JP2004311653A

JP2004311653A - Aqueous conditioning liquid and method for conditioning

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Publication number: JP2004311653A
Application number: JP2003102081A
Authority: JP
Inventors: Gishoku Ko; ▲ぎ▼植洪; Yoshitaka Morioka; 善隆森岡
Original assignee: Rodel Nitta Inc
Current assignee: Nitta DuPont Inc
Priority date: 2003-04-04
Filing date: 2003-04-04
Publication date: 2004-11-04
Anticipated expiration: 2023-04-04
Also published as: JP4526777B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aqueous conditioning liquid which can remove an iodine remaining on the surface of a pad to at least the degree not to affect an adverse influence to the surface physical properties of the pad, which hence prevents the polishing speed of a wafer from being decelerated and which is effective to continuously manufacture the wafer having flattening degree of the same level. <P>SOLUTION: Conditioning of the polishing pad is performed by using the aqueous conditioning liquid obtained by dissolving a water soluble compound which reacts with the iodine of a thiosulfate, a lower alcohol, a carboxylic acid, etc. to form an iodine compound in water. Thus, the iodine is removed from the surface of the pad, and the discoloration of the pad and the change of the surface physical properties of the pad are prevented. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水性コンディショニング液およびコンディショニング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＣＭＰ（ＣｈｅｍｉｃａｌＭｅｃｈａｎｉｃａｌＰｏｌｉｓｈｉｎｇ）は、ウェハの表面に形成された金属膜、酸化膜などの層間絶縁膜の平坦化、ウェハ表面における銅などからなる金属配線の形成などを行う技術であり、半導体の一層の高性能化および高集積化を達成する上で、必要不可欠なものになっている。
【０００３】
ＣＭＰ工程では、図５ａに示すように、研磨定盤１に貼着されたパッド２の表面２ａに被研磨面が接するようにウェハ３を載置し、加圧ヘッド４によりウェハ３に圧力をかけ、かつ研磨スラリー５を供給しながら、パッド２とウェハ３とを回転させることによって、ウェハ３の研磨（平坦化）が行われる。研磨後、図３ｂに示すように、コンディショニング液６を供給しながら、パッド２とドレッサー７とを回転させることによって、パッド表面２ａのコンディショニングが行われる。
【０００４】
コンディショニングは、主に、パッド表面の粗度調整およびパッド表面の付着物（研磨スラリーに含まれる研磨材の凝集物、ウェハから発生する研磨屑、パッドの破片など）の除去を行うものであり、パッドの表面物性の変化に伴うウェハ研磨速度の低下を防止し、かつ所望の平坦度を有するウェハを連続して製造する上で、非常に重要な工程である。
【０００５】
コンディショニングは、パッドと接する面にダイヤモンド微粒子を含む層が形成されたドレッサー（ダイヤモンドドレッサー）を用い、コンディショニング液には水を用いるのが一般的である。水以外のコンディショニング液としては、ダイヤモンド、シリカ、アルミナ、酸化セリウム、酸化ジルコニウムなどの無機微粒子（研磨材）を含む水性コンディショニング液が用いられている。しかしながら、従来のコンディショニング液は、金属膜、特にタングステン膜を研磨した後のパッドのコンディショニングには適していない。その理由は、金属膜の研磨に使用する研磨用スラリーにある。
【０００６】
金属膜の研磨に際しては、主に、シリカ、アルミナ、チタニアなどの研磨材および酸化剤であるヨウ素酸カリウムを含む研磨用水性スラリーが使用される。ヨウ素酸カリウムは、金属膜特にタングステン膜に対して強い酸化作用を示し、金属膜の研磨除去に極めて有効である。ところが、ヨウ素酸カリウムは金属と反応してヨウ素を生成し、生成したヨウ素はパッド表面を変色させるとともに、表面粗度などの表面物性にも深刻な影響を及ぼす。このようなパッド表面の変性は、多くの場合研磨速度の低下をもたらし、ウェハの研磨に要する時間が長くなって生産性が低くなる。また、ウェハの研磨面の平坦度が徐々に低下し、同程度の平坦度を有するウェハを連続して得ることができないという問題も生じる。従来のコンディショニング液を用いても、パッドに悪影響をおよぼさない程度までヨウ素を除去することはできない。
【０００７】
また、金属イオンを含む水不溶性化合物を水溶化する成分と、水溶化されて生成する金属イオンと錯体を形成する成分とを含む水性コンディショニング液（たとえば、特許文献１参照）が提案され、金属イオンと錯体を形成する成分として、乳酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、マロン酸などのカルボン酸が例示されている。しかしながら、このコンディショニング液は金属イオンを除去することを目的とするものであり、ヨウ素を除去するためのものでもない。さらに、特許文献１には、カルボン酸を単独で用いること、特にヨウ素を除去するために用いること、およびそれによって顕著な効果が得られることについての記載は一切ない。
