JP2004300422A - Azo compound, method for producing the same and material for photosensitive layer - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、新規なアゾ化合物及び該アゾ化合物の製造方法、並びに、感光層用材料に関する。 The present invention relates to a novel azo compound, a method for producing the azo compound, and a material for a photosensitive layer.
従来より、アゾ化合物は種々の産業分野において古くから染料、或いは顔料として広く用いられており、例えば、繊維の染色用やカラー写真光材料の色材として、また最近では、フォトクロミックな用途にも利用されているきわめて重要な化合物群である。このアゾ化合物は、一般には「ジアゾニウム化合物」と「カップラー化合物」とをカップリング反応させて合成する。このジアゾニウム化合物及びカップラー化合物に関しては、目的とするアゾ染料或いは顔料の用途に応じ、種々の構造を有する化合物が用いられており、そのジアゾニウム化合物及びカップラー化合物の選択により、得られるアゾ染料或いはアゾ顔料の吸収波長と強度、水に対する溶解度、光に対する堅牢性或いは樹脂に対する分散特性等が決定される。 Conventionally, azo compounds have been widely used as dyes or pigments in various industrial fields since ancient times. For example, they are also used for dyeing fibers, as color materials for color photographic light materials, and recently for photochromic applications. Is a very important group of compounds. This azo compound is generally synthesized by performing a coupling reaction between a “diazonium compound” and a “coupler compound”. Regarding the diazonium compound and the coupler compound, compounds having various structures are used depending on the intended use of the azo dye or pigment, and the azo dye or azo pigment obtained by selecting the diazonium compound and the coupler compound is used. , The absorption wavelength and intensity, the solubility in water, the fastness to light, and the dispersion characteristics for resin are determined.
特に、電子写真感光体の分野においては、ある種のアゾ化合物が電子写真感光体の一つの形態である積層型感光体に用いられる有機光導電体、特に、電荷発生顔料として有用であることが知られている。この積層型感光体は、周知のように導電性支持体上に光によって電荷担体を発生する能力を有する電荷発生顔料を主成分とする電荷発生層とその上に電荷発生層で発生した電荷担体を効率よく注入し、更に、これを搬送する能力を有する電荷輸送物質を主成分とする電荷輸送層とを設けた感光体である。このような感光体に使用されるアゾ化合物としては、例えば、ベンジジン系ビスアゾ化合物(特許文献1及び特許文献2参照)、スチルベンゼン系ビスアゾ化合物(特許文献3参照)、ジフェニルヘキサトリエン系ビスアゾ化合物(特許文献4参照)、ジフェニルブタジエン系ビスアゾ化合物(特許文献5参照)、等が知られている。 In particular, in the field of electrophotographic photoreceptors, certain azo compounds may be useful as organic photoconductors used in laminated photoreceptors, which are one form of electrophotographic photoreceptors, and particularly as charge-generating pigments. Are known. As is well known, the laminated photoreceptor includes a charge generation layer mainly composed of a charge generation pigment capable of generating charge carriers by light on a conductive support, and a charge carrier generated by the charge generation layer thereon. And a charge transporting layer having a charge transporting material as a main component capable of transporting the same. Examples of the azo compound used for such a photoconductor include benzidine-based bisazo compounds (see Patent Documents 1 and 2), stilbenzene-based bisazo compounds (see Patent Document 3), and diphenylhexatriene-based bisazo compounds (see Patent Document 3). Patent Document 4), diphenylbutadiene-based bisazo compounds (see Patent Document 5), and the like are known.
一方、このようなアゾ顔料に使用されるカップラー化合物としては、例えば、ナフトール系カップラー(特許文献6参照)、ベンズカルバゾール系カップラー(特許文献7参照)、ナフタルイミド系カップラー(特許文献8参照)、ペリノン系カップラー(特許文献9参照)、アズレン系カップラー(特許文献10参照)、アントラセン系カップラー(特許文献11参照)、等がすでに知られている。 On the other hand, examples of coupler compounds used in such azo pigments include naphthol-based couplers (see Patent Document 6), benzocarbazole-based couplers (see Patent Document 7), and naphthalimide-based couplers (see Patent Document 8). Perinone-based couplers (see Patent Document 9), azulene-based couplers (see Patent Document 10), anthracene-based couplers (see Patent Document 11), and the like are already known.
しかし、従来のアゾ化合物を用いた積層型感光体は、一般に感度、及び耐久性が低いため、実用上必ずしも十分とはいえず、電子写真プロセスに必要とされる種々の要求を満足するに至らっておらず、一層の感度、及び耐久性の向上が望まれているのが現状である。 However, conventional photoreceptors using an azo compound generally have low sensitivity and durability, so that they are not always sufficient for practical use, and have been able to satisfy various requirements required for an electrophotographic process. At present, it is desired that the sensitivity and durability be further improved.
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、実用的な高感度の電子写真感光体に好適に用いられる新規なアゾ化合物及び該アゾ化合物の効率のよい製造方法、並びに、感光層用材料を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to solve the above-described various problems in the related art and achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide a novel azo compound suitably used for a practical high-sensitivity electrophotographic photoreceptor, an efficient production method of the azo compound, and a material for a photosensitive layer. .
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のカップラーを使用した新規アゾ化合物が、容易に製造可能であり、特に、電子写真感光体に用いた場合に実用的な感度と耐久性を有することを知見した。 The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, a novel azo compound using a specific coupler can be easily produced, and particularly, it is practically used when used in an electrophotographic photosensitive member. It was found that it had high sensitivity and durability.
本発明は、本発明者らの前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 下記一般式(1)で表されることを特徴とするアゾ化合物である。
<2> 一般式(1)において、2つのCpの少なくとも1つは、下記一般式(5)で表されるカップラー残基である前記<1>に記載のアゾ化合物である。
<3> 一般式(1)において、2つのCpの少なくとも1つは、下記一般式(6)、及び下記一般式(7)のいずれかで表されるカップラー残基である前記<1>に記載のアゾ化合物である。
<4> 一般式(1)において、2つのCpの少なくとも1つは、下記一般式(8)で表されるカップラー残基である前記<1>に記載のアゾ化合物である。
<5> 一般式(1)において、2つのCpの少なくとも1つは、下記一般式(23)及び下記一般式(24)のいずれかで表されるカップラー残基である前記<1>に記載のアゾ化合物である。
<6> 下記一般式(9)で表わされるジアゾニウム塩化合物と、下記一般式(10)で表わされるカップラー化合物とを反応させることを特徴とするアゾ化合物の製造方法である。
HCp 一般式(10)
ただし、前記一般式(10)中、Cpは、カップラー残基を表す。
<7> 前記<1>から<5>のいずれかに記載のアゾ化合物からなることを特徴とする感光層用材料である。
The present invention is based on the above findings of the present inventors, and means for solving the above problems are as follows. That is,
<1> An azo compound represented by the following general formula (1).
<2> In the general formula (1), at least one of the two Cp is the azo compound according to the above <1>, which is a coupler residue represented by the following general formula (5).
<3> In the general formula (1), at least one of the two Cp is a coupler residue represented by any of the following general formulas (6) and (7). It is an azo compound described.
<4> In the general formula (1), at least one of the two Cp is the azo compound according to the above <1>, which is a coupler residue represented by the following general formula (8).
<5> The general formula (1), wherein at least one of the two Cp is a coupler residue represented by any of the following general formulas (23) and (24). Is an azo compound.
<6> A method for producing an azo compound, comprising reacting a diazonium salt compound represented by the following general formula (9) with a coupler compound represented by the following general formula (10).
HCp General formula (10)
Here, in the general formula (10), Cp represents a coupler residue.
<7> A photosensitive layer material comprising the azo compound according to any one of <1> to <5>.
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、従来に比べて製造が容易であり、特に、電荷発生物質として用いることにより、高感度の電子写真感光体を製造することができる新規アゾ化合物を提供できる。 According to the present invention, a novel azo compound that can solve various problems in the related art, is easier to manufacture than in the past, and particularly can be used as a charge generating material to produce a highly sensitive electrophotographic photoreceptor. Can be provided.
