning the copper foil into a mesh by etching, and forming an electromagnetic wave shielding layer 121 (Step S106). It is produced by subjecting an exposed portion of the copper mesh to a transparency process (step S107). The transparency treatment is a treatment for smoothing the exposed surface of the copper mesh for the purpose of preventing the adhesive which has protruded from the gap of the copper mesh to the outside to cause irregular reflection or the like and deteriorate the optical characteristics. Specifically, there are a method of attaching a resin film to the exposed surface of the copper mesh, and a method of pouring a resin into the exposed surface of the copper mesh to smooth the surface. Note that, also for the electromagnetic wave shielding film 120, an adhesive is applied to the back surface of the resin base to form the adhesive layer 151 (step S108).
[0010]
Further, a glass substrate 130 such as a tempered glass is prepared as a base glass (step S109). Finally, the electromagnetic wave shielding film 120, the glass substrate 130, the near-infrared shielding film, and the antireflection film are laminated on each other in this order (step S110). In this way, a multilayered display device filter is completed (step S111).
[0011]
FIG. 11B shows that the functional layer 161 has the functions of the adhesive layer 152 and the infrared shielding layer 141 by eliminating the resin base 140A from the configuration example of FIG. This is an example. As a result, one resin-based substrate is omitted to be two, and the adhesive layer is substantially two layers.
[0012]
In addition, as indicated by the arrow I in (A) and (B), in the conventional filter for a display device, each layer having a function other than the electromagnetic wave shielding is located above the glass substrate 130 (outside when disposed on the PDP main body). Surface side). The glass substrate 130 is inserted between the layers of the optical filter in order to ensure strength. However, as in the technology disclosed in Patent Document 1, heat generated by the display panel 101 to make it difficult to transmit heat to the functional layer. It may also serve as a buffer layer, and may be arranged at the lowermost layer closest to the display panel 101. There is a strong demand for such filters to be multifunctional, and when adding functions such as color adjustment and shielding of ultraviolet light generated by plasma discharge, (1) a new substrate has been prepared and a functional film has been prepared. (2) The

