JP2004283635A - Droplet discharging device, method for producing electro-optical device, electro-optical device, and electronic device - Google Patents
Droplet discharging device, method for producing electro-optical device, electro-optical device, and electronic device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004283635A JP2004283635A JP2003075324A JP2003075324A JP2004283635A JP 2004283635 A JP2004283635 A JP 2004283635A JP 2003075324 A JP2003075324 A JP 2003075324A JP 2003075324 A JP2003075324 A JP 2003075324A JP 2004283635 A JP2004283635 A JP 2004283635A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- droplet discharge
- work
- axis
- head
- carriage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ワークに対し、液滴吐出ヘッドを相対的にX・Y軸方向に移動させ機能液を吐出する液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
インクジェット方式を適用してカラーフィルタのフィルタエレメントを成膜する従来の液滴吐出装置では、フィルタ材料(機能液)を吐出する液滴吐出ヘッドに対向して、カラーフィルタの基板(ワーク)をZステージを介してX・Yステージに搭載している(例えば、特許文献1参照。)。そして、液滴吐出装置の組立て時等において、ワークと液滴吐出ヘッドとの間隙、すなわちワークギャップをセンサにより測定し、Zステージによりワークギャップが所定値となるように微調整するようにしている。
【0003】
【特許文献1】
特開平9−49920号公報(第4頁、第1図)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、液滴吐出装置では、例えば機能液として発光材料を用いることで、有機ELデバイスなどの各種の電気光学装置を製造することができるが、通常、そのワークの厚みは製造対象物によって様々である。
従来の簡便なZステージは、ワークギャップのリミット状態を検出するものでなく、しかも各種厚みの異なるワークを考慮したものではなかったため、これに適切に対応するためには、ワーク交換時にワークテーブル上にワーク専用の治具(スペーサ)を設置し、これに液滴吐出ヘッドを突き当ててワークギャップを調整する必要があるなど、煩雑であった。またその際、作業を忘れたり治具を間違ったりすると、液滴吐出ヘッドがワークに接触して、液滴吐出ヘッドやワーク等を損傷するおそれもあった。
また、従来の液滴吐出装置におけるX・Yステージは、ワークの重量を加味して高剛性に設計されたZステージを搭載することになる分、重量が増し制御性も悪くなっていた。
【0005】
本発明は、液滴吐出ヘッドやワークの損傷を有効に防止して、厚みの異なる種々のワークに適切に対応させることができる液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することをその目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の液滴吐出装置は、ワークに対し液滴吐出ヘッドを、これが搭載されるキャリッジを介してX・Y軸方向に相対的に移動させるX・Y軸移動手段と、キャリッジを介して液滴吐出ヘッドをZ軸方向に移動させ、ワークの表面と液滴吐出ヘッドのノズル面との間のワークギャップを微調整するZ軸移動手段と、を備えた液滴吐出装置において、ワークギャップが所定値以下になったリミット状態を検出するギャップ検出手段と、ギャップ検出手段がリミット状態を検出したときに、Z軸移動手段および/またはX・Y軸移動手段の駆動をインタロックする移動制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【0007】
この構成によれば、例えば新たに厚みの異なるワークが導入されたときに、Z軸移動手段によりキャリッジを介してワークギャップを自動で微調整できるため、ワーク専用の治具を用いることなく、厚みなどワークの種別に対応したワークギャップを適切に設定することができる。またその際、ワークギャップがリミット状態になると、ギャップ検出手段の検出結果を受けて、Z軸移動手段およびX・Y軸移動手段の両方またはいずれか一方の駆動がインタロックされるため、液滴吐出ヘッドとワーク等との接触を未然に回避することができる。さらに、ワークとZ軸移動手段との関係が独立する結果、Z軸移動手段はワークの重量を加味して設計する必要がなくなり、X・Y軸移動手段の制御性も良好になる。
【0008】
この場合、ギャップ検出手段は、キャリッジに取り付けられていることが、好ましい。
【0009】
この構成によれば、ギャップ検出手段と液滴吐出ヘッドとは、Z軸移動手段によりZ軸方向に同一の移動量を移動するため、予めキャリッジにギャップ検出手段を精度良く取り付けておけば、リミット状態の検出を精度良く行い得る。また、この検出をキャリッジの移動により行い得る。
【0010】
この場合、ギャップ検出手段は、ワーク側の被検出部に直接接触してリミット状態を検出することが、好ましい。
【0011】
この構成によれば、ワーク側の被検出部に対する物理的・機械的接触により、リミット状態を検出することができるため、検出の信頼性を高めることができる。
【0012】
この場合、ギャップ検出手段は、ワーク側の被検出部に対し接触可能に構成され、且つZ軸方向にスライド自在に構成された接触子と、接触子のZ軸方向の移動を介してリミット状態を検出するギャップ検出センサと、を有し、接触子は、ワークの表面からの高さレベルがノズル面よりも低く設定されていることが、好ましい。
【0013】
この構成によれば、被検出部に対する接触子およびノズル面の高さレベルの関係により、接触子がノズル面に先行して被検出部に接触し、接触子がZ軸方向に移動し、この移動を介してギャップ検出センサがリミット状態を検出する。これにより、ノズル面の損傷を確実に防止することができる。
【0014】
これらの場合、ワーク側の被検出部は、ワークの表面の非描画エリアに設けられていることが、好ましい。
【0015】
この構成によれば、ワークを直接且つ有効利用してリミット状態を検出することができる。
【0016】
同様に、ワークを搭載するワークテーブルには、液滴吐出ヘッドによる機能液の捨て吐出を受けると共に、Z軸方向に微小移動可能に構成されたフラッシングユニットが組み込まれ、ワーク側の被検出部は、フラッシングユニットの表面に設けられていることが、好ましい。
【0017】
この構成によれば、一般的に液滴吐出ヘッドに必要なフラッシングユニットを利用して、リミット状態を検出することができる。また、ワークギャップの調整により、液滴吐出ヘッドとフラッシングユニットとのZ軸方向における位置関係も変動するが、フラッシングユニットをZ軸方向に移動自在に構成しているため、液滴吐出ヘッドから捨て吐出(フラッシング)された機能液を外部に飛散させることなく、フラッシングユニットで適切に受容することができる。
【0018】
これらの場合、ギャップ検出手段による検出は、X・Y軸移動手段により液滴吐出ヘッドをワークに対し相対的に移動させることにより連続的に行われ、接触子は、検出動作における液滴吐出ヘッドの相対的な移動方向に回転可能なローラで構成されていることが、好ましい。
【0019】
この構成によれば、検出動作でキャリッジを介して液滴吐出ヘッドを相対的に移動させても、接触子がその移動方向に回転するローラであるため、接触子自身の損傷を防止できる。これにより、比較的高速に検出作業を行うことも可能となる。
【0020】
これらの場合、Z軸移動手段は、キャリッジを連結したスライダと、当該スライダをZ軸方向にスライド自在に支持したスライドベースと、を有し、スライドベースは、X・Y軸移動手段に固定されていることが、好ましい。
【0021】
この構成によれば、X・Y軸移動手段にスライドベースが固定されており、これにスライド自在に支持されたスライダがZ軸方向に移動することで、これに連結されたキャリッジ(液滴吐出ヘッドおよびギャップ検出手段)がZ軸方向に移動して、ワークギャップが調整される。
【0022】
この場合、Z軸移動手段は、スライドベースに固定したアクチュエータと、当該アクチュエータにより正逆回転する送りねじと、当該送りねじに螺合する雌ねじ部と、スライドベースとスライダとの間に介設され当該スライダの移動を案内するスライドガイドと、を更に有し、雌ねじ部は、スライダの略重心部に設けられ、スライドガイドは、雌ねじ部を挟んで4箇所に分散して設けられていることが、好ましい。
【0023】
この構成によれば、アクチュエータにより送りねじが正逆回転すると、雌ねじ部を介してスライダがZ軸方向に進退するが、この雌ねじ部をスライダの略重心部に設け且つ雌ねじ部を挟んで4箇所に分散してスライドガイドを設けているため、スライダをZ軸方向に沿って適切に移動させることができる。すなわち、雌ねじ部に対し4つのスライドガイドを有効に配置することで、ワークギャップ調整時における液滴吐出ヘッドのヨーイングを適切に防止することができ、ノズル面とワークの表面との平行度を適切に維持することができる。また、スライドベースを有効活用して、アクチュエータを固定することができる。
【0024】
これらの場合、キャリッジは、スライダに連結されるキャリッジ本体と、キャリッジ本体に着脱自在に装着したヘッドユニットとからなり、キャリッジ本体には、ギャップ検出手段が取り付けられ、ヘッドユニットには、液滴吐出ヘッドが複数個組み付けられていることが、好ましい。
【0025】
この構成によれば、スライダの移動によりヘッドユニットを単位としてZ軸方向に移動させることができるため、複数の液滴吐出ヘッドを同時にワークギャップの調整に供することができる。また、ワークの種別に対応して、液滴吐出ヘッドをヘッドユニット単位で交換することもできる。
なお、スライダとキャリッジ本体との間に、これらを相互に連結すると共に、キャリッジ本体を介して液滴吐出ヘッドをΘ軸方向に回転させるΘ軸移動手段を設ければ、例えば液滴吐出ヘッドの初期位置決め段階において、X・Y平面内における角度補正を行うことができる。
【0026】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した本発明の液滴吐出装置を用い、ワークとなる基板に対し、X・Y軸移動手段により液滴吐出ヘッドを相対的に移動させ、液滴吐出ヘッドから機能液を吐出して基板上に成膜部を形成することを特徴とする。
本発明の電気光学装置は、上記した本発明の液滴吐出装置を用い、ワークとなる基板に対し、X・Y軸移動手段により液滴吐出ヘッドを相対的に移動させ、液滴吐出ヘッドから吐出した機能液により形成した成膜部を基板上に有することを特徴とする。
【0027】
この構成によれば、上記の液滴吐出装置を用いての成膜処理であるため、基板の厚みに関らず、電気光学装置のスループットを向上することができる。なお、電気光学装置(デバイス)としては、液晶表示装置、有機EL(Electro−Luminescence)装置、電子放出装置、PDP(Plasma Display Panel)装置および電気泳動表示装置等が考えられる。また、電子放出装置は、いわゆるFED(Field Emission Display)装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が含まれる。
【0028】