【０００８】
また、一般式−ＣＯＯＲ^１および／または一般式−ＳＯ_３Ｒ^１（式中Ｒ^１は水素原子、無機塩基または有機塩基を示す）で表わされる基を有するアニオン性界面活性剤を含む水性コンディショニング液（たとえば、特許文献２参照）が提案されている。しかしながら、このコンディショニング液を用いても、従来と同様に、ヨウ素を充分に除去することはできない。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００２−３７１３００号公報
【特許文献２】
特開２０００−３０９７９６号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、パッド表面に残留するヨウ素を、少なくとも、パッドの表面物性に悪影響をおよぼさない程度まで除去することができ、ひいてはウェハの研磨速度が低下するのを防止し、同程度の平坦化度を有するウェハを連続して製造するのに有効なコンディショニング液を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物を含むことを特徴とする水性コンディショニング液である。
【００１２】
本発明に従えば、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物を用いることによって、そのままでは除去し難いヨウ素を、水洗などにより比較的簡単に除去できるヨウ素化合物に変換することができる。したがって、パッドに付着するヨウ素を容易に除去でき、パッド表面の変色および物性変化が防止されるので、ウェハの研磨速度が低下することがなく、同程度の平坦度を有するウェハを連続して製造することができる。
【００１３】
このコンディショニング液は、金属膜特にタングステン膜を研磨した後のパッドをコンディショニングするのに有効である。
【００１４】
本明細書において、ヨウ素化合物とは、その分子中にヨウ素を含む有機化合物または無機化合物を意味し、その具体例としては、たとえば、ヨウ素塩、ヨウ素を含むエーテル、ヨウ素を含むエステルなどが挙げられる。
【００１５】
また本発明の水性コンディショニング液は、前述の、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物が、チオ硫酸塩、低級アルコールおよびカルボン酸から選ばれる１種または２種以上であることを特徴とする。
【００１６】
本発明に従えば、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物として、チオ硫酸塩、低級アルコールおよびカルボン酸から選ばれるものが好ましい。たとえば、ヨウ素とチオ硫酸塩とは、下記に示す反応式に従って反応し、水溶性のヨウ素塩を生成する。このヨウ素塩はコンディショニング液に含まれる水に溶解される。これによって、パッド表面に残留するヨウ素を、一層確実に除去することができる。たとえば、
Ｉ_２＋２Ｒ_２Ｓ_２Ｏ_３→２ＲＳ_２Ｏ_３・ＲＩ
〔式中、Ｒは１価のカチオンを示す。〕
上記において、Ｒで示される１価のカチオンとしては、たとえば、ナトリウムイオン、カリウムイオンなどのアルカリ金属イオン、アンモニウムイオンなどが挙げられる。
【００１７】
また本発明の水性コンディショニング液は、前述のチオ硫酸塩が、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウムおよびチオ硫酸アンモニウムから選ばれる１種または２種以上であることを特徴とする。
【００１８】
また本発明の水性コンディショニング液は、前述の低級アルコールが、メタノール、エタノール、プロパノールおよびイソプロパノールから選ばれる１種または２種以上であることを特徴とする。
【００１９】
また本発明の水性コンディショニング液は、前述のカルボン酸が、炭素数２〜５の飽和モノカルボン酸、炭素数３〜６の飽和ジカルボン酸および芳香族カルボン酸から選ばれる１種または２種以上であることを特徴とする。
【００２０】
本発明に従えば、チオ硫酸塩、低級アルコールおよびカルボン酸の中でも、前述の特定のものが好ましい。これらは、ヨウ素を除去する効果が高い。
【００２１】
また本発明の水性コンディショニング液は、前述の、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物の含有量が、水性コンディショニング液全量の０．０１〜３０重量％であることを特徴とする。
【００２２】
本発明に従えば、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物が特定量含まれているのが好ましい。それによって、優れたヨウ素除去効果が得られる。
【００２３】
本発明は、ウェハを研磨したのちの研磨用パッドをコンディショニングする方法において、前述のうちのいずれかの水性コンディショニング液を用いることを特徴とするコンディショニング方法である。
【００２４】
本発明に従えば、本発明の水性コンディショニング液を用いるコンディショニング方法が提供される。この方法は、金属膜特にタングステン膜を研磨した後のパッドをコンディショニングするのに有効である。この方法によって、ＣＭＰ工程において、ウェハの研磨速度を低下させることなく、同程度の高い平坦度の研磨面を有するウェハを連続して製造することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
本発明の水性コンディショニング液は、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物を含み、残部が水である組成物である。
【００２６】
ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物としては、このような特性を有する公知のものを使用できる。その中でも、ヨウ素除去効果を考慮すると、チオ硫酸塩、低級アルコール、カルボン酸などが好ましい。
【００２７】
チオ硫酸塩としては公知のものを使用でき、たとえば、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウムなどが挙げられる。チオ硫酸塩は１種を単独で使用できまたは２種以上を併用できる。
【００２８】
低級アルコールとしては公知のものを使用でき、たとえば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどが挙げられる。低級アルコールは１種を単独で使用できまたは２種以上を併用できる。