adhesive layers

152 and 153 are formed separately on the substrate in the range indicated by the arrow I in (2) (A) and (B), that is, on the remaining surfaces of the resin-based substrates 140A and 140A. Either method of forming using an adhesive mixed with a functional material has been adopted.
[0013]
As described above, in the conventional filter for a display device, basically, a resin-based substrate must be prepared for each functional layer, and even if the resin-based substrate and the adhesive layer are limited to a layer above the glass substrate 130, at least two layers are required. Was needed one by one. Further, each time a function is added, the layer structure becomes complicated.
[0014]
[Patent Document 1]
JP-A-2003-58064
[0015]
[Problems to be solved by the invention]
However, in multi-layering accompanying multi-functionalization, if the number of interfaces between layers made of different materials increases, the reflectance of the filter as a whole increases due to the influence of interface reflection, which causes adverse effects such as reflection of ambient light. There was a problem. In addition, the haze (diffuse transmitted light amount / total transmitted light amount: haze value or haze) of the display device filter itself increases as the substrate or the adhesive layer other than the functional layer intervenes, so that the display contrast of the PDP decreases. There was a problem.
[0016]
Further, as the number of functional layers increases or the layer structure becomes more complicated, the manufacturing process becomes more complicated. More specifically, the number of steps of laminating the functional layer and the resin-based substrate to form a functional film and laminating the filters are increased. In view of the degree of bonding in each step and the yield of the resin-based substrate, such a complicated process has considerably affected the yield of the display device filter. In addition, there is a problem that the production cost increases.
[0017]
Further, the conventional filter for a display device has a structure in which the functional film is laminated on the glass substrate 130 as described above, and is soft near the outer surface. For this reason, there has been a problem that peeling easily occurs due to an impact or the like, and scratches are easily caused.
[0018]
The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a display device filter and a display device filter having sufficient surface strength and capable of improving display characteristics and productivity. An object of the present invention is to provide a display device to which the present invention is applied, and a method for manufacturing the display device filter.
[0019]
[Means for Solving the Problems]
The filter for a display device of the present invention has a first base having high rigidity enough to protect the display surface, and is directly attached to the first base to prevent reflection of external light incident on the display surface. Laminated body made of an anti-reflection layer, a second substrate, an electromagnetic wave shielding layer attached to the second substrate and shielding electromagnetic waves radiated from a display surface, and a second substrate And a second laminate including one or more functional layers having a predetermined function with respect to an electromagnetic wave of a specific wavelength emitted from the display surface or the display surface itself, which is directly attached to one surface of the display device. The first and second laminates are laminated such that the first laminate is the outermost surface.
[0020]
Here, the “predetermined function for the electromagnetic wave of a specific wavelength emitted from the display surface or for the display surface itself” refers to an optical function such as reflection, transmission, absorption, etc., of the electromagnetic wave emitted from the display surface for a specific band. Refers to functions that physically act on the display surface, such as surface protection. Also, electromagnetic waves of a specific wavelength include electromagnetic waves in a high-frequency band, which is considered to affect the operation of the human body and electric equipment, near-infrared rays, visible light, ultraviolet rays, and the like. May be further subdivided. The term “directly attached” (or “directly attached”) as used in the present invention means that a substrate is directly bonded to an object to be bonded, such as a base, without interposing other components such as an adhesive layer. (Provided). Such a form is realized, for example, by forming a film directly on the bonding target. As a film forming method, a sputtering method, a vapor deposition method, a coating method, a coating method, or the like can be applied.
[0021]
In the display device of the present invention, the filter for a display device of the present invention is disposed so as to face the display surface.
[0022]
In the display device filter of the present invention and the display device of the present invention, (1) an antireflection layer is directly provided on a highly rigid substrate (first substrate) represented by glass without an intervening adhesive layer. . The first laminate comprising the first base and the antireflection layer is disposed on the outermost surface opposite to the side facing the display panel, and acts to increase the hardness of the outer surface of the display device filter. I do. (2) The functional layer other than the anti-reflection layer is provided together with the electromagnetic wave shielding layer on the basis of the second base to form a second laminate. That is, the functional layer is always formed directly on at least one surface of the second base, and the second base originally used for forming the electromagnetic wave shielding film is used in combination with the electromagnetic wave shielding layer and the functional layer.
[0023]
According to the method of manufacturing a filter for a display device of the present invention, an antireflection layer is directly attached to a first base member having high rigidity enough to protect a display surface by sputtering to form a first laminate. This includes the step of performing
[0024]
In the method of manufacturing a filter for a display device according to the present invention, the antireflection layer is formed by sputtering on a highly rigid substrate (first substrate) such as glass, and has good optical characteristics and high hardness.
[0025]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Prior to a specific description, a basic configuration of a display device filter according to the following embodiment will be described with reference to FIG. The filter according to the embodiment of the present invention has an optical function and is installed on the front surface of a display panel such as a PDP. An antireflection film 30 is formed on the outer surface of the filter opposite to the side facing the (1) display surface. The antireflection film 30 is formed by directly forming an antireflection layer 32 on a highly rigid substrate, for example, a glass substrate 31. Therefore, in this filter, the hardness of the outer surface portion is high and the filter is resistant to external damage. This effect can be obtained only by disposing the glass substrate 31 near the outer surface. However, the antireflection layer 32 formed on the glass substrate 31 is harder than that formed on a soft resin-based substrate. It is known that Therefore, due to these synergistic effects, scratches are less likely to occur.
[0026]
Further, since the glass substrate 31 and the antireflection layer 32 are directly joined without using an adhesive or a resin-based substrate, the number of layers is reduced. Therefore, in the conventional filter, various functional layers are laminated on the glass substrate, but here, no functional layer other than the antireflection layer 32 is not provided on the glass substrate 31. . Instead, the other functional layers are provided on the lower layer side of the antireflection film 30, in a range indicated by an arrow II in the drawing.
[0027]
Here, (2) the other functional layer is formed on one or both surfaces of the resin-based substrate included in the electromagnetic wave shielding film 10, or a material is formed on the adhesive layer or the adhesive layer 20 included in the electromagnetic wave shielding film 10. It is realized by mixing. Note that, in the electromagnetic wave shielding film 10, at least one surface of the electromagnetic wave shielding layer 11 is bonded to the resin base via an adhesive layer. In this way, by forming the functional layer as if it were incorporated in the electromagnetic wave shielding film 10 or the adhesive layer 20, the resin-based substrate and the adhesive layer conventionally used for providing the functional layer are omitted. That is, in the display device filter, only one resin-based substrate in the electromagnetic wave shielding film 10 is used in addition to the glass substrate 31. Here, the antireflection film 30 corresponds to the “first laminate” of the present invention. Further, the laminated portion including the electromagnetic wave shielding layer 11 and the functional layer in the electromagnetic wave shielding film 10 centered on the resin-based substrate corresponds to the “second laminated body” of the present invention.
[0028]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0029]
[First Embodiment]
FIG. 2 illustrates a configuration of a filter for a display device according to the first embodiment of the present invention. The filter 1 for a display device is used by being disposed so as to face a display such as a television receiver or a personal computer, particularly a display surface of a PDP panel. In the configuration, the electromagnetic wave shielding film 10, the functional layer 41, the adhesive layer 21, and the antireflection film 30 are laminated from below (the side facing the display surface).
[0030]
The electromagnetic wave shielding film 10 has an electromagnetic wave shielding layer 11 provided on one surface of a resin base 12. In this case, the electromagnetic wave shielding layer 11 is bonded to the resin base 12 via an adhesive layer 13 on one surface, and the opposite surface is covered with the resin layer 14. The electromagnetic wave shielding layer 11 has a function of shielding electromagnetic waves radiated from the display surface, and is made of, for example, a metal (such as a copper mesh) patterned in a mesh shape or a thin film of a magnetic material. Therefore, the electromagnetic wave shielding layer 11 is once adhered to the resin base 12 and the shape is fixed. The resin-based substrate 12 is a film-shaped substrate made of, for example, PET (polyethylene terephthalate), TAC (triacetyl cellulose), or the like. The adhesive layer 13 is made of an acrylic resin or a rubber-based adhesive, and the resin layer 14 is made of a UV-curable resin, a thermosetting resin, or the like.
[0031]
The antireflection film 30 is such that an antireflection layer 32 is directly formed on one surface of a glass substrate 31 by sputtering or the like. The anti-reflection layer 32 is made of, for example, MgF₂, SiO₂, SiN₂Low refractive index material such as Al₂O₃Medium refractive index materials such as ITO, SnO₂, TiO₂, TiN₂, Or an optical thin film or an optical multilayer film made of a material appropriately selected from high refractive index materials such as NbO. The conventional anti-reflection layer is stuck on a resin-based substrate, and a glass substrate is separately prepared. However, here, one resin-based substrate is omitted due to such a configuration.
[0032]
In the display device filter 1, the functional layer 41 and the adhesive layer 21 are laminated so as to be sandwiched between the electromagnetic wave shielding film 10 and the antireflection film 30. Among them, the functional layer 41 is directly bonded to the resin base 12.
[0033]
The functional layer 41 has a predetermined function for electromagnetic waves of a specific wavelength emitted from the display surface of the display or the display surface itself. Here, it has functions other than electromagnetic wave shielding and anti-reflection, specifically, a near-infrared shielding function and a tint adjusting function. By the way, the color adjustment function is, in the first sense, to enhance the color purity of the luminescent color in the display panel, a function of blocking the transmission of a specific wavelength (e.g., 590 nm neon ray), and the luminescent color R (red), It refers to the function of selectively transmitting each wavelength of G (green) and B (blue). This also includes a function for adjusting the body color. The body color is also called a base color of the screen, and is an element that affects the appearance of a PDP as a product. It is generally said that a bluish screen has a sense of quality and attracts consumers, and a yellowish screen gives an old-fashioned impression. That is, the functional layer 41 contains a near-infrared ray absorbent and a material for adjusting the color tone. A dye is used, and various dyes and pigments are used as a material for adjusting the color tone.
[0034]
The adhesive layer 21 laminated on the functional layer 41 is made of an acrylic resin-based or rubber-based adhesive. Here, the antireflection film 30 corresponds to a specific example of the “first laminate” of the present invention, and the laminated portion including the electromagnetic wave shielding film 10, the functional layer 40, and the adhesive layer 21 corresponds to the “first laminate” of the present invention. This corresponds to a specific example of “second laminated body”.
[0035]
As described above, the functional layer 41 is provided so as to share the resin base 12 of the electromagnetic wave shielding film 10 with the electromagnetic wave shielding layer 11, and does not need to prepare a resin base separately. Further, since the functional layer 41 is formed directly on the resin-based substrate 12, an adhesive layer for attaching to the substrate is unnecessary. In the display device filter 1, only the resin base 12 is used as the base except for the glass base 31.
[0036]
By reducing such unnecessary substrates and adhesive layers, the total number of layers can be reduced, the influence of interfacial reflection is reduced, the reflection characteristics are improved, and the haze is improved. In addition, since the layer structure is simplified, the manufacturing process can be shortened. In addition, since the number of layers is small, the yield due to the peeling of the laminated layers and the quality of the layers themselves increases stochastically, so that the manufacturing yield of the entire filter can be improved.
[0037]
Next, a method of manufacturing the display device filter 1 will be described.
[0038]
FIG. 3 is a flowchart of a method of manufacturing a filter for a display device according to the present embodiment, and FIG. 4 shows each step corresponding thereto. First, the antireflection layer 32 is formed directly on the surface of the glass substrate 31 to produce the antireflection film 30 (Step S1). In general, the method of forming the antireflection layer is roughly classified into a dry method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method and a plasma CVD method, and a wet method such as a coating method. In the dry method, since the film thickness can be formed uniformly and the thickness dimension can be controlled with higher precision than in the wet method, the formed film has no reflection unevenness and is excellent in reflection characteristics. Although any of them can be applied, here, the antireflection layer 32 is formed by a sputtering method. The anti-reflection layer 32 thus formed has a high hardness of the glass substrate 31 and is formed at a high density by a dry method.
[0039]
On the other hand, for example, a copper foil is adhered to the surface of the resin base 12 (step S2), and the copper foil is patterned into a mesh by etching (step S3). Thereby, the electromagnetic wave shielding layer 11 is formed. Next, a transparency process is performed on the electromagnetic wave shielding layer 11 (step S4). Here, a resin is poured into the exposed surface side of the electromagnetic wave shielding layer 11 to smooth the surface. Thereby, the resin layer 14 is formed, and the electromagnetic wave shielding film 10 is manufactured.
[0040]
Subsequently, a functional layer 41 is formed on the outer surface of the electromagnetic wave shielding film 10 on the side of the resin base 12 (Step 5). Here, the functional layer 41 is formed by mixing a near-infrared absorbing agent and a tint adjusting agent with a binder or a solvent, and applying this to the resin-based substrate 12. Further, an adhesive is applied on the functional layer 41 to form the adhesive layer 21 (Step S6).
[0041]
Finally, the anti-reflection film 30, which is the outermost surface on the outer surface side, is attached to the electromagnetic wave shielding film 10 provided with the functional layer 41 (step S7). That is, the glass substrate 31 is attached on the adhesive layer 21 in a configuration in which the glass substrate 31 is arranged. Thus, the display device filter 1 is completed (step S8).
[0042]
The manufactured display device filter 1 is opposed to the front surface of a display panel such as a PDP (see FIG. 10). At that time, the antireflection layer 32 is arranged outside. Normally, a PDP is provided with a display device filter when the panel body is assembled, and is a final product. In a PDP to which the display device filter 1 is attached, improvement in display contrast can be expected due to improvement in luminous reflectance and haze by simplification of the filter structure. In addition, since the outermost surface of the display panel in this case is the anti-reflection film 30 (anti-reflection layer 32) having high hardness, it is hard to be scratched from the outside, the filter is damaged, and the display quality is degraded. Or the likelihood of dropping can be reduced.
[0043]
As described above, according to the present embodiment, (1) the anti-reflection layer 32 is formed directly on the glass substrate 31, and (2) the resin-based substrate 12 is formed by using one side of the resin-based substrate 12 of the electromagnetic wave shielding film 10. Since the functional layer 41 is formed between the antireflection film 30 and the antireflection film 30, the display device filter 1 has a configuration in which the layers are omitted while having the same function as the conventional one. In the display device filter 1, since the number of layers is small, the influence of interfacial reflection at the layer interface is reduced to improve the reflection characteristics and haze. Therefore, when mounted on a display device, a comfortable video environment can be created by suppressing the reflection of ambient light and exhibiting various functions without lowering the display contrast.
[0044]
Furthermore, the simplification of the layer structure makes it possible to shorten the manufacturing process and improve the yield. As for the improvement of the yield, the yield as a whole is considered in consideration of the fact that the yield due to the defect of the resin-based substrate itself increases each time the resin-based substrate is reduced, and that the accompanying bonding process is eliminated and the yield in the laminating process is taken into consideration. Is thought to improve. For example, when the resin-based substrate and the adhesive layer are each one layer as in the filter of the present embodiment, a conventional resin-based substrate and a three-layer filter having three adhesive layers (see FIG. 11A). About 10% improvement in yield compared to In addition, about 5% or more improvement effect can be expected with respect to cost reduction by simplifying the layer structure and reducing the number of steps.
[0045]
Here, the antireflection layer 32 is formed with high hardness by forming a film by sputtering on the glass substrate 31. By forming the antireflection film 30 in this manner and disposing the antireflection film 30 on the outermost surface, the display device filter 1 is hardly damaged. In a display device using the same, it is possible to prevent the filter from being damaged and the display quality from deteriorating, and the reliability of the device can be improved.
[0046]
The antireflection layer 32 is formed with higher dimensional accuracy by being formed by sputtering than by a coating method or the like, and has excellent optical characteristics such as reflectance.
[0047]
Next, a modified example of the first embodiment will be described. In the following modifications, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate.
[0048]
[Modification 1]
FIG. 5 illustrates a configuration of a filter for a display device according to a first modification of the first embodiment. In this display device filter, the functions of the functional layer 41 and the adhesive layer 21 in the display device filter 1 are concentrated in the functional layer 41A. That is, the functional layer 41A is a mixture of the near-infrared absorbing agent and the tint adjusting agent similar to the functional layer 41 and the adhesive, and has the near-infrared shielding function, the tinting adjusting function, and the function as the adhesive. I have. As a result, the number of filter layers is further reduced by one from that of the first embodiment, and a filter for a display device whose structure and manufacturing steps are further simplified can be obtained.
[0049]
[Modification 2]
FIG. 6 illustrates a configuration of a filter for a display device according to a second modification of the first embodiment. In this modification, a functional layer 42 having a function as an adhesive layer is provided on the functional layer 41 instead of the adhesive layer 21.
[0050]
The functional layer 42 is used to add a function not provided in other functional layers, such as an ultraviolet absorbing function. Specifically, a UV absorber such as a benzotriazole-based compound dye and an adhesive are mixed and formed by coating. This makes it possible to obtain a display device filter having the same number of layers as in the first embodiment and having additional functions.
[0051]
In this modification, two layers of the

functional layers

41 and 42 are formed on one surface of the electromagnetic wave shielding film 10, but two or more functional layers may be laminated. In that case, the filter is multilayered, but in terms of the number of functions retained, the filter can be configured with a smaller number of layers than the conventional filter structure.
[0052]
[Second embodiment]
FIG. 7 illustrates a configuration of a filter for a display device according to the second embodiment. In the display device filter 2, the functional layer 43 having a function as an adhesive is interposed between the resin base 12 and the electromagnetic wave shielding layer 11. In the first embodiment and its modifications, the case where the functional layers (

functional layers

41, 41A, 42) are formed exclusively on the outer surface of the resin base 12 has been described. However, in the filter of the present invention, Not limited to such an arrangement, the functional layer may be provided on the inner surface of the resin base 12. That is, the filter is different from the filter of the first embodiment in that a functional layer 43 is provided at the position of the adhesive layer 13 instead of the functional layer 41 (see FIG. 2). In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate.
[0053]
The functional layer 43 has, for example, a near-infrared shielding function and a tint adjusting function, and specifically includes a near-infrared absorbing agent, a tint adjusting agent, and an adhesive. The adhesive layer 22 is made of the same adhesive as the adhesive layer 21.
[0054]
A method for manufacturing the display device filter 2 will be described.
[0055]
FIG. 8 is a flowchart of a method for manufacturing a display device filter according to the present embodiment. Also in this case, first, the anti-reflection layer 32 is formed directly on the surface of the glass substrate 31 by sputtering or the like, and the anti-reflection film 30 is manufactured (step S11). On the other hand, here, a functional layer 43 having an adhesive force is applied and formed on the surface of the resin-based substrate 12, and, for example, a copper foil is adhered thereon (step S12). The functional layer 43 is formed by mixing a near-infrared absorbing agent, a color adjusting agent, and an adhesive with a binder, a solvent, and the like, and applying the mixture like an adhesive. As described above, by replacing the adhesive layer conventionally applied only to the copper foil on the resin-based substrate 12 with the functional layer 43 also serving as the adhesive layer, the layer structure of the filter is simplified and In addition, the manufacturing process is simplified, and the device is efficiently manufactured.
[0056]
Subsequently, the adhered copper foil is patterned into a mesh by etching to form the electromagnetic wave shielding layer 11 (step S13). Next, a transparency process is performed on the exposed surface of the electromagnetic wave shielding layer 11 (Step S14). Here, a resin is poured into the exposed surface side of the electromagnetic wave shielding layer 11 to smooth the surface. Thereby, the resin layer 14 is formed, and the electromagnetic wave shielding film is manufactured. Next, an adhesive layer 22 is formed on the outer surface of the electromagnetic wave shielding film on the side of the resin base 12 (step 15).
[0057]
Next, the anti-reflection film 30, which is the outermost surface on the outer surface side, is bonded to the electromagnetic wave shielding film via the adhesive layer 22 (step S16). Thus, the display device filter 2 is completed (step S17).
[0058]
As described above, according to the present embodiment, (1) the antireflection layer 32 is formed directly on the glass substrate 31, and (2) the electromagnetic wave shielding film is formed inside the resin-based substrate 12, that is, the resin-based substrate 12 and the electromagnetic wave-shielded. Since the functional layer 43 which also functions as an adhesive layer is formed between the layer 11 and the layer 11, the display device filter 2 has a configuration in which the layers are omitted while having the same function as in the related art. . In this case, the functional layer 43 also functions as an adhesive layer, which is closer to Modification Example 1 than in the first embodiment, and the configuration is more simplified than that of the display device filter 1. Therefore, the effect of the present embodiment emphasizes the same content as that of the first embodiment.
[0059]
[Modification 3]
In the second embodiment, the functional layer is provided only between the resin base 12 and the electromagnetic wave shielding layer 11, but as described in the first embodiment, the functional layer is It is also possible to provide between the base 12 and the antireflection film 30. Therefore, as shown in FIG. 9, as a modified example of the second embodiment, a case where the adhesive layer 22 is replaced by a functional layer 44 having a function as an adhesive layer can be mentioned.
[0060]
The functional layer 44 has, for example, an adhesive force and an ultraviolet absorbing function, and contains an ultraviolet absorbing agent and an adhesive. As described above, the functional layer may be provided not only on one side but also on both sides of the resin base 12. According to this, the filter for a display device has a simplified configuration, but has more functional layers, and adds more functions or distributes the functions to a plurality of regions. It is possible to do.
[0061]
【Example】
[Verification of optical characteristics improvement]
As Example 1, the luminous reflectance and the haze were estimated for the same filter for a display device as in the above-described embodiment (only one layer of a resin-based substrate over the entire filter). For comparison, a conventional filter for a display device having two layers of resin-based substrates is referred to as Comparative Example 1 (FIG. 11A), and a filter having three layers of resin-based substrates is referred to as Comparative Example 2 (FIG. 11 (A)). B)), the luminous reflectance and the haze were estimated as in Example 1. Table 1 shows the results.
[0062]
[Table 1]

[0063]
Differences in the optical characteristics of the filters occur due to differences in the configuration of the antireflection layer, the treatment of the metal mesh of the electromagnetic wave shielding layer, the layer structure, etc., so that the luminous reflectance and the haze characteristic value in each case have a width. is there. Nevertheless, the values of the luminous reflectance and the haze tend to decrease in accordance with the number of layers of the filter, indicating that the optical characteristics in the examples are improved as compared with the comparative examples.
[0064]
As Example 2, a filter for a display device corresponding to Modification Example 1 of the first embodiment was prototyped, and luminous reflectance and haze were measured. Table 2 shows the measured values. From the obtained results, this filter showed improvements of about 15% in luminous reflectance and about 20% in haze over Comparative Examples 1 and 2 (conventional product). When this filter was actually mounted on a display device and the display contrast was examined, it was confirmed that the contrast of the displayed image was considerably improved as compared with the case where the conventional product was used.
[0065]
[Table 2]

[0066]
[Verification of filter hardness]
One of the structural features of the filter for a display device of the present invention is that a high-hardness antireflection film is provided on the outer surface side to protect the display panel. “Pencil hardness” is an index of the surface hardness of such a filter. The pencil hardness is defined by pencil SS00208 P15 or JIS, and indicates the surface hardness by “how hard a pencil is used to scratch the surface to prevent scratching”. Incidentally, 9H is the maximum hardness in the pencil hardness measurement. Thus, as Example 3, the pencil hardness of a filter having the same structure as in the above embodiment was measured.
[0067]
In Example 3, a filter in which an antireflection layer was formed directly on a glass substrate by sputtering was used. Since the surface hardness is observed here, it is considered that there is no difference in the measurement result due to the difference in the layer structure other than the antireflection film. In addition, comparative examples 3 and 4 were used as comparative examples 3 and 4, respectively, in which the antireflection layer was coated on a resin base such as PET or TAC, and the pencil hardness was measured in the same manner as in Example 3. Table 3 shows the results.
[0068]
[Table 3]

[0069]
The pencil hardnesses of Comparative Examples 3 and 4 were “2H” and “B”, respectively. On the other hand, Example 3 achieved the maximum hardness “9H”. As described above, the factors of Example 3 having a significantly higher hardness than the conventional product include a difference in the base material and a difference in the film forming method. In the case of Comparative Examples 3 and 4, since the PET film or the TAC film as the base material is flexible, the antireflection layer formed thereon is not so hard, but in the case of Example 3, a film is formed on glass. Therefore, it is considered that the antireflection layer is formed relatively hard. Further, in Comparative Examples 3 and 4, the antireflection layer is formed by a wet method, but in Example 3, the antireflection layer is formed by a dry method, that is, by sputtering. In general, it is considered that a film formed by the dry method has a higher density because the film has a higher density.
[0070]
[Verification of effect by sputter deposition of antireflection layer]
Forming the anti-reflection layer by sputtering has an effect of improving the hardness of the layer as described above and an effect of uniformizing the film thickness with high accuracy. In order to verify the effect, the luminous reflectance of only one side of each antireflection layer of Example 3 and Comparative Example 3 was measured. Table 4 shows the results.
[0071]
[Table 4]

[0072]
As shown in Comparative Example 3, the luminous reflectance (one side) of a general filter so far is about 0.8 to 1.2%. On the other hand, the luminous reflectance (one side) of Example 3 was 0.4% or less, which was a very good result. In the case of Example 3, the thickness of the antireflection layer matches the set value with high accuracy, so that the reflection characteristics almost as designed can be obtained, and the reflectance can be further reduced depending on the design. . However, in the case of Comparative Example 3, since the film thickness is not constant because it is formed by a method such as coating or coating, the reflection characteristics vary, and at the same time, the film cannot be formed thinner to some extent. The luminous reflectance falls within the numerical range of Table 4. Such a difference is considered to be a difference depending on the film formation method. From the above results, it can be seen that higher optical characteristics can be imparted to the antireflection layer by sputtering film formation.
[0073]
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, the transparentizing process for the electromagnetic wave shielding film 10 is performed using the resin layer 14. However, the transparentizing process may be performed by another method such as bonding a resin-based substrate. Good. In addition, the arrangement and type of the functional layers may be configured by appropriately combining the above embodiments and modified examples. For example, a multi-layered functional layer as in the first embodiment or Modification 2 may be provided inside the electromagnetic wave shielding film 10 (the position of the functional layer 43 in the second embodiment). Furthermore, if a functional layer is provided at the specified portion described in the embodiment, a functional material (for example, an ultraviolet absorber) is appropriately mixed into an adhesive layer provided at a portion other than the specified portion to form a functional layer. May also work.
[0074]
Further, in the embodiment, the example in which the display device filter is arranged so as to be separated from the display panel surface is described, but the display device filter of the present invention is directly attached to the display panel surface using an adhesive or the like. Can also be used.
[0075]
Furthermore, in the above-described embodiment, a case where the present invention is applied to a PDP has been described. However, the display device filter of the present invention is not limited to a display device other than a PDP, for example, a PALC (Plasma Address Liquid Crystal Display panel) or a FED (Field Emission Display). For example, the present invention can be applied to other display devices.
[0076]
【The invention's effect】
As described above, according to the filter for a display device of the present invention, the first base having high rigidity enough to protect the display surface and the first base are directly attached to the first base, and are provided on the display surface. A first laminate comprising an antireflection layer for preventing reflection of incident external light, a second base, and an electromagnetic wave attached to the second base and shielding electromagnetic waves emitted from the display surface A second layer including one or a plurality of functional layers which are directly attached to the shielding layer and the second substrate by being joined to one surface thereof and have a predetermined function for an electromagnetic wave of a specific wavelength emitted from the display surface or the display surface itself; And the first and second laminates are laminated so that the first laminate is the outermost surface. Therefore, the first laminate has high rigidity. Hardness is high due to the use of a substrate. Increasing the hardness of the outer surface of the filter for a display device by being arranged on the surface, it is possible to enhance the abrasion resistance of the filter to the display panel. In addition, the antireflection layer is directly attached to the first base, and the second base, which is originally used for forming the electromagnetic wave shielding film, has a configuration in which the electromagnetic wave shielding layer and the functional layer are used in combination. The number of layers of the entire filter can be reduced. Therefore, the optical characteristics are improved, and various functions can be exhibited without lowering the display contrast. Furthermore, the simplification of the layer structure makes it possible to shorten the manufacturing process and improve the yield.
[0077]
In the display device of the present invention, the display device filter of the present invention is arranged to face the display surface, so that electromagnetic waves, near-infrared rays, ultraviolet rays, and the like are shielded from the outside, and at the same time, ambient light on the filter surface is reduced. Reflection and reduction in contrast are suppressed, and a comfortable video environment can be created. Further, since the outer surface of the filter is hardly damaged, deterioration of display quality due to abrasion or the like is prevented, and the reliability of the device can be improved.
[0078]
According to the method of manufacturing a filter for a display device of the present invention, an antireflection layer is directly attached to a first base member having high rigidity enough to protect a display surface by sputtering to form a first laminate. Since the first step is performed, the first laminate can be formed with extremely high hardness. Therefore, when the first laminate is the outermost surface, it is possible to manufacture a filter for a display device which is very unlikely to be scratched, is excellent in protection of a display panel, and is excellent in optical characteristics such as reflectance.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a conceptual configuration diagram of a display device filter according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a display device filter according to the first embodiment.
FIG. 3 is a flowchart showing a manufacturing process of the display device filter shown in FIG.
FIG. 4 is a manufacturing process diagram of a display device filter corresponding to the flowchart of FIG. 3;
5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a first modification of the display device filter illustrated in FIG.
6 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a second modification of the display device filter illustrated in FIG.
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a display device filter according to a second embodiment.
FIG. 8 is a flowchart showing a manufacturing process of the display device filter shown in FIG.
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a modification of the display device filter illustrated in FIG.
FIG. 10 is a diagram illustrating a general configuration example of a display device incorporating a filter for a display device.
11A and 11B are cross-sectional views each showing a configuration example of a conventional filter for a display device.
FIG. 12 is a flowchart showing a manufacturing process of the conventional display device filter shown in FIG.
[Explanation of symbols]
1, 2 ... Filter for display device, 10 ... Electromagnetic wave shielding film, 11 ... Electromagnetic wave shielding layer, 12 ... Resin base, 13,20,21,22 ... Adhesive layer, 14 ... Resin layer, 30 ... Anti-reflection film, 31 ... glass substrate, 32 ... antireflection layer, 41, 41A, 42, 43, 44 ... functional layer.

Claims

A filter that is used by being arranged facing the display surface of the display device,
A first base having high rigidity enough to protect the display surface, and an antireflection layer directly attached to the first base to prevent reflection of external light incident on the display surface. A first laminate,
A second base, an electromagnetic wave shielding layer attached to the second base, for shielding an electromagnetic wave radiated from the display surface, and directly attached to the second base by joining one surface to the second base; A second laminate including one or more functional layers having a predetermined function with respect to an electromagnetic wave of a specific wavelength emitted from the display surface or the display surface itself,
A filter for a display device, wherein the first and second laminates are laminated such that the first laminate is the outermost surface.

The filter for a display device according to claim 1, wherein the functional layer has at least one of a near-infrared ray shielding function, a tint adjusting function, and an ultraviolet ray shielding function.

The display device filter according to claim 1, wherein at least one of the functional layers has a function as an adhesive.

The display device filter according to claim 1, wherein the functional layer has a multilayer structure in which one surface of a first layer is joined to the second base.

The first layer has a tint adjusting function and a near-infrared absorbing function, and a second layer having both an ultraviolet shielding function and a function as an adhesive is laminated on the first layer. A filter for a display device according to claim 4.

The display device filter according to claim 1, wherein the first base is a glass substrate.

Having a display surface,
A first base having high rigidity enough to protect the display surface, and an antireflection layer directly attached to the first base to prevent reflection of external light incident on the display surface. A first laminate,
A second base, an electromagnetic wave shielding layer attached to the second base, for shielding an electromagnetic wave radiated from the display surface, and directly attached to the second base by joining one surface to the second base; A second laminate including one or more functional layers having a predetermined function with respect to an electromagnetic wave of a specific wavelength emitted from the display surface or the display surface itself,
A display device, wherein a filter formed by laminating the first and second laminates with the first laminate as the outermost surface is disposed to face the display surface.

A method for manufacturing a filter for a display device, which is used by being arranged opposite to a display surface of the display device,
A display device comprising a step of directly applying an anti-reflection layer to the first base member having high rigidity enough to protect the display surface by sputtering to form a first laminate. Manufacturing method of filter for use.

further,
Providing an electromagnetic wave shielding layer on one surface of the second base;
A step of directly attaching a functional layer having at least one of a near-infrared shielding function and a tint adjusting function to the other surface of the second base;
9. The method according to claim 8, further comprising: bonding the first laminate to the outermost surface of the second base.

further,
Providing an electromagnetic wave shielding layer on one surface of the second base;
Bonding the first laminate to the outermost surface of the second base with a functional layer having at least one of a near-infrared shielding function and a tint adjusting function and a function as an adhesive interposed therebetween. The method for manufacturing a filter for a display device according to claim 8, wherein:

further,
A step of providing an electromagnetic wave shielding layer on one surface of the second substrate by interposing a functional layer having at least one of a near-infrared shielding function and a tint adjusting function and a function as an adhesive,
The method of manufacturing a display device filter according to claim 8, further comprising: bonding the first laminate to the outermost surface of the second base.