(アゾ化合物及びその製造方法)
本発明のアゾ化合物は、下記一般式(1)で表されるものである。
本発明のアゾ化合物の製造方法は、下記一般式(9)で表わされるジアゾニウム塩化合物と、下記一般式(10)で表わされるカップラー化合物とを反応させる。
HCp 一般式(10)
ただし、前記一般式(10)中、Cpはカップラー残基を表す。
以下、本発明のアゾ化合物の製造方法の説明を通じて、本発明のアゾ化合物の詳細も明らかにする。
(Azo compound and production method thereof)
The azo compound of the present invention is represented by the following general formula (1).
In the method for producing an azo compound of the present invention, a diazonium salt compound represented by the following general formula (9) is reacted with a coupler compound represented by the following general formula (10).
HCp General formula (10)
Here, in the general formula (10), Cp represents a coupler residue.
Hereinafter, the details of the azo compound of the present invention will be clarified through the description of the method for producing the azo compound of the present invention.
本発明のアゾ化合物、及び該アゾ化合物の製造原料は、以下の方法により製造することができる。
即ち、下記一般式(11)で表わされるスチレン化合物と、下記一般式(12)で表わされるアセチレンジカルボン酸エステル化合物を、次のような反応(Diels−Alder反応)をさせることで下記一般式(13)で表されるナフタレン化合物を得る。
The azo compound of the present invention and a raw material for producing the azo compound can be produced by the following method.
That is, a styrene compound represented by the following general formula (11) and an acetylenedicarboxylic acid ester compound represented by the following general formula (12) are subjected to the following reaction (Diels-Alder reaction) to give the following general formula ( A naphthalene compound represented by 13) is obtained.
次に、上記で得られた一般式(13)のナフタレン化合物の保護基であるR6を次のように除去することで下記一般式(14)で表されるナフタレン化合物が得られる(脱保護基)。
次に、前記合成で得られた一般式(14)のナフタレン化合物と、下記一般式(15)のアミン化合物を、次に示されるようなエステル/アミド交換反応させることにより、下記一般式(16)で表されるカップラー化合物を得ることができる。
一般に、エステル/アミド交換反応は塩基性触媒下で行われるが、J.Am.Chem.Soc.,71,1245(1945)には、エステル/アミド交換反応にグリコール系、水、或いはグリセロール系溶剤の添加が有効であることが記載されている。本発明においては、前記一般式(14)のナフタレン化合物と前記一般式(15)のアミン化合物を、エステル/イミド交換反応(環化反応を含む)で、グリコール系、或いはグリセロール系溶媒より選ばれた少なくとも1種含有する系中で、反応温度を100℃〜170℃、好適には110℃〜150℃に温度制御することにより、高収率で、前記一般式(16)のカップラー化合物が得られる。 Generally, the ester / amide exchange reaction is carried out in the presence of a basic catalyst. Am. Chem. Soc. , 71, 1245 (1945) describes that the addition of a glycol-based, water, or glycerol-based solvent is effective for the ester / amide exchange reaction. In the present invention, the naphthalene compound of the general formula (14) and the amine compound of the general formula (15) are selected from glycol-based or glycerol-based solvents in an ester / imide exchange reaction (including a cyclization reaction). In addition, by controlling the reaction temperature in a system containing at least one kind to 100 ° C. to 170 ° C., preferably 110 ° C. to 150 ° C., the coupler compound of the general formula (16) can be obtained in high yield. Can be
また、下記一般式(18)又は下記一般式(19)のカップラー化合物は、次式で示されるように、前記合成で得られた前記一般式(14)のナフタレン化合物と下記一般式(17)のジアミン化合物より製造される。 The coupler compound of the following general formula (18) or the following general formula (19) is obtained by synthesizing the naphthalene compound of the above general formula (14) obtained by the above synthesis with the following general formula (17) as shown by the following formula: It is manufactured from the diamine compound of.
この場合、前記一般式(16)のカップラー化合物の製造と同様のエステル/イミド交換反応(2回の環化反応を含む)を使用できる。ただし、反応温度は130℃〜180℃、好適には140℃〜170℃である。
また、一般式(16)、一般式(18)、一般式(19)で示されるカップラー化合物は以下に示す方法によっても製造可能である。
In this case, the same ester / imide exchange reaction (including two cyclization reactions) as in the production of the coupler compound of the general formula (16) can be used. However, the reaction temperature is 130 ° C to 180 ° C, preferably 140 ° C to 170 ° C.
The coupler compounds represented by the general formulas (16), (18) and (19) can also be produced by the following method.
次に、前記合成で得られた前記一般式(20)のナフタレン化合物と前記一般式(15)のアミン化合物を酸触媒下で反応させることより前記一般式(16)のカップラー化合物を得ることができる。前記酸触媒としては、例えば、酢酸、硫酸等が使用でき、必要に応じて反応により生成する水を反応系外に出すことにより更に効率よく反応することができる。 Next, the naphthalene compound of the general formula (20) obtained by the synthesis and the amine compound of the general formula (15) are reacted under an acid catalyst to obtain a coupler compound of the general formula (16). it can. As the acid catalyst, for example, acetic acid, sulfuric acid, or the like can be used, and if necessary, water produced by the reaction can be taken out of the reaction system to achieve a more efficient reaction.
また、前記一般式(18)或いは前記一般式(19)のカップラー化合物は、前記合成で得られた一般式(20)のナフタレン化合物と前記一般式(17)のジアミン化合物を酸触媒下で反応させることより得ることができる。前記酸触媒としては、例えば、酢酸、硫酸等が使用でき、必要に応じて反応により生成する水を反応系外に出すことにより更に効率よく反応することができる。 Further, the coupler compound represented by the general formula (18) or the general formula (19) is obtained by reacting the naphthalene compound represented by the general formula (20) obtained by the synthesis with the diamine compound represented by the general formula (17) under an acid catalyst. It can be obtained by doing. As the acid catalyst, for example, acetic acid, sulfuric acid, or the like can be used, and if necessary, water produced by the reaction can be taken out of the reaction system to achieve a more efficient reaction.
前記一般式(1)で表わされるアゾ化合物は、以下の反応式により合成することができる。まず、相当する2,7−ジアミノジベンゾ[a,c]フェナジン化合物を出発原料とし、これをジアゾ化して一般式(9)で表わされるジアゾニウム塩として単離したのち、これを適当な有機溶媒(N,N−ジメチルホルムアミドなど)中で、前記の各顔料に対応する一般式(10)で表わされるカップラー化合物とアルカリの存在下でカップリング反応させることにより製造することができる。
本発明の一般式(1)のアゾ化合物中、2種以上のカップラー化合物(10)の使用が可能で、この場合、前記一般式(9)で表わされるジアゾニウム化合物に、前記一般式(16)、一般式(18)又は一般式(19)のカップラー化合物と、後述の一般式(Cp1)〜一般式(Cp15)で例示されるカップラー化合物とを2段階に順に反応させるか、或いは最初のカップリング反応によって得られるジアゾニウム塩化合物を単離した後、更に、それぞれに対応するカップラー化合物を反応することによって得ることができる。 Among the azo compounds of the general formula (1) of the present invention, two or more types of coupler compounds (10) can be used. In this case, the diazonium compound represented by the general formula (9) is replaced by the general formula (16) , The coupler compound of the general formula (18) or the general formula (19) and the coupler compounds exemplified by the general formulas (Cp1) to (Cp15) described below are reacted in two steps in order, or After isolating the diazonium salt compound obtained by the ring reaction, the compound can be further obtained by reacting the corresponding coupler compound.
