JP2004245597A - Current sensor - Google Patents

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JP2004245597A
JP2004245597A JP2003032645A JP2003032645A JP2004245597A JP 2004245597 A JP2004245597 A JP 2004245597A JP 2003032645 A JP2003032645 A JP 2003032645A JP 2003032645 A JP2003032645 A JP 2003032645A JP 2004245597 A JP2004245597 A JP 2004245597A
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current sensor
current
detection coil
magneto
sensor substrate
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JP2003032645A
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Akira Okada
章 岡田
Satoru Inoue
井上  悟
Kaneo Mori
佳年雄 毛利
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a current sensor capable of accurately measuring current with a same configuration at all times and having the degree of freedom for the installation position of a current wire to be measured. <P>SOLUTION: An MI element 3 is covered by a current sensor substrate 10. When the current sensor is installed so that a current wire 50 to be measured is passed through a through hole 15 in the current sensor substrate 10, a current flowing through the current wire 50 to be measured can be measured with an induced voltage detected by a detection circuit 7 to accurately measure the current with the same configuration at all times. Since a detection coil 5 is formed of a coil pattern in which an inductive through hole 17 formed in the current sensor substrate 10 to an inductive pattern 18, the detection coil 5 can be manufactured by using a semiconductor process technology. Accordingly, the detection coil 5 completely symmetrical with respect to the axal direction of the MI element 3 is easily manufactured and, therefore, the current sensor having high measurement accuracy and a uniform measurement accuracy can be manufactured. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、磁気インピーダンス効果を利用する感磁素子を用いた電流センサに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来において、被測定電流により生じる磁束を、磁気インピーダンス効果を有する磁気センサで検出する電流センサとしては、被測定電流により生じる磁束に対し、磁気センサ出力の絶対値が等しく、且つ磁気センサ出力の極性が逆となるような位置に2つの磁気センサを配置し、この2つの磁気センサ出力の差を検出するものがある。また、被測定電流により生じる磁束に対し、磁気センサ出力の絶対値が等しく、且つ磁気センサ出力の極性が同じになるような位置に2つの磁気センサを配置し、この2つの磁気センサ出力の和を検出するものがある(例えば、下記特許文献1参照)。
また、その他、被測定電流により生じる磁束を、磁気インピーダンス効果を有する磁気センサで検出する電流センサとしては、例えば、下記特許文献2、および下記非特許文献1がある。
【0003】
【特許文献1】
特開2002−243766公報
【特許文献2】
特開2000−258517公報
【非特許文献1】
アモルファス磁性ワイヤMI素子によるコルピッツ自己発振形高感度・高速応答電流センサ「日本応用磁気学会誌 20,629−632(1996)武士田健一・毛利佳年雄著」
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来の電流センサは以上のように構成されているので、一様な外部磁界がある場合と、隣接して電流線が配設された場合とで、測定精度向上のためには2つの磁気センサの配置を変える必要があった。また、一様な外部磁界がある場合、被測定電流線に対して対象な位置に2つの磁気センサを配置しなければならず、測定電流線の設置位置に自由度がないなどの課題があった。
【0005】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、常に同一の構成で精度の高い電流測定をすることができ、被測定電流線の設置位置に自由度のある電流センサを得ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る電流センサは、感磁素子を覆うように且つ略円環状の感磁素子の中央に貫通孔が設けられた電流センサ基板と、その電流センサ基板に形成され、導電パターンおよび導電性スルーホールの接続により検出コイルを構成するコイルパターンとを備えたものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の一形態を説明する。
実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1による電流センサの構成概要を示す斜視図であり、図において、電流センサを構成する0磁歪アモルファスワイヤ(感磁素子)1は、略円環状に形成され、被測定電流線50に対して少なくとも1回、周回するように設置されるものである。この時、0磁歪アモルファスワイヤ1の両端部をできるだけ接近して、隙間部分が最小になるように形成するのが望ましい。0磁歪アモルファスワイヤ1の両端部には半田付け等により電極部2が接続され、これら0磁歪アモルファスワイヤ1および電極部2により、電極を形成したMI(Magneto Impedance)素子3を構成する。
ところで、磁性体の新たなセンシング機能として磁気インピーダンス効果(以下、MI効果と言う)がある。MI効果は、0磁歪アモルファスワイヤ1等の磁性体からなるMI素子3の電極部2の一端からパルス通電電流または高周波電流を通電して、その表皮効果を利用して、被測定電流線50に流れる被測定電流により発生する外部磁界に対して、その0磁歪アモルファスワイヤ1のインピーダンスが敏感に変化する磁気現象である。