本発明の電子機器は、上記した本発明の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【0029】
この構成によれば、高性能な電気光学装置を搭載した電子機器を提供することができる。この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【0030】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、有機ELデバイスや液晶表示装置等のフラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、インクジェット方式により、基板(ワーク)に対し液滴吐出ヘッドから発光材料等の機能液滴を選択的に吐出することで描画を行い、基板上に所望の成膜部を形成するものである。そして、製造対象物によって厚みの異なる基板に適切に対応するべく、基板と液滴吐出ヘッドとの間のワークギャップを調整できるようになっている。
【0031】
図1ないし図3に示すように、液滴吐出装置1は、図12に示す液滴吐出ヘッド21を有し機能液を吐出する吐出手段2と、液滴吐出ヘッド21の保全処理を行うメンテナンス手段3と、液滴吐出ヘッド21に機能液を供給する機能液供給手段4と、これら各手段・装置を統括制御する制御装置5(図20参照)と、を備えている。また、液滴吐出装置1は、床上に設置された架台11と、架台11上に設置された石定盤12と、架台11に添設された機台13と、機台13の側方に添設されたラック14と、を有している。
【0032】
そして、石定盤12上には吐出手段2が広く配設されており、上方の液滴吐出ヘッド21に対応して、下方に液滴対象物となるワークW(基板、図4参照)がセットされている。ワークWは、例えばガラス基板やポリイミド基板等で構成されている。一方、機台13上には、その長手方向(Y軸方向)にスライド移動自在に支持された移動テーブル16が設置され、移動テーブル16上には、メンテナンス手段3の各種ユニットを分散して載置する共通ベース17が固定されている。また、ラック14には、機能液供給手段4のメインタンク271等のタンク類が収容されている。
【0033】
吐出手段2は、複数の液滴吐出ヘッド21を有するヘッドユニット22(参照:図11)と、ヘッドユニット22を保持したメインキャリッジ23(参照:図13)と、メインキャリッジ23を両持ち支持するように設けたX軸テーブル24と、X軸テーブル24に直交し且つその下方に位置するY軸テーブル25と、Y軸テーブル25に設けられワークWを載置するワークテーブル26と、を備えている。X軸テーブル24およびY軸テーブル25は、石定盤12上に固定されている。
【0034】
X軸テーブル24は、メインキャリッジ23をX軸方向に移動自在に取り付け、メインキャリッジ23を介してヘッドユニット22をX軸方向に移動させる。Y軸テーブル25は、ワークテーブル26をY軸方向に移動自在に取り付け、ワークテーブル26を介してワークWをY軸方向に移動させる。すなわち、吐出手段2は、X軸テーブル24およびY軸テーブル25から成るX・Y軸移動機構29により、メインキャリッジ23を介して液滴吐出ヘッド21をワークWに対しX・Y軸方向に相対移動させることで、ワークWに機能液を吐出することで描画を行う。
【0035】
具体的には、図4に示すように、Y軸テーブル25によるワークWの移動に同期して液滴吐出ヘッド21が吐出駆動する構成であり、液滴吐出ヘッド21のいわゆる主走査は、Y軸テーブル25によるワークWのY軸方向への往復動作により行われる。また、これに対応して、いわゆる副走査は、X軸テーブル24による液滴吐出ヘッド21のX軸方向へのピッチ送り動作となる往復動作により行われる。
【0036】
なお、本実施形態では、液滴吐出ヘッド21に対しワークWを主走査方向に移動させるようにしているが、液滴吐出ヘッド21を主走査方向に移動させる構成であってもよい。また、ワークWを固定とし、液滴吐出ヘッド21を主走査方向および副走査方向に移動させる構成であってもよいし、逆に液滴吐出ヘッド21を固定とし、ワークWを主走査方向および副走査方向に移動させる構成であってもよい。
【0037】
次に、吐出手段2の各構成装置について、Y軸テーブル25、ワークテーブル26、X軸テーブル24、ヘッドユニット22、メインキャリッジ23の順で説明する。
【0038】
Y軸テーブル25は、図3、図5および図6に示すように、ワークテーブル26の下部に固定した一対のY軸エアースライダ31,31と、各Y軸エアースライダ31をY軸方向にスライド自在にガイドする一対のY軸ガイドレール32,32と、各Y軸ガイドレール32の外側に併設され、ワークテーブル26を介してワークWをY軸方向に移動させる一対のY軸リニアモータ33,33と、ワークテーブル26のY軸方向の位置をレーザで検出する位置検出ユニット34と、を備えている。
【0039】
一対のY軸ガイドレール32および一対のY軸リニアモータ33は、石定盤12に相互に平行に且つ直接支持され、位置検出ユニット34は、石定盤12のY軸方向の先端部に設置されている。位置検出ユニット34は、ワークテーブル26に設けたコーナーキューブ(図示省略)にレーザ光を入射すると共に、コーナーキューブからの反射光を受光することで、ワークテーブル26のY軸方向の位置を検出する。
【0040】
Y軸リニアモータ33の駆動により、ワークテーブル26は、Y軸エアースライダ31がY軸ガイドレール32に案内されて、Y軸方向に往復移動する。また、位置検出ユニット34により適宜検出されるワークテーブル26の位置に基づいて、液滴吐出ヘッド21の機能液の吐出動作が行われて、ワークテーブル26上のワークWへの描画がなされる。なお、図5中の符号36は、各Y軸ガイドレール32を上側から覆うように張架された帯状の一対の覆装シートであり、ワークテーブル26の後述する支持体41の上面に形成した凹溝内を挿通して、両端を支持されている。各覆装シート36により、Y軸ガイドレール32等への機能液の付着が防止される。
【0041】
ワークテーブル26は、図5ないし図7に示すように、一対のY軸エアースライダ31を下部に固定した支持体41と、支持体41上に設置したワークΘ軸テーブル42と、ワークΘ軸テーブル42上に支持した吸着テーブル43とを備えると共に、さらに支持体41上には、ワークΘ軸テーブル42を挟むように一対のフラッシングユニット44,44が設置されている。
【0042】
吸着テーブル43は、それぞれが上面にエアー吸引孔46を形成すると共に整列配置された多数の載置ブロック47を有し、ワークWを複数の載置ブロック47上にエアー吸引して、ワークWを吸着セットする。すなわち、吸着テーブル43は、セットされたワークWが平坦度を維持するように、これをエアー吸引により吸着する。
【0043】
ワークΘ軸テーブル42は、吸着テーブル43の下部に固定された回転部51と、支持体41の上記一対の凹溝を逃げて支持体41の上面に固定された固定部52と、ボールねじ等により固定部52に対し回転部51をΘ軸方向に回動させるアクチュエータ(図示省略)と、を有している。ワークΘ軸テーブル42により、吸着テーブル43上のワークWをΘ軸方向に位置補正(角度補正)できるようになっている。ワークテーブル26は、Y軸テーブル25の駆動により、支持体41およびワークΘ軸テーブル42を介して、吸着テーブル43上のワークWを両フラッシングユニット44と共に、Y軸方向に移動させる。
【0044】
各フラッシングユニット44は、複数の液滴吐出ヘッド21のフラッシング(全ノズルからの機能液滴の捨て吐出)を受けるためのものであり、主として、液滴吐出ヘッド21の主走査時のフラッシングに使用される。フラッシングユニット44は、略細長形状に形成されたフラッシングボックス61と、フラッシングボックス61内に敷設した機能液吸収材62と、フラッシングボックス61をZ軸方向に昇降させる昇降機構63と、を有している。
【0045】
昇降機構63は、支持体41の外側に張り出すようにしてこれに固定したX軸方向に一対のブラケット71,71と、各ブラケット71にZ軸方向に移動自在に支持された一対の支持脚72,72と、各支持脚72に固定されると共にフラッシングボックス61の下部を支持した支持フレーム73と、各支持脚72にピストンロッドを連結した一対のエアーシリンダ74,74と、で構成されている。一対のエアーシリンダ74により、一対の支持脚72および支持フレーム73を介してフラッシングボックス61が昇降する。
【0046】
例えば、図7(a)に示すように、下降位置のフラッシングボックス61の上端の高さレベルを、ワークテーブル26の載置ブロック47の上面のそれよりも低く設定することができる。この状態とすることにより、ワークWをワークテーブル26に搬入・搬出(交換)する際に、ワークWとフラッシングボックス61との干渉を有効に防止することができる。なお、計4つのエアーシリンダ74は、同期して駆動され、2つのフラッシングボックス61は同期して昇降する。
【0047】
また、同図(b)に示すように、上昇位置のフラッシングボックス61の上端の高さレベルを、載置ブロック47の上面のそれよりも高く設定することができる。この状態とすることにより、フラッシングボックス61の上端の高さレベルと、ワークWの表面の高さレベルとを同程度あるいはそれ以下になるように、液滴吐出ヘッド21とフラッシングボックス61との間のギャップを調整することができる。
【0048】
すなわち、本実施形態の液滴吐出装置1に導入されるワークWはその種別に応じて厚みの異なるものであるため、後述するヘッドZ軸テーブル155によりワークWの厚みに応じて液滴吐出ヘッド21の高さレベルを調整しているところ、そのワークギャップの調整により液滴吐出ヘッド21とフラッシングユニット44との高さレベルの関係も変動するが、これに対応するべく、昇降機構63によりフラッシングユニット44の高さレベルを調整することができる。これにより、ワークWの厚みに関らず、液滴吐出ヘッド21のフラッシングにより吐出された機能液滴を外部に飛散させることなく、フラッシングボックス61で適切に受容することができる。
【0049】
フラッシングボックス61で受けた機能液は、機能液吸収材62に含浸され、これに連通した図外の排液用チューブを介して、ラック14に収容した廃液タンク272(図3参照)に貯留されるようになっている。詳細は後述するが、フラッシングボックス61の上面(表面)は、ワークW側の被検出部として、ワークギャップ調整後の検査に供される。また、フラッシングボックス61の上面と液滴吐出ヘッド21のノズル面141との間のギャップは、2.0mm前後に設定される(図18参照)。
【0050】
X軸テーブル24は、図8ないし図10に示すように、支柱ユニット81を介してY軸テーブル25の上方にこれを跨ぐように支持されており、メインキャリッジ23を挿通して固定したブリッジプレート82と、ブリッジプレート82をX軸方向に移動させ且つその移動を案内するリニアガイド付きX軸リニアモータ83と、X軸リニアモータ83に平行に併設されたX軸リニアスケール84と、X軸リニアモータ83に平行に併設されると共にブリッジプレート82の移動を案内するX軸リニアガイド85と、を備えている。
【0051】
ブリッジプレート82は、その中間位置に形成した開口部からメインキャリッジ23の下半部を挿通させ、メインキャリッジ23の下部に保持したヘッドユニット22をワークWに臨ませる。メインキャリッジ23は、後述するスライドベース162の両側部を介して、ブリッジプレート82の上面に固定されている。また、ブリッジプレート82の上面には、メインキャリッジ23に隣接して機能液供給手段4のサブタンク273が設置されている。
【0052】
X軸リニアモータ83の駆動により、X軸リニアモータ83およびX軸リニアガイド85は、ブリッジプレート82を両持ちでX軸方向に平行移動させる。そして、ブリッジプレート82の移動に伴い、メインキャリッジ23(ヘッドユニット22)がX軸方向に移動する。この移動において、液滴吐出ヘッド21の上記の副走査が行われる。
【0053】
支柱ユニット81は、石定盤12上に設置した4本の支柱91,91,91,91と、Y軸テーブル25を跨ぐようにX軸方向に延在すると共にこれらの支柱91の上部に両持ち支持された一対の梁92,92と、各梁92から外側に張り出した一対の支持板93,93と、を有している。一方の梁92上には、X軸リニアモータ83およびX軸リニアスケール84が支持され、他方の梁92上には、X軸リニアガイド85が支持されている。
【0054】
左側(図8では手前側)の支持板93上には、左部X軸ケーブルベア95および流体用ケーブルベア96が、それぞれ集塵用のカバーで覆われるようにして載置されている。なお、「ケーブルベア」は、登録商標である。同様に、右側(図8では奥側)の支持板93上には、右部X軸ケーブルベア97およびサブX軸ケーブルベア98が、それぞれ集塵用のカバーで覆われるようにして載置されている。なお、X軸リニアモータ83およびX軸リニアガイド85も同様に、集塵用のカバーで覆われている。すなわち、これら可動部分で発生し得る塵埃を各カバーで集塵し、図外の排気チューブを介して装置外部に排出できるようになっている。
【0055】
また、図中の符号106は、ブリッジプレート82と同様に且つこれとは独立してX軸方向に移動可能なカメラ用ブリッジプレートであり、カメラ用ブリッジプレート106は、ワークWのアライメントに用いられる認識カメラを搭載したカメラユニット107を支持している。
【0056】
図11は、ヘッドユニット22の主要部を示した平面図である。同図に示すように、ヘッドユニット22は、複数(12個)の液滴吐出ヘッド21と、複数の液滴吐出ヘッド21を搭載するサブキャリッジ121と、サブキャリッジ121に各液滴吐出ヘッド21を個々に取り付けるための複数(12個)のヘッド保持部材122(図12参照)と、を備えている。また、ヘッドユニット22は、メインキャリッジ23に対し着脱自在に保持されている(図13参照)。
【0057】
12個の液滴吐出ヘッド21は、6個ずつ2列に分けて主走査方向(Y軸方向)に離間して配置されている。また、各液滴吐出ヘッド21は、ワークWに対して機能液滴の十分な塗布密度を確保するために所定角度傾けて配設されている。更に、一方の列と他方の列の各液滴吐出ヘッド21は、副走査方向(X軸方向)に対して相互に位置ずれして配設され、副走査方向において各液滴吐出ヘッド21のノズル146が連続(一部重複)するようになっている。なお、液滴吐出ヘッド21を専用部品で構成するなどして、ワークWに対して機能液の十分な塗布密度を確保できる場合は、液滴吐出ヘッド21をあえて傾けてセットする必要はない。
【0058】
サブキャリッジ121の一方の側方には、各液滴吐出ヘッド21とサブタンク273とを配管接続するための配管ジョイント125と、ヘッドユニット22をメインキャリッジ23に着脱する際の手持ち用の一対のハンドル126,126と、が設けられている。配管ジョイント125には、12個の液滴吐出ヘッド21に対応して12個のソケット127が取り付けられている。各ソケット127の一端には、各液滴吐出ヘッド21(の接続針131)と接続した配管アダプタ129からのヘッド側配管部材(図示省略)が接続され、その他端には、サブタンク273からの装置側配管部材128が接続されている(図9参照)。
【0059】
このような構成により、機能液は、機能液供給手段4のメインタンク271からサブタンク273に第1チューブ274を介して圧力供給されると共に、このサブタンク273で圧力的に縁切りされる。そして、サブタンク273の負圧制御ユニットにより圧力制御された機能液は、サブタンク273から分岐して各液滴吐出ヘッド21に供給される。
【0060】
液滴吐出ヘッド21は、図12に示すように、いわゆる2連のものであり、2連の接続針131を有する機能液導入部132と、機能液導入部132に連なる2連のヘッド基板133と、機能液導入部132の下方(同(a)では上方)に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体134と、を備えている。この種のインクジェット方式の液滴吐出ヘッド21は、吐出駆動のためのエネルギー発生素子として圧電素子(ピエゾ素子)を用いたもの、あるいは電気熱変換体を用いたもので構成される。
【0061】
各接続針131は、配管アダプタ129に接続した上記のヘッド側配管部材等を介してサブタンク273に接続されており、機能液導入部132は、各接続針131から機能液の供給を受けるようになっている。ヘッド本体134は、ノズル面141を有するノズルプレート142と、ノズルプレート142に連なる直方体形状の2連のポンプ部143と、で構成されている。
【0062】
液滴吐出ヘッド21は、ヘッド本体134がサブキャリッジ121の下面から突出しており、ヘッド本体134の下面、すなわちノズル面141には、2本のノズル列145が相互に平行に形成されている。各ノズル列145は、略主走査方向に延在しており、多数(例えば180個)のノズル146が等ピッチで並べられて構成されている。液滴吐出ヘッド21は、ポンプ部143の作用によりノズル146から機能液滴をドット状に吐出する。なお、液滴吐出ヘッド21におけるノズル数やノズル列数は任意である。
【0063】
メインキャリッジ23は、図13および図14に示すように、ヘッドユニット22を着脱自在に搭載するキャリッジ本体151と、キャリッジ本体151を吊設するように保持したキャリッジテーブル152と、で構成されている。メインキャリッジ23は、キャリッジ本体151を上記のブリッジプレート82から下方に挿通させるようにして、キャリッジテーブル152の両側部分でブリッジプレート82の上面に固定されている(図9参照)。
【0064】
キャリッジテーブル152は、キャリッジ本体151の上部に連結されるヘッドΘ軸テーブル154と、ヘッドΘ軸テーブル154の上部に連結されるヘッドZ軸テーブル155と、で構成されている。ヘッドZ軸テーブル155(Z軸移動手段)は、ヘッドΘ軸テーブル154およびキャリッジ本体151を介して液滴吐出ヘッド21をZ軸方向に微小移動させ、液滴吐出ヘッド21のノズル面141とワークWの表面との間のワークギャップを微調整するものである。
【0065】
ヘッドZ軸テーブル155は、図15に示すように、ヘッドΘ軸テーブル154を下部に連結したZ軸スライダ161と、Z軸スライダ161をZ軸方向にスライド自在に支持するスライドベース162と、スライドベース162とZ軸スライダ161との間に介設されZ軸スライダ161の移動を案内する4組のスライドガイド163,163,163,163と、スライドベース162の上面中央に固定したZ軸モータ164と、Z軸モータ164により正逆回転するボールねじ165と、ボールねじ165に螺合すると共にZ軸スライダ161の正面に固定した雌ねじブロック166と、を有している。
【0066】
スライドベース162は、一対の鉛直板171,171と、一対の鉛直板171の上端に掛け渡した連結板172とで、全体としてアーチ型に構成されている。各鉛直板171は、外側に直角に折り曲げた下端部でブリッジプレート82の上面に固定されている。連結板172の上面中央にZ軸モータ164が固定され、連結板172の下面側にZ軸モータ164の主軸が位置している。そして、この主軸にカップリングを介してボールねじ165が、両鉛直板171間の中間位置に位置するように連結されている。
【0067】
Z軸スライダ161は、スライドベース162の内側に位置しており、雌ねじブロック166を正面側に固定した固定板部181と、各鉛直板171に対面する一対の側面板部182,182と、ヘッドΘ軸テーブル154に連結された連結板部183と、で一体に形成されている。
【0068】
この場合、固定板部181における雌ねじブロック166の固定位置は、Z軸スライダ161の略重心部に合致している。また、これに対応して、雌ねじブロック166を挟んで4箇所に分散してスライドガイド163が、側面板部182と鉛直板171との間に設けられている。すなわち、前後方向(X軸方向)に平行に並べた一対のスライドガイド163,163が、雌ねじブロック166の軸線に対し左右対称に(Y軸方向に対称に)配置されている。
【0069】
このように、Z軸スライダ161の重量バランスを考慮して、雌ねじブロック166と4組のスライドガイド163とを有効に配置することで、Z軸スライダ161のX・Y平面内のずれを防止できる。すなわち、Z軸スライダ161をZ軸方向に姿勢精度良く適切に移動させることができる。これにより、液滴吐出ヘッド21のノズル面141とワークWの表面との平行度を適切に維持することができる。
【0070】
各スライドガイド163は、側面板部182に固定されZ軸方向に延在する単一のトラックレール191と、トラックレール191にスライド自在に案内されると共にZ軸方向に並べた一対のスライダユニット192,192とからなり、各スライダユニット192が鉛直板171に固定されている。したがって、Z軸スライダ161は、トラックレール191を両スライダユニット192に案内されながら、スライドベース162に対しZ軸方向に移動する。なお、スライドガイド163は、リニアボールガイドなどの転がり案内の他、スライダユニットをエアースライダとする空気静圧案内で構成すればよい。
【0071】
Z軸モータ164は、正逆回転可能なACサーボモータから構成されている。Z軸モータ164が正逆回転すると、ボールねじ165および雌ねじブロック166により、Z軸スライダ161が各スライドガイド163に案内されてZ軸方向に進退する(上下動する)。このZ軸スライダ161の上下動に伴い、ヘッドΘ軸テーブル154およびキャリッジ本体151を介して液滴吐出ヘッド21を上下動して、ワークギャップが微調整される。
【0072】
なお、図13(a)に示すように、Z軸スライダ161の固定板部181の背面側にはナット部195が固定され、ナット部195に螺合する雄ねじ196が連結板172に垂設するように設けられ、さらに、ナット部195の下側に位置する雄ねじ196の端部には、ナット部195に接触可能な度あたり197が設けられている。これにより、仮にZ軸モータ164が暴走しても、度あたり197がナット部195に接触することで、Z軸スライダ161がスライドベース162から抜け落ちないようになっている。なお、ナット部195、雄ねじ196および度あたり197は、ボールねじ165等と同様に、いずれもヘッドZ軸テーブル155におけるY軸方向の中心位置に設けられている。
【0073】
ヘッドΘ軸テーブル154は、図13および図14に示すように、Z軸スライダ161の下面に固定された固定部201と、キャリッジ本体151の上部に固定された回転部202と、固定部201に対し回動自在に取り付けた回転部202をΘ軸方向に回動させるΘ軸モータ203と、を有している。Θ軸モータ203は、正逆回転可能なACサーボモータから構成されており、ボールねじ系を主体とする動力伝達機構部204を介して、固定部201に対し回転部202を微小回動(微小回転)させる。この回転部202の微小回動により、キャリッジ本体151がその軸心を中心に回動する。
【0074】
このように、ヘッドΘ軸テーブル154は、Z軸スライダ161とキャリッジ本体151とを相互に連結すると共に、キャリッジ本体151を介してヘッドユニット22をX・Y平面内において正逆微小回転させる。これにより、ヘッドユニット22の初期位置決め段階において、ヘッドユニット22をΘ軸方向に位置補正(角度補正)できるようになっている。
【0075】
図16に示すように、ヘッドZ軸テーブル155の可動部は集塵用のカバーに覆われ、上記のX軸リニアモータ83等と同様に、発塵し得る粉塵のワークW等への付着が防止されている。また、ヘッドΘ軸テーブル154の動力伝達機構部204も、集塵用のカバーで覆われている。
【0076】
キャリッジ本体151は、ヘッドユニット22と共に請求項にいうキャリッジを構成するものである。キャリッジ本体151は、図13および図14に示すように、ヘッドユニット22が着座するベースプレート221と、ベースプレート221を垂設するように支持するアーチ部材222と、ベースプレート221の一方の端部に突出するように設けた一対の仮置きアングル223,223と、ベースプレート221の他方の端部に設けたストッパプレート224と、ストッパプレート224の外側に設けた断面L字状のカメラカバー225と、カメラカバー225の外側でベースプレート221の端部に支持されたギャップ検査ユニット226と、を備えている。
【0077】
