JP2004315594A - Polymerization initiator, polymer composition, method for free radical generation, lithographic printing plate material and method for manufacturing lithographic printing plate - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain firstly a polymerization initiator and secondly a polymerization composition which writes in the vicinity of 405 nm, 488 nm or 532 nm and forms an image having excellent sensitivity, to provide thirdly a free radical generation method for generating a free radical in high sensitivity by light in the vicinity of 405 nm, 488 nm or 532 nm and to obtain fourthly a lithographic printing plate material having high photosensitivity in a wavelength range in the vicinity of 405 nm, 488 nm or 532 nm and excellent preservability and fifthly a lithographic printing plate having excellent printability. <P>SOLUTION: The polymerization initiator comprises a compound represented by general formula (I) and a compound represented by general formula (II). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【００３４】
【化１４】

【００３５】
【化１５】

【００３６】
【化１６】

【００３７】
一般式（Ｉ）の化合物は、当業者に知られる通常の有機合成反応によって合成することができる。例えば、特開２００１−３０５６９４号公報１９〜２０頁に記載されている方法に準じて合成することができる。
【００３８】
次に上記一般式（ＩＩ）で表される化合物について説明する。一般式（ＩＩ）で表される化合物は、一般にはπ結合有機金属化合物として知られている化合物であり、芳香族炭化水素化合物または芳香族複素環化合物または不飽和化合物のπ電子と金属とがπ結合した化合物である。
【００３９】
一般式（ＩＩ）においてＺ^２１はπアレーンを表し、該πアレーンとしては未置換もしくは置換基を有する芳香族炭化水素化合物または芳香族複素環化合物であり、単環でも縮合多環でもよい。該芳香族炭化水素化合物として好ましくは、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ピレン、フルオレン等を挙げることができ、該芳香族複素環化合物としては、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、ベンズイミダゾール、ピリジン、フラン、チオフェン、クロマン、クマリン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、スルホラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、チオキサンテン、キサンテンなどの５員または６員の複素環より誘導される複素環化合物を挙げることができ、また上述した該芳香族炭化水素化合物または芳香族複素環化合物は置換基を有していてもよく、該置換基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基など）、シクロアルケニル基（例えば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基など）、アルキニル基（例えば、２−プロピニル基、３−ブチニル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基など）、複素環基（例えば、１−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、１−ベンズイミダゾリル基、１−インダゾリル基、１−ベンゾトリアゾリル基など）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を繰り返し含む基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基など）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、複素環オキシ基（例えば、ピリジルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基など）、カルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基など）、ウレタン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基など）、カルボキシル基、イミド基、アミノ基（例えば、無置換のアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、アニリノ基、アニシジノ基、トルイジノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド基、プロパノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基。ベンゼンスルホンアミド基など）、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基など）、複素環チオ基（例えば、ベンゾチアゾール−２−イルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、オクタンスルホニル基など）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基など）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、フッ素原子、臭素原子など）、シアノ基、ニトロ基などが挙げられ、より好ましい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロゲン原子を挙げる事ができる。
【００４０】
Ｒ^２１は置換基を表し、該置換基としてはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基など）、シクロアルケニル基（例えば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基など）、アルキニル基（例えば、２−プロピニル基、３−ブチニル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基など）、複素環基（例えば、１−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、１−ベンズイミダゾリル基、１−インダゾリル基、１−ベンゾトリアゾリル基など）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を繰り返し含む基など）、アリールオキシ基（フェノキシ基、ナフトキシ基など）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、複素環オキシ基（例えば、ピリジルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基など）、カルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基など）、アルキルカルボニル基（例えば、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、２−エチルヘキサノイル基、ステアリル基など）、アリールカルボニル基（例えば、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基など）、ウレタン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基など）、カルボキシル基、イミド基、アミノ基（例えば、無置換のアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、アニリノ基、アニシジノ基、トルイジノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド基、プロパノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基。ベンゼンスルホンアミド基など）、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基など）、複素環チオ基（例えば、ベンゾチアゾール−２−イルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、オクタンスルホニル基など）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基など）、ハロゲン原子（塩素原子、フッ素原子、臭素原子など）、シアノ基、ニトロ基などが挙げられ、より好ましい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロゲン原子を挙げることができる。
【００４１】
ｎ２１は０から５の整数を表し、好ましくは０から３であり、より好ましくは０か１である。ｎ２１が２から５個のＲ^２１はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、環を形成してもよい。
【００４２】
Ｍ^２１はＴｉ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｂｉ（ＩＩ）およびＳｂ（ＩＩ）から選ばれる金属陽イオンを表し、好ましくはＣｏ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）であり、より好ましくはＦｅ（ＩＩ）である。Ａ^２１はＢＦ_４、ＰＦ_６、ＡｓＦ_６、ＳｂＦ_６、ＦｅＣｌ_４、ＳｎＣｌ_６、ＳｂＣｌ_６およびＢｉＣｌ_６から選ばれる１価の陰イオンを表わし、好ましくはＢＦ_４、ＰＦ_６、ＡｓＦ_６、ＳｂＦ_６、ＦｅＣｌ_４、より好ましくはＢＦ_４、ＰＦ_６である。
【００４３】
次に一般式（ＩＩ）の化合物の化合物例を挙げる。
【００４４】
【化１７】

【００４５】
【化１８】

【００４６】
一般式（ＩＩ）の化合物は、当業者に知られる通常の有機合成反応によって合成することができる。例えば、Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌ．Ａ：Ｃｈｅｍ．，７７（１９９４）２６９−２７６記載の方法に準じて合成する事ができる。
【００４７】
次に、近紫外から可視領域の光線を吸収し、一般式（ＩＩ）の化合物を増感可能な増感色素について説明する。近紫外から可視領域の光線とは３００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲の光線であり、より好ましくは３５０ｎｍから６５０ｎｍの波長範囲の光線であり、更に好ましくはレーザ露光装置の光源波長（半導体レーザの第２高調波（ＳＨＧ−ＬＤ、３５０〜６００ｎｍ）、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザ、Ｈｅ−Ｎｅレーザ（６３３、５４３、３６４ｎｍ）、Ａｒレーザ（５１５、４８８ｎｍ）、ＦＤ−ＹＡＧレーザ（５３２ｎｍ）、ＩｎＧａＮ半導体レーザ（３６０〜４５０ｎｍ、特に４０５ｎｍ））と同一の波長範囲の光線である。
【００４８】
本発明の一般式（ＩＩ）の化合物を増感可能な増感色素とは、上述した波長範囲の光線を吸収して励起状態となった後、一般式（ＩＩ）の化合物と何らかの相互作用により一般式（ＩＩ）の化合物からラジカル発生を誘発する事のできる増感色素である。本発明の増感色素としては、上述した相互作用を示す増感色素であれば何ら制限を受ける事は無いが、好ましい例としては、シアニン色素、メロシアニン色素、クマリン色素、ケトクマリン色素、（チオ）キサンテン色素、アクリジン色素、チアゾール色素、チアジン色素、オキサジン色素、アジン色素、アミノケトン色素、スクアリリウム色素、ピリジニウム色素、（チア）ピリリウム色素、ポルフィリン色素、トリアリールメタン色素、（ポリ）メチン色素、アミノスチリル化合物、芳香族多環式炭化水素、ホウ素錯体色素、金属錯体色素、アゾ色素、キノリン色素、アントラキノン色素、スチルベン色素等を挙げる事ができる。
【００４９】
更に好ましい例として、次に一般式Ｄ−１からＤ−７の増感色素について説明する。
【００５０】
一般式Ｄ−１中、で表わされる化合物において、Ｒ^Ｄ１１〜Ｒ^Ｄ１５及びＲ^Ｄ１７のアルキル基としてはメチル、エチル、ｔ−ブチル等炭素数１〜２０個までのものを使用でき、アリール基としてはフェニル等炭素数１〜１０個までのものを用いることができる。アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、ブトキシ等炭素数１〜６個までのものを使用できる。
【００５１】
またＲ^Ｄ１１〜Ｒ^Ｄ１４のアミノ基としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ、ピペリジノ、モルホリノ等炭素数１〜２０個を有するアルキルアミノ、アリールアミノ基を用いることができる。
【００５２】
これらのアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基は置換基を有していてもよく、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、メトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、フェニル等のアリール基、シアノ基等がある。Ｒ^Ｄ１１〜Ｒ^Ｄ１４がそれと結合せる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成する場合、環を含む構造としては下記（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）に示すものが挙げられる。
【００５３】
【化１９】

【００５４】
Ｒ^Ｄ１５、Ｒ^Ｄ１７のアルケニル基としては、スチリル基等炭素数２〜１０個のものを、ヘテロ芳香族基の場合、下記（Ｄ）〜（Ｈ）に示すものを用いることができる。
【００５５】
【化２０】

【００５６】
これらのヘテロ芳香族基も置換基を有してもよい。置換基としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ等の炭素数１〜２０個のアルキルアミノ基、アリールアミノ基、炭素数１〜２０個のアルキル基、炭素数１〜６個のアルコキシ基等がある。またＲ^Ｄ１５、Ｒ^Ｄ１６は共にそれと結合できる炭素原子と共に環を形成してもよい。例としては下記（Ｊ）に示される構造が挙げられる。
【００５７】
【化２１】

【００５８】
Ｘ^Ｄ１が置換基を有する窒素の場合、置換基としては、Ｒ^Ｄ１１〜Ｒ^Ｄ１５及びＲ^Ｄ１７で挙げたアルキル基、アリール基と同義のものを用いることができる。Ｙ^Ｄ１は酸素原子、または化４の構造であり、Ｇ^Ｄ１１、Ｇ^Ｄ１２は同一または異なる水素原子、シアノ基、エトキシカルボニル基等の炭素数１〜１０個のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等炭素数６〜１０個のアリール基を有するアリールオキシカルボニル基、アセチル基、プロピオニル基等炭素数１〜６個のアシル基、ベンゾイル基等炭素数７〜１１個のアリールカルボニル基、メチルチオ基、エチルチオ基等炭素数１〜６個のアルキルチオ基、フェニルチオ基等炭素数６〜１０個のアリールチオ基、フェニルスルホニル基等の炭素数６〜１０個のアリールスルホニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等の炭素数１〜６個のアルキルスルホニル基またはフルオロスルホニル基を表わす。これらのアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル基は置換基を有していてもよい。また置換基としては、塩素等のハロゲン原子、炭素数１〜６個のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基、カルボキシ基、炭素数６〜１０個のアリール基、炭素数１〜６個のアルコキシ基、シアノ基が挙げられる。更にアリールオキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アリールチオ基、アリールスルホニル基の場合上記の置換基の外にメチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基も用いることができる。
【００５９】
またＧ^Ｄ１１とＧ^Ｄ１２はそれが結合せる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成する場合、環としては通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるもので以下のものを挙げることができる。
【００６０】
（ａ）１，３−ジカルボニル核、例えば、１，３−インダンジオン、１，３−シクロヘキサンジオン、５，５−ジメチル−１，３−シクロヘキサンジオン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオンである。
【００６１】
（ｂ）ピラゾリノン核、例えば、３−メチル−１−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−（２−ベンゾチアゾイル）−３−メチル−２−ピラゾリン−５−オンである。
【００６２】
（ｃ）イソオキサゾリノン核、例えば、３−フェニル−２−イソオキサゾリン−５−オン、３−メチル−２−イソオキサゾリン−５−オンである。
【００６３】
（ｄ）オキシインドール核、例えば、１−アルキル−２，３−ジヒドロ−２−オキシインドールである。
【００６４】
（ｅ）２，４，６−トリケトヘキサヒドロピリミジン核、例えば、バルビツール酸または２−チオバルビツール酸及びその誘導体である。誘導体としては１−メチル、１−エチル等の１−アルキル体、１，３−ジエチル、１，３−ジブチル等の１，３−ジアルキル体、１，３−ジフェニル、１，３−ジ（ｐ−クロロフェニル）、１，３−ジ（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）等の１，３−ジアリール体、１−エチル−３−フェニル等の１−アルキル−３−アリール体等が挙げられる。
【００６５】
（ｆ）２−チオ−２，４−チアゾリジンジオン核、例えば、ローダニン及びその誘導体である。誘導体としては３−エチルローダニン、３−アリルローダニン等の３−アルキルローダニン、３−フェニルローダニン等の３−アリールローダニン等が挙げられる。
【００６６】
（ｇ）２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン（２−チオ−２，４−（３Ｈ，５Ｈ）−オキサゾールジオン）核、例えば、２−エチル−２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオンである。
【００６７】
（ｈ）チアナフテノン核、例えば、３（２Ｈ）−チアナフテノンおよび３（２Ｈ）−チアナフテノン−１，１−ジオキサイドである。
【００６８】
（ｉ）２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン核、例えば、３−エチル−２−チオ−２，５−チアゾリジンジオンである。
【００６９】
（ｊ）２，４−チアゾリジンジオン核、例えば、２，４−チアゾリジンジオン、３−エチル−２，４−チアゾリジンジオン、３−フェニル−２，４−チアゾリジンジオンである。
【００７０】
（ｋ）チアゾリジオン核、例えば、４−チアゾリジノン、３−エチル−４−チアゾリジノンである。
【００７１】
（ｌ）４−チアゾリジノン核、例えば、２−エチルメルカプト−５−チアゾリン−４−オン、２−アルキルフェニルアミノ−５−チアゾリン−４−オンである。
【００７２】
（ｍ）２−イミノ−２−オキサゾリン−４−オン（凝ヒダントイン）核である。
【００７３】
（ｎ）２，４−イミダゾリジンジオン（ヒダントイン）核、例えば、２，４−イミダゾリジンジオン、３−エチル−２，４−イミダゾリジンジオンである。
【００７４】
（ｏ）２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン（２−チオヒダントイン）核、例えば、２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン、３−エチル−２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオンである。
【００７５】
（ｐ）２−イミダゾリン−５−オン核、例えば、２−ｎ−プロピル−メルカプト−２−イミダゾリン−５−オンである。
【００７６】
（ｑ）フラン−５−オンである。
本発明で用いられる一般式Ｄ−１で表わされる化合物の具体例を下記に示す。
【００７７】
【化２２】

【００７８】
【化２３】

【００７９】
【化２４】

【００８０】
【化２５】

【００８１】
【化２６】

【００８２】
この中で好ましくは（Ｄ−１１２）、（Ｄ−１１３）、（Ｄ−１１６）、（Ｄ−１１７）、（Ｄ−１２１）、（Ｄ−１３８）、（Ｄ−１３９）、（Ｄ−１４０）、（Ｄ−１４１）、（Ｄ−１４２）の化合物である。
【００８３】
一般式Ｄ−２中、Ｒ^Ｄ２１〜Ｒ^Ｄ２７はお互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を表し、これらは置換基を有していてもよく、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ｒ^Ｄ２１〜Ｒ^Ｄ２７は互いに結合して環を形成していてもよい。Ｘ^Ｄ２１は水酸基または水酸基の塩、アミノ基を表し、水酸基の塩としては本発明において特に制限はないが、１価のカチオンであればよく、アルカリ金属塩が好ましく、より好ましくはＮａ塩もしくはＫ塩である。
【００８４】
Ｘ^Ｄ２２は酸素原子または化６の構造を表し、Ｒ^Ｄ２８、Ｒ^Ｄ２９は互いに独立して水素原子またはアルキル基、アリール基を表し、また互いに結合して環を形成してもよく、これらは置換基を有していてもよく、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ａ^Ｄ２は対アニオンを表し、本発明において該対アニオンとしては特に制限はないが、ハロゲンイオン、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、リン酸イオン、硝酸イオンなどが挙げられ、より好ましくはハロゲンイオンであり、更に好ましくはＣｌイオン、ＢｒイオンもしくはＩイオンである。Ｙ^Ｄ２１は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^Ｄ２１０、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｒ^Ｄ２１１、−Ｐ（＝Ｏ）_２−Ｒ^Ｄ２１２を表し、Ｒ^Ｄ２１０からＲ^Ｄ２１２は−ＯＭ^Ｄ２１または１価の置換基を表す。Ｍ^Ｄ２１はアルカリ金属を表し、好ましくはＮａ塩もしくはＫ塩である。Ｒ^Ｄ２１０からＲ^Ｄ２１２が１価の置換基を表す場合、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表し、より好ましくは水酸基、アルコキシ基、アルキルアミノ基である。
【００８５】
ｎｄ２１は１から４の整数を表し、２から４個のＲ^Ｄ２７はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、また環を形成していてもよい。
【００８６】
以下に一般式Ｄ−２で表される化合物の化合物例を示す。
【００８７】
【化２７】

