JP2004185019A5 - - Google Patents

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検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査装置であって、A pattern inspection apparatus for inspecting an inspection target pattern using an inspection target pattern image and data used for manufacturing the inspection target pattern,
前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する基準パターン生成手段と、A reference pattern generating means for generating a reference pattern expressed by a line segment or a curve from the data;
前記検査対象パターン画像を生成する検査対象パターン画像生成手段と、Inspection object pattern image generating means for generating the inspection object pattern image;
前記検査対象パターン画像のエッジを検出するエッジ検出手段と、Edge detecting means for detecting an edge of the inspection target pattern image;
前記検査対象パターン画像のエッジと前記基準パターンの前記線分もしくは曲線とを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段を備えたことを特徴とするパターン検査装置。A pattern inspection apparatus comprising: inspection means for inspecting the inspection target pattern by comparing an edge of the inspection target pattern image with the line segment or curve of the reference pattern. 請求項１に記載のパターン検査装置において、前記基準パターン生成手段は、前記検査対象パターンに発生しうる変形を考慮して前記データを補正して、前記基準パターンを生成することを特徴とするパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 1, wherein the reference pattern generation unit corrects the data in consideration of deformation that may occur in the inspection target pattern and generates the reference pattern. Inspection device. 請求項１に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記検査対象パターン画像のエッジと前記基準パターンの線分もしくは曲線とを比較することにより、前記検査対象パターン画像と前記基準パターンとのマッチングを行うことを特徴とするパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 1, wherein the inspection unit compares the edge of the inspection target pattern image with a line segment or a curve of the reference pattern, thereby comparing the inspection target pattern image and the reference pattern. A pattern inspection apparatus characterized by performing matching. 請求項３に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記検査対象パターン画像のエッジ、または、前記基準パターンを変換して得られたエッジを膨張させて、前記マッチングを実施することを特徴とするパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 3, wherein the inspection unit performs the matching by expanding an edge of the inspection target pattern image or an edge obtained by converting the reference pattern. Pattern inspection device. 請求項３に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記検査対象パターン画像のエッジの振幅と前記基準パターンを変換して得られたエッジの振幅とのピクセルごとの積の総和を評価値として用いて、前記マッチングを実施することを特徴とするパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 3, wherein the inspection unit evaluates a sum of products for each pixel of an edge amplitude of the inspection target pattern image and an edge amplitude obtained by converting the reference pattern. And a pattern inspection apparatus for performing the matching. 請求項３に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記エッジを、前記エッジの振幅と等しい大きさを持ち、前記エッジの方向と等しい方向を持つベクトルで表現して、前記検査対象パターン画像のエッジと前記基準パターンを変換して得られたエッジのピクセルごとの内積の総和、または前記内積の絶対値の総和を評価値として用いて、前記マッチングを実施することを特徴とするパターン検査装置。4. The pattern inspection apparatus according to claim 3, wherein the inspection unit expresses the edge as a vector having a magnitude equal to the amplitude of the edge and a direction equal to the direction of the edge, A pattern inspection characterized by performing the matching by using, as an evaluation value, a sum of inner products of pixels of edges obtained by converting an edge of an image and the reference pattern, or a sum of absolute values of the inner products. apparatus. 請求項３に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記基準パターンの部分ごとに、マッチングに寄与する度合いを変えて、前記マッチングを実施することを特徴とするパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 3, wherein the inspection unit changes the degree of contribution to matching for each portion of the reference pattern, and performs the matching. 請求項１に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記基準パターンを変換して得られたエッジを、前記検査対象パターン画像のエッジに対応づけることを特徴とするパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 1, wherein the inspection unit associates an edge obtained by converting the reference pattern with an edge of the inspection target pattern image. 請求項８に記載のパターン検査装置において、前記対応づけは、前記基準パターンを変換して得られたエッジと前記検査対象パターン画像のエッジとの距離、および前記基準パターンを変換して得られたエッジと前記検査対象パターン画像のエッジとの方向差を考慮して行うことを特徴とするパターン検査装置。9. The pattern inspection apparatus according to claim 8, wherein the association is obtained by converting a distance between an edge obtained by converting the reference pattern and an edge of the inspection target pattern image, and the reference pattern. A pattern inspection apparatus, which is performed in consideration of a direction difference between an edge and an edge of the inspection target pattern image. 請求項８に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記対応づけを行うことができなかった前記検査対象パターン画像のエッジから領域を構成し、前記領域を欠陥領域として認識することを特徴とするパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 8, wherein the inspection unit forms an area from an edge of the inspection target pattern image that could not be associated, and recognizes the area as a defect area. Pattern inspection device. 