前記一般式(1)中、r1、r2はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はニトロ基を表す。この場合、アルキル基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。r1、r2のアルコキシ基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられるがこれらに限るものではない。r1、r2のハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。また、Z−は、Cl−、Br−、I−、BF−、PF−、B(C6H5)4 −、ClO4 −、SO4 2−、AsF6 −、下記式で表される基、SbF6 −などのアニオン官能基を示し、これらの中でも、BF4 −が特に好ましい。
また、前記一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)、一般式(11)、一般式(13)、一般式(14)、一般式(16)、一般式(18)、一般式(19)、及び一般式(20)中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、ただし、R1とR2は互いに結合して置換又は無置換のアルキレンによる環、置換又は無置換の不飽和脂肪族環、又は置換又は無置換の芳香族環を形成しても良い。この場合、アルキル基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。また、アルコキシ基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられるがこれらに限るものではない。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。R1とR2が互いに結合して環を形成する場合、R1とR2が互いに結合してできる原子団はとしては、置換又は無置換のプロピレン基、置換又は無置換のブチレン基、置換又は無置換のペンチレン基などの置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のプロペニレン基、置換又は無置換のブテニレン基、置換又は無置換のペンテニレン基などの置換又は無置換のアルケニレン基、或いは置換又は無置換のベンゼン環、置換又は無置換のナフタレン環などの芳香環を形成しても良い。この場合、置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子等が挙げられる。 Also, the general formulas (2), (3), (4), (11), (13), (14), (16), and (18) In general formulas (19) and (20), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom, provided that R 1 And R 2 may combine with each other to form a substituted or unsubstituted alkylene ring, a substituted or unsubstituted unsaturated aliphatic ring, or a substituted or unsubstituted aromatic ring. In this case, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include, but are not limited to, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Not something. The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 25 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group, but are not limited thereto. Absent. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. When R 1 and R 2 are bonded to each other to form a ring, the atomic group formed by bonding R 1 and R 2 to each other includes a substituted or unsubstituted propylene group, a substituted or unsubstituted butylene group, Or a substituted or unsubstituted alkylene group such as an unsubstituted pentylene group, a substituted or unsubstituted propenylene group, a substituted or unsubstituted butenylene group, a substituted or unsubstituted alkenylene group such as a substituted or unsubstituted pentenylene group, or An aromatic ring such as a substituted or unsubstituted benzene ring or a substituted or unsubstituted naphthalene ring may be formed. In this case, examples of the substituent include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group, and a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. .
また、前記一般式(12)、一般式(13)、一般式(14)中、R5はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜8アルキル基、ベンジル基等のアルアルキル基、2−メトキシエチル基等の置換アルキル基が挙げられる。 In the general formulas (12), (13) and (14), R 5 is preferably a group having 1 to 25 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, more preferably Examples thereof include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aralkyl group such as a benzyl group, and a substituted alkyl group such as a 2-methoxyethyl group.
また、前記一般式(11)、一般式(13)中、R6はOH基の保護基であれば特に制約はないが、好適にはメチル基、iso−プロピル基、t−ブチル基、ベンジル基、アリル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、トリメチルシリル基等が挙げられ、更に好適には、iso−プロピル基、t−ブチル基が挙げられるがこれらに限るものではない。 In the general formulas (11) and (13), R6 is not particularly limited as long as it is a protecting group for an OH group, but is preferably a methyl group, an iso-propyl group, a t-butyl group, or a benzyl group. , An allyl group, a methoxymethyl group, a tetrahydropyranyl group, a trimethylsilyl group, and the like, and more preferably, an iso-propyl group and a t-butyl group, but not limited thereto.
また、前記一般式(2)、一般式(15)、一般式(16)中、Xは水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換又は無置換の環状不飽和脂肪族基、置換又は無置換の芳香族基、置換又は無置換の複素環基、又は置換又は無置換のアミノ基を表す。この場合、前記アルキル基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜12のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基などのアルキル基が挙げられるがこれらに限るものではない。前記シクロアルキル基は、好ましくは炭素数5〜8のシクロアルキル基であり、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられるがこれらに限るものではない。前記環状不飽和脂肪族基は、例えば、インダニル基、テトラリニル基が挙げられるがこれらに限るものではない。前記芳香族基は、好ましくは炭素数6〜30芳香族炭化水素基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。前記複素環基は、環を形成する原子に窒素、酸素、イオウなどの複素原子を少なくとも1つ含むもので、例えば、ピリジル基、ピラジノ基、キノリノ基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インドリル基などが挙げられる。前記アミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基などのアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基などの芳香族アミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基が挙げられるがこれらに限るものではない。 In the general formulas (2), (15) and (16), X represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cyclic group. Represents an unsaturated aliphatic group, a substituted or unsubstituted aromatic group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, or a substituted or unsubstituted amino group. In this case, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, Examples include, but are not limited to, alkyl groups such as an octyl group and a decyl group. The cycloalkyl group is preferably a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group, but is not limited thereto. Examples of the cyclic unsaturated aliphatic group include, but are not limited to, an indanyl group and a tetralinyl group. The aromatic group is preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include, but are not limited to, phenyl, naphthyl, anthracenyl, phenanthrenyl, and pyrenyl. The heterocyclic group contains at least one heteroatom such as nitrogen, oxygen or sulfur in the atoms forming the ring. Group, benzothiazolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, indolyl group and the like. Examples of the amino group include an alkylamino group such as a methylamino group and an ethylamino group, an aromatic amino group such as a phenylamino group and a naphthylamino group, and a carbamino group such as an acetylamino group and a benzoylamino group. It is not limited to.
これらのアルキル基、シクロアルキル基、環状不飽和脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基;ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基などの置換アルキル基;メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基;置換基を有しても良いフェニル基;置換基を有しても良い、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などの芳香族基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;ヒドロキシ基;置換基を有しても良いアミノ基;置換基を有しても良い、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基;ニトロ基;シアノ基;アセチル基;置換基を有してもよいベンゾイル基;置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基;置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基;置換基を有しても良いカルバモイル基などが挙げられる。
前記一般式(2)で示されるカップラー残基の中でも、Xが置換又は無置換のアルキル基であるカップラー残基が好ましく、これらの中でも、前記一般式(5)で表されるカップラー残基が特に好ましい。
Substituents of these alkyl groups, cycloalkyl groups, cyclic unsaturated aliphatic groups, aromatic groups, heterocyclic groups and amino groups include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group; benzyl group Substituted alkenyl groups such as phenethyl group and methoxymethyl group; alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and phenoxy group; phenyl group which may have a substituent; naphthyl group and anthracenyl which may have a substituent An aromatic group such as a phenanthrenyl group or a pyrenyl group; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom; a hydroxy group; an amino group which may have a substituent; Carboamino groups such as amino group and benzoylamino group; nitro group; cyano group; acetyl group; benzoyl group which may have a substituent; Good alkoxycarbonyl group; an optionally substituted phenoxycarbonyl group; a substituent and the like may carbamoyl group.
Among the coupler residues represented by the general formula (2), a coupler residue in which X is a substituted or unsubstituted alkyl group is preferable. Among these, a coupler residue represented by the general formula (5) is preferable. Particularly preferred.
また、前記一般式(5)中、A1は、置換又は無置換の芳香族基、又は置換又は無置換の複素環基を表す。この場合、芳香族基は、好ましくは炭素数6〜30芳香族炭化水素基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。複素環基は、環を形成する原子に窒素、酸素、イオウなどの複素原子を少なくとも1つ含むもので、例えば、ピリジル基、ピラジノ基、キノリノ基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インドリル基などが挙げられる。アミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基などのアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基などの芳香族アミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基が挙げられるがこれらに限るものではない。それらの置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基などの置換アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基、置換基を有しても良いフェニル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有しても良いカルバモイル基などが挙げられる。 In the general formula (5), A 1 represents a substituted or unsubstituted aromatic group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group. In this case, the aromatic group is preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include, but are not limited to, phenyl, naphthyl, anthracenyl, phenanthrenyl, and pyrenyl. . The heterocyclic group includes at least one heteroatom such as nitrogen, oxygen, and sulfur in the atoms forming the ring. Benzothiazolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, indolyl group and the like. Examples of the amino group include an alkylamino group such as a methylamino group and an ethylamino group; an aromatic amino group such as a phenylamino group and a naphthylamino group; and an carbamino group such as an acetylamino group and a benzoylamino group. It is not limited. Examples of the substituent include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group; a substituted alkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group and a methoxymethyl group; and an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, and a phenoxy group. A phenyl group which may have a substituent, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, a trifluoromethyl group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, and a carbamoyl group which may have a substituent. Can be
また、前記一般式(3)、一般式(4)、一般式(6)、一般式(7)、一般式(18)、一般式(19)中、Yは、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換のアラルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する2価の有機残基、置換又は無置換の複素芳香族性を有する2価の有機残基、又はCO−Z−で示される2価のカルボニル基含有有機残基(ただし、Zは置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、置換又は無置換の芳香族性を有する2価の有機残基、又は置換又は無置換の複素芳香族性を有する2価の有機残基を表す。この場合、アルキレン基は、好ましくは炭素数1〜25、より好ましくは炭素数1〜12のアルキレン基であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デシレン基などのアルキレン基が挙げられるがこれらに限るものではない。アルキレン基はその炭素−炭素結合で芳香族環が形成されても良い。シクロアルキレン基は、好ましくは炭素数5〜8のシクロアルキレン基であり、例えばシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基が挙げられるがこれらに限るものではない。アラルキレン基は、好ましくは炭素数7〜20のアラルキレン基であり、例えばトルイレン基、キシリレン基、エチレンフェニレンエチレン基、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基が挙げられるがこれらに限るものではない。芳香族性を有する2価の有機残基としては、好ましくは炭素数6〜30のアリール基やアリール基の骨格にさらに飽和脂肪族環もしくは不飽和脂肪族環が縮合したものであり、例えばo−フェニレン基、1,8−ナフチレン基、2,3−ナフチレン基、1,2−アンスリレン基、9,10−フェナンスリレン基、等が挙げられがこれらに限るものではない。複素環芳香族性を有する2価の有機残基は、環を形成する原子に窒素、酸素、イオウなどの複素原子を少なくとも1つ含むもので、複素環芳香族基の他、複素環芳香族基の骨格にさらに飽和脂肪族環、不飽和脂肪族環、もしく複素環が縮合したものを含み、例えば、3,4−ピラゾールジイル基、2,3−ピリジンジイル基、5,6−ピリミジンジイル基、6,7−ベンズイミダゾールジイル基、6,7キノリンジイル基等が挙げられがこれらに限るものではない。カルボニル基含有2価の有機残基としては、2−ベンゾイル基、2−ナフチルカルボニル基などが挙げられるがこれらに限るものではない。 In the general formulas (3), (4), (6), (7), (18) and (19), Y represents a substituted or unsubstituted alkylene group. Substituted or unsubstituted cycloalkylene group, substituted or unsubstituted aralkylene group, substituted or unsubstituted aromatic divalent organic residue, substituted or unsubstituted heteroaromatic divalent organic residue Or a divalent carbonyl group-containing organic residue represented by CO—Z— (where Z is a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted aromatic group) Or a divalent organic residue having a substituted or unsubstituted heteroaromatic property, wherein the alkylene group preferably has 1 to 25 carbon atoms, and more preferably has 1 to 25 carbon atoms. 1-12 alkylene groups, for example, methylene And alkylene groups such as, but not limited to, ethylene groups, propylene groups, butylene groups, pentylene groups, hexylene groups, octylene groups, decylene groups, etc. The alkylene group forms an aromatic ring at its carbon-carbon bond. The cycloalkylene group is preferably a cycloalkylene group having 5 to 8 carbon atoms, such as, but not limited to, a cyclopentylene group and a cyclohexylene group. An aralkylene group having 7 to 20 carbon atoms, such as, for example, a toluylene group, a xylylene group, an ethylenephenyleneethylene group, a phenylenemethylene group, and a phenyleneethylene group, but is not limited thereto. The residue is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms or an aryl group. A group in which a saturated aliphatic ring or unsaturated aliphatic ring is further condensed to the skeleton of the group, for example, o-phenylene group, 1,8-naphthylene group, 2,3-naphthylene group, 1,2-anthrylene group, 9 , 10-phenanthrylene group, etc. The divalent organic residue having a heterocyclic aromatic property includes at least a heteroatom such as nitrogen, oxygen or sulfur as an atom forming a ring. In addition to the heterocyclic aromatic group, the skeleton of the heterocyclic aromatic group further includes a condensed saturated aliphatic ring, unsaturated aliphatic ring, or heterocyclic ring. -Pyrazolediyl group, 2,3-pyridinediyl group, 5,6-pyrimidindiyl group, 6,7-benzimidazolediyl group, 6,7quinolinediyl group, etc., but not limited thereto, including carbonyl group Examples of the divalent organic residue include a 2-benzoyl group and a 2-naphthylcarbonyl group, but are not limited thereto.
これらのアルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基、芳香族性を有する2価の有機残基、複素芳香族性を有する2価の有機残基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、ベンジル基、フェネチル基、メトキシメチル基などの置換アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基、置換基を有しても良いフェニル基、置換基を有しても良いナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基などの芳香族基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ヒドロキシ基、置換基を有しても良いアミノ基、アセチルアミノ基、置換基を有してもよいベンゾイルアミノ基などのカルボアミノ基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有しても良いカルバモイル基などが挙げられる。 Substituents of these alkylene group, cycloalkylene group, aralkylene group, divalent organic residue having aromaticity, and divalent organic residue having heteroaromaticity include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. An alkyl group such as a butyl group, a substituted alkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group and a methoxymethyl group; an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group and a phenoxy group; a phenyl group which may have a substituent; Aromatic groups such as naphthyl group, anthracenyl group, phenanthrenyl group and pyrenyl group which may be present, halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom, hydroxy group, amino group which may have a substituent, acetyl Amino group, carboxyamino group such as benzoylamino group which may have a substituent, nitro group, cyano group, acetyl group, having a substituent Good benzoyl group, an alkoxycarbonyl group, an optionally substituted phenoxycarbonyl group, and the like may carbamoyl group which may have a substituent.
前記一般式(3)、及び一般式(4)で示されるカップラー残基の中でも、前記一般式(6)、及び一般式(7)で示されるカップラー残基が好ましく、これらの中でもYが置換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のカルボニル基含有2価の有機残基であるカップラー残基が好ましく、これらの中でも特にYが、下記一般式(21)、及び一般式(22)で示されるカップラー残基が好ましい。 Among the coupler residues represented by the general formulas (3) and (4), the coupler residues represented by the general formulas (6) and (7) are preferable, and among these, Y is substituted. Alternatively, a coupler residue which is an unsubstituted alkylene group or a substituted or unsubstituted carbonyl group-containing divalent organic residue is preferable, and among these, Y is particularly preferably represented by the following general formulas (21) and (22). The indicated coupler residues are preferred.
前記一般式(21)中のB1、及び前記一般式(22)中のB2は、例えば、o−フェニレン基、2,3−ナフチレン基などの芳香族炭化水素環の2価基、例えば2,3−ピリンイル基、3,4−ピラゾールイル基、2,3−ピリジンイル基、4,5−ピリジンイル基、4,5−イミダゾールイル基などの芳香族複素環の2価基を表し、それらの置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などのアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基などが挙げられる。 B1 in the general formula (21) and B2 in the general formula (22) each represent, for example, a divalent group of an aromatic hydrocarbon ring such as an o-phenylene group or a 2,3-naphthylene group, for example, 2, Represents a divalent group of an aromatic heterocyclic ring such as a 3-pyrinyl group, a 3,4-pyrazolyl group, a 2,3-pyridineyl group, a 4,5-pyridineyl group, a 4,5-imidazoleyl group, and substitution thereof. Examples of the group include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, and a phenoxy group; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom; and a nitro group. Is mentioned.
以下に本発明の新規カップラー(Cp)の例を示す。 Hereinafter, examples of the novel coupler (Cp) of the present invention will be described.