アーチ部材222は、その上面中央にヘッドΘ軸テーブル154の回転部202を固定している。ベースプレート221は、ヘッドユニット22を遊嵌するための方形開口を有すると共に、この方形開口を構成する開口縁部に、サブキャリッジ121の周縁部を介してヘッドユニット22を位置決め固定する。
【0078】
ヘッドユニット22をキャリッジ本体151にセットする場合には、ヘッドユニット22をその両ハンドル126により手持ちして運び込み、一旦、一対の仮置きアングル223上に載置する(仮置きする)。ここで、ヘッドユニット22の配管ジョイント125に装置側配管部材128を接続するなど、各種配管・配線接続する。そして、両ハンドル126を再度把持し、両仮置きアングル223をガイドにしてヘッドユニット22を先方に押し入れ、これをベースプレート221に位置決め固定するようにしている。そして、必要に応じて、ヘッドユニット22は、ヘッドΘ軸テーブル154により回転補正される。
【0079】
このようなヘッドユニット22の運び込みを含む交換作業は、図1および図3における液滴吐出装置1の手前側から行われる。すなわち、X軸テーブル24によりメインキャリッジ23を機台13側に移動させ、ワークWから外れた機台13の上方にてヘッドユニット22が交換される。また、ワークギャップを検査する場合にも、ヘッドユニット22はこの交換位置に移動する。
【0080】
ギャップ検査ユニット226(ギャップ検出手段)は、図13および図17に示すように、主として、厚みの異なるワークWを液滴吐出装置1に導入し、これに対応して上記のヘッドZ軸テーブル155によりワークギャップの調整を行った後、ワークギャップが所定値以下のリミット状態になっているかどうかを検査するためのものである。ギャップ検査ユニット226により、液滴吐出ヘッド21とワークW等との接触を未然に(描画動作前に)回避しようとするものである。
【0081】
ギャップ検査ユニット226は、ワークW側の被検出部に対し接触可能に構成された接触ローラ231と、接触ローラ231を下端部に回転自在に支持するローラ保持部材232と、ローラ保持部材232をZ軸方向にスライド自在にガイドする支柱233と、支柱233を立設したブラケット234と、ローラ保持部材232の上下中間部の側面に取り付けた金属体235と、金属体235に臨んで支柱233の側面に取り付けた磁気誘導型センサ236と、を有している。
【0082】
ブラケット234は、略方形に形成され、立設した支柱233と反対側の端部をキャリッジ本体151のベースプレート221に固定されている。ブラケット234の固定位置は、メインキャリッジ23の重量バランスを考慮して、キャリッジ本体151におけるY軸方向の中心位置となっている。磁気誘導型センサ236(ギャップ検出センサ)は、金属体235の移動を介してワークギャップが所定値以下になったリミット状態を検出する。
【0083】
具体的には、接触ローラ231を介してローラ保持部材232がZ軸方向に(上方向に)スライド移動すると、これと同方向に金属体235も移動する。金属体235が移動すると、磁気誘導型センサ236は、自身が発する磁力線の密度変化が起こり、これによりワークギャップのリミット状態を検出する。なお、金属体235は、磁気誘導型センサ236の検出感度が良好な例えば鉄(磁性体)で構成すればよい。もっとも、ギャップ検出センサをフォトインタラプタで構成し、金属体235をそのための遮光部材として構成してもよい。
【0084】
ローラ保持部材232と支柱233との間には、ローラ保持部材232の背面側に固定した移動ガイド241と、支柱233に固定され、移動ガイド241を介してローラ保持部材232のスライド移動をガイドするガイドレール242と、が設けられている。また、ローラ保持部材232とブラケット234との間には、ローラ保持部材232を下方に付勢する引張りばね243が介設されている。引張りばね243の一端は、ブラケット234から水平に突出するように設けた掛止めピン244に掛け止めされ、他端は、ローラ保持部材232の側面に設けた掛止めピン245に掛け止めされている。
【0085】
ローラ保持部材232の上端部には、支持プレート246の端部が固定されており、支持プレート246の中心部には、これを貫通するようにして六角穴付きの調整ねじ247が螺合している。そして、調整ねじ247の先端部を受けるストッパ248が、支柱233の上端面に設けられている。すなわち、調整ねじ247がストッパ248を受けとして、調整ねじ247、ローラ保持部材232および支持プレート246が、引張りばね243により一体に下方に付勢されている。
【0086】
支持プレート246の調整ねじ247が螺合する部位は、雌ねじが形成されており、調整ねじ247をその軸方向に回すと、支持プレート246がZ軸方向に上下動する。すなわち、調整ねじ247により、支持プレート246を介してローラ保持部材232に保持した接触ローラ231の高さレベルを微調整できるようになっている。
【0087】
接触ローラ231は、ワークW側の被検出部に直接接触可能に構成されている。ギャップ検査ユニット226による検査動作は、ワークWを搭載したワークテーブル26をY軸方向に連続的に移動させ、接触ローラ231がワークW側の被検出部(例えばワークWの表面)に接触するかどうかで行われる。このため、接触ローラ231は、検査動作を支障なく且つ迅速に行えるように、Y軸方向に回転可能にローラ保持部材232に支持されている。
【0088】
図18は、接触ローラ231と液滴吐出ヘッド21の高さレベルの関係を模式的に示した説明図である。同図に示すように、例えば、液滴吐出ヘッド21のノズル面141とワークWの表面との間のワークギャップは、0.3mm(所定値)に設定されている。この設定は、上記のヘッドZ軸テーブル155を駆動することでなされる。一方、接触ローラ231とワークWの表面との間のギャップは、ワークギャップの半分の0.15mmに設定されている。そしてこの設定は、調整ねじ247の送りリード(回転量)を調整することでなされる。
【0089】
このように、ワークWの表面からの高さレベルについて、ノズル面141に対し接触ローラ231を低く設定しているため、ワークギャップの検出動作において、接触ローラ231がノズル面141に先行してワークW側の被検出部に接触させることができる。そして、接触ローラ231の接触(被検出部への乗り上げ)により、接触ローラ231が引張りばね243に抗して上動すると、磁気誘導型センサ236によってワークギャップのリミット状態が検出される。リミット状態が検出されると、検査動作が停止、すなわちワークテーブル26の移動が停止されるようになっている。
【0090】
なお、ノズル面141と接触ローラ231とを同一の高さレベルに設定してもよいが、接触ローラ231や調整ねじ247などの取付け誤差を考慮すると、本実施形態のように、ノズル面141に対し接触ローラ231の高さレベルを低く設定することが好ましい。また、同図に示すように、ノズル面141とフラッシングボックス61の表面とのギャップは2.0mmに設定されているが、上述のように、昇降機構63により、フラッシングボックス61の上面とワークWの表面とを略同一の高さレベルに設定することも可能である。
【0091】
なお、図17中の符号251は、空気圧シリンダであり、空気圧シリンダ251は、支柱233の背面側に固定されていると共に、そのピストンロッドが、支持プレート246の下面に取り付けた突当て部材252に当接可能に構成されている。
【0092】
空気圧シリンダ251を駆動することで、ピストンロッドおよび突当て部材252を介して支持プレート246を上動させ、これに伴い接触ローラ231をノズル面141よりも高い位置に上昇させ、この上昇位置に接触ローラ231を維持可能となる。このような空気圧シリンダ251の駆動は、ワークギャップの検査終了後になされるものである。したがって、描画動作中における接触ローラ231は、ワークW側の被検出部から大きく退避することになる。
【0093】
図19は、ワークギャップの検出動作について説明するための説明図である。本実施形態で設定されるワークW側の被検出部は、ワークWの表面の非描画エリア(例えば周縁部や後に切断される切断部分等などのワークWにおける不要部分)と、一対のフラッシングボックス61の表面とである。検出動作の準備段階では、メインキャリッジ23をヘッドユニット22の交換位置に移動させ、導入したワークWの厚みに対応したワークギャップの調整がなされる。また、これに対応して、一対のフラッシングユニット44の高さ調整がなされる。
【0094】
一連の検出動作では、先ず、X軸テーブル24を駆動し、メインキャリッジ23を交換位置から僅かに架台11側に移動させ、ワークテーブル26のX軸方向における手前側の上方に位置するように、接触ローラ231を臨ませる。ここで、Y軸テーブル25を駆動して、ワークテーブル26をY軸方向に移動させ、接触ローラ231がワークW側の被検出部に干渉(接触)するかどうかの検査を行う。非接触の場合には、接触ローラ231が一対のフラッシングユニット44およびワークWの表面の直上部を通過し、接触した場合には、Y軸テーブル25の駆動がインタロック(停止)される。
【0095】
接触ローラ231が接触する原因として、例えば、液滴吐出装置1のティーチングオペレータ(図示省略)でのワークWの種別データの入力ミスや、フラッシングユニット44の高さ調整ミス等が考えられる。この場合には、ワークWの種別データの再入力や、フラッシングユニット44の再度の高さ調整などの措置を講じ、検出動作を再開するようにする。
【0096】
ワークテーブル26の手前側の検査終了後には、X軸テーブル24を再駆動し、今度はワークテーブル26のX軸方向における奥側の上方に接触ローラ231を臨ませる。そして同様に、Y軸テーブル25を駆動して、ワークテーブル26をY軸方向に連続的に移動させて検査を行う。このように、X軸方向における前後で検査を行うことで、各フラッシングユニット44のX軸方向に配設した二つのエアーシリンダ74,74を考慮した検査を適切に行うことができる。
【0097】
制御装置5は、図20に示すように、CPUを有して各手段の動作を制御する制御するためのものであり、液滴吐出装置1の制動動作を実行するための制御プログラムや制御データを記憶する記憶していると共に、各種制御処理を行うための作業領域を有している。そして、制御装置5は、上記した各手段・装置の要素と接続されて液滴吐出装置1全体を制御している。
【0098】
例えば、ワークWに対して描画動作を行う場合には、制御装置5は、複数の液滴吐出ヘッド21の吐出駆動をそれぞれ制御すると共に、X・Y軸移動機構29によりワークWおよびメインキャリッジ23の相対的な移動動作を制御する。また、必要に応じてヘッドΘ軸テーブル154およびワークΘ軸テーブル42を駆動し、ヘッドユニット22およびワークWのアライメントを行う。
【0099】
さらに、制御装置5は、ワークWの厚みに応じて、ヘッドZ軸テーブル155を駆動しワークギャップを調整する。また、ギャップ検査ユニット226およびX・Y軸移動機構29の協働によりワークギャップの検査動作を行うと共に、リミット状態を検出した場合には、X・Y軸移動機構29の駆動をインタロックする移動制御手段として機能する。
【0100】
なお、ワークギャップのリミット状態の検出は、本実施形態のようにX・Y軸移動機構29を駆動した場合に限られるものでない。例えば、ヘッドZ軸テーブル155でワークギャップの調整中に、接触ローラ231がワークW側の被検出部に接触した場合には、ヘッドZ軸テーブル155の駆動がインタロックされる。また、ヘッドZ軸テーブル155によるワークギャップの調整とX・Y軸移動機構29による検査動作とを併行して行う場合には、両者の駆動がインタロックされる。
【0101】
ところで、本実施形態の液滴吐出装置1は、各種の材料からなる機能液を用いることで、各種の電気光学装置(デバイス)の製造に用いることができる。すなわち、液晶表示装置、有機EL装置、PDP装置および電気泳動表示装置等の製造に適用することができる。もちろん、液晶表示装置等に用いるカラーフィルタの製造にも適用することができる。また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。そして、これらの電気光学装置を備えた電子機器、例えばフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話を提供することができる。