【００２９】
カルボン酸としては公知のものを使用でき、たとえば、酢酸、酪酸、吉草酸などの炭素数２〜５の飽和モノカルボン酸、マロン酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、アジピン酸などの炭素数３〜６の飽和ジカルボン酸、没食子酸などの芳香族カルボン酸などが挙げられる。カルボン酸は１種を単独で使用できまたは２種以上を併用できる。
【００３０】
これらの中でも、ヨウ素を除去する能力が高く、かつパッドの表面物性に与える影響が少ないことを考慮すれば、チオ硫酸塩、炭素数３〜６の飽和ジカルボン酸（特にカルボキシル基中の水酸基以外の水酸基を有する炭素数３〜６の飽和ジカルボン酸）などが好ましく、チオ硫酸塩が特に好ましい。
【００３１】
ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物は、１種を単独で使用できまたは２種以上を併用できる。
【００３２】
ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物の含有量は特に制限されず、水溶性化合物の種類、得られるコンディショニング液に要求される特性、コンディショニング液が適用されるパッドの種類などの各種条件に応じて広い範囲から適宜選択できるけれども、通常はコンディショニング液全量の０．０１〜３０重量％、好ましくは１〜２０重量％、より好ましくは５〜１５重量％である。０．０１重量％を下回ると、ヨウ素除去効果が充分に発揮されない可能性がある。３０重量％を大幅に超えると、コンディショニング液の粘度が高くなりすぎ、コンディショニングの作業性が低下するおそれがある。
【００３３】
本発明の水性コンディショニング液は、その好ましい特性を損なわない範囲で、金属、特に銅、アルミニウム、タングステン、タンタルなどと化合し、金属含有水溶性化合物を形成することができる化合物を含んでいてもよい。化合物としては、たとえば、アンモニア、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキサイド、メチルトリヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキサイド、ジメチルジヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキサイド、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキサイドなどの水酸化第４級アンモニウムなどのアルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ性化合物は１種を単独で使用できまたは２種以上を併用できる。
【００３４】
また本発明の水性コンディショニング液は、その好ましい特性を損なわない範囲で、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤としては公知のものを使用でき、たとえば、脂肪族アミン塩、脂肪族アンモニウム塩などのカチオン性界面活性剤、脂肪酸石鹸、Ｎ−アシルアミノ酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボン酸塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルキルリン酸エステルなどのアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、グリセリンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ソルビタンエステルなどのノニオン性界面活性剤などが挙げられる。界面活性剤は１種を単独で使用できまたは２種以上を併用できる。
【００３５】
また本発明の水性コンディショニング液は、その好ましい特性を損なわない範囲で、キレート剤を含んでいてもよい。キレート剤としては、アミノトリメチレンホスホン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸などのホスホン酸系キレート剤、エチレンジアミン四酢酸塩、ニトリロトリ酢酸塩などのアミノカルボキシレート系キレート剤、ジヒドロキシエチルグリシンなどのヒドロキシアミノカルボキシレート系キレート剤などが挙げられる。キレート剤は１種を単独で使用できまたは２種以上を併用できる。
【００３６】
また本発明の水性コンディショニング液は、その好ましい特性を損なわない範囲で、研磨材を含んでいてもよい。研磨材としては公知のものを使用でき、たとえば、ダイヤモンド、シリカ、アルミナ、酸化セリウム、酸化ジルコニウムなどの無機微粒子が挙げられる。研磨材は１種を単独で使用できまたは２種以上を併用できる。
【００３７】
本発明の水性コンディショニング液は、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物の適量、および必要に応じてアルカリ性化合物、界面活性剤、キレート剤、研磨材、その他の添加剤などの適量を水に溶解および／または分散させることによって製造することができる。ここで使用される水は特に制限されないけれども、用途を考慮すると、超純水、純水、イオン交換水、蒸留水などが好ましい。
【００３８】
このようにして得られる本発明の水性コンディショニング液のｐＨは特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるけれども、通常は１．０〜６．０程度、好ましくは２．０〜４．０程度である。ｐＨの調整には、一般的なｐＨ調整剤である酸および／またはアルカリを使用できる。
【００３９】
本発明の水性コンディショニング液は、ウェハを研磨するパッドのコンディショニングに好適に使用できる。好ましくは金属膜、より好ましくはタングステン、銅、バリア基板（窒化タンタル、タンタル、窒化チタン、チタンなど）などからなる金属膜、特に好ましくはタングステン膜を研磨するパッドのコンディショニングに極めて好適に使用できる。
【００４０】
本発明の水性コンディショニング液を用いてパッドをコンディショニングするに際しては、水性コンディショニング液を用いる以外は、従来の方法と同様に実施できる。
【００４１】
たとえば、滴下、噴射、スプレー噴射などによって水性コンディショニング液をパッド表面に供給し、必要に応じて、ドレッサー、ベアウェハなどをパッド表面で摺動させてもよい。その時、ドレッサー、ベアウェハなどに超音波を印加することもできる。または、ブラシなどを用いて、パッド表面を掃拭しても構わない。
【００４２】
また、パッドを水性コンディショニング液中に浸漬し、必要に応じて、液中噴流および／または超音波を加えることもできる。
【００４３】
温度条件およびコンディショニング時間は特に制限されず、パッドそのものの材質、コンディショニング方法などの各種条件に応じて、広い範囲から適宜選択できる。しかしながら、本発明のコンディショニング方法は、通常は１０〜８０℃程度、好ましくは２０〜６０℃程度の温度下に行われ、通常は１０秒〜５分程度、好ましくは２０秒〜３分程度で終了する。
【００４４】
［実施例］
以下に実施例、比較例および試験例を挙げ、本発明を具体的に説明する。
【００４５】
実施例１
チオ硫酸ナトリウム１００ｇを純水９００ｇに溶解し、１０重量％チオ硫酸ナトリウム水溶液である本発明の水性コンディショニング液を調製した。
【００４６】
実施例２
チオ硫酸ナトリウムに代えてマロン酸を使用する以外は、実施例１と同様にして、１０重量％マロン酸水溶液である本発明の水性コンディショニング液を調製した。
【００４７】
比較例１
純水をコンディショニング液として用いた。
【００４８】
試験例１
ＣＭＰ研磨装置（商品名：Ｅｃｏｍｅｔ３、Ｂｕｅｈｌｅｒ社製）を用い、パッド上にコロイダルシリカ（研磨材）６重量％およびヨウ素酸カリウム３．７５重量％を含有する研磨用水性スラリーを１０ｍｌ／分の割合で滴下しながら、３×２．５ｃｍの長方形状タングステンウェハに５ｐｓｉの圧力をかけ、研磨定盤および加圧ヘッドを回転させ（１３０ｒｐｍ）、１２０秒間研磨し、研磨速度（Ａ／分）を測定した。研磨速度の測定方法は下記のとおりである。研磨速度の測定結果を、図１〜３に示す。
【００４９】
引き続き、Ｅｘ−ｓｉｔｕコンディショニングを行った。すなわち、研磨後のヨウ素が付着している径２０ｃｍのパッドの表面に、実施例１〜２および比較例１のコンディショニング液を約１００ｍｌ／分の割合で滴下し、ダイヤモンドドレッサー（パッドへの負荷圧力２．７６ｋｇ、回転数１３０ｒｐｍ）を用い、３０秒間コンディショニングを行った。
【００５０】
さらに、実施例１〜２および比較例１のコンディショニング液に代えて、純水を用いる以外は、上記と同様に操作し、パッドのコンディショニングを行った。
【００５１】
この研磨およびコンディショニング操作を１０回繰り返した。タングステンウェハは１回ごとに未研磨のものに取り替え、パッドは同一のものを用いた。
【００５２】
その後、実施例１および比較例１のコンディショニング液を用いてコンディショニングを行ったパッドについて、物性変化を起こしているか否かを調べるため、ゼータ電位（ｍＶ）を測定した。比較のため、上記の研磨およびコンディショニング操作を１０回実施する前の新品状態のパッドについてもゼータ電位（ｍＶ）を測定した。ゼータ電位の測定方法は下記のとおりである。結果を図４に示す。
【００５３】
〔研磨速度（Ａ／分）〕
抵抗測定器（商品名：ＯｍｕｉＭａｐＲＳ３５Ｃ、ＰＲＯＭＥＴＲＩＸ社製）を用い、タングステン膜上の４９の地点での膜除去量を測定し、それらの１分間平均除去量を算出して研磨速度とした。研磨速度の測定は、タングステンウェハを１枚研磨するたびに行った。
【００５４】
〔ゼータ電位〕
タングステン膜上に電解液を流し、ゼータ電位測定計（商品名：ＥＫＡ３００、フィジカ社製、ドイツ）を用いて測定した。
【００５５】
図１〜３は、それぞれ、実施例１、実施例２および比較例１のコンディショニング液を用いてパッドをコンディショニングした場合の、研磨時間（研磨を行った時間）と研磨速度との関係を示すグラフである。
【００５６】
図１（実施例１）から、１０重量％チオ硫酸ナトリウム水溶液を用いると、研磨速度は１４００Ａ／分前後で安定し、研磨時間が長くなってもほとんど低下しないことがわかる。図２（実施例２）から、１０重量％マロン酸水溶液を用いると、研磨速度は１２００Ａ／分前後で、研磨時間が長くなるとわずかに低下するものの、高い研磨速度を有していることが判る。
【００５７】
これに対し、図３（比較例１）から明らかなように、従来の方法では、研磨時間が長くなるにつれて、研磨速度が著しく低下する。
【００５８】
図４は、研磨およびコンディショニング操作を行う前の新品状態のパッド、ならびに実施例１および比較例１のコンディショニング液を用いて上記操作を行った後のパッドの、ゼータ電位とｐＨとの関係を示すグラフである。図４から、実施例１のコンディショング液を用いると、研磨を１０回行った後のパッドでも、ほぼ新品と同程度の表面状態（表面粗度）を有することが明らかである。これに対し、比較例１のものを用いると、パッドの表面粗度が劣化していることが明らかである。
【００５９】
さらに、実施例１のコンディショニング液を用いたパッドの表面は、ウェハが摺動した部分がわずかに薄く変色しているだけである。これに対し、比較例１のコンディショニング液を用いたパッドの表面は、ウェハの摺動部分およびその周辺に、非常に濃い変色が認められた。
【００６０】
【発明の効果】
本発明によれば、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物を用いることによって、そのままでは除去し難いヨウ素を、水洗などにより比較的簡単に除去できるヨウ素化合物に変換することができる。したがって、パッドに付着するヨウ素を容易に除去でき、パッド表面の変色および物性変化が防止されるので、ウェハの研磨速度が低下することがなく、同程度の平坦度を有するウェハを連続して製造することができる。このコンディショニング液は、金属膜特にタングステン膜を研磨した後のパッドをコンディショニングするのに有効である。
【００６１】
本発明によれば、ヨウ素と反応してヨウ素化合物を生成する水溶性化合物として、チオ硫酸塩、低級アルコールおよびカルボン酸から選ばれるものが好ましい。
【００６２】
本発明によれば、チオ硫酸塩、低級アルコールおよびカルボン酸の中でも、前述の特定のものが、高いヨウ素除去効果を有し、好ましく用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１のコンディショニング液を用いた場合の、研磨時間と研磨速度との関係を示すグラフである。
【図２】実施例２のコンディショニング液を用いた場合の、研磨時間と研磨速度との関係を示すグラフである。
【図３】比較例１のコンディショニング液を用いた場合の、研磨時間と研磨速度との関係を示すグラフである。
【図４】パッドのゼータ電位を示すグラフである。
【図５】ＣＭＰ工程を簡略的に示す図面である。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an aqueous conditioning liquid and a conditioning method.
[0002]
[Prior art]
CMP (Chemical Mechanical Polishing) is a technology for flattening an interlayer insulating film such as a metal film and an oxide film formed on the surface of a wafer, forming metal wiring made of copper or the like on the wafer surface, and the like. It is indispensable to achieve high performance and high integration.
[0003]
In the CMP step, as shown in FIG. 5A, the wafer 3 is placed so that the surface to be polished is in contact with the surface 2a of the pad 2 attached to the polishing platen 1, and the pressure is applied to the wafer 3 by the pressure head 4. The polishing (flattening) of the wafer 3 is performed by rotating the pad 2 and the wafer 3 while applying and supplying the polishing slurry 5. After the polishing, the pad surface 2a is conditioned by rotating the pad 2 and the dresser 7 while supplying the conditioning liquid 6, as shown in FIG. 3b.
[0004]
Conditioning mainly adjusts the roughness of the pad surface and removes deposits on the pad surface (agglomerates of abrasives contained in the polishing slurry, polishing debris generated from the wafer, pad debris, etc.), This is a very important step in preventing a reduction in the wafer polishing rate due to a change in the surface properties of the pad and continuously manufacturing a wafer having a desired flatness.
[0005]
For conditioning, a dresser (diamond dresser) having a layer containing diamond fine particles formed on a surface in contact with a pad is generally used, and water is generally used as a conditioning liquid. As a conditioning liquid other than water, an aqueous conditioning liquid containing inorganic fine particles (abrasive) such as diamond, silica, alumina, cerium oxide, and zirconium oxide is used. However, the conventional conditioning liquid is not suitable for conditioning a pad after polishing a metal film, particularly a tungsten film. The reason lies in the polishing slurry used for polishing the metal film.
[0006]
When polishing the metal film, an aqueous polishing slurry containing an abrasive such as silica, alumina, titania and potassium iodate as an oxidizing agent is mainly used. Potassium iodate shows a strong oxidizing effect on a metal film, particularly a tungsten film, and is extremely effective for polishing and removing the metal film. However, potassium iodate reacts with a metal to generate iodine, and the generated iodine discolors the pad surface and seriously affects surface properties such as surface roughness. Such a modification of the pad surface often results in a decrease in polishing rate, which increases the time required for polishing the wafer and lowers productivity. Further, there is a problem that the flatness of the polished surface of the wafer gradually decreases, and a wafer having the same flatness cannot be continuously obtained. Even with conventional conditioning solutions, iodine cannot be removed to the extent that it does not adversely affect the pad.
[0007]
Further, an aqueous conditioning liquid (for example, see Patent Document 1) including a component that makes a water-insoluble compound containing a metal ion water-soluble and a component that forms a complex with a metal ion that is made water-soluble is proposed. Examples of components that form a complex with carboxylic acids such as lactic acid, citric acid, tartaric acid, malic acid, and malonic acid. However, this conditioning liquid is intended to remove metal ions, and is not intended to remove iodine. Further, Patent Document 1 does not disclose any use of a carboxylic acid alone, particularly use for removing iodine, and the fact that a remarkable effect can be obtained thereby.
[0008]
Further, an aqueous conditioning liquid containing an anionic surfactant having a group represented by the general formula -COOR ¹ and / or -SO ₃ R ¹ (wherein R ¹ represents a hydrogen atom, an inorganic base or an organic base) (For example, see Patent Document 2). However, even if this conditioning liquid is used, iodine cannot be sufficiently removed as in the conventional case.
[0009]
[Patent Document 1]
JP 2002-371300 A [Patent Document 2]
JP 2000-309796 A
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to remove iodine remaining on the pad surface at least to such an extent that the physical properties of the pad are not adversely affected, and to prevent a reduction in the polishing rate of the wafer, and at the same time. It is an object of the present invention to provide a conditioning liquid that is effective for continuously producing wafers having a degree of planarization.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The present invention is an aqueous conditioning liquid containing a water-soluble compound that reacts with iodine to generate an iodine compound.
[0012]
According to the present invention, by using a water-soluble compound which reacts with iodine to generate an iodine compound, iodine which is difficult to remove as it is can be converted into an iodine compound which can be relatively easily removed by washing with water or the like. Accordingly, iodine adhering to the pad can be easily removed, and discoloration and change in physical properties of the pad surface are prevented, so that a wafer having the same level of flatness is continuously manufactured without lowering the polishing rate of the wafer. can do.
[0013]
This conditioning liquid is effective for conditioning the pad after polishing the metal film, particularly the tungsten film.
[0014]
In the present specification, the iodine compound means an organic compound or an inorganic compound containing iodine in its molecule, and specific examples thereof include an iodine salt, an ether containing iodine, an ester containing iodine, and the like. .
