JP2004265580A - Magnetic head and magnetic disk device - Google Patents

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Kazuhide Sone
一秀 曽根
Muneo Kamiguchi
宗雄 上口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic head which is used for a magnetic disk device to record and reproduce information to and from a recording medium and floats lower with respect to the recording medium. <P>SOLUTION: A thin-film element 35a is formed at the air outflow end of a core slider 32 and a protective film 36 is formed on the thin-film element 35a. It is constituted so that a magnetoresistive element 84 is formed on the thin-film element 35a and a notched part 43a of a notched shape of a stepped surface is formed at the protective film 36 toward the air outflow end from the vicinity of the thin-film element 35 on the floating surface. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

本発明は、記録媒体に対して情報の記録再生を行う磁気ディスク装置に使用される磁気ヘッドに関する。   The present invention relates to a magnetic head used in a magnetic disk drive that records and reproduces information on a recording medium.

近年、磁気ディスク装置の小型化、大容量化に伴って記録媒体が高密度化してきており、磁気ヘッドの低浮上化が要求されているが、磁気ヘッドの耐衝撃性や記録媒体への接触を少なくするのに限界を生じている。そのため、磁気ヘッドの記録媒体への接触を少なくする構造にする必要がある。   In recent years, recording media have been increasing in density with the miniaturization and large capacity of magnetic disk devices, and low flying height of magnetic heads has been required. There is a limit to reducing Therefore, it is necessary to provide a structure that reduces the contact of the magnetic head with the recording medium.

図20に、従来の磁気ヘッドの構成図を示す。図20(A)において、磁気ヘッド11はコアスライダ12の記録媒体としての磁気ディスクに対して浮上する浮上面に、空気流方向に2つのレール面13a,13bが形成され、空気流入側に浮上を導くためのテーパ面14a,14bが形成される。   FIG. 20 shows a configuration diagram of a conventional magnetic head. In FIG. 20A, the magnetic head 11 has two rail surfaces 13a and 13b formed in the air flow direction on a floating surface of the core slider 12 which floats on a magnetic disk as a recording medium, and floats on the air inflow side. Are formed.

レール面13aの空気流出側の端面には記録再生を行うための薄膜素子15が形成される。薄膜素子15は、図20(B)に示すように、コアスライダ12(レール面13a)の端面に絶縁膜(アルミナ)16が形成され、絶縁膜16上に磁性膜17が形成される。この磁性膜17上に絶縁膜18が形成され、この絶縁膜18内にコイル19が巻回状に形成される。そして、絶縁膜18上に磁性膜20が形成される。磁性膜17,20で形成されるギャップ22で記録再生が行われる。また、薄膜素子15における磁性膜20上に保護膜(絶縁膜)21が形成される。   A thin-film element 15 for recording / reproducing is formed on the end face of the rail surface 13a on the air outflow side. In the thin-film element 15, as shown in FIG. 20B, an insulating film (alumina) 16 is formed on the end surface of the core slider 12 (rail surface 13a), and a magnetic film 17 is formed on the insulating film 16. An insulating film 18 is formed on the magnetic film 17, and a coil 19 is formed in the insulating film 18 in a wound shape. Then, the magnetic film 20 is formed on the insulating film 18. Recording and reproduction are performed in the gap 22 formed by the magnetic films 17 and 20. Further, a protective film (insulating film) 21 is formed on the magnetic film 20 in the thin film element 15.

一方、レール面13a,13bには、図20(C)の破線で示すように空気の流れの円滑化を図るなどのために面取り加工(ラッピング加工)が施されている。面取りの幅と高さはそれぞれ0〜10μm程度である。この場合、コアスライダ12の端面から保護膜21の端部までの距離をLとすると、L≧0.025mmで設定され、磁性膜20から保護膜21の端部までの距離(保護膜の膜厚)をSとすると、S≒0.015〜0.02mmに設定される。   On the other hand, the rail surfaces 13a and 13b are subjected to a chamfering process (lapping process) as shown by a broken line in FIG. The width and height of the chamfer are each about 0 to 10 μm. In this case, assuming that the distance from the end face of the core slider 12 to the end of the protective film 21 is L, L ≧ 0.025 mm is set, and the distance from the magnetic film 20 to the end of the protective film 21 (the film of the protective film) Assuming that S is (thickness), S is set to 0.015 to 0.02 mm.

このような磁気ヘッド11は、回転する磁気ディスクで生じる空気流を取り込み磁気ディスク上に浮上する。この場合、磁気ヘッド11と磁気ディスクとが接触してもダメージが少なくなるように、レール面13a,13b(テーパ面14a,14bを含む)及び磁気ディスク表面にDLC(ダイヤモンドライクカーボン)などの薄い膜を形成したり、また上述のレール面13a,13bの面取り加工によりバリを除去している。
特開平4−366408号公報
Such a magnetic head 11 takes in an air flow generated by a rotating magnetic disk and floats on the magnetic disk. In this case, the rail surfaces 13a and 13b (including the tapered surfaces 14a and 14b) and the thin surface such as DLC (diamond-like carbon) are formed on the surface of the magnetic disk so that damage is reduced even if the magnetic head 11 comes into contact with the magnetic disk. Burrs are removed by forming a film and chamfering the rail surfaces 13a and 13b.
JP-A-4-366408

ここで、図21に、従来の磁気ヘッドにおける保護膜の熱膨脹の説明図を示す。図21において、磁気ヘッド11を動作(記録)させる場合、コイル19に電流を流すため薄膜素子15の温度が上昇し、保護膜21の端部21’のように熱膨脹により隆起する。例えば、保護膜21がアルミナで形成される場合には10℃上昇当たりの隆起量が6nmとなった。   Here, FIG. 21 is an explanatory diagram of thermal expansion of a protective film in a conventional magnetic head. In FIG. 21, when the magnetic head 11 is operated (recorded), the temperature of the thin-film element 15 rises because current flows through the coil 19, and the thin-film element 15 rises due to thermal expansion like an end 21 ′ of the protective film 21. For example, when the protective film 21 is formed of alumina, the amount of protrusion per 10 ° C. rise is 6 nm.

このため、磁気ヘッド11の磁気ディスクへの最少浮上量がこの保護膜21の隆起量及びスペーシングに依存することとなり、接触が頻繁に起こりやすくなり、その際発生する磨耗粉により、薄膜素子15やディスクを損傷してしまうため低浮上化を図ることが困難であるという問題がある。   For this reason, the minimum flying height of the magnetic head 11 above the magnetic disk depends on the height of the protective film 21 and the spacing, and the contact is likely to occur frequently. In addition, there is a problem that it is difficult to reduce the flying height because the disk is damaged.

また、コアスライダ12のレール面13a,13bの面取り加工は、薄膜素子15を形成したウエハを切断し、レール面13a,13bを形成した後に施されるもので、薄膜素子15の近傍まで加工すると加工圧力等により当該薄膜素子15を加工することになって電磁変換特性の悪化などのばらつきが大きくなるという問題がある。   The chamfering of the rail surfaces 13a and 13b of the core slider 12 is performed after cutting the wafer on which the thin film element 15 is formed and forming the rail surfaces 13a and 13b. Processing the thin film element 15 by processing pressure or the like causes a problem that variations such as deterioration of electromagnetic conversion characteristics increase.

そこで、本発明は上記課題に鑑みなされたもので、第1の目的は記録媒体に対して低浮上化を図り、第2の目的は素子の均一化を図る磁気ヘッドを提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and a first object is to provide a magnetic head for lowering the flying height of a recording medium, and a second object is to make elements uniform.