【0102】
そこで、この液滴吐出装置1を用いた製造方法を、液晶表示装置の製造方法および有機EL装置の製造方法を例に説明し、他のデバイスについても簡単に説明する。
【0103】
図21は、液晶表示装置の断面図である。同図に示すように、液晶表示装置450は、上下の偏光板462、467間に、カラーフィルタ400と対向基板466とを組み合わせ、両者の間に液晶組成物465を封入することにより構成されている。また、カラーフィルタ400および対向基板466間には、配向膜461、464が構成され、対向基板466の内側の面には、TFT(薄膜トランジスタ)素子(図示せず)と画素電極463とがマトリクス状に形成されている。
【0104】
カラーフィルタ400は、マトリクス状に並んだ画素(フィルタエレメント)を備え、画素と画素の境目は、バンク413により区切られている。画素の1つ1つには、赤(R)、緑(G)、青(B)のいずれかのフィルタ材料(機能液)が導入されている。すなわち、カラーフィルタ400は、透光性の基板411(ワークW)と、遮光性のバンク413とを備えている。バンク413が形成されていない(除去された)部分は上記画素を構成し、この画素に導入された各色のフィルタ材料は着色層421を構成する。バンク413及び着色層421の上面には、オーバーコート層422及び電極層423が形成されている。
【0105】
そして、本実施形態の液滴吐出装置1では、バンク413で区切られて形成された画素内に、液滴吐出ヘッド21により、R・G・B各色の機能液を着色層形成領域毎に選択的に吐出している。そして、塗布した機能液を乾燥させることにより、成膜部となる着色層421を得るようにしている。また、液滴吐出装置1では、液滴吐出ヘッド21により、オーバーコート層422など各種の成膜部を形成している。もちろん、ヘッドZ軸テーブル155により、基板411の厚みに対応したワークギャップに調整されている。
【0106】
同様に、図22を参照して、有機EL装置とその製造方法を説明する。同図に示すように、有機EL装置500は、ガラス基板501(ワークW)上に回路素子部502が積層され、回路素子部502上に主体を為す有機EL素子504が積層されている。また有機EL素子504の上側には、不活性ガスの空間を存して封止用基板505が形成されている。
【0107】
有機EL素子504には、無機物バンク層512aおよびこれに重ねた有機物バンク層512bによりバンク512が形成され、このバンク512により、マトリクス状の画素が画成されている。そして、各画素内には、下側から画素電極511、R・G・Bいずれかの発光層510bおよび正孔注入/輸送層510aが積層され、且つ全体がCaやAl等の薄膜を複数層に亘って積層した対向電極503で覆われている。
【0108】
そして、本実施形態の液滴吐出装置1では、R・G・Bの各発光層510bおよび正孔注入/輸送層510aの成膜部を形成するようにしている。また、液滴吐出装置1では、正孔注入/輸送層510aを形成した後に、液滴吐出ヘッド21に導入する機能液としてCaやAl等の液体金属材料を用いて、対向電極503を形成する等している。もちろん、ヘッドZ軸テーブル155により、基板501の厚みに対応したワークギャップに調整されている。
【0109】
そして、以下に示すデバイスの製造方法において、ヘッドZ軸テーブル155により、ワークW(基板)の厚みに対応したワークギャップに調整されている。
【0110】
すなわち、PDP装置の製造方法では、複数の液滴吐出ヘッド21にR、G、B各色の蛍光材料を導入し、複数の液滴吐出ヘッド21を主走査および副走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、背面基板(ワークW)上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形成する。
【0111】
電気泳動表示装置の製造方法では、複数の液滴吐出ヘッド21に各色の泳動体材料を導入し、複数の液滴吐出ヘッド21を主走査および副走査し、泳動体材料を選択的に吐出して、電極(ワークW)上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形成する。なお、帯電粒子と染料とからなる泳動体は、マイクロカプセルに封入されていることが好ましい。
【0112】
金属配線形成方法では、複数の液滴吐出ヘッド21に液状金属材料を導入し、複数の液滴吐出ヘッド21を主走査および副走査し、液状金属材料を選択的に吐出して、基板(ワークW)上に金属配線を形成する。例えば、上記の液晶表示装置におけるドライバと各電極とを接続する金属配線や、上記有機EL装置におけるTFT等と各電極とを接続する金属配線に適用してこれらのデバイスを製造することができる。また、この種のフラットパネルディスプレイの他、一般的な半導体製造技術に適用できることは言うまでもない。
【0113】
レンズの形成方法では、複数の液滴吐出ヘッド21にレンズ材料を導入し、複数の液滴吐出ヘッド21を主走査および副走査し、レンズ材料を選択的に吐出して、透明基板(ワークW)上に多数のマイクロレンズを形成する。例えば、上記FED装置におけるビーム収束用のデバイスを製造する場合に適用可能である。また、各種光デバイスの製造技術にも適用可能である。
【0114】
レンズの製造方法では、複数の液滴吐出ヘッド21に透光性のコーティング材料を導入し、複数の液滴吐出ヘッド21を主走査および副走査し、コーティング材料を選択的に吐出して、レンズの表面にコーティング膜を形成する。
【0115】
レジスト形成方法では、複数の液滴吐出ヘッド21にレジスト材料を導入し、複数の液滴吐出ヘッド21を主走査および副走査し、レジスト材料を選択的に吐出して、基板(ワークW)上に任意形状のフォトレジストを形成する。例えば、上記の各種表示装置におけるバンクの形成はもとより、半導体製造技術の主体をなすフォトリソグラフィー法において、フォトレジストの塗布に広く適用可能である。
【0116】
光拡散体形成方法では、複数の液滴吐出ヘッド21に光拡散材料を導入し、複数の液滴吐出ヘッド21を主走査および副走査し、光拡散材料を選択的に吐出して、基板(ワークW)上に多数の光拡散体を形成する。この場合も、各種光デバイスに適用可能であることはいうまでもない。
【0117】
【発明の効果】
本発明の液滴吐出装置によれば、各種ワークの厚みに対応してワークギャップをZ軸移動手段により自動調整できることに加え、仮に、ワークギャップが所定値以下のリミット状態となった場合でも、これをギャップ検出手段により検出してZ軸移動手段および/またはX・Y軸移動手段の駆動をインタロックするようにしているため、液滴吐出ヘッドとワークとの接触が未然に回避され、液滴吐出ヘッドおよびワークの損傷を有効に防止することができる。
【0118】
本発明の電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器によれば、ワークギャップが適切に管理された液滴吐出装置を用いての成膜処理であるため、高品質で信頼性の高い各種の電気光学装置、電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態に係る液滴吐出装置の外観斜視図である。
【図2】実施形態に係る液滴吐出装置の平面図である。
【図3】実施形態に係る液滴吐出装置の左側面図である。
【図4】実施形態に係る液滴吐出装置の描画動作を模式的に示す説明図である。
【図5】実施形態に係るY軸テーブルおよびワークテーブルを示す平面図である。
【図6】実施形態に係るY軸テーブルおよびワークテーブルを示す正面図である。
【図7】実施形態に係るワークテーブルを示す側面図である。
【図8】実施形態に係るX軸テーブルおよびメインキャリッジを示す外観斜視図である。
【図9】実施形態に係るX軸テーブルおよびメインキャリッジを示す正面図である。
【図10】実施形態に係るX軸テーブルおよびメインキャリッジの要部を示す平面図である。
【図11】実施形態に係るヘッドユニットの主要部を示す平面図である。
【図12】(a)実施形態に係る液滴吐出ヘッドの斜視図、(b)液滴吐出ヘッドの要部の断面図である。
【図13】実施形態に係るメインキャリッジを示す斜視図である。
【図14】実施形態に係るメインキャリッジを示す分解斜視図である。
【図15】実施形態に係るキャリッジテーブルを示す図であり、(a)分解斜視図、(b)組立て図である。
【図16】図13に示すメインキャリッジに集塵カバーを取り付けた状態を示す分解斜視図である。
【図17】実施形態に係るギャップ検査ユニットを示す図であり、(a)斜視図、(b)正面図、(c)右側面図である。
【図18】実施形態に係る液滴吐出ヘッドのノズル面と、ギャップ検査ユニットの接触ローラと、高さレベルの関係を模式的に示す説明図である。
【図19】実施形態に係るギャップ検査ユニットによる検出動作を示す説明図である。
【図20】実施形態に係る液滴吐出装置の主要部のブロック図である。
【図21】実施形態の液滴吐出装置で製造する液晶表示装置の断面図である。
【図22】実施形態の液滴吐出装置で製造する有機EL装置の断面図である。
【符号の説明】
1 液滴吐出装置
2 吐出手段
5 制御装置(移動制御手段)
21 液滴吐出ヘッド
22 ヘッドユニット
23 メインキャリッジ
24 X軸テーブル
25 Y軸テーブル
26 ワークテーブル
29 X・Y軸移動機構(X・Y軸移動手段)
44 フラッシングユニット
141 ノズル面
151 キャリッジ本体
155 ヘッドZ軸テーブル
161 Z軸スライダ
162 スライドベース
163 スライドガイド
164 Z軸モータ
165 ボールねじ
166 雌ねじブロック(雌ねじ部)
226 ギャップ検査ユニット(ギャップ検出手段)
231 接触ローラ(接触子)
236 磁気誘導型センサ(ギャップ検出センサ)
450 液晶表示装置
500 有機EL装置
W ワーク(基板)[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a droplet discharge device that discharges a functional liquid by moving a droplet discharge head relative to a work in X and Y axis directions, a method of manufacturing an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic apparatus. is there.
[0002]
[Prior art]
In a conventional droplet discharge device that forms a filter element of a color filter by applying an ink jet method, a substrate (work) of a color filter is placed in a Z direction facing a droplet discharge head that discharges a filter material (functional liquid). It is mounted on an XY stage via a stage (for example, see Patent Document 1). At the time of assembling the droplet discharge device, the gap between the workpiece and the droplet discharge head, that is, the work gap is measured by a sensor, and fine adjustment is performed by the Z stage so that the work gap becomes a predetermined value. .