請求項８に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記対応づけを行うことができた前記検査対象パターン画像のエッジから領域を構成し、前記領域における輝度の分布が非一様である領域を検出し、前記領域を欠陥領域として認識することを特徴とするパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 8, wherein the inspection unit forms a region from an edge of the inspection target pattern image that has been able to be associated, and luminance distribution in the region is non-uniform. A pattern inspection apparatus for detecting an area and recognizing the area as a defective area. 請求項１０または請求項１１に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記欠陥領域の幾何学的特徴量に基づいて欠陥種を判定することを特徴とするパターン検査装置。12. The pattern inspection apparatus according to claim 10, wherein the inspection unit determines a defect type based on a geometric feature amount of the defect area. 請求項１０または請求項１１に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記欠陥領域の輝度に関する特徴量に基づいて欠陥種を判定することを特徴とするパターン検査装置。12. The pattern inspection apparatus according to claim 10, wherein the inspection unit determines a defect type based on a feature amount related to a luminance of the defect area. 請求項８に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記対応づけを行った前記基準パターンを変換して得られたエッジと、前記検査対象パターン画像のエッジとの関係から、前記検査対象パターンのパターン変形量を計算することを特徴とするパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 8, wherein the inspection unit is configured to calculate the inspection target from a relationship between an edge obtained by converting the reference pattern subjected to the association and an edge of the inspection target pattern image. A pattern inspection apparatus for calculating a pattern deformation amount of a pattern. 請求項１４に記載のパターン検査装置において、前記パターン変形量には、位置ずれ量、倍率変動量、および線幅の太り量の少なくとも１つが含まれることを特徴とするパターン検査装置。15. The pattern inspection apparatus according to claim 14, wherein the pattern deformation amount includes at least one of a positional deviation amount, a magnification variation amount, and a line width thickening amount. 請求項１４に記載のパターン検査装置において、前記検査手段は、前記基準パターンにパターンの属性を付加することを特徴とするパターン検査装置。15. The pattern inspection apparatus according to claim 14, wherein the inspection unit adds a pattern attribute to the reference pattern. 請求項１に記載のパターン検査装置において、前記エッジ検出手段は、前記基準パターンを使って前記検査対象パターン画像にプロファイル取得区間を設定し、前記プロファイル取得区間からプロファイルを作成し、前記プロファイルごとに所定の点を検出して、前記検出された点の位置を前記検査対象パターン画像のエッジの位置とすることを特徴とするパターン検査装置。2. The pattern inspection apparatus according to claim 1, wherein the edge detection unit sets a profile acquisition section in the inspection target pattern image using the reference pattern, creates a profile from the profile acquisition section, and creates a profile for each profile. A pattern inspection apparatus that detects a predetermined point and sets the position of the detected point as the position of an edge of the inspection target pattern image. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査方法であって、A pattern inspection method for inspecting an inspection target pattern using an inspection target pattern image and data used for manufacturing the inspection target pattern,
前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成し、Generate a reference pattern expressed by a line segment or a curve from the data,
前記検査対象パターン画像を生成し、Generating the inspection target pattern image;
前記検査対象パターン画像のエッジを検出し、Detecting an edge of the inspection target pattern image;
前記検査対象パターン画像のエッジと前記基準パターンの前記線分もしくは曲線とを比較することにより、前記検査対象パターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。A pattern inspection method for inspecting the inspection target pattern by comparing an edge of the inspection target pattern image with the line segment or curve of the reference pattern. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査装置であって、A pattern inspection apparatus for inspecting an inspection target pattern using an inspection target pattern image and data used for manufacturing the inspection target pattern,
前記データを使ったシミュレーションで得られた線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する基準パターン生成手段と、A reference pattern generating means for generating a reference pattern expressed by a line segment or a curve obtained by a simulation using the data;
前記検査対象パターン画像を生成する検査対象パターン画像生成手段と、Inspection object pattern image generating means for generating the inspection object pattern image;
前記検査対象パターン画像のエッジを検出するエッジ検出手段と、Edge detecting means for detecting an edge of the inspection target pattern image;
前記検査対象パターン画像のエッジと前記基準パターンの前記線分もしくは曲線とを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段を備えたことを特徴とするパターン検査装置。A pattern inspection apparatus comprising: inspection means for inspecting the inspection target pattern by comparing an edge of the inspection target pattern image with the line segment or curve of the reference pattern.
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