JP2004296793A - Solar battery element - Google Patents

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solar cell
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Satoshi Tanimoto
谷本  智
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solar battery element whose long-term reliability can be ensured without coating the surfaces of electrodes with solder. <P>SOLUTION: The solar battery element comprises a semiconductor board 1 having a semiconductor junction and the electrodes 5, 6 on the board surfaces. An electrode material is applied to the front and back faces of the board and is burned, while an organic material 9 is applied to respective surfaces of the front face and back face electrodes 5, 6 and is dried. As a result, the surfaces of the electrodes 5, 6 are protected from the fresh air even without coating the electrode surfaces with solder to prevent the moisture absorption of the electrodes, thus preventing the oxidization of the electrodes. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は太陽電池素子に関し、特に半導体基板の表面に電極を有する太陽電池素子に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
従来の太陽電池の断面図を図2に示す。図2において、1は半導体基板、2は拡散層、4はBSF層、5は表面電極、6は裏面電極、7は半田層を示す。
【0003】
例えばP型シリコン基板1の表面側には、Pを含むN型拡散層2と窒化シリコン膜などからなる反射防止膜(不図示)が形成される。また、シリコン基板1の裏面側には例えばアルミニウムなどを拡散して形成された高濃度P型のBSF層4を有する。さらに、シリコン基板1の表裏両面にはそれぞれ電極5、6が形成されている。
【0004】
図3に従来の太陽電池素子の一般的な表面電極の形状を示す。図3において、5は表面電極、8は太陽電池素子を示す。図3に示すように、表面電極5は格子状に形成されるのが一般的であり、受光面積を広くすることと抵抗を低減することを考慮して設計される。さらに、この電極5、6の表面は、後工程で太陽電池素子8同士を接続するためにインナーリード(不図示)と接続しやすくするため、また太陽電池素子8の長期信頼性を確保するために半田層7で被覆するのが一般的である(例えば特許文献1参照)。すなわち、電極5、6表面に半田7の被覆を行わないと電極5、6が吸湿したり、酸化するなどの問題により長期信頼性を確保することが難しい。従来、このような半田7としては、Sn−Pbの共晶半田が用いられていた。
【0005】
しかし、近年環境問題がとりざたされる中、Sn−Pbの共晶半田に含まれる鉛が問題となってきており、鉛フリー半田の開発が進められている。しかし、その使用温度や長期信頼性の観点から、従来のSn−Pb共晶半田に勝る太陽電池素子に適した鉛フリー半田は未だ開発されていない。
【0006】
この問題を解決する手段として、電極の表面に半田を被覆しないという方法が考えられる。しかしこの方法によれば、電極が大気と触れることにより、吸湿し長期信頼性を確保できないという問題があった。
【0007】
本発明はこのような背景のもとになされたものであり、電極の表面に半田を被覆しなくても長期信頼性を確保できる太陽電池素子を提供することを目的とする。
【0008】
【特許文献1】
特開2002−111016号公報
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項1に係る太陽電池素子では、半導体接合部を有する半導体基板の表面に電極を有する太陽電池素子において、前記電極の表面が有機材料で被覆されていることを特徴とする。
【0010】
前記太陽電池素子では、前記有機材料は吸水性を有することが望ましい。
【0011】