[0003]
[Patent Document 1]
JP-A-9-49920 (
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in the droplet discharge device, various electro-optical devices such as an organic EL device can be manufactured by using, for example, a luminescent material as a functional liquid. However, the thickness of a work usually varies depending on an object to be manufactured. is there.
The conventional simple Z stage does not detect the limit state of the work gap and does not take into account works of different thicknesses. A jig (spacer) dedicated to the work is installed in the apparatus, and it is necessary to adjust the work gap by abutting the droplet discharge head against the jig. At that time, if the operation is forgotten or the jig is used incorrectly, the droplet discharge head may come into contact with the work and damage the droplet discharge head and the work.
In addition, the XY stage in the conventional droplet discharge device has a Z stage designed to have high rigidity in consideration of the weight of the work, so that the weight increases and the controllability deteriorates.
[0005]
The present invention provides a droplet discharge apparatus, a method of manufacturing an electro-optical device, a method of manufacturing an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic device, which can effectively prevent damage to a droplet discharge head and a work and can appropriately cope with various works having different thicknesses. Its purpose is to provide equipment.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The droplet discharge device according to the present invention includes an X / Y axis moving unit that relatively moves a droplet discharge head relative to a workpiece in an X / Y axis direction via a carriage on which the head is mounted, and a liquid through the carriage. A Z-axis moving means for moving the droplet discharge head in the Z-axis direction and finely adjusting the work gap between the surface of the workpiece and the nozzle surface of the droplet discharge head; Gap detecting means for detecting a limit state that has become equal to or less than a predetermined value, and movement control means for interlocking the driving of the Z-axis moving means and / or the XY-axis moving means when the gap detecting means detects the limit state. And characterized in that:
[0007]
According to this configuration, for example, when a work having a different thickness is newly introduced, the work gap can be automatically finely adjusted via the carriage by the Z-axis moving means. Therefore, the thickness can be reduced without using a jig dedicated to the work. For example, a work gap corresponding to the type of work can be appropriately set. At this time, when the work gap is in the limit state, the drive of the Z-axis moving unit and / or the X / Y-axis moving unit is interlocked in response to the detection result of the gap detecting unit. Contact between the ejection head and the workpiece or the like can be avoided beforehand. Further, as a result of the relation between the work and the Z-axis moving means being independent, it is not necessary to design the Z-axis moving means in consideration of the weight of the work, and the controllability of the X / Y-axis moving means is improved.
[0008]
In this case, it is preferable that the gap detecting means is attached to the carriage.
[0009]
According to this configuration, the gap detecting means and the droplet discharge head move the same amount of movement in the Z-axis direction by the Z-axis moving means. The state can be accurately detected. This detection can be performed by moving the carriage.
[0010]
In this case, it is preferable that the gap detection unit detects the limit state by directly contacting the detected portion on the work side.
[0011]
According to this configuration, since the limit state can be detected by physical / mechanical contact with the detected portion on the work side, the reliability of detection can be improved.
[0012]
In this case, the gap detecting means is configured to be capable of contacting the detected part on the work side and to be slidable in the Z-axis direction, and to limit the contact state by moving the contact in the Z-axis direction. It is preferable that the contact has a height from the surface of the workpiece lower than the nozzle surface.
[0013]
According to this configuration, due to the relationship between the height of the contact and the nozzle surface with respect to the detected portion, the contact comes into contact with the detected portion prior to the nozzle surface, and the contact moves in the Z-axis direction. The gap detection sensor detects the limit state via the movement. Thereby, damage to the nozzle surface can be reliably prevented.
[0014]
In these cases, it is preferable that the detected portion on the work side is provided in a non-drawing area on the surface of the work.
[0015]
According to this configuration, the limit state can be detected by directly and effectively using the work.
[0016]
Similarly, the work table on which the work is mounted incorporates a flushing unit configured to receive the discharge of the functional liquid by the droplet discharge head and to be minutely movable in the Z-axis direction. , Is preferably provided on the surface of the flushing unit.
[0017]
According to this configuration, it is possible to detect the limit state using a flushing unit generally required for a droplet discharge head. The positional relationship between the droplet discharge head and the flushing unit in the Z-axis direction also changes due to adjustment of the work gap. The discharged (flushing) functional liquid can be appropriately received by the flushing unit without scattering to the outside.
[0018]
In these cases, the detection by the gap detecting means is continuously performed by moving the droplet discharge head relative to the workpiece by the X / Y axis moving means. It is preferable that it is constituted by a roller rotatable in the relative movement direction of.
[0019]
According to this configuration, even if the droplet discharge head is relatively moved via the carriage in the detection operation, the contact is a roller that rotates in the moving direction, so that damage to the contact itself can be prevented. As a result, the detection operation can be performed at a relatively high speed.
[0020]
In these cases, the Z-axis moving means has a slider connected to the carriage, and a slide base supporting the slider slidably in the Z-axis direction, and the slide base is fixed to the XY-axis moving means. Is preferred.
[0021]
According to this configuration, the slide base is fixed to the XY-axis moving means, and the slider (slidably supported by the XY-axis moving means) moves in the Z-axis direction, so that the carriage (droplet discharge) connected thereto is moved. The head and the gap detecting means) move in the Z-axis direction to adjust the work gap.
[0022]
In this case, the Z-axis moving means is provided between the slide base and the slider, an actuator fixed to the slide base, a feed screw rotated forward and backward by the actuator, a female screw portion screwed to the feed screw. A slide guide for guiding the movement of the slider, wherein the female screw portion is provided substantially at the center of gravity of the slider, and the slide guides are provided at four locations with the female screw portion interposed therebetween. ,preferable.
[0023]
According to this configuration, when the feed screw is rotated forward and backward by the actuator, the slider advances and retreats in the Z-axis direction via the female screw portion. However, the female screw portion is provided at the approximate center of gravity of the slider and is formed at four positions with the female screw portion interposed therebetween. Since the slide guides are provided separately, the slider can be appropriately moved along the Z-axis direction. That is, by effectively arranging the four slide guides with respect to the female screw portion, it is possible to appropriately prevent yawing of the droplet discharge head when adjusting the work gap, and to appropriately adjust the parallelism between the nozzle surface and the work surface. Can be maintained. Further, the actuator can be fixed by effectively utilizing the slide base.
[0024]
In these cases, the carriage includes a carriage main body connected to the slider, and a head unit detachably mounted on the carriage main body. The carriage main body is provided with a gap detection unit, and the head unit has a droplet discharge unit. It is preferable that a plurality of heads are assembled.
[0025]
According to this configuration, the head unit can be moved in the Z-axis direction by the movement of the slider, so that a plurality of droplet discharge heads can be simultaneously used for adjusting the work gap. Further, the droplet discharge head can be exchanged for each head unit in accordance with the type of the work.
In addition, if a slider and a carriage main body are connected to each other and a Θ-axis moving unit for rotating the droplet discharge head in the 方向 -axis direction via the carriage main body is provided, for example, In the initial positioning stage, angle correction in the XY plane can be performed.
[0026]
In the method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention, the droplet discharge head is relatively moved with respect to a substrate serving as a work by an X / Y-axis moving unit, using the droplet discharge device according to the present invention. A functional liquid is discharged from a discharge head to form a film formation portion on a substrate.
The electro-optical device of the present invention uses the above-described droplet discharge device of the present invention, and relatively moves the droplet discharge head with respect to a substrate serving as a work by an X / Y-axis moving unit. It is characterized in that a film formation part formed by the discharged functional liquid is provided on a substrate.
[0027]
According to this configuration, since the film forming process is performed using the above-described droplet discharge device, the throughput of the electro-optical device can be improved regardless of the thickness of the substrate. In addition, as the electro-optical device (device), a liquid crystal display device, an organic EL (Electro-Luminescence) device, an electron-emitting device, a PDP (Plasma Display Panel) device, an electrophoretic display device, and the like can be considered. The electron emission device is a concept including a so-called FED (Field Emission Display) device. Further, examples of the electro-optical device include devices including metal wiring formation, lens formation, resist formation, light diffuser formation, and the like.
[0028]
An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described electro-optical device according to the present invention.
[0029]
According to this configuration, it is possible to provide an electronic apparatus equipped with a high-performance electro-optical device. In this case, as the electronic device, various electric products other than a mobile phone and a personal computer equipped with a so-called flat panel display correspond thereto.
[0030]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a droplet discharge device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The droplet discharge device is incorporated in a production line of a flat panel display such as an organic EL device or a liquid crystal display device, and a functional liquid such as a luminescent material is discharged from a droplet discharge head to a substrate (work) by an inkjet method. Drawing is performed by selectively discharging droplets to form a desired film-forming portion on the substrate. The work gap between the substrate and the droplet discharge head can be adjusted so as to appropriately cope with substrates having different thicknesses depending on the object to be manufactured.