前記一般式(1)のCpにおいて、前記一般式(2)、一般式(3)、及び一般式(4)で示されるカップラー残基以外に共存しても良いカップラー残基の例としては、例えば、フェノール類、ナフトール類などのフェノール性水酸基を有する化合物、アミノ基を有する芳香族アミノ化合物あるいはアミノ基とフェノール性水酸基を有するアミノナフトール類、脂肪族もしくは、芳香族のエノール性ケトン基を有する化合物(活性メチレン基を有する化合物)などが挙げられ、好ましくは、カップラー残基Cpが下記一般式(Cp1)、一般式(Cp2)、一般式(Cp3)、一般式(Cp4)、一般式(Cp5)、一般式(Cp6)、一般式(Cp7)、一般式(Cp8)、一般式(Cp9)、一般式(Cp10)、一般式(Cp11)、一般式(Cp12)又は一般式(Cp13)で表わされるものである。 In Cp of the general formula (1), examples of the coupler residue which may coexist in addition to the coupler residues represented by the general formulas (2), (3) and (4) include: For example, phenols, compounds having a phenolic hydroxyl group such as naphthols, aromatic amino compounds having an amino group or aminonaphthols having an amino group and a phenolic hydroxyl group, having an aliphatic or aromatic enol ketone group And a compound (a compound having an active methylene group). Preferably, the coupler residue Cp has the following general formula (Cp1), general formula (Cp2), general formula (Cp3), general formula (Cp4) or general formula (Cp4). Cp5), general formula (Cp6), general formula (Cp7), general formula (Cp8), general formula (Cp9), general formula (Cp10), general formula (Cp11), It is represented by the general formula (Cp12) or the general formula (Cp13).
ただし、R11及びR12は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、R13は置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
Y1は水素原子、ハロゲン、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基、置換もしくは無置換のスルファモイル基又は下記式で表される機を表す。
Here, R 11 and R 12 represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 13 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
Y 1 represents a hydrogen atom, a halogen, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a carboxy group, a sulfo group, a substituted or unsubstituted sulfamoyl group, or a machine represented by the following formula.
Z1は炭化水素環又はその置換体あるいは複素環又はその置換体を表す。
lは1又は2の整数である。
mは、1又は2の整数である。
Z 1 represents a hydrocarbon ring or a substituted body thereof, or a heterocyclic ring or a substituted body thereof.
l is an integer of 1 or 2.
m is an integer of 1 or 2.
前記一般式(Cp1)、一般式(Cp2)、一般式(Cp3)又は一般式(Cp4)のZ1の炭化水素環としてはベンゼン環、ナフタレン環などが例示できる。また、置換基を有してもよい複素環としてはインドール環、カルバゾール環、ベンゾラン環、ジベンゾフラン環などが例示できる。Z1の環における置換基としては塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。 Examples of the hydrocarbon ring of Z1 in the general formula (Cp1), the general formula (Cp2), the general formula (Cp3) or the general formula (Cp4) include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of the heterocyclic ring which may have a substituent include an indole ring, a carbazole ring, a benzolane ring, a dibenzofuran ring and the like. The substituent in the ring of Z 1 may be exemplified halogen atom such as chlorine atom, a bromine atom.
Y2又はR15における炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ピレニル基などが、また、複素環基としてはピリジル基、チェニル基、フリル基、インドリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基、ジベンゾフラニル基などが例示でき、さらに、R15及びR16が結合して形成する環としては、フルオレン環などが例示できる。 Examples of the hydrocarbon ring group for Y 2 or R 15 include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, and a pyrenyl group, and examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a phenyl group, a furyl group, an indolyl group, a benzofuranyl group, and a carbazolyl group. And a ring formed by combining R 15 and R 16 with each other, and a fluorene ring.
Y2又はR15の炭化水素環基又は複素環基あるいはR5及びR16によって形成される環における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキルアミノ基、トリフルオロメチル基などのハロメチル基、ニトロ基、シアノ基位、カルボキシル基又はそのエステル、水酸基、−SO3Naなどのスルホン酸塩基などが挙げられる。 Examples of the substituent in the hydrocarbon ring group or heterocyclic group of Y 2 or R 15 or the ring formed by R 5 and R 16 include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, a methoxy group, Alkoxy groups such as ethoxy group, propoxy group and butoxy group, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, dialkylamino groups such as dimethylamino group and diethylamino group, halomethyl groups such as trifluoromethyl group, nitro group, and cyano group , a carboxyl group or an ester thereof, a hydroxyl group, such as sulfonate groups, such as -SO 3 Na and the like.
R14のフェニル基の置換体としては、塩素原子又は臭素原子などのハロゲン原子が例示できる。 Examples of the substituent of the phenyl group for R 14 include a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom.
R17又はR19における炭化水素基の代表例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基又はこれらの置換体が例示できる。 Representative examples of the hydrocarbon group represented by R 17 or R 19 include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, an aryl group such as a phenyl group, and a substituted product thereof.
R7又はR9の炭化水素基における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、水酸基、ニトロ基などが例示できる。 Examples of the substituent in the hydrocarbon group of R 7 or R 9 include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group and a butoxy group, a chlorine atom, Examples thereof include a halogen atom such as a bromine atom, a hydroxyl group, and a nitro group.
Ar1又はAr2における炭化水素環基としては、フェニル基、ナフチル基などがその代表例であり、また、これらの基における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、ニトロ基、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのジアルキルアミノ基などが例示できる。
また、X1の中では特に水酸基が適当である。
Representative examples of the hydrocarbon ring group in Ar 1 or Ar 2 include a phenyl group and a naphthyl group, and examples of the substituent in these groups include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Examples thereof include an alkoxy group such as an alkyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group and a butoxy group, a halogen atom such as a nitro group, a chlorine atom and a bromine atom, and a dialkylamino group such as a cyano group, a dimethylamino group and a diethylamino group. .
Further, among X1, a hydroxyl group is particularly suitable.
上記カップラー残基の中でも好ましいのは上記一般式(Cp2)、一般式(Cp5)、一般式(Cp6)、一般式(Cp7)、一般式(Cp8)及び一般式(Cp9)で示されるものであり、この中でも一般式におけるX1が水酸基のものが好ましい。また、一般式(Cp2)で示されるカップラー残基の中でも、特に一般式(Cp10)で示されるカップラー残基が好ましい。 Among the above coupler residues, those represented by the above general formula (Cp2), general formula (Cp5), general formula (Cp6), general formula (Cp7), general formula (Cp8) and general formula (Cp9) are preferable. Of these, X 1 in the general formula is preferably a hydroxyl group. Further, among the coupler residues represented by the general formula (Cp2), a coupler residue represented by the general formula (Cp10) is particularly preferable.
さらに好ましくは一般式で表わされるカップラー残基である。
More preferred are coupler residues represented by the general formula.
さらにまた、上記の好ましいカップラー残基の中でも一般式(Cp12)又は一般式(Cp13)で表わされるものが適当である。 Furthermore, among the above preferred coupler residues, those represented by the general formula (Cp12) or (Cp13) are suitable.
また、前記一般式(Cp6)で示されるカップラー残基の中でも、特に下記一般式(Cp14)あるいは下記一般式(Cp15)で示されるカップラー残基が好ましい。
Further, among the coupler residues represented by the general formula (Cp6), a coupler residue represented by the following general formula (Cp14) or the following general formula (Cp15) is particularly preferable.
以下に、カップラー残基(Cp)の例を示す。 Below, the example of a coupler residue (Cp) is shown.
以下に本発明のアゾ化合物の具体例を以下の表に示すが、簡略化のため、下記表47に示す中心骨格と、表48ないし表55に示すAr1、Ar2、及び2つのカップラー化合物(Cp)を示し、それらの各々の番号の組合せでアゾ化合物を示す。なお、これらの具体例に本発明のアゾ化合物が限定されるものではない。 Hereinafter, specific examples of the azo compound of the present invention are shown in the following table. For simplification, a central skeleton shown in Table 47 below, and Ar 1 , Ar 2 , and two coupler compounds shown in Tables 48 to 55 are shown. (Cp), and azo compounds are indicated by combinations of their respective numbers. The azo compounds of the present invention are not limited to these specific examples.
次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、これにより本発明の態様が限定されるものではない。 Next, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.
(合成例1)
<2−(t−ブトキシ)7,8−ナフタル酸ジメチルエステル(一般式(13)におけるR1=R2=R3=R4=H,R5=CH3,R6=t−C4H9の化合物)の製造>
p−t−ブトキシスチレン35.25g(0.2mol)、アセチレンジカルボン酸ジメチルエステル56.84g(0.4mol)をニトロベンゼン200mlに溶解し、140℃で5時間、反応、放冷する。更に、減圧下、ニトロベンゼンを留去後、残渣に対し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒として、n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1)処理を施し、40.78gの粗製の目的物が得られた。
次いで、ジイソプロピルエーテルより再結晶して、36.63g(収率57.9%)の目的のナフタレン化合物を得た。融点は、82.0〜83.0℃であった。元素分析値を下表に示す。
(Synthesis example 1)
<2- (t-butoxy) 7,8-naphthalic acid dimethyl ester (R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = H, R 5 = CH 3 , R 6 = t-C 4 in the general formula (13)) compounds of H 9) manufacturing>
35.25 g (0.2 mol) of pt-butoxystyrene and 56.84 g (0.4 mol) of dimethyl acetylenedicarboxylate are dissolved in 200 ml of nitrobenzene, reacted at 140 ° C. for 5 hours, and allowed to cool. Further, after nitrobenzene was distilled off under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography (n-hexane: ethyl acetate = 9: 1 as a developing solvent) to obtain 40.78 g of a crude target product. Was.
Next, the product was recrystallized from diisopropyl ether to obtain 36.63 g (yield 57.9%) of the target naphthalene compound. Melting point was 82.0-83.0 ° C. Elemental analysis values are shown in the table below.
(合成例2)
<2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸ジメチルエステル(一般式(14)におけるR1=R2=R3=R4=H,R5=CH3の化合物)の製造>
合成例1で得られた、2−(t―ブトキシ)7,8−ナフタル酸ジメチルエステル31.63g(0.1mol)を120mlの塩化メチレンに溶解し、室温攪拌下、トリフルオロ酢酸57.01g(0.5mol)を10分を要して滴下し、更に、同条件(室温)下で3時間攪拌反応を続ける。反応後、反応物を氷上に注ぎ、水を加え、分相する。塩化メチレン相を、更に2回水洗し、無水硫酸マグネシウムにより脱水する。ろ過により、硫酸マグネシウムを除去し、塩化メチレンを留去した残渣を、トルエンより再結晶して、24.31g(収率93.4%)の目的のナフタレン化合物を得た。融点は、139.0〜139.8℃であった。元素分析値を下表に示す。
(Synthesis example 2)
<Production of 2-hydroxy-7,8-naphthalic acid dimethyl ester (compound of general formula (14) in which R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = H, R 5 = CH 3 )>
31.63 g (0.1 mol) of 2- (t-butoxy) 7,8-naphthalic acid dimethyl ester obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in 120 ml of methylene chloride, and 57.01 g of trifluoroacetic acid was stirred at room temperature. (0.5 mol) was added dropwise over 10 minutes, and the stirring reaction was continued for 3 hours under the same conditions (room temperature). After the reaction, the reaction product is poured on ice, water is added, and the phases are separated. The methylene chloride phase is washed twice more with water and dried over anhydrous magnesium sulfate. Magnesium sulfate was removed by filtration, and the residue from which methylene chloride was distilled off was recrystallized from toluene to obtain 24.31 g (yield 93.4%) of the desired naphthalene compound. The melting point was 139.0-139.8 ° C. Elemental analysis values are shown in the table below.
(合成例3)
<N−n−ヘキシル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR1=R2=R3=R4=H,X=C6H13−n〔カップラーNo.C1〕の化合物)の製造>
合成例2で得られた2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸ジメチルエステル10.41g(0.04mol)、及びn−ヘキシルアミン12.14g(0.12mol)をエチレングリコール100ml中、窒素ガス気流下120℃にて4時間、攪拌反応を行った。反応終了、放冷後、反応物を氷上に注ぎ、塩酸酸性した後、析出した結晶をろ取し、500mlのイオン交換水で洗浄後、60℃で減圧下に乾燥して、粗製の目的物9.73gを得た。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒として、トルエン:酢酸エチル=4:1)処理、及びトルエンより再結晶して7.12g(収率59.9%)の黄色のカップラー化合物<カップラーNo.C1>を得た。融点は、165.5〜166.5℃であった。元素分析値を下表に示す。
(Synthesis example 3)
<Nn-hexyl-2-hydroxy-7,8-naphthalimide (R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = H in the general formula (16), X = C 6 H 13 -n [coupler No. Production of Compound C1])>
Nitrogen gas stream of 10.41 g (0.04 mol) of 2-hydroxy-7,8-naphthalic acid dimethyl ester obtained in Synthesis Example 2 and 12.14 g (0.12 mol) of n-hexylamine in 100 ml of ethylene glycol A stirring reaction was performed at 120 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction and cooling, the reaction product was poured on ice, acidified with hydrochloric acid, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with 500 ml of ion-exchanged water, and dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain a crude product. 9.73 g were obtained. The obtained crude product was treated with silica gel column chromatography (toluene: ethyl acetate = 4: 1 as a developing solvent) and recrystallized from toluene to give 7.12 g (yield 59.9%) of a yellow coupler compound < Coupler No. C1> was obtained. The melting point was 165.5-166.5 ° C. Elemental analysis values are shown in the table below.
(合成例4)
<N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR1=R2=R3=R4=H,X=下記式のベンジル〔カップラーNo.C5〕の化合物)の製造>
(Synthesis example 4)
<N-benzyl-2-hydroxy-7,8-naphthalimide (R 1 RR 2 RR 3 RR 4 HH in general formula (16), X = benzyl of the following formula [coupler No. C5] Production of Compound)>
(合成例5)
<N−(2−フェニルエチル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR1=R2=R3=R4=H,X=下記式のフェニルエチル〔カップラーNo.C14〕の化合物)の製造>
(Synthesis example 5)
<N- (2-phenylethyl) -2-hydroxy-7,8-naphthalimide (R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = H in the general formula (16), X = phenylethyl of the following formula [ Production of Compound No. C14]>
(合成例6)
<N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR1=R2=R3=R4=H,X=下記式のフェニルプロピル〔カップラーNo.C24〕の化合物)の製造>
(Synthesis example 6)
<N- (3-phenylpropyl) -2-hydroxy-7,8-naphthalimide (R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = H in the general formula (16), X = phenylpropyl of the following formula [ Production of Compound of Coupler No. C24]>
(合成例7)
<N−フェニル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(一般式(16)におけるR1=R2=R3=R4=H,X=下記式のフェニル〔カップラーNo.C28〕の化合物)の製造>
(Synthesis example 7)
<N-phenyl-2-hydroxy-7,8-naphthalimide (R 1 = R 2 = R 3 = R 4 = H in the general formula (16), X = phenyl of the following formula [coupler No. C28] Production of Compound)>
(合成例8)
<12−ヒドロキシ−ベンゾ〔6,7〕イソインドール〔2,1−a〕ペリミジン−14−オン、或いは9−ヒドロキシ−ベンゾ〔4,5〕イソインドール〔2,1−a〕ペリミジン−14−オン(一般式(18)或いは一般式(19)におけるR1=R2=R3=R4=H,Y=下記式のナフチレン<カップラーNo.E23>の化合物〕の製造>
(Synthesis example 8)
<12-hydroxy-benzo [6,7] isoindole [2,1-a] perimidin-14-one or 9-hydroxy-benzo [4,5] isoindole [2,1-a] perimidine-14 Preparation of ON (R 1 RR 2 RR 3 R 4 YH in the general formula (18) or the general formula (19), Y = a compound of naphthylene <coupler No. E23> of the following formula)>
(実施例1)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P3)の製造−
N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.91g(3mmol)をDMF100mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノジベンゾ[a,c]フェナジンより合成されたジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.76g(1.5mmol)を加えた。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P3)を得た。
得られたアゾ化合物についての、収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 1)
-Production of azo compound (azo compound No. P3)-
0.91 g (3 mmol) of N-benzyl-2-hydroxy-7,8-naphthalimide (compound of coupler No. C5) was dissolved in 100 ml of DMF, and 2,7-diaminodibenzo [a, c 0.76 g (1.5 mmol) of dibenzo [a, c] phenazine-2,7-bisdiazonium tetrafluoroborate synthesized from phenazine was added. Then, 4.92 g of a 10% by mass aqueous sodium acetate solution was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 6 hours. The formed precipitate was separated by filtration, washed three times with 120 ml of DMF at room temperature, and then twice with 120 ml of water. Drying at 70 ° C. under reduced pressure gave an azo compound (azo compound No. P3).