【００８８】
【化２８】

【００８９】
一般式Ｄ−３中、Ａｒ^Ｄ３はアリール基を表し、Ｒ^Ｄ３１、Ｒ^Ｄ３２は互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を表し、また互いに結合して炭素原子および非金属原子から成る環を形成してもよく、これらは置換基を有していてもよく、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ｘ^Ｄ３１は水酸基または水酸基の塩、アミノ基を表し、水酸基の塩としては、本発明において特に制限は無いが、１価のカチオンであればよく、アルカリ金属塩が好ましく、より好ましくはＮａ塩もしくはＫ塩である。
【００９０】
Ｘ^Ｄ３２は酸素原子または化８の構造を表し、Ｒ^Ｄ３３、Ｒ^Ｄ３４は互いに独立して水素原子またはアルキル基、アリール基を表し、また互いに結合して環を形成してもよく、これらは置換基を有していてもよく、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ａ^Ｄ３は対アニオンを表し、本発明において該対アニオンとしては特に制限は無いが、ハロゲンイオン、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、リン酸イオン、硝酸イオンなどが挙げられ、より好ましくはハロゲンイオン、スルホン酸イオンであり、更に好ましくはＣｌイオンもしくはＢｒイオンもしくはＩイオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオンである。
【００９１】
ｎｄ３１、ｎｄ３２はそれぞれ独立して１から４の整数を表し、２から４個のＲ^Ｄ３１、Ｒ^Ｄ３２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、また環を形成していてもよい。
【００９２】
以下に一般式Ｄ−３で表される化合物の化合物例を示す。
【００９３】
【化２９】

【００９４】
一般式Ｄ−４中、Ｙ^Ｄ４１は色素を形成するために必要な基を表し、色素を形成する為に必要な基とは、本発明においては特に制限は無いが、例としては
【００９５】
【化３０】

【００９６】
もしくは、複素５員環もしくは６員環を挙げることができる。Ａ及びＢの例としては、スルファモイル基、カルバモイル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、芳香族環基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基などが挙げられ、これらは更に置換基を有してもよく、飽和ないし不飽和の縮合環を形成してもよい。
【００９７】
Ｙ^Ｄ４２は複素５員環もしくは６員環を表す。Ｙ^Ｄ４１、Ｙ^Ｄ４２が複素５員環もしくは６員環を表す場合、本発明においては特に制限は無いが、例としてはＴＨＥ ＴＨＥＯＲＹ ＯＦ ＴＨＥ ＰＨＯＴＯＧＲＡＰＨＩＣ ＰＲＯＣＥＳＳ ＦＯＵＲＴＨ ＥＤＩＴＩＯＮ １９９頁表８．２記載の構造、同２００頁記載の化合物（１９）、（２０）、（２１）、（２２）に記載されている５員もしくは６員環部分、特開２００２−１８９２９５号公報の段落番号［００５２］から［００５５］に記載の構造などを挙げることができる。
【００９８】
これらは更に縮合環を有していてもよく、また置換基を有していてもよく、該置換基の例としては、上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ｌ^Ｄ４１、Ｌ^Ｄ４２はそれぞれ独立にメチン基を表し、該メチン基は置換基を有していてもよく、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。
【００９９】
ｎｄ４は０から２の整数を表し、好ましくは０か１である。
以下に一般式Ｄ−４で表される化合物の化合物例を示す。
【０１００】
【化３１】

【０１０１】
【化３２】

【０１０２】
一般式Ｄ−５中、Ｙ^Ｄ５１は複素５員環もしくは６員環を表し、これらの複素５員環もしくは６員環は、本発明においては特に制限は無いが、例としてはＴＨＥＴＨＥＯＲＹ ＯＦ ＴＨＥ ＰＨＯＴＯＧＲＡＰＨＩＣ ＰＲＯＣＥＳＳ ＦＯＵＲＴＨ ＥＤＩＴＩＯＮ １９４頁表８．１、同１９５頁から１９８頁、１９９頁表８．２、２００頁、同２０３頁表８．３記載の５員もしくは６員環部分の構造、特開２００２−１８９２９５号公報の段落番号［００５２］から［００５５］に記載の構造などを挙げる事ができる。
【０１０３】
Ｙ^Ｄ５２は複素５員環もしくは６員環もしくは、Ｎ（Ｒ^Ｄ５１）Ｒ^Ｄ５２、ＯＲ^Ｄ５３、またはＳ（Ｏ）_ｎｄ５２Ｒ^Ｄ５４を表し、複素５員環もしくは６員環としては、上述したＹ^Ｄ５１と同義の基を表し、Ｒ^Ｄ５１、Ｒ^Ｄ５２、Ｒ^Ｄ５３、Ｒ^Ｄ５４は、それぞれ独立に水素原子、一価の置換基を表し、該置換基としては、上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ｌ^Ｄ５１、Ｌ^Ｄ５２はそれぞれ独立にメチン基を表し、該メチン基は置換基を有していてもよく、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。
【０１０４】
ｎｄ５１は０から３の整数を表し、好ましくは０か１である。ｎｄ５２は０または１または２を表す。一般式Ｄ−５が塩を表すとき、Ａ^Ｄ５は電荷を中和するために必要なアニオンを表し、例えば、ハロゲンイオン（Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻、Ｉ⁻）、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、１，５−ジスルホナフタレンジア二オン、ＰＦ_６ ⁻、ＢＦ_４ ⁻、及びＣｌＯ_４ ⁻等が挙げられる。また、Ａ^Ｄ５はＹ^Ｄ５１もしくはＹ^Ｄ５２の任意の位置に共有結合により結合していてもよく、その場合は、前記一般式Ｄ−５で表される化合物は内部塩を形成する。
【０１０５】
以下に一般式Ｄ−５で表される化合物の化合物例を示す。
【０１０６】
【化３３】

【０１０７】
【化３４】

【０１０８】
一般式Ｄ−６中、Ｒ^Ｄ６１〜Ｒ^Ｄ６４は各々独立して水素原子またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基または複素環基を表し、これらは置換基を有していてもよく、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ｒ^Ｄ６５は水素原子または一価の置換基を表し、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ｘ^Ｄ６１、Ｘ^Ｄ６２はお互い独立してハロゲン原子を表し、より好ましくはフッ素である。
【０１０９】
Ｙ^Ｄ６１、Ｙ^Ｄ６２は酸素原子、硫黄原子、−ＮＲ^Ｄ６６−基、−ＣＲ^Ｄ６７Ｒ^Ｄ６８−基または−ＣＲ^Ｄ６９＝ＣＲ^Ｄ６１０−基を表す。ここで、Ｒ^Ｄ６６〜Ｒ^Ｄ６８はお互い独立してアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アラルキル基または複素環基を表し、これらは置換基を有していてもよく、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ｒ^Ｄ６９、Ｒ^Ｄ６１０は水素原子または一価の置換基を表し、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。
【０１１０】
Ｒ^Ｄ６１とＲ^Ｄ６２、Ｒ^Ｄ６１とＹ^Ｄ６１上のＲ^Ｄ６９またはＲ^Ｄ６１０、Ｒ^Ｄ６３とＲ^Ｄ６４あるいはＲ^Ｄ６４とＹ^Ｄ６２上のＲ^Ｄ６９またはＲ^Ｄ６１０がそれぞれ結合して環を形成してもよい。
【０１１１】
以下に一般式Ｄ−６で表される化合物の化合物例を示す。
【０１１２】
【化３５】

【０１１３】
【化３６】

【０１１４】
一般式Ｄ−７中、Ｒ^Ｄ７１〜Ｒ^Ｄ７３は各々独立して水素原子または一価の置換基を表し、これらは置換基を有していてもよく、該置換基の例としては上述したＲ^２１と同義の基を表す。Ｘ^Ｄ７１、Ｘ^Ｄ７２はお互い独立してハロゲン原子を表し、より好ましくはフッ素である。Ｒ^Ｄ７１とＲ^Ｄ７２、Ｒ^Ｄ７２とＲ^Ｄ７３がそれぞれ結合して環を形成することが好ましく、該環としては芳香族環または複素環が好ましい、該芳香族環または複素環の好ましい例としては、該芳香族炭化水素化合物として好ましくは、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ピレン、フルオレン等を挙げることができ、該芳香族複素環化合物としては、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、ベンズイミダゾール、ピリジン、フラン、チオフェン、クロマン、クマリン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、スルホラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、チオキサンテン、キサンテン、ピラン、チオピラン、キノリンなどの５員または６員の複素環より誘導される複素環化合物を挙げることができ、また上述した該芳香族炭化水素化合物または芳香族複素環化合物は置換基を有していてもよく、該置換基としては上述したＲ^２１と同義の基を挙げることができる。
【０１１５】
以下に一般式Ｄ−７で表される化合物の化合物例を示す。
【０１１６】
【化３７】

【０１１７】
本発明の化合物（Ｉ）の含有量は、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物１００質量部に対して、０．０５〜３０質量部、好ましくは０．１〜２０質量部である。
【０１１８】
本発明の化合物（Ｉ）は単独でまたは２種以上を併用して好適に使用することができる。本発明の化合物（ＩＩ）の含有量は、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物１００質量部に対して、０．０５〜３０質量部、好ましくは０．１〜２０質量部である。本発明の化合物（ＩＩ）は単独でまたは２種以上を併用して好適に使用することができる。
【０１１９】
本発明の近紫外から可視領域の光線を吸収し、一般式（ＩＩ）の化合物を増感可能な増感色素の含有量は、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物１００質量部に対して、０．０５〜３０質量部、好ましくは０．１〜２０質量部である。
【０１２０】
本発明の近紫外から可視領域の光線を吸収し、一般式（ＩＩ）の化合物を増感可能な増感色素は単独でまたは２種以上を併用して好適に使用することができる。本発明の重合開始剤および重合組成物には、重合促進剤を含有せしめることが好ましい。
【０１２１】
重合促進剤としては、アミン化合物やイオウ化合物（チオール、ジスルフィド等）に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等を添加することが可能である。
【０１２２】
本発明の重合組成物に添加可能な重合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、トリエタノールアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン等のアミン類、米国特許第４，４１４，３１２号明細書や特開昭６４−１３１４４号公報記載のチオール類、特開平２−２９１６１号公報記載のジスルフィド類、米国特許第３，５５８，３２２号明細書や特開昭６４−１７０４８号公報記載のチオン類、特開平２−２１５６０号公報記載のｏ−アシルチオヒドロキサメートやＮ−アルコキシピリジンチオン類が挙げられる。特に好ましくはアミン化合物としてはＮ、Ｎ−ジエチルアニリンであり、イオウ化合物としては２−メルカプトベンゾチアゾールである。
【０１２３】
また、本発明の重合開始剤および重合組成物は、下記一般式（ＸＸＶＩ）で表されるアミノ酸誘導体を含有することで更に高感度になる。
【０１２４】
【化３８】

【０１２５】
式中、Ｒ_１〜Ｒ_５は水素原子または一価の置換基を表し、一価の置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、複素環基（例えば、１−イミダゾリル基、１−ピラゾリル基、１−ベンズイミダゾリル基、１−インダゾリル基、１−ベンゾトリアゾリル基等）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を繰り返し含む基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基など）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、複素環オキシ基（例えば、ピリジルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基など）、カルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基など）、ウレタン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基など）、カルボキシル基、イミド基、アミノ基（例えば、無置換のアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、アニリノ基、アニシジノ基、トルイジノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド基、プロパノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基など）、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基など）、複素環チオ基（例えば、ベンゾチアゾール−２−イルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、オクタンスルホニル基など）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基など）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、フッ素原子、臭素原子など）、シアノ基、ニトロ基などが挙げられる。
【０１２６】
Ｒ_６は水素原子または無置換のあるいは置換されたアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基など）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基など）、シクロアルケニル基（例えば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基など）、アルキニル基（例えば、２−プロピニル基、３−ブチニル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基など）または複素環基（例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ベンズイミダゾール環、ピリジン環、フラン環、チオフェン環、クロマン環、クマリン環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、スルホラン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環などの５員または６員の複素環より誘導される複素環基）を表す。
【０１２７】
Ｒ_７、Ｒ_８は水素原子または無置換のあるいは置換されたアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基など）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）を表す。
【０１２８】
Ｒ_９は水素原子または無置換のあるいは置換されたアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基など）、シクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基など）、シクロアルケニル基（例えば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基など）、アルキニル基（例えば、２−プロピニル基、３−ブチニル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基など）または複素環基（例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾチアゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ベンズイミダゾール環、ピリジン環、フラン環、チオフェン環、クロマン環、クマリン環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、スルホラン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環などの５員または６員の複素環より誘導される複素環基）を表す。
【０１２９】
Ｒ_６〜Ｒ_９の置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基など）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基など）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、エチレンオキシもしくはプロピレンオキシ単位を繰り返し含む基など）、アリールオキシ基（フェノキシ基、ナフトキシ基など）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、複素環オキシ基（例えば、ピリジルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基など）、カルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基など）、ウレタン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基など）、カルボキシル基、イミド基、アミノ基（例えば、無置換のアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、アニリノ基、アニシジノ基、トルイジノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド基、プロパノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基。ベンゼンスルホンアミド基など）、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基など）、複素環チオ基（例えば、ベンゾチアゾール−２−イルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基など）、アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、オクタンスルホニル基など）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホニル基など）、ハロゲン原子（塩素原子、フッ素原子、臭素原子など）、シアノ基、ニトロ基などが挙げられる。
【０１３０】
上記アミノ誘導体の含有量は、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２０質量部、更に好ましくは０．１〜２０質量部である。含有量が０．０１質量部未満の場合は光硬化性が不充分であり、含有量が５０質量部を超えると光硬化性がかえって低下するので好ましくない。
【０１３１】
このようなアミノ酸誘導体の具体例としては、例えば、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（ｐ−メチルフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−アセチルフェニル）グリシン、Ｎ−（ｍ−アセチルフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）グリシン、Ｎ−（ｍ−トリフルオロメチルフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）グリシン、Ｎ−（ｍ−メトキシフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）グリシン、Ｎ−（ｍ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｏ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−フルオロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−（ｍ−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグリシン等が挙げられる。
【０１３２】
本発明の重合開始剤は更に別のラジカル発生剤を含有していてもよい。
ラジカル発生剤として、好ましくはハロゲン化物（α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチルトリアジン類等）、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合物（ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノン類、ｏ−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフィンオキサイド類等）、ヘキサアリールビスイミダゾール化合物、過酸化物、チタノセン化合物などが挙げられる。
【０１３３】
過酸化物としては、特開昭５９−１５０４号公報ならびに特開昭６１−２４０８０７号公報記載の有機過酸化物を用いることができる。
【０１３４】
具体的な化合物としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、プロピオニルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、３，５，５−トリメチルヘキサノイル、デカノイルパーオキサイド、ウラロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーキサイド、ベンゾイルパーオオキサイド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、アセチルシクロヘキサンスルホニルパーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、ｐ−メタンヒドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイドなどのヒドロパーオキサイド類、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、１，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４′−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタンなどのパーオキシケタール類、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエートジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシフタレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、２，５−ジメチル−２，５−ジベンゾイルパーオキシヘキサンなどのアルキルパーエステル類、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジーイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジーメトキシイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ビス−（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネートなどのパーオキシカーボネート類、コハク酸パーオキシキサイドに代表される水溶性パーオキサイド類が挙げられる。好ましくは、特に下記の構造の有機過酸化物を用いることができる。
【０１３５】
【化３９】

【０１３６】
本発明で好ましく用いることができるチタノセン化合物としては、特に限定されないが、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号の各公報等に記載されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。更に具体的には、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジクロライド、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジメチルペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジメチルペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジメチルペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル（以下、Ｔｉ−１という）が挙げられる。
【０１３７】
これらの中で、特に好ましいものは、下記の構造であるＴｉ−１である。
【０１３８】
【化４０】

【０１３９】
本発明では以下のオニウム塩を好ましく用いることができる。オニウム塩としては、ヨードニウム塩、スルフォニウム塩、ホスフォニウム塩、スタンノニウム塩などが挙げられる。
【０１４０】
特公昭５５−３９１６２号公報、特開昭５９−１４０２３号公報及びマクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、第１０巻、第１３０７頁（１９７７年）記載の各種オニウム化合物を用いることができる。ヨードニウム塩としては、好ましくはジアリールヨードニウム塩を用いることもできる。また、オニウム塩としては、ジフェニルヨードニウム塩、ジトリルヨードニウム塩、フェニル（ｐ−メトキシフェニル）ヨードニウム塩、ビス（ｍ−ニトロフェニル）ヨードニウム塩、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム塩、ビス（ｐ−シアノフェニル）ヨードニウム塩等のクロリド、ブロミド、四フッ化ホウ素塩、六フッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、六フッ化アントモン塩、過塩素酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ｐ−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸塩、ｎ−ブチルトリフェニルホウ素塩等も挙げられる。
【０１４１】
本発明では２，４，５−トリアリールイミダゾール２量体を好ましく用いることができる。特開昭５５−１２７５５０号公報、特開昭６０−２０２４３７号公報に記載されている下記の構造のものを用いることが好ましい。
【０１４２】
【化４１】

【０１４３】
本発明のラジカル発生剤の添加量は、ラジカル発生剤の種類及び使用形態により異なるが、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物１００質量部に対して０．０１〜１０質量部が好ましい。
【０１４４】
支持体としては、紙、合成紙（例えば、ポリプロピレンを主成分とする合成紙）、樹脂のフィルムあるいはシート、更には樹脂を２層以上積層してなるプラスチックフィルムまたはシート、あるいは各種高分子材料、金属、セラミックもしくは木材パルプやセルロースパルプ、サルファイトパルプなどで抄造された紙等に、樹脂層を積層したフィルムまたはシートなどを挙げることができる。
【０１４５】
このような樹脂のフィルムあるいはシートを構成する樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイロン、芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバン酸、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
【０１４６】
本発明を平版印刷版作製用として用いる場合の感光性層を設ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、銅、鋼等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキまたは蒸着された金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙げられる。これらの内好ましいのは、アルミニウム板である。支持体としては、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されたアルミニウム板を用いることがより好ましい。これらの処理には公知の方法を用いることができる。砂目立て処理の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方法を単独あるいは組合せて用いることができる。好ましいのは、電解エッチングによる方法である。
【０１４７】
電解エッチングは、燐酸、硫酸、塩酸、硝酸等の酸の単独ないし２種以上混合した浴で行われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗する。
【０１４８】
陽極酸化処理には、電解液として、硫酸、クロム酸、シュウ酸、燐酸、マロン酸等を１種または２種以上含む溶液を用いアルミニウム板を陽極として電解して行われる。形成された陽極酸化皮膜量は１〜５０ｍｇ／ｄｍ^２が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／ｄｍ^２である。陽極酸化皮膜量は、例えば、アルミニウム板を燐酸クロム酸溶液に浸積し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の質量変化測定等から求められる。
【０１４９】
封孔処理は沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理などが具体例として挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン等の金属塩水溶液による下引処理を施すこともできる。
【０１５０】
支持体の厚さは通常３〜１０００μｍがよく、８〜３００μｍがより好ましい。
【０１５１】
感光性層に用いられるバインダー樹脂としては、公知の種々のポリマーを使用することができる。具体的なバインダーの詳細は、米国特許第４，０７２，５２７号明細書に記載されており、より好ましくは特開昭５４−９８６１３号公報に記載されているような芳香族性水酸基をを有する単量体、例えば、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−、またはｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−、またはｐ−ヒドロキシフェニルメタクリレート等と他の単量体との共重合物、米国特許第４，１２３，２７６号明細書中に記載されているようなヒドロキシエチルアクリレート単位またはヒドロキシエチルメタクリレートを含むポリマー、シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第３，７５１，２５７号明細書中に記載されているようなポリアミド樹脂、米国特許第３，６６０，０９７号明細書中に記載されているような線状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレー化樹脂、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロースアセテートフタレート等のセルロース樹脂が挙げられる。
【０１５２】
バインダー樹脂としては前述の樹脂の中から、１種または２種以上のものを組み合わせて用いることができる。
【０１５３】
中でも塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリビニルブチラール、スチレン−アクリロニトリル、ポリビニルアセタール、ニトロセルロース、エチルセルロース等の溶剤可溶性ポリマーが好ましい。
【０１５４】
これらのバインダーは、１種または２種以上を有機溶媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分散の形で使用してもよい。バインダーの使用量としては、本発明の画像形成材料の目的に応じて、また、単層構成であるか重層構成であるかにより異なるが、支持体１ｍ^２当たり１．０〜２０ｇが好ましい。
【０１５５】
次にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物について詳述する。
本発明のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物とは、重合組成物が活性光線の照射を受けた場合、重合開始剤の作用により付加重合し、硬化するようなエチレン性不飽和二重結合であって、例えば、該エチレン性不飽和二重結合の単量体、または側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体である。尚、本発明における単量体の意味するところは、所謂高分子物質に相対する概念であって、従って、狭義の単量体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するものである。
【０１５６】
重合可能な化合物としては公知のモノマーが特に制限なく使用することができる。具体的モノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステルおよびその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート等の２官能アクリル酸エステルおよびその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物、あるいはトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステルおよびその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物等を挙げることができる。
【０１５７】
また適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、またはメタアクリル酸を導入し、光重合性を付与した、いわゆるプレポリマーと呼ばれるものも好適に使用できる。
【０１５８】
この他に特開昭５８−２１２９９４号、同６１−６６４９号、同６２−４６６８８号、同６２−４８５８９号、同６２−１７３２９５号、同６２−１８７０９２号、同６３−６７１８９号、特開平１−２４４８９１号の各公報等に記載の化合物などを挙げることができ、更に「１１２９０の化学商品」化学工業日報社、ｐ．２８６〜２９４に記載の化合物、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」高分子刊行会、ｐ．１１〜６５に記載の化合物なども本発明においては好適に用いることができる。
【０１５９】
これらの中で、分子内に２個以上のアクリル基またはメタクリル基を有する化合物が本発明においては好ましく、更に分子量が１０，０００以下、より好ましくは５，０００以下のものが好ましい。また本発明ではこれらのモノマーあるいはプレポリマーのうち１種または２種以上を混合して用いることができる。
【０１６０】
上記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、本発明において感光性層中に好ましくは２０〜８０質量部、より好ましくは３０〜７０質量部含有される。
【０１６１】
本発明の感光性層には目的を損なわない範囲であれば、増感剤、熱重合禁止剤、熱溶融性化合物、酸素補足剤、可塑剤等の他の成分を含有せしめることは任意である。
【０１６２】
増感剤としては、特開昭６４−１３１４０号公報に記載のトリアジン系化合物、特開昭６４−１３１４１号公報に記載の芳香族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、特開昭６４−１３１４３号公報に記載の有機過酸化物、特公昭４５−３７３７７号公報や米国特許第３，６５２，２７５号明細書に記載のビスイミダゾール化合物、チオール類等が挙げられる。増感剤の添加量は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物とバインダーの合計量１００質量部に対して、１０質量部以下、好ましくは０．０１〜５質量部程度添加される。
【０１６３】
熱重合防止剤としては、キノン系、フェノール系等の化合物が好ましく用いられる。例えば、ハイドロキノン、ピロガロール、ｐ−メトキシフェノール、カテコール、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等が挙げられる。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物とバインダーの合計量１００質量部に対して、１０質量部以下、好ましくは０．０１〜５質量部程度添加される。
【０１６４】
酸素クエンチャーとしては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン誘導体が好ましく、例えば、米国特許第４，７７２，５４１号明細書の第１１カラム５８行目から第１２カラム３５行目に記載の化合物が挙げられる。
【０１６５】
可塑剤としては、フタル酸エステル類、トリメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その他飽和あるいあるいは不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステアリン酸エポキシ類、正リン酸エステル類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類などが挙げられる。
【０１６６】
熱溶融性化合物としては、常温で固体であり、加熱時に可逆的に液体となる化合物が用いられる。前記熱溶融性物質としては、テルピネオール、メントール、１，４−シクロヘキサンジオール、フェノール等のアルコール類、アセトアミド、ベンズアミド等のアミド類、クマリン、ケイ皮酸ベンジル等のエステル類、ジフェニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類、カンファー、ｐ−メチルアセトフェノン等のケトン類、バニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド類、ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類、マルガリン酸等の高級脂肪酸、エイコサノール等の高級アルコール、パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル、ステアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド、ベヘニルアミン等の高級アミンなどに代表される単分子化合物、蜜ロウ、キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エステルワックス、モンタンロウ、カルナバワックス、アミドワックス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックスなどのワックス類、エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導体、フェノール樹脂、ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、テルペン系炭化水素樹脂、シクロペンタジエン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカプロラクトン系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリオレフィンオキサイドなどに代表される高分子化合物などを挙げることができる。
【０１６７】
更に必要に応じて感光性層に酸化防止剤、フィラー、帯電防止剤などを添加してもよい。前記酸化防止剤としては、クロマン系化合物、クラマン系化合物、フェノール系化合物、ハイドロキノン誘導体、ヒンダードアミン誘導体、スピロインダン系化合物、硫黄系化合物、リン系化合物などが挙げられ、特開昭５９−１８２７８５号、同６０−１３０７３５号、同６１−１５９６４４号、特開平１−１２７３８７号の各公報、「１１２９０の化学商品」化学工業日報社、ｐ．８６２〜８６８等に記載の化合物、および写真その他の画像記録材料に耐久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることができる。
【０１６８】
フィラーとしては、無機微粒子や有機樹脂粒子を挙げることができる。この無機微粒子としてはシリカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、活性白土、アルミナ等を挙げることができ、有機樹脂粒子としてはフッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子、帯電防止剤としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電性微粒子などのほか「１１２９０の化学商品」化学工業日報社、ｐ．８７５〜ｐ．８７６などに記載の化合物なども好適に用いることができる。
【０１６９】
本発明において、感光性層は単層で形成されてもよいし、二層以上の複数層で構成されてもよい。また複数層で構成する場合は組成の異なる感光性層で構成してもよく、この場合は着色剤を含有しない感光性層を含んでいてもよい。
【０１７０】
本発明において、感光性層の厚みは０．２〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．５〜５μｍである。
【０１７１】
感光性層は形成成分を溶媒に分散あるいは溶解して塗工液を調製し、この塗工液を前記中間層上に直接積層塗布し乾燥するか、または後述するカバーシート上に塗布し乾燥して形成される。
【０１７２】
上記塗工法に用いる溶媒としては、水、アルコール類（例えば、エタノール、プロパノール）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ）、芳香族類（例えば、トルエン、キシレン、クロルベンゼン）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エステル系溶剤（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン）、塩素系溶剤（例えば、クロロホルム、トリクロルエチレン）、アミド系溶剤（例えば、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
【０１７３】
前記塗工には、従来から公知のグラビアロールによる面順次塗り別け塗布法、押し出し塗布法、ワイヤーバー塗布法、ロール塗布法等を採用することができる。
【０１７４】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に示すが、本発明の実施態様は、これ等に限定されるものでない。尚、実施例における「部」は特に断りない限り「質量部」を表す。
【０１７５】
実施例１
（アクリル系共重合体１の合成）
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタクリル酸１２部、メタクリル酸メチル７０部、アクリロニトリル８部、メタクリル酸エチル１０部、エタノール５００部及びα，α′−アゾビスイソブチロニトリル３部を入れ、窒素気流中８０℃のオイルバスで６時間反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライド３部及びグリシジルメタクリレート２部を加えて３時間反応させ、アクリル系共重合体１を得た。ＧＰＣを用いて測定した重量平均分子量は約５０，０００、ＤＳＣ（示差熱分析法）を用いて測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は約８５℃であった。
【０１７６】
（重合組成物の作製）
アクリル系共重合体１（合成バインダー、分子量Ｍｗ＝５万） ３５．０部
金属アレーン化合物（ＩＩ−２）（Ｉｒｇａｃｕｒｅ−２６１チバスペシャリテ
ィケミカルズ製） ４．０部
増感色素（Ｄ−１１５） ３．０部
重合開始剤（Ｉ−１） ６．０部
テトラヒドロフラン ５０．０部
チッソ気流雰囲気下のグローブボックス内にて、ガラス支持体上に、上記組成の重合組成物を乾燥膜厚約２．０μｍになるようワイヤーバーで塗布し、そのまま１時間自然乾燥して重合組成物試料１を作製した。更に組成を表１のように代えて、重合組成物試料２〜６を作製した。
【０１７７】
【化４２】

【０１７８】
（硬化実験）
上述したチッソ気流雰囲気下のグローブボックス内にて、ステップウェッジ（濃度段差０．１５、濃度段数１５段）を介して試料に２ｋＷの超高圧水銀灯を照射し、濃度段数１０段目の試料が硬化する時間を測定した。触診にてべとつきが完全に無くなったところで硬化したと判断した。硬化時間が短いほど高感度である事を意味する。
【０１７９】
【表１】