[0015]
The aqueous conditioning liquid of the present invention is characterized in that the water-soluble compound which reacts with iodine to generate an iodine compound is one or more selected from thiosulfates, lower alcohols and carboxylic acids. And
[0016]
According to the present invention, the water-soluble compound which reacts with iodine to produce an iodine compound is preferably a compound selected from thiosulfates, lower alcohols and carboxylic acids. For example, iodine and thiosulfate react according to the following reaction formula to produce a water-soluble iodine salt. This iodine salt is dissolved in water contained in the conditioning liquid. This makes it possible to more reliably remove iodine remaining on the pad surface. For example,
I ₂ + 2R ₂ S ₂ O ₃ → 2RS ₂ O ₃ · RI
[Wherein, R represents a monovalent cation. ]
In the above, examples of the monovalent cation represented by R include an alkali metal ion such as a sodium ion and a potassium ion, and an ammonium ion.
[0017]
The aqueous conditioning liquid of the present invention is characterized in that the thiosulfate is one or more selected from sodium thiosulfate, potassium thiosulfate and ammonium thiosulfate.
[0018]
The aqueous conditioning liquid of the present invention is characterized in that the lower alcohol is one or more selected from methanol, ethanol, propanol and isopropanol.
[0019]
In the aqueous conditioning liquid of the present invention, the carboxylic acid is one or more selected from saturated monocarboxylic acids having 2 to 5 carbon atoms, saturated dicarboxylic acids having 3 to 6 carbon atoms, and aromatic carboxylic acids. There is a feature.
[0020]
According to the present invention, among the thiosulfates, lower alcohols and carboxylic acids, the aforementioned specific ones are preferred. These are highly effective in removing iodine.
[0021]
Further, the aqueous conditioning liquid of the present invention is characterized in that the content of the above-mentioned water-soluble compound which reacts with iodine to generate an iodine compound is 0.01 to 30% by weight of the total amount of the aqueous conditioning liquid.
[0022]
According to the present invention, it is preferable that a specific amount of a water-soluble compound that reacts with iodine to form an iodine compound is contained. Thereby, an excellent iodine removing effect can be obtained.
[0023]
The present invention is a conditioning method for conditioning a polishing pad after polishing a wafer, wherein any one of the aqueous conditioning liquids described above is used.
[0024]
According to the present invention, there is provided a conditioning method using the aqueous conditioning liquid of the present invention. This method is effective for conditioning a pad after polishing a metal film, particularly a tungsten film. According to this method, in the CMP process, a wafer having a polished surface with a similar high flatness can be continuously manufactured without reducing the polishing rate of the wafer.
[0025]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
The aqueous conditioning liquid of the present invention is a composition containing a water-soluble compound that reacts with iodine to generate an iodine compound, with the balance being water.
[0026]
As the water-soluble compound which reacts with iodine to generate an iodine compound, a known compound having such properties can be used. Among them, thiosulfate, lower alcohol, carboxylic acid and the like are preferable in consideration of the iodine removal effect.
[0027]
Known thiosulfates can be used, and examples thereof include sodium thiosulfate, potassium thiosulfate, and ammonium thiosulfate. One type of thiosulfate can be used alone, or two or more types can be used in combination.
[0028]
Known alcohols can be used as the lower alcohol, and examples thereof include methanol, ethanol, propanol, and isopropanol. One type of lower alcohol can be used alone, or two or more types can be used in combination.
[0029]
Known carboxylic acids can be used. For example, saturated monocarboxylic acids having 2 to 5 carbon atoms such as acetic acid, butyric acid and valeric acid, and 3 carbon atoms such as malonic acid, tartaric acid, citric acid, malic acid and adipic acid can be used. To 6 saturated dicarboxylic acids and aromatic carboxylic acids such as gallic acid. One type of carboxylic acid can be used alone, or two or more types can be used in combination.
[0030]
Among these, thiosulfate, a saturated dicarboxylic acid having 3 to 6 carbon atoms (particularly a hydroxyl group other than a hydroxyl group in a carboxyl group) is considered in consideration of a high ability to remove iodine and a small influence on the surface physical properties of the pad. (Saturated dicarboxylic acids having 3 to 6 carbon atoms having a hydroxyl group) are preferred, and thiosulfates are particularly preferred.
[0031]
As the water-soluble compound which reacts with iodine to generate an iodine compound, one type can be used alone, or two or more types can be used in combination.
[0032]
The content of the water-soluble compound that produces an iodine compound by reacting with iodine is not particularly limited, and various types such as a type of the water-soluble compound, characteristics required for the obtained conditioning liquid, and a kind of pad to which the conditioning liquid is applied. Although it can be appropriately selected from a wide range according to conditions, it is usually 0.01 to 30% by weight, preferably 1 to 20% by weight, more preferably 5 to 15% by weight of the total amount of the conditioning liquid. If it is less than 0.01% by weight, the iodine removal effect may not be sufficiently exerted. If it exceeds 30% by weight, the viscosity of the conditioning liquid becomes too high, and the workability of the conditioning may be reduced.
[0033]
The aqueous conditioning liquid of the present invention may contain a compound capable of forming a metal-containing water-soluble compound by combining with a metal, particularly copper, aluminum, tungsten, tantalum, or the like, as long as the preferable properties are not impaired. . Examples of the compound include ammonia, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, trimethyl-2-hydroxyethylammonium hydroxide, methyltrihydroxyethylammonium hydroxide, dimethyldihydroxyethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, and trimethylethyl. And alkaline compounds such as quaternary ammonium hydroxides such as ammonium hydroxide. The alkaline compounds can be used each alone or two or more of them can be used in combination.
