JP2004247344A - Method of forming wiring, wiring for organic active element, organic active device, and electronic equipment - Google Patents

Method of forming wiring, wiring for organic active element, organic active device, and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of forming wiring by which wiring is connected satisfactorily to an organic active element by preventing the deterioration of the element and the service life of the element from becoming shorter, and also to provide wiring for organic active element formed by the method, an organic active device, and electronic equipment. <P>SOLUTION: The organic active element 11 is provided with a first substrate 10 on which the element 11 is formed, a second substrate 12 disposed to face the surface of the substrate 10 on which the element 11 is formed, and a holding member 13 which holds a space containing at least the element 11 and formed between the first and second substrates 10 and 12 in a tightly closed state. The element 11 is also provided with wiring 14 formed on the first substrate 10 to electrically connect the element 11 to external terminals 18 provided on the outside of the space 16. The wiring 14 is provided with organic wiring 14b composed of an organic material, and inorganic wiring 14a composed of an inorganic material. The organic wiring 14b is conductively connected to the element 11 in the space 16, and the inorganic wiring 14a is conductively connected to the external terminals 18. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線の形成方法、有機能動素子の配線、及び有機能動装置、並びに電子機器に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、有機高分子や有機低分子からなる有機材料を利用した有機能動素子の研究が活発に行われている。有機能動素子の一例である有機トランジスタは、ニッケルからなるゲート電極層、SiOからなるゲート絶縁層、パラジウムからなるソース電極及びドレイン電極、チャネル層が形成されるペンタセン等の有機半導体薄膜が順次積層形成されたものである。
このような有機能動素子は、酸素や水分との接触により劣化してしまうだけでなく、その信頼性低下や短寿命化を招いてしまうことから、酸素や水分から保護するためのパッシベーションを有機能動素子に被覆するように形成するのが一般的である(例えば、特許文献1参照。)。
【0003】
また、この有機能動素子においては、当該有機能動素子を動作する動作回路がパシベーションの外部に設けられており、有機能動素子と動作回路との間には入出力信号を伝達するための配線が形成されている。従って、駆動回路の入力信号は、配線を通じて有機能動素子に入力され、有機能動素子が所定の処理を行った後に、配線を通じて駆動回路に出力信号が伝達される。
例えば、上記の有機トランジスタの場合においては、ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極とが、それぞれ配線を介して駆動回路に接続されており、駆動回路から配線を介してゲート電極に電荷が付与されることにより、ソース電極からドレイン電極に電流が流れ、所望のスイッチング動作が行われる。
【0004】
【特許文献1】
特開平08−306955号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した配線はパシベーションの外部の動作回路と、有機能動素子とを接続しており、単に有機能動素子を被覆するようにパシベーションを形成しただけでは、パシベーションの外部から酸素や水分が侵入し、有機能動素子の劣化と短寿命化を招いてしまうという問題がある。また、配線と有機能動素子との接続においては、好適な材料を選択すると共に良好な接続性が得られた状態にする必要がある。
【0006】
本発明は、上述する事情に鑑みてなされたものであり、有機能動素子の劣化と短寿命化を防止し、配線と有機能動素子とを良好に接続する方法として、配線の形成方法を示し、更に、当該配線の形成方法を用いた有機能動素子の配線、及び有機能動装置、並びに電子機器を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の手段を採用した。
即ち、本発明の配線の形成方法は、有機材料からなる有機配線と無機材料からなる無機配線とを有する配線を基板上に形成する方法であって、
有機配線を形成する工程は、無機配線を形成する工程の後に施されることを特徴とする。
一般に、金属等の無機材料によって無機配線を形成する場合には、CVD法(化学的気相成長法)等の高温雰囲気下に基板を曝し、当該基板上に無機配線が形成される。これに対して、有機材料は超高温(約300℃以上)に耐えられない性質を有している。
従って、本発明によれば、無機配線を形成する工程の後に有機配線が形成されるので、無機配線を形成する際の超高温状態に影響されることなく、有機配線を形成することが可能になる。
【0008】
また、本発明の有機能動素子の配線は、有機能動素子が形成された第1基板と、第1基板における有機能動素子が形成された面に対向して配置された第2基板と、第1基板と第2基板との間の少なくとも有機能動素子を含む空間を密閉状態に保持する保持部材と、第1基板上に形成されて有機能動素子と空間外の外部端子とを電気的に接続する配線とを具備し、配線は有機材料からなる有機配線と無機材料からなる無機配線とを備え、有機配線は空間内で有機能動素子と導電接続され、無機配線は外部端子と導電接続されていることを特徴とする。
ここで、有機能動素子とは、分子単電子トランジスタ、有機トランジスタ、有機薄膜トランジスタ、有機スピンエレクトロニクス素子、量子コンピュータ、分子プロセッサ、有機ストレージ等の有機素子を備える能動素子を意味する。
また、第1基板とは、ガラス基板、薄膜フィルム、絶縁基板、シリコンウェハ等の所定材料の基板や、配線層、絶縁膜、スイッチング素子等が予め形成された回路基板等を意味する。