また、前記太陽電池素子では、前記有機材料はメタノール、テトラヒドロフラン、γ―ブチロラクトン、N,N―ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,O―ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、ヘキサメチルジシラザンのいずれかであることが望ましい。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図1は本発明に係る太陽電池素子の一実施形態を示す断面図である。図1において、1は半導体基板、2は拡散層、4はBSF層、5は表面電極、6は裏面電極を示す。
【0013】
まず、半導体基板1を用意する。この半導体基板1は、単結晶または多結晶シリコンなどからなる。このシリコン基板1は、ボロン(B)などの一導電型半導体不純物を1×1016〜1×1018atoms/cm程度含有し、比抵抗1.0〜2.0Ω・cm程度の基板である。単結晶シリコン基板の場合は引き上げ法などによって形成され、多結晶シリコン基板の場合は鋳造法などによって形成される。多結晶シリコン基板は、大量生産が可能であり、製造コスト面で単結晶シリコン基板よりも有利である。引き上げ法や鋳造法によって形成されたインゴットを300〜500μm程度の厚みにスライスして、10cm×10cmもしくは15cm×15cm程度の大きさに切断して半導体基板1とする。
【0014】
次に、シリコン基板1を拡散炉中に配置して、オキシ塩化リン(POCl)などの中で加熱することによって、シリコン基板1の表面部分にリン原子を1×1016〜1×1018atoms/cm程度拡散させて拡散層2を形成する。この拡散層2は、0.2〜0.5μm程度の深さに形成され、シート抵抗が40Ω/□以上になるように形成される。次に、シリコン基板1の表面側に反射防止膜3を形成する。この反射防止膜3はたとえば窒化シリコン膜などからなり、シランとアンモニアとの混合ガスを用いたプラズマCVD法などで形成される。この反射防止膜3はシリコン基板1の表面で光が反射するのを防止して、シリコン基板1内に光を有効に取り込むために設ける。
【0015】
そして、裏面側に電極材料を塗布するとともに、この反射防止膜(不図示)の表面電極5に相当する部分をエッチングした上で電極材料を塗布して焼成する。もしくは裏面側に電極材料を塗布するとともに、この反射防止膜上に直接電極材料を塗布して焼成する。これにより表面電極5と裏面電極6が形成される。電極材料としては銀粉末と有機ビヒクルにガラスフリットを銀100重量部に対して0.1〜5重量部添加してペースト状にした電極ペーストなどが用いられ、電極ペーストをスクリーン印刷法で印刷して650〜900℃で1〜30分程度焼成することにより焼き付けられる。なお、電極のパターン形状自体は図3に示す従来の電極のパターン形状と同じである。
【0016】
その後、本発明においては、この表面電極5と裏面電極6の表面に有機材料9を塗布して乾燥させる。有機材料としては有機ガラス、有機顔料、有機金属化合物などがあり、メタノール、テトラヒドロフラン、γ―ブチロラクトン、N,N―ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,O―ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、ポリスチレン、メタクリル酸メチル、セルロイド、アセチルセルロース、エチルセルロース、ポリエステル、ポリプロピレン、アルキル基、ヘキサメチルジシラザンなどがある。このようにすることにより、電極の表面に半田を被覆しなくても電極5、6の表面は外気に触れることがなくなり、電極が吸湿するのを防止し、酸化も防ぐので長期信頼性を確保できる。さらに、従来200μm程度あった半田層7を有機物9に変えることで50μm程度に減少させることができることから、太陽電池素子8の表面の凹凸を小さくすることができ、後工程で太陽電池素子8の全面に外力がかかったとしても太陽電池素子8が割れることを抑制することができる。
【0017】
さらに、後工程において太陽電池モジュールにする際にインナーリード(不図示)によって太陽電池素子の電極を接続する際にも、有機材料9を使用すれば半田の融点以下で沸点に達するのでインナーリードを電極に接続する個所を限定する必要がなくなる。また、このように有機材料9を塗布することによって、従来のSn−Pb共晶半田で得ていたのと同様の長期信頼性の効果を鉛を使用せずに得ることができ、環境に悪影響を及ぼすことがなくなる。
【0018】
本発明に係る太陽電池素子では、有機材料9は吸水性を有するものであることが望ましい。吸水性を有する有機物9としてはメタノール、テトラヒドロフラン、γ―ブチロラクトン、N,N―ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,O―ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、ヘキサメチルジシラザンなどがある。
【0019】