[0031]
As shown in FIGS. 1 to 3, the
[0032]
The discharge means 2 is widely disposed on the
[0033]
The
[0034]
The X-axis table 24 mounts the
[0035]
Specifically, as shown in FIG. 4, the
[0036]
In the present embodiment, the workpiece W is moved in the main scanning direction with respect to the
[0037]
Next, each constituent device of the
[0038]
As shown in FIGS. 3, 5, and 6, the Y-axis table 25 has a pair of Y-
[0039]
The pair of Y-axis guide rails 32 and the pair of Y-axis
[0040]
By driving the Y-axis
[0041]
As shown in FIGS. 5 to 7, the work table 26 includes a
[0042]
The suction table 43 has a plurality of mounting
[0043]
The work Θ axis table 42 includes a
[0044]
Each of the flushing
[0045]
The elevating
[0046]
For example, as shown in FIG. 7A, the height level of the upper end of the
[0047]
Further, as shown in FIG. 7B, the height level of the upper end of the
[0048]
That is, since the work W introduced into the
[0049]
The functional liquid received in the
[0050]
As shown in FIGS. 8 to 10, the X-axis table 24 is supported over the Y-axis table 25 via a
[0051]
The
[0052]
When the X-axis
[0053]
The
[0054]
On the left (front side in FIG. 8)
[0055]
[0056]
FIG. 11 is a plan view showing a main part of the
[0057]
The twelve droplet ejection heads 21 are divided into two rows of six and are separated from each other in the main scanning direction (Y-axis direction). Each of the droplet discharge heads 21 is disposed at a predetermined angle to secure a sufficient application density of the functional droplets to the work W. Further, each of the droplet discharge heads 21 in one row and the other row are disposed so as to be displaced from each other in the sub-scanning direction (X-axis direction). The
[0058]
On one side of the sub-carriage 121, a pipe joint 125 for connecting each of the droplet discharge heads 21 and the sub-tank 273 with a pipe, and a pair of hand-held handles for attaching and detaching the
[0059]
With such a configuration, the functional liquid is pressure-supplied from the
[0060]
As shown in FIG. 12, the
[0061]
Each
[0062]
In the
[0063]
As shown in FIGS. 13 and 14, the
[0064]
The carriage table 152 includes a head Θ-axis table 154 connected to an upper part of the carriage
[0065]
As shown in FIG. 15, the head Z-axis table 155 includes a Z-
[0066]
The
[0067]
The Z-
[0068]
In this case, the fixing position of the
[0069]
Thus, by effectively disposing the
[0070]
Each
[0071]
The Z-
[0072]
As shown in FIG. 13A, a
[0073]
As shown in FIGS. 13 and 14, the head Θ-axis table 154 includes a fixed
[0074]
As described above, the head Θ-axis table 154 connects the Z-
[0075]
As shown in FIG. 16, the movable portion of the head Z-axis table 155 is covered with a dust collecting cover, and as with the X-axis
[0076]
The
[0077]
The
[0078]
When the
[0079]
Such replacement work including carrying in the
[0080]
The gap inspection unit 226 (gap detecting means) mainly introduces works W having different thicknesses into the
[0081]
The
[0082]
The
[0083]
Specifically, when the
[0084]
A
[0085]
An end of a
[0086]
A female screw is formed at a portion of the
[0087]
The
[0088]
FIG. 18 is an explanatory diagram schematically showing the relationship between the
[0089]
As described above, since the
[0090]
The
[0091]
In addition,
[0092]
By driving the
[0093]
FIG. 19 is an explanatory diagram for describing a work gap detection operation. The detected portion on the work W side set in the present embodiment includes a non-drawing area on the surface of the work W (for example, an unnecessary portion in the work W such as a peripheral portion or a cut portion to be cut later) and a pair of flushing boxes. 61 surface. In the preparation stage of the detection operation, the
[0094]
In a series of detection operations, first, the X-axis table 24 is driven, the
[0095]
Possible causes of the contact of the
[0096]
After the inspection on the front side of the work table 26 is completed, the X-axis table 24 is driven again, and the
[0097]
As shown in FIG. 20, the control device 5 has a CPU for controlling the operation of each means, and controls and executes control programs and control data for executing a braking operation of the
[0098]
For example, when performing a drawing operation on the work W, the control device 5 controls the discharge driving of the plurality of droplet discharge heads 21 and also controls the work W and the
[0099]
Further, the control device 5 drives the head Z-axis table 155 to adjust the work gap according to the thickness of the work W. In addition, the inspection of the work gap is performed in cooperation with the
[0100]
The detection of the work gap limit state is not limited to the case where the X / Y-
[0101]
By the way, the
[0102]
Therefore, a manufacturing method using the
[0103]
FIG. 21 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device. As shown in the figure, a liquid
[0104]
The
[0105]
Then, in the
[0106]
Similarly, an organic EL device and a method of manufacturing the same will be described with reference to FIG. As shown in the figure, in the
[0107]
In the
[0108]
Then, in the
[0109]
In the device manufacturing method described below, the head Z-axis table 155 adjusts the work gap to a work gap corresponding to the thickness of the work W (substrate).
[0110]
That is, in the manufacturing method of the PDP device, the fluorescent materials of R, G, and B colors are introduced into the plurality of droplet discharge heads 21, and the plurality of droplet discharge heads 21 are main-scanned and sub-scanned to selectively select the fluorescent material. To form phosphors in a large number of concave portions on the back substrate (work W).
[0111]
In the method of manufacturing the electrophoretic display device, the electrophoretic material of each color is introduced into the plurality of droplet discharge heads 21, and the plurality of droplet discharge heads 21 are main-scanned and sub-scanned to selectively discharge the electrophoretic material. Then, a phosphor is formed in each of the many concave portions on the electrode (work W). The electrophoretic body composed of the charged particles and the dye is preferably encapsulated in a microcapsule.
[0112]
In the metal wiring forming method, a liquid metal material is introduced into the plurality of droplet discharge heads 21, the plurality of droplet discharge heads 21 are main-scanned and sub-scanned, and the liquid metal material is selectively discharged to the substrate (workpiece). W) Form a metal wiring thereon. For example, these devices can be manufactured by applying the present invention to a metal wiring connecting the driver and each electrode in the above-described liquid crystal display device and a metal wiring connecting the TFT and the like to each electrode in the organic EL device. Further, it goes without saying that the present invention can be applied to general semiconductor manufacturing techniques in addition to this type of flat panel display.
[0113]
In the method of forming a lens, a lens material is introduced into the plurality of droplet discharge heads 21, the plurality of droplet discharge heads 21 are main-scanned and sub-scanned, and the lens material is selectively discharged to form a transparent substrate (work W). ) On which a number of microlenses are formed. For example, the present invention can be applied to the case where a device for beam convergence in the FED apparatus is manufactured. Further, the present invention is also applicable to various optical device manufacturing techniques.
[0114]
In the method of manufacturing a lens, a light-transmissive coating material is introduced into the plurality of droplet discharge heads 21, main scanning and sub-scanning of the plurality of droplet discharge heads 21 are performed, and the coating material is selectively discharged. A coating film is formed on the surface of.
[0115]
In the resist forming method, a resist material is introduced into the plurality of droplet discharge heads 21, the plurality of droplet discharge heads 21 are main-scanned and sub-scanned, and the resist material is selectively discharged onto the substrate (work W). Then, a photoresist of an arbitrary shape is formed. For example, the present invention can be widely applied not only to the formation of banks in the above-described various display devices but also to the application of a photoresist in a photolithography method which is a main body of semiconductor manufacturing technology.
[0116]
In the light diffuser forming method, a light diffusing material is introduced into the plurality of droplet discharge heads 21, the plurality of droplet discharge heads 21 are main-scanned and sub-scanned, and the light diffusion material is selectively discharged to the substrate ( A number of light diffusers are formed on the work W). Also in this case, it is needless to say that the present invention can be applied to various optical devices.
[0117]
【The invention's effect】
According to the droplet discharge device of the present invention, in addition to the work gap can be automatically adjusted by the Z-axis moving means corresponding to the thickness of various works, even if the work gap is in a limit state of a predetermined value or less, Since this is detected by the gap detecting means and the driving of the Z axis moving means and / or the XY axis moving means is interlocked, the contact between the droplet discharge head and the work is avoided beforehand, Damage to the droplet discharge head and the work can be effectively prevented.
[0118]
According to the method for manufacturing an electro-optical device, the electro-optical device, and the electronic apparatus of the present invention, since the film forming process is performed using a droplet discharge device in which a work gap is appropriately managed, high quality and high reliability are achieved. Various electro-optical devices and electronic devices can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an external perspective view of a droplet discharge device according to an embodiment.
FIG. 2 is a plan view of the droplet discharge device according to the embodiment.
FIG. 3 is a left side view of the droplet discharge device according to the embodiment.
FIG. 4 is an explanatory diagram schematically showing a drawing operation of the droplet discharge device according to the embodiment.
FIG. 5 is a plan view showing a Y-axis table and a work table according to the embodiment.
FIG. 6 is a front view showing a Y-axis table and a work table according to the embodiment.
FIG. 7 is a side view showing a work table according to the embodiment.
FIG. 8 is an external perspective view showing an X-axis table and a main carriage according to the embodiment.
FIG. 9 is a front view showing an X-axis table and a main carriage according to the embodiment.
FIG. 10 is a plan view showing a main part of an X-axis table and a main carriage according to the embodiment.
FIG. 11 is a plan view illustrating a main part of the head unit according to the embodiment.
12A is a perspective view of a droplet discharge head according to an embodiment, and FIG. 12B is a cross-sectional view of a main part of the droplet discharge head.
FIG. 13 is a perspective view showing a main carriage according to the embodiment.
FIG. 14 is an exploded perspective view showing a main carriage according to the embodiment.
FIGS. 15A and 15B are views showing a carriage table according to the embodiment, wherein FIG. 15A is an exploded perspective view, and FIG.
16 is an exploded perspective view showing a state where a dust collection cover is attached to the main carriage shown in FIG.
FIGS. 17A and 17B are views showing a gap inspection unit according to the embodiment, wherein FIG. 17A is a perspective view, FIG. 17B is a front view, and FIG.
FIG. 18 is an explanatory diagram schematically showing a relationship between a nozzle surface of the droplet discharge head, a contact roller of the gap inspection unit, and a height level according to the embodiment.
FIG. 19 is an explanatory diagram illustrating a detection operation by the gap inspection unit according to the embodiment.
FIG. 20 is a block diagram of a main part of the droplet discharge device according to the embodiment.
FIG. 21 is a sectional view of a liquid crystal display device manufactured by the droplet discharge device of the embodiment.
FIG. 22 is a cross-sectional view of an organic EL device manufactured by the droplet discharge device of the embodiment.
[Explanation of symbols]
1 Droplet ejection device
2 Discharge means
5 control device (movement control means)
21 Droplet ejection head
22 Head unit
23 Main carriage
24 X-axis table
25 Y axis table
26 Work Table
29 XY axis moving mechanism (XY axis moving means)
44 Flushing unit
141 Nozzle surface
151 Carriage body
155 Head Z-axis table
161 Z-axis slider
162 slide base
163 slide guide
164 Z axis motor
165 Ball screw
166 Female thread block (Female thread part)
226 Gap inspection unit (gap detection means)
231 Contact roller (contact)
236 Magnetic induction type sensor (gap detection sensor)
450 liquid crystal display
500 Organic EL device
W Work (substrate)
Claims (13)
前記キャリッジを介して前記液滴吐出ヘッドをZ軸方向に移動させ、前記ワークの表面と前記液滴吐出ヘッドのノズル面との間のワークギャップを微調整するZ軸移動手段と、を備えた液滴吐出装置において、
前記ワークギャップが所定値以下になったリミット状態を検出するギャップ検出手段と、
前記ギャップ検出手段が前記リミット状態を検出したときに、前記Z軸移動手段および/または前記X・Y軸移動手段の駆動をインタロックする移動制御手段と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。XY axis moving means for relatively moving the droplet discharge head relative to the work in the X and Y axis directions via a carriage on which the head is mounted,
Z-axis moving means for moving the droplet discharge head in the Z-axis direction via the carriage and finely adjusting a work gap between the surface of the work and the nozzle surface of the droplet discharge head. In the droplet discharge device,
Gap detection means for detecting a limit state in which the work gap has become a predetermined value or less,
Movement control means for interlocking the driving of the Z-axis movement means and / or the XY-axis movement means when the gap detection means detects the limit state;
A droplet discharge device comprising:
前記接触子のZ軸方向の移動を介して前記リミット状態を検出するギャップ検出センサと、を有し、
前記接触子は、前記ワークの表面からの高さレベルが前記ノズル面よりも低く設定されていることを特徴とする請求項3に記載の液滴吐出装置。A contact configured to be capable of contacting the detected portion on the work side, and configured to be slidable in the Z-axis direction;
A gap detection sensor that detects the limit state through movement of the contact in the Z-axis direction,
4. The droplet discharge device according to claim 3, wherein a height level of the contact from a surface of the workpiece is set lower than that of the nozzle surface. 5.
