JP2004342964A - Two-stage laser equipment equipped with high precision synchronous control function - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は発振段レーザと増幅段レーザを有する2ステージレーザ装置に関し、特に、発振段レーザと増幅段レーザを最適なレーザ出力が得られるように個別に構成した場合でも、発振段レーザと増幅段レーザの高精度な同期制御が可能な2ステージレーザ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、その製造用の投影露光装置においては解像力の向上が要請されている。このため、露光用光源から放出される露光光の短波長化が進められており、半導体露光用光源として、従来の水銀ランプから波長248nmのKrFエキシマレーザ装置が用いられている。さらに、次世代の半導体露光用光源として、波長193nmのArFエキシマレーザ装置及び波長157nmのフッ素分子(F2 )レーザ装置等の紫外線を放出するガスレーザ装置が有力である。
レーザ媒質であるレーザガスが封入されたレーザチャンバ内部には、レーザガスを励起するための一対の主放電電極が、レーザ発振方向に垂直な方向に所定の距離だけ離間して対向配置されている。この一対の主放電電極には高電圧パルスが印加され、主放電電極間にかかる電圧がある値(ブレークダウン電圧)に到達すると、主放電電極間のレーザガスが絶縁破壊されて主放電が開始し、この主放電によりレーザ媒質が励起される。よって、このような露光用ガスレーザ装置は主放電の繰返しによるパルス発振を行い、放出するレーザ光はパルス光となる。投影光学系を用いた露光装置に光源として適用する場合、上記投影光学系における色収差の問題を回避するために、上記したようなガスレーザ装置から放出されるレーザ光のスペクトル線幅は狭帯域化される。
例えば、レーザ共振器は、レーザチャンバを挟んだ出力鏡と狭帯域光学系から構成される。狭帯域化光学系〔LNM(Line Narrow Module)〕は、例えば、レーザ光が入射する側から、スリット、拡大プリズム等から構成される拡大光学系、反射型グレーティングとからなる。
【0003】
近年、スループットの向上、更なる微細化の観点から、上記した露光用ガスレーザ装置のレーザ出力の高出力化、ならびに、レーザ光のスペクトル線幅の超狭帯域化が要請されている。
第一の要請である高出力化のためには、1パルスあたりのエネルギーを増加させる方法、あるいは低パルスエネルギーだが繰返し周波数を増加させる方法がある。
第二の要請である超狭帯域化は、上記したように、通常プリズムとグレーティングで構成される狭帯域化光学系の高分解能化や、特許文献1に記載されたようなレーザパルスのロングパルス化等による方法がある。しかしながら狭帯域化光学系の高分解能化やロングパルス化による超狭帯域化は、一般的に光学的ロスを増加させる等、パルスエネルギー低下を招く。つまり狭帯域化とパルスエネルギーはトレードオフの関係にある。
繰り返し周波数増加に関しても、4kHzを超える繰り返し周波数はCoO(Cost of operation )の観点より技術的ハードルが高い。そのため、1台のレーザにおいて超狭帯域化を維持したまま、繰り返し周波数増加によって高出力化するにはおのずと限界がある。
【0004】
そこで超狭帯域化とパルスエネルギーとのトレードオフ関係をなくし、両要請を同時に満足させるため、超狭帯域化されたオシレータレーザ(発振段レーザ)と出力を増幅するアンプレーザ(増幅段レーザ)とを同期して用いる2ステージレーザ装置が、例えば、特許文献2、特許文献3等で提案されている。
1台目の発振段レーザは低パルスエネルギーながら超狭帯域化スペクトルをもつ。2台目の増幅段レーザにおいて、発振段レーザの超狭帯域化スペクトルを維持したままパルスエネルギーのみ増幅する。この方法は2台目の増幅段レーザにLNM(狭帯域化光学系)などの光学的ロスを含まないため、非常にレーザ発振効率が高い。この同期レーザ装置により所望の超狭帯域化スペクトル、レーザ出力を得ることが可能となる。
2ステージレーザ装置の形態としてはアンプ側に共振器ミラーを設けないMOPA方式と共振器ミラーを設けるMOPO方式とに大別される。
【0005】
2ステージレーザ装置の構成例を、図11、図12に示す。
図11はMOPA方式の従来の2ステージレーザ装置の構成例を示し、図12はMOPO方式における増幅段レーザの構成例を示す。なお、図12の発振段レーザには、例えば、図11に示す発振段レーザと同様のものが用いられる。図12、図12はレーザ装置を上方から見た場合の概要図である。
図11において、発振段レーザ1から放出されるレーザビームはレーザ装置のシードレーザビーム(種レーザビーム)としての機能を有する。増幅段レーザ2はそのシードレーザビームを増幅する機能を有する。すなわち、発振段レーザ1のスペクトル特性によりレーザ装置の全体のスペクトル特性が決定される。そして、増幅段レーザ2によってレーザ装置からのレーザ出力(エネルギーまたはパワー)が決定される。
レーザチャンバ1a,2aは内部に放電部を有している。放電部は紙面と垂直方向に上下に設置されている一対のカソード、アノード電極1b、カソード、アノード電極2bからなる。これらの一対の電極に電源1c,2cから高電圧パルスが印加されることにより、電極間で放電が発生する。なお、図11、図12では上部電極のみが図示されている。
チャンバ1a,2a内に設置された一対の電極1b,2bの光軸延長上両端に、CaF2 等のレーザ発振光に対して透過性がある材料によって作られたウィンドウ部材1d,2dがそれぞれ設置されている。ここでは両ウィンドウ部材のチャンバ1a,2aと反対側の面(外側の面)は互いに平行にそして、レーザビームに対して反射損失を低減するためにブリュースタ角で設置されている。
発振段レーザ1は拡大プリズム3bとグレーティング(回折格子)3aによって構成された狭帯域化モジュール(狭帯域化光学系)3を有し、この狭帯域化モジュール3内の光学素子とフロントミラー1fとでレーザ共振器を構成する。
発振段レーザ1からのレーザビーム(シードレーザビーム)は図示を省略した反射ミラー等を含むビーム伝播系により増幅段レーザ2へ導かれ注入される。
【0006】
また、図12に示すMOPO方式では、小入力でも増幅できるように、増幅段レーザ2には、例えば倍率が3倍以上の不安定型共振器が採用されている。
図12に示すものでは、増幅段レーザ2の不安定共振器のリア側ミラー2eには穴が開いており、この穴を通過したレーザが上図の矢印のように反射し、また注入されたシードレーザビームは拡大し、放電部を有効に通過しレーザビームのパワーが増大する。
そして、凸面ミラーから構成されるフロントミラー2fよりレーザが出射される。
【0007】
図11、図12に示す同期コントローラ10は、発振段レーザ1、増幅段レーザ2の放電タイミングを制御する。
すなわち、まず、電源1cから発振段レーザ1の一対の電極1bに高電圧パルスを印加させるON指令として、発振段レーザ1の電源1cにトリガ信号を送信する。そして所定時間後、増幅段レーザ2の電源2cにON指令としてのトリガ信号を送信する。
上記所定時間とは、発振段レーザ1からシードレーザビームが増幅段レーザ2内に入射するタイミングと増幅段レーザ2が放電するタイミングを同期させるための時間である。
なお、後で述べるように、レーザチャンバ内で放電を発生させレーザガスを励起するための放電回路に、コンデンサと可飽和リアクトルとからなる磁気パルス圧縮回路を含む場合、コンデンサの充電電圧(V)と電荷の転送時間(t)との積であるVt積の値が一定という関係がある。
そのため、発振段レーザ1の一対の電極1bおよび増幅段レーザ2の一対の電極2bにそれぞれ印加する電圧の値によっては、同期コントローラ10は、先に増幅段レーザ2の電源2cにON指令としてのトリガ信号を送信後、所定時間後、発振段レーザ1の電源1cにトリガ信号を送信する場合もある。
【0008】
上記した2ステージレーザ装置において、上記したようにレーザチャンバ内で放電を発生させレーザガスを励起させるための放電回路の例を図13に示す。図13に示す放電回路は、発振段レーザ、増幅段レーザ各々に適用される。
図13の放電回路は、主コンデンサC0を充電する充電器Chと可飽和リアクトルからなる3個の磁気スイッチSR1,SR2,SR3を用いた2段の磁気パルス圧縮回路(以下ではMPC回路ともいう)からなる。
磁気スイッチSR1はIGBT等の半導体スイッチング素子である固体スイッチSWでのスイッチングロスの低減用のものであり、磁気アシストとも呼ばれる。コンデンサC1および第1の磁気スイッチSR2からなる容量移行型回路と、コンデンサC2と第2の磁気スイッチSR3からなる容量移行型回路とにより2段の磁気パルス圧縮回路を構成している。
充電器Chにより主コンデンサC0に充電されたエネルギーは、磁気パルス圧縮回路を移行するにつれ、各段を流れる電流パルスのパルス幅が順次狭くなるようなパルス圧縮動作が行われピーキングコンデンサCpが充電され、主放電電極E,E間に短パルスの強い放電が実現される。
【0009】
【特許文献1】
特開2001−156367号公報
【特許文献2】
特開2001−024265号公報
【特許文献3】
特開2002−198604号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
2ステージレーザ装置においては、発振段レーザから放出されたレーザビームが増幅段レーザに注入されるタイミングと増幅段レーザが放電するタイミングを調整する必要がある。すなわち、前記したように発振段レーザの放電、発光タイミングと増幅段レーザの放電、発光タイミングに所定の遅延時間を設ける必要がある。両者の放電、発光のタイミングがずれると、発振段レーザから放出されたレーザビームは良好に増幅されない。
一般に、コンデンサと可飽和リアクトルからなる磁気パルス圧縮回路では、コンデンサの充電電圧(V)と電荷の転送時間(t)との積であるVt積の値が一定という関係がある。電圧Vの値が大きいと転送時間tは短くなり、電圧Vが小さいと転送時間tは長くなる。よって、充電電圧の充電精度がばらつくと、転送時間がばらつき、結局、発光あるいは放電タイミングがばらつくことになる。このようなばらつきを、以下、ジッタと呼ぶことにする。
上記した二つのレーザ(発振段レーザ、増幅段レーザ)を各々制御して両レーザの放電、発光タイミングの調整精度を向上させるためには、各レーザのジッタを小さくする必要がある。
【0011】
このジッタを小さくするために、例えば、前記した特許文献3に記載のものにおいては、発振段レーザ、増幅段レーザの放電回路、レーザチャンバ、主放電電極を同一の構成とし、1台の充電器で各レーザ装置の放電回路の主コンデンサを充電する構成を採用している。
この構成では、同等の磁気パルス圧縮回路を用い、充電電圧も同じであるため、上記したジッタの大きさも発振段レーザ、増幅段レーザ両者でほぼ等しくなる。よって、両レーザの放電、発光タイミングの調整精度を向上させることが可能となる。
しかしながら、一般に、発振段レーザからの狭帯域化されたレーザビームのパルスエネルギーは数10〜数100μJ程度でよく、増幅段に比較して、二桁から三桁小さい。これ以上大きくても、増幅段レーザで増幅されて出力されるレーザパルスのエネルギーに変化はない。
上記特許文献3に記載される構成では、発振段レーザ、増幅段レーザともに同等の構成となるため、発振段レーザから放出される狭帯域化されたレーザビームのパルスエネルギーは、必要以上に大きくなることが多い。よって、2ステージレーザ装置への投入電力に対する2ステージレーザ装置から放出されるレーザビームのパルスエネルギーの比で表される運転効率が低くなるという問題が発生する。
【0012】
上記した問題を回避するためには、発振段レーザと増幅段レーザとをそれぞれ最適なレーザ出力が得られるよう個別に構成する必要がある。すなわち、2台の容量の異なる個別の充電器、回路定数が異なる個別のMPC回路、電極構造(放電体積)、レーザガス混合条件の異なる個別のレーザチャンバを用いて、2ステージレーザ装置を構成する必要がある。しかしながらこの場合、運転効率の点では改善されるものの、上記ジッタは、発振段レーザ、増幅段レーザ各々について個別の大きさになるので、両レーザの放電、発光タイミングの調整精度を向上させることが困難になる。
本発明は上記のような事情に鑑みなされたものであって、本発明の第1の目的は、発振段レーザと増幅段レーザとをそれぞれ最適なレーザ出力が得られるよう個別に構成しても、両レーザの放電、発光タイミングの調整精度を向上させることが可能な2ステージレーザ装置を提供することである。
また、エキシマレーザの出力制御においては、各チャンバ内のハロゲンガスをその消耗に応じて注入する方法や、ガス圧を変化させてエネルギーを補償する方法があり、そうした場合には、同じ電圧で2つの磁気パルス圧縮回路を充電したとしても、2つのチャンバ間での放電開始タイミングがかならずしも一致するとは限らない。
そこで、本発明の第2の目的は、チャンバ内のガス圧が発振段レーザと増幅段レーザとでそれぞれ異なる変化をしたとしても、両レーザの発光あるいは放電タイミングの調整精度を向上させることが可能な2ステージレーザ装置を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記課題を本発明においては、次のようにして解決する。
(1)発振段レーザの磁気パルス圧縮回路をトリガするスイッチの動作タイミングと、増幅段レーザの磁気圧縮回路をトリガするスイッチの動作タイミングを、発振段レーザの放電電極および増幅段レーザの放電電極における放電開始タイミングと、発振段レーザの磁気パルス圧縮回路および増幅段レーザの磁気パルス圧縮回路の動作を考慮して補正する。
(2)上記(1)において、発振段レーザの発光あるいは放電タイミングを計測する第1の発光あるいは放電モニタと、増幅段レーザの発光あるいは放電タイミングを計測する第2の発光あるいは放電モニタとを設け、上記第1の発光あるいは放電モニタおよび第2の発光あるいは放電モニタに基づき、発振段レーザの磁気パルス圧縮回路をトリガするスイッチおよび増幅段レーザの磁気圧縮回路をトリガするスイッチの動作タイミングをフィードバック補正する。
(3)上記(1)(2)において、発振段レーザの放電電極および増幅段レーザの放電電極における放電開始タイミングの補正を、発振段レーザの磁気パルス圧縮回路のコンデンサおよび増幅段レーザの磁気パルス圧縮回路のコンデンサの充電電圧値と、発振段レーザのレーザチャンバおよび増幅段レーザのレーザチャンバ内のレーザガス圧力値に基づき行う。
(4)上記(1)(2)(3)において、発振段レーザの磁気パルス圧縮回路および増幅段レーザの磁気パルス圧縮回路の動作を考慮した補正は、上記発振段レーザの磁気パルス圧縮回路のコンデンサおよび増幅段レーザの磁気パルス圧縮回路のコンデンサの充電電圧値と、上記発振段レーザおよび増幅段レーザの磁気パルス圧縮回路を構成する回路素子の温度値に基づき行なう。
(5)発振段レーザの磁気パルス圧縮回路および増幅段レーザの磁気パルス圧縮回路の回路定数を異なった値とする。
(6)発振段レーザの電極構成と、増幅段レーザの電極構成を互いに異なった構成とする。
(7)発振段レーザの磁気パルス圧縮回路のコンデンサおよび増幅段レーザの磁気パルス圧縮回路のコンデンサを充電する充電器を一つとする。
本発明においては、上記構成としたので、発振段レーザ、増幅段レーザの放電、発光タイミングの調整精度を向上させることが可能となる。このため、発振段レーザと増幅段レーザとをそれぞれ最適なレーザ出力が得られるよう個別に構成しても、発振段レーザ、増幅段レーザの放電、発光タイミングを最適な値に設定し、発振段レーザから放出されたレーザビームを良好に増幅することが可能となる。
また、発振段レーザと、増幅段レーザとを個別に構成することができるので、発振段レーザから放出されるレーザビームのパルスエネルギーが、必要以上に大きくなることがなく、運転効率を改善することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
上記の2ステージレーザ装置の形態としては、前記図11、図12に示したように、増幅側に共振器ミラーを設けないMOPA方式と共振器ミラーを設けるMOPO方式とに大別される。
以下、本発明の実施例ではMOPO方式による2ステージレーザ装置について説明する。MOPA方式の場合は、前記図11に示したように増幅段レーザ(AMP)に共振器ミラーが付いていない場合の構成となる。
図1、図2は本発明の実施例の2ステージレーザ装置に構成例を示す図であり、図1はレーザ装置の放電回路の主コンデンサを充電する充電器が1台の場合の構成例を示し、図2は充電器が2台の場合の構成例を示す。なお、図1、図2の構成図は装置を側面から見た場合の概要である。
図1、図2は、基本的には充電器が1台であるか2台であるかの点で相違するだけであり、図1、図2により、本実施例の2ステージレーザ装置の構成、および動作について説明する。
なお、充電器を2台とすれば、発振段レーザ、増幅段レーザの磁気パルス圧縮回路に応じた容量の充電器を用いることができるため、その分運転効率を向上させることができるが構成が複雑になる。また、充電器を1台とすれば、上記メリットはえられないが、構成を簡単にすることができる。
【0015】
図1、図2において、発振段レーザ(OSC)1から放出されるレーザビームは2ステージレーザ装置のシードレーザビーム(種レーザビーム)としての機能を有する。増幅段レーザ(AMP)2はそのシードレーザ光を増幅する機能を有する。すなわち、発振段レーザ1のスペクトル特性によりレーザ装置の全体のスペクトル特性が決定される。そして、増幅段レーザ2によってレーザ装置からのレーザ出力(エネルギーまたはパワー)が決定される。
発振段レーザ1、増幅段レーザ1は各々レーザチャンバ1a,2aを有するレーザチャンバ1a,2aの内部にはレーザガス供給ユニットから供給されたレーザガスが満たされており、内部には対向し、かつ所定距離だけ離間した一対の電極1b,2bが設置される。
2ステージレーザ装置がフッ素分子(F2 )レーザ装置のとき、発振段レーザ1、増幅段レーザ2ともにチャンバ1a,2aには、フッ素(F2 )ガスと、ヘリウム(He)やネオン(Ne)等からなるバッファーガスとからなるレーザガスが充填される。2ステージレーザ装置がKrFレーザ装置のときには、発振段レーザ1、増幅段レーザ2ともにチャンバ1a,2aには、クリプトン(Kr)ガス、フッ素(F2 )ガスと、ヘリウム(He)やネオン(Ne)等からなるバッファーガスとからなるレーザガスが充填される。
さらに、2ステージレーザ装置がArFレーザ装置のときには、発振段レーザ1、増幅段レーザ2ともにチャンバ1a,2aには、アルゴン(Ar)ガス、フッ素(F2 )ガスと、ヘリウム(He)やネオン(Ne)等からなるバッファーガスとからなるレーザガスが充填される。
【0016】
発振段レーザ1と増幅段レーザ2ともにレーザチャンバ1a,2aは内部に放電部を有している。放電部は紙面と平行方向に上下に設置されている一対のカソード、アノード電極1b,2bからなる。これらの一対の電極1b,2bに電源1c,2cから高電圧パルスが印加されることにより、電極1b,2b間で放電が発生する。
また、発振段レーザ1と増幅段レーザ2ともにチャンバ1a,2a内に設置された一対の電極1b,2bの光軸延長上両端に、前記したようにCaF2 等のレーザ発振光に対して透過性がある材料によって作られたウィンドー部材(図示せず)がそれぞれ設置されている。ここでは両ウィンドー部材のチャンバと反対側の面は互いに平行にそして、レーザ光に対して反射損失を低減するためにブリュースタ角で設置されている。また、レーザ光のP偏光成分が垂直になるよう、ウィンドーは設置されている。
チャンバ1a,2a内には、図示されないクロスフローファンが設置されており、レーザガスをチャンバ1a,2a内で循環させ、放電部にレーザガスを送り込んでいる。また、チャンバ1a,2a内には、レーザガスの温度調節をするための熱交換器1g,2gが設けられている。
また、発振段レーザ1、増幅段レーザ2ともに、チャンバへF2 ガス、バッファーガスを供給するF2 ガス供給系、バッファーガス供給系、および、チャンバ内のレーザガスを排気するガス排気系が設けられている。図1、図2ではこれらをまとめて“ガス供給排気用制御バルブ16a”及び“ガス供給排気用制御バルブ16b”として図示している。
なお、KrFレーザ装置、ArFレーザ装置の場合は、各々Krガス供給系、Arガス供給系も備える。チャンバ内ガス圧力は圧力センサP1,P2によってモニタされ、ガス圧力情報はユーティリティコントローラ24へ送られる。そして、ユーティリティコントローラ24がガス供給配給制御バルブ16a,16bを制御し、発振段チャンバ1a並びに増幅段チャンバ2a内ガス組成、ガス圧力が夫々制御される。
【0017】
発振段レーザ1は拡大プリズムとグレーティング(回折格子)によって構成された狭帯域化モジュール3を有し、この狭帯域化モジュール3内の光学素子とフロントミラー(OC)1fとでレーザ共振器を構成する。または図示していないが拡大プリズム、グレーティングの代わりにエタロンと全反射ミラーを用いた狭帯域化モジュールを用いてもよい。
発振段レーザ1、増幅段レーザ2から放出されたレーザ光の一部は図示されていないビームスプリッタによって分岐され、モニターモジュール15a,15bに導光される。モニターモジュール15a,15bは夫々発振段レーザ1、増幅段レーザ2の出力、線幅そして中心波長等のレーザビーム特性をモニタする。図1、図2では発振段と増幅段レーザの両方にモニターモジュールが設置されているが、どちらか一方のみの設置でもよい。
モニターモジュール15a,15bからの中心波長の信号は波長コントローラ23に送られる。そして、波長コントローラ23はドライバ18により狭帯域化モジュール3内の光学素子を駆動させて、波長を選択して発振段レーザ1の中心波長が所望の波長になるよう波長制御する。
なお、上記した波長制御を、増幅段レーザ2から放出されるレーザ光の一部が導光されるモニターモジュール15bからの波長情報に基き、発振段レーザ1から放出されるレーザ光の波長が所定の波長となるように波長コントローラからドライバ18に指令を出して行うことも可能である。
モニターモジュール15a,15bからのレーザ出力信号はエネルギーコントローラ22へ送られる。そして、同期コントローラ21を経由し印加電圧が制御され、発振段レーザ1、増幅段レーザ2のエネルギーが所望の値になるよう制御される。
【0018】
発振段レーザ1からのレーザビーム(シードレーザビーム)はモニターモジュール15aを通過した後、光軸調整等を行うために設けられた反射ミラー等を含むビーム伝播系17により増幅段レーザ2へ導かれ、注入される。
MOPO方式では、小入力でも増幅できるように、増幅段レーザ2には、例えば倍率が3倍以上の増幅段出力ミラー2fと増幅段リア側ミラー2eとで構成された不安定型共振器が採用される。
MOPO方式における増幅段レーザの不安定共振器のリア側ミラー2eには穴が開いており、この穴を通過したレーザが上図の矢印のように反射し、また注入されたシードレーザビームは拡大し、放電部を有効に通過し、レーザビームのパワーが増大する。そして、増幅段出力ミラー2fよりレーザが出射される。
凹面ミラー2eに中心部には空間的穴が施してあり、周囲にはHR(HighReflection)コートが施されている。凸面ミラー2fの中心部にはHRコートが施され、周囲のレーザ出射部にはAR(Anti Reflection)コートが施されてある。
凸面ミラー2fの穴は空間的に開いているのではなく、穴部のみARコートが施されたミラー基板を用いてもよい。また、ミラーに透過部を持たせない不安定共振器を用いてもよい。
【0019】
発振段レーザ1、増幅段レーザ2の各一対の電極1b,2bには、それぞれ、スイッチ12a−磁気パルス圧縮回路(MPC)13aによって構成された電源1cおよびスイッチ12b−磁気パルス圧縮回路(MPC)13bによって構成された電源2cが接続されている。
そして、電源1c,2cより高電圧パルスが印加され、上記電極1b,2b間で放電が生じる。この放電により、レーザチャンバ1a,2a内に充填されたレーザガスが励起される。
図1の場合には、電源1c、2cは一台の充電器11によって充電され、図2の場合には、電源1c、2cはそれぞれ充電器11a,11bによって充電される。
また、磁気パルス圧縮回路13a,13b内の温度は、温度センサT1,T2によりモニタされ、信号は同期コントローラ21に送られる。
電源1c,2cにおいて、充電器11(もしくは充電器11a,11b)によりコンデンサ(前記図13に示す放電回路における主コンデンサC0)が充電される。コンデンサに充電されたエネルギーは、スイッチ12a,12bがON状態になると、電圧パルスとして磁気パルス圧縮回路13a,13bに転送され、パルス圧縮され、上記した一対の電極1b,2bに印加される。
【0020】
上記スイッチ12a,12bのON,OFFは、同期コントローラ21からの動作指令(トリガ信号)によってなされる。
同期コントローラ21は、発振段レーザ1から放出されるレーザビームが増幅段レーザ2に注入されるタイミングで増幅段レーザ2において放電が発生するように、スイッチ12a−磁気パルス圧縮回路13aによって構成された電源1cそしてスイッチ12b−磁気パルス圧縮回路13bによって構成された電源2cにトリガ信号を送出する。
発振段レーザ1、増幅段レーザ2の放電のタイミングがずれると、発振段レーザ2から放出されるレーザビームは効率よく増幅されない。同期コントローラ21は、光・放電検出器14a,14bからの発振段レーザ1および増幅段レーザ2の放電開始の情報、そしてエネルギーコントローラ22からのレーザ出力情報を基に、発振段レーザ1の電源1cに送出するトリガ信号と増幅段レーザ2の電源2cに送出するトリガ信号との間の遅延時間を設定する。
ユーティリーティーコントローラ24、エネルギーコントローラ22そして波長コントローラ23はメインコントローラ26と接続されている。また、メインコントローラ26はインタフェース27を介して露光装置28と接続している。メインコントローラ26は露光装置28から指令に従い、各コントローラに制御分担を振り分け、その指令によって各コントローラは分担する制御を行う。
また、後述するように同期コントローラ21がトリガ信号を送出したときにカウントを開始し、光・放電検出器14a,14bによりレーザ発光もしくは、放電時の発光(以下、総称して発光という)あるいは放電の開始が検出されたときにカウントを停止する発光計測カウンタ25a(以下COカウンタという)、発光計測カウンタ25b(以下CAカウンタという)が設けられており、このカウンタ25a,25bのカウント値に基づき、後述するように発振段レーザ1、増幅段レーザ2をトリガするタイミングを決定する。
なお、上記した光・放電検出器14a,14bが、レーザ発光、放電時の発光、放電電流、放電電圧、放電により発生する電磁波のうちの少なくとも1つを検出するセンサである。ここで発振段レーザ1と増幅段レーザ2において、それぞれ異なるものを検出してもよい。例えば、発振段レーザ1でレーザ発光の開始を、増幅段レーザ2で放電開始を検出してもよい。
【0021】
なお、図1、図2では、MOPO方式の増幅段レーザ2のレーザ共振器が不安定共振器である場合を示したが、安定共振器であってもよい。
また、MOPA方式は、光が増幅段レーザを通過する回数は1回であるが、これに限るものではない。例えば、折り返しミラーを設けて、増幅段レーザを複数回通過させてもよい。このように構成することにより、より高い出力のレーザ光を取り出すことが可能となる。
【0022】
次に、本発明の実施例の2ステージレーザ装置における発振段レーザ1と増幅段レーザ2の同期制御について説明する。
なお、以下では、図1に示した充電器を1台備えた装置の場合と、図2に示した充電器を2台備えた装置の場合を分けて説明する。ここでこれ以降、充電器が1台の場合を1充電器、充電器が2台の場合を2充電器と称することにする。
(1)エネルギーコントローラにおける制御
(a) 1充電器の場合
図3に1充電器の場合のエネルギーコントローラ22における処理フローを示し、同図によりエネルギーコントローラ22における処理について説明する。
(i) モニタモジュール15bにより、増幅段レーザ2から放出されるレーザ光のパルスエネルギーを検出する。モニタモジュール15bは検出値信号をエネルギコントローラ22に送出する(図3のステップS101)。
(ii)モニタモジュール15bから受信した検出値信号から、パルスエネルギーEを求める。そして予め記憶していた、もしくはメインコントローラ26から与えられていた目標エネルギーEtとの偏差ΔEを、ΔE=E−Etから計算する(ステップS102)。なお、上記目標エネルギーEtは露光装置28から与えられ、インタフェース27を介して、エネルギーコントローラ22あるいはメインコントローラ26に与えられる。
(iii) 次に、求めた偏差ΔEに基き、偏差ΔEに得るのに相当する電源1c、電源2cのコンデンサを充電するときの充電電圧の偏差分ΔVを求める。ΔVは、係数をKとするとき、ΔV=K・ΔEの式から求める(ステップS103)。
(iv)目標エネルギーEtを得るための充電電圧HVを求める。
すなわち、前回(今回の放電パルスの前の放電パルスを発生させたとき)の充電電圧HVに、以下の式に示すように、ステップS103で求めたΔVを加えることで補正する(ステップS104)。
HV(今回)=HV(前回)+ΔV
(v) 充電電圧HVがレーザガス注入電圧Vmax より大きいかを判定し、大きければ、レーザガスを注入する(ステップS105)。また、小さければ、ステップS106に行く。
(vi)ステップS104で求めた充電電圧値(高電圧値)HV(今回)のデータを、同期コントローラ21およびメインコントローラ26に送出する(ステップS106)。
【0023】
(b) 2充電器の場合
図4に2充電器の場合のエネルギーコントローラ22における処理フローを示し、同図によりエネルギーコントローラ22における処理について説明する。
(i) モニタモジュール15a,15bにより、発振段レーザ1、増幅段レーザ2から放出されるレーザ光のパルスエネルギーを検出する。モニタモジュール15a,15bは検出値信号をエネルギコントローラ22に送出する(図4のステップS101)。
(ii)モニタモジュール15a,15bから受信した検出値信号から、パルスエネルギーE1、E2を求める。そして予め記憶していた、もしくはメインコントローラ26から与えられていた目標エネルギーEt1とE1との偏差ΔE1、ならびに、目標エネルギーEt2とE2との偏差ΔE2を、ΔE1=E1−Et1、ならびに、ΔE2=E2−Et2の式から計算する(ステップS102)。
(iii) 次に、求めた偏差ΔE1、ΔE2に基き、偏差ΔE1、ΔE2に得るのに相当する電源1、電源2のコンデンサを充電するときの充電電圧の偏差分ΔV1、ΔV2を求める。ΔV1は、係数をKとするとき、ΔV1=K・ΔE1の式から求める。また、ΔV2は、係数をKとするとき、ΔV2=K・ΔE2の式から求める(ステップS103)。
(iv)目標エネルギーEt1を得るための充電電圧HV1を求める。すなわち、以下の式により、前回(今回の放電パルスの前の放電パルスを発生させたとき)の充電電圧HV1にステップS103で求めたΔV1を加えることで補正する。
HV1(今回)=HV1(前回)+ΔV1
また、目標エネルギーEt2を得るための充電電圧HV2を求める。すなわち、以下の式により、前回(今回の放電パルスの前の放電パルスを発生させたとき)の充電電圧HV2にステップS203で求めたΔV2を加えることで補正する(ステップS104)。
HV2(今回)=HV2(前回)+ΔV2
(v) 充電電圧値HV1,HV2がレーザガス注入電圧Vmax 1,Vmax 2より大きいかを判定し、大きければ、レーザガスを注入する(ステップS105)。また、小さければ、ステップS106に行く。
(vi)ステップS104で求めた充電電圧値(高電圧値)HV1(今回)のデータ、ならびに、充電電圧値(高電圧値)HV2(今回)のデータを、同期コントローラ21およびメインコントローラ26に送出する(ステップS106)。
【0024】
(2)同期コントローラにおける制御
電源1c,2cを構成する磁気パルス圧縮回路(MPC回路)は、前記図13に示したように可飽和リアクトルとコンデンサからなる容量移行型回路を数段接続したものである。
各段の容量移行型回路のインダクタンスを後段に行くにつれて小さくなるように設定することにより、各段を流れる電流パルスのパルス幅が順次狭くなるようなパルス圧縮動作が行われる。ここで、各段の移行時間は、以下の式に示すように、可飽和リアクトルへの印加電圧Vに反比例する。
V・tm=(一定)
すなわち、印加電圧Vが高いと移行時間tmは小さくなるし、電圧Vが低いと移行時間tmは大きくなる。
また、MPC回路を構成する過飽和リアクトル、コンデンサはそれぞれ温度特性を持っているため、MPC内部温度の変化により移行時間tmは変化する。内部温度は、発振周波数、発振時間、バースト動作のデューティー、充電電圧などにより変化する。
同期コントローラ21は、可飽和リアクトルへの印加電圧V(前記充電電圧値HV)と温度センサT1,T2によりモニタされたMPC回路の温度Tp1,Tp2に基づき、例えば近似式を用いて、あるいは、予め作成した、印加電圧、温度に対する移行時間tmを記録したテーブルを参照して上記移行時間tmを求める。
【0025】
一方、チャンバ1a,2aの電極1b,2b間に電圧印加されてから放電が開始するまでの時間(放電開始時間)tbは、図5(a)に示すように、充電電圧が高いと電極間電圧の立上りが大きくなるため短くなり(tb1)、充電電圧が低いと電圧立上りが小さくなるため長くなる(tb3)。
また、図5(b)に示すように、チャンバ内のガス圧が高いと、放電開始電圧は高くなる(−V1)ため、放電開始までの時間は長くなる(tb3)。反対にガス圧が低いと低いと放電開始電圧が低く(−V3)なるため、放電開始までの時間は短くなる(tb1)。したがって、放電開始時間tbは、充電電圧とガス圧力の関数となる。
同期コントローラ21は、上記充電電圧HVと、圧力センサP1,P2によりモニタされるガス圧力に基づき、放電開始時間tbを求める。
上記放電開始時間は、本発明においては充電電圧、ガス圧力を使用範囲で変化させて、各条件における放電開始時間tbを測定して、これらの値を記録したテーブルを作成し、このテーブルを同期コントローラ21にあらかじめ入力しておく方法(テーブル方式)を使用したが、近似式を用いて計算することも可能である。
【0026】
以下、同期コントローラ21における同期制御について説明する。
同期コントローラ21における同期制御の概要は以下の通りである。なお、2充電器の場合は、それぞれの充電電圧HV1,HV2に基づき発振段レーザ1におけるディレイ値(OSC−補正ディレイ)、増幅段レーザ2におけるディレイ値(AMP−補正ディレイ)を求めるが、その他の点は1充電器の場合と同様である。
(i) 充電電圧HV(HV1,HV2)と、MPCの温度Tp1,Tp2、チャンバの圧力Pp1,Pp2より、前記移行時間tm、放電開始時間tbを求める。そして、このtm,tbから、発振段レーザ1における、電源1cのスイッチ12aをオンにしてから、放電が開始するまでのディレイ時間(OSC−補正ディレイという)、増幅段レーザ2における、電源2cのスイッチ12bをオンにしてから、放電が開始するまでのディレイ時間(AMP−補正ディレイ)をそれぞれ求める。
(ii)初回の放電時には、露光装置から送られてくるトリガ信号と、上記OSC−補正ディレイ、AMP−補正ディレイに基づき、発振段レーザ1と増幅段レーザ2の電源1c,2cをトリガするタイミングを定め、スイッチ12a,12bをオンにする。
(iii) 上記トリガ信号から発振段レーザ1、増幅段レーザ2が発光あるいは放電を開始するまでの時間をCOカウンタ25a,CAカウンタ25bでカウントし、上記トリガ信号を出力してから実際に発光あるいは放電を開始するまでの時間を求める。
(iv)2回目以降の放電時には、上記COカウンタ25a,CAカウンタ25bでカウントした実際の時間に基づき、充電電圧HV、温度Tp1,Tp2、圧力Pp1,Pp2から求めたOSC−補正ディレイ、AMP−補正ディレイを補正して、この補正された時間に基づき、発振段レーザ1と増幅段レーザ2の電源1c,2cをトリガするタイミングを定め、スイッチ2a,2bがオンにする。
【0027】
以下、1充電器を備えた場合と、2充電器を備えた場合に分けて、同期コントローラ21における同期制御について詳細に説明する。
(a) 1充電器の場合
図6に同期コントローラ21の入出力信号を示す。同図に示すように、同期コントローラ21には、インタフェース27から与えられるトリガ信号、エネルギーコントローラ22から与えられる充電電圧HV、発振段レーザ1、増幅段レーザ2のチャンバ1a,2aの圧力Pp1、Pp2、光・放電検出器14a,14bにより検出される発光あるいは放電が発生したことを示す光・放電検出信号、温度センサT1,T2によりモニタされた電源1c,2cのMPC回路の温度Tp1,Tp2が入力される。同期コントローラ21は、これらの信号に基づき、充電器11に充電信号HVを出力するとともに、電源1c,2cのスイッチをトリガするタイミングを決定し、OSC−トリガ信号、APM−トリガ信号を出力する。
図7は同期コントローラ21の処理を示すフローチャート、図8は、同期コントローラの制御タイミングチャートであり、これらの図を参照しながら、同期コントローラ21の同期制御について説明する。
【0028】
(i) エネルギコントローラ22から送出された充電電圧値HVのデータを受信する。また、MPC回路に設けられた温度センサT1,T2から送出される磁気圧縮回路のMPC内部温度Tp1、Tp2のデータを受信する。
さらに、発振段レーザ1のチャンバ1a,増幅段レーザのチャンバ2aに設けられたチャンバガス圧センサP1,P2から送出されたチャンバガス圧力Pp1、Pp2のデータを受信する(図7のステップS301)。
すなわち、エネルギーコントローラ22は、前記した式により充電電圧値HVを計算し、充電電圧値HVのデータ信号を同期コントローラ21に送出する。
また、電源1c,2cに設けられたMPC温度センサT1,T2は内部温度Tp1、Tp2のデータ信号を、チャンバガス圧センサP1,P2はガス圧力Pp1、Pp2を同期コントローラ21に送出する。
同期コントーラ21はこれらのデータ信号DATA1in,DATA2inを受信する(図8のタイミングチャートのS401,S404)。そして、これらのデータを取込むタイミングを指示するデータ取込指令信号STROBE1、STROBE2(タイミングチャートのS402、S405)の立ち上がりでDATA1inデータ、DATA2inデータを取込み、DATA1reg、DATA2regとして保持する(図8のタイミングチャートのS403、S406)
【0029】
(ii)同期コントローラ21は、図7のステップS301で受信し保持したDATA1reg,DATA2reg(充電電圧HV、温度Tp1、Tp2のデータ)を基に、前記したように発振段レーザ1のMPC13a、増幅段レーザ2のMPC13bの電流パルスの移行時間tm1、tm2を求める。
また、DATA1reg,DATA2reg(充電電圧HV、圧力Pp1、Pp2のデータ)から、前記したように放電開始時間tb1、tb2を求める。さらに、tmとtbの和から、以下のように補正ディレイt1_delay(n),t2_delay(n)を求める(図7のステップS302、タイミングチャートのS407、S408)。
t1_delay(n)=tm1+tb2
t2_delay(n)=tm2+tb2
【0030】
(iii) 運転を開始してから最初のレーザ発振(初回パルスという)であるかを判定し、初回パルスの場合には、ステップS303からステップS304に行く。
また初回パルスでない場合には、ステップS313に行く。
ステップS304で、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aへのトリガ信号の発生タイミングを求める。
初回パルスの場合は、COカウンタ25a,CAカウンタ25bのカウント値が使用できず、後述する遅延フィードバック補正をできないため、上記充電電圧(HV)、MPC温度(Tp1)、チャンバガス圧(Pp1)から求めたt1_delay(n)を、以下の式に示すように、トリガ遅延時間to_switch(n)とし、このトリガ遅延時間により、トリガを発生してから、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをトリガするまでの時間を決定する。
to_switch(n)=t1_delay(n)
同様に、ステップS305で、増幅段レーザ2の電源2cのスイッチ12bへのトリガ信号の発生タイミングを求める。
すなわち、上記充電電圧(HV)、MPC温度(Tp2)、チャンバガス圧(Pp2)から求めたt2_delay(n)を、以下の式に示すように、トリガ遅延時間ta_switch(n)とし、このトリガ遅延時間により、トリガを発生してから、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをトリガするまでの時間を決定する。
ta_switch(n)=t2_delay(n)
【0031】
(iv)インターフェース27を経由して、ステッパー等の露光装置28からのプリトリガ(Pre_trigin)を受信する(図7のステップS306、タイミングチャートのS409)。
(v) 同期コントローラ21は、ステップS306で受信した基準トリガを基に、充電制御信号(Chargout)、および、トリガ信号(Trig)を作成する(図7のステップS307)。
ここで、上記充電制御信号(Chargout)は、充電器11に送信され、充電器11は前記したように主コンデンサC0の充電を行う。主コンデンサC0の充電が安定するまでの時間であるチャージャ充電安定時間tstが経過後、同期コントローラ21は、トリガ信号(Trig)を作成し、出力する(タイミングチャートのS410、S411)。
(vi)ステップS307で作成したトリガ信号(Trig)の出力開始で発振段レーザ1の発光あるいは放電時刻を計測するCOカウンタ25a、および増幅段レーザ2の発光あるいは放電時刻を計測するCAカウンタ25bを動作させる。なお、COカウンタ25aと、CAカウンタ25bは上記プリトリガが入力されたとき、0クリアされている(図7のステップS308、タイミングチャートのS415、S417)。
これらのカウンタはプリトリガ受信から発振段レーザ、増幅段レーザにおいて放電によるレーザ発光が起こるまでの時間を一定にするためにフィードバック制御するためのものである。
【0032】
(vii) トリガ信号(Trig)からトリガ遅延時間〔to_switch(n)〕により定まる遅延時間の後、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをONにするOSCトリガ信号(OSC_trigout)を出力する(ステップS309、タイミングチャートS412)。
また、トリガ信号(Trig)からトリガ遅延時間〔ta_switch(n)〕で定まる遅延時間の後、増幅段レーザ2の電源2cのスイッチ12bをONにするAMPトリガ信号(AMP_trigout)を出力する(ステップS310、タイミングチャートS413)。
これにより発振段レーザ1,増幅段レーザ2が放電を開始する。
ここで、上記トリガ遅延時間(OSCトリガ信号、AMPトリガ信号を出力するタイミング)は、最初の一回目(初回パルス)は、上記のようにt1_delay(n)、t2_delay(n)に基づいて決定するが、2回目以降は、後述するように上記t1_delay(n)、t2_delay(n)を、前記COカウンタ25a、CAカウンタ25bのカウント値に基づき補正した値に基づいて決定する。
(viii)光・放電検出器14aにより発振段レーザ1の発光あるいは放電開始タイミングtoを検出し、COカウンタ25aを停止させる(図7のステップS311、タイミングチャートのS414、S415)。
また、光・放電検出器14bにより増幅段レーザ2の発光あるいは放電開始タイミングtaを検出し、CAカウンタ25bを停止させる(図7のステップS312、タイミングチャートのS416、S417)。
【0033】
(ix)以上のように初回の放電が終わると、次いで、ステップS301に戻り、前記したように同期コントローラ21は、充電電圧値HV、内部温度Tp1、Tp2、ガス圧力Pp1、Pp2のデータ信号DATA1,DATA2を取り込んで保持し、受信した充電電圧HV、温度Tp1、Tp2のデータを基に、前記したように発振段レーザ1のMPC13a、増幅段レーザ2のMPC13bの電流パルスの移行時間tm1、tm2を求める。
また、充電電圧HV、圧力Pp1、Pp2から前記したように放電開始時間tb1、tb2を求め、tmとtbの和から、補正ディレイt1_delay(n),t2_delay(n)を求める(ステップS301,S302)。
(x) 初回のパルスではないので、ステップS303からステップS313に行き、ステップS311で計測したトリガ信号作成から発振段レーザ1が発光あるいは放電するまでの時間であるCOカウンタ25aの値を基に、発振段レーザ1のフィードバック演算を以下の式より行う。
Δto_delay(n)=tot−tCO
ここで、tot:トリガから発振段レーザ1が発光あるいは放電するまでの遅延目標時間、tCO:COカウンタ25aで計測した時間である(ステップS313、タイミングチャートのS407)。
また、同期コントローラ21はステップS312で計測したトリガ信号作成から増幅段レーザ2が発光あるいは放電するまでの時間であるCAカウンタ25bの値を基に、増幅段レーザ2のフィードバック演算を以下の式により行う。
Δta_delay(n)=tAt−tCA
ここで、tAt:トリガから増幅段レーザ2が発光あるいは放電するまでの遅延目標時間、tCA:CAカウンタ25bで計測した時間である(ステップS314、タイミングチャートのS408)。
【0034】
(xi)発振段レーザ1において、充電電圧(HV)、MPC温度(Tp1)、チャンバガス圧(Pp1)から求めたt1_delay(n)と、上記発光・放電タイミングフィードバック演算の結果Δto_delay(n−1)を基に、以下の式によりトリガ遅延時間to_switch(n)を求め、このトリガ遅延時間から、トリガを発生してから、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをトリガするまでの時間を決定する(ステップS315)。
to_switch(n)=t1_delay(n)+Δto_delay(n−1)
同様に、増幅段レーザ2において、充電電圧(HV)、MPC温度(Tp2)、チャンバガス圧(Pp2)から求めたt2_delay(n)と、上記発光・放電タイミングフィードバック演算の結果Δta_delay(n−1)を基に、以下の式によりトリガ遅延時間ta_switch(n)を求め、このトリガ遅延時間から、トリガを発生してから、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをトリガするまでの時間を決定する(ステップS316)。
ta_switch(n)=t2_delay(n)+Δta_delay(n−1)
【0035】
(xii) ついで、ステップS306に行き、前記したようにインターフェース27を経由して、ステッパー等の露光装置28からのプリトリガ(Pre_trigin)を受信する。
以下、前記したように、チャージ出力信号、トリガ信号を作成し、COカウンタ25a、CAカウンタ25bを動作させる。
そして、トリガ信号(Trig)から、上記のように求めたトリガ遅延時間〔to_switch(n)〕により定まる遅延時間の後、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをONにするOSCトリガ信号(OSC_trigout)を出力する。また、トリガ信号(Trig)からトリガ遅延時間〔ta_switch(n)〕で定まる遅延時間の後、増幅段レーザ2の電源2cのスイッチ12bをONにするAMPトリガ信号(AMP_trigout)を出力する。さらに、光・放電検出器14aにより発振段レーザ1の発光あるいは放電開始タイミングtoを検出し、COカウンタ25aを停止させ、光・放電検出器14bにより増幅段レーザ2の発光あるいは放電開始タイミングtaを検出し、CAカウンタ25bを停止させる(図7のステップS307〜S312)。
【0036】
以上のように動作させることにより、プリトリガから発光あるいは放電タイミングtoまでの時間、及び発光あるいは放電タイミングtaまでの時間が一定になるように制御することができる。
また、エネルギーコントローラからのHVの設定値、MPC温度センサからのTp1,Tp2の測定値、チャンバガス圧センサからのPp1,Pp2ガス圧測定値により補正することで、常に発振段レーザ発光あるいは放電タイミングと増幅段レーザ発光あるいは放電タイミングを一定に保つように制御することができる。
このため、発振段レーザと増幅段レーザをそれぞれ最適なレーザ出力が得られるように個別に構成して、両レーザの放電、発光タイミングの調整精度を向上させ、高精度に同期させることができる。
なお、通常、露光装置のプリトリガ信号が発信されてからレーザ装置の発光あるいは放電までの時間は、所定の一定値となるように構成される。また、発振段レーザを効率よく、かつ、所望のビーム品質を維持したまま増幅するため、発振段レーザが発光あるいは放電してから、増幅段レーザが発光あるいは放電するまでの遅延時間は、ある所定値に維持される必要がある。
このため、実際には、上記のようにして求めたOSCトリガ遅延時間〔to_switch(n)〕、AMPトリガ遅延時間〔ta_switch(n)〕に所定の値を加算して、上記基準トリガ信号が発信されてからレーザ装置の発光あるいは放電までの時間、発振段レーザが発光あるいは放電して増幅段レーザが発光するまでの遅延時間を調整している。
【0037】
(b) 2充電器の場合
図9に同期コントローラ21の入出力信号を示す。2充電器の場合は、発振段レーザ1用の充電器11a、増幅段レーザ2用の充電器11bが設けられ、同期コントローラ21が上記充電器11a、充電器11bにHV1,HV2を出力する点を除き、前記図6と同様であり、同期コントローラ21には、インタフェース27から与えられるトリガ信号、エネルギーコントローラ22から与えられる充電電圧HV1,HV2、発振段レーザ1、増幅段レーザ2のチャンバ1a,2aの圧力Pp1、Pp2、光・放電検出器14a,14bが出力する光・放電検出信号、温度センサT1,T2によりモニタされた温度Tp1,Tp2が入力される。同期コントローラ21は、これらの信号に基づき、充電器11に充電信号HV1,HV2を出力するとともに、電源1c,2cのスイッチをトリガするタイミングを決定し、トリガ信号を出力する。
図10は同期コントローラ21の処理を示すフローチャートであり、充電電圧値HV1,HV2を用いる点で前記図7のフローチャートと相違するが、その他の点では基本的に図7と同様である。
以下、前記図8の制御タイミングチャートを参照しながら、2充電器の場合の同期コントローラ21の同期制御について説明する。
【0038】
(i) エネルギコントローラ22から送出された充電電圧値HV1,HV2のデータを受信する。また、磁気圧縮回路のMPC内部温度Tp1、Tp2のデータを受信する。さらにチャンバガス圧センサPp1,Pp2から送出されたチャンバガス圧力Pp1、Pp2のデータ(DATA1in,DATA2in)を受信する(図10のステップS301)。
同期コントローラ21は、データ取込指令信号STROBE1、STROBE2(タイミングチャートのS402、S405)の立ち上がりでDATA1inデータ、DATA2inデータを取込み、DATA1reg、DATA2regとして保持する(図10のタイミングチャートのS403、S406)
【0039】
(ii)同期コントローラ21は、図10のステップS301で受信し保持したDATA1reg、DATA2reg(充電電圧HV1、HV2、温度Tp1、Tp2のデータ)を基に、前記したように発振段レーザ1のMPC13a、増幅段レーザ2のMPC13bの電流パルスの移行時間tm1、tm2を求める。
また、DATA1reg、DATA2reg(充電電圧HV1、HV2、圧力Pp1、Pp2のデータ)から、前記したように放電開始時間tb1、tb2を求める。さらに、tmとtbの和から、以下のように補正ディレイt1_delay(n),t2_delay(n)を求める(図10のステップS302、タイミングチャートのS407、S408)。
t1_delay(n)=tm1+tb2
t2_delay(n)=tm2+tb2
【0040】
(iii) 運転を開始してから最初のレーザ発振(初回パルスという)であるかを判定し、初回パルスの場合には、ステップS303からステップS304に行く。ステップS304で、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aへのトリガ信号の発生タイミングを求める。
初回パルスの場合は、前記したようにt1_delay(n)を、以下の式に示すように、トリガ遅延時間to_switch(n)とし、このトリガ遅延時間から、トリガを発生してから、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをトリガするまでの時間を決定する。
to_switch(n)=t1_delay(n)
同様に、ステップS305で、増幅段レーザ2の電源2cのスイッチ12bへのトリガ信号の発生タイミングを求める。
すなわち、前記したようにt2_delay(n)を、以下の式に示すように、トリガ遅延時間ta_switch(n)とし、このトリガ遅延時間から、トリガを発生してから、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをトリガするまでの時間を決定する。
ta_switch(n)=t2_delay(n)
【0041】
(iv)インターフェース27を経由して、ステッパー等の露光装置28からのプリトリガ(Pre_trigin)を受信する(図10のステップS306、タイミングチャートのS409)。
(v) 同期コントローラ21は、基準トリガを基に、充電制御信号(Chargout)、および、トリガ信号(Trig)を作成する(図10のステップS307)。
なお、前記したように、同期コントローラ21は、チャージャ充電安定時間tstが経過後、トリガ信号(Trig)を作成し、出力する(タイミングチャートのS410、S411)。
(vi)ステップS307で作成したトリガ信号(Trig)出力開始で発振段レーザ1の発光あるいは放電時刻を計測するCOカウンタ25a、および増幅段レーザ2の発光あるいは放電時刻を計測するCAカウンタ25bを動作させる(図10のステップS308、タイミングチャートのS415、S417)。
【0042】
(vii) トリガ信号(Trig)からトリガ遅延時間〔to_switch(n)〕により定まる遅延時間の後、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをONにするOSCトリガ信号(OSC_trigout)を出力する(ステップS309、タイミングチャートS412)。
また、トリガ信号(Trig)からトリガ遅延時間〔ta_switch(n)〕で定まる遅延時間の後、増幅段レーザ2の電源2cのスイッチ12bをONにするAMPトリガ信号(AMP_trigout)を出力する。 これにより発振段レーザ1、増幅段レーザ2が放電を開始する(ステップS310、タイミングチャートS413)。
(viii)光・放電検出器14aにより発振段レーザ1の発光あるいは放電開始タイミングtoを検出し、COカウンタ25aを停止させる(ステップS311、タイミングチャートのS414、S415)。
また、光・放電検出器14bにより増幅段レーザ2の発光あるいは放電開始タイミングtaを検出し、CAカウンタ25bを停止させる(ステップS312、タイミングチャートのS416、S417)。
【0043】
(ix)以上のように初回の放電が終わると、次いで、ステップS301に戻り、前記したように充電電圧値HV1,HV2、内部温度Tp1、Tp2、ガス圧力Pp1、Pp2のデータ信号DATA1,DATA2を取り込んで保持し、発振段レーザ1のMPC13a、増幅段レーザ2のMPC13bの電流パルスの移行時間tm1、tm2を求める。
また、充電電圧HV1,HV2、圧力Pp1、Pp2から前記したように放電開始時間tb1、tb2を求め、tmとtbの和から、補正ディレイt1_delay(n),t2_delay(n)を求める(ステップS301,S302)。
(x) 初回のパルスではないので、ステップS303からステップS313に行き、前記したようにCOカウンタ25aの値を基に、発振段レーザ1のフィードバック演算を以下の式より行う。
Δto_delay(n)=tot−tCO
ここで、tot:トリガから発振段レーザ1が発光あるいは放電するまでの遅延目標時間、tCO:COカウンタ25aで計測した時間である(ステップS313、タイミングチャートのS407)。
また、前記したようにCAカウンタ25bの値を基に、増幅段レーザ2のフィードバック演算を以下の式により行う。
Δta_delay(n)=tAt−tCA
ここで、tAt:トリガから増幅段レーザ2が発光あるいは放電するまでの遅延目標時間、tCA:CAカウンタ25bで計測した時間である(ステップS314、タイミングチャートのS408)。
【0044】
(xi)発振段レーザ1において、t1_delay(n)と、上記発光・放電タイミングフィードバック演算の結果Δto_delay(n−1)を基に、以下の式によりトリガ遅延時間to_switch(n)を求め、このトリガ遅延時間から、トリガを発生してから、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをトリガするまでの時間を決定する(ステップS315)。
to_switch(n)=t1_delay(n)+Δto_delay(n−1)
同様に、増幅段レーザ2において、t2_delay(n)と、上記発光・放電タイミングフィードバック演算の結果Δta_delay(n−1)を基に、以下の式によりトリガ遅延時間ta_switch(n)を求め、このトリガ遅延時間から、トリガを発生してから、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをトリガするまでの時間を決定する(ステップS316)。
ta_switch(n)=t2_delay(n)+Δta_delay(n−1)
【0045】
(xii) ついで、ステップS306に行き、前記したようにインターフェース27を経由して、ステッパー等の露光装置28からのプリトリガ(Pre_trigin)を受信する。
以下、前記したように、チャージ出力信号、トリガ信号を作成し、COカウンタ25a、CAカウンタ25bを動作させる。
そして、トリガ信号(Trig)から、上記のように求めたトリガ遅延時間〔to_switch(n)〕により定まる遅延時間の後、発振段レーザ1の電源1cのスイッチ12aをONにするOSCトリガ信号(OSC_trigout)を出力する。また、トリガ信号(Trig)からトリガ遅延時間〔ta_switch(n)〕で定まる遅延時間の後、増幅段レーザ2の電源2cのスイッチ12bをONにするAMPトリガ信号(AMP_trigout)を出力する。さらに、光・放電検出器14aにより発振段レーザ1の発光あるいは放電開始タイミングtoを検出し、COカウンタ25aを停止させ、光・放電検出器14bにより増幅段レーザ2の発光あるいは放電開始タイミングtaを検出し、CAカウンタ25bを停止させる(図10のステップS307〜S312)。
【0046】
以上のように動作させることにより、プリトリガから発光あるいは放電タイミングtoまでの時間、及び発光あるいは放電タイミングtaまでの時間が一定になるように制御することができる。
また、エネルギーコントローラからのHV1,HV2の設定値、MPC温度センサからのTp1,Tp2の測定値、チャンバガス圧センサからのPp1,Pp2ガス圧測定値により補正することで、常に発振段レーザ発光あるいは放電タイミングと増幅段レーザ発光あるいは放電タイミングを一定に保つように制御することができる。
このため、発振段レーザと増幅段レーザをそれぞれ最適なレーザ出力が得られるように個別に構成して、両レーザの発光あるいは放電タイミングの調整精度を向上させ、高精度に同期させることができる。
また、本実施例では、発振段レーザ用の充電器と、増幅段レーザ用の充電器をそれぞれ設けているので、それぞれの充電器を発振段レーザ用、増幅段レーザ用に合わせて個別に設計することができる。
【0047】
図8のタイミングチャートに示した動作について、以上の説明をまとめると以下のようになる。
(i) エネルギコントローラ22から送出された充電電圧値HV(2充電器の場合は、HV1、HV2)、MPC回路13a,13bの温度センサT1,T2から送出された内部温度Tp1、Tp2、チャンバガス圧センサから送出されたチャンバガス圧力Pp1、Pp2のそれぞれのデータDATA1in(S401),STROBE1(S402)、DATA2in(S404),STROBE2(S405)を受信する。
(ii)STROBE2(S402)の立ち上がりでDATA1in(S401)データを取込みDATA1reg(S403)を作成する。STROBE2(S405)の立ち上がりでDATA2in(S404)データを取込みDATA2reg(S406)を作成する。
(iii) 初回のパルスの場合には、上記DATA1reg、DATA2reg〔充電電圧HV(2充電器の場合はHV1,HV2)、温度Tp1、Tp2、圧力Pp1、Pp2のデータ〕から、OSCトリガ遅延時間to_switch(n)、AMPトリガ遅延時間ta_switch(n)を求める(S407,S408)。
また、初回のパルスでない場合には、上記DATA1reg、DATA2reg〔充電電圧HV(2充電器の場合はHV1,HV2)、温度Tp1、Tp2、圧力Pp1、Pp2のデータ〕と、1トリガパルス前のCOカウンタ25a、CAカウンタ25b(S415,S417)のデータに基づき、OSCトリガ遅延時間to_switch(n)、AMPトリガ遅延時間ta_switch(n)を求める(S407,S408)。
【0048】
(iv)露光装置28からのプリトリガ(S409)を受信し、充電制御信号(S410)、トリガ信号(S411)を作成する。
(v) COカウンタ25a(S415)はプリトリガ(S409)が入力されると0クリアし、トリガ信号(S411)受信と同時にカウントを開始する。
また、CAカウンタ25b(S417)はプリトリガ(S409)が入力されると0クリアし、トリガ信号(S411)受信と同時にカウントを開始する。
(vi)OSCトリガ遅延時間、AMPトリガ遅延時間に基づいて決定された遅延時間だけトリガ信号(S411)を遅延させたOSC_trigout、AMP_trigoutを出力する(S411,S412)。これにより、発振段レーザ1,増幅段レーザ2が放電を開始する。
(vii) 光・放電検出器14aによりOSCの発光あるいは放電開始タイミングtoを検出(S412)し、COカウンタ25a(S415)のカウントを停止させる。
また、光・放電検出器14bによりAMPの発光あるいは放電開始タイミングtaを検出(S413) し、CAカウンタ25b(S417)のカウントを停止させる。
【0049】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明においては以下の効果を得ることができる。
(1)発振段レーザ、増幅段レーザの各電源へのトリガタイミングを、あらかじめ充電電圧値、チャンバガス圧力値、MPC回路素子の温度で補正するとともに、さらに前回発光あるいは放電タイミングのズレ量を考慮して補正しているので、発振段レーザと増幅段レーザとをそれぞれ最適なレーザ出力が得られるよう個別に構成しても、両レーザの発光あるいは放電タイミングの調整精度を向上させることが可能となる。
(2)発振段レーザと、増幅段レーザとを個別に構成することができるので、発振段レーザから放出されるレーザビームのパルスエネルギーが、必要以上に大きくなることがなく、運転効率を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の2ステージレーザ装置の構成例(1充電器)を示す図である
【図2】本発明の実施例の2ステージレーザ装置の構成例(2充電器)を示す図である
【図3】エネルギーコントローラにおける処理フロー(1充電器)を示す図である。
【図4】エネルギーコントローラにおける処理フロー(2充電器)を示す図である。
【図5】充電電圧変化時およびガス圧変化時の放電開始時間を示す図である。
【図6】同期コントローラの入出力信号(1充電器)を示す図である。
【図7】同期コントローラにおける処理フロー(1充電器)を示す図である。
【図8】同期コントローラの制御タイミングチャートを示す図である。
【図9】同期コントローラの入出力信号(2充電器)を示す図である。
【図10】同期コントローラにおける処理フロー(2充電器)を示す図である。
【図11】MOPA方式の従来の2ステージレーザ装置の構成例を示す図である。
【図12】MOPO方式における増幅段レーザの構成例を示す図である。
【図13】レーザガスを励起させるための放電回路の例を示す図である。
【符号の説明】
1 発振段レーザ
2 増幅段レーザ
1a,2a レーザチャンバ
1b,2b 電極
1c,2c 電源
3 狭帯域化モジュール
11 充電器
11a,11b 充電器
12a,12b スイッチ
13a,13b 磁気パルス圧縮回路(MPC回路)
14a,14b 光・放電検出器
15a,15b モニターモジュール
16a,16b ガス供給排気用制御バルブ
17 ビーム伝播系
18 ドライバ
21 同期コントローラ
22 エネルギーコントローラ
23 波長コントローラ
24 ユーティリティコントローラ
25a 発光計測カウンタ(COカウンタ)
25b 発光計測カウンタ(CAカウンタ)
26 メインコントローラ
27 インタフェース
28 露光装置
P1,P2 圧力センサ
T1,T2 温度センサ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a two-stage laser device having an oscillation stage laser and an amplification stage laser. In particular, even when the oscillation stage laser and the amplification stage laser are individually configured to obtain an optimum laser output, the oscillation stage laser and the amplification stage The present invention relates to a two-stage laser device capable of performing high-accuracy synchronous control of a laser.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art As a semiconductor integrated circuit is miniaturized and highly integrated, an improvement in resolution is required for a projection exposure apparatus for manufacturing the semiconductor integrated circuit. For this reason, the wavelength of exposure light emitted from an exposure light source is being shortened, and a KrF excimer laser device having a wavelength of 248 nm from a conventional mercury lamp is used as a semiconductor exposure light source. Further, as a next-generation semiconductor exposure light source, an ArF excimer laser device having a wavelength of 193 nm and a fluorine molecule (F2Gas laser devices that emit ultraviolet light, such as laser devices, are promising.
Inside a laser chamber in which a laser gas as a laser medium is sealed, a pair of main discharge electrodes for exciting the laser gas are opposed to each other at a predetermined distance in a direction perpendicular to the laser oscillation direction. A high voltage pulse is applied to the pair of main discharge electrodes, and when the voltage applied between the main discharge electrodes reaches a certain value (breakdown voltage), the laser gas between the main discharge electrodes is broken down and the main discharge starts. The laser medium is excited by the main discharge. Therefore, such an exposure gas laser device performs pulse oscillation by repetition of main discharge, and emitted laser light is pulsed light. When applied as a light source to an exposure apparatus using a projection optical system, in order to avoid the problem of chromatic aberration in the projection optical system, the spectral line width of laser light emitted from the gas laser device as described above is narrowed. You.
For example, a laser resonator includes an output mirror sandwiching a laser chamber and a narrow-band optical system. The band narrowing optical system [LNM (Line Narrow Module)] includes, for example, a magnifying optical system including a slit, a magnifying prism, and the like, and a reflection grating from the side where the laser beam enters.
[0003]
In recent years, from the viewpoint of improvement in throughput and further miniaturization, it has been demanded to increase the laser output of the above-described exposure gas laser device and to make the spectral line width of laser light extremely narrow.
In order to increase the output, which is the first requirement, there is a method of increasing energy per pulse or a method of increasing repetition frequency with low pulse energy.
As described above, the ultra-narrow band, which is the second requirement, is to increase the resolution of a narrow-band optical system composed of a normal prism and a grating, or to use a long pulse of a laser pulse as described in
Regarding the increase of the repetition frequency, a repetition frequency exceeding 4 kHz has a high technical hurdle from the viewpoint of cost of operation (CoO). Therefore, there is naturally a limit to increasing the output by increasing the repetition frequency while maintaining the ultra-narrow band in one laser.
[0004]
In order to eliminate the trade-off relationship between ultra-narrow band and pulse energy, and to satisfy both requirements simultaneously, an ultra-narrow band oscillator laser (oscillation stage laser) and an amplifier laser (amplification stage laser) that amplifies the output are used. For example, a two-stage laser device that uses the two in a synchronized manner has been proposed in
The first oscillation stage laser has an ultra-narrow band spectrum with low pulse energy. In the second amplification stage laser, only the pulse energy is amplified while maintaining the ultra-narrow band spectrum of the oscillation stage laser. In this method, since the second amplification stage laser does not include an optical loss such as an LNM (narrow band optical system), the laser oscillation efficiency is extremely high. This synchronous laser device makes it possible to obtain a desired ultra-narrow band spectrum and laser output.
The form of the two-stage laser device is roughly classified into a MOPA method in which no resonator mirror is provided on the amplifier side and a MOPO method in which a resonator mirror is provided.
[0005]
FIGS. 11 and 12 show configuration examples of the two-stage laser device.
FIG. 11 shows a configuration example of a conventional two-stage laser device of the MOPA system, and FIG. 12 shows a configuration example of an amplification stage laser of the MOPO system. The oscillation stage laser shown in FIG. 12 is, for example, the same as the oscillation stage laser shown in FIG. 12 and 12 are schematic diagrams when the laser device is viewed from above.
In FIG. 11, the laser beam emitted from the
The
CaF is provided at both ends of the pair of electrodes 1b, 2b installed in the
The oscillating
A laser beam (seed laser beam) from the
[0006]
In the MOPO method shown in FIG. 12, an unstable resonator having a magnification of, for example, three times or more is adopted as the
In FIG. 12, a hole is formed in the rear side mirror 2e of the unstable resonator of the
Then, the laser is emitted from the front mirror 2f composed of the convex mirror.
[0007]
The
That is, first, a trigger signal is transmitted to the
The predetermined time is a time for synchronizing the timing at which the seed laser beam from the
As will be described later, when a discharge circuit for generating a discharge in the laser chamber to excite the laser gas includes a magnetic pulse compression circuit including a capacitor and a saturable reactor, the charge voltage (V) of the capacitor and There is a relationship that the value of the Vt product, which is the product of the charge transfer time (t), is constant.
Therefore, depending on the value of the voltage applied to each of the pair of electrodes 1b of the oscillation-
[0008]
FIG. 13 shows an example of a discharge circuit for generating a discharge in the laser chamber and exciting the laser gas in the two-stage laser device described above. The discharge circuit shown in FIG. 13 is applied to each of an oscillation stage laser and an amplification stage laser.
The discharge circuit in FIG. 13 is a two-stage magnetic pulse compression circuit (hereinafter also referred to as an MPC circuit) using a charger Ch for charging the main capacitor C0 and three magnetic switches SR1, SR2, and SR3 including saturable reactors. Consists of
The magnetic switch SR1 is for reducing switching loss in the solid-state switch SW, which is a semiconductor switching element such as an IGBT, and is also called magnetic assist. A two-stage magnetic pulse compression circuit is configured by a capacitance transfer type circuit including the capacitor C1 and the first magnetic switch SR2, and a capacitance transfer type circuit including the capacitor C2 and the second magnetic switch SR3.
As the energy charged in the main capacitor C0 by the charger Ch moves through the magnetic pulse compression circuit, a pulse compression operation is performed so that the pulse width of the current pulse flowing through each stage is sequentially reduced, and the peaking capacitor Cp is charged. A strong short-pulse discharge is realized between the main discharge electrodes E.
[0009]
[Patent Document 1]
JP 2001-15667 A
[Patent Document 2]
JP 2001-024265 A
[Patent Document 3]
JP-A-2002-198604
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
In the two-stage laser device, it is necessary to adjust the timing at which the laser beam emitted from the oscillation stage laser is injected into the amplification stage laser and the timing at which the amplification stage laser discharges. That is, as described above, it is necessary to provide a predetermined delay time between the discharge and emission timing of the oscillation stage laser and the discharge and emission timing of the amplification stage laser. If the timing of the discharge and the emission of the two are shifted, the laser beam emitted from the oscillation stage laser is not sufficiently amplified.
Generally, in a magnetic pulse compression circuit including a capacitor and a saturable reactor, there is a relationship that a value of a Vt product which is a product of a charge voltage (V) of the capacitor and a charge transfer time (t) is constant. When the value of the voltage V is large, the transfer time t becomes short, and when the voltage V is small, the transfer time t becomes long. Therefore, if the charging accuracy of the charging voltage varies, the transfer time varies, and eventually, the light emission or discharge timing varies. Such a variation is hereinafter referred to as jitter.
In order to control the two lasers (the oscillation stage laser and the amplification stage laser) to improve the accuracy of the discharge and emission timing adjustment of both lasers, it is necessary to reduce the jitter of each laser.
[0011]
In order to reduce this jitter, for example, in the device described in
In this configuration, since the same magnetic pulse compression circuit is used and the charging voltage is the same, the magnitude of the above-mentioned jitter is substantially equal in both the oscillation stage laser and the amplification stage laser. Therefore, it is possible to improve the accuracy of adjusting the discharge and emission timings of both lasers.
However, in general, the pulse energy of the narrowed laser beam from the oscillation stage laser may be about several tens to several hundreds μJ, which is two to three orders of magnitude smaller than that of the amplification stage. Even if it is larger than this, there is no change in the energy of the laser pulse amplified and output by the amplification stage laser.
In the configuration described in
[0012]
In order to avoid the above-described problem, it is necessary to separately configure the oscillation stage laser and the amplification stage laser so as to obtain optimum laser outputs. That is, it is necessary to configure a two-stage laser device using two separate chargers having different capacities, separate MPC circuits having different circuit constants, electrode structures (discharge volume), and separate laser chambers having different laser gas mixing conditions. There is. However, in this case, although the operation efficiency is improved, the jitter becomes an individual magnitude for each of the oscillation stage laser and the amplification stage laser, so that the accuracy of adjusting the discharge and emission timing of both lasers can be improved. It becomes difficult.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and a first object of the present invention is to separately configure an oscillation stage laser and an amplification stage laser so as to obtain optimum laser outputs. Another object of the present invention is to provide a two-stage laser device capable of improving the accuracy of adjusting the discharge and emission timing of both lasers.
In the output control of the excimer laser, there are a method of injecting the halogen gas in each chamber in accordance with the consumption thereof, and a method of changing the gas pressure to compensate for the energy. Even if one magnetic pulse compression circuit is charged, the discharge start timing between the two chambers does not always match.
Therefore, a second object of the present invention is to improve the accuracy of adjusting the emission or discharge timing of both lasers even if the gas pressure in the chamber changes differently between the oscillation stage laser and the amplification stage laser. To provide a two-stage laser device.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In the present invention, the above problems are solved as follows.
(1) The operation timing of the switch that triggers the magnetic pulse compression circuit of the oscillation stage laser and the operation timing of the switch that triggers the magnetic compression circuit of the amplification stage laser are determined by the discharge electrode of the oscillation stage laser and the discharge electrode of the amplification stage laser. The correction is made in consideration of the discharge start timing and the operations of the magnetic pulse compression circuit of the oscillation stage laser and the magnetic pulse compression circuit of the amplification stage laser.
(2) In the above (1), a first light emission or discharge monitor for measuring light emission or discharge timing of an oscillation stage laser and a second light emission or discharge monitor for measuring light emission or discharge timing of an amplification stage laser are provided. Based on the first light emission or discharge monitor and the second light emission or discharge monitor, the operation timing of the switch for triggering the magnetic pulse compression circuit of the oscillation stage laser and the switch for triggering the magnetic compression circuit of the amplification stage laser is feedback corrected. I do.
(3) In the above (1) and (2), the correction of the discharge start timing at the discharge electrode of the oscillation stage laser and the discharge electrode of the amplification stage laser is performed by adjusting the capacitor of the magnetic pulse compression circuit of the oscillation stage laser and the magnetic pulse of the amplification stage laser. This is performed based on the charging voltage value of the capacitor of the compression circuit and the laser gas pressure value in the laser chamber of the oscillation stage laser and the laser chamber of the amplification stage laser.
(4) In the above (1), (2) and (3), the correction in consideration of the operation of the magnetic pulse compression circuit of the oscillation stage laser and the magnetic pulse compression circuit of the amplification stage laser is performed. This is performed based on the charging voltage value of the condenser and the capacitor of the magnetic pulse compression circuit of the amplification stage laser, and the temperature value of the circuit element constituting the magnetic pulse compression circuit of the oscillation stage laser and the amplification stage laser.
(5) The circuit constants of the magnetic pulse compression circuit of the oscillation stage laser and the magnetic pulse compression circuit of the amplification stage laser are set to different values.
(6) The electrode configuration of the oscillation stage laser and the electrode configuration of the amplification stage laser are different from each other.
(7) A single charger charges the capacitor of the magnetic pulse compression circuit of the oscillation stage laser and the capacitor of the magnetic pulse compression circuit of the amplification stage laser.
In the present invention, since the above configuration is adopted, it is possible to improve the accuracy of adjusting the discharge and emission timing of the oscillation stage laser and the amplification stage laser. For this reason, even if the oscillation stage laser and the amplification stage laser are individually configured to obtain the optimum laser output, the discharge and emission timing of the oscillation stage laser and the amplification stage laser are set to the optimal values, and the oscillation stage laser is set. The laser beam emitted from the laser can be favorably amplified.
In addition, since the oscillation stage laser and the amplification stage laser can be configured separately, it is possible to improve the operation efficiency without increasing the pulse energy of the laser beam emitted from the oscillation stage laser more than necessary. Can be.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
As shown in FIGS. 11 and 12, the form of the two-stage laser device is roughly classified into a MOPA method in which no resonator mirror is provided on the amplification side and a MOPO method in which a resonator mirror is provided.
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with respect to a two-stage laser device using the MOPO method. In the case of the MOPA method, as shown in FIG. 11, the configuration is such that the amplification stage laser (AMP) does not have a resonator mirror.
1 and 2 are views showing an example of a configuration of a two-stage laser device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 shows an example of a configuration in which a single charger charges a main capacitor of a discharge circuit of the laser device. FIG. 2 shows a configuration example in the case where there are two chargers. 1 and 2 are schematic views when the apparatus is viewed from the side.
1 and 2 are basically different only in that the number of chargers is one or two. According to FIGS. 1 and 2, the configuration of the two-stage laser device of the present embodiment is shown. , And operation.
If the number of chargers is two, a charger having a capacity corresponding to the magnetic pulse compression circuit of the oscillation stage laser and the amplification stage laser can be used. It gets complicated. Further, if the number of chargers is one, the above advantages cannot be obtained, but the configuration can be simplified.
[0015]
1 and 2, a laser beam emitted from an oscillation stage laser (OSC) 1 has a function as a seed laser beam (seed laser beam) of a two-stage laser device. The amplification stage laser (AMP) 2 has a function of amplifying the seed laser light. That is, the overall spectral characteristics of the laser device are determined by the spectral characteristics of the
The
The two-stage laser device uses fluorine molecules (F2In the case of a laser device, both the
Further, when the two-stage laser device is an ArF laser device, both the
[0016]
The
As described above, both the
A cross-flow fan (not shown) is installed in the
Further, both the
In the case of a KrF laser device and an ArF laser device, a Kr gas supply system and an Ar gas supply system are provided, respectively. The gas pressure in the chamber is monitored by the pressure sensors P1 and P2, and the gas pressure information is sent to the
[0017]
The
A part of the laser light emitted from the
Signals of the center wavelength from the
The wavelength control described above is performed based on the wavelength information from the
Laser output signals from the
[0018]
After the laser beam (seed laser beam) from the
In the MOPO system, an unstable resonator including, for example, an amplification stage output mirror 2f having a magnification of 3 times or more and an amplification stage rear side mirror 2e is adopted as the
A hole is formed in the rear side mirror 2e of the unstable resonator of the amplification stage laser in the MOPO method, and the laser passing through this hole is reflected as shown by the arrow in the above figure, and the injected seed laser beam is expanded. Then, the laser beam effectively passes through the discharge portion, and the power of the laser beam increases. Then, a laser is emitted from the amplification stage output mirror 2f.
The concave mirror 2e is provided with a spatial hole in the center and an HR (High Reflection) coat on the periphery. An HR coating is applied to the center of the convex mirror 2f, and an AR (Anti Reflection) coating is applied to the surrounding laser emitting portion.
The holes of the convex mirror 2f are not spatially opened, and a mirror substrate in which only the holes are AR-coated may be used. Also, an unstable resonator that does not have a transmission part in the mirror may be used.
[0019]
The pair of electrodes 1b and 2b of the
Then, a high voltage pulse is applied from the
In the case of FIG. 1, the
The temperatures in the magnetic
In the
[0020]
The ON and OFF of the
The
If the discharge timings of the
The
As will be described later, counting starts when the
The light /
[0021]
Although FIGS. 1 and 2 show a case where the laser resonator of the MOPO type
In the MOPA method, the number of times that light passes through the amplification stage laser is one, but the number is not limited thereto. For example, a folding mirror may be provided to allow the amplification stage laser to pass a plurality of times. With this configuration, it is possible to extract a higher-output laser beam.
[0022]
Next, synchronization control of the
In the following, the case of the device having one charger shown in FIG. 1 and the case of the device having two chargers shown in FIG. 2 will be described separately. Hereafter, the case where there is one charger will be referred to as one charger, and the case where there are two chargers will be referred to as two chargers.
(1) Control in the energy controller
(A) In case of one charger
FIG. 3 shows a processing flow in the energy controller 22 for one charger, and the processing in the energy controller 22 will be described with reference to FIG.
(I) The pulse energy of the laser light emitted from the
(Ii) The pulse energy E is obtained from the detection value signal received from the
(Iii) Next, based on the obtained deviation ΔE, a deviation ΔV of the charging voltage when charging the capacitors of the
(Iv) A charging voltage HV for obtaining the target energy Et is obtained.
That is, correction is performed by adding ΔV obtained in step S103 to the previous charging voltage HV (when the discharge pulse before the current discharge pulse is generated), as shown in the following equation (step S104).
HV (current) = HV (previous) + ΔV
(V) The charging voltage HV is the laser gas injection voltage VmaxIt is determined whether the value is larger than the value. If the value is larger, a laser gas is injected (step S105). If it is smaller, the procedure goes to step S106.
(Vi) The data of the charging voltage value (high voltage value) HV (current) obtained in step S104 is sent to the
[0023]
(B) Two chargers
FIG. 4 shows a processing flow in the energy controller 22 in the case of two chargers, and the processing in the energy controller 22 will be described with reference to FIG.
(I) The pulse energy of the laser light emitted from the
(Ii) The pulse energies E1 and E2 are obtained from the detection value signals received from the
(Iii) Next, based on the obtained deviations ΔE1 and ΔE2, deviations ΔV1 and ΔV2 of the charging voltage when charging the capacitors of the
(Iv) A charging voltage HV1 for obtaining the target energy Et1 is obtained. That is, the correction is performed by adding ΔV1 calculated in step S103 to the previous charging voltage HV1 (when the discharge pulse before the current discharge pulse is generated) according to the following equation.
HV1 (current) = HV1 (previous) + ΔV1
Further, a charging voltage HV2 for obtaining the target energy Et2 is obtained. That is, the correction is performed by adding ΔV2 obtained in step S203 to the previous charging voltage HV2 (when the discharge pulse before the current discharge pulse is generated) according to the following equation (step S104).
HV2 (current) = HV2 (previous) + ΔV2
(V) The charging voltage values HV1 and HV2 are equal to the laser gas
(Vi) The data of the charging voltage value (high voltage value) HV1 (current) and the data of the charging voltage value (high voltage value) HV2 (current) obtained in step S104 are sent to the
[0024]
(2) Control in the synchronous controller
The magnetic pulse compression circuits (MPC circuits) constituting the
By setting the inductance of the capacitance transfer type circuit of each stage to be smaller as going to the subsequent stage, a pulse compression operation is performed such that the pulse width of the current pulse flowing through each stage becomes smaller gradually. Here, the transition time of each stage is inversely proportional to the voltage V applied to the saturable reactor as shown in the following equation.
V · tm = (constant)
That is, when the applied voltage V is high, the transition time tm decreases, and when the voltage V is low, the transition time tm increases.
Further, since the supersaturated reactor and the capacitor constituting the MPC circuit have temperature characteristics, the transition time tm changes due to a change in the temperature inside the MPC. The internal temperature changes depending on the oscillation frequency, the oscillation time, the duty of the burst operation, the charging voltage, and the like.
The
[0025]
On the other hand, the time (discharge start time) tb from when a voltage is applied between the electrodes 1b and 2b of the
Further, as shown in FIG. 5B, when the gas pressure in the chamber is high, the discharge start voltage becomes high (−V1), so that the time until the start of discharge becomes long (tb3). Conversely, if the gas pressure is low, the discharge starting voltage is low (-V3) if the gas pressure is low, so that the time until the start of the discharge is short (tb1). Therefore, the discharge start time tb is a function of the charging voltage and the gas pressure.
The
In the present invention, the discharge start time is measured by changing the charge voltage and the gas pressure in the usage range, measuring the discharge start time tb under each condition, and creating a table recording these values, and synchronizing this table. Although a method (table method) of inputting data to the
[0026]
Hereinafter, the synchronization control in the
The outline of the synchronization control in the
(I) From the charging voltage HV (HV1, HV2), the temperatures Tp1, Tp2 of the MPC, and the chamber pressures Pp1, Pp2, the transition time tm and the discharge start time tb are obtained. From the tm and tb, the delay time from turning on the
(Ii) Timing of triggering the
(Iii) The time from the trigger signal until the
(Iv) During the second and subsequent discharges, based on the actual time counted by the CO counter 25a and the CA counter 25b, the OSC-correction delay calculated from the charging voltage HV, the temperatures Tp1, Tp2, and the pressures Pp1, Pp2, AMP- The correction delay is corrected, and based on the corrected time, the timing for triggering the
[0027]
Hereinafter, the synchronization control in the
(A) In case of one charger
FIG. 6 shows input / output signals of the
FIG. 7 is a flowchart showing the processing of the
[0028]
(I) The data of the charging voltage HV transmitted from the energy controller 22 is received. Further, it receives data of the MPC internal temperatures Tp1 and Tp2 of the magnetic compression circuit sent from the temperature sensors T1 and T2 provided in the MPC circuit.
Further, data of the chamber gas pressures Pp1 and Pp2 sent from the chamber gas pressure sensors P1 and P2 provided in the
That is, the energy controller 22 calculates the charging voltage value HV according to the above equation, and sends a data signal of the charging voltage value HV to the
The MPC temperature sensors T1 and T2 provided in the
The
[0029]
(Ii) Based on DATA1reg and DATA2reg (data of charging voltage HV and temperatures Tp1 and Tp2) received and held in step S301 of FIG. 7, the
Further, the discharge start times tb1 and tb2 are obtained from DATA1reg and DATA2reg (data of the charging voltage HV and the pressures Pp1 and Pp2) as described above. Further, correction delays t1_delay (n) and t2_delay (n) are obtained from the sum of tm and tb as follows (step S302 in FIG. 7, and S407 and S408 in the timing chart).
t1_delay (n) = tm1 + tb2
t2_delay (n) = tm2 + tb2
[0030]
(Iii) It is determined whether it is the first laser oscillation (referred to as an initial pulse) after the operation is started, and in the case of the initial pulse, the process proceeds from step S303 to step S304.
If it is not the first pulse, the procedure goes to step S313.
In step S304, the generation timing of a trigger signal to the
In the case of the first pulse, the count values of the CO counter 25a and the CA counter 25b cannot be used, and the delay feedback correction described later cannot be performed. Therefore, the charge voltage (HV), the MPC temperature (Tp1), and the chamber gas pressure (Pp1) The obtained t1_delay (n) is defined as a trigger delay time to_switch (n) as shown in the following equation. After the trigger delay time, a trigger is generated and the
to_switch (n) = t1_delay (n)
Similarly, in step S305, the generation timing of the trigger signal to the
That is, t2_delay (n) obtained from the charging voltage (HV), the MPC temperature (Tp2), and the chamber gas pressure (Pp2) is defined as a trigger delay time ta_switch (n) as shown in the following equation. The time from when the trigger is generated to when the
ta_switch (n) = t2_delay (n)
[0031]
(Iv) Receive a pre-trigger (Pre_trigin) from the
(V) The
Here, the charge control signal (Chargout) is transmitted to the
(Vi) The CO counter 25a that measures the emission or discharge time of the
These counters are used to perform feedback control in order to keep the time from the reception of the pre-trigger to the occurrence of laser emission due to discharge in the oscillation laser and the amplification laser.
[0032]
(Vii) After a delay time determined by a trigger delay time [to_switch (n)] from the trigger signal (Trig), an OSC trigger signal (OSC_trigout) for turning on the
Further, after a delay time determined by the trigger delay time [ta_switch (n)] from the trigger signal (Trig), an AMP trigger signal (AMP_trigout) for turning on the
Thereby, the
Here, the trigger delay time (timing for outputting the OSC trigger signal and the AMP trigger signal) is determined based on t1_delay (n) and t2_delay (n) as described above for the first first time (first pulse). However, after the second time, as described later, t1_delay (n) and t2_delay (n) are determined based on values corrected based on the count values of the CO counter 25a and the CA counter 25b.
(Viii) The light /
The light / discharge detector 14b detects the light emission or discharge start timing ta of the
[0033]
(Ix) When the first discharge is completed as described above, the process returns to step S301, and as described above, the
Further, as described above, the discharge start times tb1 and tb2 are obtained from the charge voltage HV and the pressures Pp1 and Pp2, and the correction delays t1_delay (n) and t2_delay (n) are obtained from the sum of tm and tb (steps S301 and S302). .
(X) Since this is not the first pulse, the process goes from step S303 to step S313, and based on the value of the CO counter 25a, which is the time from the generation of the trigger signal measured in step S311 until the emission or discharge of the
Δto_delay (n) = tot-TCO
Where tot: Target delay time from trigger to emission or discharge of
Further, the
Δta_delay (n) = tAt-TCA
Where tAt: Target delay time from trigger to emission or discharge of
[0034]
(Xi) In the
to_switch (n) = t1_delay (n) + Δto_delay (n-1)
Similarly, in the
ta_switch (n) = t2_delay (n) + Δta_delay (n-1)
[0035]
(Xii) Then, the process proceeds to step S306, and receives a pre-trigger (Pre_trigin) from the
Hereinafter, as described above, the charge output signal and the trigger signal are generated, and the CO counter 25a and the CA counter 25b are operated.
Then, after a delay time determined by the trigger delay time [to_switch (n)] determined from the trigger signal (Trig) as described above, an OSC trigger signal (OSC_trigout) for turning on the
[0036]
By operating as described above, it is possible to control so that the time from the pre-trigger to the light emission or discharge timing to and the time from the light emission or discharge timing to become constant.
In addition, by correcting with the HV set value from the energy controller, the Tp1 and Tp2 measured values from the MPC temperature sensor, and the Pp1 and Pp2 gas pressure measured values from the chamber gas pressure sensor, the oscillation stage laser emission or discharge timing is always maintained. In addition, it is possible to control so that the laser emission or discharge timing of the amplification stage is kept constant.
For this reason, the oscillation stage laser and the amplification stage laser can be individually configured so as to obtain optimum laser outputs, and the accuracy of adjusting the discharge and emission timing of both lasers can be improved and synchronized with high accuracy.
Normally, the time from when the pre-trigger signal of the exposure device is transmitted to when the laser device emits or discharges is configured to be a predetermined constant value. Further, in order to efficiently amplify the oscillation stage laser while maintaining the desired beam quality, the delay time from emission or discharge of the oscillation stage laser to emission or discharge of the amplification stage laser is a predetermined time. Must be maintained at a value.
Therefore, in practice, a predetermined value is added to the OSC trigger delay time [to_switch (n)] and the AMP trigger delay time [ta_switch (n)] obtained as described above, and the reference trigger signal is transmitted. The delay time from when the laser device emits or discharges to when the oscillation stage laser emits or discharges the light until the amplification stage laser emits light is adjusted.
[0037]
(B) Two chargers
FIG. 9 shows input / output signals of the
FIG. 10 is a flowchart showing the processing of the
Hereinafter, the synchronous control of the
[0038]
(I) Receive the data of the charging voltage values HV1 and HV2 sent from the energy controller 22. Further, it receives data on the MPC internal temperatures Tp1 and Tp2 of the magnetic compression circuit. Further, the data (DATA1in, DATA2in) of the chamber gas pressures Pp1, Pp2 sent from the chamber gas pressure sensors Pp1, Pp2 is received (step S301 in FIG. 10).