上記課題を解決するために、請求項1は、記録媒体に対して浮上するスライダの空気流出端に、情報の記録再生を行うための薄膜素子部が形成され、前記薄膜素子部上に保護膜が形成された磁気ヘッドにおいて、前記薄膜素子部は磁気抵抗効果素子を有し、前記保護膜は、前記スライダの浮上面における前記薄膜素子部近傍より前記空気流出方向にかけて形成された切欠部を有する構成とする。   In order to solve the above problem, a thin film element portion for recording and reproducing information is formed at an air outflow end of a slider that floats on a recording medium, and a protective film is formed on the thin film element portion. Wherein the thin film element portion has a magnetoresistive effect element, and the protective film has a notch formed in the air outflow direction from near the thin film element portion on the flying surface of the slider. Configuration.

請求項2は、前記切欠部が、前記薄膜素子部の空気流出端側近傍より段差面、テーパ面、又は曲面の切り欠き形状で形成される。   According to a second aspect of the present invention, the cutout portion is formed in a stepped, tapered, or curved cutout shape near the air outflow end side of the thin film element portion.

請求項3は、記録媒体に対して浮上して情報の記録再生を行う請求項1又は2記載の磁気ヘッドを搭載するヘッド支持部と、前記ヘッド支持部が取り付けられるアーム部と、前記アーム部を前記記録媒体上で移動させる駆動部と、を備えて磁気ディスク装置を構成する。   A head support for mounting the magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the magnetic head is mounted on the recording medium to perform recording and reproduction of information, an arm to which the head support is attached, and the arm And a drive unit for moving the disk drive on the recording medium to form a magnetic disk drive.

上述のように、請求項1及び2の発明では、スライダの浮上面における保護膜に切欠部が形成される。これにより、温度上昇によって保護膜が浮上面上に隆起される部分が減少することから、磁気ヘッドの記録媒体に対する低浮上化を図ることが可能となる。   As described above, in the first and second aspects of the present invention, the notch is formed in the protective film on the flying surface of the slider. As a result, the portion of the protective film that rises above the air bearing surface due to a rise in temperature is reduced, so that it is possible to lower the flying height of the magnetic head with respect to the recording medium.

請求項3の発明では、磁気ディスク装置に上述の磁気ヘッドを搭載する。これにより、磁気ヘッドの記録媒体へのヘッドタッチが減少され、低浮上化を図ることが可能となる。   According to a third aspect of the present invention, the above-described magnetic head is mounted on a magnetic disk drive. As a result, head contact of the magnetic head with the recording medium is reduced, and low flying height can be achieved.

以上のように、本発明によれば、スライダの浮上面における保護膜に切欠部が形成されることにより、温度上昇によって保護膜が浮上面方向に隆起しても浮上面上に突出する部分が減少することから、磁気ヘッドの記録媒体に対する低浮上化を図ることができる。   As described above, according to the present invention, since the notch is formed in the protective film on the floating surface of the slider, even if the protective film protrudes in the direction of the floating surface due to a temperature rise, a portion protruding above the floating surface is formed. As a result, the flying height of the magnetic head with respect to the recording medium can be reduced.

図1に、本発明の第1実施例における磁気ヘッドの構成図を示す。図1(A)において、磁気ヘッド31は、コアスライダ32の記録媒体としての磁気ディスクに対して浮上する浮上面に、空気流方向に2つのレール面33a,33bが形成され、該レール面33a,33bの空気流入側に浮上を導くためのテーパ面34a,34bが形成される。   FIG. 1 shows a configuration diagram of a magnetic head according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1A, a magnetic head 31 has two rail surfaces 33a and 33b formed in the airflow direction on a floating surface of a core slider 32 which floats on a magnetic disk as a recording medium. , 33b are formed with tapered surfaces 34a, 34b for guiding the levitation to the air inflow side.

レール面33a,33bのそれぞれの空気流出側の端面には記録再生を行うための薄膜素子35及び保護膜36が形成される。薄膜素子35は、図1(B)に示すように、コアスライダ32(レール面33a,33b)の端面に絶縁膜37が形成され、絶縁膜37上に磁極となる磁性膜38が形成される。この磁性膜38上に絶縁膜39が形成され、この絶縁膜39内にコイル40が所定層巻回状に形成される。   A thin film element 35 and a protective film 36 for performing recording / reproduction are formed on the respective end faces on the air outflow side of the rail surfaces 33a and 33b. As shown in FIG. 1B, in the thin film element 35, an insulating film 37 is formed on an end surface of the core slider 32 (rail surfaces 33a, 33b), and a magnetic film 38 serving as a magnetic pole is formed on the insulating film 37. . An insulating film 39 is formed on the magnetic film 38, and a coil 40 is formed in the insulating film 39 in a predetermined layer winding shape.

そして、絶縁膜39上に磁極となる磁性膜41が形成される。磁性膜38,41で形成されるギャップ42で記録再生が行われる。また、薄膜素子35における磁性膜41上に保護膜(絶縁膜)36が形成される。   Then, a magnetic film 41 serving as a magnetic pole is formed on the insulating film 39. Recording and reproduction are performed in the gap 42 formed by the magnetic films 38 and 41. Further, a protective film (insulating film) 36 is formed on the magnetic film 41 in the thin film element 35.

保護膜36は、レール面33a,33bにおける薄膜素子35の近傍より空気流出方向に段差面の切り欠き形状の切欠部43aが形成される。この場合、磁性膜41から保護膜36の端部までの距離S(図1(B))は、例えば可能な限り零に近い値より0.015mm未満で形成される。   The protective film 36 has a notch 43a in the form of a notch on the step surface in the air outflow direction from the vicinity of the thin film element 35 on the rail surfaces 33a and 33b. In this case, the distance S (FIG. 1B) from the magnetic film 41 to the end of the protective film 36 is formed, for example, less than 0.015 mm from a value as close to zero as possible.

また、レール面33a,33bは、図1(A)の破線で示すように、空気の流れを円滑にすると共に磁気ディスクの接触時の磨耗粉の発生を軽減させるための面取り加工(ラッピング加工)が施される。   Further, as shown by the broken lines in FIG. 1A, the rail surfaces 33a and 33b are chamfered (lapping) for smoothing the air flow and reducing the generation of abrasion powder at the time of contact with the magnetic disk. Is applied.

なお、薄膜素子35は、レール面33a,33bの両方の端面に形成されているが、通常使用時は何れか一方が駆動される。これは、磁気ディスクの両面に当該磁気ヘッド31の薄膜素子35の位置を対向させて配置するためである。尚、コアスライダ先端中央部に一つの素子を設けてもよい。   Although the thin film element 35 is formed on both end faces of the rail faces 33a and 33b, one of them is driven during normal use. This is because the positions of the thin film elements 35 of the magnetic head 31 are opposed to each other on both surfaces of the magnetic disk. One element may be provided at the center of the tip of the core slider.

図1(A)に示すように、第1実施例における磁気ヘッドの各部の寸法は、a≧0.03μm、b=0.045mm、c=25μm、d=40μm、e=2mm、f=1.6mm、g=0.385mm、h=0.054mm、i=0.255mmと設定されている。尚、0.01mm≦c≦0.25mm、L≧0.02mmで形成してもよい。   As shown in FIG. 1A, the dimensions of each part of the magnetic head in the first embodiment are as follows: a ≧ 0.03 μm, b = 0.045 mm, c = 25 μm, d = 40 μm, e = 2 mm, f = 1 0.6 mm, g = 0.385 mm, h = 0.954 mm, and i = 0.255 mm. In addition, it may be formed as 0.01 mm ≦ c ≦ 0.25 mm and L ≧ 0.02 mm.

ここで、切り欠きを設けた保護膜における面取りについて検討する。   Here, chamfering in the protective film provided with the notch will be discussed.

図2(A)は本発明の第1実施例における磁気ヘッドと記録媒体との位置関係を模式的に示した簡略図である。図2(B)は磁気ヘッドの流出端を拡大して示した図である。図1(A)において、aで示された寸法を図2(A)ではREで示す。REの値としては、0.03μm以上が望ましい。   FIG. 2A is a simplified diagram schematically showing the positional relationship between the magnetic head and the recording medium according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2B is an enlarged view of the outflow end of the magnetic head. In FIG. 1A, the dimension indicated by a is indicated by RE in FIG. 2A. The value of RE is desirably 0.03 μm or more.