[0034]
Further, the aqueous conditioning liquid of the present invention may contain a surfactant within a range not to impair the preferable properties. Known surfactants can be used, and examples thereof include cationic surfactants such as aliphatic amine salts and aliphatic ammonium salts, fatty acid soaps, N-acyl amino acid salts, polyoxyalkylene alkyl ether carboxylate, and alkyl surfactants. Anionic surfactants such as ether carboxylate, alkyl sulfonate, alkyl benzene sulfonate, alkyl naphthalene sulfonate, α-olefin sulfonate, higher alcohol sulfate, alkyl ether sulfate and alkyl phosphate And nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene ether of glycerin ester, polyethylene glycol fatty acid ester, glycerin ester and sorbitan ester. One surfactant may be used alone, or two or more surfactants may be used in combination.
[0035]
Further, the aqueous conditioning liquid of the present invention may contain a chelating agent as long as the preferable properties are not impaired. Examples of the chelating agent include phosphonic acid chelating agents such as aminotrimethylenephosphonic acid, 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid, and ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid; and aminocarboxylate-based chelating agents such as ethylenediaminetetraacetate and nitrilotriacetate. Chelating agents, hydroxyaminocarboxylate-based chelating agents such as dihydroxyethylglycine, and the like can be mentioned. One chelating agent may be used alone, or two or more chelating agents may be used in combination.
[0036]
Further, the aqueous conditioning liquid of the present invention may contain an abrasive as long as preferable characteristics are not impaired. Known abrasives can be used, and examples thereof include inorganic fine particles such as diamond, silica, alumina, cerium oxide, and zirconium oxide. One type of abrasive can be used alone, or two or more types can be used in combination.
[0037]
The aqueous conditioning liquid of the present invention contains an appropriate amount of a water-soluble compound that reacts with iodine to generate an iodine compound, and an appropriate amount of an alkaline compound, a surfactant, a chelating agent, an abrasive, and other additives as necessary. It can be produced by dissolving and / or dispersing in water. Although the water used here is not particularly limited, ultrapure water, pure water, ion-exchanged water, distilled water and the like are preferable in view of the application.
[0038]
The pH of the aqueous conditioning liquid of the present invention thus obtained is not particularly limited and can be appropriately selected from a wide range, but is usually about 1.0 to 6.0, preferably about 2.0 to 4.0. is there. For adjusting the pH, acids and / or alkalis which are general pH adjusters can be used.
[0039]
The aqueous conditioning liquid of the present invention can be suitably used for conditioning a pad for polishing a wafer. It can be used very preferably for conditioning a metal film, more preferably a metal film composed of tungsten, copper, a barrier substrate (tantalum nitride, tantalum, titanium nitride, titanium, etc.), particularly preferably a pad for polishing a tungsten film.
[0040]
The conditioning of the pad using the aqueous conditioning liquid of the present invention can be performed in the same manner as in the conventional method, except that the aqueous conditioning liquid is used.
[0041]
For example, an aqueous conditioning liquid may be supplied to the pad surface by dripping, spraying, spraying, or the like, and a dresser, a bare wafer, or the like may be slid on the pad surface as needed. At that time, an ultrasonic wave can be applied to a dresser, a bare wafer, or the like. Alternatively, the pad surface may be wiped using a brush or the like.
[0042]
Further, the pad may be immersed in an aqueous conditioning liquid, and a jet in liquid and / or ultrasonic waves may be applied as necessary.
[0043]
The temperature condition and the conditioning time are not particularly limited, and can be appropriately selected from a wide range according to various conditions such as the material of the pad itself and a conditioning method. However, the conditioning method of the present invention is usually performed at a temperature of about 10 to 80 ° C, preferably about 20 to 60 ° C, and is usually completed in about 10 seconds to 5 minutes, preferably about 20 seconds to 3 minutes. I do.
[0044]
[Example]
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, Comparative Examples, and Test Examples.
[0045]
Example 1
100 g of sodium thiosulfate was dissolved in 900 g of pure water to prepare an aqueous conditioning liquid of the present invention, which was a 10% by weight aqueous solution of sodium thiosulfate.
[0046]
Example 2
An aqueous conditioning solution of the present invention, which was a 10% by weight aqueous solution of malonic acid, was prepared in the same manner as in Example 1 except that malonic acid was used instead of sodium thiosulfate.
[0047]
Comparative Example 1
Pure water was used as the conditioning liquid.
[0048]
Test example 1
Using a CMP polishing apparatus (trade name: Ecomet 3, manufactured by Buehler), an aqueous polishing slurry containing 6% by weight of colloidal silica (abrasive) and 3.75% by weight of potassium iodate was placed on the pad at 10 ml / min. While dropping at a rate, a pressure of 5 psi is applied to a 3 × 2.5 cm rectangular tungsten wafer, the polishing platen and the pressure head are rotated (130 rpm), and the polishing is performed for 120 seconds, and the polishing rate (A / min) is reduced. It was measured. The method for measuring the polishing rate is as follows. The measurement results of the polishing rate are shown in FIGS.
[0049]
Subsequently, Ex-situ conditioning was performed. That is, the conditioning liquids of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were dropped at a rate of about 100 ml / min onto the surface of a pad having a diameter of 20 cm to which iodine after polishing had adhered, and a diamond dresser (load pressure on the pad) was applied. Conditioning was performed for 30 seconds using 2.76 kg and a rotation speed of 130 rpm.