【０１８０】
表から明らかなように、本発明の重合組成物は、比較例に対して高感度である事がわかる。
【０１８１】
実施例２
（支持体の作製）
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、１分間の脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム板を、２５℃に保たれた１０％塩酸水溶液中に１分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、０．３質量％の硝酸水溶液中で、２５℃、電流密度１００Ａ／ｄｍ^２の条件下に交流電流により６０秒間、電解粗面化を行った後、６０℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液中で１０秒間のデスマット処理を行った。デスマット処理を行った粗面化アルミニウム板を、１５％硫酸溶液中で、２５℃、電流密度１０Ａ／ｄｍ^２、電圧１５Ｖの条件下に１分間陽極酸化処理を行い、更に３％硅酸ナトリウムで９０℃で封孔処理を行って支持体を作製した。この時、表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は０．６５μｍであった。
【０１８２】
（支持体への下引き層設置）
上記支持体上に、下記組成の下引き層塗工液を乾燥時０．１ｇ／ｍ^２になるようワイヤーバーで塗布し、９０℃で１分間乾燥し、更に１１０℃で３分間の加熱処理を行って、下引き済み支持体を作製した。
【０１８３】
（下引き層塗工液）
γ−メタクリロキシキシプロピルトリメトキシシラン １部
メチルエチルケトン ８０部
シクロヘキサノン １９部
（平版印刷版材料１および２〜２４の作製）
上記下引き済み支持体上に、下記組成の光重合性感光性層塗工液を乾燥時１．４ｇ／ｍ^２になるようワイヤーバーで塗布し、９５℃で１．５分間乾燥した。その後、更に該光重合性感光性層上に、下記組成のオーバーコート層塗工液を乾燥時２．０ｇ／ｍ^２になるようにアプリケーターで塗布し、７５℃で１．５分間乾燥して、感光性層上にオーバーコート層を有する平版印刷版材料１を作製した。
【０１８４】

平版印刷版材料１の増感色素、重合開始剤、一般式（ＩＩ）の金属アレーン化合物を表２のように代えて、平版印刷版材料２〜２４を作製した。
【０１８５】
（画像形成）
このようにして作製した平版印刷版材料１〜２４について、ＦＤ−ＹＡＧレーザ光源（５３２ｎｍ）を搭載したＣＴＰ露光装置（Ｔｉｇｅｒｃａｔ：ＥＣＲＭ社製）を用いて２５４０ｄｐｉ（ｄｐｉとは、１インチ即ち２．５４ｃｍあたりのドット数を表す）の解像度で画像露光を行った。次いで、現像前にオーバーコート層を除去する前水洗部、下記組成の現像液を充填した現像部、版面に付着した現像液を取り除く水洗部、画線部保護のためのガム液（ＳＧＷ−２：コニカ社製を２倍希釈したもの）を備えたＣＴＰ自動現像機（ＰＨＷ２３−Ｖ：Ｔｅｃｈｎｉｇｒａｐｈ社製）で現像処理を行い、平版印刷版を得た。また、４０５ｎｍはＩｎＧａＮ半導体レーザ、４８８ｎｍはアルゴンレーザ、５３２ｎｍはＷ−ＹＡＧレーザを用いて露光した。
【０１８６】
（現像液組成）
Ａケイ酸カリ ８．０質量％
ペレックスＮＢＬ：花王（株）製 ３．０質量％
苛性カリ ｐＨ＝１２．３となる添加量
（平版印刷版の評価）
上記のようにして得られた平版印刷版について、以下の評価をした。
【０１８７】
（感度）
画像部の膜減りが観察されず、且つ１７５線、５０％の網点露光部が、作製した平版印刷版面上で５０％に再現できる露光量を適性露光量とし、その露光量を感度とした。
【０１８８】
（耐刷性）
１７５線の画像を適性露光量で露光、現像して作製した平版印刷版を、印刷機（ハイデルＧＴＯ：ハイデルベルグ社製）で、コート紙、印刷インキ（ハイプラスＭ紅：東洋インキ製造社製）及び湿し水（ＳＥＵ−３：コニカ社製，２．５％水溶液）を用いて印刷を行い、ハイライト部の点細り、シャドウ部の絡みの発生する印刷枚数を耐刷性の指標とした。
【０１８９】
（保存性）
露光、現像処理する前の生試料を、５５℃、２０％ＲＨの条件で恒温槽（ＴＡＢＩ ＥＳＰＥＣ：ＣＯＲＰ製）に３日間投入した後、上記と同様に露光、現像を行い、印刷時の非画線部の汚れの発生有無を評価した。評価基準は以下の通り。
【０１９０】
５：非画線部が完全に除去できている
４：非画線部の所々に除去できない感光性層が薄く残る
３：非画線部の全面に除去できない感光性層が薄く残る
２：非画線部の全面に除去できない感光性層が残る
１：非画線部が全く除去できない
【０１９１】
【表２】