図2(A)において、FHTは記録媒体と磁気ヘッドの間の距離を示し、FHLはコアスライダの平坦部分の流入端と記録媒体との距離を表す。さらに、SLはコアスライダの流入端に形成されたテーパ部を除く長手方向におけるレール面33a、33bの長さを表し、AHは保護膜の厚さを表す。   In FIG. 2A, FHT indicates the distance between the recording medium and the magnetic head, and FHL indicates the distance between the inflow end of the flat portion of the core slider and the recording medium. Further, SL represents the length of the rail surfaces 33a and 33b in the longitudinal direction excluding the tapered portion formed at the inflow end of the core slider, and AH represents the thickness of the protective film.

図2(A)と図2(B)を参照するに、xは保護膜先端と記録媒体との距離を表し、θは磁気ヘッドの傾きを表す。xおよびθの値はそれぞれ以下の式で与えられる。
θ=sin-1{(FHL−FHT)/SL}
x=REcosθ−AHsinθ+FHT
(EJ=REcosθ, Ej=AHsinθ)
仮にREの値が0.03μm未満の場合、保護膜の先端を面取りした方が良い。言い換えれば保護膜の先端にテーパを形成するのが良い。
Referring to FIGS. 2A and 2B, x represents the distance between the tip of the protective film and the recording medium, and θ represents the inclination of the magnetic head. The values of x and θ are given by the following equations, respectively.
θ = sin -1 {(FHL-FHT) / SL}
x = REcos θ−AH sin θ + FHT
(EJ = REcosθ, Ej = AHsinθ)
If the value of RE is less than 0.03 μm, it is better to chamfer the tip of the protective film. In other words, it is preferable to form a taper at the tip of the protective film.

今、RE=0.02μm、FHT=0.1μm、FHL=0.35μm、SL=1.85×103μm、AH=45μmの磁気ヘッドを持つ磁気ディスク装置を装置1とすると、装置1におけるxおよびθの値はそれぞれ次のようになる。
θ=sin-1{(FHL−FHT)/SL}
=sin-1{(0.35−0.1 )/(1.85×103)}
=0.00774[deg]
x=REcosθ−AHsinθ+FHT
=0.02cosθ−45sinθ+0.1
=0.11392[μm]
さらに、RE=0.01μm、FHT=0.07μm、FHL=0.245μm、SL=1.85×103μm、AH=45μmの磁気ヘッドを持つ磁気ディスク装置を装置2とすると、装置2におけるxおよびθの値はそれぞれ次のようになる。
θ=sin-1{(FHL−FHT)/SL}
=sin-1{(0.245−0.07)/(1.85×103)}
=0.00542[deg]
x=REcosθ−AHsinθ+FHT
=0.01cosθ−45sinθ+0.07
=0.07574[μm]
このような装置において素子に電流を流すと、コイルの温度が上昇し、それにともなって保護膜は媒体に近づく方向に盛り上がる。図3は温度の上昇に伴うxとFHTの差(以下リセス量という)の変化を表し、リセス量の負の値は、保護膜の先端の方がFHTギャップよりも媒体に近いことを示している。10℃の温度上昇ごとにリセス量が約6nm減少することを図3は示している。温度が50℃上昇した時保護膜先端がFHTギャップよりも25nm分媒体に近いことがわかるが、このことから図2(B)中のGDの長さを約30nm短くすれば保護膜の突き出しはなくなることがわかる。
Now, assuming that a magnetic disk device having a magnetic head of RE = 0.02 μm, FHT = 0.1 μm, FHL = 0.35 μm, SL = 1.85 × 10 3 μm, and AH = 45 μm is the device 1. The values of x and θ are as follows.
θ = sin -1 {(FHL-FHT) / SL}
= Sin -1 {(0.35-0.1) / (1.85 × 10 3 )}
= 0.00774 [deg]
x = REcos θ−AH sin θ + FHT
= 0.02 cos θ-45 sin θ + 0.1
= 0.11392 [μm]
Further, assuming that a magnetic disk device having a magnetic head of RE = 0.01 μm, FHT = 0.07 μm, FHL = 0.245 μm, SL = 1.85 × 10 3 μm, and AH = 45 μm is the device 2, The values of x and θ are as follows.
θ = sin -1 {(FHL-FHT) / SL}
= Sin -1 {(0.245-0.07) / (1.85 × 10 3 )}
= 0.00542 [deg]
x = REcos θ−AH sin θ + FHT
= 0.01 cos θ-45 sin θ + 0.07
= 0.07574 [μm]
When a current is applied to the element in such an apparatus, the temperature of the coil rises, and accordingly, the protective film rises in a direction approaching the medium. FIG. 3 shows a change in the difference between x and FHT (hereinafter referred to as a recess amount) with an increase in temperature. A negative value of the recess amount indicates that the tip of the protective film is closer to the medium than the FHT gap. I have. FIG. 3 shows that the recess amount decreases by about 6 nm for every 10 ° C. temperature rise. When the temperature rises by 50 ° C., it can be seen that the tip of the protective film is closer to the medium by 25 nm than the FHT gap. From this, if the length of the GD in FIG. It turns out that it is gone.

保護膜の突き出しを抑えるためには、保護膜の先端にテーパを形成すればよい。図4(A)および4(B)は、本発明の第1実施例の変形例における磁気ヘッドの構成およびヘッドと記録媒体の位置関係を模式的に示す簡略図であり、図4(A)における破線はテーパを示している。図4(B)における点D’は突き出した保護膜の端を示している。DEを1とした時、AEが0.8、0.6、0.4、0.2となるようにテーパを形成した4種類の場合を考える。   In order to suppress the protrusion of the protective film, a taper may be formed at the tip of the protective film. FIGS. 4A and 4B are simplified diagrams schematically showing the configuration of the magnetic head and the positional relationship between the head and the recording medium in a modification of the first embodiment of the present invention. Indicates a taper. A point D 'in FIG. 4B indicates the protruding end of the protective film. When DE is set to 1, four types of tapered cases where the AE is 0.8, 0.6, 0.4, and 0.2 are considered.

理論的に言えば、三角形A’FDと三角形A’D’Dとの相似関係から、保護膜の盛り上がりの程度はA’EのDEに対する比率と反比例する。すなわち、A’Eが短いほど保護膜の盛り上がりも少ない。   In theory, the degree of swelling of the protective film is inversely proportional to the ratio of A'E to DE from the similarity between triangles A'FD and A'D'D. That is, the shorter A'E is, the less the swelling of the protective film is.

図5は各温度条件における非テーパ部の長さ(A’E)とリセス量との関係を示す図である。10℃の温度上昇ごとにリセス量が約6nm減少することを図は示している。図5において陰影を施した範囲は、保護膜の浮上量がFHTギャップの浮上量より大きな範囲である。   FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the length (A'E) of the non-tapered portion and the recess amount under each temperature condition. The figure shows that the recess amount decreases by about 6 nm with every 10 ° C. temperature rise. The shaded area in FIG. 5 is a range where the flying height of the protective film is larger than the flying height of the FHT gap.

通電による素子部の温度上昇が30℃までとすると、A’Eを25μmにすればよい。またこの時の浮上面からの位置関係は図6のようになる。   Assuming that the temperature rise of the element portion due to energization is up to 30 ° C., A′E may be set to 25 μm. The positional relationship from the air bearing surface at this time is as shown in FIG.

