JP2004241484A

JP2004241484A - Transporting device for substrate and positional deviation detecting method of transporting device

Info

Publication number: JP2004241484A
Application number: JP2003027222A
Authority: JP
Inventors: Keisuu Otsuka; 慶崇大塚; Jun Satake; 順佐竹; Norihiko Nishimura; 徳彦西村; Tomihiro Sakata; 富裕坂田
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2003-02-04
Filing date: 2003-02-04
Publication date: 2004-08-26
Anticipated expiration: 2023-02-04
Also published as: JP4047182B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transporting device detecting the positional deviation of a retaining unit of a substrate in an early period, and the detecting method of the positional deviation of the retaining unit. <P>SOLUTION: An optical sensor 171 is provided by fixing it to the upper surface of a middle stage casing 162 for the transporting device, and a reflecting body 170 is provided on the lower surface of the retaining unit 132. The reflecting body 170 is provided so as to be opposed to the optical sensor 171 when the retaining unit 132 has been returned to a normal home position H. In this case, light is irradiated from the optical sensor 171 at every times when the retaining unit 132 is returned to the home position H. When the light from the optical sensor 171 is reflected by the reflecting body 170 for the retaining unit 132 and the reflecting light is received by the optical sensor 171, the retaining unit 132 is confirmed that it is positioned at the normal home position H while the positional deviation of the retaining unit 132 is detected when the reflecting light can not be received by the optical sensor 171. The positional deviation of the retaining unit for the transporting device can be detected in an early period whereby incorrect substrate transportation is suppressed and, further, the breakage of the retaining unit or the like due to contact with a peripheral member is prevented. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，基板の搬送装置及び基板の搬送装置の位置ずれ検出方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から，ＬＣＤの製造プロセスにおいて，例えばＬＣＤ用の基板の表面にフォトリソグラフィ技術を用いて回路パターンを形成するフォトリソグラフィ工程が行われている。フォトリソグラフィ工程では，基板にフォトレジストを塗布するレジスト塗布処理，露光後の基板を現像する現像処理，基板を加熱し冷却する熱処理等が行われる。
【０００３】
これらの一連の処理は，塗布現像処理システムにおいて行われている。塗布現像処理システムは，例えば，基板が複数収容されるカセットが載置されるカセットステーションと，基板のレジスト塗布処理，現像処理，熱処理等が行われる処理ステーションと，隣接された露光装置に基板を搬入出するためのインターフェイス部を備えており，この塗布現像処理システム内の基板の搬送は，搬送装置により行われている。
【０００４】
上述の搬送装置は，基板を載置し保持する保持部を先端で支持し移動させるアームを備えている。アームには，フットプリントが小さく，かつ汎用性のある多関節型のアームが採用されており，アームが保持部をホーム位置から搬送先に向けて進退移動させることによって，基板が搬送されている。また，搬送装置には，スループットの向上を図るため，多関節型のアームを二つ備えたものも採用されており，これらのアームは，各々の保持部を同じホーム位置から各々進退移動させることによって基板を搬送している（例えば特許文献１〜３参照。）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平５−１００１９８号公報
【特許文献２】
特開平５−１００１９９号公報
【特許文献３】
特開平６−６９３１５号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで，搬送装置のアームは，通常各関節毎にプーリなどの回転部材と回転軸との固定部を備えており，上述したような多関節のアームは，このような固定部を多数備えている。このため，アームを長時間稼動し続けることにより各関節の固定部が緩んで，回転軸と回転部材とが相対的にずれることが想定される。特に，上記固定部の固定には，回転軸の外周面に外方から締め付けて回転部材を回転軸に固定する固定部材が広く用いられているため，回転部材と回転軸との接合力が比較的弱く，回転軸と回転部材とがずれる可能性は多分にある。また，メンテナンス時や各部材の取り替え時等には，各関節の固定を解除する必要があり，この際に回転軸と回転部材とに位置ずれが生じる場合がある。
【０００７】
このようにアームの関節において回転軸と回転部材との間に位置ずれが生じると，アームの先端部の保持部の位置が正常な位置からずれる。保持部の位置がずれると，保持部による基板の搬送が正確に行われないため，各処理ユニットにおいても基板の処理が適正に行われなくなる。そして，保持部の位置がずれた状態で基板の処理が継続されると，不良な基板が多量に生産されることになる。また，保持部の位置がずれた場合，保持部の進退経路も変更されるので，複数の処理ユニットが集約されている塗布現像処理システムにおいては，例えば近接した処理ユニットに保持部が接触し，処理ユニットや保持部自体が破損しかねない。
【０００８】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，基板の保持部の位置ずれを早期に検出できる基板の搬送装置と，当該保持部の位置ずれを検出する方法を提供することをその目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明によれば，基板を搬送する搬送装置であって，基板を保持する保持部を支持し，前記保持部をホーム位置から進退させて基板を搬送する多関節型のアームを備え，前記保持部には，光の反射体が設けられ，正常なホーム位置にある前記保持部の反射体に対向する位置には，光を投受光できる光センサが設けられていることを特徴とする基板の搬送装置が提供される。
【００１０】
この発明によれば，例えば基板の搬送を終えてホーム位置の戻った保持部に対し光センサから光を投光し，保持部の反射体からの反射光を光センサにおいて受光できる場合には，保持部が正常なホーム位置に戻ったことを確認できる。一方，反射体からの前記反射光を光センサにおいて受光できない場合には，保持部が正常なホーム位置に戻らず，位置ずれを起こしていることが確認できる。このように，本発明によれば，保持部がホーム位置に戻る度に，保持部の位置がずれたか否かを確認することができるので，保持部に位置ずれを早期に検出することができる。したがって，位置ずれが生じた場合には，例えば搬送装置の直ちに停止させて，基板が不正確な位置に搬送されたり保持部が周辺装置に衝突し破損することを防止できる。
【００１１】
前記アームは，複数備えられ，前記複数のアームの各保持部は，設置されている高さが各々異なり，かつ平面から見て同じホーム位置を有しており，前記反射体は，最上部のアームの保持部に取り付けられ，前記光センサは，最下部のアームの保持部の下方の位置から上方に向けて投光するように配置され，最上部のアーム以外のアームの保持部には，前記光センサの光が通過する光通過孔が形成され，前記最上部のアーム以外のアームの保持部が正常なホーム位置にあるときに，前記光センサからの光が光通過孔を通過するように，前記光通過孔は形成されていてもよい。
【００１２】
この場合，総てのアームが正常なホーム位置にある場合には，光センサからの光が最上部以外の保持部の光通過孔を通過し，最上部の保持部の反射体に照射される。そして反射体で反射した反射光が光センサにおいて受光される。一方，いずれかのアームの位置がずれている場合には，光通過孔か反射体の位置が同軸上にないので，光センサで反射光を受光できない。このように，搬送装置が複数のアームを備えていても，アームの位置ずれの検出を適切に行うことができる。
【００１３】
前記反射体は，前記保持部に基板が保持された時に当該基板と重ならない位置に設けられていてもよい。かかる場合，光センサからの光が保持部の基板に遮断されることがないので，保持部が基板を保持し搬送している状態であっても，保持部の位置ずれを検出できる。
【００１４】
前記保持部は，前記アームに支持される支持部と，当該支持部に取り付けられ，基板が保持される先端部と，を備え，前記反射体は，前記先端部に設けられていてもよい。例えば上述したようにアームの関節のずれによって保持部の位置がずれた場合，保持部の先端部のずれ幅が最も大きくなる。したがって，反射体を保持部の先端部に設けることによって，保持部の位置ずれをより高精度で確実に検出することができる。
【００１５】
請求項５の発明によれば，基板を搬送する搬送装置であって，基板を保持する保持部を支持し，前記保持部をホーム位置から進退させて基板を搬送する二つの多関節型のアームを備え，前記二つのアームの各保持部は，設置されている高さが異なり，かつ平面から見て同じホーム位置を有しており，いずれか一方の保持部の他方の保持部側の面には，光の反射体が設けられ，前記他方の保持部には，光を投受光できる光センサが設けられ，前記光センサは，正常なホーム位置にある前記一方の保持部の反射体に対向する位置に設けられていることを特徴とする基板の搬送装置が提供される。
【００１６】
この発明によれば，一方の保持部の光センサからの光が他方の保持部の反射体に照射され，当該反射体で反射した反射光が光センサで受光される場合には，ホーム位置において両方の保持部の位置が一致していることが確認できる。一方の保持部の光センサからの光が，他方の保持部の反射体で反射されない場合には，ホーム位置において二つの保持部の相対位置がずれていることが確認できる。二つの保持部の相対位置がずれていることは，いずれかの保持部が正常なホーム位置に位置していないことを意味する。したがって，ホーム位置における保持部の相対位置のずれを検出することによって，いずれかの保持部の位置ずれを早期に検出できる。
【００１７】
前記基板の搬送装置においては，前記反射体と光センサは，前記保持部に基板が保持された時に当該基板と重ならない位置に設けられていてもよい。また，前記保持部は，前記アームに支持される支持部と，当該支持部に取り付けられ，基板が保持される先端部と，を備え，前記反射体と光センサは，前記先端部に設けられていてもよい。
【００１８】
上述した基板の搬送装置において，光を受光できる受光センサが前記反射体に代えて用いられ，光を投光できる投光センサが前記光センサに代えて用いられるようにしてもよい。かかる場合も，投光センサからの光が受光センサにおいて受光できるか否かによって，保持部の位置がずれているか否かを検出できる。
【００１９】
本発明の搬送装置の位置ずれ方法によれば，基板を保持する保持部を支持し，前記保持部をホーム位置から進退させて基板を搬送する二つの多関節型のアームを備え，前記二つのアームの二つの保持部が同じホーム位置を有する基板の搬送装置において，前記ホーム位置における前記二つの保持部の相対的な位置ずれを検出することによって，正常なホーム位置からの前記保持部の位置ずれを検出する。
【００２０】
この発明によれば，各保持部毎に個々に位置ずれを確認する必要がなく，互いの相対位置を検出することによって，いずれかの保持部の位置ずれを検出できる。したがって，より早く簡単に保持部の位置ずれを検出できる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる搬送装置が搭載された塗布現像処理システム１の構成の概略を示す平面図である。
【００２２】
塗布現像処理システム１は，図１に示すように例えば複数のＬＣＤ用の基板Ｇを収容するカセットＣを載置し，基板Ｇを外部に対して搬入出するためのカセットステーション２と，フォトリソグラフィ工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理ユニットが配置された処理ステーション３と，処理ステーション３と露光装置４との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェイス部５とを一体に接続した構成を有している。
【００２３】
カセットステーション２では，カセット載置台１０上の所定の位置に，複数のカセットＣをＹ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在となっている。カセットステーション２には，カセット配列方向（Ｙ方向）とカセットＣに収容された基板Ｇの基板配列方向（Ｚ方向；鉛直方向）に対して基板Ｇを移送可能な基板搬送体１１が設けられている。基板搬送体１１は，Ｙ方向に沿って敷設された搬送路１２上を移動自在に設けられており，各カセットＣに対して選択的にアクセスできるようになっている。
【００２４】
処理ステーション３は，Ｘ方向に延びる二列の平行な基板搬送ラインＡ，Ｂを有している。基板搬送ラインＡには，カセットステーション２側からインターフェイス部５に向けて順にエキシマＵＶ照射ユニット２０，スクラブ洗浄処理ユニット２１，第１の熱的処理ユニットブロック２２，本発明の実施の形態にかかる搬送装置２３，第２の熱的処理ユニットブロック２４，レジスト塗布処理ユニット２５，減圧乾燥処理ユニット２６，周縁レジスト除去処理ユニット２７及び第３の熱的処理ユニットブロック２８が配列されている。また，基板搬送ラインＢには，インターフェイス部５側からカセットステーション２側に向けて順に第４の熱的処理ユニットブロック３０，現像処理ユニット３１，ｉ線ＵＶ照射ユニット３２，第５の熱的処理ユニットブロック３３，搬送装置３４及び第の６の熱的処理ユニットブロック３５が配列されている。
【００２５】
第１の熱的処理ユニットブロック２２には，例えば図２に示すように下から順に基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット４０，基板Ｇに対して脱水ベーク処理を施す２つの脱水ベークユニット４１，４２，基板Ｇに対して疎水化処理を施すアドヒージョン処理ユニット４３が４段に積層されている。第２の熱的処理ユニットブロック２４には，例えばパスユニット５０，基板Ｇを冷却する２つのクーリングユニット５１，５２，アドヒージョン処理ユニット５３が４段に積層されている。第１の熱的処理ユニットブロック２２と第２の熱的処理ユニットブロック２４との間の搬送装置２３は，これらの熱的処理ユニットブロック２２，２４内の各処理ユニットに対してアクセスして各処理ユニット間で基板Ｇを搬送することができる。
【００２６】
例えば第３の熱的処理ユニットブロック２８には，図３に示すようにパスユニット６０，基板Ｇに対してプリベーク処理を施す３つのプリベークユニット６１，６２，６３が４段に積層されている。第４の熱的処理ユニットブロック３０には，パスユニット７０，クーリングユニット７１，２つのプリベークユニット７２，７３が４段に積層されている。
【００２７】
例えば図４に示すように第５の熱的処理ユニットブロック３３には，パスユニット８０，基板Ｇに対してポストベーク処理を施す３つのポストベークユニット８１，８２，８３が４段に積層されている。第６の熱的処理ユニットブロック３５には，パスユニット９０，クーリングユニット９１，２つのポストベークユニット９２，９３が４段に積層されている。第５の熱的処理ユニットブロック３３と第６の熱的処理ユニットブロック３５との間の搬送装置３４は，これらの熱的処理ユニットブロック３３，３５内の各処理ユニットに対してアクセスして各処理ユニット間で基板Ｇを搬送できるようになっている。この他の基板搬送ラインＡ及びＢ上の基板Ｇの搬送は，例えばローラによるコロ搬送により行うことができる。
【００２８】
処理ステーション３における基板搬送ラインＡとＢとの間であってインターフェイス部５側，つまり図３に示すように第３の熱的処理ユニットブロック２８と第４の熱的処理ユニットブロック３０との間には，搬送装置１００が設けられている。搬送装置１００は，第３の熱的処理ユニットブロック２８と第４の熱的処理ユニットブロック３０内の各処理ユニット間と，当該処理ユニットと後述するエクステンション・クーリングステージ１２２との間で基板Ｇを搬送することができる。
【００２９】
以上のように，処理ステーション３の二列の基板搬送ラインＡ，Ｂには，各処理ユニット及び搬送装置が基本的に処理の順に配置されている。基板搬送ラインＡ，Ｂの間には，図１に示すように空間部１１０が設けられており，この空間部１１０には，空間部１１１０をＸ方向に往復移動可能なシャトル１１１が設けられている。シャトル１１１は，基板Ｇを保持可能に構成されており，基板搬送ラインＡとＢの途中で当該ライン間の基板搬送を行うことができる。
【００３０】
インターフェイス部５は，インターフェイス部５と露光装置４との間での基板Ｇの搬入出を行う基板搬送体１２０と，バッファカセットを配置するバッファステージ１２１と，冷却機能を備え，基板Ｇの受け渡しを行うエクステンション・クーリングステージ１２２とを有しており，タイトラーと周辺露光処理ユニットとが上下に積層された外部装置ブロック１２３が基板搬送体１２０に隣接して設けられている。
【００３１】
ここで，以上のように構成された塗布現像処理システム１で行われる基板処理について説明すると，先ず，基板搬送体１１によりカセットＣから未処理の基板Ｇが１枚取り出され，処理ステーション３のエキシマＵＶ照射ユニット２０に受け渡される。エキシマＵＶ照射ユニット２０においてＵＶ照射処理の行われた基板Ｇは，例えばコロ搬送によりスクラブ洗浄処理ユニット２１に搬送されてスクラブ洗浄される。続いて基板Ｇは，第１の熱的処理ユニットブロック２２のパスユニット４０を通じて脱水ベークユニット４１に搬送され，脱水ベーク処理が施された後，搬送装置２３によって第２の熱的処理ユニットブロック２４のクーリングユニット５２に搬送され，冷却される。冷却された基板Ｇは，搬送装置２３によってアドヒージョン処理ユニット５３，クーリングユニット５１に順次搬送され，疎水化処理と冷却処理が連続して施され，その後パスユニット５０から，例えばコロ搬送によりレジスト塗布処理ユニット２５，減圧乾燥処理ユニット２６及び周縁レジスト除去処理ユニット２７に順に搬送され，各処理ユニットにおいて所定の処理が施される。
【００３２】
周縁レジストの除去が終了した基板Ｇは，第３の熱的処理ユニットブロック２８のパスユニット６０に受け渡され，搬送装置１００によってプリベークユニット６１，第４の熱処理ユニットブロック３０のクーリングユニット７１に順次搬送され，各処理ユニットにおいて所定の処理が施される。その後基板Ｇは，パスユニット７０に受け渡され，搬送装置１００によってインターフェイス部５のエクステンション・クーリングステージ１２２に受け渡され，その後基板搬送体１２０によって外部装置ブロック１２３に搬送されて，周辺露光処理が施される。そして基板Ｇは，例えばバッファステージ１２１に一旦収容された後，露光装置４に搬送され，露光処理が施される。露光処理の終了した基板Ｇは，外部装置ブロック１２３のタイトラーにおいて所定の情報が記録され，エクステンション・クーリングステージ１２２に載置されてから，搬送装置１００によって第４の熱的処理ユニットブロック３０のパスユニット７０に搬送される。
【００３３】
その後基板Ｇは，例えばコロ搬送により現像処理ユニット３１，ｉ線ＵＶ照射ユニット３２に順次搬送され，各処理ユニットにおいて所定の処理が施された後，第５の熱的処理ユニットブロック３３のパスユニット８０に搬送される。基板Ｇは，搬送装置３４により例えばポストベークユニット８１，クーリングユニット９１に搬送され，加熱，冷却処理が順に施された後，カセットステーション２の基板搬送体１１によってカセットＣに戻される。こうして，基板Ｇの一連のフォトリソグラフィ工程が終了する。
【００３４】
次に，本実施の形態にかかる搬送装置２３を例に採って説明する。図５は，搬送装置２３の平面図であり，図６は，搬送装置２３を背面から見た側面図である。
【００３５】
搬送装置２３は，図５に示すように円盤状の基台１３０を有し，基台１３０上には，多関節型のアーム１３１が取り付けられている。アーム１３１の先端には，基板Ｇを載置し保持する保持部１３２が支持されており，搬送装置２３は，アーム１３１を伸縮させることによって，保持部１３２上の基板Ｇを搬送できる。
【００３６】
アーム１３１は，例えば２つのサブアーム１３３，１３４を有している。第１のサブアーム１３３は，一端部が基台１３０に回動自在に接続され，他端部が第２のサブアーム１３４の一端部に回動自在に接続されている。第２のサブアーム１３４の他端部は，保持部１３２を構成する板状のブラケット１３５に回動自在に接続されている。ブラケット１３５には，水平かつ平行に突出した２本のピンセット１３６が固定されており，基板Ｇは，このピンセット１３６上に載置される。ピンセット１３６には，真空吸着部材（図示せず）が複数設けられており，ピンセット１３６は，基板Ｇが落下しないように基板Ｇを吸着保持できる。なお，本実施の形態においては，保持部１３２は，支持部としてのブラケット１３５と先端部としてのピンセット１３６により構成されている。
【００３７】
図７に示すように基台１３０には，アーム１３１を駆動するためのモータ１４０が設けられている。モータ１４０の垂直方向の回転軸Ａには，プーリ１４１が固定され，プーリ１４１は，第１のサブアーム１３３の回転軸Ｂに固定されたプーリ１４２にベルト１４３によって連動されている。第１のサブアーム１３３の回転軸Ｂには，プーリ１４２とは別にプーリ１４４が固定されており，このプーリ１４４は，第２のサブアーム１３４の回転軸Ｃに固定されたプーリ１４５にベルト１４６によって連動されている。第２のサブアーム１３４の回転軸Ｃには，プーリ１４５とは別にプーリ１４７が固定されており，プーリ１４７は，保持部１３２の回転軸Ｄに固定されたプーリ１４８にベルト１４９によって連動されている。したがって，モータ１４０の動力は，回転軸Ａ，プーリ１４１，プーリ１４２，回転軸Ｂ，プーリ１４４，プーリ１４５，回転軸Ｃ，プーリ１４７，プーリ１４８，回転軸Ｄに順に伝動され，この結果，アーム１３１が伸縮して，アーム１３１の先端部の保持部１３２が，図５に示すように基台１３０上のホーム位置Ｈから目標の搬送先までの間を水平方向に直線的に進退移動できる。なお，前記各プーリと回転軸との固定には，例えば上述したような回転軸を外方から締め付けて固定する固定部材（図示せず）が用いられている。
【００３８】
図６に示すように基台１３０は，例えば上段筐体１６０上に置かれており，上段筐体１６０には，基台１３０に連動し基台１３０を回転させるモータ１６１が内蔵されている。これにより，基台１３０は，θ方向（垂直軸周り）に回転自在で保持部１３２の向きを自在に変更できる。したがって，搬送装置２３は，任意の水平方向の搬送先に対し保持部１３２を進退させることができる。
【００３９】
また，上段筐体１６０は，その下方の中段筐体１６２に設けられた垂直方向のボールねじ１６３に取り付けられており，このボールねじ１６３を回転させるモータ１６４によって上下動できる。中段筐体１６２は，その下方の下段筐体１６５に設けられたボールねじ１６６に取り付けられており，このボールねじ１６６を回転させるモータ１６７によって上下動できる。下段筐体１６５は，処理ステーション３の床面に設置されている。上段筐体１６０及び中段筐体１６２の上下動により，基台１３０はＺ方向に昇降自在である。このように保持部１３２は，Ｚ方向に昇降自在であり，基板Ｇを所定高さの搬送先に搬送することができる。
【００４０】
図８に示すように例えば保持部１３２のピンセット１３６の下面には，光を反射させる反射体１７０が取り付けられる。保持部１３２が正常なホーム位置Ｈに戻った時の前記反射体１７０に対向する位置，例えば中段筐体１６２の上面には，光を投受光する光センサ１７１が取り付けられる。光センサ１７１の投光方向は，上方に設定されており，保持部１３２が正常なホーム位置Ｈに位置すれば，光センサ１７１からの光が保持部１３２の反射体１７０で反射し，当該反射光が光センサ１７１で受光される。光センサ１７１における光の検出は，例えば搬送装置２３のコントローラ１７２に出力でき，コントローラ１７２では，光の有無によって保持部１３２がホーム位置Ｈに正常に位置しているか否かを判定できる。なお，反射体１７０の大きさは，保持部１３２の位置ずれの許容範囲に基づいて定められている。つまり，位置ずれの許容範囲をより広くする場合には，反射体１７０が大きくされ，許容範囲をより狭くする場合には，反射体１７０が小さくされる。
【００４１】
搬送装置２３は，以上のように構成されており，次に，搬送装置２３における，保持部１３２の位置ずれ検出動作について説明する。搬送装置２３が例えば第１の熱的処理ユニットブロック２２の脱水ベークユニット４１に基板Ｇを搬送する場合，先ず図９に示すように基台１３０の回転によって，保持部１３２が搬送先である脱水ベークユニット４１の方向に向けられる。このとき，保持部１３２は，基台１３０上のホーム位置Ｈに待機されている。続いて図１０に示すようにアーム１３１が伸びて，保持部１３２が脱水ベークユニット４１に対し直線的に進入する。そして，保持部１３２から脱水ベークユニット４１に基板Ｇが受け渡されると，アーム１３１が縮んで，保持部１３２がホーム位置Ｈに戻される。このように搬送装置２３は，保持部１３２をホーム位置Ｈと搬送先との間で進退させることによって基板Ｇを搬送する。そして，保持部１３２がホーム位置Ｈに戻されると，光センサ１７１から上方に向けて光が放射される。この放射された光が反射体１７０に照射され，反射されると，当該反射光が光センサ１７１に戻って受光される。この光の検出がコントローラ１７２に出力されると，コントローラ１７２によって，保持部１３２が正常なホーム位置Ｈに戻っていることが判定される。一方，光センサ１７１から放射された光が反射体１７０に照射されず，反射光が光センサ１７１によって受光できないと，例えばコントローラ１７２によって，保持部１３２が正常なホーム位置Ｈからずれていることが検出される。この場合，例えばコントローラ１７２は，搬送装置２３の駆動系に対し停止命令を出力して，搬送装置２３を停止させる。
【００４２】
以上の実施の形態によれば，アーム１３１におけるプーリ１４１等と回転軸Ａ〜Ｄとの固定が緩んだ場合などに起こる保持部１３２の位置ずれを早期に検出できる。したがって，位置ずれした保持部１３２によって基板Ｇを不正確な位置に搬送し，基板Ｇの搬送位置の再現性を失うことがなくなる。また，保持部１３２の移動経路が外れて保持部１３２が周辺処理ユニットに接触し破損することを防止できる。反射体１７０が，保持部１３２の先端に近く，位置ずれ幅が大きく現れるピンセット１３６に設けられたので，保持部１３２の僅かな位置ずれも確実に検出できる。
【００４３】
なお，前記実施の形態においては，光センサ１７１は，中段筐体１６２に設けられていたが，上段筐体１６０，下段筐体１６５，基台１３０及び塗布現像処理システム１の床面等の他の固定位置に設けられていてもよい。
【００４４】
以上の実施の形態では，投受光可能な光センサ１７１と反射体１７０を用いて保持部１３２の位置ずれを検出していたが，図１１に示すように保持部１３２の下面に反射体１７０に代えて受光センサ１８０を取り付け，保持部１３２が正常なホーム位置Ｈに位置したときの受光センサ１８０に対向する位置に，前記光センサ１７１に代えて投光センサ１８１を取り付けるようにしてもよい。受光センサ１８０における受光の有無は，例えばコントローラ１７２に出力できるようにする。そして，保持部１３２がホーム位置Ｈに戻る度に投光センサ１８１から光が投光され，受光センサ１８０における受光の有無によって保持部１３２がホーム位置Ｈに正常に位置しているか否かが判断される。こうすることによっても，保持部１３２の位置ずれを早期に発見し，基板Ｇの搬送を直ちに停止させて，不正確な位置への基板搬送や移動経路から外れた保持部１３２と周辺部材との接触，破損を防止できる。
【００４５】
以上の実施の形態における搬送装置２３は，１本の多関節型のアーム１３１を備えたものであったが，搬送装置２３は，２本の多関節型のアームを備えていてもよい。かかる場合，例えば図１２及び図１３に示すように前記アーム１３１と同様の構成を有する第１のアーム２００と第２のアーム２０１を備えている。第１のアーム２００は，アーム１３１と同じ第１のサブアーム２０２と第２のサブアーム２０３を備え，ブラケット２０４，ピンセット２０５からなる保持部２０６を支持している。第１のアーム２００の駆動は，基台２０７上に設けられたモータ２０８によって行われる。第２のアーム２０１も同様に，第１のサブアーム２０９，第２のサブアーム２１０を備え，ブラケット２１１，ピンセット２１２からなる保持部２１３を支持している。保持部２１３は，例えば図１３に示すように保持部２０６と干渉しないようなコの字型の接続部材２１４によって，保持部２０６よりも上方の位置に支持されている。保持部２１３と保持部２０６は，平面から見て同じホーム位置Ｈを有しており，このホーム位置Ｈから所定方向に進退することによって基板Ｇを搬送できる。なお，第２のアーム２０１の駆動は，基台２０７上のモータ２１５によって行われる。
【００４６】
上側に位置する保持部２１３において基板Ｇが載置されない位置，例えば図１２及び図１４に示すようにピンセット２１２のブラケット２１１との接続付近には，ピンセット２１２の内側に突出した取付部材２２０が設けられている。この取付部材２２０の下面には，反射体２２１が取り付けられている。つまり反射体２２１は，保持部２１３における基板Ｇが載置されない位置に取り付けられ，保持部２３１上に保持された基板Ｇが位置ずれ検出のための光を遮断しないようになっている。下側に位置する保持部２０６には，保持部２１３が正常なホーム位置Ｈにあるときの前記反射体２２１に対向する位置に，遮蔽板２２２が取り付けられている。当該遮蔽板２２２には，光が通過する光通過孔２２３が形成されている。また，例えば保持部２０６の下方の中段筐体１６２上には，正常なホーム位置Ｈにある保持部２１３の反射体２２１に対向する位置に，投受光可能な光センサ２２４が設置されている。かかる構成により，保持部２０６と保持部２１３が共に正常なホーム位置Ｈに位置する場合には，光センサ２２４からの光が保持部２０６の光通過孔２２３を通過し，保持部２１３の反射体２２１に照射され，その反射光が通過孔２２３を通じて光センサ２２４によって受光される。一方，保持部２０６と保持部２１３のいずれか一方でも正常なホーム位置Ｈに位置されていないと，保持部２０６，２１３によって光が途中で遮断され，光センサ２２４による受光が行われない。このように，光センサ２２４の受光の有無により，保持部２０６と保持部２１３の位置ずれを検出できる。なお，光センサ２２４における受光の有無は，例えばコントローラ２２５に出力でき，コントローラ２２５は，当該出力に基づいて保持部２０６と２１３の位置ずれを判定し，位置ずれが発生している場合には，搬送装置２３の駆動を停止できる。
【００４７】
そして，例えば保持部２０６と保持部２１３による基板Ｇの搬送が終了し，両保持部２０６，２１３がホーム位置Ｈに位置したときに光センサ２２４から光が照射され，保持部２０６と保持部２１３の位置ずれを検出する。かかる搬送装置２３によれば，２本のアーム２００，２０１を備えていても，２つの保持部２０６，２１３の位置ずれを早期に検出できる。この結果，基板Ｇの搬送を正確な位置に再現性を持って行うことができる。また，移動経路が不安定な保持部２０６，２１３と周辺処理ユニットとの干渉を防止できる。
【００４８】
なお，前記搬送装置２３のアームの数は，２本であったが，３本以上であってもよく，かかる場合，図１５に示すように最上部のアームの保持部２３０に取付部材２２０を設け，当該取付部材２２０に反射体２２１を取り付け，また最上部以外のアームの保持部２３１に遮蔽板２２２を設け，当該遮蔽板２２２に光通過孔２２３を形成するようにしてもよい。
【００４９】
また，前記２本又は３本以上のアームを備えた搬送装置２３において，反射体２２０の代わりに受光センサを用いて，投受光可能な光センサ２２４の代わりに投光センサを用いてもよい。
【００５０】
前記アームを２本備えた搬送装置２３において，図１６に示すように上側の保持部２１３のピンセット２１２の下面に受光センサ２４０を取り付け，下側の保持部２０６のピンセット２０５の上面に投光センサ２４１を取り付けるようにしてもよい。受光センサ２４０及び投光センサ２４１は，各保持部２１３，２０６において平面から見て基板Ｇが保持されない位置に配置される。前記受光センサ２４０と投光センサ２４１は，保持部２０６及び保持部２１３がいずれも正常なホーム位置Ｈに位置したときに互いに対向する位置に取り付けられる。受光センサ２４０における受光の有無は，例えばコントローラ２４２に出力できるようにし，コントローラ２４２は，当該出力に基づいて，保持部２０６，２１３の位置ずれを検出する。つまり，受光センサ２４０で投光センサ２４１からの光が受光されないと，保持部２０６と保持部２１３の相対位置がずれており，これは少なくとも保持部２０６又は保持部２１３のいずれかが正常なホーム位置Ｈからずれていることを意味する。したがって，コントローラ２４２は，受光センサ２４０における受光の有無を認識することにより，保持部２０６，２１３の位置ずれを検出できる。
【００５１】
そして，例えば保持部２０６，２１３の基板搬送が終了し，両方の保持部２０６，２１１がホーム位置Ｈに戻る度に，投光センサ２４１から受光センサ２４０に直線的な光が投光される。コントローラ２４２は，その都度受光センサ２４０で当該光を受光したか否かを確認し，保持部２０６，２１３の位置ずれの有無を検出する。
【００５２】
かかる場合，保持部２０６，２１３の相対的な位置関係を確認することによって，保持部２０６，２１３のいずれかが位置ずれを起こしても，当該位置ずれを迅速に検出できる。したがって，保持部２０６又は２１３が位置ずれを起こした状態で基板Ｇの搬送が継続されて基板Ｇが正確な位置に搬送されなかったり，搬送先の再現性が無くなったりすることが防止できる。また，移動経路がずれた保持部２０６，２１３が周辺の部材に衝突して周辺の部材や保持部自体が破損することが防止できる。なお，かかる場合においても，投光センサ２４１の代わりに投受光可能な光センサを用いて，受光センサ２４０の代わりに反射体を用いてもよい。また，当然に，投光センサ２４１と受光センサ２４０の位置を互いに入れ替えてもよい。
【００５３】
上記ピンセット１３６が基板Ｇを保持した際に，ピンセット１３６の先端が平面から見て基板Ｇから突出するようにピンセット１３６の長さを設定し，この突出した部分に上述の反射体や投・受光センサを配置してもよい。ピンセット１３６の先端に行くにつれてピンセット１３６の位置がずれた際のずれ幅が大きく現れる。したがって，ピンセット１３６の先端部に反射体や投・受光センサを配置することにより，精度よくピンセット１３６の位置ずれを検出できる。
【００５４】
以上，本発明の実施の形態の一例について説明したが，本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば本実施の形態では，本発明を搬送装置２３に適用していたが，本発明は，搬送装置２３と同様に多関節型のアームを有する搬送装置３４，１００やカセットステーション２の基板搬送体１１，インターフェイス部５の基板搬送体１２０などの他の搬送装置にも適用できる。さらに，本発明に適用される基板は，ＬＣＤ基板に限られず，半導体ウェハ，フォトマスク用のガラス基板等の他の基板であってもよい。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば，搬送装置の保持部の位置ずれを早期に検出できるので，不正確な基板搬送が抑制され，さらに保持部と周辺部材との接触による保持部等の破損が防止される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態にかかる搬送装置が搭載された塗布現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図２】第１及び第２の熱的処理ユニットブロックの構成を示す説明図である。
【図３】第３及び第４の熱的処理ユニットブロックの構成を示す説明図である。
【図４】第５及び第６の熱的処理ユニットブロックの構成を示す説明図である。
【図５】搬送装置の構成を示す平面図である。
【図６】搬送装置を背面からみた側面図である。
【図７】搬送装置のアームの構成を示す縦断面の説明図である。
【図８】反射体と光センサの取り付け位置を示す搬送装置の模式図である。
【図９】保持部を基板の搬送先に向けた様子を示す搬送装置の平面図である。
【図１０】保持部を基板の搬送先に搬送した様子を示す搬送装置の平面図である。
【図１１】受光センサと投光センサを取り付けた場合の搬送装置の模式図である。
【図１２】２本のアームを備えた搬送装置の平面図である。
【図１３】図１２の搬送装置を背面から見た側面図である。
【図１４】反射体と光通過孔及び光センサの取り付けた場合の搬送装置の模式図である。
【図１５】アームを複数本備えた場合の搬送装置を側面から見た模式図である。
【図１６】上下の保持部に投光センサと受光センサを設けた場合の搬送装置の模式図である。
【符号の説明】
１塗布現像処理システム
２３搬送装置
１３１アーム
１３２保持部
１６２中段筐体
１７０反射体
１７１光センサ
Ｇ基板[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate transfer device and a method for detecting a position shift of the substrate transfer device.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, in a manufacturing process of an LCD, for example, a photolithography step of forming a circuit pattern on a surface of an LCD substrate by using a photolithography technique has been performed. In the photolithography process, a resist coating process for applying a photoresist to the substrate, a developing process for developing the exposed substrate, and a heat treatment for heating and cooling the substrate are performed.
[0003]
These series of processes are performed in the coating and developing system. The coating and developing system includes, for example, a cassette station on which a cassette accommodating a plurality of substrates is placed, a processing station for performing a resist coating process, a developing process, and a heat treatment of the substrate. An interface unit for carrying in and out is provided, and the transport of the substrate in the coating and developing system is performed by a transport device.
[0004]
The above-described transfer device includes an arm that supports and moves the holding unit that places and holds the substrate at the tip. A multi-joint arm with a small footprint and versatility is used for the arm. The board is transported by the arm moving the holding unit from the home position to the transport destination. . In order to improve the throughput, a transfer device equipped with two articulated arms is also used, and these arms move each holding part forward and backward from the same home position. (See, for example, Patent Documents 1 to 3).
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-5-100198
[Patent Document 2]
JP-A-5-100199
[Patent Document 3]
JP-A-6-69315
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, the arm of the transfer device usually has a fixed portion between a rotating member such as a pulley and a rotating shaft for each joint, and the multi-jointed arm as described above has many such fixed portions. . For this reason, it is assumed that the fixed part of each joint is loosened by continuing the operation of the arm for a long time, and the rotating shaft and the rotating member are relatively displaced. In particular, the fixing of the above-mentioned fixing part is widely used because the fixing member that fixes the rotating member to the rotating shaft by tightening the outer surface of the rotating shaft from the outside is widely used. There is a possibility that the rotating shaft and the rotating member are shifted from each other. In addition, it is necessary to release the fixation of each joint at the time of maintenance, replacement of each member, or the like. At this time, there is a case where a displacement occurs between the rotating shaft and the rotating member.
[0007]
As described above, when a displacement occurs between the rotation shaft and the rotation member at the joint of the arm, the position of the holding portion at the distal end of the arm deviates from a normal position. If the position of the holding unit is shifted, the substrate is not accurately transferred by the holding unit, so that the processing of the substrate is not properly performed in each processing unit. If the processing of the substrate is continued in a state where the position of the holding portion is shifted, a large number of defective substrates are produced. Also, when the position of the holding unit is shifted, the path of the holding unit is also changed, so in a coating and developing processing system in which a plurality of processing units are integrated, for example, the holding unit comes into contact with an adjacent processing unit, The processing unit and the holding unit may be damaged.
[0008]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate transfer apparatus capable of detecting a displacement of a substrate holding portion at an early stage and a method of detecting the displacement of the holding portion. And
[0009]
[Means for Solving the Problems]
According to the first aspect of the present invention, there is provided a transfer apparatus for transferring a substrate, comprising a multi-joint type arm for supporting a holding unit for holding the substrate and moving the holding unit forward and backward from a home position to transfer the substrate. , A light reflector is provided on the holding unit, and an optical sensor capable of projecting and receiving light is provided at a position facing the reflector of the holding unit at a normal home position. A substrate transfer device is provided.
[0010]
According to the present invention, for example, when light is projected from the optical sensor to the holding unit that has returned to the home position after the transfer of the substrate and the reflected light from the reflector of the holding unit can be received by the optical sensor, It can be confirmed that the holding unit has returned to the normal home position. On the other hand, when the reflected light from the reflector cannot be received by the optical sensor, it can be confirmed that the holding unit does not return to the normal home position and is displaced. As described above, according to the present invention, each time the holding unit returns to the home position, it is possible to confirm whether or not the position of the holding unit has shifted, so that the position shift of the holding unit can be detected early. . Therefore, when a displacement occurs, for example, the transfer device is immediately stopped to prevent the substrate from being transferred to an incorrect position or the holding unit from colliding with the peripheral device and being damaged.
[0011]
A plurality of the arms are provided, and respective holding portions of the plurality of arms have different installation heights, and have the same home position when viewed from a plane. The optical sensor is attached to a holding portion of the arm, and is arranged so as to project light upward from a position below the holding portion of the lowermost arm. A light passage hole through which the light of the light sensor passes is formed, and when the holding portion of the arm other than the uppermost arm is at the normal home position, the light from the light sensor passes through the light passage hole. In addition, the light passage hole may be formed.
[0012]
In this case, when all the arms are at the normal home positions, the light from the optical sensor passes through the light passage holes of the holding units other than the uppermost unit and irradiates the reflector of the uppermost holding unit. . The light reflected by the reflector is received by the optical sensor. On the other hand, if the position of any of the arms is shifted, the position of the light passage hole or the reflector is not coaxial, and the light sensor cannot receive the reflected light. As described above, even if the transfer device includes a plurality of arms, it is possible to appropriately detect the displacement of the arms.
[0013]
The reflector may be provided at a position where the reflector does not overlap with the substrate when the substrate is held by the holder. In such a case, since the light from the optical sensor is not blocked by the substrate of the holding unit, the positional shift of the holding unit can be detected even when the holding unit holds and transports the substrate.
[0014]
The holding section may include a supporting section supported by the arm, and a tip attached to the supporting section and holding a substrate, and the reflector may be provided at the tip. For example, when the position of the holding unit is shifted due to the shift of the joint of the arm as described above, the shift width of the tip end of the holding unit is the largest. Therefore, by providing the reflector at the tip of the holder, the displacement of the holder can be reliably detected with higher accuracy.
[0015]
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a transfer device for transferring a substrate, wherein the two articulated arms support a holding portion for holding the substrate and move the holding portion forward and backward from a home position to transfer the substrate. The holding portions of the two arms are installed at different heights and have the same home position when viewed from above, and the surface of one of the holding portions on the side of the other holding portion is provided. Is provided with a light reflector, and the other holding part is provided with an optical sensor capable of transmitting and receiving light, and the light sensor is provided on the reflector of the one holding part at a normal home position. A substrate transfer device is provided, which is provided at an opposing position.
[0016]
According to the present invention, when the light from the optical sensor of one holding unit is applied to the reflector of the other holding unit, and the light reflected by the reflector is received by the optical sensor, the light is reflected at the home position. It can be confirmed that the positions of both holding portions match. When the light from the optical sensor of one holding unit is not reflected by the reflector of the other holding unit, it can be confirmed that the relative positions of the two holding units are shifted at the home position. When the relative positions of the two holding units are shifted, it means that one of the holding units is not located at the normal home position. Therefore, by detecting a shift in the relative position of the holding unit at the home position, a position shift of any of the holding units can be detected early.
[0017]
In the substrate transport device, the reflector and the optical sensor may be provided at a position where the substrate does not overlap with the substrate when the substrate is held by the holding unit. The holding section includes a support section supported by the arm, and a tip attached to the support section and holding a substrate, wherein the reflector and the optical sensor are provided at the tip section. May be.
[0018]
In the substrate transport apparatus described above, a light receiving sensor capable of receiving light may be used instead of the reflector, and a light emitting sensor capable of emitting light may be used instead of the light sensor. Also in such a case, it can be detected whether or not the position of the holding unit is shifted depending on whether or not light from the light emitting sensor can be received by the light receiving sensor.
[0019]
According to the position shifting method of the transfer device of the present invention, there are provided two articulated arms for supporting the holding unit for holding the substrate, and moving the holding unit forward and backward from the home position to transfer the substrate. In a substrate transfer apparatus in which two holding portions of an arm have the same home position, the position of the holding portion from a normal home position is detected by detecting a relative displacement between the two holding portions at the home position. Detect the shift.
[0020]
According to the present invention, it is not necessary to confirm the positional deviation for each of the holding units, and the positional deviation of any of the holding units can be detected by detecting the relative positions of each other. Therefore, the displacement of the holding portion can be detected more quickly and easily.
[0021]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. FIG. 1 is a plan view schematically showing the configuration of a coating and developing treatment system 1 on which a transport device according to the present embodiment is mounted.
[0022]
As shown in FIG. 1, the coating and developing system 1 includes a cassette station 2 for loading a plurality of LCD substrates G, a cassette station 2 for carrying the substrates G in and out, and a photolithography. A processing station 3 in which various processing units for performing predetermined processing in a single-wafer manner in the process are arranged, and an interface unit 5 for transferring a substrate G between the processing station 3 and the exposure apparatus 4 are integrated. Is connected.
[0023]
In the cassette station 2, a plurality of cassettes C can be mounted at predetermined positions on the cassette mounting table 10 in a line in the Y direction (the vertical direction in FIG. 1). The cassette station 2 is provided with a substrate carrier 11 capable of transferring the substrates G in the cassette arrangement direction (Y direction) and the substrate arrangement direction of the substrates G accommodated in the cassette C (Z direction; vertical direction). I have. The substrate transfer body 11 is provided movably on a transfer path 12 laid along the Y direction, and can selectively access each cassette C.
[0024]
The processing station 3 has two parallel substrate transfer lines A and B extending in the X direction. An excimer UV irradiation unit 20, a scrub cleaning unit 21, a first thermal processing unit block 22, and a transfer according to the embodiment of the present invention are sequentially provided on the substrate transfer line A from the cassette station 2 toward the interface unit 5. An apparatus 23, a second thermal processing unit block 24, a resist coating processing unit 25, a reduced pressure drying processing unit 26, a peripheral resist removing processing unit 27, and a third thermal processing unit block 28 are arranged. In the substrate transfer line B, a fourth thermal processing unit block 30, a developing processing unit 31, an i-ray UV irradiation unit 32, and a fifth thermal processing unit are arranged in this order from the interface unit 5 side to the cassette station 2 side. A unit block 33, a transfer device 34, and a sixth thermal processing unit block 35 are arranged.
[0025]
In the first thermal processing unit block 22, for example, as shown in FIG. 2, a pass unit 40 for transferring substrates G in order from the bottom and two dehydration bake units 41 and 42 for performing dehydration bake processing on the substrates G. , An adhesion processing unit 43 for performing a hydrophobic treatment on the substrate G is stacked in four stages. In the second thermal processing unit block 24, for example, a pass unit 50, two cooling units 51 and 52 for cooling the substrate G, and an adhesion processing unit 53 are stacked in four stages. The transfer device 23 between the first thermal processing unit block 22 and the second thermal processing unit block 24 accesses each processing unit in these thermal processing unit blocks 22 and 24, and The substrate G can be transported between the processing units.
[0026]
For example, in the third thermal processing unit block 28, as shown in FIG. 3, a pass unit 60 and three pre-bake units 61, 62, and 63 for performing pre-bake processing on the substrate G are stacked in four stages. In the fourth thermal processing unit block 30, a pass unit 70, a cooling unit 71, and two pre-bake units 72 and 73 are stacked in four stages.
[0027]
For example, as shown in FIG. 4, a pass unit 80 and three post-baking units 81, 82, and 83 for performing a post-baking process on the substrate G are stacked in four stages in the fifth thermal processing unit block 33. I have. In the sixth thermal processing unit block 35, a pass unit 90, a cooling unit 91, and two post bake units 92 and 93 are stacked in four stages. The transfer device 34 between the fifth thermal processing unit block 33 and the sixth thermal processing unit block 35 accesses each processing unit in these thermal processing unit blocks 33 and 35 and The substrate G can be transported between the processing units. The transfer of the substrate G on the other substrate transfer lines A and B can be performed, for example, by roller transfer using rollers.
[0028]
Between the substrate transfer lines A and B in the processing station 3 and on the interface 5 side, that is, between the third thermal processing unit block 28 and the fourth thermal processing unit block 30 as shown in FIG. Is provided with a transfer device 100. The transfer device 100 transfers the substrate G between the processing units in the third thermal processing unit block 28 and the fourth thermal processing unit block 30 and between the processing unit and an extension cooling stage 122 described later. Can be transported.
[0029]
As described above, in the two rows of substrate transfer lines A and B of the processing station 3, the processing units and the transfer devices are basically arranged in the order of processing. As shown in FIG. 1, a space 110 is provided between the substrate transfer lines A and B. The space 110 is provided with a shuttle 111 capable of reciprocating the space 1110 in the X direction. I have. The shuttle 111 is configured to be able to hold the substrate G, and can transfer the substrate between the substrate transfer lines A and B in the middle of the line.
[0030]
The interface unit 5 has a substrate carrier 120 for carrying in and out the substrate G between the interface unit 5 and the exposure apparatus 4, a buffer stage 121 for arranging a buffer cassette, and a cooling function. An external device block 123 having an extension / cooling stage 122 and a titler and a peripheral exposure processing unit stacked vertically is provided adjacent to the substrate carrier 120.
[0031]
Here, the substrate processing performed by the coating and developing processing system 1 configured as described above will be described. First, one unprocessed substrate G is taken out of the cassette C by the substrate carrier 11 and the excimer It is delivered to the UV irradiation unit 20. The substrate G that has been subjected to the UV irradiation processing in the excimer UV irradiation unit 20 is transferred to the scrub cleaning unit 21 by, for example, roller transfer, and scrub-cleaned. Subsequently, the substrate G is transported to the dehydration bake unit 41 through the pass unit 40 of the first thermal processing unit block 22 and subjected to the dehydration bake processing, and then the transport unit 23 transports the substrate G to the second thermal processing unit block 24. Is cooled by the cooling unit 52 and cooled. The cooled substrate G is sequentially transferred to the adhesion processing unit 53 and the cooling unit 51 by the transfer device 23, and subjected to a hydrophobic treatment and a cooling process continuously. The wafers are sequentially transported to the unit 25, the reduced-pressure drying processing unit 26, and the peripheral resist removal processing unit 27, and are subjected to predetermined processing in each processing unit.
[0032]
The substrate G from which the peripheral resist has been removed is delivered to the pass unit 60 of the third thermal processing unit block 28, and is sequentially transferred to the pre-bake unit 61 and the cooling unit 71 of the fourth thermal processing unit block 30 by the transfer device 100. It is conveyed and subjected to predetermined processing in each processing unit. Thereafter, the substrate G is transferred to the pass unit 70, transferred to the extension cooling stage 122 of the interface unit 5 by the transfer device 100, and then transferred to the external device block 123 by the substrate transfer body 120 to perform peripheral exposure processing. Will be applied. Then, the substrate G is once accommodated in, for example, the buffer stage 121, and is then conveyed to the exposure device 4 and subjected to exposure processing. On the substrate G that has been subjected to the exposure processing, predetermined information is recorded in the titler of the external device block 123 and is placed on the extension cooling stage 122, and then the transfer device 100 passes the fourth thermal processing unit block 30 through the path. It is transported to the unit 70.
[0033]
Thereafter, the substrate G is sequentially conveyed to the developing processing unit 31 and the i-ray UV irradiation unit 32 by, for example, roller conveyance, and after being subjected to predetermined processing in each processing unit, the pass unit of the fifth thermal processing unit block 33 is passed. 80. The substrate G is transported by the transport device 34 to, for example, the post-baking unit 81 and the cooling unit 91, and is subjected to heating and cooling processes in that order, and then returned to the cassette C by the substrate transporting body 11 of the cassette station 2. Thus, a series of photolithography steps for the substrate G is completed.
[0034]
Next, the transfer device 23 according to the present embodiment will be described as an example. FIG. 5 is a plan view of the transfer device 23, and FIG. 6 is a side view of the transfer device 23 as viewed from the back.
[0035]
The transfer device 23 has a disk-shaped base 130 as shown in FIG. 5, and an articulated arm 131 is mounted on the base 130. A holding portion 132 for mounting and holding the substrate G is supported at the tip of the arm 131. The transfer device 23 can transfer the substrate G on the holding portion 132 by expanding and contracting the arm 131.
[0036]
The arm 131 has, for example, two sub-arms 133 and 134. One end of the first sub-arm 133 is rotatably connected to the base 130, and the other end is rotatably connected to one end of the second sub-arm 134. The other end of the second sub arm 134 is rotatably connected to a plate-like bracket 135 constituting the holding part 132. Two tweezers 136 projecting horizontally and parallel are fixed to the bracket 135, and the substrate G is placed on the tweezers 136. The tweezers 136 are provided with a plurality of vacuum suction members (not shown), and the tweezers 136 can suck and hold the substrate G so that the substrate G does not drop. In the present embodiment, the holding unit 132 includes a bracket 135 as a support unit and tweezers 136 as a tip.
[0037]
As shown in FIG. 7, the base 130 is provided with a motor 140 for driving the arm 131. A pulley 141 is fixed to a vertical rotation axis A of the motor 140, and the pulley 141 is linked with a pulley 142 fixed to a rotation axis B of the first sub arm 133 by a belt 143. A pulley 144 is fixed to the rotation axis B of the first sub-arm 133 separately from the pulley 142, and the pulley 144 is linked with a pulley 145 fixed to the rotation axis C of the second sub-arm 134 by a belt 146. Have been. A pulley 147 is fixed to the rotation axis C of the second sub-arm 134 separately from the pulley 145, and the pulley 147 is linked to a pulley 148 fixed to the rotation axis D of the holding unit 132 by a belt 149. . Therefore, the power of the motor 140 is transmitted to the rotating shaft A, the pulley 141, the pulley 142, the rotating shaft B, the pulley 144, the pulley 145, the rotating shaft C, the pulley 147, the pulley 148, and the rotating shaft D in this order. The extension and contraction of the arm 131 allows the holding portion 132 at the distal end of the arm 131 to move linearly in a horizontal direction from the home position H on the base 130 to the target transport destination as shown in FIG. In order to fix the pulleys to the rotating shaft, a fixing member (not shown) for fastening the rotating shaft from the outside as described above is used.
[0038]
As shown in FIG. 6, the base 130 is placed on, for example, an upper case 160, and a motor 161 that rotates the base 130 in conjunction with the base 130 is built in the upper case 160. Thereby, the base 130 can freely rotate in the θ direction (around the vertical axis) and can freely change the direction of the holding portion 132. Therefore, the transfer device 23 can move the holding unit 132 forward and backward with respect to an arbitrary transfer destination in the horizontal direction.
[0039]
The upper case 160 is attached to a vertical ball screw 163 provided in a lower middle case 162 below the upper case 160, and can be moved up and down by a motor 164 that rotates the ball screw 163. The middle case 162 is attached to a ball screw 166 provided in a lower case 165 below the middle case 162, and can be moved up and down by a motor 167 that rotates the ball screw 166. The lower case 165 is installed on the floor of the processing station 3. The base 130 can be moved up and down in the Z direction by the vertical movement of the upper case 160 and the middle case 162. As described above, the holding section 132 can move up and down in the Z direction, and can transfer the substrate G to a destination having a predetermined height.
[0040]
As shown in FIG. 8, for example, a reflector 170 that reflects light is attached to the lower surface of the tweezers 136 of the holding unit 132. An optical sensor 171 that emits and receives light is attached to a position facing the reflector 170 when the holding unit 132 returns to the normal home position H, for example, the upper surface of the middle housing 162. The light projection direction of the optical sensor 171 is set upward, and when the holding unit 132 is located at the normal home position H, light from the optical sensor 171 is reflected by the reflector 170 of the holding unit 132 and the reflection is performed. Light is received by the optical sensor 171. Detection of light by the optical sensor 171 can be output to, for example, the controller 172 of the transport device 23, and the controller 172 can determine whether or not the holding unit 132 is normally located at the home position H based on the presence or absence of light. Note that the size of the reflector 170 is determined based on the allowable range of the positional deviation of the holding unit 132. That is, when the allowable range of the positional deviation is made wider, the reflector 170 is made larger, and when the allowable range is made narrower, the reflector 170 is made smaller.
[0041]
The transport device 23 is configured as described above. Next, the operation of the transport device 23 for detecting the positional deviation of the holding unit 132 will be described. When the transfer device 23 transfers the substrate G to, for example, the dehydration bake unit 41 of the first thermal processing unit block 22, first, as shown in FIG. It is turned to the direction of the bake unit 41. At this time, the holding unit 132 is waiting at the home position H on the base 130. Subsequently, as shown in FIG. 10, the arm 131 extends, and the holding unit 132 linearly enters the dewatering bake unit 41. Then, when the substrate G is transferred from the holding unit 132 to the dehydration bake unit 41, the arm 131 is contracted, and the holding unit 132 is returned to the home position H. As described above, the transfer device 23 transfers the substrate G by moving the holding unit 132 between the home position H and the transfer destination. When the holding unit 132 is returned to the home position H, light is emitted upward from the optical sensor 171. When the emitted light irradiates the reflector 170 and is reflected, the reflected light returns to the optical sensor 171 and is received. When this light detection is output to the controller 172, the controller 172 determines that the holding unit 132 has returned to the normal home position H. On the other hand, if the light emitted from the optical sensor 171 is not applied to the reflector 170 and the reflected light cannot be received by the optical sensor 171, for example, the controller 172 may cause the holding unit 132 to deviate from the normal home position H. Is detected. In this case, for example, the controller 172 outputs a stop command to the drive system of the transfer device 23 to stop the transfer device 23.
[0042]
According to the above-described embodiment, it is possible to early detect a displacement of the holding unit 132 that occurs when the fixing of the pulley 141 or the like and the rotation axes A to D in the arm 131 is loose. Therefore, the substrate G is transported to an incorrect position by the holding portion 132 that is displaced, and the reproducibility of the transport position of the substrate G is not lost. In addition, it is possible to prevent the moving path of the holding unit 132 from deviating and the holding unit 132 from contacting the peripheral processing unit and being damaged. Since the reflector 170 is provided on the tweezers 136 that is close to the tip of the holding unit 132 and has a large positional shift width, even a slight positional shift of the holding unit 132 can be reliably detected.
[0043]
In the above-described embodiment, the optical sensor 171 is provided in the middle housing 162, but the upper housing 160, the lower housing 165, the base 130, the floor of the coating and developing system 1, etc. May be provided at a fixed position.
[0044]
In the above embodiment, the position shift of the holding unit 132 is detected using the optical sensor 171 capable of transmitting and receiving light and the reflector 170. However, as shown in FIG. Alternatively, a light receiving sensor 180 may be attached, and a light emitting sensor 181 may be attached instead of the light sensor 171 at a position facing the light receiving sensor 180 when the holding unit 132 is located at the normal home position H. The presence or absence of light reception by the light receiving sensor 180 can be output to the controller 172, for example. Each time the holding unit 132 returns to the home position H, light is emitted from the light emitting sensor 181, and it is determined whether or not the holding unit 132 is normally located at the home position H based on whether or not light is received by the light receiving sensor 180. Is done. By doing so, the displacement of the holding unit 132 is detected at an early stage, the transfer of the substrate G is immediately stopped, and the transfer of the substrate to an incorrect position and the connection between the holding unit 132 and the peripheral member deviated from the moving path are performed. Contact and breakage can be prevented.
[0045]
In the above embodiment, the transfer device 23 includes one multi-joint arm 131, but the transfer device 23 may include two multi-joint arms. In such a case, for example, as shown in FIGS. 12 and 13, a first arm 200 and a second arm 201 having the same configuration as the arm 131 are provided. The first arm 200 includes a first sub-arm 202 and a second sub-arm 203, which are the same as the arm 131, and supports a holding unit 206 including a bracket 204 and tweezers 205. The first arm 200 is driven by a motor 208 provided on a base 207. Similarly, the second arm 201 includes a first sub-arm 209 and a second sub-arm 210, and supports a holding portion 213 including a bracket 211 and tweezers 212. The holding portion 213 is supported at a position above the holding portion 206 by, for example, a U-shaped connecting member 214 that does not interfere with the holding portion 206 as shown in FIG. The holding unit 213 and the holding unit 206 have the same home position H when viewed from above, and the substrate G can be transported by moving forward and backward from the home position H in a predetermined direction. The second arm 201 is driven by a motor 215 on the base 207.
[0046]
At a position where the substrate G is not placed on the upper holding portion 213, for example, near the connection of the tweezers 212 to the bracket 211 as shown in FIGS. 12 and 14, an attachment member 220 protruding inside the tweezers 212 is provided. Has been. A reflector 221 is attached to the lower surface of the attachment member 220. That is, the reflector 221 is attached to a position on the holding unit 213 where the substrate G is not placed, so that the substrate G held on the holding unit 231 does not block the light for detecting the displacement. A shield plate 222 is attached to the lower holding unit 206 at a position facing the reflector 221 when the holding unit 213 is at the normal home position H. The shield plate 222 has a light passage hole 223 through which light passes. Further, for example, on the middle housing 162 below the holding unit 206, an optical sensor 224 capable of projecting and receiving light is installed at a position facing the reflector 221 of the holding unit 213 at the normal home position H. With this configuration, when the holding unit 206 and the holding unit 213 are both located at the normal home position H, light from the optical sensor 224 passes through the light passage hole 223 of the holding unit 206 and the reflector of the holding unit 213 The reflected light is received by the optical sensor 224 through the through hole 223. On the other hand, if one of the holding unit 206 and the holding unit 213 is not located at the normal home position H, the light is blocked by the holding units 206 and 213 on the way, and the light sensor 224 does not receive light. As described above, the position shift between the holding unit 206 and the holding unit 213 can be detected based on the presence or absence of light reception of the optical sensor 224. The presence / absence of light reception by the optical sensor 224 can be output to, for example, the controller 225. The controller 225 determines the positional deviation between the holding units 206 and 213 based on the output, and when the positional deviation has occurred, The driving of the transport device 23 can be stopped.
[0047]
Then, for example, when the transfer of the substrate G by the holding unit 206 and the holding unit 213 is completed, and the holding units 206 and 213 are located at the home position H, light is emitted from the optical sensor 224, and the holding unit 206 and the holding unit 213 The position deviation of is detected. According to the transfer device 23, even if the two arms 200 and 201 are provided, the positional shift between the two holding units 206 and 213 can be detected early. As a result, the transfer of the substrate G can be performed at an accurate position with reproducibility. Further, it is possible to prevent interference between the holding units 206 and 213 having unstable movement paths and the peripheral processing units.
[0048]
The number of arms of the transfer device 23 is two, but may be three or more. In such a case, the mounting member 220 is attached to the holding portion 230 of the uppermost arm as shown in FIG. The reflector 221 may be attached to the attachment member 220, and a shield plate 222 may be provided on the holding portion 231 of the arm other than the uppermost portion, and the light passage hole 223 may be formed in the shield plate 222.
[0049]
In the transfer device 23 having two or more arms, a light receiving sensor may be used instead of the reflector 220 and a light emitting sensor may be used instead of the light sensor 224 capable of transmitting and receiving light.
[0050]
In the transfer device 23 provided with two arms, the light receiving sensor 240 is attached to the lower surface of the tweezers 212 of the upper holding portion 213 and the light emitting sensor is mounted to the upper surface of the tweezers 205 of the lower holding portion 206 as shown in FIG. 241 may be attached. The light receiving sensor 240 and the light emitting sensor 241 are arranged at positions where the substrate G is not held in each of the holding units 213 and 206 when viewed from above. The light receiving sensor 240 and the light emitting sensor 241 are mounted at positions facing each other when both the holding unit 206 and the holding unit 213 are located at the normal home position H. The presence / absence of light reception by the light receiving sensor 240 is output to, for example, the controller 242, and the controller 242 detects the displacement of the holding units 206 and 213 based on the output. That is, when the light from the light emitting sensor 241 is not received by the light receiving sensor 240, the relative positions of the holding unit 206 and the holding unit 213 are shifted, and this is because at least one of the holding unit 206 and the holding unit 213 has a normal home position. It means that it is shifted from the position H. Therefore, the controller 242 can detect the position shift of the holding units 206 and 213 by recognizing the presence or absence of light reception by the light receiving sensor 240.
[0051]
Then, for example, each time the substrate transfer of the holding units 206 and 213 is completed and both the holding units 206 and 211 return to the home position H, linear light is emitted from the light emitting sensor 241 to the light receiving sensor 240. The controller 242 confirms whether or not the light is received by the light receiving sensor 240 each time, and detects the presence or absence of a positional shift of the holding units 206 and 213.
[0052]
In such a case, by confirming the relative positional relationship between the holding units 206 and 213, even if any of the holding units 206 and 213 is misaligned, the misalignment can be quickly detected. Therefore, it is possible to prevent the substrate G from being transported in a state where the holding unit 206 or 213 is displaced, and the substrate G not being transported to an accurate position, or the reproducibility of the transport destination being lost. In addition, it is possible to prevent the holding units 206 and 213, whose moving paths are shifted, from colliding with the surrounding members and damaging the surrounding members and the holding unit itself. In this case, an optical sensor capable of transmitting and receiving light may be used instead of the light emitting sensor 241 and a reflector may be used instead of the light receiving sensor 240. In addition, the positions of the light emitting sensor 241 and the light receiving sensor 240 may be exchanged with each other.
[0053]
When the tweezers 136 holds the substrate G, the length of the tweezers 136 is set so that the tip of the tweezers 136 projects from the substrate G when viewed from above, and the above-described reflector, projection / reception A sensor may be provided. As the position of the tweezers 136 shifts toward the tip of the tweezers 136, the shift width increases. Therefore, by disposing the reflector and the light emitting / receiving sensor at the tip of the tweezers 136, the displacement of the tweezers 136 can be accurately detected.
[0054]
As described above, an example of the embodiment of the present invention has been described. However, the present invention is not limited to this example, and can take various aspects. For example, in the present embodiment, the present invention is applied to the transfer device 23. However, the present invention is similar to the transfer device 23, in which the transfer devices 34 and 100 having articulated arms and the substrate transfer member of the cassette station 2 are provided. 11. The present invention can be applied to other transfer apparatuses such as the substrate transfer body 120 of the interface unit 5. Further, the substrate applied to the present invention is not limited to an LCD substrate, but may be another substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a photomask.
[0055]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to detect the displacement of the holding section of the transfer device at an early stage, so that inaccurate substrate transfer is suppressed, and furthermore, damage to the holding section and the like due to contact between the holding section and peripheral members is prevented.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view schematically showing a configuration of a coating and developing system equipped with a transport device according to an embodiment.
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a configuration of first and second thermal processing unit blocks.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a configuration of third and fourth thermal processing unit blocks.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a configuration of fifth and sixth thermal processing unit blocks.
FIG. 5 is a plan view illustrating a configuration of a transport device.
FIG. 6 is a side view of the transfer device as viewed from the back.
FIG. 7 is an explanatory view of a longitudinal section showing a configuration of an arm of the transfer device.
FIG. 8 is a schematic diagram of a transport device showing a mounting position of a reflector and an optical sensor.
FIG. 9 is a plan view of the transfer device showing a state where the holding unit is directed to a transfer destination of the substrate.
FIG. 10 is a plan view of the transfer device illustrating a state where the holding unit is transferred to a transfer destination of the substrate.
FIG. 11 is a schematic diagram of a transport device when a light receiving sensor and a light emitting sensor are attached.
FIG. 12 is a plan view of a transfer device provided with two arms.
13 is a side view of the transfer device of FIG. 12 as viewed from the back.
FIG. 14 is a schematic diagram of a transport device when a reflector, a light passage hole, and an optical sensor are attached.
FIG. 15 is a schematic view of a transfer device provided with a plurality of arms as viewed from the side.
FIG. 16 is a schematic diagram of a transport device when a light emitting sensor and a light receiving sensor are provided in upper and lower holding units.
[Explanation of symbols]
1 Coating and developing system
23 Transport device
131 arm
132 Holder
162 middle case
170 reflector
171 Optical sensor
G board

Claims

A transfer device for transferring a substrate,
An articulated arm for supporting a holding portion for holding the substrate, moving the holding portion forward and backward from the home position and transporting the substrate;
The holder is provided with a light reflector,
An apparatus for transporting a substrate, characterized in that an optical sensor capable of transmitting and receiving light is provided at a position facing the reflector of the holding unit at a normal home position.

The arm is provided in plurality,
The holding portions of the plurality of arms are installed at different heights and have the same home position when viewed from a plane.
The reflector is attached to a holder of the uppermost arm,
The optical sensor is arranged so as to project light upward from a position below the holding portion of the lowermost arm,
A light passage hole through which light from the optical sensor passes is formed in a holding portion of the arm other than the uppermost arm,
The light passage hole is formed such that light from the optical sensor passes through the light passage hole when the holding part of the arm other than the uppermost arm is at a normal home position. The substrate transfer device according to claim 1, wherein:

The substrate transport device according to claim 1, wherein the reflector is provided at a position where the reflector does not overlap with the substrate when the substrate is held by the holding unit.

The holding unit includes a supporting unit supported by the arm, and a tip mounted on the supporting unit and holding a substrate.
4. The apparatus according to claim 3, wherein the reflector is provided at the tip.

A transfer device for transferring a substrate,
And two articulated arms for supporting a holding portion for holding the substrate, moving the holding portion forward and backward from the home position and transporting the substrate.
Each holding portion of the two arms has a different installed height, and has the same home position when viewed from a plane,
A light reflector is provided on a surface of one of the holding portions on the other holding portion side,
An optical sensor capable of transmitting and receiving light is provided in the other holding unit,
The substrate transfer device, wherein the optical sensor is provided at a position facing a reflector of the one holding unit at a normal home position.

The substrate transport apparatus according to claim 5, wherein the reflector and the optical sensor are provided at a position where the reflector and the optical sensor do not overlap with the substrate when the substrate is held by the holder.

The holding unit includes a supporting unit supported by the arm, and a tip mounted on the supporting unit and holding a substrate.
7. The substrate transfer apparatus according to claim 6, wherein the reflector and the optical sensor are provided at the tip.

6. A light receiving sensor capable of receiving light is used in place of the reflector, and a light emitting sensor capable of projecting light is used in place of the light sensor. , 6 or 7.

A substrate having two articulated arms for supporting a holding part for holding a substrate, moving the holding part back and forth from a home position and transporting the substrate, wherein the two holding parts of the two arms have the same home position In the transfer device of
A method for detecting a displacement of the transfer device, comprising detecting a displacement of the holding unit from a normal home position by detecting a relative displacement of the two holding units at the home position.