また、第2基板とは、ガラス、有機材料、絶縁材料、金属等の種種の材料からなり、有機能動素子の劣化や分子破壊に起因する種種の状態から当該有機能動素子を保護するものであり、例えば、第2基板の外部側から有機能動素子側に対する衝撃の伝達、熱の伝達、酸素や水分の侵入等を防止することにより、有機能動素子を保護するものである。
また、保持部材とは、有機能動素子と接触することなく、第2基板の周辺に設けられる部材であって、第1基板と第2基板との間の空間を密閉状態に保持すると共に第1基板と第2基板とを接着する接着剤の機能を有するものである。
また、外部端子とは、有機能動素子の動作に関わる機能を有した動作回路の入出力端子である。
また、有機配線とは、有機能動素子との接続を良好に行うための種種の有機材料によって形成されたものである。
また、無機配線とは、外部端子との接続を良好に行うための種種の無機材料によって形成されたものである。
従って、本発明によれば、有機配線は有機能動素子と共に、第1基板と第2基板と保持部材とによって密閉された空間内に保持されるので、当該有機配線及び有機能動素子に対する衝撃の伝達、熱の伝達、酸素や水分の侵入等が防止され、有機配線及び有機能動素子を保護することができる。更に、酸素や水分の侵入に伴う有機配線及び有機能動素子の劣化を防止し、長寿命化を達成することができる。また、有機配線と有機能動素子は、共に有機材料であるので、両者の接続においては良好な導通性を得ることができる。また、外部端子は上記空間外に配置されることから、無機配線と外部端子との接続部には密閉空間等のパッシベーションが不要であり、当該無機配線及び外部端子の接続を容易に行うことが可能となる。
【0009】
また、本発明の有機能動素子の配線は、先に記載の有機能動素子の配線であり、有機配線と無機配線との境界部分が空間内に位置することを特徴とする。
従って、本発明によれば、密閉された空間内で有機配線と無機配線とが接続されるので、有機配線に対する衝撃の伝達、熱の伝達、酸素や水分の侵入等が防止され、有機配線と無機配線との接続部を保護することができ、両者の接続においては良好な導通性を得ることができる。更に、酸素や水分の侵入に伴う有機配線の劣化を防止し、長寿命化を達成することができる。ここで、有機配線と無機配線との接続状態はオーミック接合であることが好ましい。
【0010】
また、本発明の有機能動素子の配線は、先に記載の有機能動素子の配線であり、無機配線は第1基板に形成された凹部内に形成されていることを特徴とする。
ここで、凹部とは、有機能動素子が形成される第1基板の面に所望に形成された部位を意味するものである。また、当該凹部の形成方法は、例えば、第1基板を削って形成した凹部でもよく、第1基板上に所望の材料の凸部を設け、当該凸部に対して相対的に形成された凹部でもよい。
従って、本発明によれば、凹部内に無機配線が形成されているので、保持部材等の部位と無機配線との接触面において当該部位の無機配線に対する押圧力が生じた場合であっても、無機配線の断線を防止することができる。
また、第1基板を削って凹部を形成した場合には、第1基板内に無機配線を埋設することが可能になると共に、有機能動素子を具備する有機能動装置のスリム化を図ることができる。
【0011】
また、本発明の有機能動素子の配線は、先に記載の有機能動素子の配線であり、無機配線と保持部材との間に配線保護膜が形成されていることを特徴とする。
ここで、保持部材には第1基板と第2基板との間隔を維持するギャップ材が含まれている。
従って、本発明によれば、第1基板と第2基板とを張り合わせた際に、ギャップ材は押圧される。無機配線と保持部材との間には配線保護膜が形成されているので、ギャップ材が無機配線を損傷することなく、即ち、無機配線の断線を防止することができる。
【0012】
また、本発明の有機能動素子の配線は、先に記載の有機能動素子の配線であり、上述の有機配線の形成方法を用いて形成されたことを特徴とする。
従って、本発明によれば、好適に有機配線が形成されるので、先に記載の有機配線の形成方法と同様の効果が得られる。
【0013】
また、本発明の有機能動装置は、先に記載の有機能動素子の配線を備えたことを特徴とする。
従って、本発明によれば、先に記載の有機能動素子の配線と同様の効果を奏する。
【0014】
また、本発明の電子機器は、先に記載の有機能動装置を備えたことを特徴とする。
ここで、電子機器としては、例えば、携帯電話機、移動体情報端末、時計、ワープロ、パソコンなどの情報処理装置などを例示することができる。
従って、本発明によれば、先に記載の有機能動装置と同様の効果を奏すると共に、長寿命の電子機器を提供することが可能となる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る配線の形成方法、有機能動素子の配線、及び有機能動装置、並びに電子機器について、図面を参照して説明する。
なお、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材の縮尺は実際のものとは異なるように表している。
【0016】
(第1実施形態)
以下、本発明に係る有機能動素子の配線の第1実施形態について説明する。
図1は本実施形態の有機能動素子の配線を備えた有機能動装置の模式平面図、図2は図1のA−A断面における模式断面図、図3は有機能動装置の要部を示す断面図である。
図2に示すように、有機能動装置1は、基板(第1基板)10と、有機能動素子11と、保護部材(第2基板)12と、シール部材(保護部材)13と、配線14と、保護膜15とを具備し、基板10と保護部材12との間の空間16が、所定の間隔で密閉された構成となっている。
【0017】
基板10は、絶縁性材料の基板であり、絶縁性材料の中でもガラス基板等の種種のものが採用される。基板10の有機能動素子11が形成される面には、SiNからなる表面保護膜10aが形成されている。
また、基板10としては、ガラス基板等の無機材料やプラスチック等の有機材料を用いることができる。このとき、基板10として可撓性が求められる場合には樹脂材料等の薄膜フィルムでもよく、後の工程で半導体回路を形成する場合にはシリコンウェハ等の基板でもよい。また、無機材料からなるスイッチング素子(例えばシリコントランジスタ)等が予め形成された基板であってもよい。この場合、予め形成されたスイッチング素子を有機能動素子11に電気的に接続してもよい。また、表面保護膜10aに用いられる材料はSiOの酸化膜からなる無機膜や、アクリル等の有機膜を用いてもよい。なお、表面保護膜10aを形成せずに、基板10上に有機能動素子を形成してもよい。
【0018】
有機能動素子11は、有機能動装置1の機能や形態に応じて種種の素子を備え、例えば、分子単電子トランジスタ、有機トランジスタ、有機薄膜トランジスタ、有機スピンエレクトロニクス素子、量子コンピュータ、分子プロセッサ、有機ストレージ等を備える。
本実施形態においては、有機能動素子11が図4に示す分子単電子トランジスタを備えており、図4に示すように分子単電子トランジスタは、量子ドット部Rと、ソース部Sと、ドレイン部Dと、ゲート部Gと、トンネル接合部Tとを備えている。
【0019】
保護部材12の材料としては、上記基板10に対応したものが採用され、もしくは種種の目的に応じて選択される。本実施形態においてはガラス基板が用いられる。
ここで言う「基板10に対応したもの」とは、例えば、基板10が可撓性材料である場合には、保護部材12として樹脂材料等の薄膜フィルムが採用される。また、「種種の目的に応じて」とは、例えば、保護部材12の上面に半導体回路を形成する場合には、保護部材12の材料としてシリコンウェハ等の基板や、半導体回路を形成するために好適な下地となる材料が選択される。また、保護部材12の上面に別の有機能動装置を形成し、有機能動素子の積層体を形成する場合には、当該積層体に応じて種種の材料が好適に採用される。
【0020】
シール部材13としては、有機材料、無機材料、または有機材料及び無機材料の混合材料等が用いられる。また、シール部材13として有機材料を採用した場合には、UV硬化樹脂もしくは熱硬化樹脂を用いれば、シール部材13の形成を容易に行うことができる。一方、シール部材13として無機材料を採用した場合には低融点ガラスやはんだ材料等が用いられる。このとき、無機材料が水分又は酸素の非透過性を有することが好ましい。
また、図3に示すように、シール部材13は空間16の間隔を所定に維持するギャップ材17を備えている。当該ギャップ材17の高さを所望に設定することにより、空間16を好適な間隔で維持することができる。ギャップ材17としては、円柱状のガラス材や球状のプラスチック材等が用いられる。
【0021】
配線14は、無機配線14aと有機配線14bとを具備しており、無機配線14aと有機配線14bは空間16内で接続され、この接続状態はオーミック接合になっている。更に、無機配線14aは、保護膜15の一部を除去して形成された外部端子18を介して動作回路19に接続されており、有機配線14bは、上記の有機能動素子11と接続されている。
無機配線14aの材料としては、アルミニウム(Al)、金(Au)、銅(Cu)、チタニウム(Ti)等の金属が用いられ、また、カーボンナノチューブ、半導体材料、シリサイド、ITOのような酸化物導電体、有機材料中に金属微粒子を混合させた材料でもよい。
有機配線14bの材料としては、導電性ポリマーにドーパントを加えたものが代表的に採用される。導電性ポリマーとしては、例えばポリセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリp−フェニリン、ポリフェニレンビニレン等が用いられ、ドーパントとしては、アルカリ金属やハロゲン系の元素を有した材料の他に、五フッ化砒素、三フッ化ホウ素、過塩素酸、五フッ化砒素等の化合物が用いられる。
ここで、有機材料は超高温に耐えられない性質を有していることから、配線14の形成方法としては、有機配線14bは無機配線14aの後に形成される。
【0022】
保護膜15は、外部端子18を除いて、有機能動装置1の全体を覆うように形成された、いわゆるハーメティック・シールである。当該保護膜15は長時間の安定性及び長寿命性を備え、特に無機材料が好適であり、例えば、酸化シリコン膜(SiO)や窒化シリコン膜(SiN)等が用いられる。
なお、保護膜15の材料は、上記の保護部材12の形態に応じて採用される。例えば、保護部材12が樹脂材料等の可撓性を有している場合には、当該樹脂材料に応じた種種の材料が好適に採用される。また、例えば、保護部材12の上層に、半導体回路を形成する場合には、保護部材12の材料としてシリコンウェハ等の基板や、半導体回路を形成するために好適な材料の下地基板が選択される。また、例えば、保護部材12の上面に別の有機能動装置を形成し、有機能動素子の積層体を形成する場合には、当該積層体に応じて種種の材料が好適に採用される。
【0023】
空間16には、不活性ガスの一種である窒素ガスが充填されている。
なお、本実施の形態においては窒素ガスを採用したが、希ガス等の不活性ガスを採用してもよい。また、空間16は、真空雰囲気に保持された空間でもよい。
【0024】
このように構成された有機能動装置1においては、動作回路19が外部端子18と配線14を介して有機能動素子11に所定の信号を入力し、当該入力に応じて、有機能動素子11が具備する分子単電子トランジスタが作動する。
この分子単電子トランジスタは、ソース部Sから供給される電子の速度がゲート部Gによって制御される特性を有しており、そのスイッチング速度は、量子ドットRの寸法によってほぼ決定され、例えば、量子ドットRの直径が1nm程度である場合には、速度10THz、集積度10G個/mm程度と、従来のトランジスタの1000倍以上の高性能となる。また、当該分子単電子トランジスタを基本として、ダイナミックメモリーセルや論理回路を構成することができる。
このような分子単電子トランジスタの動作に伴って、有機能動素子11の信号は外部端子18を介して動作回路19に出力される。
【0025】
また、このような有機能動素子においては、有機配線14bは有機能動素子11と共に、基板10と保護部材12とシール部材13とによって密閉された空間16内に保持されるので、有機配線14b及び有機能動素子11に対する衝撃の伝達、熱の伝達、酸素や水分の侵入等が防止され、有機配線14b及び有機能動素子11を保護することができる。更に、酸素や水分の侵入に伴う有機配線14b及び有機能動素子11の劣化を防止し、長寿命化を達成することができる。また、有機配線14bと有機能動素子11は、共に有機材料であるので、両者の接続においては良好な導通性を得ることができる。また、外部端子18は空間16外にあることから、無機配線14aと外部端子18との接続部には空間16等のパッシベーションが不要であり、無機配線14a及び外部端子18の接続を容易に行うことが可能となる。
また、空間16内で有機配線14bと無機配線14aとの境界部分が空間内に位置するので、上記と同様に、有機配線14bに対する衝撃の伝達、熱の伝達、酸素や水分の侵入等が防止され、有機配線14bと無機配線14aとの接続部を保護することができ、両者の接続においては良好な導通性を得ることができる。
また、空間16には、窒素ガスが充填されているので、酸素や水分から有機配線14b及び有機能動素子11を保護するので、即ち、上記と同様の効果を奏する。
なお、空間16を真空雰囲気に保持した場合であっても、酸素や水分から有機配線14b及び有機能動素子11を保護するので、即ち、上記と同様の効果を奏する。
【0026】
(第2実施形態)
以下、本発明に係る有機能動素子の配線の第2実施形態について説明する。
本実施形態と第1実施形態との相違点について概略説明すると、第1実施形態は基板上に無機配線を形成したが、本実施形態は基板に形成された凹部内に無機配線が埋設された構成となっている。
本実施形態においては、第1実施形態と異なる部分のみ説明し、同一構成には同一符号を付し、詳細な説明を省略する。
【0027】
図5は本実施形態の有機能動素子の配線を備えた有機能動装置の模式断面図、図6は図5のB−B断面の拡大図である。
図5に示すように、有機能動装置2においては、基板10に形成された凹部20に無機配線14aが埋設されている。また、図6に示すように、基板10とシール部材との界面13aにおいては、ギャップ材17に無機配線14aと基板10とが接触していると共に、保護部材12及び基板10はギャップ材17を狭持し、かつ密着状態に保持している。
凹部20の形成方法としては、例えば、エッチング等の方法で基板10を削る方法や、材料吐出法等の液相法で基板10上に凸部を設け、当該凸部に対して凹部20を相対的に形成する方法でもよい。材料吐出法を用いる際にはSOG等が用いられる。
無機配線14aは、凹部20を用いるいわゆるダマシン法や、単に凹部20内に対しフォトエッチングを行うことにより形成することができる。
【0028】
このように構成された有機能動装置2においては、保護部材12と基板10の密着力により、ギャップ材17は無機配線14aを押圧する。ここで、無機配線14aは凹部20に埋設されているので、ギャップ材17の押圧力による無機配線14aの断線を防止することができる。
また、本実施形態においては、第1実施形態と同様に空間16を有しているので、先に記載したように同様の効果が得られる。
【0029】
(第3実施形態)
以下、本発明に係る有機能動素子の配線の第3実施形態について説明する。
本実施形態と第2実施形態との相違点について概略説明すると、第2実施形態は基板に形成された凹部内に無機配線が形成された構成となっていたが、本実施形態は、無機配線を保護する配線保護膜が形成された構成となっている。
本実施形態においては、第1及び第2実施形態と異なる部分のみ説明し、同一構成には同一符号を付し、詳細な説明を省略する。
【0030】
図7は本実施形態の有機能動素子の配線を備えた有機能動装置の模式断面図である。
図7に示すように、有機能動装置3においては、表面保護膜10a上に無機配線14aが形成され、当該無機配線14aとシール部材13との間には、配線保護膜22が形成されている。
配線保護膜22の材料としては、窒化シリコン(SiN)が用いられる。また、酸化シリコン(SiO)等の無機材料や、有機材料を用いてもよく、水分や酸素の空間16内への侵入を防止する性質を有していることが好ましい。また、より好ましくは、配線14よりも硬い材料であることが好ましい。
【0031】
このように構成された有機能動素子3においては、保護部材12と基板10とを張り合わせた際に、シール部材13に含まれたギャップ材17は無機配線14aに押圧される。無機配線14aとシール部材13との間には配線保護膜が形成されているので、ギャップ材17が無機配線14aを損傷することなく、即ち、無機配線14aの断線を防止することができる。
また、本実施形態においては、第1及び第2実施形態と同様に空間16を有しているので、先に記載したように同様の効果が得られる。
【0032】
(第4実施形態)
以下、本発明に係る有機能動素子の配線の第4実施形態について説明する。
本実施形態と第2実施形態との相違点について概略説明すると、第2実施形態は凹部内に無機配線のみを埋設したが、本実施形態は第2実施形態の凹部よりも大きい凹部を形成し、当該凹部内に有機能動素子、有機配線、乾燥剤/脱酸素剤材が配置された構成となっている。
本実施形態においては、先に記載した実施形態と異なる部分のみ説明し、同一構成には同一符号を付し、詳細な説明を省略する。
【0033】
図8は本実施形態の有機能動素子の配線を備えた有機能動装置の模式断面図である。
図8に示すように、有機能動装置4においては、基板10に形成された凹部20の空間16に、有機能動素子11と、保護部材12と、シール部材13と、配線14とが配置されている。更に、外部端子18を露出しつつ、保護部材12と基板10の表面を被覆する保護膜15が形成され、また、空間16内には乾燥剤/脱酸素剤材21が配置されている。また、保護部材12は凹部20に埋設されている。
【0034】
凹部20の形成方法は、先に記載した方法が挙げられ、ここで基板10を削って凹部20を形成した場合には、基板10内に有機能動素子11を埋設することが可能になると共に、ギャップ材17が不要になるので有機能動装置4のスリム化を図ることができる。
【0035】
乾燥剤/脱酸素剤材21は、図8において有機能動素子11の側方に配置されているが、当該乾燥剤/脱酸素剤材21は、具体的な位置を示すものではなく、基板10、保護部材12及びシール部材13によって囲まれた空間内の任意の位置に配置される。この場合、酸素や水分の侵入が生じやすい部分、例えば、基板10とシール部材13との界面、保護部材12とシール部材13との界面など、異なる部位の界面近傍等に配置されることが好ましい。また、ここで言う「乾燥剤/脱酸素剤材」とは、シリカゲルやTi等のようなゲッター剤を含むものである。従って、空間16を乾燥状態又は無酸素状態の維持するので、酸素や水分から有機能動素子11を保護し、酸素や水分の侵入に伴う有機能動素子11の劣化を防止することができ、先に記載した第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
【0036】
上述したように、有機能動装置4においても、酸素や水分の侵入に伴う有機配線14b及び有機能動素子11の劣化を防止することができるので、先に記載した有機能動素子の配線と同様の効果を奏する。
【0037】
(第5実施形態)
以下、上記実施形態の有機能動装置を備えた電子機器の例について説明する。
図9は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図9において、符号1000は携帯電話本体を示しており、また、符号1001は表示部を示しており、この携帯電話本体1000においては、先に記載した有機能動装置が具備されている。
【0038】
図10は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図10において、符号1100は時計本体を示しており、また、符号1101は表示部を示しており、この時計本体1100においては、先に記載した有機能動装置が具備されている。
【0039】
図11は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図11において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は表示部を示している。この情報処理装置本体1204においては、先に記載した有機能動装置が具備されている。
【0040】
図9から図11に示す電子機器は、いずれも上記実施形態の有機能動装置を備えているので、長寿命の電子機器を提供することが可能となる。
【0041】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に示した有機能動装置の模式平面図。
【図2】本発明の第1実施形態に示した有機能動装置の模式断面図。
【図3】本発明の第1実施形態に示した有機能動装置の要部の断面図。
【図4】有機能動素子の一例として挙げた分子単電子トランジスタの模式図。
【図5】本発明の第2実施形態に示した有機能動装置の模式断面図。
【図6】本発明の第2実施形態に示した有機能動装置の要部の断面拡大図。
【図7】本発明の第3実施形態に示した有機能動装置の模式断面図。
【図8】本発明の第4実施形態に示した有機能動装置の模式断面図。
【図9】本実施形態の有機能動装置を備えた電子機器の一例を示す図。
【図10】本実施形態の有機能動装置を備えた電子機器の一例を示す図。
【図11】本実施形態の有機能動装置を備えた電子機器の一例を示す図。
【符号の説明】
1、2、3、4 有機能動装置、10 基板(第1基板)、11 有機能動素子、12 保護部材(第2基板)、13 シール部材(保護部材)、14 配線、14a 無機配線、14b 有機配線、16 空間、18 外部端子、20 凹部
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of forming a wiring, a wiring of an organic active element, an organic active device, and an electronic apparatus.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, organic active devices using organic materials composed of organic polymers and organic low molecules have been actively researched. An organic transistor, which is an example of an organic active element, has a gate electrode layer made of nickel, a gate insulating layer made of SiO 2 , a source electrode and a drain electrode made of palladium, and an organic semiconductor thin film such as pentacene on which a channel layer is formed. It was formed.
Such organic active elements not only deteriorate due to contact with oxygen and moisture, but also reduce their reliability and shorten their service life. In general, it is formed so as to cover an element (for example, see Patent Document 1).
[0003]
In this organic active element, an operation circuit for operating the organic active element is provided outside the passivation, and a wiring for transmitting input / output signals is formed between the organic active element and the operation circuit. Have been. Therefore, an input signal of the drive circuit is input to the organic active element through the wiring, and after the organic active element performs a predetermined process, an output signal is transmitted to the drive circuit through the wiring.
For example, in the case of the above organic transistor, the source electrode, the drain electrode, and the gate electrode are each connected to a driving circuit through a wiring, and charge is applied from the driving circuit to the gate electrode through the wiring. As a result, current flows from the source electrode to the drain electrode, and a desired switching operation is performed.
[0004]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-306955
[Problems to be solved by the invention]
By the way, the above-mentioned wiring connects the operation circuit outside the passivation and the organic active element. If the passivation is simply formed so as to cover the organic active element, oxygen and moisture enter from outside the passivation. In addition, there is a problem that the organic active element is deteriorated and its life is shortened. In connection between the wiring and the organic active element, it is necessary to select a suitable material and to attain a state in which good connectivity is obtained.
[0006]
The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and shows a method of forming a wiring as a method of preventing deterioration and shortening of the life of an organic active element and satisfactorily connecting a wiring and an organic active element. It is still another object of the present invention to provide an organic active element wiring, an organic active device, and an electronic device using the wiring forming method.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention employs the following solutions.
That is, the method for forming a wiring of the present invention is a method for forming a wiring having an organic wiring made of an organic material and an inorganic wiring made of an inorganic material on a substrate,
The step of forming an organic wiring is performed after the step of forming an inorganic wiring.
Generally, when an inorganic wiring is formed from an inorganic material such as a metal, the substrate is exposed to a high-temperature atmosphere such as a CVD method (chemical vapor deposition), and the inorganic wiring is formed on the substrate. On the other hand, the organic material has a property that cannot withstand an extremely high temperature (about 300 ° C. or higher).
Therefore, according to the present invention, since the organic wiring is formed after the step of forming the inorganic wiring, it is possible to form the organic wiring without being affected by the ultra-high temperature state when forming the inorganic wiring. Become.
[0008]
Further, the wiring of the organic active element of the present invention includes: a first substrate on which the organic active element is formed; a second substrate disposed opposite to the surface of the first substrate on which the organic active element is formed; A holding member for holding a space including at least the organic active element between the substrate and the second substrate in a sealed state, and electrically connecting the organic active element formed on the first substrate to an external terminal outside the space; Wiring, the wiring includes an organic wiring made of an organic material and an inorganic wiring made of an inorganic material, the organic wiring is conductively connected to the organic active element in the space, and the inorganic wiring is conductively connected to the external terminal. It is characterized by the following.
Here, the organic active element means an active element including an organic element such as a molecular single electron transistor, an organic transistor, an organic thin film transistor, an organic spin electronics element, a quantum computer, a molecular processor, and an organic storage.
The first substrate refers to a substrate of a predetermined material such as a glass substrate, a thin film, an insulating substrate, or a silicon wafer, or a circuit substrate on which a wiring layer, an insulating film, a switching element, and the like are formed in advance.
The second substrate is made of various materials such as glass, an organic material, an insulating material, and a metal, and protects the organic active element from various states caused by deterioration and molecular destruction of the organic active element. For example, the organic active element is protected by preventing the transmission of impact, the transmission of heat, the invasion of oxygen or moisture, and the like from the outside of the second substrate to the organic active element side.
The holding member is a member provided around the second substrate without contacting the organic active element. The holding member holds the space between the first substrate and the second substrate in a sealed state, It has a function of an adhesive for bonding the substrate and the second substrate.
The external terminal is an input / output terminal of an operation circuit having a function related to the operation of the organic active element.
In addition, the organic wiring is formed of various organic materials for making a good connection with the organic active element.
Further, the inorganic wiring is formed of various inorganic materials for making a good connection with an external terminal.
Therefore, according to the present invention, the organic wiring is held together with the organic active element in the space sealed by the first substrate, the second substrate, and the holding member, so that the impact is transmitted to the organic wiring and the organic active element. Thus, heat transmission, intrusion of oxygen and moisture, and the like can be prevented, and organic wirings and organic active elements can be protected. Further, it is possible to prevent the organic wiring and the organic active element from deteriorating due to the intrusion of oxygen and moisture, and to achieve a long life. In addition, since both the organic wiring and the organic active element are made of organic materials, good conductivity can be obtained in the connection between the two. In addition, since the external terminals are disposed outside the space, the connection between the inorganic wiring and the external terminals does not require passivation of a sealed space or the like, and the connection between the inorganic wiring and the external terminals can be easily performed. It becomes possible.
[0009]
The wiring of the organic active element according to the present invention is the wiring of the organic active element described above, and is characterized in that the boundary between the organic wiring and the inorganic wiring is located in the space.
Therefore, according to the present invention, since the organic wiring and the inorganic wiring are connected in a closed space, transmission of shock, transmission of heat, penetration of oxygen and moisture, etc. to the organic wiring is prevented, and The connection with the inorganic wiring can be protected, and good conductivity can be obtained in the connection between the two. Further, deterioration of the organic wiring due to intrusion of oxygen or moisture can be prevented, and a longer life can be achieved. Here, the connection state between the organic wiring and the inorganic wiring is preferably an ohmic junction.
[0010]
The wiring of the organic active element according to the present invention is the wiring of the organic active element described above, and the inorganic wiring is formed in a concave portion formed in the first substrate.
Here, the concave portion means a portion formed as desired on the surface of the first substrate on which the organic active element is formed. The method of forming the concave portion may be, for example, a concave portion formed by cutting the first substrate, a convex portion of a desired material provided on the first substrate, and a concave portion formed relatively to the convex portion. May be.
Therefore, according to the present invention, since the inorganic wiring is formed in the concave portion, even when a pressing force is applied to the inorganic wiring of the portion on the contact surface between the portion such as the holding member and the inorganic wiring, Disconnection of the inorganic wiring can be prevented.
Further, when the concave portion is formed by shaving the first substrate, the inorganic wiring can be embedded in the first substrate, and the organic active device including the organic active element can be made slimmer. .
[0011]
The wiring of the organic active element according to the present invention is the wiring of the organic active element described above, and is characterized in that a wiring protective film is formed between the inorganic wiring and the holding member.
Here, the holding member includes a gap material for maintaining a distance between the first substrate and the second substrate.
Therefore, according to the present invention, when the first substrate and the second substrate are bonded, the gap material is pressed. Since the wiring protective film is formed between the inorganic wiring and the holding member, it is possible to prevent the gap material from damaging the inorganic wiring, that is, to prevent disconnection of the inorganic wiring.
[0012]
Further, the wiring of the organic active element of the present invention is the wiring of the organic active element described above, and is formed by using the above-described method of forming an organic wiring.
Therefore, according to the present invention, since the organic wiring is suitably formed, the same effect as the above-described method for forming the organic wiring can be obtained.
[0013]
According to another aspect of the invention, an organic active device includes the wiring of the organic active element described above.
Therefore, according to the present invention, the same effects as those of the wiring of the organic active element described above can be obtained.
[0014]
According to another aspect of the invention, an electronic apparatus includes the organic active device described above.
Here, as the electronic device, for example, an information processing device such as a mobile phone, a mobile information terminal, a clock, a word processor, and a personal computer can be exemplified.
Therefore, according to the present invention, it is possible to provide an electronic device having the same effects as the above-described organic active device and a long life.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a method for forming a wiring, a wiring of an organic active element, an organic active device, and an electronic apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
In addition, in order to make each layer and each member a size recognizable on the drawing, the scale of each layer and each member is shown differently from the actual one.
[0016]
(1st Embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the wiring of the organic active element according to the present invention will be described.
FIG. 1 is a schematic plan view of an organic active device provided with wiring of an organic active element according to the present embodiment, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 1, and FIG. FIG.
As shown in FIG. 2, the organic active device 1 includes a substrate (first substrate) 10, an organic active element 11, a protection member (second substrate) 12, a seal member (protection member) 13, a wiring 14, , A protective film 15, and a space 16 between the substrate 10 and the protective member 12 is sealed at predetermined intervals.
[0017]
The substrate 10 is a substrate made of an insulating material, and various kinds of insulating materials such as a glass substrate are used. On the surface of the substrate 10 on which the organic active elements 11 are formed, a surface protection film 10a made of SiN X is formed.
As the substrate 10, an inorganic material such as a glass substrate or an organic material such as plastic can be used. At this time, when flexibility is required as the substrate 10, a thin film such as a resin material may be used, and when a semiconductor circuit is formed in a later step, a substrate such as a silicon wafer may be used. Alternatively, the substrate may be a substrate on which a switching element (for example, a silicon transistor) made of an inorganic material is formed in advance. In this case, a switching element formed in advance may be electrically connected to the organic active element 11. Further, as a material used for the surface protective film 10a, an inorganic film made of an oxide film of SiO 2 or an organic film such as acrylic may be used. Note that an organic active element may be formed on the substrate 10 without forming the surface protection film 10a.
[0018]
The organic active element 11 includes various elements according to the function and form of the organic active device 1, such as a molecular single electron transistor, an organic transistor, an organic thin film transistor, an organic spin electronics element, a quantum computer, a molecular processor, and an organic storage. Is provided.
In the present embodiment, the organic active element 11 includes the molecular single-electron transistor shown in FIG. 4, and the molecular single-electron transistor has a quantum dot part R, a source part S, and a drain part D as shown in FIG. , A gate portion G, and a tunnel junction portion T.
[0019]
As a material of the protection member 12, a material corresponding to the substrate 10 is adopted, or selected according to various purposes. In this embodiment, a glass substrate is used.
As used herein, “corresponding to the substrate 10” means, for example, that when the substrate 10 is a flexible material, a thin film of a resin material or the like is used as the protection member 12. In addition, “for various purposes” means, for example, when a semiconductor circuit is formed on the upper surface of the protective member 12, a substrate such as a silicon wafer or a semiconductor circuit is formed as a material of the protective member 12. A suitable base material is selected. Further, when another organic active device is formed on the upper surface of the protective member 12 to form a stacked body of the organic active elements, various materials are suitably adopted according to the stacked body.
[0020]
As the seal member 13, an organic material, an inorganic material, a mixed material of an organic material and an inorganic material, or the like is used. When an organic material is used for the seal member 13, the use of a UV-curable resin or a thermosetting resin allows the seal member 13 to be easily formed. On the other hand, when an inorganic material is used for the seal member 13, a low melting point glass, a solder material, or the like is used. At this time, the inorganic material preferably has moisture or oxygen impermeability.
Further, as shown in FIG. 3, the seal member 13 includes a gap member 17 for maintaining a predetermined interval between the spaces 16. By setting the height of the gap member 17 as desired, the space 16 can be maintained at a suitable interval. As the gap material 17, a columnar glass material, a spherical plastic material, or the like is used.
[0021]
The wiring 14 includes an inorganic wiring 14a and an organic wiring 14b. The inorganic wiring 14a and the organic wiring 14b are connected in the space 16, and the connection state is an ohmic junction. Further, the inorganic wiring 14a is connected to an operation circuit 19 via an external terminal 18 formed by removing a part of the protective film 15, and the organic wiring 14b is connected to the organic active element 11 described above. I have.
As a material of the inorganic wiring 14a, a metal such as aluminum (Al), gold (Au), copper (Cu), or titanium (Ti) is used, and a carbon nanotube, a semiconductor material, an oxide such as silicide, or ITO is used. A material in which metal fine particles are mixed in a conductor or an organic material may be used.
As a material of the organic wiring 14b, a material obtained by adding a dopant to a conductive polymer is typically employed. As the conductive polymer, for example, polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, poly p-phenylene, polyphenylenevinylene, or the like is used. As the dopant, in addition to a material containing an alkali metal or a halogen-based element, arsenic pentafluoride, Compounds such as boron fluoride, perchloric acid, and arsenic pentafluoride are used.
Here, since the organic material has a property that cannot withstand an extremely high temperature, as a method for forming the wiring 14, the organic wiring 14b is formed after the inorganic wiring 14a.
[0022]
The protective film 15 is a so-called hermetic seal formed so as to cover the entire organic active device 1 except for the external terminals 18. The protective film 15 has long-term stability and long life, and is particularly preferably made of an inorganic material. For example, a silicon oxide film (SiO 2 ) or a silicon nitride film (SiN x ) is used.
The material of the protective film 15 is adopted according to the form of the protective member 12 described above. For example, when the protection member 12 has flexibility such as a resin material, various kinds of materials according to the resin material are preferably used. Further, for example, when a semiconductor circuit is formed in the upper layer of the protection member 12, a substrate such as a silicon wafer or a base substrate of a material suitable for forming a semiconductor circuit is selected as a material of the protection member 12. . Further, for example, when another organic active device is formed on the upper surface of the protective member 12 to form a stacked body of the organic active elements, various materials are suitably used according to the stacked body.
[0023]
The space 16 is filled with nitrogen gas which is a kind of inert gas.
Although nitrogen gas is used in this embodiment, an inert gas such as a rare gas may be used. Further, the space 16 may be a space held in a vacuum atmosphere.
[0024]
In the organic active device 1 thus configured, the operating circuit 19 inputs a predetermined signal to the organic active element 11 via the external terminal 18 and the wiring 14, and the organic active element 11 is provided according to the input. The molecular single-electron transistor operates.
The molecular single-electron transistor has a characteristic that the speed of electrons supplied from the source portion S is controlled by the gate portion G, and the switching speed is substantially determined by the size of the quantum dot R. When the diameter of the dot R is about 1 nm, the speed is 10 THz and the integration degree is about 10 G / mm 2, which is 1000 times or more higher performance than the conventional transistor. Further, a dynamic memory cell or a logic circuit can be formed based on the molecular single electron transistor.
With the operation of such a molecular single electron transistor, a signal of the organic active element 11 is output to the operation circuit 19 via the external terminal 18.
[0025]
In such an organic active element, the organic wiring 14b and the organic active element 11 are held in the space 16 sealed by the substrate 10, the protection member 12, and the sealing member 13, so that the organic wiring 14b and the organic wiring 14b The transmission of shock, the transmission of heat, the invasion of oxygen and moisture, and the like to the active element 11 are prevented, and the organic wiring 14b and the organic active element 11 can be protected. Furthermore, the deterioration of the organic wiring 14b and the organic active element 11 due to the intrusion of oxygen or moisture can be prevented, and the life can be extended. In addition, since the organic wiring 14b and the organic active element 11 are both made of an organic material, good conductivity can be obtained in the connection between them. Further, since the external terminal 18 is outside the space 16, the connection between the inorganic wiring 14a and the external terminal 18 does not require passivation of the space 16 or the like, and the inorganic wiring 14a and the external terminal 18 can be easily connected. It becomes possible.
Further, since the boundary between the organic wiring 14b and the inorganic wiring 14a is located in the space in the space 16, transmission of impact, transmission of heat, penetration of oxygen and moisture, etc. to the organic wiring 14b is prevented as described above. As a result, the connection between the organic wiring 14b and the inorganic wiring 14a can be protected, and good conductivity can be obtained in the connection between the two.
Further, since the space 16 is filled with the nitrogen gas, the organic wiring 14b and the organic active element 11 are protected from oxygen and moisture, that is, the same effect as described above is exerted.
Even when the space 16 is kept in a vacuum atmosphere, the organic wiring 14b and the organic active element 11 are protected from oxygen and moisture, that is, the same effects as described above can be obtained.
[0026]
(2nd Embodiment)
Hereinafter, a second embodiment of the wiring of the organic active device according to the present invention will be described.
The difference between the present embodiment and the first embodiment will be briefly described. In the first embodiment, the inorganic wiring is formed on the substrate, but in the present embodiment, the inorganic wiring is embedded in the recess formed in the substrate. It has a configuration.
In the present embodiment, only portions different from those of the first embodiment will be described, the same components will be denoted by the same reference numerals, and detailed description will be omitted.
[0027]
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the organic active device including the wiring of the organic active element according to the present embodiment, and FIG. 6 is an enlarged view of a cross section taken along line BB of FIG.
As shown in FIG. 5, in the organic active device 2, the inorganic wiring 14a is embedded in the concave portion 20 formed in the substrate 10. As shown in FIG. 6, at the interface 13a between the substrate 10 and the sealing member, the inorganic wiring 14a and the substrate 10 are in contact with the gap material 17, and the protective member 12 and the substrate 10 It is pinched and held in close contact.
As a method for forming the concave portion 20, for example, a method for shaving the substrate 10 by a method such as etching or a liquid phase method such as a material discharging method is used to provide a convex portion on the substrate 10, and the concave portion 20 It may be a method of forming the target. When using the material discharge method, SOG or the like is used.
The inorganic wiring 14a can be formed by a so-called damascene method using the recess 20 or simply performing photoetching in the recess 20.
[0028]
In the organic active device 2 configured as described above, the gap member 17 presses the inorganic wiring 14a due to the adhesion between the protection member 12 and the substrate 10. Here, since the inorganic wiring 14a is buried in the concave portion 20, disconnection of the inorganic wiring 14a due to the pressing force of the gap material 17 can be prevented.
Further, in the present embodiment, since the space 16 is provided as in the first embodiment, the same effects can be obtained as described above.
[0029]
(Third embodiment)
Hereinafter, a third embodiment of the wiring of the organic active element according to the present invention will be described.
The difference between this embodiment and the second embodiment will be briefly described. In the second embodiment, the inorganic wiring is formed in a concave portion formed in the substrate. Is formed in which a wiring protection film for protecting the semiconductor device is formed.
In the present embodiment, only portions different from the first and second embodiments will be described, the same components will be denoted by the same reference numerals, and detailed description will be omitted.
[0030]
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of an organic active device including the wiring of the organic active element of the present embodiment.
As shown in FIG. 7, in the organic active device 3, an inorganic wiring 14a is formed on the surface protection film 10a, and a wiring protection film 22 is formed between the inorganic wiring 14a and the seal member 13. .
As a material of the wiring protection film 22, silicon nitride (SiN x ) is used. In addition, an inorganic material such as silicon oxide (SiO 2 ) or an organic material may be used, and preferably has a property of preventing moisture or oxygen from entering the space 16. More preferably, the material is harder than the wiring 14.
[0031]
In the organic active element 3 configured as described above, when the protective member 12 and the substrate 10 are attached to each other, the gap member 17 included in the seal member 13 is pressed by the inorganic wiring 14a. Since the wiring protective film is formed between the inorganic wiring 14a and the seal member 13, the gap material 17 can prevent the inorganic wiring 14a from being damaged, that is, prevent the inorganic wiring 14a from being disconnected.
Further, in the present embodiment, since the space 16 is provided as in the first and second embodiments, the same effects can be obtained as described above.
[0032]
(Fourth embodiment)
Hereinafter, a fourth embodiment of the wiring of the organic active element according to the present invention will be described.
The difference between the present embodiment and the second embodiment will be briefly described. In the second embodiment, only the inorganic wiring is buried in the recess, but in the present embodiment, a recess larger than the recess of the second embodiment is formed. The organic active element, the organic wiring, and the desiccant / deoxidizer are disposed in the concave portion.
In the present embodiment, only portions different from the above-described embodiment will be described, the same components will be denoted by the same reference numerals, and detailed description will be omitted.
[0033]
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of the organic active device including the wiring of the organic active element of the present embodiment.
As shown in FIG. 8, in the organic active device 4, an organic active element 11, a protection member 12, a sealing member 13, and a wiring 14 are arranged in a space 16 of a recess 20 formed in the substrate 10. I have. Further, a protective film 15 covering the surface of the protective member 12 and the substrate 10 is formed while exposing the external terminals 18, and a desiccant / oxygen absorber 21 is disposed in the space 16. The protection member 12 is embedded in the recess 20.
[0034]
The method for forming the concave portion 20 includes the method described above. When the concave portion 20 is formed by shaving the substrate 10, the organic active element 11 can be embedded in the substrate 10. Since the gap material 17 becomes unnecessary, the organic active device 4 can be made slimmer.
[0035]
Although the desiccant / deoxidizer material 21 is disposed on the side of the organic active element 11 in FIG. 8, the desiccant / deoxidizer material 21 does not indicate a specific position, and , At an arbitrary position in a space surrounded by the protection member 12 and the seal member 13. In this case, it is preferable to be disposed in a portion where oxygen or moisture easily enters, for example, in the vicinity of the interface between different parts such as the interface between the substrate 10 and the sealing member 13 and the interface between the protection member 12 and the sealing member 13. . In addition, the “drying agent / deoxidizer material” mentioned here includes a getter agent such as silica gel or Ti. Therefore, since the space 16 is maintained in a dry state or an oxygen-free state, the organic active element 11 can be protected from oxygen and moisture, and the organic active element 11 can be prevented from being deteriorated due to intrusion of oxygen and moisture. An effect similar to that of the first embodiment described above can be obtained.
[0036]
As described above, also in the organic active device 4, since the organic wiring 14b and the organic active element 11 can be prevented from being deteriorated due to the intrusion of oxygen or moisture, the same effect as the wiring of the organic active element described above can be obtained. To play.
[0037]
(Fifth embodiment)
Hereinafter, an example of an electronic apparatus including the organic active device of the above embodiment will be described.
FIG. 9 is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 9, reference numeral 1000 indicates a mobile phone main body, and reference numeral 1001 indicates a display unit. The mobile phone main body 1000 includes the above-described organic active device.
[0038]
FIG. 10 is a perspective view illustrating an example of a wristwatch-type electronic device. In FIG. 10, reference numeral 1100 denotes a watch main body, and reference numeral 1101 denotes a display unit. The watch main body 1100 includes the above-described organic active device.
[0039]
FIG. 11 is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a word processor or a personal computer. 11, reference numeral 1200 denotes an information processing device, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 denotes an information processing device main body, and reference numeral 1206 denotes a display unit. The information processing device main body 1204 includes the organic active device described above.
[0040]
Since the electronic devices shown in FIGS. 9 to 11 each include the organic active device of the above embodiment, it is possible to provide a long-life electronic device.
[0041]
Note that the technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention. The configuration and the like are merely examples, and can be appropriately changed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic plan view of an organic active device shown in a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic sectional view of the organic active device shown in the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a sectional view of a main part of the organic active device shown in the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic view of a molecular single-electron transistor as an example of an organic active element.
FIG. 5 is a schematic sectional view of an organic active device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the organic active device shown in the second embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a schematic sectional view of an organic active device according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a schematic sectional view of an organic active device according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of an electronic apparatus including the organic active device according to the embodiment.
FIG. 10 is a diagram illustrating an example of an electronic apparatus including the organic active device according to the embodiment.
FIG. 11 is a diagram illustrating an example of an electronic apparatus including the organic active device according to the embodiment.
[Explanation of symbols]
1, 2, 3, 4 organic active device, 10 substrate (first substrate), 11 organic active element, 12 protective member (second substrate), 13 seal member (protective member), 14 wiring, 14a inorganic wiring, 14b organic Wiring, 16 spaces, 18 external terminals, 20 recesses

Claims (8)

有機材料からなる有機配線と無機材料からなる無機配線とを有する配線を基板上に形成する方法であって、
前記有機配線を形成する工程は、前記無機配線を形成する工程の後に施されることを特徴とする配線の形成方法。
A method for forming a wiring having an organic wiring made of an organic material and an inorganic wiring made of an inorganic material on a substrate,
The method of forming a wiring, wherein the step of forming the organic wiring is performed after the step of forming the inorganic wiring.
有機能動素子が形成された第1基板と、
前記第1基板における前記有機能動素子が形成された面に対向して配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間の少なくとも前記有機能動素子を含む空間を密閉状態に保持する保持部材と、
前記第1基板上に形成されて前記有機能動素子と前記空間外の外部端子とを電気的に接続する配線と、を具備し、
前記配線は有機材料からなる有機配線と無機材料からなる無機配線とを備え、前記有機配線は前記空間内で前記有機能動素子と導電接続され、前記無機配線は前記外部端子と導電接続されていることを特徴とする有機能動素子の配線。
A first substrate on which an organic active element is formed;
A second substrate disposed opposite to a surface of the first substrate on which the organic active element is formed;
A holding member that holds a space including at least the organic active element between the first substrate and the second substrate in a sealed state;
A wiring formed on the first substrate to electrically connect the organic active element and an external terminal outside the space,
The wiring includes an organic wiring made of an organic material and an inorganic wiring made of an inorganic material, the organic wiring is conductively connected to the organic active element in the space, and the inorganic wiring is conductively connected to the external terminal. A wiring for an organic active element, characterized in that:
前記有機配線と前記無機配線との境界部分が前記空間内に位置することを特徴とする有機能動素子の配線。A wiring for an organic active element, wherein a boundary between the organic wiring and the inorganic wiring is located in the space. 前記無機配線は、前記第1基板に形成された凹部内に形成されていることを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の有機能動素子の配線。4. The wiring according to claim 2, wherein the inorganic wiring is formed in a recess formed in the first substrate. 前記無機配線と前記保持部材との間に配線保護膜が形成されていることを特徴とする請求項2乃至請求項4のいずれかに記載の有機能動素子の配線。5. The wiring of an organic active element according to claim 2, wherein a wiring protective film is formed between said inorganic wiring and said holding member. 請求項1に記載の配線の形成方法を用いて形成されたことを特徴とする請求項2乃至請求項5のいずれかに記載の有機能動素子の配線。6. The wiring of an organic active element according to claim 2, wherein the wiring is formed by using the method of forming a wiring according to claim 1. 請求項2乃至請求項6のいずれかに記載の有機能動素子の配線を備えたことを特徴とする有機能動装置。An organic active device comprising a wiring of the organic active element according to claim 2. 請求項7に記載の有機能動装置を備えたことを特徴とする電子機器。An electronic apparatus comprising the organic active device according to claim 7.
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