ここで、図7に薄膜素子形成のウエハプロセスの説明図を示すと共に、図8に薄膜素子の部分説明図を示す。図7及び図8において、厚さがコアスライダ32の長さ方向となるウエハ44の表面上に下地膜としてアルミナスパッタにより絶縁膜37が形成され(ステップ(ST)1)、絶縁膜37上にクロム等のめっき、エッチングにより下部の磁性膜38が形成される(ST2)。   Here, FIG. 7 is an explanatory view of a wafer process for forming a thin film element, and FIG. 8 is a partial explanatory view of the thin film element. 7 and 8, an insulating film 37 is formed as a base film on the surface of the wafer 44 having a thickness in the longitudinal direction of the core slider 32 by alumina sputtering (step (ST) 1). The lower magnetic film 38 is formed by plating of chromium or the like and etching (ST2).

この磁性膜38は、ウエハ44に形成される薄膜素子35の個数に応じて形成されるもので、磁性膜38で形成されるギャップ42部分が規則的に配列されて形成される。すなわち、ギャップ42部分が直線的になるように配列されて形成される。   The magnetic film 38 is formed in accordance with the number of the thin film elements 35 formed on the wafer 44, and the gap 42 formed by the magnetic film 38 is regularly arranged. That is, the gap 42 is formed so as to be linearly arranged.

続いて、磁性膜38上にアルミナスパッタ、ミリングによりギャップ膜39aを形成され(ST3)、このギャップ膜39a上にアルミナのフォトエッチングにより下部絶縁膜39bが形成される(ST4)。この下部絶縁膜39b上にクロムスパッタ、フォトエッチングによりコイル膜40aが形成される(ST5)。コイル40を2層とする場合にはST4及びST5を行い絶縁膜39cを挟んで上部コイル膜40bが形成され、上部コイル膜40b上にアルミナのフォトエッチングにより上部絶縁膜39dが形成される(ST6)。   Subsequently, a gap film 39a is formed on the magnetic film 38 by alumina sputtering and milling (ST3), and a lower insulating film 39b is formed on the gap film 39a by photo-etching of alumina (ST4). A coil film 40a is formed on the lower insulating film 39b by chromium sputtering and photoetching (ST5). When the coil 40 has two layers, ST4 and ST5 are performed to form the upper coil film 40b with the insulating film 39c interposed therebetween, and the upper insulating film 39d is formed on the upper coil film 40b by photo-etching of alumina (ST6). ).

この上部絶縁膜39d上にクロム等のめっき、エッチングにより上部絶縁膜41が形成される(ST7)。この上部磁性膜41と下部絶縁膜38によりギャップ膜39aが形成されたギャップ42を形成する。   An upper insulating film 41 is formed on the upper insulating film 39d by plating of chromium or the like and etching (ST7). The upper magnetic film 41 and the lower insulating film 38 form a gap 42 in which a gap film 39a is formed.

一方、磁性膜38,41及びコイル膜40a,40bのリード線取出し部としてのバンプがクロムスパッタ等により形成されて薄膜素子35が形成される。この薄膜素子35の全体上にアルミナスパッタにより保護膜36が形成される(ST9)。   On the other hand, the thin films 35 are formed by forming bumps as lead extraction portions of the magnetic films 38 and 41 and the coil films 40a and 40b by chromium sputtering or the like. A protective film 36 is formed on the entire thin film element 35 by alumina sputtering (ST9).

そして、保護膜36をエッチング(又は砥石などのブレード)により切欠部43a(図8(A)の破線部分)が形成される(ST10,図8(B))。   Then, the protection film 36 is etched (or a blade such as a grindstone) to form a notch 43a (a broken line portion in FIG. 8A) (ST10, FIG. 8B).

そこで、図9に磁気ヘッドの加工プロセス、アセンブリ組立ての説明図を示し、図10に薄膜素子が形成されたウエハの部分図を示す。   FIG. 9 is an explanatory view of the magnetic head processing process and assembly assembly, and FIG. 10 is a partial view of a wafer on which thin-film elements are formed.

図9において、薄膜素子35及び保護膜36(切欠部43)が形成されたウエハ44は、薄膜素子35におけるギャップ42部分の突き合わされた部分で切断されて切断ウエハ片44aとされる(図9(A))。この切断ウエハ片44aにおいて、レール面33a,33bが研削により形成される(図9(B))。   9, the wafer 44 on which the thin-film element 35 and the protective film 36 (the cutout 43) are formed is cut at a portion where the gap 42 of the thin-film element 35 is abutted to form a cut wafer piece 44a (FIG. 9). (A)). In this cut wafer piece 44a, the rail surfaces 33a and 33b are formed by grinding (FIG. 9B).

この状態が図5に示される。図10(A)はレール面33a,33bからの平面図であり、図10(B)は空気流出側の端面からの平面図である。図10(A),(B)に示すように切断ウエハ片44aが長さ方向に切欠部43aを有する所定数のコアスライダ32が配列された状態でレール面33a,33bが所定高さで形成される。   This state is shown in FIG. FIG. 10A is a plan view from the rail surfaces 33a and 33b, and FIG. 10B is a plan view from the end surface on the air outflow side. As shown in FIGS. 10A and 10B, rail surfaces 33a and 33b are formed at a predetermined height in a state where a predetermined number of core sliders 32 having cutouts 43a in the length direction are arranged. Is done.

図9に戻って、レール面33a,33bが形成された切断ウエハ片44aを、個々の磁気ヘッド31(コアスライダ32)ごとに切断され、レール面33a,33bの空気流入側にテーパ面34a,34bが形成されると共に、前述のようにレール面33a,33bの面取り加工が行われる(図9(C))。   Returning to FIG. 9, the cut wafer piece 44a on which the rail surfaces 33a and 33b are formed is cut for each magnetic head 31 (core slider 32), and the tapered surfaces 34a and 34a are formed on the air inflow sides of the rail surfaces 33a and 33b. 34b is formed, and the rail surfaces 33a and 33b are chamfered as described above (FIG. 9C).

このようにして形成された磁気ヘッド31がヘッド支持部であるジンバル52の先端に搭載されて、ヘッドアセンブリ51が組立てられる(図9(D))。磁気ヘッド31における薄膜素子35の上記バンプよりリード線53により接続端子54に導かれる。なお、55は後述するキャリッジアームに取り付けるための取着部である。   The magnetic head 31 thus formed is mounted on the tip of a gimbal 52 as a head support, and the head assembly 51 is assembled (FIG. 9D). The thin film element 35 of the magnetic head 31 is guided to the connection terminal 54 by the lead wire 53 from the bump. Reference numeral 55 denotes an attachment portion for attaching to a carriage arm described later.

続いて、図11に、図1の磁気ヘッドが使用される磁気ディスク装置の平面構成図を示す。図11に示す磁気ディスク装置61において、アクチュエータ62のアーム63にヘッドアセンブリ51が取り付けられており、アーム63の基部がピボット64に回転自在に軸支される。   FIG. 11 is a plan view showing a magnetic disk drive using the magnetic head shown in FIG. In the magnetic disk device 61 shown in FIG. 11, a head assembly 51 is attached to an arm 63 of an actuator 62, and a base of the arm 63 is rotatably supported by a pivot 64.

また、アーム63のピボット64の反対側には回動支持部65が形成され、該回動支持部65に巻回されたコイル66が設けられる。そして、コイル66の下方には2つのマグネット67a,67bが固定配置される。このコイル66及びマグネット67a,67bにより駆動部としてVCM(ボイスコイルモータ)を構成する。   A turning support 65 is formed on the arm 63 on the side opposite to the pivot 64, and a coil 66 wound around the turning support 65 is provided. Two magnets 67a and 67b are fixedly arranged below the coil 66. The coil 66 and the magnets 67a and 67b constitute a VCM (voice coil motor) as a driving unit.