The
[0039]
(Ii) Based on DATA1reg and DATA2reg (data of charging voltages HV1, HV2, and temperatures Tp1, Tp2) received and held in step S301 in FIG. 10, the
Further, the discharge start times tb1 and tb2 are obtained from DATA1reg and DATA2reg (data of the charge voltages HV1 and HV2 and the pressures Pp1 and Pp2) as described above. Further, correction delays t1_delay (n) and t2_delay (n) are obtained from the sum of tm and tb as follows (step S302 in FIG. 10, and S407 and S408 in the timing chart).
t1_delay (n) = tm1 + tb2
t2_delay (n) = tm2 + tb2
[0040]
(Iii) It is determined whether it is the first laser oscillation (referred to as an initial pulse) after the operation is started, and in the case of the initial pulse, the process proceeds from step S303 to step S304. In step S304, the generation timing of a trigger signal to the
In the case of the first pulse, as described above, t1_delay (n) is set to a trigger delay time to_switch (n) as shown in the following equation. Is determined until the
to_switch (n) = t1_delay (n)
Similarly, in step S305, the generation timing of the trigger signal to the
That is, as described above, t2_delay (n) is set to a trigger delay time ta_switch (n) as shown in the following equation, and a trigger is generated from this trigger delay time before the
ta_switch (n) = t2_delay (n)
[0041]
(Iv) Receive a pre-trigger (Pre_trigin) from the
(V) The
As described above, after the charger charging stabilization time tst has elapsed, the
(Vi) The CO counter 25a that measures the light emission or discharge time of the
[0042]
(Vii) After a delay time determined by a trigger delay time [to_switch (n)] from the trigger signal (Trig), an OSC trigger signal (OSC_trigout) for turning on the
Further, after a delay time determined by the trigger delay time [ta_switch (n)] from the trigger signal (Trig), an AMP trigger signal (AMP_trigout) for turning on the
(Viii) The light /
Further, the light / discharge detector 14b detects the light emission of the
[0043]
(Ix) When the first discharge is completed as described above, the process returns to step S301, and as described above, the data signals DATA1 and DATA2 of the charge voltage values HV1 and HV2, the internal temperatures Tp1 and Tp2, and the gas pressures Pp1 and Pp2 are output. The acquired and held current pulse transition times tm1 and tm2 of the
Further, as described above, the discharge start times tb1 and tb2 are obtained from the charge voltages HV1 and HV2 and the pressures Pp1 and Pp2, and the correction delays t1_delay (n) and t2_delay (n) are obtained from the sum of tm and tb (steps S301 and S301). S302).
(X) Since this is not the first pulse, the process goes from step S303 to step S313, and the feedback calculation of the
Δto_delay (n) = tot-TCO
Where tot: Target delay time from trigger to emission or discharge of
As described above, the feedback calculation of the
Δta_delay (n) = tAt-TCA
Where tAt: Target delay time from trigger to emission or discharge of
[0044]
(Xi) In the
to_switch (n) = t1_delay (n) + Δto_delay (n-1)
Similarly, based on t2_delay (n) and the result Δta_delay (n−1) of the emission / discharge timing feedback operation, the trigger delay time ta_switch (n) is calculated in the
ta_switch (n) = t2_delay (n) + Δta_delay (n-1)
[0045]
(Xii) Then, the process proceeds to step S306, and receives a pre-trigger (Pre_trigin) from the
Hereinafter, as described above, the charge output signal and the trigger signal are generated, and the CO counter 25a and the CA counter 25b are operated.
Then, after a delay time determined by the trigger delay time [to_switch (n)] determined from the trigger signal (Trig) as described above, an OSC trigger signal (OSC_trigout) for turning on the
[0046]
By operating as described above, it is possible to control so that the time from the pre-trigger to the light emission or discharge timing to and the time from the light emission or discharge timing to become constant.
In addition, by correcting the values of HV1 and HV2 from the energy controller, the measured values of Tp1 and Tp2 from the MPC temperature sensor, and the measured values of Pp1 and Pp2 gas pressure from the chamber gas pressure sensor, the oscillation stage laser emission or It is possible to control the discharge timing and the amplification stage laser emission or discharge timing to be kept constant.
Therefore, the oscillation-stage laser and the amplification-stage laser can be individually configured so as to obtain the optimum laser output, and the adjustment accuracy of the emission timing or discharge timing of both lasers can be improved and synchronized with high accuracy.
In this embodiment, a charger for the oscillation stage laser and a charger for the amplification stage laser are provided, so that each charger is individually designed for the oscillation stage laser and the amplification stage laser. can do.
[0047]
The operation described in the timing chart of FIG. 8 is summarized as follows.
(I) The charging voltage value HV sent from the energy controller 22 (HV1, HV2 in the case of two chargers), the internal temperatures Tp1, Tp2 sent from the temperature sensors T1, T2 of the
(Ii) At the rise of STROBE2 (S402), DATA1in (S401) data is fetched and DATA1reg (S403) is created. At the rise of STROBE2 (S405), DATA2in (S404) data is taken in, and DATA2reg (S406) is created.
(Iii) In the case of the first pulse, the OSC trigger delay time to_switch is obtained from the above-mentioned DATA1reg and DATA2reg [charging voltage HV (HV1 and HV2 for two chargers), temperatures Tp1 and Tp2, and pressures Pp1 and Pp2]. (N), AMP trigger delay time ta_switch (n) is obtained (S407, S408).
If the pulse is not the first pulse, the above-mentioned DATA1reg, DATA2reg [data of the charging voltage HV (HV1, HV2 in the case of a two-charger), temperatures Tp1, Tp2, pressures Pp1, Pp2] and CO before the one trigger pulse The OSC trigger delay time to_switch (n) and the AMP trigger delay time ta_switch (n) are obtained based on the data of the counter 25a and the CA counter 25b (S415, S417) (S407, S408).
[0048]
(Iv) The pre-trigger (S409) is received from the
(V) When the pre-trigger (S409) is input, the CO counter 25a (S415) clears to 0, and starts counting simultaneously with the reception of the trigger signal (S411).
The CA counter 25b (S417) clears to 0 when the pre-trigger (S409) is input, and starts counting at the same time as receiving the trigger signal (S411).
(Vi) The OSC_trigout and the AMP_trigout are output by delaying the trigger signal (S411) by the delay time determined based on the OSC trigger delay time and the AMP trigger delay time (S411, S412). Thereby, the
(Vii) OSC light emission or discharge start timing to is detected by the light /
The light / discharge detector 14b detects the light emission of the AMP or the discharge start timing ta (S413), and stops counting by the CA counter 25b (S417).
[0049]
【The invention's effect】
As described above, the following effects can be obtained in the present invention.
(1) The trigger timing for each power supply of the oscillation stage laser and the amplification stage laser is corrected in advance by the charging voltage value, the chamber gas pressure value, and the temperature of the MPC circuit element, and further, the deviation amount of the previous emission or discharge timing is considered. Therefore, even if the oscillation stage laser and the amplification stage laser are individually configured to obtain the optimum laser output, it is possible to improve the accuracy of adjusting the emission or discharge timing of both lasers. Become.
(2) Since the oscillation stage laser and the amplification stage laser can be configured separately, the pulse energy of the laser beam emitted from the oscillation stage laser does not become unnecessarily large, and the operation efficiency is improved. be able to.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example (one charger) of a two-stage laser device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example (two chargers) of a two-stage laser device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram showing a processing flow (one charger) in the energy controller.
FIG. 4 is a diagram showing a processing flow (two chargers) in the energy controller.
FIG. 5 is a diagram showing a discharge start time when a charging voltage changes and when a gas pressure changes.
FIG. 6 is a diagram showing input / output signals (one charger) of the synchronous controller.
FIG. 7 is a diagram showing a processing flow (one charger) in the synchronous controller.
FIG. 8 is a diagram showing a control timing chart of the synchronous controller.
FIG. 9 is a diagram showing input / output signals (two chargers) of the synchronous controller.
FIG. 10 is a diagram showing a processing flow (two chargers) in the synchronous controller.
FIG. 11 is a diagram showing a configuration example of a conventional two-stage laser device of the MOPA system.
FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration example of an amplification stage laser in the MOPO method.
FIG. 13 is a diagram showing an example of a discharge circuit for exciting a laser gas.
[Explanation of symbols]
1 Oscillation stage laser
2 Amplification stage laser
1a, 2a Laser chamber
1b, 2b electrode
1c, 2c power supply
3 Narrowband module
11 Charger
11a, 11b charger
12a, 12b switch
13a, 13b Magnetic pulse compression circuit (MPC circuit)
14a, 14b Light / discharge detector
15a, 15b monitor module
16a, 16b Control valve for gas supply and exhaust
17 Beam propagation system
18 Driver
21 Synchronous controller
22 Energy Controller
23 Wavelength controller
24 Utility Controller
25a Light emission measurement counter (CO counter)
25b Light emission measurement counter (CA counter)
26 Main controller
27 Interface
28 Exposure equipment
P1, P2 pressure sensor
T1, T2 temperature sensor
Claims (7)
レーザガスが封入された第1のレーザチャンバと、この第1のレーザチャンバ内に配置され、上記第1の磁気パルス圧縮回路の出力端に接続される第1の一対の放電電極とを含む第1のガスレーザ装置と、
高電圧に充電される第2のコンデンサと、第2のスイッチと、この第2のスイッチがオンとなったとき上記第2のコンデンサに蓄えられた電荷をパルス圧縮して出力する第2の磁気パルス圧縮回路と、
レーザガスが封入された第2のレーザチャンバと、この第2のレーザチャンバ内に配置され、上記第2の磁気パルス圧縮回路の出力端に接続される第2の一対の放電電極とを含み、上記第1のガスレーザ装置から放出されたレーザビームが注入され、この注入されたレーザビームを増幅して放出する第2のガスレーザ装置と、
上記第1のコンデンサおよび第2のコンデンサを充電する少なくとも1つの充電器と、
上記第1のガスレーザ装置と第2のガスレーザ装置との発光タイミングを調整するために、上記第1のスイッチおよび第2のスイッチの動作タイミングを制御する同期コントローラとを含む2ステージレーザ装置において、
上記同期コントローラは、予め定められている上記第1のスイッチおよび第2のスイッチの動作タイミングを、上記第1の放電電極および第2の放電電極における放電開始タイミングと、上記第1の磁気パルス圧縮回路および第2の磁気パルス圧縮回路の動作を考慮して補正している
ことを特徴とする2ステージレーザ装置。A first capacitor charged to a high voltage, a first switch, and a first magnet that pulse-compresses and outputs the charge stored in the first capacitor when the first switch is turned on. A pulse compression circuit;
A first laser chamber containing a laser gas sealed therein and a first pair of discharge electrodes disposed in the first laser chamber and connected to an output terminal of the first magnetic pulse compression circuit. A gas laser device,
A second capacitor charged to a high voltage, a second switch, and a second magnet that pulse-compresses and outputs the charge stored in the second capacitor when the second switch is turned on. A pulse compression circuit;
A second laser chamber filled with a laser gas; and a second pair of discharge electrodes disposed in the second laser chamber and connected to an output end of the second magnetic pulse compression circuit. A second gas laser device into which a laser beam emitted from the first gas laser device is injected and amplifies and emits the injected laser beam;
At least one charger for charging the first capacitor and the second capacitor;
In order to adjust the light emission timing of the first gas laser device and the second gas laser device, a two-stage laser device including: a synchronous controller that controls the operation timing of the first switch and the second switch;
The synchronization controller is configured to determine a predetermined operation timing of the first switch and the second switch based on a discharge start timing of the first discharge electrode and the second discharge electrode and a first magnetic pulse compression timing. A two-stage laser device wherein the correction is performed in consideration of the operation of the circuit and the second magnetic pulse compression circuit.
上記同期コントローラは、上記第1の発光あるいは放電モニタおよび第2の発光あるいは放電モニタに基づき、上記第1のスイッチおよび第2のスイッチの動作タイミングをフィードバック補正している
ことを特徴とする請求項1記載の2ステージレーザ装置。The two-stage laser device further includes a first light emission or discharge monitor for measuring light emission or discharge timing of the first gas laser device, and a second light emission or discharge for measuring light emission or discharge timing of the second gas laser device. A monitor and
The said synchronous controller is performing feedback correction of the operation timing of said 1st switch and 2nd switch based on said 1st light emission or discharge monitor and 2nd light emission or discharge monitor. 2. The two-stage laser device according to 1.
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の2ステージレーザ装置。The correction in consideration of the discharge start timing at the first discharge electrode and the second discharge electrode is performed based on the charge voltage value of the first capacitor and the second capacitor and the charge voltage value in the first laser chamber and the second laser chamber. The two-stage laser apparatus according to claim 1, wherein the laser irradiation is performed based on the laser gas pressure value.
ことを特徴とする請求項1,2または請求項3に記載の2ステージレーザ装置。The correction in consideration of the operations of the first magnetic pulse compression circuit and the second magnetic pulse compression circuit is performed by correcting the charging voltage values of the first capacitor and the second capacitor and the first magnetic pulse compression circuit and the second magnetic pulse compression circuit. 4. The two-stage laser device according to claim 1, wherein the temperature is determined based on a temperature value of a circuit element constituting the magnetic pulse compression circuit.
ことを特徴とする請求項1,2,3,4に記載の2ステージレーザ装置。5. The two-stage laser device according to claim 1, wherein a circuit constant of the first magnetic pulse compression circuit and a circuit constant of the second magnetic pulse compression circuit are different from each other.
ことを特徴とする請求項5に記載の2ステージレーザ装置。The two-stage laser device according to claim 5, wherein the first electrode configuration and the second electrode configuration are different from each other.
ことを特徴とする請求項1,2,3,4,5または請求項6に記載の2ステージレーザ装置。7. The two-stage laser device according to claim 1, wherein the number of chargers for charging the first and second capacitors is one.
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