JP2004194028A - Pulse mask waveform shaping supporting device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、通信装置のパルスマスク波形に対して整形を行う際に、その支援を行うパルスマスク波形整形支援装置に関する。ここで通信装置とはルータや交換機等の一般的な通信装置の他、パーソナルコンピュータのLANポートのような通信インターフェースを持つ機器全般を対象とする。
【0002】
【従来の技術】
図8は、従来のパルス波形測定システムの構成を示すブロック図である。パーソナルコンピュータ81のデータ蓄積部82に蓄積されたデジタルパルス信号波形の許容範囲を示すパルスマスクデータに基づいて、デジタルオシロスコープ85のスクリーン上にパルスマスクを描く。
【0003】
制御部84は、パーソナルコンピュータ81の指示を受け、装置86からデジタルパルス信号を発生させ、同様にデジタルオシロスコープ85のスクリーンに波形表示させる。このデジタルパルス信号の波形が、パルスマスク内に入っているか否かにより、デジタルパルス信号の波形の正常性判定を行っている。(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
【特許文献1】
特開平05−099965号公報
また、図9は、従来のインターフェース回路の波形整形回路の構成を示すブロック図である。ドライバ10の端子X1,X2には抵抗R1,R2が接続されるとともに、波形整形回路20を構成するダイオ−ドD1,D2夫々のカソ−ドが接続されており、ダイオ−ドD1,D2の共通接続されたアノ−ドは抵抗R3,R4の接続点に接続されている。一対の端子X1,X2夫々に一対のダイオ−ドD1,D2を接続されてこの一対の端子のハイレベル近傍の電位にプルアップされるようになる。これにより伝送パルス波形のアンダ−シュートを低減し、伝送パルス波形を予め規定されたパルスマスク内に収めることができる。(例えば、特許文献2参照。)。
【0005】
【特許文献2】
特開平03−198414号
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のパルスマスク判定装置は、通信装置から出力されるパルスのマスク判定自体を図っているものである。すなわち、パルスマスク判定を行うことが主目的であり、判定結果に問題があった場合の波形整形については考慮されていないという問題点があった。本来出力パルスはトランシーバ周辺の回路をメーカ推奨回路にすることでマスク内に収めることが可能だが、実際には基板の配線条件等によってマスクから外れてしまうことがある。また、トランシーバによっては出力レベルを変更することによって微調整できるものがある。しかし、パルスマスクの測定は一種類ではなく、データパルスやリンクパルス、10Mbpsや100Mbps等の速度の差異、ピーク電圧やジッタ測定等のように一つのインターフェースに対して複数の条件をクリアする必要があり、全ての条件を満たす設定値を見出すことは困難である。
【0007】
また従来の波形整形回路では、アンダーシュートのみ修正することを目的としており、なおかつ修正後の測定結果に問題があった場合、さらに波形整形することについては考慮されていないという問題点があった。
【0008】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであって、本発明は、通信装置から出力されるパルスマスク波形において、その判定結果に問題があった場合にその波形整形作業を容易に行うことが可能なパルスマスク波形整形支援装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、通信装置から出力されるパルスを測定するパルス測定手段と、マスクデータを記憶するマスクデータ記憶手段と、前記パルス測定手段の測定結果と前記マスクデータを比較してマスク判定を行うマスク判定手段と、マスクデータ内に収まるようパルスを整形演算する整形演算手段と、演算結果を表示する表示手段とを備え、前記整形演算手段は前記通信装置に使用されるトランシーバの出力レベルを調整するレジスタ設定値を演算することを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の構成を示すブロック図である。図1において、パルスマスク波形整形支援装置1は、例えばデジタルオシロスコープの機能を持つパーソナルコンピュータを想定しており、パルスマスク波形整形支援装置1の外部には通信装置2が接続されている。また、通信装置2は制御端末3と接続されている。パルスマスク波形整形支援装置1と通信装置2の間は、例えばLAN等の通信系インターフェースにより接続され、通信装置2と制御端末3の間は、例えばRS232C等のシリアルインターフェースにより接続されている。
【0011】
またパルスマスク波形整形支援装置1は、パルス測定部11と、マスクデータ記憶部12と、マスク判定部13と、整形演算部14と、結果表示部15と、回線終端部16とから構成されている。
【0012】