この様なアクチュエータ62は、センサレスタイプのスピンドルモータ(図に表われず)のスピンドル68に固定されて回転される磁気ディスク69に対し、コイル66に配線基板70よりフレキシブルプリント板71を介して通電することにより磁気ヘッド31を磁気ディスク69の半径方向に移動させるようにアーム63が回動されるものである。   Such an actuator 62 energizes a coil 66 via a flexible printed board 71 from a wiring board 70 to a magnetic disk 69 which is fixed and rotated on a spindle 68 of a sensorless type spindle motor (not shown). By doing so, the arm 63 is rotated so as to move the magnetic head 31 in the radial direction of the magnetic disk 69.

このような磁気ディスク装置61において、アクチュエータ62により磁気ヘッド31を磁気ディスク69の所定トラック上に位置決めして記録(又は再生)を行う場合に薄膜素子35におけるコイル40(40a,40b)に電流が供給される。このとき、薄膜素子35が温度上昇して保護膜36が熱膨脹して隆起を生じるが、図1(B)の破線のように、切欠部43aにおいて生じることから、ギャップ42面での隆起が微小となる。具体的には図1(B)における幅Sを基準として考えると保護膜36の10℃あたりの隆起量が2nm(従来は6nm)となった。   In such a magnetic disk device 61, when recording (or reproduction) is performed by positioning the magnetic head 31 on a predetermined track of the magnetic disk 69 by the actuator 62, a current is applied to the coil 40 (40a, 40b) of the thin film element 35. Supplied. At this time, the temperature of the thin-film element 35 rises and the protective film 36 thermally expands to generate a bulge. However, as shown by the broken line in FIG. It becomes. Specifically, considering the width S in FIG. 1B as a reference, the amount of protrusion of the protective film 36 per 10 ° C. is 2 nm (6 nm in the related art).

従って、磁気ディスク69面での磁気ヘッド31の接触を減少させることができ、これによって磨耗粉などの磁気ヘッド31(薄膜素子35)への付着による損傷が軽減され、信頼性を向上させることができる。また、これに伴って磁気ディスク69面に対して磁気ヘッド31の浮上量を低減させることができる。さらに、磁気ヘッド31の製造時、ウエハ段階で容易に切欠部43aが形成することができると共に、切欠部43によりギャップ42より保護膜36の端部までの距離が縮小されて、レール面33a,33bの従来の面取り加工法で切欠部を形成するよりも薄膜素子35への影響が少なくなり、ばらつきが減少して均一化を図ることができる。   Therefore, the contact of the magnetic head 31 with the surface of the magnetic disk 69 can be reduced, whereby damage due to abrasion powder and the like attached to the magnetic head 31 (thin film element 35) can be reduced, and reliability can be improved. it can. Accordingly, the flying height of the magnetic head 31 with respect to the surface of the magnetic disk 69 can be reduced. Further, when the magnetic head 31 is manufactured, the notch 43a can be easily formed at the wafer stage, and the distance from the gap 42 to the end of the protective film 36 is reduced by the notch 43, so that the rail surfaces 33a, The influence on the thin-film element 35 is smaller than in the case of forming the notch by the conventional chamfering method of 33b, the variation is reduced, and uniformity can be achieved.

また、切欠部43aにより、磁気ヘッド31のロールによるエッジ部分が磁気ディスク69に接触することを減少させることができる。   In addition, the notch 43a can reduce the contact of the edge of the magnetic head 31 by the roll with the magnetic disk 69.

次に、図12に、本発明の第2実施例における磁気ヘッドの構成図を示す。図12(A),(B)に示す磁気ヘッド31は、切欠部43bを、コアスライダ32におけるレール面33a,33b(浮上面)の薄膜素子35の近傍より空気流出方向に、テーパ面の切り欠き形状で形成したもので、他の構成は図1の第1実施例と同様であり、同様の作用効果を有するものである。そして、図11に示す磁気ディスク装置61に搭載される。図中、xの寸法はおよそ0.020mm、yの寸法は0.045mmと設定されるのが望ましい。   Next, FIG. 12 shows a configuration diagram of a magnetic head according to a second embodiment of the present invention. In the magnetic head 31 shown in FIGS. 12A and 12B, the notch 43b is formed by cutting the tapered surface in the air outflow direction from the vicinity of the thin film element 35 on the rail surfaces 33a, 33b (floating surface) of the core slider 32. The other configuration is the same as that of the first embodiment of FIG. 1 and has the same function and effect. Then, it is mounted on the magnetic disk device 61 shown in FIG. In the drawing, it is desirable that the dimension of x is set to about 0.020 mm and the dimension of y is set to 0.045 mm.

ここで、図13に、第2実施例の製造説明図を示す。図13(A),(B)において、図7と同様にウエハ44上に所定数の薄膜素子35が形成され、薄膜素子35上に保護膜36が形成される。そして、各薄膜素子35ごとのギャップ42の近傍に断面V形状のブレード(砥石等)72によりV溝73aが形成される。例えば、ステージ上にウエハを搭載して固定し、ロボットハンドで固定された砥石がセンサによる印の判別でX方向に各ブロック位置の素子形成部に位置合わせされ、Y方向に駆動して切削するものである。   Here, FIG. 13 shows a manufacturing explanatory view of the second embodiment. 13A and 13B, similarly to FIG. 7, a predetermined number of thin film elements 35 are formed on a wafer 44, and a protective film 36 is formed on the thin film elements 35. Then, a V-shaped groove 73a is formed in the vicinity of the gap 42 for each thin-film element 35 by a blade (a grinding stone or the like) 72 having a V-shaped cross section. For example, a wafer is mounted and fixed on a stage, and the grindstone fixed by the robot hand is aligned with the element forming portion at each block position in the X direction by the discrimination of the mark by the sensor, and is driven in the Y direction to perform cutting. Things.

このV溝73aの部分を切断すると、図12に示すように薄膜素子35近傍より保護膜36にテーパ面の切欠部43bが形成されるものである。   When the V groove 73a is cut, a notch 43b having a tapered surface is formed in the protective film 36 from the vicinity of the thin film element 35 as shown in FIG.

このように、ブレード72によりウエハ段階で容易にテーパ面形状の切欠部43bが形成されるものである。   Thus, the notch 43b having a tapered surface shape is easily formed by the blade 72 at the wafer stage.

そして、前述のように磁気ヘッド31の駆動時にコイル電流が流れて温度上昇して保護膜36が熱膨脹しても、図12(B)の破線で示すように、レール面33a,33b(ギャップ42面)上での隆起を軽減させることができ、磁気ヘッド31の低浮上化を図ることができるものである。   Then, as described above, even when the coil current flows during driving of the magnetic head 31 and the temperature rises and the protective film 36 expands thermally, as shown by the broken lines in FIG. On the magnetic head 31 can be reduced, and the flying height of the magnetic head 31 can be reduced.

次に、図14に本発明の第3実施例における磁気ヘッドの構成図を示し、図15に第3実施例の溝形状の説明図を示す。図14(A),(B)に示す磁気ヘッド31は、切欠部43cを、コアスライダ32におけるレール面33a,33b(浮上面)の薄膜素子35の近傍より空気流出方向に、曲面の切り欠き形状で形成したもので、他の構成は図1の第1実施例と同様であり、同様の作用効果を有するものである。そして、図11に示す磁気ディスク装置61に搭載される。   Next, FIG. 14 shows a configuration diagram of a magnetic head according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 15 shows an explanatory view of a groove shape of the third embodiment. In the magnetic head 31 shown in FIGS. 14A and 14B, the notch 43 c is formed by notching a curved surface in the air outflow direction from the vicinity of the thin film element 35 on the rail surfaces 33 a and 33 b (floating surface) of the core slider 32. The other configuration is the same as that of the first embodiment of FIG. 1 and has the same function and effect. Then, it is mounted on the magnetic disk device 61 shown in FIG.

この場合、図15に示すように、各薄膜素子35ごとのギャップ42の近傍で、断面形状が曲面のブレードにより逆R溝73bが形成され、この中心部分を切断することにより保護膜36に逆Rの曲面の切欠部43cが形成されるものである。   In this case, as shown in FIG. 15, an inverted R groove 73b is formed by a blade having a cross-sectional shape in the vicinity of the gap 42 for each thin film element 35. An R-shaped cutout 43c is formed.

このような形状の切欠部43cを形成することによっても、図14(B)の破線に示すように保護膜36の熱膨脹によるレール面33a,33b(浮上面)からの隆起を軽減させることができ、磁気ヘッド31の低浮上化を図ることができるものである。   By forming the notch 43c having such a shape, it is also possible to reduce the protrusion from the rail surfaces 33a, 33b (floating surface) due to the thermal expansion of the protective film 36 as shown by the broken line in FIG. Thus, the flying height of the magnetic head 31 can be reduced.

次に、図16に、第1〜第3実施例の他の溝形状の説明図を示す。図16(A)は、ウエハ段階での薄膜素子35におけるギャップ42の近傍で、断面形状が逆台形状のブレードにより逆台形溝73cが形成される場合を示している。そして、逆台形溝73cの中心部分を切断することにより、保護膜36にテーパ面状の切欠部が形成されるものである。   Next, FIG. 16 is an explanatory view of another groove shape of the first to third embodiments. FIG. 16A shows a case where an inverted trapezoidal groove 73c is formed by a blade having an inverted trapezoidal cross section in the vicinity of the gap 42 in the thin film element 35 at the wafer stage. Then, by cutting the central portion of the inverted trapezoidal groove 73c, a notch having a tapered surface is formed in the protective film 36.

また、図16(B)は、ウエハ段階でギャップ42の近傍で、ブレードにより底面を備える逆R溝73dが形成される場合を示している。そして、この中心部を切断することにより、保護膜36に逆R状の切欠部が形成されるものである。 続いて、図17に、磁気ヘッドを薄膜MR素子を用いて構成した場合の構成図を示す。図17(A)は部分構成図、図17(B)は部分断面図である。図17(A),(B)に示す磁気ヘッド81は、コアスライダ32上に下地層としてアルミナ等の絶縁膜37が形成され、絶縁膜37上にFeMn(マンガン鉄)等のシールド膜(磁性膜)82が形成されて、さらにアルミナ等の絶縁膜83aが形成される。   FIG. 16B shows a case where an inverted R groove 73d having a bottom surface is formed by a blade near the gap 42 at the wafer stage. Then, by cutting this central portion, an inverted R-shaped notch is formed in the protective film 36. Subsequently, FIG. 17 shows a configuration diagram in the case where the magnetic head is configured using a thin-film MR element. FIG. 17A is a partial configuration view, and FIG. 17B is a partial cross-sectional view. In the magnetic head 81 shown in FIGS. 17A and 17B, an insulating film 37 such as alumina is formed as a base layer on the core slider 32, and a shield film (magnetic material) such as FeMn (manganese iron) is formed on the insulating film 37. A film 82 is formed, and an insulating film 83a of alumina or the like is further formed.

この絶縁膜83a上にMR素子(磁気抵抗効果素子)84及びその両端に接続される導電部材85a,85b(85bは図に表われず)が形成され、これらに絶縁膜83bが形成される。   On the insulating film 83a, an MR element (magnetoresistive element) 84 and conductive members 85a, 85b (85b not shown in the drawing) connected to both ends thereof are formed, and the insulating film 83b is formed thereon.

そして、絶縁膜83b上にシールド膜を兼ねる下部磁性膜38が形成され、この磁性膜38上に図1と同様に絶縁膜39,コイル40,上部磁性膜41が形成されて薄膜素子35aを構成し、この上に保護膜36が形成される。同様に、この保護膜36には段差面(テーパ面、曲面であってもよい)の切り欠き状の切欠部43aが形成される。   Then, a lower magnetic film 38 also serving as a shield film is formed on the insulating film 83b, and an insulating film 39, a coil 40, and an upper magnetic film 41 are formed on the magnetic film 38 as in FIG. Then, a protective film 36 is formed thereon. Similarly, a notch 43a having a stepped surface (which may be a tapered surface or a curved surface) is formed in the protective film 36.

このような磁気ヘッド81は、薄膜素子35aにおけるギャップ42が記録専用素子となり、MR素子84が再生専用素子となる。   In such a magnetic head 81, the gap 42 in the thin film element 35a becomes a recording-only element, and the MR element 84 becomes a reproduction-only element.

このようにMR素子84を用いる場合であっても、保護膜36に形成された切欠部43aにより、温度上昇時における磁気ヘッド81と磁気ディスク69との接触が軽減され、磁気ヘッド81の低浮上化を図ることができる。   Even when the MR element 84 is used as described above, the contact between the magnetic head 81 and the magnetic disk 69 at the time of temperature rise is reduced by the notch 43a formed in the protective film 36, and the magnetic head 81 has a low flying height. Can be achieved.

なお、MR素子84を用いるものとして、後述する第4実施例においても同様に適用することができるものである。   It should be noted that the MR element 84 can be similarly applied to a fourth embodiment described later.

次に、図18に、本発明の第4実施例の部分構成図を示す。図18(A)は薄膜部分の平面図、図18(B)は保護膜の端面の背面図、図18(C)は薄膜素子部分の側面図である。図18(A)〜(C)に示す磁気ヘッド91aは、前述の図20(A)に示す構成と同様であって、薄膜素子35に保護膜36が形成されており、浮上面の薄膜素子35周辺より保護膜36の空気流出端にかけて凹凸部として2つのV溝92a,92bが徐々に深くなるように形成される。また、図18(C)に示すように、空気流出方向の両側面に凹凸部としてそれぞれV溝93a,93b(93bは図に表われず)が徐々に深くなるように形成されたものである。この磁気ヘッド91aは、図6に示す磁気ディスク装置61に搭載される。   Next, FIG. 18 shows a partial configuration diagram of the fourth embodiment of the present invention. 18A is a plan view of a thin film portion, FIG. 18B is a rear view of an end face of a protective film, and FIG. 18C is a side view of a thin film element portion. The magnetic head 91a shown in FIGS. 18A to 18C has the same configuration as that shown in FIG. 20A, except that the protective film 36 is formed on the thin film element 35, and the thin film element on the air bearing surface is provided. The two V-grooves 92a and 92b are formed as concave and convex portions so as to gradually become deeper from the periphery of 35 to the air outflow end of the protective film 36. Further, as shown in FIG. 18C, V-grooves 93a and 93b (93b is not shown in the figure) are formed as concave and convex portions on both side surfaces in the air outflow direction so as to gradually become deeper. . The magnetic head 91a is mounted on the magnetic disk device 61 shown in FIG.

この浮上面と両側面に形成されたV溝92a,92b,93a,93bとが形成されることで、薄膜素子35の周辺での表面積が増大されることになり、冷却効果が向上して温度上昇による保護膜36の浮上面への隆起が抑制される。これによって、磁気ヘッド91aの磁気ディスクに対する低浮上化を図ることができる。   By forming the V-grooves 92a, 92b, 93a, 93b formed on the air bearing surface and both side surfaces, the surface area around the thin film element 35 is increased, the cooling effect is improved, and the temperature is improved. The rise of the protective film 36 to the air bearing surface due to the rise is suppressed. Thus, the flying height of the magnetic head 91a with respect to the magnetic disk can be reduced.

続いて、図19に、第4実施例の他の形状の構成図を示す。図19(A)は薄膜素子部分の平面図、図19(B)は保護膜の端面の背面図、図19(C)は薄膜素子部分の側面図である。   Subsequently, FIG. 19 shows a configuration diagram of another shape of the fourth embodiment. FIG. 19A is a plan view of the thin film element portion, FIG. 19B is a rear view of an end face of the protective film, and FIG. 19C is a side view of the thin film element portion.