[0050]
Furthermore, pad conditioning was performed in the same manner as above except that pure water was used instead of the conditioning liquids of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1.
[0051]
This polishing and conditioning operation was repeated 10 times. The tungsten wafer was replaced with an unpolished one each time, and the same pad was used.
[0052]
Thereafter, the zeta potential (mV) was measured for the pads conditioned using the conditioning liquids of Example 1 and Comparative Example 1 in order to determine whether or not physical properties had changed. For comparison, the zeta potential (mV) was also measured for a pad in a new state before performing the above polishing and conditioning operations 10 times. The method for measuring the zeta potential is as follows. FIG. 4 shows the results.
[0053]
[Polishing rate (A / min)]
Using a resistance measuring instrument (trade name: OmuiMap RS35C, manufactured by PROMETRIX), the film removal amount at 49 points on the tungsten film was measured, and the average removal amount for one minute was calculated as the polishing rate. The measurement of the polishing rate was performed every time one tungsten wafer was polished.
[0054]
[Zeta potential]
An electrolytic solution was flowed on the tungsten film, and measurement was performed using a zeta potential meter (trade name: EKA300, manufactured by Physica, Germany).
[0055]
FIGS. 1 to 3 are graphs showing the relationship between the polishing time (polishing time) and the polishing rate when the pad is conditioned using the conditioning liquids of Example 1, Example 2 and Comparative Example 1, respectively. It is.
[0056]
From FIG. 1 (Example 1), it can be seen that when a 10% by weight aqueous solution of sodium thiosulfate is used, the polishing rate is stable at about 1400 A / min, and hardly decreases even when the polishing time is long. From FIG. 2 (Example 2), it can be seen that when a 10% by weight malonic acid aqueous solution is used, the polishing rate is about 1200 A / min, and the polishing rate is slightly reduced as the polishing time is increased, but the polishing rate is high. .
[0057]
On the other hand, as is clear from FIG. 3 (Comparative Example 1), in the conventional method, as the polishing time becomes longer, the polishing rate is significantly reduced.
[0058]
FIG. 4 shows the relationship between the zeta potential and the pH of the pad in a new state before performing the polishing and conditioning operation, and the pad after performing the above operation using the conditioning liquid of Example 1 and Comparative Example 1. It is a graph. From FIG. 4, it is clear that the use of the conditioning liquid of Example 1 has a surface state (surface roughness) substantially equal to that of a new pad even after polishing 10 times. On the other hand, it is clear that the use of the comparative example 1 deteriorates the surface roughness of the pad.
[0059]
Further, on the surface of the pad using the conditioning liquid of Example 1, the portion on which the wafer slides is slightly discolored. On the other hand, on the surface of the pad using the conditioning liquid of Comparative Example 1, extremely dark discoloration was observed in the sliding portion of the wafer and the periphery thereof.
[0060]
【The invention's effect】
According to the present invention, by using a water-soluble compound which reacts with iodine to generate an iodine compound, iodine which is difficult to remove as it is can be converted into an iodine compound which can be relatively easily removed by washing with water or the like. Accordingly, iodine adhering to the pad can be easily removed, and discoloration and change in physical properties of the pad surface are prevented, so that a wafer having the same level of flatness is continuously manufactured without lowering the polishing rate of the wafer. can do. This conditioning liquid is effective for conditioning the pad after polishing the metal film, particularly the tungsten film.
[0061]
According to the present invention, the water-soluble compound which reacts with iodine to produce an iodine compound is preferably selected from thiosulfates, lower alcohols and carboxylic acids.
[0062]
According to the present invention, among the thiosulfates, lower alcohols and carboxylic acids, the aforementioned specific ones have a high iodine removal effect and can be preferably used.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a graph showing a relationship between a polishing time and a polishing rate when the conditioning liquid of Example 1 is used.
FIG. 2 is a graph showing a relationship between a polishing time and a polishing rate when the conditioning liquid of Example 2 is used.
FIG. 3 is a graph showing a relationship between a polishing time and a polishing rate when the conditioning liquid of Comparative Example 1 is used.
FIG. 4 is a graph showing the zeta potential of a pad.
FIG. 5 is a view schematically showing a CMP process.

Claims

An aqueous conditioning liquid comprising a water-soluble compound that reacts with iodine to produce an iodine compound.

The aqueous conditioning liquid according to claim 1, wherein the water-soluble compound that reacts with iodine to generate an iodine compound is one or more selected from thiosulfates, lower alcohols, and carboxylic acids.

The conditioning liquid according to claim 2, wherein the thiosulfate is one or more selected from sodium thiosulfate, potassium thiosulfate, and ammonium thiosulfate.

The aqueous conditioning liquid according to claim 2, wherein the lower alcohol is one or more selected from methanol, ethanol, propanol, and isopropanol.

The carboxylic acid is one or more selected from a saturated monocarboxylic acid having 2 to 5 carbon atoms, a saturated dicarboxylic acid having 3 to 6 carbon atoms, and an aromatic carboxylic acid. Aqueous conditioning liquid.

The aqueous solution according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of the water-soluble compound that produces an iodine compound by reacting with iodine is 0.01 to 30% by weight of the total amount of the aqueous conditioning liquid. Conditioning liquid.

A method for conditioning a polishing pad after polishing a wafer, wherein the aqueous conditioning liquid according to any one of claims 1 to 6 is used.