パルス測定部11は、通信装置2から出力パルス101が入力され、マスク判定部13に対してパルスデータ102を出力する。マスクデータ記憶部12は、マスク判定部13に対してマスクデータ103を出力する。マスク判定部13は、パルス測定部11からパルスデータ102が入力されると共にマスクデータ記憶部12からマスクデータ103が入力され、整形演算部14に対してパルスマスクデータ104を出力する。
【0013】
整形演算部14は、マスク判定部13からパルスマスクデータ104が入力され、結果表示部15に対してレジスタ修正データ105を出力する。結果表示部15は、整形演算部14からレジスタ修正データ105が入力される。回線終端部16は通信装置2から出力パルス101が入力され、通信装置のインターフェースを回線終端する。また、回線終端部16は測定するインターフェースやパルスマスクによって変更が可能である。
【0014】
通信装置2は、トランシーバ部21と、入出力部22を有する。トランシーバ部21は、制御端末3から設定データ202が入力され、入出力部22に対して出力データ201を出力する。入出力部22は、トランシーバ21から出力データ201が入力され、パルス測定部11および回線終端部16に対して出力パルス101を出力する。また、入出力部22がパルスを出力する条件として、入出力部22が受信リンクを検出する事が必要である場合、回線終端部16から入出力部22へ要求するデータパターンを送出することが可能である。
【0015】
制御端末3は、トランシーバ部21に対して設定データ202を出力する。制御端末3は、トランシーバ部21のインターフェースに合わせることによって、あらゆる通信装置にも対応が可能である。ただし、その場合トランシーバ部21に合わせた方式で設定データ202を出力したり、設定データ202を介してトランシーバ部21に必要となる初期設定をしたりすることも想定している。
【0016】
次に、本発明の第1の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の動作について図面を参照して詳細に説明する。図2は、第1の実施形態のパルスマスク波形整形支援装置の動作を示すフローチャート図である。図3は、出力パルスレベルの演算に関する詳細動作を示すフローチャート図である。まず、全体の動作について図2を用いて説明する。図2において、測定するパルスマスクの選定をステップ(以下、「S」とする)1の処理で行った後、S2の処理でパルスマスク測定を行う。ここで、パルスマスクの選定とは、マスク波形の選定の他に回線終端部16の選定も含まれる。
【0017】
S2の処理で問題が無い(マスクに収まる)場合、S3の処理を行う。S2の処理で問題が有る(マスクに収まらない)場合、S4の処理を行う。S3の処理で必要なパルスマスクの全測定が完了している場合、終了とする。S3の処理で完了していない場合、S1へ戻り未測定のパルスマスクに変更した後、再度測定を行う。S4の処理で変更後のレジスタ設定値の算出を行った後、その結果をS5の処理で結果表示部15に表示させる。更にS6の処理でS5の結果を元にトランシーバ部21のレジスタ値を更新し、S2の処理を再度行う。
【0018】
次にS4の処理内容について図3を用いて説明する。図3において、パルスマスク測定の結果NGと判定されたポイントのリストアップをS4−1の処理で行った後、S4−2の処理で各NGポイントの修正案、即ちトランシーバの出力レベルの調整案を作成する。この時点でS2の測定で問題となったパルスマスクについてはクリアできるレベルまでに至ることを仮定している。
【0019】
次にS4−3の処理において他に必要となるパルスマスクの全てについてシミュレーションを実行する。ここでパルスマスク測定に問題がある場合、S4−1の処理に戻り再度NGポイントの修正を行う。ただし、シミュレーションの精度には限度があるため、S2からS6までの実測定をもって補完する。S4−3の処理において問題が無い場合、S4−2の処理結果からトランシーバ部21へ設定するレジスタ値をS4−4の処理で導き出す。
【0020】
また、本実施形態では、例えば図4に示すように、パルスマスク波形整形支援装置1のマスクデータ記憶部12、マスク判定部13、整形演算部14、結果表示部15の機能を制御端末3で実現させてもよい。この場合、パルスマスク波形整形支援装置1の構成を縮小させることが可能となり、更に、整形演算部14で得られた演算結果を人手を介すことなく直接トランシーバ部21へ更新させることも可能となる。
【0021】
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。図5は、本発明の第2の実施の形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の構成を示すブロック図である。図5に示す第2の実施形態は、図1の制御端末3と設定データ202を削除し、レジスタ修正データ105を回路修正データ106に置き換えた構成を特徴とし、それ以外の図1と同等部分については同一符号で示している。
【0022】
第2の実施形態と第1の実施形態との機能的差異は、出力パルス101の波形を整形する手段として、第1の実施形態ではトランシーバ部21の出力レベルを調整することにより実現しているのに対し、第2の実施形態ではトランシーバ周辺の回路構成を変更することによって実現していることである。