図19(A)〜(C)に示す磁気ヘッド91bは、薄膜素子35の周辺であって両側より空気流出方向にかけて切欠部として凹形状で段差94a,94bが例えばマスクイオンミルにより形成される。また、図19(C)に示すように空気流出方向の両側に切欠部としてそれぞれV溝95a,95b(95bは図に表われず)が徐々に深くなるように例えば切削により形成されたものである。   In the magnetic head 91b shown in FIGS. 19A to 19C, steps 94a and 94b are formed as recesses in the vicinity of the thin film element 35 from both sides in the air outflow direction, and steps 94a and 94b are formed by, for example, a mask ion mill. Also, as shown in FIG. 19 (C), V-grooves 95a and 95b (95b are not shown in the figure) are formed as notches on both sides in the air outflow direction, for example, by cutting so that the grooves gradually become deeper. is there.

この段差94a,94bと両側面のV溝95a,95bにより薄膜素子35の周辺での表面積が増大されて冷却効果が向上され、温度上昇による保護膜36の浮上面への隆起が抑制されて磁気ヘッド92bの磁気ディスクに対する低浮上化を図ることができる。   The steps 94a and 94b and the V-grooves 95a and 95b on both sides increase the surface area around the thin film element 35 to improve the cooling effect, and suppress the protrusion of the protective film 36 to the floating surface due to a rise in temperature, thereby reducing the magnetic field. The flying height of the head 92b with respect to the magnetic disk can be reduced.

なお、第4実施例では薄膜素子35より保護膜36にかけて凹凸部としてV溝92a,92b,93a,93b,95a,95bや段差94a,94bを形成した場合を示したが、表面積を増大させる形状であれば、何れの形状であってもよい。   In the fourth embodiment, V grooves 92a, 92b, 93a, 93b, 95a, 95b and steps 94a, 94b are formed as concave and convex portions from the thin film element 35 to the protective film 36. If it is, any shape may be sufficient.

また、図18及び図19に示す第4実施例と、第1〜第3実施例を適宜組み合わせることにより、さらなる磁気ヘッドの低浮上化を図ることができるものである。   Further, by appropriately combining the fourth embodiment shown in FIGS. 18 and 19 with the first to third embodiments, it is possible to further reduce the flying height of the magnetic head.

なお、以上の説明に関して更に以下の付記を開示する。
(付記1) 記録媒体に対して浮上するスライダの空気流出端に、情報の記録再生を行うための薄膜素子部が形成され、前記薄膜素子部上に保護膜が形成された磁気ヘッドにおいて、
前記薄膜素子部は磁気抵抗効果素子を有し、
前記保護膜は、前記スライダの浮上面における前記薄膜素子部近傍より前記空気流出方向にかけて形成された切欠部を有することを特徴とする磁気ヘッド。
(付記2) 前記切欠部は、前記薄膜素子部の空気流出端側近傍より段差面、テーパ面、又は曲面の切り欠き形状で形成されてなることを特徴とする付記1記載の磁気ヘッド。
(付記3) 記録媒体に対して浮上して情報の記録再生を行う付記1または2記載の磁気ヘッドを搭載するヘッド支持部と、
前記ヘッド支持部が取り付けられるアーム部と、
前記アーム部を前記記録媒体上で移動させる駆動部と、
を備えることを特徴とする磁気ディスク装置。
(付記4) 記録媒体に対して浮上するスライダの空気流出端に、情報の記録又は再生を行うための薄膜素子部が形成された磁気ヘッドの製造方法において、
厚さが前記スライダの長さ方向となるウエハ表面に、コイルと、磁性膜と記録再生のためのギャップ部分を形成して前記薄膜素子部を形成する工程と、
前記磁極上に保護膜を形成する工程と、
前記ギャップ部分に、前記保護膜の切欠部となる所定形状の溝を形成する工程と、
前記ウエハの厚さ方向に各前記薄膜素子部ごとに切断して加工する工程と、
を含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
(付記5) 前記薄膜素子部は、両端に導電部材が接続された磁気抵抗効果素子を含んで形成されることを特徴とする付記4記載の磁気ヘッドの製造方法。
(付記6) 前記溝は、エッチング又は所定切断面形状の切断部材により形成されることを特徴とする付記4又は5記載の磁気ヘッドの製造方法。
(付記7) 記録媒体に対して浮上するスライダの空気流出端に、情報の記録再生を行うための薄膜素子部が形成され、前記薄膜素子部上に保護膜が形成された磁気ヘッドにおいて、
前記スライダの浮上面における前記薄膜素子部の側端部の近傍より前記保護膜の前記空気流出方向にかけて形成された切欠部を有することを特徴とする磁気ヘッド。
(付記8) 前記切欠部は凹形状又はV溝形状で形成されてなることを特徴とする付記7記載の磁気ヘッド。
(付記9) 前記薄膜素子部は、電磁誘導性型による、又は磁気抵抗効果型と電磁誘導性型との組合わせによる構成で形成されることを特徴とする付記7又は8記載の磁気ヘッド。
(付記10) 記録媒体に対して浮上して情報の記録再生を行う付記7から9のうちいずれか一項記載の磁気ヘッドを搭載するヘッド支持部と、
前記ヘッド支持部が取り付けられるアーム部と、
前記アーム部を前記記録媒体上で移動させる駆動部と、
を備えることを特徴とする磁気ディスク装置。
In addition, the following supplementary notes are disclosed with respect to the above description.
(Supplementary Note 1) In a magnetic head in which a thin film element portion for recording and reproducing information is formed at an air outflow end of a slider flying above a recording medium, and a protective film is formed on the thin film element portion,
The thin film element section has a magnetoresistive effect element,
The magnetic head according to claim 1, wherein the protective film has a notch formed from the vicinity of the thin film element portion on the flying surface of the slider to the air outflow direction.
(Supplementary Note 2) The magnetic head according to Supplementary Note 1, wherein the cutout portion is formed in a shape of a stepped surface, a tapered surface, or a curved surface cutout near the air outflow end side of the thin film element portion.
(Supplementary Note 3) a head support unit on which the magnetic head according to Supplementary Note 1 or 2 which floats on a recording medium to record and reproduce information, and
An arm to which the head support is attached;
A drive unit for moving the arm unit on the recording medium,
A magnetic disk drive comprising:
(Supplementary Note 4) In a method of manufacturing a magnetic head, a thin-film element portion for recording or reproducing information is formed at an air outflow end of a slider flying above a recording medium.
Forming a thin film element portion by forming a coil, a magnetic film and a gap portion for recording and reproduction on a surface of a wafer having a thickness in a longitudinal direction of the slider;
Forming a protective film on the magnetic pole;
Forming a groove of a predetermined shape to be a notch of the protective film in the gap portion;
Cutting and processing each thin film element portion in the thickness direction of the wafer,
A method for manufacturing a magnetic head, comprising:
(Supplementary note 5) The method for manufacturing a magnetic head according to supplementary note 4, wherein the thin film element portion is formed to include a magnetoresistive effect element having conductive members connected to both ends.
(Supplementary Note 6) The method of Supplementary Note 4 or 5, wherein the groove is formed by etching or a cutting member having a predetermined cut surface shape.
(Supplementary Note 7) In a magnetic head in which a thin film element portion for recording and reproducing information is formed at an air outflow end of a slider flying above a recording medium, and a protective film is formed on the thin film element portion,
A magnetic head, comprising: a notch formed from the vicinity of a side end of the thin film element portion on the flying surface of the slider to the air outflow direction of the protective film.
(Supplementary note 8) The magnetic head according to Supplementary note 7, wherein the notch is formed in a concave shape or a V-groove shape.
(Supplementary note 9) The magnetic head according to Supplementary note 7 or 8, wherein the thin film element portion is formed by a configuration of an electromagnetic induction type or a combination of a magnetoresistive effect type and an electromagnetic induction type.
(Supplementary Note 10) A head support unit for mounting the magnetic head according to any one of Supplementary Notes 7 to 9, which floats on a recording medium to record and reproduce information, and
An arm to which the head support is attached;
A drive unit for moving the arm unit on the recording medium,
A magnetic disk drive comprising:

上記付記4〜6の発明では、薄膜素子の2つの磁極のギャップ部分をエッチング又は切断部材により保護膜の切欠部となる溝を形成し切断、加工する。これにより、保護膜の切欠部を高度な面取り加工を行なうことなく容易に形成することが可能になると共に、磁極のギャップ又は端面より保護膜の端部までの距離を十分縮小でき、かつ薄膜素子のばらつきが減少して電磁変換特性の均一化を図ることが可能となる。   In the inventions of Supplementary Notes 4 to 6, the gap portion between the two magnetic poles of the thin film element is cut or processed by forming a groove serving as a cutout portion of the protective film using an etching or cutting member. Thereby, the notch of the protective film can be easily formed without performing high-level chamfering, and the distance from the gap or the end face of the magnetic pole to the end of the protective film can be sufficiently reduced, and the thin film element can be formed. And the electromagnetic conversion characteristics can be made uniform.

上記付記7及び8の発明では、スライダの浮上面の薄膜素子の両側端の近傍から保護膜の空気流出方向にかけて凹形状又はV溝形状の切欠部が形成される。これにより、薄膜素子周辺の表面積が増大して冷却が促進されて温度上昇による保護膜の隆起が抑制され、磁気ヘッドの記録媒体に対する低浮上化を図ることが可能になる。   In the inventions of the above-mentioned supplementary notes 7 and 8, the concave or V-groove-shaped notch is formed from the vicinity of both side ends of the thin film element on the flying surface of the slider to the air outflow direction of the protective film. As a result, the surface area around the thin-film element is increased, cooling is promoted, and the protection film is prevented from rising due to a rise in temperature, so that the magnetic head can be reduced in flying height with respect to the recording medium.

上記付記9の発明では、スライダに形成される薄膜素子が電磁誘導性型による、又は磁気抵抗効果型と電磁誘導性型との組合わせによる構成で形成される。これにより、何れの型のものであっても低浮上化を実現でき記録再生に対する電磁変換特性の向上を図ることが可能である。   According to the invention of the aforementioned supplementary note 9, the thin film element formed on the slider is formed by an electromagnetic induction type or a combination of a magnetoresistive effect type and an electromagnetic induction type. With this arrangement, it is possible to realize a low flying height for any type, and to improve the electromagnetic conversion characteristics for recording and reproduction.

上記付記10の発明では、磁気ディスク装置に上述の磁気ヘッドを搭載する。これにより、磁気ヘッドの記録媒体へのヘッドタッチが減少され、低浮上化を図ることが可能となる。   According to the invention of the above supplementary note 10, the above magnetic head is mounted on the magnetic disk drive. As a result, head contact of the magnetic head with the recording medium is reduced, and low flying height can be achieved.

本発明の第1実施例における磁気ヘッドの構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a magnetic head according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施例における磁気ヘッドと記録媒体との位置関係を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a positional relationship between a magnetic head and a recording medium according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施例おける磁気ヘッドにおける温度上昇とリセス量減少の関係を示した図。FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between a temperature rise and a decrease in a recess amount in the magnetic head according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施例の変形例における磁気ヘッドの構成およびヘッドと記録媒体の位置関係を示す図。FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of a magnetic head and a positional relationship between the head and a recording medium according to a modification of the first embodiment of the present invention. 各温度条件における非テーパ部の長さとリセス量の関係を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a relationship between the length of the non-tapered portion and the recess amount under each temperature condition. 浮上面から見た素子まわりを示す図。FIG. 4 is a diagram showing the periphery of the element as viewed from the air bearing surface. 薄膜素子部分の形成のウエハプロセスの説明図である。It is explanatory drawing of the wafer process of formation of a thin film element part. 薄膜素子の部分説明図である。It is a partial explanatory view of a thin film element. 薄膜素子が形成されたウエハの部分図である。FIG. 3 is a partial view of a wafer on which a thin film element is formed. 磁気ヘッドの加工プロセス、アセンブリ組立ての説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a magnetic head processing process and assembly assembly. 図1の磁気ヘッドが使用される磁気ディスク装置の平面構成図である。FIG. 2 is a plan view of a magnetic disk drive using the magnetic head of FIG. 1. 本発明の第2実施例における磁気ヘッドの構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram of a magnetic head according to a second embodiment of the present invention. 第2実施例の製造説明図である。It is a manufacturing explanatory view of the second embodiment. 本発明の第3実施例における磁気ヘッドの構成図である。FIG. 13 is a configuration diagram of a magnetic head according to a third embodiment of the present invention. 第3実施例の溝形状の説明図である。It is explanatory drawing of the groove shape of 3rd Example. 第1〜第3実施例の他の溝形状の説明図である。It is explanatory drawing of other groove shape of 1st-3rd Example. 磁気ヘッドを薄膜MR素子を用いて構成した場合の構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram when a magnetic head is configured using a thin-film MR element. 本発明の第4実施例の部分構成図である。FIG. 11 is a partial configuration diagram of a fourth embodiment of the present invention. 第4実施例の他の形状の構成図である。It is a lineblock diagram of other shapes of a 4th example. 従来の磁気ヘッドの構成図である。FIG. 9 is a configuration diagram of a conventional magnetic head. 従来の磁気ヘッドにおける保護膜の熱膨脹を示した説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing thermal expansion of a protective film in a conventional magnetic head.

符号の説明Explanation of reference numerals

31,81,91a,91b 磁気ヘッド
32 コアスライダ
33a,33b レール面
34a,34b テーパ面
35,35a 薄膜素子
36 保護膜
42 ギャップ
43a〜43c 切欠部
44 ウエハ
51 ヘッドアセンブリ
61 磁気ディスク装置
62 アクチュエータ
63 アーム
69 磁気ディスク
72 ブレード
73a V溝
84 MR素子
31, 81, 91a, 91b Magnetic head 32 Core slider 33a, 33b Rail surface 34a, 34b Tapered surface 35, 35a Thin film element 36 Protective film 42 Gap 43a to 43c Notch 44 Wafer 51 Head assembly 61 Magnetic disk device 62 Actuator 63 Arm 69 Magnetic disk 72 Blade 73a V groove 84 MR element

Claims (3)

記録媒体に対して浮上するスライダの空気流出端に、情報の記録再生を行うための薄膜素子部が形成され、前記薄膜素子部上に保護膜が形成された磁気ヘッドにおいて、
前記薄膜素子部は磁気抵抗効果素子を有し、
前記保護膜は、前記スライダの浮上面における前記薄膜素子部近傍より前記空気流出方向にかけて形成された切欠部を有することを特徴とする磁気ヘッド。
A magnetic head in which a thin film element portion for performing recording and reproduction of information is formed at an air outflow end of a slider floating on a recording medium, and a protective film is formed on the thin film element portion,
The thin film element section has a magnetoresistive effect element,
The magnetic head according to claim 1, wherein the protective film has a notch formed from the vicinity of the thin film element portion on the flying surface of the slider to the air outflow direction.
前記切欠部は、前記薄膜素子部の空気流出端側近傍より段差面、テーパ面、又は曲面の切り欠き形状で形成されてなることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。   2. The magnetic head according to claim 1, wherein the notch is formed in a stepped, tapered, or curved notch shape near the air outflow end of the thin film element. 記録媒体に対して浮上して情報の記録再生を行う請求項1または2記載の磁気ヘッドを搭載するヘッド支持部と、
前記ヘッド支持部が取り付けられるアーム部と、
前記アーム部を前記記録媒体上で移動させる駆動部と、
を備えることを特徴とする磁気ディスク装置。
3. A head support for mounting the magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the head is mounted on a recording medium to record and reproduce information.
An arm to which the head support is attached;
A drive unit for moving the arm unit on the recording medium,
A magnetic disk drive comprising:
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