【０１９２】
本発明の平版印刷版材料試料は、高感度にラジカルを発生し、感光用材料としたとき、高い感度と保存性を有することがわかる。また本発明の増感色素を用いて作製した平版印刷版は優れた耐刷性を示すこともわかる。
【０１９３】
【発明の効果】
実施例で実証した如く、本発明により、４０５ｎｍ、４８８ｎｍまたは５３２ｎｍ付近の光で書込ができ、感度の良好な画像を形成できる重合開始剤、ラジカル発生方法、重合組成物を提供することができ、これを用いて高感度且つ保存性に優れた平版印刷版材料が作製でき、且つそれによる平版印刷版は優れた耐刷性を示すことができた。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a novel polymerization initiator using a metal arene compound and a (poly) halogen compound, a polymerization composition, a radical generation method, a lithographic printing plate material, and a method for preparing a lithographic printing plate, and more particularly, to a specific sensitizing dye. Polymerization initiator using a metal arene compound and a (poly) halogen compound, a compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated double bond, is polymerized in a short time by exposure to visible light, for example, ink, photosensitive printing In the fields of plates, photoresists, direct plate materials, proof materials for plate making, hologram materials, sealants, adhesives, stereolithography materials, polymerization compositions and radicals for obtaining cured products with good physical properties It relates to a generation method, a lithographic printing plate material, and a method for producing a lithographic printing plate.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, a method has been known in which imagewise exposure is performed by using a laser to cause radical polymerization to cure an exposed portion, change physical properties with an unexposed portion, and form an image by development.
[0003]
In order to form an image, it is necessary to select a photosensitive material suitable for the wavelength of the laser light source, and a number of radical generators have been studied as radical polymerization initiators. Many do not have absorption, and are usually used in combination with a sensitizing dye adapted to the wavelength of the light source.
[0004]
Various combinations of a sensitizing dye and a radical generator (hereinafter, initiator system) corresponding to a light source of a 405 nm InGaN semiconductor laser, a 488 nm argon laser, or a 532 nm W-YAG laser are known.
[0005]
For example, certain photoreducing dyes are described as effective sensitizing dyes (see, for example, Patent Document 1), a complex initiation system of a dye and an amine (for example, see Patent Document 2), A system of imidazole and a radical generator and a dye (for example, see Patent Document 3), a system of biimidazole and a dialkylaminobenzylidene ketone (for example, see Patent Documents 4 and 5), a system of a keto-substituted coumarin compound and an active halide (For example, see Patent Document 6), a system of a substituted triazine and a merocyanine dye (see, for example, Patent Document 7), and a system of a specific cyanine dye, an iron arene, and s-triazine (see, for example, Patent Document 8). Although they have been proposed, there are problems such as low sensitivity and poor storage stability.
[0006]
[Patent Document 1]
U.S. Pat. No. 2,850,445
[0007]
[Patent Document 2]
Japanese Patent Publication No. 44-20189
[0008]
[Patent Document 3]
JP-B-45-37377
[0009]
[Patent Document 4]
JP-B-47-2528
[0010]
[Patent Document 5]
JP-A-54-155292
[0011]
[Patent Document 6]
JP-A-58-15503
[0012]
[Patent Document 7]
JP-A-54-15102
[0013]
[Patent Document 8]
JP 2002-189295 A
[0014]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made to improve the problems of the prior art. That is, a first object of the present invention is to provide a polymerization initiator having high sensitivity. A second object of the present invention is to provide a polymer composition capable of writing at around 405 nm, 488 nm, or 532 nm and forming an image with good sensitivity. A third object of the present invention is to provide a radical generation method for generating radicals with high sensitivity by light near 405 nm, 488 nm, or 532 nm. A fourth object is to provide a lithographic printing plate material having high photosensitivity in a wavelength range around 405 nm, 488 nm, or 532 nm and having excellent storage stability. A fifth object is to provide a lithographic printing plate having excellent printing durability.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
[0016]
1) A polymerization initiator comprising the compound of the general formula (I) and the compound of the general formula (II).
[0017]
2) The polymerization initiator as described in 1) above, which contains a sensitizing dye capable of absorbing light in the near ultraviolet to visible light range and sensitizing the compound of the general formula (II).
[0018]
3) at least a sensitizing dye capable of absorbing light in the near ultraviolet to visible light range and sensitizing the compound of the general formula (II) selected from the sensitizing dyes represented by the general formulas D-1 to D-7; The polymerization initiator according to the above item 2), wherein the polymerization initiator is one type of sensitizing dye.
[0019]
4) The polymerization initiator according to any one of 1) to 3) above, which contains an amine compound as a polymerization accelerator.
[0020]
5) The polymerization initiator according to any one of 1) to 4) above, which contains a sulfur compound as a polymerization accelerator.
[0021]
6) A polymerization composition comprising a compound having an ethylenically unsaturated double bond and the polymerization initiator according to any one of the above 1) to 5).
[0022]
7) A radical generation method, which comprises exposing the polymerization initiator according to any one of the above 1) to 405 nm, 488 nm or 532 nm laser light.
[0023]
8) A lithographic printing plate material comprising at least a photosensitive layer and a protective layer provided in this order on a hydrophilic support, characterized in that the photosensitive layer contains a binder component and the polymer composition described in 6) above. And planographic printing plate material.
[0024]
9) In the method of preparing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate material as described in 8) above, the photosensitive layer is subjected to imagewise scanning exposure with laser light having a wavelength of 405 nm, 488 nm or 532 nm, and then the protective layer and A method for preparing a lithographic printing plate, comprising eluting and removing an unexposed portion of a photosensitive layer.
[0025]
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
First, the compound represented by formula (I) will be described.
[0026]
In the general formula (I), Z¹¹And Z¹²Each independently represents a halogen atom. The halogen atom may be any of fluorine, chlorine, bromine and iodine. Z¹¹And Z¹²Is more preferably a chlorine atom and a bromine atom or both are chlorine atoms, or both are bromine atoms, and most preferably both are chlorine atoms. In the general formula (I), X¹¹Is a hydrogen atom or an electron-withdrawing group. The electron-withdrawing group referred to herein is a substituent whose Hammett's substituent constant [sigma] p can take a positive value, for example, a cyano group, an alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, or a 7 to 7 carbon atoms. An arylcarbonyl group having 30 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, and may be substituted with an alkyl having 1 to 30 carbon atoms. A sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, an arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, a halogen atom, an acyl group, a heterocyclic group, etc., which may further have a substituent, M¹¹And a ring structure bonded thereto.
[0027]
In the general formula (I), X¹¹Is preferably a halogen atom, more preferably a chlorine atom or a bromine atom. In the general formula (I), Z¹¹, Z¹²And X¹¹Are more preferably all chlorine atoms or all bromine atoms, and most preferably all chlorine atoms. In the general formula (I), Y¹¹Is -NR¹¹S (= O)₂-Or -NR¹²CO- or -NHS (= O)-or -S (= O)₂— Or —CO— or —S (＝ O) —;¹¹And R¹²Represents a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is not particularly limited in the present invention. Examples of the substituent include an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and an isopropyl group). , Isobutyl group, isopentyl group, tert-butyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, 2-propenyl group, 3- Butenyl group), cycloalkenyl group (eg, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, etc.), alkynyl group (eg, 2-propynyl group, 3-butynyl group, etc.), and the like. You may have. R¹¹, R¹²Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom. Y¹¹Is preferably -NR¹¹S (= O)₂-Or -NR¹²CO- or -S (= O)₂-Or -CO-, more preferably -NR¹¹S (= O)₂-Or -NR¹²CO-, most preferably -NR¹²CO-.
[0028]
In the general formula (I), L¹¹Represents an alkylene group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms);¹²Is -O-, -S-, -NR^Thirteen—, —CO—, an alkylene group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms), and an arylene group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably A group formed of 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 10 carbon atoms), or a combination thereof, which may further have a substituent;¹¹Carbon at any position of and Y¹¹R in¹¹Or R¹²May combine to form a ring. R^ThirteenRepresents a hydrogen atom or a substituent;¹¹, R¹²And is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom. L¹²Is preferably an alkylene group, -NR^Thirteen-, -CO-, -O- and a combination thereof. In the general formula (I), n12 is 0 or 1, and preferably 0.
[0029]
In the general formula (I), M¹¹Represents a hydrogen atom or an n11-valent substituent, and when n11 = 2, may be a mere bond. M¹¹Represents an n11-valent substituent, the substituent is not particularly limited in the present invention.¹¹Represents a monovalent substituent, examples of which include an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, an isopentyl group, a tert-butyl group, etc.), a cycloalkyl group (Eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, etc.), cycloalkenyl group (eg, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group) Group), an alkalkynyl group (eg, a 2-propynyl group, a 3-butynyl group, etc.), an aryl group (eg, a phenyl group, a naphthyl group, etc.), an aralkyl group (eg, a benzyl group, a phenethyl group, etc.), a heterocyclic ring Groups (eg, 1-imidazolyl group, 1-pyrazolyl group, 1-benzimidazo , A 1-indazolyl group, a 1-benzotriazolyl group, etc., a hydroxyl group, an alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, a tert-butoxy group, an ethyleneoxy or propyleneoxy unit). Group), an aryloxy group (eg, phenoxy group, naphthoxy group, etc.), an acyloxy group (eg, acetyloxy group, propanoyloxy group, benzoyloxy group, etc.), a heterocyclic oxy group (eg, pyridyloxy group, tetrahydrofura) An acyl group (eg, acetyl group, propanoyl group, benzoyl group, etc.), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, etc.), an aryloxycarbonyl group (eg, Phenoxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (eg, unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, etc.), urethane group (eg, methoxycarbonylamino group) Group, ethoxycarbonylamino group, etc.), carboxyl group, imide group, amino group (eg, unsubstituted amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, anilino group, anisidino group, toluidino group, etc.), acylamino Group (eg, acetamido group, propanoylamino group, benzoylamino group, etc.), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, butanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), ureido group, thioureido group, sulfa Moylamino group, alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, isopropylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), heterocyclic thio group (eg, benzothiazol-2-ylthio group, 1- Phenyltetrazol-5-ylthio group), alkylsulfonyl group (eg, methanesulfonyl group, propanesulfonyl group, octanesulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (eg, benzenesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), halogen atom (chlorine atom) , A fluorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a nitro group and the like, and more preferable substituents are an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, and a heterocyclic ring. Group, al Alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a halogen atom, may have these groups further substituted. Preferably it is an alkyl group.
[0030]
M¹¹Is a divalent substituent, the substituent is not particularly limited in the present invention.¹¹Is a monovalent substituent, one having a substitutable bonding position, and one-(L¹²)_n12-L¹¹-Y¹¹-CZ¹¹Z¹²X¹¹May be substituted. M¹¹Is a divalent substituent, preferably an alkylene group (preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms), an arylene group (preferably carbon Number 6 to 30, more preferably 6 to 20, particularly preferably 6 to 10), -O-, -S-, -NR¹⁴-, -NR^FifteenS (= O)₂-, -NR¹⁶CO-, -NHS (= O)-, -S (= O)₂-, -CO- or -S (= O)-, and a divalent group (R¹⁴To R¹⁶Is R¹¹To R^ThirteenAnd the same groups as those described above.¹¹May have the same substituents as the examples of the substituents. Also, M¹¹Is just a bond, CZ¹¹Z¹²X¹¹-Y¹¹-L¹¹− (L¹²)_n12− (L¹²)_n12-L¹¹-Y¹¹-CZ¹¹Z¹²X¹¹It may be. In this case, two-(L¹²)_n12-L¹¹-Y¹¹-CZ¹¹Z¹²X¹¹May be the same or different. M¹¹Is a divalent substituent, more preferably an alkylene group or a mere bond.
[0031]
M¹¹Is a trivalent to hexavalent substituent, the substituent is not particularly limited in the present invention.¹¹Is a monovalent substituent, of those having a substitutable bonding position,-(L¹²)_n12-L¹¹-Y¹¹-CZ¹¹Z¹²X¹¹Is a substitution of 2 to 5¹¹Is the monovalent M described above.¹¹May have the same substituents as the examples of the substituents. M¹¹Preferred examples of the trivalent to hexavalent substituents include preferably 3 to 6 substituted alkyl groups, 3 to 6 substituted aryl groups, nitrogen, tertiary and quaternary carbons. M¹¹May have the same substituents as the examples of the substituents. M¹¹Is a trivalent to hexavalent substituent. More preferred examples are a tri- to hexa-substituted alkyl group, nitrogen, tertiary and quaternary carbon. When n11 is 2 to 6, 2 to 6-(L¹²)_n12-L¹¹-Y¹¹-CZ¹¹Z¹²X¹¹May be the same or different.
[0032]
Next, examples of the compound of the general formula (I) will be described.
[0033]
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[0034]
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[0035]
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[0036]
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[0037]
The compound of the general formula (I) can be synthesized by a usual organic synthesis reaction known to those skilled in the art. For example, it can be synthesized according to the method described in JP-A-2001-305694, pp. 19-20.
[0038]
Next, the compound represented by the general formula (II) will be described. The compound represented by the general formula (II) is a compound generally known as a π-bonded organometallic compound, in which a π electron of an aromatic hydrocarbon compound, an aromatic heterocyclic compound or an unsaturated compound and a metal are formed. π-bonded compound.
[0039]
In the general formula (II), Z²¹Represents a π arene, and the π arene is an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon compound or aromatic heterocyclic compound, and may be a monocyclic ring or a condensed polycyclic ring. Preferred examples of the aromatic hydrocarbon compound include benzene, naphthalene, anthracene, pyrene, and fluorene.Examples of the aromatic heterocyclic compound include pyrrole, imidazole, pyrazole, oxazole, thiazole, oxadiazole, and thiadiazole. And heterocyclic compounds derived from 5- or 6-membered heterocycles such as benzimidazole, pyridine, furan, thiophene, chroman, coumarin, pyrrolidine, piperidine, morpholine, sulfolane, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, thioxanthene and xanthene. The aromatic hydrocarbon compound or the aromatic heterocyclic compound described above may have a substituent. As the substituent, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl group, Isopropyl group, isobutyl group, isopentyl group, tert-butyl group, etc., cycloalkyl group (eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, etc., cycloalkenyl group (eg, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, etc.), alkynyl group (eg, 2-propynyl group, 3-butynyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group) Aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, etc.), heterocyclic group (eg, 1-imidazolyl group, 1-pyrazolyl group, 1-benzimidazolyl group, 1-indazolyl group, 1-benzotriazolyl group) ), Hydroxyl groups, alkoxy groups (eg, methoxy , An ethoxy group, an isopropoxy group, a tert-butoxy group, a group repeatedly containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, an aryloxy group (for example, a phenoxy group, a naphthoxy group, and the like), an acyloxy group (for example, an acetyloxy group, A noyloxy group, a benzoyloxy group, a heterocyclic oxy group (eg, a pyridyloxy group, a tetrahydrofuranyloxy group, etc.), an acyl group (eg, an acetyl group, a propanoyl group, a benzoyl group, etc.), an alkoxycarbonyl group (eg, Methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, etc., aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (eg, unsubstituted carbamoyl group, methyl Rucarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, etc.), urethane group (eg, methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, etc.), carboxyl group, imide group, amino group (eg, unsubstituted amino group) , Ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, anilino group, anisidino group, toluidino group, etc., acylamino group (eg, acetamido group, propanoylamino group, benzoylamino group, etc.), sulfonamide group (eg, methane Sulfonamide group, butanesulfonamide group. Benzenesulfonamide group, etc.), ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, isopropylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), complex Ring thio group (eg, benzothiazol-2-ylthio group, 1-phenyltetrazol-5-ylthio group), alkylsulfonyl group (eg, methanesulfonyl group, propanesulfonyl group, octanesulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (eg, , A benzenesulfonyl group, a toluenesulfonyl group, etc.), a halogen atom (eg, a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a nitro group and the like. More preferred substituents are an alkyl group, a cycloalkyl group , Alkenyl , Cycloalkenyl, alkynyl, aryl, aralkyl, heterocyclic, alkoxy, aryloxy, alkylthio, arylthio, heterocyclic thio, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, and halogen atoms it can.
[0040]
R²¹Represents a substituent, and as the substituent, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, an isopentyl group, a tert-butyl group, etc.), a cycloalkyl group (for example, Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc., alkenyl group (eg, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, etc.), cycloalkenyl group (eg, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, etc.) Alkynyl group (eg, 2-propynyl group, 3-butynyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, etc.), heterocyclic group (eg, 1-imidazolyl group, 1-pyrazolyl group, 1-benzimidazolyl group, 1- A dazolyl group, a 1-benzotriazolyl group, etc.), a hydroxyl group, an alkoxy group (eg, a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, a tert-butoxy group, a group repeatedly containing ethyleneoxy or propyleneoxy units, etc.), aryl Oxy group (phenoxy group, naphthoxy group, etc.), acyloxy group (eg, acetyloxy group, propanoyloxy group, benzoyloxy group, etc.), heterocyclic oxy group (eg, pyridyloxy group, tetrahydrofuranyloxy group, etc.), acyl Groups (eg, acetyl group, propanoyl group, benzoyl group, etc.), alkoxycarbonyl groups (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl groups (eg, phenoxycarbonyl group) Carbamoyl group (eg, unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, etc.), alkylcarbonyl group (eg, methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group) Group, n-propylcarbonyl group, isopropylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, 2-ethylhexanoyl group, stearyl group, etc., arylcarbonyl group (for example, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, etc.) ), Urethane groups (eg, methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, etc.), carboxyl groups, imide groups, amino groups (eg, unsubstituted amino groups, ethylamino groups, dimethylamino groups, butylamino groups) , Anilino group, anisidino group, toluidino group, etc.), acylamino group (eg, acetamido group, propanoylamino group, benzoylamino group, etc.), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, butanesulfonamide group). Benzenesulfonamide group, etc.), ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, isopropylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), complex Ring thio group (eg, benzothiazol-2-ylthio group, 1-phenyltetrazol-5-ylthio group), alkylsulfonyl group (eg, methanesulfonyl group, propanesulfonyl group, octanesulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (eg, , A benzenesulfonyl group, a toluenesulfonyl group, etc.), a halogen atom (a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a nitro group and the like. More preferred substituents are an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl Group, shiku Alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a halogen atom.
[0041]
n21 represents an integer of 0 to 5, preferably 0 to 3, and more preferably 0 or 1. n21 is 2 to 5 R²¹May be the same or different, and may form a ring.
[0042]
M²¹Represents a metal cation selected from Ti (II), Co (II), Mn (II), Fe (II), Bi (II) and Sb (II), preferably Co (II), Fe (II) And more preferably Fe (II). A²¹Is BF₄, PF₆, AsF₆, SbF₆, FeCl₄, SnCl₆, SbCl₆And BiCl₆And represents a monovalent anion selected from the group consisting of₄, PF₆, AsF₆, SbF₆, FeCl₄, More preferably BF₄, PF₆It is.
[0043]
Next, examples of the compound of the general formula (II) will be described.
[0044]
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[0045]
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[0046]
The compound of the general formula (II) can be synthesized by a usual organic synthesis reaction known to those skilled in the art. For example, J. Photochem. Photobiol. A: Chem. , 77 (1994) 269-276.
[0047]
Next, a sensitizing dye capable of absorbing light in the near ultraviolet to visible region and sensitizing the compound of the general formula (II) will be described. The light in the near-ultraviolet to visible region is a light in a wavelength range of 300 nm to 700 nm, more preferably a light beam in a wavelength range of 350 nm to 650 nm, and still more preferably the light source wavelength of a laser exposure apparatus (second harmonic of a semiconductor laser). Wave (SHG-LD, 350-600 nm), YAG-SHG laser, He-Ne laser (633, 543, 364 nm), Ar laser (515, 488 nm), FD-YAG laser (532 nm), InGaN semiconductor laser (360-600 nm) 450 nm, especially 405 nm)).
[0048]
The sensitizing dye capable of sensitizing the compound of the general formula (II) of the present invention is a sensitizing dye that absorbs light in the above-mentioned wavelength range to be in an excited state and then interacts with the compound of the general formula (II) by some kind of interaction. It is a sensitizing dye capable of inducing radical generation from the compound of the general formula (II). The sensitizing dye of the present invention is not particularly limited as long as it is a sensitizing dye exhibiting the above-mentioned interaction. Preferred examples thereof include a cyanine dye, a merocyanine dye, a coumarin dye, a ketocoumarin dye, and (thio) dye. Xanthene dye, acridine dye, thiazole dye, thiazine dye, oxazine dye, azine dye, aminoketone dye, squarylium dye, pyridinium dye, (thia) pyrylium dye, porphyrin dye, triarylmethane dye, (poly) methine dye, aminostyryl compound And aromatic polycyclic hydrocarbons, boron complex dyes, metal complex dyes, azo dyes, quinoline dyes, anthraquinone dyes, stilbene dyes, and the like.
[0049]
As more preferred examples, sensitizing dyes represented by formulas D-1 to D-7 will be described below.
[0050]
In the compound represented by the general formula D-1, R^D11~ R^D15And R^D17As the alkyl group, one having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl and t-butyl can be used, and as the aryl group, one having 1 to 10 carbon atoms such as phenyl can be used. As the alkoxy group, those having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy, ethoxy and butoxy can be used.
[0051]
Also R^D11~ R^D14Examples of the amino group include alkylamino and arylamino groups having 1 to 20 carbon atoms, such as methylamino, dimethylamino, diethylamino, diphenylamino, piperidino, and morpholino.
[0052]
These alkyl group, aryl group, alkoxy group, alkylamino group, arylamino group may have a substituent, for example, fluorine, chlorine, halogen atoms such as bromine, alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl group, Examples include alkoxy groups such as methoxy and ethoxy, aryl groups such as phenyl, and cyano groups. R^D11~ R^D14Forms a ring composed of a nonmetallic atom together with a carbon atom bonded thereto, examples of the structure containing a ring include those shown in the following (A), (B) and (C).
[0053]
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[0054]
R^D15, R^D17Examples of the alkenyl group include those having 2 to 10 carbon atoms, such as a styryl group, and those having the following (D) to (H) in the case of a heteroaromatic group.
[0055]
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[0056]
These heteroaromatic groups may also have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom such as fluorine, chlorine, and bromine; an alkylamino group having 1 to 20 carbon atoms such as dimethylamino, diethylamino and diphenylamino; an arylamino group; an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; There are several to six alkoxy groups. Also R^D15, R^D16And may form a ring together with a carbon atom capable of bonding thereto. Examples include the structure shown in (J) below.
[0057]
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[0058]
X^D1Is a nitrogen having a substituent, the substituent includes R^D11~ R^D15And R^D17The same ones as the alkyl group and the aryl group described above can be used. Y^D1Is an oxygen atom or a structure of the formula^D11, G^D12Are the same or different hydrogen atoms, a cyano group, an alkoxycarbonyl group having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group having an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenoxycarbonyl group, An acetyl group, a propionyl group such as an acyl group having 1 to 6 carbon atoms, a benzoyl group, an arylcarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms, a methylthio group, an ethylthio group or the like, an alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms, a phenylthio group or the like. Represents an arylsulfonyl group having 6 to 10 carbon atoms such as an arylthio group or a phenylsulfonyl group; an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methylsulfonyl group or an ethylsulfonyl group; or a fluorosulfonyl group. . These alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, arylcarbonyl group, alkylthio group, arylthio group, arylsulfonyl group, and alkylsulfonyl group may have a substituent. As the substituent, a halogen atom such as chlorine, an alkoxycarbonyl group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a carboxy group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, And a cyano group. Further, in the case of an aryloxycarbonyl group, an arylcarbonyl group, an arylthio group or an arylsulfonyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group can be used in addition to the above substituents.
[0059]
G^D11And G^D12When a ring consisting of a nonmetallic atom is formed together with the carbon atom to which it is bonded, the ring is usually used as an acidic nucleus in a merocyanine dye, and examples thereof include the following.
[0060]
(A) 1,3-dicarbonyl nucleus, for example, 1,3-indandione, 1,3-cyclohexanedione, 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione, 1,3-dioxane-4,6- Zion.
[0061]
(B) pyrazolinone nucleus, for example, 3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1- (2-benzothiazoyl) -3-methyl- 2-pyrazolin-5-one.
[0062]
(C) isoxazolinone nucleus, for example, 3-phenyl-2-isoxazolin-5-one, 3-methyl-2-isoxazolin-5-one.
[0063]
(D) Oxindole nucleus, for example, 1-alkyl-2,3-dihydro-2-oxindole.
[0064]
(E) 2,4,6-triketohexahydropyrimidine nucleus, for example, barbituric acid or 2-thiobarbituric acid and its derivatives. As derivatives, 1-alkyl compounds such as 1-methyl and 1-ethyl, 1,3-dialkyl compounds such as 1,3-diethyl and 1,3-dibutyl, 1,3-diphenyl, 1,3-di (p -Chlorophenyl), 1,3-diaryl such as 1,3-di (p-ethoxycarbonylphenyl), and 1-alkyl-3-aryl such as 1-ethyl-3-phenyl.
[0065]
(F) 2-thio-2,4-thiazolidinedione nucleus, for example, rhodanine and its derivatives. Derivatives include 3-alkylrhodanines such as 3-ethylrhodanine and 3-allylrhodanine, and 3-arylrhodanines such as 3-phenylrhodanine.
[0066]
(G) 2-thio-2,4-oxazolidinedione (2-thio-2,4- (3H, 5H) -oxazoledione) nucleus, for example, 2-ethyl-2-thio-2,4-oxazolidinedione is there.
[0067]
(H) Thianaphthenone nuclei, for example, 3 (2H) -thianaphthenone and 3 (2H) -thianaphthenone-1,1-dioxide.
[0068]
(I) 2-thio-2,5-thiazolidinedione nucleus, for example, 3-ethyl-2-thio-2,5-thiazolidinedione.
[0069]
(J) 2,4-thiazolidinedione nucleus, for example, 2,4-thiazolidinedione, 3-ethyl-2,4-thiazolidinedione, 3-phenyl-2,4-thiazolidinedione.
[0070]
(K) Thiazolidinone nucleus, for example, 4-thiazolidinone, 3-ethyl-4-thiazolidinone.
[0071]
(L) 4-thiazolidinone nucleus, for example, 2-ethylmercapto-5-thiazolin-4-one, 2-alkylphenylamino-5-thiazolin-4-one.
[0072]
(M) 2-imino-2-oxazolin-4-one (coagulation hydantoin) nucleus.
[0073]
(N) 2,4-Imidazolidinedione (hydantoin) nucleus, for example, 2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2,4-imidazolidinedione.
[0074]
(O) 2-thio-2,4-imidazolidinedione (2-thiohydantoin) nucleus, for example, 2-thio-2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2-thio-2,4-imidazolidine Zion.
[0075]
(P) 2-imidazolin-5-one nucleus, for example, 2-n-propyl-mercapto-2-imidazolin-5-one.
[0076]
(Q) Furan-5-one.
Specific examples of the compound represented by Formula D-1 used in the present invention are shown below.
[0077]
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[0078]
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[0079]
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[0080]
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[0081]
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[0082]
Of these, (D-112), (D-113), (D-116), (D-117), (D-121), (D-138), (D-139), and (D-112) are preferable. 140), (D-141) and (D-142).
[0083]
In the general formula D-2, R^D21~ R^D27Each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group, which may have a substituent, and examples of the substituent include the aforementioned R²¹Represents a group having the same meaning as R^D21~ R^D27May combine with each other to form a ring. X^D21Represents a hydroxyl group or a salt of a hydroxyl group, an amino group, and the salt of the hydroxyl group is not particularly limited in the present invention, but may be a monovalent cation, and is preferably an alkali metal salt, more preferably a Na salt or a K salt. is there.
[0084]
X^D22Represents an oxygen atom or a structure of the formula^D28, R^D29Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group or an aryl group, and may be bonded to each other to form a ring; these may have a substituent, and examples of the substituent are described above. R²¹Represents a group having the same meaning as A^D2Represents a counter anion, and in the present invention, the counter anion is not particularly limited, and examples thereof include a halogen ion, a sulfonate ion, a carboxylate ion, a phosphate ion, a nitrate ion, and more preferably a halogen ion. More preferably, they are Cl ion, Br ion or I ion. Y^D21Is -C (= O) -R^D210, -S (= O)₂-R^D211, -P (= O)₂-R^D212And R^D210To R^D212Is -OM^D21Or, it represents a monovalent substituent. M^D21Represents an alkali metal, preferably a Na salt or a K salt. R^D210To R^D212Represents a monovalent substituent, examples of the substituent include the aforementioned R²¹And more preferably a hydroxyl group, an alkoxy group, or an alkylamino group.
[0085]
nd21 represents an integer of 1 to 4, and 2 to 4 R^D27May be the same or different, and may form a ring.
[0086]
Hereinafter, examples of the compound represented by Formula D-2 are shown.
[0087]
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[0088]
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[0089]
In the general formula D-3, Ar^D3Represents an aryl group;^D31, R^D32Each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group, and may combine with each other to form a ring composed of a carbon atom and a nonmetal atom, and these have a substituent. And examples of the substituent include the above-described R.²¹Represents a group having the same meaning as X^D31Represents a hydroxyl group or a salt of a hydroxyl group, or an amino group. The salt of the hydroxyl group is not particularly limited in the present invention, but may be any monovalent cation, and is preferably an alkali metal salt, more preferably an Na salt or a K salt. It is.
[0090]
X^D32Represents an oxygen atom or the structure of the chemical formula 8,^D33, R^D34Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group or an aryl group, and may be bonded to each other to form a ring; these may have a substituent, and examples of the substituent are described above. R²¹Represents a group having the same meaning as A^D3Represents a counter anion, and in the present invention, the counter anion is not particularly limited, and examples thereof include a halogen ion, a sulfonate ion, a carboxylate ion, a phosphate ion, and a nitrate ion. And more preferably Cl ion, Br ion or I ion, p-toluenesulfonate ion, or benzenesulfonate ion.
[0091]
nd31 and nd32 each independently represent an integer of 1 to 4, and 2 to 4 R^D31, R^D32May be the same or different, and may form a ring.
[0092]
Hereinafter, examples of the compound represented by Formula D-3 are shown.
[0093]
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[0094]
In the general formula D-4, Y^D41Represents a group necessary for forming a dye, and a group necessary for forming a dye is not particularly limited in the present invention.
[0095]
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[0096]
Alternatively, a 5- or 6-membered heterocyclic ring can be mentioned. Examples of A and B include a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an arylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylcarbonyl group, an aromatic ring group, a heterocyclic group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a cyano group, and a nitro group. These may further have a substituent and may form a saturated or unsaturated condensed ring.