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
(実施例2)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P4)の製造−
N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.46g(1.5mmol)をDMF60mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノジベンゾ[a,c]フェナジンより合成されたジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.76g(1.5mmol)を加え、30分間室温攪拌した。次いで、2−ヒドロキシ−3−フェニルカルバモイルナフタレン(カップラーNo.17の化合物)0.39g(1.5mmol)とDMF40mlからなる溶液を加える。
次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P4)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 2)
-Production of azo compound (azo compound No. P4)-
0.46 g (1.5 mmol) of N-benzyl-2-hydroxy-7,8-naphthalimide (compound of coupler No. C5) was dissolved in 60 ml of DMF, and 2,7-diaminodibenzo [a , C] phenazine synthesized, and 0.76 g (1.5 mmol) of dibenzo [a, c] phenazine-2,7-bisdiazonium tetrafluoroborate was added, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. Next, a solution consisting of 0.39 g (1.5 mmol) of 2-hydroxy-3-phenylcarbamoylnaphthalene (the compound of coupler No. 17) and 40 ml of DMF is added.
Then, 4.92 g of a 10% by mass aqueous sodium acetate solution was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 6 hours. The formed precipitate was separated by filtration, washed three times with 120 ml of DMF at room temperature, and then twice with 120 ml of water. Drying under reduced pressure at 70 ° C. gave an azo compound (azo compound No. P4).
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
(実施例3)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P20)の製造−
実施例1において、N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.91g(3mmol)の代わりに、N−(2−フェニルエチル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C14の化合物)0.95g(3mmol)を使用した以外は、実施例1と同様に製造し、アゾ化合物(アゾ化合物No.P20)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 3)
-Production of azo compound (azo compound No. P20)-
In Example 1, N- (2-phenylethyl) -2-hydroxy was replaced with 0.91 g (3 mmol) of N-benzyl-2-hydroxy-7,8-naphthalimide (compound of coupler No. C5). An azo compound (azo compound No. P20) was obtained in the same manner as in Example 1, except that 0.95 g (3 mmol) of -7,8-naphthalic acid imide (compound of coupler No. C14) was used.
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
(実施例4)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P21)の製造−
実施例1において、N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.46g(1.5mmol)の代わりに、N−(2−フェニルエチル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C14の化合物)0.48g(1.5mmol)を使用した以外は、実施例1と同様に製造し、アゾ化合物(アゾ化合物No.P21)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 4)
-Production of azo compound (azo compound No. P21)-
In Example 1, N- (2-phenylethyl) -2 was used instead of 0.46 g (1.5 mmol) of N-benzyl-2-hydroxy-7,8-naphthalimide (compound of coupler No. C5). An azo compound (azo compound No. P21) was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.48 g (1.5 mmol) of -hydroxy-7,8-naphthalimide (the compound of coupler No. C14) was used. Got.
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
(実施例5)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P27)の製造−
実施例1において、N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.91g(3mmol)の代わりに、N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.99g(3mmol)を使用した以外は、実施例1と同様に製造し、アゾ化合物(アゾ化合物No.P27)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 5)
-Production of azo compound (azo compound No. P27)-
In Example 1, N- (3-phenylpropyl) -2-hydroxy was replaced with 0.91 g (3 mmol) of N-benzyl-2-hydroxy-7,8-naphthalimide (compound of coupler No. C5). An azo compound (azo compound No. P27) was obtained in the same manner as in Example 1, except that 0.99 g (3 mmol) of -7,8-naphthalic acid imide (the compound of coupler No. C24) was used.
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
(実施例6)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P28)の製造−
実施例1において、N−ベンジル−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C5の化合物)0.46g(1.5mmol)の代わりに、N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.50g(1.5mmol)を使用した以外は、実施例1と同様に製造し、アゾ化合物(アゾ化合物No.P28)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 6)
-Production of azo compound (azo compound No. P28)-
In Example 1, N- (3-phenylpropyl) -2 was used instead of 0.46 g (1.5 mmol) of N-benzyl-2-hydroxy-7,8-naphthalimide (the compound of coupler No. C5). An azo compound (azo compound No. P28) was produced in the same manner as in Example 1 except that 0.50 g (1.5 mmol) of -hydroxy-7,8-naphthalimide (the compound of coupler No. C24) was used. Got.
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
(実施例7)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P169)の製造−
N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.50g(1.5mmol)をDMF60mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノ−11−メチルジベンゾ[a,c]フェナジンより合成された11−メチルジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.78g(1.5mmol)を加え、30分間室温攪拌した。次いで、2−ヒドロキシ−3−フェニルカルバモイル−11H−ベンゾ[a]カルバゾール(カップラーNo.73の化合物)0.57g(1.5mmol)とDMF40mlからなる溶液を加える。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P169)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 7)
-Production of azo compound (azo compound No. P169)-
0.50 g (1.5 mmol) of N- (3-phenylpropyl) -2-hydroxy-7,8-naphthalimide (compound of coupler No. C24) is dissolved in 60 ml of DMF and 2,7 g 0.78 g (1.5 mmol) of 11-methyldibenzo [a, c] phenazine-2,7-bisdiazonium tetrafluoroborate synthesized from -diamino-11-methyldibenzo [a, c] phenazine was added, and the mixture was added for 30 minutes. Stirred at room temperature. Next, a solution consisting of 0.57 g (1.5 mmol) of 2-hydroxy-3-phenylcarbamoyl-11H-benzo [a] carbazole (compound of coupler No. 73) and 40 ml of DMF is added. Then, 4.92 g of a 10% by mass aqueous sodium acetate solution was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 6 hours. The formed precipitate was separated by filtration, washed three times with 120 ml of DMF at room temperature, and then twice with 120 ml of water. Drying under reduced pressure at 70 ° C. gave an azo compound (azo compound No. P169).
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
(実施例8)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P207)の製造−
N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.99g(3mmol)をDMF100mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノ−11−クロルジベンゾ[a,c]フェナジンより合成された11−クロルジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.0.81g(1.5mmol)を加えた。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P207)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 8)
-Production of azo compound (azo compound No. P207)-
0.99 g (3 mmol) of N- (3-phenylpropyl) -2-hydroxy-7,8-naphthalimide (compound of coupler No. C24) is dissolved in 100 ml of DMF, and 2,7-diamino 11-Chlorodibenzo [a, c] phenazine-2,7-bisdiazonium tetrafluoroborate 0.0.81 g (1.5 mmol) synthesized from -11-chlorodibenzo [a, c] phenazine was added. Then, 4.92 g of a 10% by mass aqueous sodium acetate solution was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 6 hours. The formed precipitate was separated by filtration, washed three times with 120 ml of DMF at room temperature, and then twice with 120 ml of water. Drying at 70 ° C. under reduced pressure gave an azo compound (azo compound No. P207).