【0023】
次に、第2の実施形態の動作について図面を参照して詳細に説明する。図6は、第2の実施形態のパルスマスク波形整形支援装置の動作を示すフローチャート図である。図7は、第2の実施形態の出力パルスレベル演算に関する詳細動作を示すフローチャート図である。まず、全体の動作について図6を用いて説明する。図6において、測定するパルスマスクの選定をS1の処理で行った後、S2の処理でパルスマスク測定を行う。ここで、パルスマスクの選定とは、マスク波形の選定の他に回線終端部16の選定も含まれる。
【0024】
S2の処理で問題が無い(マスクに収まる)場合、S3の処理を行う。S2の処理で問題が有る(マスクに収まらない)場合、S4’の処理を行う。S3の処理で必要なパルスマスクの全測定が完了している場合、終了とする。S3の処理で完了していない場合、S1へ戻り未測定のパルスマスクに変更した後、再度測定を行う。
【0025】
S4’の処理では、予め回路やパターン配線条件による出力パルスのデータベースを入力しておき、通信装置2の回路構成を元に得られるシミュレーション結果から変更すべき抵抗およびコンデンサの定数の変更案を提示する。S5’の処理ではS4’の処理内容を結果表示部15に表示させ、S6’の処理でS5’の表示結果を元に回路変更を行う。
【0026】
次にS4’の処理内容について図7を用いて説明する。図7において、パルスマスク測定の結果NGと判定されたポイントのリストアップをS4−1の処理で行った後、S4’−2の処理でNGポイントの結果から回路の修正案を作成する。
【0027】
次にS4−3の処理において他に必要となるパルスマスクの全てについてシミュレーションを実行する。ここでパルスマスク測定に問題がある場合、S4−1の処理に戻り再度NGポイントの修正を行う。S4−3の処理において問題が無い場合、S4’−4の処理でシミュレーションの結果から修正回路の決定を行う。
【0028】
【発明の効果】
以上のとおり、本発明によれば、通信装置のパルスマスク測定により問題が発生した際、トランシーバの設定値を自動演算すると共に、複数のパルスマスク条件を満たした設定値を試行錯誤することなく演算することが可能となる。更に、演算された設定値は必要となる全てのパルスマスクに対しても考慮されており、異なるパルスマスクの測定を繰り返しながら最適値を決定するという手間が必要無い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の構成を示すブロック図である。
【図2】第1の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の全体動作を示すフローチャート図である。
【図3】第1の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の出力パルスレベル演算の詳細動作を示すフローチャート図である。
【図4】第1の実施形態の他例を示すブロック図である。
【図5】本発明の第2の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の構成を示すブロック図である。
【図6】第2の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の全体動作を示すフローチャート図である。
【図7】第2の実施形態におけるパルスマスク波形整形支援装置の出力パルスレベル演算の詳細動作を示すフローチャート図である。
【図8】従来のパルスマスク測定方式の構成を示すブロック図である。
【図9】従来のインターフェース回路の波形整形方式の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1 パルスマスク波形整形支援装置
2 通信装置
3 制御端末
11 パルス測定部
12 マスクデータ記憶部
13 マスク判定部
14 整形演算部
15 結果表示部
16 回線終端部
21 トランシーバ部
22 入出力部
101 出力パルス
102 パルスデータ
103 マスクデータ
104 パルスマスクデータ
105 レジスタ修正データ
106 回路修正データ
201 出力データ
202 設定データ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a pulse mask waveform shaping support device that assists when shaping a pulse mask waveform of a communication device. Here, the communication device covers general devices having a communication interface such as a LAN port of a personal computer in addition to general communication devices such as a router and an exchange.
[0002]
[Prior art]
FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of a conventional pulse waveform measurement system. A pulse mask is drawn on the screen of the
[0003]
The
[0004]
[Patent Document 1]
FIG. 9 is a block diagram showing a configuration of a conventional waveform shaping circuit of an interface circuit. The resistors R 1 and R 2 are connected to the
[0005]
[Patent Document 2]
JP-A-03-198414 [0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional pulse mask determination device attempts to determine the mask itself of the pulse output from the communication device. That is, the main purpose is to perform pulse mask determination, and there is a problem that waveform shaping when there is a problem in the determination result is not considered. Although the output pulse can be originally contained in the mask by making the circuit around the transceiver a circuit recommended by the maker, the output pulse may actually deviate from the mask due to the wiring conditions of the substrate and the like. Some transceivers can be fine-tuned by changing the output level. However, pulse mask measurement is not one type, and it is necessary to clear multiple conditions for one interface such as data pulse and link pulse, speed difference such as 10Mbps and 100Mbps, peak voltage and jitter measurement, etc. It is difficult to find a set value that satisfies all conditions.
[0007]
Further, the conventional waveform shaping circuit aims to correct only the undershoot, and when there is a problem in the measurement result after the correction, there is a problem that further waveform shaping is not considered.
[0008]
The present invention has been made in view of the above problems, and the present invention makes it possible to easily perform a waveform shaping operation on a pulse mask waveform output from a communication device when the determination result has a problem. It is an object of the present invention to provide a possible pulse mask waveform shaping support device.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The present invention relates to a pulse measuring unit that measures a pulse output from a communication device, a mask data storing unit that stores mask data, and a mask that compares a measurement result of the pulse measuring unit with the mask data to determine a mask. Determining means; shaping means for shaping the pulse so as to be within the mask data; and display means for displaying the calculation result, wherein the shaping means adjusts the output level of the transceiver used in the communication device. It is characterized by calculating a register set value.
[0010]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the pulse mask waveform shaping support device according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, the pulse mask waveform
[0011]
Further, the pulse mask waveform
[0012]
The
[0013]
The
[0014]
The
[0015]
The
[0016]
Next, the operation of the pulse mask waveform shaping support apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 2 is a flowchart illustrating the operation of the pulse mask waveform shaping support device according to the first embodiment. FIG. 3 is a flowchart showing a detailed operation relating to the calculation of the output pulse level. First, the overall operation will be described with reference to FIG. In FIG. 2, after selecting a pulse mask to be measured in step (hereinafter referred to as “S”) 1 processing, pulse mask measurement is performed in step S2. Here, the selection of the pulse mask includes the selection of the
[0017]
If there is no problem in the process of S2 (it fits in the mask), the process of S3 is performed. If there is a problem in the process of S2 (it does not fit in the mask), the process of S4 is performed. If all the necessary pulse mask measurements have been completed in the process of S3, the process is terminated. If the process has not been completed in S3, the process returns to S1 to change to an unmeasured pulse mask, and then performs measurement again. After calculating the changed register setting value in the process of S4, the result is displayed on the
[0018]
Next, the processing content of S4 will be described with reference to FIG. In FIG. 3, after a list of points determined to be NG as a result of the pulse mask measurement is made in the process of S4-1, a correction plan of each NG point, that is, a plan of adjusting the output level of the transceiver is made in the process of S4-2. Create At this time, it is assumed that the pulse mask which has become a problem in the measurement of S2 reaches a level at which the pulse mask can be cleared.
[0019]
Next, a simulation is performed for all of the pulse masks required in the process of S4-3. If there is a problem with the pulse mask measurement, the process returns to S4-1 to correct the NG point again. However, since the accuracy of the simulation is limited, it is complemented by the actual measurement from S2 to S6. If there is no problem in the processing in S4-3, a register value to be set in the
[0020]
In this embodiment, as shown in FIG. 4, for example, the functions of the mask
[0021]
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a pulse mask waveform shaping support device according to the second embodiment of the present invention. The second embodiment shown in FIG. 5 is characterized in that the
[0022]
The functional difference between the second embodiment and the first embodiment is realized by adjusting the output level of the
[0023]
Next, the operation of the second embodiment will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 6 is a flowchart illustrating the operation of the pulse mask waveform shaping support device according to the second embodiment. FIG. 7 is a flowchart illustrating a detailed operation relating to the output pulse level calculation according to the second embodiment. First, the overall operation will be described with reference to FIG. In FIG. 6, after selecting a pulse mask to be measured in the process of S1, pulse mask measurement is performed in the process of S2. Here, the selection of the pulse mask includes the selection of the
[0024]
If there is no problem in the process of S2 (it fits in the mask), the process of S3 is performed. If there is a problem in the processing of S2 (it does not fit in the mask), the processing of S4 'is performed. If all the necessary pulse mask measurements have been completed in the process of S3, the process is terminated. If the process has not been completed in S3, the process returns to S1 to change to an unmeasured pulse mask, and then performs measurement again.
[0025]
In the process of S4 ', a database of output pulses according to circuit and pattern wiring conditions is input in advance, and a proposal for changing constants of resistors and capacitors to be changed is presented from a simulation result obtained based on the circuit configuration of the
[0026]
Next, the processing content of S4 'will be described with reference to FIG. In FIG. 7, after a list of points determined as NG as a result of the pulse mask measurement is made in the processing of S4-1, a correction plan of the circuit is created from the results of the NG points in the processing of S4′-2.
[0027]
Next, a simulation is performed for all of the pulse masks required in the process of S4-3. If there is a problem with the pulse mask measurement, the process returns to S4-1 to correct the NG point again. If there is no problem in the processing of S4-3, a correction circuit is determined from the result of the simulation in the processing of S4'-4.
[0028]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, when a problem occurs due to the pulse mask measurement of the communication device, the setting value of the transceiver is automatically calculated, and the setting value satisfying the plurality of pulse mask conditions is calculated without trial and error. It is possible to do. Further, the calculated set values are considered for all necessary pulse masks, and there is no need to determine the optimum value while repeating measurement of different pulse masks.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a pulse mask waveform shaping support device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a flowchart illustrating an overall operation of the pulse mask waveform shaping support device according to the first embodiment.
FIG. 3 is a flowchart illustrating a detailed operation of an output pulse level calculation of the pulse mask waveform shaping support device according to the first embodiment.
FIG. 4 is a block diagram showing another example of the first embodiment.
FIG. 5 is a block diagram illustrating a configuration of a pulse mask waveform shaping support device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a flowchart illustrating an overall operation of the pulse mask waveform shaping support device according to the second embodiment.
FIG. 7 is a flowchart illustrating a detailed operation of an output pulse level calculation of the pulse mask waveform shaping support device according to the second embodiment.
FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of a conventional pulse mask measurement method.
FIG. 9 is a block diagram showing a configuration of a conventional waveform shaping method of an interface circuit.
[Explanation of symbols]
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002360235A JP4199531B2 (en) | 2002-12-12 | 2002-12-12 | Pulse mask waveform shaping support device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002360235A JP4199531B2 (en) | 2002-12-12 | 2002-12-12 | Pulse mask waveform shaping support device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004194028A true JP2004194028A (en) | 2004-07-08 |
JP4199531B2 JP4199531B2 (en) | 2008-12-17 |
Family
ID=32759367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002360235A Expired - Fee Related JP4199531B2 (en) | 2002-12-12 | 2002-12-12 | Pulse mask waveform shaping support device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4199531B2 (en) |
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-
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---|---|
JP4199531B2 (en) | 2008-12-17 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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A521 | Written amendment |
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|
RD01 | Notification of change of attorney |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111010 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121010 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |