JP2004361277A - Light receiving energy measuring device and laser beam machine - Google Patents

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JP2004361277A
JP2004361277A JP2003160827A JP2003160827A JP2004361277A JP 2004361277 A JP2004361277 A JP 2004361277A JP 2003160827 A JP2003160827 A JP 2003160827A JP 2003160827 A JP2003160827 A JP 2003160827A JP 2004361277 A JP2004361277 A JP 2004361277A
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laser light
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Teruhisa Kawasaki
輝尚 川▲崎▼
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To miniaturize a device having the function of measuring energy of laser light. <P>SOLUTION: A laser beam machine 10 is composed of a chamber 14 inserting a glass substrate 12, a laser light unit 16 arranged on the upper part of the chamber 14, and a light receiving energy measuring device 18 measuring energy of the laser light. An XY stage 26 mounting the glass substrate 12 is stored in an inside space 24 of the chamber 14. Furthermore, a rectangular laser light incident window 30 is provided in a top board 28 of the chamber 14, and the laser light incident from the laser light incident window 30 is radiated on a light receiving part 38. The inside space 24 of the chamber 14 is small by lifting the light receiving part 38 with an air cylinder 42, and in the part the device can be miniaturized. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はワークに照射されるレーザ光の受光エネルギを計測する受光エネルギ計測装置及び受光エネルギ計測装置を有するレーザ加工機に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば、レーザ光をワークに照射して加工するレーザ加工機においては、ワークが搬入されるチャンバを密閉構造にし、チャンバ内部を所定の環境となるようにガスの供給、あるいは真空状態にして加工に必要なエネルギを有するレーザ光をワークに照射するように構成されている。
【0003】
この種のレーザ加工機を用いた加工方法として、非晶質珪素膜にレーザ光を照射して結晶性珪素膜に変成するアニール技術が開発されつつある。例えば、ガラス基板上の非晶質珪素膜をプラズマCVD法や減圧熱CVD法で成膜し、レーザ光を照射することにより結晶性珪素膜に変成するアニール技術がある。
【0004】
アニールの内容としては、例えば、ガラス基板や石英基板上に形成された珪素膜に対してレーザ光を照射して界面安定化する方法があり、非晶質珪素膜の結晶化、結晶性を有する珪素膜に対する結晶性のさらなる助長、不純物イオンの注入による損傷の回復、不純物の活性化がある。
【0005】
上記のようなアニールを行うレーザ加工機では、アニールの条件に応じたエネルギを有するレーザ光をガラス基板(ワーク)に照射する必要があり、レーザ光のエネルギを計測し、ガラス基板に照射されるレーザ光のエネルギが所定レベルを維持するように光学系を調整していた(例えば、特許文献1参照)。
【0006】
また、上記装置では、チャンバ内のステージにガラス基板を載置し、ガラス基板の上方からレーザ光を照射する構成であり、チャンバ内にはレーザ光の一部を計測装置に反射させる半透過ミラーが設けられている。そして、計測装置では、受光したレーザ光の照射エネルギ密度を計測する。
【0007】
【特許文献1】
特開平9−213652号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のように構成された従来の装置では、チャンバ内に半透過ミラーや計測装置が設けられているため、チャンバ内部の環境に影響を与えるばかりかチャンバ内部容積を大きくしなければならず、装置の小型化を図ることが難しかった。
【0009】
そこで、本発明は上記課題を解決した受光エネルギ計測装置及びレーザ加工機を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するため、以下のような特徴を有する。
【0011】
上記請求項1記載の発明は、ワークに照射されるレーザ光の受光エネルギを計測する受光エネルギ計測装置において、レーザ光の受光エネルギに応じた信号を出力する光電変換素子と、レーザ光の受光エネルギを計測するとき、光電変換素子をワークの加工位置近傍に移動させる移動機構と、を備えたものであり、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から離間させることにより、装置の小型化を図ることが可能になる。
【0012】
また、請求項2記載の発明は、ワークが載置されるXYステージと、XYステージを収納する密閉容器と、を備え、移動機構により、XYステージが退避した状態で光電変換素子をワークの加工位置近傍に移動させるものであり、光電変換素子をXYステージに干渉しないように密閉容器内部に移動させることが可能になり、装置の小型化を図ることが可能になると共に、ワークに照射される受光エネルギを正確に計測することが可能になる。
【0013】
また、請求項3記載の発明は、密閉容器の底部に設けられた移動機構により、光電変換素子を昇降させるものであり、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から降下させることにより、装置の小型化を図ることが可能になる。
【0014】
また、請求項4記載の発明は、移動機構が光電変換素子を冷却するための冷却手段を備えており、光電変換素子を外部から冷却することにより、装置の小型化を図ることが可能になる。
【0015】
また、請求項5記載の発明は、密閉容器に、レーザ光が入射される窓と、窓に対向して設けられ、レーザ光の照射範囲が光電変換素子の大きさに応じた寸法となるようにレーザ光の幅を規制するレーザ光規制手段とを設けたものであり、一定の照射範囲で受光されたレーザ光の受光エネルギを計測することが可能になり、計測精度を高められると共に、小型化された光電変換素子を用いて装置の小型化を図ることが可能になる。
【0016】
また、請求項6記載の発明は、請求項1乃至5何れか記載の受光エネルギ計測装置を備えたレーザ加工機であり、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から離間させることにより、装置の小型化を図ることが可能になる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、図面と共に本発明の一実施例について説明する。
図1は本発明になる受光エネルギ計測装置の一実施例が適用されたレーザ加工機を示す概略構成図である。
【0018】
図1に示されるように、レーザ加工機10は、ガラス基板12にレーザ光を照射することにより結晶性珪素膜に変成するアニールを行う装置であり、ガラス基板12が挿入されるチャンバ(密閉容器)14と、チャンバ14の上部に配置されたレーザ光ユニット16と、レーザ光のエネルギを計測する受光エネルギ計測装置18とから構成されている。
【0019】
レーザ光ユニット16は、エキシマレーザからなるレーザ光源20と、レーザ光源20から出射されたレーザ光をチャンバ14の上部中央に導く複数のレンズ、ミラー(図示せず)からなる光学系ユニット22とを有する。
【0020】
チャンバ14は、密閉構造された箱状に形成されており、内部空間24にはガラス基板12が載置されるXYステージ26が収納されている。さらに、チャンバ14の天板28の上面凹部28aには、透明な石英板が嵌められた長方形のレーザ光入射窓30が設けられている。
【0021】
レーザ光入射窓30は、光学系ユニット22から入射されるレーザ光のY方向幅寸法に対応してY方向に延在する長方形に形成されている。そして、チャンバ14の上面凹部28aには、レーザ光入射窓30の上側でレーザ光のY方向幅寸法を任意の寸法に規制するスリット機構(レーザ光規制手段)32が設けられている。
【0022】
また、チャンバ14の底板34の中央には、内部空間24に連通する連通孔36が設けられており、この連通孔36には、レーザ光の入射幅よりも小さい小型の受光部38と、受光部38を昇降させる昇降機構(移動機構)40が設けられている。昇降機構40は、エアシリンダ42からなり、エア切替ユニット44からの圧縮空気の供給により受光部38を昇降させるように構成されている。
【0023】
また、エアシリンダ42は、内部に冷却水供給ユニット46に接続された管路48,49が挿通されており、受光部38に冷却水を供給してレーザ光による温度上昇が防止される。
【0024】
上記レーザ光源20、XYステージ26、スリット機構32、受光部38、エア切替ユニット44、冷却水供給ユニット46は、制御部50により制御される。そして、制御部50は、後述するように、レーザ光の受光エネルギを計測すると共に、ガラス基板12が載置される加工位置近傍での受光エネルギが予め決められたレベルを維持するように光学系ユニット22によるレーザ光の光強度を調整する。
【0025】
制御部50は、受光部38から出力されたレーザ光の受光エネルギの計測値を記憶装置52に記憶させる。また、記憶装置52には、予め設定されたレーザ光の受光エネルギの基準値が登録されている。
図2は本発明になる受光エネルギ計測装置の一実施例が適用されたレーザ加工機を示す正面図である。図3はレーザ加工機の側面図である。図4はレーザ加工機の平面図である。
【0026】
図2乃至図4に示されるように、レーザ加工機10のチャンバ14は、鋼管を組み合わせた支持台54により所定高さに支持されている。そして、チャンバ14の底板34には、昇降機構40のエアシリンダ42に支持された受光部38が下方から挿通される連通孔36が設けられている。エアシリンダ42は、支持台54の梁56により支持された支持ベース58から起立された支柱60により垂直状態に支持されている。
【0027】
また、エアシリンダ42は、圧縮空気の圧力により昇降する可動部42aを有しており、可動部42aに受光部38が取り付けられている。この受光部38は、ケース内部に受光した光強度に応じた電気信号を出力する光電変換素子(「ジュールメータ」とも呼ばれている)62が内蔵されている。
【0028】
また、受光部38は、レーザ光を受光した光電変換素子62の発熱を減少させるため、冷却水供給ユニット46から供給された冷却水により冷却される。
【0029】
チャンバ14は、右側板64にガラス基板12が挿入される挿入口66が設けられており、右側板64の外壁には挿入口66を開閉するゲートバルブ68が取り付けられている。
【0030】
搬送用ロボット(図示せず)により挿入口66から搬入されたガラス基板12は、XYステージ26のワーク載置台70に載置される。XYステージ26は、底板34に設けられX方向に移動するX方向用移動ベース72と、X方向用移動ベース72上に載置されY方向に移動するY方向用移動ベース74とを有する。Y方向用移動ベース74上には、ワーク載置台70が搭載されている。
【0031】
X方向用移動ベース72及びY方向用移動ベース74は、X方向用リニアガイド76及びY方向用リニアガイド78により移動方向をガイドされる。
【0032】
そして、XYステージ26は、ガラス基板12がワーク載置台70に載置された状態でX方向用移動ベース72及びY方向用移動ベース74をX,Y方向に移動させてレーザ光の照射位置に対するガラス基板12の相対位置を移動させる。
【0033】
また、XYステージ26は、受光部38を計測位置(図3中2点鎖線で示す)まで上昇させる前に、ワーク載置台70をチャンバ14の中心からY方向に外れた退避位置(図3を参照)に移動させて受光部38との干渉を回避させる。
【0034】
図4に示されるように、チャンバ14の天板28の中央に設けられた長方形のレーザ光入射窓30は、スリット機構32により開口される幅寸法を規制される。また、チャンバ14の天板28には、複数のメンテナンス用開口が設けられており、各メンテナンス用開口は蓋部材80によって閉塞されている。
【0035】
図5は昇降機構40を拡大して示す背面図である。
図5に示されるように、昇降機構40は、受光部38を昇降させるエアシリンダ42を有しており、レーザ光のエネルギを計測しないときは受光部38を実線で示す待機位置に降下させている。この待機位置は、受光部38がXYステージ26と干渉しない位置であり、且つチャンバ14の底板34より上方に位置している。
【0036】
このように、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、受光部38をワークの加工位置から離間させてチャンバ14の底部に降下させることにより、チャンバ14の内部空間24が小さくて済み、その分装置の小型化を図ることができる。
【0037】
また、昇降機構40は、レーザ光のエネルギを計測する際に受光部38を2点鎖線で示す計測位置に上昇させる。この計測位置は、受光部38に内蔵された光電変換素子62の受光面62aがXYステージ26のワーク載置台70に載置されたガラス基板12の近傍となる高さ位置である。
【0038】
尚、本実施例では、レーザ光を受光面62aの全面積で受光できるようにするため、光電変換素子62の受光面62aがガラス基板12の載置位置よりも寸法L(例えば、L=85cm)だけ低い高さ位置に静止するようにエアシリンダ42の動作範囲が設定されている。これにより、レーザ光入射窓30から入射されたレーザ光は、X方向幅寸法が光電変換素子62の受光面62aのX方向幅とほぼ同一寸法になる高さ位置で光電変換素子62に受光される。
【0039】
従って、光電変換素子62は、ガラス基板12が載置される加工高さの近傍でレーザ光を直接受光することができるので、ガラス基板12に照射されるレーザ光のエネルギを正確に計測することができる。
【0040】
ここで、スリット機構32の構成について説明する。
図6はスリット機構32を拡大して示す平面図である。図7はスリット機構32を拡大して示す背面図である。
【0041】
図6及び図7に示されるように、スリット機構32は、一対のスリット板82,83と、スリット板82,83をY方向へ駆動するY方向駆動機構84と、Y方向駆動機構84が搭載された移動ベース86をX方向へ移動させるX方向駆動機構87とから構成されている。
【0042】
スリット板82,83は、Y方向に延在する規制部82a,83aと、規制部82a,83aを支持するようにX方向に延在する腕部82b,83bとを有するL字状に形成されている。また、スリット板82,83の内部には、冷却水が流れるための流路(図示せず)が形成されており、腕部82b,83bの両側には、冷却水供給管路88が接続されている。そのため、スリット板82,83は、レーザ光のY方向幅を規制する際に加熱されるが、冷却水供給ユニット46から供給された冷却水によって冷却される。
【0043】
Y方向駆動機構84は、移動ベース86上を摺動可能に設けられ、スリット板82,83を支持する摺動台90,91と、摺動台90,91のめねじに螺合された一対の送りねじ92,93と、一対の送りねじ92,93を回転駆動する駆動モータ94と、送りねじ92,93を同軸上で連結するカップリング96と、から構成されている。送りねじ92,93は、一方が右ねじで他方が左ねじに形成されている。そのため、駆動モータ94が送りねじ92,93を回転駆動することにより、摺動台90,91は互いに近接する方向に摺動し、駆動モータ94が送りねじ92,93を逆方向に回転駆動することにより、摺動台90,91は互いに離間する方向に摺動する。
【0044】
従って、スリット板82,83は、長方形状に形成されたレーザ光入射窓30の上方で近接または離間方向に摺動することでレーザ光入射窓30に入射されるレーザ光のY方向幅を任意の寸法に規制することが可能になる。また、スリット板82,83は、最も近接した状態でも規制部82a,83a間には隙間があり、レーザ光を遮断するのではなく、Y方向に延在するレーザ光のうち一部の入射を規制するものである。
【0045】
そして、規制部82a,83a間の隙間Sは、レーザ光入射窓30に入射されるレーザ光のY方向幅であり、光電変換素子62の受光面62aのY方向幅寸法と同一となるように設定される(図3中、2点鎖線で示す)。そのため、小型化された光電変換素子62を用いて装置の小型化を図ることが可能になる。
【0046】
X方向駆動機構87は、移動ベース86をX方向にガイドする一対のリニアガイド98,99と、移動ベース86をX方向に駆動するエアシリンダ100と、エアシリンダ100の可動部100aと移動ベース86の端部とを連結する連結部102と、から構成されている。従って、X方向駆動機構87は、移動ベース86をX方向に駆動することにより待機位置(図6中実線で示す)からレーザ光のY方向幅を規制する規制位置(図6中2点鎖線で示す)へ移動させる。そして、移動ベース86からX方向に延在するスリット板82,83の規制部82a,83aがレーザ光入射窓30を覆うように規制位置に移動する。
【0047】
ここで、上記のように構成された受光エネルギ計測装置18の計測動作と共に、制御部50が実行する制御処理について図8のフローチャートを参照して説明する。
【0048】
尚、図8の制御処理は、定期的に実行するようにしても良いし、あるいはメンテナンス時に行うようにしても良いし、あるいは操作者が任意のタイミングで行わせるようにしても良い。
【0049】
図8に示されるように、制御部50は、ステップS11(以下「ステップ」を省略する)でレーザ光のエネルギを計測するための計測開始スイッチ(図示せず)がオンに操作されると、S12に進み、XYステージ26のX方向用移動ベース72及びY方向用移動ベース74とを移動させてワーク載置台70をチャンバ14の中央から離間させる(図3参照)。
【0050】
次のS13では、エア切替ユニット44から昇降機構40へ圧縮空気を供給させてエアシリンダ42の可動部42aを上昇させて受光部38を計測位置(図3及び図5中、2点鎖線で示す位置)へ移動させる。
【0051】
続いて、S14では、冷却水供給ユニット46から受光部38及びスリット板82,83へ冷却水を供給し、受光部38の温度上昇を抑制する。さらに、S15に進み、スリット機構32のY方向駆動機構84の駆動モータ94、及びX方向駆動機構87のエアシリンダ100を駆動させてスリット板82,83の規制部82a,83aをレーザ光入射窓30に対向する規制位置(図6中2点鎖線で示す)に移動させると共に、スリット板82,83のY方向の隙間Sを光電変換素子62の受光面62aのY方向幅寸法と同一となるように設定する(図3中、2点鎖線で示す)。
【0052】
次のS16では、レーザ光源20から出射したレーザ光が、光学系ユニット22を介してチャンバ14のレーザ光入射窓30へ照射させる。このとき、レーザ光は、スリット機構32のスリット板82,83の隙間Sによってレーザ光入射窓30へ照射される範囲が規制され、光電変換素子62の受光面62aの所定面積に照射される。このように、光電変換素子62の受光面62aに照射されるレーザ光の受光面積を一定に保つことにより、計測された受光エネルギを予め設定された基準値と比較することが可能になる。
【0053】
続いて、S17では、光電変換素子62から出力された電気信号からレーザ光の計測値(受光エネルギの値)を求め、計測値を記憶装置52に記憶させると共に、計測値と基準値との差異からレーザ光の劣化割合を求めることができる。
【0054】
次のS18では、レーザ光の計測値に基づいて光学系ユニット22に設けられたレーザ光調整機構(図示せず)によりレーザ光の強度を基準値に調整させる。そして、S19では、計測終了スイッチ(図示せず)がオンに操作された否かを確認する。S19において、計測終了スイッチ(図示せず)がオフの場合には、上記S16〜S19の処理を再度実行する。しかし、S19において、計測終了スイッチ(図示せず)がオンの場合には、S20に進み、レーザ光源20への通電を停止させてレーザ光の照射を停止する。
【0055】
続いて、S21では、エア切替ユニット44から昇降機構40に対する圧縮空気の供給先を切り替えてエアシリンダ42の可動部42aを降下させて受光部38を待機位置(図3及び図5中、実線で示す位置)へ復帰させる。
【0056】
さらに、S22に進み、スリット機構32のY方向駆動機構84の駆動モータ94、及びX方向駆動機構87のエアシリンダ100を駆動させてスリット板82,83を規制位置から待機位置(図6中実線で示す)に移動させる。そして、S23では、XYステージ26のX方向用移動ベース72及びY方向用移動ベース74とを移動させてワーク載置台70をチャンバ14の中央に復帰させる(図2参照)。
【0057】
その後、S24に進み、冷却水供給ユニット46から受光部38及びスリット板82,83への冷却水の供給を停止させる。
【0058】
このように、受光エネルギ計測装置18では、受光部38をガラス基板12の載置位置の近傍に上昇させてレーザ光のエネルギを計測するため、レーザ光の実際の低下を正確に計測することが可能になり、レーザ光の強度を常に基準値を保つように調整することが可能になる。
【0059】
尚、上記実施の形態では、計測開始スイッチ(図示せず)がオンに操作されると、図8に示す制御処理が実行されるものとしたが、これに限らず、例えば、制御部50に予め設定された条件(年月日、時間、加工数、レーザ照射回数など)に基づいてレーザ光のエネルギを自動的に計測するようにしても良い。
【0060】
また、上記実施の形態では、受光部38をチャンバ14の底部から昇降させる構成を一例として挙げたが、これに限らず、受光部38をチャンバ14の側面から水平移動させる構成としても良いのは勿論である。
【0061】
また、上記実施の形態では、受光エネルギ計測装置をレーザ加工機に用いた場合について説明したが、これに限らず、レーザ光を使用する装置であれば、レーザ加工機以外の装置にも適用できるのは言うまでも無い。
【0062】
また、上記実施の形態では、ガラス基板12を加工するレーザ加工機を一例として挙げたが、ガラス基板12以外のワークを加工する場合にも本発明を適用できるのは勿論である。
【0063】
また、上記実施の形態では、チャンバ14の内部空間に受光部38を挿入する構成について説明したが、チャンバ14を用いない装置にも本発明を適用できるのは勿論である。
【0064】
【発明の効果】
上述の如く、請求項1記載の発明によれば、ワークに照射されるレーザ光の受光エネルギを計測する受光エネルギ計測装置において、レーザ光の受光エネルギに応じた信号を出力する光電変換素子と、レーザ光の受光エネルギを計測するとき、光電変換素子をワークの加工位置近傍に移動させる移動機構と、を備えたため、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から離間させることにより、装置の小型化を図ることができる。
【0065】
また、請求項2記載の発明によれば、ワークが載置されるXYステージと、XYステージを収納する密閉容器と、を備え、移動機構により、XYステージが退避した状態で光電変換素子をワークの加工位置近傍に移動させるため、光電変換素子をXYステージに干渉しないように密閉容器内部に移動させることが可能になり、装置の小型化を図ることが可能になると共に、ワークに照射される受光エネルギを正確に計測することができる。
【0066】
また、請求項3記載の発明によれば、密閉容器の底部に設けられた移動機構により、光電変換素子を昇降させるため、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から降下させることにより、装置の小型化を図ることができる。
【0067】
また、請求項4記載の発明によれば、移動機構が光電変換素子を冷却する冷却手段を備えたため、光電変換素子を外部から冷却することにより、装置の小型化を図ることができる。
【0068】
また、請求項5記載の発明によれば、密閉容器に、レーザ光が入射される窓と、窓に対向して設けられ、レーザ光の照射範囲が光電変換素子の大きさに応じた寸法となるようにレーザ光の幅を規制するレーザ光規制手段とを設けたため、一定の照射範囲で受光されたレーザ光の受光エネルギを計測することが可能になり、計測精度を高められると共に、小型化された光電変換素子を用いて装置の小型化を図ることができる。
【0069】
また、請求項6記載の発明によれば、請求項1乃至5何れか記載の受光エネルギ計測装置を備えたレーザ加工機であるため、レーザ光の受光エネルギを計測しないときは、光電変換素子をワークの加工位置から離間させることにより、装置の小型化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明になる受光エネルギ計測装置の一実施例が適用されたレーザ加工機を示す概略構成図である。
【図2】本発明になる受光エネルギ計測装置の一実施例が適用されたレーザ加工機を示す正面図である。
【図3】レーザ加工機の側面図である。
【図4】レーザ加工機の平面図である。
【図5】昇降機構40を拡大して示す背面図である。
【図6】スリット機構32を拡大して示す平面図である。
【図7】スリット機構32を拡大して示す背面図である。
【図8】制御部50が実行する制御処理を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
10 レーザ加工機
12 ガラス基板
14 チャンバ
16 レーザ光ユニット
18 受光エネルギ計測装置
20 レーザ光源
22 光学系ユニット
26 XYステージ
30 レーザ光入射窓
32 スリット機構
38 受光部
40 昇降機構
42 エアシリンダ
44 エア切替ユニット
46 冷却水供給ユニット
50 制御部
62 光電変換素子
70 ワーク載置台
72 X方向用移動ベース
74 Y方向用移動ベース
82,83 スリット板
84 Y方向駆動機構
86 移動ベース
87 X方向駆動機構
90,91 摺動台
92,93 送りねじ
94 駆動モータ
100 エアシリンダ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a light receiving energy measuring device that measures the light receiving energy of laser light irradiated to a workpiece and a laser processing machine having the light receiving energy measuring device.
[0002]
[Prior art]
For example, in a laser processing machine that processes a workpiece by irradiating the workpiece with laser light, the chamber into which the workpiece is loaded is sealed, and gas is supplied or vacuumed so that the inside of the chamber becomes a predetermined environment. It is configured to irradiate the workpiece with laser light having the necessary energy.
[0003]
As a processing method using this type of laser processing machine, an annealing technique is being developed in which an amorphous silicon film is irradiated with laser light to be transformed into a crystalline silicon film. For example, there is an annealing technique in which an amorphous silicon film on a glass substrate is formed by a plasma CVD method or a low pressure thermal CVD method, and is transformed into a crystalline silicon film by irradiation with laser light.
[0004]
Examples of the contents of annealing include a method of stabilizing the interface by irradiating a laser beam to a silicon film formed on a glass substrate or a quartz substrate, and has a crystallinity and crystallinity of an amorphous silicon film. There are further promotion of crystallinity for the silicon film, recovery of damage by implantation of impurity ions, and activation of impurities.
[0005]
In the laser processing machine that performs the annealing as described above, it is necessary to irradiate the glass substrate (work) with laser light having energy corresponding to the annealing conditions, and the energy of the laser light is measured and irradiated to the glass substrate. The optical system has been adjusted so that the energy of the laser beam is maintained at a predetermined level (see, for example, Patent Document 1).
[0006]
Moreover, in the said apparatus, it is the structure which mounts a glass substrate on the stage in a chamber, and irradiates a laser beam from the upper direction of a glass substrate, The semi-transmission mirror which reflects a part of laser beam to a measuring device in a chamber Is provided. Then, the measuring device measures the irradiation energy density of the received laser beam.
[0007]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-213652
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional apparatus configured as described above, a semi-transmissive mirror and a measuring device are provided in the chamber, so that not only the environment inside the chamber is affected but also the chamber internal volume must be increased. It was difficult to reduce the size of the device.
[0009]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a received light energy measuring apparatus and a laser beam machine that have solved the above problems.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the present invention has the following features.
[0011]
According to the first aspect of the present invention, there is provided a light receiving energy measuring apparatus for measuring the light receiving energy of laser light applied to a workpiece, a photoelectric conversion element that outputs a signal corresponding to the light receiving energy of the laser light, and the light receiving energy of the laser light. And a moving mechanism for moving the photoelectric conversion element to the vicinity of the workpiece processing position, and when not measuring the received light energy of the laser beam, the photoelectric conversion element is separated from the workpiece processing position. This makes it possible to reduce the size of the apparatus.
[0012]
The invention described in claim 2 includes an XY stage on which a workpiece is placed and a sealed container for storing the XY stage, and the photoelectric conversion element is processed by the moving mechanism while the XY stage is retracted. The photoelectric conversion element can be moved inside the sealed container so as not to interfere with the XY stage, the apparatus can be reduced in size, and the workpiece is irradiated. It becomes possible to accurately measure the received light energy.
[0013]
The invention according to claim 3 is for moving the photoelectric conversion element up and down by a moving mechanism provided at the bottom of the hermetic container. When the received light energy of the laser beam is not measured, the photoelectric conversion element is processed into a workpiece. By lowering from the position, it is possible to reduce the size of the apparatus.
[0014]
According to a fourth aspect of the present invention, the moving mechanism includes a cooling means for cooling the photoelectric conversion element, and the apparatus can be downsized by cooling the photoelectric conversion element from the outside. .
[0015]
The invention according to claim 5 is provided such that the sealed container is provided with a window through which the laser beam is incident and the window so as to face the window, and the irradiation range of the laser beam has a size corresponding to the size of the photoelectric conversion element. Is provided with a laser beam regulating means for regulating the width of the laser beam, which makes it possible to measure the light receiving energy of the laser beam received within a certain irradiation range, and to improve the measurement accuracy and to reduce the size It is possible to reduce the size of the apparatus by using the converted photoelectric conversion element.
[0016]
A sixth aspect of the present invention is a laser processing machine comprising the received light energy measuring device according to any of the first to fifth aspects, and when the received light energy of the laser beam is not measured, the photoelectric conversion element is processed into a workpiece. By separating from the position, it is possible to reduce the size of the apparatus.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a laser processing machine to which an embodiment of a received light energy measuring apparatus according to the present invention is applied.
[0018]
As shown in FIG. 1, the laser processing machine 10 is an apparatus that performs annealing that transforms a crystalline silicon film by irradiating a glass substrate 12 with laser light, and a chamber (sealed container) in which the glass substrate 12 is inserted. ) 14, a laser light unit 16 disposed in the upper part of the chamber 14, and a received light energy measuring device 18 for measuring the energy of the laser light.
[0019]
The laser light unit 16 includes a laser light source 20 composed of an excimer laser, and an optical system unit 22 composed of a plurality of lenses and mirrors (not shown) for guiding the laser light emitted from the laser light source 20 to the upper center of the chamber 14. Have.
[0020]
The chamber 14 is formed in a sealed box shape, and an internal space 24 stores an XY stage 26 on which the glass substrate 12 is placed. Further, a rectangular laser light incident window 30 fitted with a transparent quartz plate is provided in the upper surface recess 28 a of the top plate 28 of the chamber 14.
[0021]
The laser light incident window 30 is formed in a rectangular shape extending in the Y direction corresponding to the width dimension in the Y direction of the laser light incident from the optical system unit 22. A slit mechanism (laser light restricting means) 32 for restricting the Y-direction width dimension of the laser light to an arbitrary dimension is provided in the upper surface recess 28 a of the chamber 14 above the laser light incident window 30.
[0022]
A communication hole 36 communicating with the internal space 24 is provided at the center of the bottom plate 34 of the chamber 14. The communication hole 36 has a small light receiving portion 38 smaller than the incident width of the laser beam, and a light receiving portion. A lifting mechanism (moving mechanism) 40 that lifts and lowers the portion 38 is provided. The elevating mechanism 40 includes an air cylinder 42 and is configured to elevate the light receiving unit 38 by supplying compressed air from the air switching unit 44.
[0023]
The air cylinder 42 has pipes 48 and 49 connected to the cooling water supply unit 46 inserted therein, so that the cooling water is supplied to the light receiving unit 38 and temperature rise due to laser light is prevented.
[0024]
The laser light source 20, the XY stage 26, the slit mechanism 32, the light receiving unit 38, the air switching unit 44, and the cooling water supply unit 46 are controlled by the control unit 50. Then, as will be described later, the control unit 50 measures the light reception energy of the laser light, and maintains an optical system so that the light reception energy near the processing position on which the glass substrate 12 is placed is maintained at a predetermined level. The light intensity of the laser beam by the unit 22 is adjusted.
[0025]
The control unit 50 causes the storage device 52 to store the measured value of the received light energy of the laser beam output from the light receiving unit 38. In addition, a preset reference value of the received light energy of the laser beam is registered in the storage device 52.
FIG. 2 is a front view showing a laser processing machine to which an embodiment of the received light energy measuring apparatus according to the present invention is applied. FIG. 3 is a side view of the laser processing machine. FIG. 4 is a plan view of the laser processing machine.
[0026]
As shown in FIGS. 2 to 4, the chamber 14 of the laser processing machine 10 is supported at a predetermined height by a support base 54 combined with a steel pipe. The bottom plate 34 of the chamber 14 is provided with a communication hole 36 through which the light receiving portion 38 supported by the air cylinder 42 of the lifting mechanism 40 is inserted from below. The air cylinder 42 is supported in a vertical state by a support column 60 erected from a support base 58 supported by a beam 56 of a support base 54.
[0027]
The air cylinder 42 has a movable part 42a that moves up and down by the pressure of compressed air, and a light receiving part 38 is attached to the movable part 42a. The light receiving unit 38 includes a photoelectric conversion element (also referred to as “Joule meter”) 62 that outputs an electrical signal corresponding to the intensity of light received in the case.
[0028]
Further, the light receiving unit 38 is cooled by the cooling water supplied from the cooling water supply unit 46 in order to reduce the heat generation of the photoelectric conversion element 62 that has received the laser light.
[0029]
The chamber 14 is provided with an insertion port 66 into which the glass substrate 12 is inserted into the right side plate 64, and a gate valve 68 for opening and closing the insertion port 66 is attached to the outer wall of the right side plate 64.
[0030]
The glass substrate 12 carried in from the insertion port 66 by a transfer robot (not shown) is placed on the work placement table 70 of the XY stage 26. The XY stage 26 includes an X-direction moving base 72 that is provided on the bottom plate 34 and moves in the X direction, and a Y-direction moving base 74 that is placed on the X-direction moving base 72 and moves in the Y direction. A work mounting table 70 is mounted on the Y-direction moving base 74.
[0031]
The X direction moving base 72 and the Y direction moving base 74 are guided in the moving direction by an X direction linear guide 76 and a Y direction linear guide 78.
[0032]
The XY stage 26 moves the X-direction moving base 72 and the Y-direction moving base 74 in the X and Y directions in a state where the glass substrate 12 is placed on the work placing table 70, so that the X- and Y-direction moving bases 72 are moved. The relative position of the glass substrate 12 is moved.
[0033]
In addition, the XY stage 26 moves the workpiece mounting table 70 away from the center of the chamber 14 in the Y direction (see FIG. 3) before raising the light receiving unit 38 to the measurement position (indicated by a two-dot chain line in FIG. 3). To avoid interference with the light receiving unit 38.
[0034]
As shown in FIG. 4, the width of the rectangular laser light incident window 30 provided at the center of the top plate 28 of the chamber 14 is restricted by the slit mechanism 32. The top plate 28 of the chamber 14 is provided with a plurality of maintenance openings, and each maintenance opening is closed by a lid member 80.
[0035]
FIG. 5 is a rear view showing the lifting mechanism 40 in an enlarged manner.
As shown in FIG. 5, the elevating mechanism 40 has an air cylinder 42 that elevates and lowers the light receiving unit 38. When not measuring the energy of the laser beam, the elevating mechanism 40 lowers the light receiving unit 38 to a standby position indicated by a solid line. Yes. This standby position is a position where the light receiving unit 38 does not interfere with the XY stage 26 and is located above the bottom plate 34 of the chamber 14.
[0036]
Thus, when the light receiving energy of the laser beam is not measured, the inner space 24 of the chamber 14 can be made smaller by moving the light receiving unit 38 away from the workpiece processing position and lowering it to the bottom of the chamber 14. The size of the apparatus can be reduced.
[0037]
Further, the lifting mechanism 40 raises the light receiving unit 38 to a measurement position indicated by a two-dot chain line when measuring the energy of the laser beam. This measurement position is a height position at which the light receiving surface 62a of the photoelectric conversion element 62 built in the light receiving unit 38 is in the vicinity of the glass substrate 12 placed on the work placing table 70 of the XY stage 26.
[0038]
In this embodiment, in order to receive the laser beam over the entire area of the light receiving surface 62a, the light receiving surface 62a of the photoelectric conversion element 62 has a dimension L (for example, L = 85 cm) than the mounting position of the glass substrate 12. ), The operating range of the air cylinder 42 is set so as to stand still at a low height position. Thus, the laser light incident from the laser light incident window 30 is received by the photoelectric conversion element 62 at a height position where the X-direction width dimension is substantially the same as the X-direction width of the light-receiving surface 62a of the photoelectric conversion element 62. The
[0039]
Therefore, since the photoelectric conversion element 62 can directly receive the laser light in the vicinity of the processing height on which the glass substrate 12 is placed, the energy of the laser light irradiated on the glass substrate 12 can be accurately measured. Can do.
[0040]
Here, the configuration of the slit mechanism 32 will be described.
FIG. 6 is an enlarged plan view showing the slit mechanism 32. FIG. 7 is an enlarged rear view showing the slit mechanism 32.
[0041]
6 and 7, the slit mechanism 32 includes a pair of slit plates 82 and 83, a Y-direction drive mechanism 84 that drives the slit plates 82 and 83 in the Y direction, and a Y-direction drive mechanism 84. The X-direction drive mechanism 87 is configured to move the moved base 86 in the X direction.
[0042]
The slit plates 82 and 83 are formed in an L shape having restriction portions 82a and 83a extending in the Y direction and arm portions 82b and 83b extending in the X direction so as to support the restriction portions 82a and 83a. ing. In addition, a flow path (not shown) through which cooling water flows is formed inside the slit plates 82 and 83, and a cooling water supply pipe 88 is connected to both sides of the arm portions 82b and 83b. ing. Therefore, the slit plates 82 and 83 are heated when the width of the laser beam in the Y direction is restricted, but are cooled by the cooling water supplied from the cooling water supply unit 46.
[0043]
The Y-direction drive mechanism 84 is slidably provided on the moving base 86, and a pair of slide bases 90 and 91 that support the slit plates 82 and 83, and a pair of screws screwed to the female screws of the slide bases 90 and 91. The feed screws 92 and 93, a drive motor 94 that rotationally drives the pair of feed screws 92 and 93, and a coupling 96 that connects the feed screws 92 and 93 on the same axis. One of the feed screws 92 and 93 is a right-hand thread and the other is a left-hand thread. Therefore, when the drive motor 94 rotationally drives the feed screws 92 and 93, the slide bases 90 and 91 slide in directions close to each other, and the drive motor 94 rotationally drives the feed screws 92 and 93 in the reverse direction. As a result, the slide tables 90 and 91 slide in directions away from each other.
[0044]
Accordingly, the slit plates 82 and 83 slide in the proximity or separation direction above the rectangular laser light incident window 30 to arbitrarily adjust the Y direction width of the laser light incident on the laser light incident window 30. It becomes possible to regulate to the dimension of. In addition, the slit plates 82 and 83 have a gap between the restricting portions 82a and 83a even in the closest state, and do not block the laser light, but allow a part of the laser light extending in the Y direction to enter. It is something to regulate.
[0045]
The gap S between the restricting portions 82a and 83a is the Y-direction width of the laser light incident on the laser light incident window 30, and is the same as the Y-direction width dimension of the light receiving surface 62a of the photoelectric conversion element 62. It is set (indicated by a two-dot chain line in FIG. 3). Therefore, it is possible to reduce the size of the apparatus using the downsized photoelectric conversion element 62.
[0046]
The X-direction drive mechanism 87 includes a pair of linear guides 98 and 99 that guide the movement base 86 in the X direction, an air cylinder 100 that drives the movement base 86 in the X direction, a movable portion 100a of the air cylinder 100, and the movement base 86. It is comprised from the connection part 102 which connects the edge part of this. Therefore, the X-direction drive mechanism 87 drives the movement base 86 in the X direction to restrict the Y-direction width of the laser beam from the standby position (shown by a solid line in FIG. 6) (indicated by a two-dot chain line in FIG. 6). Move to (shown). Then, the restriction portions 82 a and 83 a of the slit plates 82 and 83 extending in the X direction from the moving base 86 are moved to the restriction position so as to cover the laser light incident window 30.
[0047]
Here, the control process executed by the control unit 50 together with the measurement operation of the light reception energy measuring device 18 configured as described above will be described with reference to the flowchart of FIG.
[0048]
Note that the control process of FIG. 8 may be executed periodically, at the time of maintenance, or may be performed by the operator at an arbitrary timing.
[0049]
As shown in FIG. 8, the control unit 50 turns on a measurement start switch (not shown) for measuring the energy of the laser beam in step S11 (hereinafter, “step” is omitted). Proceeding to S12, the X-direction moving base 72 and the Y-direction moving base 74 of the XY stage 26 are moved to separate the workpiece mounting table 70 from the center of the chamber 14 (see FIG. 3).
[0050]
In the next S13, compressed air is supplied from the air switching unit 44 to the lifting mechanism 40 to raise the movable part 42a of the air cylinder 42, and the light receiving part 38 is shown at the measurement position (indicated by a two-dot chain line in FIGS. 3 and 5). Position).
[0051]
Subsequently, in S <b> 14, cooling water is supplied from the cooling water supply unit 46 to the light receiving unit 38 and the slit plates 82 and 83, and the temperature rise of the light receiving unit 38 is suppressed. In S15, the drive motor 94 of the Y-direction drive mechanism 84 of the slit mechanism 32 and the air cylinder 100 of the X-direction drive mechanism 87 are driven so that the restricting portions 82a and 83a of the slit plates 82 and 83 are moved to the laser light incident window. The gap S in the Y direction of the slit plates 82 and 83 is the same as the width dimension in the Y direction of the light receiving surface 62a of the photoelectric conversion element 62. (Indicated by a two-dot chain line in FIG. 3).
[0052]
In the next step S <b> 16, the laser light emitted from the laser light source 20 is irradiated onto the laser light incident window 30 of the chamber 14 through the optical system unit 22. At this time, the range in which the laser light is irradiated onto the laser light incident window 30 is regulated by the gap S between the slit plates 82 and 83 of the slit mechanism 32, and the laser light is irradiated onto a predetermined area of the light receiving surface 62 a of the photoelectric conversion element 62. In this way, by keeping the light receiving area of the laser light applied to the light receiving surface 62a of the photoelectric conversion element 62 constant, the measured light receiving energy can be compared with a preset reference value.
[0053]
Subsequently, in S <b> 17, a laser beam measurement value (light reception energy value) is obtained from the electrical signal output from the photoelectric conversion element 62, the measurement value is stored in the storage device 52, and the difference between the measurement value and the reference value is determined. From this, the deterioration rate of the laser beam can be obtained.
[0054]
In the next S18, the intensity of the laser beam is adjusted to a reference value by a laser beam adjusting mechanism (not shown) provided in the optical system unit 22 based on the measured value of the laser beam. In S19, it is confirmed whether or not a measurement end switch (not shown) is turned on. In S19, when a measurement end switch (not shown) is off, the processes of S16 to S19 are executed again. However, if a measurement end switch (not shown) is turned on in S19, the process proceeds to S20, the energization to the laser light source 20 is stopped, and the laser light irradiation is stopped.
[0055]
Subsequently, in S21, the supply destination of the compressed air from the air switching unit 44 to the lifting mechanism 40 is switched to lower the movable part 42a of the air cylinder 42, and the light receiving part 38 is moved to the standby position (shown by a solid line in FIGS. 3 and 5). Return to the indicated position).
[0056]
In S22, the drive motor 94 of the Y-direction drive mechanism 84 of the slit mechanism 32 and the air cylinder 100 of the X-direction drive mechanism 87 are driven to move the slit plates 82 and 83 from the restriction position to the standby position (solid line in FIG. 6). Move to In S23, the X-direction moving base 72 and the Y-direction moving base 74 of the XY stage 26 are moved to return the workpiece mounting table 70 to the center of the chamber 14 (see FIG. 2).
[0057]
Thereafter, the process proceeds to S24, and the supply of cooling water from the cooling water supply unit 46 to the light receiving unit 38 and the slit plates 82 and 83 is stopped.
[0058]
As described above, in the received light energy measuring device 18, the energy of the laser light is measured by raising the light receiving unit 38 in the vicinity of the mounting position of the glass substrate 12, and therefore, the actual decrease in the laser light can be accurately measured. This makes it possible to adjust the intensity of the laser beam so as to always maintain the reference value.
[0059]
In the above embodiment, when a measurement start switch (not shown) is turned on, the control process shown in FIG. 8 is executed. The energy of the laser beam may be automatically measured based on preset conditions (date, time, number of processes, number of times of laser irradiation, etc.).
[0060]
Moreover, in the said embodiment, although the structure which raises / lowers the light-receiving part 38 from the bottom part of the chamber 14 was mentioned as an example, not only this but the structure which horizontally moves the light-receiving part 38 from the side surface of the chamber 14 is good. Of course.
[0061]
Moreover, although the case where the received light energy measuring apparatus was used for the laser processing machine was described in the above embodiment, the present invention is not limited to this, and any apparatus other than the laser processing machine can be applied as long as the apparatus uses laser light. Needless to say.
[0062]
Moreover, in the said embodiment, the laser processing machine which processes the glass substrate 12 was mentioned as an example, However, Of course, this invention is applicable also when processing workpiece | work other than the glass substrate 12. FIG.
[0063]
In the above-described embodiment, the configuration in which the light receiving portion 38 is inserted into the internal space of the chamber 14 has been described.
[0064]
【The invention's effect】
As described above, according to the first aspect of the present invention, in the light receiving energy measuring device that measures the light receiving energy of the laser light irradiated onto the workpiece, the photoelectric conversion element that outputs a signal corresponding to the light receiving energy of the laser light; And a moving mechanism that moves the photoelectric conversion element to the vicinity of the workpiece processing position when measuring the received light energy of the laser beam. Therefore, when the received energy of the laser beam is not measured, the photoelectric conversion element is moved from the workpiece processing position. By separating them, the apparatus can be reduced in size.
[0065]
According to a second aspect of the present invention, the photoelectric conversion element is provided with an XY stage on which the workpiece is placed and a sealed container for storing the XY stage, and the photoelectric conversion element is moved by the moving mechanism while the XY stage is retracted. Therefore, the photoelectric conversion element can be moved inside the sealed container so as not to interfere with the XY stage, the apparatus can be reduced in size, and the workpiece is irradiated with the photoelectric conversion element. The received light energy can be accurately measured.
[0066]
According to the third aspect of the present invention, the photoelectric conversion element is moved up and down by the moving mechanism provided at the bottom of the sealed container. Therefore, when the received light energy of the laser beam is not measured, the photoelectric conversion element is processed into the workpiece. The apparatus can be reduced in size by being lowered from the position.
[0067]
According to the invention described in claim 4, since the moving mechanism includes the cooling means for cooling the photoelectric conversion element, the apparatus can be miniaturized by cooling the photoelectric conversion element from the outside.
[0068]
According to the invention of claim 5, the hermetically sealed container is provided with a window through which the laser light is incident, and the window is opposed to the window, and the irradiation range of the laser light has a size according to the size of the photoelectric conversion element. Since the laser beam restricting means that regulates the width of the laser beam is provided, it is possible to measure the light receiving energy of the laser beam received in a certain irradiation range, and the measurement accuracy can be improved and the size can be reduced. The device can be miniaturized using the photoelectric conversion element.
[0069]
Further, according to the invention described in claim 6, since the laser processing machine includes the light receiving energy measuring device according to any one of claims 1 to 5, when the light receiving energy of the laser beam is not measured, the photoelectric conversion element is used. By separating the workpiece from the machining position, the apparatus can be reduced in size.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a laser processing machine to which an embodiment of a received light energy measuring apparatus according to the present invention is applied.
FIG. 2 is a front view showing a laser processing machine to which an embodiment of the received light energy measuring apparatus according to the present invention is applied.
FIG. 3 is a side view of the laser processing machine.
FIG. 4 is a plan view of a laser processing machine.
FIG. 5 is a rear view showing the lifting mechanism 40 in an enlarged manner.
6 is an enlarged plan view showing a slit mechanism 32. FIG.
7 is an enlarged rear view showing the slit mechanism 32. FIG.
FIG. 8 is a flowchart for explaining control processing executed by a control unit 50;
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Laser processing machine 12 Glass substrate 14 Chamber 16 Laser light unit 18 Light reception energy measuring device 20 Laser light source 22 Optical system unit 26 XY stage 30 Laser light incident window 32 Slit mechanism 38 Light receiving part 40 Lifting mechanism 42 Air cylinder 44 Air switching unit 46 Cooling water supply unit 50 Control unit 62 Photoelectric conversion element 70 Work placement table 72 X-direction moving base 74 Y-direction moving base 82, 83 Slit plate 84 Y-direction driving mechanism 86 Moving base 87 X-direction driving mechanisms 90, 91 Sliding Base 92, 93 Feed screw 94 Drive motor 100 Air cylinder

Claims (6)

ワークに照射されるレーザ光の受光エネルギを計測する受光エネルギ計測装置において、
前記レーザ光の受光エネルギに応じた信号を出力する光電変換素子と、
前記レーザ光の受光エネルギを計測するとき、前記光電変換素子を前記ワークの加工位置近傍に移動させる移動機構と、
を備えたことを特徴とする受光エネルギ計測装置。
In the light receiving energy measuring device that measures the light receiving energy of the laser beam irradiated to the workpiece,
A photoelectric conversion element that outputs a signal corresponding to the received light energy of the laser beam;
A moving mechanism that moves the photoelectric conversion element to a position near the machining position of the workpiece when measuring the light receiving energy of the laser beam;
A light receiving energy measuring device comprising:
前記ワークが載置されるXYステージと、
前記XYステージを収納する密閉容器と、を備え、
前記移動機構は、前記XYステージが退避した状態で前記光電変換素子を前記ワークの加工位置近傍に移動させることを特徴とする請求項1記載の受光エネルギ計測装置。
An XY stage on which the workpiece is placed;
A sealed container for storing the XY stage,
The received light energy measuring apparatus according to claim 1, wherein the moving mechanism moves the photoelectric conversion element to a vicinity of a machining position of the workpiece while the XY stage is retracted.
前記移動機構は、前記密閉容器の底部に設けられ、前記光電変換素子を昇降させることを特徴とする請求項2記載の受光エネルギ計測装置。The received light energy measuring apparatus according to claim 2, wherein the moving mechanism is provided at a bottom portion of the sealed container and moves the photoelectric conversion element up and down. 前記移動機構は、前記光電変換素子を冷却するための冷却手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至3何れか記載の受光エネルギ計測装置。4. The received light energy measuring apparatus according to claim 1, wherein the moving mechanism includes a cooling unit for cooling the photoelectric conversion element. 前記密閉容器は、
前記レーザ光が入射される窓と、
該窓に対向して設けられ、前記レーザ光の照射範囲が前記光電変換素子の大きさに応じた寸法となるように前記レーザ光の幅を規制するレーザ光規制手段と、
を備えたことを特徴とする請求項2記載の受光エネルギ計測装置。
The sealed container is
A window into which the laser beam is incident;
Laser light restricting means that is provided facing the window and restricts the width of the laser light so that the irradiation range of the laser light is a size corresponding to the size of the photoelectric conversion element;
The light receiving energy measuring device according to claim 2, comprising:
前記請求項1乃至5何れか記載の受光エネルギ計測装置を備えたレーザ加工機。A laser processing machine comprising the received light energy measuring device according to any one of claims 1 to 5.
JP2003160827A 2003-06-05 2003-06-05 Light receiving energy measuring device and laser beam machine Pending JP2004361277A (en)

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