前記ワーク側の被検出部は、前記フラッシングユニットの表面に設けられていることを特徴とする請求項3または4に記載の液滴吐出装置。The work table on which the work is mounted incorporates a flushing unit configured to receive a discarded discharge of the functional liquid by the droplet discharge head and to be minutely movable in the Z-axis direction,
The droplet discharge device according to claim 3, wherein the detected portion on the work side is provided on a surface of the flushing unit.
前記接触子は、検出動作における前記液滴吐出ヘッドの相対的な移動方向に回転可能なローラで構成されていることを特徴とする請求項4、5または6に記載の液滴吐出装置。The detection by the gap detecting means is continuously performed by moving the droplet discharge head relative to the workpiece by the XY axis moving means,
7. The droplet discharge device according to claim 4, wherein the contact comprises a roller rotatable in a relative movement direction of the droplet discharge head in a detection operation.
前記スライドベースは、前記X・Y軸移動手段に固定されていることを特徴とする請求項2ないし7のいずれかに記載の液滴吐出装置。The Z-axis moving means includes a slider connected to the carriage, and a slide base supporting the slider slidably in the Z-axis direction,
The droplet discharge device according to any one of claims 2 to 7, wherein the slide base is fixed to the XY-axis moving means.
前記雌ねじ部は、前記スライダの略重心部に設けられ、
前記スライドガイドは、前記雌ねじ部を挟んで4箇所に分散して設けられていることを特徴とする請求項8に記載の液滴吐出装置。The Z-axis moving means includes an actuator fixed to the slide base, a feed screw that rotates forward and reverse by the actuator, a female screw portion screwed to the feed screw, and an interposition between the slide base and the slider. And a slide guide for guiding the movement of the slider.
The female screw portion is provided substantially at the center of gravity of the slider,
9. The droplet discharge device according to claim 8, wherein the slide guides are provided at four locations with the female screw portion interposed therebetween.
前記キャリッジ本体には、前記ギャップ検出手段が取り付けられ、
前記ヘッドユニットには、前記液滴吐出ヘッドが複数個組み付けられていることを特徴とする請求項8または9に記載の液滴吐出装置。The carriage includes a carriage main body connected to the slider, and a head unit detachably mounted on the carriage main body.
The carriage body is provided with the gap detection means,
10. The droplet discharge device according to claim 8, wherein a plurality of the droplet discharge heads are assembled to the head unit.
前記ワークとなる基板に対し、前記X・Y軸移動手段により前記液滴吐出ヘッドを相対的に移動させ、当該液滴吐出ヘッドから機能液を吐出して前記基板上に成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。Using the droplet discharge device according to any one of claims 1 to 10,
The droplet discharge head is relatively moved by the X / Y-axis moving means with respect to the substrate to be a work, and a functional liquid is discharged from the droplet discharge head to form a film forming unit on the substrate. A method for manufacturing an electro-optical device, comprising:
前記ワークとなる基板に対し、前記X・Y軸移動手段により前記液滴吐出ヘッドを相対的に移動させ、当該液滴吐出ヘッドから吐出した機能液により形成した成膜部を前記基板上に有することを特徴とする電気光学装置。Using the droplet discharge device according to any one of claims 1 to 10,
The liquid droplet ejection head is relatively moved by the X / Y axis moving means with respect to the substrate to be the work, and a film forming unit formed by the functional liquid ejected from the liquid droplet ejection head is provided on the substrate. An electro-optical device, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003075324A JP4449317B2 (en) | 2003-03-19 | 2003-03-19 | Droplet ejection apparatus and electro-optic device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003075324A JP4449317B2 (en) | 2003-03-19 | 2003-03-19 | Droplet ejection apparatus and electro-optic device manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004283635A true JP2004283635A (en) | 2004-10-14 |
JP4449317B2 JP4449317B2 (en) | 2010-04-14 |
Family
ID=33290664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003075324A Expired - Fee Related JP4449317B2 (en) | 2003-03-19 | 2003-03-19 | Droplet ejection apparatus and electro-optic device manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4449317B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011215173A (en) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Toray Eng Co Ltd | Ink jet coating device |
WO2013129679A1 (en) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | Fujifilm Corporation | Liquid ejection apparatus, nanoimprint system, and liquid ejection method |
US8827437B2 (en) | 2010-11-30 | 2014-09-09 | Seiko Epson Corporation | Printing method and printer |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0725026A (en) * | 1993-06-24 | 1995-01-27 | Canon Inc | Ink jet recorder |
JPH07163927A (en) * | 1993-12-10 | 1995-06-27 | Three Bond Co Ltd | Dispenser and automatic coating applicator equipped with the same |
JPH10174924A (en) * | 1996-12-17 | 1998-06-30 | Hitachi Techno Eng Co Ltd | Paste applying apparatus |
JPH10260307A (en) * | 1997-03-17 | 1998-09-29 | Seiko Epson Corp | Device and method for manufacturing color filter |
JPH11319673A (en) * | 1998-05-18 | 1999-11-24 | Nec Eng Ltd | Hole sealing device |
JP2000167467A (en) * | 1998-12-02 | 2000-06-20 | Sanken Electric Co Ltd | Dispenser movement controller |
JP2000308844A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Nec Eng Ltd | Liquid applicator |
-
2003
- 2003-03-19 JP JP2003075324A patent/JP4449317B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0725026A (en) * | 1993-06-24 | 1995-01-27 | Canon Inc | Ink jet recorder |
JPH07163927A (en) * | 1993-12-10 | 1995-06-27 | Three Bond Co Ltd | Dispenser and automatic coating applicator equipped with the same |
JPH10174924A (en) * | 1996-12-17 | 1998-06-30 | Hitachi Techno Eng Co Ltd | Paste applying apparatus |
JPH10260307A (en) * | 1997-03-17 | 1998-09-29 | Seiko Epson Corp | Device and method for manufacturing color filter |
JPH11319673A (en) * | 1998-05-18 | 1999-11-24 | Nec Eng Ltd | Hole sealing device |
JP2000167467A (en) * | 1998-12-02 | 2000-06-20 | Sanken Electric Co Ltd | Dispenser movement controller |
JP2000308844A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-07 | Nec Eng Ltd | Liquid applicator |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011215173A (en) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Toray Eng Co Ltd | Ink jet coating device |
US8827437B2 (en) | 2010-11-30 | 2014-09-09 | Seiko Epson Corporation | Printing method and printer |
WO2013129679A1 (en) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | Fujifilm Corporation | Liquid ejection apparatus, nanoimprint system, and liquid ejection method |
JP2013182902A (en) * | 2012-02-29 | 2013-09-12 | Fujifilm Corp | Liquid ejection apparatus, nanoimprint system and liquid ejection method |
US9028022B2 (en) | 2012-02-29 | 2015-05-12 | Fujifilm Corporation | Liquid ejection apparatus, nanoimprint system, and liquid ejection method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4449317B2 (en) | 2010-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7073886B2 (en) | Wiping unit for liquid droplet ejection head; liquid droplet ejection apparatus equipped therewith; electro-optical device; method of manufacturing the same; and electronic device | |
JP2003217840A (en) | Manufacturing method and manufacturing apparatus for organic el device, organic el device, electronics and liquid drop discharge device | |
JP2003266738A (en) | Head unit for ejector and ejector comprising it, method for fabricating liquid crystal display, method for fabricating organic el device, method for fabricating electron emitter, method for fabricating pdp device, method for fabricating electrophoretic device, method for producing color filter, method for producing organic el, method for forming spacer, method for forming metal wiring, method for forming lens, method for forming resist, and method for forming light diffuser | |
JP2003266673A (en) | Method for filling functional liquid drop ejection head with liquid and ejection unit, method for fabricating liquid crystal display, method for fabricating organic el device, method for fabricating electron emitting device, method for fabricating pdp device, method for fabricating electrophoretic display, method for producing color filter, method for producing organic el, method for forming spacer, method for forming metallization, method for forming lens, method for forming resist and method for forming light diffuser | |
JP2003181352A (en) | Head unit, its setting method and plotting apparatus, methods of manufacturing liquid-crystal display unit, organic el apparatus, electron discharge apparatus, pdp apparatus, electrophoresis display apparatus, color filter and organic el, and methods of forming spacer, metal wiring, lens, resist and light diffusion body | |
JP4432374B2 (en) | Head capping mechanism and droplet discharge apparatus equipped with the same | |
JP4752822B2 (en) | Droplet ejection apparatus and electro-optic device manufacturing method | |
JP4449317B2 (en) | Droplet ejection apparatus and electro-optic device manufacturing method | |
JP4032942B2 (en) | Discharge functional liquid weight measurement device, droplet discharge device including the same, electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus | |
JP2003191462A (en) | Image plotter, method of manufacturing liquid crystal display device using the same, method of manufacturing organic el device, method of electron emitting device, method of manufacturing pdp device, method of manufacturing cataphoresis display device, method of manufacturing color filter, method manufacturing organic el, method of forming spacer, method of forming metallic wiring pattern, method of forming lens, method of forming resist, and method of forming optical diffusion body | |
JP2003275646A (en) | Cleaning unit of discharge head for functional liquid droplet in discharge device and discharge device with the same, manufacturing method for liquid crystal display device, organic el device, electron emission device, pdp device, electrophoretic display device, color filter and organic el, and forming method for spacer, metallic wiring, lens, resist and light diffusing body | |
KR100773071B1 (en) | Printer | |
JP2010015174A (en) | Workpiece lift-up method, and workpiece set method | |
JP2004172321A (en) | Work transporting table, work transporter, droplet discharger, electrooptic device, and method of manufacturing electrooptic device, and electronic equipment | |
JP2005066491A (en) | Liquid drop ejection device, method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device and electronic instrument | |
JP2004172318A (en) | Work table, work transporter, liquid droplet discharger, method of receiving and delivering work, electrooptic device, method of manufacturing electrooptic device, and electronic equipment | |
JP4483229B2 (en) | Suction table, workpiece setting method, and droplet discharge device | |
JP2006248654A (en) | Work transferring device, work processing system, manufacturing method of electro-optical device, electro-optical device, manufacturing method of circuit board, circuit board, and electronic equipment | |
JP4348990B2 (en) | Droplet discharge device | |
JP2004172317A (en) | Device and method for positioning work, liquid droplet discharger, electrooptic device, method of manufacturing electrooptic device, and electronic equipment | |
JP4399148B2 (en) | Functional liquid filling method for ink jet head and functional liquid droplet ejection apparatus | |
JP4374948B2 (en) | Static elimination method, static elimination device, and droplet discharge device equipped with the same | |
JP2004313907A (en) | Moving table and droplet discharge device provided therewith, electro-optic equipment and its manufacturing method, and electronic equipment | |
JP2004321891A (en) | Droplet discharge apparatus, manufacture method for electro-optical device, electro-optical device and electronic appliance | |
JP4337424B2 (en) | Head holder, head unit equipped with the same, droplet discharge device, and method of manufacturing electro-optical device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060313 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090602 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090803 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100105 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |