JP2004240335A - Method for forming spacer, and color filter - Google Patents

Method for forming spacer, and color filter Download PDF

Info

Publication number
JP2004240335A
JP2004240335A JP2003031651A JP2003031651A JP2004240335A JP 2004240335 A JP2004240335 A JP 2004240335A JP 2003031651 A JP2003031651 A JP 2003031651A JP 2003031651 A JP2003031651 A JP 2003031651A JP 2004240335 A JP2004240335 A JP 2004240335A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
spacer
meth
hydroxyl group
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003031651A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Takeda
明彦 竹田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2003031651A priority Critical patent/JP2004240335A/en
Publication of JP2004240335A publication Critical patent/JP2004240335A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a spacer for efficiently forming a spacer on a black matrix disposed on a transparent substrate, and to provide a color filter having high contrast and no decrease in the chromaticity of red, blue and green and having the spacer formed by the above method on a black matrix disposed on a transparent substrate in the gap between color images. <P>SOLUTION: The spacer is formed on a black matrix disposed on a transparent substrate by using a resin composition for the spacer containing at least one kind selected from (1) a resin having a hydroxy group, (2) a resin having an allyl group and a hydroxy group, and (3) a mixture resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxy group. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを効率よく形成するスペーサーの形成方法、及び該スペーサーの形成方法によりカラー画像の間隙の透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成してなる赤、青、緑の色度低下がなく、コントラストの高いカラーフィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、液晶表示装置は、高画質画像を与えるため広く利用されている。一般に、液晶表示装置は一対の基板の間に所定の配向を施された液晶層が配置されており、基板間隔、即ち、液晶層の厚みを均一に維持することが画質の良し悪しを決定するため、この液晶層厚みを一定にする目的でスペーサーが用いられている。
【０００３】
前記スペーサーとしては、従来シリカ等の無機粒子が用いられていたが、これら無機粒子は画像上に存在すると画質を損なってしまうという問題があり、近年、スペーサー用樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィーでスペーサーを形成することが行われている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、従来においては、スペーサー用樹脂組成物をパターニング、現像、ベークして作成したスペーサードッドの圧縮強度が弱く、このため、パネル化時に塑性変形が大きくなり、液晶層の厚みが目標値より小さくなったり、液晶層の厚みを均一に維持することができず、画像ムラが生じてしまうという問題がある。また、スペーサー用樹脂組成物を現像時に残渣が生じ、これを除去しないと高精度な液晶表示素子が得られないという問題がある。
【０００５】
一方、カラーフィルタの形成方法としては、（１）印刷法、（２）インクジエット法、（３）ミセル電着法、及び（４）顔料分散法等が知られている。しかし、前記（１）の印刷法は、高い精度での重ね合わせが困難であるという問題がある。前記（２）のインクジエット法は、着色層の重ね合わせ部における高さの安定な制御が難しいという問題がある。前記（３）のミセル電着法は、電着パターンを形成する工程が必要であると共に、顔料が帯電したミセル分散溶液の安定性が悪く、カラーフィルタを安定に製造することが困難であるという問題がある。
【０００６】
現在、最も一般的な方法は、前記（４）の顔料分散法である。この顔料分散法は着色した感光性樹脂液の塗布と露光、現像の繰り返しにより行われるが、この方法で通常作製される着色層の厚みでは、その重ね合わせによっても必要とするスペーサーの高さが得られない。また、着色層の塗布膜厚を厚くすると、基板の中心部と周辺部の面内での厚みのムラが生じやすくなる。また、２色目以降の塗布は、すでに先に形成した色のパターン上に塗布するものであるため、厚みのムラが発生しやすく、厚みの均一な制御が困難である。
【０００７】
これらの問題点を改善する目的として、特許文献２及び３では、樹脂と、遮光剤とを含有する樹脂マトリックス上に３原色からなる着色層を積層する方法、またこれに加えてレジスト層を積層する方法等が提案されているが、いずれも４層以上の積層が必要となり、スペーサーとして精密な高さの制御が難しいという問題がある。更に、前記スペーサーは、カラーフィルタにおいてブラックマトリックス等の非表示部以外の表示領域にも多数存在してしまうので、スペーサーによって光が散乱されたり、輝度が低くなり表示品位が損なわれてしまうという問題が生じる。
最近、ＬＣＤにおいては、より高画質が求められる大画面モニター、テレビなどにも用途が拡大されてきていることから、表示品位の低下は重大な問題となっている。
【０００８】
【特許文献１】
特開昭６２−９０６２２号公報
【特許文献２】
特開平９ー４３４２５号公報
【特許文献３】
特開平１０−１７７１０９号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の課題を解決することを目的とする。即ち、本発明は、現像時における残渣除去性に優れ、かつ圧縮強度が強く、パネル化時に塑性変形が生じにくいスペーサーをブラックマトリックス上に効率よく形成するスペーサーの形成方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、前記スペーサーの形成方法によりカラー画像の間隙の透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成してなる赤、青、緑の色度低下がなく、コントラストの高いカラーフィルタを提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 少なくとも水酸基を有する樹脂を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成することを特徴とするスペーサーの形成方法である。
＜２＞ 少なくともアリル基と水酸基とを有する樹脂を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成することを特徴とするスペーサーの形成方法である。
＜３＞ アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成することを特徴とするスペーサーの形成方法である。
＜４＞ 水酸基を有する樹脂、アリル基と水酸基とを有する樹脂、及びアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂のいずれかが、水酸基含有（メタ）アクリレートをモノマーユニットとして少なくとも有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜５＞ 水酸基を有する樹脂、アリル基と水酸基とを有する樹脂、及びアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂のいずれかが、水酸基含有（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸及び水酸基非含有（メタ）アクリレートから選ばれるモノマーユニットを含む前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜６＞ 前記水酸基非含有（メタ）アクリレートが、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種である前記＜５＞に記載のスペーサーの形成方法である。
＜７＞ 水酸基を含有する樹脂、アリル基と水酸基とを有する樹脂、又はアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂の水酸基を有する樹脂における水酸基含有モノマーの含有率が、１０モル％以上である前記＜４＞から＜６＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜８＞ アリル基と水酸基とを有する樹脂、又はアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂が、アリル基含有（メタ）アクリレートをモノマーユニットとして少なくとも有する前記＜２＞から＜７＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜９＞ アリル基と水酸基とを有する樹脂、又はアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂が、アリル基含有（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸及びアリル基非含有（メタ）アクリレートから選択されるモノマーユニットを含む前記＜２＞から＜８＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜１０＞ 前記アリル基非含有（メタ）アクリレートが、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種である前記＜９＞に記載のスペーサーの形成方法である。
＜１１＞ アリル基と水酸基とを有する樹脂、又はアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂のアリル基を有する樹脂におけるアリル基含有モノマーの含有率が、１０モル％以上である前記＜２＞から＜１０＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜１２＞ 水酸基を有する樹脂の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１５〜７０質量％である前記＜１＞及び＜４＞から＜１１＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜１３＞ アリル基と水酸基とを有する樹脂の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１５〜８０質量％である前記＜２＞及び＜４＞から＜１１＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜１４＞ アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１５〜７０質量％である前記＜３＞及び＜４＞から＜１１＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜１５＞ スペーサー用樹脂組成物が体質顔料を含有する前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜１６＞ 体質顔料の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の５〜５０質量％である前記＜１５＞に記載のスペーサーの形成方法である。
＜１７＞ スペーサー用樹脂組成物が、仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とを、この順に有してなる感光性転写材料の感光性樹脂層に用いられる前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法である。
＜１８＞ 赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の各画素からなるカラー画像の間隙の透明基板上に設けられたブラックマトリックス上に、前記＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載のスペーサーの形成方法によりスペーサーを形成してなることを特徴とするカラーフィルタである。
【００１１】
本発明のスペーサーの形成方法は、（１）少なくとも水酸基を有する樹脂、（２）少なくともアリル基と水酸基とを有する樹脂、又は（３）アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂、を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成する。該スペーサーの形成方法で形成されたスペーサーは、現像時における残渣除去性に優れ、かつ圧縮強度が強く、パネル化時に塑性変形が生じにくいので、該スペーサーをカラー画像の間隙の透明基板上に設けられたブラックマトリックス上に形成すると、赤、青、緑の色度低下がなく、コントラストの高いカラーフィルタが得られる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
（スペーサーの形成方法）
本発明のスペーサーの形成方法は、第１の態様として、少なくとも水酸基を有する樹脂を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成する。
本発明のスペーサーの形成方法は、第２の態様として、少なくともアリル基と水酸基とを有する樹脂を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成する。
本発明のスペーサーの形成方法は、第３の態様として、アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成する。
なお、本発明においては、前記スペーサーは、ブラックマトリックス上に形成されるが、非表示部であればブラックマトリックス以外にも、ＩＴＯ上、などに形成することができる。
【００１３】
−透明基板−
前記透明基板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができ、例えば、ソーダガラス、ホウ珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等の無機ガラス、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエステル等の樹脂フィルム、などが挙げられ、これらのなかでも、ソーダガラス、無アルカリガラスが好ましい。
【００１４】
−ブラックマトリックス（ＢＭ）−
前記ブラックマトリックスとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、カラーフィルタのカラー画像の間隙に設けられるブラックマトリックス、などが好適である。
【００１５】
前記ブラックマトリックスとしては、例えば、（１）金属クロム、酸化クロム、窒化クロム、ニッケル、酸化ニッケル等の金属ＢＭ膜、（２）樹脂中にカーボンブラック、マンガン、チタン、黒色顔料などを分散させた樹脂ＢＭ層、などを前記透明基板上に形成する。これらは単層で用いても２層以上の多層としてもよい。
前記（１）の金属ＢＭ膜の基板への製膜方法は、真空蒸着法やスパッタリング法、ＣＶＤ法を採用することができ、膜厚は所望される遮光度などにより決定され特に制限はなく、目的に応じて適宜選定されるが、０．０５〜０．３μｍが好ましく、０．０７〜０．２μｍがより好ましい。
【００１６】
前記（２）の樹脂ＢＭ層において、分散媒となる樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、などが挙げられる。
前記樹脂ＢＭの透明基板への塗布方法としては、例えば、ディップ法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、ダイコート法、ダイコートスピンコート法、等が挙げられる。
前記樹脂ＢＭ層の厚さは、所望される遮光度などにより決定され特に制限はなく、目的に応じて適宜選定されるが、０．５〜５μｍが好ましく、０．７〜３μｍがより好ましい。
【００１７】
前記ブラックマトリックス（ＢＭ）は、前記透明基板上に設けられた金属ＢＭ膜又は樹脂ＢＭ層にフォトレジスト被膜を形成し、これに所望のパターンのフォトマスクを介して露光し、エッチングすることにより得られる。
【００１８】
〔スペーサー用樹脂組成物〕
前記スペーサー用樹脂組成物は、（１）少なくとも水酸基を有する樹脂、（２）少なくともアリル基と水酸基とを有する樹脂、又は（３）アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂、を含有し、更に、重合性モノマー、重合開始剤、体質性顔料、着色剤を含有し、必要に応じて適宜選択したその他の成分を含有してなる。
【００１９】
前記スペーサー用樹脂組成物としては、１５０℃以下で軟化性乃至粘着性を示す熱可塑性樹脂組成物であることが好ましく、露光すると露光部のみが硬化してアルカリ不溶性化し、高いレジスト性を有する光重合性樹脂組成物であることがより好ましい。
【００２０】
−水酸基を有する樹脂−
前記水酸基を有する樹脂としては、水酸基を含有している限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、有機溶剤に溶解可能であれば、親油性樹脂に水酸基を導入したものであってもよいし、水酸基を含有する親水性樹脂を変性して親油性にしたものであってもよい。前者の例としては、水酸基を含有する親油性のグラフトポリマーなどが挙げられ、後者の例としては、有機溶剤に溶解可能に変性したポリビニルアルコールなどが挙げられる。
【００２１】
前記水酸基を有する樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよく、これらの中でも、水酸基含有（メタ）アクリレートをモノマーユニットとして少なくとも有してなる樹脂などが好ましく、該水酸基含有（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸とをモノマーユニットとして少なくとも有してなる樹脂がより好ましく、該水酸基含有（メタ）アクリレートと該（メタ）アクリル酸とこれらと共重合可能な他の単量体とを有してなる三元共重合樹脂が特に好ましい。
【００２２】
前記水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアリール（メタ）アクリレートなどが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２３】
前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートにおけるアルキル基としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができるが、置換基を有していてもよい、炭素数が２〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基及び環状アルキル基から選択される少なくとも１種であるのが好ましく、具体的には、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
前記置換基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、フェニル基等のアリール基、アルコキシル基、ハロゲン基、などが好適に挙げられる。
【００２４】
前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの中でも、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシｎ−ブチル（メタ）アクリレートなどが特に好ましい。
【００２５】
前記水酸基非含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリレート、などが挙げられ、これらは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２６】
前記他の単量体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上記アリル基を有する樹脂と同様に、例えば、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。
【００２７】
前記水酸基を有する樹脂の好ましい具体例としては、▲１▼成分：（メタ）アクリル酸と、▲２▼成分：２−ヒドロキシエチルメタアクリレートとの二元共重合樹脂（好適な共重合組成比は▲１▼成分：▲２▼成分＝２８：７２（モル比））、▲１▼成分：（メタ）アクリル酸と、▲２▼成分：２−ヒドロキシエチルメタアクリレートと、▲３▼成分：ベンジル（メタ）アクリレートとの三元共重合樹脂（好適な共重合組成比は▲１▼成分：▲２▼成分：▲３▼成分＝１７：１２：７１（モル比））などが挙げられる。
【００２８】
前記水酸基を有する樹脂における水酸基含有モノマーの含有率は、１０モル％以上が好ましく、１０〜１００モル％がより好ましく、１５〜９０モル％が更に好ましく、２０〜８０モル％が特に好ましい。
【００２９】
前記水酸基を有する樹脂の質量平均分子量としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定値のポリスチレン換算値で５，０００〜１００，０００が好ましく、８，０００〜５０，０００がより好ましい。
前記質量平均分子量が、５，０００〜１００，０００であると膜強度が良好である。
【００３０】
前記水酸基を有する樹脂の含有量は、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１５〜７０質量％が好ましく、１８〜６０質量％がより好ましく、２５〜５０質量％が更に好ましい。
【００３１】
−アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂−
前記アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂は、前記水酸基を有する樹脂とアリル基を有する樹脂とを混合したものであり、バインダーとして機能し得るものである。
前記水酸基を有する樹脂としては、上記水酸基を有する樹脂と同じものを用いることができる。
前記アリル基を有する樹脂は、前記スペーサー用樹脂組成物においてバインダーとして機能し得るものであり、該アリル基を有する樹脂としては、アリル基を有している限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００３２】
前記アリル基を有する樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよく、これらの中でも、アリル基含有（メタ）アクリレートをモノマーユニットとして少なくとも有してなる樹脂などが好ましく、該アリル基含有（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸及びアリル基非含有（メタ）アクリレートから選ばれるモノマーユニットを含む樹脂がより好ましい。
【００３３】
前記アリル基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、アリル（メタ）アクリレート、２−メチルアリルアクリレート、クロチルアクリレート、クロルアリルアクリレート、フェニルアリルアクリレート、シアノアリルアクリレートなどが挙げられ、これらは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でもアリル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００３４】
前記アリル基非含有（メタ）アクリレートとしては、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリレートなどが挙げられ、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３５】
前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの中でも、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシｎ−ブチル（メタ）アクリレートなどが特に好ましい。
【００３６】
前記他の単量体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルキル（メタ）アクリレート、アリ−ル（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。
【００３７】
前記アルキル（メタ）アクリレート及び前記アリール（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、トリルアクリレート、ナフチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが好適に挙げられる。
【００３８】
前記ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマーなどが好適に挙げられる。
【００３９】
前記アリル基を有する樹脂の好ましい具体例としては、▲１▼成分：（メタ）アクリル酸と、▲２▼成分：アリル（メタ）アクリレートとの二元共重合樹脂（好適な共重合組成比は▲１▼成分：▲２▼成分＝２〜８０：２０〜９８（モル比））、▲１▼成分：（メタ）アクリル酸と、▲２▼成分：アリル（メタ）アクリレートと、▲３▼成分：ベンジル（メタ）アクリレートとの三元共重合樹脂（好適な共重合組成比は▲１▼成分：▲２▼成分：▲３▼成分＝１０〜４０：２０〜８０：１０〜７０（モル比））などが挙げられる。
【００４０】
前記アリル基を有する樹脂におけるアリル基含有モノマーの含有率は、１０モル％以上が好ましく、１０〜１００モル％がより好ましく、１５〜９０モル％が更に好ましく、２０〜８０モル％が特に好ましい。
【００４１】
前記アリル基を有する樹脂の質量平均分子量としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定値のポリスチレン換算値で５，０００〜１００，０００が好ましく、８，０００〜５０，０００がより好ましい。
前記質量平均分子量が、５，０００〜１００，０００であると膜強度が良好である。
【００４２】
前記アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂における混合質量比（アリル基を有する樹脂：水酸基を有する樹脂）＝１：０．１〜１０が好ましく、１：１〜５がより好ましい。
【００４３】
前記アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂の含有量は、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１５〜７０質量％が好ましく、１８〜６０質量％がより好ましく、２５〜５０質量％が更に好ましい。
【００４４】
−アリル基と水酸基とを有する樹脂−
前記アリル基と水酸基とを有する樹脂としては、樹脂中にアリル基と水酸基を有していれば特に制限はなく、例えば、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート／メタクリル酸／アリルメタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体などが挙げられる。
このようなアリル基と水酸基とを有する樹脂は、例えば、前記アリル基含有（メタ）アクリレートと、前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと、更に必要に応じてその他のモノマーユニットを重合させることにより得ることができる。
【００４５】
前記アリル基と水酸基とを有する樹脂におけるアリル基含有モノマーの含有率は１５モル％以上が好ましく、２５〜５０モル％がより好ましい。一方、水酸基含有モノマーの含有率は、５モル％以上が好ましく、１０〜２０モル％がより好ましい。
【００４６】
前記アリル基と水酸基とを有する樹脂の含有量は、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１５〜８０質量％が好ましく、１８〜７０質量％がより好ましく、２５〜６０質量％が更に好ましい。
【００４７】
−−重合性モノマー−−
前記重合性モノマーとしては、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有すれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エステル化合物、アミド化合物、その他の化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４８】
前記エステル化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリル酸エステル、多官能（メタ）アクリル酸エステル、イタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイン酸エステル、その他のエステル化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよいが、これらの中でも、単官能（メタ）アクリル酸エステル、多官能（メタ）アクリル酸エステル等が好ましい。
【００４９】
前記単官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチルモノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００５０】
前記多官能（メタ）アクリル酸エステルしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００５１】
前記多官能（メタ）アクリル酸エステルの他の例としては、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報、特開昭５１−３７１９３号公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報、及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類、特開昭６０−２５８５３９号公報に記載の（メタ）アクリル酸エステルやウレタン（メタ）アクリレートやビニルエステル、などが挙げられる。
【００５２】
前記その他のエステル化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、日本接着協会誌Ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．７，第３００〜３０８頁に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマー、などが挙げられる。
【００５３】
前記アミド化合物としては、例えば、不飽和カルポン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド（モノマー）などが挙げられ、具体的には、メチレンビス−（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、などが挙げられ、また、特開昭６０−２５８５３９号公報に記載の（メタ）アクリル酸アミド、などが挙げられる。
【００５４】
前記その他の化合物としては、例えば、特開昭６０−２５８５３９号公報に記載のアリル化合物、などが挙げられる。
【００５５】
前記重合性モノマーの前記スペーサー用樹脂組成物における含有量としては、全固形分の１０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。
【００５６】
−−重合開始剤−−
前記重合開始剤としては、約３００〜５００ｎｍの波長領域に約５０以上の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種含有していることが好ましく、例えば、特開平２−４８６６４号公報、特開平１−１５２４４９号公報、及び特開平２−１５３３５３号公報に記載の芳香族ケトン類、ロフィン２量体、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類、ポリハロゲン類、ハロゲン化炭化水素誘導体、ケトン化合物、ケトオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、などが挙げられる。
【００５７】
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンと２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体との組合せ、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ’−ジ（エトキシカルボニルメチル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン〕、２，４−ビス−（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ’−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジンなどが好ましい。
【００５８】
前記重合開始剤の使用量としては、前記重合性モノマーの使用量に対し、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がより好ましい。
【００５９】
−−体質顔料−−
本発明のスペーサー用樹脂組成物は、体質顔料を含有していることが好ましい。
前記体質顔料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、シリカ、酸化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸バリウム、アルミナホワイト、炭酸カルシウム、ステアリン酸カルシウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよく、これらの中でも、無着色なものが好ましく、シリカ、酸化亜鉛などが特に好ましい。
【００６０】
前記シリカの具体例としては、Ｒ−９７２、＃２００（日本アエロジル社製）、シーホスターＫＥ（日本触媒化学工業（株）製）、スノーテックス（商品名：メタノールシリカゾル、ＭＡ−ＳＴ−Ｍ、ＩＰＡ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ、ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）等の市販品が好適に挙げられる。
前記酸化亜鉛の具体例としては、ＺｎＯ−１００、ＺｎＯ−２００（住友セメント（株）製）等の市販品が好適に挙げられる。
これらの中でも、スノーテックスに代表されるコロイダルシリカが特に好ましい。
【００６１】
前記体質顔料は、適宜選択したシランカップリング剤又はチタネートカップリング剤等により表面処理等を行うことにより、分散性を向上させてもよい。
【００６２】
前記体質顔料の粒径としては、０．０１〜０．５μｍが好ましく、０．０２〜０．４μｍがより好ましい。
前記粒径が、０．０１μｍ未満であると分散安定性が悪くなり、０．５μｍを超えると該感光性樹脂層の表面における凹凸が大きくなるため好ましくない。
【００６３】
前記体質顔料の添加量としては、前記スペーサー用樹脂組成物における全固形分の５〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましく、１５〜３５質量％が特に好ましい。
前記体質顔料の添加量が、５質量％未満であると、十分な膜強度が得られず、転写時における厚み低下や現像時のブラシ傷を防止することができないことがあり、一方、５０質量％を超えると、転写時に気泡が入り易くなり、該感光性樹脂層の透明性が低下することがあり好ましくない。
【００６４】
前記体質顔料は、適宜選択した分散剤に均一に分散した状態で使用してもよい。
前記分散剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ソルスパース３０００，９０００，１７０００，２００００，２７０００（ゼネカ（株）製）、アジスパーＰＢ−７１１，ＰＮ−４１１，ＰＡ−１１１（味の素（株）製）、ＥＦＫＡ−７６６，５２４４，７１，６５，６４，６３，４４（エフカケミカルズ社製）等が挙げられる。これらの中でも、ソルスパース２００００が好ましい。
前記分散剤の使用量としては、分散性の良好な分散溶液を得る観点からは、前記体質顔料１００質量部に対し、０．５〜１００質量部が好ましい。
【００６５】
前記分散剤により前記体質顔料を分散してなる分散溶液中には、必要に応じて界面活性剤を添加することにより、分散安定性を向上させることができる。
前記界面活性剤としては、特に制限はなく、各種の界面活性剤が挙げられ、例えば、アルキルナフタレンスルホン酸塩、リン酸エステル塩等に代表されるアニオン系界面活性剤、アミン塩等に代表されるカチオン系界面活性剤、アミノカルボン酸、ベタイン型等に代表される両性界面活性剤などが挙げられる。
【００６６】
−−着色剤−−
前記スペーサー用樹脂組成物には、目的に応じて適宜選択した着色剤を含有していてもよい。
前記着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、有機顔料、無機顔料、染料などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよく、これらの中でも、後述の現像処理や熱処理により消色するものも好ましい。
【００６７】
前記着色剤としては、例えば、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）、カーボン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラウン２６、ピグメント・ブラック７、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２４０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２０９、モノライト・イエローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１２）、パーマネント・イエローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７）、パーマネント・イエローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３）、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１２５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１４７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１４８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ５１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ５５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ５９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ６１、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット３０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット３７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット４０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット５０、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯＨ、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯＨ−Ｍ、マラカイトグリーン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、カーボンブラック、などが挙げられる。
【００６８】
−−その他の成分−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、重合禁止剤、紫外線吸収剤などの各種添加剤などが挙げられる。
前記重合禁止剤としては、例えば、フェノチアジン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等のハイドロキノン類などが挙げられる。
前記紫外線吸収剤としては、例えば、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられ、具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３’−ジ−フェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２’，６，６’−テトラメトル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２’，６，６’−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２’，６，６’−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン、などが挙げられる。
【００６９】
−感光性転写材料−
前記感光性転写材料としては、仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とを、この順に有してなるものが好ましく、前記感光性転写材料における感光性樹脂層がスペーサー用樹脂組成物を用いることが好ましい。
【００７０】
−−感光性樹脂層−−
前記感光性樹脂層は、本発明のスペーサー用樹脂組成物から形成され、その厚みは、０．５〜１０μｍが好ましく、１〜６μｍがより好ましい。
前記感光性樹脂層の厚みが、０．５μｍ未満であると塗布時にピンホールが発生し易くなり、製造適性上好ましくなく、１０μｍを超えると現像時に未露光部を除去するのに時間を要し、好ましくない。
【００７１】
−−中間層−−
前記中間層は、前記感光性樹脂層上に設けられ、前記感光性転写材料がアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層を有する場合には該感光性樹脂層と該アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層との間に設けられる。該感光性樹脂層と該アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層との形成においては有機溶剤を用いるため、該中間層がその間に位置すると、両層が互いに混ざり合うのを防止することができる。
【００７２】
前記中間層としては、水又はアルカリ水溶液に分散乃至溶解するものが好ましい。
前記中間層の材料としては、公知のものを使用することができ、例えば、特開昭４６−２１２１号公報及び特公昭５６−４０８２４号公報に記載のポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド類、水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、などが挙げられる。
これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも親水性高分子を使用するのが好ましく、該親水性高分子の中でも、少なくともポリビニルアルコールを使用するのが好ましく、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの併用が特に好ましい。
【００７３】
前記ポリビニルアルコールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、その鹸化率は８０％以上が好ましい。
前記ポリビニルピロリドンを使用する場合、その含有量としては、該中間層の固形分に対し、１〜７５体積％が好ましく、１〜６０体積％がより好ましく、１０〜５０体積％が特に好ましい。
前記含有量が、１体積％未満であると、前記感光性樹脂層との十分な密着性が得られないことがあり、一方、７５体積％を超えると、酸素遮断能が低下することがあり、好ましくない。
【００７４】
前記中間層としては、酸素透過率が小さいことが好ましい。
前記中間層の酸素透過率が大きく酸素遮断能が低い場合には、前記感光性樹脂層に対する露光時における光量をアップする必要を生じたり、露光時間を長くする必要が生ずることがあり、解像度も低下してしまうことがある。
【００７５】
前記中間層の厚みとしては、０．１〜５μｍ程度が好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。
前記厚みが、０．１μｍ未満であると、酸素透過性が高過ぎてしまう場合があり、一方、５μｍを超えると、現像時や中間層除去時に長時間を要し、好ましくない。
【００７６】
−−アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層−−
前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層は、アルカリ現像を可能とし、また、転写時にはみ出した該アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層により被転写体が汚染されるのを防止可能とする観点からアルカリ可溶性である必要があり、前記感光性転写材料を被転写体上に転写させる際、該被転写体上に存在する凹凸に起因して発生する転写不良を効果的に防止するクッション材としての機能を有していることが好ましく、該感光性転写材料を前記被転写体上に加熱密着させた際に該被転写体上に存在する凹凸に応じて変形可能であるのがより好ましい。
【００７７】
前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、実質的な軟化点は８０℃以下が好ましく、該実質的な軟化点が８０℃以下のものとしては、例えば、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステルや、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のケン化物、などが好適に挙げられ、また、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）に記載の軟化点が約８０℃以下である有機高分子の内、アルカリ可溶性のものも挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７８】
なお、前記実質的な軟化点が８０℃以下であるものとしては、更に、それ自体が軟化点８０℃以上の有機高分子物質であっても、該有機高分子物質中にこれと相溶性のある各種可塑剤を添加されて、実質的な軟化点が８０℃以下とされたものも挙げられる。
【００７９】
前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、などが挙げられる。
【００８０】
前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層には、前記熱可塑性樹脂のほかに、前記仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的に軟化点が８０℃を超えない範囲内で各種ポリマー、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を添加することができる。
【００８１】
前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層の厚みとしては、６〜１００μｍが好ましく、６〜５０μｍがより好ましい。
前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層の厚みが、６μｍ未満であると、厚みが１μｍ以上である被転写体上の凹凸を完全に吸収し、十分なクッション性を発現することが困難となり、一方、１００μｍを超えると、現像性、製造適性が悪くなることがあり、いずれも好ましくない。
【００８２】
−−仮支持体−−
前記仮支持体としては、転写の際に支障とならない程度の前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層に対する剥離性を有するものであることが好ましく、化学的・熱的に安定で可撓性を有するものが好ましい。
前記仮支持体の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリ四フッ化エチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記仮支持体の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。
【００８３】
前記仮支持体には、前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層との間での良好な剥離性を確保する観点からは、グロー放電等の表面処理を行わないことが好ましく、また、ゼラチン等の下塗層も設けないことが好ましい。
前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍ程度が好ましく、２０〜１５０μｍがより好ましい。
【００８４】
前記仮支持体としては、その少なくとも一方の表面に導電性層が設けられていることが好ましく、或いは該仮支持体自体が導電性を有することが好ましい。
前記仮支持体がこのように設計されていると、該仮支持体を備えた感光性転写材料を被転写体上に密着させた後で該仮支持体を剥離する際に、該仮支持体や該被転写体等が帯電して周囲のゴミ等を引き寄せることがなく、その結果、該仮支持体を剥離した後においても前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層上にゴミ等が付着せず、その後の露光過程で余分な未露光部が形成され、意図しないピンホールが形成されてしまうことを効果的に防止することができる。
前記仮支持体上の導電性層又は導電性を有する仮支持体の表面における表面電気抵抗としては、１０１３Ω以下が好ましい。
【００８５】
前記導電性を有する仮支持体にするには、該仮支持体中に導電性物質を含有させればよい。
前記導電性物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、金属酸化物、帯電防止剤、などが挙げられる。
【００８６】
前記金属酸化物としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化モリブデンなどが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記金属酸化物の形態としては、結晶微粒子、複合微粒子などが挙げられる。
【００８７】
前記帯電防止剤としては、例えば、エレクトロストリッパーＡ（花王（株）製）、エレノンＮｏ．１９（第一工業製薬（株）製）等のアルキル燐酸塩系アニオン界面活性剤、アモーゲンＫ（第一工業製薬（株）製）等のベタイン系両性界面活性剤、ニッサンノニオンＬ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル系非イオン界面活性剤、エマルゲン１０６、１２０、１４７、４２０、２２０、９０５、９１０（花王（株）製）やニッサンノニオンＥ（日本油脂（株）製）等のポリオキシエチレンアルキルエーテル系非イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル系、多価アルコール脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンアルキルアミン系等のその他の非イオン系界面活性剤が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８８】
前記導電性層としては、公知の導電性物質の中から適宜選択して使用することにより形成することができ、該導電性物質としては、例えば、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ３などが湿度環境に影響されず安定した導電効果が得られる点で好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８９】
前記金属酸化物又は前記導電性物質の体積抵抗値としては、１０７Ω・ｃｍ以下が好ましく、１０５Ω・ｃｍ以下がより好ましい。
前記金属酸化物又は前記導電性物質の粒子径としては、０．０１〜０．７μｍが好ましく、０．０２〜０．５μｍがより好ましい。
【００９０】
前記導電性層には、バインダーとして、例えば、ゼラチン、セルロースナイトレート、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル、塩化ビニリデン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、炭素数１〜４のアルキルアクリレート、ビニルピロリドン等を含むホモポリマー又はコポリマー、可溶性ポリエステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド、などを使用することができる。
【００９１】
−−その他の層−−
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて、適宜選択することができるが、例えば、カバーフィルムなどが好適に挙げられる。
【００９２】
前記カバーフィルムは、保管等の際に汚れや損傷等から前記感光性転写材料を保護する機能を有し、前記仮支持体と同一又は類似の材料で形成することができる。
前記カバーフィルムとしては、前記感光性樹脂層から容易に剥離することができるものであればよく、例えば、シリコーン紙、ポリオレフィンシート、ポリテトラフルオロエチレンシート等が好適に挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンシート乃至フィルム、ポリプロピレンシート乃至フィルムが好ましい。
前記カバーフィルムの厚みとしては、５〜１００μｍ程度が好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。
【００９３】
本発明の感光性転写材料は、前記仮支持体上に、前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し乾燥することによりアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層を設け、該熱可塑性樹脂層上に、該熱可塑性樹脂層を溶解させない溶剤を用いた中間層用塗布液を塗布し乾燥することにより中間層を設け、該中間層上に、該中間層を溶解させない溶剤を用いた感光性樹脂層用塗布液を塗布し乾燥することにより感光性樹脂層を設けることにより製造することができる。また、前記カバーフィルム上に前記感光性樹脂層を設ける一方、前記仮支持体上に前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と前記中間層とを設け、該中間層と該感光性樹脂層とが互いに接するように貼り合わせることにより、製造することができる。また、前記カバーフィルム上に前記感光性樹脂層と前記中間層とを設ける一方、前記仮支持体上に前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層を設け、該中間層と該アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層とが互いに接するように貼り合わせることにより製造することができる。
【００９４】
前記スペーサー用樹脂組成物を含む感光性転写材料は、スペーサーの形成、画像形成等に特に好適に用いることができる。この場合、前記被転写体としては、液晶素子における透明基板（ガラス基板）、透明導電膜（例えばＩＴＯ）付き基板、カラーフィルタ付き基板、などが挙げられる。
【００９５】
ここで、本発明の感光性転写材料を用いたスペーサーの形成方法の一例について説明する。
前記感光性転写材料を前記被転写体上に配置した後、該感光性転写材料における前記カバーフィルムを取り除き、前記感光性樹脂層を加圧加熱下で前記被転写体上に貼り合わせる。なお、この貼り合わせには、従来から公知のラミネーター、真空ラミネーター等が好適に使用することができ、より生産性を高めるためには、オートカットラミネーターも使用することができる。
【００９６】
次に、前記仮支持体を前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層から剥離させ、所定のマスク（ブラックマトリックス上にスペーサーが形成されるようにパターンが形成されているマスク）を用いて、前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層及び前記中間層を介して前記感光性樹脂層に対し露光を行い、現像する。なお、このとき、前記感光性樹脂層が前記着色剤をその呈色を失わない状態で含有している場合には、該感光性樹脂層による画像が形成される。
【００９７】
従来においては、前記仮支持体を前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層から剥離させる際に該仮支持体と前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層との間できれいに剥離できず、前記感光性樹脂層と前記中間層との間で剥離が生じてしまう不具合があったが、本発明によりこの不具合は効果的に解消される。この改良効果は、特に前記感光性樹脂層に含まれるスペーサー用樹脂組成物が前記体質顔料を含有する場合に大きい。
【００９８】
前記現像は、公知のアルカリ現像の方法に従って行うことができ、例えば、溶剤若しくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液（アルカリ現像液）等を用いて、露光後の前記被転写体を、前記現像液を収容させた現像浴中に浸漬させるか、該被転写体に対しスプレー等で噴霧し、更にその表面を回転ブラシ、湿潤スポンジ等で擦ったり超音波を照射させながら処理することにより行うことができる。
前記現像の温度としては、通常、室温付近〜４０℃程度が好ましい。また、前記現像の後に、水洗処理を行うことが好ましい。
【００９９】
なお、前記露光後において現像や不要部分の除去の際に、前記感光性樹脂層及び前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層の溶解に用いるアルカリ性水溶液としては、例えば、アルカリ性物質の希薄水溶液が好ましく、更に水混和性のある有機溶剤を少量添加したものも好ましい。
【０１００】
前記アルカリ性物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩類、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアルカリ金属ケイ酸塩類、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム等のアルカリ金属メタケイ酸塩類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類又は燐酸三ナトリウム、などが挙げられる。これらは１種単独で１使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０１】
前記アルカリ性水溶液としては、前記アルカリ性物質の濃度は０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【０１０２】
前記水混和性を有する有機溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。
前記水混和性を有する有機溶剤の添加量としては、０．１〜３０質量％が好ましい。
【０１０３】
なお、前記アルカリ性水溶液には、公知の種々の界面活性剤を添加することができ、該界面活性剤の添加量としては、０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１０４】
（スペーサー）
本発明においては、スペーサーをカラーフィルタ上へ形成する位置は、スペーサーによる赤、緑、青の画素の透過率低下防止、コントラスト低下の防止、遮光、光の散乱などによる表示品位悪化を防止するためＲ、Ｇ及びＢの表示領域以外、即ち、Ｒ、Ｇ及びＢの各画素からなるカラー画像の間隙の透明基板上に設けられたブラックマトリックス（ＢＭ）上に形成する。
【０１０５】
前記スペーサーを基板と平行な平面で切った場合の平面形状は、ＬＣＤパネルの設計等に応じて任意とすることができ特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができ、例えば、円形、楕円形、三角形、四角形、平行四辺形、十字形等が挙げられる。
【０１０６】
前記スペーサーを基板と垂直な平面で切った場合の断面形状は、ＬＣＤパネルの設計などに応じて任意とすることができ特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができ、例えば、半円形、円形、三角形、四角形、台形などが挙げられる。
【０１０７】
前記スペーサーの高さは、ＬＣＤパネルのセルギャップ設計値に応じて任意とすることができるが、通常３〜７μｍが好ましい。
前記スペーサーは、５０μｍφの円柱状圧子で、負荷速度０．１４５ｇｆ／秒、荷重２ｇｆ、保持時間５秒、測定温度１６０℃の条件で圧縮テストを行った際の塑性変形量は０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がより好ましく、０．１５μｍ以下が更に好ましい。前記塑性変形量が０．３μｍを超えると、スペーサードッドの圧縮強度が弱く、パネル化時に塑性変形が大きくなり、所望の液晶層の厚みが得られなくなる場合がある。
【０１０８】
（カラーフィルタ）
次に、カラーフィルタの製造方法の一例として、ブラックマトリックス（ＢＭ）層及び着色層に非感光性ポリイミド樹脂を採用した場合について説明する。
【０１０９】
まず、カーボンブラックをポリイミド前駆体と有機溶媒、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトンなどから選ばれる１種又は２種以上の溶媒に分散させたブラックペーストを基板に塗布し、該基板をオーブン又はホットプレートで好ましくは５０〜１８０℃、より好ましくは７０〜１６０℃に加熱して有機溶媒を乾燥させる。
【０１１０】
前記ブラックペーストを基板に塗布する方法としては、例えば、ディップ法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、ダイコート法、ダイコートスピンコート法、等を採用することができる。
【０１１１】
次いで、ポジ型フォトレジストを塗布し、基板をオーブン又はホットプレートで好ましくは４０〜１６０℃、更に好ましくは６０〜１４０℃に加熱するプリベークを行う。
前記ポジ型フォトレジストを基板に塗布する方法としては、例えば、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、ダイコート法、ダイコートスピンコート法などを採用することができる。
【０１１２】
この後、ＢＭパターンのマスクを介して、紫外線を照射して露光を行い、続いてアルカリ水溶液によりＢＭパターンを現像する現像工程を行う。前記現像工程でのアルカリ水溶液のアルカリ成分としては、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、エタノールアミン等の有機アルカリ、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリが挙げられる。前記アルカリ成分の濃度は０．５〜１０質量％が好ましく、１〜７質量％がより好ましい。
【０１１３】
前記現像工程の後、ＢＭ層上に残存するフォトレジストを有機溶剤で剥離し、更に基板をオーブン又はホットプレートで１８０〜３４０℃が好ましく、特に、２００〜３２０℃に加熱してＢＭ層を硬化させることが好ましい。こうして、基板上にＢＭ層が形成される。
【０１１４】
続いて、前記ＢＭ層を形成する工程と同様の工程を赤（Ｒ）着色層、緑（Ｇ）着色層及び青（Ｂ）着色層について繰り返すことにより、ＢＭ層の開口部にＲ着色層、Ｇ着色層及びＢ着色層を形成する。
【０１１５】
更に、Ｒ、Ｇ及びＢ着色層の上にオーバーコート層を設ける必要がある場合には、オーバーコート剤を塗布し、オーブン又はホットプレートにより基板を５０〜１８０℃に加熱してのセミキュア、更に１８０〜３４０℃に加熱しての硬化を行う。
前記オーバーコート剤を基板に塗布する方法としては、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、ダイコート法、ダイコートスピンコート法などが挙げられる。
【０１１６】
また、ＬＣＤパネルの共通電極となる透明電極層を必要としないＩｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ（ＩＰＳ）方式以外のＬＣＤパネルに採用されるカラーフィルタでは、ＬＣＤパネルの共通電極となる透明電極層を形成する。
前記透明電極層を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などを採用することができる。
【０１１７】
続いて、ダイコート法又はダイコートスピンコート法により放射線反応性樹脂組成物を塗布した後、基板を好ましくは４０〜１６０℃、より好ましくは５０〜１４０℃に加熱して溶媒を乾燥させる。この際、雰囲気を０．１〜５００Ｐａの減圧にして溶媒を乾燥させる真空乾燥を併用することが好ましい。
その後、フォトリソ加工法によりスペーサーを形成する。即ち、スペーサーのパターンマスクを介して紫外線を照射する露光を行い、続いて前記したアルカリ水溶液により現像を行う。
最後に、基板をオーブン又はホットプレートで好ましくは１８０〜２６０℃、より好ましくは２００〜２４０℃に加熱してスペーサーを硬化させ、カラーフィルタの製造が完了する。
【０１１８】
このようにして作製されたカラーフィルタ上に、必要に応じて、オーバーコート膜や透明導電膜が形成される。その後、カラーフィルタと対向基板との間に液晶が封入され、液晶表示装置が作製される。液晶の表示方式としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定されるが、例えば、ＴＮ、ＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマティック）、ＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）、ＧＨ（ゲスト・ホスト）、ＦＬＣ（強誘電性液晶）、ＡＦＬＣ（反強誘電性液晶）、ＰＤＬＣ（高分子分散型液晶）などの表示方式に適用可能である。
【０１１９】
前記液晶表示素子の基本的な構成態様としては、（１）薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」という。）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、カラーフィルタ及び対向電極（導電層）を備えるカラーフィルタ側基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの、（２）カラーフィルタが前記駆動側基板に直接形成されたカラーフィルタ一体型駆動基板と、対向電極（導電層）を備える対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの等が挙げられる。
【０１２０】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示し本発明について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１２１】
（実施例１）
ポリエチレンテレフタレートフィルム製の仮支持体（厚み１００μｍ）上に、下記組成の熱可塑性樹脂層用塗布液Ｈ１を塗布し乾燥させることにより、厚みが２０μｍである熱可塑性樹脂層を形成した。

Figure 2004240335
【０１２２】
次に、前記熱可塑性樹脂層上に、下記組成の中間層用塗布液Ｂ１を塗布し乾燥させることにより、厚みが１．６μｍである中間層を形成した。
Figure 2004240335
【０１２３】
更に、下記組成の感光性樹脂層用塗布液を塗布し乾燥させることにより、厚みが５．２μｍである感光性樹脂層を形成した。この感光性樹脂層上に、ポリプロピレン製のカバーフィルム（厚み１２μｍ）を圧着貼付することによって、感光性転写材料Ｔ１を作製した。
【０１２４】
Figure 2004240335
【０１２５】
所定サイズのガラス基板上に厚み０．１μｍのクロム金属をスパッタリングで作成し、フォトレジストを用いてエッチングを行い所定サイズ、形状の格子状のブラックマトリックスを得た。その後、特開平３−８９３２０号公報を参考にして、ガラス基板の表面にゲート電極、画素電極、ソース電極、絶縁膜、ドレイン電極及びパッシベーション層等の構成を備えた下側基板を作製した。該下側基板上に、特開平１１−６４６２１号公報に記載の転写型カラーフィルタを用いて赤、緑、青色の所定サイズ、形状のパターンを作成した。その上にスピンコーターを用いてアクリル樹脂系の保護層を形成し平坦化を施し、更にその上に透明電極としてＩＴＯを形成した。
【０１２６】
次に、前記感光性転写材料Ｔ１のカバーフィルムを剥離し、感光性樹脂層面を前記基板上に、ラミネーター（装置名：ＶＰ−ＩＩ、大成ラミネーター（株）製）を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、１３０℃の加圧加熱条件下、搬送速度１ｍ／分で貼り合わせた。その後、仮支持体を熱可塑性樹脂層から剥離し、仮支持体を除去した。
ブラックマトリックス（ＢＭ）上にスペーサーが形成可能なフォトマスクを介して超高圧水銀灯で４０ｍＪ／ｃｍ２のプロキシミティー露光した後、１質量％トリエタノールアミン水溶液を用いてアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この際、感光性樹脂層は実質現像されていなかった。
次いで、１質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて感光性樹脂層を現像し、ブラシ工程を経て不要部を除去した後、２３０℃で１２０分間ベークして、ブラックマトリックス（ＢＭ）上に１辺１６μｍ、平均高さ約４．５μｍの柱状の透明なスペーサーを形成してなる実施例１のカラーフィルタ付き基板を作製した。
【０１２７】
（実施例２）
実施例１において、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート／メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体（（モル比）＝１７／１２／７１、質量平均分子量４万））３．０質量部を、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート／メタクリル酸／アリルメタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体（（モル比）＝１７／１２／４８／２３、質量平均分子量４万））３．０質量部に変えた以外は、実施例１と同様にして感光性転写材料Ｔ２を作製した。この感光性転写材料Ｔ２を用いて実施例１と同様にして実施例２のカラーフィルタ付き基板を作製した。
【０１２８】
（実施例３）
実施例１において、メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（（モル比）＝２０／８０、質量平均分子量４万）３．０質量部を、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート／メタクリル酸／アリルメタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体（（モル比）＝１７／１２／４８／２３、質量平均分子量４万）１．５質量部とメタクリル酸／アリルメタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体（（モル比）＝２８／４８／２４、質量平均分子量４万）１．５質量部に変えた以外は、実施例１と同様にして感光性転写材料Ｔ３を作製した。この感光性転写材料Ｔ３を用いて実施例１と同様にして実施例３のカラーフィルタ付き基板を作製した。
【０１２９】
（比較例１）
実施例１において、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート／メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体（（モル比）＝１７／１２／７１、質量平均分子量４万））３．０質量部の代わりに、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体（（モル比）＝７６／２４、質量平均分子量４万）３．０質量部を用いた以外は、実施例１と同様にして感光性転写材料Ｔ４を作製した。この感光性転写材料Ｔ４を用いて実施例１と同様にして比較例１のカラーフィルタ付き基板を作製した。
【０１３０】
（比較例２）
比較例１において、スペーサーをブラックマトリックス（ＢＭ）上だけではなく、カラー画像を含む総ての表面にランダムに形成した以外は、比較例１と同様にして比較例２のカラーフィルタ付き基板を作製した。
【０１３１】
得られた実施例１〜３及び比較例１〜２のカラーフィルタ付き基板について、下記方法により塑性変形量、残渣除去性、透過率及びコントラストを測定した。結果を表１に示す。
【０１３２】
＜塑性変形量の測定方法＞
スペーサー画像パターンについて、島津製作所製ダイナミック超微小硬度計ＤＵＨ−Ｗ２０１を用いて、５０μｍφの円柱状圧子で、負荷速度０．１４５ｇｆ／秒、荷重２ｇｆ、保持時間５秒、測定温度１６０℃の条件で圧縮テストを行った。
【０１３３】
＜残渣除去性の測定方法＞
得られた１６μｍスペーサードットパターンの周囲を顕微鏡にて１００倍で観察し、下記基準により残渣除去性を評価した。
〔評価基準〕
５：良好
４：比較的良好
３：若干劣る
２以下：使用不可
【０１３４】
＜透過率＞
カラーフィルタ付き基板の透過率は、ＯＳＰ−ＳＰ１００（オリンパス（株）製）を用いて測定した。測定値のＹは、ＣＩＥ１９３１表色系（ＸＹＺ表色系）に基づく３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）のうちのＹ値である。なお、測定光源としてはＣ光源を用いた。
【０１３５】
＜コントラスト＞
白黒表示のコントラストについて、ＬＵＭＩＮＡＮＣＥ ＣＯＬＯＲＩＭＥＴＥＲ ＢＭ−７（株式会社トプコン製）を用いて測定した。
【０１３６】
【表１】
Figure 2004240335
表１の結果から、実施例１〜３のカラーフィルタ付き基板は、比較例１及び２に比べて、ブラックマトリックス上に形成されたスペーサーが十分な圧縮強度を有している。また、実施例１〜３のカラーフィルタ付き基板は、比較例１及び２に比べて、赤、緑、青の各画素上にスペーサーが存在せず、スペーサー残渣が赤、緑、青の各画素上及ぶことがないので、赤、緑、青の色度低下も無く、コントラストの高いカラーフィルタが得られることが認められる。
【０１３７】
【発明の効果】
本発明によると、現像時における残渣除去性に優れ、かつ圧縮強度が強く、パネル化時に塑性変形が生じにくいスペーサーをブラックマトリックス上に効率よく形成することができる。
また、本発明によると、前記スペーサーの形成方法によりカラー画像の間隙の透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成してなる赤、青、緑の色度低下がなく、コントラストの高いカラーフィルタを提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a spacer forming method for efficiently forming a spacer on a black matrix provided on a transparent substrate, and a spacer on a black matrix provided on a transparent substrate in the gap of a color image by the spacer forming method. The present invention relates to a color filter having a high contrast without lowering the chromaticity of red, blue and green.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, liquid crystal display devices have been widely used to provide high-quality images. In general, a liquid crystal display device has a liquid crystal layer with a predetermined orientation disposed between a pair of substrates, and maintaining the spacing between the substrates, that is, the thickness of the liquid crystal layer, determines whether the image quality is good or bad. Therefore, a spacer is used for the purpose of making the liquid crystal layer thickness constant.
[0003]
Conventionally, inorganic particles such as silica have been used as the spacer. However, when these inorganic particles are present on an image, there is a problem that the image quality is impaired. In recent years, photolithography using a spacer resin composition has been used. A spacer is formed (see, for example, Patent Document 1).
[0004]
However, conventionally, the spacer dod formed by patterning, developing, and baking the spacer resin composition has a low compressive strength. Therefore, plastic deformation is increased during panel formation, and the thickness of the liquid crystal layer is smaller than the target value. Or the thickness of the liquid crystal layer cannot be kept uniform, resulting in image unevenness. Further, there is a problem that a residue is generated during development of the spacer resin composition, and a high-precision liquid crystal display element cannot be obtained unless the residue is removed.
[0005]
On the other hand, as a method for forming a color filter, (1) printing method, (2) ink jet method, (3) micelle electrodeposition method, and (4) pigment dispersion method are known. However, the printing method (1) has a problem that it is difficult to superimpose with high accuracy. The ink jet method (2) has a problem that it is difficult to stably control the height of the colored layer overlapping portion. The micelle electrodeposition method (3) requires a step of forming an electrodeposition pattern, and the stability of the micelle dispersion charged with the pigment is poor and it is difficult to stably produce a color filter. There's a problem.
[0006]
At present, the most common method is the pigment dispersion method (4). This pigment dispersion method is carried out by repeating the application of a colored photosensitive resin solution, exposure, and development. However, the thickness of the colored layer usually produced by this method is such that the required spacer height also depends on the overlapping. I can't get it. Further, when the coating thickness of the colored layer is increased, unevenness in the thickness in the planes of the central portion and the peripheral portion of the substrate tends to occur. In addition, since the second and subsequent colors are applied on a color pattern that has already been formed, uneven thickness is likely to occur, and it is difficult to control the thickness uniformly.
[0007]
In order to improve these problems, in Patent Documents 2 and 3, a method of laminating a colored layer composed of three primary colors on a resin matrix containing a resin and a light shielding agent, and in addition to this, a resist layer is laminated. However, there is a problem that it is difficult to precisely control the height as a spacer. In addition, since a large number of the spacers are also present in the display area other than the non-display part such as the black matrix in the color filter, the light is scattered by the spacers, or the luminance is lowered and the display quality is impaired. Occurs.
Recently, the use of LCDs has been expanded to large screen monitors, televisions, and the like that require higher image quality, and thus the deterioration of display quality has become a serious problem.
[0008]
[Patent Document 1]
JP-A-62-90622
[Patent Document 2]
JP-A-9-43425
[Patent Document 3]
JP-A-10-177109
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention aims to solve the above-described problems and solve the following problems. That is, an object of the present invention is to provide a method for forming a spacer that efficiently forms a spacer on a black matrix that has excellent residue removability during development, has high compressive strength, and is unlikely to undergo plastic deformation during panel formation. To do.
In addition, the present invention provides a high-contrast color in which the spacers are formed on the black matrix provided on the transparent substrate in the gap of the color image by the spacer formation method, and the red, blue and green chromaticity is not lowered. The purpose is to provide a filter.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> A spacer forming method, wherein a spacer is formed on a black matrix provided on a transparent substrate using a spacer resin composition containing a resin having at least a hydroxyl group.
<2> A spacer forming method characterized in that a spacer is formed on a black matrix provided on a transparent substrate using a resin composition for a spacer containing a resin having at least an allyl group and a hydroxyl group. .
<3> A spacer characterized in that a spacer is formed on a black matrix provided on a transparent substrate using a resin composition for a spacer containing a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group. It is the formation method.
<4> Any one of a resin having a hydroxyl group, a resin having an allyl group and a hydroxyl group, and a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group has at least a hydroxyl group-containing (meth) acrylate as a monomer unit. <1> to the method for forming a spacer according to any one of <3>.
<5> Any one of a resin having a hydroxyl group, a resin having an allyl group and a hydroxyl group, and a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group is a hydroxyl group-containing (meth) acrylate and (meth) acrylic acid And a method for forming a spacer according to any one of <1> to <4>, including a monomer unit selected from a hydroxyl group-free (meth) acrylate.
<6> The method for forming a spacer according to <5>, wherein the hydroxyl group-free (meth) acrylate is at least one selected from benzyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate. is there.
<7> Resin having a hydroxyl group, a resin having an allyl group and a hydroxyl group, or a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group, the content of the hydroxyl group-containing monomer in the resin having a hydroxyl group is 10 mol%. The method for forming a spacer according to any one of <4> to <6> above.
<8> The above <2> to <7>, wherein the resin having an allyl group and a hydroxyl group, or a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group has at least an allyl group-containing (meth) acrylate as a monomer unit. Or a spacer forming method according to any one of the above.
<9> A resin having an allyl group and a hydroxyl group, or a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group is an allyl group-containing (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, and no allyl group (meta ) The method for forming a spacer according to any one of <2> to <8>, including a monomer unit selected from acrylate.
<10> The spacer formation according to <9>, wherein the allyl group-free (meth) acrylate is at least one selected from benzyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate. Is the method.
<11> The content of the allyl group-containing monomer in the resin having an allyl group of a resin having an allyl group and a hydroxyl group, or a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group is 10 mol% or more. The method for forming a spacer according to any one of <2> to <10>.
<12> Formation of spacer according to any one of <1> and <4> to <11>, wherein the content of the resin having a hydroxyl group is 15 to 70% by mass of the total solid content of the spacer resin composition Is the method.
<13> The content of the resin having an allyl group and a hydroxyl group is 15 to 80% by mass of the total solid content of the spacer resin composition, and any one of <2> and <4> to <11> This is a method for forming the spacer.
<14> From the above <3> and <4> to <11, wherein the content of the mixed resin of the resin having an allyl group and the resin having a hydroxyl group is 15 to 70% by mass of the total solid content of the spacer resin composition The method for forming a spacer according to any one of the above.
<15> The spacer forming method according to any one of <1> to <14>, wherein the spacer resin composition contains an extender pigment.
<16> The method for forming a spacer according to <15>, wherein the content of the extender pigment is 5 to 50% by mass of the total solid content of the spacer resin composition.
<17> Photosensitivity of a photosensitive transfer material, in which the spacer resin composition has an alkali-soluble thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a photosensitive resin layer in this order on a temporary support. It is the formation method of the spacer in any one of said <1> to <16> used for a resin layer.
<18> Any one of <1> to <17> above on a black matrix provided on a transparent substrate in a gap of a color image composed of pixels of red (R), green (G), and blue (B) It is a color filter formed by forming a spacer by the method for forming a spacer described above.
[0011]
The method for forming the spacer of the present invention includes (1) a resin having at least a hydroxyl group, (2) a resin having at least an allyl group and a hydroxyl group, or (3) a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group, A spacer is formed on a black matrix provided on a transparent substrate using a spacer resin composition containing The spacer formed by the method for forming the spacer is excellent in residue removal at the time of development, has high compressive strength, and hardly undergoes plastic deformation at the time of forming a panel. Therefore, the spacer is provided on a transparent substrate in the gap of the color image. When formed on the black matrix, a color filter with high contrast can be obtained without lowering the chromaticity of red, blue and green.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(Spacer formation method)
In the method for forming a spacer according to the present invention, as a first aspect, a spacer is formed on a black matrix provided on a transparent substrate using a resin composition for spacers containing a resin having at least a hydroxyl group.
The spacer forming method according to the present invention is a second embodiment in which a spacer is formed on a black matrix provided on a transparent substrate using a spacer resin composition containing a resin having at least an allyl group and a hydroxyl group. To do.
The spacer formation method of the present invention includes, as a third aspect, a black matrix provided on a transparent substrate using a spacer resin composition containing a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group. A spacer is formed on the top.
In the present invention, the spacer is formed on the black matrix, but it can be formed on the ITO other than the black matrix as long as it is a non-display portion.
[0013]
-Transparent substrate-
The transparent substrate is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.For example, soda glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, quartz glass, alkali-free glass or other inorganic glass, polymethyl methacrylate, Examples thereof include resin films such as polycarbonate and polyester, and among these, soda glass and alkali-free glass are preferable.
[0014]
-Black matrix (BM)-
There is no restriction | limiting in particular as said black matrix, Although it can select suitably according to the objective, The black matrix provided in the space | interval of the color image of a color filter etc. are suitable.
[0015]
Examples of the black matrix include (1) a metal BM film such as metal chromium, chromium oxide, chromium nitride, nickel, nickel oxide, and (2) carbon black, manganese, titanium, black pigment, etc. dispersed in the resin. A resin BM layer and the like are formed on the transparent substrate. These may be used as a single layer or as a multilayer of two or more layers.
The method for forming the metal BM film on the substrate of (1) can employ a vacuum deposition method, a sputtering method, or a CVD method, and the film thickness is determined by a desired degree of light shielding and is not particularly limited. Although it selects suitably according to the objective, 0.05-0.3 micrometer is preferable and 0.07-0.2 micrometer is more preferable.
[0016]
In the resin BM layer (2), examples of the resin serving as a dispersion medium include acrylic resin, polyvinyl alcohol resin, epoxy resin, urethane resin, polyester resin, and polyimide resin.
Examples of the method for applying the resin BM to the transparent substrate include a dipping method, a roll coating method, a bar coating method, a spin coating method, a die coating method, and a die coating spin coating method.
The thickness of the resin BM layer is determined according to the desired degree of shading and is not particularly limited and is appropriately selected according to the purpose, but is preferably 0.5 to 5 μm, and more preferably 0.7 to 3 μm.
[0017]
The black matrix (BM) is obtained by forming a photoresist film on a metal BM film or a resin BM layer provided on the transparent substrate, and exposing and etching it through a photomask having a desired pattern. It is done.
[0018]
[Resin composition for spacer]
The spacer resin composition comprises (1) a resin having at least a hydroxyl group, (2) a resin having at least an allyl group and a hydroxyl group, or (3) a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group. Further, it contains a polymerizable monomer, a polymerization initiator, an extender pigment, and a colorant, and other components appropriately selected as necessary.
[0019]
The spacer resin composition is preferably a thermoplastic resin composition that exhibits softening or tackiness at 150 ° C. or lower, and when exposed to light, only the exposed portion is cured to become alkali-insoluble and light having high resistability. More preferably, it is a polymerizable resin composition.
[0020]
-Resin having a hydroxyl group-
The resin having a hydroxyl group is not particularly limited as long as it contains a hydroxyl group, and can be appropriately selected according to the purpose. If it can be dissolved in an organic solvent, a resin having a hydroxyl group introduced into a lipophilic resin can be used. Alternatively, a hydrophilic resin containing a hydroxyl group may be modified to make it lipophilic. Examples of the former include lipophilic graft polymers containing a hydroxyl group, and examples of the latter include polyvinyl alcohol modified so as to be soluble in an organic solvent.
[0021]
The resin having a hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more. Among these, a resin having at least a hydroxyl group-containing (meth) acrylate as a monomer unit may be used. Preferably, a resin having at least the hydroxyl group-containing (meth) acrylate and (meth) acrylic acid as monomer units is more preferable, and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate and the (meth) acrylic acid can be copolymerized with these. Among these, a terpolymer resin having other monomers is particularly preferable.
[0022]
As said hydroxyl-containing (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, hydroxyaryl (meth) acrylate, etc. are preferable, for example. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
[0023]
There is no restriction | limiting in particular as an alkyl group in the said hydroxyalkyl (meth) acrylate, Although it can select suitably according to the objective, It is C2-C12 linear alkyl which may have a substituent. It is preferably at least one selected from a group, a branched alkyl group and a cyclic alkyl group, and specific examples include an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, and a cyclohexyl group.
There is no restriction | limiting in particular as said substituent, Although it can select suitably according to the objective, For example, aryl groups, such as a phenyl group, an alkoxyl group, a halogen group, etc. are mentioned suitably.
[0024]
Among the hydroxyalkyl (meth) acrylates, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxy n-propyl (meth) acrylate, hydroxy n-butyl (meth) acrylate and the like are particularly preferable.
[0025]
Examples of the hydroxyl group-free (meth) acrylate include allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate, and these may be used alone or as 2 More than one species may be used in combination.
[0026]
The other monomer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. However, for example, alkyl (meth) acrylate, aryl (meth) acrylate, A vinyl compound etc. are mentioned.
[0027]
Preferable specific examples of the hydroxyl group-containing resin are binary copolymer resins of (1) component: (meth) acrylic acid and (2) component: 2-hydroxyethyl methacrylate (preferable copolymer composition ratio is (1) component: (2) component = 28: 72 (molar ratio)), (1) component: (meth) acrylic acid, (2) component: 2-hydroxyethyl methacrylate, and (3) component: benzyl A terpolymer resin with (meth) acrylate (preferable copolymer composition ratio is (1) component: (2) component: (3) component = 17: 12: 71 (molar ratio)).
[0028]
The content of the hydroxyl group-containing monomer in the resin having a hydroxyl group is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 100 mol%, still more preferably 15 to 90 mol%, and particularly preferably 20 to 80 mol%.
[0029]
The mass average molecular weight of the resin having a hydroxyl group is preferably from 5,000 to 100,000, more preferably from 8,000 to 50,000 in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).
When the mass average molecular weight is 5,000 to 100,000, the film strength is good.
[0030]
The content of the resin having a hydroxyl group is preferably 15 to 70% by mass, more preferably 18 to 60% by mass, and still more preferably 25 to 50% by mass, based on the total solid content of the resin composition for spacer.
[0031]
-Mixed resin of resin having allyl group and resin having hydroxyl group-
The mixed resin of the allyl group-containing resin and the hydroxyl group-containing resin is a mixture of the hydroxyl group-containing resin and the allyl group-containing resin, and can function as a binder.
As the resin having a hydroxyl group, the same resin as the resin having a hydroxyl group can be used.
The resin having an allyl group can function as a binder in the spacer resin composition, and the resin having an allyl group is not particularly limited as long as it has an allyl group, depending on the purpose. It can be selected appropriately.
[0032]
The resin having an allyl group may be used alone or in combination of two or more. Among these, a resin having at least an allyl group-containing (meth) acrylate as a monomer unit. A resin containing a monomer unit selected from the allyl group-containing (meth) acrylate and (meth) acrylic acid and allyl group-free (meth) acrylate is more preferable.
[0033]
Examples of the allyl group-containing (meth) acrylate include allyl (meth) acrylate, 2-methylallyl acrylate, crotyl acrylate, chloroallyl acrylate, phenylallyl acrylate, cyanoallyl acrylate, and the like. You may use individually and may use 2 or more types together. Among these, allyl (meth) acrylate is particularly preferable.
[0034]
Examples of the allyl group-free (meth) acrylate include benzyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, (meth) acrylate, and the like. These may be used alone or in combination. You may use the above together.
[0035]
Among the hydroxyalkyl (meth) acrylates, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxy n-propyl (meth) acrylate, hydroxy n-butyl (meth) acrylate and the like are particularly preferable.
[0036]
There is no restriction | limiting in particular as said other monomer, Although it can select suitably according to the objective, For example, alkyl (meth) acrylate, aryl (meth) acrylate, a vinyl compound etc. are mentioned.
[0037]
Examples of the alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl ( Preferable examples include (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl acrylate, tolyl acrylate, naphthyl acrylate, and cyclohexyl acrylate.
[0038]
Preferable examples of the vinyl compound include styrene, α-methylstyrene, vinyl toluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinyl pyrrolidone, tetrahydrofurfuryl methacrylate, polystyrene macromonomer, polymethyl methacrylate macromonomer, and the like. It is done.
[0039]
Preferred examples of the resin having an allyl group include a binary copolymer resin of (1) component: (meth) acrylic acid and (2) component: allyl (meth) acrylate (preferable copolymer composition ratio is (1) component: (2) component = 2-80: 20-98 (molar ratio)), (1) component: (meth) acrylic acid, (2) component: allyl (meth) acrylate, (3) Component: Ternary copolymer resin with benzyl (meth) acrylate (Preferable copolymer composition ratio is (1) component: (2) component: (3) component = 10-40: 20-80: 10-70 (mole) Ratio)) and the like.
[0040]
The content of the allyl group-containing monomer in the resin having an allyl group is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 100 mol%, still more preferably 15 to 90 mol%, and particularly preferably 20 to 80 mol%.
[0041]
The mass average molecular weight of the resin having an allyl group is preferably 5,000 to 100,000, and more preferably 8,000 to 50,000 in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).
When the mass average molecular weight is 5,000 to 100,000, the film strength is good.
[0042]
The mixing mass ratio (resin having allyl group: resin having hydroxyl group) in the mixed resin of the resin having an allyl group and the resin having a hydroxyl group is preferably 1: 0.1 to 10, more preferably 1: 1 to 5. .
[0043]
The content of the mixed resin of the resin having an allyl group and the resin having a hydroxyl group is preferably 15 to 70% by mass, more preferably 18 to 60% by mass, and more preferably 25 to 50% by mass of the total solid content of the spacer resin composition. More preferred is mass%.
[0044]
-Resin having allyl group and hydroxyl group-
The resin having an allyl group and a hydroxyl group is not particularly limited as long as the resin has an allyl group and a hydroxyl group. For example, 2-hydroxyethyl methacrylate / methacrylic acid / allyl methacrylate / benzyl methacrylate copolymer Etc.
Such a resin having an allyl group and a hydroxyl group can be obtained, for example, by polymerizing the allyl group-containing (meth) acrylate, the hydroxyalkyl (meth) acrylate, and, if necessary, other monomer units. Can do.
[0045]
The content of the allyl group-containing monomer in the resin having an allyl group and a hydroxyl group is preferably 15 mol% or more, and more preferably 25 to 50 mol%. On the other hand, the content of the hydroxyl group-containing monomer is preferably 5 mol% or more, and more preferably 10 to 20 mol%.
[0046]
The content of the resin having an allyl group and a hydroxyl group is preferably 15 to 80% by mass, more preferably 18 to 70% by mass, and still more preferably 25 to 60% by mass, based on the total solid content of the spacer resin composition.
[0047]
--Polymerizable monomer--
The polymerizable monomer is not particularly limited as long as it has at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group, and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, an ester compound, an amide compound, other Compound etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
[0048]
Examples of the ester compound include monofunctional (meth) acrylic acid ester, polyfunctional (meth) acrylic acid ester, itaconic acid ester, crotonic acid ester, isocrotonic acid ester, maleic acid ester, and other ester compounds. It is done. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together, Among these, monofunctional (meth) acrylic acid ester, polyfunctional (meth) acrylic acid ester, etc. are preferable.
[0049]
Examples of the monofunctional (meth) acrylic acid ester include polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and phenoxyethyl mono (meth) acrylate.
[0050]
Examples of the polyfunctional (meth) acrylic acid ester include polyethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and 1,3-butanediol di (meth). Acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) ) Acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, sorbitol Tri (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate.
Among these, dipentaerythritol poly (meth) acrylate is particularly preferable.
[0051]
Other examples of the polyfunctional (meth) acrylic acid ester include those obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to a polyfunctional alcohol such as glycerin or trimethylolethane and then (meth) acrylate, Japanese Patent Publication No. 48-41708. Urethane acrylates described in Japanese Patent Publication No. 50-6034, Japanese Patent Publication No. 51-37193, Japanese Patent Publication No. 48-64183, Japanese Patent Publication No. 49-43191, and Japanese Patent Publication No. 52-30490. Polyester acrylates described in the publication, epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid esters and urethane (meth) acrylates described in JP-A-60-258539 And vinyl esters.
[0052]
Examples of the other ester compounds include trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, Japan Adhesion Association Vol. 20, no. 7, photocurable monomers and oligomers described on pages 300 to 308, and the like.
[0053]
Examples of the amide compound include an amide (monomer) of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound. Specifically, methylene bis- (meth) acrylamide, 1,6-hexamethylene bis- (Meth) acrylamide, diethylenetriamine tris (meth) acrylamide, xylylene bis (meth) acrylamide, and the like, and (meth) acrylic acid amide described in JP-A-60-258539 are exemplified.
[0054]
Examples of the other compounds include allyl compounds described in JP-A-60-258539.
[0055]
As content in the said resin composition for spacers of the said polymerizable monomer, 10-60 mass% of total solid content is preferable, and 20-50 mass% is more preferable.
[0056]
--Polymerization initiator--
The polymerization initiator preferably contains at least one component having a molecular extinction coefficient of about 50 or more in a wavelength region of about 300 to 500 nm. For example, JP-A-2-48664 and JP-A-1 -152449 and JP-A-2-153353, aromatic ketones, lophine dimers, benzoin, benzoin ethers, polyhalogens, halogenated hydrocarbon derivatives, ketone compounds, ketoxime compounds, organic peroxides. Examples thereof include oxides, thio compounds, hexaarylbiimidazoles, aromatic onium salts, ketoxime ethers, and the like.
[0057]
These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, a combination of 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 4- [pN, N′-di (ethoxycarbonyl) Methyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine], 2,4-bis- (trichloromethyl) -6- [4- (N, N′-diethoxycarbonylmethylamino) -3-bromo Phenyl] -s-triazine and the like are preferable.
[0058]
As the usage-amount of the said polymerization initiator, 0.1-20 mass% is preferable with respect to the usage-amount of the said polymerizable monomer, and 0.5-10 mass% is more preferable.
[0059]
--External pigment--
The spacer resin composition of the present invention preferably contains extender pigments.
The extender pigment is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include silica, zinc oxide, barium sulfate, barium carbonate, alumina white, calcium carbonate, and calcium stearate. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together, Among these, an uncolored thing is preferable and a silica, zinc oxide, etc. are especially preferable.
[0060]
Specific examples of the silica include R-972, # 200 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Seahoster KE (manufactured by Nippon Shokubai Chemical Industry Co., Ltd.), Snowtex (trade names: methanol silica sol, MA-ST-M, IPA). Commercially available products such as -ST, MEK-ST, MIBK-ST, Nissan Chemical Industries, Ltd.) are preferred.
Specific examples of the zinc oxide include commercially available products such as ZnO-100 and ZnO-200 (manufactured by Sumitomo Cement Co., Ltd.).
Among these, colloidal silica represented by Snowtex is particularly preferable.
[0061]
The extender pigment may be improved in dispersibility by performing a surface treatment or the like with an appropriately selected silane coupling agent or titanate coupling agent.
[0062]
The particle size of the extender is preferably 0.01 to 0.5 μm, more preferably 0.02 to 0.4 μm.
When the particle size is less than 0.01 μm, the dispersion stability is deteriorated, and when it exceeds 0.5 μm, the unevenness on the surface of the photosensitive resin layer is increased, which is not preferable.
[0063]
The addition amount of the extender pigment is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, and particularly preferably 15 to 35% by mass based on the total solid content in the spacer resin composition.
When the amount of the extender pigment is less than 5% by mass, sufficient film strength cannot be obtained, and thickness reduction during transfer and brush damage during development may not be prevented. If it exceeds 50%, bubbles tend to enter during transfer, and the transparency of the photosensitive resin layer may be lowered, which is not preferable.
[0064]
The extender pigment may be used in a state of being uniformly dispersed in a suitably selected dispersant.
The dispersant is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, Solsperse 3000, 9000, 17000, 20000, 27000 (manufactured by Geneca Corporation), Azisper PB-711, PN- 411, PA-111 (manufactured by Ajinomoto Co., Inc.), EFKA-766, 5244, 71, 65, 64, 63, 44 (manufactured by EFKA Chemicals) and the like. Among these, Solsperse 20000 is preferable.
The amount of the dispersant used is preferably 0.5 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the extender pigment from the viewpoint of obtaining a dispersion having good dispersibility.
[0065]
Dispersion stability can be improved by adding a surfactant to the dispersion solution obtained by dispersing the extender pigment with the dispersant.
The surfactant is not particularly limited and includes various surfactants, for example, anionic surfactants typified by alkyl naphthalene sulfonate and phosphate ester salts, and amine salts. A cationic surfactant, an aminocarboxylic acid, an amphoteric surfactant represented by a betaine type, and the like.
[0066]
--Colorant--
The spacer resin composition may contain a colorant appropriately selected according to the purpose.
There is no restriction | limiting in particular as said coloring agent, Although it can select suitably according to the objective, For example, an organic pigment, an inorganic pigment, dye, etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together, Among these, what is decolored by the below-mentioned development process and heat processing is preferable.
[0067]
Examples of the colorant include auramin (CI 41000), fat black HB (CI 26150), monolite first black B (CI pigment black 1), carbon, C . I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment brown 23, C.I. I. Pigment brown 25, C.I. I. Pigment Brown 26, Pigment Black 7, Permanent Carmine FBB (CI Pigment Red 146), Permanent Ruby FBH (CI Pigment Red 11), Fastel Pink B Supra (C.I. Pigment red 81), C.I. I. Pigment red 97, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 149, C.I. I. Pigment red 168, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 180, C.I. I. Pigment red 192, C.I. I. Pigment red 215, C.I. I. Pigment red 123, C.I. I. Pigment red 213, C.I. I. Pigment red 217, C.I. I. Pigment red 220, C.I. I. Pigment red 223, C.I. I. Pigment red 224, C.I. I. Pigment red 226, C.I. I. Pigment red 227, C.I. I. Pigment red 228, C.I. I. Pigment red 240, C.I. I. Pigment red 48, C.I. I. Pigment red 1, C.I. I. Pigment Red 209, Monolite Yellow GT (C.I. Pigment Yellow 12), Permanent Yellow GR (C.I. Pigment Yellow 17), Permanent Yellow HR (C.I. Pigment Yellow 83) , C.I. I. Pigment yellow 20, C.I. I. Pigment yellow 24, C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 86, C.I. I. Pigment yellow 93, C.I. I. Pigment yellow 109, C.I. I. Pigment yellow 110, C.I. I. Pigment yellow 117, C.I. I. Pigment yellow 125, C.I. I. Pigment yellow 137, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 147, C.I. I. Pigment yellow 148, C.I. I. Pigment yellow 153, C.I. I. Pigment yellow 154, C.I. I. Pigment yellow 166, C.I. I. Pigment yellow 168, C.I. I. Pigment yellow 185, C.I. I. Pigment orange 36, C.I. I. Pigment orange 43, C.I. I. Pigment orange 51, C.I. I. Pigment orange 55, C.I. I. Pigment orange 59, C.I. I. Pigment Orange 61, Hoster Balm Red ESB (CI Pigment Violet 19), Monastral First Blue (CI Pigment Blue 15), C.I. I. Pigment violet 19, C.I. I. Pigment violet 23, C.I. I. Pigment violet 29, C.I. I. Pigment violet 30, C.I. I. Pigment violet 37, C.I. I. Pigment violet 40, C.I. I. Pigment Violet 50, Victoria Pure Blue BO (C.I. 42595), Victoria Pure Blue BOH, Victoria Pure Blue BOH-M, Malachite Green, C.I. I. Pigment blue 15: 1, C.I. I. Pigment blue 15: 4, C.I. I. Pigment blue 15: 6, C.I. I. Pigment blue 22, C.I. I. Pigment blue 60, C.I. I. Pigment blue 64, carbon black, and the like.
[0068]
-Other ingredients-
There is no restriction | limiting in particular as said other component, Although it can select suitably according to the objective, For example, various additives, such as a polymerization inhibitor and a ultraviolet absorber, etc. are mentioned.
Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinones such as phenothiazine and hydroquinone monomethyl ether.
Examples of the ultraviolet absorber include salicylates, benzophenones, benzotriazoles, cyanoacrylates, nickel chelates, hindered amines, and the like. Specifically, phenyl salicylates, 4-t-butylphenyl salicylates, 2,4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-4'-hydroxybenzoate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2,4-di-hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl) ) -5-chlorobenzotriazole, ethyl-2-cyano-3,3'-di -Phenyl acrylate, 2,2'-hydroxy-4-methoxybenzophenone, nickel dibutyldithiocarbamate, bis (2,2 ', 6,6'-tetramethyl-4-pyridine) -sebacate, 4-t-butylphenyl salicylate, Phenyl salicylate, 4-hydroxy-2,2 ′, 6,6′-tetramethylpiperidine condensate, succinic acid-bis (2,2 ′, 6,6′-tetramethyl-4-piperidenyl) -ester, 2 -[2-Hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 7-{[4-chloro-6- (diethylamino) -5-triazin-2-yl] amino } -3-phenylcoumarin, and the like.
[0069]
-Photosensitive transfer material-
The photosensitive transfer material preferably includes an alkali-soluble thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a photosensitive resin layer in this order on a temporary support. It is preferable that the photosensitive resin layer uses a resin composition for spacers.
[0070]
--Photosensitive resin layer--
The said photosensitive resin layer is formed from the resin composition for spacers of this invention, 0.5-10 micrometers is preferable and the thickness has more preferable 1-6 micrometers.
If the thickness of the photosensitive resin layer is less than 0.5 μm, pinholes are likely to occur at the time of coating, which is not preferable for manufacturing suitability. If it exceeds 10 μm, it takes time to remove the unexposed portions during development. It is not preferable.
[0071]
--Intermediate layer--
The intermediate layer is provided on the photosensitive resin layer, and when the photosensitive transfer material has an alkali-soluble thermoplastic resin layer, the photosensitive resin layer and the alkali-soluble thermoplastic resin layer; Between. In the formation of the photosensitive resin layer and the alkali-soluble thermoplastic resin layer, an organic solvent is used. Therefore, when the intermediate layer is located between them, the layers can be prevented from being mixed with each other.
[0072]
The intermediate layer is preferably one that is dispersed or dissolved in water or an aqueous alkali solution.
As the material for the intermediate layer, known materials can be used. For example, polyvinyl ether / maleic anhydride polymer, carboxyalkyl described in JP-A No. 46-2121 and JP-B No. 56-40824 Water-soluble salt of cellulose, water-soluble cellulose ether, water-soluble salt of carboxyalkyl starch, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, water-soluble polyamide, water-soluble salt of polyacrylic acid, gelatin, ethylene oxide polymer, various Water soluble salts of the group consisting of starch and the like, styrene / maleic acid copolymers, maleate resins, and the like.
These may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use a hydrophilic polymer, and among these hydrophilic polymers, it is preferable to use at least polyvinyl alcohol, and a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone is particularly preferable.
[0073]
There is no restriction | limiting in particular as said polyvinyl alcohol, Although it can select suitably according to the objective, The saponification rate is 80% or more.
When using the said polyvinyl pyrrolidone, as content, 1-75 volume% is preferable with respect to solid content of this intermediate | middle layer, 1-60 volume% is more preferable, 10-50 volume% is especially preferable.
When the content is less than 1% by volume, sufficient adhesion to the photosensitive resin layer may not be obtained. On the other hand, when the content exceeds 75% by volume, the oxygen blocking ability may be reduced. It is not preferable.
[0074]
The intermediate layer preferably has a low oxygen permeability.
When the oxygen permeability of the intermediate layer is large and the oxygen blocking ability is low, it may be necessary to increase the amount of light at the time of exposure to the photosensitive resin layer, or it may be necessary to lengthen the exposure time, and the resolution may also be increased. May fall.
[0075]
The thickness of the intermediate layer is preferably about 0.1 to 5 μm, and more preferably 0.5 to 2 μm.
If the thickness is less than 0.1 μm, the oxygen permeability may be too high. On the other hand, if it exceeds 5 μm, it takes a long time for development or removal of the intermediate layer, which is not preferable.
[0076]
--- Alkali-soluble thermoplastic resin layer--
The alkali-soluble thermoplastic resin layer is alkali-soluble from the viewpoint of enabling alkali development and preventing the transferred material from being contaminated by the alkali-soluble thermoplastic resin layer protruding during transfer. When the photosensitive transfer material is transferred onto the transfer object, it functions as a cushion material that effectively prevents transfer defects caused by unevenness present on the transfer object. It is preferable that the photosensitive transfer material is deformable in accordance with the unevenness present on the transferred body when the photosensitive transfer material is heated and adhered onto the transferred body.
[0077]
The alkali-soluble thermoplastic resin is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. However, the substantial softening point is preferably 80 ° C. or less, and the substantial softening point is 80 ° C. or less. For example, saponified product of ethylene and acrylate copolymer, saponified product of styrene and (meth) acrylate copolymer, vinyltoluene and (meth) acrylate copolymer Saponification products, saponification products such as poly (meth) acrylic acid esters, and (meth) acrylic acid ester copolymers of butyl (meth) acrylate and vinyl acetate, etc. are preferably mentioned. Handbook "(edited by the Japan Plastics Industry Federation, edited by the All Japan Plastics Molding Industry Association, published by the Industrial Research Council, published on October 25, 1968) has a softening point of about 80 Of the is organic polymer or less, it may be mentioned those of the alkali-soluble. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
[0078]
As for the substance having a substantial softening point of 80 ° C. or lower, an organic polymer substance having a softening point of 80 ° C. or higher is compatible with the organic polymer substance. There may be mentioned those having a substantial softening point of 80 ° C. or less by adding various plasticizers.
[0079]
The plasticizer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.For example, polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate , Biphenyl diphenyl phosphate, and the like.
[0080]
In addition to the thermoplastic resin, the alkali-soluble thermoplastic resin layer includes various polymers within a range where the softening point does not substantially exceed 80 ° C. for the purpose of adjusting the adhesive force with the temporary support. Further, a supercooling substance, an adhesion improving agent, a surfactant, a release agent and the like can be added.
[0081]
The thickness of the alkali-soluble thermoplastic resin layer is preferably 6 to 100 μm, and more preferably 6 to 50 μm.
When the thickness of the alkali-soluble thermoplastic resin layer is less than 6 μm, it is difficult to completely absorb unevenness on the transferred body having a thickness of 1 μm or more and to exhibit sufficient cushioning properties. When the thickness exceeds 100 μm, developability and production suitability may be deteriorated, and both are not preferable.
[0082]
--Temporary support--
The temporary support preferably has a peelability from the alkali-soluble thermoplastic resin layer that does not hinder the transfer, and is chemically and thermally stable and flexible. Those are preferred.
The material for the temporary support is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include polytetrafluoroethylene, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyethylene, and polypropylene. . These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
There is no restriction | limiting in particular as a structure of the said temporary support body, According to the objective, it can select suitably, For example, a single layer structure may be sufficient and a laminated structure may be sufficient.
[0083]
From the viewpoint of ensuring good releasability between the temporary support and the alkali-soluble thermoplastic resin layer, it is preferable not to perform surface treatment such as glow discharge. It is preferable not to provide an undercoat layer.
The thickness of the temporary support is preferably about 5 to 300 μm, more preferably 20 to 150 μm.
[0084]
The temporary support is preferably provided with a conductive layer on at least one surface thereof, or the temporary support itself is preferably conductive.
When the temporary support is designed in this manner, the temporary support is removed when the temporary support is peeled after the photosensitive transfer material provided with the temporary support is brought into close contact with the transfer target. And the transferred body is not charged and attracts surrounding dust, and as a result, even after the temporary support is peeled off, the dust does not adhere to the alkali-soluble thermoplastic resin layer. In the subsequent exposure process, it is possible to effectively prevent an unnecessary unexposed portion from being formed and an unintended pinhole from being formed.
The surface electrical resistance on the surface of the conductive layer on the temporary support or the temporary support having conductivity is 10 13 Ω or less is preferable.
[0085]
In order to make the temporary support having conductivity, a conductive substance may be contained in the temporary support.
There is no restriction | limiting in particular as said electroconductive substance, Although it can select suitably according to the objective, For example, a metal oxide, an antistatic agent, etc. are mentioned.
[0086]
Examples of the metal oxide include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, aluminum oxide, indium oxide, silicon oxide, magnesium oxide, barium oxide, and molybdenum oxide. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Examples of the form of the metal oxide include crystal fine particles and composite fine particles.
[0087]
Examples of the antistatic agent include Electro Stripper A (manufactured by Kao Corporation), Elenon No. 19 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) alkyl phosphate anionic surfactants, Amogen K (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) betaine amphoteric surfactants, Nissan Nonion L (Nippon Yushi Polyoxyethylene fatty acid ester-based nonionic surfactants such as Emulgen 106, 120, 147, 420, 220, 905, 910 (manufactured by Kao Corporation) and Nissan Nonion E (manufactured by NOF Corporation) Other nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ether type nonionic surfactants, polyoxyethylene alkylphenol ether type, polyhydric alcohol fatty acid ester type, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester type, polyoxyethylene alkylamine type, etc. Surfactant is mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
[0088]
The conductive layer can be formed by appropriately selecting and using a known conductive material. Examples of the conductive material include ZnO and TiO. 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 Is preferable in that a stable conductive effect can be obtained without being affected by the humidity environment. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
[0089]
The volume resistance value of the metal oxide or the conductive material is 10 7 Ω · cm or less is preferable 10 5 More preferably Ω · cm or less.
The particle diameter of the metal oxide or the conductive substance is preferably 0.01 to 0.7 μm, and more preferably 0.02 to 0.5 μm.
[0090]
In the conductive layer, as a binder, for example, cellulose esters such as gelatin, cellulose nitrate, cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, vinylidene chloride, vinyl chloride, styrene, acrylonitrile, Homopolymers or copolymers containing vinyl acetate, alkyl acrylates having 1 to 4 carbon atoms, vinyl pyrrolidone, etc., soluble polyesters, polycarbonates, soluble polyamides, etc. can be used.
[0091]
-Other layers-
There is no restriction | limiting in particular as said other layer, Although it can select suitably according to the objective, For example, a cover film etc. are mentioned suitably.
[0092]
The cover film has a function of protecting the photosensitive transfer material from dirt, damage, and the like during storage and can be formed of the same or similar material as the temporary support.
The cover film is not particularly limited as long as it can be easily peeled off from the photosensitive resin layer, and examples thereof include silicone paper, polyolefin sheet, and polytetrafluoroethylene sheet. Among these, a polyethylene sheet thru | or film and a polypropylene sheet thru | or film are preferable.
The thickness of the cover film is preferably about 5 to 100 μm, and more preferably 10 to 30 μm.
[0093]
In the photosensitive transfer material of the present invention, the alkali-soluble thermoplastic resin layer is provided on the temporary support by applying the alkali-soluble thermoplastic resin layer coating liquid and drying the coating solution. An intermediate layer is formed on the layer by applying a coating solution for an intermediate layer using a solvent that does not dissolve the thermoplastic resin layer and drying, and the photosensitive layer using a solvent that does not dissolve the intermediate layer is formed on the intermediate layer. It can manufacture by providing the photosensitive resin layer by apply | coating the coating liquid for photosensitive resin layers, and drying. In addition, while providing the photosensitive resin layer on the cover film, the alkali-soluble thermoplastic resin layer and the intermediate layer are provided on the temporary support, the intermediate layer and the photosensitive resin layer are It can manufacture by sticking together so that it may mutually contact. In addition, while providing the photosensitive resin layer and the intermediate layer on the cover film, the alkali-soluble thermoplastic resin layer is provided on the temporary support, the intermediate layer and the alkali-soluble thermoplastic It can manufacture by bonding together so that a resin layer may mutually contact.
[0094]
The photosensitive transfer material containing the spacer resin composition can be particularly suitably used for spacer formation, image formation, and the like. In this case, examples of the transfer target include a transparent substrate (glass substrate) in a liquid crystal element, a substrate with a transparent conductive film (for example, ITO), a substrate with a color filter, and the like.
[0095]
Here, an example of a method for forming a spacer using the photosensitive transfer material of the present invention will be described.
After the photosensitive transfer material is disposed on the transfer target, the cover film on the photosensitive transfer material is removed, and the photosensitive resin layer is bonded onto the transfer target under pressure and heating. In addition, a conventionally known laminator, a vacuum laminator, etc. can be used conveniently for this bonding, and an auto cut laminator can also be used in order to improve productivity.
[0096]
Next, the temporary support is peeled off from the alkali-soluble thermoplastic resin layer, and the alkali is removed using a predetermined mask (a mask in which a pattern is formed so that a spacer is formed on a black matrix). The photosensitive resin layer is exposed and developed through the soluble thermoplastic resin layer and the intermediate layer. At this time, when the photosensitive resin layer contains the colorant without losing its color, an image is formed by the photosensitive resin layer.
[0097]
Conventionally, when the temporary support is peeled from the alkali-soluble thermoplastic resin layer, the temporary support and the alkali-soluble thermoplastic resin layer cannot be peeled cleanly, and the photosensitive resin There is a problem that peeling occurs between the layer and the intermediate layer, but this problem is effectively solved by the present invention. This improvement effect is particularly great when the spacer resin composition contained in the photosensitive resin layer contains the extender pigment.
[0098]
The development can be carried out in accordance with a known alkali development method. For example, using a solvent or an aqueous developer, particularly an alkaline aqueous solution (alkaline developer) or the like, the transferred object is exposed to the developer. Or by spraying the transferred material with a spray or the like, and further rubbing the surface with a rotating brush or wet sponge or irradiating with ultrasonic waves. it can.
The developing temperature is usually preferably around room temperature to about 40 ° C. Moreover, it is preferable to perform a water washing process after the said image development.
[0099]
In addition, as the alkaline aqueous solution used for dissolving the photosensitive resin layer and the alkali-soluble thermoplastic resin layer at the time of development or removal of unnecessary portions after the exposure, for example, a dilute aqueous solution of an alkaline substance is preferable, Further, a solvent in which a small amount of a water-miscible organic solvent is added is also preferable.
[0100]
The alkaline substance is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and alkali metals such as sodium carbonate and potassium carbonate. Carbonates, alkali metal bicarbonates such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate, alkali metal silicates such as sodium silicate and potassium silicate, alkali metal metasilicates such as sodium metasilicate and potassium metasilicate, triethanol Examples thereof include tetraalkylammonium hydroxides such as amine, diethanolamine, monoethanolamine, morpholine, and tetramethylammonium hydroxide, or trisodium phosphate. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination.
[0101]
As the alkaline aqueous solution, the concentration of the alkaline substance is preferably 0.01 to 30% by mass, and the pH is preferably 8 to 14.
[0102]
The water-miscible organic solvent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol Monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate , Ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like.
The addition amount of the water-miscible organic solvent is preferably 0.1 to 30% by mass.
[0103]
In addition, a well-known various surfactant can be added to the said alkaline aqueous solution, As addition amount of this surfactant, 0.01-10 mass% is preferable.
[0104]
(spacer)
In the present invention, the position where the spacer is formed on the color filter is to prevent deterioration of display quality due to prevention of a decrease in transmittance of red, green, and blue pixels due to the spacer, prevention of a decrease in contrast, light shielding, light scattering, and the like. It is formed on a black matrix (BM) provided on a transparent substrate other than the R, G, and B display areas, that is, in the gap of the color image composed of the R, G, and B pixels.
[0105]
The planar shape when the spacer is cut in a plane parallel to the substrate can be arbitrarily selected according to the design of the LCD panel, etc., and is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. , Oval, triangle, quadrangle, parallelogram, cross, and the like.
[0106]
The cross-sectional shape when the spacer is cut along a plane perpendicular to the substrate can be arbitrarily selected according to the design of the LCD panel, etc., and is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples include a circle, a circle, a triangle, a quadrangle, and a trapezoid.
[0107]
The height of the spacer can be set arbitrarily according to the cell gap design value of the LCD panel, but usually 3 to 7 μm is preferable.
The spacer is a cylindrical indenter with a diameter of 50 μm, and the amount of plastic deformation when a compression test is performed under the conditions of a load speed of 0.145 gf / second, a load of 2 gf, a holding time of 5 seconds, and a measurement temperature of 160 ° C. is 0.3 μm or less. Preferably, it is 0.2 μm or less, more preferably 0.15 μm or less. When the amount of plastic deformation exceeds 0.3 μm, the compressive strength of the spacer dod is weak, and plastic deformation becomes large when forming a panel, and the desired liquid crystal layer thickness may not be obtained.
[0108]
(Color filter)
Next, a case where a non-photosensitive polyimide resin is employed for the black matrix (BM) layer and the colored layer will be described as an example of a method for producing a color filter.
[0109]
First, carbon black is a polyimide precursor and an organic solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, γ-butyrolactone and the like. A black paste dispersed in a solvent is applied to a substrate, and the substrate is heated to preferably 50 to 180 ° C., more preferably 70 to 160 ° C. with an oven or a hot plate, to dry the organic solvent.
[0110]
As a method for applying the black paste to the substrate, for example, a dipping method, a roll coating method, a bar coating method, a spin coating method, a die coating method, a die coating spin coating method, or the like can be employed.
[0111]
Next, a positive photoresist is applied, and prebaking is performed by heating the substrate to 40 to 160 ° C., more preferably 60 to 140 ° C., in an oven or a hot plate.
As a method of applying the positive photoresist to the substrate, for example, a roll coating method, a bar coating method, a spin coating method, a die coating method, a die coating spin coating method, or the like can be employed.
[0112]
Thereafter, exposure is performed by irradiating ultraviolet rays through a BM pattern mask, followed by a development step of developing the BM pattern with an alkaline aqueous solution. Examples of the alkali component of the aqueous alkali solution in the development step include organic alkalis such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, and ethanolamine, and inorganic alkalis such as sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, and potassium hydroxide. Is mentioned. The concentration of the alkali component is preferably 0.5 to 10% by mass, and more preferably 1 to 7% by mass.
[0113]
After the development step, the photoresist remaining on the BM layer is peeled off with an organic solvent, and the substrate is preferably heated to 180 to 340 ° C. with an oven or a hot plate, and in particular, the BM layer is cured by heating to 200 to 320 ° C. It is preferable to make it. Thus, a BM layer is formed on the substrate.
[0114]
Subsequently, by repeating the same step as the step of forming the BM layer for the red (R) colored layer, the green (G) colored layer, and the blue (B) colored layer, the R colored layer at the opening of the BM layer, A G colored layer and a B colored layer are formed.
[0115]
Furthermore, when it is necessary to provide an overcoat layer on the R, G, and B colored layers, an overcoat agent is applied and semi-cured by heating the substrate to 50 to 180 ° C. with an oven or a hot plate, Curing is performed by heating to 180 to 340 ° C.
Examples of the method for applying the overcoat agent to the substrate include a roll coating method, a bar coating method, a spin coating method, a die coating method, and a die coating spin coating method.
[0116]
Further, in a color filter employed in an LCD panel other than the In Plane Switching (IPS) system that does not require a transparent electrode layer that is a common electrode of the LCD panel, a transparent electrode layer that is a common electrode of the LCD panel is formed.
As a method for forming the transparent electrode layer, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, or the like can be employed.
[0117]
Then, after apply | coating a radiation reactive resin composition by the die coat method or the die coat spin coat method, Preferably a board | substrate is heated to 40-160 degreeC, More preferably, it is 50-140 degreeC, and a solvent is dried. Under the present circumstances, it is preferable to use together the vacuum drying which makes an atmosphere reduce pressure of 0.1-500 Pa, and dries a solvent.
Thereafter, a spacer is formed by photolithography. That is, exposure is performed by irradiating ultraviolet rays through a spacer pattern mask, followed by development with the above-described alkaline aqueous solution.
Finally, the substrate is heated to preferably 180 to 260 ° C., more preferably 200 to 240 ° C. in an oven or a hot plate to cure the spacer, thereby completing the production of the color filter.
[0118]
An overcoat film or a transparent conductive film is formed on the color filter thus produced as necessary. Thereafter, liquid crystal is sealed between the color filter and the counter substrate, and a liquid crystal display device is manufactured. The liquid crystal display method is not particularly limited and is appropriately selected according to the purpose. For example, TN, STN (super twisted nematic), IPS (in-plane switching), GH (guest host) , FLLC (ferroelectric liquid crystal), AFLC (antiferroelectric liquid crystal), PDLC (polymer dispersion type liquid crystal) and the like.
[0119]
The basic configuration of the liquid crystal display element includes: (1) a driving side substrate in which driving elements such as thin film transistors (hereinafter referred to as “TFTs”) and pixel electrodes (conductive layers) are arranged, and a color filter. And a color filter side substrate provided with a counter electrode (conductive layer) opposite to each other with a spacer interposed therebetween, and a liquid crystal material is sealed in the gap, and (2) the color filter is disposed on the drive side substrate. Directly formed color filter integrated drive substrate and counter substrate having a counter electrode (conductive layer) are arranged to face each other with a spacer interposed therebetween, and a liquid crystal material is sealed in the gap portion. It is done.
[0120]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to these Examples at all.
[0121]
(Example 1)
A thermoplastic resin layer having a thickness of 20 μm was formed by applying and drying a coating liquid H1 for a thermoplastic resin layer having the following composition on a temporary support (thickness: 100 μm) made of a polyethylene terephthalate film.
Figure 2004240335
[0122]
Next, an intermediate layer having a thickness of 1.6 μm was formed on the thermoplastic resin layer by applying and drying an intermediate layer coating liquid B1 having the following composition.
Figure 2004240335
[0123]
Furthermore, the photosensitive resin layer which is 5.2 micrometers in thickness was formed by apply | coating and drying the coating liquid for photosensitive resin layers of the following composition. A photosensitive transfer material T1 was prepared by pressure-bonding a polypropylene cover film (thickness: 12 μm) on the photosensitive resin layer.
[0124]
Figure 2004240335
[0125]
A chromium metal having a thickness of 0.1 μm was formed on a glass substrate having a predetermined size by sputtering, and etching was performed using a photoresist to obtain a grid-like black matrix having a predetermined size and shape. Thereafter, referring to JP-A-3-89320, a lower substrate having a structure of a gate electrode, a pixel electrode, a source electrode, an insulating film, a drain electrode, a passivation layer and the like on the surface of the glass substrate was produced. On the lower substrate, a pattern having a predetermined size and shape of red, green, and blue was prepared using a transfer type color filter described in JP-A-11-64621. An acrylic resin-based protective layer was formed thereon using a spin coater and planarized, and ITO was further formed thereon as a transparent electrode.
[0126]
Next, the cover film of the photosensitive transfer material T1 is peeled off, and the photosensitive resin layer surface is placed on the substrate using a laminator (device name: VP-II, manufactured by Taisei Laminator Co., Ltd.). Bonding was performed at a conveyance speed of 1 m / min under pressure and heating conditions of cm and 130 ° C. Thereafter, the temporary support was peeled from the thermoplastic resin layer, and the temporary support was removed.
40 mJ / cm with an ultra-high pressure mercury lamp through a photomask that can form spacers on a black matrix (BM) 2 After the proximity exposure, the alkali-soluble thermoplastic resin layer and the intermediate layer were dissolved and removed using a 1% by mass triethanolamine aqueous solution. At this time, the photosensitive resin layer was not substantially developed.
Next, the photosensitive resin layer was developed using a 1% by mass aqueous sodium carbonate solution, and unnecessary portions were removed through a brushing process, followed by baking at 230 ° C. for 120 minutes to form a side of 16 μm on a black matrix (BM). A substrate with a color filter of Example 1 in which columnar transparent spacers having an average height of about 4.5 μm were formed.
[0127]
(Example 2)
In Example 1, 3.0 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate / methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer ((molar ratio) = 17/12/71, mass average molecular weight 40,000)) Methacrylate / methacrylic acid / allyl methacrylate / benzyl methacrylate copolymer ((molar ratio) = 17/12/48/23, mass average molecular weight 40,000)) In the same manner, a photosensitive transfer material T2 was produced. A substrate with a color filter of Example 2 was produced in the same manner as Example 1 using this photosensitive transfer material T2.
[0128]
(Example 3)
In Example 1, 3.0 parts by mass of methacrylic acid / allyl methacrylate copolymer ((molar ratio) = 20/80, mass average molecular weight 40,000) was added to 2-hydroxyethyl methacrylate / methacrylic acid / allyl methacrylate / benzyl. Methacrylate copolymer ((molar ratio) = 17/12/48/23, weight average molecular weight 40,000) 1.5 parts by mass and methacrylic acid / allyl methacrylate / benzyl methacrylate copolymer ((molar ratio) = 28/48) / 24, mass average molecular weight 40,000) A photosensitive transfer material T3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 1.5 parts by mass. A substrate with a color filter of Example 3 was produced in the same manner as Example 1 using this photosensitive transfer material T3.
[0129]
(Comparative Example 1)
In Example 1, instead of 3.0 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate / methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer ((molar ratio) = 17/12/71, mass average molecular weight 40,000)), methacrylic acid A photosensitive transfer material T4 was prepared in the same manner as in Example 1 except that 3.0 parts by mass of / benzyl methacrylate copolymer ((molar ratio) = 76/24, mass average molecular weight 40,000) was used. A substrate with a color filter of Comparative Example 1 was produced in the same manner as Example 1 using this photosensitive transfer material T4.
[0130]
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 1, a substrate with a color filter of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as Comparative Example 1 except that the spacers were randomly formed not only on the black matrix (BM) but on all surfaces including the color image. did.
[0131]
About the obtained board | substrate with a color filter of Examples 1-3 and Comparative Examples 1-2, the plastic deformation amount, the residue removal property, the transmittance | permeability, and the contrast were measured with the following method. The results are shown in Table 1.
[0132]
<Measurement method of plastic deformation>
For the spacer image pattern, using a dynamic ultra-micro hardness meter DUH-W201 manufactured by Shimadzu Corporation, a cylindrical indenter with a diameter of 50 μm, a load speed of 0.145 gf / second, a load of 2 gf, a holding time of 5 seconds, and a measurement temperature of 160 ° C. A compression test was performed.
[0133]
<Measurement method of residue removability>
The periphery of the obtained 16 μm spacer dot pattern was observed at a magnification of 100 with a microscope, and the residue removability was evaluated according to the following criteria.
〔Evaluation criteria〕
5: Good
4: Relatively good
3: Slightly inferior
2 or less: Unusable
[0134]
<Transmissivity>
The transmittance of the substrate with the color filter was measured using OSP-SP100 (manufactured by Olympus Corporation). The measured value Y is a Y value among tristimulus values (X, Y, Z) based on the CIE 1931 color system (XYZ color system). A C light source was used as the measurement light source.
[0135]
<Contrast>
The contrast of black and white display was measured using LUMINANCE COLORIMTER BM-7 (manufactured by Topcon Corporation).
[0136]
[Table 1]
Figure 2004240335
From the results of Table 1, in the substrates with color filters of Examples 1 to 3, the spacers formed on the black matrix have sufficient compressive strength as compared with Comparative Examples 1 and 2. Further, in the substrates with color filters of Examples 1 to 3, compared to Comparative Examples 1 and 2, there are no spacers on the red, green, and blue pixels, and the spacer residue is each of the red, green, and blue pixels. It is recognized that a color filter with high contrast can be obtained without lowering the chromaticity of red, green, and blue.
[0137]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to efficiently form a spacer on the black matrix, which has excellent residue removability during development, has high compressive strength, and hardly undergoes plastic deformation during panel formation.
Further, according to the present invention, there is no reduction in chromaticity of red, blue and green formed by forming a spacer on a black matrix provided on a transparent substrate in the gap of a color image by the spacer forming method, and the contrast is high. A color filter can be provided.

Claims (18)

少なくとも水酸基を有する樹脂を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成することを特徴とするスペーサーの形成方法。A spacer forming method comprising forming a spacer on a black matrix provided on a transparent substrate using a spacer resin composition containing a resin having at least a hydroxyl group. 少なくともアリル基と水酸基とを有する樹脂を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成することを特徴とするスペーサーの形成方法。A spacer forming method comprising forming a spacer on a black matrix provided on a transparent substrate, using a spacer resin composition containing a resin having at least an allyl group and a hydroxyl group. アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂を含有するスペーサー用樹脂組成物を用いて、透明基板上に設けられたブラックマトリックス上にスペーサーを形成することを特徴とするスペーサーの形成方法。A spacer forming method comprising forming a spacer on a black matrix provided on a transparent substrate using a resin composition for spacer containing a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group . 水酸基を有する樹脂、アリル基と水酸基とを有する樹脂、及びアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂のいずれかが、水酸基含有（メタ）アクリレートをモノマーユニットとして少なくとも有する請求項１から３のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。Any one of a resin having a hydroxyl group, a resin having an allyl group and a hydroxyl group, and a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group has at least a hydroxyl group-containing (meth) acrylate as a monomer unit. 4. A method for forming a spacer according to any one of 3 above. 水酸基を有する樹脂、アリル基と水酸基とを有する樹脂、及びアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂のいずれかが、水酸基含有（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸及び水酸基非含有（メタ）アクリレートから選ばれるモノマーユニットを含む請求項１から４のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。Any of a resin having a hydroxyl group, a resin having an allyl group and a hydroxyl group, and a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group is a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, The formation method of the spacer in any one of Claim 1 to 4 containing the monomer unit chosen from containing (meth) acrylate. 前記水酸基非含有（メタ）アクリレートが、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種である請求項５に記載のスペーサーの形成方法。The method for forming a spacer according to claim 5, wherein the hydroxyl group-free (meth) acrylate is at least one selected from benzyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate. 水酸基を含有する樹脂、アリル基と水酸基とを有する樹脂、又はアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂の水酸基を有する樹脂における水酸基含有モノマーの含有率が、１０モル％以上である請求項４から６のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。The content of the hydroxyl group-containing monomer in the resin having a hydroxyl group, a resin having an allyl group and a hydroxyl group, or a resin having a hydroxyl group of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group is 10 mol% or more. The method for forming a spacer according to claim 4. アリル基と水酸基とを有する樹脂、又はアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂が、アリル基含有（メタ）アクリレートをモノマーユニットとして少なくとも有する請求項２から７のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。The resin having an allyl group and a hydroxyl group, or a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group has at least an allyl group-containing (meth) acrylate as a monomer unit. Spacer formation method. アリル基と水酸基とを有する樹脂、又はアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂が、アリル基含有（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸及びアリル基非含有（メタ）アクリレートから選択されるモノマーユニットを含む請求項２から８のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。A resin having an allyl group and a hydroxyl group, or a mixed resin of an allyl group-containing resin and a hydroxyl group-containing resin is an allyl group-containing (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, and an allyl group-free (meth) acrylate. The method for forming a spacer according to claim 2, comprising a selected monomer unit. 前記アリル基非含有（メタ）アクリレートが、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種である請求項９に記載のスペーサーの形成方法。The method for forming a spacer according to claim 9, wherein the allyl group-free (meth) acrylate is at least one selected from benzyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate. アリル基と水酸基とを有する樹脂、又はアリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂のアリル基を有する樹脂におけるアリル基含有モノマーの含有率が、１０モル％以上である請求項２から１０のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。The content of the allyl group-containing monomer in the resin having an allyl group in a resin having an allyl group and a hydroxyl group, or a mixed resin of a resin having an allyl group and a resin having a hydroxyl group is 10 mol% or more. The method for forming a spacer according to any one of 10. 水酸基を有する樹脂の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１５〜７０質量％である請求項１及び４から１１のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。The method for forming a spacer according to any one of claims 1 and 4 to 11, wherein the content of the resin having a hydroxyl group is 15 to 70% by mass of the total solid content of the spacer resin composition. アリル基と水酸基とを有する樹脂の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１５〜８０質量％である請求項２及び４から１１のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。The method for forming a spacer according to any one of claims 2 and 4 to 11, wherein the content of the resin having an allyl group and a hydroxyl group is 15 to 80% by mass of the total solid content of the spacer resin composition. アリル基を有する樹脂と水酸基を有する樹脂との混合樹脂の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の１５〜７０質量％である請求項３及び４から１１のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。The spacer according to any one of claims 3 and 4 to 11, wherein the content of the mixed resin of the resin having an allyl group and the resin having a hydroxyl group is 15 to 70 mass% of the total solid content of the resin composition for spacer. Forming method. スペーサー用樹脂組成物が体質顔料を含有する請求項１から１４のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。The method for forming a spacer according to any one of claims 1 to 14, wherein the spacer resin composition contains an extender pigment. 体質顔料の含有量が、スペーサー用樹脂組成物の全固形分の５〜５０質量％である請求項１５に記載のスペーサーの形成方法。The method for forming a spacer according to claim 15, wherein the content of the extender pigment is 5 to 50 mass% of the total solid content of the resin composition for spacer. スペーサー用樹脂組成物が、仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とを、この順に有してなる感光性転写材料の感光性樹脂層に用いられる請求項１から１６のいずれかに記載のスペーサーの形成方法。The spacer resin composition is a photosensitive resin layer of a photosensitive transfer material having an alkali-soluble thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a photosensitive resin layer in this order on a temporary support. The method for forming a spacer according to claim 1, which is used. 赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の各画素からなるカラー画像の間隙の透明基板上に設けられたブラックマトリックス上に、請求項１から１７のいずれかに記載のスペーサーの形成方法によりスペーサーを形成してなることを特徴とするカラーフィルタ。The spacer according to any one of claims 1 to 17, on a black matrix provided on a transparent substrate in a gap of a color image composed of pixels of red (R), green (G), and blue (B). A color filter comprising a spacer formed by a forming method.
JP2003031651A 2003-02-07 2003-02-07 Method for forming spacer, and color filter Pending JP2004240335A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003031651A JP2004240335A (en) 2003-02-07 2003-02-07 Method for forming spacer, and color filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003031651A JP2004240335A (en) 2003-02-07 2003-02-07 Method for forming spacer, and color filter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004240335A true JP2004240335A (en) 2004-08-26

Family

ID=32958165

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003031651A Pending JP2004240335A (en) 2003-02-07 2003-02-07 Method for forming spacer, and color filter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004240335A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007148005A (en) * 2005-11-28 2007-06-14 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for display device with spacer
JP2007304207A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Fujifilm Corp Color filter and its manufacturing method, and liquid crystal display

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007148005A (en) * 2005-11-28 2007-06-14 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for display device with spacer
JP2007304207A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Fujifilm Corp Color filter and its manufacturing method, and liquid crystal display

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5371245B2 (en) Photosensitive transfer material, display device member and manufacturing method thereof, black matrix, color filter and manufacturing method thereof, display device substrate, and display device
WO2007063809A1 (en) Substrate for liquid crystal display device, liquid crystal display element, and liquid crystal display device
JP4579022B2 (en) LAMINATE MANUFACTURING METHOD, LAMINATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
JP2001166315A (en) Spacer for liquid crystal panel and liquid crystal element using the same
KR20080001647A (en) Photosensitive transfer material, laminate and manufacturing method thereof, substrate for liquid crystal display, liquid crystal display element and liquid crystal display device
JP4044745B2 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive transfer material, liquid crystal display element member and liquid crystal display element
JP2005215137A (en) Photosensitive resin composition, photosensitive transfer material, protrusion for liquid crystal orientation control and method for producing same, and liquid crystal display device
JP2010072589A (en) Photosensitive transfer material, method of forming resin pattern, substrate having resin pattern, display element, and display
JP4619835B2 (en) Projection for liquid crystal alignment control, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device
KR100771080B1 (en) Photocurable composition and liquid crystal display element
JP4148404B2 (en) Resin composition for spacer, spacer and liquid crystal display element
US7323232B2 (en) Resin composition for spacer, spacer, and liquid crystal display device
JP2007334045A (en) Method for manufacturing color filter for large-sized display device, color filter for large-sized display device and large-sized display device
JP4119666B2 (en) Resin composition for spacer and liquid crystal display element
JP2007148160A (en) Color filter and liquid crystal display device using same
JP2004240335A (en) Method for forming spacer, and color filter
JP4112272B2 (en) How to adjust the spacer height
JP4005236B2 (en) Photosensitive transfer material and image forming method
JP2007212860A (en) Method for manufacturing laminate, laminate, substrate for liquid crystal display device, liquid crystal display element and liquid crystal display device
JP2005221726A (en) Photosensitive transfer material, protrusion for liquid crystal alignment control and method for forming the same, and liquid crystal display
JP2006064921A (en) Photosensitive transfer material, color filter and liquid crystal display
JP2010060841A (en) Photosensitive transfer material, method for forming resin pattern, substrate with resin pattern, display device, and liquid crystal display device
JP2003186185A (en) Transfer material for forming reflector plate, production method therefor, reflector plate, liquid crystal display device and production method therefor
JP2003121851A (en) Photosetting composition and liquid crystal display element
JP2003149430A (en) Method for forming color filter with protruding structure and color filter with protruding structure

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050315

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061204

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071204

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081007