この実施の形態1による電流センサは、0磁歪アモルファスワイヤ1を略円環状に形成し、被測定電流線50に対して少なくとも1回、周回して設置し、被測定電流線50に被測定電流が流れた時に発生する外部磁界を検出することにより、被測定電流線50に流れる電流値を検出するようにしたものである。
【0008】
図2はこの発明の実施の形態1による電流センサを示す回路図であり、図において、電源Vdd、抵抗R〜R、コンデンサC〜C、CMOSインバータQ〜Qにより、パルス通電電流を発生する電源回路4を構成する。
電源回路4の抵抗Rは、MI素子3の一端の電極部2に接続され、電源回路4により発生されたパルス通電電流が通電され、MI素子3の他端の電極部2は接地されている。また、MI素子3には検出コイル5と共に帰還コイル6が巻回されている。
アナログスイッチSW、抵抗R〜R、コンデンサC、アンプampにより、検出コイル5に発生する誘起電圧を検出する検出回路7を構成し、また、アンプampの出力端子outには抵抗Rを介して帰還コイル6の一端が接続され、帰還コイル6の他端は接地されている。
この図2に示すように、この実施の形態1による電流センサは、MI素子3をヘッドとし、CMOSマルチバイブレータとCR微分回路からなる電源回路4で発生させた立ち上がり時間約5nsのパルス通電電流をMI素子3に印加し、このMI素子3の周回方向に巻回された(例えば、40ターン)検出コイル5の誘起電圧を検出するように構成されている。
0磁歪アモルファスワイヤ1は、厳密には僅かに負の磁歪(−10−7)を持ち、張力アニールによって円周方向に異方性が誘導されているワイヤである。したがって、ワイヤ長さ方向の電流印加で発生する外部磁界が0の場合は、0磁歪アモルファスワイヤ1のパルス通電電流による磁束の変化は円周方向のみであって、0磁歪アモルファスワイヤ1の周回方向に巻回された検出コイル5との鎖交磁束が0であり、この検出コイル5の誘起電圧は0である。
外部磁界が印加されると、0磁歪アモルファスワイヤ1の磁化ベクトルがワイヤ軸方向に傾斜し、パルス通電電流による円周方向の磁界によって磁化ベクトルが円周方向に回転する。この時の磁束変化のワイヤ軸方向成分が検出コイル5と鎖交し、検出コイル5に誘起電圧が発生する。この検出コイル5の誘起電圧の符号は外部磁界の符号と逆になる。0磁歪アモルファスワイヤ1は表皮効果のため磁壁の移動が抑制され、磁化ベクトルの回転のみが生じる。この磁化動作のため、この回路構成における検出コイル5の誘起電圧は、バイアス磁界を印加することなく、外部磁界に比例した電圧となり、リニア磁界センサの特性を表す。
しかし、急峻なパルス電流による鎖交磁束の急激な変化のため、誘起電圧波形は純粋なパルス電圧波形でなく、検出コイル5の浮遊容量によるLC振動波形となる。この振動波形の第1パルス波形のみが外部磁界に比例して高感度に変化するため、高感度磁界センサを構成するためには、第1パルス波形のみを抽出する必要がある。ここでは、アナログスイッチSWによって、第1パルス波形のみを抽出する。
このアナログスイッチSWのトリガパルスは、0磁歪アモルファスワイヤ1のパルス通電電流より進み位相にする必要があり、パルス通電電流は2個のCMOSインバータQ,Qを通して約10ns遅らせるようにしている。
この検出コイル5の誘起電圧の第1パルス波形の高さは、抵抗R、コンデンサCからなるピークホールド回路で直流電圧に変換され、アンプampでセンサ出力電圧となる。このセンサ出力電圧は、被測定電流線50に流れる被測定電流に応じた値となる。センサ出力電圧に比例した電流は、帰還コイル6に印加されて、外部磁界を相殺する負帰還磁界を発生する。この負帰還効果によって、直線性の良いヒステリシスのないセンサ特性が得られる。
【0009】
図3はこの発明の実施の形態1による電流センサの構成を示す斜視図、図4は電流センサを示す正面図、図5は電流センサを示す断面図、図6は0磁歪アモルファスワイヤの設置詳細を示す斜視図である。この実施の形態1においては、電流センサを電流センサ基板10として形成したものである。
電流センサ基板10の構成について説明する。図3において、例えば、シリコンやガラス、あるいはプリント基板のような薄肉化が容易な下部基板11にワイヤ設置溝13が形成される。下部基板11がシリコンやガラスであれば、ワイヤ設置溝13はエッチング等により高精度に作製できる。
ワイヤ設置溝13の両端には例えば銅箔による電極部2が形成され、図3には示していないが、下部基板11上に図2に示したような処理回路が搭載された回路基板14と接続するための配線も形成する(図4、5:配線16)。これらはスパッタリング等の蒸着技術等、半導体プロセスによれば容易に高精度に形成される。0磁歪アモルファスワイヤ1をワイヤ設置溝13に設置し、半田付けや導電性ペースト等により電極部2に接続してMI素子3とした後、下部基板11と上部基板12とを接合し、電流センサ基板10が作製される。
MI素子3は下部基板11と上部基板12により応力の掛からないように接して固定するのが良く、基板接合前に接着剤等により固定しても良い。例えば図6に示すように、複数個設置されたワイヤ設置台19により、できるだけ少ない接触面積で下部基板11および上部基板12間に固定する。ワイヤ設置台19以外の空間は、気体のままでも良く、流動性の良い樹脂を充填しても良く、MI素子3に応力の掛からない状態であれば良い。下部基板11と上部基板12の接合はシリコンやガラスであれば直接接合や陽極接合等のプロセスにより容易に作製される。
電流センサ基板10には、略円環状のMI素子3の中央に被測定電線50を貫通させるための貫通孔15が設置されている。MI素子3と回路基板14とを接続する場合は、図示していないが上部基板12に貫通孔を形成し取出しても良く、基板端面から行っても良い。図には下部基板11にのみワイヤ設置溝13を設置したが、上部基板12にもワイヤ設置溝13を設置しても良い。さらにシリコンを下部基板11または上部基板12に用いるなら、図2に示したような処理回路が搭載された回路基板14を同一基板上に形成することも可能である。
検出コイル5および帰還コイル6は、MI素子3の周囲に取り囲むように作製される。図4、図5には簡単のため、1つのコイルのみを示す。両コイルは電流センサ基板10の表裏面を貫通する導電性スルーホール17と、電流センサ基板10の表裏面に形成される導電パターン18とを連続して接続することにより構成される。両コイルはできるだけMI素子3に接近して設置するのが良い。この構成では、半導体プロセス技術を用いて検出コイル5および帰還コイル6を作製できるため、MI素子3の軸方向に完全に対称なコイルの製造が容易に実現することができる。
なお、検出コイル5および帰還コイル6の作製は、上記実施の形態1に限定されるものではなく、例えば、従来の巻線技術により、エナメル線等をMI素子3に巻回して検出コイル5および帰還コイル6を構成しても良い。また、MI素子3が円環状なので、被測定電流線50は円環状のMI素子3の内部であればどこに設置しても、測定精度に影響は受けることはない。
【0010】
以上のように、この実施の形態1によれば、MI素子3が電流センサ基板10により覆われており、その電流センサ基板10の貫通孔15に被測定電流線50が貫通するように電流センサを設ければ、その被測定電流線50に流れる電流を、検出回路7によって検出される誘起電圧によって測定することができ、常に同一の構成で精度の高い電流測定をすることができる。
また、MI素子3が略円環状に形成されているので、被測定電流線50はその円環状の内部であればどこに設置しても測定精度に影響を受けることなく、被測定電流線50の設置位置に自由度のある電流センサを製造することができる。
さらに、検出コイル5および帰還コイル6は、電流センサ基板10に形成される導電性スルーホール17および導電パターン18の接続からなるコイルパターンにより構成されるので、半導体プロセス技術を用いて検出コイル5および帰還コイル6を作製できるため、MI素子3の軸方向に完全に対称な検出コイル5および帰還コイル6を容易に製造することができ、その結果、測定精度が高く、測定精度が均一な電流センサを製造することができる。
【0011】
実施の形態2.
図7はこの発明の実施の形態2による電流センサの構成概要を示す斜視図であり、図において、0磁歪アモルファスワイヤ(第1の感磁素子)1aは、略円環状に形成され、被測定電流線50に対して少なくとも1回、周回するように設置されるものである。また、同様に、0磁歪アモルファスワイヤ(第2の感磁素子)1bは、略円環状に形成され、0磁歪アモルファスワイヤ1aに重なり合うように配置されたものである。0磁歪アモルファスワイヤ1a,1bの両端部には電極部2が接続され、これら0磁歪アモルファスワイヤ1a,1bおよび電極部2により、電極を形成したMI素子3a,3bを構成する。
この実施の形態2による電流センサは、2つの0磁歪アモルファスワイヤ1a,1bを略円環状に形成し、被測定電流線50に対して少なくとも1回ずつ、それぞれ周回して設置し、被測定電流線50に被測定電流が流れた時に発生する外部磁界を検出することにより、被測定電流線50に流れる電流値を検出するようにしたものである。
【0012】
図8はこの発明の実施の形態2による電流センサを示す回路図であり、図において、電源回路21は、抵抗Rが削除され、CMOSインバータQが追加され、MI素子3a,3bにパルス通電電流を供給する以外は図2に示した電源回路4と同一である。
電源回路21のCMOSインバータQ,Qは、MI素子3a,3bの一端の電極部2にそれぞれ接続され、電源回路4により発生されたパルス通電電流が通電され、MI素子3a,3bの他端の電極部2は共通に接地されている。また、MI素子3aには検出コイル(第1の検出コイル)5aと共に帰還コイル6aが巻回され、MI素子3bには検出コイル(第2の検出コイル)5bと共に帰還コイル6bが巻回されている。
アナログスイッチSW1,SW2、抵抗R〜R、コンデンサC,C、アンプampにより、検出コイル5aに発生する誘起電圧に検出コイル5bに発生する誘起電圧を加えた誘起電圧を検出する検出回路22を構成し、また、アンプampの出力端子outには抵抗Rを介して帰還コイル6bの一端が接続され、帰還コイル6bの他端は帰還コイル6aの一端が接続され、帰還コイル6aの他端は接地されている。
この図8に示すように、この実施の形態2による電流センサは、検出回路22によって検出される誘起電圧は、検出コイル5aに発生する誘起電圧に検出コイル5bに発生する誘起電圧を加えた誘起電圧なので、1つの検出コイルに発生する誘起電圧を検出する電流センサに比べて信頼性の高い電流測定をすることができる。さらに、2つの0磁歪アモルファスワイヤ1a,1bに同時に作用するコモンモードノイズを相殺することができ、電磁界的ノイズがあっても信頼性の高い電流測定をすることができる。
【0013】
図9はこの発明の実施の形態2による電流センサの構成を示す斜視図であり、図において、電流センサ基板(第1の電流センサ基板)10aは、図3に示したように、0磁歪アモルファスワイヤ1aを覆うように形成され、その略円環状の0磁歪アモルファスワイヤ1aの中央に貫通孔15が設けられたものであり、電流センサ基板(第2の電流センサ基板)10bも同様に、0磁歪アモルファスワイヤ1bを覆うように形成され、その略円環状の0磁歪アモルファスワイヤ1bの中央に貫通孔15が設けられたものであり、電流センサ基板10a,10bは重なり合うように配置され、両者は接着剤等により接続されている。
また、電流センサ基板10aは、図5に示したように、導電性スルーホール17および導電パターン18の接続により検出コイルおよび帰還コイルが構成され、電流センサ基板10bも同様に、導電性スルーホール17および導電パターン18の接続により検出コイルおよび帰還コイルが構成されている。
図8に示したような処理回路を搭載した回路基板14は、電流センサ基板10a,10bのうちのいずれかの電流センサ基板に設置すれば良く、また、2つの電流センサ基板10a,10bにそれぞれ分割して設置しても良い。
【0014】
以上のように、この実施の形態2によれば、略円環状に形成され、且つ重なるように配置されたMI素子3a,3bの円環内に被測定電流線50が貫通するように電流センサを設ければ、その被測定電流線50に流れる電流を、検出回路22によって検出される誘起電圧によって測定することができ、常に同一の構成で精度の高い電流測定をすることができる。
また、MI素子3a,3bが略円環状に形成されているので、被測定電流線50はその円環状の内部であればどこに設置しても測定精度に影響を受けることなく、被測定電流線50の設置位置に自由度のある電流センサを得ることができる。
さらに、検出回路22によって検出される誘起電圧は、検出コイル5aに発生する誘起電圧に検出コイル5bに発生する誘起電圧を加えた誘起電圧なので、1つの検出コイルに発生する誘起電圧を検出する電流センサに比べて信頼性の高い電流測定をすることができる。さらに、MI素子3a,3bに同時に作用する電磁界的ノイズ(コモンモードノイズ)を相殺することができ、電磁界的ノイズがあっても信頼性の高い電流測定をすることができる。
さらに、MI素子3aが電流センサ基板10aに、MI素子3bが電流センサ基板10bにより覆われており、それら重なり合うように配置された電流センサ基板10a,10bの貫通孔15に被測定電流線50が貫通するように電流センサを設ければ、その被測定電流線50に流れる電流を、検出回路22によって検出される誘起電圧によって測定することができ、常に同一の構成で精度の高い電流測定をすることができる。
さらに、検出コイル5a,5bおよび帰還コイル6a,6bは、電流センサ基板10a,10bにそれぞれ形成される導電性スルーホール17および導電パターン18の接続からなる第1および第2のコイルパターンにより構成されるので、半導体プロセス技術を用いて検出コイル5a,5bおよび帰還コイル6a,6bを作製できるため、MI素子3a,3bの軸方向に完全に対称な検出コイル5a,5bおよび帰還コイル6a,6bを容易に製造することができ、その結果、測定精度が高く、測定精度が均一な電流センサを製造することができる。
【0015】
実施の形態3.
図10はこの発明の実施の形態3による電流センサ基板を示す断面図であり、図において、電流センサ基板10の周囲に、絶縁層31を介して、電気的に接地された電磁界シールド層32を形成したものである。
電磁界シールド層32および絶縁層31は、例えば薄膜等により形成され、他の構成は他の実施の形態と同様である。このように電流センサ基板10が電磁界シールド層32に囲まれているので、外部電磁界によりMI素子3および処理回路等に発生するノイズを抑制することができる。
【0016】
以上のように、この実施の形態3によれば、電磁界シールド層32を形成することで、外部電磁界によりMI素子3および処理回路等に発生するノイズを抑制することができ、高精度な電流センサを製作することができる。
【0017】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、感磁素子が電流センサ基板により覆われており、その電流センサ基板の貫通孔に被測定電流線が貫通するように電流センサを設ければ、その被測定電流線に流れる電流を、検出回路によって検出される誘起電圧によって測定することができ、常に同一の構成で精度の高い電流測定をすることができる。
また、感磁素子が略円環状に形成されているので、被測定電流線はその円環状の内部であればどこに設置しても測定精度に影響を受けることなく、被測定電流線の設置位置に自由度のある電流センサを製造することができる。
さらに、検出コイルは、電流センサ基板に形成される導電パターンおよび導電性スルーホールの接続からなるコイルパターンにより構成されるので、半導体プロセス技術を用いて検出コイルを作製できるため、感磁素子の軸方向に完全に対称な検出コイルを容易に製造することができ、その結果、測定精度が高く、測定精度が均一な電流センサを製造することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1による電流センサの構成概要を示す斜視図である。
【図2】この発明の実施の形態1による電流センサを示す回路図である。
【図3】この発明の実施の形態1による電流センサの構成を示す斜視図である。
【図4】電流センサを示す正面図である。
【図5】電流センサを示す断面図である。
【図6】0磁歪アモルファスワイヤの設置詳細を示す斜視図である。
【図7】この発明の実施の形態2による電流センサの構成概要を示す斜視図である。
【図8】この発明の実施の形態2による電流センサを示す回路図である。
【図9】この発明の実施の形態2による電流センサの構成を示す斜視図である。
【図10】この発明の実施の形態3による電流センサ基板を示す断面図である。
【符号の説明】
1 0磁歪アモルファスワイヤ(感磁素子)、1a 0磁歪アモルファスワイヤ(第1の感磁素子)、1b 0磁歪アモルファスワイヤ(第2の感磁素子)、2 電極部、3,3a,3b MI素子、4,21 電源回路、5 検出コイル、5a 検出コイル(第1の検出コイル)、5b 検出コイル(第2の検出コイル)、6,6a,6b 帰還コイル、7,22 検出回路、10 電流センサ基板、10a 電流センサ基板(第1の電流センサ基板)、10b 電流センサ基板(第2の電流センサ基板)、11 下部基板、12 上部基板、13 ワイヤ設置溝、14 回路基板、15 貫通孔、16 配線、17 導電性スルーホール、18 導電パターン、19 ワイヤ設置台、31 絶縁層、32 電磁界シールド層、50 被測定電流線、amp アンプ、C〜C コンデンサ、out 出力端子、Q〜Q CMOSインバータ、R〜R 抵抗、SW,SW1,SW2 アナログスイッチ、Vdd 電源。
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a current sensor using a magneto-sensitive element utilizing a magnetic impedance effect.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a current sensor for detecting a magnetic flux generated by a measured current with a magnetic sensor having a magnetic impedance effect, an absolute value of a magnetic sensor output is equal to a magnetic flux generated by a measured current and a polarity of the magnetic sensor output is used. There is a type in which two magnetic sensors are arranged at positions where the directions are reversed, and the difference between the outputs of the two magnetic sensors is detected. Further, two magnetic sensors are arranged at positions where the absolute value of the magnetic sensor output is equal to the magnetic flux generated by the measured current and the polarity of the magnetic sensor output is the same, and the sum of the two magnetic sensor outputs is provided. (See, for example, Patent Document 1 below).
Other current sensors that detect a magnetic flux generated by a measured current with a magnetic sensor having a magneto-impedance effect include, for example, the following Patent Document 2 and Non-Patent Document 1.
[0003]
[Patent Document 1]
JP 2002-243766 A [Patent Document 2]
JP 2000-258517 [Non-Patent Document 1]
Colpitts self-oscillation type high-sensitivity and high-speed response current sensor using amorphous magnetic wire MI element "Journal of the Japan Society of Applied Magnetics 20, 629-632 (1996) Kenichi Takeshida and Yoshinori Mouri"
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Since the conventional current sensor is configured as described above, two magnetic sensors are used to improve measurement accuracy when there is a uniform external magnetic field and when current lines are arranged adjacently. Had to be relocated. In addition, when there is a uniform external magnetic field, two magnetic sensors must be disposed at target positions with respect to the current line to be measured. Was.
[0005]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and a current sensor that can always perform high-accuracy current measurement with the same configuration and has a high degree of freedom in the installation position of a current line to be measured is obtained. The purpose is to:
[0006]
[Means for Solving the Problems]
A current sensor according to the present invention includes a current sensor substrate provided with a through-hole at the center of a substantially annular magnetic sensor element so as to cover the magnetic sensor element, and a conductive pattern and a conductive pattern formed on the current sensor substrate. And a coil pattern forming a detection coil by connecting through holes.
[0007]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration outline of a current sensor according to Embodiment 1 of the present invention. In the figure, a zero magnetostrictive amorphous wire (magnetic sensing element) 1 constituting a current sensor is formed in a substantially annular shape. It is installed so as to go around the current line to be measured 50 at least once. At this time, it is desirable that both ends of the zero magnetostrictive amorphous wire 1 are formed as close as possible to minimize the gap. Electrode portions 2 are connected to both ends of the zero magnetostrictive amorphous wire 1 by soldering or the like, and the zero magnetostrictive amorphous wire 1 and the electrode portion 2 constitute an MI (Magneto Impedance) element 3 having electrodes formed thereon.
Meanwhile, there is a magneto-impedance effect (hereinafter, referred to as MI effect) as a new sensing function of a magnetic body. The MI effect is obtained by applying a pulse current or a high-frequency current from one end of the electrode portion 2 of the MI element 3 made of a magnetic material such as a zero magnetostrictive amorphous wire 1 to the current line 50 to be measured by using the skin effect. This is a magnetic phenomenon in which the impedance of the zero magnetostrictive amorphous wire 1 changes sensitively to an external magnetic field generated by a flowing current to be measured.
In the current sensor according to the first embodiment, the zero magnetostrictive amorphous wire 1 is formed in a substantially annular shape, and is installed at least once around the measured current line 50. The current value flowing through the current line under measurement 50 is detected by detecting an external magnetic field generated when the current flows.
[0008]
FIG. 2 is a circuit diagram showing a current sensor according to the first embodiment of the present invention. In the figure, a power supply V dd , resistors R 1 to R 4 , capacitors C 1 to C 3 , and CMOS inverters Q 1 to Q 6 are used . A power supply circuit 4 for generating a pulsed current is formed.
The resistor R 4 of the power supply circuit 4 is connected to the electrode 2 at one end of the MI element 3, the pulse current generated by the power supply circuit 4 is supplied, and the electrode 2 at the other end of the MI element 3 is grounded. I have. A feedback coil 6 is wound around the MI element 3 together with the detection coil 5.
Analog switch SW, the resistor R 5 to R 7, a capacitor C 4, the amplifier amp, constitute a detection circuit 7 for detecting an induced voltage generated in the detection coil 5, also, the output terminal out of the amplifier amp resistor R 8 Is connected to one end of the feedback coil 6, and the other end of the feedback coil 6 is grounded.
As shown in FIG. 2, the current sensor according to the first embodiment uses the MI element 3 as a head and supplies a pulsed current having a rise time of about 5 ns generated by a power supply circuit 4 including a CMOS multivibrator and a CR differentiating circuit. It is configured to be applied to the MI element 3 and detect an induced voltage of the detection coil 5 wound around the MI element 3 (for example, 40 turns).
The zero magnetostrictive amorphous wire 1 is a wire that has strictly a slight negative magnetostriction (−10 −7 ) and anisotropy is induced in the circumferential direction by tension annealing. Therefore, when the external magnetic field generated by current application in the wire length direction is 0, the change in magnetic flux due to the pulsed current of the 0 magnetostrictive amorphous wire 1 is only in the circumferential direction, and in the circumferential direction of the 0 magnetostrictive amorphous wire 1 Is zero, and the induced voltage of the detection coil 5 is zero.
When an external magnetic field is applied, the magnetization vector of the 0 magnetostrictive amorphous wire 1 is inclined in the wire axis direction, and the magnetization vector is rotated in the circumferential direction by the circumferential magnetic field generated by the pulsed current. At this time, the component of the magnetic flux change in the wire axis direction interlinks with the detection coil 5, and an induced voltage is generated in the detection coil 5. The sign of the induced voltage of the detection coil 5 is opposite to the sign of the external magnetic field. In the zero magnetostrictive amorphous wire 1, the movement of the domain wall is suppressed due to the skin effect, and only the rotation of the magnetization vector occurs. Due to this magnetization operation, the induced voltage of the detection coil 5 in this circuit configuration becomes a voltage proportional to the external magnetic field without applying a bias magnetic field, and represents the characteristics of the linear magnetic field sensor.
However, the induced voltage waveform is not a pure pulse voltage waveform, but an LC oscillation waveform due to the stray capacitance of the detection coil 5 because of the rapid change of the linkage magnetic flux due to the steep pulse current. Since only the first pulse waveform of this vibration waveform changes with high sensitivity in proportion to the external magnetic field, it is necessary to extract only the first pulse waveform in order to configure a high-sensitivity magnetic field sensor. Here, only the first pulse waveform is extracted by the analog switch SW.
Trigger pulse of the analog switch SW, should the phase advance from 0 pulse current supplied magnetostrictive amorphous wire 1, the pulse energizing current is to be delayed about 10ns through two CMOS inverters Q 3, Q 4.
The height of the first pulse waveform of the induced voltage of the detection coil 5, resistors R 5, is converted into a DC voltage by the peak hold circuit comprising a capacitor C 4, a sensor output voltage amplifier # 038. This sensor output voltage has a value corresponding to the measured current flowing through the measured current line 50. A current proportional to the sensor output voltage is applied to the feedback coil 6 to generate a negative feedback magnetic field that cancels an external magnetic field. Due to this negative feedback effect, sensor characteristics with good linearity and no hysteresis can be obtained.
[0009]
3 is a perspective view showing the configuration of the current sensor according to Embodiment 1 of the present invention, FIG. 4 is a front view showing the current sensor, FIG. 5 is a cross-sectional view showing the current sensor, and FIG. FIG. In the first embodiment, the current sensor is formed as a current sensor substrate 10.
The configuration of the current sensor substrate 10 will be described. In FIG. 3, for example, a wire installation groove 13 is formed in a lower substrate 11 that is easily thinned, such as silicon, glass, or a printed circuit board. If the lower substrate 11 is silicon or glass, the wire installation groove 13 can be manufactured with high precision by etching or the like.
Electrodes 2 made of, for example, copper foil are formed at both ends of the wire installation groove 13. Although not shown in FIG. 3, a circuit board 14 on which a processing circuit as shown in FIG. Wiring for connection is also formed (FIGS. 4, 5: Wiring 16). These are easily formed with high precision by a semiconductor process such as a vapor deposition technique such as sputtering. After the 0 magnetostrictive amorphous wire 1 is set in the wire setting groove 13 and connected to the electrode portion 2 by soldering or conductive paste to form the MI element 3, the lower substrate 11 and the upper substrate 12 are joined, and the current sensor The substrate 10 is manufactured.
The MI element 3 is preferably fixed in contact with the lower substrate 11 and the upper substrate 12 so as not to apply stress, and may be fixed with an adhesive or the like before joining the substrates. For example, as shown in FIG. 6, a plurality of wire installation stands 19 are used to fix between the lower substrate 11 and the upper substrate 12 with the smallest possible contact area. The space other than the wire installation table 19 may be a gas, may be filled with a resin having good fluidity, and may be in a state where no stress is applied to the MI element 3. The lower substrate 11 and the upper substrate 12 can be easily manufactured by a process such as direct bonding or anodic bonding if it is made of silicon or glass.
In the current sensor substrate 10, a through hole 15 is provided at the center of the substantially annular MI element 3 for allowing the electric wire 50 to penetrate. When connecting the MI element 3 and the circuit board 14, though not shown, a through-hole may be formed in the upper substrate 12 and taken out, or the connection may be made from the end face of the substrate. Although the wire installation groove 13 is provided only in the lower substrate 11 in the drawing, the wire installation groove 13 may be provided in the upper substrate 12 as well. Further, if silicon is used for the lower substrate 11 or the upper substrate 12, the circuit substrate 14 on which the processing circuit as shown in FIG. 2 is mounted can be formed on the same substrate.
The detection coil 5 and the feedback coil 6 are produced so as to surround the MI element 3. 4 and 5 show only one coil for simplicity. Both coils are configured by continuously connecting a conductive through hole 17 penetrating the front and back surfaces of the current sensor substrate 10 and a conductive pattern 18 formed on the front and back surfaces of the current sensor substrate 10. Both coils are preferably installed as close to the MI element 3 as possible. In this configuration, since the detection coil 5 and the feedback coil 6 can be manufactured using the semiconductor process technology, it is possible to easily manufacture a coil that is completely symmetrical in the axial direction of the MI element 3.
The production of the detection coil 5 and the feedback coil 6 is not limited to the first embodiment. For example, the enamel wire or the like is wound around the MI element 3 by a conventional winding technique, and the detection coil 5 and the feedback coil 6 are formed. The feedback coil 6 may be configured. Further, since the MI element 3 is annular, the measurement accuracy is not affected no matter where the current line to be measured 50 is installed inside the annular MI element 3.
[0010]
As described above, according to the first embodiment, the MI element 3 is covered by the current sensor substrate 10, and the current sensor is configured such that the measured current line 50 passes through the through hole 15 of the current sensor substrate 10. Is provided, the current flowing through the measured current line 50 can be measured by the induced voltage detected by the detection circuit 7, so that highly accurate current measurement can always be performed with the same configuration.
Also, since the MI element 3 is formed in a substantially annular shape, the measured current line 50 can be placed anywhere within the annular shape without being affected by the measurement accuracy. A current sensor having a degree of freedom in the installation position can be manufactured.
Further, since the detection coil 5 and the feedback coil 6 are formed by a coil pattern formed by connecting the conductive through hole 17 and the conductive pattern 18 formed on the current sensor substrate 10, the detection coil 5 and the feedback coil 6 are formed using a semiconductor process technology. Since the feedback coil 6 can be manufactured, the detection coil 5 and the feedback coil 6 that are completely symmetric in the axial direction of the MI element 3 can be easily manufactured. As a result, a current sensor having high measurement accuracy and uniform measurement accuracy can be obtained. Can be manufactured.
[0011]
Embodiment 2 FIG.
FIG. 7 is a perspective view showing a configuration outline of a current sensor according to Embodiment 2 of the present invention. In the figure, a zero magnetostrictive amorphous wire (first magnetosensitive element) 1a is formed in a substantially annular shape, and is measured. It is installed so as to go around the current line 50 at least once. Similarly, the zero magnetostrictive amorphous wire (second magnetosensitive element) 1b is formed in a substantially annular shape and is arranged so as to overlap the zero magnetostrictive amorphous wire 1a. Electrode portions 2 are connected to both ends of the zero magnetostrictive amorphous wires 1a and 1b, and the zero magnetostrictive amorphous wires 1a and 1b and the electrode portion 2 constitute MI elements 3a and 3b having electrodes formed thereon.
In the current sensor according to the second embodiment, two zero magnetostrictive amorphous wires 1a and 1b are formed in a substantially annular shape, and each of the current sensors 50 is wrapped at least once around the current line 50 to be measured. The current value flowing through the measured current line 50 is detected by detecting an external magnetic field generated when the measured current flows through the line 50.
[0012]
Figure 8 is a circuit diagram showing a current sensor according to a second embodiment of the present invention. In the figure, the power supply circuit 21, the resistor R 4 is deleted, added CMOS inverter Q 7 is pulse MI elements 3a, 3b, It is the same as the power supply circuit 4 shown in FIG.
The CMOS inverters Q 6 and Q 7 of the power supply circuit 21 are respectively connected to the electrode portions 2 at one ends of the MI elements 3a and 3b, and the pulse conduction current generated by the power supply circuit 4 is supplied to the CMOS inverters Q 6 and Q 7. The end electrode portions 2 are commonly grounded. A feedback coil 6a is wound around the MI element 3a together with the detection coil (first detection coil) 5a, and a feedback coil 6b is wound around the MI element 3b together with the detection coil (second detection coil) 5b. I have.
Analog switches SW1, SW2, resistor R 4 to R 7, a capacitor C 4, C 5, the amplifier # 038, detection for detecting the induced voltage obtained by adding the induced voltage generated in the detection coil 5b on the induced voltage generated in the detection coils 5a constitute a circuit 22, also to the output terminal out of the amplifier amp is connected to one end of the feedback coil 6b via a resistor R 8, the other end of the feedback coil 6b is connected to one end of the feedback coil 6a, feedback coil 6a Is grounded.
As shown in FIG. 8, in the current sensor according to the second embodiment, the induced voltage detected by detection circuit 22 is obtained by adding an induced voltage generated in detection coil 5b to an induced voltage generated in detection coil 5a. Since the voltage is a voltage, a more reliable current measurement can be performed as compared with a current sensor that detects an induced voltage generated in one detection coil. Furthermore, common mode noise acting simultaneously on the two 0 magnetostrictive amorphous wires 1a and 1b can be canceled out, and a highly reliable current measurement can be performed even when there is electromagnetic field noise.
[0013]
FIG. 9 is a perspective view showing a configuration of a current sensor according to Embodiment 2 of the present invention. In the figure, a current sensor substrate (first current sensor substrate) 10a is, as shown in FIG. The through-hole 15 is formed at the center of the substantially annular zero magnetostrictive amorphous wire 1a so as to cover the wire 1a, and the current sensor substrate (second current sensor substrate) 10b is also It is formed so as to cover the magnetostrictive amorphous wire 1b, and the through hole 15 is provided at the center of the substantially annular zero magnetostrictive amorphous wire 1b. The current sensor substrates 10a and 10b are arranged so as to overlap each other. They are connected by an adhesive or the like.
As shown in FIG. 5, the current sensor substrate 10a has a detection coil and a feedback coil formed by the connection of the conductive through hole 17 and the conductive pattern 18, and the current sensor substrate 10b similarly has the conductive through hole 17 The detection coil and the feedback coil are configured by the connection of the conductive pattern 18.
The circuit board 14 on which the processing circuit as shown in FIG. 8 is mounted may be installed on any one of the current sensor boards 10a and 10b, and may be mounted on the two current sensor boards 10a and 10b, respectively. It may be divided and installed.
[0014]
As described above, according to the second embodiment, the current sensor is formed such that the current line 50 to be measured penetrates the ring of the MI elements 3a and 3b which are formed in a substantially ring shape and are arranged so as to overlap with each other. Is provided, the current flowing through the measured current line 50 can be measured by the induced voltage detected by the detection circuit 22, and highly accurate current measurement can always be performed with the same configuration.
Also, since the MI elements 3a and 3b are formed in a substantially annular shape, the measured current line 50 can be installed anywhere in the annular shape without being affected by the measurement accuracy. A current sensor having a degree of freedom at 50 installation positions can be obtained.
Further, since the induced voltage detected by the detection circuit 22 is an induced voltage obtained by adding the induced voltage generated in the detection coil 5b to the induced voltage generated in the detection coil 5a, a current for detecting the induced voltage generated in one detection coil is used. Current measurement with higher reliability than a sensor can be performed. Further, electromagnetic noise (common mode noise) acting simultaneously on the MI elements 3a and 3b can be canceled out, and even if there is electromagnetic noise, highly reliable current measurement can be performed.
Further, the MI element 3a is covered by the current sensor substrate 10a, and the MI element 3b is covered by the current sensor substrate 10b, and the current line 50 to be measured is placed in the through hole 15 of the current sensor substrates 10a and 10b arranged so as to overlap each other. If a current sensor is provided so as to penetrate, the current flowing through the current line to be measured 50 can be measured by the induced voltage detected by the detection circuit 22, and a highly accurate current measurement is always performed with the same configuration. be able to.
Further, the detection coils 5a and 5b and the feedback coils 6a and 6b are formed by first and second coil patterns formed by connecting the conductive through holes 17 and the conductive patterns 18 formed on the current sensor substrates 10a and 10b, respectively. Therefore, since the detection coils 5a and 5b and the feedback coils 6a and 6b can be manufactured by using the semiconductor process technology, the detection coils 5a and 5b and the feedback coils 6a and 6b that are completely symmetrical in the axial direction of the MI elements 3a and 3b are used. The current sensor can be easily manufactured, and as a result, a current sensor with high measurement accuracy and uniform measurement accuracy can be manufactured.
[0015]
Embodiment 3 FIG.
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a current sensor substrate according to Embodiment 3 of the present invention. In the figure, an electromagnetic field shield layer 32 electrically grounded around current sensor substrate 10 via insulating layer 31 is shown. Is formed.
The electromagnetic field shield layer 32 and the insulating layer 31 are formed of, for example, a thin film or the like, and other configurations are the same as those of the other embodiments. Since the current sensor substrate 10 is thus surrounded by the electromagnetic field shield layer 32, noise generated in the MI element 3 and the processing circuit due to an external electromagnetic field can be suppressed.
[0016]
As described above, according to the third embodiment, by forming the electromagnetic field shield layer 32, it is possible to suppress noise generated in the MI element 3 and the processing circuit due to an external electromagnetic field, thereby achieving high precision. A current sensor can be manufactured.
[0017]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, if the magnetic sensor is covered with the current sensor substrate, and the current sensor is provided so that the current line to be measured passes through the through hole of the current sensor substrate, the current sensor substrate can be covered. The current flowing through the measurement current line can be measured by the induced voltage detected by the detection circuit, and highly accurate current measurement can always be performed with the same configuration.
In addition, since the magneto-sensitive element is formed in a substantially annular shape, the current line to be measured can be installed anywhere within the annular shape without being affected by the measurement accuracy. A current sensor having a high degree of freedom can be manufactured.
Furthermore, since the detection coil is constituted by a conductive pattern formed on the current sensor substrate and a coil pattern formed by connecting conductive through holes, the detection coil can be manufactured using a semiconductor process technology. A detection coil completely symmetric in the direction can be easily manufactured, and as a result, there is an effect that a current sensor with high measurement accuracy and uniform measurement accuracy can be manufactured.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a current sensor according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram showing a current sensor according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a current sensor according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 4 is a front view showing a current sensor.
FIG. 5 is a sectional view showing a current sensor.
FIG. 6 is a perspective view showing details of installation of a 0 magnetostrictive amorphous wire.
FIG. 7 is a perspective view illustrating a schematic configuration of a current sensor according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a circuit diagram showing a current sensor according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a perspective view showing a configuration of a current sensor according to Embodiment 2 of the present invention.
FIG. 10 is a sectional view showing a current sensor board according to Embodiment 3 of the present invention.
[Explanation of symbols]
10 magnetostrictive amorphous wire (magnetic sensing element), 1a 0 magnetostrictive amorphous wire (first magnetosensitive element), 1b 0 magnetostrictive amorphous wire (second magnetosensitive element), 2 electrodes, 3, 3a, 3b MI element , 4,21 power supply circuit, 5 detection coil, 5a detection coil (first detection coil), 5b detection coil (second detection coil), 6, 6a, 6b feedback coil, 7, 22 detection circuit, 10 current sensor Substrate, 10a Current sensor substrate (first current sensor substrate), 10b Current sensor substrate (second current sensor substrate), 11 lower substrate, 12 upper substrate, 13 wire installation groove, 14 circuit substrate, 15 through hole, 16 wiring, 17 conductive through-hole, 18 conductive patterns, 19 wire installation base, 31 an insulating layer, 32 electromagnetic shield layer, 50 the current to be measured line, # 038 amplifier, C 1 -C Capacitor, out the output terminals, Q 1 ~Q 7 CMOS inverters, R 1 to R 8 resistors, SW, SW1, SW2 analog switch, V dd supply.

Claims (5)

パルス通電電流または高周波電流を発生する電源回路と、
略円環状に形成され、上記電源回路により発生されたパルス通電電流または高周波電流が一端から通電され、外部磁界に応じてインピーダンスを変化させる感磁素子と、
上記感磁素子に巻回された検出コイルと、
上記検出コイルに発生する誘起電圧を検出する検出回路とを備え、
上記感磁素子を覆うように形成され、その略円環状の感磁素子の中央に貫通孔が設けられた電流センサ基板と、
上記電流センサ基板に形成され、導電パターンおよび導電性スルーホールの接続により上記検出コイルを構成するコイルパターンとを備えたことを特徴とする電流センサ。
A power supply circuit for generating a pulse current or a high-frequency current;
A magneto-sensitive element that is formed in a substantially annular shape, and that receives a pulse current or a high-frequency current generated by the power supply circuit from one end and changes impedance according to an external magnetic field;
A detection coil wound around the magneto-sensitive element,
A detection circuit for detecting an induced voltage generated in the detection coil,
A current sensor substrate formed so as to cover the magneto-sensitive element, and having a through hole provided in the center of the substantially annular magneto-sensitive element;
A current sensor, comprising: a coil pattern formed on the current sensor substrate and forming the detection coil by connecting a conductive pattern and a conductive through hole.
パルス通電電流または高周波電流を発生する電源回路と、
略円環状に形成され、上記電源回路により発生されたパルス通電電流または高周波電流が一端から通電され、外部磁界に応じてインピーダンスを変化させる第1の感磁素子と、
略円環状に形成され、且つ上記第1の感磁素子に重なるように配置され、上記電源回路により発生されたパルス通電電流または高周波電流が一端から通電され、外部磁界に応じてインピーダンスを変化させる第2の感磁素子と、
上記第1の感磁素子に巻回された第1の検出コイルと、
上記第2の感磁素子に巻回された第2の検出コイルと、
上記第1の検出コイルに発生する誘起電圧に上記第2の検出コイルに発生する誘起電圧を加えた誘起電圧を検出する検出回路とを備えた電流センサ。
A power supply circuit for generating a pulse current or a high-frequency current;
A first magneto-sensitive element that is formed in a substantially annular shape and that receives a pulse current or a high-frequency current generated by the power supply circuit from one end and changes impedance according to an external magnetic field;
A pulse current or a high-frequency current generated by the power supply circuit is applied from one end and is formed in a substantially annular shape and arranged so as to overlap the first magneto-sensitive element, and changes impedance according to an external magnetic field. A second magneto-sensitive element;
A first detection coil wound around the first magnetic sensing element;
A second detection coil wound around the second magnetic sensing element;
A current sensor, comprising: a detection circuit that detects an induced voltage obtained by adding an induced voltage generated in the second detection coil to an induced voltage generated in the first detection coil.
第1の感磁素子を覆うように形成され、その略円環状の第1の感磁素子の中央に貫通孔が設けられた第1の電流センサ基板と、
第2の感磁素子を覆うように形成され、その略円環状の第2の感磁素子の中央に貫通孔が設けられた第2の電流センサ基板と、
上記第1の電流センサ基板に形成され、導電パターンおよび導電性スルーホールの接続により第1の検出コイルを構成する第1のコイルパターンと、
上記第2の電流センサ基板に形成され、導電パターンおよび導電性スルーホールの接続により第2の検出コイルを構成する第2のコイルパターンとを備え、
上記第1の電流センサ基板と上記第2の電流センサ基板とは、重なり合うように配置されたことを特徴とする請求項2記載の電流センサ。
A first current sensor substrate formed so as to cover the first magneto-sensitive element, and having a through-hole provided at the center of the substantially annular first magneto-sensitive element;
A second current sensor substrate formed so as to cover the second magneto-sensitive element and having a through-hole provided in the center of the substantially annular second magneto-sensitive element;
A first coil pattern formed on the first current sensor substrate and forming a first detection coil by connecting a conductive pattern and a conductive through hole;
A second coil pattern formed on the second current sensor substrate and forming a second detection coil by connecting the conductive pattern and the conductive through hole;
The current sensor according to claim 2, wherein the first current sensor substrate and the second current sensor substrate are arranged so as to overlap with each other.
感磁素子として、アモルファス磁性体であるアモルファスワイヤを用いることを特徴とする請求項1から請求項3のうちのいずれか1項記載の電流センサ。4. The current sensor according to claim 1, wherein an amorphous wire made of an amorphous magnetic material is used as the magneto-sensitive element. 電流センサ基板の周囲に電磁界シールド層を形成することを特徴とする請求項1から請求項4のうちのいずれか1項記載の電流センサ。The current sensor according to any one of claims 1 to 4, wherein an electromagnetic field shield layer is formed around the current sensor substrate.
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