[0097]
Y^D42Represents a 5- or 6-membered heterocyclic ring. Y^D41, Y^D42In the present invention, there is no particular limitation in the case where represents a 5- or 6-membered heterocyclic ring. (19), (20), (21), a 5- or 6-membered ring portion described in (22), a structure described in paragraphs [0052] to [0055] of JP-A-2002-189295, and the like. Can be mentioned.
[0098]
These may further have a condensed ring, and may have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned R.²¹Represents a group having the same meaning as L^D41, L^D42Each independently represents a methine group, and the methine group may have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned R²¹Represents a group having the same meaning as
[0099]
nd4 represents an integer of 0 to 2, and is preferably 0 or 1.
Hereinafter, examples of the compound represented by Formula D-4 are shown.
[0100]
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[0101]
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[0102]
In the general formula D-5, Y^D51Represents a 5- or 6-membered heterocyclic ring, and these 5- or 6-membered heterocyclic rings are not particularly limited in the present invention. Pp. 195 to 198, pp. 199, Table 8.2, pp. 200, pp. 203, Table 8.3, the structure of the 5- or 6-membered ring portion, paragraph No. [0052] of JP-A-2002-189295. To [0055].
[0103]
Y^D52Is a 5- or 6-membered heterocyclic ring or N (R^D51) R^D52, OR^D53, Or S (O)_nd52R^D54Wherein the 5- or 6-membered heterocyclic ring is Y^D51Represents a group having the same meaning as^D51, R^D52, R^D53, R^D54Each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, and the substituent is the above-mentioned R²¹Represents a group having the same meaning as L^D51, L^D52Each independently represents a methine group, and the methine group may have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned R²¹Represents a group having the same meaning as
[0104]
nd51 represents an integer of 0 to 3, and is preferably 0 or 1. nd52 represents 0 or 1 or 2. When the general formula D-5 represents a salt,^D5Represents an anion necessary for neutralizing the charge, for example, a halogen ion (Cl⁻, Br⁻, I⁻), P-toluenesulfonate ion, ethylsulfate ion, 1,5-disulfonaphthalenedianione, PF₆ ⁻, BF₄ ⁻, And ClO₄ ⁻And the like. Also, A^D5Is Y^D51Or Y^D52May be covalently bonded to any position of the above, in which case the compound represented by the formula D-5 forms an internal salt.
[0105]
The compound examples of the compound represented by Formula D-5 are shown below.
[0106]
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[0107]
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[0108]
In the general formula D-6, R^D61~ R^D64Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, which may have a substituent; Examples of the substituent include R described above.²¹Represents a group having the same meaning as R^D65Represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, and examples of the substituent include the aforementioned R²¹Represents a group having the same meaning as X^D61, X^D62Each independently represents a halogen atom, more preferably fluorine.
[0109]
Y^D61, Y^D62Is an oxygen atom, a sulfur atom, -NR^D66-Group, -CR^D67R^D68-Group or -CR^D69= CR^D610-Represents a group. Where R^D66~ R^D68Each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group or a heterocyclic group, which may have a substituent, and examples of the substituent include R described above²¹Represents a group having the same meaning as R^D69, R^D610Represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, and examples of the substituent include the aforementioned R²¹Represents a group having the same meaning as
[0110]
R^D61And R^D62, R^D61And Y^D61R on^D69Or R^D610, R^D63And R^D64Or R^D64And Y^D62R on^D69Or R^D610May combine with each other to form a ring.
[0111]
Hereinafter, examples of the compound represented by Formula D-6 will be shown.
[0112]
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[0113]
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[0114]
In the general formula D-7, R^D71~ R^D73Each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, which may have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned R²¹Represents a group having the same meaning as X^D71, X^D72Each independently represents a halogen atom, more preferably fluorine. R^D71And R^D72, R^D72And R^D73Are preferably bonded to each other to form a ring, and the ring is preferably an aromatic ring or a heterocyclic ring. A preferable example of the aromatic ring or the heterocyclic ring is preferably benzene as the aromatic hydrocarbon compound. , Naphthalene, anthracene, pyrene, fluorene, and the like. Examples of the aromatic heterocyclic compound include pyrrole, imidazole, pyrazole, oxazole, thiazole, oxadiazole, thiadiazole, benzimidazole, pyridine, furan, thiophene, and chroman. And heterocyclic compounds derived from 5- or 6-membered heterocycles such as coumarin, pyrrolidine, piperidine, morpholine, sulfolane, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, thioxanthene, xanthene, pyran, thiopyran and quinoline. Aromatic hydrocarbon compounds described above or an aromatic heterocyclic compound may have a substituent group, the above-described for the substituent R²¹And groups having the same meanings as those described above.
[0115]
The compound examples of the compound represented by the formula D-7 are shown below.
[0116]
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[0117]
The content of the compound (I) of the present invention is 0.05 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. is there.
[0118]
Compound (I) of the present invention can be suitably used alone or in combination of two or more. The content of the compound (II) of the present invention is 0.05 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. is there. Compound (II) of the present invention can be suitably used alone or in combination of two or more.
[0119]
The content of the sensitizing dye capable of absorbing light in the near ultraviolet to visible region and sensitizing the compound of the general formula (II) of the present invention is 100 parts by mass of a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. The amount is 0.05 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 20 parts by mass.
[0120]
The sensitizing dye of the present invention, which absorbs light in the near ultraviolet to visible region and can sensitize the compound of the general formula (II), can be suitably used alone or in combination of two or more. The polymerization initiator and the polymerization composition of the present invention preferably contain a polymerization accelerator.
[0121]
As the polymerization accelerator, it is possible to add a polymerization accelerator represented by an amine compound or a sulfur compound (thiol, disulfide, etc.), a chain transfer catalyst, or the like.
[0122]
Specific examples of the polymerization accelerator and the chain transfer catalyst that can be added to the polymerization composition of the present invention include, for example, amines such as triethanolamine and N, N-diethylaniline, and US Pat. No. 4,414,312. And thiols described in JP-A-64-13144, disulfides described in JP-A-2-29161, and thiones described in U.S. Pat. No. 3,558,322 and JP-A-64-17048. And o-acylthiohydroxamates and N-alkoxypyridinethiones described in JP-A-2-21560. Particularly preferably, the amine compound is N, N-diethylaniline, and the sulfur compound is 2-mercaptobenzothiazole.
[0123]
Further, the polymerization initiator and the polymerization composition of the present invention have higher sensitivity by containing an amino acid derivative represented by the following general formula (XXVI).
[0124]
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[0125]
Where R₁~ R₅Represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, and examples of the monovalent substituent include an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, an isopentyl group, a tert- group). Butyl group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (eg, 1-imidazolyl group, 1 -Pyrazolyl group, 1-benzimidazolyl group, 1-indazolyl group, 1-benzotriazolyl group, etc., hydroxyl group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group, ethyleneoxy) Or an aryloxy group (for example, a phenoxy group, a naphthoxy group, etc.) Group), acyloxy group (eg, acetyloxy group, propanoyloxy group, benzoyloxy group, etc.), heterocyclic oxy group (eg, pyridyloxy group, tetrahydrofuranyloxy group, etc.), acyl group (eg, acetyl group, Propanoyl group, benzoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group ( For example, an unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, etc., urethane group (for example, methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, etc.) ), Carboxyl group, imide group, amino group (for example, unsubstituted amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, anilino group, anisidino group, toluidino group, etc.), acylamino group (for example, acetamido group, A propanoylamino group, a benzoylamino group, a sulfonamide group (eg, a methanesulfonamide group, a butanesulfonamide group, a benzenesulfonamide group, etc.), a ureido group, a thioureido group, a sulfamoylamino group, an alkylthio group (eg, , Methylthio, ethylthio, isopropylthio, etc.), arylthio (eg, phenylthio, naphthylthio, etc.), heterocyclic thio (eg, benzothiazol-2-ylthio, 1-phenyltetrazol-5-ylthio) ), Alkylsulfonyl Groups (eg, methanesulfonyl group, propanesulfonyl group, octanesulfonyl group, etc.), arylsulfonyl groups (eg, benzenesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), halogen atoms (eg, chlorine atom, fluorine atom, bromine atom, etc.), Examples include a cyano group and a nitro group.
[0126]
R₆Is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, isopropyl, isobutyl, isopentyl, tert -Butyl group, 2-ethylhexyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 4-hexenyl group, etc., cycloalkenyl group (eg, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, etc.), alkynyl group (eg, , 2-propynyl group, 3-butynyl group, etc.), aryl group (for example, A phenyl group, a naphthyl group, an aralkyl group (eg, a benzyl group, a phenethyl group, etc.) or a heterocyclic group (eg, a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an oxadiazole ring, a thiadiazole ring, It is derived from a 5- or 6-membered heterocycle such as a benzimidazole ring, a pyridine ring, a furan ring, a thiophene ring, a chroman ring, a coumarin ring, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a morpholine ring, a sulfolane ring, a tetrahydrofuran ring, and a tetrahydropyran ring. A heterocyclic group).
[0127]
R₇, R₈Is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, isopropyl, isobutyl, isopentyl, tert -Butyl group, 2-ethylhexyl group, etc.) and cycloalkyl group (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.).
[0128]
R₉Is a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted alkyl group (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, isopropyl, isobutyl, isopentyl, tert -Butyl group, 2-ethylhexyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 4-hexenyl group, etc., cycloalkenyl group (eg, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, etc.), alkynyl group (eg, , 2-propynyl group, 3-butynyl group, etc.), aryl group (for example, Phenyl group, naphthyl group, etc., aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, etc.) or heterocyclic group (eg, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, oxazole ring, thiazothiazole ring, oxadiazole ring, thiadiazole From 5- or 6-membered heterocycles such as rings, benzimidazole rings, pyridine rings, furan rings, thiophene rings, chroman rings, coumarin rings, pyrrolidine rings, piperidine rings, morpholine rings, sulfolane rings, tetrahydrofuran rings and tetrahydropyran rings Derived heterocyclic group).
[0129]
R₆~ R₉Examples of the substituent include an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, an isopentyl group, and a tert-butyl group), and an alkenyl group (for example, a vinyl group, -Propenyl group, 3-butenyl group, etc.), alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, isobutyl group, isopentyl group, tert-butyl group, etc.), hydroxyl group, alkoxy group ( For example, a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, a tert-butoxy group, a group repeatedly containing an ethyleneoxy or propyleneoxy unit, an aryloxy group (a phenoxy group, a naphthoxy group, and the like), an acyloxy group (for example, an acetyloxy group) , Propanoyloxy and benzoyloxy groups ), A heterocyclic oxy group (eg, pyridyloxy group, tetrahydrofuranyloxy group, etc.), an acyl group (eg, acetyl group, propanoyl group, benzoyl group, etc.), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, Isopropoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (eg, unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, butylcarbamoyl) Group), urethane group (eg, methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, etc.), carboxyl group, imide group, amino group (eg, unsubstituted amino group, ethylamino group, dimethylamino group) Group, butylamino group, anilino group, anisidino group, toluidino group, etc.), acylamino group (eg, acetamido group, propanoylamino group, benzoylamino group, etc.), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, butanesulfonamide) Benzenesulfonamide group), ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, isopropylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.) A heterocyclic thio group (eg, benzothiazol-2-ylthio group, 1-phenyltetrazol-5-ylthio group, etc.), an alkylsulfonyl group (eg, methanesulfonyl group, propanesulfonyl group, octanesulfonyl group, etc.), aryls Examples include a rufonyl group (for example, a benzenesulfonyl group, a toluenesulfonyl group, and the like), a halogen atom (a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, and the like), a cyano group, and a nitro group.
[0130]
The content of the amino derivative is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. . When the content is less than 0.01 part by mass, the photocurability is insufficient, and when the content exceeds 50 parts by mass, the photocurability is rather lowered, which is not preferable.
[0131]
Specific examples of such amino acid derivatives include, for example, N-phenylglycine, N- (p-methylphenyl) glycine, N- (p-acetylphenyl) glycine, N- (m-acetylphenyl) glycine, and N-phenylglycine. (P-trifluoromethylphenyl) glycine, N- (m-trifluoromethylphenyl) glycine, N- (p-methoxyphenyl) glycine, N- (m-methoxyphenyl) glycine, N- (p-methoxycarbonylphenyl) ) Glycine, N- (m-chlorophenyl) glycine, N- (o-chlorophenyl) glycine, N- (p-fluorophenyl) glycine, N- (p-cyanophenyl) glycine, N- (m-cyanophenyl) glycine , N-methyl-N-phenylglycine and the like.
[0132]
The polymerization initiator of the present invention may further contain another radical generator.
As the radical generator, preferably, a halide (α-haloacetophenones, trichloromethyltriazines, etc.), an azo compound, an aromatic carbonyl compound (benzoin esters, ketals, acetophenones, o-acyloxyimino ketones, acylphosphine) Oxides), hexaarylbisimidazole compounds, peroxides, titanocene compounds and the like.
[0133]
Organic peroxides described in JP-A-59-1504 and JP-A-61-240807 can be used as the peroxide.
[0134]
Specific compounds include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, and acetyl peroxide. , Propionyl peroxide, isobutyl peroxide, octanoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl, decanoyl peroxide, uraroyl peroxide, benzoyl peroxide, benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, Diacids such as 2,4-dichlorobenzoyl peroxide and acetylcyclohexanesulfonyl peroxide Peroxides, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, p-methane hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 1,1,3, Hydroperoxides such as 3-tetramethylbutyl hydroperoxide, di-tert-butyl peroxide, tert-butylcumyl peroxide, 1,3-bis (tert-butylperoxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl Peroxy ketals such as -2,5-di (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, n-butyl-4,4'-bis (tert-butylperoxy) butane; Butyl peroxyacetate tert-butyl peroxyisobutyrate, tert-butyl peroxyoctoate, tert-butylperoxypivalate, tert-butylperoxyneodecanate, tert-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate Alkyl such as tert-butylperoxybenzoate di-tert-butylperoxyphthalate, tert-butylperoxyisophthalate, tert-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-dibenzoylperoxyhexane Peresters, di-2-ethylhexylperoxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate, di-sec-butylperoxycarbonate, di-n-propylperoxydicarbonate, dimethoxyisoprop Peroxycarbonates such as ropirperoxydicarbonate, di-3-methoxybutylperoxydicarbonate, di-2-ethoxyethylperoxydicarbonate, bis- (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, and amber And water-soluble peroxides typified by acid peroxyoxides. Preferably, an organic peroxide having the following structure can be used.
[0135]
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[0136]
The titanocene compound that can be preferably used in the present invention is not particularly limited. For example, it is appropriately selected from various titanocene compounds described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197. Can be used. More specifically, dicyclopentadienyl-Ti-dichloride, dicyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluoro Phenyl-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoro Phen-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophenyl-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophenyl-1-yl, dimethylpenta Dienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, dimethylpentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1- Dimethylpentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophenyl-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluoro-3- (pyr-1-yl) -phenyl- 1-yl (hereinafter, referred to as Ti-1).
[0137]
Among them, particularly preferred is Ti-1 having the following structure.
[0138]
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[0139]
In the present invention, the following onium salts can be preferably used. Examples of the onium salt include an iodonium salt, a sulfonium salt, a phosphonium salt, a stannonium salt and the like.
[0140]
Various onium compounds described in JP-B-55-39162, JP-A-59-14023, and Macromolecules, vol. 10, p. 1307 (1977) can be used. As the iodonium salt, a diaryliodonium salt can be preferably used. Examples of the onium salt include diphenyliodonium salt, ditolyliodonium salt, phenyl (p-methoxyphenyl) iodonium salt, bis (m-nitrophenyl) iodonium salt, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium salt, bis ( Chloride such as p-cyanophenyl) iodonium salt, bromide, boron tetrafluoride, boron hexafluoride, phosphorus hexafluoride, arsenic hexafluoride, anthmon hexafluoride, perchlorate, benzene sulfone Acid salts, p-toluenesulfonic acid salts, p-trifluoromethylbenzenesulfonic acid salts, n-butyltriphenylboron salts and the like.
[0141]
In the present invention, 2,4,5-triarylimidazole dimer can be preferably used. It is preferable to use those having the following structures described in JP-A-55-127550 and JP-A-60-202037.
[0142]
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[0143]
The addition amount of the radical generator of the present invention varies depending on the type and use form of the radical generator, but is preferably 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. preferable.
[0144]
As the support, paper, synthetic paper (for example, synthetic paper containing polypropylene as a main component), a resin film or sheet, a plastic film or sheet obtained by laminating two or more layers of resin, or various polymer materials, A film or sheet obtained by laminating a resin layer on paper or the like made of metal, ceramic, wood pulp, cellulose pulp, sulfite pulp, or the like can be given.
[0145]
Examples of the resin constituting such a resin film or sheet include acrylic resins such as acrylates and methacrylates, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate and polyarylate, and polychlorinated resins. Polyolefin resins such as vinyl, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polyethylene, polypropylene, and polystyrene; polyamide resins such as nylon and aromatic polyamide; polyetheretherketone, polysulfone, polyethersulfone, polyimide, polyetherimide, and polyparaban Acid, phenoxy resin, epoxy resin, urethane resin, melamine resin, alkyd resin, phenol resin, fluororesin, silicone resin, etc. It is below.
[0146]
As a support provided with a photosensitive layer when the present invention is used for preparing a lithographic printing plate, a metal plate such as aluminum, zinc, copper, and steel, and chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, and iron are plated or coated. Examples thereof include a vapor-deposited metal plate, paper, a plastic film and a glass plate, paper coated with a resin, paper covered with a metal foil such as aluminum, and a plastic film subjected to a hydrophilic treatment. Of these, an aluminum plate is preferable. As the support, it is more preferable to use an aluminum plate that has been subjected to surface treatment such as graining treatment, anodic oxidation treatment and, if necessary, sealing treatment. A known method can be used for these treatments. Examples of the graining method include a mechanical method and an electrolytic etching method. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a brush polishing method, a polishing method using liquid honing, and a buff polishing method. The above-mentioned various methods can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum material and the like. Preferred is a method by electrolytic etching.
[0147]
The electrolytic etching is performed in a bath of an acid such as phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid or a mixture of two or more kinds. After the graining treatment, if necessary, a desmutting treatment is performed with an aqueous solution of an alkali or an acid to neutralize and wash with water.
[0148]
The anodic oxidation treatment is performed by using a solution containing one or more of sulfuric acid, chromic acid, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid, or the like as an electrolytic solution and performing electrolysis using an aluminum plate as an anode. The amount of anodic oxide film formed is 1 to 50 mg / dm.²Is suitable, and preferably 10 to 40 mg / dm.²It is. The amount of the anodic oxide film can be determined, for example, by immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution to dissolve the oxide film, and measuring the change in mass before and after dissolution of the film on the plate.
[0149]
Specific examples of the sealing treatment include boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, and dichromate aqueous solution treatment. In addition, the aluminum plate support may be subjected to an undercoating treatment with a water-soluble polymer compound or an aqueous solution of a metal salt such as zircon fluoride.
[0150]
The thickness of the support is usually preferably from 3 to 1000 μm, more preferably from 8 to 300 μm.
[0151]
As the binder resin used in the photosensitive layer, various known polymers can be used. Specific details of the binder are described in U.S. Pat. No. 4,072,527, and more preferably have an aromatic hydroxyl group as described in JP-A-54-98613. Monomer, for example, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m-, or p-hydroxystyrene, o-, m-, or p-hydroxyphenyl Copolymers of methacrylate and the like with other monomers, polymers containing hydroxyethyl acrylate units or hydroxyethyl methacrylate as described in US Pat. No. 4,123,276, shellac, rosin and the like. Natural resins, polyvinyl alcohols, polyas described in US Pat. No. 3,751,257. Amide resin, linear polyurethane resin as described in U.S. Pat. No. 3,660,097, phthalated resin of polyvinyl alcohol, epoxy resin condensed from bisphenol A and epichlorohydrin, cellulose acetate, cellulose acetate Cellulose resins such as phthalate are exemplified.
[0152]
As the binder resin, one or more of the above resins can be used in combination.
[0153]
Among them, solvent-soluble polymers such as vinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, methacrylic resin, polystyrene, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, polyvinyl butyral, styrene-acrylonitrile, polyvinyl acetal, nitrocellulose, and ethyl cellulose are preferable. .
[0154]
One or more of these binders may be used in the form of a latex dispersion as well as one or more of them dissolved in an organic solvent. The amount of the binder used varies depending on the purpose of the image forming material of the present invention and depends on whether it is a single-layer structure or a multi-layer structure.²1.0-20 g per unit is preferred.
[0155]
Next, the compound having an ethylenically unsaturated double bond will be described in detail.
The compound having an ethylenically unsaturated double bond of the present invention is an ethylenically unsaturated double bond such that when a polymerization composition is irradiated with actinic rays, it undergoes addition polymerization by the action of a polymerization initiator and cures. For example, a monomer having the ethylenically unsaturated double bond or a polymer having an ethylenically unsaturated double bond in a side chain or a main chain. Incidentally, the meaning of the monomer in the present invention is a concept corresponding to a so-called polymer substance, and therefore includes not only monomers in a narrow sense but also dimers, trimers, and oligomers. is there.
[0156]
As the polymerizable compound, a known monomer can be used without any particular limitation. As specific monomers, for example, monofunctional acrylates such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxypropyl acrylate and derivatives thereof, or these acrylates are replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, and the like. Compounds, bifunctional acrylates such as polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, bisphenol A diacrylate, diacrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate and derivatives thereof, or methacrylates and itaconates of these acrylates , Crotonate, compounds substituted with maleate, etc., or trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Can be exemplified dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, polyfunctional acrylic acid esters and derivatives thereof or methacrylate these acrylates such as pyrogallol triacrylate, itaconate, crotonate, the compound was changed to maleate or the like or the like.
[0157]
A so-called prepolymer obtained by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight to impart photopolymerizability can also be suitably used.
[0158]
In addition, JP-A-58-212994, JP-A-61-6649, JP-A-62-46688, JP-A-62-48589, JP-A-62-173295, JP-A-62-187092, JP-A-63-67189, and JP-A-1 Compounds described in each gazette of No. 244891 and the like can be mentioned, and furthermore, “11290 Chemical Products”, Chemical Daily, p. Compounds described in 286 to 294, "UV / EB Curing Handbook (Material Edition)", Polymer Publishing Association, p. The compounds described in 11 to 65 and the like can also be suitably used in the present invention.
[0159]
Among these, compounds having two or more acrylic or methacrylic groups in the molecule are preferred in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are preferred. In the present invention, one or more of these monomers or prepolymers can be used as a mixture.
[0160]
In the present invention, the compound having an ethylenically unsaturated double bond is preferably contained in the photosensitive layer in an amount of 20 to 80 parts by mass, more preferably 30 to 70 parts by mass.
[0161]
The photosensitive layer of the invention may contain other components such as a sensitizer, a thermal polymerization inhibitor, a heat-fusible compound, an oxygen scavenger, and a plasticizer as long as the purpose is not impaired. .
[0162]
Examples of the sensitizer include triazine compounds described in JP-A-64-13140, aromatic onium salts and aromatic halonium salts described in JP-A-64-13141, and JP-A-64-13143. And the bisimidazole compounds and thiols described in JP-B-45-37377 and U.S. Pat. No. 3,652,275. The sensitizer is added in an amount of 10 parts by weight or less, preferably about 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.
[0163]
As the thermal polymerization inhibitor, a quinone-based or phenol-based compound is preferably used. For example, hydroquinone, pyrogallol, p-methoxyphenol, catechol, β-naphthol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol and the like can be mentioned. It is added in an amount of 10 parts by mass or less, preferably about 0.01 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.
[0164]
As the oxygen quencher, an N, N-dialkylaniline derivative is preferable, and examples thereof include compounds described in US Pat. No. 4,772,541, from column 11, line 58 to column 12, line 35. .
[0165]
Examples of the plasticizer include phthalates, trimellites, adipic esters, other saturated or unsaturated carboxylic esters, citrates, epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, and epoxy stearin. Examples include acid epoxies, orthophosphates, phosphites, and glycol esters.
[0166]
As the heat-fusible compound, a compound that is solid at room temperature and reversibly liquid when heated is used. Examples of the heat-fusible substance include terpineol, menthol, 1,4-cyclohexanediol, alcohols such as phenol, amides such as acetamide and benzamide, coumarins, esters such as benzyl cinnamate, diphenyl ether, and crown ether. Ethers, camphor, ketones such as p-methylacetophenone, aldehydes such as vanillin and dimethoxybenzaldehyde, hydrocarbons such as norbornene and stilbene, higher fatty acids such as margaric acid, higher alcohols such as eicosanol, and cetyl palmitate. Monomolecular compounds represented by higher fatty acid esters, higher fatty acid amides such as stearic acid amide, higher amines such as behenylamine, beeswax, candelilla wax, paraffin wax, ester wax, mon wax Waxes such as wax, carnauba wax, amide wax, polyethylene wax, microcrystalline wax, ester gum, rosin maleic acid resin, rosin derivatives such as rosin phenol resin, phenol resin, ketone resin, epoxy resin, diallyl phthalate resin, terpene type Examples include hydrocarbon resins, cyclopentadiene resins, polyolefin resins, polycaprolactone resins, and high molecular compounds represented by polyolefin oxides such as polyethylene glycol and polypropylene glycol.
[0167]
Further, if necessary, an antioxidant, a filler, an antistatic agent and the like may be added to the photosensitive layer. Examples of the antioxidant include chroman compounds, Claman compounds, phenol compounds, hydroquinone derivatives, hindered amine derivatives, spiroindane compounds, sulfur compounds, phosphorus compounds, and the like, as described in JP-A-59-182785. JP-A-60-130735, JP-A-61-159644, and JP-A-1-12787, "Chemical Products of 11290", Chemical Daily, p. Compounds described in JP-A Nos. 862 to 868 and known compounds for improving durability of photographs and other image recording materials can be given.
[0168]
Examples of the filler include inorganic fine particles and organic resin particles. Examples of the inorganic fine particles include silica gel, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, barium sulfate, talc, clay, kaolin, acid clay, activated clay, and alumina.The organic resin particles include fluorine resin particles, guanamine resin. Particles, acrylic resin particles, resin particles such as silicone resin particles, and antistatic agents include cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants, polymer antistatic agents, conductive fine particles, and the like. "11290 Chemical Products", Chemical Daily, p. 875-p. 876 and the like can also be suitably used.
[0169]
In the present invention, the photosensitive layer may be formed as a single layer, or may be formed as two or more layers. In the case of comprising a plurality of layers, the layers may be composed of photosensitive layers having different compositions, and in this case, a photosensitive layer containing no coloring agent may be included.
[0170]
In the present invention, the thickness of the photosensitive layer is preferably from 0.2 to 10 μm, more preferably from 0.5 to 5 μm.
[0171]
The photosensitive layer is prepared by dispersing or dissolving the constituents in a solvent to prepare a coating solution, and then directly applying the coating solution on the intermediate layer and drying, or drying and applying the coating solution on a cover sheet described later. Formed.
[0172]
Examples of the solvent used in the above coating method include water, alcohols (eg, ethanol, propanol), cellosolves (eg, methyl cellosolve, ethyl cellosolve), aromatics (eg, toluene, xylene, chlorobenzene), ketones ( For example, acetone, methyl ethyl ketone), ester solvents (eg, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ethers (eg, tetrahydrofuran, dioxane), chlorine solvents (eg, chloroform, trichloroethylene), amide solvents (eg, dimethyl) Formamide, N-methylpyrrolidone), dimethyl sulfoxide and the like.
[0173]
For the coating, a conventionally known gravure roll can be used, such as a face-to-face coating method, an extrusion coating method, a wire bar coating method, or a roll coating method.
[0174]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto. In the examples, “parts” represents “parts by mass” unless otherwise specified.
[0175]
Example 1
(Synthesis of Acrylic Copolymer 1)
In a three-necked flask under a nitrogen stream, put 12 parts of methacrylic acid, 70 parts of methyl methacrylate, 8 parts of acrylonitrile, 10 parts of ethyl methacrylate, 500 parts of ethanol and 3 parts of α, α'-azobisisobutyronitrile. The reaction was carried out in an air bath at 80 ° C. for 6 hours. Thereafter, 3 parts of triethylammonium chloride and 2 parts of glycidyl methacrylate were added and reacted for 3 hours to obtain an acrylic copolymer 1. The weight average molecular weight measured using GPC was about 50,000, and the glass transition temperature (Tg) measured using DSC (differential thermal analysis) was about 85 ° C.
[0176]
(Preparation of polymer composition)
Acrylic copolymer 1 (synthetic binder, molecular weight Mw = 50,000) 35.0 parts
Metal arene compound (II-2) (Irgacure-261 Ciba Specialty)
Chemicals) 4.0 parts
Sensitizing dye (D-115) 3.0 parts
6.0 parts of polymerization initiator (I-1)
Tetrahydrofuran 50.0 parts
In a glove box under a nitrogen atmosphere, the polymer composition having the above composition was applied to a glass support with a wire bar so as to have a dry film thickness of about 2.0 μm, and then naturally dried for 1 hour. Sample 1 was prepared. Furthermore, the composition was changed as shown in Table 1, and polymer composition samples 2 to 6 were produced.
[0177]
Embedded image