Sn−Pb共晶半田は通常200℃程度の処理温度で作業を行う。そのため従来の太陽電池素子は、半田被覆前に電極表面に被着していた水分は、半田被覆処理時に蒸発していた。しかし、本発明の方法によれば電極形成後に高温処理を伴わないため、有機材料を塗布する前に電極表面に被着していた水分は電極表面もしくは内部に残ってしまうことになる。そこで、吸水性を有する有機材料を電極表面に塗布することにより、電極表面もしくは電極内に閉じ込められた水分を有機材料が吸い上げるため、長期信頼性をさらに向上させることができる。その後は太陽電池素子はモジュール化され樹脂内に封止されるため、有機材料に外側から水分が付着することはない。
【0020】
なお、吸水性の有無は、樹脂が水に触れたときの表面の変色や変質や変形で判断できる。
【0021】
また、本発明の太陽電池素子では有機材料9としてヘキサメチルジシラザン((CHSiNHSi(CH)を好適に用いることができる。このようにすることにより、電極5、6の表面は外気に触れることがなくなり、酸化や吸湿を防ぐことが可能となり、長期信頼性を確保することができるとともに、ヘキサメチルジシラザンは無色の液体であり、透光性を有するため、特に表面側で表面電極5以外の受光面部分にはみ出して形成されたとしても、受光面積の減少による特性の低下を抑制することができる。ヘキサメチルジシラザンはクロロトリメチルシランにアンモニアを作用させて得ることができる。加水分解し易く、トリメチルシラノールを経てヘキサメチルジシロキサンになる。沸点は126℃〜127℃なので、100℃程度で容易に乾燥させることができる。
【0022】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で多くの修正および変更を加えることができる。たとえば太陽電池素子の構造はこれに制限されるものではなく、電極が片面にしかない太陽電池素子に使用することも可能であるし、結晶系シリコン太陽電池素子に限定されるものでもない。
【0023】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明に係る太陽電池素子によれば、電極の表面が有機材料で被覆されていることから、電極の表面に半田を被覆しなくても電極の表面は外気に触れることがなくなり、電極が吸湿するのを防止し、酸化も防ぐので長期信頼性を確保できる。また、従来200μm程度あった半田層を有機材料に変えることで、50μm程度に減少させることができることから、太陽電池素子の表面の凹凸を小さくすることができ、後工程で太陽電池素子の全面に外力がかかったとしても太陽電池素子が割れることを抑制することができる。さらに、後工程において太陽電池モジュールにする際にインナーリードによって太陽電池素子の電極を接続する際にも、有機材料を使用すれば、半田の融点以下で沸点に達するのでインナーリードを電極に接続する個所を限定する必要がなくなる。さらにまた、電極の表面に有機材料を塗布することによって、従来のSn−Pb共晶半田で得ていたのと同様の長期信頼性の効果を、鉛を使用せずに得ることができ、環境に悪影響を及ぼすことがなくなる。
【0024】
また、使用する有機材料が吸水性を有していると、外気と触れても有機材料が吸湿するため電極に与える影響を抑制することができる。
【0025】
また、使用する有機材料がヘキサメチルジシラザン((CHSiNHSi(CH)のいずれかであると、電極の表面は外気に触れることがなくなり、酸化や吸湿を防ぐことが可能となり、長期信頼性を確保することができるとともに、ヘキサメチルジシラザンは無色の液体であり、透光性を有するため、特に表面側で表面電極以外の受光面部分にはみ出して形成されたとしても、受光面積の減少による特性の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る太陽電池素子の一実施形態を示す断面図である。
【図2】従来の太陽電池の示す断面図である。
【図3】従来の太陽電池素子の表面電極を示す図である。
【符号の説明】
1・・・半導体基板、2・・・拡散層、4・・・BSF層、5・・・表面電極、6・・・裏面電極、7・・・半田、8・・・太陽電池素子、3・・・有機材料
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a solar cell element, and more particularly to a solar cell element having an electrode on a surface of a semiconductor substrate.
[0002]
2. Description of the Related Art
FIG. 2 shows a cross-sectional view of a conventional solar cell. 2, 1 denotes a semiconductor substrate, 2 denotes a diffusion layer, 4 denotes a BSF layer, 5 denotes a front electrode, 6 denotes a back electrode, and 7 denotes a solder layer.
[0003]
For example, on the surface side of the P-type silicon substrate 1, an N-type diffusion layer 2 containing P and an antireflection film (not shown) made of a silicon nitride film or the like are formed. On the back side of the silicon substrate 1, there is provided a high-concentration P-type BSF layer 4 formed by diffusing aluminum, for example. Further, electrodes 5 and 6 are formed on the front and back surfaces of the silicon substrate 1, respectively.
[0004]
FIG. 3 shows a general shape of a surface electrode of a conventional solar cell element. In FIG. 3, 5 indicates a surface electrode, and 8 indicates a solar cell element. As shown in FIG. 3, the surface electrode 5 is generally formed in a lattice shape, and is designed in consideration of increasing the light receiving area and reducing the resistance. Further, the surfaces of the electrodes 5 and 6 facilitate connection with inner leads (not shown) in order to connect the solar cell elements 8 in a later step, and also ensure long-term reliability of the solar cell element 8. Is generally covered with a solder layer 7 (for example, see Patent Document 1). That is, unless the surfaces of the electrodes 5 and 6 are coated with the solder 7, it is difficult to ensure long-term reliability due to problems such as the electrodes 5 and 6 absorbing moisture or being oxidized. Conventionally, as such solder 7, Sn-Pb eutectic solder has been used.
[0005]
However, in recent years, environmental issues have been taken up, and lead contained in Sn-Pb eutectic solder has become a problem, and lead-free solder has been developed. However, from the viewpoints of operating temperature and long-term reliability, a lead-free solder suitable for a solar cell element that is superior to the conventional Sn-Pb eutectic solder has not yet been developed.
[0006]
As a means for solving this problem, a method of not covering the surface of the electrode with solder can be considered. However, according to this method, there is a problem that long-term reliability cannot be ensured due to moisture absorption due to contact of the electrode with the atmosphere.
[0007]
The present invention has been made under such a background, and an object of the present invention is to provide a solar cell element which can ensure long-term reliability without coating the surface of the electrode with solder.
[0008]
[Patent Document 1]
JP 2002-11116 A
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, in the solar cell element according to claim 1, in a solar cell element having an electrode on a surface of a semiconductor substrate having a semiconductor junction, the surface of the electrode is coated with an organic material. Features.
[0010]
In the solar cell element, the organic material desirably has a water absorbing property.
[0011]
Further, in the solar cell element, the organic material is any one of methanol, tetrahydrofuran, γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide, and hexamethyldisilazane. Is desirable.
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a solar cell element according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a semiconductor substrate, 2 denotes a diffusion layer, 4 denotes a BSF layer, 5 denotes a front electrode, and 6 denotes a back electrode.
[0013]
First, the semiconductor substrate 1 is prepared. This semiconductor substrate 1 is made of single crystal or polycrystalline silicon. This silicon substrate 1 is a substrate containing one conductivity type semiconductor impurity such as boron (B) at about 1 × 10 16 to 1 × 10 18 atoms / cm 3 and having a specific resistance of about 1.0 to 2.0 Ω · cm. is there. In the case of a single crystal silicon substrate, it is formed by a pulling method or the like, and in the case of a polycrystalline silicon substrate, it is formed by a casting method or the like. A polycrystalline silicon substrate can be mass-produced and is more advantageous than a single crystal silicon substrate in terms of manufacturing cost. An ingot formed by a pulling method or a casting method is sliced into a thickness of about 300 to 500 μm, and cut into a size of about 10 cm × 10 cm or 15 cm × 15 cm to obtain a semiconductor substrate 1.
[0014]
Next, the silicon substrate 1 is placed in a diffusion furnace and heated in phosphorus oxychloride (POCl 3 ) or the like, so that the surface of the silicon substrate 1 has phosphorus atoms of 1 × 10 16 to 1 × 10 18. The diffusion layer 2 is formed by diffusing about atoms / cm 3 . The diffusion layer 2 is formed at a depth of about 0.2 to 0.5 μm, and is formed so that the sheet resistance becomes 40Ω / □ or more. Next, an antireflection film 3 is formed on the front surface side of the silicon substrate 1. The antireflection film 3 is made of, for example, a silicon nitride film, and is formed by a plasma CVD method using a mixed gas of silane and ammonia. The antireflection film 3 is provided to prevent light from being reflected on the surface of the silicon substrate 1 and to effectively take in light into the silicon substrate 1.
[0015]
Then, an electrode material is applied to the back surface side, and a portion corresponding to the surface electrode 5 of the antireflection film (not shown) is etched, and then the electrode material is applied and fired. Alternatively, an electrode material is applied on the back surface side, and the electrode material is applied directly on the antireflection film and fired. Thereby, the front surface electrode 5 and the back surface electrode 6 are formed. As the electrode material, an electrode paste or the like obtained by adding 0.1 to 5 parts by weight of glass frit to 100 parts by weight of silver to silver powder and an organic vehicle is used, and the electrode paste is printed by a screen printing method. By baking at 650 to 900 ° C. for about 1 to 30 minutes. The electrode pattern shape itself is the same as the conventional electrode pattern shape shown in FIG.
[0016]
Thereafter, in the present invention, an organic material 9 is applied to the surfaces of the front electrode 5 and the back electrode 6 and dried. Organic materials include organic glass, organic pigments, and organometallic compounds, such as methanol, tetrahydrofuran, γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide, and polystyrene. , Methyl methacrylate, celluloid, acetylcellulose, ethylcellulose, polyester, polypropylene, alkyl group, hexamethyldisilazane and the like. By doing so, the surfaces of the electrodes 5 and 6 do not come into contact with the outside air even if the surfaces of the electrodes are not coated with solder, preventing the electrodes from absorbing moisture and preventing oxidation, thereby ensuring long-term reliability. it can. Furthermore, since the solder layer 7 which has conventionally been about 200 μm can be reduced to about 50 μm by changing the solder layer 7 to an organic substance 9, irregularities on the surface of the solar cell element 8 can be reduced, and the solar cell element 8 can be formed in a later step. Even if an external force is applied to the entire surface, it is possible to prevent the solar cell element 8 from breaking.
[0017]
Further, when the electrodes of the solar cell element are connected by the inner leads (not shown) when the solar cell module is formed in a later process, the use of the organic material 9 will reach the boiling point below the melting point of the solder. There is no need to limit the places where the electrodes are connected. In addition, by applying the organic material 9 in this manner, the same long-term reliability effect as obtained by the conventional Sn-Pb eutectic solder can be obtained without using lead, and the environment is adversely affected. Will not be exerted.
[0018]
In the solar cell element according to the present invention, it is desirable that the organic material 9 has water absorption. Examples of the organic substance 9 having water absorption include methanol, tetrahydrofuran, γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide, hexamethyldisilazane, and the like.
[0019]
The Sn-Pb eutectic solder is usually operated at a processing temperature of about 200 ° C. For this reason, in the conventional solar cell element, the moisture applied to the electrode surface before the solder coating was evaporated during the solder coating process. However, according to the method of the present invention, since high-temperature treatment is not performed after the formation of the electrode, the moisture deposited on the electrode surface before applying the organic material remains on the electrode surface or inside. Then, by applying a water-absorbing organic material to the electrode surface, the organic material sucks up moisture trapped in the electrode surface or in the electrode, so that long-term reliability can be further improved. Thereafter, the solar cell element is formed into a module and sealed in a resin, so that moisture does not adhere to the organic material from the outside.
[0020]
The presence or absence of water absorption can be determined by the discoloration, deterioration, or deformation of the surface when the resin comes into contact with water.
[0021]
Further, in the solar cell element of the present invention, hexamethyldisilazane ((CH 3 ) 3 SiNHSi (CH 3 ) 3 ) can be suitably used as the organic material 9. By doing so, the surfaces of the electrodes 5 and 6 do not come into contact with the outside air, so that oxidation and moisture absorption can be prevented, long-term reliability can be ensured, and hexamethyldisilazane is a colorless liquid. In addition, since it has a light-transmitting property, even if it is formed so as to protrude to the light-receiving surface portion other than the surface electrode 5 on the front surface side, it is possible to suppress a decrease in characteristics due to a decrease in the light-receiving area. Hexamethyldisilazane can be obtained by reacting ammonia with chlorotrimethylsilane. It is easily hydrolyzed and becomes hexamethyldisiloxane via trimethylsilanol. Since the boiling point is 126 ° C to 127 ° C, it can be easily dried at about 100 ° C.
[0022]
The present invention is not limited to the above embodiment, and many modifications and changes can be made within the scope of the present invention. For example, the structure of the solar cell element is not limited to this, and the solar cell element can be used for a solar cell element having electrodes on only one side, and is not limited to a crystalline silicon solar cell element.
[0023]
【The invention's effect】
As described in detail above, according to the solar cell element of the present invention, since the surface of the electrode is coated with the organic material, the surface of the electrode is exposed to the outside air without coating the surface of the electrode with solder. No longer touching, preventing the electrode from absorbing moisture and preventing oxidation, so that long-term reliability can be ensured. Further, by changing the solder layer, which was conventionally about 200 μm, to an organic material, it can be reduced to about 50 μm, so that the unevenness on the surface of the solar cell element can be reduced, and the entire surface of the solar cell element can be formed in a later step. Even if an external force is applied, it is possible to prevent the solar cell element from breaking. Furthermore, when connecting an electrode of a solar cell element by an inner lead when forming a solar cell module in a later process, if an organic material is used, the inner lead is connected to the electrode because the boiling point is reached below the melting point of solder. There is no need to limit the location. Furthermore, by applying an organic material to the surface of the electrode, the same long-term reliability effect as obtained by conventional Sn-Pb eutectic solder can be obtained without using lead. Will not be adversely affected.
[0024]
Further, when the organic material used has water absorbency, the organic material absorbs moisture even when it comes into contact with the outside air, so that the influence on the electrode can be suppressed.
[0025]
In addition, when the organic material used is any of hexamethyldisilazane ((CH 3 ) 3 SiNHSi (CH 3 ) 3 ), the surface of the electrode does not come into contact with the outside air, and oxidation and moisture absorption can be prevented. In addition to ensuring long-term reliability, hexamethyldisilazane is a colorless liquid and has a light-transmitting property. In addition, it is possible to suppress a decrease in characteristics due to a decrease in the light receiving area.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of a solar cell element according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a conventional solar cell.
FIG. 3 is a diagram showing a surface electrode of a conventional solar cell element.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor substrate, 2 ... Diffusion layer, 4 ... BSF layer, 5 ... Surface electrode, 6 ... Back electrode, 7 ... Solder, 8 ... Solar cell element, 3 ... Organic materials

Claims (3)

半導体接合部を有する半導体基板の表面に電極を有する太陽電池素子において、前記電極の表面が有機材料で被覆されていることを特徴とする太陽電池素子。A solar cell element having an electrode on a surface of a semiconductor substrate having a semiconductor junction, wherein the surface of the electrode is coated with an organic material. 前記有機材料は吸水性を有することを特徴とする請求項1に記載の太陽電池素子。The solar cell element according to claim 1, wherein the organic material has water absorption. 前記有機材料がメタノール、テトラヒドロフラン、γ―ブチロラクトン、N,N―ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,O―ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、ヘキサメチルジシラザンのいずれかであることを特徴とする請求項2に記載の太陽電池素子。The organic material is any one of methanol, tetrahydrofuran, γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide, and hexamethyldisilazane. The solar cell element according to claim 2.
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