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
(実施例9)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P209)の製造−
N−(3−フェニルプロピル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C24の化合物)0.50g(1.5mmol)をDMF60mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノ−11−クロルジベンゾ[a,c]フェナジンより合成された11−クロルジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.81g(1.5mmol)を加え、30分間室温攪拌した。次いで、2−ヒドロキシ−3−フェニルカルバモイル−11H−ベンゾ[a]カルバゾール(カップラーNo.73の化合物)0.57g(1.5mmol)とDMF40mlからなる溶液を加える。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液4.92gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMF120mlで3回洗浄し、次に、水120mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P209)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 9)
-Production of azo compound (azo compound No. P209)-
0.50 g (1.5 mmol) of N- (3-phenylpropyl) -2-hydroxy-7,8-naphthalimide (compound of coupler No. C24) is dissolved in 60 ml of DMF and 2,7 g 0.81 g (1.5 mmol) of 11-chlorodibenzo [a, c] phenazine-2,7-bisdiazonium tetrafluoroborate synthesized from -diamino-11-chlorodibenzo [a, c] phenazine was added, and the mixture was added for 30 minutes. Stirred at room temperature. Next, a solution consisting of 0.57 g (1.5 mmol) of 2-hydroxy-3-phenylcarbamoyl-11H-benzo [a] carbazole (compound of coupler No. 73) and 40 ml of DMF is added. Then, 4.92 g of a 10% by mass aqueous sodium acetate solution was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 6 hours. The formed precipitate was separated by filtration, washed three times with 120 ml of DMF at room temperature, and then twice with 120 ml of water. Drying under reduced pressure at 70 ° C. gave an azo compound (azo compound No. P209).
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
(実施例10)
−アゾ化合物(アゾ化合物No.P289)の製造−
N−(2−フェニルエチル)−2−ヒドロキシ−7,8−ナフタル酸イミド(カップラーNo.C14の化合物)0.159g(0.50mmol)をDMSO 20mlに溶解し、室温にて、予め2,7−ジアミノ−11,12−ジメチルジベンゾ[a,c]フェナジンより合成された11,12−ジメチルジベンゾ[a,c]フェナジン−2,7−ビスジアゾニウムテトラフルオロボレート0.268g(0.50mmol)を加え、10分間室温攪拌した。次いで、2(5)−ヒドロキシ−7H−ベンズイミダゾ[2,1−a]ベンズイソキノリノン−7(カップラーNo.195の化合物)0.143g(0.50mmol)とDMSO 20mlからなる溶液を加えた。次いで、10質量%酢酸ナトリウム水溶液1.65gを10分を要して滴下し、室温にて6時間攪拌反応した。生成している沈殿をろ別し、室温にてDMSO 60mlで3回洗浄し、次に、水60mlで2回洗浄した。70℃で減圧下に乾燥して、アゾ化合物(アゾ化合物No.P289)を得た。
得られたアゾ化合物についての収量(収率)、赤外線吸収スペクトル、及び元素分析結果は、まとめて表64に示す。
(Example 10)
-Production of azo compound (azo compound No. P289)-
0.159 g (0.50 mmol) of N- (2-phenylethyl) -2-hydroxy-7,8-naphthalimide (compound of coupler No. C14) was dissolved in 20 ml of DMSO, 0.268 g (0.50 mmol) of 11,12-dimethyldibenzo [a, c] phenazine-2,7-bisdiazonium tetrafluoroborate synthesized from 7-diamino-11,12-dimethyldibenzo [a, c] phenazine Was added and stirred at room temperature for 10 minutes. Next, a solution consisting of 0.143 g (0.50 mmol) of 2 (5) -hydroxy-7H-benzimidazo [2,1-a] benzisoquinolinone-7 (the compound of coupler No. 195) and 20 ml of DMSO was added. Was. Then, 1.65 g of a 10% by mass aqueous sodium acetate solution was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred and reacted at room temperature for 6 hours. The resulting precipitate was filtered off, washed three times with 60 ml of DMSO at room temperature, and then twice with 60 ml of water. Drying at 70 ° C. under reduced pressure gave an azo compound (azo compound No. P289).
The yield (yield), infrared absorption spectrum, and elemental analysis result of the obtained azo compound are collectively shown in Table 64.
更に、本発明を以下の応用例により具体的に説明するが、これにより本発明の実施の形態が安定されるものではない。
(応用例1)
本発明の実施例5(アゾ化合物No.P27)のアゾ化合物7.5質量部、ポリエステル樹脂(バイロン200:東洋紡製)の0.5質量%テトラヒドロフラン溶液500質量部をボールミル中で粉砕、混合し、得られた分散液をアルミニウム蒸着ポリエステルフィルム上にドクターブレードで塗布し、自然乾燥して、厚さ約1μmの電荷発生層を形成した。
次に、下記構造式(D−1)で示される電荷輸送物質1質量部、ポリカーボネート樹脂(パンライトK1300:帝人化成製)1質量部、テトラヒドロフラン8質量部の電荷輸送層塗布液を調整し、前記電荷発生層上にドクターブレードで塗布し、80℃にて2分間、次いで120℃にて5分間乾燥して厚さ20μmの電荷輸送層を形成した。
Further, the present invention will be specifically described with reference to the following application examples, but this does not stabilize the embodiments of the present invention.
(Application Example 1)
7.5 parts by mass of an azo compound of Example 5 of the present invention (azo compound No. P27) and 500 parts by mass of a 0.5% by mass tetrahydrofuran solution of a polyester resin (Vylon 200: Toyobo) were pulverized and mixed in a ball mill. The resulting dispersion was applied onto an aluminum-evaporated polyester film with a doctor blade and air-dried to form a charge generating layer having a thickness of about 1 μm.
Next, a charge transport layer coating solution of 1 part by mass of a charge transport material represented by the following structural formula (D-1), 1 part by mass of a polycarbonate resin (Panlite K1300: manufactured by Teijin Chemicals), and 8 parts by mass of tetrahydrofuran was prepared. The composition was coated on the charge generation layer with a doctor blade and dried at 80 ° C. for 2 minutes and then at 120 ° C. for 5 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm.
以上のようにして得られた電子写真感光体について、25℃/55%RHの環境下、静電複写紙試験装置EPA−8200(川口電機製作所製)を用いて、暗所で−6kVのコロナ放電を20秒間行って帯電させた後、更に20秒間暗所に放置し、そのときの表面電位V0(V)を測定し、次いで、タングステンランプによって感光体表面の照度5.3ルックスになるようにして光を照射しその表面電位がV0の1/2になるまでの時間(秒)を求め、露光量E1/2(ルックス・秒)を算出した。その結果はV0=−1382ボルト、E1/2=1.94ルックス・秒であった。 The electrophotographic photoreceptor thus obtained was subjected to a corona of -6 kV in a dark place using an electrostatic copying paper tester EPA-8200 (manufactured by Kawaguchi Electric Works) in an environment of 25 ° C./55% RH. After discharging for 20 seconds to charge, the device is left in a dark place for another 20 seconds, the surface potential V0 (V) at that time is measured, and then the illuminance of the photosensitive member surface is adjusted to 5.3 lux by a tungsten lamp. Then, a time (sec) until the surface potential becomes 1/2 of V0 was determined, and an exposure amount E1 / 2 (lux · sec) was calculated. The result was V0 = -1382 volts, E1 / 2 = 1.94 lux-seconds.
本発明のアゾ化合物の製造原料(カップラー化合物)は、従来のカップラー化合物と比較して製造が容易であり、この製造原料(カップラー化合物)を用いたアゾ化合物も容易に製造することができる。また、本発明のアゾ化合物は、感光層用材料として用いることにより、高感度の電子写真感光体を提供することができる。 The production material (coupler compound) of the azo compound of the present invention is easier to produce than a conventional coupler compound, and an azo compound using this production material (coupler compound) can be easily produced. Further, by using the azo compound of the present invention as a material for a photosensitive layer, a highly sensitive electrophotographic photosensitive member can be provided.
Claims (7)
HCp 一般式(10)
ただし、前記一般式(10)中、Cpは、カップラー残基を表す。 A method for producing an azo compound, comprising reacting a diazonium salt compound represented by the following general formula (9) with a coupler compound represented by the following general formula (10).
HCp General formula (10)
Here, in the general formula (10), Cp represents a coupler residue.
A photosensitive layer material comprising the azo compound according to claim 1.
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