[0178]
(Curing experiment)
The sample is irradiated with a 2 kW ultra-high pressure mercury lamp through a step wedge (concentration step: 0.15, number of concentration steps: 15) in the glove box under the above-described nitrogen atmosphere, and the sample having the concentration number of 10 steps is cured. The time to do was measured. It was judged by the palpation that the composition was cured when the tackiness had completely disappeared. Shorter curing time means higher sensitivity.
[0179]
[Table 1]

[0180]
As is clear from the table, it is understood that the polymer composition of the present invention has higher sensitivity than the comparative example.
[0181]
Example 2
(Preparation of support)
A 0.24 mm thick aluminum plate (material 1050, tempered H16) was immersed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution maintained at 65 ° C., subjected to a 1-minute degreasing treatment, and then washed with water. The degreased aluminum plate was immersed in a 10% hydrochloric acid aqueous solution maintained at 25 ° C. for 1 minute to neutralize, and then washed with water. Next, this aluminum plate was placed in a 0.3% by mass aqueous nitric acid solution at 25 ° C. and a current density of 100 A / dm.²After the electrolytic surface roughening was performed with an alternating current for 60 seconds under the conditions described above, a desmut treatment was performed for 10 seconds in a 5% aqueous sodium hydroxide solution kept at 60 ° C. The surface-roughened aluminum plate subjected to desmut treatment is placed in a 15% sulfuric acid solution at 25 ° C. and a current density of 10 A / dm.²Anodizing treatment was performed for 1 minute under the conditions of a voltage of 15 V and sealing treatment was performed with 3% sodium silicate at 90 ° C. to produce a support. At this time, the center line average roughness (Ra) of the surface was 0.65 μm.
[0182]
(Installing undercoat layer on support)
On the support, 0.1 g / m2 of the undercoat layer coating solution having the following composition was dried.²The resultant was coated with a wire bar, dried at 90 ° C. for 1 minute, and further subjected to a heat treatment at 110 ° C. for 3 minutes to produce a support having been drawn down.
[0183]
(Coating solution for undercoat layer)
1 part of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane
80 parts of methyl ethyl ketone
Cyclohexanone 19 parts
(Preparation of lithographic printing plate materials 1 and 2 to 24)
On the undercoated support, a photopolymerizable photosensitive layer coating solution having the following composition was dried at a rate of 1.4 g / m2.²And dried at 95 ° C. for 1.5 minutes. Thereafter, an overcoat layer coating solution having the following composition was further dried on the photopolymerizable photosensitive layer at a rate of 2.0 g / m 2 when dried.²And dried at 75 ° C. for 1.5 minutes to prepare a lithographic printing plate material 1 having an overcoat layer on the photosensitive layer.
[0184]

Lithographic printing plate materials 2 to 24 were prepared in the same manner as in lithographic printing plate material 1 except that the sensitizing dye, the polymerization initiator, and the metal arene compound of the general formula (II) were changed as shown in Table 2.
[0185]
(Image formation)
The lithographic printing plate materials 1 to 24 produced in this manner were 2540 dpi (dpi is 1 inch, that is, 2.40 dpi) by using a CTP exposure apparatus (Tigercat: ECRM) equipped with an FD-YAG laser light source (532 nm). The image exposure was performed at a resolution of (representing the number of dots per 54 cm). Next, a washing section for removing the overcoat layer before development, a developing section filled with a developing solution having the following composition, a washing section for removing the developing solution attached to the plate surface, and a gum solution for protecting the image area (SGW-2) Developing process was carried out using a CTP automatic developing machine (PHW23-V: manufactured by Technigraph) equipped with a Konica Corp. (2: 1 dilution) to obtain a lithographic printing plate. Exposure was performed using an InGaN semiconductor laser at 405 nm, an argon laser at 488 nm, and a W-YAG laser at 532 nm.
[0186]
(Developer composition)
A potassium silicate 8.0 mass%
Perex NBL: 3.0% by mass manufactured by Kao Corporation
Caustic potash pH = 12.3
(Evaluation of lithographic printing plate)
The lithographic printing plate obtained as described above was evaluated as follows.
[0187]
(sensitivity)
The appropriate exposure amount was defined as the exposure amount at which film loss in the image area was not observed and the 175 lines and 50% halftone dot exposure area could reproduce 50% on the prepared lithographic printing plate surface, and the exposure amount was defined as the sensitivity. .
[0188]
(Printing durability)
A lithographic printing plate prepared by exposing and developing an image of 175 lines at an appropriate exposure amount is coated on a printing press (Heidel GTO: manufactured by Heidelberg) and coated with printing ink (Hi-plus M Red: manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.) And printing using a dampening solution (SEU-3: Konica Corporation, 2.5% aqueous solution), and the number of printed sheets where the highlight portion is thinned and the shadow portion is entangled is used as an index of printing durability. .
[0189]
(Storability)
The raw sample before exposure and development was put into a thermostat (TABI ESPEC: CORP) at 55 ° C. and 20% RH for 3 days, and then exposed and developed in the same manner as described above to obtain a non-printing sample. The occurrence of stains on the image area was evaluated. The evaluation criteria are as follows.
[0190]
5: Non-image area is completely removed
4: The photosensitive layer which cannot be removed remains thinly in the non-image area.
3: Unremovable photosensitive layer remains on the entire non-image area
2: An unremovable photosensitive layer remains on the entire non-image area
1: Non-image area cannot be removed at all
[0191]
[Table 2]

[0192]
It can be seen that the lithographic printing plate material sample of the present invention generates radicals with high sensitivity and has high sensitivity and storage stability when used as a photosensitive material. It can also be seen that a lithographic printing plate prepared using the sensitizing dye of the present invention exhibits excellent printing durability.
[0193]
【The invention's effect】
As demonstrated in the examples, according to the present invention, it is possible to provide a polymerization initiator, a radical generation method, and a polymerization composition which can be written with light near 405 nm, 488 nm or 532 nm and can form an image with good sensitivity. By using this, a lithographic printing plate material having high sensitivity and excellent preservability could be produced, and the lithographic printing plate obtained thereby could exhibit excellent printing durability.

Claims (9)

A polymerization initiator comprising a compound represented by the following general formula (I) and a compound represented by the following general formula (II).

(Wherein, Z ¹¹ and Z ¹² each independently represent a halogen atom, X ¹¹ represents a hydrogen atom or an electron-withdrawing group, and Y ¹¹ represents —NR ¹¹ S (＝ O) ₂ —, —NR ¹² C (= O) -, - NHS (= O) -, - S (= O) 2 -, - C (= O) - or -S (= O) - ^{represents, L 11} represents an alkylene group, L ¹² represents —O—, —S—, —NR ¹³ —, —C (＝ O) —, alkylene, arylene or a combination thereof, R ¹¹ to R ¹³ represent a hydrogen atom or a substituent, and n12 represents 0 or 1 represents an ^{integer, M 11} represents a hydrogen atom or n11 divalent group, n11 represents an integer of 1 to 6, a plurality of _{^{- (L 12) n12 -L 11}} -Y 11 -CZ 11 Z 12 X ¹¹ If may be the same or different from each .n11 is 2, M ¹ may be a single bond.)

(Wherein, Z ²¹ represents a π arene group, R ²¹ represents a substituent, n ²¹ represents an integer of 0 to 5, a plurality of R ²¹ may be the same or different, and M ²¹ is Ti ( II), a metal cation selected from Co (II), Mn (II), Fe (II), Bi (II) and Sb (II), A ²¹ is BF ₄ , PF ₆ , AsF ₆ , SbF ₆ , FeCl ₄ , a monovalent anion selected from SnCl ₆ , SbCl ₆ and BiCl ₆ ) 2. The polymerization initiator according to claim 1, wherein the polymerization initiator contains a sensitizing dye capable of absorbing light in the near ultraviolet to visible light range and sensitizing the compound of the general formula (II). At least one sensitizing dye that absorbs light in the near ultraviolet to visible light range and can sensitize the compound of the general formula (II) is selected from sensitizing dyes represented by the following general formulas D-1 to D-7 The polymerization initiator according to claim 2, wherein the polymerization initiator is a sensitizing dye.

(Wherein, R ^{D11 to} R ^D14 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, or an amino group. In addition, R ^{D11 to} R ^D14 are bonded to each other. good ^{.R D16} to form a ring is ^{R D17} or ^{-Z D1 -R D17, Z} D1 represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group or arylene ^group,, R ^{D15, R D17} is independently of one another, a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaromatic group, a cyano group, an alkoxy group, an alkoxy group, a carboxy group, an alkenyl group. the R ^D15, R ^D16 consists both nonmetallic atom ring X ^D1 represents O, S, NH, or a nitrogen atom having a substituent, and Y ^D1 represents an oxygen atom or

And ^GD11 and ^GD12 may be the same or different and include a hydrogen atom, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyl group, a substituted acyl group, an arylcarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkyl Represents a sulfonyl group, an arylsulfonyl group, or a fluorosulfonyl group. However, ^GD11 and ^GD12 are not both hydrogen atoms. Further, ^GD11 and ^GD12 may form a ring composed of a nonmetallic atom together with the bondable carbon atom in the general formula D-1. )

^(Wherein, R D21 ^{to R D27} is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group or an alkoxy ^group, R D21 ^{to R D27} may be bonded to each other to form a ^{ring, X D21} is hydroxyl Represents a salt of a hydroxyl group or an amino group, and ^XD22 represents an oxygen atom or

And R ^D28 and R ^D29 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and may be bonded to each other to form a ring, A ^D2 represents a counter anion, and Y ^D21 represents —C (＝ O). _{^{R D210, -S (= O)}} 2 R D211, represents ^{_{-P (= O) 2 R D212}} , R D212 from ^{R D210} represents ^{-OM D21} or a monovalent ^{substituent, M D21} represents an alkali metal , nd21 is an integer of 1 to 4, a plurality of R ^D27 may be the same or different and each, or may be bonded to each other to form a ring. )

(Wherein, Ar ^D3 represents an aryl group, R ^D31 and R ^D32 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group or an alkoxy group, X ^D31 represents a hydroxyl group, a salt of a hydroxyl group or an amino group, ^D32 is an oxygen atom or

And R ^D33 and R ^D34 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and may be bonded to each other to form a ring, A ^D3 represents a counter anion, and nd31 and nd32 each independently represent 1 To R4, and a plurality of R ^D31 and R ^D32 may be the same or different, and may combine with each other to form a ring. )

(Wherein, Y ^D41 via an even number of methine groups, or represents a group necessary to form a dye bonded directly Y ^D42, Y ^D42 represents a heterocyclic 5- or 6-membered ring, L ^{D41, L D42} each independently represents a methine group, nd4 is an integer of 0 to 2.)

(Wherein, Y ^D51 represents a 5- or 6-membered heterocyclic ring, and Y ^D52 represents a 5- or 6-membered heterocyclic ring, or N (R ^D51 ) R ^D52 , OR ^D53 or S (O) _nd52 R ^D54 . And R ^D51 , R ^D52 , R ^D53 , and R ^D54 represent a hydrogen atom or a monovalent substituent, L ^D51 , L ^D52 , and L ^D53 each represent a methine group, and nd51 represents an integer of 0 to 3, nd52 represents an integer of 0 to 2. When ^D5 represents a salt, A ^D5 represents an anion necessary for neutralizing a charge, and A ^D5 is located at any position of Y ^D51 or Y ^D52. They may be linked by a covalent bond.)

(Wherein, R ^{D61 to} R ^D64 represent a hydrogen atom or an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. R ^D65 represents a hydrogen atom or a monovalent group. And X ^D61 and X ^D62 represent a halogen atom, and Y ^D61 and Y ^D62 represent an oxygen atom, a sulfur atom, a —NR ^D66 — group, a —CR ^D67 R ^D68 — group, or —CR ^D69 = CR ^D610 —. Wherein ^{RD66 to RD68} represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group or a heterocyclic group, and ^RD69 and ^RD610 represent a hydrogen atom or a monovalent group. ^.R represents a substituent ^D61 and ^{R D62, R D61} and ^Y on ^{D61 R D69} or ^{R D610,} R ⁶³ and ^{R D64} or ^{R D64} and ^{Y R D69} on ^D62 or ^{R D610} each may be bonded to each other to form a ring.)

(Wherein, R ^{D71 to} R ^D73 represent a hydrogen atom or a monovalent substituent, and X ^D71 and X ^D72 represent a halogen atom. R ^D71 and R ^D72 , and R ^D72 and R ^D73 each bind to form a ring. May be formed.) The polymerization initiator according to any one of claims 1 to 3, further comprising an amine compound as a polymerization accelerator. The polymerization initiator according to claim 1, further comprising a sulfur compound as a polymerization accelerator. A polymerization composition comprising a compound having an ethylenically unsaturated double bond and a polymerization initiator according to any one of claims 1 to 5. A radical generation method, comprising exposing the polymerization initiator according to claim 1 to laser light of 405 nm, 488 nm, or 532 nm. A lithographic printing plate material comprising at least a photosensitive layer and a protective layer provided in this order on a hydrophilic support, wherein the photosensitive layer contains a binder component and the polymer composition according to claim 6. Lithographic printing plate material. 9. The method for preparing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate material according to claim 8, wherein the photosensitive layer is imagewise scanned and exposed with a laser beam having a wavelength of 405 nm, 488 nm or 532 nm, and then the protective layer and the photosensitive layer are exposed. A method for preparing a lithographic printing plate, comprising eluting and removing unexposed portions of a layer.